JP2001035261A - Transparent conductive layered product and transparent tablet - Google Patents

Transparent conductive layered product and transparent tablet

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JP2001035261A
JP2001035261A JP20895399A JP20895399A JP2001035261A JP 2001035261 A JP2001035261 A JP 2001035261A JP 20895399 A JP20895399 A JP 20895399A JP 20895399 A JP20895399 A JP 20895399A JP 2001035261 A JP2001035261 A JP 2001035261A
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辰一郎 金
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一雄 八幡
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive layered product having superior visibility, a transparent conductive layer having satisfactory abrasion resistance, low reflectance and light scattering on the surface of the transparent conductive layer, while being especially useful for a tablet. SOLUTION: A transparent conductive layer is provided on the uppermost surface of this transparent conductive layered product with a curing resin layer, placed interveningly placed as necessary on at least one face of a base of an organic high polymer, and optically fine irregular parts are finely formed on the base coming into contact with the transparent conductive layer and/or on the surface coming into contact with the transparent conductive layer in the curing resin layer in this transparent conductive layered product. In this case, the average reflectance of the surface provided with the transparent conductive layer in a wavelength region of 450-650 nm is not more than 5.5%, and a haze value is not more than 10%.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明導電性積層体
に関し、さらに詳しくは、透明導電層表面の反射率が低
く、透明導電層の耐摩耗性に優れた透明導電性積層体、
及びこの透明導電性積層体を少なくとも一方の透明電極
基板として用いた透明タブレットに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive laminate, and more particularly, to a transparent conductive laminate having a low reflectance on the surface of a transparent conductive layer and excellent abrasion resistance of the transparent conductive layer.
And a transparent tablet using the transparent conductive laminate as at least one transparent electrode substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報表示用の液晶ディスプレーと
情報入力用の透明タブレット(タッチスイッチ、タッチ
パネル、フラットスイッチとも称される)を搭載した携
帯型の情報機器が広く使用され始めている。透明タブレ
ットとして多く用いられている抵抗膜方式の透明タブレ
ットは、透明導電層が形成された二枚の透明電極基板が
およそ10μm前後の間隔で相対させて構成されてお
り、外力を加えた部分のみで両電極が接触してスイッチ
として動作するものであり、例えばディスプレー画面上
のメニューの選択あるいは図形や手書き文書の入力等を
行なうことができる。
2. Description of the Related Art In recent years, portable information devices equipped with a liquid crystal display for displaying information and a transparent tablet for inputting information (also referred to as touch switches, touch panels, and flat switches) have begun to be widely used. The resistive film type transparent tablet, which is often used as a transparent tablet, is composed of two transparent electrode substrates with a transparent conductive layer formed facing each other at an interval of about 10 μm. The two electrodes contact each other to operate as a switch. For example, menu selection on a display screen or input of a figure or a handwritten document can be performed.

【0003】このような透明電極基板としては、ガラス
や各種の熱可塑性高分子フィルム等の基板上に、例えば
酸化錫を含有するインジウム酸化物(ITO)、酸化亜
鉛等の金属酸化物による透明導電層を積層したものが広
く用いられている。
As such a transparent electrode substrate, for example, a transparent conductive material made of a metal oxide such as indium oxide (ITO) or zinc oxide containing tin oxide is formed on a substrate such as glass or various thermoplastic polymer films. Layered layers are widely used.

【0004】さて、ここで透明タブレットは液晶表示装
置、CRT等の各種のディスプレー上に配置される場合
が多いが、透明タブレットを光が通過する際に光の反射
が大きいとディスプレー表示画面のコントラストや輝度
の低下をもたらすので好ましくない。
Here, the transparent tablet is often arranged on various displays such as a liquid crystal display device and a CRT. However, if light is greatly reflected when the light passes through the transparent tablet, the contrast of the display screen is high. It is not preferable because it causes a decrease in brightness and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】こうした透明電極表面
の反射率を低減する方法として透明導電層の下地に適当
な光学干渉性を有する層(光学干渉層)を積層する方法
が、本出願人において、例えば特開平8−216327
号公報、特開平10−24516号公報等にて提案され
ている。
As a method of reducing the reflectivity of the transparent electrode surface, a method of laminating a layer having an appropriate optical interference (optical interference layer) on the underlayer of the transparent conductive layer has been proposed by the present applicant. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-216327
And Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-24516.

【0006】これらの提案による透明導電性積層体では
透明導電層表面の反射率が低減され、タブレットやディ
スプレーの視認性の向上が為されている。しかしながら
かかる透明導電性積層体を透明タブレット等の用途に用
いる場合においては、タブレットへの筆記入力による機
械的変形に対する透明導電層の耐摩耗性が不十分となる
場合が観られた。すなわち透明導電性積層体の更に幅広
い分野への応用においては、これらの機械特性を向上さ
せることが望まれていた。
[0006] In the transparent conductive laminate according to these proposals, the reflectance of the surface of the transparent conductive layer is reduced, and the visibility of tablets and displays is improved. However, when such a transparent conductive laminate is used for applications such as a transparent tablet, it has been observed that the abrasion resistance of the transparent conductive layer against mechanical deformation due to writing input to the tablet becomes insufficient. That is, in the application of the transparent conductive laminate to a wider field, it has been desired to improve these mechanical properties.

【0007】本発明の目的は、優れた視認性を有し特に
タブレットとして有用な、透明導電層表面の反射率と光
散乱性が低く、透明導電層の耐摩耗性の良好な透明導電
性積層体を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a transparent conductive laminate which has excellent visibility and is particularly useful as a tablet, has a low reflectance and light scattering property on the surface of the transparent conductive layer, and has good abrasion resistance of the transparent conductive layer. Is to provide the body.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、光の波長
のおよそ1/2以下の大きさの光学的に微細な凹凸形状
が緻密かつ一様に形成された表面上に透明導電層を設け
ると、透明導電層の表面の反射率が効果的に低減され、
タブレット等への幅広い分野への応用が期待できること
を見い出した。
Means for Solving the Problems The present inventors have developed a transparent conductive layer on a surface on which optically fine irregularities having a size of about 1/2 or less of the wavelength of light are formed densely and uniformly. Is provided, the reflectance of the surface of the transparent conductive layer is effectively reduced,
It has been found that application to a wide range of fields such as tablets can be expected.

【0009】すなわち本発明は、有機高分子からなる基
板の少なくとも一方の面に必要に応じて硬化樹脂層を介
して透明導電層が最表面に設けられた透明導電性積層体
において、透明導電層と接する該基板および/または硬
化樹脂層における該透明導電層と接する表面には光学的
に微細な凹凸が緻密に形成された透明導電性積層体であ
って、透明導電層が設けられた面における波長450〜
650nmの領域の平均反射率が5.5%以下であり、
かつヘーズ値が10%以下であることを特徴とする透明
導電性積層体である。
That is, the present invention provides a transparent conductive laminate comprising a transparent conductive layer provided on the outermost surface of at least one surface of an organic polymer substrate via a cured resin layer, if necessary. A transparent conductive laminate in which optically fine irregularities are densely formed on a surface of the cured resin layer and the substrate and / or the cured resin layer which is in contact with the transparent conductive layer; Wavelength 450 ~
The average reflectance in the region of 650 nm is 5.5% or less;
A transparent conductive laminate having a haze value of 10% or less.

【0010】更に本発明の透明導電性積層体の一つの構
成体は、前記凹凸における凸部が平均径がおよそ50〜
300nmの微粒子の少なくとも一部分を含んで形成さ
れていることを特徴とするものであり、更に本発明の透
明導電性積層体の一つの構成体は、前記微粒子がバイン
ダにより固定されていることを特徴とするものである。
[0010] Further, in one structure of the transparent conductive laminate of the present invention, the projections in the irregularities have an average diameter of about 50 to 50.
The transparent conductive laminate according to the present invention is characterized in that the transparent conductive laminate is formed so as to include at least a part of 300 nm fine particles, and the fine particles are fixed by a binder. It is assumed that.

【0011】更に本発明の透明導電性積層体の一つの構
成体は、前記バインダが珪素アルコキシドの縮合体から
主としてなることを特徴とするものである。
Further, one of the structures of the transparent conductive laminate of the present invention is characterized in that the binder is mainly composed of a condensate of silicon alkoxide.

【0012】更に本発明の透明導電性積層体の一つの構
成体は、有機高分子の成形基板の片面もしくは両面に所
定の耐溶剤性およびまたはハードコート性を有する保護
層が積層されている事を特徴とするものである。
Further, in one construction of the transparent conductive laminate of the present invention, a protective layer having a predetermined solvent resistance and / or a hard coat property is laminated on one or both sides of an organic polymer molded substrate. It is characterized by the following.

【0013】更に本発明の透明導電性積層体の一つの構
成体は、少なくとも透明導電層が積層される面に積層さ
れた前記の保護層が、金属アルコキシドおよび/または
その縮合体を重量比率20%以上含有していることを特
徴とし、特に金属アルコキシドが珪素アルコキシドであ
る事を特徴をするものである。
Further, in one construction of the transparent conductive laminate of the present invention, at least the protective layer laminated on the surface on which the transparent conductive layer is laminated is composed of a metal alkoxide and / or a condensate thereof in a weight ratio of 20%. %, And in particular, the metal alkoxide is a silicon alkoxide.

【0014】また本発明は、二枚の透明電極基板が電極
面を相対して配置される透明タブレットの少なくとも一
方の透明電極基板として、前記の透明導電性積層体を用
いた透明タブレットをも含むものである。以下、本発明
を更に詳しく説明する。
The present invention also includes a transparent tablet using the transparent conductive laminate as at least one transparent electrode substrate of a transparent tablet in which two transparent electrode substrates are arranged with their electrode surfaces facing each other. It is a thing. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の透明導電性積層体は、有
機高分子からなる基板の片側の最表面に透明導電層が設
けられ、該透明導電層は波長450〜650nmの領域
の平均反射率が5.5%以下であり、かつヘーズ値が1
0%以下である。このように平均反射率が低く、かつ低
い光散乱性すなわちヘーズ値も小さいというタブレット
として好適な透明導電性積層体は、この透明導電層と接
している基板もしくは硬化樹脂層の表面に、光学的に微
細な大きさの凹凸が一様に緻密に形成されている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the transparent conductive laminate of the present invention, a transparent conductive layer is provided on the outermost surface on one side of a substrate made of an organic polymer, and the transparent conductive layer has an average reflection in a wavelength range of 450 to 650 nm. Rate is 5.5% or less and haze value is 1
0% or less. As described above, the transparent conductive laminate suitable as a tablet having a low average reflectance and a low light scattering property, that is, a small haze value, has an optical surface on a substrate or a cured resin layer in contact with the transparent conductive layer. The fine irregularities are uniformly and densely formed.

【0016】かかる凹凸は、球面もしくは楕円球面のよ
うになだらかに連続した曲面であることが好ましく、そ
の曲率はあまり小さ過ぎないことが肝要である。凸形状
に著しい角ばりがあったり、曲率が非常に小さい部分が
あったりすると、それらの部分に積層した透明導電層が
表面形状に追随できずに空隙を生じてしまったり、外力
による割れを生じ易くなり、透明導電層の耐摩耗性が低
下する場合が多いので好ましくない。
The unevenness is preferably a smoothly continuous curved surface such as a spherical surface or an elliptical spherical surface, and it is important that the curvature is not too small. If the convex shape has a remarkable angle or a portion with a very small curvature, the transparent conductive layer laminated on those portions will not be able to follow the surface shape, resulting in voids or cracking due to external force This is not preferred because the resistance to abrasion of the transparent conductive layer often decreases.

【0017】このような光学的に微細な凹凸が、透明導
電層が接する表面に緻密に形成されることにより、ヘー
ズ値を10%以下、好適には5%以下で、かつこの凹凸
が緻密に設けられることにより、反射率をおよそ5.5
%以下に低減することが可能になり、視認性に優れた透
明タブレットを実現することができる。このような微細
な凸形状が形成されていない場合には、導電層表面の可
視領域、特に波長450〜650nmの領域の平均反射
率は通常7%を超える高い値を示し、ヘーズ値も増大す
る傾向となり、前述のように透明タブレットの用途に用
いた場合に視認性の悪化を招く。また緻密さを欠くと反
射率も上昇してしまう。
Such optically fine irregularities are densely formed on the surface in contact with the transparent conductive layer, so that the haze value is 10% or less, preferably 5% or less, and the irregularities are dense. By being provided, the reflectance is approximately 5.5.
% Or less, and a transparent tablet excellent in visibility can be realized. When such a fine convex shape is not formed, the average reflectance in the visible region of the conductive layer surface, particularly in the region of wavelength 450 to 650 nm, usually shows a high value exceeding 7%, and the haze value also increases. As described above, when used for transparent tablet applications, visibility is deteriorated. In addition, the reflectance increases if the fineness is lacking.

【0018】透明導電層が積層される表面においては、
これを、光の波長のおよそ1/2以下大きさの凸形状が
十分高い密度で一様に形成された表面の一つの層として
みると、光の通過する媒質内にミクロな空気層を含む不
均一な混合層として見なす事ができ、層内の空気の含有
率に基づいて層の屈折率の低下が見られ、これによって
表面の反射率の低減がなされ、かかる層上に設けられた
透明導電層の屈折率と、有機高分子からなる基板の屈折
率との作用により、上記の如く低光散乱及び低反射率の
透明導電性積層体となるものと推定される。
On the surface on which the transparent conductive layer is laminated,
If this is considered as one layer of the surface where the convex shape having a size of about 1/2 or less of the wavelength of light is uniformly formed at a sufficiently high density, the medium through which light passes contains a micro air layer. It can be considered as a non-uniform mixed layer, where the refractive index of the layer is reduced based on the air content in the layer, which reduces the reflectivity of the surface and the transparent layer provided on such a layer It is presumed that the transparent conductive laminate having low light scattering and low reflectance as described above is formed by the action of the refractive index of the conductive layer and the refractive index of the substrate made of an organic polymer.

【0019】つまり、本発明の透明導電性積層体は、導
電層表面における、可視領域、特に波長450〜650
nmの領域の平均反射率が5.5%以下となるような、
導電層と接している光学的に微細で緻密な凹凸表面を有
し、かつヘーズ値が10%以下となるような、導電層と
接している光学的に微細な凹凸表面を有している。
That is, the transparent conductive laminate of the present invention has a visible region on the surface of the conductive layer, in particular, a wavelength of 450 to 650.
The average reflectance in the region of nm is 5.5% or less.
It has an optically fine and fine uneven surface in contact with the conductive layer, and has an optically fine uneven surface in contact with the conductive layer such that the haze value is 10% or less.

【0020】このような、前記凹凸形状を有する表面の
形成方法には幾つかの方法が挙げられるが、例えば、
(1)微粒子とバインダからなる層を基板上に設ける方
法、(2)微粒子を含む成形体を基板とする方法、
(3)表面凹凸を有する型を用いた熱プレス加工、
(4)表面凹凸を有する鋳型による転写成形方法、等が
挙げられる。ここでは、上記(1)を代表例として、上
記凹凸について以下に説明する。
There are several methods for forming the surface having the above-mentioned uneven shape.
(1) a method in which a layer comprising fine particles and a binder is provided on a substrate, (2) a method in which a molded body containing fine particles is used as a substrate,
(3) hot press processing using a mold having surface irregularities,
(4) A transfer molding method using a mold having surface irregularities, and the like. Here, the above-mentioned unevenness will be described below with the above (1) as a representative example.

【0021】上記(1)の微粒子とバインダからなる層
は、例えば、(1−1)基板上に、微粒子を含む硬化性
樹脂を必要に応じて適当な溶剤に分散した塗液を塗布し
乾燥され樹脂を硬化させる方法、(1−2)基板上に、
微粒子を含む高分子フィルムをラミネート等により積層
する方法、等により作成することができるが、(1−
1)の方法が簡易であり、かつ凸形状の高さや間隔等を
微粒子とバインダの混合比率や塗液濃度、塗布厚み等の
コントロールにより細かく制御できる特長がある。
The layer composed of the fine particles and the binder of the above (1) is formed, for example, by applying a coating liquid in which a curable resin containing the fine particles is dispersed in an appropriate solvent as required, and then dried. (1-2) on the substrate,
It can be prepared by a method of laminating a polymer film containing fine particles by lamination or the like.
The method 1) has the advantage that the method 1) is simple, and the height and spacing of the convex shapes can be finely controlled by controlling the mixing ratio of the fine particles and the binder, the coating solution concentration, the coating thickness, and the like.

【0022】該方法により形成される光学的に微細で緻
密な凹凸形状は、例えば、図1〜3に示すような配列形
態を挙げることができる。隣り合う位置にある2つの凸
部は、微粒子同士が完全に接することにより、十分に接
して配列しているか(図1)、もしくは凸部の底部の長
さ(近似直径と同等)もしくはそれ以下の僅かな隙間
(平坦部分)を介して配列している(図2、図3)こと
が好ましい。
The optically fine and dense concave and convex shapes formed by the method can be, for example, an array form as shown in FIGS. The two convex portions at adjacent positions are arranged so as to be in full contact with each other when the fine particles are completely in contact with each other (FIG. 1), or the length of the bottom of the convex portion (equal to the approximate diameter) or less. (FIGS. 2 and 3).

【0023】ここで、凸部の底部の長さとは、図4にお
けるbと定義する。底部bの長さの範囲としては、50
〜200nmが好ましい。
Here, the length of the bottom of the projection is defined as b in FIG. The range of the length of the bottom b is 50
~ 200 nm is preferred.

【0024】また、図4において凸部の高さa(表面か
ら突き出している凸部の高さ)は、30〜100nmの
範囲にあり、隣り合う凸部間の距離は平均して50〜3
00nmの範囲にあることが好ましい。ここで、凸部間
の平均距離とは、凸部の頂上間の距離を指す。更に凹凸
における凸部は透明導電層と接する該表面の半分以上の
面積に分布形成されるように、表面にほぼ一様かつ連続
的に、すなわち凸部間の平均距離が基本的に50〜30
0nmになるように設けられていることが好ましい。平
均反射率やヘイズ値が上記特性を満たす範囲内であれ
ば、一部の表面に凸部間距離がこの範囲外である部分が
多少あってもよい。
In FIG. 4, the height a of the projection (the height of the projection protruding from the surface) is in the range of 30 to 100 nm, and the distance between adjacent projections is 50 to 3 on average.
It is preferably in the range of 00 nm. Here, the average distance between the protrusions refers to the distance between the tops of the protrusions. Further, the projections in the unevenness are substantially uniformly and continuously formed on the surface, that is, the average distance between the projections is basically 50 to 30 so that the projections are formed in an area of at least half of the surface in contact with the transparent conductive layer.
Preferably, the thickness is set to 0 nm. As long as the average reflectance and the haze value are within the ranges satisfying the above characteristics, there may be some portions where the distance between the convex portions is outside this range on some surfaces.

【0025】ここで上記の好ましい範囲を外れた場合に
は、前記の反射率低減効果が不十分になったり、凸部に
よる光散乱(ヘイズ)が増加したりといった不利が生ず
る場合がある。
If the above-mentioned preferred range is not satisfied, there may be disadvantages such as an insufficient effect of reducing the reflectance and an increase in light scattering (haze) due to the projections.

【0026】更に凹凸部においては、バインダ中に実質
的に埋没している微粒子の体積が微粒子の全体積のおよ
そ40〜90%、より好ましくは50〜80%である事
が好ましい。ここで「実質的に」とは、微粒子がバイン
ダによって薄皮状に被覆されている状態を除外するとい
う意味である。前記埋没率が90%を超えると微粒子が
バインダにほぼ埋もれた形になってしまって好ましい凸
形状が形成されず、埋没率が40%未満では、バインダ
による微粒子の層内への固定力が不十分になり、層の耐
摩耗性が低下したり、透明導電層の積層が凸形状に十分
追随できず、空隙を生じる場合があるので好ましくな
い。
Further, in the uneven portion, the volume of the fine particles substantially buried in the binder is preferably about 40 to 90%, more preferably 50 to 80% of the total volume of the fine particles. Here, “substantially” means excluding a state in which the fine particles are covered with the binder in a thin skin shape. If the burial ratio exceeds 90%, the fine particles are almost buried in the binder, and a preferable convex shape is not formed. If the burial ratio is less than 40%, the fixing power of the fine particles into the layer by the binder is insufficient. This is not preferable because the layer may be insufficient, the wear resistance of the layer may be reduced, or the transparent conductive layer may not sufficiently follow the convex shape and may form voids.

【0027】次に代表的に、上記(1)微粒子とバイン
ダからなる層の具体的な作成法の一つである、(1−
1)基板上に、微粒子を含む硬化性樹脂を必要に応じて
適当な溶剤に分散した塗液を塗布し乾燥され樹脂を硬化
させる方法を以下に説明する。
Next, typically, one of the specific methods (1) for forming a layer composed of fine particles and a binder is as follows.
1) A method of applying a coating liquid in which a curable resin containing fine particles is dispersed in an appropriate solvent as required and drying the resin to cure the resin will be described below.

【0028】上記目的に好適な微粒子としては、平均粒
径(直径)がおよそ50〜300nmの球形の微粒子が
挙げられる。微粒子の粒径が50nm未満では30nm
以上の高さの凸部を作成するのが困難になり、粒径が3
00nmを超えると凸部の中心間距離を300nm以下
にする事が困難になるので好ましくない。
Suitable fine particles for the above purpose include spherical fine particles having an average particle diameter (diameter) of about 50 to 300 nm. 30 nm if the particle size of the fine particles is less than 50 nm
It becomes difficult to form a convex portion having the above height, and the particle size is 3
If it exceeds 00 nm, it is difficult to reduce the distance between the centers of the projections to 300 nm or less, which is not preferable.

【0029】かかる微粒子の素材としては、例えば、酸
化珪素、酸化アルミニウム等の金属酸化物の微粒子、金
属アルコキシドを加水分解、縮合、焼成してなる微粒
子、アクリル、ポリスチレン等の微粒子、これらを適当
な酸の共存下で架橋を行った微粒子等が挙げられ、必要
に応じてあらかじめ水や有機溶媒等の溶剤に分散させた
ものが好ましく用いられる。
Examples of the material of the fine particles include fine particles of metal oxides such as silicon oxide and aluminum oxide, fine particles obtained by hydrolyzing, condensing, and firing metal alkoxides, fine particles of acrylic and polystyrene, and the like. Examples thereof include fine particles crosslinked in the presence of an acid, and fine particles previously dispersed in a solvent such as water or an organic solvent as necessary are preferably used.

【0030】かかる微粒子を固定するバインダとなる硬
化性樹脂としては、特に限定されないが、例えば多官能
アクリレートや金属アルコキシドの縮合物が挙げられ、
その中でも特に珪素アルコキシドを出発原料とし、これ
を加水分解、(部分)縮合反応を経て硬化した縮合物か
ら主としてなるシリコーン系の熱硬化樹脂が高い硬度を
得る上で最も好ましく用いられる。
The curable resin serving as a binder for fixing such fine particles is not particularly limited, and examples thereof include polyfunctional acrylates and condensates of metal alkoxides.
Among them, a silicone-based thermosetting resin mainly composed of a condensate obtained by subjecting a silicon alkoxide to a hydrolysis and a (partial) condensation reaction, particularly as a starting material, is most preferably used for obtaining high hardness.

【0031】ここで珪素アルコキシドとしては、例えば
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメ
チルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、β−(3、4エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、アクリロイルプロピルトリメトキシ
シラン、メタアクリロイルプロピルトリメトキシシラン
等が挙げられ、これらの1種もしくは2種以上の珪素ア
ルコキシドを組み合わせて用いてもよい。これらの珪素
アルコキシド樹脂は、適当な条件で一部または全部が加
水分解、部分縮合させた樹脂を用いてもよい。これらの
珪素アルコキシド樹脂は、触媒、溶剤の存在下または不
存在下に、加水分解、(部分)縮合反応し硬化しポリシ
ロキサン樹脂となる。
Here, as the silicon alkoxide, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4 epoxy Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, Examples thereof include acryloylpropyltrimethoxysilane and methacryloylpropyltrimethoxysilane, and one or more of these silicon alkoxides may be used in combination. These silicon alkoxide resins may be partially or wholly hydrolyzed and partially condensed under appropriate conditions. These silicon alkoxide resins are hydrolyzed and (partially) condensed in the presence or absence of a catalyst and a solvent to cure to form a polysiloxane resin.

【0032】すなわち上記微粒子を上記硬化性樹脂に、
必要に応じて適当な希釈溶剤を加えて分散した塗液を準
備し、これを基板や、後述する保護層上に塗布し、加熱
や紫外線照射等を行い乾燥し該硬化性樹脂を硬化させる
ことにより、透明導電層と接する前記凹凸表面を形成さ
せることができる。
That is, the fine particles are added to the curable resin,
Prepare a coating liquid dispersed by adding an appropriate diluting solvent as needed, apply it on a substrate or a protective layer described below, and heat and irradiate ultraviolet rays to dry and cure the curable resin. Thereby, the uneven surface in contact with the transparent conductive layer can be formed.

【0033】塗布方式としては例えば、マイクログラビ
ヤコート法、マイヤーバーコート法、ダイレクトグラビ
ヤコート法、リバースロールコート法、カーテンコート
法、スプレーコート法、コンマコート法、ダイコート
法、ナイフコート法、スピンコート法等の各種塗工方法
が用いられる。
Examples of the coating method include a microgravure coating method, a Meyer bar coating method, a direct gravure coating method, a reverse roll coating method, a curtain coating method, a spray coating method, a comma coating method, a die coating method, a knife coating method, and a spin coating method. Various coating methods such as a coating method are used.

【0034】希釈溶剤としては、アルコール系、炭化水
素系の溶剤、例えば、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、
ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン等が好適である
が、この他にも、キシレン、トルエン、シクロヘキサノ
ン、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチル等の極性
溶媒も使用可能である。これらのものは単独あるいは二
種以上の混合溶剤として用いることができる。
Examples of the diluting solvent include alcohol solvents and hydrocarbon solvents such as ethanol, isopropyl alcohol, butanol, 1-methoxy-2-propanol, and the like.
Hexane, cyclohexane, ligroin and the like are preferred, but other polar solvents such as xylene, toluene, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, and isobutyl acetate can also be used. These can be used alone or as a mixture of two or more solvents.

【0035】こうして得られる微粒子を含む硬化樹脂層
は、通常20〜200nmの厚さを有する(図4のdに
相当)。この膜厚の大きさは、用いる微粒子の大きさ等
を勘案して選択する。
The cured resin layer containing the fine particles thus obtained usually has a thickness of 20 to 200 nm (corresponding to d in FIG. 4). The size of the film thickness is selected in consideration of the size of the fine particles to be used.

【0036】ところで本発明の透明導電性積層体を透明
タブレットの電極基板としての用途に用いる場合には特
に、透明導電層の形成される表面が所定のハードコート
性と耐溶剤性を有していることが好ましい。すなわちハ
ードコート性は透明導電層の耐摩耗性の向上に必要であ
り、耐溶剤性は透明導電層のパターニング工程や導電ペ
ースト等の印刷工程等で必要になる場合が多い。また透
明導電層の形成される面と反対の面に関しても、タブレ
ットへの入力に伴う機械的変形に耐えうるハードコート
性や、別の基体と接着が為される際の接着剤に用いられ
る有機溶剤に耐えうる耐溶剤性が必要になる場合が多
い。
When the transparent conductive laminate of the present invention is used for an electrode substrate of a transparent tablet, the surface on which the transparent conductive layer is formed has a predetermined hard coat property and solvent resistance. Is preferred. That is, the hard coat property is necessary for improving the abrasion resistance of the transparent conductive layer, and the solvent resistance is often required in the step of patterning the transparent conductive layer or the step of printing a conductive paste or the like. Also, on the surface opposite to the surface on which the transparent conductive layer is formed, a hard coat property capable of withstanding mechanical deformation caused by input to the tablet, and an organic material used as an adhesive when bonding with another substrate. In many cases, solvent resistance that can withstand the solvent is required.

【0037】これらの目的において、有機高分子からな
る基板の片面もしくは両面には、以下のように所定の耐
溶剤性およびまたはハードコート性を有する保護層が積
層されている事が好ましい。
For these purposes, it is preferable that a protective layer having a predetermined solvent resistance and / or a hard coat property is laminated on one or both surfaces of a substrate made of an organic polymer as described below.

【0038】耐有機溶剤性:タブレット作成時に透明導
電層上に印刷が行われる銀ペーストの溶剤として代表さ
れるトルエン(和光純薬工業社製、特級)をサンプル面
に数滴滴下し、25℃で3分間放置後の表面の白濁、膨
潤、溶解等の外観変化を目視にて観察し、変化が確認さ
れない場合に耐有機溶剤性を有すると判定する。
Organic solvent resistance: A few drops of toluene (special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) typified as a solvent for a silver paste that is printed on the transparent conductive layer when a tablet is prepared, are dropped at 25 ° C. After visual observation of changes in appearance such as cloudiness, swelling and dissolution of the surface after standing for 3 minutes, and when no change is confirmed, it is determined that the composition has organic solvent resistance.

【0039】耐アルカリ性水溶液性:透明導電層のパタ
ーニング時のレジスト溶解に用いる3.5wt%の水酸
化ナトリウム水溶液をサンプル面に数滴滴下し、25℃
で3分間放置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化
を目視にて観察し、変化が確認されない場合に耐アルカ
リ性水溶液性を有すると判定する。
Alkali-resistant aqueous solution resistance: A few drops of a 3.5 wt% aqueous sodium hydroxide solution used for dissolving a resist at the time of patterning the transparent conductive layer is dropped on the sample surface, and the temperature is 25 ° C.
After standing for 3 minutes, changes in the appearance such as cloudiness, swelling, and dissolution of the surface are visually observed, and if no change is confirmed, it is determined to have alkali-resistant aqueous solution resistance.

【0040】耐酸性水溶液性:透明導電層のパターニン
グに用いるエッチング液(35wt%塩化第2鉄水溶
液、35wt%塩酸、水を1:1:10の割合で混合し
たもの)をサンプル面に数滴滴下し、25℃で3分間放
置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化を目視にて
観察し、変化が確認されない場合に耐酸性水溶液性を有
すると判定する。
Acid-resistant aqueous solution: Several drops of an etchant (a mixture of 35 wt% ferric chloride aqueous solution, 35 wt% hydrochloric acid and water in a ratio of 1: 1: 10) used for patterning the transparent conductive layer are applied to the sample surface. After dripping and leaving at 25 ° C. for 3 minutes, changes in the appearance such as cloudiness, swelling, and dissolution of the surface are visually observed. If no change is observed, it is determined that the composition has acid-resistant aqueous solution resistance.

【0041】ハードコート性:サンプル表面の日本工業
規格K5400に定める所の鉛筆硬度が2B以上、より
好ましくはF以上、最も好ましくは2H以上である場合
に、該表面はハードコート性を有すると判定する。
Hard coat property: When the pencil hardness of the sample surface specified by Japanese Industrial Standard K5400 is 2B or more, more preferably F or more, and most preferably 2H or more, the surface is judged to have hard coat property. I do.

【0042】このような特性を有する保護層を形成する
方法としては、例えば硬化性樹脂をコーティング等によ
り塗布し加熱または活性光線照射により硬化する方法、
及びスパッタ、真空蒸着、気相成長(CVD)等の真空
プロセスによる方法が挙げられる。かかる硬化性樹脂と
しては例えば、アクリル系、フェノキシ系、エポキシ系
の熱硬化樹脂、珪素アルコキシドの縮合硬化性樹脂、多
官能(メタ)アクリレート等による活性光線硬化性樹脂
を挙げることができる。これらの中で珪素アルコキシド
の縮合硬化性樹脂、多官能(メタ)アクリレートによる
活性光線硬化性樹脂が好ましく用いられる。かかる多官
能(メタ)アクリレートによる活性光線硬化性樹脂に
は、珪素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム等の金
属アルコキシド(一般にカップリング剤としての機能を
果たすもの)および/または珪素アルコキシドの縮合物
を混合することも好ましい。このとき混合される金属ア
ルコキシドおよび/または珪素アルコキシド縮合物の含
有量は重量比率で20%以上であることが下記の化学的
結合力向上の観点からより好ましい。
As a method for forming a protective layer having such characteristics, for example, a method in which a curable resin is applied by coating or the like and cured by heating or irradiation with actinic rays,
And a method using a vacuum process such as sputtering, vacuum deposition, or vapor phase growth (CVD). Examples of such a curable resin include an acrylic, phenoxy, or epoxy thermosetting resin, a silicon alkoxide condensation-curable resin, and an actinic ray-curable resin using a polyfunctional (meth) acrylate. Among them, a condensation-curable resin of silicon alkoxide and an actinic ray-curable resin based on polyfunctional (meth) acrylate are preferably used. An actinic ray-curable resin using such a polyfunctional (meth) acrylate is mixed with a metal alkoxide such as silicon, aluminum, titanium, or zirconium (which generally functions as a coupling agent) and / or a condensate of silicon alkoxide. It is also preferred. The content of the metal alkoxide and / or silicon alkoxide condensate mixed at this time is more preferably 20% or more in terms of weight ratio from the viewpoint of improving the chemical bonding force described below.

【0043】このように保護層が、前記の微粒子とバイ
ンダからなる層と同種の材料を含有することにより、両
層の化学的結合力が高まり、微粒子とバインダからなる
層ならびに該層に積層される透明導電層の耐摩耗性の向
上が観られる。この事が本発明の大きな特長の一つであ
る。
Since the protective layer contains the same type of material as the layer composed of the fine particles and the binder, the chemical bonding force between the two layers is increased, and the protective layer is formed of the layer composed of the fine particles and the binder and the layer laminated on the layer. The abrasion resistance of the transparent conductive layer is improved. This is one of the great features of the present invention.

【0044】ここで好適に用いられる珪素アルコキシド
としては、2〜4官能性、さらに好ましくは3〜4官能
性の珪素アルコキシドを二種以上混合して用いることが
好ましく、これらをあらかじめ溶液中で適度に加水分解
ならびに脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化させた
ものも好ましく用いられる。
As the silicon alkoxide suitably used here, it is preferable to use a mixture of two or more silicon alkoxides having 2 to 4 functionalities, more preferably 3 to 4 functionalities. Which are appropriately oligomerized by hydrolysis and dehydration condensation are also preferably used.

【0045】これら珪素アルコキシドの具体例として
は、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、β−(3、4エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、アクリロイルプロピルトリ
メトキシシラン、アクリロイルプロピルメチルジメトキ
シシラン、メタアクリロイルプロピルトリメトキシシラ
ン、メタアクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン
等が例示される。
Specific examples of these silicon alkoxides include, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3, 4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-
Examples thereof include aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, acryloylpropyltrimethoxysilane, acryloylpropylmethyldimethoxysilane, methacryloylpropyltrimethoxysilane, and methacryloylpropylmethyldimethoxysilane.

【0046】尚、これらの珪素アルコキシドを含む層
は、必要に応じて紫外線等の活性光線を塗膜に照射する
事によって、架橋度をより高めることができる。
The layer containing these silicon alkoxides can further increase the degree of crosslinking by irradiating the coating film with actinic rays such as ultraviolet rays as necessary.

【0047】また活性光線硬化型樹脂は、紫外線もしく
は電子線等の活性光線を照射する事によって架橋が進行
する樹脂を指し、単位構造内に2個以上のアクリロイル
基、もしくはメタクリロイル基を有する多官能アクリレ
ート成分、メタクリレート成分を樹脂組成中に含有する
アクリル系樹脂が挙げられる。例えばトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエチ
レンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロール
プロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、
イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロ
デカンジアクリレート等の各種アクリレートモノマー
や、ポリエステル変性もしくはウレタン変性、エポキシ
変性の多官能アクリレートオリゴマー等が本用途に好ま
しく用いられる。
The actinic ray-curable resin refers to a resin whose crosslinking proceeds by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams, and is a polyfunctional resin having two or more acryloyl groups or methacryloyl groups in a unit structure. An acrylic resin containing an acrylate component and a methacrylate component in the resin composition is exemplified. For example, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate,
Various acrylate monomers such as isocyanuric acid ethylene oxide-modified triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, and polyester-modified or urethane-modified, epoxy-modified polyfunctional Acrylate oligomers and the like are preferably used for this purpose.

【0048】これらの樹脂は単独の組成で用いても、数
種の混合組成で用いても良いが、前述のように金属アル
コキシドおよび/または珪素アルコキシドの縮合物を全
組成中に20%以上の重量比率で混合することが好まし
い。
These resins may be used in a single composition or in a mixture of several kinds. As described above, a condensate of metal alkoxide and / or silicon alkoxide accounts for 20% or more of the total composition. It is preferable to mix at a weight ratio.

【0049】このように紫外線照射によって樹脂の架橋
を行う場合には公知の光反応開始剤が適量添加される。
光反応開始剤としては、例えばジエトキシアセトフェノ
ン、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フェニル}
−2−モルフォリノプロパン、2−ヒドロキシ−2−メ
チル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系
化合物;ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベ
ンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香
酸等のベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2、
4−ジクロロチオキサンソン等のチオキサンソン系化合
物等が挙げられる。
When the resin is crosslinked by irradiation with ultraviolet rays, a known photoreaction initiator is added in an appropriate amount.
Examples of the photoreaction initiator include diethoxyacetophenone and 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl}.
Acetophenone compounds such as -2-morpholinopropane, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; benzoin compounds such as benzoin and benzyldimethylketal; benzophenone and benzoyl Benzophenone compounds such as benzoic acid; thioxanthone, 2,
And thioxanthone compounds such as 4-dichlorothioxanthone.

【0050】保護層の厚みは、およそ0.05〜20μ
m、より好ましくは1〜10μmの範囲にあることが好
ましい。また、これらの保護層は場合によっては前記微
粒子を含む硬化樹脂層がそのまま兼ねることもできる
が、通常は前期微粒子を含む硬化樹脂層の下層として設
けられる。
The thickness of the protective layer is about 0.05 to 20 μm.
m, more preferably in the range of 1 to 10 μm. In addition, these protective layers may be used as they are as the cured resin layer containing the fine particles, but are usually provided as a lower layer of the cured resin layer containing the fine particles.

【0051】またこれらの保護層は基板上に直接、もし
くは適当な中間層を介して積層が為される。こうした中
間層としては例えば、保護層と基板との密着性を向上さ
せる機能を有するプライマー層や、後述するK値が負の
三次元屈折率特性を有する層等の各種の位相補償層、基
板に加わる応力(垂直応力、水平応力)を緩和する粘弾
性特性を有する層、例えば室温付近での貯蔵弾性率がお
よそ1kg/mm2以下であるような層や、水分や空気
の透過を防止する機能もしくは水分や空気を吸収する機
能を有する層、紫外線や赤外線を吸収する機能を有する
層、基板の帯電性を低下させる機能を有する層等が好ま
しく挙げられる。かかる中間層の厚さはおよそ0.1〜
100μmの範囲にあることが好ましい。
These protective layers are laminated on the substrate directly or via an appropriate intermediate layer. As such an intermediate layer, for example, a primer layer having a function of improving the adhesion between the protective layer and the substrate, and various phase compensation layers such as a layer having a three-dimensional refractive index characteristic having a negative K value to be described later, A layer having a viscoelastic property for relaxing applied stress (vertical stress, horizontal stress), for example, a layer having a storage elastic modulus of about 1 kg / mm 2 or less at around room temperature, or a function of preventing permeation of moisture and air. Alternatively, a layer having a function of absorbing moisture or air, a layer having a function of absorbing ultraviolet light or infrared light, a layer having a function of reducing the chargeability of a substrate, or the like is preferably used. The thickness of such an intermediate layer is about 0.1 to
It is preferably in the range of 100 μm.

【0052】上記保護層の基板への塗布方法としては、
前記各種の樹脂硬化物の前駆体組成物および少量の添加
剤(各種フィラー、レベリング剤等)を適当な有機溶剤
に溶解した塗液を用いて、被体上に塗工後、放射線の照
射や加熱処理等により層を架橋させる。保護層の表面は
場合によって適度に粗面化されてもよく、これによって
透明タブレットの用途におけるニュートンリングの発生
を防止する機能を付与することができる。
The method of applying the protective layer to the substrate is as follows.
Using a coating solution obtained by dissolving a precursor composition of the above various resin cured products and a small amount of additives (various fillers, leveling agents, etc.) in an appropriate organic solvent, apply the composition onto a body, and then irradiate with radiation. The layer is crosslinked by heat treatment or the like. The surface of the protective layer may be appropriately roughened in some cases, thereby providing a function of preventing the occurrence of Newton rings in transparent tablet applications.

【0053】塗工方式としては例えば、マイクログラビ
ヤコート法、マイヤーバーコート法、ダイレクトグラビ
ヤコート法、リバースロールコート法、カーテンコート
法、スプレーコート法、コンマコート法、ダイコート
法、ナイフコート法、スピンコート法等の各種塗工方法
が用いられる。
Examples of the coating method include microgravure coating, Meyer bar coating, direct gravure coating, reverse roll coating, curtain coating, spray coating, comma coating, die coating, knife coating, spin coating, and the like. Various coating methods such as a coating method are used.

【0054】希釈溶剤としては、アルコール系、炭化水
素系の溶剤、例えば、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、
ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン等が好適である
が、この他にも、キシレン、トルエン、シクロヘキサノ
ン、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチル等の極性
溶媒も使用可能である。これらのものは単独あるいは二
種以上の混合溶剤として用いることができる。
Examples of the diluting solvent include alcohol and hydrocarbon solvents such as ethanol, isopropyl alcohol, butanol, 1-methoxy-2-propanol, and the like.
Hexane, cyclohexane, ligroin and the like are preferred, but other polar solvents such as xylene, toluene, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, and isobutyl acetate can also be used. These can be used alone or as a mixture of two or more solvents.

【0055】尚、本発明における透明導電層としては、
主として金属酸化物からなる層が好ましく用いられ、タ
ブレットの消費電力の低減と回路処理上の必要等から、
表面抵抗値が100〜2000Ω/□、より好ましくは
150〜2000Ω/□の範囲を示す透明導電層を用い
ることが好ましい。尚、透明導電層の膜厚は12〜30
nmが好ましい。12nm未満では抵抗値の経時安定性
に劣る傾向があり、また30nmを超えると透明導電層
を積層した表面の反射率が増大してくるので好ましくな
い。
Incidentally, the transparent conductive layer in the present invention includes:
A layer mainly composed of a metal oxide is preferably used, and from the viewpoint of reduction in tablet power consumption and circuit processing,
It is preferable to use a transparent conductive layer having a surface resistance value of 100 to 2000 Ω / □, more preferably 150 to 2000 Ω / □. The thickness of the transparent conductive layer is 12 to 30.
nm is preferred. If it is less than 12 nm, the stability of the resistance value with time tends to be inferior, and if it exceeds 30 nm, the reflectance of the surface on which the transparent conductive layer is laminated increases, which is not preferable.

【0056】具体的には例えば、錫酸化物やインジウム
酸化物、酸化亜鉛、酸化ガリウム等による層およびそれ
らを適当な割合で混合した材料による層が好ましく用い
られ、これらの層に更に酸化珪素、酸化チタン、酸化ア
ルミニウム、酸化ジルコニウム等の1種または2種以上
を数重量%程度の割合で添加した材料による層が好まし
く用いられる。
Specifically, for example, a layer made of tin oxide, indium oxide, zinc oxide, gallium oxide, or the like and a layer made of a material obtained by mixing them at an appropriate ratio are preferably used. A layer made of a material to which one or more kinds of titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide and the like are added at a ratio of about several weight% is preferably used.

【0057】これら透明導電層は、スパッタリング法、
イオンプレーティング法、真空蒸着法、CVD法等の公
知の真空製膜プロセスを用いて積層することができる。
中でも幅方向、長さ方向での膜厚均一性、組成均一性の
面からはスパッタリング法が好ましい。
These transparent conductive layers are formed by a sputtering method,
Lamination can be performed using a known vacuum film forming process such as an ion plating method, a vacuum deposition method, and a CVD method.
Among them, the sputtering method is preferable from the viewpoint of the film thickness uniformity and the composition uniformity in the width direction and the length direction.

【0058】また本発明における有機高分子からなる基
板については特に限定されるものではないが、基板の透
明性は高い事が好ましく、具体的に可視域、特に波長4
50〜650nmの領域の透過率の平均値が少なくとも
80%以上、より好ましくは85%以上ある事が好まし
い。
The substrate made of an organic polymer according to the present invention is not particularly limited. However, it is preferable that the substrate has high transparency, and specifically, it is preferable that the substrate be in the visible region, particularly at a wavelength of 4 nm.
It is preferable that the average value of the transmittance in the region of 50 to 650 nm is at least 80% or more, more preferably 85% or more.

【0059】本発明の透明導電性積層体を透明タブレッ
トを構成する一対の透明電極基板のうちの入力側の透明
電極基板(可動電極基板)に用いる場合、ペン等の外部
入力に対して適度に変形するようにある程度の可撓性が
ある事が好ましい。この為、有機高分子からなる基板と
しては、熱可塑性高分子からなるフィルム状の成形基板
が好適に用いられる。具体的な有機高分子としては、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネートやポリアリレート、ポリエ
ーテルスルフォン、トリアセチルセルロース、ジアセチ
ルセルロース、各種のポリオレフィン、およびこれらの
変性物あるいはこれらと別種材料との共重合物等が好ま
しく例示される。これらのフィルム状の成形基板は一般
的な溶融押し出し法もしくは溶液流延法等により好適に
成形されるが、必要に応じて成形したフィルム状の基板
に一軸延伸もしくは二軸延伸を施して機械的強度を高め
たり、位相差板(1/4波長板、3次元位相差制御板な
ど)等の光学的機能を高めたりする事も好ましく行われ
る。
When the transparent conductive laminate of the present invention is used as an input-side transparent electrode substrate (movable electrode substrate) of a pair of transparent electrode substrates constituting a transparent tablet, it is appropriately applied to an external input such as a pen. Preferably, it has some degree of flexibility so as to be deformed. For this reason, a film-shaped molded substrate made of a thermoplastic polymer is preferably used as the substrate made of an organic polymer. Specific organic polymers include, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate and polyarylate, polyethersulfone, triacetylcellulose, diacetylcellulose, various polyolefins, and modified products of these or other materials. Copolymers and the like are preferably exemplified. These film-shaped molded substrates are suitably molded by a general melt extrusion method or a solution casting method, but if necessary, the molded film-shaped substrate is subjected to uniaxial stretching or biaxial stretching to be mechanically It is also preferable to increase the strength or enhance optical functions such as a phase difference plate (1/4 wavelength plate, three-dimensional phase difference control plate, etc.).

【0060】このようにして得られ、可動電極基板とし
て好適な該電極基板の厚みは、およそ10〜400μ
m、より好ましくは20〜200μmの範囲にある事が
タブレットの動作特性、軽薄性、軽量性の観点等から好
ましい。
The thickness of the thus obtained electrode substrate suitable as a movable electrode substrate is about 10 to 400 μm.
m, more preferably in the range of 20 to 200 μm, from the viewpoint of tablet operating characteristics, lightness, lightness, etc.

【0061】また本発明の透明導電性積層体を前記可動
電極基板と相対して用いられる透明電極基板(固定電極
基板)に用いる場合には、必ずしも可撓性が高い必要は
なく、タブレットの使用形態によってはむしろ外力に対
する変形の少ない特性(剛直性の高さ)が必要となる場
合もあることから、前記の熱可塑性高分子からなるフィ
ルム状の成形基板の他に、同様の熱可塑性高分子もしく
はエポキシ系、アクリル系等の各種材料の熱硬化樹脂お
よび/または紫外線硬化樹脂等からなるフィルムまたは
シート状の成形基板も好適に用いることができる。尚、
こうした成形基板の成形方法としては、溶融押し出し
法、溶液流延法、射出成形法、注型重合成形法等が挙げ
られる。
In the case where the transparent conductive laminate of the present invention is used for a transparent electrode substrate (fixed electrode substrate) used in opposition to the movable electrode substrate, it is not always necessary to have high flexibility. Depending on the form, it may be necessary to have a property (high rigidity) with less deformation against external force. Therefore, in addition to the film-shaped molded substrate made of the thermoplastic polymer, a similar thermoplastic polymer is used. Alternatively, a film or sheet-shaped molded substrate made of a thermosetting resin and / or an ultraviolet curable resin of various materials such as an epoxy-based or acrylic-based material can be suitably used. still,
Examples of the method for forming such a molded substrate include a melt extrusion method, a solution casting method, an injection molding method, and a cast polymerization molding method.

【0062】また場合によっては前記フィルム状の成形
基板の透明電極面と反対側の面に、該基板と別種の、透
明電極が形成されていないフィルム状もしくはシート状
の成形基板を貼り付けて裏打ちした構成の電極基板等も
好ましく用いられる。
In some cases, a film-shaped or sheet-shaped molded substrate, on which a transparent electrode is not formed, is attached to a surface of the film-shaped molded substrate opposite to the transparent electrode surface, and is backed. An electrode substrate having such a configuration is also preferably used.

【0063】このようにして得られ、固定電極基板とし
て好適な該電極基板の厚みはおよそ10〜2000μ
m、より好ましくは50〜1000μm、最も好ましく
は70〜700μmの範囲にある事が好ましい。
The thickness of the thus obtained electrode substrate suitable as a fixed electrode substrate is about 10 to 2000 μm.
m, more preferably 50 to 1000 μm, and most preferably 70 to 700 μm.

【0064】尚、最近ではタブレットの入力側(使用者
側)の面に偏光板を積層する構成の新しいタイプの透明
タブレットが開発されてきている。この構成の利点は主
として前記偏光板の光学作用によって、タブレット内部
における外来光の反射率を半分以下に低減できる事にあ
る。
In recent years, a new type of transparent tablet having a structure in which a polarizing plate is laminated on the input side (user side) of the tablet has been developed. The advantage of this configuration is that the reflectance of extraneous light inside the tablet can be reduced by half or less mainly due to the optical action of the polarizing plate.

【0065】ここで、このようなタイプのタブレットに
用いる場合には透明電極基板を偏光が通過する事から、
基板として光学等方性に優れた特性を有するものを用い
る事が好ましく、具体的に基板の遅相軸方向の屈折率を
nx、進相軸方向の屈折率をny、基板の厚みをd(n
m)とした場合にRe=(nx−ny)×d(nm)で
表される面内リタデーションReが少なくとも30nm
以下、より好ましくは20nm以下であることが好まし
い。尚、ここで基板の面内リタデーションの値は日本分
光株式会社製の多波長複屈折率測定装置(商品名「M−
150」)を用いた波長590nmでの測定値に代表さ
せている。
Here, when used for such a type of tablet, since polarized light passes through the transparent electrode substrate,
It is preferable to use a substrate having excellent optical isotropy as the substrate. Specifically, the refractive index in the slow axis direction of the substrate is nx, the refractive index in the fast axis direction is ny, and the thickness of the substrate is d ( n
m), the in-plane retardation Re represented by Re = (nx−ny) × d (nm) is at least 30 nm.
Or less, more preferably 20 nm or less. Here, the value of the in-plane retardation of the substrate is a multi-wavelength birefringence index measuring device (trade name “M-
150 ") at a wavelength of 590 nm.

【0066】このような光学等方性に優れた特性を示す
基板のうち、特に上記可動電極基板として有用な基板を
構成する有機高分子としては、例えば、ポリカーボネー
ト、非晶性ポリアリレート、ポリエーテルスルフォン、
トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、非晶
性ポリオレフィンおよびこれらの変性物もしくは別種材
料との共重合物等による成型物、エポキシ系、アクリル
系等の有機材料の熱硬化樹脂や紫外線硬化樹脂等が例示
されるが、成形性や製造コスト、熱的安定性等の観点か
ら、ポリカーボネート、非晶性ポリアリレート、非晶性
ポリオレフィンおよびこれらの変性物もしくは別種材料
との共重合物等が最も好ましく挙げられる。
Among the substrates exhibiting such excellent optical isotropy, the organic polymer constituting the substrate particularly useful as the movable electrode substrate includes, for example, polycarbonate, amorphous polyarylate, and polyether. Sulfone,
Examples include molded products of triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, amorphous polyolefins, modified products thereof or copolymers with other materials, and thermosetting resins and ultraviolet curing resins of organic materials such as epoxy and acrylic. However, from the viewpoints of moldability, production cost, thermal stability and the like, polycarbonate, amorphous polyarylate, amorphous polyolefin and modified products of these or copolymers with different materials are most preferred.

【0067】特にポリカーボネートのビスフェノール成
分としては例えば、ビスフェノールA、(3,3,5
−)1,1−ジ(4−フェノール)シクロヘキシリデ
ン、3,3,5−トリメチル−1,1−ジ(4−フェノ
ール)シクロヘキシリデン、フルオレン−9,9−ジ
(4−フェノール)、フルオレン−9,9−ジ(3−メ
チル−4−フェノール)等を挙げることができる。これ
らの成分は単独もしくは共重合またはブレンド等のため
2種類以上組み合わせてもよい。平均分子量は、およそ
15000〜100000の範囲のものが好ましい。こ
れらのポリカーボネートとしては具体的には帝人化成製
「パンライト」やバイエル製「Apec HT」等が好
ましく例示される。
Particularly, as the bisphenol component of the polycarbonate, for example, bisphenol A, (3,3,5
-) 1,1-di (4-phenol) cyclohexylidene, 3,3,5-trimethyl-1,1-di (4-phenol) cyclohexylidene, fluorene-9,9-di (4-phenol) And fluorene-9,9-di (3-methyl-4-phenol). These components may be used alone or in combination of two or more for copolymerization or blending. The average molecular weight is preferably in the range of about 15,000 to 100,000. Preferred examples of these polycarbonates include "Panlite" manufactured by Teijin Chemicals Ltd. and "Apec HT" manufactured by Bayer.

【0068】また非晶性ポリアリレートとしては、商品
として鐘淵化学製「エルメック」、ユニチカ製「Uポリ
マー」、イソノバ製「イサリル」等が例示される。
Examples of the amorphous polyarylate include commercial products such as "Elmec" manufactured by Kaneka Corporation, "U Polymer" manufactured by Unitika, and "Isalil" manufactured by Isonova.

【0069】また非晶性ポリオレフィンとしては、商品
として日本ゼオン製「ゼオネックス」や日本合成ゴム製
「アートン」等が例示される。
Examples of the amorphous polyolefin include "ZEONEX" manufactured by Nippon Zeon and "ARTON" manufactured by Nippon Synthetic Rubber.

【0070】またこれらの有機高分子材料からなるフィ
ルム成型体の成形方法としては、溶融押し出し法や溶液
流延法、射出成型法等の方法が例示されるが、優れた光
学等方性を得る観点からは、特に溶液流延法を用いて成
形を行なうことが好ましい。
Examples of the method of forming a film formed from these organic polymer materials include a melt extrusion method, a solution casting method, and an injection molding method, but excellent optical isotropy is obtained. From the viewpoint, it is particularly preferable to perform the forming by using the solution casting method.

【0071】このように例示した透明導電基板を偏光が
通過するタイプのタブレットの用途においては、透明導
電基板の面内リタデーションの値が非常に重要である
が、これに加えて透明導電基板の三次元屈折率特性、す
なわち基板の膜厚方向の屈折率をnzとした時にK=
{(nx+ny)/2−nz}×dで表されるK値が少
なくとも−250〜+150nm、より好ましくは−2
00〜+100nmの範囲にある事がタブレットの視認
性の高い視野角特性を得る上で好ましい。
In the use of a tablet of the type in which polarized light passes through the transparent conductive substrate exemplified above, the value of the in-plane retardation of the transparent conductive substrate is very important. When the original refractive index characteristic, that is, the refractive index in the thickness direction of the substrate is nz, K =
The K value represented by {(nx + ny) / 2-nz} × d is at least -250 to +150 nm, more preferably -2.
It is preferable that it is in the range of 00 to +100 nm in order to obtain a viewing angle characteristic with high visibility of the tablet.

【0072】本発明はまた、上記透明導電性積層体を少
なくとも一方の電極基板として用いた透明タブレットに
関するものである。ここで本発明の透明導電性積層体を
タブレットの一対の電極基板すなわち可動電極基板と固
定電極基板の両方に用いた場合に本発明の意図する効果
が特に著しくなるので最も好ましいが、可動電極基板と
固定電極基板の一方のみに用いても効果を得ることがで
きる。例えば可動電極基板に本発明の透明導電性積層体
を用い、固定電極基板に従来の硝子板に透明電極を形成
した硝子電極基板を用いたタブレットの構成等において
も良好な視認性を得ることができる。
The present invention also relates to a transparent tablet using the transparent conductive laminate as at least one electrode substrate. Here, when the transparent conductive laminate of the present invention is used for a pair of electrode substrates of a tablet, that is, both a movable electrode substrate and a fixed electrode substrate, the effect intended by the present invention becomes particularly remarkable. The effect can be obtained even if it is used for only one of the fixed electrode substrate. For example, it is possible to obtain good visibility even in a tablet configuration using a transparent electrode laminate of the present invention for a movable electrode substrate and a glass electrode substrate having a transparent electrode formed on a conventional glass plate for a fixed electrode substrate. it can.

【0073】[0073]

【実施例】以下、本発明の実施例を示す。尚、以下の実
施例と比較例における各種特性の評価は次の要領にて行
った。
Embodiments of the present invention will be described below. The evaluation of various characteristics in the following examples and comparative examples was performed in the following manner.

【0074】ヘイズ:日本電色工業社製の測定器(商品
名「COH−300A」)を用いて測定を行った。
Haze: Measurement was performed using a measuring instrument (trade name “COH-300A”) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

【0075】平均反射率:日立製分光光度計U3500
の積分球測定モードで波長範囲450〜650nmのサ
ンプルの反射率を測定し、その幾何平均値を平均反射率
の値とした。尚、測定光のサンプルへの入射角度は10
度とし、サンプルの裏面側を市販の黒色スプレーを用い
て遮光層を形成し、サンプルの裏面反射や裏面側からの
光の入射がほとんどない状態で測定を行った。
Average reflectance: Hitachi spectrophotometer U3500
The reflectance of the sample in the wavelength range of 450 to 650 nm was measured in the integrating sphere measurement mode, and the geometric average value was used as the average reflectance value. The angle of incidence of the measurement light on the sample is 10
On the back side of the sample, a light-shielding layer was formed using a commercially available black spray, and the measurement was performed in a state where the back side of the sample and the incidence of light from the back side were hardly observed.

【0076】耐溶剤性:明細書内の前記記載の方法にて
行った。
Solvent resistance: Performed according to the method described in the specification.

【0077】塗膜密着性:日本工業規格K5400に準
拠し、碁盤目テープ試験を行った。 ハードコート性:日本工業規格K5400に準拠し、1
kg荷重での鉛筆硬度を測定した。
Coating adhesion: A cross cut tape test was performed in accordance with Japanese Industrial Standard K5400. Hard coat property: 1 according to Japanese Industrial Standard K5400
The pencil hardness under a kg load was measured.

【0078】スチールウール摩耗性:#0000のスチ
ールウールを用い、サンプル表面を100gf/c
2、10往復の条件で磨耗した際のサンプル表面の傷
付き具合を下記のように評価した。 A:傷が全くつかない。B:1cm幅あたり5〜10本
程度の傷がつく。C:1cm幅あたり20本程度の傷が
つく。D:1cm幅あたり40本程度の傷がつく。E:
1cm幅あたり60本以上の傷がつく。
Steel wool abrasion: using # 0000 steel wool, the sample surface was 100 gf / c
The degree of scratches on the sample surface when worn under m 2 and 10 reciprocating conditions was evaluated as follows. A: No scratch is formed. B: About 5 to 10 scratches per 1 cm width. C: About 20 scratches per 1 cm width. D: About 40 scratches per 1 cm width. E:
More than 60 scratches per cm width.

【0079】屈折率:アッベ屈折率計により測定した。Refractive index: Measured by Abbe refractometer.

【0080】[実施例1]まず定法により反応させて得
たポリメチルメタアクリレートとγ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン(信越化学KBM503)の
モル比9:1のランダム共重合をメチルイソブチルケト
ンと酢酸イソブチルの重量比1:1の混合溶媒に溶解さ
せて、プライマー層形成用の塗液を得た。
Example 1 First, a random copolymerization of polymethyl methacrylate and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical KBM503) at a molar ratio of 9: 1 obtained by a reaction according to a conventional method was carried out by methyl isobutyl ketone and acetic acid. It was dissolved in a mixed solvent of isobutyl at a weight ratio of 1: 1 to obtain a coating liquid for forming a primer layer.

【0081】次に水720重量部と2−プロパノール1
080重量部と酢酸46重量部を混合した後に、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製
の商品名「KBM403」)480重量部とメチルトリ
メトキシシラン(信越化学社製の商品名「KBM1
3」)240重量部とN−β(アミノエチル)γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名
「KBM603」)120重量部を順次混合し、3時間
攪拌して前記アルコキシシラン混合液の加水分解、部分
縮合を行い、さらにイソプロピルアルコールと1メトキ
シ2プロパノールの重量比率1:1の混合溶媒で希釈し
て保護層形成用の塗液を得た。
Next, 720 parts by weight of water and 2-propanol 1
After mixing 080 parts by weight and 46 parts by weight of acetic acid, 480 parts by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and methyltrimethoxysilane (trade name manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) "KBM1
3)) 240 parts by weight and 120 parts by weight of N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (trade name “KBM603” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) are sequentially mixed and stirred for 3 hours to mix the alkoxysilane. The solution was subjected to hydrolysis and partial condensation, and further diluted with a mixed solvent of isopropyl alcohol and 1-methoxy-2-propanol at a weight ratio of 1: 1 to obtain a coating solution for forming a protective layer.

【0082】次に前記の保護層形成用の塗液に平均粒径
160nmの球状シリカ微粒子のエチルアルコール分散
液(触媒化成製)を両者の固形分の重量比率が1:1と
なるように混合し、さらにイソプロピルアルコールと1
メトキシ2プロパノールの重量比率1:1の混合溶媒で
希釈して、微粒子とバインダからなる層形成用の塗液を
得た。
Next, an ethyl alcohol dispersion of spherical silica fine particles having an average particle diameter of 160 nm (manufactured by Catalysis Chemical Co., Ltd.) was mixed with the above coating liquid for forming a protective layer so that the weight ratio of both solids was 1: 1. And then isopropyl alcohol and 1
The mixture was diluted with a mixed solvent of methoxy-2-propanol at a weight ratio of 1: 1 to obtain a coating liquid for forming a layer including fine particles and a binder.

【0083】厚みが約125μmの二軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)フィルム(帝人製OFW−
125、面内屈折率約1.64、鉛筆硬度F)の両面
に、前記のプライマー形成用の塗液をロールコーティン
グし、130℃で2分乾燥して膜厚が0.8μmのプラ
イマー層を形成した。
A biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of about 125 μm (OFW-
The above-mentioned coating liquid for forming a primer is roll-coated on both sides with a refractive index of about 125 and an in-plane refractive index of about 1.64 and a pencil hardness of F), and dried at 130 ° C. for 2 minutes to form a 0.8 μm-thick primer layer. Formed.

【0084】続いてプライマー層上に前記の保護層形成
用の塗液をロールコーティングし、130℃で10分間
乾燥して膜厚約5μm、屈折率約1.47の保護層を形
成した。
Subsequently, the coating liquid for forming a protective layer was roll-coated on the primer layer and dried at 130 ° C. for 10 minutes to form a protective layer having a thickness of about 5 μm and a refractive index of about 1.47.

【0085】更にこの保護層が形成されたフィルム面の
一方の面に、前記の微粒子とバインダからなる層形成用
の塗液をロールコーティングし、130℃で5分間乾燥
して、其々の微粒子がそのほぼ半球に当たる部分を表面
上に突き出した状態の層を形成した。
Further, one of the surfaces of the film on which the protective layer was formed was roll-coated with a coating liquid for forming a layer comprising the fine particles and a binder, and dried at 130 ° C. for 5 minutes. Formed a layer in a state where a portion substantially corresponding to the hemisphere protruded on the surface.

【0086】更にこの保護層が形成されたフィルム面の
一方の面に、前記の微粒子とバインダからなる層形成用
の塗液をロールコーティングし、130℃で5分間乾燥
して微粒子とバインダからなる層を形成した。この層の
表面および断面を走査型電子顕微鏡(SEM)によって
観察したところ、層の表面に微細な凹凸が緻密に形成さ
れており、層の厚さはおよそ80nm前後で、凸部の高
さはおよそ50〜80nmの範囲にあり、凸部の底部の
長さはおよそ120〜180nmの範囲にあって、凸部
間の平均距離はおよそ200nmであった。この層の表
面の鉛筆硬度は2Hと優れ、耐溶剤性も良好であった。
Further, one surface of the film surface on which the protective layer is formed is roll-coated with a coating liquid for forming a layer comprising the above-mentioned fine particles and a binder, and dried at 130 ° C. for 5 minutes to form the fine particles and the binder. A layer was formed. When the surface and cross section of this layer were observed with a scanning electron microscope (SEM), fine irregularities were densely formed on the surface of the layer, the thickness of the layer was about 80 nm, and the height of the projections was about The range of about 50-80 nm, the length of the bottom of the protrusion was about 120-180 nm, and the average distance between the protrusions was about 200 nm. The pencil hardness of the surface of this layer was excellent at 2H, and the solvent resistance was also good.

【0087】更にひき続いて、該層上に透明導電層を積
層して透明導電性積層体を作製した。透明導電層として
はインジウム−錫の酸化物(ITO)を用い、DCマグ
ネトロンスパッタリング法により膜厚が約22nmとな
るように層を形成した。すなわちターゲットとして酸化
インジウムと酸化錫が重量比95:5の組成で充填密度
が98%のITOターゲットを用い、スパッタ装置内に
前記フィルムをセットした後、1.3mPaの圧力まで
排気を行い、ついでArとO2の体積比98.5:1.
5の混合ガスを導入し、雰囲気圧力を0.27Paにし
た。そしてフィルム温度を50℃、投入電力密度が1W
/cm2の条件でスパッタリングを行い、前記微粒子と
バインダとからなる層上にITOからなる透明導電層を
積層した。この透明導電層の表面抵抗は約230Ω/□
であり、屈折率はおよそ2.0であった。
Subsequently, a transparent conductive layer was formed by laminating a transparent conductive layer on the layer. As the transparent conductive layer, an indium-tin oxide (ITO) was used, and the layer was formed to have a thickness of about 22 nm by a DC magnetron sputtering method. That is, an ITO target having a composition of indium oxide and tin oxide in a weight ratio of 95: 5 and a packing density of 98% was used as a target, the film was set in a sputtering apparatus, and then exhausted to a pressure of 1.3 mPa. 98.5: 1 volume ratio of Ar to O2.
5 was introduced, and the atmospheric pressure was set to 0.27 Pa. Then, the film temperature is 50 ° C. and the input power density is 1 W
/ Cm 2 , and a transparent conductive layer made of ITO was laminated on the layer made of the fine particles and the binder. The surface resistance of this transparent conductive layer is about 230Ω / □
And the refractive index was approximately 2.0.

【0088】この積層体の透明導電層が積層された表面
の平均反射率は約4.5%と低く、ヘイズは2.8%で
あった。また該表面の密着性は100/100と良好
で、スチールウール摩耗試験はBで良好であった。
The average reflectance of the surface of the laminate on which the transparent conductive layer was laminated was as low as about 4.5%, and the haze was 2.8%. In addition, the adhesion of the surface was as good as 100/100, and the steel wool abrasion test was good in B.

【0089】[実施例2]酢酸1重量部と水30重量部
とイソプロパノール100重量部とを混合し、これにテ
トラメトキシシラン(信越化学KBM04)80重量
部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化
学KBM5103)240重量部、0℃で15分間攪拌
後、25℃で3時間攪拌してアルコシキシラン混合液の
加水分解、部分縮合を行った。
Example 2 1 part by weight of acetic acid, 30 parts by weight of water and 100 parts by weight of isopropanol were mixed, and 80 parts by weight of tetramethoxysilane (Shin-Etsu Chemical KBM04) and acryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical) were mixed. After stirring at 240 ° C. for 15 minutes at 0 ° C. and then at 25 ° C. for 3 hours, hydrolysis and partial condensation of the alkoxysilane mixed solution were performed.

【0090】更にこれにポリエステルアクリレート(東
亜合成化学製M8560)400重量部、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート(日本化薬製DPHA)
200重量部、光開始剤(チバガイギー製イルガキュア
184)50重量部、レベリング剤としてシリコンオイ
ル(東レ・ダウケミカル製SH28PA)0.3重量
部、1メトキシ2プロパノールとイソマルプロパノール
の重量比率1:1の混合溶媒で希釈して保護層形成用の
塗液を得た。
Further, 400 parts by weight of polyester acrylate (M8560 manufactured by Toa Gosei Chemical) and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA manufactured by Nippon Kayaku)
200 parts by weight, 50 parts by weight of a photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Geigy), 0.3 parts by weight of silicone oil (SH28PA manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) as a leveling agent, 1: 1 by weight of methoxy-2-propanol and isomalpropanol To obtain a coating liquid for forming a protective layer.

【0091】厚みが約188μmの二軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム(帝人製OFW−188、面
内屈折率1.65前後、鉛筆硬度F)の両面に、前記の
保護層形成用塗液のロールコーティングを行い、60℃
で1分間溶剤を乾燥させた後にランプ強度が160W/
cmの高圧水銀灯を用いて積算光量約600mJ/cm
2の条件で紫外線の照射を行ってコーティング層を硬化
させ、膜厚約5.2μm、屈折率約1.5の保護層を積
層した。
Roll coating of the protective layer forming coating solution was applied to both sides of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of about 188 μm (OFW-188, manufactured by Teijin Limited, with an in-plane refractive index of about 1.65, pencil hardness F). Done, 60 ° C
After drying the solvent for 1 minute at a lamp intensity of 160 W /
cm using a high-pressure mercury lamp of about 600 mJ / cm
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays under the conditions of 2 , and a protective layer having a thickness of about 5.2 μm and a refractive index of about 1.5 was laminated.

【0092】引き続いてこの保護層を積層したフィルム
面の一方の面に実施例1と全く同じ要領で微粒子とバイ
ンダからなる層を形成した。この表面の鉛筆硬度は2H
と優れ、耐溶剤性も良好であった。
Subsequently, a layer composed of fine particles and a binder was formed on one surface of the film on which the protective layer was laminated, in exactly the same manner as in Example 1. The pencil hardness of this surface is 2H
And the solvent resistance was good.

【0093】さらに該層上に実施例1と全く同じ要領で
透明導電層を積層して、透明導電性積層体を作成した。
この積層体の透明導電層が積層された表面の平均反射率
は約4.4%と低く、ヘイズは2.8%であった。また
該表面の密着性は100/100と良好で、スチールウ
ール摩耗試験はBで良好であった。
Further, a transparent conductive layer was laminated on the layer in exactly the same manner as in Example 1 to form a transparent conductive laminate.
The average reflectance of the surface of the laminate on which the transparent conductive layer was laminated was as low as about 4.4%, and the haze was 2.8%. In addition, the adhesion of the surface was as good as 100/100, and the steel wool abrasion test was good in B.

【0094】[比較例1]実施例1において、微粒子と
バインダからなる層を積層する事なく、保護層上に接し
て透明導電層を積層した以外は実施例1と全く同様にし
て透明導電性積層体を作成した。この積層体の透明導電
層が積層された表面は、光学的に微細な凹凸は見られず
実質的に平坦であった。この表面の平均反射率は約8.
5%と高い値であった。
Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated, except that the transparent conductive layer was laminated on the protective layer without laminating the layer composed of the fine particles and the binder. A laminate was made. The surface of the laminate on which the transparent conductive layer was laminated was substantially flat without any optically fine irregularities. The average reflectance of this surface is about 8.
The value was as high as 5%.

【0095】[比較例2]実施例2において、微粒子と
バインダからなる層を積層する事なく、保護層上に接し
て透明導電層を積層した以外は実施例1と全く同様にし
て透明導電性積層体を作成した。この積層体の透明導電
層が積層された表面の平均反射率は約8.2%と高い値
であった。
Comparative Example 2 The procedure of Example 2 was repeated, except that the transparent conductive layer was laminated on the protective layer without laminating the layer composed of the fine particles and the binder. A laminate was made. The average reflectance of the surface of the laminate on which the transparent conductive layer was laminated was a high value of about 8.2%.

【0096】[比較例3]実施例1において、微粒子と
バインダからなる層の代わりに、以下の2つの層を光学
干渉層として積層した以外は実施例1と全く同様にして
透明導電性積層体を作成した。
Comparative Example 3 A transparent conductive laminate was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that the following two layers were laminated as optical interference layers instead of the layer composed of fine particles and binder. It was created.

【0097】すなわちまずテトラブトキシチタネート
(日本曹達社製の商品名「B−4」)をリグロイン(和
光純薬工業社製の等級が一級品)とブタノール(和光純
薬工業社製の等級が特級品)の混合溶媒で希釈した塗液
を用いてロールコーティングし、130℃で2分間熱処
理して、膜厚約41nm、屈折率約1.82の層を形成
した。
That is, first, tetrabutoxy titanate (trade name “B-4” manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) is converted into ligroin (a first-grade product manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and butanol (a special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries) Roll coating was performed using a coating solution diluted with the mixed solvent of (Product) and heat-treated at 130 ° C. for 2 minutes to form a layer having a thickness of about 41 nm and a refractive index of about 1.82.

【0098】次に該層上に下記組成からなる塗液を用い
てロールコーティングし、130℃で5分間熱処理し
て、膜厚約51nm、屈折率約1.47の層を形成し
た。すなわち水720重量部と2−プロパノール108
0重量部と酢酸46重量部を混合した後に、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製の商
品名「KBM403」)480重量部とメチルトリメト
キシシラン(信越化学社製の商品名「KBM13」)2
40重量部とN−β(アミノエチル)γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン(信越化学社製の商品名「KBM
603」)120重量部を順次混合し、3時間攪拌して
前記アルコキシシラン混合液の加水分解、部分縮合を行
い、さらにイソプロピルアルコールと1メトキシ2プロ
パノールの重量比率1:1の混合溶媒で希釈して該層形
成用の塗液とした。この層の表面は光学的に微細な凹凸
はなく、平坦であった。
Next, the layer was roll-coated with a coating solution having the following composition and heat-treated at 130 ° C. for 5 minutes to form a layer having a thickness of about 51 nm and a refractive index of about 1.47. That is, 720 parts by weight of water and 2-propanol 108
After mixing 0 parts by weight and 46 parts by weight of acetic acid, 480 parts by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and methyltrimethoxysilane (trade name manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) "KBM13") 2
40 parts by weight and N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (trade name “KBM manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
603 ") 120 parts by weight are sequentially mixed and stirred for 3 hours to carry out hydrolysis and partial condensation of the alkoxysilane mixture, and further dilute with a mixed solvent of isopropyl alcohol and 1methoxy-2-propanol at a weight ratio of 1: 1. To form a coating liquid for forming the layer. The surface of this layer was flat without optically fine irregularities.

【0099】このフィルムの透明導電層が積層された表
面の平均反射率は約3.9%と低く、ヘーズ値も0.8
%と低いものであった。しかしながらスチールウール磨
耗試験の結果はDであり、実施例対比劣っていた。
The average reflectance of the surface of the film on which the transparent conductive layer is laminated is as low as about 3.9%, and the haze value is also about 0.8%.
%. However, the result of the steel wool abrasion test was D, which was inferior to the example.

【0100】[比較例4]実施例2において、微粒子と
バインダからなる層の代わりに、比較例3で用いた2つ
の層を光学干渉層として積層した以外は実施例2と全く
同様にして透明導電性積層体を作成した。このフィルム
の透明導電層が積層された表面の平均反射率は約4.1
%と低く、ヘイズも1.0%と低いものであった。しか
しながらスチールウール磨耗試験の結果はEであり、実
施例対比劣っていた。
Comparative Example 4 The procedure of Example 2 was repeated, except that the two layers used in Comparative Example 3 were laminated as an optical interference layer instead of the layer composed of the fine particles and the binder. A conductive laminate was made. The average reflectance of the surface of the film on which the transparent conductive layer is laminated is about 4.1.
% And the haze was as low as 1.0%. However, the result of the steel wool abrasion test was E, which was inferior to the example.

【0101】[0101]

【発明の効果】本発明の透明導電性積層体は、透明導電
層表面の反射率及び光散乱性が低く、かつ透明導電層の
耐摩耗性に非常に優れる特長を有し、この透明導電性積
層体を用いて作成した透明タブレットでは非常に優れた
視認性と機械的耐久性を得ることができる。
The transparent conductive laminate of the present invention has the characteristics that the reflectance and light scattering property of the surface of the transparent conductive layer are low, and the abrasion resistance of the transparent conductive layer is very excellent. In the case of a transparent tablet made using the laminate, very excellent visibility and mechanical durability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の透明導電性積層体の一例の模式断面図
である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a transparent conductive laminate of the present invention.

【図2】本発明の透明導電性積層体の一例の模式断面図
である。
FIG. 2 is a schematic sectional view of an example of the transparent conductive laminate of the present invention.

【図3】本発明の透明導電性積層体の一例の模式断面図
である。
FIG. 3 is a schematic sectional view of an example of the transparent conductive laminate of the present invention.

【図4】本発明の透明導電性積層体の一例の模式断面図
である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an example of the transparent conductive laminate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明導電層 2 微粒子 3 バインダ 4 保護層 5 有機高分子の成形基板 6 微粒子とバインダからなる層 a 凸部の高さ b 凸部の底部 c 凸部間の距離 d 微粒子とバインダからなる層の厚さ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive layer 2 Fine particle 3 Binder 4 Protective layer 5 Molded substrate of organic polymer 6 Layer composed of fine particle and binder a Height of convex part b Bottom part of convex part c Distance between convex parts d of layer composed of fine particle and binder thickness

フロントページの続き (72)発明者 御子柴 均 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 Fターム(参考) 4F100 AA17C AA33C AK01A AK01B AK42 AK52B AK52D AR00D AT00 AT00A BA04 BA07 BA10C DE04A DE04B DE04C EH66 GB41 JB07 JB12B JG01 JG01C JN01 JN01C 5B087 AA09 AB16 AE00 CC14 CC16 CC36 5G307 FA02 FB01 FC01 FC08 FC10Continued on the front page (72) Inventor Hitoshi Mikoshiba 4-3-2 Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo Teijin Limited, Tokyo Research Center F-term (reference) 4F100 AA17C AA33C AK01A AK01B AK42 AK52B AK52D AR00D AT00 AT00A BA04 BA07 BA10C DE04A DE04B DE04C EH66 GB41 JB07 JB12B JG01 JG01C JN01 JN01C 5B087 AA09 AB16 AE00 CC14 CC16 CC36 5G307 FA02 FB01 FC01 FC08 FC10

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機高分子からなる基板の少なくとも一
方の面に必要に応じて硬化樹脂層を介して透明導電層が
最表面に設けられた透明導電性積層体において、透明導
電層と接する該基板および/または硬化樹脂層における
該透明導電層と接する表面には光学的に微細な凹凸が緻
密に形成された透明導電性積層体であって、透明導電層
が設けられた面における波長450〜650nmの領域
の平均反射率が5.5%以下であり、かつヘーズ値が1
0%以下であることを特徴とする透明導電性積層体。
1. A transparent conductive laminate having a transparent conductive layer provided on the outermost surface of at least one surface of a substrate made of an organic polymer via a cured resin layer, if necessary, in contact with the transparent conductive layer. A transparent conductive laminate in which optically fine irregularities are densely formed on a surface of the substrate and / or the cured resin layer which is in contact with the transparent conductive layer, and has a wavelength of 450 to 450 on a surface on which the transparent conductive layer is provided. The average reflectance in the region of 650 nm is 5.5% or less, and the haze value is 1
A transparent conductive laminate having a content of 0% or less.
【請求項2】 光学的に微細な凹凸における凸部の高さ
が30〜100nmである請求項1記載の透明導電性積
層体。
2. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the height of the projections in the optically fine unevenness is 30 to 100 nm.
【請求項3】 光学的に微細な凹凸における凸部間の平
均距離が50〜300nmである、請求項1または2記
載の透明導電性積層体。
3. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the average distance between the projections in the optically fine unevenness is 50 to 300 nm.
【請求項4】 光学的に微細な凹凸における底部の長さ
が50〜200nmである、請求項1〜3のいずれかに
記載の透明導電性積層体。
4. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the bottom of the optically fine unevenness has a length of 50 to 200 nm.
【請求項5】 透明導電層と接する該基板および/また
は硬化樹脂層は、平均径が50〜300nmの微粒子を
含んで形成されていることを特徴とする請求項1〜4の
いずれかに記載の透明導電性積層体。
5. The substrate according to claim 1, wherein the substrate and / or the cured resin layer in contact with the transparent conductive layer include fine particles having an average diameter of 50 to 300 nm. Transparent conductive laminate.
【請求項6】 透明導電層と接する硬化樹脂層は、珪素
アルコキシドの縮合体から主としてなることを特徴とす
る請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電性積層体。
6. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the cured resin layer in contact with the transparent conductive layer mainly comprises a condensate of silicon alkoxide.
【請求項7】 透明導電層の膜厚が12〜30nmの範
囲にあることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記
載の透明導電性積層体。
7. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the thickness of the transparent conductive layer is in the range of 12 to 30 nm.
【請求項8】 透明導電層は酸化インジウムから主とし
てなることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載
の透明導電性積層体。
8. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the transparent conductive layer mainly comprises indium oxide.
【請求項9】 有機高分子からなる基板と硬化樹脂層と
の間に、耐溶剤性およびまたはハードコート性を有する
保護層が設けられていることを特徴とする請求項1〜8
のいずれかに記載の透明導電性積層体。
9. A protective layer having solvent resistance and / or hard coat property is provided between a substrate made of an organic polymer and a cured resin layer.
The transparent conductive laminate according to any one of the above.
【請求項10】 保護層が、金属アルコキシドおよび/
またはその縮合体を重量比率20%以上含有しているこ
とを特徴とする請求項9記載の透明導電性積層体。
10. The protective layer according to claim 1, wherein the metal alkoxide and / or
10. The transparent conductive laminate according to claim 9, wherein the condensate is contained in a weight ratio of 20% or more.
【請求項11】 金属アルコキシドが珪素アルコキシド
から主としてなることを特徴とする請求項10記載の透
明導電性積層体。
11. The transparent conductive laminate according to claim 10, wherein the metal alkoxide is mainly composed of silicon alkoxide.
【請求項12】 有機高分子からなる基板の少なくとも
一方の面に硬化樹脂層を介して透明導電層が最表面に設
けられた透明導電性積層体において、硬化樹脂層の該透
明導電層と接する表面には光学的に微細な凹凸が緻密に
形成され、透明導電層が設けられた面における波長45
0〜650nmの領域の平均反射率が5.5%以下であ
り、ヘーズ値が10%以下であり、かつ硬化樹脂層は、
平均径が50〜300nmの微粒子を含む珪素アルコキ
シドの縮合体から主としてなることを特徴とする透明導
電性積層体。
12. A transparent conductive laminate having a transparent conductive layer provided on the outermost surface on at least one surface of a substrate made of an organic polymer via a cured resin layer, in contact with the transparent conductive layer of the cured resin layer. Optically fine irregularities are densely formed on the surface, and the wavelength 45 on the surface provided with the transparent conductive layer is provided.
The average reflectance in the range of 0 to 650 nm is 5.5% or less, the haze value is 10% or less, and the cured resin layer is
A transparent conductive laminate mainly comprising a condensate of silicon alkoxide containing fine particles having an average diameter of 50 to 300 nm.
【請求項13】 二枚の透明電極基板が電極面を相対し
て配置される透明タブレットにおいて、少なくとも一方
の透明電極基板として請求項1〜12のいずれかに記載
の透明導電性積層体を用いた透明タブレット。
13. A transparent tablet in which two transparent electrode substrates are arranged with their electrode surfaces facing each other, wherein the transparent conductive laminate according to claim 1 is used as at least one of the transparent electrode substrates. Had a transparent tablet.
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