JP2001040467A - アーク蒸発源、真空蒸着装置及び真空蒸着方法 - Google Patents
アーク蒸発源、真空蒸着装置及び真空蒸着方法Info
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Abstract
磁石を設ける場合に、永久磁石が高温雰囲気下に晒され
ても、磁力が低下しない温度域に維持してアークスポッ
ト挙動制御性を持続する。また、陰極からの電子の飛行
ルートを短くする。 【解決手段】 アーク放電の陰極となる蒸発物質3と、
当該蒸発物質3を取り囲むように配置されて磁力により
アークスポットの挙動を制御する永久磁石7と、当該永
久磁石7を冷却する冷却部とを備える。冷却部は内部に
冷却媒体が供給される冷却室30を有し、この冷却室3
0は陰極3と絶縁され、アーク放電の陽極とされてい
る。
Description
空蒸着装置及び真空蒸着方法に関するものである。
8045号)において、アーク放電の陰極となる蒸発物
質と、当該蒸発物質の蒸発面と略垂直に交差する磁力線
のみを発生するように蒸発物質を取り囲む磁場発生源を
備えることで、蒸発面と略垂直に交差する磁力線により
アークスポットが蒸発面で偏在し難くなり、蒸発物質が
均一に消耗する技術について提案した。また、先の出願
では、磁場発生源として永久磁石を用いることについて
開示している。
久磁石は、蒸発面での所定の磁力を維持してアークスポ
ットの挙動を確実に制御するため、蒸発物質のごく近傍
に配置する必要がある。このため、磁石は、アークスポ
ットの発熱によりアーク放電中は高温雰囲気中に晒され
る。特に、蒸発物質を取り囲むという配置から、磁石が
高温化することは避けられない。ここで、磁石は、キュ
リー点(温度)を超えると磁性を失うことが知られてい
るが、通常はキュリー点で直ちに減磁するのではなく温
度が上昇しキュリー点に近づくについて徐々に磁力が減
少する。
取り囲むように永久磁石を設けると、放電後に高温下す
ることにより直ちに磁石の磁力が低下し、磁力線により
蒸発物質を均一に消耗するという効果を継続できない。
なお、蒸発物質の近くに必要に応じてコイルを配置する
ことは、一般に知られているが、コイルの場合には、高
温下でも減磁しないので、磁力の減少という問題が発生
しない。本発明の課題は、アークスポットの挙動を制御
するために永久磁石を設ける場合に、永久磁石が高温雰
囲気下に晒されても、磁力が低下しない温度域に維持し
てアークスポット挙動制御性を持続することにある。
−171427号公報などでは、アーク放電における陽
極は、真空チャンバーとされているが、この場合、陰極
からのアーク長が長くなり、陰極からの電子の到達距離
が長くなるだけでなく、飛行途中で陰極蒸発物質や反応
ガスの衝突回数が増加するという問題がある。この問題
のため、アーク放電電圧が上昇して放電が不安定になり
やすい。
の本発明者らの着眼点は、アーク蒸発源にアークスポッ
トの挙動を制御するための永久磁石を備える場合には、
その永久磁石を冷却する冷却部をアーク蒸発源に具備さ
せる、という点にある。これに基づき本発明に係るアー
ク蒸発源の特徴は、アーク放電の陰極となる蒸発物質
と、当該蒸発物質を取り囲むように配置されて磁力によ
りアークスポットの挙動を制御する永久磁石と、当該永
久磁石を冷却する冷却部と、を備えている点にある。
電が行われても、冷却部により冷却されることで、磁力
が低下しない温度域に維持でき、アークスポットの挙動
制御性が持続できる。また、冷却部としては、蒸発源に
水若しくはその他の液体、又は空気若しくはその他のガ
スなどの冷却媒体を供給して磁石を冷却するものが好ま
しい。このような冷却部としては、例えば、磁石の周り
に冷却媒体の循環パイプを設けておいて冷却するなどの
適宜手段を採用できる。
が内部に供給される冷却室を備え、前記永久磁石は冷却
室内部に配置されているものとすることができる。この
場合、冷却室内部に磁石が配置されているので冷却効率
がよい。なお、冷却室内部に磁石を設ける場合、磁石が
冷却媒体に直接晒されていてもよいし、適当な部材(例
えば、錆び防止用のカバー体)により覆われて間接的に
冷却してもよい。また、冷却室が磁性体であると、磁石
により生ずる磁界が冷却室外に作用しにくくなり、蒸発
源に磁場を与えることができなくなるが、冷却室を非磁
性体で形成することで、冷却室が磁界に影響を与えるこ
とを防止できる。
成されていればよく、その形状は特に限定されない。ま
た、本発明では、前記冷却室は導電体により形成され、
かつアーク放電の陽極とされているのが好ましい。アー
ク放電により陰極から放出された電子は磁力線に巻付く
特性におり磁力線に沿って飛行しようとするが、磁力線
の起点(又は終点)である磁石が内在する冷却室が陽極
となっているため、磁場中を最短ルートで飛行し陽極に
到達できる。そのため、飛行途中での陰極蒸発物質や反
応ガスの衝突機会が低減され、アーク放電電圧が減少
し、放電安定性が改善される。また、冷却室が陽極とさ
れているので、陽極の温度上昇が防止できる。
を隔離して絶縁するための絶縁体からなる隔離部材を有
するのが好ましい。この場合、陽極である冷却室と陰極
である蒸発物質の短絡が防止される。また、陽極である
前記冷却室のうち陰極からの電子が入り込む範囲には、
当該範囲を覆う導電体からなるカバー体が取り外し可能
に設けられているのが好適である。陽極の電子が入り込
む箇所は、異常放電や冷却不足により温度が上昇し、溶
損が発生するおそれがある。陽極である冷却室の溶損を
防止するために、取り外しして交換可能なカバー体を設
けておくことで、メンテナンスが容易になる。
理物側の側面に設けられているのが好ましい。さらに、
本発明では、前記冷却部は、冷却媒体が内部に供給され
る冷却室を備え、当該冷却室に供給された冷却媒体が前
記永久磁石とともに前記蒸発物質も冷却可能に冷却室が
形成されているものとするのが好適である。蒸発物質も
高温化によるドロップレットの発生を防止するという観
点から冷却されることが好ましいが、冷却室に供給され
た冷却媒体で磁石だけでなく蒸発物質も冷却できるので
簡素な構成で効率の良い冷却が可能である。
としては、前記冷却室は非磁性体により形成され、前記
永久磁石は冷却室内部に配置され、前記蒸発物質は冷却
室外部に配置されているものとすることができる。ま
た、本発明の他の側面は、アーク放電の陰極となる蒸発
物質と、当該蒸発物質を取り囲むように配置された永久
磁石とを備えたアーク蒸発源において、前記磁石と前記
蒸発物質の蒸発面との間に形成される磁力線の軌跡上又
はその軌跡近傍にアーク放電の陽極が配置されているこ
とを特徴とする。
が磁力線に巻き付く特性により磁力線に沿って飛行しよ
うとすることから、磁石と蒸発面とを結ぶ磁力線の軌跡
上又はその軌跡近傍にアーク放電の陽極が配置されてい
ると、電子は磁力線に沿って飛行し陽極に到達するので
飛行ルートが短くなる。そのため飛行途中での陰極蒸発
物質や反応ガスの衝突機会が低減される。そして、以上
のようなアーク蒸発源を真空容器に備えた真空蒸着装置
とするのが好適である。
となる蒸発物質と陽極との間でアーク放電を起こして蒸
発物質を蒸発させて被処理物に被膜を形成する真空蒸着
方法において、アーク放電の陰極となる蒸発物質の外周
を取り囲むように配置された永久磁石を冷却しながらア
ーク放電を行うことを特徴とする。また、前記アーク放
電の陽極が、前記蒸発物質の蒸発面と前記磁石との間に
形成される磁力線の軌跡上又はその軌跡近傍に配置され
ていれば、電子の飛行ルートを短くできる。さらに前記
陽極は、前記磁石の前記被処理物側の側面に配置されて
いるのが好ましい。
すれば、陽極の冷却を簡単に行うことができる。
に基づいて説明する。図1は本発明の第1の実施の形態
に係る真空蒸着装置1を示している。この真空蒸着装置
1は、真空容器2内に陰極となる蒸発物質3を有するア
ーク蒸発源9が設けられ、アーク放電電源4によって図
示しない陽極との間でアーク放電を発生させて蒸発物質
3を蒸発・イオン化させ、コーティング被処理物(基
板)5に皮膜を堆積させるものである。
この蒸発源は、円板状の蒸発物質(ターゲット)3と、
蒸発物質の中心軸Xと同軸状になるように配置されたリ
ング状の永久磁石7と、磁石7の内周側において蒸発物
質3の外周に絶縁を維持できる僅かな隙間12を有して
配置されたリング状の磁性体(例えば、炭素鋼材)13
と、蒸発物質3の背面側(蒸発面11の反対側)の中央
部に配置された永久磁石(磁力線方向変更手段)14と
を有している。リング状の永久磁石7は、蒸発面11の
アークスポットの挙動を制御するためのものであり、軸
方向X両端面に磁極を有するように構成され、蒸発物質
3の外周を取り囲むように配置されている。このリング
状の永久磁石7は、コーティング被処理物5側の端面
(前方側の面)がN極で、他方の端面がS極とされてい
る(図3〜図5参照)。なお、磁極の配置は逆であって
もよい。
4は、リング状の永久磁石7により発生した磁力線の方
向を変更させるためのものであり、軸方向の被処理物5
側がS極とされ、軸方向反対側がN極とされている(図
5参照)。このようにリング状の永久磁石7と蒸発面背
面の永久磁石14の磁極は反対向きに設けられている。
したがって、永久磁石7の磁極が前述のものと逆であれ
ば、この磁石14の磁極も逆に配置する。なお、この磁
石14はコイル・電磁石であってもよい。図3は、ユニ
ットとして構成された蒸発源9の構成を示している。こ
の蒸発源ユニット9は、図3の上側が被処理物5側に向
くように真空容器2に取り付けられる。ユニット9は、
蒸発物質3等が支持される正面側体26と、正面側体2
6の背面に取り付けられる背面側体27とがネジ8によ
って固定されてなるユニット本体25を有している。こ
のユニット本体25は、非磁性体であるステンレス鋼に
よって形成されている。ユニット本体25の材質として
は、銅やアルミニウム等の他の非磁性体材料を採用して
もよい。
この本体25がアーク放電電源4のマイナス側に接続さ
れている。そして蒸発物質3は、正面側体26と接する
ように設けられているので、蒸発物質3はアーク放電の
陰極として作用することができる。ユニット本体25の
内部は、中空に形成されている。この内部空間は、磁石
7等を冷却するための冷却部であり、冷却媒体である水
が流通する冷却室30として構成されている。冷却室3
0の密閉のため、正面側体26と背面側体27の接合部
分にはシール31が設けられている。
うにリング状の永久磁石7が設けられている。この永久
磁石7は、ネジによって正面側体26に固定されてい
る。正面側体26は、中央に蒸発物質3と磁性体13が
収納される凹部34を有している。凹部34の底部に
は、開口部35を塞ぐ冷却板37が設けられている。冷
却室の密閉のため、冷却板37と正面側体26との接合
部にはシール38が設けられている。蒸発物質3は、こ
の冷却板37を介して正面側体26に取り付けられてお
り、蒸発物質3は、この冷却板37によって冷却され
る。冷却板37は、熱伝導性の高さと非磁性材料である
という点から、銅が採用されている。
の方向を変えるための磁石14は、冷却板37の背面側
(冷却室30の内部)に配置されている。リング状の磁
性体13は、凹部34の底部に設けられた絶縁体40を
介して正面側体26にネジ41によって取り付けられて
いる。この絶縁体40は、正面側体26と磁性体13と
を電気的に絶縁するためのものであり、また、磁性体1
3と蒸発物質3とは隙間12をもって配置されているの
で、磁性体13は蒸発物質3とも絶縁されている。
や蒸発物質3から電気的に浮いた状態にある。磁性体1
3は、その被処理物5側端13aとは蒸発面11とが面
一状に配置されているが、磁性体13が絶縁されている
ことから、アークスポットが磁性体11へ移行すること
は確実に防止される。背面側体27には、真空容器2の
外部から冷却媒体である水を冷却室30内に供給するた
めの供給口43と、水が排出される排出口44とが形成
されている。供給口43は背面側体27の中央に1つ設
けられ、排出口44は背面側体27の外周よりに複数設
けられている。冷却水は、真空容器2外部からポンプ
(図示省略)によって供給される。供給口43から冷却
室30に流れ込んだ冷却水は、磁石14を冷却し、冷却
板37を介して蒸発物質3を冷却する。さらに、冷却水
は、外周方向に流れ、磁石7を冷却し、排出口44を通
じて排出される。
7,14、蒸発物質3の高温化が防止され、磁石7,1
4は磁力が劣化しない。なお、供給口43、排出口44
の位置や数は限定されない。例えば、供給口43と排出
口44を置換してもよい。この場合、磁石7が供給口に
近くなるので、より冷たい水によって磁石7が冷却さ
れ、磁石7の冷却効率がよい。また、供給口43と排出
口44は正面側体26に設けてもよい。例えば、図3に
おいてB,Cで示す位置に供給口と排出口をそれぞれ設
けることができる。この場合、ユニット9を真空容器2
に取り付けたときに、B,Cのうち下方となる方を供給
口とし、上方となる方を排出口とするのが、冷却室30
内に空気が溜まることなどを防止する観点から好まし
い。
物質3の周囲に発生する磁力線の様子を示している。図
に示すように、永久磁石7から出た磁力線はほぼ垂直
(蒸発面11の法線方向)に蒸発面を貫く。なお、磁力
線がほぼ垂直に蒸発面を貫くように永久磁石7は、その
軸方向中央位置と蒸発面11の位置とがほぼ一致するよ
うに配置されている。このような蒸発面11にほぼ垂直
な磁力線は、アークスポットの停滞を防止し、蒸発面1
1の均一な消耗が可能である。磁力線の方向は、厳密に
は、蒸発面11の中央部付近を貫く磁力線に比べて、蒸
発面11周縁部付近を貫く磁力線は蒸発面11に立てた
法線方向に対して外向きにやや傾斜している。すなわ
ち、磁力線は被処理物5側に近づくに従って発散するよ
うに形成されている。
傾斜方向に移動しやすいという特徴により、アークが蒸
発面11から飛び出し、失火するという問題を発生させ
る。また、磁束密度は磁石からの距離の二乗に反比例す
るから、蒸発面11の中央付近では磁束密度は小さい。
このような磁束密度の減衰は、アークスポットは磁束密
度の弱い方に移動するという特徴により、アークスポッ
トが中央部に停滞するという問題を発生させる。磁性体
13と磁石14を設けると、図4の磁力線は図5のよう
になる。すなわち、磁石7の形成する磁力線のうち、蒸
発面11の外周縁部付近を貫くものは、磁力線が貫通し
やすい磁性体13に引き込まれる。このため、蒸発面1
1外周部には、蒸発面11の法線に対し蒸発面11中央
部に傾斜した磁力線が形成されることになる。A1〜A
3は、磁力線が蒸発面と交差する点における磁力線の接
線方向を示しており、蒸発面外周側ほど磁力線の中央部
への傾斜が大きいことがわかる。したがって、蒸発面1
1外周に近づいたアークスポットは、アークが磁力線の
傾斜方向に移動しやすい特徴により蒸発面中央方向に押
し戻され、アークスポットの飛び出しによる失火が防止
される。
面11の中央部付近を貫通する磁力線は、磁石14に引
き込まれて蒸発面11の法線方向に対して外向き傾斜と
なる。このため、磁束密度が低くても、アークが磁力線
の傾斜方向に移動しやすい特徴によりアークの蒸発面1
1中央への集中が防止される。また、磁石14の存在に
より、蒸発面11中央の磁束密度が大きくなるので、蒸
発面11中央部における磁束密度の減衰も改善される。
よってアークの集中が防止され、図4のものと比較して
蒸発面11の一層の均一消耗が実現できる。
動を制御するための磁力線を形成する磁石7及び磁石1
4はいずれも冷却されているので、高温化により減磁す
ることなく、効果を持続することができる。図6は、前
記永久磁石7の変形例としての永久磁石17を示してい
る。この永久磁石17は、多数の永久磁石を環状(リン
グ状)にならべて、前記永久磁石7と同様な磁場を形成
するように構成されたものである。すなわち、長手方向
両端に磁極を有する複数の棒磁石21の磁極の向きを揃
えて環状に配置して、実質的に前記永久磁石7と同様
な、リング状磁石を構成したものである。
源ユニット29を示している。この第2実施形態が第1
実施形態と異なるところは、主に正面側体26が、蒸発
物質3等を支持する第1正面側体26aとリング状磁石
7が収納される第2正面側体26bに分離構成され、冷
却室30が、蒸発物質3を冷却するための第1冷却室3
0aと、リング状磁石7を冷却するための第2冷却室3
0bに分離されている点とにある。第1冷却室30aと
第2冷却室とは、それぞれ別個に冷却水の供給口43
a,43bと排出口44a,44bとを備え、別個に冷
却水が流通可能である。
施の形態とほぼ同様であるので、同符号を付して説明を
省略する。図8〜図10は、本発明の第3実施形態に係
る蒸発源ユニット39を示している。この蒸発源ユニッ
ト39は、陰極となる蒸発物質(ターゲット)3と、蒸
発物質を支持する陰極支持体(ターゲットボディ;カソ
ードボディ)46と、蒸発物質3を取り囲むように配置
されたリング状磁石7と、リング状磁石7が内部に配置
される磁石ケーシング(冷却室)47等を有している。
は、第2実施形態の蒸発源ユニット29と類似した構成
を有しているので、第2実施形態の蒸発源ユニット29
と同様の作用を奏することができるが、特に異なる点と
しては、第1に、陰極支持体46(第2実施形態の第1
正面側体26aにほぼ対応する)と、磁石ケーシング4
7(第2実施形態の第2正面側体26bにほぼ対応す
る)とが絶縁体からなる隔離部材48によって電気的に
隔離されている点と、第2に、磁石ケーシング47がア
ーク電源4の+側に接続されてアーク放電の陽極となっ
ている点である。
9は、アーク放電の陰極となる蒸発物質3に加え、陽極
(磁石ケーシング47)をも備えている。図9に示すよ
うに、アーク電源4に接続された蒸発物質3から放出さ
れた電子は、磁力線に巻き付く特性により磁力線軌跡に
沿って移動する。また、磁力線の終点(又は始点)であ
る磁石はアーク電源4の「+側」に接続された磁石ケー
シング47(陽極)に囲まれて冷却されており磁力線に
沿って移動した電子はそのまま陽極47に吸収される。
従って、図10に示すように、最も理想的な軌跡を通っ
て電子が「陰極」から「陽極」に飛行することとなる。
結ぶように形成された磁力線上又は当該磁力線近傍に陽
極47を配置しておくことで、最短の飛行ルートで電子
を陽極に到達させることができる。このため、飛行途中
での陰極蒸発物質や反応ガスの衝突機会が低減されるこ
と、および飛行ルートが理想的となるため、アーク放電
電圧が減少し放電安定性が大幅に改善される。また、こ
の効果により外乱に対するアーク放電の抵抗力が増すた
め、アークの飛び出しや突然の失火などの異常が起こり
にくくなる。
極)は電流が流れることにより温度上昇するが、冷却室
30bを構成する磁石ケーシング47を陽極としたの
で、陽極であるケーシング47は冷却室30b内の冷却
水によって冷却される。すなわち、磁石7を冷却すると
共に陽極47も冷却でき構造が簡素になっている。な
お、電子飛行ルート改善の観点からは、陽極は冷却室構
成部材である必要はなく、冷却室30bを構成する部材
とは別に磁力線上又は磁力線近傍に陽極を設けてもよ
い。
とするため、蒸発物質3及び陰極支持体46と、磁石ケ
ーシング47とは電気的に絶縁されている必要があり、
このため絶縁体からなる隔離部材48が設けられてい
る。ただし、両者を電気的に絶縁するには、例えば、陰
極支持体46と磁石ケーシング47との間に間隙を設け
ておくだけでもよく、この場合、簡易な構造となる。一
方、単に間隙を設けておくだけであると、間隙にゴミな
どが堆積して短絡するおそれもあるが、第3実施形態の
ように積極的に隔離部材48を設けておけば、これを防
止でき、放電安定性が高まる。
2実施形態と同様の点は同符号を付して説明を省略し
た。図11は第4実施形態に係る蒸発源ユニット49を
示している。この蒸発源ユニット49が第3実施形態の
蒸発源ユニット39と異なる点は、磁石ケーシング47
の中でも電子の入り込む範囲47aに導電性のカバー体
51が設けられいる点にある。カバー体51は、熱伝導
性の良い材料(例えば、銅系)によって形成されてお
り、ネジ52により冷却室を構成する磁石ケーシング4
7に対して取り外し自在に設けられている。カバー体5
1は、電子の入り込む範囲である磁石ケーシング47の
被処理物5側の側面47aを覆うように設けられてい
る。
が発生しやすいので、取り外し自在なカバー体51を設
けておくことで、メンテナンス性を改善できる。また、
「陽極」箇所は温度上昇しやすいため、異常放電や冷却
不足がおこれば異常に温度が上昇し場合によっては溶損
が発生する。磁石ケーシング47は内部を水冷されてお
り溶損により貫通が起これば真空容器2内に冷却水が流
出(リーク)することになるが、カバー体51を設けて
おけば磁石ケーシング47の溶損を防止でき、冷却水リ
ークの発生を低減できる。
実施形態と同様な点は、同符号を付して説明を省略し
た。
の挙動を制御するための永久磁石は、アーク放電が行わ
れても、冷却部により冷却されることで、磁力が低下し
ない温度域に維持され、アークスポットの挙動制御性が
持続できる。また、磁石が内部に配置される冷却室を陽
極とすると、電子の飛行ルートが短くなり、放電が安定
する。
る。
る。
の状態を示す図である。
る。
る。
す図である。
す図である。
る。
Claims (14)
- 【請求項1】 アーク放電の陰極となる蒸発物質(3)
と、 当該蒸発物質(3)を取り囲むように配置されて磁力に
よりアークスポットの挙動を制御する永久磁石(7)
と、 当該永久磁石(7)を冷却する冷却部と、を備えている
ことを特徴とするアーク蒸発源。 - 【請求項2】 前記冷却部は、冷却媒体が内部に供給さ
れる冷却室(30)を備え、当該冷却室(30)は非磁
性体により形成され、前記永久磁石(7)は冷却室(3
0)内部に配置されていることを特徴とする請求項1記
載のアーク蒸発源。 - 【請求項3】 前記冷却室(30)は導電体により形成
され、かつアーク放電の陽極とされていることを特徴と
する請求項2記載のアーク蒸発源。 - 【請求項4】 前記冷却室(30)と前記蒸発物質
(3)との間を隔離して絶縁するための絶縁体からなる
隔離部材(48)を有することを特徴とする請求項3記
載のアーク蒸発源。 - 【請求項5】 陽極である前記冷却室(30)のうち陰
極からの電子が入り込む範囲(47a)には、当該範囲
(47a)を覆う導電体からなるカバー体(51)が取
り外し可能に設けられていることを特徴とする請求項3
又は4記載のアーク蒸発源。 - 【請求項6】 前記カバー体(51)は、前記冷却室の
被処理物側(5)の側面(47a)に設けられているこ
とを特徴とする請求項5記載のアーク蒸発源。 - 【請求項7】 前記冷却部は、冷却媒体が内部に供給さ
れる冷却室(30)を備え、当該冷却室(30)に供給
された冷却媒体が前記永久磁石(7)とともに前記蒸発
物質(3)も冷却可能に冷却室(30)が形成されてい
ることを特徴とする請求項1に記載のアーク蒸発源。 - 【請求項8】 前記冷却室(30)は非磁性体により形
成され、前記永久磁石(7)は冷却室(30)内部に配
置され、前記蒸発物質(3)は冷却室(30)外部に配
置されていることを特徴とする請求項7記載のアーク蒸
発源。 - 【請求項9】 アーク放電の陰極となる蒸発物質(3)
と、当該蒸発物質(3)を取り囲むように配置された永
久磁石(7)とを備えたアーク蒸発源において、 前記磁石(7)と前記蒸発物質(3)の蒸発面(11)
との間に形成される磁力線の軌跡上又はその軌跡近傍に
アーク放電の陽極(47)が配置されていることを特徴
とするアーク蒸発源。 - 【請求項10】 請求項1〜9のいずれかに記載のアー
ク蒸発源を真空容器(2)に備えていることを特徴とす
る真空蒸着装置。 - 【請求項11】 陰極となる蒸発物質(3)と陽極との
間でアーク放電を起こして蒸発物質(3)を蒸発させて
被処理物(5)に被膜を形成する真空蒸着方法におい
て、 蒸発物質(3)の外周を取り囲むように配置された永久
磁石(7)を冷却しながらアーク放電を行うことを特徴
とする真空蒸着方法。 - 【請求項12】 前記アーク放電の陽極が、前記蒸発物
質(3)の蒸発面(11)と前記磁石(7)との間に形
成される磁力線の軌跡上又はその軌跡近傍に配置されて
いることを特徴とする請求項11記載の真空蒸着方法。 - 【請求項13】 前記陽極は、前記磁石(7)の前記被
処理物(5)側の側面に配置されていることを特徴とす
る請求項12記載の真空蒸着方法。 - 【請求項14】 前記陽極は、前記磁石(7)とともに
冷却されていることを特徴とする請求項12又は13記
載の真空蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000157094A JP3917348B2 (ja) | 1999-05-26 | 2000-05-26 | アーク蒸発源、真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14692199 | 1999-05-26 | ||
JP11-146921 | 1999-05-26 | ||
JP2000157094A JP3917348B2 (ja) | 1999-05-26 | 2000-05-26 | アーク蒸発源、真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001040467A true JP2001040467A (ja) | 2001-02-13 |
JP3917348B2 JP3917348B2 (ja) | 2007-05-23 |
Family
ID=26477619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000157094A Expired - Lifetime JP3917348B2 (ja) | 1999-05-26 | 2000-05-26 | アーク蒸発源、真空蒸着装置及び真空蒸着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3917348B2 (ja) |
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JP3917348B2 (ja) | 2007-05-23 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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