JP2001028195A - 遅延回路および半導体メモリ - Google Patents

遅延回路および半導体メモリ

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JP2001028195A
JP2001028195A JP20011699A JP20011699A JP2001028195A JP 2001028195 A JP2001028195 A JP 2001028195A JP 20011699 A JP20011699 A JP 20011699A JP 20011699 A JP20011699 A JP 20011699A JP 2001028195 A JP2001028195 A JP 2001028195A
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Yoichi Nishida
要一 西田
Tomonori Kataoka
知典 片岡
Ikuo Fuchigami
郁雄 渕上
Tomoo Kimura
智生 木村
Masaru Kawai
賢 河合
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定して遅延値を得るために遅延回路を提供
することと、この遅延回路を用いて安定動作を行うこと
ができる半導体メモリを提供することを目的とする。 【解決手段】 入力信号を遅延させ出力する論理ゲート
と、論理ゲート出力を整流し出力するバッファとからな
る遅延セル61〜64と、論理ゲートの出力ノードを充
電するための電流を生成する第1の基準電流源と、論理
ゲートの出力ノードを放電するための電流を生成する第
2の基準電流源からなる基準電流源セル5とを備え、前
記論理ゲートは前記基準電流生成部から生成される電流
をミラーした電流により出力ノードを充放電することに
より遅延セルにおける遅延値を制御する遅延回路と、こ
の遅延回路を用いて内部タイミング信号を生成する半導
体メモリ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は遅延回路に関するも
のであり、特に半導体メモリにおける高精度タイミング
信号を生成するための遅延回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体メモリにおいては、リード
などの動作を行うために外部からクロックなどのトリガ
ー信号やアドレスや制御信号などを入力して行う。しか
し、実際のメモリ内部ではデコーダやセンスアンプなど
の内部の回路を動作させるため、トリガー信号をもとに
遅延回路を用いて内部のタイミング信号を生成して動作
を行うものがある。例えば、不揮発性メモリである内蔵
型のフラッシュメモリでは入力信号を削減するためにト
リガー信号から遅延回路を用いて内部のタイミング信号
を生成する。図16にそのフラッシュメモリの概略図を
示す。
【0003】図16において1011〜10mnはフロ
ーティングゲートを有するMOS型メモリセルで、この
メモリセルが格子状に接続されている。全てのメモリセ
ルのソースはVsに接続され、ドレインはカラムゲート
であるNチャネルトランジスタ111〜11nのソース
に接続される。メモリセルのコントロールゲートおよび
カラムゲートであるNチャネルトランジスタのゲートは
アドレスデコード手段2に接続される。更に、カラムゲ
ートのドレインは電流検出手段3に接続されている。ま
た、クロックを入力しこのフラッシュメモリをアクセス
するタイミング信号を生成するタイミング生成手段4が
あり、このタイミング生成手段4で生成されるタイミン
グ信号は、アドレスデコード手段2、電流検出手段3に
入力される。また、アドレス生成手段2にはアドレスが
入力される。
【0004】上記した構成のフラッシュメモリにおい
て、例えばリード動作は、アドレスデコード手段2にア
ドレスが入力され、そのアドレスをもとにアドレスデコ
ード手段2により選択されるメモリセルに流れる電流を
電流検出手段3で検出し、その結果を出力することによ
り行われる。このリード動作の際にタイミング生成手段
4から出力されるタイミング信号について図15を用い
て説明する。一般にフラッシュメモリでは、センスアン
プイネーブル信号(SAE)、ビット線プリチャージ信
号(PRC)、データラッチ信号(DL)の内部信号に
よって制御される。また、クロックは動作の起点となる
トリガー信号でDoutは出力端子より出力されるデー
タ出力を示している。全ての内部信号はクロックの立ち
上がりエッジと、クロックを遅延させたDLY1、2と
を利用して生成される。SAEはクロックとDLY2、
PRCはクロックとDLY1、DLはDLY1とDLY
2からそれぞれ生成される。SAEのHIGH期間で電
流検出手段3が活性化される。PRCのHIGH期間で
選択されたビット線やワード線のプリチャージが行われ
る。SAEがHIGH期間かつPRCがLOW期間でプ
リチャージが終了し選択されたメモリセルのセル電流を
電流検出手段3で検出する。DLはLOW期間で電流検
出手段3から出力されるデータを出力端子にスルーで出
力し、HIGH期間で出力データを保持する。以上のよ
うな内部動作を繰り返すことにより、読み出し結果であ
るDoutが出力端子から順次出力される。
【0005】上記した通りフラッシュメモリのリード動
作は行われ、内部タイミング信号は、クロックを基に遅
延回路を用いて生成される。一般に用いられる遅延回路
について図14を用いて説明する。図14においてPチ
ャネルトランジスタとNチャネルトランジスタの直列接
続で構成されるインバータと、そのインバータが2つ直
列に接続されたバッファ61〜6nとがあり、そのバッ
ファ61〜6nを複数個直列接続して遅延回路を構成し
ている。上記した構成の遅延回路において、入力信号は
バッファ61に入力される。バッファ61の出力は2つ
のインバータを介して出力するためゲートの伝播遅延に
より入力信号を遅延させる。さらに、バッファ61〜6
nを複数個直列に接続することにより、より大きく遅延
した出力信号を生成する。
【0006】また、特開平7−28553に遅延量を調
整する遅延量調整回路を用いてクロックを生成する技術
が開示されている。この技術は、定電流源とキャパシタ
から成る遅延量制御回路でキャパシタの充放電時間を制
御し、それにより遅延回路のスイッチの開閉を調整して
遅延値を制御するものであり、キャパシタを含む遅延量
制御回路が別途必要となる。更に、ノンオーバーラップ
信号を生成するクロック発生回路に限定している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】CMOSロジックのス
ピードは年々高速化が進み、ゲートの遅延時間は1ns
を大きく下回る極めて小さいものとなっている。よっ
て、大きな遅延を発生するためには多くのゲートを直列
に接続する必要がある。しかしながら、一般にゲートの
遅延時間は高電圧時には短くなり、低電圧時には長くな
り、電源電圧により大きくばらつき、遅延時間のばらつ
きはそれぞれのゲートで発生するため、最終段での遅延
誤差はゲートの遅延時間の和となるため絶対的に大きく
なる傾向にある。一方、不揮発性半導体メモリをはじめ
とする従来の半導体メモリにおいても年々リード動作の
高速化が進んでいる。しかし、メモリ自体の高速化はな
かなか進まないため、リード動作におけるタイミングマ
ージンは小さくなっている。従来では、内部信号を生成
するためにインバータなどのゲートチェーンにより構成
される遅延回路を用いている。例えば、図15に示すタ
イミングで動作するフラッシュメモリにおいて、クロッ
クサイクルを50ns、SAEのHIGH期間を40n
sとすると、SAEの立ち下がりはクロックの立ち上が
りを40ns遅延させた信号から生成しなければならな
い。例えば、遅延時間が短くなると、プリチャージ期間
やセンス期間が短縮され、アドレスデコード手段や電流
検出手段の内部動作が間に合わず正常に動作しないとい
った問題が起こる。一方、遅延時間が長くなると、セン
ス動作終了が次のアクセスサイクルにかかることになり
正常動作しないといった問題が起こる。つまり各動作期
間が安定せず正常に動作しなくなるといった問題があ
る。
【0008】本発明はこれらの問題点を解消するもの
で、安定して遅延値を得るための遅延回路を提供するこ
とと、この遅延回路を用いて安定動作を行うことができ
る半導体メモリを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の遅延回路は、入力信号を遅延させ出力する
論理ゲートからなる遅延セルと、前記遅延セルに接続さ
れ、前記論理ゲートの出力ノードを充電するための第1
の電流を生成する第1の基準電流源と、前記論理ゲート
の出力ノードを放電するための第2の電流を生成する第
2の基準電流源からなる基準電流生成部とを備え、前記
入力信号の変化に応じて前記論理ゲートは前記第1の電
流と前記第2の電流で前記出力ノードを充放電すること
により前記遅延セルにおける遅延値を制御するものであ
る。
【0010】また、本発明の遅延回路は、前記遅延セル
と前記基準電流生成部はカレントミラー接続されている
構成となっている。
【0011】また、本発明の遅延回路は、前記遅延セル
は前記論理ゲート出力を整流し出力するバッファを備え
た構成、または前記論理ゲートの出力の立ち上がり立ち
下がりを鈍化させるための容量性負荷を備えた構成とな
っている。
【0012】また、本発明の遅延回路は、前記第1の基
準電流源の電流値と、前記第2の基準電流源の電流値を
それぞれ異ならせることにより、入力信号と異なるデュ
ーティ比の出力信号を得ることを特徴とする。
【0013】また、本発明の遅延回路は、前記第1の基
準電流源の電流値、または前記第2の基準電流源の電流
値を制御信号により可変とするか、または前記第1の電
流の電流値、または前記第2の電流の電流値を制御信号
により可変としたものである。
【0014】また、本発明の遅延回路は、複数の前記遅
延セルからなり、前記遅延セルは直列接続したものであ
る。さらに、直列接続された複数ある前記遅延セルの出
力ノードのうち、少なくとも1つの前記出力ノードの出
力を出力する出力手段を備えたものである。
【0015】また、本発明の半導体メモリは、前記遅延
回路を有するタイミング生成手段を備えたものである。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
【0017】(実施の形態1)図1は図16のタイミン
グ生成手段4における本実施の形態1による遅延回路の
構成を示す図である。図1において図14と同一符号は
同一または相当部分である。
【0018】基準電流を生成する基準電流源セル5で
は、第1の基準電流Irefを生成する電流源71と、
NチャネルトランジスタMNref(以下、MNre
f)のドレインは接続され、ソースは接地されていて、
MNrefのゲートとドレインは短絡している。第2の
基準電流Irefを生成する電流源72と、Pチャネル
トランジスタMPref(以下、MPref)のドレイ
ンは接続され、ソースは電源(VDD)に接続されてい
て、MPrefのゲートとドレインは短絡している。こ
れらからなる2つの基準電流源を基準電流源セル5とす
る。
【0019】また、遅延セル61〜64はそれぞれ遅延
セルの入力と出力を直列接続していて、それぞれの出力
ノードをノードN61〜64としている。それぞれの遅
延セルのNチャネルトランジスタMN1(以下、MN
1)のドレインはNチャネルトランジスタMN2(以
下、MN2)のソースと接続し、MN2のドレインはノ
ードN1と接続され、PチャネルトランジスタMP1
(以下、MP1)のドレインはPチャネルトランジスタ
MP2(以下、MP2)のソースと接続し、MP2のド
レインはノードN1と接続されている。また、ソースが
接地されたNチャネルトランジスタMN3(以下、MN
3)とソースが電源に接続されたPチャネルトランジス
タMP3(以下、MP3)とがあり、それぞれのドレイ
ンとゲートは接続されインバータを構成している。この
MN3,MP3からなるインバータの入力がノードN
1、出力が遅延セルの出力となっている。更に、各遅延
セルのMN2とMP2のゲートはそれぞれMNrefの
ゲートとMPrefのゲートに接続され、それぞれカレ
ントミラーを構成している。なお、MN1とMP1のト
ランジスタサイズは、ノードN1の充放電電流に影響を
与えないよう、MN2、MP2と比較してON抵抗の小
さい十分駆動能力のあるサイズに設定する。また、遅延
セル62、64の出力であるノードN62、64をそれ
ぞれ出力バッファ92、94を介して遅延信号DLY
1、2として出力している。
【0020】以上のように構成された遅延回路およびフ
ラッシュメモリの動作について説明する。まず、電流源
71、72に流れる基準電流は同じ電流値である。ま
た、MNref、MPrefは、遅延セル61〜64の
MN2、MP2とカレントミラー接続しているため、各
MN2、MP2は基準電流Irefが流れるようゲート
電圧が調整される。また、遅延セル61〜64のMN1
とMP1のトランジスタサイズは、各遅延セルのノード
N1の充放電電流に影響を与えないよう、MN2、MP
2と比較してON抵抗の小さい十分駆動能力のあるサイ
ズに設定しているため、ノードN1を充放電する場合の
電流量は基準電流Iref一定となる。また、ノードN
1の負荷容量は、MN3、MP3のゲート容量と配線容
量の和となる。MN3、MP3からなるインバータの反
転レベルをVDD/2とすると、ノードN1の電位がV
DD/2になると各遅延セルの出力を反転する。ここ
で、入力InputがLOWからHIGHに変化する場
合を考える。遅延セル61のMP1はOFFし、MN1
はONするためノードN1は、MN1、2を介して基準
電流Irefの電流量で放電されLOWとなっていく。
この時ノードN1の電位がVDD/2を下回ると、MN
3はOFFし、MP3はONするため遅延セル61の出
力はHIGHになる。また、この出力が遅延セル62の
入力となり、遅延セル61と同様に動作する。以降遅延
セル63、64も同様に動作する。逆に入力Input
がHIGHからLOWに変化する場合を考える。遅延セ
ル61のMP1はONし、MN1はOFFするためノー
ドN1は、MP1、2を介して基準電流Irefの電流
量で充電されHIGHとなっていく。この時ノードN1
の電位がVDD/2を上回ると、MN3はONし、MP
3はOFFするため遅延セル61の出力はLOWにな
る。また、この出力が遅延セル62の入力となり、遅延
セル61と同様に動作する。以降遅延セル63、64も
同様に動作する。遅延セル62、64それぞれの出力は
出力バッファ92、94を介して図15に示したフラッ
シュメモリのタイミング信号出力DLY1、2として出
力される。
【0021】本実施の形態1の遅延回路において各ノー
ドは図2のように変動する。図2の横軸は時間で縦軸は
電圧を示している。N1(61)、N1(62)、N1
(63)、N1(64)はそれぞれ遅延セル61〜64
でのノードN1を、N61〜64はそれぞれ遅延セル6
1〜64の出力ノードN61〜64を示している。な
お、DLY1、2はそれぞれN62、64の信号と同等
になる。図に示すようにノードN1(61)は、入力I
nputが変化すると一定の充放電電流(Iref)に
より充放電が行われるため、立ち上がり、立ち下がりの
傾斜がほぼ一定となる。この傾きは、MN3、MP3の
ゲートと配線容量、抵抗などの負荷と電流源Irefの
電流量により決まる。その後、ノードN1(61)の電
位がVDD/2を越えると、遅延セル61のMN3、M
P3からなるインバータは反転してN61に出力する。
このインバータは通常のCMOSインバータであり駆動
能力があるため急峻な立ち上がり立ち下がりを実現す
る。また、遅延セル62は遅延セル61の出力を入力と
し同様な動作し入力信号を遅延させN62に出力する。
以降同様の動作をし、N62、N64の信号を増幅して
DLY1、2にそれぞれ出力する。図2では20nsか
けてノードN1(61)を充放電している。ノードN1
(61)の電位がVDD/2になるとN61を反転し出
力するため、N61での遅延は10nsとなる。以降同
様の動作をし、N62での遅延は20ns(A)、N6
4での遅延は40ns(B)となる。また、N62、N
64の遅延信号は出力バッファを介してDLY1、2に
出力される。
【0022】このように本実施の形態1による遅延回路
は、遅延セル61〜64のノードN1を充放電するため
の電流量を基準電流Iref一定とし、ノードN1の電
位がVDD/2を越えると、MN3、MP3からなるイ
ンバータは反転して出力するため、遅延セル1段での遅
延量を大きくすることができ、ある遅延を発生させるた
めの遅延セルの数を削減することができる。また、遅延
セルを直列に接続したことにより遅延量を更に大きくす
ることができる。また、この遅延量は基準電流Iref
によるため、基準電流Irefの電流量をコントロール
することにより遅延セル61〜64での遅延時間を調整
することが可能となる。また、MNref、MPref
と遅延セル61〜64のMN2、MP2が飽和領域で動
作している場合は、電源電圧変動によらず遅延セル61
〜64のノードN1を充放電する電流は一定となるた
め、広い電源電圧範囲で一定の遅延量を得ることができ
る。また、遅延セル61〜64のMN3、MP3からな
るインバータは駆動能力が大きく、ノードN1の鈍った
波形を整形する効果があるため、この遅延信号を利用す
るブロックにおける波形鈍りによる誤差を減少すること
ができる。また、本実施の形態によるフラッシュメモリ
では、タイミング生成手段に上記遅延回路を用ることに
より、広い電源電圧範囲で誤差の少ない内部タイミング
生成を可能とし、誤動作を抑制する。
【0023】なお、本実施の形態1ではフラッシュメモ
リについて説明したが、クロックなどのトリガー信号を
もとに遅延回路を用いて内部タイミング信号を生成する
DRAMやマスクROMなど他のメモリでも実施可能で
ある。また、得るべき遅延信号の数により遅延セルを4
つに限らず増減してもよい。また、基準電流Iref7
1、72を別々に用意して説明しているが、もちろん同
一の電流源にて構成することも可能であり同様の効果を
得ることができる。また、MNrefとMN2、MPr
efとMP2のミラー比を1:1としたが、もちろんそ
の他の比率でも同様の効果を得ることができる。また、
遅延セル61〜64をインバータの2段直列接続したバ
ッファ構成としたが、もちろんNANDやNORなどの
論理ゲートでも充放電電流を一定にすることにより同様
の効果が得ることができる。また、インバータなどのド
ライバーを更に直列接続して論理を反転したり、最終段
の駆動能力を上げたりすることも可能である。また、各
遅延セルの間の少なくとも1ヶ所にインバータなどの論
理ゲートを挿入しても同様の効果を得ることができる。
また、各遅延セルの出力の一部を外部に出力することに
ついて説明したが、もちろん全ての遅延信号を出力する
ことも可能である。
【0024】(実施の形態2)図3は本実施の形態2に
よる遅延セルの構成を示す図である。図3において図1
と同一符号は同一または相当部分である。
【0025】本実施の形態2での遅延セルは、図1の遅
延セル61〜64においてMN3、MP3からなるイン
バータを削除した構成となっている。
【0026】以上のように構成された遅延回路およびフ
ラッシュメモリの動作について説明する。また、そのほ
とんどは実施の形態1と同様の動作をするため、実施の
形態1との差異のみ説明する。MN3、MP3からなる
インバータが削除されたことにより、各遅延セルは次段
の遅延セルのMN1、MP1のゲート容量と出力ノード
の配線容量を負荷容量として一定の電流(Iref)で
充放電を行うこととなる。遅延セル61〜64のMN1
とMP1のトランジスタサイズは、各遅延セルのノード
N1の充放電電流に影響を与えないよう、MN2、MP
2と比較してON抵抗の小さい十分駆動能力のあるサイ
ズに設定しているため、ノードN1を充放電する場合の
電流量は基準電流Iref一定となる。また、ノードN
1の負荷容量は、MN3、MP3のゲート容量と配線容
量の和となる。各遅延セルにバッファ作用がないため鈍
った波形を次段に供給しながら遅延を発生させる。
【0027】本実施の形態2の遅延回路において各ノー
ドは図4のように変動する。図4の横軸は時間で縦軸は
電圧を示している。各信号名は図2と同一または相当部
分である。図に示すようにノードN61は、入力Inp
utが変化すると一定の充放電電流(Iref)により
充放電が行われるため、立ち上がり、立ち下がりの傾斜
がほぼ一定となる。この傾きは、MN1、MP1のゲー
トと配線容量、抵抗などの負荷と電流源Irefの電流
量により決まる。遅延セル62は遅延セル61の鈍った
出力を入力としVDD/2を越えると動作を開始し、入
力信号を遅延させN62に出力する。以降同様の動作を
し、N62、N64の信号を増幅してDLY1、2にそ
れぞれ出力する。図4では20nsかけてノードN61
を充放電している。ノードN61の電位がVDD/2に
なると、遅延セル62のMN1、MP1が動作を開始す
る。DLY1はノードN62を増幅した出力であり、D
LY1での遅延は20ns(A)となる。以降同様の動
作をし、DLY2での遅延は40ns(B)となる。
【0028】このように本実施の形態2による遅延回路
は、遅延セル61〜64の出力N61〜64を充放電す
るための電流量を基準電流Iref一定とし、ノードN
61〜64の電位がVDD/2を越えると、次段のMN
1、MP1からなるインバータが動作を開始するため、
遅延セル1段での遅延量を大きくすることができ、ある
遅延を発生させるための遅延セルの数を削減することが
できる。また、遅延セルを直列に接続したことにより遅
延量を更に大きくすることができる。また、この遅延量
は基準電流Irefによるため、基準電流Irefの電
流量をコントロールすることにより遅延セル61〜64
での遅延時間を調整することが可能となる。また、MN
ref、MPrefと遅延セル61〜64のMN2、M
P2が飽和領域で動作している場合は、電源電圧変動に
よらず遅延セル61〜64のノードN61〜64を充放
電する電流は一定となるため、広い電源電圧範囲で一定
の遅延量を得ることができる。また、本実施の形態によ
るフラッシュメモリでは、タイミング生成手段に上記遅
延回路を用ることにより、広い電源電圧範囲で誤差の少
ない内部タイミング生成を可能とし、誤動作を抑制す
る。また、実施の形態1と比べて遅延セル内の後段のイ
ンバータがないため遅延セルでの回路数を削減できる。
【0029】なお、本実施の形態2ではフラッシュメモ
リについて説明したが、クロックなどのトリガー信号を
もとに遅延回路を用いて内部タイミング信号を生成する
DRAMやマスクROMなど他のメモリでも実施可能で
ある。また、得るべき遅延信号の数により遅延セルを4
つに限らず増減してもよい。また、基準電流Iref7
1、72を別々に用意して説明しているが、もちろん同
一の電流源にて構成することも可能であり同様の効果を
得ることができる。また、MNrefとMN2、MPr
efとMP2のミラー比を1:1としたが、もちろんそ
の他の比率でも同様の効果を得ることができる。また、
遅延セル61〜64をインバータの構成としたが、もち
ろんNANDやNORなどの論理ゲートでも充放電電流
を一定にすることにより同様の効果が得ることができ
る。また、インバータなどのドライバーを更に直列接続
して論理を反転したり、最終段の駆動能力を上げたりす
ることも可能である。また、各遅延セルの間にの少なく
とも1ヶ所にインバータなどの論理ゲートを挿入しても
同様の効果を得ることができる。また、各遅延セルの出
力の一部を外部に出力することについて説明したが、も
ちろん全ての遅延信号を出力することも可能である。
【0030】(実施の形態3)図5は本実施の形態3に
よる遅延セルの構成を示す図である。図5において図1
と同一符号は同一または相当部分である。
【0031】本実施の形態3での遅延セルは、図1の遅
延セル61〜64において遅延量を増加させるための容
量性負荷CAPがノードN1とグランドの間にあり、M
N1、2、MP1、2からなるインバータと、MN3、
MP3からなるインバータとから遅延セル6を形成して
いる。
【0032】以上のように構成された遅延回路およびフ
ラッシュメモリの動作について説明する。また、そのほ
とんどは実施の形態1と同様の動作をするため、実施の
形態1との差異のみ説明する。遅延セル61〜64のノ
ードN1の負荷容量を増加させるための容量性負荷CA
Pが付加されたことにより、各遅延セルはMN3、MP
3のゲート容量と出力ノードの配線容量と容量性負荷C
APを負荷容量として一定の電流(Iref)で充放電
を行うこととなる。本実施の形態3の遅延回路において
各ノードは図6のように変動する。図6の横軸は時間で
縦軸は電圧を示している。各信号名は図2と同一または
相当部分である。図に示すようにノードN1(61)
は、入力Inputが変化すると一定の充放電電流(I
ref)により充放電が行われるため、立ち上がり、立
ち下がりの傾斜がほぼ一定でとなる。この傾きは、MN
1、MP1のゲートと配線容量、抵抗などの負荷と電流
源Irefの電流量により決まる。その後、ノードN1
(61)の電位がVDD/2を越えると、遅延セル61
のMN3、MP3からなるインバータは反転してN61
に出力する。このインバータは通常のCMOSインバー
タであり駆動能力があるため急峻な立ち上がり立ち下が
りを実現する。以降同様の動作をし、N62、N64の
信号を増幅してDLY1、2にそれぞれ出力する。図よ
り20nsかけてノードN1(61)を充放電してい
る。ノードN1(61)の電位がVDD/2になるとN
61を反転し出力するため、N61での遅延は10ns
となる。以降同様の動作をし、N62での遅延は20n
s(A)、N64での遅延は40ns(B)となる。ま
た、N62、N64の遅延信号は出力バッファを介して
DLY1、2に出力される。
【0033】このように本実施の形態3による遅延回路
は、遅延セル61〜64のノードN1を充放電するため
の電流量を基準電流Iref一定とし、ノードN1の電
位がVDD/2を越えると、MN3、MP3からなるイ
ンバータは反転して出力するため、遅延セル1段での遅
延量を大きくすることができ、ある遅延を発生させるた
めの遅延セルの数を削減することができる。また、遅延
セルを直列に接続したことにより遅延量を更に大きくす
ることができる。また、この遅延量は基準電流Iref
によるため、基準電流Irefの電流量をコントロール
することにより遅延セル61〜64での遅延時間を調整
することが可能となる。また、MNref、MPref
と遅延セル61〜64のMN2、MP2が飽和領域で動
作している場合は、電源電圧変動によらず遅延セル61
〜64のノードN1を充放電する電流は一定となるた
め、広い電源電圧範囲で一定の遅延量を得ることができ
る。また、遅延セル61〜64のMN3、MP3からな
るインバータは駆動能力が大きく、ノードN1の鈍った
波形を整形する効果があるため、この遅延信号を利用す
るブロックにおける波形鈍りによる誤差を減少すること
ができる。また、本実施の形態によるフラッシュメモリ
では、タイミング生成手段に上記遅延回路を用ることに
より、広い電源電圧範囲で誤差の少ない内部タイミング
生成を可能とし、誤動作を抑制する。また、実施の形態
1と比べてノードN1に容量性負荷を付加したことによ
り遅延セル1段あたり遅延量を増加させることができ、
同一の遅延量を発生させるための遅延セル数を削減する
ことができる。
【0034】なお、本実施の形態3ではフラッシュメモ
リについて説明したが、クロックなどのトリガー信号を
もとに遅延回路を用いて内部タイミング信号を生成する
DRAMやマスクROMなど他のメモリでも実施可能で
ある。また、得るべき遅延信号の数により遅延セルを4
つに限らず増減してもよい。また、基準電流Iref7
1、72を別々に用意して説明しているが、もちろん同
一の電流源にて構成することも可能であり同様の効果を
得ることができる。また、MNrefとMN2、MPr
efとMP2のミラー比を1:1としたが、もちろんそ
の他の比率でも同様の効果を得ることができる。また、
遅延セル61〜64をインバータ2段直列接続したバッ
ファ構成としたが、もちろんNANDやNORなどの論
理ゲートでも充放電電流を一定にすることにより同様の
効果が得ることができる。また、インバータなどのドラ
イバーを更に直列接続して論理を反転したり、最終段の
駆動能力を上げたりすることも可能である。また、各遅
延セルの間にの少なくとも1ヶ所にインバータなどの論
理ゲートを挿入しても同様の効果を得ることができる。
また、各遅延セルの出力の一部を外部に出力することに
ついて説明したが、もちろん全ての遅延信号を出力する
ことも可能である。
【0035】(実施の形態4)図7は本実施の形態4に
よる遅延セルの構成を示す図である。図7において図1
と同一符号は同一または相当部分である。
【0036】本実施の形態4での基準電流を生成する基
準電流源セル5は、第2の基準電流Irefを生成する
電流源72に加え、第3の基準電流Irefを生成する
電流源73と、PチャネルトランジスタMPref(以
下、MPref)のドレインは接続され、ソースは電源
(VDD)に接続されていて、MPrefのゲートとド
レインは接続して基準電流源セルを形成している。
【0037】以上のように構成された遅延回路およびフ
ラッシュメモリの動作について説明する。また、そのほ
とんどは実施の形態1と同様の動作をするため、実施の
形態1との差異のみ説明する。まず、電流源71〜73
に流れる基準電流は同じ電流値である。また、MNre
f、MPrefはそれぞれMN2、MP2とカレントミ
ラー接続しているため、MN2は基準電流Iref、M
P2は基準電流Irefの2倍の電流が流れようゲート
電圧は制御される。MN2、MP2に流れる電流に相異
が生じることにより充放電時間に差がでるようになる。
【0038】本実施の形態4の遅延回路において各ノー
ドは図8のように変動する。図8の横軸は時間で縦軸は
電圧を示している。各信号名は図2と同一または相当部
分である。図に示すようにノードN1(61)は、入力
Inputが変化すると充電(2倍のIref)と放電
(Iref)それぞれ異なるが一定の電流により充放電
が行われるため、立ち上がり、立ち下がりにかかる時間
は異なるが、その傾斜はほぼ一定となる。この傾きは、
MN1、MP1のゲートと配線容量、抵抗などの負荷と
電流源Irefの電流量により決まる。その後、ノード
N1(61)の電位がVDD/2を越えると、遅延セル
61のMN3、MP3からなるインバータは反転してN
61に出力する。このインバータは通常のCMOSイン
バータであり駆動能力があるため急峻な立ち上がり立ち
下がりを実現する。以降同様の動作をし、N62、N6
4の信号を増幅してDLY1、2にそれぞれ出力する。
例えば、クロックのような信号を入力した場合、充電と
放電とを行う電流を異ならせることにより、デューティ
比が異なる遅延したクロックがそれぞれの遅延セルから
出力されることとなる。図より10nsかけてノードN
1(61)を充電し20nsかけて放電している。ノー
ドN1(61)の電位がVDD/2になるとN61を反
転し出力するため、N61での遅延は立ち上がりエッジ
で10ns、立ち下がりエッジで5nsとなる。以降同
様の動作をし、N62での遅延は立ち上がりエッジで2
0ns(A)、立ち下がりエッジで10ns(A‘)、
N64での遅延は立ち上がりエッジで40ns(B)、
立ち下がりエッジで20ns(B’)となる。また、N
62、N64の遅延信号は出力バッファを介してDLY
1、2に出力される。
【0039】このように本実施の形態4による遅延回路
は、遅延セル61〜64のノードN1を充放電するため
の電流量を電流値は異なるが一定の基準電流とし、ノー
ドN1の電位がVDD/2を越えると、MN3、MP3
からなるインバータは反転して出力するため、遅延セル
1段での遅延量を大きくすることができ、ある遅延を発
生させるための遅延セルの数を削減することができる。
また、遅延セルを直列に接続したことにより遅延量を更
に大きくすることができる。また、この遅延量は基準電
流Irefによるため、基準電流Irefの電流量をコ
ントロールすることにより遅延セル61〜64での遅延
時間を調整することが可能となる。また、MNref、
MPrefと遅延セル61〜64のMN2、MP2が飽
和領域で動作している場合は、電源電圧変動によらず遅
延セル61〜64のノードN1を充放電する電流は一定
となるため、広い電源電圧範囲で一定の遅延量を得るこ
とができる。また、遅延セル61〜64のMN3、MP
3からなるインバータは駆動能力が大きく、ノードN1
の鈍った波形を整形する効果があるため、この遅延信号
を利用するブロックにおける波形鈍りによる誤差を減少
することができる。また、本実施の形態によるフラッシ
ュメモリでは、タイミング生成手段に上記遅延回路を用
ることにより、広い電源電圧範囲で誤差の少ない内部タ
イミング生成を可能とし、誤動作を抑制する。また、実
施の形態1と比べて充放電電流を異ならせることによ
り、デューティ比が異なる遅延したクロックを生成する
ことができ、立ち下がりエッジも利用して内部信号を生
成する場合に有効となる。
【0040】なお、本実施の形態4ではフラッシュメモ
リについて説明したが、クロックなどのトリガー信号を
もとに遅延回路を用いて内部タイミング信号を生成する
DRAMやマスクROMなど他のメモリでも実施可能で
ある。また、得るべき遅延信号の数により遅延セルを4
つに限らず増減してもよい。また、基準電流Iref7
1、72、73を別々に用意して説明しているが、もち
ろん同一の電流源にて構成することも可能であり同様の
効果を得ることができる。また、MNrefとMN2、
MPrefとMP2のミラー比を1:1としたが、もち
ろんその他の比率でも同様の効果を得ることができる。
また、遅延セル61〜64をインバータ2段直列接続し
たバッファ構成としたが、もちろんNANDやNORな
どの論理ゲートでも充放電電流を一定にすることにより
同様の効果が得ることができる。また、インバータなど
のドライバーを更に直列接続して論理を反転したり、最
終段の駆動能力を上げたりすることも可能である。ま
た、各遅延セルの間にの少なくとも1ヶ所にインバータ
などの論理ゲートを挿入しても同様の効果を得ることが
できる。また、各遅延セルの出力の一部を外部に出力す
ることについて説明したが、もちろん全ての遅延信号を
出力することも可能である。また、充放電時間を2倍に
した例について説明したが、もちろんその他の倍率での
実現も可能であるし、充放電時間を遅くすることも可能
である。
【0041】(実施の形態5)図9は本実施の形態5に
よる遅延セルの構成を示す図である。図9において図1
と同一符号は同一または相当部分である。
【0042】本実施の形態5での基準電流を生成する基
準電流源セル5において、MNrefのドレインはNチ
ャネルトランジスタMN51、MN52(以下、それぞ
れMN51、MN52)のドレインと接続し、MN5
1、52のソースはそれぞれ基準電流Irefを生成す
る電流源71、72に接続している。一方、MPref
のドレインはPチャネルトランジスタMP51、MP5
2(以下、それぞれMP51、MP52)のドレインと
接続し、MP51、52のソースはそれぞれ基準電流I
refを生成する電流源73、74に接続している。ま
た、MN51、52、MP51、52のゲートは基準電
流を調整する制御部8に接続して形成している。
【0043】以上のように構成された遅延回路およびフ
ラッシュメモリの動作について説明する。また、そのほ
とんどは実施の形態1と同様の動作をするため、実施の
形態1との差異のみ説明する。制御部8がMN51、5
2、MP51、52を全てONするようコントロールす
る。この場合、MNref,MPrefに流れる基準電
流は2倍のIrefとなり、この電流にて充放電を行
う。また、MN51、52、MP51のみONするよう
コントロールされると、MNrefに流れる電流は2倍
のIref、MPrefに流れる電流はIrefとなる
ため、充電する電流は1/2となる。本実施の形態5の
遅延回路において各ノードは図10のように変動する。
図10の横軸は時間で縦軸は電圧を示している。各信号
名は図2と同一または相当部分である。サイクル(1)
はMN51,MP51のみONした場合を示していて、
サイクル(2)ではMN51、MP51、52をONし
た場合を示している。図に示すようにノードN1(6
1)は、入力Inputが変化するとサイクル(1)で
は充放電電流(Iref)、サイクル(2)では充電電
流(2倍のIref)、放電電流(Iref)と一定の
充放電電流により充放電が行われるため、立ち上がり、
立ち下がりの傾斜がそれぞれほぼ一定でとなる。この傾
きは、MN1、MP1のゲートと容量性負荷CAPと配
線容量、抵抗などの負荷と電流源Irefの電流量によ
り決まる。その後、ノードN1(61)の電位がVDD
/2を越えると、遅延セル61のMN3、MP3からな
るインバータは反転してN61に出力する。このインバ
ータは通常のCMOSインバータであり駆動能力がある
ため急峻な立ち上がり立ち下がりを実現する。以降同様
の動作をし、N62、N64の信号を増幅してDLY
1、2にそれぞれ出力する。図よりノードN1(61)
の充放電は、サイクル(1)では20ns、サイクル
(2)では充電に10ns、放電に20nsかけてい
る。ノードN1(61)の電位がVDD/2になるとN
61を反転し出力するため、N61での遅延はサイクル
(1)では10ns、サイクル(2)では立ち上がりエ
ッジで10ns、立ち下がりエッジで5nsとなる。以
降同様の動作をし、サイクル(1)で、N62での遅延
は、20ns(A)、N64での遅延は40ns
(B)、サイクル(2)で、N62での遅延は、立ち上
がりエッジ20ns(C)、立ち下がりエッジ10ns
(C‘)、N64での遅延は、立ち上がりエッジ40n
s(D)、立ち下がりエッジ20ns(D’)となる。
また、N62、N64の遅延信号は出力バッファを介し
てDLY1、2に出力される。
【0044】このように本実施の形態5による遅延回路
は、遅延セル61〜64のノードN1を充放電するため
の電流量を基準電流により一定とし、ノードN1の電位
がVDD/2を越えると、MN3、MP3からなるイン
バータは反転して出力するため、遅延セル1段での遅延
量を大きくすることができ、ある遅延を発生させるため
の遅延セルの数を削減することができる。また、遅延セ
ルを直列に接続したことにより遅延量を更に大きくする
ことができる。また、この遅延量は基準電流Irefに
よるため、基準電流Irefの電流量をコントロールす
ることにより遅延セル61〜64での遅延時間を調整す
ることが可能となる。また、MNref、MPrefと
遅延セル61〜64のMN2、MP2が飽和領域で動作
している場合は、電源電圧変動によらず遅延セル61〜
64のノードN1を充放電する電流は一定となるため、
広い電源電圧範囲で一定の遅延量を得ることができる。
また、遅延セル61〜64のMN3、MP3からなるイ
ンバータは駆動能力が大きく、ノードN1の鈍った波形
を整形する効果があるため、この遅延信号を利用するブ
ロックにおける波形鈍りによる誤差を減少することがで
きる。また、本実施の形態によるフラッシュメモリで
は、タイミング生成手段に上記遅延回路を用ることによ
り、広い電源電圧範囲で誤差の少ない内部タイミング生
成を可能とし、誤動作を抑制する。また、実施の形態1
と比べてノードN1の充放電電流を制御部8のコントロ
ール信号により可変とすることにより様々な遅延信号を
1つの回路で構成することが可能となる。
【0045】なお、本実施の形態5ではフラッシュメモ
リについて説明したが、クロックなどのトリガー信号を
もとに遅延回路を用いて内部タイミング信号を生成する
DRAMやマスクROMなど他のメモリでも実施可能で
ある。また、得るべき遅延信号の数により遅延セルを4
つに限らず増減してもよい。また、基準電流Iref7
1、72、73、74を別々に用意して説明している
が、もちろん同一の電流源にて構成することも可能であ
り同様の効果を得ることができる。また、MNrefと
MN2、MPrefとMP2のミラー比を1:1とした
が、もちろんその他の比率でも同様の効果を得ることが
できる。また、遅延セル61〜64をインバータ2段直
列接続したバッファ構成としたが、もちろんNANDや
NORなどの論理ゲートでも充放電電流を一定にするこ
とにより同様の効果が得ることができる。また、インバ
ータなどのドライバーを更に直列接続して論理を反転し
たり、最終段の駆動能力を上げたりすることも可能であ
る。また、各遅延セルの間にの少なくとも1ヶ所にイン
バータなどの論理ゲートを挿入しても同様の効果を得る
ことができる。また、各遅延セルの出力の一部を外部に
出力することについて説明したが、もちろん全ての遅延
信号を出力することも可能である。また、基準電流セル
5における基準電流をそれぞれ2つ有する例について説
明したが、もちろんその他の様々な数の構成も可能であ
る。また、それぞれの基準電流源が同一の電流値である
例について説明したが、もちろん電流値の異なる場合に
ついても実現でき同様の効果が得られる。
【0046】(実施の形態6)図11は本実施の形態6
による遅延セルの構成を示す図である。図11において
図1および図9と同一符号は同一または相当部分であ
る。
【0047】本実施の形態6での遅延セル6において、
MN1のドレインはNチャネルトランジスタMN61、
MN62(以下、それぞれMN61、MN62)のドレ
インと接続し、MN61、62のソースはそれぞれノー
ドN1に接続している。一方、MP1のドレインはPチ
ャネルトランジスタMP61、MP62(以下、それぞ
れMP61、MP62)のドレインと接続し、MP6
1、62のソースはそれぞれノードN1に接続してい
る。また、MN61、62、MP61、62のゲートは
基準電流を調整する制御部8に接続している。
【0048】以上のように構成された遅延回路およびフ
ラッシュメモリの動作について説明する。また、そのほ
とんどは実施の形態1および実施の形態5と同様の動作
をするため、実施の形態1および実施の形態5との差異
のみ説明する。制御部8がMN61、62、MP61、
62を全てONするようコントロールする。この場合、
MNref,MPrefに流れる基準電流はIrefで
あるため、MN61、62、MP61、62にはそれぞ
れIrefが流れる。よって、ノードN1を充放電する
電流は2倍のIref一定となる。また、MN61、6
2、MP61のみONするようコントロールされると、
ノードN1を充電する電流は、2倍のIref、放電す
る電流はIrefとなる。
【0049】本実施の形態6の遅延回路において各ノー
ドは実施の形態5と同様で図10のように変動する。図
10の横軸は時間で縦軸は電圧を示している。各信号名
は図2と同一または相当部分である。サイクル(1)は
MN51,MP51のみONした場合を示していて、サ
イクル(2)ではMN51、MP51、52をONした
場合を示している。図に示すようにノードN1(61)
は、入力Inputが変化するとサイクル(1)では充
放電電流(Iref)、サイクル(2)では充電電流
(2倍のIref)、放電電流(Iref)と一定の充
放電電流により充放電が行われるため、立ち上がり、立
ち下がりの傾斜がそれぞれほぼ一定でとなる。この傾き
は、MN1、MP1のゲートと配線容量、抵抗などの負
荷と電流源Irefの電流量により決まる。その後、ノ
ードN1(61)の電位がVDD/2を越えると、遅延
セル61のMN3、MP3からなるインバータは反転し
てN61に出力する。このインバータは通常のCMOS
インバータであり駆動能力があるため急峻な立ち上がり
立ち下がりを実現する。以降同様の動作をし、N62、
N64の信号を増幅してDLY1、2にそれぞれ出力す
る。図よりノードN1(61)の充放電は、サイクル
(1)では20ns、サイクル(2)では充電に10n
s、放電に20nsかけている。ノードN1(61)の
電位がVDD/2になるとN61を反転し出力するた
め、N61での遅延はサイクル(1)では10ns、サ
イクル(2)では立ち上がりエッジで10ns、立ち下
がりエッジで5nsとなる。以降同様の動作をし、サイ
クル(1)で、N62での遅延は、20ns(A)、N
64での遅延は40ns(B)、サイクル(2)で、N
62での遅延は、立ち上がりエッジ20ns(C)、立
ち下がりエッジ10ns(C‘)、N64での遅延は、
立ち上がりエッジ40ns(D)、立ち下がりエッジ2
0ns(D’)となる。また、N62、N64の遅延信
号は出力バッファを介してDLY1、2に出力される。
【0050】このように本実施の形態6による遅延回路
は、遅延セル61〜64のノードN1を充放電するため
の電流量を基準電流により一定とし、ノードN1の電位
がVDD/2を越えると、MN3、MP3からなるイン
バータは反転して出力するため、遅延セル1段での遅延
量を大きくすることができ、ある遅延を発生させるため
の遅延セルの数を削減することができる。また、遅延セ
ルを直列に接続したことにより遅延量を更に大きくする
ことができる。また、この遅延量は基準電流Irefに
よるため、基準電流Irefの電流量をコントロールす
ることにより遅延セル61〜64での遅延時間を調整す
ることが可能となる。また、MNref、MPrefと
遅延セル61〜64のMN2、MP2が飽和領域で動作
している場合は、電源電圧変動によらず遅延セル61〜
64のノードN1を充放電する電流は一定となるため、
広い電源電圧範囲で一定の遅延量を得ることができる。
また、遅延セル61〜64のMN3、MP3からなるイ
ンバータは駆動能力が大きく、ノードN1の鈍った波形
を整形する効果があるため、この遅延信号を利用するブ
ロックにおける波形鈍りによる誤差を減少することがで
きる。また、本実施の形態によるフラッシュメモリで
は、タイミング生成手段に上記遅延回路を用ることによ
り、広い電源電圧範囲で誤差の少ない内部タイミング生
成を可能とし、誤動作を抑制する。また、実施の形態1
と比べてノードN1の充放電電流を制御部8のコントロ
ール信号により可変とすることにより様々な遅延信号を
1つの回路で構成することが可能となる。
【0051】なお、本実施の形態6ではフラッシュメモ
リについて説明したが、クロックなどのトリガー信号を
もとに遅延回路を用いて内部タイミング信号を生成する
DRAMやマスクROMなど他のメモリでも実施可能で
ある。また、得るべき遅延信号の数により遅延セルを4
つに限らず増減してもよい。また、基準電流Iref7
1、72を別々に用意して説明しているが、もちろん同
一の電流源にて構成することも可能であり同様の効果を
得ることができる。また、MNrefとMN21、2
2、MPrefとMP21、22のミラー比を1:1と
したが、もちろんその他の比率でも同様の効果を得るこ
とができる。また、遅延セル61〜64をインバータ2
段直列接続したバッファ構成としたが、もちろんNAN
DやNORなどの論理ゲートでも充放電電流を一定にす
ることにより同様の効果が得ることができる。また、イ
ンバータなどのドライバーを更に直列接続して論理を反
転したり、最終段の駆動能力を上げたりすることも可能
である。また、各遅延セルの間にの少なくとも1ヶ所に
インバータなどの論理ゲートを挿入しても同様の効果を
得ることができる。また、各遅延セルの出力の一部を外
部に出力することについて説明したが、もちろん全ての
遅延信号を出力することも可能である。また、基準電流
セル5と遅延セル61〜64でのミラー数をそれぞれ2
つの例について説明したが、もちろん、その他様々な数
の構成も実現でき同様の効果が得られる。
【0052】(実施の形態7)図12は本実施の形態7
による遅延セルの構成を示す図である。図12において
図1と同一符号は同一または相当部分である。
【0053】本実施の形態7での基準電流を生成する基
準電流源セル51〜54と、遅延セル61〜64とがあ
り、遅延セル61〜64のMN2、MP2は、基準電流
源セル51〜54のMNref、MPrefとそれぞれ
カレントミラー接続している。
【0054】以上のように構成された遅延回路およびフ
ラッシュメモリの動作について説明する。また、そのほ
とんどは実施の形態1と同様の動作をするため、実施の
形態1との差異のみ説明する。まず、遅延セル61〜6
4はそれぞれ基準電流源セル51〜53を有しているた
め、それぞれの遅延セルでノードN1の充放電電流を行
う基準電流値を設定可能となる。仮に、基準電流源セル
1、2ではIrefを、基準電流源セル3、4では2倍
のIrefが流れるとすると、それぞれのMNref、
MPrefとMN2、MP2はカレントミラー接続して
いるため遅延セル1、2では、MN2、MP2とも基準
電流Irefの2倍の電流が流れようゲート電圧は制御
される。遅延セル3、4では2倍のIrefが流れるよ
うゲート電圧が制御される。このように各遅延セルにお
ける遅延値を自由に設定することができるようになる。
【0055】本実施の形態7の遅延回路において各ノー
ドは図13のように変動する。図13の横軸は時間で縦
軸は電圧を示している。各信号名は図2と同一または相
当部分である。なお、本実施の形態では基準電流源セル
51、52の基準電流をIref、基準電流源セル5
3、54の基準電流を2倍のIrefとする。図に示す
ようにノードN1(61)は、入力Inputが変化す
ると一定の充放電電流(Iref)により、立ち上が
り、立ち下がりの傾斜はほぼ一定となる。この傾きは、
MN1、MP1のゲートと配線容量、抵抗などの負荷と
電流源Irefの電流量により決まる。その後、ノード
N1(61)の電位がVDD/2を越えると、遅延セル
61のMN3、MP3からなるインバータは反転してN
61に出力する。このインバータは通常のCMOSイン
バータであり駆動能力があるため急峻な立ち上がり立ち
下がりを実現する。次段でも同様の動作を行う。一方ノ
ードN1(63)は、充放電電流が2倍のIrefとな
っているため遅延時間が半分になる。次段も2倍のIr
efにより充放電を行う。また、N62、N64の信号
を増幅してDLY1、2にそれぞれ出力する。例えば、
クロックのような信号を入力した場合、充放電を行う電
流が遅延セル毎に異ならせることにより、遅延セル毎の
遅延値を個別に設定できさまざまな遅延信号が出力され
ることとなる。図より20nsかけてノードN1(6
1)を充放電している。ノードN1(61)の電位がV
DD/2になるとN61を反転し出力するため、N61
での遅延は10nsとなる。遅延セル62も同様に動作
するためN62での遅延は20ns(A)となる。一
方、ノードN1(63)は10nsかけて充放電され
る。つまり、遅延セル63,64での遅延は5nsとな
るためN64での遅延は30ns(B)となる。また、
N62、N64の遅延信号は出力バッファを介してDL
Y1、2に出力される。
【0056】このように本実施の形態7による遅延回路
は、遅延セル61〜64のノードN1を充放電するため
の電流量を一定の基準電流とし、ノードN1の電位がV
DD/2を越えると、MN3、MP3からなるインバー
タは反転して出力するため、遅延セル1段での遅延量を
大きくすることができ、ある遅延を発生させるための遅
延セルの数を削減することができる。また、遅延セルを
直列に接続したことにより遅延量を更に大きくすること
ができる。また、この遅延量は基準電流Irefによる
ため、基準電流Irefの電流量をコントロールするこ
とにより遅延セル61〜64での遅延時間を調整するこ
とが可能となる。また、MNref、MPrefと遅延
セル61〜64のMN2、MP2が飽和領域で動作して
いる場合は、電源電圧変動によらず遅延セル61〜64
のノードN1を充放電する電流は一定となるため、広い
電源電圧範囲で一定の遅延量を得ることができる。ま
た、遅延セル61〜64のMN3、MP3からなるイン
バータは駆動能力が大きく、ノードN1の鈍った波形を
整形する効果があるため、この遅延信号を利用するブロ
ックにおける波形鈍りによる誤差を減少することができ
る。また、本実施の形態によるフラッシュメモリでは、
タイミング生成手段に上記遅延回路を用ることにより、
広い電源電圧範囲で誤差の少ない内部タイミング生成を
可能とし、誤動作を抑制する。また、実施の形態1と比
べて充放電を行う電流が遅延セル毎に異ならせることに
より、遅延セル毎の遅延値を個別に設定できるため「1
段当たりの遅延量X段数」だけではないさまざまな遅延
信号を生成することが可能となる。
【0057】なお、本実施の形態7ではフラッシュメモ
リについて説明したが、クロックなどのトリガー信号を
もとに遅延回路を用いて内部タイミング信号を生成する
DRAMやマスクROMなど他のメモリでも実施可能で
ある。また、得るべき遅延信号の数により遅延セルを4
つに限らず増減してもよい。また、基準電流Iref7
1、72を別々に用意して説明しているが、もちろん同
一の電流源にて構成することも可能であり同様の効果を
得ることができる。また、MNrefとMN21、2
2、MPrefとMP21、22のミラー比を1:1と
したが、もちろんその他の比率でも同様の効果を得るこ
とができる。また、遅延セル61〜64をインバータ2
段直列接続したバッファ構成としたが、もちろんNAN
DやNORなどの論理ゲートでも充放電電流を一定にす
ることにより同様の効果が得ることができる。また、イ
ンバータなどのドライバーを更に直列接続して論理を反
転したり、最終段の駆動能力を上げたりすることも可能
である。また、各遅延セルの間にの少なくとも1ヶ所に
インバータなどの論理ゲートを挿入しても同様の効果を
得ることができる。また、各遅延セルの出力の一部を外
部に出力することについて説明したが、もちろん全ての
遅延信号を出力することも可能である。また、遅延セル
61〜64にそれぞれ独立の基準電流源セル51〜54
を設けた例について説明したが、もちろん、その幾つか
を共通の基準電流源セルでコントロールすることも実現
でき同様の効果が得られる。
【0058】
【発明の効果】以上のように、本発明は、入力信号を遅
延させ出力する論理ゲートからなる遅延セルと、前記遅
延セルに接続され、前記論理ゲートの出力ノードを充電
するための第1の電流を生成する第1の基準電流源と、
前記論理ゲートの出力ノードを放電するための第2の電
流を生成する第2の基準電流源からなる基準電流生成部
とを備え、前記入力信号の変化に応じて前記論理ゲート
は前記第1の電流と前記第2の電流で前記出力ノードを
充放電することにより前記遅延セルにおける遅延値を制
御することにより、広い電源電圧範囲で誤差の少ない遅
延信号を生成することができ、少ない回路規模で大きな
遅延値を得ることができる優れた遅延回路を実現できる
ものである。
【0059】また、本発明は、前記遅延セルと前記基準
電流生成部はカレントミラー接続されている構成となっ
ており、広い電源電圧範囲で誤差の少ない遅延信号を生
成することができ、少ない回路規模で大きな遅延値を得
ることができる優れた遅延回路を実現できるものであ
る。
【0060】また、本発明は、前記遅延セルは前記論理
ゲート出力を整流し出力するバッファを備えた構成、ま
たは前記論理ゲートの出力の立ち上がり立ち下がりを鈍
化させるための容量性負荷を備えた構成とすることによ
り、広い電源電圧範囲で誤差の少ない遅延信号を生成す
ることができ、少ない回路規模で大きな遅延値を得るこ
とができる優れた遅延回路を実現できるものである。
【0061】また、本発明は、前記第1の基準電流源の
電流値と、前記第2の基準電流源の電流値をそれぞれ異
ならせることにより、入力信号と異なるデューティ比の
出力信号を得ることを特徴とすることにより、広い電源
電圧範囲で誤差の少ない遅延信号を生成することがで
き、少ない回路規模で大きな遅延値を得ることができ、
さらにデューティ比の異なる遅延信号を生成し立ち下が
りエッジも有効に利用できる優れた遅延回路を実現でき
るものである。
【0062】また、本発明は、前記第1の基準電流源の
電流値、または前記第2の基準電流源の電流値を制御信
号により可変とするか、または前記第1の電流の電流
値、または前記第2の電流の電流値を制御信号により可
変とすることにより、広い電源電圧範囲で誤差の少ない
遅延信号を生成することができ、少ない回路規模で大き
な遅延値を得ることができ、さらに様々な遅延信号をひ
とつの回路で出力できる優れた遅延回路を実現できるも
のである。
【0063】また、本発明は、複数の前記遅延セルから
なり、前記遅延セルは直列接続することにより、広い電
源電圧範囲で誤差の少ない遅延信号を生成することがで
き、少ない回路規模でより大きな遅延値を得ることがで
きる優れた遅延回路を実現できるものである。さらに、
直列接続された複数ある前記遅延セルの出力ノードのう
ち、少なくとも1つの前記出力ノードの出力を出力する
出力手段を備えることにより、複数の異なる遅延値の遅
延信号を出力できる優れた遅延回路を実現できるもので
ある。
【0064】また、本発明は、前記遅延回路を有するタ
イミング生成手段を備えることにより、広い電源電圧範
囲で誤差の少ない遅延信号を基に内部タイミング信号を
生成することができ、少ない回路規模でより大きな遅延
値を持つ内部タイミング信号を持つ得ることができる誤
動作の少ない優れた半導体メモリを実現できるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1による遅延回路の構成を
示す図
【図2】本実施の形態1の遅延回路において各ノード変
動を示したタイミング図
【図3】本発明の実施の形態2による遅延回路の構成を
示す図
【図4】本実施の形態2の遅延回路において各ノード変
動を示したタイミング図
【図5】本発明の実施の形態3による遅延回路の構成を
示す図
【図6】本実施の形態3の遅延回路において各ノード変
動を示したタイミング図
【図7】本発明の実施の形態4による遅延回路の構成を
示す図
【図8】本実施の形態4の遅延回路において各ノード変
動を示したタイミング図
【図9】本発明の実施の形態5による遅延回路の構成を
示す図
【図10】本実施の形態5、6の遅延回路において各ノ
ード変動を示したタイミング図
【図11】本発明の実施の形態6による遅延回路の構成
を示す図
【図12】本発明の実施の形態7による遅延回路の構成
を示す図
【図13】本実施の形態7の遅延回路において各ノード
変動を示したタイミング図
【図14】従来の遅延回路の構成を示す図
【図15】従来のフラッシュメモリの動作を示したタイ
ミング図
【図16】従来のフラッシュメモリの構成を示す図
【符号の説明】
1011〜10mn メモリ瀬宇 111〜11n カラムゲート 2 アドレスデコード手段 3 電流検出手段 4 タイミング生成手段 5,51〜54 基準電流源セル 6,61〜64 遅延セル 71〜74 電流源 8 制御部 92,94 出力バッファ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渕上 郁雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 木村 智生 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 河合 賢 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5B025 AD15 AE08 5J001 AA05 BB00 BB10 BB11 BB12 BB25 CC03 DD01 DD03 DD04 5J098 AA03 AA14 AB02 AB12 AC04 AC14 AC22 AD05 FA03 FA09

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力信号を遅延させ出力する論理ゲート
    からなる遅延セルと、前記遅延セルに接続され、前記論
    理ゲートの出力ノードを充電するための第1の電流を生
    成する第1の基準電流源と、前記論理ゲートの出力ノー
    ドを放電するための第2の電流を生成する第2の基準電
    流源からなる基準電流生成部とを備え、前記入力信号の
    変化に応じて前記論理ゲートは前記第1の電流と前記第
    2の電流で前記出力ノードを充放電することにより前記
    遅延セルにおける遅延値を制御することを特徴とする遅
    延回路。
  2. 【請求項2】 前記遅延セルと前記基準電流生成部はカ
    レントミラー接続されていることを特徴とする請求項1
    記載の遅延回路。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2記載の遅延回路
    において、前記遅延セルは前記論理ゲート出力を整流し
    出力するバッファを備えたことを特徴とする遅延回路。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれか1項
    記載の遅延回路において、前記遅延セルは前記論理ゲー
    トの出力の立ち上がり立ち下がりを鈍化させるための容
    量性負荷を備えたことを特徴とする遅延回路。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし請求項4のいずれか1項
    に記載の遅延回路において、前記第1の基準電流源の電
    流値と、前記第2の基準電流源の電流値をそれぞれ異な
    らせることにより、入力信号と異なるデューティ比の出
    力信号を得ることを特徴とする遅延回路。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし請求項5いずれか1項に
    記載の遅延回路において、前記第1の基準電流源の電流
    値、または前記第2の基準電流源の電流値を制御信号に
    より可変としたことを特徴とする遅延回路。
  7. 【請求項7】 請求項1ないし請求項5いずれか1項に
    記載の遅延回路において、前記第1の電流の電流値、ま
    たは前記第2の電流の電流値を制御信号により可変とし
    たことを特徴とする遅延回路。
  8. 【請求項8】 請求項1ないし請求項7いずれか1項に
    記載の遅延回路において、複数の前記遅延セルからな
    り、前記遅延セルは直列接続したことを特徴とする遅延
    回路。
  9. 【請求項9】 請求項8記載の遅延回路において、複数
    の前記基準電流生成部からなり、少なくとも1つの遅延
    セルは他とは異なる基準電流生成部に接続されることを
    特徴とする遅延回路。
  10. 【請求項10】 請求項8または請求項9いずれか1項
    に記載の遅延回路において、直列接続された複数ある前
    記遅延セルの出力ノードのうち、少なくとも1つの前記
    出力ノードの出力を出力する出力手段を備えることを特
    徴とする遅延回路。
  11. 【請求項11】 請求項1ないし請求項10いずれか1
    項に記載の遅延回路を有するタイミング生成手段を備え
    たことを特徴とする半導体メモリ。
  12. 【請求項12】 請求項11記載の半導体メモリにおい
    て、前記半導体メモリが不揮発性半導体メモリであるこ
    とを特徴とする半導体メモリ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005060098A1 (ja) * 2003-12-18 2005-06-30 Advantest Corporation 遅延回路、及び試験装置
JP2006352398A (ja) * 2005-06-15 2006-12-28 Sanyo Electric Co Ltd 遅延回路
CN113689901A (zh) * 2020-05-18 2021-11-23 美光科技公司 产生存储器阵列控制信号

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