JP2001035380A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法Info
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Abstract
化を抑えるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提
供する。 【解決手段】 パネル1に第1の放電ガスを導入し、エ
ージング後に、第1の放電ガスとは組成の異なる第2の
放電ガスを導入する。
Description
示用のカラーテレビジョン受像機やディスプレイ等に使
用するガス放電発光を利用したプラズマディスプレイパ
ネル(PDP)およびその製造方法に関するものであ
る。
パネルについて図面を参照しながら説明する。図4は交
流型(AC型)のプラズマディスプレイパネルの概略を
示す断面図である。
り、この前面ガラス基板41上に表示電極42が形成さ
れている。さらに、表示電極42は、誘電体ガラス層4
3及び酸化マグネシウム(MgO)誘電体保護層44に
より覆われている(例えば特開平5−342991号公
報参照)。
背面ガラス基板45上には、アドレス電極46および隔
壁47、蛍光体層(49〜51)が設けられており、4
8が放電ガスを封入する放電空間となっている。前記蛍
光体層はカラー表示のために、赤49、緑50、青51
の3色の蛍光体層が順に配置されている。上記の各蛍光
体層(49〜51)は、放電によって発生する波長の短
い紫外線(波長147nm)により励起発光する。
ては、一般的に以下の材料が用いられている。
12O19:Mn 赤色蛍光体:Y2O3:Euまたは(YxGd1-x)B
O3:Eu 各色蛍光体は以下のようにして作製できる。
は、まず、炭酸バリウム(BaCO 3)、炭酸マグネシ
ウム(MgCO3)、酸化アルミニウム(α−Al
2O3)をBa、Mg、Alの原子比で1対1対10にな
るように配合する。次にこの混合物に対して所定量の酸
化ユーロピウム(Eu203)を添加する。そして、適量
のフラックス(AlF2、BaCl2)と共にボールミル
で混合し、1400℃〜1650℃で所定時間(例え
ば、0.5時間)、還元雰囲気(H2、N2中)で焼成し
て得る。
て水酸化イットリウムY2(OH)3と硼酸(H3BO3)を
Y、Bの原子比で1対1になるように配合する。次にこ
の混合物に対して所定量の酸化ユーロピウム(Eu
2O3)を添加し、適量のフラックスと共にボールミルで
混合し、空気中1200℃〜1450℃で所定時間(例
えば1時間)焼成して得る。
料として酸化亜鉛(ZnO)、酸化珪素(Si02)をZ
n、Siの原子比で2対1になるように配合する。次に
この混合物に所定量の酸化マンガン(Mn2O3)を添加
し、ボールミルで混合後、空気中1200℃〜1350
℃で所定時間(例えば0.5時間)焼成して得る。
ふるい分けすることにより、所定の粒径分布を有する蛍
光体材料を得る。
する。
電極を形成し、その上に誘電体ガラスからなる可視光反
射層と、ガラス製の隔壁を所定のピッチで作成する。
蛍光体、緑色蛍光体、青色蛍光体を含む各色蛍光体ペー
ストをそれぞれ配設することによって蛍光体層を形成
し、形成後500℃程度で蛍光体層を焼成し、ペースト
内の樹脂成分等を除去する(蛍光体焼成工程)。
封着用ガラスフリットを塗布し、ガラスフリット内の樹
脂成分等を除去するために350℃程度で仮焼する(封
着用ガラスフリット仮焼工程)。
保護層を順次形成した前面板と、前記背面板を隔壁を介
して表示電極とアドレス電極が直交するよう対向配置
し、450℃程度で焼成し、封着用ガラスによって、周
囲を密封する(封着工程)。
ネル内を排気し(排気工程)、終了後に放電ガスを所定
の圧力だけ導入する。
の初期段階において大きな発光特性あるいは放電特性の
経時変化が現れる。従って、作製したパネルを所定の時
間だけ放電させることによって、発光特性あるいは放電
特性を安定化させるエージング工程が必要である。
レイパネルの製造方法においては、前記のように発光特
性あるいは放電特性を安定化させるエージング工程にお
いて、特に発光特性が劣化するという課題が存在する。
体が劣化するという課題があった。特に青色蛍光体とし
て使用しているBaMgAl10O17:Euがエージング
工程で劣化しやすく、発光輝度低下、それに伴う白色表
示の色温度の低下を起こす主原因となっていた。
に青色蛍光体の劣化を抑制することに効果のあるエージ
ング工程を提供することにより、高い発光輝度で動作す
るプラズマディスプレイパネルを提供することを目的と
するものである。
め、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法
は、前面板と背面板を封着したパネルに第1の放電ガス
を導入し、所定の時間だけ放電を行うエージング工程を
有し、エージング工程後に、第1の放電ガスをパネルか
ら排気し、前記第1の放電ガスとは組成の異なる第2の
放電ガスをパネルに導入することを特徴とする。
ガスから発生する光の主成分の波長が147nm以外で
あることが好ましい。
の放電ガスから発生する光の主成分の波長が150nm
以上であることが好ましい。
する光の主成分の波長が140nm以下であることが好
ましい。
ルの製造方法は、前面板と背面板を封着したパネルに第
1の放電ガスを導入し、所定の時間だけ放電を行うエー
ジング工程を有し、第1の放電ガスにXeが含まれない
ことを特徴とする。
くともH2、He、Ne、Ar、Krのいずれか1種類
あるいは2種類以上を含むことが好ましい。
ルの製造方法は、前面板と背面板を封着したパネルに第
1の放電ガスを導入し、所定の時間だけ放電を行うエー
ジング工程を有し、前記放電で第1の放電ガスが少なく
ともI2を含むことを特徴とする。
ルの製造方法は、前面板と背面板を封着したパネルに第
1の放電ガスを導入し、所定の時間だけ放電を行うエー
ジング工程を有し、前記放電で第1の放電ガスが少なく
ともBr2を含むことを特徴とする。
ルの製造方法は、前面板と背面板を封着したパネルに少
なくともXeを含む第1の放電ガスを導入し、所定の時
間だけ放電を行うエージング工程を有し、エージング工
程後に、第1の放電ガスをパネルから排気し、少なくと
もXeを含む第2の放電ガスをパネルに導入する工程を
有し、第1の放電ガスのXe濃度が第2の放電ガスのX
e濃度よりも低いことを特徴とする。
ネルは、一対の平行に配されたプレートの間に、電極お
よび青色を含む蛍光体層とが配設され、ガス媒体が封入
されたプラズマディスプレイパネルであって、前記いず
れかの製造方法で製造され、すべてのセルを同一電力条
件で点灯させたときの発光色の色温度が7000K以上
であることを特徴とする。
るプラズマディスプレイパネルの製造方法について説明
する。図2は、本発明の一実施の形態における交流面放
電型プラズマディスプレイパネルの概略を示す断面図で
ある。図2では、セルが1つだけ示されているが、赤、
緑、青の各色を発光するセルが多数配列されてPDPが
構成されている。
示電極22と誘電体ガラス層23、保護層(MgO)2
4が配された前面板と、背面ガラス基板25上にアドレ
ス電極26、可視光反射層27、隔壁28および蛍光体
層29が配された背面板とを張り合わせ、前面板と背面
板間に形成される放電空間内に放電ガスが封入された構
成となっている。
ては、一般的にPDPの蛍光体層に使用されているもの
を用いることができる。その具体例としては、 青色蛍光体:BaMgAl10O17:Eu 緑色蛍光体:Zn2SiO4:Mn 赤色蛍光体:Y2O3:Eu を挙げることができる。
10O17:Eu)の各種ガス中での放電に対する耐久性を
評価するために、図3に示すような放電管30中に蛍光
体31を入れ、放電前後での発光特性を評価した。放電
管30の熱エミッター32としてはBaOを用い、放電
ガス33にはH2、He、Ne、Ar、Kr、I2、Br
2の単体気体、およびNeとXeの混合比が99.5:
0.5、98:2、95:5の混合気体を用い、いずれ
も気体圧力は100Torrとした。
を(表1)に示す。発光特性は蛍光体に146nmの真
空紫外線を照射し、発光した可視光の発光特性を放電前
後で評価した。表1の相対輝度は、放電前の発行輝度を
100とした相対値である。また、各放電ガスを放電さ
せた時に発生する光の主成分の波長も同時に示す。青色
蛍光体(BaMgAl10O17:Eu)は、放電により発
光輝度は低下するが、色度座標yには変化はなかった。
146nmの真空紫外線で蛍光体を発光させ評価したと
きの輝度低下は、放電ガスが放電時に発生する光の主成
分の波長が147nm(NeとXeの混合ガス)のとき
が最も大きく、波長が147nmから遠ざかるに従って
輝度低下が小さくなる傾向にある。
から発生する紫外線や真空紫外線等により蛍光体が損傷
を受けるためと考えられている。放電ガスが放電時に発
生する光の波長が147nmよりも短い場合は、その光
のエネルギーは波長が147nmの光のエネルギーより
も大きくなるが、蛍光体への侵入深さが波長147nm
の光の侵入深さよりも浅くなるために、蛍光体の劣化は
極表面でのみ発生することになり、評価時の波長146
nmの真空紫外線が劣化されていない部分まで侵入し、
その結果、発生する可視光が比較的多くなるためと考え
られる。また、逆に放電ガスが放電時に発生する光が1
47nmよりも長い場合は、蛍光体への侵入深さは14
7nmの波長の光の侵入深さよりも深くなるが、光のエ
ネルギーが波長147nmの光のエネルギーよりも小さ
いために、蛍光体の劣化密度が小さくなり、その結果、
蛍光体が発生する可視光が比較的多くなるためと考えら
れる。すなわち、評価時に使用する励起光の波長付近で
の放電光による劣化が、評価時に最も顕著に現れること
になる。したがって、少なくともXeの共鳴線(波長1
47nm)を利用して発光させるPDPにおいては、エ
ージング工程において放電ガスから発生する光の主成分
が、147nm以外の波長になるような放電ガスを用い
れば、エージング工程での蛍光体の劣化が抑えられるこ
とが判明した。
た場合でもXe濃度を小さくすれば、放電で発生する1
47nmの光量が少なくなり、それに従って、蛍光体の
劣化も小さくなるものと考えられ、エージング工程にお
いて用いるXe混合ガスのXe濃度をパネル完成時より
も小さくすれば、エージング工程での蛍光体の劣化が抑
えられることが判明した。
ング工程について説明する。
程およびその後に続く放電ガス封入工程を行うためのパ
ネル製造装置の構成を模式的に示す図である。
ガスを導入、排気するための配管2a、2b、パネル1
の内部空間のガス圧を調整するバルブ3a、3b、およ
び放電電圧を印加するための駆動回路4、および加熱炉
8から構成される。
蛍光体層が形成された背面板5には表示領域を避けて通
気口6が2カ所以上設けられており、これらの通気口に
はガラス管7が取り付けられている。ガラス管7と放電
ガスを流すための配管2a、2bを接続する。接続後、
パネル1の内部空間10を配管2bを通して真空に排気
しながらパネルを所定の温度まで加熱し(排気工程)、
冷却後に、配管2aよりエージング用の放電ガスを所定
の圧力で導入し、駆動回路4を用いて前面板9に形成さ
れた表示電極に所定の電圧を印加し、パネル1内部で放
電を発生させ、所定の時間だけエージングを行った(エ
ージング工程)。
してH2、He、Ne、Ar、Kr、I2、Br2あるい
はこれらの混合ガスを用い、放電ガス圧力を100〜7
60Torr程度に設定した。
のエージング用の放電ガスを配管2bを通して排気し、
その後、配管2aより少なくともXeを含む所定の組成
の放電ガスを所定の圧力で導入し、ガラス管7を封止
し、PDPを作製した。
電時に発光する光の主成分発光波長とは異なる主成分発
光波長を有する前記のようなエージング用放電ガスを用
いてエージングを行うことで、従来の濃度のXeを含む
放電ガスによるエージングよりも蛍光体の発光特性劣化
を抑えることができた。
スにおいて光を発生する元素であるXeを含むガスをエ
ージング用放電ガスとして用いた場合でも、つまり、主
成分発光波長が同じエージング用放電ガスを用いる場合
でも、エージング工程終了後に封入する放電ガスのXe
濃度よりも低い濃度のXe混合ガスをエージング工程に
用いることで同様の効果が得られた。
形態に基づいて作製した実施例に係わるPDPであっ
て、パネル番号1〜9は、エージング工程に用いるエー
ジング用放電ガスの種類や濃度、すなわち組成を種々変
えたパネルである。パネル番号10のPDPは、比較例
に係わるPDPであり、従来の製造方法で作製したパネ
ルで、エージング工程前にNe(95%)−Xe(5
%)の混合ガスをパネルに導入後、ガス導入用のガラス
管を封止したパネルである。
の放電は24時間行い、エージング工程までの製造工程
は同じ条件とした。また、パネル構成も同じ構成とし、
蛍光体膜厚は30μm、エージング工程後に封入する放
電ガスはNe(95%)−Xe(5%)混合ガスを50
0Torrで封入した。
ル番号10の輝度を100とした相対輝度で示してい
る。また、青色セル、赤色セル、緑色セルのすべてを同
一電力条件で点灯した時の白色表示の色温度(色温度補
正なし)を測定した。
パネル10に比較して輝度が向上し、色温度も高くなっ
ていた。
る明瞭感、白色感を得るためには白色表示の色温度は7
000Kは必要であり、またテレビ画像を表示する場
合、白色表示の色温度としては、9000K以上が望ま
しい。
工程中に発生する光の波長が147nmから遠ざかる
程、パネルの発光特性が良好となることが判る。これ
は、エージング放電時に発生する光の波長が147nm
よりも短い場合は、光のエネルギーは波長147nmの
光のエネルギーよりも大きくなるが、蛍光体への光の侵
入深さが波長147nmの光の侵入深さよりも浅くなる
ために、蛍光体の劣化は極表面でのみ発生することにな
り、パネル完成後の放電時での主成分発光波長である1
47nmの波長を有する真空紫外線が蛍光体が劣化され
ていない部分まで侵入し、その結果、発生する可視光が
比較的多くなったためと考えられる。また、逆にエージ
ング放電時に発生する光の波長が147nmよりも長い
場合は、蛍光体への侵入深さは波長147nmの光の侵
入深さよりも深くなるが、光のエネルギーが波長147
nmの光のエネルギーよりも小さいために、蛍光体の劣
化密度が小さくなり、その結果、パネル完成後の主放電
で発生する可視光が比較的多くなるためと考えられる。
エージング用放電ガス中のXe濃度が小さくなる程、パ
ネルの発光特性が良好となることが判る。これは、Xe
濃度の低下に伴って、発生する波長147nmの光量が
減少し、エージング中の特に青色蛍光体の劣化が抑えら
れたためと考えられる。
上の実施例に用いたガス以外でも、放電で発生する光の
波長が147nm以外(すなわちXe以外の成分ガス)
であればある程度効果が得られる。
Pを例示したが、対向放電型のPDPにも適用すること
ができる。さらに直流型(DC型)のPDPにおいて
も、同様の効果が得られる。
ィスプレイパネルによれば、従来エージング時に現れた
蛍光体の発光特性劣化を抑えることが可能となり、その
結果、輝度および色温度の高いプラズマディスプレイパ
ネルが実現できる。
模式図
ィスプレイパネルの概略断面図
ルの概略断面図
Claims (15)
- 【請求項1】前面板と電極および蛍光体層が配設された
背面板を封着したパネルに第1の放電ガスを導入し、所
定の時間だけ放電を行うエージング工程を有し、前記エ
ージング工程後に、第1の放電ガスをパネルから排気
し、前記第1の放電ガスとは組成の異なる第2の放電ガ
スを前記パネルに導入することを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項2】前面板と電極および蛍光体層が配設された
背面板を封着したパネルに第1の放電ガスを導入し、所
定の時間だけ放電を行うエージング工程を有し、前記エ
ージング工程後に、第1の放電ガスをパネルから排気
し、第2の放電ガスを前記パネルに導入することを特徴
とするプラズマディスプレイパネルの製造方法であっ
て、 前記第2の放電ガスにおいて光を発生する気体元素の濃
度が前記第1の放電ガスにおける前記気体元素の濃度よ
りも高いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の製造方法。 - 【請求項3】前面板と電極および蛍光体層が配設された
背面板を封着したパネルに第1の放電ガスを導入し、所
定の時間だけ放電を行うエージング工程を有し、前記エ
ージング工程後に、第1の放電ガスをパネルから排気
し、第2の放電ガスを前記パネルに導入することを特徴
とするプラズマディスプレイパネルの製造方法であっ
て、 前記エージング工程において前記第1の放電ガスから発
生する光の主成分の波長が前記第2の放電ガスから発生
する光の主成分の波長と異なることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項4】エージング工程において第1の放電ガスか
ら発生する光の主成分の波長が147nm以外であるこ
とを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項5】エージング工程において第1の放電ガスか
ら発生する光の主成分の波長が150nm以上であるこ
とを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項6】エージング工程で第1の放電ガスから発生
する光の主成分の波長が140nm以下であることを特
徴とする請求項1から3のいずれかに記載のプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項7】第1の放電ガスにXeが含まれないことを
特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のプラズマ
ディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項8】第1の放電ガスが少なくともH2、He、
Ne、Ar、Krのいずれか1種類あるいは2種類以上
を含むことを特徴とする請求項7に記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。 - 【請求項9】第1の放電ガスが少なくともI2を含むこ
とを特徴とする請求項1から3または7のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項10】第1の放電ガスが少なくともBr2を含
むことを特徴とする請求項1から3または7のいずれか
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項11】第2の放電ガスが、少なくともXeを含
むことを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項12】前面板と電極および少なくとも青色を含
む蛍光体層が配設された背面板を封着したパネルに少な
くともXeを含む第1の放電ガスを導入し、所定の時間
だけ放電を行うエージング工程を有し、前記エージング
工程後に、第1の放電ガスをパネルから排気し、少なく
ともXeを含む第2の放電ガスを前記パネルに導入する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方
法であって、 第1の放電ガスのXe濃度が第2の放電ガスのXe濃度
よりも低いことを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法。 - 【請求項13】第1の放電ガスのXe濃度が3%以下で
あることを特徴とする請求項11または12に記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項14】一対の平行に配されたプレートの間に電
極および赤色、緑色および青色の蛍光体層とが配設さ
れ、ガス媒体が封入された、請求項1から13のいずれ
かの製造方法で製造されたことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルであって、 前記プラズマディスプレイパネルのすべてのセルを同一
電力条件で点灯させたときの発光色の色温度が7000
K以上であることを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネル。 - 【請求項15】青色蛍光体がBaMgAl10O17:Eu
であることを特徴とする請求項1から14のいずれかに
記載のプラズマディスプレイパネル。
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JP20305799A JP3412570B2 (ja) | 1999-07-16 | 1999-07-16 | プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100404850B1 (ko) * | 2001-02-26 | 2003-11-10 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 |
US6992440B2 (en) | 2004-02-26 | 2006-01-31 | Asahi Glass Company, Limited | Light-emitting device and process for its production |
-
1999
- 1999-07-16 JP JP20305799A patent/JP3412570B2/ja not_active Expired - Fee Related
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KR100404850B1 (ko) * | 2001-02-26 | 2003-11-10 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 |
US6992440B2 (en) | 2004-02-26 | 2006-01-31 | Asahi Glass Company, Limited | Light-emitting device and process for its production |
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