JP2001042138A - グレーティング型光部品の製造装置およびグレーティング型光部品の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フェイズマスクに損傷や汚れを生じさせるこ
となく、再現性よく、正確にファイバグレーティングを
形成可能とする。 【解決手段】 フェイズマスク８の上部側から紫外光を
照射し、フェイズマスク８を介して光ファイバ２のグレ
ーティング形成領域６に紫外光を照射することにより、
光ファイバにグレーティングを施す際に用いる位置決め
装置を、表面側に光ファイバ配列用のＶ溝９とピン挿入
溝４とを間隔を介して形成した光ファイバ配列部材３
と、Ｖ溝９に配列される光ファイバ２の上面とフェイズ
マスク８との間に間隙を確保する位置決めピン１とを設
けて構成する。Ｖ溝９とピン挿入溝４の深さをほぼ等し
くし、位置決めピン１の径を光ファイバ２の径よりも大
きく形成して位置決めピン１をピン挿入溝４に挿入し、
位置決めピン１の上部側にフェイズマスク８を搭載する
ことにより、光ファイバ２の上面とフェイズマスク８と
の間に間隙を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバのグレ
ーティング形成領域にグレーティングを施すグレーティ
ング型光部品の製造装置およびグレーティング型光部品
の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光通信技術において、グレーティング型
光部品が広く使用されている。このグレーティング型光
部品は、例えば信号波長とは異なる波長帯にグレーティ
ングにより透過光の阻止帯域を形成し、信号光は入力端
から出力端へ透過させ、阻止帯域の波長の光を前記グレ
ーティングにより入力端側へ反射させて監視光として取
り出すものである。

【０００３】前記グレーティングの形成方法としては、
マスク（フェイズマスク）を用いて形成するフェイズマ
スク法が広く用いられている。このフェイズマスク法
は、光ファイバ等の光導波路のグレーティング形成領域
に、マスク（フェイズマスク）を介して紫外光を照射
し、光ファイバ等の光導波路に前記マスクを介しての紫
外光照射による屈折率の高い部分と紫外光遮蔽による屈
折率の低い部分を光ファイバの長手方向に周期的に配列
してグレーティングを施すものである。

【０００４】光ファイバのコアは、一般に、ゲルマニウ
ム(Ｇｅ)ドープ石英(ＳｉＯ2)ガラスにより形成されて
おり、このゲルマニウムドープガラスに強い紫外光を照
射すると、ゲルマニウムの屈折率が高まるため、光ファ
イバ上にフェイズマスクを介して紫外光の干渉縞を投影
することにより、光ファイバのコア内に周期的な屈折率
変化を起こさせ、回折格子を形成することができる。な
お、グレーティング形成方法としては、フェイズマスク
法の他に、マスクを用いないボログラフィック法等もあ
る。

【０００５】ところで、フェイズマスク法により光ファ
イバにグレーティングを形成するときには、例えば、１
μｍ前後の間隔の干渉縞を光ファイバ上に投影させるた
め、光ファイバとフェイズマスクとの正確な姿勢精度
（傾き、距離）が要求される。また、紫外光を照射する
ためにエキシマレーザを用いようとすると、エキシマレ
ーザはアルゴンレーザよりもコヒーレントが悪く、くっ
きりした干渉縞が得にくいために、光ファイバをフェイ
ズマスクに接近させた位置にセットすることが望まし
い。

【０００６】そこで、フェイズマスク法によりグレーテ
ィング型光部品の製造を行なうときには、例えば、図
５，６に示すような装置を用いて、光ファイバ２にフェ
イズマスク８を接触させた状態で、光ファイバ２の上
に、フェイズマスク８を直接搭載して、フェイズマスク
８の上方側からＵＶ光（紫外光）を照射してグレーティ
ング形成を行なっていた。すなわち、これらの図に示す
ように、間隔を介して配置した２つの光ファイバ載置台
１３の平面状の上面に、２対以上の光ファイバ２をほぼ
平行に配設し、これらの光ファイバ上２に、自重でバラ
ンス良くフェイズマスク８を光ファイバ２に接触させて
置く、または、フェイズマスク８に加圧して、フェイズ
マスク８を光ファイバ２に接触させて置き、上記のよう
に、紫外光照射によるグレーティング形成を行なってい
た。

【０００７】なお、一般に、光ファイバ２の被覆を除去
したグレーティング形成領域６にグレーティング形成が
行なわれるようになっており、図６の（ｂ）に示すよう
に、光ファイバ載置台１３には、光ファイバ２の被覆を
除去したグレーティング形成領域６の両端側の部分が搭
載される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フェイ
ズマスク８は、一般的に石英製であり、高価であるにも
かかわらず、大変脆いものであり、上記のように、フェ
イズマスク８と光ファイバ２とを接触させて配設する
と、高価なフェイズマスク８を傷つけやすいといった問
題があった。

【０００９】また、フェイズマスク８と光ファイバ２と
が接触すると、光ファイバ２に付着した異物がフェイズ
マスク８を汚してしまい、グレーティング形成の障害に
なるといった問題もあった。

【００１０】さらに、グレーティングを形成するときに
は、グレーティング形成領域６の両端側の、光ファイバ
２の被覆が除去されていない被覆部分を張力印加装置側
に固定して張力を加えることにより、グレーティング形
成領域６に張力を加えながら紫外光照射を行なうが、図
５，６に示したような装置において、光ファイバ載置台
１３の表面は平面状に形成されており、光ファイバ２
は、この平面状の光ファイバ載置台１３の表面とフェイ
ズマスク８との間に挟まれているだけなので、前記被覆
部分の設置具合（固定具合）や張力のかけ方により、光
ファイバ２のファイバグレーティング形成領域６に曲が
りや浮き上がりが生じ、フェイズマスク８の設置精度に
悪影響が及びやすいといった問題もあった。

【００１１】さらに、光ファイバ２上にフェイズマスク
８を加圧または自重で直接配置するため、常に、光ファ
イバ２自体の外径精度や、同時に処理する（光ファイバ
載置台１３に同時に搭載される）光ファイバ２同士の外
径精度によって、フェイズマスク８と光ファイバの姿勢
精度にばらつきが生じてしまうといった問題もあった。

【００１２】本発明は、上記従来の課題を解決するため
になされたものであり、その目的は、フェイズマスクに
汚れや傷などを生じさせることなく、かつ、光ファイバ
の外径精度や被覆部の配置具合などに影響を受けること
なく正確にグレーティング形成を行なうことができるグ
レーティング型光部品の製造装置およびグレーティング
型光部品の製造方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は次のような構成をもって課題を解決するた
めの手段としている。すなわち、本発明のグレーティン
グ型光部品の製造装置は、光ファイバのグレーティング
形成領域にマスクを介して紫外光を照射し、前記光ファ
イバに前記マスクを介しての紫外光照射による屈折率の
高い部分と紫外光遮蔽による屈折率の低い部分を光ファ
イバの長手方向に周期的に配列してグレーティングを施
すグレーティング型光部品の製造装置であって、該製造
装置は前記光ファイバと前記マスクとの位置決め装置を
有しており、該位置決め装置は、表面側に光ファイバ配
列溝を形成した光ファイバ配列部材と、該光ファイバ配
列部材の光ファイバ配列溝に配列される光ファイバ上面
と前記マスクとの間に間隙を確保するマスク位置決め用
の位置決めピンとを有し、前記光ファイバ配列部材の表
面側には前記光ファイバ配列溝と間隔を介してピン挿入
溝が形成されており、該ピン挿入溝に前記位置決めピン
を挿入して該位置決めピンの上部側にマスクを搭載する
ことにより該マスクと前記光ファイバ配列溝に配列され
る光ファイバ上面との間に間隙が形成される構成とした
ことを特徴として構成されている。

【００１４】また、前記光ファイバ配列溝の深さとピン
挿入溝の深さを略一致させ、位置決めピンの径を光ファ
イバ配列溝に配列する光ファイバの径よりも大きく形成
したこと、前記ピン挿入溝の深さを光ファイバ配列溝の
深さよりも浅く形成したことも本発明のグレーティング
型光部品の製造装置の特徴的な構成とされている。

【００１５】さらに、本発明のグレーティング型光部品
の製造方法は、光ファイバのグレーティング形成領域に
マスクを介して紫外光を照射し、前記光ファイバに前記
マスクを介しての紫外光照射による屈折率の高い部分と
紫外光遮蔽による屈折率の低い部分を光ファイバの長手
方向に周期的に配列してグレーティングを施すグレーテ
ィング型光部品の製造方法であって、表面側に光ファイ
バ配列溝を形成した光ファイバ配列部材と、該光ファイ
バ配列部材の光ファイバ配列溝に配列される光ファイバ
上面と前記マスクとの間に間隙を確保するマスク位置決
め用の位置決めピンとを用意し、前記ピン挿入溝に位置
決めピンを挿入して該位置決めピンの上部側にマスクを
搭載することにより該マスクと前記光ファイバ配列溝に
配列される光ファイバ上面との間に間隙を介した状態で
前記マスクを介して光ファイバのグレーティング形成領
域に紫外光を照射する構成をもって課題を解決する手段
としている。

【００１６】上記構成の本発明において、光ファイバ配
列部材のピン挿入溝に位置決めピンを挿入して、この位
置決めピンの上部側にマスクを搭載することにより、マ
スクと、光ファイバ配列部材の光ファイバ配列溝に確実
に挿入されて配列される光ファイバ上面との間には、間
隙を介した状態とされる。

【００１７】この間隙は、例えば位置決めピンの径やピ
ン挿入溝の深さを調節することにより、容易に調節され
るので、光ファイバ上面とマスクとの間に、最適な距
離、すなわち、きわめてわずかな隙間を形成することが
可能となり、この状態で、マスクを介して光ファイバの
グレーティング形成領域に紫外光が照射されるので、高
価なマスクに傷が生じることや、光ファイバの埃がマス
クに付着することは防止され、しかも、光ファイバの外
径精度や被覆部の配置具合などに影響を受けることな
く、光ファイバとマスクとの姿勢精度が高い状態でグレ
ーティング形成を行なうことが可能となり、正確にグレ
ーティング形成を行なうことができるために、上記課題
が解決される。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。なお、本実施形態例の説明におい
て、従来例と同一名称部分には同一符号を付し、その重
複説明は省略する。図１には、本発明に係るグレーティ
ング型光部品の製造装置の一実施形態例を構成する位置
決め装置の要部構成が示されている。なお、同図の
（ａ）には、この位置決め装置の斜視図が、同図の
（ｂ）には、その側面図がそれぞれ示されており、図２
には、この位置決め装置の正面図が示されている。

【００１９】本実施形態例の製造装置は、フェイズマス
ク法により光ファイバにグレーティングを形成する装置
であり、本実施形態例の製造装置は、これらの図に示す
ような、光ファイバ２とフェイズマスク８との位置決め
装置を有している。この位置決め装置は、表面側に光フ
ァイバ配列溝としてのＶ溝９を形成した光ファイバ配列
部材３と、光ファイバ配列部材３のＶ溝９に配列される
光ファイバ２の上面とフェイズマスク８との間に間隙を
確保するマスク位置決め用の位置決めピン１とを有して
いる。

【００２０】本実施形態例では、２つの光ファイバ配列
部材３が、間隔を介して配設されており、光ファイバ配
列部材３の表面側にはＶ溝９の両側に、Ｖ溝９と間隔を
介してＶ字形状のピン挿入溝４が形成されており、Ｖ溝
９の深さとピン挿入溝４の深さは、サブミクロン台でほ
ぼ等しく形成されている。

【００２１】位置決めピン１は超硬合金製であり、位置
決めピン１の径は１２７μｍで、Ｖ溝９に配列する光フ
ァイバ２の径（φ１２４μｍ〜１２６μｍ）よりも大き
く形成されている。位置決めピン１はセンターレス研削
で作られており、長さ１０ｍｍあたりの円筒度は０．３
μｍ以下であり、一般的な光ファイバの円筒度よりも精
度が高く形成されている。本実施形態例では、このよう
な位置決めピン１を４本用いており、これらの位置決め
ピン１をそれぞれピン挿入溝４に挿入し、位置決めピン
１の上部側にフェイズマスク８を搭載することにより、
フェイズマスク８と光ファイバ２の上面との間に間隙が
形成される構成とされている。なお、フェイズマスク８
は、光ファイバ２の長手方向の長さが、４本の位置決め
ピン１により支持される長さに形成されている。

【００２２】本実施形態例のグレーティング型光部品の
製造装置は、以上のように形成された位置決め装置を有
しており、次に、本実施形態例の製造装置を用いたグレ
ーティング型光部品の製造方法について説明する。

【００２３】まず、前記ピン挿入溝４にそれぞれ、位置
決めピン１を挿入し、次に、光ファイバ２に張力をかけ
ながら、光ファイバ２をＶ溝９に沿わせて固定する。な
お、予め、グレーティング形成領域６を含む光ファイバ
２の途中領域の被覆を除去した状態とし、光誘起特性の
向上を目的とした加圧水素処理等を行なってから、光フ
ァイバ２をＶ溝９に固定する。また、図２に示すよう
に、光ファイバ２の被覆除去領域は、光ファイバ２をＶ
溝９に挿入するときに、被覆部分がＶ溝９にかからない
ような長さとする。

【００２４】その後、４箇所のピン挿入溝４に挿入した
位置決めピン１の上にフェイズマスク８を自重で置く。
このとき、位置決めピン１の配置のほぼ中心にフェイズ
マスク８の重心がくるように配置する。

【００２５】以上のようにして、Ｖ溝９に配列した光フ
ァイバ２の上面とフェイズマスク８との間に、例えば２
μｍといったわずかな間隙を介した状態で、フェイズマ
スク８を介して光ファイバ２のグレーティング形成領域
６に紫外光を照射する。なお、紫外光の照射は、例え
ば、ＫｒＦエキシマレーザを用いて行なう。

【００２６】本実施形態例によれば、図１，２に示した
たような位置決め装置を有することから、以上のよう
に、フェイズマスク８と光ファイバ２を、極めてわずか
な間隙を介して容易に配設できる。

【００２７】そして、本実施形態例の装置を用いること
により、従来のように、フェイズマスク８と光ファイバ
２とが接触することを防げるために、高価なフェイズマ
スク８に傷を生じさせることや、光ファイバ２に付着し
た埃などの異物によってフェイズマスク８を汚すことを
防ぐことができるし、光ファイバ２自体の外径精度や、
同時に処理する光ファイバ２同士の外径ばらつきなどの
悪影響を受けることなく、常に正確に、フェイズマスク
８と光ファイバ２との姿勢精度を再現性よく保つことが
でき、非常に正確にグレーティング形成を行なうことが
できる。

【００２８】特に、本実施形態例では、位置決めピン１
は超硬合金製のピンとし、センターレス研削で作り、一
般的な光ファイバの円筒度よりも精度が高く形成したも
のを用いているために、フェイズマスク８と光ファイバ
との姿勢精度を極めて正確に、かつ、再現性よく保つこ
とができ、より一層正確に、再現性よくグレーティング
形成を行なうことができる。

【００２９】また、光ファイバ２のグレーティング形成
領域６の両側が光ファイバ配列部材３のＶ溝９に挿入固
定されるので、従来のように、平面状に形成された光フ
ァイバ載置台１３の表面に光ファイバ２を搭載する場合
と異なり、光ファイバ２に張力を施すときの被覆部分の
固定具合や張力のかけ方により、光ファイバ２のファイ
バグレーティング形成領域６に曲がりや浮き上がりが生
じることを防ぐことが可能となり、それにより、フェイ
ズマスク８の設置精度に悪影響が及ぶことを防ぎ、非常
に正確に、再現性良くグレーティング形成を行なうこと
ができる。

【００３０】さらに、本実施形態例によれば、ピン挿入
溝４に位置決めピン１を挿入した状態で、光ファイバ２
をＶ溝９に挿入し、位置決めピン１の上にフェイズマス
ク８を自重で置くだけでフェイズマスク８と光ファイバ
２との正確な位置決めができるために、非常に容易にフ
ェイズマスク８と光ファイバとの位置決めを行なうこと
ができ、グレーティング型光部品の製造を非常に容易に
行なうことができる。

【００３１】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
ることはなく様々な実施の態様を採り得る。例えば、上
記実施形態例では、位置決めピン１の径を１２７μｍと
したが、位置決めピン１の径は特に限定されるものでな
く、適宜設定されるものであり、光ファイバ２の径より
も大きい適宜の値に設定することにより、光ファイバ２
とフェイズマスク８との間隙の大きさを様々に可変する
ことができる。

【００３２】また、上記実施形態例では、光ファイバ配
列部材３に形成するＶ溝９とピン挿入溝４とをほぼ同じ
深さにしたが、例えば図３に示すように、ピン挿入溝４
の深さをＶ溝９の深さよりも浅く形成してもよい。この
場合、例えば、位置決めピン１の径を光ファイバ２の径
とほぼ等しく形成すれば、ピン挿入溝４がＶ溝９よりも
浅い分だけ、フェイズマスク８と光ファイバ２との間に
間隙を設けることができる。また、ピン挿入溝４の深さ
とＶ溝９の深さとの差を大きくすれば、光ファイバ２の
径よりも小さい径の位置決めピン１をピン挿入溝４に挿
入しても、フェイズマスク８と光ファイバ２との間に間
隙を設けることができる。

【００３３】さらに、上記実施形態例では、光ファイバ
配列溝をＶ溝９とし、ピン挿入溝４もＶ字形状の溝とし
たが、これらの溝の形状は特に限定されるものではな
く、適宜設定されるものであり、例えばこれらの溝の一
方または両方をＵ字形状の溝としてもよい。

【００３４】さらに、上記実施形態例では、光ファイバ
配列部材３の表面側ピン挿入溝４を形成し、このピン挿
入溝４に位置決めピン１を挿入することによりフェイズ
マスク８と光ファイバ２との間に間隙を確保する構成と
したが、例えば、図４に示すように、光ファイバ配列部
材３の表面側から上部側に突出する突起部１４を設け、
この突起部１４の上にフェイズマスク８を搭載すること
によって、フェイズマスク８と光ファイバとの間に間隙
を確保する構成とすることもできる。このようにする場
合は、Ｖ溝９に光ファイバ２を挿入配列したときの、光
ファイバ配列部材３の表面から光ファイバ２の突出高さ
よりも前記突起部１４の光ファイバ配列部材３表面から
の突出高さを高く設計し、形成すればよい。

【００３５】ただし、光ファイバ配列部材３を形成する
ときに、図４のように、表面側に突起部１４を設けて、
上記設計どおりに製造することは、上記実施形態例に用
いた光ファイバ配列部材３や、図３に示した光ファイバ
配列部材３の製造に比べて難しく、現在の作製技術にお
いては精度が得にくいといったことがあり、それに対
し、上記実施形態例のように、ピン挿入溝４を形成して
光ファイバ配列部材３を形成し、グレーティング型光部
品の製造装置を形成すれば、装置の製造も非常に容易に
行なうことができる。

【００３６】

【発明の効果】本発明のグレーティング型光部品の製造
装置および製造方法によれば、光ファイバ配列部材のピ
ン挿入溝に位置決めピンを挿入して、この位置決めピン
の上部側にマスクを搭載することにより、マスクと光フ
ァイバ配列部材の光ファイバ配列溝に配列される光ファ
イバ上面との間には間隙を介した状態とすることがで
き、この状態で、マスクを介して光ファイバのグレーテ
ィング形成領域に紫外光を照射することで、高価なマス
クに傷が生じることや、光ファイバの埃等の異物がマス
クに付着することを防止することができるし、しかも、
光ファイバの外径精度などに影響を受けることなく、光
ファイバとマスクとの姿勢精度が高い状態で、再現性良
くグレーティング形成を行なうことができる。

【００３７】また、本発明のグレーティング型光部品の
製造装置および製造法方法によれば、光ファイバを光フ
ァイバ配列溝に配列することにより、例えばグレーティ
ング形成時に光ファイバを光ファイバ配列溝に固定する
ことができるために、グレーティング形成時に光ファイ
バの被覆部分に張力を加えても、張力の加え方などによ
って光ファイバのグレーティング形成領域が浮き上がっ
たり曲がったりすることを防ぐことが可能となり、より
一層、光ファイバとマスクとの姿勢精度が高い状態で、
再現性よくグレーティング形成を行なうことができる。

【００３８】さらに、本発明のグレーティング型光部品
の製造装置および製造方法によれば、例えば位置決めピ
ンの径やピン挿入溝の深さを調節することにより、前記
間隙を容易に調節することができるので、光ファイバ上
面とマスクとの間に、最適な距離、すなわち、きわめて
わずかな隙間を形成することができ、非常に良好なグレ
ーティング形成を行なうことができる。

【００３９】また、グレーティング型光部品の製造装置
において、前記光ファイバ配列溝の深さとピン挿入溝の
深さを略一致させ、位置決めピンの径を光ファイバ配列
溝に配列する光ファイバの径よりも大きく形成したり、
前記ピン挿入溝の深さを光ファイバ配列溝の深さよりも
浅く形成することにより、非常に容易に、かつ、確実に
マスクと光ファイバとの間に間隙を生じさせることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るグレーティング型光部品の製造装
置の一実施形態例に設けられる位置決め装置を示す要部
構成図である。

【図２】図１の（ａ）の正面図である。

【図３】本発明に係るグレーティング型光部品の製造装
置の他の実施形態例に設けられる位置決め装置を示す要
部構成図である。

【図４】グレーティング型光部品の製造装置に設けられ
る位置決め装置の他の例を示す要部構成図である。

【図５】従来のグレーティング型光部品の製造方法にお
ける一過程を示す説明図である。

【図６】図６の側面図（ａ）と正面図（ｂ）である。

【符号の説明】

１ 位置決めピン ２ 光ファイバ ３ 光ファイバ配列部材 ４ ピン挿入溝 ６ グレーティング形成領域 ８ フェイズマスク ９ Ｖ溝 １４ 突起部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大田 育生 東京都千代田区丸の内２丁目６番１号 古 河電気工業株式会社内 (72)発明者 指宿 康弘 東京都千代田区丸の内２丁目６番１号 古 河電気工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 AA33 AA45 AA59 AA62 AA68 2H050 AA07 AC82

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ファイバのグレーティング形成領域に
   マスクを介して紫外光を照射し、前記光ファイバに前記
   マスクを介しての紫外光照射による屈折率の高い部分と
   紫外光遮蔽による屈折率の低い部分を光ファイバの長手
   方向に周期的に配列してグレーティングを施すグレーテ
   ィング型光部品の製造装置であって、該製造装置は前記
   光ファイバと前記マスクとの位置決め装置を有してお
   り、該位置決め装置は、表面側に光ファイバ配列溝を形
   成した光ファイバ配列部材と、該光ファイバ配列部材の
   光ファイバ配列溝に配列される光ファイバ上面と前記マ
   スクとの間に間隙を確保するマスク位置決め用の位置決
   めピンとを有し、前記光ファイバ配列部材の表面側には
   前記光ファイバ配列溝と間隔を介してピン挿入溝が形成
   されており、該ピン挿入溝に前記位置決めピンを挿入し
   て該位置決めピンの上部側にマスクを搭載することによ
   り該マスクと前記光ファイバ配列溝に配列される光ファ
   イバ上面との間に間隙が形成される構成としたことを特
   徴とするグレーティング型光部品の製造装置。
2. 【請求項２】 光ファイバ配列溝の深さとピン挿入溝の
   深さを略一致させ、位置決めピンの径を光ファイバ配列
   溝に配列する光ファイバの径よりも大きく形成したこと
   を特徴とする請求項１記載のグレーティング型光部品の
   製造装置。
3. 【請求項３】 ピン挿入溝の深さを光ファイバ配列溝の
   深さよりも浅く形成したことを特徴とする請求項１記載
   のグレーティング型光部品の製造装置。
4. 【請求項４】 光ファイバのグレーティング形成領域に
   マスクを介して紫外光を照射し、前記光ファイバに前記
   マスクを介しての紫外光照射による屈折率の高い部分と
   紫外光遮蔽による屈折率の低い部分を光ファイバの長手
   方向に周期的に配列してグレーティングを施すグレーテ
   ィング型光部品の製造方法であって、表面側に光ファイ
   バ配列溝を形成した光ファイバ配列部材と、該光ファイ
   バ配列部材の光ファイバ配列溝に配列される光ファイバ
   上面と前記マスクとの間に間隙を確保するマスク位置決
   め用の位置決めピンとを用意し、前記ピン挿入溝に位置
   決めピンを挿入して該位置決めピンの上部側にマスクを
   搭載することにより該マスクと前記光ファイバ配列溝に
   配列される光ファイバ上面との間に間隙を介した状態で
   前記マスクを介して光ファイバのグレーティング形成領
   域に紫外光を照射することを特徴とするグレーティング
   型光部品の製造方法。