JP2001039729A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 製造する光ファイバ母材の重量に対して適切
なダミーロッドを選択し、結果的に光ファイバ母材を安
定して、かつ経済的に製造できる方法を提供する。 【解決手段】 ＯＶＤ法により光ファイバ母材を製造す
る際、ダミーロッドの直径Ｄ（ｍｍ）と製造される光フ
ァイバ母材の重量Ｗ（ｇ）の関係を、Ｄ／Ｗ０． ５≧
０．１３として光ファイバ母材を製造する方法。より好
ましくは、さらにＤ／Ｗ０．５≦０．２５として製造す
る。
なダミーロッドを選択し、結果的に光ファイバ母材を安
定して、かつ経済的に製造できる方法を提供する。 【解決手段】 ＯＶＤ法により光ファイバ母材を製造す
る際、ダミーロッドの直径Ｄ（ｍｍ）と製造される光フ
ァイバ母材の重量Ｗ（ｇ）の関係を、Ｄ／Ｗ０． ５≧
０．１３として光ファイバ母材を製造する方法。より好
ましくは、さらにＤ／Ｗ０．５≦０．２５として製造す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ母材の
製造方法、特にＯＶＤ法による光ファイバ母材の製造方
法に関する。
製造方法、特にＯＶＤ法による光ファイバ母材の製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ファイバを製造するにあたり、
いきなり極細のファイバを作ると屈折率分布を最適に制
御するのが困難である等の理由から、まず第１段階とし
て、同じ屈折率分布を有する棒状の光ファイバ母材が製
造される。
いきなり極細のファイバを作ると屈折率分布を最適に制
御するのが困難である等の理由から、まず第１段階とし
て、同じ屈折率分布を有する棒状の光ファイバ母材が製
造される。
【０００３】このような光ファイバ母材の製造方法のひ
とつにいわゆるＯＶＤ法（外付けＣＶＤ法）があり、コ
アロッドの表面に光ファイバ原料の四塩化ケイ素等を酸
素、水素ガスとともに吹付け、酸水素バーナにより火炎
加水分解反応を起こさせてスートを堆積して多孔質母材
を形成し、これを脱水、焼結ガラス化を行い、さらに次
工程の線引機の設備に対応した外径、長さに修正するた
め、ガラス旋盤等で延伸加工を行っている。
とつにいわゆるＯＶＤ法（外付けＣＶＤ法）があり、コ
アロッドの表面に光ファイバ原料の四塩化ケイ素等を酸
素、水素ガスとともに吹付け、酸水素バーナにより火炎
加水分解反応を起こさせてスートを堆積して多孔質母材
を形成し、これを脱水、焼結ガラス化を行い、さらに次
工程の線引機の設備に対応した外径、長さに修正するた
め、ガラス旋盤等で延伸加工を行っている。
【０００４】前記ＯＶＤ法により光ファイバ母材を製造
する従来の方法をさらに詳しく説明すると、まずＶＡＤ
法により製造されたコアロッドの両端部にダミーロッド
を溶着し、コアロッドと一体化された両端のダミーロッ
ドを把持してコアロッドを水平に保ったまま軸周りに回
転させつつ、さらにその表面に前記光ファイバ原料を酸
素、水素ガスとともに吹付け、酸水素バーナにより火炎
加水分解反応を起こさせて、多孔質母材を形成するよう
にしている。そしてこの多孔質母材を脱水、焼結ガラス
化して光ファイバ母材を得ている。
する従来の方法をさらに詳しく説明すると、まずＶＡＤ
法により製造されたコアロッドの両端部にダミーロッド
を溶着し、コアロッドと一体化された両端のダミーロッ
ドを把持してコアロッドを水平に保ったまま軸周りに回
転させつつ、さらにその表面に前記光ファイバ原料を酸
素、水素ガスとともに吹付け、酸水素バーナにより火炎
加水分解反応を起こさせて、多孔質母材を形成するよう
にしている。そしてこの多孔質母材を脱水、焼結ガラス
化して光ファイバ母材を得ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記のようにＯＶＤ法
により光ファイバ母材を製造する場合、光ファイバ原料
をコアロッドに堆積させる前、あるいは堆積させた最初
の段階では、ダミーロッドにかかる負荷は略コアロッド
の重量によるものだけであるので、ダミーロッドの強度
に関する問題はほとんどない。しかしながら、光ファイ
バの原料が堆積していくに連れてダミーロッドにかかる
負荷も増していくため、最終的に製造される光ファイバ
母材の重量を考慮してダミーロッドを選択する必要があ
る。従来、上記負荷により製造中に生じ得るダミーロッ
ドのクラックを防止するため、ダミーロッドを予熱用バ
ーナで予熱することでその防止を図ってきた。
により光ファイバ母材を製造する場合、光ファイバ原料
をコアロッドに堆積させる前、あるいは堆積させた最初
の段階では、ダミーロッドにかかる負荷は略コアロッド
の重量によるものだけであるので、ダミーロッドの強度
に関する問題はほとんどない。しかしながら、光ファイ
バの原料が堆積していくに連れてダミーロッドにかかる
負荷も増していくため、最終的に製造される光ファイバ
母材の重量を考慮してダミーロッドを選択する必要があ
る。従来、上記負荷により製造中に生じ得るダミーロッ
ドのクラックを防止するため、ダミーロッドを予熱用バ
ーナで予熱することでその防止を図ってきた。
【０００６】ところが、近年では光ファイバ母材も大重
量化し、特に、５０ｋｇを超える大型の光ファイバ母材
が製造されている。このように大型化した光ファイバ母
材を製造するには、それを安定して支えることができる
ダミーロッドを使用する必要があるが、前記したような
予熱バーナによりダミーロッドに予熱を施しても、コア
ロッドに光ファイバ原料を堆積する途中で高重量に耐え
切れず、ダミーロッドにクラックが入り、長時間かけて
製造した光ファイバ母材が落下して台無しになってしま
う場合もあった。
量化し、特に、５０ｋｇを超える大型の光ファイバ母材
が製造されている。このように大型化した光ファイバ母
材を製造するには、それを安定して支えることができる
ダミーロッドを使用する必要があるが、前記したような
予熱バーナによりダミーロッドに予熱を施しても、コア
ロッドに光ファイバ原料を堆積する途中で高重量に耐え
切れず、ダミーロッドにクラックが入り、長時間かけて
製造した光ファイバ母材が落下して台無しになってしま
う場合もあった。
【０００７】一方、ダミーロッドにクラックが入るのを
防ぐため、太いダミーロッドを使用する方法が考えられ
るが、やたらに太いダミーロッドを使用すると、ダミー
ロッドを製造する材料が余分に必要となるばかりでな
く、ダミーロッド自体の製造時間も長くなるため、結果
的に光ファイバ母材の製造コストが上昇してしまうとい
う問題がある。
防ぐため、太いダミーロッドを使用する方法が考えられ
るが、やたらに太いダミーロッドを使用すると、ダミー
ロッドを製造する材料が余分に必要となるばかりでな
く、ダミーロッド自体の製造時間も長くなるため、結果
的に光ファイバ母材の製造コストが上昇してしまうとい
う問題がある。
【０００８】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたもので、製造する光ファイバ母材の重量に対して
適切なダミーロッドを選択し、結果的に光ファイバ母材
を安定して、かつ経済的に製造できる方法を提供するこ
とを目的としている。
されたもので、製造する光ファイバ母材の重量に対して
適切なダミーロッドを選択し、結果的に光ファイバ母材
を安定して、かつ経済的に製造できる方法を提供するこ
とを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明者らは、製造する光ファイバ母材の重量とダ
ミーロッドの直径との比率に注目して鋭意研究した結
果、以下のように光ファイバ母材を製造することで、上
記目的を達成できることを見出した。
め、本発明者らは、製造する光ファイバ母材の重量とダ
ミーロッドの直径との比率に注目して鋭意研究した結
果、以下のように光ファイバ母材を製造することで、上
記目的を達成できることを見出した。
【００１０】本発明の請求項１に記載した発明は、コア
ロッドの両端部にダミーロッドを溶着し、該ダミーロッ
ドを把持して軸周りに回転させつつ、コアロッドの表面
に火炎を吹きつけて光ファイバ原料を堆積させるＯＶＤ
法による光ファイバ母材を製造する方法であって、ダミ
ーロッドの直径Ｄ（ｍｍ）と製造される光ファイバ母材
の重量Ｗ（ｇ）の関係を、Ｄ／Ｗ０．５≧０．１３とし
て製造することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法
である。
ロッドの両端部にダミーロッドを溶着し、該ダミーロッ
ドを把持して軸周りに回転させつつ、コアロッドの表面
に火炎を吹きつけて光ファイバ原料を堆積させるＯＶＤ
法による光ファイバ母材を製造する方法であって、ダミ
ーロッドの直径Ｄ（ｍｍ）と製造される光ファイバ母材
の重量Ｗ（ｇ）の関係を、Ｄ／Ｗ０．５≧０．１３とし
て製造することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法
である。
【００１１】このように、ダミーロッドの直径と製造す
る光ファイバ母材の重量とを、上記式を満足するように
して光ファイバ母材を製造すれば、製造中にダミーロッ
ドにクラックが生じることがなく、安全かつ経済的に光
ファイバ母材を製造することができる。
る光ファイバ母材の重量とを、上記式を満足するように
して光ファイバ母材を製造すれば、製造中にダミーロッ
ドにクラックが生じることがなく、安全かつ経済的に光
ファイバ母材を製造することができる。
【００１２】この場合、請求項２に記載したように、さ
らにＤ／Ｗ０．５≦０．２５として製造することが好ま
しい。このようにＤ／Ｗ０．５≦０．２５として上限を
設けることで、ダミーロッドを必要以上に太くすること
なく、より経済的に光ファイバ母材を製造することがで
きる。
らにＤ／Ｗ０．５≦０．２５として製造することが好ま
しい。このようにＤ／Ｗ０．５≦０．２５として上限を
設けることで、ダミーロッドを必要以上に太くすること
なく、より経済的に光ファイバ母材を製造することがで
きる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、本発明において使用されている光ファイバ母
材とは、光ファイバ多孔質母材あるいは多孔質母材、さ
らにこれらを燒結してガラス化したものを総称したもの
を意味している。
て説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、本発明において使用されている光ファイバ母
材とは、光ファイバ多孔質母材あるいは多孔質母材、さ
らにこれらを燒結してガラス化したものを総称したもの
を意味している。
【００１４】本発明は、ダミーロッドの直径Ｄ（ｍｍ）
と製造される光ファイバ母材の重量Ｗ（ｇ）の関係がＤ
／Ｗ０．５≧０．１３を満たすようにしてＯＶＤ法によ
り光ファイバを製造するものであって、図１は、ＯＶＤ
法により光ファイバ母材を製造する概略図を示してい
る。コアロッド２の両端部に溶着されたダミーロッド３
が、光ファイバ母材製造装置のチャック（図示せず）に
より把持され、コアロッド２は、駆動モータ（図示せ
ず）により回転自在に保持されている。コアロッド２の
表面にはクラッド部４の原料となる四塩化ケイ素（Ｓｉ
Ｃｌ４）のファイバ原料を、酸素（Ｏ２）、水素
（Ｈ２）ガス等とともに吹き付けられ、コアロッド２の
長手方向に往復運動する酸水素バーナ５により火炎加水
分解反応を起こさせてクラッド部４を形成させ、光ファ
イバ多孔質母材１を製造している。
と製造される光ファイバ母材の重量Ｗ（ｇ）の関係がＤ
／Ｗ０．５≧０．１３を満たすようにしてＯＶＤ法によ
り光ファイバを製造するものであって、図１は、ＯＶＤ
法により光ファイバ母材を製造する概略図を示してい
る。コアロッド２の両端部に溶着されたダミーロッド３
が、光ファイバ母材製造装置のチャック（図示せず）に
より把持され、コアロッド２は、駆動モータ（図示せ
ず）により回転自在に保持されている。コアロッド２の
表面にはクラッド部４の原料となる四塩化ケイ素（Ｓｉ
Ｃｌ４）のファイバ原料を、酸素（Ｏ２）、水素
（Ｈ２）ガス等とともに吹き付けられ、コアロッド２の
長手方向に往復運動する酸水素バーナ５により火炎加水
分解反応を起こさせてクラッド部４を形成させ、光ファ
イバ多孔質母材１を製造している。
【００１５】本発明にかかる光ファイバ母材の製造方法
は、上記したようなＯＶＤ法が適用されるが、本発明で
は、製造する光ファイバ母材の重量を安定して保持でき
るダミーロッドとして、ダミーロッドの直径Ｄ（ｍｍ）
と製造される光ファイバ母材の重量Ｗ（ｇ）の関係をＤ
／Ｗ０．５≧０．１３として光ファイバ母材の製造を行
う。上記関係を満たすダミーロッドを使用することによ
り、コアロッドの表面にクラッド部材が堆積して高重量
となっても、ダミーロッドにクラックが入ることがな
く、製造工程中、最後まで安定して光ファイバ母材を保
持することができる。
は、上記したようなＯＶＤ法が適用されるが、本発明で
は、製造する光ファイバ母材の重量を安定して保持でき
るダミーロッドとして、ダミーロッドの直径Ｄ（ｍｍ）
と製造される光ファイバ母材の重量Ｗ（ｇ）の関係をＤ
／Ｗ０．５≧０．１３として光ファイバ母材の製造を行
う。上記関係を満たすダミーロッドを使用することによ
り、コアロッドの表面にクラッド部材が堆積して高重量
となっても、ダミーロッドにクラックが入ることがな
く、製造工程中、最後まで安定して光ファイバ母材を保
持することができる。
【００１６】さらに、Ｄ／Ｗ０．５≦０．２５として上
限を設けて光ファイバ母材を製造することが好ましい。
すなわち、０．１３≦Ｄ／Ｗ０．５≦０．２５を満たす
ダミーロッドを使用することが最も好ましく、製造工程
中、クラックを生じることなく、安定して光ファイバ母
材を製造することができる上、必要以上に太いダミーロ
ッドを使用することなく、より経済的に光ファイバ母材
を製造することができる。
限を設けて光ファイバ母材を製造することが好ましい。
すなわち、０．１３≦Ｄ／Ｗ０．５≦０．２５を満たす
ダミーロッドを使用することが最も好ましく、製造工程
中、クラックを生じることなく、安定して光ファイバ母
材を製造することができる上、必要以上に太いダミーロ
ッドを使用することなく、より経済的に光ファイバ母材
を製造することができる。
【００１７】すなわち、本発明では、前記課題を解決す
べく以下のようなテストを行った。直径がそれぞれ２０
ｍｍ、２５ｍｍ、３０ｍｍ、３５ｍｍ、４０ｍｍのダミ
ーロッドを用意し、これらのダミーロッドをコアロッド
に溶着してＯＶＤ法により光ファイバ母材を製造した。
光ファイバ母材が所定の重量に達したところでクラッド
層の堆積を中止し、ダミーロッドにクラックが生じてい
るか否か調べた。
べく以下のようなテストを行った。直径がそれぞれ２０
ｍｍ、２５ｍｍ、３０ｍｍ、３５ｍｍ、４０ｍｍのダミ
ーロッドを用意し、これらのダミーロッドをコアロッド
に溶着してＯＶＤ法により光ファイバ母材を製造した。
光ファイバ母材が所定の重量に達したところでクラッド
層の堆積を中止し、ダミーロッドにクラックが生じてい
るか否か調べた。
【００１８】図２は、上記製造した光ファイバ母材の重
量とダミーロッドに生じたクラックの発生率との関係を
示したものである。このグラフにはＤ／Ｗ０．５＝０．
１３で表される曲線が描かれているが、その曲線より上
の領域、つまりＤ／Ｗ０．５＜０．１３を満たすような
重量の光ファイバ母材を製造した場合、いくつかのダミ
ーロッドにクラックが生じ、製造途中に光ファイバ母材
が落下してしまう恐れがある。 一方、Ｄ／Ｗ０．５＝
０．１３の曲線より下の領域、つまりＤ／Ｗ０ ．５≧
０．１３を満たすような重量の光ファイバ母材を製造し
た場合、いずれの太さのダミーロッドにもクラックが生
じることはなく、クラック発生率は０％であった。
量とダミーロッドに生じたクラックの発生率との関係を
示したものである。このグラフにはＤ／Ｗ０．５＝０．
１３で表される曲線が描かれているが、その曲線より上
の領域、つまりＤ／Ｗ０．５＜０．１３を満たすような
重量の光ファイバ母材を製造した場合、いくつかのダミ
ーロッドにクラックが生じ、製造途中に光ファイバ母材
が落下してしまう恐れがある。 一方、Ｄ／Ｗ０．５＝
０．１３の曲線より下の領域、つまりＤ／Ｗ０ ．５≧
０．１３を満たすような重量の光ファイバ母材を製造し
た場合、いずれの太さのダミーロッドにもクラックが生
じることはなく、クラック発生率は０％であった。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を実施例を示してより具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 （実施例）コアロッドの両端に溶着した直径３５ｍｍの
ダミーロッドを、光ファイバ母材製造装置のチャックで
把持してゆっくり回転させ、クラッド部の原料となる四
塩化ケイ素（ＳｉＣｌ４）のファイバ原料を、酸素（Ｏ
２）、水素（Ｈ２）ガス等とともにコアロッドの表面に
吹き付けながら、酸水素バーナにより火炎加水分解反応
を起こさせてクラッド部を形成し、７０ｋｇの光ファイ
バ多孔質母材を製造した。なお、この場合のコアロッド
の直径（３５ｍｍ）と光ファイバ多孔質母材の重量（７
００００ｇ）を前記関係式Ｄ／Ｗ０．５に当てはめてみ
ると、（３５／７００００１／２）≒０．１３２≧０．
１３となり、本発明の製造方法にしたがって製造されて
いる。上記のように製造された光ファイバ多孔質母材の
コアロッドには全くクラックが入っていなかった。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 （実施例）コアロッドの両端に溶着した直径３５ｍｍの
ダミーロッドを、光ファイバ母材製造装置のチャックで
把持してゆっくり回転させ、クラッド部の原料となる四
塩化ケイ素（ＳｉＣｌ４）のファイバ原料を、酸素（Ｏ
２）、水素（Ｈ２）ガス等とともにコアロッドの表面に
吹き付けながら、酸水素バーナにより火炎加水分解反応
を起こさせてクラッド部を形成し、７０ｋｇの光ファイ
バ多孔質母材を製造した。なお、この場合のコアロッド
の直径（３５ｍｍ）と光ファイバ多孔質母材の重量（７
００００ｇ）を前記関係式Ｄ／Ｗ０．５に当てはめてみ
ると、（３５／７００００１／２）≒０．１３２≧０．
１３となり、本発明の製造方法にしたがって製造されて
いる。上記のように製造された光ファイバ多孔質母材の
コアロッドには全くクラックが入っていなかった。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ファイ
バ母材の製造方法によれば、ＯＶＤ法により光ファイバ
母材を製造する際、製造する光ファイバ母材の重量か
ら、安定して支持できるダミーロッドの太さを容易に計
算でき、そのようなダミーロッドを使用することによ
り、製造工程中ダミーロッドにクラックが生じることが
なく、安定して光ファイバ母材を製造することができ
る。逆にダミーロッドの太さから、安定して製造するこ
とができる光ファイバ母材の重量も算出できるため、光
ファイバ母材が落下してしまうようなことを防ぐことが
できる。さらに、必要以上に太いダミーロッドを使用す
ることがないため、ダミーロッド自体の無駄もなく、結
果的に低コストで光ファイバ母材を製造することができ
る。
バ母材の製造方法によれば、ＯＶＤ法により光ファイバ
母材を製造する際、製造する光ファイバ母材の重量か
ら、安定して支持できるダミーロッドの太さを容易に計
算でき、そのようなダミーロッドを使用することによ
り、製造工程中ダミーロッドにクラックが生じることが
なく、安定して光ファイバ母材を製造することができ
る。逆にダミーロッドの太さから、安定して製造するこ
とができる光ファイバ母材の重量も算出できるため、光
ファイバ母材が落下してしまうようなことを防ぐことが
できる。さらに、必要以上に太いダミーロッドを使用す
ることがないため、ダミーロッド自体の無駄もなく、結
果的に低コストで光ファイバ母材を製造することができ
る。
【００２１】また、本発明による光ファイバ母材の製造
方法は、前記したＤ／Ｗ０．５≧０．１３の関係を満た
すダミーロッドを使用して光ファイバ母材を製造する以
外、従来のＯＶＤ法をそのまま適用できるため、新たな
装置や設備を備えたり、変更すら必要もなく、コスト抑
えたまま安定して光ファイバ母材を製造することができ
る。
方法は、前記したＤ／Ｗ０．５≧０．１３の関係を満た
すダミーロッドを使用して光ファイバ母材を製造する以
外、従来のＯＶＤ法をそのまま適用できるため、新たな
装置や設備を備えたり、変更すら必要もなく、コスト抑
えたまま安定して光ファイバ母材を製造することができ
る。
【図１】ＯＶＤ法により光ファイバ多孔質母材を製造す
る概略図である。
る概略図である。
【図２】ダミーロッド径と製造された光ファイバ母材の
重量との関係において、クラック発生率を示すグラフで
ある。
重量との関係において、クラック発生率を示すグラフで
ある。
１…光ファイバ多孔質母材、 ２…コアロッド、 ３…
ダミーロッド、 ４…クラッド部、 ５…バーナ。
ダミーロッド、 ４…クラッド部、 ５…バーナ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平沢 秀夫 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 Ｆターム(参考） 4G021 EA03 EB13
Claims (2)
- 【請求項１】 コアロッドの両端部にダミーロッドを溶
着し、該ダミーロッドを把持して軸周りに回転させつ
つ、コアロッドの表面に火炎を吹きつけて光ファイバ原
料を堆積させるＯＶＤ法による光ファイバ母材を製造す
る方法であって、ダミーロッドの直径Ｄ（ｍｍ）と製造
される光ファイバ母材の重量Ｗ（ｇ）の関係を、Ｄ／Ｗ
０．５≧０．１３として製造することを特徴とする光フ
ァイバ母材の製造方法。 - 【請求項２】 さらにＤ／Ｗ０．５≦０．２５として製
造することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ母
材の製造方法。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20917799A JP2001039729A (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 光ファイバ母材の製造方法 |
| DE60019029T DE60019029T2 (de) | 1999-07-02 | 2000-06-30 | Verfahren und Vorrichtung zum herstellen einer Vorform aus Glas für optische Fasern mittels des Aussenabscheidungsverfahrens |
| KR1020000036991A KR100651146B1 (ko) | 1999-07-02 | 2000-06-30 | 유리 모재를 제조하는 장치 및 그 방법 |
| EP00250218A EP1065175B1 (en) | 1999-07-02 | 2000-06-30 | Method and apparatus for manufacturing a glass optical fibre preform by the outside vapour deposition process |
| TW093137247A TWI260310B (en) | 1999-07-02 | 2000-07-01 | Glass base material manufacturing apparatus and glass base material manufacturing method |
| TW093132318A TW200505807A (en) | 1999-07-02 | 2000-07-01 | Glass base material manufacturing apparatus and glass base material manufacturing method |
| TW089113004A TWI229057B (en) | 1999-07-02 | 2000-07-01 | Glass base material manufacturing apparatus |
| US09/609,389 US6546759B1 (en) | 1999-07-02 | 2000-07-03 | Glass base material manufacturing apparatus with super imposed back-and-forth burner movement |
| US10/370,494 US7055345B2 (en) | 1999-07-02 | 2003-02-24 | Glass base material manufacturing apparatus and glass base material manufacturing method |
| US10/373,224 US6672112B2 (en) | 1999-07-02 | 2003-02-26 | OVD apparatus including air-regulating structure |
| KR1020060041200A KR100691668B1 (ko) | 1999-07-02 | 2006-05-08 | 유리 모재를 제조하는 장치 및 그 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20917799A JP2001039729A (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001039729A true JP2001039729A (ja) | 2001-02-13 |
Family
ID=16568619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20917799A Pending JP2001039729A (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-23 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001039729A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI380966B (zh) * | 2004-10-25 | 2013-01-01 | Shinetsu Chemical Co | 光纖用母材以及光纖與其製造方法 |
-
1999
- 1999-07-23 JP JP20917799A patent/JP2001039729A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI380966B (zh) * | 2004-10-25 | 2013-01-01 | Shinetsu Chemical Co | 光纖用母材以及光纖與其製造方法 |
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