JP2002148405A - Antireflection film and low reflection polarizing plate using the same - Google Patents

Antireflection film and low reflection polarizing plate using the same

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JP2002148405A
JP2002148405A JP2000338747A JP2000338747A JP2002148405A JP 2002148405 A JP2002148405 A JP 2002148405A JP 2000338747 A JP2000338747 A JP 2000338747A JP 2000338747 A JP2000338747 A JP 2000338747A JP 2002148405 A JP2002148405 A JP 2002148405A
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Japan
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layer
film
antireflection
polarizing plate
antireflection film
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JP2000338747A
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Hirotaka Matsuura
広隆 松浦
Takayuki Shigematsu
崇之 重松
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film which ensures a good display grade and superior scuffing and wear resistances, etc., of a display surface and a low reflection polarizing plate using the antireflection film. SOLUTION: A coating liquid for forming a glare-proof layer having 50 wt.% solid concentration is prepared by mixing 100 pts.wt. UV curable urethane acrylate resin, 15 pts.wt. fine silica particles having 1.3 μm average particle diameter and 5 pts.wt. UV polymerization initiator with toluene as a solvent. The coating liquid is applied to one face of a triacetylcellulose film 3 having 80 μm thickness, freed of the solvent by drying and cured by irradiation with UV to form a glare-proof layer 2 having a finely rugged surface structure. A coating liquid comprising fluorine-containing methyltrimethoxysilane having about 1 wt.% solid content is applied to the surface of the glare-proof layer 2 in such a way that about 100 nm average thickness is obtained after drying and curing, and the coating liquid is dried and cured at 90 deg.C in 50 hr to form an antireflection layer 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止層を有す
ることにより、表面反射光を低減し、さらに防眩特性を
有することにより、外部光による外部像の映り込みのな
い視認性のよい液晶ディスプレイの形成などに好適な反
射防止フィルム並びにそれを用いた低反射偏光板に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display having an antireflection layer, which reduces surface reflected light, and has an antiglare property, so that an external image is not reflected by external light and has good visibility. The present invention relates to an antireflection film suitable for forming a display and a low reflection polarizing plate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】各種ディスプレイの一つに液晶ディスプ
レイがあるが、近年、視認性向上の要望がよりいっそう
高まってきた。表示デバイスとしての見やすさ、例え
ば、液晶ディスプレイの高精細化、高画質化を追求する
ためには、ディスプレイ表面の外部光の映り込み、反
射、ギラツキ等を極力抑える必要がある。とりわけ、例
えばカーナビゲーション用モニター、ビデオカメラ用モ
ニター、携帯電話、PHS、各種携帯情報端末等を屋外
で使用する場合、外部光が屋内に比べて強いため、外部
光の映り込み、反射、ギラツキ等により、そのディスプ
レイの視認性の低下が、屋内で使用する場合に比べて顕
著である。このためこれらの機器に装着される偏光板に
は、反射防止処理が必要不可欠である。これと同時に、
表示面の耐擦傷性、耐摩耗性、あるいは防汚染性等につ
いても必要不可欠となる。特にディスプレイ表面に傷等
がつくと恒久的な表示欠陥となり、外観品位を落として
しまうという問題点があり、耐擦傷性については、重要
な性能の一つである。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display is one of various displays. In recent years, a demand for improved visibility has been further increased. In order to improve the visibility as a display device, for example, to achieve higher definition and higher image quality of a liquid crystal display, it is necessary to minimize reflection, reflection, and glare of external light on the display surface. In particular, for example, when a car navigation monitor, a video camera monitor, a mobile phone, a PHS, and various portable information terminals are used outdoors, since the external light is stronger than indoors, the reflection, reflection, glare, etc. of the external light are used. Therefore, the visibility of the display is significantly reduced as compared with the case where the display is used indoors. For this reason, anti-reflection treatment is indispensable for polarizing plates mounted on these devices. At the same time,
The scratch resistance, abrasion resistance, stain resistance and the like of the display surface are also indispensable. In particular, there is a problem that a scratch or the like on the display surface causes a permanent display defect and degrades the appearance quality. Scratch resistance is one of the important performances.

【0003】ところで従来の塗布処理によって形成した
反射防止層としては、フッ素基を有する有機あるいは無
機バインダーに金属酸化物微粒子等を分散・混合させた
液を熱あるいは紫外線により硬化させて、形成するもの
が用いられていた。
The antireflection layer formed by the conventional coating treatment is formed by curing a liquid obtained by dispersing and mixing metal oxide fine particles and the like in an organic or inorganic binder having a fluorine group by heat or ultraviolet rays. Was used.

【0004】一方、これまで、反射防止層のみの耐擦傷
性、耐摩耗性は評価されていたが、積層構造にし、全体
構成から評価した場合について、種々検討した結果、本
発明者等は、上層と下層との硬さの差も、最表面の耐擦
傷性、耐摩耗性に大きく影響を与えることを見いだし
た。
On the other hand, the scratch resistance and abrasion resistance of only the antireflection layer have been evaluated so far. However, as a result of various studies on the case where the antireflection layer is formed into a laminated structure and evaluated from the overall structure, the present inventors have found that: It has been found that the difference in hardness between the upper layer and the lower layer also greatly affects the abrasion resistance and abrasion resistance of the outermost surface.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶ディス
プレイ等に適用した場合に、高い表示品位に加えて、表
示面の耐擦傷性、耐摩耗性等に優れた反射防止フィルム
およびそれを用いた低反射偏光板を提供することを課題
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention, when applied to a liquid crystal display or the like, provides an antireflection film having excellent display quality, as well as excellent scratch resistance and abrasion resistance on a display surface, and the use thereof. It is an object of the present invention to provide a low-reflection polarizing plate.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の反射防止フィルムおよびそれを用いた低反
射偏光板は、次のものである。
Means for Solving the Problems To solve the above problems, the antireflection film of the present invention and a low reflection polarizing plate using the same are as follows.

【0007】(1)本発明の反射防止フィルムは、透明
基材フィルム上に設けた防眩層の上に反射防止層を設
け、その反射防止層の表面硬度が1.0GPa以上であ
ることを特徴とする。
(1) The antireflection film of the present invention has an antireflection layer provided on an antiglare layer provided on a transparent substrate film, and the surface hardness of the antireflection layer is 1.0 GPa or more. Features.

【0008】(2)本発明の反射防止フィルムにおいて
は、防眩層と反射防止層の表面硬度比が1以上であるこ
と(すなわち、防眩層表面硬度/反射防止層表面硬度≧
1であること)が好ましい。
(2) In the antireflection film of the present invention, the surface hardness ratio of the antiglare layer and the antireflection layer is 1 or more (that is, antiglare layer surface hardness / antireflection layer surface hardness ≧).
1) is preferable.

【0009】(3)また、本発明の低反射偏光板は、前
記(1)項または(2)項のいずれかに記載の反射防止
フィルムを有する偏光板からなる。
(3) A low reflection polarizing plate of the present invention comprises a polarizing plate having the antireflection film according to any one of the above items (1) and (2).

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の反射防止フィルムに用い
られる透明基材フィルムとしては、透明性や機械的強
度、熱安定性や水分遮断性などに優れるものが好ましく
用い得る。また透明基材フィルムは、位相差等の光学的
異方性が少ないほど好ましい場合が多い。そして通常、
本発明の反射防止フィルムは偏光板の表面に設けられて
使用される場合が多いので、本発明の反射防止フィルム
用の透明基材フィルムとしては、偏光板の透明保護層を
兼ねることもできる。実際には偏光板の表面に反射防止
フィルムを設ける場合には、偏光板の透明保護層を本発
明の反射防止フィルムの透明基材フィルムとして兼用す
ることがディスプレイの厚みも厚くならず、層が増えた
ことによる異なる屈折率界面が生じることによる表面反
射ロスなどの光学的特性の低下の原因も少なく好まし
い。従って、本発明の反射防止フィルム用の透明基材フ
ィルムとしては、後述する偏光板の透明保護層と同様の
ポリマーからなるフィルムが使用できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the transparent substrate film used for the antireflection film of the present invention, those having excellent transparency, mechanical strength, heat stability, moisture barrier properties and the like can be preferably used. Further, in many cases, the transparent substrate film is preferable as the optical anisotropy such as retardation is smaller. And usually
Since the antireflection film of the present invention is often used by being provided on the surface of a polarizing plate, the transparent base film for the antireflection film of the present invention can also serve as the transparent protective layer of the polarizing plate. Actually, when an antireflection film is provided on the surface of a polarizing plate, it is not necessary to increase the thickness of the display by also using the transparent protective layer of the polarizing plate as the transparent base film of the antireflection film of the present invention. It is preferable that the cause of deterioration of optical characteristics such as surface reflection loss due to the occurrence of different refractive index interfaces due to the increase is small. Therefore, as the transparent substrate film for the antireflection film of the present invention, a film made of the same polymer as the transparent protective layer of the polarizing plate described later can be used.

【0011】防眩層として前記透明基材フィルムの表面
に設けられる微細凹凸構造は、適宜な方式で形成された
ものであってよい。例えば、サンドブラスト、エンボス
ロール、化学エッチング等の適宜な方式で粗面化処理し
て表面に微細凹凸構造を付与したもの、金型による転写
方式等にて表面に微細凹凸構造を付与したもの、微粒子
を分散含有する樹脂層などがあげられる。
The fine uneven structure provided as an antiglare layer on the surface of the transparent substrate film may be formed by an appropriate method. For example, sandblasting, embossing rolls, those having a fine uneven structure on the surface by roughening treatment by an appropriate method such as chemical etching, those having a fine uneven structure on the surface by a transfer method using a mold, fine particles And the like.

【0012】さらに詳しく言えば、微細凹凸構造は、
[a]前記透明基材フィルム(偏光板の上に形成する場
合には、偏光板における透明保護層でもよいことは前述
した通りであり、以下、特に区別して説明することが必
要な場合を除いて、「透明基材フィルム」と総称す
る。)自体の表面をサンドブラスト、エンボスロール、
化学エッチング等の適宜な方式で粗面化処理して微細凹
凸構造を付与してなる層などとして形成することができ
る。[b]また微細凹凸構造は、前記透明基材フィルム
に対する前記樹脂層の微細凹凸を有する塗工層等からな
る付加層や、[c]透明基材フィルム上に塗工付加した
ポリマー層の表面を粗面化処理して微細凹凸構造を付与
した加工層、あるいは[d]前記[a]の様な粗面化処
理して微細凹凸構造が表面に形成されている透明基材フ
ィルムの上に更にその微細凹凸構造が消失しない程度に
ポリマーの塗工層を設けたもの等として形成することも
できる。
More specifically, the fine uneven structure is
[A] The transparent substrate film (when formed on a polarizing plate, as described above, a transparent protective layer in the polarizing plate may be used. And the surface of the film itself is referred to as a “transparent substrate film”.
It can be formed as a layer or the like provided with a fine uneven structure by performing a roughening treatment by an appropriate method such as chemical etching. [B] Also, the fine uneven structure is an additional layer composed of a coating layer having fine unevenness of the resin layer with respect to the transparent base film, and [c] the surface of a polymer layer coated and applied on the transparent base film. A roughened surface to give a fine uneven structure, or [d] a transparent substrate film having a fine uneven structure formed on the surface by roughening the surface as in [a] above. Further, it can be formed as a layer provided with a polymer coating layer to such an extent that the fine uneven structure does not disappear.

【0013】また、微細凹凸構造は、例えば、[a]の
様に透明基材フィルム自体の表面が粗面化処理されて微
細凹凸構造としたものに更に樹脂層を前記微細凹凸構造
が埋められて平坦になる程度の厚さで塗工し、塗工層表
面を[c]で示したごとく粗面化処理して微細凹凸構造
を付与した複合層とするなど、前記した2種以上の状態
のものを組み合わせた様な複合させた層として形成して
もよい。
The fine uneven structure is obtained by, for example, forming a fine uneven structure by roughening the surface of the transparent substrate film itself as shown in [a], and further filling the resin layer with the fine uneven structure. Two or more of the above-mentioned states, for example, a coating layer having a thickness such that the coating layer becomes flat and the surface of the coating layer is roughened as shown in [c] to form a composite layer having a fine uneven structure. May be formed as a composite layer such as a combination thereof.

【0014】凹凸特性の形成性等の観点より、前記防眩
層の微細凹凸構造は固形微粒子含有の樹脂層からなるも
のが好ましい。かかる樹脂層は、例えば樹脂溶液に固形
微粒子(以下、単に微粒子と略称する。)を分散含有さ
せ、それを透明基材フィルムの上に塗工することにより
形成することができる。塗工方式は特に限定されない
が、例えばドクターブレード法やグラビアロールコータ
ー法等の適宜な方式で透明基材フィルム上に塗工して塗
工膜を形成する方式や、微粒子含有の樹脂フィルムを別
途予め形成しておいて、それを透明基材フィルム上に接
着する方式等の適宜な方式にて形成することができる。
From the viewpoint of the formability of the unevenness characteristics, the fine unevenness structure of the antiglare layer is preferably formed of a resin layer containing solid fine particles. Such a resin layer can be formed by, for example, dispersing and containing solid fine particles (hereinafter simply referred to as fine particles) in a resin solution, and applying the fine particles on a transparent substrate film. The coating method is not particularly limited.For example, a method of forming a coating film by coating on a transparent substrate film by an appropriate method such as a doctor blade method or a gravure roll coater method, or a resin film containing fine particles is separately provided. It may be formed in advance and formed by an appropriate method such as a method of bonding it on a transparent substrate film.

【0015】なお前記の樹脂層を形成する樹脂として
は、後述する偏光板の透明保護層にて例示したポリマー
等をその硬度等を考慮して適宜選定して用いうる。特に
好ましく用いうる樹脂としては紫外線硬化型樹脂であ
る。紫外線硬化型樹脂を使用すれば、紫外線照射による
塗工層の硬化処理にて、必要に応じ微粒子を含有させた
紫外線硬化樹脂からなる層をスタンパーによるエンボス
加工などの簡単な加工操作にて効率よく形成することが
できる。また粗面化した透明基材フィルムの表面に紫外
線硬化樹脂層を形成することで、最表面に透明基材フィ
ルムの表面凹凸を反映させることなども容易に行うこと
ができる。
As the resin forming the resin layer, a polymer or the like exemplified in the transparent protective layer of the polarizing plate described later can be appropriately selected and used in consideration of its hardness and the like. A particularly preferred resin is an ultraviolet-curable resin. If a UV-curable resin is used, the layer composed of UV-cured resin containing fine particles can be efficiently processed by a simple processing operation such as embossing with a stamper when the coating layer is cured by UV irradiation. Can be formed. Further, by forming an ultraviolet curable resin layer on the surface of the roughened transparent substrate film, it is possible to easily reflect the surface irregularities of the transparent substrate film on the outermost surface.

【0016】前記の紫外線硬化型樹脂としては、例えば
ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、
シリコーン系、エポキシ系等の樹脂を形成しうるモノマ
ーやオリゴマーやポリマーに紫外線重合開始剤を配合し
て、紫外線照射による硬化処理で樹脂層を形成しうるよ
うにしたものなど適宜なものを用いうる。
Examples of the above-mentioned UV-curable resin include polyester, acrylic, urethane, amide, and the like.
An appropriate compound such as a compound obtained by blending an ultraviolet polymerization initiator with a monomer, oligomer, or polymer capable of forming a resin such as a silicone-based or epoxy-based resin so that a resin layer can be formed by curing treatment by ultraviolet irradiation can be used. .

【0017】なお前記の微粒子としては、例えばポリメ
チルメタクリレート(PMMA)、ポリウレタン、ポリ
スチレン、メラミン樹脂等の各種ポリマーからなる架橋
又は未架橋の有機ポリマー系粒子、シリカ、アルミナ、
酸化カルシウム、およびチタニア、ジルコニアや、酸化
錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン
等の導電性無機系粒子などの適宜なものを用いうる。
The fine particles include, for example, crosslinked or uncrosslinked organic polymer particles made of various polymers such as polymethyl methacrylate (PMMA), polyurethane, polystyrene and melamine resin, silica, alumina, and the like.
Appropriate materials such as calcium oxide, and conductive inorganic particles such as titania, zirconia, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide can be used.

【0018】反射防止層を形成する材料は、紫外線硬化
型アクリル樹脂等の樹脂系、樹脂中にコロイダルシリカ
等の無機微粒子分散させたハイブリッド系、RSi(O
R) 3やSi(OR)4あるいはRTi(OR)3やTi
(OR)4(但しRは炭素数10以下の低級アルキル基を
示す。)などのアルキルトリアルコキシシランやテトラ
アルコキシシランあるいはアルキルチタンテトラアルコ
キシドやチタンテトラアルコキシド等の金属アルコキシ
ドを用いたゾル−ゲル系等が挙げられる。但し、反射防
止層を形成する材料の屈折率は、防眩層に比べて屈折率
の小さいものを用いる。
The material for forming the antireflection layer is an ultraviolet-curable
Resin such as acrylic resin, colloidal silica in resin
A hybrid system in which inorganic fine particles such as
R) ThreeAnd Si (OR)FourOr RTi (OR)ThreeAnd Ti
(OR)Four(Where R is a lower alkyl group having 10 or less carbon atoms)
Show. ) Such as alkyl trialkoxysilanes and tetra
Alkoxysilane or alkyl titanium tetraalco
Metal alkoxy such as oxide and titanium tetraalkoxide
And a sol-gel system using a metal. However, anti-reflective
The refractive index of the material forming the stop layer is higher than that of the anti-glare layer.
Use a smaller one.

【0019】また、それぞれ上述したような反射防止層
を形成する材料は、表面の防汚染性付与としてフッ素基
含有成分を含んだものを選択することができる。耐擦傷
性の面からは、無機成分含有量が多いものの方が優れる
傾向にあり、このうちでもゾル−ゲル系材料が好まし
い。なお、金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル系と
は、例えば上述したようなシリコンの低級アルコキシド
類やチタンの低級アルコキシド類(いずれも好ましくは
フッ素基含有アルコキシド類)など金属アルコキシドを
用いて、加水分解、熱処理により、ゲル化して透明なガ
ラス層を形成するものであり、このようなアルコキシド
の分散媒としては水および/またはメタノ−ル、エタノ
−ル等の低級アルコ−ル等が用いられ、必要に応じて用
いられる加水分解用触媒としては、塩酸やアンモニア等
の酸又はアルカリが用いられる。金属アルコキシドゾル
をゲル化させる場合、加水分解用触媒を添加し、加水分
解して、熱処理するのが一般的である。
As the material for forming the antireflection layer as described above, a material containing a fluorine group-containing component for imparting surface antifouling properties can be selected. From the viewpoint of scratch resistance, those having a large content of inorganic components tend to be more excellent, and among them, sol-gel materials are preferable. The sol-gel system using a metal alkoxide is, for example, a metal alkoxide such as a lower alkoxide of silicon or a lower alkoxide of titanium (preferably alkoxides containing a fluorine group) as described above. And a gel formed by heat treatment to form a transparent glass layer. As a dispersion medium of such an alkoxide, water and / or a lower alcohol such as methanol or ethanol is used. An acid or alkali such as hydrochloric acid or ammonia is used as the hydrolysis catalyst used in accordance with the above. When gelling a metal alkoxide sol, it is common to add a hydrolysis catalyst, hydrolyze and heat treat.

【0020】しかして、一般的には反射防止層の屈折率
は低いほど好ましく、しかもその下層との屈折率差が大
きいほど反射防止効果は大きくなる。本発明において好
適な反射防止効果を得るためには、反射防止層の屈折率
が防眩層である微細凹凸構造の屈折率の平方根になるよ
うな材料がよい。しかし、実際には、このような屈折率
の材料を見いだすのは、既に知られているように一般的
には困難で、限りなく近い材料を選択することになる。
一方、反射防止層の厚みは、利用する材料の屈折率およ
び入射光の設計波長により決定され、例えは基材の屈折
率n1が1.51、反射防止層の屈折率n2が1.38、
反射防止層への入射光の設計波長を550nmとする
と、反射防止層の目標厚みは約0.1μmと計算され
る。
In general, however, the lower the refractive index of the antireflection layer, the better, and the greater the difference in refractive index between the antireflection layer and the lower layer, the greater the antireflection effect. In order to obtain a suitable antireflection effect in the present invention, a material whose refractive index of the antireflection layer is the square root of the refractive index of the fine uneven structure which is the antiglare layer is preferable. However, in practice, finding a material having such a refractive index is generally difficult, as already known, and results in selecting a material that is as close as possible.
On the other hand, the thickness of the antireflection layer is determined by the design wavelength of the refractive index and incident light of Use material, for example a refractive index n 1 is 1.51 of the substrate, the refractive index n 2 of the antireflection layer 1. 38,
Assuming that the design wavelength of the light incident on the anti-reflection layer is 550 nm, the target thickness of the anti-reflection layer is calculated to be about 0.1 μm.

【0021】すなわち、具体的には、次式で反射防止層
の目標厚みが計算できる。
That is, specifically, the target thickness of the antireflection layer can be calculated by the following equation.

【0022】[0022]

【数1】d=(1/n2)×(λ/4) 但し、dは反射防止層の目標厚み(μm)、λは入射光
の設計波長(μm)、n 2は反射防止層の屈折率を示
し、基材(下地)の屈折率n1>n2の場合である。
## EQU1 ## d = (1 / n)Two) × (λ / 4) where d is the target thickness of the antireflection layer (μm), and λ is the incident light
Design wavelength (μm), n TwoIndicates the refractive index of the antireflection layer
And the refractive index n of the substrate (base)1> nTwoIs the case.

【0023】反射防止層は、適宜な方式にて防眩層であ
る微細凹凸面に形成することができるが、反射防止層形
成用塗布液を塗布処理する方法で形成することが好まし
い。例えば、ドクターブレード法やグラビアロールコー
ター法、ディッピング法等の適宜な方式にて形成するこ
とができる。
The anti-reflection layer can be formed on the fine uneven surface as an anti-glare layer by an appropriate method, but is preferably formed by applying a coating solution for forming an anti-reflection layer. For example, it can be formed by an appropriate method such as a doctor blade method, a gravure roll coater method, or a dipping method.

【0024】なお、表示面の必要な耐擦傷性、耐摩耗性
を維持するには、反射防止層の表面硬度が1.0GPa
以上であることが必要である。表面硬度が1.0GPa
以上であれば、一応の評価基準であるスチールウールに
よる荷重250gでの耐擦傷性試験に耐えることができ
る。
In order to maintain the required abrasion resistance and abrasion resistance of the display surface, the surface hardness of the antireflection layer must be 1.0 GPa.
It is necessary to be above. Surface hardness is 1.0 GPa
If it is above, it can withstand the abrasion resistance test at a load of 250 g with steel wool, which is a temporary evaluation standard.

【0025】更に本発明においては、防眩層と反射防止
層の表面硬度比が1以上(すなわち、防眩層表面硬度/
反射防止層表面硬度≧1)であることが好ましい。下層
(この場合は防眩層)と上層(この場合は反射防止層)
との硬度の差が、最表面の耐擦傷性、耐摩耗性に大きく
影響を与える。例えば、2層の積層体があった場合、上
層が硬く、下層が柔らかい状態で上から力を加えた場
合、下層が沈み込み、それに伴って上層にストレスが発
生する。この際、上層が硬くて、薄い場合はクラックが
発生することになる。極端な例を挙げて説明するなら
ば、柔軟なゴムシートの上にガラスの薄板を置いて、ガ
ラス薄板の上から力を加えるとガラス薄板は割れてしま
う。従って少なくとも下層の硬度は上層の硬度と同等か
それ以上であることが好ましいのである。
Furthermore, in the present invention, the surface hardness ratio of the antiglare layer and the antireflection layer is 1 or more (that is, the surface hardness of the antiglare layer /
It is preferable that the surface hardness of the antireflection layer ≧ 1). Lower layer (in this case, an antiglare layer) and upper layer (in this case, an antireflection layer)
The hardness difference greatly affects the abrasion resistance and abrasion resistance of the outermost surface. For example, when there is a two-layer laminate, when a force is applied from above while the upper layer is hard and the lower layer is soft, the lower layer sinks, and accordingly, stress is generated in the upper layer. At this time, if the upper layer is hard and thin, cracks occur. As an extreme example, when a thin glass sheet is placed on a flexible rubber sheet and a force is applied from above the thin glass sheet, the thin glass sheet is broken. Therefore, it is preferable that at least the hardness of the lower layer is equal to or higher than the hardness of the upper layer.

【0026】かくして得られた本発明の反射防止フィル
ムは、通常、偏光板に積層ないし合体させて反射防止フ
ィルムを有する偏光板とすることが出きる。偏光板は適
宜なものを用いることができるが、その種類について特
に限定はない。偏光板を構成する偏光子としては、例え
ば、ポリビニルアルコール系フィルムや部分ホルマール
化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体系部分ケン化フィルムの如き親水性高分子
フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着
させて延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理
物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如きポリエン系配
向フイルム等の偏光フィルムがあげられる。偏光フイル
ムの厚さは、5〜80μmが一般的であるが、これに限
定されない。
The thus obtained antireflection film of the present invention can be usually laminated or combined with a polarizing plate to obtain a polarizing plate having an antireflection film. Although an appropriate polarizing plate can be used, the type thereof is not particularly limited. As a polarizer constituting the polarizing plate, for example, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol-based film, a partially formalized polyvinyl alcohol-based film, an ethylene-vinyl acetate copolymer-based partially saponified film, iodine or dichroic A polarizing film such as a film obtained by adsorbing a dichroic substance such as a dye and stretching it, or a polyene-based oriented film such as a dehydrated polyvinyl alcohol or a dehydrochlorinated polyvinyl chloride. The thickness of the polarizing film is generally from 5 to 80 μm, but is not limited thereto.

【0027】また偏光板としては、偏光子単独からなる
偏光板を用いることもできるが、偏光板としては、通常
は前記した偏光子(偏光フィルム)の片面又は両面に耐
水性等の保護目的で、ポリマーの塗布層やフィルムのラ
ミネート層等からなる透明保護層を設けたものなどが好
適に用いられる。透明保護層の形成には、透明ポリマー
などの適宜なものを用いうるが、透明性や機械的強度、
熱安定性や水分遮断性などに優れるものが好ましく用い
うる。また透明保護層は、位相差等の光学的異方性が少
ないほど好ましい場合が多い。透明保護層の厚さは、1
0〜300μmが一般的であるが、これに限定されな
い。なお、上記偏光板の透明保護層が、本発明の反射防
止フィルムの透明基材フィルムを兼ねることができるこ
とは上記した通りである。
As the polarizing plate, a polarizing plate consisting of a polarizer alone can be used. However, the polarizing plate is usually provided on one or both sides of the above-mentioned polarizer (polarizing film) for the purpose of protection such as water resistance. Those provided with a transparent protective layer composed of a coating layer of a polymer, a laminate layer of a film, and the like are preferably used. For the formation of the transparent protective layer, an appropriate material such as a transparent polymer can be used, but transparency and mechanical strength,
Those having excellent heat stability and moisture barrier properties can be preferably used. In many cases, the transparent protective layer is preferably as small as possible in optical anisotropy such as retardation. The thickness of the transparent protective layer is 1
The thickness is generally from 0 to 300 μm, but is not limited to this. As described above, the transparent protective layer of the polarizing plate can also serve as the transparent base film of the antireflection film of the present invention.

【0028】ちなみに、前記の透明保護層を形成するポ
リマーとしては、例えばポリエチレンテレフタレートや
ポリエチレンナフタレートの如きポリエステル系ポリマ
ー、二酢酸セルロースや三酢酸セルロースの如きセルロ
ース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート(PMM
A)の如きアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリ
ロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)の如きスチ
レン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどがあ
げられる。
As the polymer forming the transparent protective layer, for example, polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulosic polymers such as cellulose diacetate and cellulose triacetate, and polymethyl methacrylate (PMM)
Acrylic polymers such as A), styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymer (AS resin), and polycarbonate polymers are exemplified.

【0029】また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シ
クロ環ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィ
ン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィ
ン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香
族ポリアミドの如きアミド系ポリマー、ポリイミドの如
きイミド系ポリマー、ポリスルホンの如きスルホン系ポ
リマー、その他、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポ
リエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレン
スルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、
塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマ
ー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリ
マー、エポキシ系ポリマー、あるいは前記ポリマーのブ
レンド物なども前記透明保護層を形成するポリマーの例
としてあげられる。
Also, polyolefin polymers such as polyethylene, polypropylene, polyolefin having a cyclocyclic or norbornene structure, polyolefin polymers such as ethylene-propylene copolymer, vinyl chloride polymers, amide polymers such as nylon and aromatic polyamide, and imides such as polyimide Polymer, sulfone polymer such as polysulfone, other polyether sulfone polymer, polyether ether ketone polymer, polyphenylene sulfide polymer, vinyl alcohol polymer,
Vinylidene chloride-based polymers, vinyl butyral-based polymers, arylate-based polymers, polyoxymethylene-based polymers, epoxy-based polymers, and blends of the above-mentioned polymers are also examples of the polymer forming the transparent protective layer.

【0030】本発明の反射防止フィルムは偏光板に積層
してもよいし、前述したように偏光板が透明保護層を有
する場合には、その透明保護層を本発明の反射防止フィ
ルムの透明基材フィルムとして兼用して低反射偏光板と
してもよい。積層方法は特に限定されないが、例えば接
着剤等を介して積層してもよい。また、偏光板の片面に
設けてもよいし、両面に設けてもよい。
The antireflection film of the present invention may be laminated on a polarizing plate. When the polarizing plate has a transparent protective layer as described above, the transparent protective layer is formed on the transparent base of the antireflection film of the present invention. The low reflection polarizing plate may be used also as a material film. Although the lamination method is not particularly limited, for example, the lamination may be performed via an adhesive or the like. Further, it may be provided on one side of the polarizing plate or on both sides.

【0031】偏光板には、必要に応じて接着層を設ける
こともできる。かかる接着層は、偏光板を液晶セル等の
他部材と接着することを目的とするものである。接着層
は、例えばアクリル系、ゴム系、シリコーン系等の粘着
剤やホットメルト系接着剤などの適宜な接着剤にて形成
することができ、透明性や耐候性等に優れるものが好ま
しい。
The polarizing plate may be provided with an adhesive layer if necessary. The purpose of this adhesive layer is to adhere the polarizing plate to another member such as a liquid crystal cell. The adhesive layer can be formed of an appropriate adhesive such as an acrylic, rubber, or silicone adhesive or a hot-melt adhesive, and preferably has excellent transparency and weather resistance.

【0032】本発明による偏光板は、必要に応じ、更
に、反射層、半透過反射層、位相差板から選ばれる光学
機能層を多層構造からなる該偏光板の層間及び/又は表
面に、少なくとも一層、介在及び又は付与積層して、表
示装置等の各種用途に用いうる。さらに必要に応じて、
耐擦傷性、耐久性、耐候性、耐湿熱性、耐熱性、耐湿
性、透湿性、帯電防止性、導電性、層間の密着性向上、
機械的強度向上等の各種特性、機能等を付与するための
処理、又は機能層の挿入、積層等をおこなうことも可能
である。多層構造からなる偏光板の層間へ、例えばハー
ドコート層、プライマー層、接着剤層、粘着剤層、帯電
防止層、導電層、ガスバリヤー層、水蒸気遮断層、水分
遮断層等を挿入するか、又は、偏光板表面へこれらの層
を積層しても良い。また。偏光板の各層を作成する段階
で例えば、導電性粒子あるいは帯電防止剤、各種微粒
子、可塑剤等を、各層に添加、混合等の改良を必要に応
じておこなっても良い。
The polarizing plate according to the present invention may further comprise, if necessary, an optical functional layer selected from a reflective layer, a transflective layer and a retardation plate at least on the interlayer and / or the surface of the polarizing plate having a multilayer structure. It can be used for various applications such as a display device by being interposed and / or provided and laminated. If necessary,
Scratch resistance, durability, weather resistance, heat and humidity resistance, heat resistance, moisture resistance, moisture permeability, antistatic properties, conductivity, improved adhesion between layers,
It is also possible to perform processing for imparting various properties and functions such as improvement in mechanical strength, or insertion and lamination of a functional layer. Between the layers of the polarizing plate having a multilayer structure, for example, a hard coat layer, a primer layer, an adhesive layer, an adhesive layer, an antistatic layer, a conductive layer, a gas barrier layer, a water vapor blocking layer, a moisture blocking layer, or the like, Alternatively, these layers may be laminated on the polarizing plate surface. Also. At the stage of forming each layer of the polarizing plate, for example, conductive particles or an antistatic agent, various fine particles, a plasticizer, and the like may be added to each layer, and the mixing and the like may be improved as necessary.

【0033】図1に透明基材フィルム上に防眩層と反射
防止層が設けられている本発明の反射防止フィルムの一
例の断面模式図を示した。図1において、3が透明基材
フィルム、4が微粒子で2は前記微粒子を含有する微細
凹凸層すなわち防眩層であり、1は表面硬度が1.0G
Pa以上の反射防止層である。また、図2は本発明の反
射防止フィルムが偏光板の上に積層された反射防止フィ
ルムを有する低反射偏光板の一例の断面模式図であり、
図2において、6が偏光子であり偏光子6の上下の面
に、透明保護層5が設けられている。この態様において
は、偏光子6の上面側に設けられた透明保護層5が図1
で示した反射防止フィルムの透明基材フィルム3を兼ね
ている態様である。4が微粒子で2は前記微粒子を含有
する微細凹凸層すなわち防眩層であり、1は表面硬度が
1.0GPa以上の反射防止層である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of the antireflection film of the present invention in which an antiglare layer and an antireflection layer are provided on a transparent base film. In FIG. 1, reference numeral 3 denotes a transparent base film, 4 denotes fine particles, 2 denotes a fine uneven layer containing the fine particles, that is, an antiglare layer, and 1 denotes a surface hardness of 1.0 G
It is an antireflection layer of Pa or more. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of a low-reflection polarizing plate having an anti-reflection film in which the anti-reflection film of the present invention is laminated on a polarizing plate;
In FIG. 2, reference numeral 6 denotes a polarizer, and a transparent protective layer 5 is provided on upper and lower surfaces of the polarizer 6. In this embodiment, the transparent protective layer 5 provided on the upper surface side of the polarizer 6 is formed as shown in FIG.
In this embodiment, the transparent base film 3 also serves as the antireflection film shown in FIG. Reference numeral 4 denotes fine particles, 2 denotes a fine uneven layer containing the fine particles, that is, an antiglare layer, and 1 denotes an antireflection layer having a surface hardness of 1.0 GPa or more.

【0034】[0034]

【実施例】[実施例1]ウレタンアクリレート系紫外線
硬化型樹脂100部(以下に記載した部数は重量部を示
す)、平均粒径1.3μmのシリカ微粒子15部、紫外
線重合開始剤5部を、溶媒としてのトルエンとともに混
合し、固形分濃度50重量%の防眩層形成用塗布液を調
製した。厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィル
ムの片面に、バーコーターで該防眩層形成用塗布液を塗
工し、溶剤乾燥後、紫外線照射して硬化処理し、表面微
細凹凸構造の防眩層を有するトリアセチルセルロースフ
ィルムを得た。この上に、固形成分約1重量%のフッ素
基含有のメチルトリメトキシシランよりなる塗布液を、
乾燥・硬化時に平均厚み約100nmになるよう塗布し
反射防止膜を得た。この時の乾燥・硬化条件は90℃、
50hとした。
[Example 1] 100 parts of a urethane acrylate-based UV-curable resin (parts shown below are parts by weight), 15 parts of silica fine particles having an average particle diameter of 1.3 µm, and 5 parts of an ultraviolet polymerization initiator The mixture was mixed with toluene as a solvent to prepare a coating solution for forming an antiglare layer having a solid content of 50% by weight. On one side of a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, the coating solution for forming an antiglare layer is applied by a bar coater, dried with a solvent, and cured by irradiating ultraviolet rays to have an antiglare layer having a fine surface unevenness structure. A triacetyl cellulose film was obtained. On top of this, a coating solution composed of about 1% by weight of a solid component of a fluorine group-containing methyltrimethoxysilane,
The coating was applied to an average thickness of about 100 nm during drying and curing to obtain an antireflection film. The drying and curing conditions at this time are 90 ° C,
50 hours.

【0035】[実施例2]ウレタンアクリレート系紫外
線硬化型衡脂100部、平均粒径2.5μmのシリカ微
粒子5部、紫外線重合開始剤5部を、溶媒としてのトル
エンとともに混合し、固形分濃度50重量%の反射防止
層形成用塗布液を調製した。厚さ80μmのトリアセチ
ルセルロースフィルムの片面に、バーコーターで該防眩
層形成用塗布液を塗工し、溶剤乾燥後、紫外線照射して
硬化処理し、表面微細凹凸構造の防眩層を有するトリア
セチルセルロースフィルムを得た。この上に、固形成分
約1重量%のフッ素基含有のメチルトリメトキシシラン
よりなる塗布液を、乾燥・硬化時に平均厚み約100n
mになるよう塗布し反射防止膜を得た。この時の乾燥・
硬化条件は90℃、50hとした。
Example 2 100 parts of a urethane acrylate-based UV-curable resin, 5 parts of silica fine particles having an average particle size of 2.5 μm, and 5 parts of an ultraviolet polymerization initiator were mixed together with toluene as a solvent, and the solid content was adjusted. A 50% by weight coating solution for forming an antireflection layer was prepared. On one side of a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, the coating solution for forming an antiglare layer is applied by a bar coater, dried with a solvent, and cured by irradiating ultraviolet rays to have an antiglare layer having a fine surface unevenness structure. A triacetyl cellulose film was obtained. On top of this, a coating solution consisting of a fluorine-containing methyltrimethoxysilane of about 1% by weight of a solid component is dried and cured to have an average thickness of about 100 n.
m to obtain an antireflection film. Drying at this time
The curing conditions were 90 ° C. and 50 hours.

【0036】[実施例3]ウレタンアクリレート系紫外
線醒化型樹脂100部(以下に記載した部数は重量部を
示す)、平均粒径1.3μmのシリカ微粒子15部、紫
外線重合開始剤1部を、溶媒としてのトルエンとともに
混合し、固形分濃度50重量%の防眩層形成用塗布液を
調製した。厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィ
ルムの片面に、バーコーターで該防眩層形成用塗布液を
塗工し、溶剤乾燥後、紫外線照射して硬化処理し、表面
微細凹凸構造の防眩層を有するトリアセチルセルロース
フィルムを得た。この上に、固形成分約1重量%のフッ
素基含有のメチルトリメトキシシランよりなる塗布液
を、乾燥・硬化時に平均厚み約100nmになるよう塗
布し反射防止膜を得た。この時の乾燥・硬化条件は90
℃、50hとした。
Example 3 100 parts of a urethane acrylate-based ultraviolet lightening type resin (parts indicated below are parts by weight), 15 parts of silica fine particles having an average particle diameter of 1.3 μm, and 1 part of an ultraviolet polymerization initiator The mixture was mixed with toluene as a solvent to prepare a coating solution for forming an antiglare layer having a solid content of 50% by weight. On one side of a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, the coating solution for forming an antiglare layer is applied by a bar coater, dried with a solvent, and cured by irradiating ultraviolet rays to have an antiglare layer having a fine surface unevenness structure. A triacetyl cellulose film was obtained. On top of this, a coating solution consisting of fluorine-containing methyltrimethoxysilane having a solid content of about 1% by weight was applied so as to have an average thickness of about 100 nm upon drying and curing to obtain an antireflection film. The drying and curing conditions at this time are 90
° C and 50 hours.

【0037】[比較例1]実施例1と同様の作業をおこ
ない、反射防止層を形成した。この時の乾燥・硬化条件
を60℃、50hとした。
Comparative Example 1 The same operation as in Example 1 was performed to form an antireflection layer. The drying and curing conditions at this time were 60 ° C. and 50 hours.

【0038】[比較例2]実施例2と同様の作業をおこ
ない、反射防止層を形成した。この時の乾燥・硬化条件
を60℃、50hとした。
Comparative Example 2 The same operation as in Example 2 was performed to form an antireflection layer. The drying and curing conditions at this time were 60 ° C. and 50 hours.

【0039】上記の実施例、比較例で得られた各種測定
値、評価結果等は以下表1に示す。 (鏡面反射率:Y値)島津製作所製分光光度計“MPS
−2000”を用い、JISZ8701の2度視野XY
Z系により視感度補正(400〜700nm)し、鏡面
反射率Y値を測定。 (表面硬度)日本電気株式会社製の薄膜物性評価装置
“MHA−400”を用いた硬度測定方法(測定試料に
対して垂直方向から圧子を押し込む測定方法)で得られ
る押し込み硬度を示す。
Table 1 below shows various measured values, evaluation results, and the like obtained in the above Examples and Comparative Examples. (Specular reflectance: Y value) Spectrophotometer “MPS manufactured by Shimadzu Corporation”
-2000 ", JISZ8701 2 degree field of view XY
The visibility is corrected (400 to 700 nm) by the Z system, and the specular reflectance Y value is measured. (Surface hardness) The indentation hardness obtained by a hardness measurement method using a thin film physical property evaluation apparatus “MHA-400” manufactured by NEC Corporation (a measurement method in which an indenter is pressed into a measurement sample in a perpendicular direction) is shown.

【0040】具体的な測定方法は、対稜角80°の三角
錐ダイヤモンド圧子を、測定試料に対し、押し込み速度
10.5nm/secで測定し、最表面から約50nm
における硬度を求めた。 (スチールウール試験)#0000にて規定されるスチ
ールウールを用い、250gの荷重をかけ、10往復さ
せた後の状態を目視により判定した。
A specific measuring method is as follows. A triangular pyramid diamond indenter having a diagonal angle of 80 ° is measured with respect to a measurement sample at an indentation speed of 10.5 nm / sec.
Was determined. (Steel wool test) Using steel wool specified in # 0000, a load of 250 g was applied, and the state after 10 reciprocations was visually determined.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明により、表示品位が良好で、なお
かつ表面硬度が高くて耐擦傷性に優れた反射防止フィル
ムおよびそれを具備した偏光板を得ることができる。加
えて、真空蒸着法等の形成方法に比べると、非常に簡易
な方法である湿式塗工法により反射防止層を形成するこ
とができる。
According to the present invention, an antireflection film having good display quality, high surface hardness and excellent scratch resistance, and a polarizing plate having the same can be obtained. In addition, the antireflection layer can be formed by a wet coating method, which is a very simple method as compared with a forming method such as a vacuum deposition method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の反射防止フィルムの一例の断面模式
図。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of the antireflection film of the present invention.

【図2】本発明の反射防止フィルムが形成された低反射
偏光板の一例の断面模式図。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of a low-reflection polarizing plate on which the antireflection film of the present invention is formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:反射防止層 2:微細凹凸層(防眩層) 3:透明基材フィルム 4:微粒子 5:透明保護層 6:偏光子 1: Anti-reflection layer 2: Fine uneven layer (anti-glare layer) 3: Transparent substrate film 4: Fine particles 5: Transparent protective layer 6: Polarizer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H042 BA02 BA03 BA12 BA13 BA15 BA20 2H049 BA02 BB65 BC22 2K009 AA02 AA12 BB28 CC03 CC09 CC24 CC42 CC45 DD02 DD12 DD15 4F100 AA20 AJ06 AK51 AK52 AR00A AR00B AR00C BA04 BA05 BA07 BA10A DE01 GB90 JK07 JK09 JK12 JK12C JN01A JN06A JN06C JN10 JN30B YY00A YY00B YY00C ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F-term (reference) 2H042 BA02 BA03 BA12 BA13 BA15 BA20 2H049 BA02 BB65 BC22 2K009 AA02 AA12 BB28 CC03 CC09 CC24 CC42 CC45 DD02 DD12 DD15 4F100 AA20 AJ06 AK51 AK52 AR00A AR00B AR00C BA04 BA05 BA05 JK09 JK12 JK12C JN01A JN06A JN06C JN10 JN30B YY00A YY00B YY00C

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基材フィルム上に設けた防眩層の上
に反射防止層を設け、その反射防止層の表面硬度が1.
0GPa以上であることを特徴とする反射防止フィル
ム。
1. An antireflection layer is provided on an antiglare layer provided on a transparent substrate film, and the surface hardness of the antireflection layer is 1.
An antireflection film, which is 0 GPa or more.
【請求項2】 防眩層と反射防止層の表面硬度比が1以
上である請求項1に記載の反射防止フィルム。
2. The anti-reflection film according to claim 1, wherein the surface hardness ratio between the anti-glare layer and the anti-reflection layer is 1 or more.
【請求項3】 請求項1または2のいずれかに記載の反
射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
3. A polarizing plate comprising the antireflection film according to claim 1.
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