JP2001044009A

JP2001044009A - 多回転式ポテンショメータ

Info

Publication number: JP2001044009A
Application number: JP11218701A
Authority: JP
Inventors: Tatsuki Goto; 竜樹後藤; 正明 ▲高▼木; Masaaki Takagi
Original assignee: Nidec Copal Corp
Current assignee: Nidec Copal Corp
Priority date: 1999-08-02
Filing date: 1999-08-02
Publication date: 2001-02-16

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、簡単な構造をもって、ヒステリシ
スの低減を図ると同時に生産性・耐久性・信頼性をも向
上させるようにした多回転式ポテンショメータを提供す
ることを目的とする。【解決手段】本発明による多回転式ポテンショメータ
は、内面に沿う螺旋状の抵抗体保持溝１０ａを有する抵
抗体ホルダ１０と、抵抗体保持溝１０ａ内に収容させる
と共にテープ状絶縁ベース材２ａの表面上にコンダクテ
ィブプラスチック層２ｂを積層させている螺旋状の抵抗
体２と、抵抗体２の表面に摺動接触する摺動接点部３ａ
を有すると共に、中央に貫通孔を有する回転体３と、回
転体３の貫通孔２０に差込まれて抵抗体ホルダ１０の中
心軸線Ｇに沿って延在するシャフト９とを備え、シャフ
ト９の表面には、径方向に突出する凸部２１が形成さ
れ、回転体３の貫通孔２０を形成する内周面には、シャ
フト９の凸部２１に嵌合する凹２３部が形成され、凸部
２１と凹部２３とを嵌合させ、シャフト９の凸部２１と
回転体３の凹部２３との当接により、シャフト９の回転
を回転体３に伝達させる構成である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特に、再現性が正
確に要求される機器（計測器など）に利用される多回転
式のポテンショメータに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、このような分野の技術として、特
開平１１−１４４９１８号公報がある。この公報に記載
された多回転式ポテンショメータは、ケース内に収容し
た回転体にシャフトを貫通させ、シャフトを回すこと
で、回転体のワイパーをケース内の螺旋状抵抗体に摺動
接触させながら、回転体を軸線方向に移動させる構成を
有する。そして、回転体は、ケース内で螺旋回転しなが
ら進退動作を行い、螺旋状の抵抗体に対する回転体の変
位によって、所望の位置検出を実現する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の多回転式ポテンショメータには、次のような課
題が存在している。すなわち、図１８に示すように、回
転体１００の中央に形成した貫通孔１０１は矩形に形成
され、これに嵌合するように、シャフト１０２は断面矩
形になっている。この場合、組立て時における貫通孔１
０１とシャフト１０２との嵌め合いを考慮し、僅かなが
らのクリアランスをもたせることがある。このクリアラ
ンスがガタ付きの原因となり、ヒステリシスが発生す
る。すなわち、図示するように、回転体１００のワイパ
ーが抵抗体の表面に摺動接触する際、接触圧が負荷とな
り、シャフト１０２の回転始動時において、このガタ分
（クリアランス分）だけワイパーに遅れ角が発生する。
更に、シャフト１０２を回すたび毎に、このガタに起因
し、シャフト１０２のコーナ部分１０２ａが貫通孔１０
１の壁面に強い剪断力をもって当たる。そして、頻繁な
シャフト１０２の回転により、貫通孔１０１が押し広げ
られるように変形する虞れがあり、これによってもヒス
テリシスが増大し、耐久性に悪影響を与えることにな
る。特に、シャフト１０２や回転体１００が樹脂で形成
されている場合には顕著である。

【０００４】このように、ポテンショメータにヒステリ
シスがあると、遅れ角度が原因で高精度な角度検出がで
きず、分解能の低下を引き起こす虞れがある。これを解
決するためには、成形時の仕上げ精度を高くし、回転体
１００とシャフト１０２とのガタを極力小さくすること
も考えられるが、このような対策は、製造コストの高騰
を招来するものである。

【０００５】本発明は、上述の課題を解決するためにな
されたもので、特に、簡単な構造をもって、ヒステリシ
スの低減を図ると同時に生産性・耐久性・信頼性をも向
上させるようにした多回転式ポテンショメータを提供す
ることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る本発明の
多回転式ポテンショメータは、内面に沿う螺旋状の抵抗
体保持溝を有する抵抗体ホルダと、抵抗体保持溝内に収
容させると共にテープ状絶縁ベース材の表面上にコンダ
クティブプラスチック層を積層させている螺旋状の抵抗
体と、抵抗体の表面に摺動接触する摺動接点部を有する
と共に、中央に貫通孔を有する回転体と、回転体の貫通
孔に差込まれて抵抗体ホルダの中心軸線に沿って延在す
るシャフトとを備え、シャフトの表面には、径方向に突
出する凸部が形成され、回転体の貫通孔を形成する内周
面には、シャフトの凸部に嵌合する凹部が形成され、凸
部と凹部とを嵌合させ、シャフトの凸部と回転体の凹部
との当接により、シャフトの回転を回転体に伝達させる
ことを特徴とする。

【０００７】請求項１に記載の発明に適用させた抵抗体
は、絶縁ベース材上にコンダクティブプラスチック層
（以下、「ＣＰ層」とも言う）を積層させたテープ状の
形態をしており、この抵抗体表面上を摺動接点部が連続
的に摺動する。このため、この発明によれば、取り出さ
れる抵抗値が階段状に変化することはなく、理論的には
分解能が無限に小さくなり、微細な変動を検出すること
ができる。また、このテープ状の抵抗体の製造にあたっ
ては、フィルム状の絶縁ベース材上にＣＰ層を積層さ
せ、これをテープ状に切断するだけで良く、その製造が
容易でポテンショメータの生産性向上に寄与する。

【０００８】更に、ＣＰ層表面は摺動性に優れ、摺動接
点部及び抵抗体の摩耗を抑えて耐久性を向上させ、経時
的信頼性を向上させることができる。また、抵抗体がテ
ープ状であるため、抵抗体の表面と摺動接点部との接触
状態が安定しており、この点からも信頼性を向上させる
ことができる。また、この螺旋状の抵抗体保持溝は、摺
動接点部のガイドとしての働きがあり、抵抗体に対し摺
動接点部を安定して摺動させることができる。

【０００９】そして、シャフト側には、径方向に突出す
る凸部が形成され、回転体側には、これに対応する凹部
が形成される。これにより、シャフトの径を大きくせ
ずとも、凸部の表面と凹部の表面との当接位置を、回転
中心から遠ざけることができ、これに伴って、シャフト
に対する回転体のガタ付きを極めて小さくすることがで
き、ヒステリシスの大幅な低減を図ることができる。こ
のようなヒステリシスの低減は、高い再現性が求められ
ている高精度なポテンショメータを製作する上で極めて
重要なことであり、品質を向上させる上でも必要なこと
である。なお、凸部の突出量を大きくすればするほどヒ
ステリシスの低減効果を発揮させることができる。

【００１０】請求項２記載の多回転式ポテンショメータ
において、凸部と凹部との嵌合箇所を複数設けると好ま
しい。このような構成を採用すると、嵌合箇所を増やせ
ば増やすほど、一嵌合箇所あたりの負荷が減少し、凸部
や凹部の変形防止が有効に促進されることになる。

【００１１】請求項３記載の多回転式ポテンショメータ
において、抵抗体ホルダを複数に分割させると好まし
い。このように、分割型の抵抗体ホルダを採用する結果
として、抵抗体ホルダ内に螺旋状の抵抗体保持溝を簡単
に形成させることができ、製造コストの低減に大きく寄
与する。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明に係る多回転式ポテンショ
メータの一実施形態について、図面を参照しつつ説明す
る。

【００１３】図１及び図２に示す多回転式ポテンショメ
ータにおいて、ケース１内には、テープ状で螺旋形状に
した抵抗体２と、この抵抗体２に摺動接触する摺動接点
部３ａをもった回転体３とが配置されている。この回転
体３は、シャフト９のロータ軸９ａに沿って、回転しな
がら図中横方向にスライドし、シャフト９は、後述する
抵抗体ホルダ１０の中心軸線Ｇに沿って延在する。ま
た、ケース１は、合成樹脂製の抵抗体ホルダ１０とモー
ルド成形したハウジング１１とからなっている。ハウジ
ング１１の後端部には、抵抗体ホルダ１０の外径に等し
い直径を有する円形のプレート４が接着剤Ｒを介して固
定されている。

【００１４】抵抗体２は、図３及び図４に示すように、
絶縁ベース材２ａ上にコンダクティブプラスチック層
（以下、「ＣＰ層」とも言う）２ｂが形成されており、
抵抗体２の両端には、ＣＰ層２ｂ上にコンタクト層２ｃ
が積層されている。ＣＰ層２ｂは、導電性を確保するた
めに、炭素混入させた熱硬化性樹脂を絶縁ベース材２ａ
上に塗布され、これを加熱焼成して硬化させたものであ
る。絶縁ベース材２ａは、加熱焼成に耐え得る耐熱性を
有すると共に、適度な柔軟変形性を有するフィルムが用
いられる。

【００１５】また、コンタクト層２ｃは、抵抗体２の両
端に電圧を印加させるための電極となる銀(Ag)のパター
ンである。コンタクト層２ｃの形成にあたっては、銀ペ
ーストを用いて加熱焼成させて硬化させる。コンタクト
層２ｃの形成は、ＣＰ層２ｂの長さＬを規制して、検出
可能な角度（有効電気角）を得る事と、後述する端子バ
ネ５ｂ，７ｂとの接続を容易かつ確実にするために行わ
れる。ＣＰ層２ｂやコンタクト層２ｃは、スクリーン印
刷法やドローイング法による塗布方法によって形成させ
ると、均一な層厚さが実現される。ＣＰ層２ｂの層厚さ
を均一にすると、単位長さ当たりの抵抗値が異なること
が適切に回避される。

【００１６】抵抗体２の製造時には、シート状の絶縁ベ
ース材２ａ上にＣＰ層２ｂを形成させ、対向する両端縁
にコンタクト層２ｃを形成させ、これをテープ状に切断
することにより、多数本の抵抗体２を一度に容易に製造
することができる。このことは、ポテンショメータが多
回転式であると抵抗体２の長さが長くなるので、特に顕
著であり、この多回転式ポテンショメータは、飛躍的に
その生産性を向上させることができる。

【００１７】抵抗体２が取り付けられる樹脂製の分割型
抵抗体ホルダ１０は、図５及び図６に示すように、二分
割され、半円筒状の抵抗体ホルダ部１０Ａを２個組み付
けることで構成される。そして、螺旋状の抵抗体２は、
２個の抵抗体ホルダ部１０Ａで挟み込むようにして抵抗
体ホルダ１０内に収容されることになる。

【００１８】図７及び図８に示すように、抵抗体ホルダ
１０の内面には螺旋状の抵抗体保持溝１０ａが形成され
ている。各抵抗体ホルダ部１０Ａは同一の形状にするこ
とで、部品の共有化を達成させている。また、各抵抗体
ホルダ部１０Ａの左右の連結面１０ｂには、突出するボ
ス部１５Ａ，１５Ｂと相手側のボス部１５Ａ，１５Ｂが
嵌まり込む縦溝状のボス受け部１６Ａ，１６Ｂが形成さ
れ、２個の抵抗体ホルダ部１０Ａ同士の凹凸嵌合を可能
にし、互いを確実に組み付けできるようにする。この場
合、一方の抵抗体ホルダ部１０Ａのボス部１５Ａと相手
側の抵抗体ホルダ部１０Ａのボス受け部１６Ａとが嵌合
し、同様に、ボス部１５Ｂとボス受け部１６Ｂとが嵌合
する。

【００１９】また、左右の連結面１０ｂ上において、ボ
ス部１５Ａとボス受け部１６Ａの間隔Ｌ１と、ボス部１
５Ｂとボス受け部１６Ｂの間隔Ｌ２とは異ならせてい
る。これは、同一形状の２個の抵抗体ホルダ部１０Ａ同
士を組み付ける際の組み付け方向を常に一定にするため
の方策である。これによって、作業者の組み付け誤認を
排除することができ、抵抗体ホルダ１０内で確実な螺旋
状の抵抗体保持溝１０ａを作り出すことができる。

【００２０】なお、抵抗体保持溝１０ａの底部１０ｃの
幅は、抵抗体２の幅とほぼ等しく形成され、これに対
し、抵抗体保持溝１０ａの開口部１０ｄの幅は、その底
部の幅よりも広く形成されている。このため、抵抗体保
持溝１０ａの断面は、底部に向けて徐々に狭くなる凹状
となり、抵抗体保持溝１０ａに抵抗体２を収納させると
きに、抵抗体２をガイドするので収納作業を行い易い。

【００２１】そして、抵抗体保持溝１０ａ内に抵抗体２
を収容させると、抵抗体２がテープ状であり且つ自らの
弾性復元力によりケース１内面に密着するので、摺動接
点部３ａは、テープ状の抵抗体２の表面を円滑に摺動さ
せることができる。また、抵抗体２は、自らの弾性復元
力により抵抗体保持溝１０ａに沿って螺旋状の形態を保
持する。

【００２２】また、抵抗体２のＣＰ層２ｂは、抵抗体２
の表面全体に形成されているため、この抵抗体２のＣＰ
層２ｂに対する摺動接点部３ａの接触位置を変更して抵
抗値を変化させるときに、その分解能は理論的には無限
に小さくなる。このため、微細な変動を検出することが
できる。また、抵抗体２がテープ状であるため、摺動性
に優れ、摩耗しにくく、耐久性及び経時的信頼性が向上
する。また、抵抗体２がテープ状であるため、摺動接点
部３ａとの接触状態が安定しており、この点からも信頼
性が向上する。抵抗体保持溝１０ａに保持された抵抗体
２は、その幅が抵抗体保持溝１０ａの底部の幅と等しく
されているため、自らの弾性復元力による形態保持効果
に加えて、抵抗体保持溝１０ａに収納されると確実にそ
の位置が保持される。

【００２３】抵抗体２の抵抗体保持溝１０ａ内での収納
状態は、ＣＰ層２ｂの表面側が螺旋内側となるようにさ
れているが、このときの螺旋径に留意する必要がある。
螺旋径が小さすぎると、ＣＰ層２ｂに加わる応力が大き
くなり、ＣＰ層２ｂにクラックが発生しやすくなる。一
方、螺旋径があまりにも大きい場合は、抵抗体２の弾性
復元力が有効に作用せず、抵抗体保持溝１０ａの底部に
しっかりと密着させにくくなる。

【００２４】抵抗体２の両端は、それぞれコンタクト層
２ｃにおいて、図示しない２個の端子バネ部により抵抗
体ホルダ１０に把持固定され、第一端子５及び第三端子
７に電気的に接続されている。そして、各端子バネ部
は、第一端子５及び第三端子７にそれぞれ一体に形成さ
れている。なお、リード線を介して、抵抗体ホルダ１０
の各端部と各端子５，７とを接続させる場合もある。こ
のポテンショメータでは、第一端子５及び第三端子７の
双方を、プレート４の挿入孔１７及び１８（図１１参
照）から露出させるような構成としている。プレート４
は、図１０に示されるように、合成樹脂により形成させ
たほぼ円盤状の部材である。このプレート４には、Ｌ字
型に屈曲させた第二端子６が固定され、この第二端子６
は、第一端子及び第三端子７同様に外部に露出させてい
る。

【００２５】図９〜図１１に示すように、回転体３は、
抵抗体２に摺動接触する摺動接点部３ａが先端に形成さ
れているワイパー３ｂと、このワイパー３ｂが片持ち状
態で取り付けられる円板部３ｃと、この円板部３ｃが取
り付けられる樹脂製の本体部３ｄとからなっている。摺
動接点部３ａは、ワイパー３ｂの先端が二つに分岐され
てブラシ状に形成されている。ワイパー３ｂは、弾性復
元力を有する金属板で形成されている。また、円板部３
ｃは、導電性を有する金属により形成されており、中央
には、シャフト９のロータ軸９ａを突き通す貫通孔２０
の一部をなす孔が設けられている。円板部３ｃは、その
周縁の一部に形成された舌片に上述したワイパー３ｂの
基端が溶接により導電性を確保した状態で結合されてい
る。

【００２６】円板部３ｃは、本体部３ｄから突出する突
部３ｇ，３ｇの熱カシメによってプラスチック製の本体
部３ｄに固定されている。また、本体部３ｄの外周に
は、１８０度の位相角度をもつ一対のガイド突部３ｅ，
３ｅが径方向に突出されている。一対のガイド突部３
ｅ，３ｅは、抵抗体保持溝１０ａの凹溝に対応した突部
として形成されている。このため、回転体３を抵抗体ホ
ルダ１０に取り付けたとき、ガイド突部３ｅ，３ｅは、
それぞれ抵抗体保持溝１０ａ内をスライドし、回転体３
の回転及びスライドを案内する。回転体３の中央には挿
通孔２０が形成され、これに、断面矩形のロータ軸９ａ
を挿入させることで、シャフト９と回転体３とが一体に
回転することになる。

【００２７】また、回転体３とプレート４との間には、
コイルバネ８が配置され、自然長の状態で中央のコイル
部分が密となるような引張りバネである。コイルバネ８
の一端は、コイルバネ８の中心軸に平行となるように直
線状に延出され、その他端は、コイルバネ８の中心軸か
ら外方向に放射状に延出されている。ただし、コイルバ
ネ８がポテンショメータに組み込まれている状態では、
回転体３を最もプレート４側に位置させた場合であって
も、コイルバネ８がある程度伸張されており、コイルバ
ネ８の各巻周間には、常に隙間が形成された状態になっ
ている。

【００２８】また、コイルバネ８の一端は、円板部３ｃ
に半田付けされているが、その他端は、プレート４に取
り付けられた第二端子６に半田付けされている。このた
め、摺動接点部３ａと第二端子６とは、ワイパー３ｂ・
円板部３ｃ・コイルバネ８を介して直接的に接続され
る。この結果、このポテンショメータにおいては、摺動
する接点が抵抗体２と摺動接点部３ａとの間だけとな
り、接触抵抗の増加を防止することができ、経時的信頼
性を向上させることができる。

【００２９】上述したポテンショメータを使用するに際
し、第一端子５と第三端子７との間に電圧を印加し、第
一端子５（又は第三端子７）と第２端子との間で分圧さ
れた電圧を取り出す。このとき、シャフト９を回転させ
ることで抵抗体２に対する摺動接点部３ａの接触位置が
変えられ、第一端子５（又は第三端子７）と第２端子と
の間の抵抗値を変えることができるので、取り出される
分圧が変化することになる。

【００３０】ここで、図１２及び図１３に示すように、
シャフト９のロータ軸９ａの表面には、シャフト９の径
方向（ラジアル方向）に突出し且つ軸線方向（スラスト
方向）に延在する凸部２１が、対向した状態で左右一対
形成されている。各凸部２１は、軸線方向に延びて互い
に平行をなす当接面２１ａを有する。このロータ軸９ａ
には、樹脂からなりコーナ部分で面取りされた断面正方
形状の本体部２２を有し、この本体部２２には凸部２１
が一体成形されている。

【００３１】これに対し、図９に示すように、回転体３
の中央には、ロータ軸９ａに合致した形状の貫通孔２０
が設けられ、この貫通孔２０には、凸部２１が嵌まり込
む凹部２３が設けられている。そして、ポテンショメー
タの組立て時において、ロータ軸９ａを貫通孔２０内に
差込むことで、図１４に示すように凸部２１が凹部２３
に嵌合される。

【００３２】このように、シャフト９側には、径方向に
突出する凸部２１が形成され、回転体３側には、これに
対応する凹部２３が形成され、これにより、シャフト９
におけるロータ軸９ａの径を大きくせずとも、凸部２１
の表面と凹部２３の表面との当接位置を、回転中心から
遠ざけることができる。従って、シャフト９に対する回
転体３のガタ付きを極めて小さくすることができ、ヒス
テリシスの大幅な低減が図られる。このようなヒステリ
シスの低減は、高い再現性が求められるような高精度な
ポテンショメータを製作する上で極めて重要なことであ
り、高品質なポテンショメータを製作する上でも重要な
ファクターとなり得る。なお、凸部２１が径方向に延び
出る量（突出量）を大きくすればするほどヒステリシス
の低減効果を発揮させることができる。

【００３３】次に、本発明のように、凹部２３と凸部２
１とを嵌合させたもの（図１５参照）と、従来のように
単に断面矩形のもの同士を嵌合させたもの（図１６参
照）とを対比させ、本発明のヒステリシスが従来に対し
て如何に改善されているかについて述べる。

【００３４】ここでの対比に利用する式としては、ヒス
テリシス角度α＝θ１−θ２＝ｓｉｎ^-1｛（ｄ＋ε）／
ｒ｝−ｓｉｎ^-1（ｄ／ｒ）を利用する。

【００３５】ここで、図１５に示す本発明において、具
体的数値として、ｒ＝１．５ｍｍ、ｄ１＝０．２ｍｍ、
ε＝０．０５ｍｍを上式に代入すると、ヒステリシス角
度α１として１．９３２°が得られた。

【００３６】これに対し、図１６に示す従来技術におい
ては、前述と同じ半径ｒ内に入るように断面正方形のシ
ャフト１０２を形成し、これを正方形の貫通孔１０１内
に挿入させたものである。このときの具体的数値とし
て、ｒ＝１．５ｍｍ、ｄ２＝１．０６ｍｍ、ε＝０．０
５ｍｍを上式に代入すると、ヒステリシス角度α２とし
て２．７６７°が得られた。

【００３７】この結果から判るように、本発明のヒステ
リシス角度α１と従来のヒステリシス角度α２とでは、
２倍近い値の差が存在し、このことは、本発明における
ヒステリシスを半分近くにまで減らすことが可能である
ことを意味する。従って、シャフト９の径を大きくせず
とも、シャフト９に対する回転体３のガタ付きを極めて
小さくすることが可能であり、ヒステリシスの大幅な低
減が見込まれる。このような方策は、高い再現性が要求
される高精度なポテンショメータを組み込む機器（例え
ば、計測器や、監視カメラ等のレンズの合焦機構や、ズ
ーム機構等に用いられるサーボ機構など）で特に重要な
ファクターとなる。このように、シャフト９の径を大き
くしないでヒステリシスを低減させ得ることは、ポテン
ショメータの小型化を促進させる上でも必要なことであ
る。

【００３８】更に、図１７に示すように、シャフト９を
矢印方向に回転させ、凸部２１の当接面２１ａが凹部２
３の壁面２３ａに当接する際に、凸部２１が凹部２３の
壁面２３ａに及ぼす剪断力は、従来のものに比して極め
て小さくなる。その結果、シャフト９を頻繁に回転させ
ても、貫通孔２０を押し広げるような変形が極めて少な
くなり、これによってヒステリシスの発生が防止され、
耐久性の向上が図られ。

【００３９】なお、シャフト９の中心から凸部２１の頂
コーナ部分を通るような線によってできる角度βを極力
小さくすることで、凸部２１が凹部２３の壁面２３ａに
与える剪断力の影響が小さくなることは、言うまでもな
い。

【００４０】本発明の多回転式ポテンショメータは、上
述した実施形態に限定されるものではない。例えば、ロ
ータ軸９ａの本体部２２を断面円形に形成させてもよ
い。また、回転体３が許容し得る範囲内で、凹部２３を
径方向に長くし、凸部２１の突出量を大きくすること
で、ヒステリシスの更なる低減が図られることになる。
また、凸部２１の個数は、２個に限定されず、３個以上
であってもよい。なお、抵抗体ホルダ１０は、２分割に
限定されず、３分割以上であってもよい。

【００４１】

【発明の効果】本発明による多回転式ポテンショメータ
は、以上のように構成されているため、次のような効果
を得る。すなわち、内面に沿う螺旋状の抵抗体保持溝を
有する抵抗体ホルダと、抵抗体保持溝内に収容させると
共にテープ状絶縁ベース材の表面上にコンダクティブプ
ラスチック層を積層させている螺旋状の抵抗体と、抵抗
体の表面に摺動接触する摺動接点部を有すると共に、中
央に貫通孔を有する回転体と、回転体の貫通孔に差込ま
れて抵抗体ホルダの中心軸線に沿って延在するシャフト
とを備え、シャフトの表面には、径方向に突出する凸部
が形成され、回転体の貫通孔を形成する内周面には、シ
ャフトの凸部に嵌合する凹部が形成され、凸部と凹部と
を嵌合させ、シャフトの凸部と回転体の凹部との当接に
より、シャフトの回転を回転体に伝達させることによ
り、簡単な構造をもって、ヒステリシスの低減を図ると
同時に生産性・耐久性・信頼性をも向上させることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る多回転式ポテンショメータの一実
施形態を示す断面図である。

【図２】図１に示したポテンショメータの背面図であ
る。

【図３】本発明のポテンショメータに適用させる抵抗体
を示す平面図である。

【図４】図３に示した抵抗体の要部拡大斜視図である。

【図５】２分割した抵抗体ホルダを示す正面図である。

【図６】図５に示した抵抗体ホルダ及び抵抗体の側面図
である。

【図７】２分割したうちの一方の抵抗体ホルダ部を示す
側面図である。

【図８】図７に示した抵抗体ホルダ部の正面図である。

【図９】回転体を示す背面図である。

【図１０】回転体とプレートとの間にコイルバネを介在
させた組立体を示す側面図である。

【図１１】図１０に示した組立体の正面図である。

【図１２】シャフトの要部拡大側面図である。

【図１３】図１２のＸIII−ＸIII線に沿う断面図であ
る。

【図１４】シャフトと貫通孔との嵌合状態を示す断面図
である。

【図１５】本発明に係るシャフトと回転体との嵌合状態
を示す拡大した概略図である。

【図１６】従来技術に係るシャフトと回転体との嵌合状
態を示す拡大した概略図である。

【図１７】シャフトが回転して、凸部の壁面が凹部の壁
面に当接した状態を示す断面図である。

【図１８】従来のポテンショメータの要部拡大断面図で
ある。

【符号の説明】

１…ケース、２…抵抗体、２ａ…絶縁ベース材、２ｂ…
コンダクティブプラスチック層（ＣＰ層）、３…回転
体、３ａ…摺動接点部、９…シャフト、１０…抵抗体ホ
ルダ、１０ａ…抵抗体保持溝、２０…貫通孔、２１…凸
部、２３…凹部、Ｇ…中心軸線。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】内面に沿う螺旋状の抵抗体保持溝を有す
る抵抗体ホルダと、前記抵抗体保持溝内に収容させると共にテープ状絶縁ベ
ース材の表面上にコンダクティブプラスチック層を積層
させている螺旋状の抵抗体と、前記抵抗体の表面に摺動接触する摺動接点部を有すると
共に、中央に貫通孔を有する回転体と、前記回転体の前記貫通孔に差込まれて前記抵抗体ホルダ
の中心軸線に沿って延在するシャフトとを備え、前記シャフトの表面には、径方向に突出する凸部が形成
され、前記回転体の前記貫通孔を形成する内周面には、
前記シャフトの前記凸部に嵌合する凹部が形成され、前
記凸部と前記凹部とを嵌合させ、前記シャフトの前記凸
部と前記回転体の前記凹部との当接により、前記シャフ
トの回転を前記回転体に伝達させることを特徴とする多
回転式ポテンショメータ。
【請求項２】前記凸部と前記凹部との嵌合箇所を複数
設けたことを特徴とする請求項１記載の多回転式ポテン
ショメータ。
【請求項３】前記抵抗体ホルダを複数に分割させたこ
とをことを特徴とする請求項１又は２記載の多回転式ポ
テンショメータ。