JP2001020051A - 溶射方法及び溶射ガン - Google Patents

溶射方法及び溶射ガン

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JP2001020051A
JP2001020051A JP11194729A JP19472999A JP2001020051A JP 2001020051 A JP2001020051 A JP 2001020051A JP 11194729 A JP11194729 A JP 11194729A JP 19472999 A JP19472999 A JP 19472999A JP 2001020051 A JP2001020051 A JP 2001020051A
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passage
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wide
thermal spray
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JP11194729A
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English (en)
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Hideo Tachikawa
英男 太刀川
Hideoki Fukushima
英沖 福島
Kazuyuki Nakanishi
和之 中西
Hiroyuki Mori
広行 森
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Toyota Central R&D Labs Inc
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Toyota Central R&D Labs Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】充分に加熱されない粒子または融滴状の溶射材
料が飛翔することを防止するのに有利であり、溶射被膜
の密着強度の増加に有利な溶射方法及び溶射ガンを提供
する。 【解決手段】広口形状とされた広口室32をもつ熱流噴
出通路3を備えた溶射ガン1を用いる。溶射材料及び高
温の熱流を熱流噴出通路3の広口室32に通過させ、高
温に加熱した粒子状または融滴状の溶射材料を熱流噴出
通路3から噴出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマ溶射などの
溶射方法及び溶射ガンに関する。
【0002】
【従来の技術】産業界においては、プラズマ流等の高温
の熱流を噴出する熱流噴出通路をもつ溶射ガンを用い、
プラズマ流などの高温の熱流により加熱した粒子状また
は融滴状等の溶射材料を溶射ガンの熱流噴出通路の先端
から、プラズマ流などの熱流と共に相手材に向けて噴出
し、これにより溶射被膜を相手材に積層する溶射方法が
知られている。
【0003】溶射は、様々な溶射材料を用途に応じて積
層できるため、産業界において近年盛んに使用されてい
る。
【0004】代表的な溶射としては、発生したアークに
作動ガスを送給して作動ガスをプラズマ化して高温の熱
流とし、これを熱源として溶射材料を加熱するプラズマ
溶射、あるいは、酸素−燃料ガスの燃焼炎(フレーム)
を熱源として溶射材料を加熱するフレーム溶射がある。
【0005】また溶射技術に使用する溶射ガンとして
は、図6に示すように、粉末状の溶射材料を噴流噴出通
路300の外方に供給する外部供給方式の溶射ガン10
0が知られている。このものでは、溶射ガン100の噴
流噴出通路300の先端開口300aの外方に材料供給
通路400を設け、材料供給通路400から噴出される
溶射材料を熱流に沿わせて加熱し、相手材に向けて飛翔
させる。
【0006】また図7に示すように、粉末状の溶射材料
を噴流噴出通路320の内部に直接供給する内部供給方
式の溶射ガン120が知られている。このものでは、溶
射ガン120の噴流噴出通路320内に材料供給通路4
10を設け、噴流噴出通路320内を流れる熱流に粉末
状の溶射材料を沿わせて加熱し、相手材に向けて飛翔さ
せる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記した溶射において
は、溶射ガンの噴流噴出通路の先端から粒子状又は融滴
状として噴出される溶射材料は、必ずしも均一に加熱さ
れているものではない。このため充分に高温に加熱され
なかった溶射材料が溶射ガンから相手材に向けて飛翔
し、溶射被膜を形成することがある。この場合、溶射被
膜の密着強度が低下する。
【0008】殊に、プラズマ溶射の場合には、プラズマ
流の中心域とその周囲とでは温度差がかなり大きく、こ
のためプラズマ流の外側においては、充分に加熱されな
かった溶射材料が溶射ガンの噴流噴出通路の先端から飛
翔することがある。
【0009】また、図6に示す外部供給方式の溶射ガン
100では、噴流噴出通路300の先端開口300aか
ら噴出する熱流に粉末状の溶射材料を供給するため、溶
射材料が飛散する頻度が高い。飛散した溶射材料は熱流
で充分に加熱されない。このため、温度が低い粒子また
は融滴を含む溶射材料が溶射ガン100から相手材に向
けて飛翔し、溶射被膜を形成することがある。この場
合、溶射被膜の密着強度が低下する。
【0010】図7に示す内部供給方式の溶射ガン120
では、外部供給方式の溶射ガン100とは異なり、噴流
噴出通路320内を通過する熱流に粉末状の溶射材料を
沿わせ易いため、溶射材料をかなり均一に加熱すること
ができる。しかしながら溶射ガン120の熱流噴出通路
320の内壁面に溶射材料が堆積して詰まることが往々
にしてあった。熱流噴出通路320に詰まり320xが
生じた場合には、プラズマ流等の熱流に溶射材料を良好
に沿わせるのが困難となる。よって充分に加熱されなか
った粒子または融滴状の溶射材料が飛翔することがあ
り、溶射被膜の密着強度が低下する。
【0011】本発明は上記した実情に鑑みてなされたも
のであり、充分に加熱されない粒子または融滴状の溶射
材料が飛翔することを防止するのに有利であり、溶射被
膜の密着強度の増加に有利な溶射方法及び溶射ガンを提
供することを課題とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の溶射方法は、広
口形状とされた広口室をもつ熱流噴出通路を備えた溶射
ガンを用い、溶射材料及び高温の熱流を熱流噴出通路の
広口室に通過させ、高温に加熱した粒子状または融滴状
の溶射材料を熱流噴出通路から噴出するようにしたこと
を特徴とするものである。
【0013】本発明の溶射方法によれば、プラズマ流等
の熱流を広口室に通過させるため、プラズマ流等の熱流
が広口室で拡張され易い。更に溶射材料を広口室に通過
させるため、粒子状または融滴状とした溶射材料を広口
室で拡散させ易い、即ち、粒子状または融滴状とした隣
設する溶射材料同士の間隔が広口室において増加する。
【0014】このように広口室で拡散した溶射材料が、
広口室で拡張したプラズマ流等の熱流により加熱される
ため、広口室においてプラズマ流等の熱流と溶射材料と
の均一混合性が向上する。即ち、粒子状または融滴状の
1個の溶射材料でみれば、プラズマ流などの熱流で包ま
れ易い。
【0015】故に溶射材料の均一加熱性は向上する。よ
って、充分に加熱されなかった粒子状または融滴状の溶
射材料が溶射被膜を形成することを抑制することができ
る。このため溶射被膜の密着強度の増加に有利となる。
【0016】本発明の溶射ガンは、本発明の溶射方法の
実施に使用できる溶射ガンであって、熱流噴出通路は、
熱流噴出通路の先端側が基端側よりも広口形状とされた
広口室をもつことを特徴とするものである。
【0017】本発明の溶射ガンによれば、プラズマ流等
の熱流を広口室に通過させるため、プラズマ流等の熱流
が広口室で拡張され易い。更に溶射材料を広口室に通過
させるため、溶射材料が広口室で拡散し易い。このよう
に広口室で拡散した溶射材料が、広口室で拡張したプラ
ズマ流等の熱流により加熱されるため、広口室において
プラズマ流等の熱流と溶射材料との均一混合性が向上す
る。故に、充分に加熱されなかった粒子状または融滴状
の溶射材料が溶射被膜を形成することが抑制される。こ
のため溶射被膜の密着強度の増加に有利となる。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の溶射方法によれば、前述
したように、広口室において、プラズマ流等の熱流が広
口室で拡張され易く、また、溶射材料が拡散し易い。こ
のため溶射材料とプラズマ流等の熱流とは広口室におい
て効果的に混合される。故に、溶射材料の均一加熱を効
果的に図ることができる。
【0019】溶射ガンから相手材に向けて飛翔する溶射
材料の平均粒子温度は、プラズマ流などの熱流の種類や
溶射材料の種類、溶射皮膜の目標密着強度、要請される
溶射コストなどの要因によっても相違するものの、例え
ば、2000K〜4000K、殊に2200K〜380
0K、更には2400K〜3500Kにすることができ
る。この場合、平均粒子温度の下限値としては2200
K、2500K、2600K、2700Kを採用するこ
とができる。平均粒子温度の上限値としては3900
K、3700K、3600Kを採用することができる。
【0020】溶射材料の平均粒子温度は、熱流の温度そ
のものではなく、熱流により高温に加熱された粒状また
は融滴状の溶射材料が飛翔して相手材に衝突する直前に
おいて、飛翔している溶射材料の一群が表している平均
温度を意味する。平均粒子温度は二色放射温度計により
測定することができる。
【0021】本発明の溶射方法で用いる熱流としては、
プラズマ流、燃焼火炎流(フレーム)などがあげられ
る。従って本発明の代表的な形態としてはプラズマ溶
射、フレーム溶射などがあげられる。
【0022】本発明で用いる代表的な溶射材料として
は、溶射ガンに装入する前の状態において、粉末状の形
態を採用することができるが、場合によってはワイヤ状
の形態を熱流の熱により粉末状または融滴状とする形態
を採用することもできる。溶射材料が粉末の形態の場合
には、平均粒径が例えば1〜200μmの範囲のもの、
殊に10〜100μmのもの、殊に25〜45μmのも
ののを採用できるが、これに限定されるものではない。
【0023】本発明で用いる溶射材料の材質としては特
に限定されず、鉄系、アルミ系、銅系、モリブデン系、
ニッケル系、クロム系等の金属を採用することができ
る。鉄系としては、炭素鋼系、ステンレス鋼系を採用す
ることができる。場合によってはアルミナ、ジルコニア
などの酸化物セラミックス、炭化タングステン、炭化珪
素、炭化クロム、炭化チタンなどの炭化物系セラミック
スを採用することもできる。溶射被膜を積層する相手材
の材質としては特に限定されず、アルミ系、銅系、モリ
ブデン系、ニッケル系、鉄系を採用することができる。
【0024】本発明の溶射ガンの好ましい形態によれ
ば、熱流噴出通路は、熱流噴出通路の基端側に設けられ
た通路室と、熱流噴出通路の先端側に設けられ通路室よ
りも広口形状とされた広口室とを備えており、広口室
は、通路室から離れるにつれて空間幅が次第に増加する
向きに拡開傾斜して拡開部分を備えている構成を採用す
ることができる。この場合には、通路室から広口室に向
かうにつれて空間幅が次第に増加する拡開部分が形成さ
れているため、溶射材料及び熱流の流れが円滑となり易
い。このため、粒子または融滴状の溶射材料が広口室に
おいて局部的に偏在することを抑制できる。
【0025】広口室の内壁面は、熱流噴出通路の中心軸
芯に沿って延設されている形態を採用することができ
る。この場合には、広口室の内壁面は、熱流噴出通路の
中心軸芯に沿って平行にまたは実質的に平行に延設され
ている形態を採用することができる。場合によっては、
広口室の内壁面は、熱流噴出通路の中心軸芯に沿いつつ
も、広口室の先端に向かうにつれて拡開する傾斜を有す
る形態を採用することができる。また場合によっては、
広口室の内壁面は、熱流噴出通路の中心軸芯に沿いつつ
も、広口室の先端に向かうにつれて狭くなる傾斜を有す
る形態を採用することもできる。
【0026】本発明の溶射ガンの好ましい形態によれ
ば、溶射材料を熱流噴出通路に供給する材料供給路は、
広口室の拡開部分で開口している構成を採用することが
できるる。このため、材料供給路から供給して溶射材料
を広口室で拡散させるのに有利である。
【0027】本発明の溶射ガンの好ましい形態によれ
ば、補助ガスを吹き出す補助ガス吹出手段を備えてお
り、補助ガス吹出手段は、熱流噴出通路の広口室から噴
出される熱流と同じ向きに且つ熱流の流れの仮想中心線
に対して交差する向きに、補助ガスを熱流に向けて吹き
出す補助ガス吹出口を有する構成を採用することができ
る。
【0028】この場合には、熱流と同じ向きに且つ熱流
の流れの仮想中心線に対して交差する向きに、補助ガス
が熱流に向けて吹き出される。このため、熱流の外側に
存在するため充分に加熱されなかった粉末状または融滴
状の溶射材料を、熱流の中心域に寄せることができ、溶
射材料の高温加熱に有利となる。
【0029】更に補助ガスが熱を有する場合には、熱流
の外側に存在するため充分に加熱されなかった粒子また
は融滴状の溶射材料を、補助ガスの熱により加熱するこ
とができるため、溶射材料の均一加熱に有利となる。
【0030】補助ガスとしては、例えば不活性ガス(ア
ルゴンガスを含む)等のシールドガスを採用しても良い
し、あるいは、アセチレン等のガスフレームを採用して
も良い。シールドガスは常温でも良いし、あるいは、加
熱されていても良い。補助ガスがガスフレームである場
合には、ガスフレームは燃焼炎であるため、熱流の外側
に存在する温度が低い溶射材料を加熱することができ
る。
【0031】アセチレン等のガスフレームは燃焼炎とい
えどもプラズマ流より低温である。シールドガスもプラ
ズマ流より低温である。従って、溶射ガンの熱流噴出通
路から噴出される熱流が高温のプラズマ流である場合に
は、プラズマ流が補助ガスによって周囲から冷やされる
ため、サーマルピンチ効果によりプラズマ流が一層高温
化する。従って溶射材料の高温加熱に有利となる。な
お、サーマルピンチ効果とは、プラズマ流が冷えてプラ
ズマ流の径が絞られ、プラズマ流の電流密度が増加する
ことをいう。
【0032】なお、プラズマ溶射の場合には、プラズマ
流を形成する作動ガスとして、アルゴン、窒素、ヘリウ
ム、水素、これらの混合ガスを採用することができる。
【0033】
【実施例】(実施例1)以下、実施例1を図1を参照し
て説明する。本実施例はプラズマ溶射に適用した例であ
る。
【0034】説明の便宜上、溶射ガン1から説明する。
本実施例では溶射ガン1を用いる。この溶射ガン1で
は、熱流噴出通路3を備えた導電材料で形成された筒形
状のノズル2が設けられている。熱流噴出通路3におい
ては、これの先端側が基端側よりも広口形状とされた広
口室32が形成されている。
【0035】即ち、熱流噴出通路3は、熱流噴出通路3
の基端側に設けられた円筒形状通路である通路室31
と、熱流噴出通路3の先端側に設けられ通路室31より
も広口形状とされた円筒形状通路である広口室32とを
備えている。広口室32は拡開部分33を備えている。
なお拡開部分33は、通路室31から離れるにつれて空
間幅が次第に増加する向きに拡開傾斜している。
【0036】広口室32のうち拡開部分33を除く内壁
面32cは、熱流噴出通路3の中心軸芯P1に沿って形
成されている。具体的には、内壁面32cは、熱流噴出
通路3の中心軸芯P1に対して実質的に平行に形成され
ている。また通路室31の内壁面31cは、熱流噴出通
路3の中心軸芯P1に沿って形成されており、具体的に
は中心軸芯P1に対して実質的に平行に形成されてい
る。
【0037】通路室31は作動ガス送給路35に連通し
ており、作動ガス送給路35から通路室31に作動ガス
が送給される。本実施例では作動ガスとしてはアルゴン
ガスが用いられる。
【0038】通路室31に対面するように、導電性をも
つ材料で形成された陰極21が装備されている。ノズル
2は直流電源22の+極に導線22rを介して電気的に
つながれ、陰極21は直流電源22の−極に導線22s
を介して電気的につながれている。陰極21とノズル2
との間に所要の電圧が印加されると、陰極21とノズル
2との間でアークが発生し、作動ガスが極めて高温のプ
ラズマ流60(プラズマジェット流)となって熱流噴出
通路3を通過し、熱流噴出通路3の広口室32の先端開
口3aから相手材に向けて高速で噴出される。
【0039】図1に示すように、溶射ガン1のノズル2
には、溶射材料を熱流噴出通路3に供給する材料供給路
36が設けられている。粉末状の溶射材料を収容してい
る材料容器37に開閉弁38を介して材料供給路36は
つながれている。材料供給路36の先端開口36aは広
口室32の拡開部分33で開口している。材料供給路3
6は先端開口36aに向かうにつれて下降傾斜してい
る。
【0040】材料供給路36の中心軸芯P2は、熱流噴
出通路3の中心軸芯P1に対して傾斜角αで傾斜してい
る。このような本実施例においては、材料供給路36か
ら供給した溶射材料を広口室32において拡散させるの
に有利である。故に、粒子または融滴状の溶射材料が広
口室32において局部的に偏在することを抑制するのに
有利となる。なお、材料供給路36の中心軸芯P2の延
長線は広口室32の内壁面32cに向かう。
【0041】補助ガス吹出手段4は、補助ガスが貯留さ
れたガスボンベ40と、開閉弁41と、溶射ガン1のノ
ズル2の先端側に設けられた補助ガス吹出口42とをも
つ。補助ガス吹出口42は、熱流噴出通路3の中心軸芯
P1の回りにほぼ同心円的配置で複数個設けられてい
る。補助ガス吹出口42の中心軸芯P3と熱流噴出通路
3の中心軸芯P1との交差角度はβで示されている。本
実施例ではβは約90度であるが、90度以下に設定す
ることもできる。βは例えば10〜80度、特に20〜
40度に設定することができる。
【0042】補助ガス吹出口42は、プラズマ流60の
仮想中心線(実質的には熱流噴出通路3の中心軸芯P
1)に対して交差する向きに、補助ガス42xをプラズ
マ流60に向けて吹き出す。
【0043】さて本実施例においては、上記した熱流噴
出通路3を備えた溶射ガン1を用い、プラズマ溶射を行
う。即ち、陰極21とノズル2との間に電圧を印加しつ
つ、作動ガスを通路室31に供給する。作動ガスの流量
は一般的には1〜50リットル/minにする。溶射ガ
ン1に供給された作動ガスは高温のプラズマ流60とな
り、熱流噴出通路3を流れ、拡開部分33を経て広口室
32を通過する。
【0044】文献などによれば、一般的には、プラズマ
流60の速度はかなり高速であり、溶射ガン1から飛翔
する速度は10〜250m/sec程度と考えられてお
り、プラズマ流60の温度は6000〜15000K程
度と考えられている。
【0045】更に、粉末状の溶射材料を収容している材
料容器37から、材料供給路36を経て熱流噴出通路3
に供給する。
【0046】上記のように広口室32をプラズマ流60
が通過する際に、プラズマ流60は広口室32において
その外径方向に拡張される。更に粉末状の溶射材料が広
口室32に供給されて広口室32を通過するため、粉末
状の溶射材料は広口室32で拡散され、粉末状の溶射材
料が局部的に偏在することは抑制される。即ち、隣設し
ている溶射材料である粉末同士または融滴同士の間隔が
増大する。
【0047】このため本実施例においては、広口室32
において拡散された粉末状の溶射材料が、広口室32で
拡張したプラズマ流60により良好に包まれて加熱され
る。このため、広口室32においてプラズマ流60と溶
射材料との均一混合性が向上する。故に溶射ガン1によ
る溶射材料の均一加熱性は向上する。
【0048】よって本実施例においては、充分に加熱さ
れなかった粒子状または融滴状の溶射材料が飛翔するこ
とを抑制することができる。この結果、充分に加熱され
た粒子状または融滴状の溶射材料は相手材に良好に堆積
し、溶射被膜の密着強度は増加する。
【0049】(寸法関係の代表例)本実施例の溶射ガン
1における寸法関係について説明を加える。
【0050】溶射ガン1の通路室31はプラズマ流収束
室とも呼ばれ、狭い通路であり、直径はd1で示され
る。広口室32の直径は通路室31の直径d1よりも大
きく、d2で示される。通路室31の長さはL1で示さ
れる。拡開部分33を除く広口室32の長さはL2で示
される。拡開部分33の傾斜角はθで示される。熱流噴
出通路3の全体の長さはLで示される。
【0051】本実施例においては、(d2/d1)が2
倍以上に設定されていることが好ましい。2倍以上にす
れば、広口室32におけるプラズマ流60の拡張効果が
良好に得られ易い。プラズマ流60となる作動ガスの種
類や溶射材料の形態等によっても相違するものの、例え
ば、(d2/d1)=3以上、(d2/d1)=4以上に
設定することもできる。拡張によるプラズマ流の温度や
速度低下等を考慮すると、(d2/d1)の上限値とし
て10倍以下に設定されていることが好ましい。
【0052】θとしては、40度≦θ≦150度にする
ことが好ましい。θが40度未満であると、溶射材料の
材質によっても相違するが、一般的には、粉末状の溶射
材料が熱流噴出通路3の内壁面に付着し易くなる。θが
150度を越えると、一般的にはプラズマ流60が拡開
部分33の内壁面にそって拡張しにくくなり、プラズマ
流60の大流量化を図る必要が生じ易い。
【0053】広口室32に関して、(L2/d2)とし
ては、0.1≦(L2/d2)≦2の関係に設定するこ
とが好ましい。(L2/d2)の値が0.1未満であれ
ば、溶射材料及びプラズマ流60の条件によって異なる
ものの、広口室32の長さが不足し、広口室32におけ
る溶射材料とプラズマ流60との均一混合性が不足する
ことがある。(L2/d2)の値が2を越えると、溶射
材料及びプラズマ流60の条件によって異なるものの、
広口室32の長さが大きくなり、溶射材料が広口室32
の内壁面に付着するおそれが生じる。
【0054】なお、本実施例の溶射ガン1における寸法
関係は、上記した値に限定されるものではないことは勿
論である。
【0055】(実施例2)以下、実施例2を図2を参照
して説明する。
【0056】実施例2は実施例1と基本的には同様の構
成であり、同様の作用効果を奏する。共通機能を奏する
部位には同一の符号を付する。以下異なる部位を中心と
して説明する。
【0057】溶射ガン1Bでは、熱流噴出通路3を備え
たノズル2が設けられている。熱流噴出通路3において
は、これの先端側が基端側よりも広口形状とされた広口
室32が形成されている。即ち、熱流噴出通路3は、熱
流噴出通路3の基端側に設けられた通路室31と、熱流
噴出通路3の先端側に設けられ通路室31よりも広口形
状とされた広口室32とを備えている。広口室32は、
通路室31から離れるにつれて空間幅が次第に増加する
向きに拡開傾斜して拡開部分33を備えている。広口室
32のうち拡開部分33を除く内壁面32cは、熱流噴
出通路3の中心軸芯P1に沿って実質的に平行にされて
いる。通路室31の内壁面31cは、熱流噴出通路3の
中心軸芯P1に沿って実質的に平行にされている。
【0058】本実施例においても、補助ガス42xを吹
き出す補助ガス吹出手段4が溶射ガン1の先端側に装備
されている。補助ガス吹出手段4は、熱流噴出通路3の
中心軸芯P1の周りを1周するリング通路47と、リン
グ通路47に連通する補助ガス吹出口42を有する。補
助ガス吹出口42は、熱流噴出通路3の中心軸芯P1の
周りに中心軸芯P1に対してほぼ同心円的に複数個、周
方向に沿って所定の間隔を隔てて並設されている。
【0059】換言すれば、補助ガスは、熱流噴出通路3
から噴出されるプラズマ流60と同じ向きに、且つ、プ
ラズマ流60の仮想中心線(実質的には熱流噴出通路3
の軸芯P1)に対して交差する向きにプラズマ流60に
向けて吹き出される。
【0060】このため、プラズマ流60の外側に存在す
るためプラズマ流60で充分に加熱されなかった粉末状
または融滴状の溶射材料を、プラズマ流60の高温の中
心域に向けて寄せることができ、溶射材料の高温加熱に
有利となる。
【0061】上記した補助ガス42xとしては、アルゴ
ンガス等のシールドガス、燃料ガス−酸素等の混合ガス
が燃焼した燃焼炎であるガスフレームを採用することが
できる。なお燃料ガスとしてはアセチレンガスやプロパ
ンガスなどを採用できる。
【0062】燃焼炎であるガスフレームの場合には、プ
ラズマ流60よりは温度が低いもののかなりの高温であ
るため、プラズマ流60の外側で飛翔する粒子状または
融滴状の溶射材料をガスフレームによって加熱すること
ができる。
【0063】更に、アセチレン等のガスフレームは高温
であるといえども、プラズマ流60より低温である。勿
論、アルゴンガスなどのシールドガスもプラズマ流より
低温である。従って本実施例によれば、溶射ガン1の熱
流噴出通路3から噴出される高温のプラズマ流の周囲が
補助ガス42xによって冷やされる。このためサーマル
ピンチ効果によりプラズマ流60が一層高温化する。従
って溶射材料の高温加熱に有利となる。
【0064】ところで特公昭63−206459号公報
に開示されているように、プラズマ流と平行にガスフレ
ーム(燃焼炎)を噴出する方式も考えられる。しかしな
がらこの場合には、プラズマ流60の周囲のあまり加熱
されていない溶射材料とガスフレーム(燃焼炎)とが接
触する頻度は高くない。故に、プラズマ流の周囲のあま
り加熱されていない溶射材料をガスフレーム(燃焼炎)
で加熱する効果は、少ない。このため、充分に加熱され
なかった溶射材料が溶射被膜の内に含まれるおそれがあ
る。
【0065】この点本実施例においては、熱流噴出通路
3の広口室32から噴出されるプラズマ流6と同じ向き
に、且つ、プラズマ流60の仮想中心線(実質的には熱
流噴出通路3の軸芯P1)に対して交差する向きに、補
助ガス42xは吹き出される。故に、プラズマ流60の
周囲のあまり加熱されていない溶射材料とガスフレーム
(燃焼炎)とが接触する頻度は高くなり、溶射材料の高
温加熱化に有利となる。
【0066】なお本実施例においては、d1は約2.5
mm、d2は約10mm、L1は約4mm、L2は約6
mm、αは約43度、βは約15度、θは約87度に設
定することができる。但しこの値に限定されるものでは
ないことは勿論である。
【0067】(試験例)図1に概念を示す溶射ガン1を
用いると共に、相手材(予熱温度:120℃)を用い、
大気雰囲気においてプラズマ溶射を行い、相手材に溶射
被膜(厚み:0.3mm)を被覆した。相手材の材質は
アルミ合金(重量比でMgを1%、Siを0.6%、C
uを0.27%含むAl合金)とし、溶射材料は炭素鋼
系の粉末(材質:質量%でFe−1%C、平均粒径:2
5〜45μm)とし、溶射距離は100mmとし、溶射
ガン1の出力は500Aとした。
【0068】そして、相手材に向けて飛翔している溶射
材料の平均粒子温度を、溶射材料が相手材の衝突する直
前において(溶射ガン1の先端から80〜100mmの
領域)測定した。なお測定は二色放射温度計で行った。
【0069】溶射後に溶射被膜の密着強度を測定した。
この場合、本実施例にかかる試験例1では、シールドガ
スを使用せずに行った。試験例2ではシールドガス(ア
ルゴンガス)を使用して行った。更に従来例として、図
7に示すような外部供給タイプの溶射ガン1を用い、基
本的には同様の条件で溶射被膜を形成した。
【0070】図3は平均粒子温度の測定結果を示す。図
4は密着強度の測定結果を示す。図3に示すように、従
来例では平均粒子温度は2700K程度であった。試験
例1では、平均粒子温度は3000Kを越えており、高
温であった。試験例2では、平均粒子温度は3500K
を越えており、かなり高温であった。測定結果によれ
ば、試験例1および試験例2では、溶射材料の平均粒子
温度をかなり高温化できることがわかる。なお、溶射材
料の平均粒子温度とはプラズマ流の温度とは同一ではな
い。
【0071】図4に示すように従来例では溶射被膜の密
着強度は50MPa程度であった。これに対して試験例
1および試験例2では、溶射被膜の密着強度は共に90
MPa程度であった。即ち試験例1および試験例2で
は、従来例の約1.8倍の密着強度が得られた。溶射材
料の平均粒子温度がかなり高くなり、しかも充分に加熱
されていない溶射材料の割合が少なくなるため、溶射被
膜と相手材との境界領域における冶金的結合が促進さ
れ、密着強度が増加するものと推察される。
【0072】なお密着強度を測定する試験は次のように
行った。即ち、図5に示すように溶射被膜350をもつ
試験片150を試験治具200の保持孔202にセット
し、その状態でポンチ204を矢印A方向に移動させる
ことにより、溶射被膜350を試験片150から剥離さ
せ、そのときの荷重に基づいて密着強度(せん断密着強
度)を求めた。
【0073】(付記)上記した記載から次の技術的思想
も把握することができる。
【0074】:熱流噴出通路を備えた溶射ガンを用
い、粒子状または融滴状とした溶射材料及びプラズマ流
などの高温の熱流を熱流噴出通路に通過させ、高温に加
熱した溶射材料を熱流噴出通路から噴出するようにした
溶射方法において、溶射ガンに装備した補助ガス吹出手
段から、熱流と同じ向きに且つ熱流の流れの仮想中心線
に対して交差する向きに補助ガス(例えばガスフレーム
またはシールドガス)を熱流に向けて吹き出すようにし
たことを特徴とする溶射方法。
【0075】:熱流噴出通路を備えており、粒子状ま
たは融滴状とした溶射材料及びプラズマ流などの高温の
熱流を熱流噴出通路に通過させ、高温に加熱した溶射材
料を熱流噴出通路から噴出するようにした溶射ガンにお
いて、熱流噴出通路から噴出される熱流と同じ向きに且
つ熱流の流れの仮想中心線に対して交差する向きに、補
助ガス(例えばガスフレームまたはシールドガス)を熱
流に向けて吹き出す補助ガス吹出口を具備していること
を特徴とする溶射ガン。
【0076】:または請求項1において、相手材に
被覆された溶射被膜の密着強度は60MPa以上、70
MPa以上、80MPa以上、90MPa、100MP
a以上のいずれかであることを特徴とする溶射方法。
【0077】:または請求項1のいずれか一にお
いて、相手材はアルミ系合金であり、溶射材料は鉄系
(炭素鋼を含む)であることを特徴とする溶射方法。
【0078】:または請求項1のいずれか一に
おいて、溶射ガンから噴出された溶射材料の平均粒子温
度は、2800K以上、3000K以上、3200K以
上、3400K以上のいずれかであることを特徴とする
溶射方法。
【0079】
【発明の効果】本発明の溶射方法及び溶射ガンによれ
ば、充分に加熱されない粒子または融滴状の溶射材料が
飛翔することを防止するのに有利であり、溶射材料の均
一加熱に貢献でき、粒子平均温度を高温化できる。故に
本発明の溶射方法及び溶射ガンによれば、溶射被膜の密
着強度の増加を図るのに有利となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1に係る溶射ガンの概念図である。
【図2】実施例2に係る溶射ガンの概念図である。
【図3】平均粒子温度を測定した結果を示すグラフであ
る。
【図4】密着強度を測定した結果を示すグラフである。
【図5】密着強度を測定する試験形態を示す断面図であ
る。
【図6】従来技術に係り、外部供給方式の溶射ガンを示
す概念図である。
【図7】従来技術に係り、内部供給方式の溶射ガンを示
す概念図である。
【符号の説明】
図中、1及び1Bは溶射ガン、2はノズル、3は熱流噴
出通路、31は通路室、32は広口室、4は補助ガス吹
出手段、42は補助ガス吹出口、60はプラズマ流(熱
流)を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中西 和之 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者 森 広行 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1株式会社豊田中央研究所内 Fターム(参考) 4K031 DA04 EA01 EA12

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】広口形状とされた広口室をもつ熱流噴出通
    路を備えた溶射ガンを用い、溶射材料及び高温の熱流を
    前記熱流噴出通路の前記広口室に通過させ、高温に加熱
    した粒子状または融滴状の溶射材料を前記熱流噴出通路
    から噴出するようにしたことを特徴とする溶射方法。
  2. 【請求項2】請求項1の実施に使用できる溶射ガンであ
    って、 前記熱流噴出通路は、前記熱流噴出通路の先端側が基端
    側よりも広口形状とされた広口室をもつことを特徴とす
    る溶射ガン。
  3. 【請求項3】請求項1の実施に使用できる溶射ガンであ
    って、 前記熱流噴出通路は、前記熱流噴出通路の基端側に設け
    られた通路室と、前記熱流噴出通路の先端側に設けられ
    通路室よりも広口形状とされた広口室とを備えており、 前記広口室は、前記通路室から離れるにつれて空間幅が
    次第に増加する向きに拡開傾斜して拡開部分を備えてい
    ることを特徴とする溶射ガン。
  4. 【請求項4】請求項3に記載の溶射ガンであって、溶射
    材料を前記熱流噴出通路に供給する材料供給路は、前記
    広口室の拡開部分で開口していることを特徴とする溶射
    ガン。
  5. 【請求項5】請求項1〜請求項4のいずれかにおいて、 補助ガスを吹き出す補助ガス吹出手段を備えており、 前記補助ガス吹出手段は、前記熱流噴出通路の広口室か
    ら噴出される熱流と同じ向きに且つ熱流の流れの仮想中
    心線に対して交差する向きに、補助ガスを熱流に向けて
    吹き出す補助ガス吹出口を有することを特徴とする溶射
    ガン。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005539143A (ja) * 2002-09-17 2005-12-22 スマトリ アクチボラゲット プラズマ溶射装置
JP2010110669A (ja) * 2008-11-04 2010-05-20 Nihon Ceratec Co Ltd プラズマ溶射装置

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