CN108241188A - 一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其包括光学辅助片,光学辅助片与光纤外包层的材料相同,光学辅助片的下端面上具有弧形凹槽,该弧形凹槽紧配合套设在光纤外包层上,所述弧形凹槽的水平投影将光纤的纤芯全部包含在内;所述光学辅助片的上端面为一平面,平行式光刻激光垂直射入平面后保持原方向依序穿过光学辅助片和光纤的外包层,最终均匀照射在光纤的纤芯上。通过在光纤的外包层上设置光学辅助片,以消去光纤外圆对光刻激光的光线偏折,使激光可以平行、均匀地照射在光纤纤芯上,从而获得最佳光刻效果制作光纤光栅。本发明结构简单,使用方便,能够有效地提高光纤光栅的光刻效果。
Description
技术领域
本发明涉及激光领域,尤其涉及一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构。
背景技术
现有技术中,如图1所示,在光纤01的纤芯011上可是光栅时,激光透过光纤01的外包层012时会产生偏折,光不均匀地照射在光纤的纤芯,影响光刻效果。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明的目的在于提供一种结构简单,能够提高光刻效果的在光纤上刻蚀光栅的辅助结构。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在平行式光刻激光刻蚀光栅的场合,其包括光学辅助片,光学辅助片与光纤外包层的材料相同,光学辅助片的下端面上具有弧形凹槽,该弧形凹槽紧配合套设在光纤外包层上,所述弧形凹槽的水平投影将光纤的纤芯全部包含在内;所述光学辅助片的上端面为一平面,平行式光刻激光垂直射入平面后保持原方向依序穿过光学辅助片和光纤的外包层,最终均匀照射在光纤的纤芯上。
一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在发散式光刻激光刻蚀光栅的场合,其包括光学辅助片,光学辅助片与光纤外包层的材料相同,光学辅助片的下端面上具有弧形凹槽,该弧形凹槽紧配合套设在光纤外包层上,所述弧形凹槽的水平投影将光纤的纤芯全部包含在内;所述光学辅助片的上端面凸设有球形曲面,发散式光刻激光经过球形曲面转换成平行光后依序穿过光学辅助片和光纤的外包层,最终均匀照射在光纤的纤芯上。
一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在会聚式光刻激光刻蚀光栅的场合,其包括光学辅助片,光学辅助片与光纤外包层的材料相同,光学辅助片的下端面上具有弧形凹槽,该弧形凹槽紧配合套设在光纤外包层上,所述弧形凹槽的水平投影将光纤的纤芯全部包含在内;所述光学辅助片的上端面凹设有球形曲面,会聚式光刻激光经过球形曲面转换成平行光后依序穿过光学辅助片和光纤的外包层,最终均匀照射在光纤的纤芯上。
所述弧形凹槽的横截面为半圆形。
相比现有技术,本发明具有以下优点:通过在光纤的外包层上设置光学辅助片,以消去光纤外圆对光刻激光的光线偏折,使激光可以平行、均匀地照射在光纤纤芯上,从而获得最佳光刻效果制作光纤光栅。本发明结构简单,使用方便,能够有效地提高光纤光栅的光刻效果。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明;
图1为现有技术中激光在光纤纤芯上刻蚀光栅的示意图;
图2为本发明实施例1的示意图;
图3为本发明实施例2的示意图;
图4为本发明实施例3的示意图。
具体实施方式
实施例1:如图2所示,本发明一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在平行式光刻激光刻蚀光栅的场合,其包括光学辅助片1,光学辅助片1与光纤2外包层21的材料相同(如二者的材料均为石英,或者采用二者采用折射率相近的材料),光学辅助片1的下端面上具有弧形凹槽12,该弧形凹槽12紧配合套设在光纤2外包层21上,弧形凹槽12的水平投影将光纤2的纤芯21全部包含在内;光学辅助片1的上端面为一平面11,平行式光刻激光垂直射入平面11后保持原方向依序穿过光学辅助片1和光纤2的外包层21,最终均匀照射在光纤2的纤芯21上。
本实施例中,弧形凹槽12的横截面为半圆形。
采用以上结构,通过在光纤2的外包层21上设置光学辅助片1,以消去光纤2外圆对光刻激光的光线偏折,使激光可以平行、均匀地照射在光纤2纤芯21上,从而获得最佳光刻效果制作光纤2光栅。本发明结构简单,使用方便,能够有效地提高光纤2光栅的光刻效果。
本发明对50μm /125μm多模光纤2,甚至100μm /125μm多模光纤2光的均匀性能够得到很好的保证。
实施例2:如图3所示,本发明一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在发散式光刻激光刻蚀光栅的场合,其包括光学辅助片1,光学辅助片1与光纤2外包层21的材料相同(如二者的材料均为石英,或者采用二者采用折射率相近的材料),光学辅助片1的下端面上具有弧形凹槽12,该弧形凹槽12紧配合套设在光纤2外包层21上,弧形凹槽12的水平投影将光纤2的纤芯21全部包含在内;光学辅助片1的上端面凸设有球形曲面11,发散式光刻激光经过球形曲面11转换成平行光后依序穿过光学辅助片1和光纤2的外包层21,最终均匀照射在光纤2的纤芯21上。
本实施例中,弧形凹槽12的横截面为半圆形。
采用以上结构,通过在光纤2的外包层21上设置光学辅助片1,以消去光纤2外圆对光刻激光的光线偏折,使激光可以平行、均匀地照射在光纤2纤芯21上,从而获得最佳光刻效果制作光纤2光栅。本发明结构简单,使用方便,能够有效地提高光纤2光栅的光刻效果。
本发明对50μm /125μm多模光纤2,甚至100μm /125μm多模光纤2光的均匀性能够得到了很好的保证。
实施例3:如图4所示,本发明一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在会聚式光刻激光刻蚀光栅的场合,其包括光学辅助片1,光学辅助片1与光纤2外包层21的材料相同(如二者的材料均为石英,或者采用二者采用折射率相近的材料),光学辅助片1的下端面上具有弧形凹槽12,该弧形凹槽12紧配合套设在光纤2外包层21上,弧形凹槽12的水平投影将光纤2的纤芯21全部包含在内;光学辅助片1的上端面凹设有球形曲面11,会聚式光刻激光经过球形曲面11转换成平行光后依序穿过光学辅助片1和光纤2的外包层21,最终均匀照射在光纤2的纤芯21上。
本实施例中,弧形凹槽12的横截面为半圆形。
采用以上结构,通过在光纤2的外包层21上设置光学辅助片1,以消去光纤2外圆对光刻激光的光线偏折,使激光可以平行、均匀地照射在光纤2纤芯21上,从而获得最佳光刻效果制作光纤2光栅。本发明结构简单,使用方便,能够有效地提高光纤2光栅的光刻效果。
本发明对50μm /125μm多模光纤2,甚至100μm /125μm多模光纤2光的均匀性能够得到了很好的保证。
Claims (4)
1.一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在平行式光刻激光刻蚀光栅的场合,其特征在于:其包括光学辅助片,光学辅助片与光纤外包层的材料相同,光学辅助片的下端面上具有弧形凹槽,该弧形凹槽紧配合套设在光纤外包层上,所述弧形凹槽的水平投影将光纤的纤芯全部包含在内;所述光学辅助片的上端面为一平面,平行式光刻激光垂直射入平面后保持原方向依序穿过光学辅助片和光纤的外包层,最终均匀照射在光纤的纤芯上。
2.一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在发散式光刻激光刻蚀光栅的场合,其特征在于:其包括光学辅助片,光学辅助片与光纤外包层的材料相同,光学辅助片的下端面上具有弧形凹槽,该弧形凹槽紧配合套设在光纤外包层上,所述弧形凹槽的水平投影将光纤的纤芯全部包含在内;所述光学辅助片的上端面凸设有球形曲面,发散式光刻激光经过球形曲面转换成平行光后依序穿过光学辅助片和光纤的外包层,最终均匀照射在光纤的纤芯上。
3.一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其应用在会聚式光刻激光刻蚀光栅的场合,其特征在于:其包括光学辅助片,光学辅助片与光纤外包层的材料相同,光学辅助片的下端面上具有弧形凹槽,该弧形凹槽紧配合套设在光纤外包层上,所述弧形凹槽的水平投影将光纤的纤芯全部包含在内;所述光学辅助片的上端面凹设有球形曲面,会聚式光刻激光经过球形曲面转换成平行光后依序穿过光学辅助片和光纤的外包层,最终均匀照射在光纤的纤芯上。
4.根据权利要求1至3之一所述的一种在光纤上刻蚀光栅的辅助结构,其特征在于:所述弧形凹槽的横截面为半圆形。
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