JP2001050999A - 放射源可視化装置及び放射源シールド装置 - Google Patents
放射源可視化装置及び放射源シールド装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被測定物の放射状況を当該被測定物上で可視
化することができる放射源可視化装置を提供する。 【解決手段】 放射源可視化装置は、微小ループアンテ
ナ４が固定台２上の回路基板１の電磁波放射を感知でき
るように、また書き込みペン７が固定台２上の回路基板
１に書き込みできるように、微小ループアンテナ４と書
き込みペン７と直交２軸ステージ３が配設され、電波暗
室等の外来ノイズの影響を無視できる電磁環境中に設置
される。
化することができる放射源可視化装置を提供する。 【解決手段】 放射源可視化装置は、微小ループアンテ
ナ４が固定台２上の回路基板１の電磁波放射を感知でき
るように、また書き込みペン７が固定台２上の回路基板
１に書き込みできるように、微小ループアンテナ４と書
き込みペン７と直交２軸ステージ３が配設され、電波暗
室等の外来ノイズの影響を無視できる電磁環境中に設置
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被測定物の放射状
況を当該被測定物上で可視化することができる放射源可
視化装置、及び被測定物の放射状況に応じて当該被測定
物にシールドを施すことができる放射源シールド装置に
関する。
況を当該被測定物上で可視化することができる放射源可
視化装置、及び被測定物の放射状況に応じて当該被測定
物にシールドを施すことができる放射源シールド装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、放射源を可視化することができる
可視化装置としては、例えば、電磁輻射可視化装置があ
る（特開平５−１１９０８９号公報参照）。この電磁輻
射可視化装置は、可変長ダイポールアンテナを３次元移
動機構で光学的に暗い電波暗室の中を走査させて、測定
各点の電界強度に比例したランプの明るさを露出解放の
ステレオカメラに記録する構成を有している。
可視化装置としては、例えば、電磁輻射可視化装置があ
る（特開平５−１１９０８９号公報参照）。この電磁輻
射可視化装置は、可変長ダイポールアンテナを３次元移
動機構で光学的に暗い電波暗室の中を走査させて、測定
各点の電界強度に比例したランプの明るさを露出解放の
ステレオカメラに記録する構成を有している。
【０００３】すなわち、この電磁輻射可視化装置は、可
変長ダイポールアンテナを３次元移動機構で光学的に暗
い電波暗室の中で走査させて、測定各点の電界強度に比
例したランプの明るさを露出解放のステレオカメラに記
録する構成を利用して、被測定物からの電磁波の輻射位
置、方向、強度をイメージで立体視している。
変長ダイポールアンテナを３次元移動機構で光学的に暗
い電波暗室の中で走査させて、測定各点の電界強度に比
例したランプの明るさを露出解放のステレオカメラに記
録する構成を利用して、被測定物からの電磁波の輻射位
置、方向、強度をイメージで立体視している。
【０００４】また従来、放射源をシールドすることがで
きるシールド方法としては、例えば、プリント配線板の
製造方法がある（特開平６−６９６１２号公報参照）。
このプリント配線板の製造方法は、基板の片面または両
面に回路導体を形成するとともに、回路導体の表側に被
着した絶縁層を介して第１のシールド層を被着し、さら
にシールド膜の表側に絶縁層を被着した後、第２のシー
ルド膜を被着するものである。
きるシールド方法としては、例えば、プリント配線板の
製造方法がある（特開平６−６９６１２号公報参照）。
このプリント配線板の製造方法は、基板の片面または両
面に回路導体を形成するとともに、回路導体の表側に被
着した絶縁層を介して第１のシールド層を被着し、さら
にシールド膜の表側に絶縁層を被着した後、第２のシー
ルド膜を被着するものである。
【０００５】すなわち、このプリント配線板の製造方法
は、基板の片面または両面に回路導体を形成するととも
に、回路導体の表側に被着した絶縁層を介して第１のシ
ールド層を被着し、さらにシールド膜の表側に絶縁層を
被着した後、第２のシールド膜を被着することを利用し
て、各回路導体間のクロストーク及びノイズのシールド
に加えて、外部ノイズのシールド作用を的確に発揮し得
るプリント配線板の的確な製造を可能にしている。
は、基板の片面または両面に回路導体を形成するととも
に、回路導体の表側に被着した絶縁層を介して第１のシ
ールド層を被着し、さらにシールド膜の表側に絶縁層を
被着した後、第２のシールド膜を被着することを利用し
て、各回路導体間のクロストーク及びノイズのシールド
に加えて、外部ノイズのシールド作用を的確に発揮し得
るプリント配線板の的確な製造を可能にしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の電磁輻射可視化装置にあっては、被測定物から
の電磁波の輻射位置、方向、強度をイメージで立体視す
ることはできるものの、３次元空間でのランプの明るさ
の変化をステレオカメラに記録するために、被測定物の
放射状況を当該被測定物上で可視化することができず、
改良の余地があった。
た従来の電磁輻射可視化装置にあっては、被測定物から
の電磁波の輻射位置、方向、強度をイメージで立体視す
ることはできるものの、３次元空間でのランプの明るさ
の変化をステレオカメラに記録するために、被測定物の
放射状況を当該被測定物上で可視化することができず、
改良の余地があった。
【０００７】また、従来のプリント配線板の製造方法に
あっては、各回路導体間のクロストーク及びノイズのシ
ールドに加えて、外部ノイズのシールド作用を的確に発
揮し得るプリント配線板の的確な製造を可能にすること
は出来るものの、被測定物の放射状況を考慮していない
ため、被測定物の放射状況に応じてシールドを施すこと
ができず、改良の余地があった。
あっては、各回路導体間のクロストーク及びノイズのシ
ールドに加えて、外部ノイズのシールド作用を的確に発
揮し得るプリント配線板の的確な製造を可能にすること
は出来るものの、被測定物の放射状況を考慮していない
ため、被測定物の放射状況に応じてシールドを施すこと
ができず、改良の余地があった。
【０００８】本発明は、被測定物の放射状況を当該被測
定物上で可視化することができる放射源可視化装置を提
供することを第１の目的とする。
定物上で可視化することができる放射源可視化装置を提
供することを第１の目的とする。
【０００９】また本発明は、被測定物の放射状況に応じ
て当該被測定物にシールドを施すことができる放射源シ
ールド装置を提供することを第２の目的とする。
て当該被測定物にシールドを施すことができる放射源シ
ールド装置を提供することを第２の目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】第１の目的を達成するた
めに請求項１記載の発明は、被測定物の放射状況を当該
被測定物に記述する放射源可視化装置であって、前記被
測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手段の出
力を測定する測定手段と、前記被測定物に放射状況を記
述する書き込み手段と、前記感知手段及び前記書き込み
手段または前記被測定物を移動させる移動手段と、前記
測定手段と前記書き込み手段と前記移動手段を制御する
制御手段とを備えたことを特徴とするものである。この
場合、請求項２に記載するように、書き込み手段は感知
手段一体型であってもよい。
めに請求項１記載の発明は、被測定物の放射状況を当該
被測定物に記述する放射源可視化装置であって、前記被
測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手段の出
力を測定する測定手段と、前記被測定物に放射状況を記
述する書き込み手段と、前記感知手段及び前記書き込み
手段または前記被測定物を移動させる移動手段と、前記
測定手段と前記書き込み手段と前記移動手段を制御する
制御手段とを備えたことを特徴とするものである。この
場合、請求項２に記載するように、書き込み手段は感知
手段一体型であってもよい。
【００１１】また、第２の目的を達成するために請求項
３記載の発明は、被測定物の放射状況に応じて当該被測
定物にシールドを施す放射源シールド装置であって、前
記被測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手段
の出力を測定する測定手段と、前記被測定物に塗膜する
塗膜手段と、前記感知手段及び前記塗膜手段または前記
被測定物を移動させる移動手段と、前記測定手段と前記
塗膜手段と前記移動手段を制御する制御手段とを備えた
ことを特徴とするものである。
３記載の発明は、被測定物の放射状況に応じて当該被測
定物にシールドを施す放射源シールド装置であって、前
記被測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手段
の出力を測定する測定手段と、前記被測定物に塗膜する
塗膜手段と、前記感知手段及び前記塗膜手段または前記
被測定物を移動させる移動手段と、前記測定手段と前記
塗膜手段と前記移動手段を制御する制御手段とを備えた
ことを特徴とするものである。
【００１２】請求項１記載の発明では、感知手段と測定
手段により被測定物の放射を測定して、その結果を書き
込み手段により被測定物に書き込むため、被測定物の放
射状況を当該被測定物上で可視化することができる。
手段により被測定物の放射を測定して、その結果を書き
込み手段により被測定物に書き込むため、被測定物の放
射状況を当該被測定物上で可視化することができる。
【００１３】請求項３記載の発明では、感知手段と測定
手段と移動手段により被測定物の放射源を探知して、そ
の結果に応じて塗膜手段により当該被測定物にシールド
を施すため、被測定物の放射状況に応じて当該被測定物
にシールドを施すことができる。
手段と移動手段により被測定物の放射源を探知して、そ
の結果に応じて塗膜手段により当該被測定物にシールド
を施すため、被測定物の放射状況に応じて当該被測定物
にシールドを施すことができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもので
はない。
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な実施の形態であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本
発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定す
る旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもので
はない。
【００１５】まず、放射源可視化装置について説明す
る。図１は本発明の放射源可視化装置の第１の実施の形
態を示す構成図であり、請求項１に対応するものであ
る。本実施の形態の放射源可視化装置は、回路基板の電
磁波放射の状態を当該回路基板上で直接可視化するのに
利用される。
る。図１は本発明の放射源可視化装置の第１の実施の形
態を示す構成図であり、請求項１に対応するものであ
る。本実施の形態の放射源可視化装置は、回路基板の電
磁波放射の状態を当該回路基板上で直接可視化するのに
利用される。
【００１６】図１において、放射源可視化装置は、微小
ループアンテナ４が固定台２上の回路基板１の電磁波放
射を感知できるように、また書き込みペン７が固定台２
上の回路基板１に書き込みできるように、微小ループア
ンテナ４と書き込みペン７と直交２軸ステージ３が配設
され、電波暗室等の外来ノイズの影響を無視できる電磁
環境中に設置される。
ループアンテナ４が固定台２上の回路基板１の電磁波放
射を感知できるように、また書き込みペン７が固定台２
上の回路基板１に書き込みできるように、微小ループア
ンテナ４と書き込みペン７と直交２軸ステージ３が配設
され、電波暗室等の外来ノイズの影響を無視できる電磁
環境中に設置される。
【００１７】次に、本実施の形態の作用、動作を説明す
る。回路基板１は固定台２に載置される。微小ループア
ンテナ４及び書き込みペン７は直交２軸ステージ３に載
置される。パソコン６は、直交２軸ステージ３、オシロ
スコープ５、書き込みペン７に接続され、これらを統括
制御する。
る。回路基板１は固定台２に載置される。微小ループア
ンテナ４及び書き込みペン７は直交２軸ステージ３に載
置される。パソコン６は、直交２軸ステージ３、オシロ
スコープ５、書き込みペン７に接続され、これらを統括
制御する。
【００１８】パソコン６は、直交２軸ステージ３により
微小ループアンテナ４を順次所定の測定点に移動させ
る。微小ループアンテナ４は、各測定点において回路基
板１からの電磁波放射を感知する。オシロスコープ５
は、微小ループアンテナ４の出力信号を測定する。
微小ループアンテナ４を順次所定の測定点に移動させ
る。微小ループアンテナ４は、各測定点において回路基
板１からの電磁波放射を感知する。オシロスコープ５
は、微小ループアンテナ４の出力信号を測定する。
【００１９】パソコン６は、オシロスコープ５により測
定された微小ループアンテナ４の出力信号の有無及びそ
の強度を取得する。パソコン６は、直交２軸ステージ３
により書き込みペン７を順次所定の点に移動させる。そ
して、書き込みペン７により回路基板１の放射状況に応
じて回路基板１に所定の書き込みを行う。放射源可視化
装置は、以上の手続きを施すことにより回路基板１の放
射状況を当該回路基板１上で可視化する。
定された微小ループアンテナ４の出力信号の有無及びそ
の強度を取得する。パソコン６は、直交２軸ステージ３
により書き込みペン７を順次所定の点に移動させる。そ
して、書き込みペン７により回路基板１の放射状況に応
じて回路基板１に所定の書き込みを行う。放射源可視化
装置は、以上の手続きを施すことにより回路基板１の放
射状況を当該回路基板１上で可視化する。
【００２０】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置は、微小ループアンテナ４とオシロスコープ５によ
り回路基板１の放射を測定して、その結果を書き込みペ
ン７により回路基板１に書き込むため、回路基板１の放
射状況を当該回路基板１上で可視化することができる。
これにより、他の記録媒体を介することなく回路基板１
から直接放射状況が分かり、対策をより適切かつ速やか
に行うことができる。
装置は、微小ループアンテナ４とオシロスコープ５によ
り回路基板１の放射を測定して、その結果を書き込みペ
ン７により回路基板１に書き込むため、回路基板１の放
射状況を当該回路基板１上で可視化することができる。
これにより、他の記録媒体を介することなく回路基板１
から直接放射状況が分かり、対策をより適切かつ速やか
に行うことができる。
【００２１】また、放射源可視化装置は、感知手段に例
えば、マイクロホンやＣＣＤ、赤外線センサ、圧力セン
サ、臭気センサを適用することにより、電磁波源に限ら
ず、音源や光源、熱源、気流源、臭気源などの可視化も
行うことができる。
えば、マイクロホンやＣＣＤ、赤外線センサ、圧力セン
サ、臭気センサを適用することにより、電磁波源に限ら
ず、音源や光源、熱源、気流源、臭気源などの可視化も
行うことができる。
【００２２】図２は本発明の放射源可視化装置の第２の
実施の形態を示すものであり、本実施の形態は、複数の
書き込みペン８が複数の色を扱うものである。なお、本
実施の形態は、上記第１の実施の形態と同様の放射源可
視化装置に適用したものであり、本実施の形態の説明に
おいては、上記第１の実施の形態の放射源可視化装置と
同様の構成部分には同一符号を付して、その詳細な説明
を省略する（以降の図においても同様）。
実施の形態を示すものであり、本実施の形態は、複数の
書き込みペン８が複数の色を扱うものである。なお、本
実施の形態は、上記第１の実施の形態と同様の放射源可
視化装置に適用したものであり、本実施の形態の説明に
おいては、上記第１の実施の形態の放射源可視化装置と
同様の構成部分には同一符号を付して、その詳細な説明
を省略する（以降の図においても同様）。
【００２３】第２の実施の形態においては、第１の実施
の形態の書き込みペン７に代えて、複数の書き込みペン
８を設置したものである。そして、複数の書き込みペン
８により、回路基板１の放射状況に応じて回路基板１に
複数の色で所定の書き込みを行う。
の形態の書き込みペン７に代えて、複数の書き込みペン
８を設置したものである。そして、複数の書き込みペン
８により、回路基板１の放射状況に応じて回路基板１に
複数の色で所定の書き込みを行う。
【００２４】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置では、複数の書き込みペン８を設け、複数の色を扱
うようにしたため、放射分布表示やマーキングをより適
切に行うことができる。
装置では、複数の書き込みペン８を設け、複数の色を扱
うようにしたため、放射分布表示やマーキングをより適
切に行うことができる。
【００２５】次に、本発明の放射源可視化装置の第３の
実施の形態を、図１を利用して説明する。第３の実施の
形態においては、書き込みペン７は、耐熱性記録材料、
例えば、顔料インク、無機トナー等で回路基板１に所定
の書き込みを行うものである。
実施の形態を、図１を利用して説明する。第３の実施の
形態においては、書き込みペン７は、耐熱性記録材料、
例えば、顔料インク、無機トナー等で回路基板１に所定
の書き込みを行うものである。
【００２６】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置では、書き込みペン７は耐熱性記録材料で記述する
ため、熱を持った回路基板１上でも適切に放射状況を可
視化することができる。
装置では、書き込みペン７は耐熱性記録材料で記述する
ため、熱を持った回路基板１上でも適切に放射状況を可
視化することができる。
【００２７】次に、本発明の放射源可視化装置の第４の
実施の形態を、図１を利用して説明する。第４の実施の
形態においては、書き込みペン７は、消色性記録材料、
例えば、フルギド化合物を用いた光変色性材料、ロイコ
染料を主体とした発色剤とフェノール性水酸基含有化合
物を顕色剤とした熱変色性材料等で回路基板１に所定の
書き込みを行うものである。
実施の形態を、図１を利用して説明する。第４の実施の
形態においては、書き込みペン７は、消色性記録材料、
例えば、フルギド化合物を用いた光変色性材料、ロイコ
染料を主体とした発色剤とフェノール性水酸基含有化合
物を顕色剤とした熱変色性材料等で回路基板１に所定の
書き込みを行うものである。
【００２８】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置では、書き込みペン７は、消色性記録材料で記述す
るため、記述の消去が行え、繰り返し放射状況を可視化
することができる。
装置では、書き込みペン７は、消色性記録材料で記述す
るため、記述の消去が行え、繰り返し放射状況を可視化
することができる。
【００２９】図３は本発明の放射源可視化装置の第５の
実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、書き込み
ペンとして微小ループアンテナ一体型書き込みペン９を
設けたもので、請求項２に対応するものである。
実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、書き込み
ペンとして微小ループアンテナ一体型書き込みペン９を
設けたもので、請求項２に対応するものである。
【００３０】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置では、微小ループアンテナ４と一体化した微小ルー
プアンテナ一体型書き込みペン９を設けたので、測定と
書き込みが同時に行え、速やかに放射状況を可視化する
ことができる。
装置では、微小ループアンテナ４と一体化した微小ルー
プアンテナ一体型書き込みペン９を設けたので、測定と
書き込みが同時に行え、速やかに放射状況を可視化する
ことができる。
【００３１】次に本発明の放射源可視化装置の第６の実
施の形態を、図１を利用して説明する。第６の実施の形
態においては、書き込みペン７は、ゴム状物質等を被測
定物である回路基板１上に一様に書き込むことにより、
予め分離可能な膜を被測定物上に形成するものである。
施の形態を、図１を利用して説明する。第６の実施の形
態においては、書き込みペン７は、ゴム状物質等を被測
定物である回路基板１上に一様に書き込むことにより、
予め分離可能な膜を被測定物上に形成するものである。
【００３２】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置では、書き込みペン７は、予め分離可能な膜を書き
込むため、膜を分離することにより記述の消去が行え、
繰り返し放射状況を可視化することが出来るとともに、
分離した膜上に放射状況を保存することができる。
装置では、書き込みペン７は、予め分離可能な膜を書き
込むため、膜を分離することにより記述の消去が行え、
繰り返し放射状況を可視化することが出来るとともに、
分離した膜上に放射状況を保存することができる。
【００３３】次に本発明の放射源可視化装置の第７の実
施の形態を、図１を利用して説明する。第７の実施の形
態においては、書き込みペン７が回路基板１に予め背景
色を書き込むものである。
施の形態を、図１を利用して説明する。第７の実施の形
態においては、書き込みペン７が回路基板１に予め背景
色を書き込むものである。
【００３４】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置では、書き込みペン７は予め背景色を書き込むた
め、様々な色や部材からなる回路基板１上でも適切に放
射状況を記述することができる。
装置では、書き込みペン７は予め背景色を書き込むた
め、様々な色や部材からなる回路基板１上でも適切に放
射状況を記述することができる。
【００３５】次に本発明の放射源可視化装置の第８の実
施の形態を、図１を利用して説明する。第８の実施の形
態においては、書き込みペン７が回路基板１に予め着色
補助剤を書き込むものである。
施の形態を、図１を利用して説明する。第８の実施の形
態においては、書き込みペン７が回路基板１に予め着色
補助剤を書き込むものである。
【００３６】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置では、書き込みペン７は予め着色補助剤を書き込む
ため、様々な色や部材からなる回路基板１上でも適切に
放射状況を記述することができる。
装置では、書き込みペン７は予め着色補助剤を書き込む
ため、様々な色や部材からなる回路基板１上でも適切に
放射状況を記述することができる。
【００３７】図４は本発明の放射源可視化装置の第９の
実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、書き込み
ペン７の代わりに非接触方式のインク塗出装置１０を設
けたものである。なお、他の非接触方式の書き込み手段
としては、例えば、レーザ書き込み装置、トナー塗出装
置等がある。
実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、書き込み
ペン７の代わりに非接触方式のインク塗出装置１０を設
けたものである。なお、他の非接触方式の書き込み手段
としては、例えば、レーザ書き込み装置、トナー塗出装
置等がある。
【００３８】このように、本実施の形態の放射源可視化
装置では、インク塗出装置１０は非接触方式であるた
め、書き込みが容易になり、様々な形状の回路基板１上
でも適切に放射状況を記述することができる。
装置では、インク塗出装置１０は非接触方式であるた
め、書き込みが容易になり、様々な形状の回路基板１上
でも適切に放射状況を記述することができる。
【００３９】以上、本発明を好適な実施の形態に基づき
具体的に説明したが、本発明は上記に限定されるもので
はなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であ
ることは言うまでもない。
具体的に説明したが、本発明は上記に限定されるもので
はなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であ
ることは言うまでもない。
【００４０】次に放射源シールド装置について説明す
る。図５は本発明の放射源シールド装置の第１の実施の
形態を示す構成図であり、請求項３に対応するものであ
る。本実施の形態の放射源シールド装置は、回路基板の
電磁波の放射状況に応じて当該回路基板にシールドを施
すのに利用される。
る。図５は本発明の放射源シールド装置の第１の実施の
形態を示す構成図であり、請求項３に対応するものであ
る。本実施の形態の放射源シールド装置は、回路基板の
電磁波の放射状況に応じて当該回路基板にシールドを施
すのに利用される。
【００４１】図５において、放射源シールド装置は、微
小ループアンテナ４が固定台２上の回路基板１の電磁波
放射を感知できるように、また塗膜ペン１１が固定台２
上の回路基板１にシールド材料を塗膜できるように、微
小ループアンテナ４と塗膜ペン１１と直交２軸ステージ
３が配設され、電波暗室等の外来ノイズの影響を無視で
きる電磁環境中に設置される。
小ループアンテナ４が固定台２上の回路基板１の電磁波
放射を感知できるように、また塗膜ペン１１が固定台２
上の回路基板１にシールド材料を塗膜できるように、微
小ループアンテナ４と塗膜ペン１１と直交２軸ステージ
３が配設され、電波暗室等の外来ノイズの影響を無視で
きる電磁環境中に設置される。
【００４２】次に、本実施の形態の作用、動作を説明す
る。回路基板１は固定台２に載置される。微小ループア
ンテナ４及び塗膜ペン１１は直交２軸ステージ３に載置
される。パソコン６は、直交２軸ステージ３、オシロス
コープ５、塗膜ペン１１に接続され、これらを統括制御
する。
る。回路基板１は固定台２に載置される。微小ループア
ンテナ４及び塗膜ペン１１は直交２軸ステージ３に載置
される。パソコン６は、直交２軸ステージ３、オシロス
コープ５、塗膜ペン１１に接続され、これらを統括制御
する。
【００４３】パソコン６は、直交２軸ステージ３により
微小ループアンテナ４を順次所定の測定点に移動させ
る。微小ループアンテナ４は、各測定点において回路基
板１からの電磁波放射を感知する。オシロスコープ５
は、微小ループアンテナ４の出力信号を測定する。
微小ループアンテナ４を順次所定の測定点に移動させ
る。微小ループアンテナ４は、各測定点において回路基
板１からの電磁波放射を感知する。オシロスコープ５
は、微小ループアンテナ４の出力信号を測定する。
【００４４】パソコン６は、オシロスコープ５により測
定された微小ループアンテナ４の出力信号の有無及びそ
の強度を取得する。パソコン６は、直交２軸ステージ３
により塗膜ペン１１を順次所定の点に移動させる。そし
て、塗膜ペン１１により回路基板１の放射状況に応じて
回路基板１に所定量シールド材料の塗膜を行う。放射源
シールド装置は、以上の手続きを施すことにより回路基
板１の放射状況に応じて当該回路基板１にシールドを施
す。
定された微小ループアンテナ４の出力信号の有無及びそ
の強度を取得する。パソコン６は、直交２軸ステージ３
により塗膜ペン１１を順次所定の点に移動させる。そし
て、塗膜ペン１１により回路基板１の放射状況に応じて
回路基板１に所定量シールド材料の塗膜を行う。放射源
シールド装置は、以上の手続きを施すことにより回路基
板１の放射状況に応じて当該回路基板１にシールドを施
す。
【００４５】このように、本実施の形態の放射源シール
ド装置は、微小ループアンテナ４とオシロスコープ５に
より回路基板１の放射を探知して、その結果に応じて塗
膜ペン１１により当該回路基板１にシールドを施すた
め、回路基板１の放射状況に応じて当該回路基板１にシ
ールドを施すことができる。これにより、回路基板１の
放射対策をより適切かつ速やかに行うことができる。
ド装置は、微小ループアンテナ４とオシロスコープ５に
より回路基板１の放射を探知して、その結果に応じて塗
膜ペン１１により当該回路基板１にシールドを施すた
め、回路基板１の放射状況に応じて当該回路基板１にシ
ールドを施すことができる。これにより、回路基板１の
放射対策をより適切かつ速やかに行うことができる。
【００４６】また、放射抑制のための設計変更の省略、
簡易的な応急措置、設計変更後のシールドなどへの柔軟
な対応を行うことができる。
簡易的な応急措置、設計変更後のシールドなどへの柔軟
な対応を行うことができる。
【００４７】さらに、回路基板１の全面にシールドを施
すのではなく、回路基板１の放射に応じてシールドを施
すため、強い放射源には、より極力なシールドを施すな
どの対応が取れ、また、シールド材料を節約することが
でき、さらに、シールドによる熱問題が発生し難くな
る。
すのではなく、回路基板１の放射に応じてシールドを施
すため、強い放射源には、より極力なシールドを施すな
どの対応が取れ、また、シールド材料を節約することが
でき、さらに、シールドによる熱問題が発生し難くな
る。
【００４８】また、放射源シールド装置は、感知手段に
例えば、マイクロホンやＣＣＤ、赤外線センサ、圧力セ
ンサ、臭気センサを適用することにより、電磁波源に限
らず、音源や光源、熱源、気流源、臭気源などのシール
ドも施すことができる。
例えば、マイクロホンやＣＣＤ、赤外線センサ、圧力セ
ンサ、臭気センサを適用することにより、電磁波源に限
らず、音源や光源、熱源、気流源、臭気源などのシール
ドも施すことができる。
【００４９】次に本発明の放射源シールド装置の第２の
実施の形態を、図５を利用して説明する。第２の実施の
形態においては、塗膜ペン１１が回路基板１に予め絶縁
皮膜を塗膜するものである。
実施の形態を、図５を利用して説明する。第２の実施の
形態においては、塗膜ペン１１が回路基板１に予め絶縁
皮膜を塗膜するものである。
【００５０】このように、本実施の形態の放射源シール
ド装置では、塗膜ペン１１は予め絶縁皮膜を塗膜するた
め、電気的短絡を防止することができる。さらに、回路
基板１の全面に絶縁皮膜を施すのではなく、回路基板１
の放射に応じて絶縁皮膜を施せば、絶縁皮膜材料を節約
することができる。
ド装置では、塗膜ペン１１は予め絶縁皮膜を塗膜するた
め、電気的短絡を防止することができる。さらに、回路
基板１の全面に絶縁皮膜を施すのではなく、回路基板１
の放射に応じて絶縁皮膜を施せば、絶縁皮膜材料を節約
することができる。
【００５１】次に、本発明の放射源シールド装置の第３
の実施の形態を、図５を利用して説明する。第３の実施
形態においては、塗膜ペン１１が耐熱性シールド材料で
回路基板１に塗膜するものである。
の実施の形態を、図５を利用して説明する。第３の実施
形態においては、塗膜ペン１１が耐熱性シールド材料で
回路基板１に塗膜するものである。
【００５２】このように、本実施の形態の放射源シール
ド装置では、塗膜ペン１１は耐熱性シールド材料で塗膜
するため、熱を持った回路基板１でも焦げつきや燃焼、
接着不良を防止し、適切にシールドを施すことができ
る。
ド装置では、塗膜ペン１１は耐熱性シールド材料で塗膜
するため、熱を持った回路基板１でも焦げつきや燃焼、
接着不良を防止し、適切にシールドを施すことができ
る。
【００５３】次に、本発明の放射源シールド装置の第４
の実施の形態を、図５を利用して説明する。第４の実施
形態においては、塗膜ペン１１が有色シールド材料で回
路基板１に塗膜するものである。
の実施の形態を、図５を利用して説明する。第４の実施
形態においては、塗膜ペン１１が有色シールド材料で回
路基板１に塗膜するものである。
【００５４】このように、本実施の形態の放射源シール
ド装置では、塗膜ペン１１は有色シールド材料で塗膜す
るため、シールド状況を把握することができる。さらに
放射状況を可視化することができる。これにより、可視
化情報を用いて放射問題に対するノウハウを得ることが
できる。
ド装置では、塗膜ペン１１は有色シールド材料で塗膜す
るため、シールド状況を把握することができる。さらに
放射状況を可視化することができる。これにより、可視
化情報を用いて放射問題に対するノウハウを得ることが
できる。
【００５５】図６は本発明の放射源シールド装置の第５
の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜１
１が微小ループアンテナ４近傍に配設されるものであ
る。従って、回路基板１の任意の位置において測定と塗
膜が同時に行え、適切かつ速やかにシールドを施すこと
ができる。
の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜１
１が微小ループアンテナ４近傍に配設されるものであ
る。従って、回路基板１の任意の位置において測定と塗
膜が同時に行え、適切かつ速やかにシールドを施すこと
ができる。
【００５６】次に、本発明の放射源シールド装置の第６
の実施の形態を、図５を利用して説明する。第６の実施
の形態においては、塗膜ペン１１により塗膜状況毎の回
路基板１の放射状況に応じて、回路基板１に所定量シー
ルド材料の塗膜を行うものである。
の実施の形態を、図５を利用して説明する。第６の実施
の形態においては、塗膜ペン１１により塗膜状況毎の回
路基板１の放射状況に応じて、回路基板１に所定量シー
ルド材料の塗膜を行うものである。
【００５７】このように、本実施の形態の放射源シール
ド装置では、塗膜ペン１１は塗膜状況毎の測定値に応じ
て塗膜するため、塗膜することによってシールドされて
いく回路基板１の動的に変化する放射状況に応じて、当
該回路基板１にシールドを施すことができる。これによ
り、放射がある一定レベル以下になるまで塗膜を行うな
どの対応がとれ、回路基板１の放射対策をより適切かつ
速やかに行うことができる。
ド装置では、塗膜ペン１１は塗膜状況毎の測定値に応じ
て塗膜するため、塗膜することによってシールドされて
いく回路基板１の動的に変化する放射状況に応じて、当
該回路基板１にシールドを施すことができる。これによ
り、放射がある一定レベル以下になるまで塗膜を行うな
どの対応がとれ、回路基板１の放射対策をより適切かつ
速やかに行うことができる。
【００５８】図７は本発明の放射源シールド装置の第７
の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜手
段として非接触方式の塗膜スプレー１２を設けたもので
ある。
の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜手
段として非接触方式の塗膜スプレー１２を設けたもので
ある。
【００５９】このように、本実施の形態の放射源シール
ド装置では、塗膜スプレー１２は非接触方式であるた
め、接触方式に比べ特に表面形状が平坦でない回路基板
１等に対して塗膜スプレー１２の移動と塗膜が大幅に容
易になり、様々な形状の回路基板１でも適切かつ速やか
にシールドを施すことができる。
ド装置では、塗膜スプレー１２は非接触方式であるた
め、接触方式に比べ特に表面形状が平坦でない回路基板
１等に対して塗膜スプレー１２の移動と塗膜が大幅に容
易になり、様々な形状の回路基板１でも適切かつ速やか
にシールドを施すことができる。
【００６０】図８は本発明の放射源シールド装置の第８
の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜手
段が防気流部材を有するものである。即ち、防気流囲い
１３を有した塗膜ペン１１が設けられている。
の実施の形態を示す図であり、本実施の形態は、塗膜手
段が防気流部材を有するものである。即ち、防気流囲い
１３を有した塗膜ペン１１が設けられている。
【００６１】このように、本実施の形態の放射源シール
ド装置では、防気流囲い１３を有するため、外乱気流に
よる塗膜の乱れを防止することができる。さらに、塗膜
ペン１１が非接触方式である場合、塗膜の位置精度を向
上させることができる。
ド装置では、防気流囲い１３を有するため、外乱気流に
よる塗膜の乱れを防止することができる。さらに、塗膜
ペン１１が非接触方式である場合、塗膜の位置精度を向
上させることができる。
【００６２】次に、本発明の放射源シールド装置の第９
の実施の形態を、図５を利用して説明する。第９の実施
の形態においては、塗膜ペン１１が回路基板１に対して
略下方向に塗膜するようになっている。
の実施の形態を、図５を利用して説明する。第９の実施
の形態においては、塗膜ペン１１が回路基板１に対して
略下方向に塗膜するようになっている。
【００６３】このように、本実施の形態の放射源シール
ド装置では、塗膜ペン１１は略下方向に塗膜するため、
重力による塗膜の乱れを防止することができ、また、シ
ールド材料塗出安定性が得られる。さらに、塗膜ペン１
１が非接触方式である場合、回路基板１の表面形状が平
坦でない等でシールド材料の飛翔距離が変化するような
場合でも、塗膜の位置精度を向上させることができ、様
々な形状の回路基板１でも適切にシールドを施すことが
できる。
ド装置では、塗膜ペン１１は略下方向に塗膜するため、
重力による塗膜の乱れを防止することができ、また、シ
ールド材料塗出安定性が得られる。さらに、塗膜ペン１
１が非接触方式である場合、回路基板１の表面形状が平
坦でない等でシールド材料の飛翔距離が変化するような
場合でも、塗膜の位置精度を向上させることができ、様
々な形状の回路基板１でも適切にシールドを施すことが
できる。
【００６４】以上、本発明を好適な実施の形態に基づき
具体的に説明したが、本発明は上記のものに限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることは言うまでもない。
具体的に説明したが、本発明は上記のものに限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることは言うまでもない。
【００６５】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、感知手段
と測定手段により被測定物の放射を測定して、その結果
を書き込み手段により被測定物に書き込むため、被測定
物の放射状況を当該被測定物上で可視化することができ
る。これにより、他の記録媒体を介することなく被測定
物から直接放射状況が分かり、対策をより適切かつ速や
かに行うことができる。
と測定手段により被測定物の放射を測定して、その結果
を書き込み手段により被測定物に書き込むため、被測定
物の放射状況を当該被測定物上で可視化することができ
る。これにより、他の記録媒体を介することなく被測定
物から直接放射状況が分かり、対策をより適切かつ速や
かに行うことができる。
【００６６】請求項２記載の発明によれば、書き込み手
段は感知手段一体型であるため、測定と書き込みが同時
に行え、速やかに放射状況を可視化することができる。
段は感知手段一体型であるため、測定と書き込みが同時
に行え、速やかに放射状況を可視化することができる。
【００６７】請求項３記載の発明によれば、感知手段と
測定手段と移動手段により被測定物の放射源を探知し
て、その結果に応じて塗膜手段により当該被測定物にシ
ールドを施すため、被測定物の放射状況に応じて当該被
測定物にシールドを施すことができる。これにより、被
測定物の放射対策を適切かつ速やかに行うことができ
る。
測定手段と移動手段により被測定物の放射源を探知し
て、その結果に応じて塗膜手段により当該被測定物にシ
ールドを施すため、被測定物の放射状況に応じて当該被
測定物にシールドを施すことができる。これにより、被
測定物の放射対策を適切かつ速やかに行うことができ
る。
【図１】本発明の放射源可視化装置の第１の実施の形態
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図２】本発明の放射源可視化装置の第２の実施の形態
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図３】本発明の放射源可視化装置の第５の実施の形態
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図４】本発明の放射源可視化装置の第９の実施の形態
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図５】本発明の放射源シールド装置の第１の実施の形
態を示す構成図である。
態を示す構成図である。
【図６】本発明の放射源シールド装置の第５の実施の形
態を示す構成図である。
態を示す構成図である。
【図７】本発明の放射源シールド装置の第７の実施の形
態を示す構成図である。
態を示す構成図である。
【図８】本発明の放射源シールド装置の第８の実施の形
態を示す構成図である。
態を示す構成図である。
１ 回路基板 ２ 固定台 ３ 直交２軸ステージ ４ 微小ループアンテナ ５ オシロスコープ ６ パソコン ７ 書き込みペン ８ 複数の書き込みペン ９ 微小ループアンテナ一体型書き込みペン １０ インク塗出装置 １１ 塗膜ペン １２ 塗膜スプレー １３ 防気流囲い
Claims (3)
- 【請求項１】 被測定物の放射状況を当該被測定物に記
述する放射源可視化装置であって、 前記被測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手
段の出力を測定する測定手段と、前記被測定物に放射状
況を記述する書き込み手段と、前記感知手段及び前記書
き込み手段または前記被測定物を移動させる移動手段
と、前記測定手段と前記書き込み手段と前記移動手段を
制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする放射源
可視化装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の放射源可視化装置におい
て、 前記書き込み手段は、前記感知手段と一体に構成されて
いることを特徴とする放射源可視化装置。 - 【請求項３】 被測定物の放射状況に応じて当該被測定
物にシールドを施す放射源シールド装置であって、 前記被測定物の放射を感知する感知手段と、前記感知手
段の出力を測定する測定手段と、前記被測定物に塗膜す
る塗膜手段と、前記感知手段及び前記塗膜手段または前
記被測定物を移動させる移動手段と、前記測定手段と前
記塗膜手段と前記移動手段を制御する制御手段と、を備
えたことを特徴とする放射源シールド装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22137299A JP4157231B2 (ja) | 1999-08-04 | 1999-08-04 | 放射源可視化装置及び放射源シールド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22137299A JP4157231B2 (ja) | 1999-08-04 | 1999-08-04 | 放射源可視化装置及び放射源シールド装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001050999A true JP2001050999A (ja) | 2001-02-23 |
| JP4157231B2 JP4157231B2 (ja) | 2008-10-01 |
Family
ID=16765772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22137299A Expired - Fee Related JP4157231B2 (ja) | 1999-08-04 | 1999-08-04 | 放射源可視化装置及び放射源シールド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4157231B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008056874A1 (en) * | 2006-11-10 | 2008-05-15 | Korea Radio Promotion Association, Special Corporation | Remote controlled measuring apparatus for electromagnetic waves of a printed circuit board |
| JP2010025768A (ja) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Honda Motor Co Ltd | 電磁波測定装置 |
| JP2010044021A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Nec Corp | 比吸収率測定装置、比吸収率測定方法及び比吸収率測定プログラム |
| US8532587B2 (en) | 2005-06-03 | 2013-09-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Usage mode-based antenna selection |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04352498A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-07 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 高透磁率を有する電磁シールド用絶縁ペースト |
| JPH1131871A (ja) * | 1997-07-10 | 1999-02-02 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 基板検査装置のマーキング機構 |
| JPH1183918A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-26 | Canon Inc | 近傍電磁界分布測定装置 |
-
1999
- 1999-08-04 JP JP22137299A patent/JP4157231B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR100840037B1 (ko) | 2006-11-10 | 2008-06-19 | (특수법인)한국전파진흥협회 | 원격 피씨비 전자파 측정 장치 |
| JP2010025768A (ja) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Honda Motor Co Ltd | 電磁波測定装置 |
| JP2010044021A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Nec Corp | 比吸収率測定装置、比吸収率測定方法及び比吸収率測定プログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4157231B2 (ja) | 2008-10-01 |
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