JP2001035662A - Organic electroluminescence element display device and its manufacture - Google Patents

Organic electroluminescence element display device and its manufacture

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JP2001035662A
JP2001035662A JP11212433A JP21243399A JP2001035662A JP 2001035662 A JP2001035662 A JP 2001035662A JP 11212433 A JP11212433 A JP 11212433A JP 21243399 A JP21243399 A JP 21243399A JP 2001035662 A JP2001035662 A JP 2001035662A
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JP
Japan
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organic
electrode
field effect
type field
effect transistor
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JP11212433A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Ishizuka
真一 石塚
Masami Tsuchida
正美 土田
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Pioneer Corp
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Pioneer Electronic Corp
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Publication date
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Publication of JP2001035662A publication Critical patent/JP2001035662A/en
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201Manufacture or treatment

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance driving characteristics and facilitate manufacture of a panel by installing an organic EL element formed by stacking a transparent electrode, an organic material layer for emitting light by electron or hole injection, and a metal electrode on a matrix-shaped emission part on a transparent substrate in order; and a n-type field effect transistor in which a source electrode is connected to the electron supply side and a drain electrode is connected to the metal electrode. SOLUTION: Common cathode lines 12 and data signal lines 13 in parallel to each other between which an organic EL element 200 of light emitting parts of red R, green G, and blue B of plural light emitting picture elements 111, and a capacitor 300 for constituting a switching circuit together with FETs 10, 11 are interposed are alternately installed. A scanning signal line 16 electrically separated from the lines 12, 13, perpendicularly crossing to them, and arranged together with a common anode line 15 is sequentially scanned according to an RGB signal to the data signal line 13, and the organic EL element 200 of the intersection picture elements 111 emits light. The n-type FETs 10, 11 have higher mobility than a p-type FET, and do not damage the organic material in manufacture.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス素子表示装置に関し、また、電子及び正孔
の注入によって発光する有機化合物材料のエレクトロル
ミネッセンス(以下、ELともいう)を利用したかかる
有機EL材料の薄膜からなる発光層を備えた有機EL素
子、並びに、該スイッチング素子、の複数をマトリクス
状に配置した有機EL素子表示装置パネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device for an organic electroluminescence device, and more particularly, to such an organic EL material utilizing electroluminescence (hereinafter, also referred to as EL) of an organic compound material which emits light by injection of electrons and holes. The present invention relates to an organic EL element provided with a light emitting layer composed of a thin film of the above, and an organic EL element display panel in which a plurality of the switching elements are arranged in a matrix.

【0002】[0002]

【従来の技術】低消費電力及び高表示品質並びに薄型化
が可能なディスプレイとして、有機EL素子の複数をマ
トリクス状に配列して構成される有機EL素子ディスプ
レイが注目されている。図1に示すように、各々の有機
EL素子200は、例えばインジウム錫酸化物いわゆる
ITOからなる透明電201が形成されたガラス板など
の透明基板1上に、有機化合物を主成分とする電子注入
層、電子輸送層などの電子輸送機能層や、正孔注入層、
正孔輸送層などの正孔輸送機能層や、発光層などからな
る少なくとも1層の有機材料層202、及び金属電極2
03が積層されたものである。透明電201の陽極にプ
ラス、金属電極203の陰極にマイナスの電圧を加え、
すなわち、透明電極及び金属電極間に直流を印加するこ
とにより、有機材料層202の中の発光層が発光する。
2. Description of the Related Art As a display capable of achieving low power consumption, high display quality, and thinness, an organic EL element display formed by arranging a plurality of organic EL elements in a matrix has attracted attention. As shown in FIG. 1, each organic EL element 200 has an electron injection mainly composed of an organic compound on a transparent substrate 1 such as a glass plate on which a transparent electrode 201 made of indium tin oxide (ITO) is formed. Layers, electron transport layers such as electron transport layers, hole injection layers,
A hole transporting functional layer such as a hole transporting layer, at least one organic material layer 202 including a light emitting layer, and a metal electrode 2
No. 03 is laminated. A positive voltage is applied to the anode of the transparent electrode 201 and a negative voltage is applied to the cathode of the metal electrode 203,
That is, when a direct current is applied between the transparent electrode and the metal electrode, the light emitting layer in the organic material layer 202 emits light.

【0003】有機EL素子において、金属陰極から注入
された電子と透明陽極から発光層へ注入された正孔との
再結合によって励起子が生じ、この励起子が放射失活す
る過程で光を放つ。よって、有機EL素子200は、電
気的には、図2のような等価回路にて表すことができ
る。図から分かるように、有機EL素子は、容量成分C
と、該容量成分に並列に結合する非対称導電性の発光ダ
イオード成分Eとからなる容量性の発光素子であると考
えられる。有機EL素子は、直流の発光駆動電圧が電極
間に印加されると、電荷が容量成分Cに蓄積され、続い
て当該素子固有の障壁電圧または発光閾値電圧を越える
と、透明電極(ダイオード成分Eの陽極側)から発光層
を担う有機材料層に電流が流れ初め、この電流に比例し
た強度で発光する。かかる素子の電圧V−電流I−輝度
Lの特性は、ダイオードの特性に類似しており、発光閾
値Vth以下の電圧では電流Iはきわめて小さく、発光閾
値Vth以上の電圧になると電流Iは急激に増加する特性
である。また、電流Iと輝度Lはほぼ比例する。このよ
うな有機EL素子は、発光閾値Vthを超える駆動電圧を
素子に印加すれば当該駆動電圧に応じた電流に比例した
発光輝度を呈し、印加される駆動電圧が発光閾値Vth以
下であれば駆動電流が流れず発光輝度もゼロのままであ
る。
In an organic EL device, excitons are generated by recombination of electrons injected from a metal cathode and holes injected from a transparent anode into a light-emitting layer, and the excitons emit light in the process of deactivation. . Therefore, the organic EL element 200 can be electrically represented by an equivalent circuit as shown in FIG. As can be seen from the figure, the organic EL element has a capacitance component C
And an asymmetric conductive light-emitting diode component E coupled in parallel with the capacitance component. In the organic EL device, when a direct-current light emission drive voltage is applied between the electrodes, the charge is accumulated in the capacitance component C. When the charge exceeds the barrier voltage or the light emission threshold voltage inherent to the device, the transparent electrode (the diode component E Current starts flowing from the anode side to the organic material layer serving as the light emitting layer, and emits light at an intensity proportional to the current. The characteristic of the voltage V-current I-luminance L of such an element is similar to the characteristic of the diode. The current I is extremely small at a voltage equal to or lower than the light emission threshold Vth, and rapidly increases at a voltage equal to or higher than the light emission threshold Vth. It is an increasing characteristic. The current I and the luminance L are almost proportional. Such an organic EL element exhibits light emission luminance in proportion to a current corresponding to the drive voltage when a drive voltage exceeding the light emission threshold Vth is applied to the element, and is driven when the drive voltage applied is equal to or lower than the light emission threshold Vth. No current flows and the emission luminance remains zero.

【0004】有機EL素子表示装置は、交差している行
と列において配置されたいわゆるマトリクス状に配置さ
れた複数の発光画素すなわち有機EL素子からなる画像
表示配列を有している発光装置である。この有機EL素
子表示装置の駆動方法の一例には、単純マトリクス駆動
方式と呼ばれるものがある。単純マトリクス駆動方式の
表示装置は、複数の陽極線と陰極線とをマトリクス(格
子)状に配置し、このマトリクス状に配置した陽極線と
陰極線の各交点位置毎に有機EL素子を接続し、この陽
極線と陰極線のいずれか一方を一定の時間間隔で順次選
択して走査すると共に、この走査に同期して他方の線を
駆動源で駆動することにより、任意の交点位置の有機E
L素子を発光させるようにしたものである。この方式で
はアクセス時間だけ各有機EL素子が点灯するので大型
画面にするには、大電流及び高電圧が必要となる。
An organic EL element display device is a light emitting device having an image display array composed of a plurality of light emitting pixels arranged in a so-called matrix arranged in intersecting rows and columns, that is, organic EL elements. . As an example of a driving method of the organic EL element display device, there is a method called a simple matrix driving method. The display device of the simple matrix drive system arranges a plurality of anode lines and cathode lines in a matrix (lattice), and connects an organic EL element at each intersection of the anode lines and the cathode lines arranged in the matrix. One of the anode line and the cathode line is sequentially selected and scanned at a predetermined time interval, and the other line is driven by a drive source in synchronization with the scanning, so that the organic E at an arbitrary intersection position is obtained.
This is to make the L element emit light. In this method, since each organic EL element is turned on only for the access time, a large current and a high voltage are required to make a large screen.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】表示装置の大型画面化
には、単純マトリクス駆動方式の有機EL素子表示装置
の他に、アクティブマトリクス駆動方式のものが考えら
れる。これは、上記の陽極線及び陰極線を走査信号ライ
ン及びデータ信号ラインに置き換え各交点位置毎にスイ
ッチング素子に薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Tran
sistor)を用いてスイッチングによって画素毎に電流を
供給して有機EL素子を発光させるようにしたものであ
る。TFTにはp−Si、a−Siからなる素子や、金
属酸化膜半導体型電界効果トランジスタいわゆるMOS
−FET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Tr
ansistor)(以下、FETともいう)が採用され得る。
例えば、MOS−FETは、半導体例えばSi基板上に
2つの反転伝導領域を形成し、該反転伝導領域間の基板
表面上に酸化物SiO2薄膜、金属ゲート電極を順に設
け、金属ゲートから印加される電界により、基板表面の
伝導性を制御するものである。
In order to increase the size of the screen of the display device, in addition to the organic EL device display device of the simple matrix drive system, an active matrix drive system can be considered. This is because the above-described anode line and cathode line are replaced with a scanning signal line and a data signal line, and a thin film transistor (TFT: Thin Film Tran
A current is supplied to each pixel by switching using a sistor, and the organic EL element emits light. TFTs include elements made of p-Si and a-Si, metal oxide semiconductor field effect transistors, so-called MOS transistors.
−FET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Tr
ansistor) (hereinafter also referred to as FET).
For example, in a MOS-FET, two inversion conduction regions are formed on a semiconductor, for example, a Si substrate, and an oxide SiO 2 thin film and a metal gate electrode are sequentially provided on the substrate surface between the inversion conduction regions. The electric field controls the conductivity of the substrate surface.

【0006】N型FETを駆動用トランジスタに用いた
有機EL素子表示装置パネルが特開平10−16156
3に記載されている。かかるパネルでは、有機材料層の
上にITOからなる透明電極を形成するが、ITOの成
膜は高温でなされるため、高い温度で有機EL材料が破
壊される欠点がある。そこで、本発明の目的は、N型F
ETを共通の基板上の特定位置に形成した有機EL材料
が破壊されない有機EL素子表示装置を提供することに
ある。
An organic EL element display panel using an N-type FET as a driving transistor is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-16156.
3. In such a panel, a transparent electrode made of ITO is formed on the organic material layer. However, since the ITO film is formed at a high temperature, there is a disadvantage that the organic EL material is destroyed at a high temperature. Therefore, an object of the present invention is to provide an N-type F
It is an object of the present invention to provide an organic EL element display device in which an ET formed at a specific position on a common substrate is not destroyed.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の有機エレクトロ
ルミネッセンス表示装置は、透明基板上に複数の発光部
がマトリクス状に配置された表示配列を有し、前記発光
部の各々が有機エレクトロルミネッセンス素子及びN型
電界効果トランジスタを含む有機エレクトロルミネッセ
ンス表示表示装置であって、前記有機エレクトロルミネ
ッセンス素子は、前記透明基板上に、少なくとも透明電
極と電子及び正孔の注入により発光する有機材料層と金
属電極が順に積層されてなり、前記N型電界効果トラン
ジスタはソース電極が電子供給側に接続されドレイン電
極が前記金属電極に接続されることを特徴とする。
An organic electroluminescence display device according to the present invention has a display arrangement in which a plurality of light emitting portions are arranged in a matrix on a transparent substrate, and each of the light emitting portions is an organic electroluminescent element. And an organic electroluminescence display device including an N-type field effect transistor, wherein the organic electroluminescence element comprises, on the transparent substrate, at least a transparent electrode, an organic material layer emitting light by injection of electrons and holes, and a metal electrode. Are sequentially stacked, and the N-type field effect transistor has a source electrode connected to the electron supply side and a drain electrode connected to the metal electrode.

【0008】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、隣り合う前記発光部における前
記N型電界効果トランジスタ同士が隣接しかつ前記有機
エレクトロルミネッセンス素子同士が隣接することを特
徴とする。本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子
表示装置においては、前記基板上に形成されかつ前記N
型電界効果トランジスタのゲート電極に接続されたアド
レス用電界効果トランジスタを有することを特徴とす
る。
In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the N-type field effect transistors in the adjacent light emitting portions are adjacent to each other, and the organic electroluminescence elements are adjacent to each other. In the organic electroluminescence element display device of the present invention, the organic electroluminescence element display device is formed on the substrate and the N
An address field-effect transistor connected to a gate electrode of the field-effect transistor.

【0009】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、前記基板上に形成されかつ前記
N型電界効果トランジスタのゲート電極に接続されたコ
ンデンサを有することを特徴とする。本発明の有機エレ
クトロルミネッセンス素子表示装置においては、前記N
型電界効果トランジスタのゲート電極及びソース電極を
覆うとともに、前記透明電極の発光領域とN型電界効果
トランジスタのドレイン電極とを露出する開口を有する
絶縁膜が設けられたことを特徴とする。
[0009] In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, a capacitor is formed on the substrate and connected to a gate electrode of the N-type field effect transistor. In the organic electroluminescence element display device of the present invention,
An insulating film which covers the gate electrode and the source electrode of the field effect transistor and has an opening exposing the light emitting region of the transparent electrode and the drain electrode of the N type field effect transistor is provided.

【0010】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子表示装置においては、隣り合う前記発光部における前
記N型電界効果トランジスタ同士は、共通カソードライ
ンを中心に対称的に配置されていることを特徴とする。
本発明の製造方法においては、透明基板上に複数の発光
部がマトリクス状に配置された表示配列を有し、前記発
光部の各々が有機エレクトロルミネッセンス素子及び前
記有機エレクトロルミネッセンス素子へ電子を供給して
これを駆動するN型電界効果トランジスタを含み、前記
有機エレクトロルミネッセンス素子が前記透明基板上に
形成された透明電極と前記透明電極上に形成され少くと
も1層の電子及び又は正孔の注入によって発光する有機
エレクトロルミネッセンス材料層を含む有機材料層と前
記有機材料層上に形成された金属電極とからなり、隣り
合う前記発光部における前記N型電界効果トランジスタ
同士が隣接しかつ前記有機エレクトロルミネッセンス素
子同士が隣接する有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置の製造方法であって、少なくとも前記N型電界効
果トランジスタ及び前記透明電極を前記透明基板上に形
成する素子形成工程と、前記N型電界効果トランジスタ
のゲート電極及びソース電極を覆うとともに、前記透明
電極の発光領域とN型電界効果トランジスタのドレイン
電極とを露出する開口を有する絶縁膜を形成する工程
と、前記有機材料層を前記透明電極の発光領域上に形成
する工程と、前記金属電極を前記有機材料層上に形成す
る工程と、からなり、前記N型電界効果トランジスタの
ソース電極が電子供給側に接続され、そのドレイン電極
が前記金属電極に接続されることを特徴とする。
[0010] In the organic electroluminescence element display device according to the present invention, the N-type field effect transistors in the adjacent light emitting portions are symmetrically arranged about a common cathode line.
In the manufacturing method of the present invention, a plurality of light-emitting portions have a display arrangement arranged in a matrix on a transparent substrate, and each of the light-emitting portions supplies electrons to the organic electroluminescence element and the organic electroluminescence element. An N-type field effect transistor for driving the organic electroluminescent element, wherein the organic electroluminescent element is formed on the transparent electrode by injecting at least one layer of electrons and / or holes formed on the transparent electrode and on the transparent electrode. An organic material layer including a light-emitting organic electroluminescent material layer and a metal electrode formed on the organic material layer, wherein the N-type field-effect transistors in the adjacent light-emitting portions are adjacent to each other and the organic electroluminescent element Method of manufacturing organic electroluminescent element display device adjacent to each other An element forming step of forming at least the N-type field-effect transistor and the transparent electrode on the transparent substrate; and covering a gate electrode and a source electrode of the N-type field-effect transistor, and a light-emitting region of the transparent electrode. Forming an insulating film having an opening exposing the drain electrode of the N-type field effect transistor; forming the organic material layer on a light emitting region of the transparent electrode; and forming the metal electrode on the organic material layer. A source electrode of the N-type field effect transistor is connected to the electron supply side, and a drain electrode thereof is connected to the metal electrode.

【0011】上記有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置の製造方法の前記素子形成工程において、前記基
板上に形成されかつ前記N型電界効果トランジスタのゲ
ート電極に接続されたコンデンサを形成することを特徴
とする。上記有機エレクトロルミネッセンス素子表示装
置の製造方法の前記素子形成工程において、前記基板上
に形成されかつ前記N型電界効果トランジスタのゲート
電極に接続されたアドレス用電界効果トランジスタを形
成することを特徴とする。
[0011] In the method of manufacturing an organic electroluminescence element display device, a capacitor formed on the substrate and connected to a gate electrode of the N-type field effect transistor is formed in the element forming step. In the element forming step of the method for manufacturing an organic electroluminescence element display device, an address field effect transistor formed on the substrate and connected to a gate electrode of the N-type field effect transistor is formed. .

【0012】[0012]

【作用】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子表
示装置によれば、P型FETに比べて移動度で優れる、
N型FETを用いた駆動特性に優れた表示装置を有機材
料にダメージを与えることなく容易に製造することがで
きる。
According to the organic electroluminescence element display device of the present invention, the mobility is superior to that of the P-type FET.
A display device having excellent driving characteristics using an N-type FET can be easily manufactured without damaging the organic material.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に、本発明による実施例を図
面を参照しつつ説明する。図3に、アクティブマトリク
ス駆動方式による実施例の有機EL素子表示装置におけ
る表示パネルの一部を示す。この表示パネル109は、
透明な表示基板上に、マトリクス状に配置されかつ各々
が赤色R、緑色G及び青色Bの3つの発光部(有機EL
素子)からなる発光画素111の複数からなる画像表示
配列を有している。画素1つの発光部当たり、2個のF
ET10、11及びコンデンサ300からなるスイッチ
ング回路と、有機EL素子200とから構成される。こ
のような発光部組合せユニットが各画素ごとに全画素数
の数だけ集積され、マトリクス状に配置された複数の発
光画素からなる画像表示配列の有機EL素子表示装置の
表示側の基板が形成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 3 shows a part of a display panel in an organic EL element display device according to an embodiment using an active matrix driving method. This display panel 109
On a transparent display substrate, three light-emitting portions (organic EL devices) arranged in a matrix and each of which has a red R, a green G, and a blue B
(Image display array) composed of a plurality of light-emitting pixels 111 composed of elements. Two F per light emitting part per pixel
The organic EL device 200 includes a switching circuit including the ETs 10 and 11 and the capacitor 300, and the organic EL element 200. Such a light emitting unit combination unit is integrated by the number of all pixels for each pixel, and a display-side substrate of an organic EL element display device having an image display array including a plurality of light emitting pixels arranged in a matrix is formed. ing.

【0014】この有機EL素子表示装置のガラス表示基
板上には、有機EL素子200及びコンデンサ300を
挟んで平行に伸長する共通カソードライン12及びデー
タ信号ライン13が交互に設けられ、さらにこれらライ
ンから電気的に離間して直交する位置に配列され伸長す
る共通アノードライン15及び走査信号ライン16が設
けられている。データ信号ライン13へのRGB信号に
応じて走査信号ライン16を順次走査して、交点画素の
有機EL素子200を選択発光させる。
A common cathode line 12 and a data signal line 13 extending in parallel with an organic EL element 200 and a capacitor 300 interposed therebetween are alternately provided on a glass display substrate of the organic EL element display device. A common anode line 15 and a scanning signal line 16 are provided, which are electrically separated and orthogonally arranged and extend. The scanning signal line 16 is sequentially scanned in accordance with the RGB signals to the data signal line 13 to selectively emit light from the organic EL element 200 at the intersection pixel.

【0015】図4は図3に示す実施例に表示パネルの4
つの発光部の回路構成を示す。アドレス用のFET11
のゲートGは、走査回路からの行を走査する走査信号が
供給される走査信号ライン16に接続され、一方、FE
T11のソースSは、フレームメモリのデータに対応し
た書込み回路からの信号が供給されるデータ信号ライン
13に接続されている。
FIG. 4 shows the embodiment shown in FIG.
2 shows a circuit configuration of one light emitting unit. FET 11 for address
Is connected to a scanning signal line 16 to which a scanning signal for scanning a row from the scanning circuit is supplied.
The source S of T11 is connected to a data signal line 13 to which a signal from a write circuit corresponding to data in the frame memory is supplied.

【0016】アドレス用FET11のドレインDは、有
機EL素子を駆動する駆動用のN型FET10のゲート
G及びコンデンサ300に接続され、コンデンサ300
を通じて共通カソードライン12に接続されている。有
機EL素子を駆動するN型FET10のソースSは共通
カソードライン12に接続され、FET11のドレイン
Dは有機EL素子200のAl等の金属陰極に接続さ
れ、一方、有機EL素子200のITO陽極すなわち透
明電極を通じて共通アノードライン15に接続されてい
る。FET10のゲートGもコンデンサ300を介して
共通カソードライン12に接続されている。共通カソー
ドライン12及び共通アノードライン15は電源回路に
接続されそれぞれ制御される。
The drain D of the addressing FET 11 is connected to the gate G and the capacitor 300 of the driving N-type FET 10 for driving the organic EL element.
To the common cathode line 12 via The source S of the N-type FET 10 for driving the organic EL element is connected to the common cathode line 12, and the drain D of the FET 11 is connected to the metal cathode such as Al of the organic EL element 200, while the ITO anode of the organic EL element 200, It is connected to a common anode line 15 through a transparent electrode. The gate G of the FET 10 is also connected to the common cathode line 12 via the capacitor 300. The common cathode line 12 and the common anode line 15 are connected to a power supply circuit and controlled respectively.

【0017】このような回路が行及び列に複数配列され
た表示パネル109の単位画素の発光制御動作は、つぎ
の通りである。FET11のゲートGに走査信号ライン
16からオン電圧が供給されると、FET11はソース
Sに供給されるデータの電圧がドレインDへ伝達され
る。FET11のゲートGにオフ電圧が供給されるとF
ET11はカットオフとなり、ソースSに供給されるデ
ータの電圧はドレインに伝達されない。
The light emission control operation of the unit pixel of the display panel 109 in which a plurality of such circuits are arranged in rows and columns is as follows. When an ON voltage is supplied to the gate G of the FET 11 from the scanning signal line 16, the voltage of the data supplied to the source S of the FET 11 is transmitted to the drain D. When an off voltage is supplied to the gate G of the FET 11, F
ET11 is cut off, and the voltage of the data supplied to the source S is not transmitted to the drain.

【0018】従って、FET11のゲートGがオン電圧
の期間に、ソースSの電圧がコンデンサ300に充電さ
れ、その電圧がFET10のゲートGに供給される。F
ET10は導通状態となり、そのゲート電圧と電源回路
から共通アノードライン15及び有機EL素子200を
通じてドレインDにかかる電圧とに基づき電流がドレイ
ンDからソースSへ流れ、有機EL素子200を対応輝
度で発光せしめる。
Accordingly, while the gate G of the FET 11 is at the ON voltage, the voltage of the source S is charged in the capacitor 300, and the voltage is supplied to the gate G of the FET 10. F
The ET 10 becomes conductive, and a current flows from the drain D to the source S based on the gate voltage and the voltage applied from the power supply circuit to the drain D through the common anode line 15 and the organic EL element 200, and the organic EL element 200 emits light with the corresponding luminance. Let me know.

【0019】FET11のゲートGがオフ電圧になる
と、FET11は閉塞状態となり、FET10はコンデ
ンサ300に蓄積された電荷によりゲートGの電圧が保
持され、所定時間電流を維持し、有機EL素子200の
発光も維持される。次に、有機EL素子表示装置の表示
パネル109の製造工程を説明する。 (1) 透明基板上にITO電極と各種ラインを形成し
その上に絶縁膜を形成する。
When the gate G of the FET 11 is turned off, the FET 11 is closed, the voltage of the gate G is held by the electric charge accumulated in the capacitor 300, the current is maintained for a predetermined time, and the light emission of the organic EL element 200 is performed. Is also maintained. Next, a manufacturing process of the display panel 109 of the organic EL element display device will be described. (1) An ITO electrode and various lines are formed on a transparent substrate, and an insulating film is formed thereon.

【0020】図5に示すように、まず、それぞれITO
からなる第1表示電極の透明電極(陽極)201をマト
リクス状に形成したガラス基板1を用意する。Alなど
の低い抵抗率の金属を用いて、透明電極201間にアド
レス用FET11のゲート電極11G付きの走査信号ラ
イン16を成膜し、更にITO透明電極201の縁部上
に重なるように積層してAlからなる共通アノードライ
ン15すなわちバスラインも成膜する。これらと同時に
コンデンサ300の一方の電極301とこれに接続され
る駆動用FET10のゲート電極10Gも成膜する。
First, as shown in FIG.
A glass substrate 1 on which a transparent electrode (anode) 201 of a first display electrode formed of a matrix is formed. The scanning signal line 16 with the gate electrode 11G of the addressing FET 11 is formed between the transparent electrodes 201 using a metal having a low resistivity such as Al, and further laminated so as to overlap the edge of the ITO transparent electrode 201. A common anode line 15 made of Al, that is, a bus line is also formed. At the same time, one electrode 301 of the capacitor 300 and the gate electrode 10G of the driving FET 10 connected thereto are also formed.

【0021】各導電部を備えている基板1の上に、発光
する有機エレクトロルミネッセンス材料層を含む有機材
料層を積層させるために透明電極201を露出させる開
口を有したSiO2絶縁材料の絶縁層3を成膜する。絶
縁層3は配線の絶縁機能の他に、FET10、11の酸
化物SiO2薄膜として機能しかつ、コンデンサ300
の誘電体として機能する。また絶縁層3にはFET11
のドレイン電極11D用のコンタクトホールCHが形成
されている。
An insulating layer made of a SiO 2 insulating material having an opening for exposing the transparent electrode 201 for laminating an organic material layer including an organic electroluminescent material layer for emitting light on the substrate 1 provided with each conductive portion. 3 is formed. The insulating layer 3 functions as an oxide SiO 2 thin film of the FETs 10 and 11 in addition to the insulating function of the wiring, and the capacitor 300
Functions as a dielectric. The insulating layer 3 has an FET 11
Contact hole CH for the drain electrode 11D is formed.

【0022】(2) TFT11(アドレス用TFT)
TFT10(駆動用FET)などを形成する。次に、図
6に示すように、絶縁層3上にFET10、11のため
所定位置に、それぞれアモルファスシリコン層(a−S
i)及びN型不純物をドープしアモルファスシリコン層
(n+−a−Si)を成膜して、その後所定マスクを用
いたエッチングを行い、それぞれのFETのチャネル部
を形成してFET領域10a、11aを形成する。ここ
で駆動用FET10はN型とするがアドレス用のFET
11はN型でもP型でもよい。このようにして、絶縁層
3上のFET領域10a、11aの所定位置にソース及
びドレイン電極10S,10D,11Dを成膜する。ソ
ース電極10Sは隣接するFET10用のFET領域1
0aを接続するように、ドレイン電極10Dは有機EL
素子200の透明電極201に対向するように、形成さ
れる。FET11のドレイン電極11Dはコンデンサ及
びドレイン接続用のコンタクトホールを介してFET領
域11aへ掛け渡されている。
(2) TFT 11 (TFT for address)
The TFT 10 (drive FET) and the like are formed. Next, as shown in FIG. 6, the amorphous silicon layers (a-S
i) and an amorphous silicon layer (n.sup. + -a-Si) doped with an N-type impurity, and then etched using a predetermined mask to form a channel portion of each FET to form an FET region 10a, 11a is formed. Here, the drive FET 10 is an N-type, but an address FET.
11 may be N-type or P-type. Thus, the source and drain electrodes 10S, 10D, and 11D are formed at predetermined positions of the FET regions 10a and 11a on the insulating layer 3. The source electrode 10S is the FET region 1 for the adjacent FET 10.
0a to connect the drain electrode 10D to the organic EL.
It is formed so as to face the transparent electrode 201 of the element 200. The drain electrode 11D of the FET 11 is extended to the FET region 11a via a contact hole for connecting a capacitor and a drain.

【0023】次に、共通アノードライン15及び走査信
号ライン16に交差するように、絶縁層3上にFET1
1のソース11Sと一体となったデータ信号ライン13
を形成する。ソース11Sはドレイン11Dの反対側で
ある。同様に、共通アノードライン15及び走査信号ラ
イン16に交差するように絶縁層3上に共通カソードラ
イン12を形成する。共通カソードライン12は、これ
に接続される駆動用FET10のソース電極10Sと接
続するように、かつ同時にコンデンサ300の他方の電
極302と接続するように、一体的に成膜する。
Next, the FET 1 is placed on the insulating layer 3 so as to cross the common anode line 15 and the scanning signal line 16.
Data signal line 13 integrated with one source 11S
To form The source 11S is on the opposite side of the drain 11D. Similarly, a common cathode line 12 is formed on the insulating layer 3 so as to cross the common anode line 15 and the scanning signal line 16. The common cathode line 12 is integrally formed so as to be connected to the source electrode 10S of the driving FET 10 connected thereto and to be simultaneously connected to the other electrode 302 of the capacitor 300.

【0024】(3) 開口絶縁膜を形成し、駆動用FE
TドレインとITOのみを露出させる。このようにFE
T、コンデンサ及び接続ラインのスイッチング回路を形
成した後に、図7及び図8に示すように、発光する有機
エレクトロルミネッセンス材料層を含む有機材料層を積
層させるために透明電極201及び駆動用FET10の
ドレイン電極10Dを露出させる開口を有した開口絶縁
層3aをスイッチング回路上に成膜する。
(3) An opening insulating film is formed, and a driving FE is formed.
Only the T drain and ITO are exposed. Thus, FE
After forming the switching circuit of the T, the capacitor and the connection line, as shown in FIGS. 7 and 8, the transparent electrode 201 and the drain of the driving FET 10 are stacked in order to stack an organic material layer including a light emitting organic electroluminescent material layer. An opening insulating layer 3a having an opening for exposing the electrode 10D is formed on the switching circuit.

【0025】(4) 各有機材料層を有機EL素子領域
に成膜する。次に、図9に示すように、マスク蒸着によ
り、陽極の透明電極201上に正孔注入層、正孔輸送
層、有機発光層、電子注入層を順に成膜し有機材料層2
02を形成する。有機材料層202は、露出したドレイ
ン電極10Dを覆わないように透明電極201上に形成
される。ここで、透明電極201に対応する上に開口が
位置する所定の成膜用マスクを用い、R、G及びBの発
光有機EL媒体をそれぞれの組で所定膜厚に成膜する。
(4) Each organic material layer is formed in an organic EL element region. Next, as shown in FIG. 9, a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron injection layer are sequentially formed on the anode transparent electrode 201 by mask evaporation to form an organic material layer 2.
02 is formed. The organic material layer 202 is formed on the transparent electrode 201 so as not to cover the exposed drain electrode 10D. Here, using a predetermined film forming mask in which an opening is located above the transparent electrode 201, R, G, and B light emitting organic EL media are formed into a film of a predetermined thickness in each set.

【0026】(5) 金属電極を有機EL素子領域とド
レイン領域を含む領域に成膜する。透明電極開口用の成
膜用マスクを取り除き、次に、図10及び図11に示す
ように、成膜された3種類の有機材料層202の上に、
マスク蒸着あるいはスパッタ等の手段を用いて、Al−
Li等の低仕事関数の金属を陰極の金属電極203とし
て成膜する。金属電極203は、露出したドレイン電極
10D及び有機材料層202を覆うように形成される。
この金属膜の膜厚は支障のない限り厚く被着させても構
わない。
(5) A metal electrode is formed in a region including the organic EL element region and the drain region. The film forming mask for opening the transparent electrode is removed, and then, as shown in FIGS. 10 and 11, on the three types of organic material layers 202 formed,
Using a method such as mask evaporation or sputtering, Al-
A metal having a low work function such as Li is formed as the metal electrode 203 of the cathode. The metal electrode 203 is formed so as to cover the exposed drain electrode 10D and the organic material layer 202.
The thickness of the metal film may be large as long as there is no problem.

【0027】このように有機エレクトロルミネッセンス
素子表示装置においては、有機EL素子200のITO
透明電極(陽極)201はバスラインの共通アノードラ
イン15に共通に接続される。駆動用FET(N型FE
T)10はそのドレイン10Dを有機EL素子200の
金属陰極203へ、その反対側に配置されたそのソース
10Sを共通カソードライン12へ接続されている。
As described above, in the organic electroluminescence element display device, the ITO of the organic EL element 200 is used.
The transparent electrode (anode) 201 is commonly connected to the common anode line 15 of the bus line. Driving FET (N-type FE
T) 10 has its drain 10D connected to the metal cathode 203 of the organic EL element 200 and its source 10S arranged on the opposite side connected to the common cathode line 12.

【0028】有機EL素子200を形成するためと、有
機EL素子200の金属陰極203へN型FET10の
ドレイン10Dを接続するために、ドレイン10DとI
TO透明電極201を露出させる開口を有するゲート及
びソースを覆う絶縁膜を設ける。走査信号ライン16の
伸長方向において隣り合う2つの画素は、有機EL素子
とN型FEETの配置が共通カソードライン12を中心
に対称的となっている。
In order to form the organic EL element 200 and to connect the drain 10D of the N-type FET 10 to the metal cathode 203 of the organic EL element 200, the drain 10D and the I
An insulating film that covers a gate and a source having an opening that exposes the TO transparent electrode 201 is provided. In the two pixels adjacent to each other in the direction in which the scanning signal line 16 extends, the arrangement of the organic EL element and the N-type FEET is symmetric about the common cathode line 12.

【0029】[0029]

【発明の効果】このように、本発明の有機エレクトロル
ミネッセンス素子表示装置によれば、N型TFTを使用
することで駆動特性に優れ、また、従来のように有機材
料にダメージを与えることはなく、パネルの製造も容易
となり、高精彩な表示装置が実現できる。
As described above, according to the organic electroluminescence element display device of the present invention, the driving characteristics are excellent by using the N-type TFT, and the organic material is not damaged unlike the prior art. In addition, the panel can be easily manufactured, and a high-definition display device can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】表示装置における有機EL素子の部分拡大断面
図。
FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view of an organic EL element in a display device.

【図2】有機EL素子の等価回路を示す図。FIG. 2 is a diagram showing an equivalent circuit of an organic EL element.

【図3】本発明による実施例のアクティブマトリクス駆
動方式の有機EL素子表示装置における表示パネルの一
部を示す表示側から見た平面図。
FIG. 3 is a plan view showing a part of a display panel in an organic EL element display device of an active matrix drive system according to an embodiment of the present invention, viewed from the display side.

【図4】本発明による実施例の有機EL素子表示装置の
表示パネル上に形成されたFET及び有機EL素子を示
す回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an FET and an organic EL element formed on a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図5】本発明による実施例の有機EL素子表示装置の
表示パネルの製造工程における基板の概略部分拡大平面
図。
FIG. 5 is a schematic partial enlarged plan view of a substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL device display device according to an example of the present invention.

【図6】本発明による実施例の有機EL素子表示装置の
表示パネルの製造工程における基板の概略部分拡大平面
図。
FIG. 6 is a schematic partial enlarged plan view of a substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図7】本発明による実施例の有機EL素子表示装置の
表示パネルの製造工程における基板の概略部分拡大平面
図。
FIG. 7 is a schematic partial enlarged plan view of a substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL device display device according to an example of the present invention.

【図8】図7の線AAの断面図。本発明による実施例の
有機EL素子表示装置の表示パネルの製造工程における
基板の概略部分拡大平面図。
FIG. 8 is a sectional view taken along line AA in FIG. 7; FIG. 2 is a schematic partial enlarged plan view of a substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to an embodiment of the present invention.

【図9】本発明による実施例の有機EL素子表示装置の
表示パネルの製造工程における基板の概略部分拡大平面
図。
FIG. 9 is a schematic partial enlarged plan view of a substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図10】本発明による実施例の有機EL素子表示装置
の表示パネルの製造工程における基板の概略部分拡大平
面図。
FIG. 10 is a schematic partial enlarged plan view of a substrate in a process of manufacturing a display panel of an organic EL element display device according to an example of the present invention.

【図11】図10の線AAの断面図。FIG. 11 is a sectional view taken along line AA in FIG. 10;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 3 絶縁層 4 有機薄膜 5、6 金属電極 10、11 FET S,10S,11S ソース電極 D,10D,11D ドレイン電極 G,10G,11G ゲート電極 12 カソードライン 13 データ信号ライン 15 アノードライン 16 走査信号ライン 109 表示パネル 200 有機EL素子 300 コンデンサ Reference Signs List 1 substrate 3 insulating layer 4 organic thin film 5, 6 metal electrode 10, 11 FET S, 10S, 11S source electrode D, 10D, 11D drain electrode G, 10G, 11G gate electrode 12 cathode line 13 data signal line 15 anode line 16 scanning Signal line 109 Display panel 200 Organic EL element 300 Capacitor

フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB18 BA06 CA01 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 5C094 AA14 AA43 BA03 BA27 CA19 DA09 EA05 EB02 FB01 Continued on the front page F term (reference) 3K007 AB18 BA06 CA01 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 5C094 AA14 AA43 BA03 BA27 CA19 DA09 EA05 EB02 FB01

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に複数の発光部がマトリクス
状に配置された表示配列を有し、 前記発光部の各々が有機エレクトロルミネッセンス素子
及びN型電界効果トランジスタを含む有機エレクトロル
ミネッセンス素子表示装置であって、 前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記透明基
板上に、少くとも透明電極と電子及び又は正孔の注入に
よって発光する有機材料層と金属電極が順に積層されて
なり、前記N型電界効果トランジスタはソース電極が電
子供給側に接続されドレイン電極が前記金属電極に接続
されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス
素子表示装置。
An organic electroluminescent element display device having a display arrangement in which a plurality of light emitting units are arranged in a matrix on a transparent substrate, wherein each of the light emitting units includes an organic electroluminescent element and an N-type field effect transistor. The organic electroluminescence element comprises, on the transparent substrate, at least a transparent electrode, an organic material layer that emits light by injection of electrons and / or holes, and a metal electrode, which are sequentially laminated, and the N-type field effect An organic electroluminescence element display device, wherein the transistor has a source electrode connected to the electron supply side and a drain electrode connected to the metal electrode.
【請求項2】 隣り合う前記発光部における前記N型電
界効果トランジスタ同士が隣接しかつ前記有機エレクト
ロルミネッセンス素子同士が隣接することを特徴とする
請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表示
装置。
2. The organic electroluminescent element display device according to claim 1, wherein the N-type field effect transistors in the adjacent light emitting units are adjacent to each other, and the organic electroluminescent elements are adjacent to each other.
【請求項3】 前記基板上に形成されかつ前記N型電界
効果トランジスタのゲート電極に接続されたアドレス用
電界効果トランジスタを有することを特徴とする請求項
1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置。
3. The organic electroluminescent element display device according to claim 1, further comprising an address field effect transistor formed on said substrate and connected to a gate electrode of said N-type field effect transistor.
【請求項4】 前記基板上に形成されかつ前記N型電界
効果トランジスタのゲート電極に接続されたコンデンサ
を有することを特徴とする請求項1記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子表示装置。
4. The organic electroluminescence device display according to claim 1, further comprising a capacitor formed on the substrate and connected to a gate electrode of the N-type field effect transistor.
【請求項5】 前記N型電界効果トランジスタのゲート
電極及びソース電極を覆うとともに、前記透明電極の発
光領域とN型電界効果トランジスタのドレイン電極とを
露出する開口を有する絶縁膜が設けられたことを特徴と
する請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子
表示装置。
5. An insulating film which covers a gate electrode and a source electrode of the N-type field effect transistor and has an opening exposing a light emitting region of the transparent electrode and a drain electrode of the N-type field effect transistor. The organic electroluminescence element display device according to claim 1, wherein:
【請求項6】 隣り合う前記発光部における前記N型電
界効果トランジスタ同士は、共通カソードラインを中心
に対称的に配置されていることを特徴とする請求項1記
載の有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置。
6. The organic electroluminescence element display device according to claim 1, wherein the N-type field-effect transistors in the adjacent light-emitting portions are symmetrically arranged around a common cathode line.
【請求項7】 透明基板上に複数の発光部がマトリクス
状に配置された表示配列を有し、 前記発光部の各々が有機エレクトロルミネッセンス素子
及び前記有機エレクトロルミネッセンス素子へ電子を供
給してこれを駆動するN型電界効果トランジスタを含
み、 前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記透明基板
上に形成された透明電極と前記透明電極上に形成され少
くとも1層の電子及び又は正孔の注入によって発光する
有機エレクトロルミネッセンス材料層を含む有機材料層
と前記有機材料層上に形成された金属電極とからなる有
機エレクトロルミネッセンス素子表示装置の製造方法で
あって、 少なくとも前記N型電界効果トランジスタ及び前記透明
電極を前記透明基板上に形成する素子形成工程と、 前記N型電界効果トランジスタのゲート電極及びソース
電極を覆うとともに、前記透明電極の発光領域とN型電
界効果トランジスタのドレイン電極とを露出する開口を
有する絶縁膜を形成する工程と、 前記有機材料層を前記透明電極の発光領域上に形成する
工程と、 前記金属電極を前記有機材料層上に形成する工程と、か
らなり、前記N型電界効果トランジスタのソース電極が
電子供給側に接続され、そのドレイン電極が前記金属電
極に接続されることを特徴とする有機エレクトロルミネ
ッセンス素子表示装置の製造方法。
7. A display arrangement in which a plurality of light emitting units are arranged in a matrix on a transparent substrate, wherein each of the light emitting units supplies an electron to the organic electroluminescence element and the organic electroluminescence element, and An organic electroluminescent element including a driving N-type field effect transistor, wherein the organic electroluminescent element is formed on the transparent substrate, and is formed on the transparent electrode and emits light by injection of at least one layer of electrons and / or holes. A method for manufacturing an organic electroluminescent element display device comprising an organic material layer including an electroluminescent material layer and a metal electrode formed on the organic material layer, wherein at least the N-type field effect transistor and the transparent electrode are An element forming step of forming on a transparent substrate, and the n-type field effect transistor Forming an insulating film covering the gate electrode and the source electrode and having an opening exposing the light emitting region of the transparent electrode and the drain electrode of the N-type field effect transistor; and forming the organic material layer on the light emitting region of the transparent electrode. Forming a metal electrode on the organic material layer, a source electrode of the N-type field effect transistor is connected to an electron supply side, and a drain electrode of the N-type field effect transistor is connected to the metal electrode. A method for manufacturing an organic electroluminescence element display device, wherein the display device is connected.
【請求項8】 前記素子形成工程において、前記基板上
に形成されかつ前記N型電界効果トランジスタのゲート
電極に接続されたコンデンサを形成することを特徴とす
る請求項7記載の製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein in the element forming step, a capacitor formed on the substrate and connected to a gate electrode of the N-type field effect transistor is formed.
【請求項9】 前記素子形成工程において、前記基板上
に形成されかつ前記N型電界効果トランジスタのゲート
電極に接続されたアドレス用電界効果トランジスタを形
成することを特徴とする請求項7記載の製造方法。
9. The manufacturing method according to claim 7, wherein, in the device forming step, an address field effect transistor formed on the substrate and connected to a gate electrode of the N-type field effect transistor is formed. Method.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002366057A (en) * 2001-06-11 2002-12-20 Toshiba Corp Display device
KR100366704B1 (en) * 2000-04-27 2003-01-09 삼성에스디아이 주식회사 Liquid crystal display device
JP2003303687A (en) * 2002-02-06 2003-10-24 Hitachi Ltd Organic luminous display device
FR2868210A1 (en) * 2004-03-24 2005-09-30 Lg Philips Lcd Co Ltd Fabrication of organic electro luminescence device involves forming n-type thin film transistor on substrate to easily drive organic luminescence device
KR100583135B1 (en) 2004-06-08 2006-05-23 삼성에스디아이 주식회사 Electro luminecence display
JP2010097051A (en) * 2008-10-17 2010-04-30 Sony Corp Panel
US7893896B2 (en) 2004-06-25 2011-02-22 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Light emitting display having decreased parasitic capacitance
US8232940B2 (en) 2006-04-26 2012-07-31 Sharp Kabushiki Kaisha Organic electroluminescent display device and production method thereof
JP2018125168A (en) * 2017-02-01 2018-08-09 セイコーエプソン株式会社 Electro-optic device and electronic equipment

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0854836A (en) * 1994-08-10 1996-02-27 Nec Corp Drive circuit for active matrix type current controlling light emitting element
JPH0981053A (en) * 1995-09-07 1997-03-28 Casio Comput Co Ltd Electric field light emitting element and its driving method
JPH10161563A (en) * 1996-11-29 1998-06-19 Tdk Corp Organic electroluminescence display device
JPH10189252A (en) * 1996-12-26 1998-07-21 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic active electroluminescent light emitting device
JPH1124606A (en) * 1997-07-02 1999-01-29 Seiko Epson Corp Display device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0854836A (en) * 1994-08-10 1996-02-27 Nec Corp Drive circuit for active matrix type current controlling light emitting element
JPH0981053A (en) * 1995-09-07 1997-03-28 Casio Comput Co Ltd Electric field light emitting element and its driving method
JPH10161563A (en) * 1996-11-29 1998-06-19 Tdk Corp Organic electroluminescence display device
JPH10189252A (en) * 1996-12-26 1998-07-21 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic active electroluminescent light emitting device
JPH1124606A (en) * 1997-07-02 1999-01-29 Seiko Epson Corp Display device

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100366704B1 (en) * 2000-04-27 2003-01-09 삼성에스디아이 주식회사 Liquid crystal display device
JP2002366057A (en) * 2001-06-11 2002-12-20 Toshiba Corp Display device
JP2003303687A (en) * 2002-02-06 2003-10-24 Hitachi Ltd Organic luminous display device
FR2868210A1 (en) * 2004-03-24 2005-09-30 Lg Philips Lcd Co Ltd Fabrication of organic electro luminescence device involves forming n-type thin film transistor on substrate to easily drive organic luminescence device
US7652422B2 (en) 2004-03-24 2010-01-26 Lg Display Co., Ltd. Organic electro luminescence device in which an amorphous silicon thin film transistor is employed as a driving element and a fabrication method thereof
US7963816B2 (en) 2004-03-24 2011-06-21 Lg Display Co., Ltd. Organic electro luminescence device and fabrication method thereof
KR100583135B1 (en) 2004-06-08 2006-05-23 삼성에스디아이 주식회사 Electro luminecence display
US7893896B2 (en) 2004-06-25 2011-02-22 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Light emitting display having decreased parasitic capacitance
US8232940B2 (en) 2006-04-26 2012-07-31 Sharp Kabushiki Kaisha Organic electroluminescent display device and production method thereof
JP2010097051A (en) * 2008-10-17 2010-04-30 Sony Corp Panel
JP2018125168A (en) * 2017-02-01 2018-08-09 セイコーエプソン株式会社 Electro-optic device and electronic equipment

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