JP2001027805A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂および光酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物において、多官能(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
【請求項2】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂が、脂環式骨格を有する単量体単位と、ラクトン骨格を有する単量体単位を含むことを特徴とする請求項1の化学増幅型レジスト組成物。
【請求項3】 請求項2記載の化学増幅型レジスト組成物を用いてレジストを形成し、ドライエッチングを行う前にレジストに活性光線の照射および/または遠赤外線もしくは熱源による加熱処理を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。
【請求項1】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂および光酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物において、多官能(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
【請求項2】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂が、脂環式骨格を有する単量体単位と、ラクトン骨格を有する単量体単位を含むことを特徴とする請求項1の化学増幅型レジスト組成物。
【請求項3】 請求項2記載の化学増幅型レジスト組成物を用いてレジストを形成し、ドライエッチングを行う前にレジストに活性光線の照射および/または遠赤外線もしくは熱源による加熱処理を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。
また、本発明は、この化学増幅型レジスト組成物を用いてレジストを形成し、ドライエッチングを行う前にレジストに活性光線の照射および/または遠赤外線もしくは熱源による加熱処理を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法である。
次に、本発明の化学増幅型レジスト組成物の使用方法について説明する。化学増幅型レジスト組成物を用いてパターン形成したレジストに対して、ドライエッチングを行う前にUV,DUV,EB等の活性光線の照射および/または遠赤外線もしくはホットプレート等の熱源により一定時間加熱処理を行うことが好ましい。
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JP19909699A JP4424631B2 (ja) | 1999-07-13 | 1999-07-13 | 化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
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- 1999-07-13 JP JP19909699A patent/JP4424631B2/ja not_active Expired - Fee Related
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