JP2001036206A - Wiring board and its manufacture - Google Patents

Wiring board and its manufacture

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JP2001036206A
JP2001036206A JP20818699A JP20818699A JP2001036206A JP 2001036206 A JP2001036206 A JP 2001036206A JP 20818699 A JP20818699 A JP 20818699A JP 20818699 A JP20818699 A JP 20818699A JP 2001036206 A JP2001036206 A JP 2001036206A
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JP
Japan
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conductor layer
ceramic
wiring
auxiliary
conductive paste
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JP20818699A
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Japanese (ja)
Inventor
Keisuke Tokito
啓介 時任
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board in which through hole conductor layers can be formed at a high density and the occurrence of peeling, swelling, etc., in its insulating substrate can be prevented effectively, and then, a wiring conductor layer, etc., can be conducted surely. SOLUTION: A wiring board is composed of an insulating substrate 1 made of an electric insulating material and having through hole conductor layers of <=60 μm in diameter; and a wiring conductor layer 2 having a two-layer structure of a conductor layer 2a formed in and/or on the substrate 1 and composed of metallic powder having a mean particle diameter of <=5 μm and an auxiliary conductor layer 2b composed of metallic powder having a mean particle diameter of 6-20 μm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子や容量素
子、抵抗器等の電子部品が搭載される配線基板に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring board on which electronic components such as a semiconductor element, a capacitor, and a resistor are mounted.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体素子や容量素子、抵抗器等
の電子部品が搭載される配線基板は、酸化アルミニウム
質焼結体から成る絶縁基体の内部及び表面にタングステ
ン、モリブデン等の高融点金属材料から成る配線導体層
およびスルーホール導体層を形成した構造を有してお
り、絶縁基体表面に半導体素子や容量素子、抵抗器等の
電子部品が搭載されるとともに各電子部品の電極が配線
導体層等に電気的に接続させるようになっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a wiring board on which electronic components such as a semiconductor element, a capacitance element and a resistor are mounted has a high melting point metal such as tungsten, molybdenum or the like on and inside an insulating substrate made of an aluminum oxide sintered body. It has a structure in which a wiring conductor layer made of a material and a through-hole conductor layer are formed, and electronic components such as semiconductor elements, capacitance elements, and resistors are mounted on the surface of the insulating base, and the electrodes of each electronic component are connected to the wiring conductor. It is electrically connected to a layer or the like.

【0003】かかる配線基板は、一般に、セラミックス
の積層技術及びスクリーン印刷等の厚膜形成技術を採用
することによって製作されており、具体的には以下の方
法によって製作される。
[0003] Such a wiring board is generally manufactured by employing a ceramic laminating technique and a thick film forming technique such as screen printing, and specifically manufactured by the following method.

【0004】即ち、 (1)まず、酸化アルミニウム(Al2 3 )、酸化珪
素(SiO2 )、酸化マグネシウム(MgO)、酸化カ
ルシウム(CaO)等から成るセラミックス原料粉末に
有機溶剤、溶媒を添加混合して泥漿物を作り、次にこれ
を従来周知のドクターブレード法やカレンダーロール法
等によりシート状に形成して複数枚のセラミックグリー
ンシート(セラミック生シート)を得る。そして各セラ
ミックグリーンシートの上面側から下面側にかけて金属
製の打ち抜きピンを押圧し、各セラミックグリーンシー
トの所定位置に厚み方向に貫通するスルーホールを形成
する。
[0004] (1) First, an organic solvent and a solvent are added to a ceramic raw material powder composed of aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon oxide (SiO 2 ), magnesium oxide (MgO), calcium oxide (CaO) and the like. The mixture is mixed to form a slurry, and then formed into a sheet by a conventionally known doctor blade method, calender roll method, or the like to obtain a plurality of ceramic green sheets (ceramic green sheets). Then, a metal punching pin is pressed from the upper surface side to the lower surface side of each ceramic green sheet to form a through hole penetrating in a thickness direction at a predetermined position of each ceramic green sheet.

【0005】(2)次に、前記セラミックグリーンシー
トの少なくとも1つの表面及びスルーホール内に、タン
グステンやモリブデン粉末に有機溶剤、溶媒を添加混合
して得た導電ペーストをスクリーン印刷法により所定パ
ターンに印刷塗布する。
(2) Next, a conductive paste obtained by adding an organic solvent and a solvent to a tungsten or molybdenum powder is mixed into at least one surface of the ceramic green sheet and in the through hole into a predetermined pattern by a screen printing method. Print and apply.

【0006】(3)そして最後に前記導電ペーストを印
刷塗布した各セラミックグリーンシートを上下に積層す
るとともに還元雰囲気中、約1600℃の温度で焼成
し、有機溶剤、溶媒を気化除去するとともに、セラミッ
クグリーンシートと導電ペーストとを焼結一体化するこ
とによって絶縁基体の内部及び表面に所定パターンの配
線導体層及びスルーホール導体層を有する配線基板が完
成する。
(3) Finally, the ceramic green sheets on which the conductive paste is applied by printing are laminated one above the other and fired at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere to evaporate and remove the organic solvent and the solvent. By sintering and integrating the green sheet and the conductive paste, a wiring substrate having a predetermined pattern of wiring conductor layers and through-hole conductor layers inside and on the surface of the insulating base is completed.

【0007】しかしながら、この従来の配線基板におい
ては、スルーホール導体層を形成するためのスルーホー
ルがセラミックグリーンシートの上面側から下面側にか
けて金属製の打ち抜きピンを押圧することによって形成
されており、該打ち抜きピンは機械的強度の関係から直
径を80μm未満とすることができず、その結果、打ち
抜きピンを用いて形成されるスルーホール及び該スルー
ホール内に形成されるスルーホール導体層は直径が80
μm以上となり、スルーホール導体層を高密度に形成す
ることができないという欠点を有していた。
However, in this conventional wiring board, through holes for forming through-hole conductor layers are formed by pressing metal punching pins from the upper surface side to the lower surface side of the ceramic green sheet. The diameter of the punched pin cannot be less than 80 μm due to the mechanical strength. As a result, the diameter of the through-hole formed by using the punched pin and the diameter of the through-hole conductor layer formed in the through-hole are reduced. 80
μm or more, and the through-hole conductor layer cannot be formed with high density.

【0008】そこで上記欠点を解消するためにセラミッ
クグリーンシートを感光性とし、所定領域に光を照射し
て光硬化させるとともに非硬化領域を現像により除去す
る、いわゆるフォトリソグラフィー技術を採用すること
によって直径が約60μm程度の微細なスルーホールを
形成することが提案されている(特開平6−30581
4号公報参照)。
In order to solve the above-mentioned drawbacks, the ceramic green sheet is made photosensitive by irradiating a predetermined area with light to harden the light and at the same time remove the uncured area by development. Has been proposed to form a fine through hole of about 60 μm (Japanese Patent Laid-Open No. 6-30581).
No. 4).

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、感光性
のセラミックグリーンシートを用いて配線基板を製造し
た場合、光硬化後のセラミックシートは内部および表面
に網目状の構造を有する有機樹脂が存在し、該網目状の
有機樹脂は有機物の移動を妨げるため、配線導体層およ
びスルーホール導体層となる導電ペーストが印刷塗布さ
れている光硬化後のセラミックシートを上下に積層し、
焼成した時、導電ペーストから気化排出された有機溶
剤、溶媒等のガス状の有機物は外部に効率よく移動放出
させることができず、上下の光硬化したセラミックシー
ト間に滞留し、その結果、上下の光硬化したセラミック
シート間に剥離が発生し、これが焼成後に得られる絶縁
基体にフクレ等を生じさせて外観不良や絶縁基体の機械
的強度の低下を招来し、同時に絶縁基体内部の配線導体
層やスルーホール導体層に断線等を発生させるという欠
点が誘発される。
However, when a wiring board is manufactured using a photosensitive ceramic green sheet, the photocured ceramic sheet contains an organic resin having a mesh-like structure inside and on the surface. The mesh-shaped organic resin hinders the movement of organic substances, the upper and lower layers of the photo-cured ceramic sheet on which a conductive paste to be a wiring conductor layer and a through-hole conductor layer is applied by printing,
When baked, gaseous organic substances such as organic solvents and solvents vaporized and discharged from the conductive paste cannot be efficiently moved and released to the outside, and remain between the upper and lower photo-cured ceramic sheets. Separation occurs between the photo-cured ceramic sheets, which causes blisters and the like on the insulating substrate obtained after firing, resulting in poor appearance and a decrease in mechanical strength of the insulating substrate, and at the same time, the wiring conductor layer inside the insulating substrate. And the like that a disconnection or the like occurs in the through-hole conductor layer.

【0010】特に、近年、配線導体層はパターンの複雑
化、高密度化が著しく、この場合、配線導体層となる導
電ペーストより気化排出されるガス状の有機物の量が多
く、パターンが複雑でガスが排出され難いことから、絶
縁基体のうち配線導体層となる導電ペーストが高密度で
印刷塗布されているセラミックグリーンシートの上下に
位置する部位におけるフクレ等の発生が顕著となる欠点
を有していた。
In particular, in recent years, the wiring conductor layer has been significantly complicated in pattern and high in density. In this case, the amount of gaseous organic substances vaporized and discharged from the conductive paste serving as the wiring conductor layer is large, and the pattern is complicated. Since the gas is difficult to be discharged, there is a disadvantage that blisters and the like are remarkably generated in portions of the insulating base located above and below the ceramic green sheet on which the conductive paste to be the wiring conductor layer is printed and applied at a high density. I was

【0011】本発明は上記欠点に鑑み案出されたもの
で、その目的はスルーホール導体層を高密度に形成する
ことができるとともに、絶縁基体に剥離やフクレ等が発
生するのを有効に防止し、配線導体層等の導通を確実と
した配線基板、及びその製造方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and an object of the present invention is to form a through-hole conductor layer at a high density and to effectively prevent peeling, blistering, and the like from occurring on an insulating substrate. It is another object of the present invention to provide a wiring board that ensures conduction of a wiring conductor layer and the like, and a method of manufacturing the wiring board.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の配線基板は、電
気絶縁材料から成り直径60μm以下のスルーホール導
体層を有する絶縁基体と、前記絶縁基体の内部及び/ま
たは表面に形成され、平均粒径が5μm以下の金属粉末
から成る導体層と平均粒径が6μm〜20μmの金属粉
末から成る補助導体層の2層構造を有する配線導体層と
から成ることを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a wiring board comprising an insulating base made of an electrically insulating material and having a through-hole conductor layer having a diameter of not more than 60 μm, and an average particle formed on the inside and / or surface of the insulating base. A wiring conductor layer having a two-layer structure of a conductor layer made of metal powder having a diameter of 5 μm or less and an auxiliary conductor layer made of metal powder having an average particle diameter of 6 μm to 20 μm.

【0013】また、本発明の配線基板の製造方法は、
(1)感光性樹脂組成物にセラミック粉末を分散させた
複数枚の感光性セラミックグリーンシートと、平均粒径
が5μm以下の金属粉末に有機溶剤を添加した導電ペー
ストと、平均粒径が6μm〜10μmの金属粉末に有機
溶剤を添加した補助導電ペーストとを作製する工程と、
(2)前記感光性セラミックグリーンシートの所定領域
に光を照射し所定領域の感光性樹脂組成物を光硬化させ
るとともに現像して厚み方向に貫通するスルーホールを
有する複数枚の光硬化セラミックシートを形成する工程
と、(3)前記導電ペーストを用いて、前記光硬化セラ
ミックシートのスルーホール内にスルーホール用導体層
を形成する工程と、(4)前記導電ペースト及び補助導
電ペーストを用いて、前記光硬化セラミックシートの表
面に、導体用層と補助導体用層の2層構造を有する所定
パターンの配線用導体層を形成する工程と、(5)前記
配線用導体層およびスルーホール用導体層を有する複数
枚の光硬化セラミックシートを上下に積層するとともに
焼成し、セラミックから成る絶縁基体の内部及び/また
は表面に、平均粒径が5μm以下の金属粒子から成る導
体層と平均粒径が6μm〜10μmの金属粒子から成る
補助導体層の2層構造を有する配線導体層、及びスルー
ホール導体層を形成する工程とから成ることを特徴とす
るものである。
Further, the method for manufacturing a wiring board according to the present invention comprises:
(1) A plurality of photosensitive ceramic green sheets in which ceramic powder is dispersed in a photosensitive resin composition, a conductive paste obtained by adding an organic solvent to metal powder having an average particle diameter of 5 μm or less, and an average particle diameter of 6 μm to Producing an auxiliary conductive paste obtained by adding an organic solvent to 10 μm metal powder;
(2) A plurality of photo-cured ceramic sheets having through holes penetrating in a thickness direction by irradiating light to a predetermined area of the photosensitive ceramic green sheet and photo-curing and developing the photosensitive resin composition in the predetermined area. Forming; (3) forming a conductive layer for through holes in the through holes of the photocurable ceramic sheet using the conductive paste; and (4) using the conductive paste and auxiliary conductive paste. Forming a wiring conductor layer of a predetermined pattern having a two-layer structure of a conductor layer and an auxiliary conductor layer on the surface of the photocurable ceramic sheet; and (5) the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer. A plurality of photo-cured ceramic sheets having Forming a wiring conductor layer having a two-layer structure of a conductor layer composed of metal particles having a particle diameter of 5 μm or less, an auxiliary conductor layer composed of metal particles having an average particle diameter of 6 μm to 10 μm, and a through-hole conductor layer. It is a feature.

【0014】本発明の配線基板によれば、配線導体層や
スルーホール導体層が形成される絶縁基体を例えば感光
性樹脂にセラミック粉末を分散混入させた感光性のセラ
ミックグリーンシートを使用することによって製作した
ことから、セラミックグリーンシートの所定位置に光を
照射し所定領域の感光性樹脂組成物を光硬化させるとと
もに未硬化の領域の感光性樹脂組成物を現像により除去
することによってスルーホールを極めて簡単にかつ直径
が60μm以下の小さな径に形成することができ、その
結果、スルーホール内に形成されるスルーホール導体層
もその直径が60μm以下の小さなものとなり、スルー
ホール導体層を極めて高密度に形成することが可能とな
る。
According to the wiring board of the present invention, the insulating base on which the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer are formed is formed by using a photosensitive ceramic green sheet in which ceramic powder is dispersed and mixed in a photosensitive resin, for example. Due to the production, the through holes are extremely reduced by irradiating a predetermined position of the ceramic green sheet with light and photo-curing the photosensitive resin composition in a predetermined area and removing the photosensitive resin composition in an uncured area by development. The diameter of the through-hole conductor layer formed in the through-hole can be easily reduced to a small diameter of 60 μm or less. Can be formed.

【0015】また、本発明の配線基板によれば、配線導
体層を、平均粒径が5μm以下の金属粒子から成る導体
層と平均粒径が6μm〜20μmの金属粉末から成る補
助導体層の2層構造としたことから配線導体層及びスル
ーホール導体層となる導電ペーストが高密度で印刷塗布
されている光硬化後のセラミックシートを上下に積層
し、焼成した際、光硬化セラミックシートの内部及び表
面に有機物の移動を妨げる網目状の構造を有する有機樹
脂が存在し、かつ高密度の配線導体層となる導電ペース
トから多量のガス状の有機物が排出されたとしても、か
かる多量のガス状の有機物は前記補助導体層となる金属
粉末の平均粒径が6μm〜20μmと粗い補助導体用層
を介して外部に良好に放出され、上下の光硬化したセラ
ミックシート間に滞留することはなく、その結果、上下
の光硬化したセラミックシート間の密着を良好とし、焼
成後に得られる絶縁基体にフクレ等が発生するのを有効
に防止して、外観不良を生じることなく、絶縁基体の機
械的強度を強くし、絶縁基体内部の配線導体層やスルー
ホール導体層の導通を確実とした配線基板を提供するこ
とが可能となる。
Further, according to the wiring board of the present invention, the wiring conductor layer is composed of a conductor layer made of metal particles having an average particle diameter of 5 μm or less and an auxiliary conductor layer made of metal powder having an average particle diameter of 6 μm to 20 μm. Since the layered structure, the conductive paste to be the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer is printed and coated at a high density, and the photocured ceramic sheets are stacked one on top of the other, and when baked, the inside of the photocured ceramic sheet and Even if a large amount of gaseous organic matter is discharged from the conductive paste that becomes a high-density wiring conductor layer, even if a large amount of gaseous organic matter is discharged from the surface of the organic resin having a network-like structure that prevents movement of organic matter on the surface, The organic substance is well released to the outside through the auxiliary conductor layer having a coarse average particle diameter of 6 μm to 20 μm of the metal powder to be the auxiliary conductor layer, and stays between the upper and lower photo-cured ceramic sheets. As a result, the adhesion between the upper and lower photo-cured ceramic sheets is improved, and the occurrence of blisters and the like on the insulating substrate obtained after firing is effectively prevented, and the appearance is not deteriorated. It is possible to provide a wiring board in which the mechanical strength of the base is increased and the conduction of the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer inside the insulating base is ensured.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に本発明の配線基板を図1に示
す実施例に基づいて説明する。図1は、本発明の配線基
板の一実施例を示す断面図であり、1は複数の絶縁層を
積層して成る絶縁基体、2は導体層2aと補助導体層2
bとから成る配線導体層、3はスルーホール導体層であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a wiring board according to the present invention will be described based on an embodiment shown in FIG. FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a wiring board according to the present invention, wherein 1 is an insulating base formed by laminating a plurality of insulating layers, 2 is a conductor layer 2a and an auxiliary conductor layer 2
and 3 is a through-hole conductor layer.

【0017】前記絶縁基体1は酸化アルミニウム質焼結
体や窒化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、ガ
ラスセラミックス焼結体、結晶化ガラス質焼結体等のセ
ラミックス材料から成り、その上面に半導体素子等の能
動部品や容量素子、抵抗器等の受動部品が搭載される。
The insulating substrate 1 is made of a ceramic material such as an aluminum oxide sintered body, an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, a glass ceramic sintered body, a crystallized glass sintered body, and the like. Active components such as semiconductor devices and passive components such as capacitance devices and resistors are mounted on the device.

【0018】前記絶縁基体1はその内部及び表面に所定
パターンの配線導体層2が形成されており、該配線導体
層2には絶縁基体1上面に搭載される半導体素子等の能
動部品や容量素子、抵抗器等の受動部品が電気的に接続
される。
A wiring conductor layer 2 having a predetermined pattern is formed inside and on the surface of the insulating base 1. Active components such as semiconductor elements mounted on the upper surface of the insulating base 1 and capacitive elements are formed on the wiring conductor layer 2. , Resistors and other passive components are electrically connected.

【0019】前記配線導体層2は平均粒径が5μm以下
の金属粒子から成る導体層2aと、平均粒径が6μm〜
20μmの金属粒子から成る補助導体層2bの2層構造
を有しており、金属粉末としては、例えば、金、銀、白
金、パラジウム、銅、ニッケル、モリブデン、タングス
テンまたはこれらの合金、あるいはこれらを主成分とす
る合金から成る金属粉末が用いられる。
The wiring conductor layer 2 has a conductor layer 2a made of metal particles having an average particle diameter of 5 μm or less, and a conductor layer 2a having an average particle diameter of 6 μm or less.
It has a two-layer structure of an auxiliary conductor layer 2b composed of 20 μm metal particles. Examples of the metal powder include gold, silver, platinum, palladium, copper, nickel, molybdenum, tungsten, and alloys thereof. Metal powder composed of an alloy as a main component is used.

【0020】前記導体層2aは前記能動部品や受動部品
の電極と電気的に接続されて電気信号を伝達するための
主導体層として作用し、補助導体層2bは、配線導体層
2となる導電ペーストを絶縁基体1となるセラミックグ
リーンシートに印刷塗布し焼成する際、導電ペースト等
から排出されるガス状の有機物の外部への放出通路とし
て作用する。
The conductor layer 2a is electrically connected to the electrodes of the active component and the passive component and functions as a main conductor layer for transmitting an electric signal, and the auxiliary conductor layer 2b is a conductive layer serving as the wiring conductor layer 2. When the paste is applied to a ceramic green sheet serving as the insulating substrate 1 by printing and baking, the paste serves as a discharge path for gaseous organic substances discharged from the conductive paste or the like to the outside.

【0021】前記配線導体層2の導体層2aはそれを形
成する金属粉末の平均粒径が5μmを超えると金属粉末
の充填密度が低くなって電気抵抗が高いものとなってし
まう。従って、前記配線導体層2の導体層2aはそれを
形成する金属粉末の平均粒径が5μm以下にものに特定
される。
When the average particle diameter of the metal powder forming the conductor layer 2a of the wiring conductor layer 2 exceeds 5 μm, the packing density of the metal powder becomes low and the electric resistance becomes high. Therefore, the conductor layer 2a of the wiring conductor layer 2 is specified so that the metal powder forming the conductor layer 2a has an average particle diameter of 5 μm or less.

【0022】また、前記配線導体層2の補助導体層2b
はそれを形成する金属粉末の粒径が20μmを超える粗
いものになると、金属粉末間の間隙が大きいため外気中
の水分等が浸透し易くなって配線導体層2が酸化しやす
くなり、また6μm未満となると金属粉末の間隙が少な
くなって配線導体層2となる導電ペーストが高密度で印
刷塗布されている光硬化後のセラミックシートを上下に
積層し、焼成する際、導電ペーストから排出される多量
のガス状の有機物を外部に効果的に排出させることがで
きなくなってしまう。従って、前記配線導体層2の補助
導体層2bはそれを形成する金属粉末の粒径が6μm乃
至20μmの範囲に特定される。
The auxiliary conductor layer 2b of the wiring conductor layer 2
If the particle size of the metal powder forming the powder exceeds 20 μm, the gap between the metal powders is large, so that moisture or the like in the outside air easily penetrates, and the wiring conductor layer 2 is easily oxidized. When the thickness is less than that, the gap between the metal powders is reduced, and the conductive paste to be the wiring conductor layer 2 is stacked at a high density on the photo-cured ceramic sheet on which the conductive paste is printed and applied at high density, and is discharged from the conductive paste when firing. A large amount of gaseous organic matter cannot be effectively discharged to the outside. Therefore, the auxiliary conductor layer 2b of the wiring conductor layer 2 has a particle diameter of the metal powder forming the auxiliary conductor layer 2b specified in the range of 6 μm to 20 μm.

【0023】更に前記絶縁基体1はその厚み方向に直径
が60μm以下の複数個のスルーホール4が形成されて
おり、該スルーホール4内にはスルーホール導体層3が
充填されている。
Further, the insulating base 1 has a plurality of through holes 4 having a diameter of 60 μm or less formed in the thickness direction thereof, and the through holes 4 are filled with the through hole conductor layers 3.

【0024】前記スルーホール導体層3は絶縁基体1の
内部及び/または表面に形成されている配線導体層2を
絶縁基体1の下面側に引き回し、絶縁基体1上面の配線
導体層2と絶縁基体1内部の配線導体層2とを接続させ
たり、絶縁基体1上面の配線導体層2を絶縁基体1の下
面側で外部電気回路に電気的に接続させたりする作用を
なす。
The through-hole conductor layer 3 extends the wiring conductor layer 2 formed on the inside and / or the surface of the insulating base 1 toward the lower surface side of the insulating base 1 so that the wiring conductor layer 2 on the upper surface of the insulating base 1 and the insulating base 1 1 has a function of connecting the wiring conductor layer 2 inside the wiring substrate 1 and electrically connecting the wiring conductor layer 2 on the upper surface of the insulating substrate 1 to an external electric circuit on the lower surface side of the insulating substrate 1.

【0025】前記絶縁基体1に形成したスルーホール4
はその直径が60μm以下と小さいことからスルーホー
ル4を絶縁基体1に高密度に形成することができ、同時
にスルーホール4内に形成されるスルーホール導体層3
も極めて高密度に形成することが可能となる。
The through holes 4 formed in the insulating substrate 1
Since the diameter of the through hole 4 is as small as 60 μm or less, the through holes 4 can be formed in the insulating base 1 at high density, and at the same time, the through hole conductor layers 3 formed in the through holes 4 are formed.
Can be formed at a very high density.

【0026】前記スルーホール導体層3は例えば、金、
銀、白金、パラジウム、銅、ニッケル、モリブデン、タ
ングステンまたはこれらの合金、あるいはこれらを主成
分とする合金により形成される。
The through-hole conductor layer 3 is made of, for example, gold,
It is formed of silver, platinum, palladium, copper, nickel, molybdenum, tungsten or an alloy thereof, or an alloy containing these as a main component.

【0027】次に、上述の配線基板の製造方法について
図2(a)乃至(f)に基づいて説明する。図2(a)
乃至(f)は本発明の配線基板の製造方法を説明するた
めの各工程毎の断面図であり、まず図2(a)に示す如
く、感光性セラミックグリーンシート11を複数枚形成
する。
Next, a method for manufacturing the above-described wiring board will be described with reference to FIGS. FIG. 2 (a)
2A to 2F are cross-sectional views for explaining the method of manufacturing a wiring board according to the present invention in each step. First, as shown in FIG. 2A, a plurality of photosensitive ceramic green sheets 11 are formed.

【0028】前記感光性セラミックグリーンシート11
はセラミック粉末に、光反応性化合物、光重合開始剤、
光重合促進剤から成る感光性樹脂組成物および必要に応
じて有機バインダー、紫外線吸収剤、熱重合禁止剤、非
感光性ポリマー等を混合して感光性泥漿物を作り、前記
感光性泥漿物をドクターブレード法やカレンダーロール
法等によりシート状に成形することによって形成され
る。
The photosensitive ceramic green sheet 11
Is a ceramic powder, a photoreactive compound, a photopolymerization initiator,
A photosensitive resin composition comprising a photopolymerization accelerator and, if necessary, an organic binder, an ultraviolet absorber, a thermal polymerization inhibitor, a non-photosensitive polymer, etc. are mixed to form a photosensitive slurry, and the photosensitive slurry is prepared. It is formed by forming into a sheet by a doctor blade method, a calendar roll method, or the like.

【0029】前記感光性セラミックグリーンシート11
を形成する際に用いられるセラミック粉末としてはガラ
スセラミックス粉末、アルミナ粉末、ムライト粉末、窒
化アルミニウム粉末、結晶化ガラス粉末等が使用され、
例えば、ガラスセラミックス粉末が使用される場合に
は、酸化マグネシウム(MgO)10.8重量%、酸化
アルミニウム(Al2 3 )28.0重量%、酸化珪素
(SiO2 )43.8重量%、酸化亜鉛(ZnO)7.
1重量%、残部がホウ素(B2 3 )から成るガラス成
分80重量%に対し、酸化珪素(SiO2 )粉末を20
重量%としたものが好適に使用される。
The photosensitive ceramic green sheet 11
Glass ceramic powder, alumina powder, mullite powder, aluminum nitride powder, crystallized glass powder, etc. are used as ceramic powder used when forming
For example, when the glass ceramic powder is used, magnesium oxide (MgO) 10.8 wt%, aluminum oxide (Al 2 O 3) 28.0 wt%, silicon oxide (SiO 2) 43.8% by weight, Zinc oxide (ZnO) 7.
Silicon oxide (SiO 2 ) powder was added to 20% by weight of a glass component composed of boron (B 2 O 3 ) in an amount of 20% by weight.
What is set as the weight% is used suitably.

【0030】また前記感光性セラミックグリーンシート
11を形成する際に用いられる光反応性化合物は光反応
性の炭素−炭素不飽和結合を有するアクリル系またはメ
タクリル系のモノマーもしくはオリゴマーであり、光硬
化して感光性セラミックグリーンシート1を後述する現
像液に不溶となすことにより、フォトリソグラフィー法
によるスルーホール形成を可能とする作用を有し、例え
ば、1,6ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、2−(2−エトキシエトキシ)
エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、テトラ
ヒドラフルフリルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、2−フェノキシエチルアクリレート、イソデシルア
クリレート、イソオクチルアクリレート、トリデシルア
クリレート、カプロラクトンアクリレート、エトキシ化
ノニルフェニールアクリレート、ジンクジアクリレー
ト、1,3ブタンジオールジアクリレート、1.4ブタ
ンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノー
ルAジアクリレート、プロピシ化ネオペンチルグリコー
ルアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソ
シアヌレートトリアクリレート、エトキシ化トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリストールト
リアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、プロキシ化グリセリルトリアクリレ
ート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、
ジペンタエリストールヒドロキシペンタアクリレート、
エトキシ化ペンタエリストールテトラアクリレート、ペ
ンタアクリレートエステル及び上記のアクリレートをメ
タクリレートに置き換えたものがあり、これらの1種ま
たは2種以上を混合したものを用いることができる。
The photoreactive compound used for forming the photosensitive ceramic green sheet 11 is an acrylic or methacrylic monomer or oligomer having a photoreactive carbon-carbon unsaturated bond. By making the photosensitive ceramic green sheet 1 insoluble in a developing solution to be described later, the photosensitive ceramic green sheet 1 has an effect of forming a through hole by a photolithography method. For example, 1,6 hexanediol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate , Trimethylolpropane triacrylate, 2- (2-ethoxyethoxy)
Ethyl acrylate, stearyl acrylate, tetrahydrfurfuryl acrylate, lauryl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate, tridecyl acrylate, caprolactone acrylate, ethoxylated nonylphenyl acrylate, zinc diacrylate, 1,3 butane Diol diacrylate, 1.4 butanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate,
Tetraethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, propicylated neopentyl glycol acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate Acrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate, proxied glyceryl triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate,
Dipentaeristol hydroxypentaacrylate,
There are ethoxylated pentaeristol tetraacrylate, pentaacrylate ester, and those in which the above acrylate is replaced with methacrylate, and one or a mixture of two or more of these can be used.

【0031】また前記感光性セラミックグリーンシート
11を形成する際に用いられる光重合開始剤は紫外線等
の光エネルギーによりラジカルを生じ、このラジカルに
より光反応性化合物に光硬化の反応を開始させる作用を
有し、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香
酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェ
ノン、4,4ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4
−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオ
レノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2ジ
メトキシ−2−フェニル−2−フェニルアセトフェノ
ン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p
−t−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサント
ン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサン
トン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオ
キサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノール、
ベンジル−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、
アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−
アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、ア
ントロン、ベンゾアントロン、ジベンゾスベロン、メチ
レンアントロン、4−アジドベンザルアセトフェノン、
2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサ
ノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−
メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタ
ジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1
−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカル
ボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリ
オン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−
フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o
−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル
−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ
−1−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、
キノリンスルホニルクロライド、N−フェニルチオアク
リドン、4,4−アゾビスイソビチロニトリル、1−ヒ
ドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ベ
ンジル−2ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフ
ェニル)−ブタノン−1,2−4ジエチルチオキサント
ン、2,2ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1
−オン、ジフェニルジスルフィド、ベンゾチアゾールジ
スルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノ
ン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸
化ベンゾイン、及び、エオシン、メチレンブルーなどの
光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミ
ンなどの還元剤の組み合わせなどが挙げられ、上記化合
物中の1種または2種以上を用いることができる。
The photopolymerization initiator used in forming the photosensitive ceramic green sheet 11 generates radicals by light energy such as ultraviolet rays, and has a function of initiating a photocuring reaction of the photoreactive compound by the radicals. For example, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4bis (diethylamino) benzophenone,
4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4
-Methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2 dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p
-T-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl, benzyldimethylketanol,
Benzyl-methoxyethyl acetal, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether,
Anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-
Amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzantrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzalacetophenone,
2,6-bis (p-azidobenzylidene) cyclohexanone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-
Methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1
-Phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-
Phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o
-Benzoyl) oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride,
Quinoline sulfonyl chloride, N-phenylthioacridone, 4,4-azobisisovitylonitrile, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-benzyl-2dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)- Butanone-1,2-4 diethylthioxanthone, 2,2 dimethoxy-1,2-diphenylethane-1
-One, diphenyl disulfide, benzothiazole disulfide, triphenylphorphine, camphorquinone, carbon tetrabromide, tribromophenyl sulfone, benzoin peroxide, and photoreducing dyes such as eosin, methylene blue and ascorbic acid, triethanol Examples thereof include a combination of reducing agents such as amines, and one or more of the above compounds can be used.

【0032】また前記感光性セラミックグリーンシート
11を形成する際に用いられる光重合促進剤は光反応性
化合物の光硬化の反応を促進する作用をなし、例えば4
−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、4−ジメチ
ルアミノエチルベンゾエートなどがあり、これらの1種
または2種以上を用いることができる。
The photopolymerization accelerator used for forming the photosensitive ceramic green sheet 11 has an effect of accelerating the photocuring reaction of the photoreactive compound.
-Dimethylaminoisoamylbenzoate, 4-dimethylaminoethylbenzoate and the like, and one or more of these can be used.

【0033】また前記感光性セラミックグリーンシート
11を形成する際に用いられる有機バインダーは、セラ
ミック粉末と結合してこれを有機溶剤中に分散させる作
用をなし、イソブチルメタクリレート(i−BMA)と
アクリル酸またはメタクリル酸との共重合体を用いるこ
とができる。
The organic binder used for forming the photosensitive ceramic green sheet 11 has a function of binding with ceramic powder and dispersing the same in an organic solvent, and comprises isobutyl methacrylate (i-BMA) and acrylic acid. Alternatively, a copolymer with methacrylic acid can be used.

【0034】また前記感光性セラミックグリーンシート
11を形成する際に用いられる紫外線吸収剤は、光硬化
の反応を起こすために照射された紫外線が感光性セラミ
ックグリーンシート1の内部でセラミック粉末により散
乱されて不要な部分まで光硬化をさせてしまい、例えば
スルーホールの形成精度を劣化させてしまうということ
を防ぐ作用をなし、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェ
ノン系、ビンダードアミン系の化合物の1種または2種
以上を用いることができる。
The ultraviolet absorber used for forming the photosensitive ceramic green sheet 11 is such that ultraviolet rays irradiated to cause a photo-curing reaction are scattered by ceramic powder inside the photosensitive ceramic green sheet 1. One or two types of benzotriazole, benzophenone, and binderdamine compounds, which prevent photo-curing to unnecessary parts and reduce, for example, the deterioration of through hole formation accuracy. The above can be used.

【0035】また前記感光性セラミックグリーンシート
11を形成する際に用いられる熱重合禁止剤はフリーラ
ジカルを吸収する性質があり、感光性セラミックグリー
ンシート1に環境中から加わる弱い熱エネルギーにより
感光性樹脂組成物の一部から小量のフリーラジカルを生
じ、このフリーラジカルにより光反応性化合物が部分的
に重合して現像液に溶解し難くなってフォトリソグラフ
ィー法によるスルーホールの形成が困難になる、という
ことを防止する作用をなし、例えば、キノン、ハイドロ
キノン、メチルハイドロキノン、ニトロソアルミニウム
塩、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,6−t−
ブチル−p−クレゾール、2,3−ジメチル−6−t−
ブチルフェノールが挙げられ、これらの1種または2種
以上を用いることができる。
The thermal polymerization inhibitor used to form the photosensitive ceramic green sheet 11 has a property of absorbing free radicals, and the photosensitive resin is exposed to weak thermal energy applied to the photosensitive ceramic green sheet 1 from the environment. A small amount of free radicals are generated from a part of the composition, and the photoreactive compounds are partially polymerized by the free radicals, so that it is difficult to dissolve in a developer, and it is difficult to form through holes by a photolithography method. Quinone, hydroquinone, methylhydroquinone, nitrosoaluminum salt, hydroquinone monomethyl ether, 2,6-t-
Butyl-p-cresol, 2,3-dimethyl-6-t-
Butylphenol may be mentioned, and one or more of these may be used.

【0036】また前記感光性セラミックグリーンシート
11を形成する際に用いられる非感光性ポリマーは、光
反応性化合物の作用を補完してセラミック粉末をシート
状に成形することを補助する作用をなし、アクリル酸エ
ステル共重合体、メタクリル酸エステル共重合体、アク
リル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体等の樹
脂にカルボン酸を置換した樹脂を置換した樹脂が挙げら
れ、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸nブチル、メタクリル酸イソブチル、
メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸2エチルヘキシ
ル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、
メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸イソボニル、
メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸テトラヒドロフ
ルフリル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸2ヒドロ
キシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、メタク
リル酸2−メトキシエチル、メタクリル酸2−エトキシ
エチル、ジメタクリル酸エチレングリコール、ジメタク
リル酸トリエチレングリコール、ジメタクリル酸1,3
ブチレングリコール、ジメタクリル酸1,6ヘキサンジ
オール、ジメタクリル酸ポリプロピレングリコール、ト
リメタクリル酸トリメチロールプロパン、コハク酸2−
メタクリロイルオキシエチル、マレイン酸2−メタクリ
ロイルオキシエチル、フタル酸2−メタクリロイルオキ
シエチル、ヘキサヒドロフタル酸2−メタクリロイルオ
キシエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタ
クリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸トリフル
オロエチル、メタクリル酸ヘプタデカフルオデシル及び
これらの有機酸をアクリル酸で置き換えたものの共重合
体が挙げられ、置換するカルボン酸としてはアクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン
酸、フマル酸、ビニル酸およびこれらの酸無水物が使用
される。
The non-photosensitive polymer used in forming the photosensitive ceramic green sheet 11 complements the action of the photoreactive compound and assists in forming the ceramic powder into a sheet. Acrylic acid ester copolymer, methacrylic acid ester copolymer, resin such as acrylic acid ester-methacrylic acid ester copolymer, and a resin obtained by substituting a resin obtained by substituting a carboxylic acid, for example, methyl methacrylate, methacrylic acid Ethyl, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate,
T-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, lauryl methacrylate, tridecyl methacrylate,
Stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, isobornyl methacrylate,
Glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, allyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene dimethacrylate Glycol, dimethacrylic acid 1,3
Butylene glycol, 1,6-hexanediol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, succinic acid 2-
Methacryloyloxyethyl, 2-methacryloyloxyethyl maleate, 2-methacryloyloxyethyl phthalate, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, trifluoroethyl methacrylate, heptamethacrylate Copolymers of decafluodecyl and those obtained by replacing these organic acids with acrylic acid are cited, and the carboxylic acids to be substituted are acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acid and these. Acid anhydrides are used.

【0037】次に前記感光性セラミックグリーンシート
11の上面に図1(b)に示す如く、フォトマスクパタ
ーン12を被着形成する。
Next, as shown in FIG. 1B, a photomask pattern 12 is formed on the upper surface of the photosensitive ceramic green sheet 11.

【0038】前記フォトマスクパターン12は微細加工
が可能なフォトリソグラフィー技術を採用することによ
って感光性セラミックグリーンシート11の上面に形成
され、その形状は形成しようとするスルーホールの形状
に対応したものとなっている。
The photomask pattern 12 is formed on the upper surface of the photosensitive ceramic green sheet 11 by employing a photolithography technique capable of fine processing, and the shape thereof corresponds to the shape of the through hole to be formed. Has become.

【0039】次に前記上面にフォトマスクパターン12
が被着されている感光性セラミックグリーンシート11
に対し、フォトマスクパターン12側から、例えば、約
300mj/cm2 の強度の紫外線を照射し、フォトマ
スクパターン12の存在しない部分に紫外線を照射さ
せ、紫外線が照射された領域の感光性樹脂組成物に光重
合を起こさせて光硬化させるとともにフォトマスクパタ
ーン12で覆われた紫外線の照射されていない領域、即
ち、未硬化の領域を現像により除去することによって図
1(c)に示す如く、所定位置にスルーホール13が形
成された光硬化セラミックシート11aを得る。
Next, a photomask pattern 12 is formed on the upper surface.
Ceramic green sheet 11 coated with
Then, ultraviolet rays having an intensity of, for example, about 300 mj / cm 2 are irradiated from the side of the photomask pattern 12 to irradiate a portion where the photomask pattern 12 is not present, and the photosensitive resin composition in the region irradiated with the ultraviolet rays is irradiated. As shown in FIG. 1 (c), by subjecting the object to photo-polymerization and photo-curing, the region covered with the photomask pattern 12 and not irradiated with ultraviolet rays, that is, the uncured region is removed by development. A photo-cured ceramic sheet 11a having a through hole 13 formed at a predetermined position is obtained.

【0040】前記感光性セラミックグリーンシート11
に紫外線等の光を照射してスルーホール13を有する光
硬化セラミックシート11aを形成した場合、フォトマ
スクパターン12が微細加工の可能なフォトリソグラフ
ィー技術を採用することによって形成されているためス
ルーホール13の径は60μm以下の小さな径とするこ
とができ、同時にスルーホール13の形成がフォトマス
クパターンを介して紫外線等の光を照射し、未硬化の領
域を現像で除去するという極めて簡単な作業で行うこと
ができる。
The photosensitive ceramic green sheet 11
When the photo-cured ceramic sheet 11a having the through holes 13 is formed by irradiating light such as ultraviolet rays to the substrate, the photo mask patterns 12 are formed by adopting a photolithography technique capable of fine processing, so that the through holes 13 are formed. Can be made as small as 60 μm or less. At the same time, the formation of the through-hole 13 is performed by irradiating light such as ultraviolet rays through a photomask pattern and removing the uncured area by development. It can be carried out.

【0041】なお、前記スルーホール13を形成するた
めの未硬化の感光性樹脂組成物を除去する現像液として
は、例えば、トリエタノールアミン等の有機アルカリの
溶液が使用され、該トリエタノールアミン等の有機アル
カリから成る溶液は未硬化の感光性セラミックグリーン
シート11中の有機バインダーの有するカルボキシル基
から水素イオンを奪い、このカルボキシル基をイオン化
することによって水溶性となし、現像液または洗浄水中
に溶解させる。
As a developer for removing the uncured photosensitive resin composition for forming the through hole 13, for example, an organic alkali solution such as triethanolamine is used. Of the organic binder in the uncured photosensitive ceramic green sheet 11 removes hydrogen ions from the carboxyl group of the organic binder, and ionizes this carboxyl group to make it water-soluble and dissolves in a developing solution or washing water. Let it.

【0042】また前記スルーホール13を有する光硬化
セラミックシート11aを形成する場合、感光性セラミ
ックグリーンシート11に含有されているセラミック粉
末の平均粒径を約2μm(マイクロトラック法でD5
0)としておくと、紫外線の透過が良好で光硬化を均一
に行わせることができる。従って、前記感光性セラミッ
クグリーンシート11のセラミック粉末はその平均粒径
を約2μmとしておくことが好ましい。
When the photocurable ceramic sheet 11a having the through holes 13 is formed, the average particle size of the ceramic powder contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is about 2 μm (D5 by the microtrack method).
When the value is set to 0), the ultraviolet light can be transmitted well and photocuring can be performed uniformly. Therefore, it is preferable that the average particle size of the ceramic powder of the photosensitive ceramic green sheet 11 is about 2 μm.

【0043】また前記感光性セラミックグリーンシート
11に含有されている光反応性化合物は、その添加量を
セラミック粉末100重量部に対して5〜12重量部と
しておくとスルーホール13を感光性セラミックグリー
ンシート11の厚み方向に均一に形成することが容易と
なる。従って、前記感光性セラミックグリーンシート1
1に含有されている光反応性化合物はその添加量をセラ
ミック粉末100重量部に対して5〜12重量部として
おくことが好ましい。また前記感光性セラミックグリー
ンシート11に含有されている光重合開始剤は、その添
加量をセラミック粉末100重量部に対して0.5〜5
重量部としておくと光硬化の反応を感光性セラミックグ
リーンシート11中で均一に開始させることができる。
従って、前記感光性セラミックグリーンシート11に含
有されている光重合開始剤はその添加量をセラミック粉
末100重量部に対して0.5〜5重量部としておくこ
とが好ましい。
When the photoreactive compound contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is added in an amount of 5 to 12 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ceramic powder, the through holes 13 are formed in the photosensitive ceramic green sheet. It becomes easy to form the sheet 11 uniformly in the thickness direction. Therefore, the photosensitive ceramic green sheet 1
It is preferable that the amount of the photoreactive compound contained in No. 1 is 5 to 12 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic powder. The photopolymerization initiator contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is added in an amount of 0.5 to 5 based on 100 parts by weight of the ceramic powder.
By setting the amount by weight, the photo-curing reaction can be started uniformly in the photosensitive ceramic green sheet 11.
Therefore, the amount of the photopolymerization initiator contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is preferably set to 0.5 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic powder.

【0044】また前記感光性セラミックグリーンシート
11に含有されている光重合促進剤は、その添加量をセ
ラミック粉末100重量部に対して2〜5重量部として
おくと感光性セラミックグリーンシート11中で均一に
光硬化の反応を促進させることができる。従って、前記
感光性セラミックグリーンシート11に含有されている
光重合促進剤はその添加量をセラミック粉末100重量
部に対して2〜5重量部としておくことが好ましい。
When the photopolymerization accelerator contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is added in an amount of 2 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic powder, Photocuring reaction can be promoted uniformly. Therefore, it is preferable that the amount of the photopolymerization accelerator contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is 2 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic powder.

【0045】また前記感光性セラミックグリーンシート
11に含有される有機バインダーは、その添加量をセラ
ミック粉末100重量部に対して10〜25重量部とし
ておくと、セラミック粉末を有機溶剤中に均一に分散さ
せることが容易であり、また後の焼成の際に容易に分解
してセラミックから成る絶縁基体中に残留することがな
い。従って、前記感光性セラミックグリーンシート11
に含有される有機バインダーはその添加量をセラミック
粉末100重量部に対して10〜25重量部としておく
ことが好ましい。
When the amount of the organic binder contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is set to 10 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ceramic powder, the ceramic powder is uniformly dispersed in the organic solvent. It is easy to perform, and does not easily decompose during the subsequent firing and remains in the insulating substrate made of ceramic. Therefore, the photosensitive ceramic green sheet 11
The organic binder is preferably added in an amount of 10 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the ceramic powder.

【0046】また前記感光性セラミックグリーンシート
11に含有される紫外線吸収剤は、その添加量をセラミ
ック粉末100重量部に対して0.01〜2重量部とし
ておくと紫外線を過度に吸収することなく効果的に吸収
し、不要な部分の光硬化を抑えることができる。従っ
て、前記感光性セラミックグリーンシート11に含有さ
れる紫外線吸収剤はその添加量をセラミック粉末100
重量部に対して0.01〜2重量部としておくことが好
ましい。
When the ultraviolet absorber contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is added in an amount of 0.01 to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ceramic powder, it does not excessively absorb ultraviolet rays. It absorbs effectively and can suppress photocuring of unnecessary parts. Therefore, the amount of the ultraviolet absorber contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is limited to the ceramic powder 100.
It is preferable to set the amount to 0.01 to 2 parts by weight based on parts by weight.

【0047】また前記感光性セラミックグリーンシート
11に含有される熱重合禁止剤はセラミック粉末100
重量部に対して0.1〜5重量部の範囲としておくと熱
エネルギーにより生じた小量のフリーラジカルを効果的
に吸収することができるとともに、光硬化の反応を妨げ
ることがなく、スルーホール13を任意の箇所に精度良
く形成することができる。従って、前記感光性セラミッ
クグリーンシート11に含有される熱重合禁止剤はその
添加量をセラミック粉末100重量部に対して0.1〜
5重量部の範囲としておくことが好ましい。
The thermal polymerization inhibitor contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is ceramic powder 100.
When the content is in the range of 0.1 to 5 parts by weight with respect to parts by weight, a small amount of free radicals generated by thermal energy can be effectively absorbed, and the photocuring reaction is not hindered, and the through-hole is not hindered. 13 can be accurately formed at an arbitrary position. Therefore, the amount of the thermal polymerization inhibitor contained in the photosensitive ceramic green sheet 11 is 0.1 to 100 parts by weight of the ceramic powder.
It is preferable to set the range to 5 parts by weight.

【0048】また前記感光性セラミックグリーンシート
11は、その厚みが10μm未満の場合、機械的強度が
弱く、容易に破断して、取扱いが困難となり、また60
μmを超えると、光硬化のために照射される紫外線等の
光が感光性セラミックグリーンシート11の下面側に到
達し難くなってスルーホール13の形成の解像度が低下
する恐れがある。従って、前記感光性セラミックグリー
ンシート11は、その厚みを10〜60μmの範囲とし
ておくことが好ましい。
When the thickness of the photosensitive ceramic green sheet 11 is less than 10 μm, the mechanical strength is weak, the sheet is easily broken, and handling becomes difficult.
If it exceeds μm, it is difficult for light such as ultraviolet rays irradiated for photocuring to reach the lower surface of the photosensitive ceramic green sheet 11, and the resolution of the formation of the through hole 13 may be reduced. Therefore, it is preferable that the thickness of the photosensitive ceramic green sheet 11 be in the range of 10 to 60 μm.

【0049】そして次に図1(d)に示す如く、前記ス
ルーホール13を有する光硬化セラミックシート11a
のスルーホール13内に導電ペーストをスクリーン印刷
法やスピンコート法等によって被着充填し、スルーホー
ル用導体層14を形成するとともに、図1(e)に示す
如く、スルーホール用導体層14が形成された光硬化セ
ラミックシート11aの表面に補助導電ペースト、及び
導電ペーストを、スクリーン印刷法やスピンコート法等
によって順次所定パターン、所定厚みに印刷塗布し、上
から順に導体用層15および補助導体用層16の2層構
造を有する配線用導体層17を形成する。
Then, as shown in FIG. 1D, the photocurable ceramic sheet 11a having the through holes 13 is formed.
A conductive paste is applied to the inside of the through hole 13 by screen printing or spin coating to form a through hole conductor layer 14, and as shown in FIG. An auxiliary conductive paste and a conductive paste are sequentially applied to the surface of the formed photocurable ceramic sheet 11a in a predetermined pattern and a predetermined thickness by a screen printing method, a spin coating method, or the like, and the conductive layer 15 and the auxiliary conductor are sequentially applied from the top. The wiring conductor layer 17 having a two-layer structure of the wiring layer 16 is formed.

【0050】前記導体用層15は、焼成後に得られる配
線基板において電気信号を伝達する配線導体層の主導体
層として作用し、補助導体用層16は、後の焼成時に導
電ペースト及び補助導電ペーストから排出されるガス状
の有機物の外部への放出通路として作用する。
The conductor layer 15 functions as a main conductor layer of a wiring conductor layer for transmitting an electric signal in a wiring board obtained after firing, and the auxiliary conductor layer 16 serves as a conductive paste and an auxiliary conductive paste during subsequent firing. It acts as a passage for releasing gaseous organic matter discharged from the outside.

【0051】前記導体用層15を形成する導電ペースト
は、例えば、金、銀、白金、パラジウム、銅、ニッケ
ル、モリブデン、タングステンまたはこれらの合金、あ
るいはこれらを主成分とする金属粉末に、適当な有機溶
剤、溶媒を添加混合することによって形成される。この
場合、導電ペーストを作製するための金属粉末の平均粒
径が5μmを超えると、金属粉末を高密度で充填させる
ことができず、焼成されて配線導体層となつた時、電気
抵抗が高いものとなってしまう。従って、前記導電ペー
ストを作製するための金属粉末は、その平均粒径が5μ
m以下に特定される。
The conductive paste forming the conductive layer 15 may be, for example, gold, silver, platinum, palladium, copper, nickel, molybdenum, tungsten, or an alloy thereof, or a metal powder containing these as a main component. It is formed by adding and mixing an organic solvent and a solvent. In this case, if the average particle size of the metal powder for producing the conductive paste exceeds 5 μm, the metal powder cannot be filled at a high density, and when baked to form a wiring conductor layer, the electric resistance is high. It will be something. Accordingly, the metal powder for producing the conductive paste has an average particle size of 5 μm.
m or less.

【0052】また、前記補助導電ペーストを作製するた
めの金属粉末は、その平均粒径が20μmを超える粗い
ものとなると、光硬化セラミックシート11aの表面に
印刷塗布されて補助導体用層16を形成した際、金属粉
末間の間隙が大きいため、外気中の水分等が浸透し易く
なって、焼成後の配線基板において配線導体層が酸化し
やすくなり、また6μm未満となると、金属粉末が密に
充填され、焼成時、ガス状の有機物を外部に放出させる
ことが難しくなって、光硬化セラミックシートの層間に
ガス状の有機物が残留し、焼成後に得られる絶縁基体に
フクレ等が発生して、外観不良や絶縁基体の機械的強度
の劣化を生じ、絶縁基体内部の配線導体層やスルーホー
ル導体層の導通不良を発生させてしまう。従って、前記
補助導電ペーストを作製するための金属粉末は、その平
均粒径が6μm〜20μmの範囲に特定される。
When the metal powder for producing the auxiliary conductive paste has a coarse particle having an average particle size exceeding 20 μm, it is printed and applied on the surface of the photo-cured ceramic sheet 11a to form the auxiliary conductor layer 16. At this time, since the gap between the metal powders is large, moisture and the like in the outside air easily penetrate, and the wiring conductor layer in the fired wiring board is easily oxidized. When the thickness is less than 6 μm, the metal powder becomes dense. When filled, it becomes difficult to release the gaseous organic substance to the outside during firing, the gaseous organic substance remains between the layers of the photocurable ceramic sheet, and blisters and the like are generated on the insulating substrate obtained after firing, This results in poor appearance and deterioration of the mechanical strength of the insulating base, and poor conduction of the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer inside the insulating base. Therefore, the average particle diameter of the metal powder for producing the auxiliary conductive paste is specified in the range of 6 μm to 20 μm.

【0053】そして最後に、前記配線用導体層17、及
びスルーホール用導体層14を有する複数枚の光硬化セ
ラミックシート11aを上下に積層するとともに焼成
し、光硬化セラミックシート11a中の光硬化した感光
性樹脂組成物及び導電ペースト中の有機溶剤、溶媒を外
部に放出させるとともに、セラミック粉末および金属粉
末を一体焼結させることにより、図1(f)に示す如
く、セラミックから成る絶縁基体11bの内部及び表面
に、スルーホ−ル導体層14aと、導体層15a及び補
助導体層16aから成る配線導体層17aを形成した製
品としての配線基板が完成する。
Finally, a plurality of photo-cured ceramic sheets 11a having the wiring conductor layer 17 and the through-hole conductor layer 14 are vertically stacked and fired, and the photo-cured ceramic sheet 11a is cured by light. By releasing the organic solvent and the solvent in the photosensitive resin composition and the conductive paste to the outside and simultaneously sintering the ceramic powder and the metal powder, as shown in FIG. A wiring board is completed as a product in which the through-hole conductor layer 14a and the wiring conductor layer 17a including the conductor layer 15a and the auxiliary conductor layer 16a are formed inside and on the surface.

【0054】なお、この場合、光硬化セラミックシート
11aの内部および表面に有機物の移動を妨げる網目状
の構造を有する有機樹脂が存在しており、かつ焼成時に
高密度で形成された配線用導体層17から多量のガス状
の有機物が排出されるが、この配線用導体層17および
光硬化セラミックシート11aから排出された多量のガ
ス状の有機物は前記配線用導体層17を構成する補助導
体用層16を介して外部に良好に放出され、上下の光硬
化セラミックシート11a間に滞留することはなく、そ
の結果、上下の光硬化セラミックシート11a間の密着
を良好とし、焼成後に得られる絶縁基体11bにフクレ
等が発生するのを有効に防止して、外観不良を生じるこ
となく、絶縁基体11bの機械的強度を強くし、絶縁基
体11b内部の配線導体層17aやスルーホール導体層
14a等の導通を確実となすことができる。
In this case, there is an organic resin having a mesh-like structure in the inside and on the surface of the photo-cured ceramic sheet 11a that prevents movement of organic substances, and the wiring conductor layer formed at high density during firing. A large amount of gaseous organic matter is discharged from the wiring conductor layer 17, and a large amount of gaseous organic matter discharged from the wiring conductor layer 17 and the photocurable ceramic sheet 11 a is used as an auxiliary conductor layer constituting the wiring conductor layer 17. 16 and is not released between the upper and lower photocurable ceramic sheets 11a, and as a result, the adhesion between the upper and lower photocurable ceramic sheets 11a is improved, and the insulating base 11b obtained after firing is obtained. This effectively prevents the occurrence of blisters and the like, enhances the mechanical strength of the insulating base 11b without causing appearance defects, and improves the arrangement inside the insulating base 11b. The conduction of such conductive layers 17a and through-hole conductor layer 14a can be made with certainty.

【0055】特に前記補助導体用層16は、その横断面
の面積が100μm2 未満の狭いものとなると、焼成時
に高密度で形成された配線用導体層17および光硬化セ
ラミックシート11aから排出されるガス状の有機物を
効率よく外部に放出させることが困難となり、また1m
2 を越えると、焼成後の配線基板において配線導体層
17a中の金属粉末間の間隙が多くなり、特に絶縁基体
11bの側面に配線導体層17aの横断面が露出するよ
うな構造の配線基板の場合、外気中の水分等の吸着によ
り配線導体層17aが酸化腐食し易くなるおそれがあ
る。従って、前記補助導体用層16は、その横断面の面
積を100μm2 (0.0001mm2 )〜1mm2
しておくことが好ましい。
In particular, when the auxiliary conductor layer 16 has a narrow cross-sectional area of less than 100 μm 2 , the auxiliary conductor layer 16 is discharged from the wiring conductor layer 17 and the photocurable ceramic sheet 11a formed at high density during firing. It is difficult to efficiently discharge gaseous organic substances to the outside, and 1 m
If m 2 is exceeded, the gap between the metal powders in the wiring conductor layer 17a increases in the fired wiring substrate, and in particular, the wiring substrate has a structure in which the cross section of the wiring conductor layer 17a is exposed on the side surface of the insulating base 11b. In this case, there is a possibility that the wiring conductor layer 17a is easily oxidized and corroded by adsorption of moisture or the like in the outside air. Therefore, the auxiliary conductor layer 16, it is preferable that the area of the cross section and 100μm 2 (0.0001mm 2) ~1mm 2 .

【0056】かくして得られた配線基板は、絶縁基体1
1bの表面に半導体素子や容量素子、抵抗器等の電子部
品が搭載されるとともに各電子部品の電極が配線導体層
17a等に電気的に接続され、これによって各電子部品
はその各々が配線導体層17a等を介して互いに電気的
に接続されるとともに外部電気回路に接続されることと
なる。
The wiring board thus obtained is the insulating substrate 1
1b, electronic components such as semiconductor elements, capacitance elements, resistors and the like are mounted on the surface and the electrodes of each electronic component are electrically connected to the wiring conductor layer 17a and the like. They are electrically connected to each other via the layer 17a and the like, and are also connected to an external electric circuit.

【0057】なお本発明は上述の実施例に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種
々の変更は可能であり、例えば、補助導体層16の上面
及び側面を導体層15で取り囲んだような構造や、導体
層の底面に溝部を設け、この溝部内に補助導体用層の上
面の一部を突起させて嵌合させた構造としても良い。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. A structure surrounded by the layer 15 or a structure in which a groove is provided on the bottom surface of the conductor layer and a part of the upper surface of the auxiliary conductor layer is protruded and fitted into the groove.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の配線基板によれば、配線導体層
やスルーホール導体層が形成される絶縁基体を例えば感
光性樹脂にセラミック粉末を分散混入させた感光性のセ
ラミックグリーンシートを使用することによって製作し
たことから、セラミックグリーンシートの所定位置に光
を照射し所定領域の感光性樹脂組成物を光硬化させると
ともに未硬化の領域の感光性樹脂組成物を現像により除
去することによってスルーホールを極めて簡単にかつ直
径が60μm以下の小さな径に形成することができ、そ
の結果、スルーホール内に形成されるスルーホール導体
層もその直径が60μm以下の小さなものとなり、スル
ーホール導体層を極めて高密度に形成することが可能と
なる。
According to the wiring board of the present invention, for the insulating base on which the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer are formed, for example, a photosensitive ceramic green sheet in which ceramic powder is dispersed and mixed in a photosensitive resin is used. Because of this, through holes are formed by irradiating a predetermined position of the ceramic green sheet with light and photo-curing the photosensitive resin composition in a predetermined area and removing the photosensitive resin composition in an uncured area by development. Can be formed very easily and with a small diameter of 60 μm or less. As a result, the through-hole conductor layer formed in the through-hole also has a small diameter of 60 μm or less. It becomes possible to form it with high density.

【0059】また、本発明の配線基板によれば、配線導
体層を、平均粒径が5μm以下の金属粒子から成る導体
層と平均粒径が6μm〜20μmの金属粉末から成る補
助導体層の2層構造としたことから配線導体層及びスル
ーホール導体層となる導電ペーストが高密度で印刷塗布
されている光硬化後のセラミックシートを上下に積層
し、焼成した際、光硬化セラミックシートの内部及び表
面に有機物の移動を妨げる網目状の構造を有する有機樹
脂が存在し、かつ高密度の配線導体層となる導電ペース
トから多量のガス状の有機物が排出されたとしても、か
かる多量のガス状の有機物は前記補助導体層となる金属
粉末の平均粒径が6μm〜20μmと粗い補助導体用層
を介して外部に良好に放出され、上下の光硬化したセラ
ミックシート間に滞留することはなく、その結果、上下
の光硬化したセラミックシート間の密着を良好とし、焼
成後に得られる絶縁基体にフクレ等が発生するのを有効
に防止して、外観不良を生じることなく、絶縁基体の機
械的強度を強くし、絶縁基体内部の配線導体層やスルー
ホール導体層の導通を確実とした配線基板を提供するこ
とが可能となる。
According to the wiring board of the present invention, the wiring conductor layer is composed of a conductor layer composed of metal particles having an average particle diameter of 5 μm or less and an auxiliary conductor layer composed of metal powder having an average particle diameter of 6 μm to 20 μm. Since the layered structure, the conductive paste to be the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer is printed and coated at a high density, and the photocured ceramic sheets are stacked one on top of the other, and when baked, the inside of the photocured ceramic sheet and Even if a large amount of gaseous organic matter is discharged from the conductive paste that becomes a high-density wiring conductor layer, even if a large amount of gaseous organic matter is discharged from the surface of the organic resin having a network-like structure that prevents movement of organic matter on the surface, The organic substance is well released to the outside through the auxiliary conductor layer having a coarse average particle diameter of 6 μm to 20 μm of the metal powder to be the auxiliary conductor layer, and stays between the upper and lower photo-cured ceramic sheets. As a result, the adhesion between the upper and lower photo-cured ceramic sheets is improved, and the occurrence of blisters and the like on the insulating substrate obtained after firing is effectively prevented, and the appearance is not deteriorated. It is possible to provide a wiring board in which the mechanical strength of the base is increased and the conduction of the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer inside the insulating base is ensured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の配線基板の一実施例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a wiring board of the present invention.

【図2】(a)乃至(f)は図1に示す配線基板の製造
方法を説明するための各工程毎の断面図である。
2 (a) to 2 (f) are cross-sectional views for respective steps for explaining a method of manufacturing the wiring board shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・絶縁基体 2・・・・配線導体層 2a・・・導体層 2b・・・補助導体層 3・・・・スルーホール導体層 4・・・・スルーホール 11・・・感光性セラミックグリーンシート 12・・・フォトマスクパターン 13・・・スルーホール 14・・・スルーホール用導体層 15・・・導体用層 15a・・導体層 16・・・補助導体用層 16・・・補助導体層 17・・・配線用導体層 17a・・配線導体層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating base 2 ... Wiring conductor layer 2a ... Conductor layer 2b ... Auxiliary conductor layer 3 ... Through hole conductor layer 4 ... Through hole 11 ... Photosensitivity Ceramic green sheet 12 Photomask pattern 13 Through hole 14 Conductor layer for through hole 15 Conductor layer 15 a Conductor layer 16 Auxiliary conductor layer 16 Auxiliary Conductive layer 17: Conductive layer for wiring 17a ... Wiring conductive layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 S Fターム(参考) 4E351 AA07 BB01 BB35 CC12 CC22 CC25 CC27 CC31 CC35 DD04 DD05 DD06 DD17 DD20 DD21 DD52 EE01 EE13 EE21 EE22 FF17 GG02 GG08 5E317 AA24 BB04 BB12 BB13 BB14 BB15 BB16 BB17 BB18 CC22 CC25 CC51 CD21 CD27 GG03 GG11 GG14 5E346 AA12 AA15 AA41 CC32 CC35 CC36 CC37 CC38 DD34 EE24 EE26 EE29 GG03 GG15 HH07 HH11 HH26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/46 H05K 3/46 SF term (Reference) 4E351 AA07 BB01 BB35 CC12 CC22 CC25 CC27 CC31 CC35 DD04 DD05 DD06 DD17 DD20 DD21 DD52 EE01 EE13 EE21 EE22 FF17 GG02 GG08 5E317 AA24 BB04 BB12 BB13 BB14 BB15 BB16 BB17 BB18 CC22 CC25 CC51 CD21 CD27 GG03 GG11 GG14 5E346 AA12 AA15 AA41 CC32 CC35 CC36 CC37 CC36 CC37 CC24

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電気絶縁材料から成り直径60μm以下の
スルーホール導体層を有する絶縁基体と、前記絶縁基体
の内部及び/または表面に形成され、平均粒径が5μm
以下の金属粉末から成る導体層と平均粒径が6μm〜2
0μmの金属粉末から成る補助導体層の2層構造を有す
る配線導体層とから成る配線基板。
1. An insulating substrate made of an electric insulating material and having a through-hole conductor layer having a diameter of 60 μm or less, and formed on the inside and / or surface of the insulating substrate and having an average particle size of 5 μm.
A conductor layer made of the following metal powder and having an average particle size of 6 μm to 2
A wiring conductor layer having a two-layer structure of an auxiliary conductor layer made of 0 μm metal powder.
【請求項2】前記補助導体層の横断面積が100μm2
〜1mm2 であることを特徴とする請求項1に記載の配
線基板。
2. The auxiliary conductor layer has a cross-sectional area of 100 μm 2.
The wiring board according to claim 1, wherein the thickness is about 1 mm 2 .
【請求項3】(1)感光性樹脂組成物にセラミック粉末
を分散させた複数枚の感光性セラミックグリーンシート
と、平均粒径が5μm以下の金属粉末に有機溶剤を添加
した導電ペーストと、平均粒径が6μm〜10μmの金
属粉末に有機溶剤を添加した補助導電ペーストとを作製
する工程と、(2)前記感光性セラミックグリーンシー
トの所定領域に光を照射し所定領域の感光性樹脂組成物
を光硬化させるとともに現像して厚み方向に貫通するス
ルーホールを有する複数枚の光硬化セラミックシートを
形成する工程と、(3)前記導電ペーストを用いて、前
記光硬化セラミックシートのスルーホール内にスルーホ
ール用導体層を形成する工程と、(4)前記導電ペース
ト及び補助導電ペーストを用いて、前記光硬化セラミッ
クシートの表面に、導体用層と補助導体用層の2層構造
を有する所定パターンの配線用導体層を形成する工程
と、(5)前記配線用導体層およびスルーホール用導体
層を有する複数枚の光硬化セラミックシートを上下に積
層するとともに焼成し、セラミックから成る絶縁基体の
内部及び/または表面に、平均粒径が5μm以下の金属
粒子から成る導体層と平均粒径が6μm〜10μmの金
属粒子から成る補助導体層の2層構造を有する配線導体
層、及びスルーホール導体層を形成する工程とから成る
配線基板の製造方法。
(1) a plurality of photosensitive ceramic green sheets in which ceramic powder is dispersed in a photosensitive resin composition; a conductive paste obtained by adding an organic solvent to metal powder having an average particle diameter of 5 μm or less; A step of preparing an auxiliary conductive paste obtained by adding an organic solvent to metal powder having a particle size of 6 μm to 10 μm; and (2) irradiating a predetermined area of the photosensitive ceramic green sheet with light to form a photosensitive resin composition in a predetermined area. Forming a plurality of photo-cured ceramic sheets having through holes penetrating in the thickness direction by photo-curing and developing the photo-cured ceramic sheet; and (3) using the conductive paste to form a plurality of photo-cured ceramic sheets in the through holes of the photo-cured ceramic sheet. Forming a conductor layer for a through hole; and (4) using the conductive paste and the auxiliary conductive paste on the surface of the photocurable ceramic sheet; Forming a wiring conductor layer of a predetermined pattern having a two-layer structure of a body layer and an auxiliary conductor layer; and (5) a plurality of photocured ceramic sheets having the wiring conductor layer and the through-hole conductor layer. Are stacked and fired, and a conductor layer made of metal particles having an average particle size of 5 μm or less and an auxiliary conductor made of metal particles having an average particle size of 6 μm to 10 μm are formed on the inside and / or the surface of the insulating substrate made of ceramic. Forming a wiring conductor layer having a two-layer structure and a through-hole conductor layer.
【請求項4】前記補助用導体層の横断面積が100μm
2 〜1mm2 であることを特徴とする請求項3に記載の
配線基板の製造方法。
4. A cross-sectional area of said auxiliary conductor layer is 100 μm.
The method according to claim 3, wherein the thickness is 2 to 1 mm2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2013098421A (en) * 2011-11-02 2013-05-20 Ngk Spark Plug Co Ltd Multilayer ceramic substrate and manufacturing method thereof

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