JP2001044261A - Stocker carrying system - Google Patents

Stocker carrying system

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JP2001044261A
JP2001044261A JP28752599A JP28752599A JP2001044261A JP 2001044261 A JP2001044261 A JP 2001044261A JP 28752599 A JP28752599 A JP 28752599A JP 28752599 A JP28752599 A JP 28752599A JP 2001044261 A JP2001044261 A JP 2001044261A
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Keiryu Cho
景隆 丁
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文甫 黄
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KISHO KODEN KOFUN YUGENKOSHI
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KISHO KODEN KOFUN YUGENKOSHI
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the range of a class 1 clean environment and to shorten the carrying time of an automatic traveling carrier for reducing the production cost, and the manufacturing period. SOLUTION: A stocker carrying system is provided with cassettes 800 for housing wafers, a stocker 100, which can house these cassettes 800 and is provided with a plurality of shelves 700 in its interior, and robots 200 for carrying the above products between treating stations EQ and the stocker 100. The stocker 100 is provided with cranes 400, provided in its interior, cassette loading/ unloading carrier ports 600 and a plurality of input/output ports 500. The cassette 800 are carried between the stocker 100 and the outside via the ports 600. These products housed in the cassettes 800 are carried between the stocker 100 and the stations EQ via the ports 500.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はストッカ搬送システ
ムに関し、特に半導体装置又は光電装置、例えば液晶表
示器の生産ラインで採用されているストッカ搬送システ
ムに関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a stocker transport system, and more particularly, to a stocker transport system employed in a production line of semiconductor devices or photoelectric devices, for example, a liquid crystal display.

【0002】[0002]

【発明の背景】半導体ウェーハ(以下にはウェーハと称
する)とLCDガラス(以下にはガラス基板と称する)
は、それぞれVLSIチップとLCD装置の製造に用い
られる基板材料である。これらの材料は一般に、キャリ
ヤ又はカセット(以下、単にカセットをいう)に収納さ
れ、微細な粒子さえによってもこれらの材料は更なる処
理のため利用できなくなる。従って、これらの材料はき
わめて清潔な環境の中に限って処理され、搬送すること
が可能である。よって、低コスト、高歩留りの方法でV
LSIチップとLCD装置を製造するため、微粒子汚染
の抑制が大変重要である。
BACKGROUND OF THE INVENTION Semiconductor wafers (hereinafter referred to as wafers) and LCD glass (hereinafter referred to as glass substrates)
Are substrate materials used for manufacturing VLSI chips and LCD devices, respectively. These materials are generally stored in carriers or cassettes (hereinafter simply referred to as cassettes), and even fine particles render these materials unusable for further processing. Therefore, these materials can be processed and transported only in a very clean environment. Therefore, V is reduced by a low-cost and high-yield method.
In order to manufacture LSI chips and LCD devices, it is very important to suppress particulate contamination.

【0003】微粒子汚染の主な発生源は人間、機器、施
設(クリーンルームを含む)及び化学製品である。人間
とクリーンルーム施設から放出された微粒子はイオン化
される傾向があり、ウェーハ又はガラス基板の表面に欠
陥を引き起こしやすいため、最大の汚染源である。徹底
的に微粒子汚染を抑制するため、従来の方法はもっと精
密なHEPA(High Efficiency Particulate Air)フィ
ルターを有するクリーンルームと空気再循環システムを
採用する。目下、充分なクリーンルームの清浄度を得る
ため、99.99999%以上のフィルター効率が要求されてい
る。実際に、クリーンルームでは異なる清浄度の人間、
材料又は設備(フィルターとファンを含む)が存在する
ので、望ましい低塵環境、例えばクラス1環境のクリー
ンルームを維持するためのコストが非常に高い。
[0003] The main sources of particulate contamination are humans, equipment, facilities (including clean rooms) and chemical products. Particles emitted from humans and clean room facilities tend to be ionized and are likely to cause defects on the surface of the wafer or glass substrate, making them the largest source of contamination. In order to thoroughly control particulate contamination, the conventional method employs a clean room and a recirculation system with a more precise HEPA (High Efficiency Particulate Air) filter. Currently, a filter efficiency of 99.99999% or more is required to obtain sufficient clean room cleanliness. In fact, humans of different cleanliness in a clean room,
Due to the presence of materials or equipment (including filters and fans), the cost of maintaining a clean room in a desirable low dust environment, eg, a Class 1 environment, is very high.

【0004】[0004]

【従来技術】従来、低コストの方式でウェーハの微粒子
汚染を低減することによって歩留りを向上するため、ク
リーンルーム概念の下で、いろいろな改良式貯蔵ステー
ションとしてストッカが導入され、ウェーハやガラス基
板の貯蔵及び搬送が行われている。図1に示すのは、こ
の概念を利用した従来の設計である。同図に示すよう
に、このシステムは基本的に四つの部分を含む。
2. Description of the Related Art Conventionally, stockers have been introduced as various improved storage stations under the concept of a clean room in order to improve yield by reducing particulate contamination of wafers in a low-cost manner, and to store wafers and glass substrates. And transport are being performed. FIG. 1 shows a conventional design utilizing this concept. As shown in the figure, the system basically includes four parts.

【0005】(1)まず、半導体装置又は光電装置を製造
するため、少なくとも一つの処理ステーション(EQ)が
用いられる。ここ処理ステーション(EQ)は、例えばマ
スク露光装置、レジスト剥離装置、蒸発濃縮装置或いは
エッチング装置などである。上記処理ステーション(E
Q)は望ましい清浄度、例えばクラス1の清浄度を有す
る清浄通路(61)に面している。一方、処理ステーション
(EQ)の内部は別々に維持され、洗浄されるので、一般
に各処理ステーション(EQ)は比較的低い清浄度、例え
ばクラス1000の区域(62)に設けられる。
(1) First, at least one processing station (EQ) is used to manufacture a semiconductor device or an optoelectronic device. The processing station (EQ) is, for example, a mask exposure apparatus, a resist stripping apparatus, an evaporative concentration apparatus, or an etching apparatus. The above processing station (E
Q) faces a clean passage (61) having a desired cleanliness, for example a class 1 cleanliness. Meanwhile, processing station
Since the interior of the (EQ) is maintained and cleaned separately, each processing station (EQ) is generally located in a relatively low cleanliness, eg, a class 1000 area (62).

【0006】(2)また、ウェーハ又はガラス基板等の品
物を収納するカセットは、この品物を上記処理ステーシ
ョン(EQ)から運んだり、処理ステーション(EQ)へ運
んだり、或いは異なる処理ステーション(EQ・EQ)間
で運ぶように用いられる。
(2) A cassette for storing an article such as a wafer or a glass substrate carries the article from the processing station (EQ), to the processing station (EQ), or to a different processing station (EQ. Used to carry between EQ).

【0007】(3)また、図2に示すように、ウェーハを
処理していない期間、前記カセット(58)を収納するため
の貯蔵ステーションとして、ストッカ(51)がユーティリ
ティ区域に設けられ、その入力/出力ポート(55)が完全
に清浄通路(61)に囲まれる。ストッカ(51)の内部では、
一般にクレーン(54)でストッカ(51)に収納されているカ
セットを移動する。
(3) As shown in FIG. 2, a stocker (51) is provided in the utility area as a storage station for storing the cassette (58) during a period when the wafer is not processed. The / output port (55) is completely surrounded by the clean passage (61). Inside the stocker (51),
Generally, the cassette stored in the stocker (51) is moved by the crane (54).

【0008】(4)また、図3に示すように、処理ステー
ション(EQ)とストッカ(51)の間にカセットを移動する
ための搬送システム(53)が設けられている。この搬送シ
ステム(53)は自動搬送及び処理システムを含み、この自
動搬送及び処理システムは一般に無線床制御システム
(FCS)に制御される自走型搬送車(AGV)と呼ばれる
ロボット搬送車(52)である。
(4) As shown in FIG. 3, a transport system (53) for moving the cassette between the processing station (EQ) and the stocker (51) is provided. The transport system (53) includes an automatic transport and processing system, which is generally a wireless floor control system.
This is a robot carrier (52) called an autonomous carrier (AGV) controlled by (FCS).

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、自走型搬送車
(52)で搬送を行うため、クラス1に相当する或いはそれ
より高い清浄度を有する清浄区域(61)が必要であり、か
つ自走型搬送車(52)の搬送時間により製造周期が随分長
くなるので、クリーンルーム概念の下、自走型搬送車を
用いるのは、経済的に最も有利な方式ではない。
However, a self-propelled carrier is required.
(52) requires a clean area (61) having a degree of cleanliness equivalent to or higher than Class 1 and the production cycle is considerably long due to the transport time of the self-propelled transport vehicle (52). Therefore, using a self-propelled carrier under the concept of a clean room is not the most economically advantageous method.

【0010】本発明は上記問題点を解消し、自走型搬送
車を不要とすることで、クラス1清浄環境の範囲を縮小
でき、自走型搬送車の搬送時間も短縮できて、生産コス
ト及び製造周期を低減することが可能である、半導体装
置又はLCD装置を製造する生産ラインで用いられるス
トッカ搬送システムを提供することを目的とする。
The present invention solves the above problems and eliminates the need for a self-propelled transport vehicle, thereby reducing the range of a Class 1 clean environment, shortening the transport time of the self-propelled transport vehicle, and reducing production costs. It is another object of the present invention to provide a stocker transport system used in a production line for manufacturing a semiconductor device or an LCD device, which can reduce a manufacturing cycle.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、例えば、本発明の実施の形態を示す図4か
ら図6に基づいて説明すると、ストッカ搬送システムを
次のように構成したものである。即ち、一又は複数の、
二列平行に配置する少なくとも二つの処理ステーション
(EQ)、を有する処理区(150)を具備する生産ライン(1
0)で用いられ、一又は複数の搬送される品物を収納する
カセット(800)と、上記カセット(800)を収納できる複数
の棚(700)を内部に備えたストッカ(100)と、前記処理ス
テーション(EQ)と前記ストッカ(100)との間に設けら
れ、前記カセット(800)に収納した品物を、前記処理ス
テーション(EQ)と前記ストッカ(100)との間で搬送す
るロボット(200)と、を備えるストッカ搬送システムに
おいて、前記ストッカ(100)は、このストッカ(100)の内
部に設けられて前記カセット(800)を移動する複数のク
レーン(400)と、一又は複数のカセット装荷/卸下ポー
ト(600)と、複数の入力/出力ポート(500)と、を備え、
前記カセット(800)を、前記カセット装荷/卸下ポート
(600)を介して前記ストッカ(100)へ搬入又はストッカ(1
00)から搬出し、前記カセット(800)に収納した品物を、
前記入力/出力ポート(500)を介して前記ストッカ(100)
と前記処理ステーション(EQ)との間で搬送することを
特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 6 showing an embodiment of the present invention. It was done. That is, one or more,
At least two processing stations arranged in two rows in parallel
(EQ), a production line (1) having a processing zone (150)
0), a cassette (800) for storing one or more items to be conveyed, a stocker (100) internally provided with a plurality of shelves (700) capable of storing the cassette (800), A robot (200) provided between the station (EQ) and the stocker (100), for transporting articles stored in the cassette (800) between the processing station (EQ) and the stocker (100); And a plurality of cranes (400) provided inside the stocker (100) and moving the cassette (800), and one or more cassette loading / unloading units. It has a wholesale port (600) and a plurality of input / output ports (500),
Connect the cassette (800) to the cassette loading / unloading port
(600) to the stocker (100) or the stocker (1
00), and the goods stored in the cassette (800)
The stocker (100) through the input / output port (500)
And transporting between the processing station (EQ).

【0012】上記処理ステーションの少なくとも一つは
素子の製造に用いられ、例えば、マスク露光装置、レジ
スト剥離装置、蒸発濃縮装置、及びエッチング装置など
である。上記処理ステーションは望ましい清浄度、例え
ばクラス1の清浄度を有する清浄通路に面している。一
方、処理ステーションの内部は別々に維持され、洗浄さ
れるので、一般に処理ステーションは比較的低い清浄
度、例えばクラス1000の区域に設けられる。
At least one of the processing stations is used for manufacturing a device, and includes, for example, a mask exposure apparatus, a resist stripping apparatus, an evaporative concentration apparatus, and an etching apparatus. The processing station faces a clean passage having a desired cleanliness, eg, a Class 1 cleanliness. On the other hand, because the interior of the processing station is separately maintained and cleaned, the processing station is typically located in a relatively low cleanliness, eg, class 1000 area.

【0013】また、ウェーハやガラス基板等の品物を収
納する上記カセットは、この品物を処理ステーションか
らの搬出又は処理ステーションへの搬入、或いは異なる
処理ステーション間での搬送に用いられる。
The above-mentioned cassette for storing articles such as wafers and glass substrates is used for carrying the articles out of the processing station, loading them into the processing station, or transporting them between different processing stations.

【0014】また、上記カセットは、ウェーハを処理し
ていない期間、上記ストッカに収納されるが、このスト
ッカは清浄通路に囲まれている。このストッカの内部に
はクレーン及び棚が設けられており、それぞれカセット
を移動及び収納するために用いられる。
Further, the cassette is stored in the stocker during a period in which no wafer is processed, and the stocker is surrounded by a clean passage. A crane and a shelf are provided inside the stocker, and are used for moving and storing the cassette, respectively.

【0015】また、上記処理ステーションとストッカと
の間に設けられたロボットは、清浄通路の範囲内にあ
り、カセット入力/出力ポートを介し、処理ステーショ
ンとストッカとの間でウェーハ等の品物を搬送する。
[0015] The robot provided between the processing station and the stocker is located in the range of the clean passage, and conveys an article such as a wafer between the processing station and the stocker through the cassette input / output port. I do.

【0016】上記各処理区間や各ストッカ間でカセット
を移動するため、架空搬送システムを設けてもよく、こ
の架空搬送システムは前記ロボットの上方に設けられ
る。
An overhead transport system may be provided to move the cassette between the processing sections and between the stockers, and the overhead transport system is provided above the robot.

【0017】本発明によれば、自走型搬送車システムを
使用しなくて済み、かつ小区域のクラス1環境で済むの
で、半導体装置又はLCD装置の生産ラインで用いられ
る従来のストッカシステムの欠点を防止することができ
る。従って、生産コストと製造周期を著しく低減するこ
とができる。
According to the present invention, since a self-propelled carrier system is not used and a class 1 environment of a small area is used, a drawback of the conventional stocker system used in a semiconductor device or LCD device production line is eliminated. Can be prevented. Therefore, the production cost and the production cycle can be significantly reduced.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら本
発明による好適な実施の形態を詳しく説明する。図4は
小型生産ライン(10)における専用設備の一部を示す。そ
の中、ストッカシステムの三つの基本的な構成要素であ
るストッカ、ロボット及び架空搬送システムが示されて
いる。即ち、図4には一つのストッカ(100)と、五つの
ロボット(200)と、一つの架空搬送システム(300)とが示
されている。キャリヤ(800)に収納されているウェーハ
やガラス基板などの品物が小型生産ライン(10)の各処理
ステーション(EQ)へ搬送され、又この処理ステーショ
ン(EQ)から搬送されている。上記ストッカ(100)は、
三つのクレーン(400)と、各ロボット(200)に接続する五
つの入力/出力ポート(500)と、ストッカ(100)と架空搬
送システム(300)との間にカセット(800)を搬送するため
のカセット装荷/卸下ポート(600)と、ストッカ本体の
内部にある複数の棚(700)とを備える。なお、上記スト
ッカ(100)は望ましい清浄度、例えばクラス1の清浄度
を有する清浄通路(120)に囲まれており、一方、各処理
ステーション(EQ)はこの清浄通路(120)に面している
が、比較的低い清浄度、例えばクラス1000の区域(1
30)に設けられる。
Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. FIG. 4 shows a part of dedicated equipment in the small production line (10). Among them, three basic components of the stocker system, a stocker, a robot, and an overhead transportation system are shown. That is, FIG. 4 shows one stocker (100), five robots (200), and one overhead transportation system (300). Articles such as wafers and glass substrates stored in the carrier (800) are transported to and from each processing station (EQ) of the small production line (10). The stocker (100)
Three cranes (400), five input / output ports (500) connected to each robot (200), and for transferring cassettes (800) between the stocker (100) and the overhead transport system (300) Cassette loading / unloading port (600) and a plurality of shelves (700) inside the stocker body. The stocker (100) is surrounded by a clean passage (120) having a desired degree of cleanliness, for example, class 1 cleanliness, while each processing station (EQ) faces the clean passage (120). But relatively low cleanliness, e.g. class 1000 areas (1
30).

【0019】図4に示すように、本発明のストッカ搬送
システムの好適な実施例において、ウェーハなどの品物
がストッカ(100)におけるRi番目の棚(700)のCi番目の
カセット(800)に収納されている。Ci番目のカセット(8
00)がある特定の処理ステーション(EQ)、例えば、薄
膜蒸発濃縮装置(901)で処理される前に、Ci番目のカセ
ット(800)の近傍にあるNj番目のクレーン(400)を利用
し、Ci番目のカセット(800)をRi番目の棚(700)からP
901番目の入力/出力ポート(500)に搬送する。そして、
i番目のカセット(800)の中の品物が取り出され、T
901番目のロボット(200)により薄膜蒸発濃縮装置(901)
に搬送される。
As shown in FIG. 4, in the preferred embodiment of stocker transport system of the present invention, C i-th cassette R i-th shelf items such wafer in stocker (100) (700) (800) It is stored in. C i- th cassette (8
00) utilizing an N j th crane (400) near the C i th cassette (800) before being processed at a particular processing station (EQ), eg, a thin film evaporative concentrator (901). Then, the C i- th cassette (800) is transferred from the R i- th shelf (700) to P
Transport to the 901st input / output port (500). And
C The items in the i- th cassette (800) are taken out and
Thin-film evaporation apparatus by 901-th robot (200) (901)
Transported to

【0020】薄膜蒸発濃縮装置(901)での処理が終了し
た後、品物がP901番目の入力/出力ポート(500)にある
上記Ci番目のカセット(800)に収納される。そして、N
j番目のクレーン(400)によってこのCi番目のカセット
(800)がOj/j+1番目の領域(160)に送られる。この領域
(160)はNj番目のクレーン(400)とNj+1番目のクレーン
(400)との移動径路の重なる部分である。その後、上記
i番目のカセット(800)はNj+1番目のクレーン(400)に
よりRi+m番目の棚(700)に搬送される。
[0020] After the processing in the thin-film evaporation apparatus (901) is completed, the goods are stored in the C i th cassette (800) on the 901-th input / output port P (500). And N
This C i- th cassette by the j- th crane (400)
(800) is sent to the Oj / j + 1th area (160). This area
(160) is the N j th crane (400) and the N j + 1 th crane
This is the portion where the movement path overlaps with (400). Thereafter, the C i- th cassette (800) is transferred to the R i + m- th shelf (700) by the N j + 1- th crane (400).

【0021】この実施形態では上記クレーン(400)の移
動経路が重なる区域(160)を用いてカセットを隣り合う
処理区へ移動したが、本発明ではストッカ内にシャトル
を設け、このシャトルによりカセットを隣り合うクレー
ン同士間で搬送するように構成してもよい。
In this embodiment, the cassette is moved to the adjacent processing zone by using the area (160) where the moving route of the crane (400) overlaps. However, in the present invention, a shuttle is provided in the stocker, and the cassette is moved by the shuttle. You may comprise so that it may convey between adjacent cranes.

【0022】上記Ci番目のカセット(800)が次の処理ス
テーション(EQ)、例えば、写真製版装置(902)に送ら
れて、レジストの塗布及びマスクアライメントが行われ
る前に、Nj+1番目のクレーン(400)が上記Ri+m番目の
棚(700)から上記Ci番目のカセット(800)を取り出し
て、P902番目の入力/出力ポート(500)に送る。そし
て、このCi番目のカセット(800)から品物が取り出さ
れ、その品物がT902番目のロボット(200)により上記写
真製版装置(902)に搬送される。
The C i- th cassette (800) is sent to the next processing station (EQ), for example, a photomechanical apparatus (902), where N j + 1 is applied before resist coating and mask alignment are performed. The th crane (400) takes out the C i- th cassette (800) from the R i + m- th shelf (700) and sends it to the P 902- th input / output port (500). Then, the goods from the C i th cassette (800) is extracted, is conveyed to the photographic plate making apparatus (902) by the goods 902 th T of the robot (200).

【0023】図5は、小型生産ライン内と各小型生産ラ
インの間にカセットを搬送するための架空搬送システム
を示す。即ち、この架空搬送システム(300)により小型
生産ライン(10)内でカセットを搬送する場合は、隣り合
わない二つの処理区(150)の間にカセットを搬送するた
めに用いられる。一方、この架空搬送システムにより二
つの小型生産ライン(10・10)の間にカセットを搬送する
場合は、スループットのバランスを取るため、又は重要
な処理ステーション(EQ)が停止する時に用いられる。
FIG. 5 shows a fictitious transport system for transporting cassettes within a small production line and between each small production line. That is, when a cassette is transported in the small production line (10) by the overhead transport system (300), the cassette is transported between two non-adjacent processing sections (150). On the other hand, when a cassette is transported between two small production lines (10, 10) by this overhead transport system, it is used to balance throughput or when an important processing station (EQ) is stopped.

【0024】図6に示すように、上記架空搬送システム
(300)は天井に取り付けられ、その移動径路は各ストッ
カ(100)を囲み、若しくは各ストッカ(100)の片側に沿
う。かつ、ストッカ(100)と処理ステーション(EQ)と
の間における各ロボット(200)の上方にある。図5に示
すように、上記架空搬送システム(300)の移動径路は清
浄度がクラス1の区域(120)に設けられており、基本的
に各ストッカ(100)を囲む。
As shown in FIG. 6, the above-mentioned overhead transportation system
The (300) is mounted on the ceiling, and its moving path surrounds each stocker (100) or runs along one side of each stocker (100). And it is above each robot (200) between the stocker (100) and the processing station (EQ). As shown in FIG. 5, the moving path of the overhead transportation system (300) is provided in the area (120) of cleanliness class 1 and basically surrounds each stocker (100).

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明によるストッカ搬送システムの生
産ラインは上記のように構成され作用することから、以
下の利点を有する。
The production line of the stocker transport system according to the present invention has the following advantages since it is constructed and operates as described above.

【0026】1.搬送領域で自走型搬送車が要らないの
で、必要なスペースが大いに低減できる。
1. Since a self-propelled transport vehicle is not required in the transport area, the required space can be greatly reduced.

【0027】2.自走型搬送車が要らないので、クラス
1環境の範囲が縮小でき、クラス1又はそれより高い
清浄度を有する清浄通路のコストが低減できる。かつ、
床制御システム(FCS)がなくて済むので、クリーン
ルームの建造コストも低減できる。
2. Since a self-propelled carrier is not required, the range of the class 1 environment can be reduced, and the cost of a clean passage having a class 1 or higher cleanliness can be reduced. And,
Since there is no need for a floor control system (FCS), the cost of building a clean room can be reduced.

【0028】3.自走型搬送車がウェーハ(又はガラス
基板)を搬送する工程が要らないので、搬送時間を省く
ことができる。従って、ウェーハ(又はガラス基板)の
処理コストは大いに低減できる。
3. Since the step of transporting the wafer (or glass substrate) by the self-propelled transport vehicle is not required, the transport time can be reduced. Therefore, the processing cost of the wafer (or glass substrate) can be greatly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来技術を示し、クリーンルーム概念の下、ス
トッカと自走型搬送車を使用する生産ラインのレイアウ
トである。
FIG. 1 shows a prior art and is a layout of a production line using a stocker and a self-propelled carrier under the concept of a clean room.

【図2】従来技術を示す、ストッカの正面図である。FIG. 2 is a front view of a stocker showing a conventional technique.

【図3】従来技術を示す、自走型搬送車が設けられてい
るストッカの一部破断平面図である。
FIG. 3 is a partially cutaway plan view of a stocker provided with a self-propelled carrier, showing a conventional technique.

【図4】本発明の実施形態を示す、小型生産ラインに用
いたストッカ搬送システムの概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a stocker transport system used in a small-sized production line, showing an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態を示す、小型生産ライン内と
各小型生産ラインの間にカセットを搬送するための架空
搬送システムの概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an overhead transport system for transporting a cassette in a small production line and between each small production line, showing an embodiment of the present invention.

【図6】本発明によるストッカ、架空搬送システム、ロ
ボット及び処理ステーションの配置を示す概略側面図で
ある。
FIG. 6 is a schematic side view showing an arrangement of a stocker, an overhead transportation system, a robot, and a processing station according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…小型生産ライン 100…ストッカ 150…処理区 160…クレーンの移動経路が重なる区域 200…ロボット 300…架空搬送システム 400…クレーン 500…入力/出力ポート 600…カセット装荷/卸下ポート 700…棚 800…カセット EQ…処理ステーション DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Small production line 100 ... Stocker 150 ... Processing area 160 ... Area where the moving paths of cranes overlap 200 ... Robot 300 ... Overhead transport system 400 ... Crane 500 ... Input / output port 600 ... Cassette loading / unloading port 700 ... Shelf 800 ... Cassette EQ ... Processing station

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年6月13日(2000.6.1
3)
[Submission date] June 13, 2000 (2006.1.
3)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、例えば、本発明の実施の形態を示す図4か
ら図6に基づいて説明すると、ストッカ搬送システムを
次のように構成したものである。即ち、一又は複数の、
二列平行に配置する少なくとも二つの処理ステーション
(EQ)、を有する処理区(150)を具備する生産ライン(1
0)で用いられ、一又は複数の搬送される品物を収納する
カセット(800)と、上記カセット(800)を収納できる複数
の棚(700)を内部に備えたストッカ(100)と、前記処理ス
テーション(EQ)と前記ストッカ(100)との間に設けら
れ、前記カセット(800)に収納した品物を、前記処理ス
テーション(EQ)と前記ストッカ(100)との間で搬送す
るロボット(200)と、を備えるストッカ搬送システムに
おいて、前記ストッカ(100)は、このストッカ(100)の内
部に設けられて前記カセット(800)を移動する複数のク
レーン(400)と、一又は複数のカセット装荷/卸下ポー
ト(600)と、複数の入力/出力ポート(500)と、一又は複
数のシャトルと、を備え、前記カセット(800)を、前記
カセット装荷/卸下ポート(600)を介して前記ストッカ
(100)へ搬入又はストッカ(100)から搬出し、前記カセッ
ト(800)に収納した品物を、前記入力/出力ポート(500)
を介して前記ストッカ(100)と前記処理ステーション(E
Q)との間で搬送し、前記複数のクレーン(400)の移動径
路は前記一又は複数の処理区(150)内にあり、前記シャ
トルは前記カセット(800)を互いに隣り合うクレーン(40
0)同士の間で搬送することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 6 showing an embodiment of the present invention. It was done. That is, one or more,
At least two processing stations arranged in two rows in parallel
(EQ), a production line (1) having a processing zone (150)
0), a cassette (800) for storing one or more items to be conveyed, a stocker (100) internally provided with a plurality of shelves (700) capable of storing the cassette (800), A robot (200) provided between the station (EQ) and the stocker (100), for transporting articles stored in the cassette (800) between the processing station (EQ) and the stocker (100); And a plurality of cranes (400) provided inside the stocker (100) and moving the cassette (800), and one or more cassette loading / unloading units. One or more wholesale ports (600), multiple input / output ports (500)
The cassette (800) through the cassette loading / unloading port (600).
(100) or unloading from the stocker (100) and storing the articles stored in the cassette (800) in the input / output port (500)
Through the stocker (100) and the processing station (E
Q) and the moving diameter of the plurality of cranes (400).
The path is in the one or more treatment zones (150) and
The tor put the cassette (800) next to the crane (40
0) transported between each other .

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0014】また、上記カセットは、ウェーハを処理し
ていない期間、上記ストッカに収納されるが、このスト
ッカは清浄通路に囲まれている。このストッカの内部に
はクレーン及び棚が設けられており、それぞれカセット
を移動及び収納するために用いられる。このクレーンの
移動径路は前記一又は複数の処理区内にあり、上記カセ
ットは、互いに隣り合うクレーン同士の間を上記シャト
ルで搬送されることにより、それぞれクレーンを配置し
た隣り合う処理区の間を移動する。
Further, the cassette is stored in the stocker during a period in which no wafer is processed, and the stocker is surrounded by a clean passage. A crane and a shelf are provided inside the stocker, and are used for moving and storing the cassette, respectively. Of this crane
The moving path is located in the one or more processing zones, and
The shut is between the cranes adjacent to each other.
Each crane
Move between adjacent treatment zones.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0021[Correction target item name] 0021

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0021】また、上記ではクレーン(400)の移動経路
が重なる領域(160)を用いてカセットを隣り合う処理区
へ移動したが、本発明ではストッカ内に図示していない
シャトルを設けてあるので、上記の領域(160)を用いる
移動に代えて、このシャトルによりカセットを隣り合う
クレーン同士間で搬送することができる
In the above description, the cassette is moved to the adjacent processing section using the area (160) where the moving paths of the crane (400) overlap, but in the present invention, a shuttle ( not shown) is installed in the stocker. Since it is provided , use the above area (160)
Instead of moving, the shuttle can transport cassettes between adjacent cranes.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】符号の説明[Correction target item name] Explanation of sign

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【符号の説明】 10…小型生産ライン 100…ストッカ 150…処理区 160…クレーンの移動経路が重なる領域 200…ロボット 300…架空搬送システム 400…クレーン 500…入力/出力ポート 600…カセット装荷/卸下ポート 700…棚 800…カセット EQ…処理ステーション[Description of Signs] 10 ... Small production line 100 ... Stocker 150 ... Processing zone 160 ... Area where the moving routes of the crane overlap 200 ... Robot 300 ... Aerial transfer system 400 ... Crane 500 ... Input / output port 600 ... Cassette loading / unloading Port 700 ... Shelf 800 ... Cassette EQ ... Processing station

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一又は複数の、二列平行に配置する少な
くとも二つの処理ステーション(EQ)、を有する処理区
(150)を具備する生産ライン(10)で用いられ、 一又は複数の搬送される品物を収納するカセット(800)
と、 上記カセット(800)を収納できる複数の棚(700)を内部に
備えたストッカ(100)と、 前記処理ステーション(EQ)と前記ストッカ(100)との
間に設けられ、前記カセット(800)に収納した品物を、
前記処理ステーション(EQ)と前記ストッカ(100)との
間で搬送するロボット(200)と、を備えるストッカ搬送
システムにおいて、 前記ストッカ(100)は、 このストッカ(100)の内部に設けられて前記カセット(80
0)を移動する複数のクレーン(400)と、 一又は複数のカセット装荷/卸下ポート(600)と、 複数の入力/出力ポート(500)と、を備え、 前記カセット(800)を、前記カセット装荷/卸下ポート
(600)を介して前記ストッカ(100)へ搬入又はストッカ(1
00)から搬出し、 前記カセット(800)に収納した品物を、前記入力/出力
ポート(500)を介して前記ストッカ(100)と前記処理ステ
ーション(EQ)との間で搬送する、ことを特徴とするス
トッカ搬送システム。
1. A processing zone comprising one or more at least two processing stations (EQ) arranged in two rows in parallel.
A cassette (800) used in the production line (10) having the (150) and for storing one or more items to be conveyed.
A stocker (100) internally provided with a plurality of shelves (700) capable of storing the cassette (800); provided between the processing station (EQ) and the stocker (100); ),
A robot (200) for transporting between the processing station (EQ) and the stocker (100), wherein the stocker (100) is provided inside the stocker (100) and Cassette (80
0), a plurality of cranes (400), one or more cassette loading / unloading ports (600), and a plurality of input / output ports (500). Cassette loading / unloading port
(600) to the stocker (100) or the stocker (1
00), and conveys the articles stored in the cassette (800) between the stocker (100) and the processing station (EQ) via the input / output port (500). Stocker transport system.
【請求項2】 天井に取り付けられ、その移動径路が前
記ロボット(200)の上方にあり、前記ストッカ(100)の少
なくとも一側に沿って移動し、前記カセット装荷/卸下
ポート(600)を介して前記カセット(800)を前記ストッカ
(100)へ搬入又はストッカ(100)から搬出する架空搬送シ
ステム(300)を備えることを特徴とする、請求項1に記
載のストッカ搬送システム。
2. Mounted on a ceiling, the path of movement of which is above the robot (200), moves along at least one side of the stocker (100), and connects the cassette loading / unloading port (600). The cassette (800) through the stocker
2. The stocker transport system according to claim 1, further comprising an overhead transport system (300) for carrying in or out of the stocker (100).
【請求項3】 前記複数のクレーン(400)の移動経路が
前記一又は複数の処理区(150)内にあり、前記カセット
(800)を互いに隣り合うクレーン(400)同士の間で搬送す
るため、前記クレーン(400)の移動経路が所定の区域(16
0)で重なることを特徴とする、請求項1または請求項2
に記載のストッカ搬送システム。
3. The moving path of the plurality of cranes (400) is within the one or more processing sections (150), and the cassette
(800) between adjacent cranes (400), the traveling route of the cranes (400) is
3. The method according to claim 1 or 2, wherein the overlapping is performed at (0).
2. The stocker transport system according to 1.
【請求項4】 前記ストッカ(100)内に一又は複数のシ
ャトルを設け、前記複数のクレーン(400)の移動径路は
前記一又は複数の処理区(150)内にあり、前記シャトル
は前記カセット(800)を互いに隣り合うクレーン(400)同
士の間で搬送することを特徴とする、請求項1または請
求項2に記載のストッカ搬送システム。
4. One or a plurality of shuttles are provided in the stocker (100), a moving path of the plurality of cranes (400) is in the one or more processing sections (150), and the shuttle is a cassette. The stocker transport system according to claim 1 or 2, wherein the (800) is transported between cranes (400) adjacent to each other.
【請求項5】 前記ストッカ(100)は少なくとも二つあ
り、前記架空搬送システム(300)は前記一又は複数のカ
セット装荷/卸下ポート(600)を介して前記カセット(80
0)を前記少なくとも二つのストッカ(100)の間で搬送す
ることを特徴とする、請求項2に記載のストッカ搬送シ
ステム。
5. There are at least two stockers (100), and the overhead transport system (300) is connected to the cassette (80) through the one or more cassette loading / unloading ports (600).
The stocker transport system according to claim 2, characterized in that 0) is transported between the at least two stockers (100).
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CN100392841C (en) * 2004-08-12 2008-06-04 友达光电股份有限公司 Automatic material transport system
KR100837723B1 (en) * 2001-10-24 2008-06-13 치 메이 옵토일렉트로닉스 코포레이션 Backup maintaining equipment for stocker transfer system

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