JP2001039912A - ６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノール及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 香料、樹脂、農薬及び医薬等の合成原料とし
て有用な６−ヒドロキ−２−ナフタレンメタノール及び
これを工業的に有利に製造する方法の提供。 【解決手段】 １．下記式（Ｉ）で表される６−ヒドロ
キシ−２−ナフチルカルビノール。 【化１】 ２．下記式（II）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフ
タレンカルボン酸を還元することを特徴とする６−ヒド
ロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法。 【化２】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な６−ヒドロ
キシ−２−ナフチルカルビノール（以下、６−ヒドロキ
シ−２−ナフタレンメタノールということがある）及び
その製造方法に関する。本発明の６−ヒドロキシ−２−
ナフタレンメタノールは新規化合物であり、香料、樹
脂、農薬及び医薬等の合成原料として期待され、例え
ば、血糖及び血中脂質低下作用を有し、糖尿病及び高脂
血症の予防・治療薬として有用なナフチルメチルチアゾ
リジンジオン誘導体（特開平１０−１３９７６８号公
報）の合成原料として有用である。

【０００２】

【従来の技術】メチル基、ヒドロキシメチル基、クロロ
基等を置換基として有するナフチルカルビノールの核置
換体の製造方法としては、例えば相当するクロロメチル
化合物を加水分解する方法、相当するナフタレンジカル
ボン酸無水物又はジエステルを金属水素化物により還元
する方法等が知られている。置換基が水産基の場合、例
えば２−ヒドロキシ−１−ナフチルカルビノール等につ
いては公知であるが、本発明の６−ヒドロキシ−２−ナ
フチルカルビノールについては、これ迄知られていない
新規物質である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、６−ヒ
ドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法として
は、前者のクロロメチル化合物の加水分解による方法は
原料面から好ましい方法とは言えず、また後者の金属水
素化物を用いる方法については、この方法を６−ヒドロ
キシナフタレンカルボン酸に適用した例はこれ迄知られ
ていない。本発明は、６−ヒドロキシ−２−ナフチルカ
ルビノール及びこの化合物を従来法より簡便に、効率良
く且つ経済的に製造する方法を提供することを目的とす
る。

【０００４】

【問題を解決するための手段】本発明者は、かかる事情
に鑑み鋭意検討した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタ
レンカルボン酸をボラン類により還元することにより新
規化合物である６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノ
ールが高収率且つ高選択率で得られること、しかも、こ
の還元をホウ酸エステル類の存在下で行うことにより、
微量ではあるが、数多い副生物を大幅に減らすことがで
き、高純度の目的物が高収率で得られることを見い出
し、本発明を完成するに至った。

【０００５】即ち、本発明の要旨は、 １．下記式（Ｉ）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフ
チルカルビノール

【０００６】

【化７】

【０００７】２．下記式（II）で表される６−ヒドロキ
シ−２−ナフタレンカルボン酸を還元することを特徴と
する６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造
方法

【０００８】

【化８】 、にある。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の式（Ｉ）の６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメ
タノールは、新規化合物であるが、式（II）の６−ヒド
ロキシ−２−ナフタレンカルボン酸を還元することによ
り製造することができる。還元剤としては、特に制限さ
れないが、通常ボラン類或いは水素化アルミニウム錯化
合物等が用いられる。原料の６−ヒドロキシ−２−ナフ
タレンカルボン酸は、例えば、β−ナフトールのカリウ
ム塩を高温、加圧下に二酸化炭素と反応させるところ
の、いわゆるコルベ−シュミット反応により、カルボキ
シル化した後、異性化することにより得られる。なお、
この化合物は液晶ポリマーの合成原料として商業生産さ
れているので容易に入手することができる。

【００１０】本発明で還元剤として用いられるボラン類
の具体例として、例えばジボラン、ボラン−テトラヒド
ロフラン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体、ボラ
ン−１，４−オキサチアン錯体、ボラン−ジメチルアニ
リン錯体、ボランージエチルアニリン錯体、ボラン−４
−フェニルモルホリン錯体、カテコールボラン、テキシ
ルボラン、ジシアミルボラン、９−ボラビシクロ〔３．
３．１〕ノナンのようなアルキルボラン等が挙げられ
る。これらの中、ボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボ
ラン−ジメチルスルフィド錯体、ボラン−ジエチルアニ
リン錯体が好ましい。ボラン−テトラヒドロフラン錯体
は目的の６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールを
高収率で与え、特に好ましい。なお、これらのボラン類
は組み合わせて用いてもよい。

【００１１】ボラン類は、市販のものをそのまま使用す
ることも可能であるが、水素化ホウ素化合物を用い系内
で発生させ使用しても何ら差し支えない。例えば、ボラ
ン−テトラヒドロフラン錯体は、テトラヒドロフラン溶
媒中、水素化ホウ素化合物とジメチル硫酸或いは三フッ
化ホウ素とを反応することにより容易に調製可能であ
る。水素化ホウ素化合物としては、水素化ホウ素ナトリ
ウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カルシウ
ム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素マグネシウム、水
素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ベリリウム、水酸化
ホウ素バリウム等を用いることができるが、主として経
済的な見地から、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化ホウ素カルシウム等が好ましい。

【００１２】ボラン類は、６−ヒドロキシ−２−ナフタ
レンカルボン酸に対して、ボラン換算で通常１〜８モル
倍程度、好ましくは、１．３〜４モル倍程度使用され
る。１モル倍以下の場合、６−ヒドロキシ−２−ナフタ
レンカルボン酸の反応は未完結であり、また、８モル倍
以上の場合、主として経済的な見地から好ましくない。
また、水素化アルミニウム錯化合物としては、水素化ア
ルミニウムリチウム、水素化ジエトキシアルミニウムリ
チウム、水素化トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム
リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビ
ス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、
等が挙げられる。

【００１３】６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン
酸をボラン類により還元する場合、原料の一部が酸無水
物、エーテル、エステル等の形に変化し、またフリーデ
ルクラフツ反応により微量ではあるが、多数の二量化物
及び三量化物が生成する副反応が起こる。反応生成物か
らこれらの副生物を除いて、高純度の自的生成物を得る
には、多くの繁雑な精製工程が必要となり、しかもかか
る精製操作によってもなお除去することができない副生
物が残存し、また精製過程における収率の減少という問
題がある。

【００１４】本発明者らの検討結果によれば、このよう
な副生物を減らすには、ボラン類による還元の際に、ホ
ウ酸エステル類を共存させることが好ましい。共存させ
るホウ酸エステル類については、特に限定されるもので
はないが、式（III）、（IV）、（Ｖ）又は（VI）で表
される化合物を用いるのが好ましい。

【００１５】

【化９】

【００１６】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独
立して、アルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有ア
ルキル基又はアリール基を表す）

【００１７】式（III）において、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³がア
ルキル基である場合、アルキル基については直鎖状、分
岐状、環状のいずれでもよく、またその炭素数について
は特に限定されるものではないが、通常１〜２０、好ま
しくは１〜１６である。このようなアルキル基の具体例
としては、例えばメチル基、エチル基、２，２，２−ト
リフルオロエチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、シクロヘ
キシル基、２−シクロヘキシルシクロヘキシル基等が挙
げられる。

【００１８】また、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³がアラルキル基で
ある場合、その炭素数については特に限定はされない
が、通常７〜２０、好ましくは７〜１６であり、アリー
ル基は置換基を有していてもよい。このようなアラルキ
ル基の具体例としては、例えばベンジル基、２−フェニ
ルシクロヘキシル基等が挙げられる。

【００１９】また、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³がヘテロ原子含有
アルキル基である場合、その炭素数については特に限定
はされないが、通常１〜２０、好ましくは１〜１６であ
り、またヘテロ原子としては、酸素原子及び窒素原子が
好ましい。このようなヘテロ原子含有アルキル基の具体
例としては、例えば２−メトキシエチル基、２−ジメチ
ルアミノエチル基等が挙げられる。

【００２０】また、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³がアリール基であ
る場合、その炭素数については特に限定はされないが、
通常６〜２０、好ましくは６〜１６であり、置換基を有
していてもよい。このようなアリール基の具体例として
は、例えばフェニル基、トリル基、２，６−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル基、クロロフェニル基、等が挙げられる。

【００２１】そして、このような式（III）の化合物の
具体例としては、例えばトリメチルホウ酸エステル、ト
リエチルホウ酸エステル、トリス（２，２，２−トリフ
ルオロエチル）ホウ酸エステル、トリプロピルホウ酸エ
ステル、トリイソプロピルホウ酸エステル、トリブチル
ホウ酸エステル、トリｔ−ブチルホウ酸エステル、トリ
−ｎ−アルミホウ酸エステル、トリヘキシルホウ酸エス
テル、トリシクロヘキシルホウ酸エステル、トリス（１
−イソプロピル−２−メチルプロピル）ホウ酸エステ
ル、トリス（３，３，５−トリルメチルヘキシル）ホウ
酸エステル、トリス（１−イソブチル−３−メチルブチ
ル）ホウ酸エステル、トリス（デシル）ホウ酸エステ
ル、ホウ酸トリ−ｎ−ヘキサデシルエステル、ホウ酸ト
リ−ｎ−オクタデシルエステル、トリ−ｎ−オクチルホ
ウ酸エステル、トリ−２−オクチルホウ酸エステル、ト
リ−ＤＬ−メンチルホウ酸エステル、トリ−２−フェニ
ルシクロヘキシルホウ酸エステル、トリアミルメチルホ
ウ酸エステル、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニルジブチ
ルホウ酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）ホウ
酸エステル、トリス（２−シクロヘキシルシクロヘキシ
ル）ホウ酸エステル、トリベンジルホウ酸エステル、ジ
メチルモノエチルホウ酸エステル、ジメチルモノフェニ
ルホウ酸エステル、モノメチルジエチルホウ酸エステ
ル、トリフェニルホウ酸エステル、トリス（４−クロロ
フェニル）ホウ酸エステル、トリス（２−メチルフェニ
ル）ホウ酸エステル等が挙げられる。

【００２２】

【化１０】

【００２３】（式中、Ｒ⁴はアルキル基、アラルキル
基、ヘテロ原子含有アルキル基又はアリール基を表し、
Ｒ′は置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアル
キレン基を表す）

【００２４】式（IV）において、Ｒ⁴がアルキル基であ
る場合、アルキル基については直鎖状、分岐状、環状の
いずれでもよく、またその炭素数については特に限定さ
れるものではないが、通常１〜１６、好ましくは１〜１
２である。このようなアルキル基の具体例としては、例
えばメチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、等が挙
げられる。

【００２５】また、Ｒ⁴がアラルキル基である場合、そ
の炭素数については特に限定はされないが、通常７〜２
０、好ましくは７〜１６であり、アリール基は置換基を
有していてもよい。

【００２６】また、Ｒ⁴がヘテロ原子含有アルキル基で
ある場合、その炭素数については特に限定はされない
が、通常１〜１６、好ましくは１〜１２であり、またヘ
テロ原子としては酸素原子、窒素原子及びホウ素原子が
好ましい。このようなヘテロ原子含有アルキル基の具体
例としては、例えばジメチルアミノエチル基、２，４−
ジメチル−４−（４，４，６−トリメチル−１，３，２
−ジオキサボリナノ）ペンチル基、等が挙げられる。

【００２７】また、Ｒ⁴がアリール基である場合、その
炭素数については特に限定はされないが、通常６〜２
０、好ましくは６〜１６であり、置換基を有していても
よい。

【００２８】また、Ｒ′は置換基を有していてもよい炭
素数２〜１６、好ましくは２〜１２のアルキレン基であ
り、その具体例としては、例えばエチレン基、１，１，
２，２−テトラエチレン基、１−メチルトリメチレン
基、１，１，３−トリメチルトリメチレン基、等が挙げ
られる。

【００２９】そして、このような式（IV）の化合物の具
体例としては、例えば２−（２−ジメチルアミノエトキ
シ）−４−メチル−１，３，２−ジオキサボリナン、
２，２′−（２−メチル−２，４−ペンタンジルジオキ
シ）ビス（４，４，６−トリメチル−１，３，２−ジオ
キサボリナン、２−ブトキシ−４，４，６−トリメチル
−１，３，２−ジオキサボリナン、２−メトキシ−１，
３，２−ジオキサボロラン、２−イソプロポキシ４，
４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロ
ラン等が挙げられる。

【００３０】

【化１１】

【００３１】（式中、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立し
て、アルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキ
ル基又はアリール基を表す）

【００３２】式（Ｖ）において、Ｒ⁵及びＲ⁶がアルキル
基である場合、アルキル基については直鎖状、分岐状、
環状のいずれでもよく、またその炭素数については特に
限定されるものではないが、通常１〜１６、好ましくは
１〜１２である。このようなアルキル基の具体例として
は、例えばメチル基、エチル基、等が挙げられる。

【００３３】また、Ｒ⁵及びＲ⁶がアラルキル基である場
合、その炭素数については特に限定はされないが、通常
７〜１６、好ましくは７〜１２であり、アリール基は置
換基を有していてもよい。

【００３４】また、Ｒ⁵及びＲ⁶がヘテロ原子含有アルキ
ル基である場合、その炭素数については特に限定はされ
ないが、通常１〜１６、好ましくは１〜１２である。

【００３５】また、Ｒ⁵及びＲ⁶がアリール基である場
合、その炭素数については特に限定はされないが、通常
６〜２０、好ましくは６〜１６であり、置換基を有して
いてもよい。このようなアリール基の具体例としては、
例えばフェニル基、等が挙げられる。

【００３６】そして、このような式（Ｖ）の化合物の具
体例としては、例えば２−メトキシベンゾ〔ｄ〕１，
３，２−ジオキサボロラン、２−エトキシベンゾ〔ｄ〕
１，３，２−ジオキシサボロラン、２−フェノキシベン
ゾ〔ｄ〕１，３，２−ジオキサボロラン等が挙げられ
る。

【００３７】

【化１２】

【００３８】（式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は、それぞれ独
立して、置換基を有していてもよいアルキレン基又はア
ルキレンオキシ基を表し、Ｒ¹⁰は水素原子又はアルキル
基を表し、Ｘは炭素原子、窒素原子又はホウ素原子を表
す。また、ａ、ｂ、ｃ及びｄは０又は１である）

【００３９】式（VI）において、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹が置
換基を有していてもよいアルキレン基である場合、アル
キレン基の炭素数については特に限定はされないが、通
常１〜１６、好ましくは１〜１２である。このようなア
ルキレン基の具体例としては、例えばメチレン基、エチ
レン基、等が挙げられる。

【００４０】また、Ｒ⁷、Ｒ⁸が及びＲ⁹が置換基を有し
ていてもよいアルキレンオキシ基である場合、その炭素
数については特に限定はされないが、通常１〜１６、好
ましくは１〜１２である。このようなアルキレンオキシ
基の具体例としては、例えばエチレンオキシ基、１，
３，３−トリメチル−トリメチレンオキシ基等が挙げら
れる。

【００４１】そして、このような式（VI）の化合物の具
体例としては、例えばトリエタノールアミンボレート、
２−メチル−２，４−ペンタンジオールジボーレート、
１−ボラ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．
１〕ヘプタン、１，６−ジボラ−２，５，７，１０，１
１，１４−ヘキサオキサビシクロ〔４．４．４〕テトラ
デカン等のホウ酸エステル類が挙げられる。そして、こ
れらの式（III）ないし（VI）の化合物の中、主として
経済的な見地からトリメチルホウ酸エステル及びトリエ
チルホウ酸エステル、等が好ましい。なお、これらのホ
ウ酸エステル類は組み合わせて用いてもよい。

【００４２】これら、ホウ酸エステル類は、市販のもの
をそのまま使用することも可能であるが、文献Ｌａｐｐ
ｅｒｔ，Ｍ．Ｆ．，Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖｉｅｗ，５６，９
５９（１９５６）等に記載されている三ハロゲン化ホウ
素化合物、三酸化二ホウ素、ホウ酸、ナトリウムピロホ
ウ酸エステル又はボラン類及び水素化ホウ素化合物を原
料としてアルコール類とを反応させることにより、容易
に調製可能である。アルコール類としては、それらの級
数、価数及び置換基の有無により制限を受けず用いるこ
とができるが、主として経済的な見地から、メタノー
ル、エタノール等が好ましい。ホウ酸エステル類は、６
−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸に対して、通
常０．０１〜２０モル倍程度、好ましくは０．０５〜１
０モル倍程度使用される。

【００４３】また、ホウ酸エステル類の添加方法として
は、適当な溶媒に溶かした６−ヒドロキシ−２−ナフタ
レンカルボン酸溶液にホウ酸エステル類を加え、調製し
た混合溶液をボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラ
ヒドロフラン溶液中に滴下する方法、又はボラン−テト
ラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液中にホウ
酸エステル類を加え混合させた後、その混合溶液中に溶
媒に溶かした６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン
酸溶液を滴下する方法いずれでも差し支えないが、前者
の方法の方がより高純度の６−ヒドロキシ−２−ナフチ
ルカルビノールが得られ好ましい。

【００４４】反応は、通常溶媒とホウ酸エステルの存在
下にボラン類と６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボ
ン酸とを反応させる。かかる溶媒としては、反応を阻害
しないものであれば特に制限はないが、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライ
ム、トリグライム、ｔ−ブチルメチルエーテル、１，３
−ジオキソラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、
１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン系溶媒等が挙げられる。溶媒は、６−ヒドロ
キシ−２−ナフタレンカルボン酸に対して、通常１〜５
０重量倍程度、好ましくは２〜２０重量倍程度使用され
る。

【００４５】反応温度は、通常−３０〜１５０℃、好ま
しくは−２０〜１００℃である。反応時間は、用いるボ
ラン類又はホウ酸エステル類、それらの使用量等により
異なるが、通常０．５〜１０時間程度である。かくして
反応は実施されるが、ボラン類を予め調製し反応に使用
する場合、通常はボラン調製液に６−ヒドロキシ−２−
ナフタレンカルボン酸もしくはこれと溶媒との混合物を
加えることにより実施される。加える溶媒として、ボラ
ン調製に使用した溶媒と別の溶媒を加えて実施すること
もできる。ここで、ボラン調製溶媒及び加える溶媒とし
ては、反応に使用するに際し示した溶媒と同様の溶媒が
例示される。また、ボラン類を水素化ホウ酸化合物とジ
メチル硫酸或いは三フッ化ホウ素とを反応することによ
り調製した場合、系内に析出する、モノメチル硫酸塩或
いは４フッ化ホウ酸塩を濾去した調製液に、６−ヒドロ
キシ−２−ナフタレンカルボン酸と溶媒との混合物を添
加する手法が反応効率が向上し有利な場合がある。

【００４６】生成した６−ヒドロキシ−２−ナフタレン
メタノールは、残存する還元剤を塩酸等の鉱酸、水又は
メタノールを加えて失活させた後、苛性ソーダ等で中和
し、晶析、抽出、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の
手段により、単離することができる。

【００４７】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り、これらの実施例
に限定されるものではない。 （実施例１）窒素雰囲気下、滴下ロート、ガス導入管、
冷却管及び温度計を付した３００ｍＬの四つ口フラスコ
に、水素化ホウ素ナトリウム（純度：９８％）３．８７
ｇ（１００ｍｍｏｌ）と、無水テトラヒドロフラン６０
ｍＬを加え撹拌する。ジメチル硫酸１２．６５ｇ（１０
０ｍｍｏｌ）を、０℃で５分を要して滴下し、氷冷下で
２時間撹拌を行い、更に室温下３時間撹拌を続けてガス
の発生が終了するのを確認した。生じたボラン−テトラ
ヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液を０℃付近
に保持し、系中に生成したモノメチルナトリウム硫酸塩
を分離するために、窒素雰囲気下、上澄液をグラスフィ
ルターで濾過して、その塩層を更に４０ｍＬ無水テトラ
ヒドロフランで洗浄し、精製した約１Ｍのボラン−テト
ラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液を合わ
せ、別の５００ｍＬ容量の四つ口フラスコの移送した。
６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸９．４１ｇ
（５０ｍｍｏｌ）、トリメチルホウ酸エステル２０．１
３ｇと無水テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）溶液を、滴
下ロートを用い、室温で２５分かけて、調製したボラン
−テトラヒドロフラン錯体溶液中に滴下した。この反応
液を同温度で３時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷
却し、氷冷下、水１００ｍＬを加え、３０分間室温で激
しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去さ
せた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色
結晶を水（２００ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間
減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタ
レンメタノールを白色結晶として８．４６ｇ得た。得ら
れた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロマ
トグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンカルボン酸の反応率は９９．９３％であり、６
−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は９
９．２１％（４８．５７ｍｍｏｌ、収率：９７．１％）
であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフト
アルデヒドは０．３７％及びその他の副生成物が併せて
０．３５％存在することが分かった。

【００４８】融点：１８１〜１８３℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃＋ＤＭＳＯ−ｄ
⁶、δｐｐｍ）：９．０８（１Ｈ，ｂｒｓ），７．７０
−７．５８（３Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｄ），７．
１０（２Ｈ，ｑ），４．７２（２Ｈ，ｓ），２．９１
（１Ｈ，ｂｒｓ）¹³Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃＋ＤＭＳＯ−ｄ⁶、δｐｐｍ）：６３．２８，１０
８．１０，１１７．７９，１２４．１１，１２４．９
２，１２５．２３，１２７．０３，１２８．２０，１３
３．１５，１３５．５７，１５４．２３

【００４９】（実施例２）窒素雰囲気下、液化ロート、
ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四
つ口フラスコに、実施例１と同様の操作により得られた
約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒド
ロフラン溶液１００ｍＬを入れ、そこに６−ヒドロキシ
−２−ナフタレンカルボン酸１２．５８ｇ（６６．８５
ｍｍｏｌ）、トリメチルホウ酸エステル６．９５ｇと無
水テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液を、液化ロート
を用い、室温で３０分かけて滴下した。この反応液を同
温度で３時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、
氷冷下、水１５０ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく
撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた
後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、白色
結晶を析出した。濾過により得られた白色結晶を水（２
００ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間減圧乾燥する
ことにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノー
ルを白色結晶として１１．２８ｇ得た。得られた白色結
晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロマトグフィー
で分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカル
ボン酸の反応率は９９．９９％であり、６−ヒドロキシ
−２−ナフタレンメタノールの純度は９９．４２％（６
４．７５ｍｍｏｌ、収率：９６．９％）であった。副生
成物として６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドは
０．０８％、１−〔（６−ヒドロキシ（２−ナフチ
ル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナフタレン
−２−オールは０．０７％、６−〔（６−ヒドロキシ−
２−ナフチルオキシ）メチル〕ナフタレン−２−オール
は０．１０％、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）カル
ボニル−６−ヒドロキシナフタレン−２−カルボキシレ
ートは０．０５％及びその他の副生成物が併せて０．２
７％存在することが分かった。

【００５０】（実施例３）窒素雰囲気下、滴下ロート、
ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四
つ口フラスコに、実施例１と同様の操作により得られた
約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒド
ロフラン溶液１００ｍＬを入れ、そこに６−ヒドロキシ
−２−ナフタレンカルボン酸１２．６０ｇ（６６．９６
ｍｍｏｌ）、トリエチルホウ酸エステル１９．２７ｇと
無水テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液を、滴下ロー
トを用い、室温で３５分かけて滴下した。この反応液を
同温度で５時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却
し、氷冷下、水２００ｍＬを加えて、３０分間室温で激
しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去さ
せた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色
結晶を水（２５０ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間
減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタ
レンメタノールを白色結晶として１１．３６ｇ得た。得
られた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロ
マトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−
ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．９２％であり、
６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は９
９．１８％（６５．２１ｍｍｏｌ、収率：９７．４％）
であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフト
アルデヒドは０．３１％、１−〔（６−ヒドロキシ（２
−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナ
フタレン−２−オールは０．０６％、（６−ヒドロキシ
−２−ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレ
ン−２−カルボキシレートは０．０５％及びその他の副
生成物が併せて０．３２％存在することが分かった。

【００５１】（実施例４）窒素雰囲気下、滴下ロート、
ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四
つ口フラスコに、実施例１と同様の操作により得られた
約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒド
ロフラン溶液１００ｍＬ及びトリメチルホウ酸エステル
１３．８６ｇを入れ、そこに６−ヒドロキシ−２−ナフ
タレンカルボン酸１２．５６ｇ（６６．７４ｍｍｏｌ）
無水テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液を、滴下ロー
トを用い、室温で４０分かけて滴下した。この反応液を
同温度で４時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却
し、氷冷下、水１５０ｍＬを加えて、３０分間室温で激
しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去さ
せた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色
結晶を水（２００ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間
減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタ
レンメタノールを白色結晶として１１．２３ｇ得た。得
られた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロ
マトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−
ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．９５％であり、
６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は９
９．２６％（６４．４７ｍｍｏｌ、収率：９６．６％）
であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフト
アルデヒドは０．２８％、１−〔（６−ヒドロキシ（２
−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナ
フタレン−２−オールは０．０５％及びその他の副生成
物が併せて０．３６％存在することが分かった。

【００５２】（実施例５）窒素雰囲気下、滴下ロート、
ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四
つ口フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム（純度：９８
％）３．９１ｇ（１０１ｍｍｏｌ）と、無水テトラヒド
ロフラン６０ｍＬを加え撹拌する。ジメチル硫酸１３．
１７ｇ（１０４ｍｍｏｌ）を、０℃で５分を要して滴下
し、氷冷下で２時間撹拌を行い、更に無水テトラヒドロ
フラン４０ｍＬを加え、室温下３時間撹拌を続けてガス
の発生が終了するのを確認した。次にそこに６−ヒドロ
キシ−２−ナフタレンカルボン酸１２．５９ｇ（６６．
９０ｍｍｏｌ）とトリメチルホウ酸エステル６．９６ｇ
及び無水テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液を、滴下
ロートを用い、室温で３５分かけて滴下した。この反応
液を同温度で２時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷
却し、氷冷下、水２００ｍＬを加えて、３０分間室温で
激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去
させた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白
色結晶を水（２００ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時
間減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフ
タレンメタノールを白色結晶として１１．３１ｇ得た。
得られた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体ク
ロマトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２
−ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．９５％であ
り、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度
は９９．３０％（６４．９３ｍｍｏｌ、収率：９７．１
％）であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナ
フトアルデヒドは０．１０％、１−〔（６−ヒドロキシ
（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチ
ル）ナフタレン−２−オールは０．０４％、６−〔（６
−ヒドロキシ−２−ナフチルオキシ）メチル〕ナフタレ
ン−２−オールは０．１２％、（６−ヒドロキシ−２−
ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレン−２
−カルボキシレートは０．０７％及びその他の副生成物
が併せて０．３２％存在することが分かった。

【００５３】（実施例６）窒素雰囲気下、滴下ロート、
ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四
つ口フラスコに、実施例１と同様の操作により得られた
約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒド
ロフラン溶液２００ｍＬを入れ、そこに６−ヒドロキシ
−２−ナフタレンカルボン酸１８．８２ｇ（１００．０
ｍｍｏｌ）無水テトラヒドロフラン（１２０ｍＬ）溶液
を、滴下ロートを用い、室温で１時間かけて滴下した。
この反応液を同温度で７時間撹拌を行った。反応後、反
応液を冷却し、氷冷下、水２００ｍＬを加えて、３０分
間室温で激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフラ
ンを留去させた後、白色結晶を析出した。濾過により得
られた白色固体を水（３００ｍＬ）で洗浄した後、減圧
乾燥することにより白色固体１６．７３ｇを得た。得ら
れた白色固体の組成を、内部標準法を用いた液体クロマ
トグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンカルボン酸の反応率は９９．４４％であり、６
−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は８
７．６０％であった。副生成物として６−ヒドロキシ−
２−ナフトアルデヒドは０．１４％、１−〔（６−ヒド
ロキシ（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシ
メチル）ナフタレン−２−オールは３．５９％、６−
〔（６−ヒドロキシ−２−ナフチルオキシ）メチル〕ナ
フタレン−２−オールは３．２９％、（６−ヒドロキシ
−２−ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレ
ン−２−カルボキシレートは１．２４％及びその他の副
生物が併せて３．５８％存在することが分かった。

【００５４】（実施例７）窒素雰囲気下、滴下ロート、
ガス導入管、冷却管及び温度計を付した３００ｍＬの四
つ口フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム（純度：９８
％）３．９０ｇ（１０１ｍｍｏｌ）と、無水テトラヒド
ロフラン６０ｍＬを加え撹拌する。ジメチル硫酸１３．
２１ｇ（１０５ｍｍｏｌ）を、０℃で５分を要して滴下
し、氷冷下で２時間撹拌を行い、更に無水テトラヒドロ
フラン４０ｍＬを加え、室温下３時間撹拌を続けてガス
の発生が終了するのを確認した。次にそこに６−ヒドロ
キシ−２−ナフタレンカルボン酸９．７３ｇ（５１．７
１ｍｍｏｌ）及び無水テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）
溶液を、滴下ロートを用い、室温で２５分かけて滴下
し、滴下途中固まりになった。この反応液を同温度で７
時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、
水１５０ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌し
た。得られた反応溶液を、内部標準法を用いた液体クロ
マトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−
ナフタレンカルボン酸の反応率は６８．５３％であり、
６−ヒドロキシ−２−ナフラレンメタノールの収率は２
６．８％であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２
−ナフトアルデヒドは０．３６％、１−〔（６−ヒドロ
キシ（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメ
チル）ナフタレン−２−オールは８．２１％、６−
〔（６−ヒドロキシ−２−ナフチルオキシ）メチル〕ナ
フタレン−２−オールは６．１８％、（６−ヒドロキシ
−２−ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレ
ン−２−カルボキシレートは５．６６％及びその他の副
生成物が多数存在することが判明した。

【００５５】（実施例８）窒素雰囲気下、滴下漏斗とガ
ス導入管及び温度計を付した３００ｍＬの四つ口フラス
コに、水素化ホウ素ナトリウム（純度：９２％）５．４
９ｇ（０．１３４ｍｏｌ）と、無水テトラヒドロフラン
１００ｍＬを加え撹拌する。ジメチル硫酸１７．３５ｇ
（０．１３５ｍｏｌ）を、２０℃で３０分を要して滴下
し、更に、３時間撹拌を続けてガスの発生が終了するの
を確認した。生じたボラン−テトラヒドロフラン錯体を
２０℃に保持し、系中に生成したモノメチル硫酸塩を分
離するために、窒素雰囲気下上澄液をグラスフィルター
で濾過して別の５００ｍＬ容量の四つ口フラスコに移送
した。６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸１
２．６ｇ（０．０６７ｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラ
ン（８０ｍＬ）溶液を、滴下漏斗を用い、０℃で４０分
かけて、調製したボラン−テトラヒドロフランフラン錯
体溶媒液中に滴下した。この反応液を同温度で水素の発
生が完了するまで１５分撹拌を続け、更に、還流条件下
で４次間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷
下、水８０ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌し
た後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、ジ
エチルエーテル５００ｍＬで二回抽出し、得られた有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｍＬで、引き
続き飽和食塩水溶液１５０ｍＬで、洗浄した後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを減圧下除去
し、６−ヒドロキシ−２−ナフラレンメタノールを白色
結晶として１１．４５ｇ（０．０６６ｍｏｌ、収率：９
８．１％）得た。

【００５６】融点：１８１〜１８３℃ 元素分析：Ｃ₁₁Ｈ₁₀Ｏ₂（１７４．２０）として 計算値 Ｃ：７５．８４、Ｈ：５．７９ 分析値 Ｃ：７５．９０、Ｈ：５．８２ ＭＳ（ｍ／ｅ）：１７４（Ｍ⁺、１００％）、１５７、
１４５、１２７、１１５ ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１７、３１８３、２８６４、１６
０７、１２１４、１１７１、１００９、９９９、９０
３、８７１ｃｍ^-1

【００５７】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃＋
ＤＭＳＯ−ｄ⁶、δｐｐｍ）：９．０８（１Ｈ、ｂｒ
ｓ）、７．７０−７．５８（３Ｈ、ｍ）、７．４０（１
Ｈ、ｄ）、７．１０（２Ｈ、ｑ）、４．７２（２Ｈ、
ｓ）、２．９１（１Ｈ、ｂｒｓ）。¹³ Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃＋ＤＭＳＯ−
ｄ⁶、δｐｐｍ）：６３．２８、１０８．１０、１１
７．７９、１２４．１１、１２４．９２、１２５．２
３、１２７．０３、１２８．２０、１３３．１５、１３
５・５７、１５４．２３。

【００５８】

【発明の効果】本発明によれば、香料、樹脂、農薬及び
医薬等の合成原料として有用な６−ヒドロキシ−２−ナ
フタレンメタノールが得られ、またこの化合物を工業的
に有利に製造することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩根 寛 茨城県稲敷郡阿見町中央八丁目３番１号 三菱化学株式会社筑波研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC11 BA53 FC54 FE10 FE13 4H039 CA60 CB40

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（Ｉ）で表される６−ヒドロキシ
   −２−ナフチルカルビノール 【化１】
2. 【請求項２】 下記式（II）で表される６−ヒドロキシ
   −２−ナフタレンカルボン酸を還元することを特徴とす
   る６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方
   法。 【化２】
3. 【請求項３】 還元剤としてボラン類を用いる請求項２
   に記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの
   製造方法。
4. 【請求項４】 還元反応を下記一般式（III）、（I
   V）、（Ｖ）又は（VI）で表されるホウ酸エステル類の
   存在下で行う請求項３に記載の６−ヒドロキシ−２−ナ
   フチルカルビノールの製造方法。 【化３】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立して、アル
   キル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキル基又は
   アリール基を表す） 【化４】 （式中、Ｒ⁴はアルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子
   含有アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ′は置換基を
   有していてもよい炭素数２〜１０のアルキレン基を表
   す） 【化５】 （式中、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立して、アルキル
   基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキル基又はアリ
   ール基を表す） 【化６】 （式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は、それぞれ独立して、置換
   基を有していてもよいアルキレン基又はアルキレンオキ
   シ基を表し、Ｒ¹⁰は水素原子又はアルキル基を表し、Ｘ
   は炭素原子、窒素原子又はホウ素原子を表す。また、
   ａ，ｂ，ｃ及びｄは０又は１である）
5. 【請求項５】 ホウ酸エステル類がトリメチルホウ酸エ
   ステル又はトリエチルホウ酸エステルである請求項４に
   記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製
   造方法。
6. 【請求項６】 式（II）の化合物を水素化アルミニウム
   錯化合物により還元することを特徴とする６−ヒドロキ
   シ−２−ナフチルカルビノールの製造方法。