JP2004054261A - Light emission display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the secular degradation of a thin film transistor in a current light emitting element which is driven by thin film transistors. <P>SOLUTION: In the light emission display device, at least one of transistors constituting a pixel circuit is defined as a p-channel type transistor. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(以下、ELという)素子等の発光素子を備えた発光装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】
本願発明の発明者は、薄膜トランジスタ駆動有機EL表示素子について精査した。その結果次のことがわかった。
【0003】
(1)薄膜トランジスタ駆動有機EL表示素子においては、有機EL表示素子が直流電流素子であるため、これを制御するために直列に挿入される薄膜トランジスタにも直流電流が流れる。
【0004】
(2)薄膜トランジスタは、nチャネル型とpチャネル型に分類される。nチャネル型とpチャネル型とは、経時劣化の様相が極めて異なる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、薄膜トランジスタにより駆動される電流発光素子において、薄膜トランジスタの経時劣化を抑制することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の発光表示装置は、走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、前記画素は、前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくとも一つはpチャネル型トランジスタであること、を特徴とする。
【0007】
本発明の第2の発光表示装置は、走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、前記画素は、前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、前記第2のトランジスタはpチャネル型トランジスタであること、を特徴とする。
【0008】
本発明の第3の発光表示装置は、走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、前記画素は、前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、画素電極と対向電極との間にある発光素子と、前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、前記画素電極と共通線との間に直列に挿入された第2のトランジスタと、を含み、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくとも一つはpチャネル型トランジスタであること、を特徴とする。
【0009】
本発明の第4の発光表示装置は、走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、前記画素は、前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、画素電極と対向電極との間にある発光素子と、前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、前記画素電極と共通線との間に直列に挿入された第2のトランジスタと、を含み、前記第2のトランジスタはpチャネル型トランジスタであること、を特徴とする。
【0010】
本発明の第5の表示装置は、走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、前記画素は、前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、前記第1のトランジスタ及び第2のトランジスタはそれぞれnチャネル型トランジスタ及びp型トランジスタであること、を特徴とする。
【0011】
本発明の第6の発光表示装置は、基板と、前記基板上に設けられた複数の走査線と、前記基板上に設けられた複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記複数のデータ線との交差によりマトリクス状に設けられた複数の画素と、前記複数の走査線に対して走査信号を出力する、前記基板上に設けられた走査線駆動回路と、を備え、前記複数の画素の各々は、前記走査信号により導通が制御される第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくとも一つはpチャネル型トランジスタであること、を特徴とする。
【0012】
上記の発光表示装置において、前記走査側駆動回路はトランジスタを含み、当該トランジスタは、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタとともに薄膜トランジスタであることが好ましい。
【0013】
上記の発光表示装置において、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタのうち少なくともいずれか一方と、前記走査側駆動回路に含まれる薄膜トランジスタと、は同一の工程により形成されてなることが好ましい。
【0014】
本発明の第7の発光表示装置は、基板と、前記基板上に設けられた複数の走査線と、前記基板上に設けられた複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記複数のデータ線との交差によりマトリクス状に設けられた複数の画素と、前記複数の走査線に対して走査信号を出力する、前記基板上に設けられた走査側駆動回路と、前記複数のデータ線に対して画像信号を出力する、前記基板上に設けられたデータ側駆動回路と、を備え、前記複数の画素の各々は、前記走査信号により導通が制御される第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくとも一つはpチャネル型トランジスタであること、を特徴とする。
【0015】
上記の発光表示装置において、前記データ側駆動回路及び前記走査側駆動回路はトランジスタを含み、当該トランジスタは、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタとともに薄膜トランジスタであることが好ましい。
【0016】
上記の発光表示装置において、前記走査側駆動回路及び前記データ側駆動回路に含まれる薄膜トランジスタと、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくともいずれか一方と、は同一工程により形成されてなることが好ましい。
【0017】
本発明の第8の発光表示装置は、基板と、前記基板上に設けられた複数の走査線と、前記基板上に設けられた複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記複数のデータ線との交差によりマトリクス状に設けられた複数の画素と、前記複数の走査線あるいは前記複数のデータ線に対して信号を出力する、前記基板上に設けられた駆動回路、を備え、前記複数の画素の各々は、前記走査信号により導通が制御される第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくとも一つはpチャネル型トランジスタであること、を特徴とする。
【0018】
上記の発光表示装置において、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくとも一つはpチャネル型薄膜トランジスタであり、前記駆動回路は、薄膜トランジスタを含み、当該薄膜トランジスタは、前記pチャネル型薄膜トランジスタと、同一工程により形成されてなることが好ましい。
【0019】
上記の発光表示装置において、前記駆動回路は相補型薄膜トランジスタを含み、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタは、ぞれぞれ、Nチャネル型薄膜トランジスタ及びPチャネル型薄膜トランジスタであること、を特徴とする。
【0020】
上記の発光表示装置の製造方法であって、前記相補型薄膜トランジスタのNチャネル型薄膜トランジスタを前記第1のトランジスタと同一工程により形成し、前記相補型薄膜トランジスタのPチャネル型薄膜トランジスタを前記第2のトランジスタと同一工程により形成すること、を特徴とする。これによれば、製造工程を増やすことなく、経時劣化の少ない高性能な発光表示装置を提供することができる。
【0021】
(1)さらに本発明は、複数の走査線および複数のデータ線が形成され、走査線とデータ線との各交点に対応して、薄膜トランジスタおよび電流発光素子が形成された電流駆動型発光表示装置において、薄膜トランジスタのうち少なくともひとつはpチャネル型薄膜トランジスタであることを特徴とする。
【0022】
上記の発明によれば、薄膜トランジスタの経時劣化を抑制することができる。
【0023】
(2)さらに本発明は、複数の走査線、複数のデータ線、共通電極および対向電極が形成され、走査線とデータ線との各交点に対応して、第1薄膜トランジスタ、第2薄膜トランジスタ、保持容量、画素電極および電流発光素子が形成され、前記第1薄膜トランジスタは、走査線の電位により、データ線と保持容量との導通を制御し、前記第2薄膜トランジスタは、保持容量の電位により、共通電極と画素電極との導通を制御することにより、画素電極と対向電極間にある前記電流発光素子を流れる電流を制御する電流駆動型発光表示装置において、第2薄膜トランジスタはpチャネル型薄膜トランジスタであることを特徴とする。
【0024】
(3)さらに上記の発明において、基板上に前記複数の走査線と、前記複数のデータ線と、前記薄膜トランジスタと前記電流発光素子がとともに、前記発光素子を駆動するための駆動回路を形成されてなり、前記pチャネル型薄膜トランジスタは、前記駆動回路内の薄膜トランジスタと、同一の工程により形成されていることが好ましい。
【0025】
上記の発明において、前記薄膜トランジスタはポリシリコン薄膜トランジスタからなることが好ましい。
【0026】
さらに、上記の発明において、前記駆動回路は相補型薄膜トランジスタからなり、前記第1薄膜トランジスタと前記駆動回路内のNチャネル型薄膜トランジスタとは同一工程により形成されてなり、前記第2薄膜トランジスタと前記駆動回路内のpチャネル型薄膜トランジスタとは同一工程により形成されてなることが好ましい。
【0027】
これによれば、製造工程を増やすことなく、経時劣化のない高性能な電流駆動型発光表示装置を提供することができる。
【0028】
【発明の実施の形態】
(有機EL表示素子の全体構造)
以下、本発明の好ましい実施の形態を、図面に基づいて説明する。
図1に示されるように、基板1上の中央部分が表示部とされている。透明基板1の外周部のうち、図面に向かって上側には、データ線112に対して画像信号を出力するデータ側駆動回路3が構成され、図面に向かって左側には、走査線111に対して走査信号を出力する走査側駆動回路4が構成されている。これらの駆動回路3、4ではN型の薄膜トランジスタとP型の薄膜トランジスタとによって相補型TFTが構成され、この相補型薄膜トランジスタは、シフトレスジスタ回路、レベルシフタ回路、アナログスイッチ回路などが構成されている。
【0029】
透明基板1上に、複数の走査線111と該走査線111の延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線112とが構成され、これらのデータ線112と走査線111との交差によりマトリクス状に画素7が構成される。
【0030】
これらの画素7は、走査線111を介して走査信号がゲート電極21(第1のゲート電極)に供給される第1薄膜トランジスタ(以下、スイッチング薄膜トランジスタと称す。)121が構成されている。このスイッチング薄膜トランジスタ121のソース・ドレイン領域の一方は、データ線112に電気的に接続され、他方のソース・ドレイン領域は電位保持113に電気的に接続されている。また、走査線111に対して共通線114が並列配置され、この共通線114と電位保持電極113との間には保持容量123が形成されている。共通線は定電位に保持されている。従って、走査信号によって選択されてスイッチング薄膜トランジスタ121がオン状態になると、データ線112から画像信号がスイッチング薄膜トランジスタを介して保持容量123に書き込まれる。
【0031】
電位保持電極113には第2薄膜トランジスタ(以下、カレント薄膜トランジスタと称す。)122のゲート電極が電気的に接続し、このカレント薄膜トランジスタ122のソース・ドレイン領域の一方は、共通線114に電気的に接続する一方、他方のソース・ドレイン領域は発光素子131の一方の電極115に電気的に接続している。カレント薄膜トランジスタ122がオン状態になった時に、カレント薄膜トランジスタ122を介して共通線114の電流が有機EL表示素子等の発光素子131に流れ、この発光素子131が発光される。尚、本構成では、保持容量の一方の電極は共通線114に接続されているが、共通線114に接続せずに、別に容量線を設けて容量線に接続されるように構成してもよい。さらに、保持容量の一方の電極を隣接するゲート線に接続するように構成してもよい。
(実施例1)
図1は、本発明の実施例1に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の等価回路図、図2は、本発明の実施例1に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の駆動電圧図、図3は、本発明の実施例1に係るカレント薄膜トランジスタの電流電圧特性図、図4は、本発明の実施例1に係る有機EL表示素子の電流電圧特性図である。
【0032】
図1において、111は走査線、112はデータ線、113は保持電極、114は共通線、115はAlで形成された画素電極、116はITOで形成された対向電極、121はスイッチング薄膜トランジスタ、122はnチャネル型カレント薄膜トランジスタ、123は保持容量、131は給電線116から画素電極115に向かって流れる電流により発光する有機EL表示素子(以下、正置有機EL表示素子と称す。)13、141は有機EL表示素子の電流の向きである。
【0033】
図2において、211は走査電位、212は信号電位、213は保持電位、214は共通電位、215は画素電位、216は対向電位である。尚、図2には各電位関係を説明するために各電位の一部だけが記載されている。走査線111の電位が走査電位211、データ線112の電位が信号電位212、保持電極113の電位が保持電位213、共通線114の電位が共通電位214、Alで形成された画素電極115の電位が画素電位215、ITO(Indiumu Tin Oxide)で形成された対向電極116の電位が対向電位216に対応する。尚、図2は、各信号電位を模式的に部分的に記載するものである。
【0034】
221は、画素が表示状態となる期間で、正置有機EL表示素子131に電流が流れて発光し、222は、画素が非表示状態となる期間で、正置有機EL表示素子131に電流が流れず発光しない。
【0035】
図4おいて、31は、ドレイン電圧4Vのときの、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122の電流電圧特性、32はドレイン電圧8Vのときの、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122の電流電圧特性である。どちらのドレイン電圧においても、ゲート電圧が低電圧のとき、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122はオフ状態となり、小さなドレイン電流が流れ、ソースドレイン間抵抗は高抵抗となり、ゲート電圧が高電圧のとき、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122はオン状態となり、大きなドレイン電流が流れ、ソースドレイン間抵抗は低抵抗となることがわかる。
【0036】
図5において、4は正置有機EL表示素子131の電流電圧特性である。ここでは、電圧は、画素電位215に対する対向電位216を表し、電流は、対向電極116から画素電極115へと流れる電流を表すものとする。正置有機EL表示素子131は、あるしきい値電圧以下では、オフ状態となり、高抵抗で、電流が流れず、発光しない。しきい値電圧以上では、オン状態となり、低抵抗で、電流が流れ、発光する。ここでは、しきい値電圧は、およそ2Vである。
【0037】
本実施例の薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の動作を、図2、図3、図4および図5を用いて説明する。
【0038】
スイッチング薄膜トランジスタ121は、走査線111の電位により、データ線112と保持電極113との導通を制御する。すなわち、走査電位211により、信号電位212と保持電位213との導通を制御する。なお、ここでは、スイッチング薄膜トランジスタ121は、nチャネル薄膜トランジスタであるが、pチャネル薄膜トランジスタでもかまわない。
【0039】
画素が表示状態となる期間221に対しては、信号電位212が高電位となり、保持電位213にはその高電位が保持される。画素が非表示状態となる期間222に対しては、信号電位212が低電位となり、保持電位213にはその低電位が保持される。
【0040】
nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122は、図3に示す特性をもっており、保持電極113の電位により、共通線114と画素電極115との導通を制御する。すなわち、保持電位213により、共通電位214と画素電位222との導通を制御する。画素が表示状態となる期間221に対しては、保持電位213は高電位であるため、共通線114と画素電極115が導通され、画素が非表示状態となる期間222に対しては、保持電位213は低電位であるため、共通線114と画素電極115が切断される。
【0041】
有機EL表示素子131は、図5に示す特性をもっており、画素が表示状態となる期間221に対しては、画素電極115と対向電極116間に電流が流れ、有機EL表示素子131が発光する。画素が非表示状態となる期間222に対しては、電流が流れず、発光しない。
【0042】
図6(a)は、本発明の実施例に係る薄膜トランジスタ有機EL表示素子(画素)の断面図、図6(b)は、本発明の実施例に係る薄膜トランジスタ有機EL表示素子(1画素)の平面図である。図6(a)の断面A−A’は、図6(b)の断面A−A’に対応する。
【0043】
図5において、132は正孔注入層、133は有機EL層、151はレジスト
である。
【0044】
なお、ここでは、スイッチング薄膜トランジスタ121およびnチャネル型カレント薄膜トランジスタ122に関して、薄膜トランジスタ液晶表示素子で用いられている、低温ポリシリコン薄膜トランジスタの構造およびプロセス、すなわち、トップゲート構造および最高温度600度以下のプロセスを使用したが、他の構造およびプロセスであってもかまわない。
【0045】
Alで形成された画素電極115、ITOで形成された対向電極116、正孔注入層132および有機EL層133により、正置有機EL表示素子131が形成されている。この正置有機EL表示素子131では、有機EL表示素子の電流の向き141を、ITOで形成された対向電極116から、Alで形成された画素電極115への向きとすることができる。なお、有機EL表示素子に関して、ここで用いた構造でなくても、有機EL表示素子の電流の向き141を、対向電極から画素電極への向きにできるのであれば、他の構造であってもかまわない。
【0046】
なお、ここでは、正孔注入層132および有機EL層133は、レジスト151を各画素間の分離構造として用いた、インクジェットプリンティング法によって形成され、ITOで形成された対向電極116は、スパッタ法により形成されるが、他の方法であってもかまわない。
【0047】
本実施例では、共通電位214が、対向電位216よりも、低電位である。かつ、カレント薄膜トランジスタがnチャネル型カレント薄膜トランジスタ122である。
【0048】
画素が表示状態になる期間221において、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122は、オン状態となる。正置有機EL表示素子131を流れる電流、すなわち、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122のオン電流は、図3に示すように、ゲート電圧に依存する。ここで、ゲート電圧とは、保持電位213と、共通電位214と画素電位215との低い方の電位との、電位差である。本実施例によれば、共通電位214が画素電位215よりも低電位となるので、ゲート電圧は、保持電位213と共通電位214との電位差となる。この電位差は、十分大きくとれるので、十分大きなオン電流が得られる。なお、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122のオン電流は、ドレイン電圧にも依存するが、ここでの結論は変わらない。
【0049】
また、逆に、必要なオン電流を得るために、保持電位213をより低電位にすることが可能となり、信号電位212の振幅、ひいては、走査電位211の振幅を低減することが可能となる。すなわち、スイッチング薄膜トランジスタ121や、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122において、画質の劣化や、動作の異常や、動作可能な周波数の低下を招くことなく、駆動電圧の低減を実現できる。
さらに、本実施例では、表示状態にする画素に対する信号電位212は、対向電位216と比べて低電位である。
【0050】
上記のように、画素が表示状態になる期間221において、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122のオン電流は、保持電位213と共通電位214との電位差に依存し、保持電位213と対向電位216との電位差には、直接には依存しない。そこで、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122において十分大きなオン電流を確保しながら、保持電位213、すなわち、表示状態にする画素に対する信号電位212を、対向電位216よりも低電位にすることが可能となり、ひいては、信号電位212の振幅や、走査電位211の振幅を低減することが可能となる。すなわち、スイッチング薄膜トランジスタ121や、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122において、画質の劣化や、動作の異常や、動作可能な周波数の低下を招くことなく、駆動電圧の低減を実現できる。
【0051】
さらに、本実施例では、非表示状態にする画素に対する信号電位212は、共通電位214と比べて高電位である。画素が非表示状態になる期間222において、信号電位212を、共通電位214と比べて、わずかに高電位とした場合、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122は、完全にオフ状態とはならない。しかし、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122のソースドレイン間抵抗は、図3に示すように、かなり高抵抗となる。このため、共通電位214と対向電位216を、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122の抵抗値と正置有機EL表示素子131の抵抗値で、分割することで決定される、画素電位215は、対向電位216に近い電位となる。
【0052】
正置有機EL表示素子131に印加される電圧は、画素電位215と対向電位216との電位差であるが、図5に示すように、あるしきい値電圧以下では、オフ状態となり、電流が流れず、発光しない。すなわち、正置く機EL表示素子131のしきい値電圧を利用することにより、信号電位212が、共通電位214と比べて、わずかに高電位であり、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122が、完全にオフ状態にならなくとも、正値有機EL表示素子131を発光させないことが可能である。
【0053】
ここでは、非表示状態にする画素に対する信号電位212を、共通電位214と比べて、高電位にすることで、信号電位212の振幅、ひいては、走査電位211の振幅を低減することが可能となる。すなわち、スイッチング薄膜トランジスタ121や、nチャネル型カレント薄膜トランジスタ122において、画質の劣化や、動作の異常や、動作可能な周波数の低下を招くことなく、駆動電圧の低減を実現できる。
【0054】
なお、本実施例の薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の動作は、上記のように単純ではなく、より複雑な電圧および電流の関係のもとに動作するが、近似的および定性的には上記の説明が成り立つ。
(実施例2)
図7は、本発明の実施例2に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の等価回路図、図7は、本発明の実施例2に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の駆動電圧図、図8は、本発明の実施例2に係るカレント薄膜トランジスタの電流電圧特性図、図9は、本発明の実施例2に係る有機EL表示素子の電流電圧特性図である。
【0055】
図7において、615はITOで形成された画素電極、616はAlで形成された対向電極、622はpチャネル型カレント薄膜トランジスタ、631は(画素電極615から給電線616に流れる電流により発光する有機EL表示素子(以下、逆置有機EL表示素子と称す。)である。641は有機EL表示素子の電流の向きであるが、図1とは方向が逆である。それ以外は、上記の実施例1及び図1と同様である。
【0056】
図8において、各電位のレベルは、図2とは異なっている。それ以外は、図2と同様である。
【0057】
図9において、81は、ドレイン電圧4Vのときの、pチャネル型カレント薄膜トランジスタ622の電流電圧特性、82はドレイン電圧8Vのときの、pチャネル型カレント薄膜トランジスタ622の電流電圧特性である。
【0058】
図10において、9は逆置有機EL表示素子631の電流電圧特性である。本実施例の薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の動作は、カレント薄膜トランジスタがpチャネル型薄膜トランジスタ622であることにより、カレント薄膜トランジスタに関連する電位関係が反転していること以外は、実施例1と同様である。
【0059】
図11(a)は、本発明の実施例に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子(1画素)の断面図、図11(b)は、本発明の実施例2に係る薄膜トランジスタ有機EL表示素子(1画素)の平面図である。図11(a)の断面A−A’は、図10(b)の断面A−A’に対応する。
【0060】
図10において、632は正孔注入層、633は有機EL層である。それ以外は、図5と同様である。ITOで形成された画素電極615、Alで形成された対向電極616、正孔注入層632および有機EL層633により、逆置有機EL表示素子631が形成されている。この逆置有機EL表示素子631では、有機EL表示素子の電流の向き641を、ITOで形成された画素電極615から、Alで形成された対向電極616への向きとすることができる。
【0061】
本実施例では、共通電位714が、対向電位716よりも、高電位である。かつ、カレント薄膜トランシスタがpチャネル型カレント薄膜トランジスタ622である。
【0062】
さらに、本実施例では、表示状態にする画素に対する信号電位712は、対向電位716と比べて、高電位である。
さらに、本実施例では、非表示状態にする画素に対する信号電位712は、共通電位714と比べて、低電位である。
【0063】
本実施例の薄膜トランジスタ有機EL表示素子のすべての効果も、カレント薄膜トランジスタがpチャネル型薄膜トランジスタ622であることにより、カレント薄膜トランジスタに関連する電位関係が反転していること以外は、カレント薄膜トランジスタに関連する電位関係が反転していること以外は、実施例1と同様である。
【0064】
本実施例では、カレント薄膜トランジスタ122は、pチャネル型薄膜トランジスタである。この構成により、カレント薄膜トランジスタ122の経時劣化を、著しく低減することが可能となる。また、pチャネル型のポリシリコン薄膜トランジスタで構成することにより、カレント薄膜トランジスタ122の経時劣化をさらに低減することが可能となる。
【0065】
図14は上述の本発明の実施例に係る薄膜トランジスタを備えた電流駆動型発光表示装置の製造工程図である。まず、図14(a)に示されるように、基板1上にアモルファスシリコン層200〜600オングストロームを基板全面に形成し、レーザー等のアニールを施すことによりアモルファスシリコンを多結晶化して、多結晶シリコン層を形成する。  その後、多結晶シリコン層をパターニングして、スイッチング薄膜トランジスタ121のソース・ドレイン・チャネル領域となるシリコン薄膜421と、蓄積容量123の第1電極423と、カレント薄膜トランジスタ122のソース・ドレイン・チャネル領域となるシリコン薄膜422を形成する。
【0066】
次に、シリコン薄膜421、422と第1電極423の上にゲート絶縁膜となる絶縁膜424を形成する。次に、第1電極423にリン(P)イオンを選択的に打ち込み、低抵抗化する。次に、図14(b)に示されるように、シリコン薄膜421と422の上にゲート絶縁膜を介してTaN層からなるゲート電極111と111’を形成する。
【0067】
次に、レジストマスク42をカレント薄膜トランジスタとなるシリコン層422の上に形成して、ゲート電極をマスクとしてセルフアラインでリン(P)をイオン打ち込みしてシリコン層421にn型のソース・ドレイン領域を形成する。次に、図14(c)に示されるように、第1シリコン層421及び第1電極上にレジストマスク412’を形成して、シリコン層422にゲート電極111’をマスクとしてセルフアラインでボロン(B)をイオン打ち込みしてシリコン層422にp型のソース・ドレイン領域を形成する。このように、nチャネル型不純物ドープ411により、スイッチング薄膜トランジスタ121が形成される。このとき、カレント薄膜トランジスタ122は、レジストマスク42に保護されて、nチャネル型不純物ドープ411は行われない。次に、pチャネル型不純物ドープ412により、カレント薄膜トランジスタ122が形成されるのである。
【0068】
また、図示しないが、スイッチングトランジスタ121を駆動する駆動回路部のシフトレジスタ、サンプルホールド回路等を構成する薄膜トランジスタを同一基板に形成する場合も上記の工程と同一のプロセスで同時に形成することが可能である。尚、蓄積容量の第2電極425は、ゲート電極111及び111’と同時に同
一材料で形成してもよいし、別の材料で形成してもよい。次に、図14(d)に示されるように、層間絶縁膜43を形成した後、コンタクトホールを形成した後、アルミニウムやITOからなる電極層426、427、428及び429を形成する。
【0069】
次に、層間絶縁膜44を形成して平坦化した後、コンタクトホールを形成して、カレント薄膜トランジスタの一方の電極の接続されるようにITO45を1000〜2000オングストローム、好ましくは約1600オングストローム形成する。次に、各画素領域に対して、2.0μm以上のバンク層46、47を区画形成する。次に、バンク層46、47で囲われた領域に、インクジェット方式等により有機EL層48を形成する。有機EL48を形成した後に、有機EL層48上に6000〜8000オングストロームからなるアルミニウムリチウムを対向電極49として形成する。有機EL48と対向電極49の間に図5に示されるように正孔注入層を設けてもよい。
【0070】
上述の工程により、高性能な薄膜トランジスタ駆動の有機EL表示素子を形成することが可能となる。また、ポリシリコンはアモルファルシリコンに比べてキャリアの移動度が格段に大きいので高速動作が可能である。特に、本実施例では、p型のカレント薄膜トランジスタ122とn型のスイッチング薄膜トランジスタ121を形成する際に、駆動回路のシフトレジスタ、サンプルホールド回路等を構成する相補型薄膜トランジスタのp型及びn型の薄膜トランジスタを上記の実施例を用いて同時に形成することが可能である。この構成によれば、カレント薄膜トランジスタ122の経時劣化を低減する構成を得ることが、製造過程の増加なしに実現できる。
【0071】
上述のように実施例1ではカレント薄膜トランジスタをnチャネル型で、実施例2ではカレント薄膜トランジスタをpチャネル型の構成について記載したが、ここで、pチャネル型とnチャネル型の薄膜トランジスタの経時劣化について検討する。
【0072】
図12および図13は、同等の電圧印加条件に対する、nチャネル型およびpチャネル型薄膜トランジスタ、特にポリシリコン薄膜トランジスタの経時劣化を示す図である。図12の511、512は電圧印加前のVd=4V、Vd=8Vにおけるnチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性を示す。また、521、522はVg=0V、Vd=15V、1000秒程度の電圧印加後のVd=4V、Vd=8Vにおけるnチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性を示す。
【0073】
図13の811、812は電圧印加前のVd=4V、Vd=8Vにおけるpチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性を示す。また、821、822はVg=0V、Vd=15V、1000秒程度の電圧印加後のVd=4V、Vd=8Vにおけるpチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性を示す。明らかに、pチャネル型薄膜トランジスタの方が、オン電流の減少およびオフ電流の増加が、小さいことがわかる。
【0074】
図12及び図13に示されるp型とn型の薄膜トランジスタの経時劣化特性の違いを考慮して、スイッチング薄膜トランジスタとカレント薄膜トランジスタの少なくとも一方をpチャネル型薄膜トランジスタ、特にp型のポリシリコン薄膜トランジスタで構成することにより、経時劣化を抑制することができる。さらに、カレント薄膜トランジスタだけではなく、スイッチング薄膜トランジスタもp型薄膜トランジスタで構成することにより、さらに表示素子の特性を維持することが可能となる。
【0075】
また上述の実施例は、発光素子として有機EL表示素子を用いて説明したが、有機EL表示素子に限らず、無機EL素子あるいはその他の電流駆動型発光素子にも適用可能であることは言うまでもない。
【0076】
(産業上の利用分野)
本発明に係わる表示装置は、有機EL表示素子、無機EL素子等の各種の電流駆動型発光素子とこれを駆動する薄膜トランジスタ等のスイッチング素子とを備えた表示装置として利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した表示装置の基本的な構成を示すブロック図である。
【図2】本発明の実施例1に係る薄膜トランジスタを備えた表示素子の等価回路図である。
【図3】本発明の実施例1に係る薄膜トランジスタを備えた表示素子の駆動電圧図である。
【図4】本発明の実施例1に係るカレント薄膜トランジスタの電流電圧特性図である。
【図5】本発明の実施例1に係る有機EL表示素子の電流電圧特性図である。
【図6】(a)本発明の実施例1に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の断面図であり、(b)本発明の実施例1に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の平面図である。
【図7】本発明の実施例2に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の等価回路図である。
【図8】本発明の実施例2に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の駆動電圧図である。
【図9】本発明の実施例2に係るカレント薄膜トランジスタの電流電圧特性図である。
【図10】本発明の実施例2に係る有機EL表示素子の電流電圧特性図である。
【図11】(a)本発明の実施例2に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の断面図であり、(b)本発明の実施例2に係る薄膜トランジスタを備えた有機EL表示素子の平面図である。
【図12】nチャネル型薄膜トランジスタの経時劣化を示す図である。
【図13】pチャネル型薄膜トランジスタの経劣化を示す図である。
【図14】本発明に係わる薄膜トランジスタ駆動の有機EL表示素子の製造工程図である。
【符号の説明】
111 走査線
112 データ線
113 共通線
114 保持電極
115 Alで形成された画素電極
116 ITOで形成された対向電極
121 スイッチング薄膜トランジスタ
122 nチャネル型カレント薄膜トランジスタ
123 保持容量
131 正置有機EL表示素子
132 正孔注入層
133 有機EL層
141 電流発光素子の電流の向き
151 レジスト
211 走査電位
212 信号電位
213 保持電位
214 共通電位
215 画素電位
216 対向電位
221 画素が表示状態となる期間
222 画素が非表示状態となる期間
31 ドレイン電圧4Vのときの、nチャネル型カレント薄膜トランジスタの電流電圧特性
32 ドレイン電圧8Vのときの、nチャネル型カレント薄膜トランジスタの電流電圧特性
4 正置有機EL表示素子の電流電圧特性
611 走査線
612 データ線
613 共通線
614 保持電極
615 ITOで形成された画素電極
616 Alで形成された対向電極
621 スイッチング薄膜トランジスタ
622 pチャネル型カレント薄膜トランジスタ
623 保持容量
631 逆置有機EL表示素子
632 正孔注入層
633 有機EL層
641 電流発光素子の電流の向き
651 レジスト
711 走査電位
712 信号電位
713 保持電位
714 共通電位
715 画素電位
716 対向電位
721 画素が表示状態となる期間
722 画素が非表示状態となる期間
81 ドレイン電圧4Vのときの、pチャネル型カレント薄膜トランジスタの電流電圧特性
82 ドレイン電圧8Vのときの、pチャネル型カレント薄膜トランジスタの電流電圧特性
9 逆置有機EL表示素子の電流電圧特性
511 電圧印加前のVd=4Vにおけるnチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性
512 電圧印加前のVd=8Vにおけるnチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性
521 電圧印加後のVd=4Vにおけるnチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性
522 電圧印加後のVd=8Vにおけるnチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性
811 電圧印加前のVd=4Vにおけるpチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性
812 電圧印加前のVd=8Vにおけるpチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性
821 電圧印加後のVd=4Vにおけるpチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性
822 電圧印加後のVd=8Vにおけるpチャネル型薄膜トランジスタの伝達特性
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a light emitting device including a light emitting element such as an organic electroluminescence (hereinafter, referred to as EL) element and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
The inventors of the present invention have scrutinized a thin film transistor driven organic EL display element. As a result, the following was found.
[0003]
(1) In a thin film transistor driven organic EL display element, since the organic EL display element is a direct current element, a direct current also flows through a thin film transistor inserted in series to control the same.
[0004]
(2) Thin film transistors are classified into an n-channel type and a p-channel type. The n-channel type and the p-channel type have very different aspects of deterioration over time.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, an object of the present invention is to suppress the deterioration over time of a thin film transistor in a current light emitting element driven by the thin film transistor.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
A first light-emitting display device of the present invention is a light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel, wherein the pixel has a first conductive state controlled by a potential of the scanning line. A transistor, a storage capacitor that holds an image signal supplied from the data line via the first transistor, and a second transistor that controls conduction between a pixel electrode and a common electrode by a potential of the storage capacitor. A light-emitting element between the pixel electrode and the counter electrode, wherein at least one of the first transistor and the second transistor is a p-channel transistor.
[0007]
A second light-emitting display device according to the present invention is a light-emitting display device including a scan line, a data line, and a pixel, wherein the pixel has a first conductive state controlled by a potential of the scan line. A transistor, a storage capacitor that holds an image signal supplied from the data line via the first transistor, and a second transistor that controls conduction between a pixel electrode and a common electrode by a potential of the storage capacitor. A light-emitting element between the pixel electrode and the counter electrode, wherein the second transistor is a p-channel transistor.
[0008]
A third light-emitting display device according to the present invention is a light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel, wherein the pixel is controlled to be conductive by a potential of the scanning line. A transistor, a light-emitting element between a pixel electrode and a counter electrode, a storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line through the first transistor, and a light-emitting element between the pixel electrode and a common line. And a second transistor inserted in series with the second transistor, wherein at least one of the first transistor and the second transistor is a p-channel transistor.
[0009]
A fourth light-emitting display device of the present invention is a light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel, wherein the pixel is controlled to be conductive by a potential of the scanning line. A transistor, a light-emitting element between a pixel electrode and a counter electrode, a storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line through the first transistor, and a light-emitting element between the pixel electrode and a common line. And a second transistor inserted in series with the second transistor, wherein the second transistor is a p-channel transistor.
[0010]
A fifth display device of the present invention is a light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel, wherein the pixel has a first transistor whose conduction is controlled by a potential of the scanning line. A storage capacitor for storing an image signal supplied from the data line via the first transistor; a second transistor for controlling conduction between a pixel electrode and a common electrode by a potential of the storage capacitor; A light-emitting element between a pixel electrode and a counter electrode, wherein the first transistor and the second transistor are an n-channel transistor and a p-type transistor, respectively.
[0011]
A sixth light emitting display device according to the present invention includes a substrate, a plurality of scanning lines provided on the substrate, a plurality of data lines provided on the substrate, the plurality of scanning lines, and the plurality of data. A plurality of pixels provided in a matrix by intersecting lines, and a scan line driving circuit provided on the substrate, for outputting a scan signal to the plurality of scan lines; and Each includes a first transistor whose conduction is controlled by the scanning signal, a storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line via the first transistor, and a pixel which is driven by a potential of the storage capacitor. A second transistor that controls conduction between an electrode and a common electrode; and a light-emitting element between the pixel electrode and a counter electrode. At least one of the first transistor and the second transistor includes p It is Yaneru type transistors, and wherein.
[0012]
In the above light emitting display device, it is preferable that the scanning side driving circuit includes a transistor, and the transistor is a thin film transistor together with the first transistor and the second transistor.
[0013]
In the above light-emitting display device, it is preferable that at least one of the first transistor and the second transistor and a thin film transistor included in the scan driver circuit are formed in the same step.
[0014]
A seventh light emitting display device according to the present invention includes a substrate, a plurality of scanning lines provided on the substrate, a plurality of data lines provided on the substrate, the plurality of scanning lines and the plurality of data. A plurality of pixels provided in a matrix by intersection of lines, and a scan-side drive circuit provided on the substrate, which outputs a scan signal to the plurality of scan lines, and a plurality of data lines A data-side driving circuit provided on the substrate, wherein each of the plurality of pixels has a first transistor whose conduction is controlled by the scanning signal; and A storage capacitor that holds an image signal supplied from the data line via a transistor, a second transistor that controls conduction between a pixel electrode and a common electrode by a potential of the storage capacitor, and a pixel electrode and a counter electrode. Between Wherein the optical element, the at least one of the first transistor and the second transistor being a p-channel transistor, and wherein.
[0015]
In the above light emitting display device, it is preferable that the data side driving circuit and the scanning side driving circuit include a transistor, and the transistor is a thin film transistor together with the first transistor and the second transistor.
[0016]
In the above light-emitting display device, a thin film transistor included in the scan side driver circuit and the data side driver circuit and at least one of the first transistor and the second transistor are formed in the same step. Is preferred.
[0017]
An eighth light emitting display device according to the present invention includes a substrate, a plurality of scanning lines provided on the substrate, a plurality of data lines provided on the substrate, the plurality of scanning lines, and the plurality of data. A plurality of pixels provided in a matrix by crossing lines, and a driver circuit provided on the substrate, for outputting a signal to the plurality of scanning lines or the plurality of data lines; Each of the pixels has a first transistor of which conduction is controlled by the scanning signal, a storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line via the first transistor, and a potential of the storage capacitor. A second transistor that controls conduction between the pixel electrode and the common electrode, and a light-emitting element between the pixel electrode and the counter electrode, wherein a small number of the first transistor and the second transistor are provided. Both it One is a p-channel transistor, and wherein.
[0018]
In the above light-emitting display device, at least one of the first transistor and the second transistor is a p-channel thin film transistor; the driving circuit includes a thin film transistor; the thin film transistor includes the p-channel thin film transistor; It is preferable that they are formed by the same process.
[0019]
In the above light-emitting display device, the driving circuit includes a complementary thin film transistor, and the first transistor and the second transistor are an N-channel thin film transistor and a P-channel thin film transistor, respectively. And
[0020]
In the above method for manufacturing a light emitting display device, an N-channel thin film transistor of the complementary thin film transistor is formed by the same process as that of the first transistor, and a P-channel thin film transistor of the complementary thin film transistor is formed with the second transistor. It is characterized by being formed by the same process. According to this, it is possible to provide a high-performance light-emitting display device with little deterioration over time without increasing the number of manufacturing steps.
[0021]
(1) The present invention further provides a current-driven light-emitting display device in which a plurality of scanning lines and a plurality of data lines are formed, and a thin film transistor and a current light-emitting element are formed at each intersection of the scanning lines and the data lines. Wherein at least one of the thin film transistors is a p-channel thin film transistor.
[0022]
According to the above invention, it is possible to suppress deterioration of the thin film transistor over time.
[0023]
(2) Further, according to the present invention, a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, a common electrode, and a counter electrode are formed, and a first thin film transistor, a second thin film transistor, and a holding device are provided corresponding to each intersection of the scanning line and the data line. A capacitor, a pixel electrode, and a current light emitting element are formed, the first thin film transistor controls conduction between a data line and a storage capacitor according to a potential of a scanning line, and the second thin film transistor controls a common electrode according to a potential of the storage capacitor. In the current-driven light-emitting display device that controls the current flowing through the current light-emitting element between the pixel electrode and the counter electrode by controlling conduction between the pixel electrode and the counter electrode, the second thin film transistor is a p-channel thin film transistor. Features.
[0024]
(3) Further, in the above invention, a drive circuit for driving the light emitting element is formed on the substrate together with the plurality of scanning lines, the plurality of data lines, the thin film transistor, and the current light emitting element. That is, it is preferable that the p-channel thin film transistor is formed by the same process as the thin film transistor in the drive circuit.
[0025]
In the above invention, it is preferable that the thin film transistor is a polysilicon thin film transistor.
[0026]
Further, in the above invention, the driving circuit is formed of a complementary thin film transistor, the first thin film transistor and the N-channel thin film transistor in the driving circuit are formed in the same process, and the second thin film transistor and the driving circuit are formed in the same manner. It is preferable that the p-channel thin film transistor is formed by the same process.
[0027]
According to this, it is possible to provide a high-performance current-driven light-emitting display device that does not deteriorate with time without increasing the number of manufacturing steps.
[0028]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
(Overall structure of organic EL display element)
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, a central portion on the substrate 1 is a display unit. A data-side driving circuit 3 that outputs an image signal to the data line 112 is formed on the upper side of the outer peripheral portion of the transparent substrate 1 as viewed in the drawing, and a scanning line 111 is formed on the left side as viewed in the drawing. A scanning side driving circuit 4 that outputs a scanning signal is configured. In these driving circuits 3 and 4, an N-type thin film transistor and a P-type thin film transistor constitute a complementary TFT, and the complementary thin film transistor constitutes a shift register circuit, a level shifter circuit, an analog switch circuit and the like.
[0029]
A plurality of scanning lines 111 and a plurality of data lines 112 extending in a direction intersecting with the extending direction of the scanning lines 111 are formed on the transparent substrate 1. The pixels 7 are configured in a matrix by the intersection with.
[0030]
Each of the pixels 7 includes a first thin film transistor (hereinafter, referred to as a switching thin film transistor) 121 to which a scanning signal is supplied to a gate electrode 21 (first gate electrode) via a scanning line 111. One of the source / drain regions of the switching thin film transistor 121 is electrically connected to the data line 112, and the other source / drain region is electrically connected to the potential holding 113. Further, a common line 114 is arranged in parallel with the scanning line 111, and a storage capacitor 123 is formed between the common line 114 and the potential holding electrode 113. The common line is kept at a constant potential. Therefore, when the switching thin film transistor 121 is turned on by being selected by the scanning signal, an image signal is written from the data line 112 to the storage capacitor 123 via the switching thin film transistor.
[0031]
A gate electrode of a second thin film transistor (hereinafter, referred to as a current thin film transistor) 122 is electrically connected to the potential holding electrode 113, and one of a source / drain region of the current thin film transistor 122 is electrically connected to a common line 114. On the other hand, the other source / drain region is electrically connected to one electrode 115 of the light emitting element 131. When the current thin film transistor 122 is turned on, the current of the common line 114 flows through the current thin film transistor 122 to the light emitting element 131 such as an organic EL display element, and the light emitting element 131 emits light. In this configuration, one electrode of the storage capacitor is connected to the common line 114. However, the storage capacitor may be connected to the common line 114 without being connected to the common line 114. Good. Further, one electrode of the storage capacitor may be connected to an adjacent gate line.
(Example 1)
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of an organic EL display device including the thin film transistor according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a driving voltage diagram of the organic EL display device including the thin film transistor according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a current-voltage characteristic diagram of the current thin film transistor according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a current-voltage characteristic diagram of the organic EL display element according to the first embodiment of the present invention.
[0032]
In FIG. 1, 111 is a scanning line, 112 is a data line, 113 is a holding electrode, 114 is a common line, 115 is a pixel electrode made of Al, 116 is a counter electrode made of ITO, 121 is a switching thin film transistor, 122 Is an n-channel type current thin film transistor, 123 is a storage capacitor, 131 is an organic EL display element that emits light by current flowing from the power supply line 116 toward the pixel electrode 115 (hereinafter, referred to as a positive organic EL display element) 13, 141. This is the direction of the current of the organic EL display element.
[0033]
2, reference numeral 211 denotes a scanning potential, 212 denotes a signal potential, 213 denotes a holding potential, 214 denotes a common potential, 215 denotes a pixel potential, and 216 denotes a counter potential. Note that FIG. 2 shows only a part of each potential in order to explain the relationship between the potentials. The potential of the scanning line 111 is the scanning potential 211, the potential of the data line 112 is the signal potential 212, the potential of the holding electrode 113 is the holding potential 213, the potential of the common line 114 is the common potential 214, and the potential of the pixel electrode 115 formed of Al. Corresponds to the pixel potential 215, and the potential of the counter electrode 116 formed of ITO (Indium Tin Oxide) corresponds to the counter potential 216. FIG. 2 schematically and partially shows each signal potential.
[0034]
Reference numeral 221 denotes a period in which the pixel is in a display state, and a current flows through the organic EL display element 131 to emit light. Reference numeral 222 denotes a period in which the pixel is in a non-display state, in which a current flows through the organic EL display element 131. Does not flow and does not emit light.
[0035]
4, reference numeral 31 denotes a current-voltage characteristic of the n-channel current thin film transistor 122 when the drain voltage is 4 V, and 32 denotes a current-voltage characteristic of the n-channel current thin film transistor 122 when the drain voltage is 8 V. At either drain voltage, when the gate voltage is low, the n-channel current thin film transistor 122 is turned off, a small drain current flows, the source-drain resistance becomes high, and when the gate voltage is high, n It can be seen that the channel type current thin film transistor 122 is turned on, a large drain current flows, and the resistance between the source and the drain becomes low.
[0036]
In FIG. 5, reference numeral 4 denotes a current-voltage characteristic of the organic EL display element 131. Here, the voltage represents a counter potential 216 with respect to the pixel potential 215, and the current represents a current flowing from the counter electrode 116 to the pixel electrode 115. When the threshold voltage is equal to or lower than a certain threshold voltage, the positive organic EL display element 131 is turned off, has high resistance, does not flow current, and does not emit light. When the voltage is equal to or higher than the threshold voltage, the transistor is turned on, a current flows with low resistance, and light is emitted. Here, the threshold voltage is approximately 2V.
[0037]
The operation of the organic EL display device including the thin film transistor of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 2, 3, 4, and 5.
[0038]
The switching thin film transistor 121 controls conduction between the data line 112 and the holding electrode 113 in accordance with the potential of the scanning line 111. That is, conduction between the signal potential 212 and the holding potential 213 is controlled by the scanning potential 211. Here, the switching thin film transistor 121 is an n-channel thin film transistor, but may be a p-channel thin film transistor.
[0039]
In the period 221 in which the pixel is in the display state, the signal potential 212 is at a high potential, and the high potential is held in the holding potential 213. During the period 222 in which the pixel is in the non-display state, the signal potential 212 becomes low, and the low potential is held in the holding potential 213.
[0040]
The n-channel current thin film transistor 122 has the characteristics shown in FIG. 3, and controls the conduction between the common line 114 and the pixel electrode 115 by the potential of the holding electrode 113. That is, conduction between the common potential 214 and the pixel potential 222 is controlled by the holding potential 213. The holding potential 213 is at a high potential during the period 221 in which the pixel is in the display state, so that the common line 114 and the pixel electrode 115 are conducted, and the holding potential 213 is in the period 222 in which the pixel is in the non-display state. Since 213 has a low potential, the common line 114 and the pixel electrode 115 are disconnected.
[0041]
The organic EL display element 131 has the characteristics shown in FIG. 5, and a current flows between the pixel electrode 115 and the counter electrode 116 during a period 221 when the pixel is in a display state, and the organic EL display element 131 emits light. During a period 222 in which the pixel is in a non-display state, no current flows and no light is emitted.
[0042]
FIG. 6A is a cross-sectional view of a thin film transistor organic EL display element (pixel) according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a cross-sectional view of a thin film transistor organic EL display element (one pixel) according to an embodiment of the present invention. It is a top view. The cross section AA ′ in FIG. 6A corresponds to the cross section AA ′ in FIG.
[0043]
In FIG. 5, 132 is a hole injection layer, 133 is an organic EL layer, and 151 is a resist.
[0044]
Here, regarding the switching thin film transistor 121 and the n-channel type current thin film transistor 122, the structure and process of the low-temperature polysilicon thin film transistor used in the thin film transistor liquid crystal display element, that is, the top gate structure and the process at the maximum temperature of 600 ° C. or less Although used, other structures and processes may be used.
[0045]
A positive organic EL display element 131 is formed by the pixel electrode 115 formed of Al, the counter electrode 116 formed of ITO, the hole injection layer 132, and the organic EL layer 133. In the normal organic EL display element 131, the current direction 141 of the organic EL display element can be set to the direction from the counter electrode 116 formed of ITO to the pixel electrode 115 formed of Al. Note that the organic EL display element is not limited to the structure used here, but may have another structure as long as the current direction 141 of the organic EL display element can be directed from the counter electrode to the pixel electrode. I don't care.
[0046]
Here, the hole injection layer 132 and the organic EL layer 133 are formed by an inkjet printing method using a resist 151 as a separation structure between pixels, and the counter electrode 116 formed of ITO is formed by a sputtering method. It is formed, but other methods may be used.
[0047]
In this embodiment, the common potential 214 is lower than the counter potential 216. The current thin film transistor is the n-channel type current thin film transistor 122.
[0048]
In a period 221 in which a pixel is in a display state, the n-channel current thin film transistor 122 is in an on state. The current flowing through the positive organic EL display element 131, that is, the on-current of the n-channel current thin film transistor 122 depends on the gate voltage as shown in FIG. Here, the gate voltage is a potential difference between the holding potential 213 and the lower one of the common potential 214 and the pixel potential 215. According to the present embodiment, since the common potential 214 is lower than the pixel potential 215, the gate voltage is the potential difference between the holding potential 213 and the common potential 214. Since this potential difference can be made sufficiently large, a sufficiently large ON current can be obtained. Note that the on-state current of the n-channel current thin film transistor 122 also depends on the drain voltage, but the conclusion here does not change.
[0049]
Conversely, in order to obtain a necessary on-current, the holding potential 213 can be made lower, so that the amplitude of the signal potential 212 and, consequently, the amplitude of the scanning potential 211 can be reduced. That is, in the switching thin film transistor 121 and the n-channel current thin film transistor 122, the drive voltage can be reduced without deteriorating image quality, abnormal operation, or lowering the operable frequency.
Further, in this embodiment, the signal potential 212 for the pixel to be displayed is lower than the counter potential 216.
[0050]
As described above, in the period 221 when the pixel is in the display state, the on-state current of the n-channel current thin film transistor 122 depends on the potential difference between the holding potential 213 and the common potential 214, and the potential difference between the holding potential 213 and the opposite potential 216. Does not depend directly on Therefore, the holding potential 213, that is, the signal potential 212 for the pixel to be in the display state can be made lower than the opposite potential 216 while securing a sufficiently large on-state current in the n-channel type current thin film transistor 122. Thus, the amplitude of the signal potential 212 and the amplitude of the scanning potential 211 can be reduced. That is, in the switching thin film transistor 121 and the n-channel current thin film transistor 122, the drive voltage can be reduced without deteriorating image quality, abnormal operation, or lowering the operable frequency.
[0051]
Further, in this embodiment, the signal potential 212 for the pixel to be in the non-display state is higher than the common potential 214. When the signal potential 212 is slightly higher than the common potential 214 in the period 222 in which the pixel is in the non-display state, the n-channel current thin film transistor 122 is not completely turned off. However, the resistance between the source and the drain of the n-channel type current thin film transistor 122 becomes considerably high as shown in FIG. For this reason, the pixel potential 215 is determined by dividing the common potential 214 and the counter potential 216 by the resistance of the n-channel type current thin film transistor 122 and the resistance of the positive organic EL display element 131. Potential.
[0052]
The voltage applied to the positive organic EL display element 131 is a potential difference between the pixel potential 215 and the counter potential 216. As shown in FIG. Does not emit light. That is, the signal potential 212 is slightly higher than the common potential 214 and the n-channel current thin film transistor 122 is completely turned off by using the threshold voltage of the EL display element 131 which is placed right. It is possible to prevent the positive value organic EL display element 131 from emitting light even if it does not enter the state.
[0053]
Here, by setting the signal potential 212 for a pixel to be in a non-display state to be higher than the common potential 214, the amplitude of the signal potential 212 and thus the amplitude of the scanning potential 211 can be reduced. . That is, in the switching thin film transistor 121 and the n-channel current thin film transistor 122, the drive voltage can be reduced without deteriorating image quality, abnormal operation, or lowering the operable frequency.
[0054]
The operation of the organic EL display device including the thin film transistor of the present embodiment is not simple as described above, but operates under a more complicated relationship between voltage and current, but approximately and qualitatively as described above. Holds.
(Example 2)
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of an organic EL display device including the thin film transistor according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a driving voltage diagram of the organic EL display device including the thin film transistor according to the second embodiment of the present invention. FIG. 8 is a current-voltage characteristic diagram of the current thin film transistor according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a current-voltage characteristic diagram of the organic EL display element according to the second embodiment of the present invention.
[0055]
In FIG. 7, reference numeral 615 denotes a pixel electrode formed of ITO, 616 denotes a counter electrode formed of Al, 622 denotes a p-channel current thin film transistor, and 631 denotes an organic EL which emits light by a current flowing from the pixel electrode 615 to the power supply line 616. A display element (hereinafter, referred to as an inverted organic EL display element) 641 indicates the direction of the current of the organic EL display element, but the direction is opposite to that of FIG. 1 and FIG.
[0056]
8, the level of each potential is different from that in FIG. Otherwise, it is the same as FIG.
[0057]
9, reference numeral 81 denotes a current-voltage characteristic of the p-channel current thin film transistor 622 when the drain voltage is 4 V, and reference numeral 82 denotes a current-voltage characteristic of the p-channel current thin film transistor 622 when the drain voltage is 8 V.
[0058]
In FIG. 10, reference numeral 9 denotes a current-voltage characteristic of the inverted organic EL display element 631. The operation of the organic EL display device including the thin film transistor of this embodiment is the same as that of the first embodiment except that the current thin film transistor is a p-channel thin film transistor 622, so that the potential relation related to the current thin film transistor is inverted. It is.
[0059]
FIG. 11A is a cross-sectional view of an organic EL display element (one pixel) including a thin film transistor according to an embodiment of the present invention, and FIG. 11B is a thin film transistor organic EL display element according to Embodiment 2 of the present invention. It is a top view of (one pixel). The cross section AA ′ in FIG. 11A corresponds to the cross section AA ′ in FIG.
[0060]
In FIG. 10, 632 is a hole injection layer, and 633 is an organic EL layer. Otherwise, it is the same as FIG. An inverted organic EL display element 631 is formed by the pixel electrode 615 formed of ITO, the counter electrode 616 formed of Al, the hole injection layer 632, and the organic EL layer 633. In the inverted organic EL display element 631, the current direction 641 of the organic EL display element can be set to the direction from the pixel electrode 615 formed of ITO to the counter electrode 616 formed of Al.
[0061]
In this embodiment, the common potential 714 is higher than the counter potential 716. The current thin film transistor is a p-channel type current thin film transistor 622.
[0062]
Further, in this embodiment, the signal potential 712 for the pixel to be in the display state is higher than the counter potential 716.
Further, in this embodiment, the signal potential 712 for the pixel to be in the non-display state is lower than the common potential 714.
[0063]
All the effects of the thin film transistor organic EL display element of this embodiment are also the same as those of the potential related to the current thin film transistor except that the potential relationship related to the current thin film transistor is inverted because the current thin film transistor is the p-channel thin film transistor 622. It is the same as the first embodiment except that the relationship is reversed.
[0064]
In this embodiment, the current thin film transistor 122 is a p-channel thin film transistor. With this configuration, the deterioration with time of the current thin film transistor 122 can be significantly reduced. Further, by using a p-channel type polysilicon thin film transistor, it is possible to further reduce the deterioration with time of the current thin film transistor 122.
[0065]
FIG. 14 is a manufacturing process diagram of a current-driven light-emitting display device including the thin film transistor according to the embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 14A, an amorphous silicon layer of 200 to 600 Å is formed on the entire surface of a substrate 1, and the amorphous silicon is polycrystallized by annealing with a laser or the like. Form a layer. Thereafter, the polycrystalline silicon layer is patterned to become a silicon thin film 421 serving as a source / drain / channel region of the switching thin film transistor 121, a first electrode 423 of the storage capacitor 123, and a source / drain / channel region of the current thin film transistor 122. A silicon thin film 422 is formed.
[0066]
Next, an insulating film 424 serving as a gate insulating film is formed over the silicon thin films 421 and 422 and the first electrode 423. Next, phosphorus (P) ions are selectively implanted into the first electrode 423 to reduce the resistance. Next, as shown in FIG. 14B, gate electrodes 111 and 111 'made of a TaN layer are formed on the silicon thin films 421 and 422 via a gate insulating film.
[0067]
Next, a resist mask 42 is formed on the silicon layer 422 to be a current thin film transistor, and phosphorus (P) is ion-implanted by self-alignment using the gate electrode as a mask to form n-type source / drain regions in the silicon layer 421. Form. Next, as shown in FIG. 14 (c), a resist mask 412 'is formed on the first silicon layer 421 and the first electrode, and the silicon (422) is self-aligned with boron ( B) is ion-implanted to form p-type source / drain regions in the silicon layer 422. As described above, the switching thin film transistor 121 is formed by the n-channel impurity doping 411. At this time, the current thin film transistor 122 is protected by the resist mask 42 and the n-channel impurity doping 411 is not performed. Next, the current thin film transistor 122 is formed by the p-channel type impurity doping 412.
[0068]
Although not shown, a thin film transistor that forms a shift register, a sample and hold circuit, and the like of a driver circuit portion for driving the switching transistor 121 can be formed simultaneously on the same substrate by the same process as the above process. is there. Note that the second electrode 425 of the storage capacitor may be formed of the same material at the same time as the gate electrodes 111 and 111 ′, or may be formed of another material. Next, as shown in FIG. 14D, after forming an interlayer insulating film 43, forming a contact hole, electrode layers 426, 427, 428 and 429 made of aluminum or ITO are formed.
[0069]
Next, after the interlayer insulating film 44 is formed and planarized, a contact hole is formed, and ITO 45 is formed at 1000 to 2000 Å, preferably about 1600 Å so as to be connected to one electrode of the current thin film transistor. Next, bank layers 46 and 47 each having a size of 2.0 μm or more are formed for each pixel region. Next, an organic EL layer 48 is formed in a region surrounded by the bank layers 46 and 47 by an inkjet method or the like. After forming the organic EL 48, aluminum lithium of 6000 to 8000 Å is formed as a counter electrode 49 on the organic EL layer 48. A hole injection layer may be provided between the organic EL 48 and the counter electrode 49 as shown in FIG.
[0070]
Through the above steps, a high-performance thin film transistor driven organic EL display element can be formed. In addition, polysilicon has much higher carrier mobility than amorphous silicon, so that high-speed operation is possible. In particular, in this embodiment, when forming the p-type current thin film transistor 122 and the n-type switching thin film transistor 121, the p-type and n-type thin film transistors of the complementary type thin film transistors constituting the shift register of the driving circuit, the sample-and-hold circuit, etc. Can be simultaneously formed using the above-described embodiment. According to this configuration, it is possible to obtain a configuration that reduces the deterioration with time of the current thin film transistor 122 without increasing the number of manufacturing processes.
[0071]
As described above, in the first embodiment, the n-channel current thin film transistor is used, and in the second embodiment, the p-channel current thin film transistor is described. Here, the deterioration with time of the p-channel and n-channel thin film transistors will be discussed. I do.
[0072]
FIG. 12 and FIG. 13 are diagrams showing the deterioration over time of n-channel and p-channel thin film transistors, particularly polysilicon thin film transistors, under the same voltage application conditions. Reference numerals 511 and 512 in FIG. 12 indicate transfer characteristics of the n-channel thin film transistor at Vd = 4 V and Vd = 8 V before voltage application. Reference numerals 521 and 522 denote transfer characteristics of the n-channel thin film transistor at Vd = 0 V, Vd = 15 V, and Vd = 4 V and Vd = 8 V after application of a voltage of about 1000 seconds.
[0073]
Reference numerals 811 and 812 in FIG. 13 show transfer characteristics of the p-channel thin film transistor at Vd = 4 V and Vd = 8 V before voltage application. Reference numerals 821 and 822 denote transfer characteristics of the p-channel thin film transistor when Vg = 0 V, Vd = 15 V, and Vd = 4 V and Vd = 8 V after application of a voltage of about 1000 seconds. Obviously, the p-channel thin film transistor has a smaller decrease in on-current and a smaller increase in off-current.
[0074]
In consideration of the difference in the aging characteristics of the p-type and n-type thin film transistors shown in FIGS. 12 and 13, at least one of the switching thin film transistor and the current thin film transistor is formed of a p-channel thin film transistor, particularly a p-type polysilicon thin film transistor. Thereby, deterioration with time can be suppressed. Further, by forming not only the current thin film transistor but also the switching thin film transistor with a p-type thin film transistor, it is possible to further maintain the characteristics of the display element.
[0075]
Although the above-described embodiment has been described using an organic EL display element as a light emitting element, it is needless to say that the present invention is not limited to an organic EL display element, but can be applied to an inorganic EL element or another current-driven light emitting element. .
[0076]
(Industrial applications)
The display device according to the present invention can be used as a display device including various current-driven light-emitting elements such as an organic EL display element and an inorganic EL element, and a switching element such as a thin film transistor that drives the light-emitting element.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a basic configuration of a display device to which the present invention is applied.
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of a display element including the thin film transistor according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a driving voltage diagram of a display device including the thin film transistor according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a current-voltage characteristic diagram of the current thin film transistor according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a current-voltage characteristic diagram of the organic EL display element according to Example 1 of the present invention.
6A is a cross-sectional view of an organic EL display device including a thin film transistor according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a plan view of the organic EL display device including the thin film transistor according to the first embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of an organic EL display device including a thin film transistor according to Embodiment 2 of the present invention.
FIG. 8 is a driving voltage diagram of the organic EL display device including the thin film transistor according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a current-voltage characteristic diagram of a current thin film transistor according to Example 2 of the present invention.
FIG. 10 is a current-voltage characteristic diagram of an organic EL display element according to Example 2 of the present invention.
11A is a cross-sectional view of an organic EL display device including a thin film transistor according to Example 2 of the present invention, and FIG. 11B is a plan view of the organic EL display device including the thin film transistor according to Example 2 of the present invention. FIG.
FIG. 12 is a diagram illustrating deterioration over time of an n-channel thin film transistor.
FIG. 13 is a diagram showing the degradation of a p-channel thin film transistor.
FIG. 14 is a manufacturing process diagram of a thin film transistor driven organic EL display element according to the present invention.
[Explanation of symbols]
111 scanning line 112 data line 113 common line 114 holding electrode 115 pixel electrode 116 formed of Al counter electrode 121 formed of ITO switching thin film transistor 122 n-channel type current thin film transistor 123 storage capacitor 131 fixed organic EL display element 132 hole Injection layer 133 Organic EL layer 141 Current direction of current emitting element 151 Resist 211 Scanning potential 212 Signal potential 213 Holding potential 214 Common potential 215 Pixel potential 216 Opposing potential 221 Period 222 in which pixel is in display state 222 Pixel is in non-display state Period 31 Current-voltage characteristics of n-channel type current thin film transistor when drain voltage is 4 V 32 Current-voltage characteristics of n-channel type current thin film transistor when drain voltage is 8 V 4 Current-voltage characteristics 6 of normal organic EL display element 11 scanning line 612 data line 613 common line 614 holding electrode 615 pixel electrode 616 formed of ITO counter electrode 621 formed of Al switching thin film transistor 622 p-channel current thin film transistor 623 storage capacitor 631 inverted organic EL display element 632 hole Injection layer 633 Organic EL layer 641 Current direction 651 of current light emitting element Resist 711 Scanning potential 712 Signal potential 713 Holding potential 714 Common potential 715 Pixel potential 716 Opposing potential 721 Period during which pixel is in display state 722 Pixel is in non-display state Period 81 Current-voltage characteristics of p-channel type current thin film transistor when drain voltage is 4 V 82 Current-voltage characteristics of p-channel type current thin film transistor when drain voltage is 8 V 9 Current-voltage characteristics 51 of inverted organic EL display element 1 Transfer characteristics of n-channel thin film transistor at Vd = 4 V before voltage application 512 Transfer characteristics of n-channel thin film transistor at Vd = 8 V before voltage application Transfer characteristics 522 of n-channel thin film transistor at Vd = 4 V after voltage application Transfer characteristics of n-channel thin film transistor at Vd = 8 V after application 811 Transfer characteristics of p-channel thin film transistor at Vd = 4 V before voltage application 812 Transfer characteristics of p-channel thin film transistor at Vd = 8 V before voltage application After voltage application Transfer Characteristics of P-Channel Thin Film Transistor at Vd = 4V at 822 V Transfer Characteristics of p-Channel Thin Film Transistor at Vd = 8 V after Applying Voltage

Claims (5)

走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、
前記画素は、
前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、
前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、
前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、
前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくとも一つはpチャネル型トランジスタであること、
を特徴とする発光表示装置。
A light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel,
The pixel is
A first transistor whose conduction is controlled by the potential of the scanning line;
A storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line via the first transistor;
A second transistor that controls conduction between a pixel electrode and a common electrode by the potential of the storage capacitor;
A light-emitting element between the pixel electrode and the counter electrode,
At least one of the first transistor and the second transistor is a p-channel transistor;
A light emitting display device characterized by the above-mentioned.
走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、
前記画素は、
前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、
前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、
前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、
前記第2のトランジスタはpチャネル型トランジスタであること、
を特徴とする発光表示装置。
A light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel,
The pixel is
A first transistor whose conduction is controlled by the potential of the scanning line;
A storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line via the first transistor;
A second transistor that controls conduction between a pixel electrode and a common electrode by the potential of the storage capacitor;
A light-emitting element between the pixel electrode and the counter electrode,
The second transistor is a p-channel transistor;
A light emitting display device characterized by the above-mentioned.
走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、
前記画素は、
前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、
画素電極と対向電極との間にある発光素子と、
前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、
前記画素電極と共通線との間に直列に挿入された第2のトランジスタと、を含み、
前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの少なくとも一つはpチャネル型トランジスタであること、
を特徴とする発光表示装置。
A light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel,
The pixel is
A first transistor whose conduction is controlled by the potential of the scanning line;
A light emitting element between the pixel electrode and the counter electrode,
A storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line via the first transistor;
A second transistor inserted in series between the pixel electrode and a common line,
At least one of the first transistor and the second transistor is a p-channel transistor;
A light emitting display device characterized by the above-mentioned.
走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、
前記画素は、
前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、
画素電極と対向電極との間にある発光素子と、
前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、
前記画素電極と共通線との間に直列に挿入された第2のトランジスタと、を含み、
前記第2のトランジスタはpチャネル型トランジスタであること、
を特徴とする発光表示装置。
A light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel,
The pixel is
A first transistor whose conduction is controlled by the potential of the scanning line;
A light emitting element between the pixel electrode and the counter electrode,
A storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line via the first transistor;
A second transistor inserted in series between the pixel electrode and a common line,
The second transistor is a p-channel transistor;
A light emitting display device characterized by the above-mentioned.
走査線と、データ線と、画素と、を備えた発光表示装置であって、
前記画素は、
前記走査線の電位により導通が制御される第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタを介して前記データ線から供給される画像信号を保持する保持容量と、
前記保持容量の電位により画素電極と共通電極との導通を制御する第2のトランジスタと、
前記画素電極と対向電極との間にある発光素子と、を含み、
前記第1のトランジスタ及び第2のトランジスタはそれぞれnチャネル型トランジスタ及びp型トランジスタであること、
を特徴とする発光表示装置。
A light-emitting display device including a scanning line, a data line, and a pixel,
The pixel is
A first transistor whose conduction is controlled by the potential of the scanning line;
A storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line via the first transistor;
A second transistor that controls conduction between a pixel electrode and a common electrode by the potential of the storage capacitor;
A light-emitting element between the pixel electrode and the counter electrode,
The first transistor and the second transistor are an n-channel transistor and a p-type transistor, respectively;
A light emitting display device characterized by the above-mentioned.
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