JP2001044582A - Photoelectric mixed wiring board, drive method therefor and electronic circuit device using the same - Google Patents

Photoelectric mixed wiring board, drive method therefor and electronic circuit device using the same

Info

Publication number
JP2001044582A
JP2001044582A JP21300099A JP21300099A JP2001044582A JP 2001044582 A JP2001044582 A JP 2001044582A JP 21300099 A JP21300099 A JP 21300099A JP 21300099 A JP21300099 A JP 21300099A JP 2001044582 A JP2001044582 A JP 2001044582A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
wiring board
electric
wiring
opto
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP21300099A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3684112B2 (en
Inventor
Toshihiko Onouchi
敏彦 尾内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP21300099A priority Critical patent/JP3684112B2/en
Publication of JP2001044582A publication Critical patent/JP2001044582A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3684112B2 publication Critical patent/JP3684112B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoelectric mixed wiring board, in which the electric and optical mixed connection coping with optical interconnection can be realized at a low power consumption and a low cost, while electronic integrated elements are mounted by the conventional IC package, etc. SOLUTION: In photoelectric mixed wiring boards 1 and 2, an electric wiring 3 and an optical waveguide are formed on the same wiring board, and the wiring board is provided with optical elements 8 and 9 for photoelectrically converting the signal of an electronic integrated element 6 to input/output by an optical signal, a wiring to the optical elements 8 and 9, and a mounting part exposing an electrical terminal 5 for mounting the electronic integrated element 6. By only connecting electric terminals 5 and 10 with each other and mounting the electronic integrated element 6 to the mounting part, a signal can be given and received between the electronic integrated element 6 and wiring boards 1 and 2, at least partly through optical signals.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器を構成す
る電子集積素子に接続される光電気混載配線基板に関
し、特には、電子集積素子を実装して信号のやり取りを
光インターコネクションで行なうための光電気混載配線
基板、その駆動方法等に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an opto-electric hybrid wiring board connected to an electronic integrated device constituting an electronic apparatus, and more particularly to a method for mounting an electronic integrated device and exchanging signals by optical interconnection. And a method of driving the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報処理、ディスプレイ、プリン
タなどを含めたコンピュータ環境の高速化に伴い、高速
LSI(large scale integrati
on)の開発が進んでいる。それに連れて、LSIチッ
プ内、IC(integrated circuit)
ボード内、MCM(multi−chip−modul
e)内、スーパーコンピュータにおけるバックプレイン
などの高速接続から、ボード間、コンピュー夕間、周辺
機器やAV(audio−visual)装置との間な
どの電子機器の接続において、電気配線による信号遅
延、発熱、EMI(電磁放射ノイズ)の発生などの問題
が表面化している。しかし、その対策は難しく、近い将
来、電気配線の限界が見えてくるのは明らかである。
2. Description of the Related Art In recent years, with the speeding up of computer environments including information processing, displays, printers, and the like, high-speed LSI (large scale integration) has been developed.
on) is under development. Then, IC (integrated circuit) in the LSI chip
In the board, MCM (multi-chip-modul)
e) In the connection of electronic devices such as high-speed connections such as backplanes in supercomputers, between boards, computers, peripheral devices and audio-visual (AV) devices, signal delay and heat generation due to electric wiring. And problems such as generation of EMI (electromagnetic radiation noise) have surfaced. However, it is difficult to take countermeasures, and it is clear that the limitations of electrical wiring will be seen in the near future.

【0003】電気配線で発生する問題を解決するため
に、ボード内においてランバス方式のマイクロストリッ
プラインを用いた基板や、ボード間において振幅の小さ
い差動信号(LVDS:low voltage di
fferential signaling)をシール
ド線で伝送する方法が開発されつつある。前者のランバ
ス方式では400MHzオーバーの信号伝送が達成され
ており、次期PC(personal compute
r)に導入することになっている。しかし、配線の仕
方、LSI側の実装やピン配置などに制約がある。よっ
て、チップのコストアップ、長い配線には向かない、多
ビット配線ではクロストークを避けるために高密度化に
限度があり基板が大きくなるなどの問題がある。また、
後者ではLVDSを用いた高速シリアル伝送(〜1Gb
ps)が実用化されているが、インタフェースICやケ
ーブルが高価なことから使用範囲は限られている。
In order to solve the problem that occurs in the electric wiring, a board using a rambus-type microstrip line in a board or a differential signal (LVDS: low voltage diage) having a small amplitude between boards is used.
A method of transmitting a ferential signal through a shield line is being developed. In the former Rambus system, signal transmission over 400 MHz has been achieved, and the next PC (personal computer) has been achieved.
r). However, there are restrictions on the wiring method, mounting on the LSI side, pin arrangement, and the like. Therefore, there is a problem that the cost of the chip is increased, the wiring is not suitable for long wiring, and the multi-bit wiring is limited in terms of high density in order to avoid crosstalk and the substrate becomes large. Also,
In the latter case, high-speed serial transmission using LVDS (up to 1 Gb
ps) has been put to practical use, but the range of use is limited due to the expensive interface ICs and cables.

【0004】一方、これら電気配線の限界をクリアする
方法として、光インターコネクション技術が開発されつ
つある。光インターコネクションは、ICなどからの電
気信号をE(電気)/O(光)変換し、変換された光信
号をボード内に形成された光配線(光導波路など)を通
じて他のICあるいはボードの受光器に伝送し、今度は
O/E変換をして電気信号に戻して信号のやり取りをす
るものである。この方式は、電気配線の場合のような寄
生容量による信号遅延、グランドの不安定性からくる信
号劣化、配線から放射されるEMIの放射などがないた
め、次世代配線技術として期待されている。この光イン
ターコネクションにおいては、O/E及びE/O変換の
部分、光導波路の部分が重要であり、如何に効率良くま
たコストを低減して電気配線の一部を光配線で代替でき
るかが課題になっている。
On the other hand, an optical interconnection technique is being developed as a method of overcoming the limitations of the electric wiring. The optical interconnection converts an electric signal from an IC or the like into E (electricity) / O (light), and converts the converted optical signal to another IC or board through an optical wiring (such as an optical waveguide) formed in the board. The signal is transmitted to the photodetector, and then converted to an electrical signal by O / E conversion to exchange signals. This method is expected as a next-generation wiring technology because there is no signal delay due to parasitic capacitance as in the case of electric wiring, signal deterioration due to ground instability, EMI radiation radiated from the wiring, and the like. In this optical interconnection, the O / E and E / O conversion portions and the optical waveguide portion are important, and how to efficiently replace a part of the electrical wiring with the optical wiring while reducing the cost is important. It is an issue.

【0005】光配線の例としては、特開平5−6777
0号公報に開示されたもののように、ICチップのピン
の代わりに発光素子が実装された光電子ICチップを光
導波路と反射ミラーを備えた光配線基板に実装するもの
がある。これを図12に示す。光電子ICチップ100
4の裏側に発光素子1011が備えられ、光配線基板1
001には傾斜部1005があって反射ミラーとし、発
光素子1011からの光信号が光導波路(コア)100
8に結合されて他のチップ1004の受光素子1012
で受光されることを通して信号のやり取りを行なう。し
かし、この例では、光素子1011、1012と光導波
路(コア)1008間の光結合の仕方についての記述は
あるが、電子回路部1010と光素子1011、101
2との具体的な集積方法あるいは駆動方法は記載されて
いない。尚、1002は反射膜、1006は凸部、10
07はシリコン酸化膜である。
[0005] An example of an optical wiring is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-6777.
As disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 0, there is a device in which an optoelectronic IC chip on which a light emitting element is mounted is mounted on an optical wiring board having an optical waveguide and a reflection mirror instead of the pins of the IC chip. This is shown in FIG. Optoelectronic IC chip 100
4, a light emitting element 1011 is provided on the back side,
001 has an inclined portion 1005 serving as a reflection mirror, and an optical signal from the light emitting element 1011 is transmitted to the optical waveguide (core) 100.
8 and the light receiving element 1012 of another chip 1004
The signals are exchanged through the reception of the light. However, in this example, although there is a description of a method of optical coupling between the optical elements 1011 and 1012 and the optical waveguide (core) 1008, the electronic circuit unit 1010 and the optical elements 1011 and 101 are described.
No specific integration method or driving method with No. 2 is described. In addition, 1002 is a reflective film, 1006 is a convex part, 10
Reference numeral 07 denotes a silicon oxide film.

【0006】一方、光配線のための光素子の駆動方法に
ついての例としては、特開平9−96746号公報に記
載があるように、レーザからの出力を平面光導波路で形
成したカップラで信号線の数だけ分けて、電界吸収型の
光変調器やマッハツェンダ型の光スイッチなどでE/O
変換する方法が公知である。この例を図13に示す。こ
の場合では、図13(b)の説明のように電気配線部と
光配線部を独立に設計するので基板が複雑化せず、光素
子の駆動用の特別なICを用意する必要がない。よっ
て、従来の電気プリント基板などに光配線部を付加する
だけでよいので、電子機器に導入しやすい方式になって
いる。
On the other hand, as an example of a method of driving an optical element for optical wiring, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-96746, a signal output from a laser is output by a coupler formed by a planar optical waveguide. E / O with an electro-absorption optical modulator or a Mach-Zehnder optical switch
Conversion methods are known. This example is shown in FIG. In this case, since the electric wiring section and the optical wiring section are designed independently as described in FIG. 13B, the substrate is not complicated, and there is no need to prepare a special IC for driving the optical element. Therefore, since it is only necessary to add an optical wiring section to a conventional electric printed circuit board or the like, the method is easy to introduce into an electronic device.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、図
13の方式では、光配線部を電気回路とは別個に設けれ
ばよい反面、厚みが増すために、図12の光電子混載基
板に比べると、大型化してしまう。また、多チャネルの
場合には、光変調器や光スイッチという高機能素子を複
数用意するために、コスト高になり、電気信号から変調
器への電極コンタクトの信頼性、実装上の制約、変調器
間のクロストークの問題などが生ずる。また、カップラ
で光を分岐してさらに光変調器等に結合するので、光損
失が大きく、レーザの出力パワーを確保するために消費
電力が問題になってくる。
However, in the method shown in FIG. 13, the optical wiring section may be provided separately from the electric circuit, but the thickness is increased, so that the size is larger than that of the opto-electronic hybrid board shown in FIG. It will be. In addition, in the case of multi-channels, the cost is increased due to the provision of a plurality of high-performance elements such as optical modulators and optical switches, and the reliability of electrode contacts from electrical signals to the modulator, mounting restrictions, and modulation The problem of crosstalk between devices occurs. Further, since the light is branched by the coupler and further coupled to an optical modulator or the like, light loss is large, and power consumption becomes a problem in securing the output power of the laser.

【0008】他方、図12の方式では構成は不明である
が、光素子と電気素子が同一パッケージ化されており、
高集積化により小型化でき、配線などの信頼性も向上す
ると思われる。しかし、同一パッケージ化された光電子
集積回路は、従来の電子集積回路の実装方法などを根本
から設計変更する必要がある。そのため、これを電子機
器に導入するには、設計、製造装置の変更など製造技術
を整備することに時間を要し、初期コストが上昇するこ
とが考えられる。
On the other hand, although the configuration is unknown in the system of FIG. 12, the optical element and the electric element are packaged in the same package.
It is thought that miniaturization can be achieved by high integration, and the reliability of wiring and the like is also improved. However, the opto-electronic integrated circuit packaged in the same package requires a fundamental design change of the mounting method of the conventional electronic integrated circuit. Therefore, in order to introduce this into an electronic device, it takes time to maintain a manufacturing technique such as a change of a design or a manufacturing apparatus, and an initial cost may be increased.

【0009】そこで、本発明の目的は、光インターコネ
クションに対応した電気・光混載の接続を、実装する電
子集積素子は従来のICパッケージ等のままで、しかも
低消費電力、低コストで行なえる様に構成された光電気
混載配線基板、その駆動方法などを提供することにあ
る。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an electric / optical hybrid connection corresponding to an optical interconnection, with a low power consumption and low cost, with the electronic integrated device to be mounted being a conventional IC package or the like. It is an object of the present invention to provide an opto-electric hybrid wiring board configured as described above, a driving method thereof, and the like.

【0010】[0010]

【課題を解決する為の手段】上記目的を達成する電子集
積素子を実装するための本発明の光電気混載配線基板
は、電気配線および光導波路が該同一配線基板上に形成
してあり、電子集積素子の信号の入出力を光信号で行な
うために光電変換させる光素子、該光素子への配線、お
よび電子集積素子を実装する為の電気端子の露出した実
装部が該配線基板に備えられており、電子集積素子を電
気端子同士を結合させて該実装部に電気実装するだけで
該電子集積素子と該配線基板間の信号の授受の少なくと
も一部を光信号で行なえる様に構成されたことを特徴と
する。これにより、光インターコネクションを小型、低
消費電力、低コストで行なうために、電子集積素子のパ
ッケージは通常のものと変更することなく、実装基板側
にO/E、E/O変換部が同一基板上に集積された光電
気混載配線基板を実現できる。この構成では、O/E、
E/O変換を行なうための光素子のみを光配線層と集積
化させて、さらにこれを電気配線基板と一体化させ、電
子集積素子を電気実装する電極と光素子との配線を短距
離で行なうことで、光配線と電気配線を混合して行なう
上で小型、低消費電力、低コストを同時に達成できる様
になっている。
According to the opto-electric hybrid wiring board of the present invention for mounting an electronic integrated device which achieves the above object, an electric wiring and an optical waveguide are formed on the same wiring board. The wiring board is provided with an optical element for performing photoelectric conversion for performing input / output of a signal of the integrated element by an optical signal, a wiring to the optical element, and an exposed mounting portion of an electric terminal for mounting the electronic integrated element. The electronic integrated device is configured such that at least a part of transmission and reception of a signal between the electronic integrated device and the wiring substrate can be performed by an optical signal only by electrically mounting the electronic integrated device to the mounting portion by coupling the electric terminals. It is characterized by having. As a result, the O / E and E / O converters are the same on the mounting substrate side without changing the package of the electronic integrated device to perform optical interconnection with small size, low power consumption and low cost. An opto-electric hybrid board integrated on the substrate can be realized. In this configuration, O / E,
Only the optical element for performing the E / O conversion is integrated with the optical wiring layer, which is further integrated with the electric wiring board, and the wiring between the electrode on which the electronic integrated element is electrically mounted and the optical element is formed over a short distance. By doing so, it is possible to simultaneously achieve small size, low power consumption, and low cost in mixing optical wiring and electric wiring.

【0011】この基本構成に基づいて、以下の如き好適
な形態が可能である。光素子は面型光素子であり、該光
素子は光導波路の光入出射端に面同士を当接させて面実
装されている。これにより、光素子の配置やこれへの配
線が容易にできる。光素子のアレイ化も容易である。ま
た、電気配線基板と光導波路を形成した層を積層した光
電気混載配線基板に光素子を実装するときに、光素子の
光入出射端面部と該光導波路の光入出射端面が容易に正
確にアラインできる。特に、E/O変換を行なうための
発光素子を低しきい値の面発光レーザにすることで、低
消費電力駆動が可能で光素子と光導波路との光結合や光
素子のアレイ化が容易な光電気混載配線基板を実現でき
る。
Based on this basic configuration, the following suitable modes are possible. The optical element is a surface-type optical element, and the optical element is surface-mounted with its surfaces in contact with the light input / output ends of the optical waveguide. Thereby, the arrangement of the optical element and the wiring to the optical element can be easily performed. An array of optical elements is also easy. Further, when mounting an optical element on an opto-electric hybrid wiring board in which an electric wiring board and a layer on which an optical waveguide is formed are stacked, the light input / output end face of the optical element and the light input / output end face of the optical waveguide can be easily and accurately determined. Can be aligned to In particular, by using a surface emitting laser with a low threshold as a light emitting element for performing E / O conversion, low power consumption driving is possible, and optical coupling between an optical element and an optical waveguide and arraying of optical elements are easy. It is possible to realize an opto-electric hybrid board.

【0012】光素子の配置形態としては次のようなもの
が可能である。配線基板に平行に走る光導波路が垂直面
で切断されて光入出射端が露出し、その垂直面上に光素
子が光導波路に光結合できるようにアライメントされて
設けられている。この場合、電気端子の露出した実装部
は前記垂直面に囲まれて形成され得る。
The following arrangements are possible for the arrangement of the optical elements. An optical waveguide running parallel to the wiring board is cut at a vertical plane to expose a light input / output end, and an optical element is provided on the vertical plane so as to be optically coupled to the optical waveguide. In this case, the exposed mounting portion of the electric terminal may be formed to be surrounded by the vertical surface.

【0013】また、配線基板に垂直に走る光導波路が水
平面で切断されて光入出射端が露出し、その水平面上に
光素子が光導波路に光結合できるようにアライメントさ
れて設けられている。この場合、前記入出射端の下部に
は反射ミラーが備えられて、前記配線基板に平行に走る
光導波路の導波と光素子が光結合され得る。また、光素
子が設けられた水平面に隣接して電気端子の露出した部
分が形成され得る。そして、この場合、前記電気端子の
露出した部分では、前記光素子への配線が該電気端子に
電気的に接続されていたり、前記光素子への配線が該電
気端子に電気的に接続されると共に前記実装部が形成さ
れていたりする。また、光素子は配線基板の両面に設け
られていたり、前記実装部は配線基板の両面に設けられ
ていたり、配線基板は電気配線基板の両面に光導波路を
形成した層を積層したものになっており、該電気配線基
板の一部に光が透過できるスルーホールが設けられて該
両面の光導波路間での光信号の接続を行なえる様に構成
されていたりする。
The optical waveguide running perpendicular to the wiring board is cut along a horizontal plane to expose a light input / output end, and the optical element is arranged on the horizontal plane so as to be optically coupled to the optical waveguide. In this case, a reflection mirror is provided below the input / output end, so that the waveguide of the optical waveguide running parallel to the wiring board and the optical element can be optically coupled. Further, an exposed portion of the electric terminal may be formed adjacent to the horizontal plane on which the optical element is provided. In this case, in the exposed portion of the electric terminal, the wiring to the optical element is electrically connected to the electric terminal, or the wiring to the optical element is electrically connected to the electric terminal. Together with the mounting portion. Further, the optical element is provided on both sides of the wiring board, the mounting portion is provided on both sides of the wiring board, and the wiring board is formed by laminating a layer having an optical waveguide formed on both sides of the electric wiring board. In some cases, a through hole through which light can pass is provided in a part of the electric wiring board so that an optical signal can be connected between the optical waveguides on both surfaces.

【0014】更により具体的には、光素子は、アレイ状
に並べられて、各素子の独立電極がフリップチップ実装
で前記配線基板とは異なる第2の配線基板に貼り付けら
れ、光透過用の窓が該第2の配線基板に設けられて光導
波路に光結合できるようにアライメントされて該光導波
路の入出射端面に接着されるとともに、該第2の配線基
板を介して電子集積素子の電気端子または前記実装部の
露出した電気端子と光素子が電気的に接続され得る様に
構成されている。光素子を独立駆動するための配線基板
にフリップチップ実装することで、低消費電力駆動が可
能で光導波路との光結合やアレイ化が容易で安価な光電
気混載配線基板を実現できる。
Still more specifically, the optical elements are arranged in an array, and the independent electrodes of each element are attached to a second wiring board different from the wiring board by flip-chip mounting, and the light transmitting Windows are provided on the second wiring board, are aligned so that they can be optically coupled to the optical waveguide, are bonded to the input / output end faces of the optical waveguide, and are provided through the second wiring board. It is configured such that an electric terminal or an exposed electric terminal of the mounting portion can be electrically connected to the optical element. By mounting a flip chip on a wiring board for independently driving an optical element, a low-power driving can be realized, and an inexpensive opto-electric hybrid wiring board that can be easily coupled with an optical waveguide or easily formed into an array and can be realized.

【0015】また、光素子は面発光レーザであり、該面
発光レーザは、板状の構造体と前記第2の配線基板との
間にサンドイッチされる形で実装されており、多層膜反
射ミラーと活性層を含む共振器層のみ残して半導体基板
が除去されている構造を有する構成も採り得る。面発光
レーザを形成した化合物半導体基板を除去して、より小
型で、環境安全性の高い光電気混載基板を実現できる。
面発光レーザで、板状の構造体に接着した後に、面発光
レーザを構成したGaAs、InPなどの化合物半導体
基板を除去して、現れた表面に電極形成、素子分離など
を行い、フリップチップ実装等で配線基板に接着してか
ら導波路にアライメントするように接着することで、よ
り小型で、環境安全性の高い光電気混載配線基板を実現
できる。
Further, the optical element is a surface emitting laser, and the surface emitting laser is mounted in a form sandwiched between a plate-like structure and the second wiring board. And a structure in which the semiconductor substrate is removed while leaving only the resonator layer including the active layer. By removing the compound semiconductor substrate on which the surface emitting laser is formed, a smaller and more environmentally safe opto-electric hybrid board can be realized.
After bonding to a plate-like structure with a surface-emitting laser, the compound semiconductor substrate such as GaAs or InP that constitutes the surface-emitting laser is removed, electrodes are formed on the surface that has appeared, elements are separated, and flip-chip mounting is performed. By adhering to the wiring substrate after bonding to the waveguide by using the method described above, it is possible to realize an opto-electric hybrid wiring substrate having a smaller size and high environmental safety.

【0016】また、光素子は面発光レーザであり、該面
発光レーザは、板状の構造体の上に前記第2の配線基板
を接着しさらにその上にフリップチップ実装されてお
り、多層膜反射ミラーと活性層を含む共振器層のみ残し
て半導体基板が除去されている構造を有し、該フリップ
チップ実装された面とは反対側の面には面発光レーザの
共通電極が形成されていて該電極には光取り出し用の窓
が設けられて上記光導波路に光結合できるようにアライ
メントされて該光導波路の入射端面に接着されるととも
に、該第2の配線基板を介して電子集積素子の電気端子
または前記実装部の露出した電気端子と面発光レーザが
電気的に接続される様に構成されている構成も採り得
る。この構成でも、面発光レーザを形成した化合物半導
体基板を除去して、より小型で、環境安全性の高い光電
気混載基板を実現できる。面発光レーザで、板状の構造
体上の配線基板にフリップチップ実装した後に、面発光
レーザを構成したGaAs、InPなどの化合物半導体
基板を除去して、現れた表面に共通電極形成を行い、導
波路にアライメントするように接着することで、より小
型で、環境安全性の高い光電気混載配線基板を実現でき
る。
The optical device is a surface emitting laser, and the surface emitting laser is formed by bonding the second wiring substrate on a plate-like structure and mounting the second wiring substrate on the second wiring substrate by flip chip mounting. It has a structure in which the semiconductor substrate is removed leaving only the resonator layer including the reflection mirror and the active layer, and a common electrode of the surface emitting laser is formed on the surface opposite to the surface on which the flip chip is mounted. The electrode is provided with a window for taking out light, is aligned so as to be capable of optically coupling to the optical waveguide, is adhered to the incident end face of the optical waveguide, and is provided with an electronic integrated device via the second wiring substrate. It is also possible to adopt a configuration in which the electric terminal or the exposed electric terminal of the mounting portion is electrically connected to the surface emitting laser. Also in this configuration, the compound semiconductor substrate on which the surface emitting laser is formed is removed, and a smaller and more environmentally safe opto-electric hybrid board can be realized. After flip-chip mounting on a wiring substrate on a plate-like structure with a surface-emitting laser, the compound semiconductor substrate such as GaAs or InP that constituted the surface-emitting laser was removed, and a common electrode was formed on the surface that appeared. By bonding so as to be aligned with the waveguide, it is possible to realize a smaller-sized and environmentally safe opto-electric hybrid board.

【0017】また、より具体的には、電子集積素子を実
装する前記実装部において光配線するための光導波路を
形成した層がくり貫かれており、該くり貫かれた部分の
側面に該光導波路の入出射端面が形成されていて、光電
変換させる光素子は該光導波路への光結合が可能なよう
にアライメントされて該入出射端面に接着されている。
これにより、O/E、E/O変換部と光導波路との光結
合を簡単かつ低コストで達成して安価な光電気混載配線
基板を実現できる。
More specifically, a layer on which an optical waveguide for optical wiring is formed in the mounting portion for mounting an electronic integrated device is hollowed out, and the side of the hollowed-out portion is provided with the optical waveguide. An input / output end face of the waveguide is formed, and an optical element for photoelectric conversion is aligned so as to enable optical coupling to the optical waveguide, and is bonded to the input / output end face.
As a result, optical coupling between the O / E and E / O converters and the optical waveguide can be achieved easily and at low cost, and an inexpensive opto-electric hybrid wiring board can be realized.

【0018】また、電子集積素子を実装する前記実装部
とは反対側の面の一部において、光配線するための光導
波路を形成した層がくり貫かれており、該くり貫かれた
部分の近傍に沿う形で該光導波路の入出射端がアレイ状
に該光導波路を形成した層の面上に形成されていて、該
入出射端の下部には反射ミラーを備えて該光導波路に光
を導波させるようになっており、光電変換させる光素子
は該面上に形成された入出射端に光結合が可能なように
アライメントされて接着されている。これによっても、
O/E、E/O変換部と光導波路との光結合を簡単かつ
低コストで達成して安価な光電気混載配線基板を実現で
きる。
Further, on a part of the surface opposite to the mounting portion on which the electronic integrated element is mounted, a layer forming an optical waveguide for optical wiring is hollowed out. The input and output ends of the optical waveguide are formed on the surface of the layer on which the optical waveguide is formed in an array along the vicinity, and a reflection mirror is provided below the input and output ends to provide light to the optical waveguide. The optical element for photoelectric conversion is aligned and adhered to an input / output end formed on the surface so as to enable optical coupling. This also
Optical coupling between the O / E and E / O converters and the optical waveguide can be achieved simply and at low cost, and an inexpensive opto-electric hybrid wiring board can be realized.

【0019】また、配線基板は電気配線基板の両面に光
導波路を形成した層を積層したものになっており、光電
変換させる光素子を両面に複数実装し、該電気配線基板
の一部に光が透過できるスルーホールを設けて該両面の
光導波路間での光信号の接続をも行い、前記電気集積素
子間での信号の授受を電気と光混在で行なえる様に構成
されている。これにより、電気配線用の基板の両面に光
導波路を積層して一体化させ、上記の方法で光電変換部
を集積化させて電気・光の接続・配線を行い、該両面に
形成した光導波路間においても基板にスルーホールを形
成することで信号の授受を行ない、低コストで高密度な
実装を行なうことができ、高速信号を低EMIで伝達で
きる電子機器用のMCM(マルチチップモジュール)等
を提供できる。
The wiring board is formed by laminating layers each having an optical waveguide formed on both sides of an electric wiring board. A plurality of optical elements to be subjected to photoelectric conversion are mounted on both sides, and a part of the electric wiring board is provided with an optical element. A through-hole is provided to allow transmission of optical signals between the optical waveguides on both surfaces, so that transmission and reception of signals between the electric integrated elements can be performed in a mixture of electricity and light. Thus, the optical waveguides are laminated and integrated on both sides of the substrate for electric wiring, and the photoelectric conversion unit is integrated by the above-described method to perform electric / optical connection / wiring. By forming through-holes in the board between the terminals, signals can be transmitted and received, high-density mounting can be performed at low cost, and MCMs (multi-chip modules) for electronic devices that can transmit high-speed signals with low EMI. Can be provided.

【0020】上記目的を達成する光素子に面発光レーザ
を含む上記の光電気混載配線基板の駆動方法は、面発光
レーザの駆動は電子集積素子の出力段のCMOSバッフ
ァのオン・オフで直接行ない、レーザの駆動電流の調整
は直列に挿入した抵抗で行なうことを特徴とする。ここ
では、面発光レーザのオン・オフ駆動をLSIなどの出
力段のトランジスタでスイッチングすることで行なっ
て、また、電源電圧に抵抗と面発光レーザが直列に接続
されて、その抵抗値で面発光レーザの電流量を決定する
ので特別な回路上の変更がなく、低コスト、低消費電力
の光素子の駆動方法を実現できる。
According to the above-mentioned method of driving an opto-electric hybrid wiring substrate including a surface emitting laser as an optical element to achieve the above object, the surface emitting laser is directly driven by turning on / off a CMOS buffer in an output stage of an electronic integrated device. The adjustment of the driving current of the laser is performed by a resistor inserted in series. Here, the on / off driving of the surface emitting laser is performed by switching with a transistor in an output stage such as an LSI, and a resistor and a surface emitting laser are connected in series to a power supply voltage, and the surface emitting laser is connected by the resistance value. Since the amount of current of the laser is determined, there is no special circuit change, and a low-cost and low-power-consumption optical element driving method can be realized.

【0021】上記目的を達成する電子回路装置は、光素
子に面発光レーザを含む上記の光電気混載配線基板に大
規模中央演算装置(MPU)、ランダムアクセスメモリ
などの電気集積素子を複数実装し、上記の駆動方法で面
発光レーザを駆動する様に構成されたことを特徴とす
る。
An electronic circuit device which achieves the above object has a plurality of electric integrated devices such as a large-scale central processing unit (MPU) and a random access memory mounted on the above-mentioned opto-electric hybrid board including an optical element including a surface emitting laser. The present invention is characterized in that the surface emitting laser is driven by the above driving method.

【0022】上記のような光電気混載配線基板、駆動方
法を用いれば高速、低EMIの電子機器用のMCM(マ
ルチチップモジュール)などを提供できる。
Using the opto-electric hybrid wiring board and the driving method as described above, an MCM (multi-chip module) for high-speed, low-EMI electronic equipment can be provided.

【0023】ここで、本発明の特徴を一具体例に沿って
説明する。低消費電力で簡単な駆動系で発光できる面発
光レーザアレイを、電気配線基板と光配線層を一体化し
た図1のような光電気混載基板に集積化させ、通常の電
子集積素子を電気実装するだけで電気の接続と光の接続
を同時に実現する例を用いて説明する。
Here, the features of the present invention will be described with reference to a specific example. A surface-emitting laser array that can emit light with a simple drive system with low power consumption is integrated on an opto-electric hybrid board as shown in Fig. 1 in which an electric wiring board and an optical wiring layer are integrated, and a normal electronic integrated element is electrically mounted. The description will be made using an example in which the electrical connection and the optical connection are simultaneously realized by simply performing the above operations.

【0024】電子集積素子6の実装はBGA(Ball
Grid Array)型パッケージではんだボール
10で行い、光配線層2の端面に貼り付けられたO/
E、E/O変換部8、9とは該はんだボールで実装され
た電極と配線されており、電気信号の一部を光信号に変
換して光配線させる。O/E、E/Oの変換部と光導波
路との光結合は光配線層2の側面に接着するときに導波
路4にアライメントして固定されているために、結合損
が変動することはない。面発光レーザは動作電流3mA
で100μW程度の出力が得られ、図5(a)、(b)
に示したようなCMOSバッファによりオン/オフする
という簡単な回路構成で十分駆動できる。従って、今ま
でのLSIの出力段のMOSトランジスタに光電気混載
基板に集積化された抵抗と面発光レーザを直列に接続す
ることで構成できるので、LSIの回路構成の変更など
は殆どなく、非常に低コストで光電気混載の配線が実現
できる。ここで、レーザが100μWの出力で受光器の
最低受信感度が−25dBmとすれば、15dBの光損
失まで許されることになり、ボード内の近距離の接続に
おいては十分なマージンであると考えられる。その他
に、図8のように光の入出射を基板に対して垂直に行な
う方法や、図10のように両面に実装する方法もある。
The electronic integrated device 6 is mounted on a BGA (Ball
(Grid Array) type package with a solder ball 10 and O / O attached to the end face of the optical wiring layer 2.
The E and E / O converters 8 and 9 are wired to the electrodes mounted with the solder balls, and convert a part of the electric signal to an optical signal for optical wiring. Since the optical coupling between the O / E and E / O converters and the optical waveguide is aligned and fixed to the waveguide 4 when adhering to the side surface of the optical wiring layer 2, the coupling loss may not fluctuate. Absent. Surface emitting laser has an operating current of 3 mA
, An output of about 100 μW is obtained.
Can be sufficiently driven by a simple circuit configuration of turning on / off by a CMOS buffer as shown in FIG. Therefore, since it is possible to connect the MOS transistor at the output stage of the conventional LSI to the resistor integrated on the opto-electric hybrid board and the surface emitting laser in series, there is almost no change in the circuit configuration of the LSI. At the same time, it is possible to realize opto-electric hybrid wiring at low cost. Here, assuming that the laser has a power of 100 μW and the minimum receiving sensitivity of the photodetector is −25 dBm, an optical loss of up to 15 dB is permitted, and it is considered that there is a sufficient margin for short-distance connection in the board. . In addition, as shown in FIG. 8, there is also a method in which light enters and exits perpendicular to the substrate, and a method in which light is mounted on both surfaces as shown in FIG.

【0025】[0025]

【発明の実施の態様】以下に、本発明の実施の形態を図
面を参照しつつ説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0026】[第1実施例]本発明は、典型的には、I
Cチップの形態は従来と変えることなく、チップを実装
する電気配線基板上に光導波路から成る光配線層を一体
化させ、その光配線層に近接してO/E、E/O変換部
(光−電気変換部)を設けている。このことで、チップ
間の信号伝送の一部を光配線で行ない、信号伝達の高速
化、低EMI化、低消費電力化を図るものである。その
実施例を図1に第1実施例として示す。
[First Embodiment] The present invention typically employs I
Without changing the form of the C chip, an optical wiring layer composed of an optical waveguide is integrated on an electric wiring board on which the chip is mounted, and the O / E and E / O converter ( Optical-electrical conversion unit). Thus, a part of the signal transmission between the chips is performed by the optical wiring, and the speed of the signal transmission, the EMI, and the power consumption are reduced. This embodiment is shown in FIG. 1 as a first embodiment.

【0027】図1の構成は、多層配線プリント基板上1
に多層光配線層2が積層されており、BGA(Ball
Grid Array)型のパッケージから成る電子
集積素子6を該基板上で光配線層2を一部除いて形成さ
れた凹部に装着して用いるものである。従って、この素
子6は電気的接触を凹部下側で垂直方向に取り、光学的
結合を凹部側面で水平方向に取るようになっている。図
1において、11ははんだボール10を取り付けるため
の台座であり、7はICチップを載せるためのベースと
なる熱伝導性の良いプレートであって、例えば、Alや
Cuが用いられ、必要であればその上部にフィン(不図
示)などの放熱手段を設ける。
The configuration shown in FIG.
The multilayer optical wiring layer 2 is laminated on the BGA (Ball).
An electronic integrated device 6 formed of a (Grid Array) type package is mounted on a concave portion formed by removing a part of the optical wiring layer 2 on the substrate and used. Therefore, this element 6 is adapted to make electrical contact vertically below the recess and to make optical coupling horizontally at the side of the recess. In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a pedestal for mounting a solder ball 10, and reference numeral 7 denotes a plate having good thermal conductivity as a base for mounting an IC chip. A heat dissipating means such as a fin (not shown) is provided on the upper part of the case.

【0028】この電子集積素子6を基板1に装着するに
は、素子6の下方の電極部にアレイ状に並べたハンダボ
ール10と基板1の対応する電極5をアライメントし
て、フリップチップ実装を行なう。この際、ハンダボー
ル10のリフロー時のセルフアライン効果で、歩留まり
良く位置決めできる。より位置決め精度を上げたい場合
には、電子集積素子6の下方にピンを設けて光電気混載
配線基板13側に設けたガイド(不図示)に差し込む様
にしてもよいし、BGAの代わりにPGA(Pin G
rid Array)型のパッケージにして、基板1側
にソケットを設けて差し込む様にしてもよい。
In order to mount the electronic integrated device 6 on the substrate 1, the solder balls 10 arranged in an array on the electrode portion below the device 6 and the corresponding electrodes 5 of the substrate 1 are aligned, and flip-chip mounting is performed. Do. At this time, the self-alignment effect at the time of reflow of the solder ball 10 can be used to perform positioning with a high yield. In order to further increase the positioning accuracy, a pin may be provided below the electronic integrated element 6 and inserted into a guide (not shown) provided on the opto-electric hybrid board 13 side, or PGA may be used instead of BGA. (Pin G
A package of a (Rid Array) type may be provided by inserting a socket on the substrate 1 side.

【0029】この様にして電気的接触を得ながら電子集
積素子6をプリント基板1上に装着すると、該電気接続
した電極5から配線3等で接続されたO/E変換部8お
よびE/O変換部9で、信号の一部が光信号となって他
のチップと信号のやり取りを行なう。
When the electronic integrated device 6 is mounted on the printed circuit board 1 while obtaining electrical contact in this manner, the O / E conversion unit 8 and the E / O In the converter 9, a part of the signal becomes an optical signal and exchanges the signal with another chip.

【0030】光配線は、図1において、電気配線基板1
上に貼り付けられた光導波路層2によって行われ、該光
導波層2の電子集積素子6が実装される部分は上記した
如くくり貫かれており、くり貫かれた端面に光導波路4
の入出射端(不図示)が設けられていて、該入出射端に
アライメントされてO/E、E/O変換部8、9が貼り
付けられている。一方、電気信号は通常通り多層配線基
板1に設けられた電気配線3を通して、他の素子や電源
と接続されるようになっている。このように電気と光を
混合した配線では、例えば、素子への給電ライン比較的
遅いロジック信号やアナログ信号を電気配線3で行い、
高速のクロックパルスやロジック信号を光配線4で行な
うなどの割り振りにすればよい。
The optical wiring is shown in FIG.
This is performed by the optical waveguide layer 2 attached thereon, and the portion of the optical waveguide layer 2 where the electronic integrated element 6 is mounted is penetrated as described above, and the optical waveguide 4 is attached to the penetrated end face.
O / E and E / O converters 8 and 9 are attached in alignment with the input / output ends. On the other hand, the electric signal is connected to other elements and a power supply through the electric wiring 3 provided on the multilayer wiring board 1 as usual. In the wiring in which electricity and light are mixed in this manner, for example, a logic signal or an analog signal, which is a relatively slow power supply line to the element, is transmitted through the electrical wiring 3,
The assignment may be made such that a high-speed clock pulse or a logic signal is performed by the optical wiring 4.

【0031】次に、本実施例による光−電気変換部を、
E/O変換部9すなわち電気信号を光信号に変換する部
分を例にとって図2を元に説明する。台座プレート1
5、アレイ型面型発光素子16、配線用フレキシブルテ
ープ(TABテープなど)19が図2のような順番でス
タックされている。TABテープ19の電極22および
台座プレート15表面の共通電極が、はんだ等で電気配
線基板1の電気配線3と電気的に結合されている。TA
Bテープ19の面型光素子にあたる部分には窓21が設
けられており、光の入出射ができるようになっている。
この窓21は単なる穴でもよいし、光の集光作用を持つ
レンズあるいは光素子保護用の透明プレートが嵌め込ま
れた形でもよい。
Next, the optical-electrical conversion unit according to the present embodiment is
The E / O converter 9, that is, a part for converting an electric signal to an optical signal will be described with reference to FIG. Pedestal plate 1
5, an array type surface light emitting element 16, and a wiring flexible tape (such as a TAB tape) 19 are stacked in the order shown in FIG. The electrode 22 of the TAB tape 19 and the common electrode on the surface of the pedestal plate 15 are electrically connected to the electric wiring 3 of the electric wiring board 1 by soldering or the like. TA
A window 21 is provided in a portion corresponding to the surface type optical element of the B tape 19 so that light can enter and exit.
The window 21 may be a mere hole, or may be a lens having a light condensing function or a transparent plate for protecting an optical element.

【0032】上記で述べたようにチップ実装のためにく
り貫かれた光配線層2の端面に、光入出射端12が面型
発光素子と同じピッチで形成されており、この一体化さ
れたE/O変換部を、光結合を行なえるように光入出射
端12とアライメントして接着剤等で貼り付ける。アラ
イメントは、台座プレート15に設けたピン24を光導
波層2のエッジに設けた溝25に嵌め込む形でパッシブ
アライメントを行なう。
As described above, the light input / output end 12 is formed at the same pitch as the surface light emitting element on the end face of the optical wiring layer 2 which is hollowed out for chip mounting. The E / O conversion unit is aligned with the light input / output end 12 so as to perform optical coupling, and is attached with an adhesive or the like. For alignment, passive alignment is performed by fitting pins 24 provided on the base plate 15 into grooves 25 provided on the edge of the optical waveguide layer 2.

【0033】光素子16への電流注入は、発光部18側
のリング状電極17とTABテープ19のリング状電極
20を貼り合わせ、配線26を介して各発光部に独立に
行なうことができる。ここで、プレート15およびTA
Bテープ19の素材は、光素子の熱放散のために熱伝導
性が高いものが望ましく、プレート15は金属かAl
セラミック薄膜、TABテープ19はAl
末入りのポリイミドフィルムなどを用いる。また、TA
Bテープ19の電気配線は、高速の電気信号を劣化なく
伝送することができるようにマイクロストリップライン
で形成されていてもよい。また、TABテープ19にス
ルーホールを形成することによって電極22を配線26
の裏面に形成する様にして、電気配線基板1との電気結
合を行なってもよい。また、TABテープ等を用いず
に、光導波路層2に直接配線パターンを蒸着等で形成し
ても勿論よい。
The current injection into the optical element 16 is performed on the light emitting section 18 side.
Ring-shaped electrode 17 and ring-shaped electrode of TAB tape 19
20 are attached to each light-emitting portion via the wiring 26 independently.
Can do it. Here, plate 15 and TA
The material of B tape 19 is heat conduction for heat dissipation of optical element.
The plate 15 is preferably made of metal or Al. 2
O3Ceramic thin film, TAB tape 19 is Al2O3powder
A polyimide film or the like is used. Also, TA
The electrical wiring of the B tape 19 can be used to degrade high-speed electrical signals without deterioration
Microstrip line can be transmitted
May be formed. Also, the TAB tape 19
By forming a through hole, the electrode 22 is connected to the wiring 26.
Electrical connection with the electric wiring board 1
A combination may be performed. Also, without using TAB tape etc.
Then, a wiring pattern is formed directly on the optical waveguide layer 2 by vapor deposition or the like.
Of course, it is good.

【0034】ここでは、面型発光素子としては発光効率
の良い面発光レーザを用いた。面発光レーザでは光の放
射角が10°以下と小さいので、レンズなしでも低損失
で光導波路4との光結合が可能である。
Here, a surface emitting laser having high luminous efficiency was used as the surface emitting device. Since the light emission angle of the surface emitting laser is as small as 10 ° or less, optical coupling with the optical waveguide 4 is possible with low loss without a lens.

【0035】通常、面発光レーザは、n基板上に、活性
層を含む共振器をDBR(Distributed B
ragg Reflector)ミラーでサンドイッチ
した構造をエピタキシャル成長し、発光部だけに電流が
流せるような狭窄構造を形成したもので、簡単に図2の
符号16のように2次元アレイ化できる。ここでは、G
aAs基板上にAlAs/AlGaAs多層膜エピミラ
ーを成長し、GaAs/AlGaAsの多重量子井戸活
性層を持つ830nm帯の面発光レーザを使用した。こ
の場合、共通電極はカソードになり、独立駆動するため
の電極17はアノードになっている。
Normally, a surface emitting laser is formed by disposing a resonator including an active layer on an n-substrate with a DBR (Distributed B).
A structure sandwiched by a rag reflector (mirror reflector) is epitaxially grown to form a constricted structure that allows current to flow only in the light emitting portion, and can be easily formed into a two-dimensional array as indicated by reference numeral 16 in FIG. Here, G
An AlAs / AlGaAs multilayer epimirror was grown on an aAs substrate, and an 830 nm surface emitting laser having a GaAs / AlGaAs multiple quantum well active layer was used. In this case, the common electrode is a cathode, and the electrode 17 for independent driving is an anode.

【0036】この面発光レーザを駆動するため回路の概
念図を図5(b)に示す。LSIの最終段の電極に繋が
る部分には、通常、ピンからの電流駆動ができるように
CMOSバッファインバータ53を構成して集積化させ
ているので、ここではこれをそのまま用いてLSIから
の出力電流によって面発光レーザを駆動して光出力にし
てしまうものである。すなわち、面発光レーザを駆動す
るためのレーザドライバとなる電気回路は一切使用せ
ず、特別なE/O変換のための回路設計は不要である。
CMOSバッファの駆動電流能力は通常10mA程度で
あるが、ここで使用した面発光レーザはしきい値が約1
mA、100μW出力時の動作電流は3mAと非常に低
いので、充分駆動することができる。面発光レーザ54
に3mAの電流を流すときの動作電圧は約2.5Vであ
るため、3.3V−CMOSの場合には直列抵抗Rとし
て、(3.3−2.5)/3×10−3=267Ωの抵
抗55を挿入すればよい。この抵抗は図2におけるTA
Bテープ19の配線26中に挿入(符号23で示す)す
ればよい。
FIG. 5B is a conceptual diagram of a circuit for driving the surface emitting laser. Since the CMOS buffer inverter 53 is usually configured and integrated at a portion connected to the electrode at the last stage of the LSI so that current can be driven from a pin, the output current from the LSI is directly used here. Drives the surface emitting laser to output light. That is, no electric circuit serving as a laser driver for driving the surface emitting laser is used, and no special circuit design for E / O conversion is required.
The driving current capability of the CMOS buffer is usually about 10 mA, but the surface emitting laser used here has a threshold of about 1 mA.
Since the operating current at the time of output of mA and 100 μW is as very low as 3 mA, it can be driven sufficiently. Surface emitting laser 54
Since the operating voltage when a current of 3 mA flows through is about 2.5 V, in the case of 3.3 V CMOS, the series resistance R is (3.3-2.5) / 3 × 10 −3 = 267Ω. May be inserted. This resistance corresponds to TA in FIG.
What is necessary is just to insert in the wiring 26 of the B tape 19 (indicated by the code | symbol 23).

【0037】しかし、この系ではカソードコモンで動作
させるためにCMOSのpチャネルで電流駆動させるこ
とになりそのスイッチング時間が遅く、高速化には限界
がある。一方、図5(a)のようにアノードコモンタイ
プにすればnチャネルMOSで電流駆動するCMOSを
選べるので、更なる高速化が図れるメリットがある。そ
のため、本発明では、面発光レーザのn基板を除去して
n側を電極分離することでアノードコモン化する技術も
開発している。その作製方法を図3に示す。
However, in this system, the current is driven by the p-channel of the CMOS in order to operate with the cathode common, so that the switching time is slow, and there is a limit in increasing the speed. On the other hand, if the common anode type is used as shown in FIG. 5A, a CMOS driven by an n-channel MOS can be selected. For this reason, the present invention has also developed a technique of removing the n-substrate of the surface-emitting laser and separating the n-side electrode to make the anode common. FIG. 3 shows a manufacturing method thereof.

【0038】図3は、簡略化のため、2個のみの面発光
レーザのアレイの断面を示している。図3(a)におい
て、n−GaAs基板40上に、エッチストップ層とな
るn−AlAs層(不図示)、コンタクト層となるn−
GaAs(不図示)を成長してから、n−AlAs/A
lGaAs多層膜ミラー41、アンドープのGaAs/
AlGaAs多重量子井戸活性層とAlGaAs層から
なる1波長共振器層42、p−AlAs/AlGaAs
多層膜ミラー43を有機金属気相成長法などでエピタキ
シャル成長する。その後、電流狭窄層46を形成するた
めにリング状にエッチングを行なって凹部47を形成し
てから、SiNなどの絶縁膜44を発光領域部を除い
て成膜して電極45を形成する。
FIG. 3 shows a cross section of an array of only two surface emitting lasers for simplicity. 3A, on an n-GaAs substrate 40, an n-AlAs layer (not shown) serving as an etch stop layer, and an n-
After growing GaAs (not shown), n-AlAs / A
lGaAs multilayer mirror 41, undoped GaAs /
One-wavelength resonator layer 42 composed of an AlGaAs multiple quantum well active layer and an AlGaAs layer, p-AlAs / AlGaAs
The multilayer mirror 43 is epitaxially grown by a metal organic chemical vapor deposition method or the like. Thereafter, in order to form the current confinement layer 46, etching is performed in a ring shape to form a concave portion 47, and then an insulating film 44 such as SiN x is formed except for a light emitting region to form an electrode 45.

【0039】次に、図3(b)において、台座プレート
15の全面電極(不図示)に、p側の電極45全体をA
uSnハンダによって接着してから、GaAs基板40
を研磨および化学的エッチングにより除去する。このと
き、エッチャントはHとNHの混合液を用いて
おり、GaAs基板40上に成長してあるAlAs層で
エッチングを止めることができる。その後、すぐにHC
lによってAlAs層を除去してミラー41最下面に成
長しているGaAs層を露出させる。続いて、図3
(c)において、表面に露出しているミラー層41の素
子間部分を硫酸系のエッチャント等でウエットエッチン
グして分離溝48を形成し、n側の電極17を窓部18
を形成しながら成膜する。
Next, in FIG. 3B, the entire p-side electrode 45 is applied to the entire surface electrode (not shown) of the pedestal plate 15 by A.
After bonding with uSn solder, the GaAs substrate 40
Is removed by polishing and chemical etching. At this time, the etchant uses a mixed solution of H 2 O 2 and NH 3 , and the etching can be stopped at the AlAs layer grown on the GaAs substrate 40. Then immediately HC
1 removes the AlAs layer to expose the GaAs layer growing on the lowermost surface of the mirror 41. Subsequently, FIG.
In FIG. 3C, the inter-element portion of the mirror layer 41 exposed on the surface is wet-etched with a sulfuric acid-based etchant or the like to form a separation groove 48, and the n-side electrode 17 is opened in the window 18.
Is formed while forming.

【0040】次に、台座プレート15に貼り付けられた
TABテープ19の穴21の周りの電極20と面発光レ
ーザの電極17同志をやはりAuSnはんだなどで接着
する。さらに、これを、すでに述べたようにパッシブア
ライメントで光配線層2の導波路4の入出射端12にレ
ーザ光が結合するように接着する。このようにして、窓
部21からの光を導波路4に結合できるアノードコモン
型面発光レーザが作製できる。
Next, the electrodes 20 around the holes 21 of the TAB tape 19 attached to the pedestal plate 15 and the electrodes 17 of the surface-emitting laser are bonded together with AuSn solder or the like. Further, this is adhered to the input / output end 12 of the waveguide 4 of the optical wiring layer 2 by passive alignment as described above so that the laser light is coupled. Thus, an anode common type surface emitting laser capable of coupling the light from the window 21 to the waveguide 4 can be manufactured.

【0041】また、作製方法の若干の違いで、図4のよ
うな方法もある。この場合、図3と若干構成が異なっ
て、配線用のTABテープ19が台座プレート15から
出る構造になっている。図4(a)において、図3
(a)の場合と同様に面発光レーザ構造を作製するが、
光をpミラー層43側から取り出すために、電極45に
は光取り出し用の窓50を開けておく。このときレーザ
からの放熱性を上げるために、電極45となる金属膜を
10μm以上に厚くしておく。また、p側を石英ガラス
板49にエレクトロンワックスなどで貼り付ける。
Also, there is a method as shown in FIG. 4 with a slight difference in the manufacturing method. In this case, the configuration is slightly different from that of FIG. 3, in which the wiring TAB tape 19 comes out of the pedestal plate 15. In FIG. 4A, FIG.
A surface emitting laser structure is manufactured as in the case of (a),
In order to extract light from the p mirror layer 43 side, a window 50 for extracting light is opened in the electrode 45. At this time, in order to enhance the heat radiation from the laser, the metal film serving as the electrode 45 is thickened to 10 μm or more. Further, the p side is attached to the quartz glass plate 49 with electron wax or the like.

【0042】図4(b)において、図3(b)の場合と
同様にGaAs基板40を除去して電極17を形成す
る。このとき、共通電極となるp電極45も同一面から
取り出せるように、レーザ層の一部にスルーホール51
を設けてアノード電極52をカソード電極17と同じ側
に作製する。そして、台座プレート15にTABテープ
19を貼り付けてTABテープ上の電極20とレーザの
カソード電極17および共通アノード電極52を接着す
る。このとき、こちら側から光は取り出さないために窓
を開ける必要はない。これらの作業をやり易くする為
に、p側を上記石英ガラス板49に貼り付けるのであ
る。
In FIG. 4B, the electrode 17 is formed by removing the GaAs substrate 40 as in the case of FIG. 3B. At this time, a through-hole 51 is formed in a part of the laser layer so that the p-electrode 45 serving as a common electrode can be taken out from the same surface.
To form the anode electrode 52 on the same side as the cathode electrode 17. Then, the TAB tape 19 is attached to the pedestal plate 15, and the electrode 20 on the TAB tape is bonded to the laser cathode electrode 17 and the common anode electrode 52. At this time, there is no need to open a window to prevent light from being extracted from this side. In order to facilitate these operations, the p-side is attached to the quartz glass plate 49.

【0043】図4(c)において、石英ガラス板49を
取り外し、この側の電極45を、導波路4に光が結合す
るように入出射端12に接着する。
In FIG. 4C, the quartz glass plate 49 is removed, and the electrode 45 on this side is bonded to the input / output end 12 so that light is coupled to the waveguide 4.

【0044】このように、GaAs基板40を除去した
構成では、レーザ光を発振させる機能層が薄くなってお
り、E/O変換部が非常にコンパクトになるとともに、
As含有率を大幅に下げられるので環境安全性も高くな
る。
As described above, in the configuration in which the GaAs substrate 40 is removed, the functional layer for oscillating the laser beam is thin, and the E / O converter becomes very compact.
As the As content can be greatly reduced, the environmental safety also increases.

【0045】ところで、面型発光素子として発光ダイオ
ードを使用することもできるが、動作電流は30mA程
度と1桁大きくなり、消費電力が高くなるとともにドラ
イバ部分の工夫が必要になる。また、O/E変換部につ
いては詳しく触れなかつたが、構成や作製方法は類似し
ており、GaAsのpin構造をエピタキシャル成長お
よび拡散して作製している。材料はSiやInGaAs
でもよい。
A light emitting diode can be used as the surface light emitting element. However, the operating current is about 30 mA, which is an order of magnitude higher, so that power consumption is increased and a device for the driver is required. Although the O / E converter has not been described in detail, the structure and manufacturing method are similar, and the GaAs pin structure is manufactured by epitaxial growth and diffusion. The material is Si or InGaAs
May be.

【0046】また、ここでは830nm帯の例を示した
が、他の波長帯、すなわち、InGaAsによる0.9
8μm帯やInGaAsPによる1.3μm帯などでも
勿論よい。
Although the example of the 830 nm band is shown here, another wavelength band, that is, 0.9 nm band by InGaAs is used.
Of course, an 8 μm band or a 1.3 μm band made of InGaAsP may be used.

【0047】ここで、光電気混載基板13の説明に戻
る。電気配線用の多層配線基板1は、汎用的なPCB基
板以外に、ポリイミド基板、AlNなどのセラミック基
板でもよい。一方、光配線用の光導波路層2は、フッ素
化PMMAやエポキシ樹脂、ポリイミドなどの樹脂で形
成するのが簡便でよい。その作製方法を図6を元に簡単
に説明する。
Here, the description returns to the opto-electric hybrid board 13. The multilayer wiring substrate 1 for electric wiring may be a general-purpose PCB substrate or a ceramic substrate such as a polyimide substrate or AlN. On the other hand, the optical waveguide layer 2 for optical wiring may be conveniently formed of a resin such as fluorinated PMMA, epoxy resin, or polyimide. The manufacturing method will be briefly described with reference to FIG.

【0048】図6(a)に示す様に、電気配線用基板1
上にまずクラッドとなる樹脂61をスピナーなどで塗布
後に硬化させる。その後、図6(b)に示す様に、コア
となる屈折率の若干高い層62を塗布して、ホトリソグ
ラフィとエッチングを用いて導波路の形状(例えば、3
0μm×30μm)にして配線パターンを形成し、さら
にクラッド63で埋め込む。多層にする場合には、CM
P(chemicalmechanical poli
shing)による平坦化工程を経て、図6(c)に示
す様に、さらに同様に光導波路64を形成してクラッド
65で埋め込む。このとき、2列のアレイ状にする場合
には、図6(c)のように互い違いの位置にすることに
よりクラッド63が薄くできてスペース効率が上がる。
2層の場合、全体の光導波路層61〜65の厚さは約2
00μmとなった。
As shown in FIG. 6A, the electric wiring substrate 1
First, a resin 61 serving as a clad is applied and cured by a spinner or the like. Thereafter, as shown in FIG. 6B, a layer 62 having a slightly higher refractive index serving as a core is applied, and the shape of the waveguide (for example, 3) is formed using photolithography and etching.
(0 μm × 30 μm) to form a wiring pattern, and further buried with a clad 63. In case of multi-layer, CM
P (chemical mechanical poli)
Through a flattening step by shing, an optical waveguide 64 is formed in the same manner as shown in FIG. At this time, in the case of a two-row array, the cladding 63 can be made thinner by setting it in a staggered position as shown in FIG.
In the case of two layers, the thickness of the entire optical waveguide layers 61 to 65 is about 2
It became 00 μm.

【0049】導波路の材料としては他にもいろいろあ
り、低損失材料としてシリカガラスを用いたものでもよ
い。この場合、Pをドープしたシリカガラス(PSG)
を用いると、加熱することでマストランスポートが起き
て表面平坦化できるので、多層光配線層2として作製し
やすい。この場合、コア層としてGeをさらにドープし
たGPSGで屈折率制御を行なえば光導波路62、64
を構成できる。加熱平坦化(リフロー)の温度は通常8
00℃程度と高いので、Siなどの基板に加熱平坦化過
程等を経て導波路を形成した後に、導波路層61〜65
を電気配線基板1に貼り合わせてSi基板を除去するこ
とで、問題なく光電気混載基板13が作製できる。図1
では、光配線層2は2層になっているが、それ以上の多
層にしてもよいし、1層でもよい。
There are various other materials for the waveguide, and silica glass may be used as the low-loss material. In this case, P-doped silica glass (PSG)
Is used, mass transport occurs by heating, and the surface can be flattened. Therefore, it is easy to manufacture the multilayer optical wiring layer 2. In this case, if the refractive index is controlled by GPSG further doped with Ge as the core layer, the optical waveguides 62 and 64 can be controlled.
Can be configured. Heat flattening (reflow) temperature is usually 8
Since the temperature is as high as about 00 ° C., after forming a waveguide on a substrate such as Si through a heating flattening process or the like, the waveguide layers 61 to 65 are formed.
Is bonded to the electric wiring substrate 1 and the Si substrate is removed, whereby the opto-electric hybrid board 13 can be manufactured without any problem. FIG.
In the embodiment, the optical wiring layer 2 has two layers, but may have more layers or one layer.

【0050】この様にして構成した光電気混載ボードの
全体イメージの例を図7に示す。図7において、30は
上記で説明した光電気混載基板としてのマザーボード、
32は大規模中央演算処理装置(MPU)、31は1次
キャシュメモリ、33はDRAMが搭載されたMCMモ
ジュールがドーターボードとしてマザーボードに装着さ
れているものである。
FIG. 7 shows an example of an overall image of the opto-electric hybrid board thus constructed. In FIG. 7, reference numeral 30 denotes a motherboard as the opto-electric hybrid board described above,
32 is a large-scale central processing unit (MPU), 31 is a primary cache memory, and 33 is an MCM module with a DRAM mounted on a motherboard as a daughter board.

【0051】高速ロジックおよびクロック信号は、マザ
ーボード30およびドーターボード33に形成された光
導波路34を介して信号伝送されている。電源ラインや
低速の信号は、同一ボード内に構成された電気配線で接
続される。光コネクタ35および光導波路シート36を
用いて他のボードと光信号の状態で接続することもでき
る。光導波路シート36はバスラインとしてパラレルに
信号転送するために用いている。
The high-speed logic and the clock signal are transmitted through the optical waveguide 34 formed on the motherboard 30 and the daughter board 33. Power supply lines and low-speed signals are connected by electric wiring configured in the same board. The optical connector 35 and the optical waveguide sheet 36 can be used to connect to another board in an optical signal state. The optical waveguide sheet 36 is used as a bus line to transfer signals in parallel.

【0052】また、マザーボード30とドーターボード
33の光接続は、マザーボード30のドーターボード用
差込口に45°ミラー(不図示)を形成することで行な
っている。光配線をバスとして使用する場合には、光減
衰を補うために接続部に光アンプを挿入するか、ボード
にリピータとして機能する発光素子を設置してもよい。
The optical connection between the motherboard 30 and the daughter board 33 is made by forming a 45 ° mirror (not shown) at the daughter board insertion port of the motherboard 30. When the optical wiring is used as a bus, an optical amplifier may be inserted into the connection portion to compensate for optical attenuation, or a light emitting element functioning as a repeater may be installed on the board.

【0053】ハードディスクドライブのような外部記憶
装置との信号のやり取りは、コネクタ38およびケーブ
ル37を用いてシリアル高速転送することがケーブルの
低コスト化につながってよい。そこで、コネクタ部38
には、パラレル−シリアル変換して10Gbps程度の
レートが可能な光ファイバ通信に用いるような送信部を
装着している。図7にはボードの主要な部分しか書かれ
ていないが必要な回路構成にすることで、クロックレー
トが1GHzオーバーの次世代コンピュータを構成する
ことがきる。
For exchanging signals with an external storage device such as a hard disk drive, serial high-speed transfer using the connector 38 and the cable 37 may lead to cost reduction of the cable. Therefore, the connector 38
Is equipped with a transmission unit used for optical fiber communication capable of performing a parallel-serial conversion and capable of a rate of about 10 Gbps. Although only the main parts of the board are shown in FIG. 7, a necessary circuit configuration enables a next-generation computer whose clock rate exceeds 1 GHz to be configured.

【0054】このとき、ランバス方式を用いることに比
べて配線やピンの制約が少なく、さらに高速で小型化、
低消費電力化が可能で、EMI対策が容易なボードを提
供することができる。また、コンピュータに限らず、最
近の電子機器、例えば携帯電話、デジタルカメラなどで
はより高速化、小型化が要求されており、同時に低EM
I化が必須となっているために、本発明による光電気混
載方式がこれらの機器には非常に有効になる。
At this time, there are fewer restrictions on wiring and pins as compared with the use of the lumbus method, and furthermore, high speed and miniaturization are achieved.
It is possible to provide a board that can reduce power consumption and can easily perform EMI measures. Further, not only computers but also recent electronic devices such as mobile phones and digital cameras require higher speed and smaller size, and at the same time, lower EM.
Since the use of I is essential, the opto-electric hybrid system according to the present invention is very effective for these devices.

【0055】[第2実施例]本発明による第2の実施例
は、図8のように、電子集積素子81を実装する面とは
逆の面に光導波層80を設けて、E/O、O/E変換部
83、84の光入出力を光電気混載基板に対して垂直方
向に行なうものである。そのため、光導波路4には図9
のように45度ミラー90を設けて、E/O変換部83
から光電気混載基板に入出射端91から結合した光は水
平方向に光導波路4を伝播し、水平方向に光導波路4を
伝播して入出射端91からO/E変換部84に結合する
光は垂直方向に出るようになっている。導波路4の構成
は第1実施例と同様でよいが、本実施例では1層の光配
線層80としている。
[Second Embodiment] In a second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 8, an optical waveguide layer 80 is provided on the surface opposite to the surface on which the electronic integrated element 81 is mounted, and the E / O , O / E converters 83 and 84 perform optical input / output in a direction perpendicular to the opto-electric hybrid board. Therefore, FIG.
A 45-degree mirror 90 is provided as shown in FIG.
The light coupled from the input / output end 91 to the opto-electric hybrid board propagates through the optical waveguide 4 in the horizontal direction, propagates through the optical waveguide 4 in the horizontal direction, and couples from the input / output end 91 to the O / E converter 84. Comes out vertically. The configuration of the waveguide 4 may be the same as that of the first embodiment, but in this embodiment, a single optical wiring layer 80 is used.

【0056】一方、電子集積素子81とE/O、O/E
変換部83、84の電気接続は、電気配線基板1のスル
ーホールを介して、光導波層80が形成された側の面の
電気配線86に繋がる電極85から第1実施例と同様の
フレキシブル配線基板82を用いて行なっている。その
ため、光導波層80の一部には、くり貫いて電気配線基
板1の表面を出している部分がある。ここで用いた光電
子集積素子81は、図8のように中央部に電気接触のた
めのボールアレイ10があるμ−BGA(またはCS
P:Chip Size Package)型になって
おり、小型のパッケージになっている。
On the other hand, the electronic integrated device 81 and E / O, O / E
The electrical connection between the converters 83 and 84 is made via a through hole of the electrical wiring board 1 from an electrode 85 connected to the electrical wiring 86 on the surface on which the optical waveguide layer 80 is formed, as in the case of the first embodiment. This is performed using the substrate 82. Therefore, there is a portion of the optical waveguide layer 80 that extends through the surface of the electric wiring board 1. The optoelectronic integrated device 81 used here is a μ-BGA (or CS) having a ball array 10 for electrical contact at the center as shown in FIG.
P: Chip Size Package), which is a small package.

【0057】本実施例で用いるE/O、O/E変換部8
3、84は、第1実施例と同じ構造のものを、光入出射
端91(図9)に光結合するように、アライメントして
接着している。アライメントは、第1実施例と同様にガ
イド用のピン(不図示)などを用意しておいて、パッシ
ブアライメントができるようになっている。E/O、O
/E変換部83、84は動作中に温度が上昇して動作が
不安定になることがある。そこで、該変換部の表面のプ
レートに放熱フィン(不図示)などを設けて高温になら
ないようにしてもよい。放熱フィンを取り付ける場合に
は、本実施例の実装方法が適している。
E / O, O / E converter 8 used in this embodiment
Numerals 3 and 84 have the same structure as in the first embodiment and are aligned and bonded so as to be optically coupled to the light input / output end 91 (FIG. 9). For the alignment, as in the first embodiment, a guide pin (not shown) or the like is prepared so that passive alignment can be performed. E / O, O
The temperature of the / E converters 83 and 84 may rise during operation, resulting in unstable operation. Therefore, a radiation fin (not shown) or the like may be provided on a plate on the surface of the conversion unit to prevent the temperature from rising. When the heat radiation fin is attached, the mounting method of this embodiment is suitable.

【0058】また、発熱源である電子集積素子81とE
/O、O/E変換部83、84を光電気混載基板の表と
裏で離すことで、熱的クロストークを避けることができ
る。
Further, the electronic integrated device 81 which is a heat source and E
By separating the / O and O / E converters 83 and 84 on the front and back of the opto-electric hybrid board, thermal crosstalk can be avoided.

【0059】[第3実施例]本発明による第3の実施例
は、図10のように多層配線基板1の両面に光導波路配
線層93、94を設けて電子集積素子6、81を両面実
装するものであり、これによって基板上への実装密度を
上げることができる。光電気混載基板1、93、94や
電子集積素子6、81の構成は第1や第2の実施例と同
様であり、同じ機能を持つ部分には同じ記号を付してあ
る。E/O、O/E変換部の導波路4への結合の仕方
も、基板面と平行な方向、基板面と垂直な方向を混在さ
せている。
[Third Embodiment] In a third embodiment of the present invention, as shown in FIG. 10, optical waveguide wiring layers 93 and 94 are provided on both surfaces of a multilayer wiring board 1 to mount electronic integrated devices 6 and 81 on both surfaces. Therefore, the mounting density on the substrate can be increased. The configurations of the opto-electric hybrid boards 1, 93 and 94 and the electronic integrated elements 6 and 81 are the same as those of the first and second embodiments, and the portions having the same functions are denoted by the same symbols. The E / O and O / E converters are coupled to the waveguide 4 in a direction parallel to the substrate surface and in a direction perpendicular to the substrate surface.

【0060】本実施例で特徴的なことは、表面と裏面の
光配線が図11のようにスルーホールを介して行なえる
ことである。図11において、95は電気配線基板1に
開けられたスルーホールであり、E/O変換部83から
出射された光が上部光配線層93の導波路96を介して
該スルーホール95を抜けて下部光導波層94に設けら
れた45度ミラー90によって光導波路4に結合するこ
とができる。受光の場合も同様である。また、基板面と
平行入射する第1実施例の方式の場合は、45度ミラー
で光を反射させてスルーホールを通せばよい。
A feature of this embodiment is that the optical wiring on the front surface and the back surface can be formed through through holes as shown in FIG. In FIG. 11, reference numeral 95 denotes a through hole formed in the electric wiring board 1, and light emitted from the E / O converter 83 passes through the through hole 95 via the waveguide 96 of the upper optical wiring layer 93. The light can be coupled to the optical waveguide 4 by a 45-degree mirror 90 provided in the lower optical waveguide layer 94. The same applies to the case of light reception. Further, in the case of the system of the first embodiment in which light is incident parallel to the substrate surface, light may be reflected by a 45-degree mirror and passed through the through-hole.

【0061】ここでスルーホールは単なる空気層でもよ
いし、導波路層93のコア層と同じ材料を埋め込んだも
のでもよい。スルーホール95の径を100μm程度に
しておけば、電気配線基板1の厚さが5mm程度であれ
ば回折や反射による光損失はほとんどない。このような
構造にすることにより、配線の自由度が増し、小型、高
密度でEMI対策が容易な電子機器用のMCM(Mul
ti−Chip―Module)ボードを提供すること
ができる。
Here, the through hole may be a mere air layer, or may be a material in which the same material as the core layer of the waveguide layer 93 is embedded. If the diameter of the through hole 95 is about 100 μm, there is almost no light loss due to diffraction or reflection if the thickness of the electric wiring board 1 is about 5 mm. By adopting such a structure, the degree of freedom in wiring is increased, and the MCM (Mul) for electronic devices that is small, high-density, and easily EMI countermeasure is easy.
A ti-Chip-Module) board can be provided.

【0062】上記の例では、電気配線基板1を光配線層
93、94でサンドイッチした構造になっているが、光
配線層の上にさらに多層電気配線層があるという電気配
線層と光配線層が多層に積層された構造でもよい。
In the above example, the electric wiring board 1 is sandwiched between the optical wiring layers 93 and 94. However, the electric wiring layer and the optical wiring layer are further provided with a multilayer electric wiring layer on the optical wiring layer. May be laminated in multiple layers.

【0063】以上の実施例では、光素子の光の入出射は
下方あるいは側方であったが、上方や斜め方向にして、
空間伝播あるいは光導波路チューブ、光導波路フィルム
等で他の素子や他のボードとの接続を行なってもよい。
In the above embodiments, the light was emitted or emitted from the optical element downward or sideways.
The connection with another element or another board may be made by spatial propagation or an optical waveguide tube, an optical waveguide film, or the like.

【0064】また、電子集積素子のパッケージの形態に
ついては、上記実施例に限られたものではなく、QFP
(Quad Flat Package)、DIP(D
ual In−line Package)などあらゆ
る形態に適用可能である。また、パッケージ内には1つ
のLSI基板のみ搭載した例を示したが、CSP実装で
3次元スタック化したLSIを用いたり、Si基板上の
多層配線技術を用いて3次元LSIを構成したものであ
ってもよい。
Further, the form of the package of the electronic integrated device is not limited to the above embodiment, but may be a QFP.
(Quad Flat Package), DIP (D
The present invention can be applied to any form such as a normal in-line package. Also, an example is shown in which only one LSI substrate is mounted in the package. However, a three-dimensional LSI is formed by using a three-dimensional stacked LSI by CSP mounting or a multilayer wiring technology on a Si substrate. There may be.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によって、光
インターコネクションを小型、低消費電力、低コストで
行なうための、電子集積素子のバッケージが通常のもの
から変更することなく実装され得る光素子を同一基板上
に集積した光電気混載配線基板を実現できる。また、面
発光レーザを上記配線基板上に一体実装してE/O変換
部とすることで、低消費電力駆動、高速駆動および多ビ
ット配線が容易な光電気混載基板を実現できる。
As described above, according to the present invention, an optical integrated circuit for implementing optical interconnection with a small size, low power consumption and low cost can be mounted without changing the package of a normal electronic device. An opto-electric hybrid wiring board in which elements are integrated on the same substrate can be realized. Further, by mounting the surface emitting laser integrally on the wiring substrate to form an E / O converter, an opto-electric hybrid board with low power consumption driving, high speed driving and easy multi-bit wiring can be realized.

【0066】また、面発光レーザのオン・オフ駆動をL
SIの出力段のトランジスタで行なって、特別なLSI
や電気回路上の変更がなく、低コスト、低消費電力の光
電気混載配線基板の駆動方法も提供できる。更に、光イ
ンターコネクションを用いた高速、低EMIのマルチチ
ップモジュールなども提供できる。
The on / off driving of the surface emitting laser is L
This is done with a transistor at the output stage of the SI, and a special LSI
Also, there is provided a method for driving an opto-electric hybrid board with low cost and low power consumption without any change in the electric circuit. Further, a high-speed, low-EMI multichip module using optical interconnection can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明による第1実施例の光電気混載配
線基板と電子集積素子の分離した状態を示す斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing a separated state of an opto-electric hybrid board and an electronic integrated device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2は本発明による光電気混載配線基板のE/
O変換部の構成を説明する分解斜視図である。
FIG. 2 is a diagram showing the E / E of the opto-electric hybrid wiring board according to the present invention;
FIG. 4 is an exploded perspective view illustrating a configuration of an O conversion unit.

【図3】図3は機能層のみを残した面発光レーザの作製
プロセスを説明する断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of a surface emitting laser leaving only a functional layer.

【図4】図4は機能層のみを残した面発光レーザの他の
作製プロセスを説明する断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating another manufacturing process of the surface emitting laser leaving only the functional layer.

【図5】図5は本発明による光電気混載配線基板の発光
素子を駆動する方法を説明する図である。
FIG. 5 is a view for explaining a method of driving a light emitting element of the opto-electric hybrid wiring board according to the present invention.

【図6】図6は多層光導波路の作製方法を説明する断面
図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a multilayer optical waveguide.

【図7】図7は本発明による光電気混載配線基板と電子
集積素子を用いて構成したMCMの例を示す斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view showing an example of an MCM constituted by using an opto-electric hybrid wiring board and an electronic integrated device according to the present invention.

【図8】図8は本発明による第2実施例の光電気混載配
線基板と電子集積素子の分離した状態を示す斜視図であ
る。
FIG. 8 is a perspective view showing a state in which an opto-electric hybrid board and an electronic integrated device are separated according to a second embodiment of the present invention.

【図9】図9は本発明による第2実施例の光結合を説明
する断面図である。
FIG. 9 is a sectional view illustrating optical coupling of a second embodiment according to the present invention.

【図10】図10は本発明による第3実施例の光電気混
載配線基板と電子集積素子の分離した状態を示す斜視図
である。
FIG. 10 is a perspective view showing a state where an opto-electric hybrid board and an electronic integrated device are separated according to a third embodiment of the present invention.

【図11】図11は本発明による光電気混載配線基板の
光配線を説明するための断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining optical wiring of the opto-electric hybrid wiring board according to the present invention.

【図12】図12は光配線基板の第1の従来例の図であ
る。
FIG. 12 is a diagram of a first conventional example of an optical wiring board.

【図13】図13は光配線基板の第2の従来例の図であ
る。
FIG. 13 is a diagram of a second conventional example of an optical wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電気配線基板 2、80、93、94 光配線層 3、26、86 電気配線 4、34、96、1003 光導波路 5、85 電気配線基板の電極パッド 6、31、32、39、81 電子集積素子 7 ベースプレート 8、84、1012 O/E変換部 9、83、1011 E/O変換部 10 はんだボール 11 台座 12、91 光導波路入出射端 13、30、33 光電気混載配線基板 15 台座プレート 16 面型発光素子 17 素子電極 18 発光部 19、82 フレキシブル配線基板 20 配線基板電極 21、50 光透過用窓 22 電極パッド 23、55 抵抗体 24 ガイドピン 25 ガイド溝 35、38 光コネクタ 36 光導波路シート 37 光導波路ケーブル 40 半導体基板 41、43 半導体多層膜反射ミラー 42 活性層 44 絶縁膜 45、52 共通電極 46 発光部 47 電流狭窄部 48 素子分離溝 49 石英板 51 スルーホール配線 53 CMOSバッファインバータ 54 レーザダイオード 61、63、65 クラッド 62、64 コア 90、1002 反射ミラー 95 スルーホール光導波路 1001 光配線基板 1004 光電子ICチップ 1005 傾斜面 1006 凸部 1007 シリコン酸化膜 1010 電子回路部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electric wiring board 2, 80, 93, 94 Optical wiring layer 3, 26, 86 Electric wiring 4, 34, 96, 1003 Optical waveguide 5, 85 Electrode pad of electric wiring board 6, 31, 32, 39, 81 Electronic integration Element 7 Base plate 8, 84, 1012 O / E converter 9, 83, 1011 E / O converter 10 Solder ball 11 Pedestal 12, 91 Optical waveguide input / output end 13, 30, 33 Opto-electric hybrid board 15 Pedestal plate 16 Surface light emitting element 17 Element electrode 18 Light emitting section 19, 82 Flexible wiring board 20 Wiring board electrode 21, 50 Light transmission window 22 Electrode pad 23, 55 Resistor 24 Guide pin 25 Guide groove 35, 38 Optical connector 36 Optical waveguide sheet 37 Optical waveguide cable 40 Semiconductor substrate 41, 43 Semiconductor multilayer reflection mirror 42 Active layer 44 Insulating film 45, 52 Common electrode 46 Light emitting part 47 Current constriction part 48 Element isolation groove 49 Quartz plate 51 Through hole wiring 53 CMOS buffer inverter 54 Laser diode 61, 63, 65 Cladding 62, 64 Core 90, 1002 Reflecting mirror 95 Through hole optical waveguide 1001 Optical wiring board 1004 Optoelectronic IC chip 1005 Inclined surface 1006 Convex part 1007 Silicon oxide film 1010 Electronic circuit part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04B 10/00 G02B 6/12 B 5K002 H05K 1/18 H04B 9/00 A // H01L 27/15 Fターム(参考) 2H047 KA04 LA09 MA07 PA02 PA21 PA24 QA05 RA00 TA00 TA05 5E336 AA08 AA11 BC26 CC32 CC42 CC57 CC58 EE03 GG25 5E338 AA00 BB75 CC01 CC10 CD32 EE11 EE22 5F073 AA53 AA65 AA74 AB17 CA04 CB01 DA23 EA07 5F089 AA06 BC29 CA03 CA11 CA12 FA03 FA06 GA10 5K002 AA07 BA01 BA07 BA13 BA21 BA31 GA07 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H04B 10/00 G02B 6/12 B 5K002 H05K 1/18 H04B 9/00 A // H01L 27/15 F term (Ref.) 5K002 AA07 BA01 BA07 BA13 BA21 BA31 GA07

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電子集積素子を実装するための配線基板に
おいて、電気配線および光導波路が該同一配線基板上に
形成してあり、電子集積素子の信号の入出力を光信号で
行なうために光電変換させる光素子、該光素子への配
線、および電子集積素子を実装する為の電気端子の露出
した実装部が該配線基板に備えられており、電子集積素
子を電気端子同士を結合させて該実装部に電気実装する
だけで該電子集積素子と該配線基板間の信号の授受の少
なくとも一部を光信号で行なえる様に構成されたことを
特徴とする光電気混載配線基板。
In a wiring board for mounting an electronic integrated device, electrical wiring and an optical waveguide are formed on the same wiring substrate. An optical element to be converted, wiring to the optical element, and an exposed mounting portion of an electric terminal for mounting the electronic integrated element are provided on the wiring board, and the electronic integrated element is connected to the electric terminals to form the electric terminal. An opto-electric hybrid wiring board, characterized in that at least a part of transmission and reception of signals between the electronic integrated element and the wiring board can be performed by optical signals only by electric mounting on a mounting portion.
【請求項2】光素子は面型光素子であり、該光素子は光
導波路の光入出射端に面同士を当接させて面実装されて
いる請求項1記載の光電気混載配線基板。
2. The opto-electric hybrid wiring board according to claim 1, wherein the optical element is a surface-type optical element, and the optical element is surface-mounted with the surfaces in contact with the light input / output ends of the optical waveguide.
【請求項3】光素子のうち発光素子は面発光レーザであ
る請求項2記載の光電気混載配線基板。
3. The opto-electric hybrid wiring board according to claim 2, wherein the light emitting element among the optical elements is a surface emitting laser.
【請求項4】配線基板に平行に走る光導波路が垂直面で
切断されて光入出射端が露出し、その垂直面上に光素子
が光導波路に光結合できるようにアライメントされて設
けられている請求項1、2または3記載の光電気混載配
線基板。
4. An optical waveguide running parallel to a wiring substrate is cut at a vertical plane to expose a light input / output end, and an optical element is provided on the vertical plane so as to be optically coupled to the optical waveguide. The opto-electric hybrid wiring board according to claim 1, 2 or 3.
【請求項5】電気端子の露出した実装部は前記垂直面に
囲まれて形成されている請求項4記載の光電気混載配線
基板。
5. The opto-electric hybrid board according to claim 4, wherein the exposed mounting portion of the electric terminal is formed so as to be surrounded by the vertical surface.
【請求項6】配線基板に垂直に走る光導波路が水平面で
切断されて光入出射端が露出し、その水平面上に光素子
が光導波路に光結合できるようにアライメントされて設
けられている請求項1、2または3記載の光電気混載配
線基板。
6. An optical waveguide running perpendicular to a wiring board is cut along a horizontal plane to expose a light input / output end, and an optical element is provided on the horizontal plane so as to be optically coupled to the optical waveguide. Item 4. The opto-electric hybrid board according to item 1, 2 or 3.
【請求項7】前記入出射端の下部には反射ミラーが備え
られて、前記配線基板に平行に走る光導波路の導波と光
素子が光結合されている請求項6記載の光電気混載配線
基板。
7. An optical / electrical hybrid wiring according to claim 6, wherein a reflection mirror is provided below said input / output end, and a waveguide of an optical waveguide running parallel to said wiring board is optically coupled to an optical element. substrate.
【請求項8】光素子が設けられた水平面に隣接して電気
端子の露出した部分が形成されている請求項6または7
記載の光電気混載配線基板。
8. An exposed portion of an electric terminal is formed adjacent to a horizontal plane on which an optical element is provided.
The opto-electric hybrid board described in the above.
【請求項9】前記電気端子の露出した部分では、前記光
素子への配線が該電気端子に電気的に接続されている請
求項8記載の光電気混載配線基板。
9. The opto-electric hybrid board according to claim 8, wherein a wiring to said optical element is electrically connected to said electric terminal at an exposed portion of said electric terminal.
【請求項10】前記電気端子の露出した部分では、前記
光素子への配線が該電気端子に電気的に接続されると共
に前記実装部が形成されている請求項8記載の光電気混
載配線基板。
10. The opto-electric hybrid wiring board according to claim 8, wherein a wiring to the optical element is electrically connected to the electric terminal and the mounting portion is formed in an exposed portion of the electric terminal. .
【請求項11】光素子は配線基板の両面に設けられてい
る請求項1乃至10の何れかに記載の光電気混載配線基
板。
11. The opto-electric hybrid wiring board according to claim 1, wherein the optical elements are provided on both surfaces of the wiring board.
【請求項12】前記実装部は配線基板の両面に設けられ
ている請求項1乃至11の何れかに記載の光電気混載配
線基板。
12. The opto-electric hybrid wiring board according to claim 1, wherein said mounting portions are provided on both sides of the wiring board.
【請求項13】配線基板は電気配線基板の両面に光導波
路を形成した層を積層したものになっており、該電気配
線基板の一部に光が透過できるスルーホールが設けられ
て該両面の光導波路間での光信号の接続を行なえる様に
構成されている請求項1乃至12の何れかに記載の光電
気混載配線基板。
13. A wiring board comprising a layer in which an optical waveguide is formed on both sides of an electric wiring board, and a through hole through which light can pass is provided in a part of the electric wiring board. 13. The opto-electric hybrid wiring board according to claim 1, wherein an optical signal is connected between the optical waveguides.
【請求項14】光素子は、アレイ状に並べられて、各素
子の独立電極がフリップチップ実装で前記配線基板とは
異なる第2の配線基板に貼り付けられ、光透過用の窓が
該第2の配線基板に設けられて光導波路に光結合できる
ようにアライメントされて該光導波路の入出射端面に接
着されるとともに、該第2の配線基板を介して電子集積
素子の電気端子または前記実装部の露出した電気端子と
光素子が電気的に接続され得る様に構成されている請求
項1乃至13の何れかに記載の光電気混載配線基板。
14. The optical elements are arranged in an array, the independent electrodes of each element are attached to a second wiring board different from the wiring board by flip-chip mounting, and a light transmitting window is provided on the second wiring board. And an optical terminal of the electronic integrated device or the mounting via the second wiring substrate, which is aligned so as to be capable of optically coupling to the optical waveguide and is bonded to the input / output end face of the optical waveguide. The opto-electric hybrid wiring board according to any one of claims 1 to 13, wherein the exposed electric terminals and the optical element are configured to be electrically connected.
【請求項15】光素子は面発光レーザであり、該面発光
レーザは、板状の構造体と前記第2の配線基板との間に
サンドイッチされる形で実装されており、多層膜反射ミ
ラーと活性層を含む共振器層のみ残して半導体基板が除
去されている構造を有する請求項14記載の光電気混載
配線基板。
15. An optical device is a surface emitting laser, said surface emitting laser being mounted in a sandwiched manner between a plate-like structure and said second wiring board, and comprising a multilayer reflection mirror. The opto-electric hybrid board according to claim 14, having a structure in which the semiconductor substrate is removed while leaving only the resonator layer including the active layer.
【請求項16】光素子は面発光レーザであり、該面発光
レーザは、板状の構造体の上に前記第2の配線基板を接
着しさらにその上にフリップチップ実装されており、多
層膜反射ミラーと活性層を含む共振器層のみ残して半導
体基板が除去されている構造を有し、該フリップチップ
実装された面とは反対側の面には面発光レーザの共通電
極が形成されていて該電極には光取り出し用の窓が設け
られて上記光導波路に光結合できるようにアライメント
されて該光導波路の入射端面に接着されるとともに、該
第2の配線基板を介して電子集積素子の電気端子または
前記実装部の露出した電気端子と面発光レーザが電気的
に接続される様に構成されている請求項14記載の光電
気混載配線基板。
16. An optical element is a surface emitting laser, wherein the surface emitting laser is formed by bonding the second wiring board on a plate-like structure and mounting the second wiring board on the second wiring board by flip chip mounting. It has a structure in which the semiconductor substrate is removed leaving only the resonator layer including the reflection mirror and the active layer, and a common electrode of the surface emitting laser is formed on the surface opposite to the surface on which the flip chip is mounted. The electrode is provided with a window for extracting light, is aligned so as to be capable of optically coupling to the optical waveguide, is adhered to the incident end face of the optical waveguide, and is integrated with the electronic integrated device via the second wiring substrate. 15. The opto-electric hybrid board according to claim 14, wherein the electric terminal or the exposed electric terminal of the mounting portion is electrically connected to the surface emitting laser.
【請求項17】電子集積素子を実装する前記実装部にお
いて光配線するための光導波路を形成した層がくり貫か
れており、該くり貫かれた部分の側面に該光導波路の入
出射端面が形成されていて、光電変換させる光素子は該
光導波路への光結合が可能なようにアライメントされて
該入出射端面に接着されている請求項1乃至5および1
1乃至16の何れかに記載の光電気混載配線基板。
17. A mounting layer for mounting an electronic integrated device, wherein a layer forming an optical waveguide for optical wiring is hollowed out, and the input / output end face of the optical waveguide is formed on a side surface of the hollowed portion. An optical element which is formed, and which is to be subjected to photoelectric conversion, is aligned so as to enable optical coupling to the optical waveguide, and is bonded to the input / output end face.
17. The opto-electric hybrid board according to any one of 1 to 16.
【請求項18】電子集積素子を実装する前記実装部とは
反対側の面の一部において、光配線するための光導波路
を形成した層がくり貫かれており、該くり貫かれた部分
の近傍に沿う形で該光導波路の入出射端がアレイ状に該
光導波路を形成した層の面上に形成されていて、該入出
射端の下部には反射ミラーを備えて該光導波路に光を導
波させるようになっており、光電変換させる光素子は該
面上に形成された入出射端に光結合が可能なようにアラ
イメントされて接着されている請求項1乃至3および6
乃至16の何れかに記載の光電気混載配線基板。
18. A layer on which an optical waveguide for optical wiring is formed in a part of a surface opposite to the mounting part on which the electronic integrated element is mounted, The input and output ends of the optical waveguide are formed on the surface of the layer on which the optical waveguide is formed in an array along the vicinity, and a reflection mirror is provided below the input and output ends to provide light to the optical waveguide. 7. An optical element for photoelectric conversion is aligned and adhered to an input / output end formed on the surface so as to enable optical coupling.
17. The opto-electric hybrid board according to any one of claims 16 to 16.
【請求項19】配線基板は電気配線基板の両面に光導波
路を形成した層を積層したものになっており、光電変換
させる光素子を両面に複数実装し、該電気配線基板の一
部に光が透過できるスルーホールを設けて該両面の光導
波路間での光信号の接続をも行い、前記電気集積素子間
での信号の授受を電気と光混在で行なえる様に構成され
た請求項1乃至19の何れかに記載の光電気混載配線基
板。
19. The wiring board is formed by laminating layers in which optical waveguides are formed on both sides of an electric wiring board. A plurality of optical elements for photoelectric conversion are mounted on both sides, and an optical element is provided on a part of the electric wiring board. 2. A device according to claim 1, wherein a through-hole through which light is transmitted is provided so that an optical signal is connected between the optical waveguides on both surfaces, and a signal is exchanged between the electric integrated devices in a mixed manner of electricity and light. 20. The opto-electric hybrid board according to any one of claims to 19.
【請求項20】光素子に面発光レーザを含む請求項1乃
至19の何れかに記載の光電気混載配線基板の駆動方法
において、面発光レーザの駆動は電子集積素子の出力段
のCMOSバッファのオン・オフで直接行ない、レーザ
の駆動電流の調整は直列に挿入した抵抗で行なうことを
特徴とする駆動方法。
20. The method of driving an opto-electric hybrid wiring board according to claim 1, wherein the optical element includes a surface emitting laser. The driving of the surface emitting laser is performed by a CMOS buffer in an output stage of the electronic integrated device. A driving method which is performed directly by turning on and off, and adjusting the driving current of the laser by using a resistor inserted in series.
【請求項21】光素子に面発光レーザを含む請求項1乃
至19の何れかに記載の光電気混載配線基板に大規模中
央演算装置(MPU)、ランダムアクセスメモリなどの
電気集積素子を複数実装し、請求項20記載の駆動方法
で面発光レーザを駆動する様に構成されたことを特徴と
する電子回路装置。
21. A plurality of electric integrated devices such as a large-scale central processing unit (MPU) and a random access memory are mounted on the opto-electric hybrid board according to claim 1, wherein the optical device includes a surface emitting laser. 21. An electronic circuit device configured to drive a surface emitting laser by the driving method according to claim 20.
JP21300099A 1999-07-28 1999-07-28 Opto-electric hybrid board, driving method thereof, and electronic circuit device using the same Expired - Fee Related JP3684112B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21300099A JP3684112B2 (en) 1999-07-28 1999-07-28 Opto-electric hybrid board, driving method thereof, and electronic circuit device using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21300099A JP3684112B2 (en) 1999-07-28 1999-07-28 Opto-electric hybrid board, driving method thereof, and electronic circuit device using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001044582A true JP2001044582A (en) 2001-02-16
JP3684112B2 JP3684112B2 (en) 2005-08-17

Family

ID=16631832

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21300099A Expired - Fee Related JP3684112B2 (en) 1999-07-28 1999-07-28 Opto-electric hybrid board, driving method thereof, and electronic circuit device using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3684112B2 (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003101080A (en) * 2001-09-26 2003-04-04 Ibiden Co Ltd Board for ic chip mounting
JP2006147874A (en) * 2004-11-19 2006-06-08 Fujitsu Ltd Optical device and its manufacturing method
JP2006201500A (en) * 2005-01-20 2006-08-03 Sony Corp Semiconductor integrated circuit and electronic equipment using the same
JP2006523428A (en) * 2003-04-02 2006-10-12 サン・マイクロシステムズ・インコーポレイテッド Optical communication between facing semiconductor chips
JP2007235111A (en) * 2006-01-31 2007-09-13 Sony Corp Printed circuit board assembly and manufacturing method thereof
JP2008091976A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Matsushita Electric Works Ltd Optical communication equipment, and electronic equipment using the same
JP2008091916A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor laser and its manufacturing method
JP2008091493A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Matsushita Electric Works Ltd Photoelectric converter
JP2010540910A (en) * 2007-09-25 2010-12-24 レイブン インダストリーズ, インコーポレイテッド Improved fiber optic GPS link
US9389366B2 (en) 2013-11-29 2016-07-12 International Business Machines Corporation Optical modules for wavelength multiplexing
JP2021162660A (en) * 2020-03-31 2021-10-11 京セラ株式会社 Optical waveguide module and light source module
CN114361749A (en) * 2022-01-26 2022-04-15 清华大学 Millimeter wave photoelectric mixer with on-chip integrated biaser
CN114512589A (en) * 2022-04-21 2022-05-17 威海三维曲板智能装备有限公司 Photoelectric hybrid packaging structure and manufacturing method thereof

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4020027A1 (en) * 2020-12-23 2022-06-29 EFFECT Photonics B.V. An environmentally protected photonic integrated circuit

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003101080A (en) * 2001-09-26 2003-04-04 Ibiden Co Ltd Board for ic chip mounting
JP2006523428A (en) * 2003-04-02 2006-10-12 サン・マイクロシステムズ・インコーポレイテッド Optical communication between facing semiconductor chips
JP2006147874A (en) * 2004-11-19 2006-06-08 Fujitsu Ltd Optical device and its manufacturing method
JP2006201500A (en) * 2005-01-20 2006-08-03 Sony Corp Semiconductor integrated circuit and electronic equipment using the same
JP2007235111A (en) * 2006-01-31 2007-09-13 Sony Corp Printed circuit board assembly and manufacturing method thereof
JP2008091916A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor laser and its manufacturing method
JP2008091976A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Matsushita Electric Works Ltd Optical communication equipment, and electronic equipment using the same
JP2008091493A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Matsushita Electric Works Ltd Photoelectric converter
JP2010540910A (en) * 2007-09-25 2010-12-24 レイブン インダストリーズ, インコーポレイテッド Improved fiber optic GPS link
US9389366B2 (en) 2013-11-29 2016-07-12 International Business Machines Corporation Optical modules for wavelength multiplexing
US9927576B2 (en) 2013-11-29 2018-03-27 International Business Machines Corporation Optical modules for wavelength multiplexing
JP2021162660A (en) * 2020-03-31 2021-10-11 京セラ株式会社 Optical waveguide module and light source module
CN114361749A (en) * 2022-01-26 2022-04-15 清华大学 Millimeter wave photoelectric mixer with on-chip integrated biaser
CN114512589A (en) * 2022-04-21 2022-05-17 威海三维曲板智能装备有限公司 Photoelectric hybrid packaging structure and manufacturing method thereof
CN114512589B (en) * 2022-04-21 2022-06-17 威海三维曲板智能装备有限公司 Photoelectric hybrid packaging structure and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP3684112B2 (en) 2005-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3728147B2 (en) Opto-electric hybrid wiring board
US6854901B1 (en) Optical wiring device
US6836579B2 (en) Surface optical device apparatus, method of fabricating the same, and apparatus using the same
US9488791B2 (en) Optoelectronic module
US7470069B1 (en) Optoelectronic MCM package
US9647762B2 (en) Integrated parallel optical transceiver
US20090226130A1 (en) Optical Transceiver Module with Optical Windows
US7656926B2 (en) Optical connection device and method of fabricating the same
JP2005286225A (en) Lsi package with interface module, and transmission line header equipped with lsi package
JP2011151402A (en) Surface mount (smt) connector for vcsel and photodiode array
JP3684112B2 (en) Opto-electric hybrid board, driving method thereof, and electronic circuit device using the same
US20110286695A1 (en) Optical coupler module having optical waveguide structure
KR102529088B1 (en) Connector Plug and Active Optical Cable Assembly Using the Same
JP3725453B2 (en) Semiconductor device
KR102671347B1 (en) Optical Device Module Package
WO2024066360A1 (en) Optical module
JP2001042171A (en) Active optical wiring device
CN218767433U (en) Optical module
US20120148190A1 (en) Optical module and optical transmission device using the same
JP4995867B2 (en) Light emitting device and optical coupling module
JPWO2009001822A1 (en) Optical module
JP2004031455A (en) Optical interconnection equipment
US20230129104A1 (en) Visible led-based flex waveguide interconnects
CN219916014U (en) Optical module
Kurokawa et al. Optical interconnection technologies based on vertical-cavity surface-emitting lasers and smart pixels

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041215

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050517

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050527

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090603

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090603

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100603

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110603

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120603

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees