JP2001016041A - Semiconductor device and frequency multiplexing circuit using the same - Google Patents
Semiconductor device and frequency multiplexing circuit using the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、MMIC(Microw
ave Monolithic Integrated Circuit )などの自己バイ
アス回路を有する半導体装置に関する。The present invention relates to an MMIC (Microw
ave Monolithic Integrated Circuit).
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、通信分野の拡大に伴い利用できる
周波数が制約されている。その結果、マイクロ波やミリ
波などの高周波帯が通信用途に使用されるようになって
いる。このような高周波帯を使用する通信機器では、M
MICがキーコンポーネントの1つになっている。MM
ICは、HEMTやMESFET、HBTなど高周波で
も良好な特性を持つ能動素子と、伝送線路やMIMキャ
パシタ、抵抗などの受動素子とを半導体基板に一括して
組み込んだ構造をしている。2. Description of the Related Art In recent years, available frequencies have been restricted with the expansion of the communication field. As a result, high-frequency bands such as microwaves and millimeter waves have been used for communication purposes. In a communication device using such a high frequency band, M
The MIC is one of the key components. MM
The IC has a structure in which an active element such as a HEMT, a MESFET, or an HBT, which has good characteristics even at a high frequency, and passive elements such as a transmission line, an MIM capacitor, and a resistor are incorporated in a semiconductor substrate.
【0003】ここで、従来の半導体装置について、MM
ICで形成した逓倍器を例にとり図4を参照して説明す
る。符号INは入力端子で、入力端子INは、入力カッ
プリングキャパシタ41を介して整合回路42に接続さ
れている。整合回路42はFET43のゲート電極Gに
接続されている。FET43のゲート電極Gには、ゲー
ト用のバイアス回路を構成するスタブ44が接続されて
いる。そして、スタブ44には、スタブ44を接地GN
Dに接続するキャパシタ45、および、バイアス入力端
子Bgが接続されている。[0003] Here, a conventional semiconductor device is referred to as MM.
An example of a multiplier formed by an IC will be described with reference to FIG. Reference numeral IN denotes an input terminal, and the input terminal IN is connected to a matching circuit 42 via an input coupling capacitor 41. The matching circuit 42 is connected to the gate electrode G of the FET 43. A stub 44 forming a gate bias circuit is connected to the gate electrode G of the FET 43. The stub 44 is connected to the ground GN.
The capacitor 45 connected to D and the bias input terminal Bg are connected.
【0004】FET43のドレイン電極Dには、ドレイ
ン用のバイアス回路を構成するスタブ46が接続されて
いる。スタブ46には、スタブ46を接地GNDに接続
するためのキャパシタ47、および、バイアス入力端子
Bdが接続されている。また、FET43のドレイン電
極Dには、入力端子INから入力する入力波(周波数
f)が出力しないように、入力波を抑圧するためのスタ
ブ48が接続されている。スタブ48は、通常、入力波
の波長(λ)の1/4の線路長で形成される。また、F
ET43のドレイン電極Dは整合回路49に接続され、
整合回路49は出力カップリングキャパシタ50を介し
て出力端子OUTに接続されている。整合回路49は、
入力波の2倍の周波数(2f)に対して整合が取られて
いる。A stub 46 constituting a drain bias circuit is connected to the drain electrode D of the FET 43. The stub 46 is connected to a capacitor 47 for connecting the stub 46 to the ground GND, and a bias input terminal Bd. Further, a stub 48 for suppressing the input wave is connected to the drain electrode D of the FET 43 so that the input wave (frequency f) input from the input terminal IN is not output. The stub 48 is usually formed with a line length of 1 / of the wavelength (λ) of the input wave. Also, F
The drain electrode D of the ET 43 is connected to the matching circuit 49,
The matching circuit 49 is connected to the output terminal OUT via the output coupling capacitor 50. The matching circuit 49
Matching is performed for twice the frequency (2f) of the input wave.
【0005】なお、ゲート用およびドレイン用のバイア
ス回路は、信号線路よりも高いインピーダンスに見せる
ために、スタブ44およびスタブ46はそれぞれ、入力
波の周波数fあるいは出力波の周波数(2f)の波長に
対して1/4程度の長さの線路で構成されている。ま
た、キャパシタ45、47はMIMキャパシタなどで構
成される。Since the gate and drain bias circuits appear to have higher impedance than the signal line, the stub 44 and the stub 46 are respectively set to the wavelength of the input wave frequency f or the output wave frequency (2f). On the other hand, it is constituted by a line having a length of about 1/4. Further, the capacitors 45 and 47 are configured by MIM capacitors and the like.
【0006】上記した半導体装置は、バイアス回路をス
タブやキャパシタで形成している。そのため、バイアス
回路の面積が大きくなり、MMIC全体のチップ面積が
大きくなる。また、ドレイン電極やゲート電極に極性の
異なるバイアス電圧を加えられている。そのため、2つ
の電源が用いられている。In the above-described semiconductor device, the bias circuit is formed by a stub or a capacitor. Therefore, the area of the bias circuit increases, and the chip area of the entire MMIC increases. In addition, bias voltages having different polarities are applied to the drain electrode and the gate electrode. Therefore, two power supplies are used.
【0007】ここで、図4に示した逓倍器の動作点につ
いて図5を参照して説明する。図5はFET43のI−
V特性を示している。横軸はドレイン電圧Vd 、縦軸は
ドレイン電流Id で、ゲート電圧Vg をV1、V2、V
3、V4(V1>V2>V3>V4)と変えた場合の特
性である。逓倍器の場合、通常、点線で囲った領域Pが
バイアス点に使用される。このバイアス点は、FET4
3に対してドレイン電圧が十分高くかかっているもの
の、流れる電流値が少ないピンチオフ領域である。この
ようなバイアス点で逓倍器を動作させると、FETの製
造バラツキや温度変化があると、ピンチオフ電圧が変化
し、逓倍器の特性が大きく変わるという問題がある。こ
のような問題を解決する方法の1つとして、バイアス回
路に抵抗を接続し、自己バイアス機能を持たせる方法が
ある。Here, the operating point of the multiplier shown in FIG. 4 will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows the I-
The V characteristic is shown. The horizontal axis is the drain voltage Vd, the vertical axis is the drain current Id, and the gate voltage Vg is V1, V2, V
3, V4 (V1>V2>V3> V4). In the case of the multiplier, an area P surrounded by a dotted line is usually used as a bias point. This bias point is determined by FET4
3 is a pinch-off region where the drain voltage is sufficiently high but the flowing current value is small. When the multiplier is operated at such a bias point, there is a problem that the pinch-off voltage changes and the characteristics of the multiplier change greatly if there is a variation in the manufacturing of the FET or a change in temperature. As one of the methods for solving such a problem, there is a method of connecting a resistor to a bias circuit to have a self-bias function.
【0008】ここで、バイアス回路に自己バイアス機能
を持たせた構成について、FET43の部分を抜き出し
た図6を参照して説明する。FET43のソース電極S
に、接地GNDとの間に抵抗R1とキャパシタCaが並
列に接続されている。FET43のゲート電極Gには、
接地GNDとの間に抵抗R2が接続されている。このよ
うな構成のバイアス回路は自己バイアス型と呼ばれ、F
ETのしきい値が負である場合によく使われる。Here, a configuration in which the bias circuit has a self-bias function will be described with reference to FIG. Source electrode S of FET43
, A resistor R1 and a capacitor Ca are connected in parallel with the ground GND. The gate electrode G of the FET 43 includes:
The resistor R2 is connected to the ground GND. A bias circuit having such a configuration is called a self-bias type,
Often used when the ET threshold is negative.
【0009】上記した構成のバイアス回路は、ゲート電
極Gを接地電位にした場合でも、ゲート・ソース間の電
位Vgsが、Vgs=−(Id ×R)(ただし、Id :FE
T43を流れるドレイン電流、R:抵抗R1の抵抗値)
となる。このため、動作時のゲート・ソース間の電圧が
負であれば、Id とRの値を選ぶことにより1つの電源
でMMICを動作させることができる。また、抵抗R1
を接続することによっって、電源電圧が変動した場合、
または、能動素子の特性が設計値よりもずれた場合に、
フィードバックがかかり、FET43の特性変動が抑え
られるという利点がある。In the bias circuit having the above-described configuration, even when the gate electrode G is set to the ground potential, the potential Vgs between the gate and the source is Vgs =-(Id * R) (where Id: FE
Drain current flowing through T43, R: resistance value of resistor R1)
Becomes Therefore, if the gate-source voltage during operation is negative, the MMIC can be operated with one power supply by selecting the values of Id and R. The resistance R1
When the power supply voltage fluctuates by connecting
Or, if the characteristics of the active device deviate from the design values,
There is an advantage that feedback is applied and fluctuations in the characteristics of the FET 43 are suppressed.
【0010】なお、抵抗R1は直流領域で働けばよく、
高周波領域では、むしろ信号成分を減衰をさせ、特性を
劣化させる。そのため、動作領域でインピーダンスが十
分に下がるように、キャパシタCaが接続されている。Note that the resistor R1 only needs to work in the DC region.
In the high frequency region, the signal component is rather attenuated, and the characteristics are degraded. Therefore, the capacitor Ca is connected so that the impedance is sufficiently reduced in the operation region.
【0011】なお、上記のバイアス回路をMMICで形
成する場合、通常、抵抗は薄膜抵抗で構成され、また、
キャパシタはMIMキャパシタで構成される。In the case where the above-mentioned bias circuit is formed by an MMIC, the resistor is usually composed of a thin-film resistor.
The capacitor is composed of an MIM capacitor.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置は、
たとえば逓倍器を構成した場合、前段の回路で発生した
高調波成分も増幅して出力することがある。たとえば、
図7に示すように、2段の逓倍器71、72を縦列接続
し、入力端子INから入力する入力信号の周波数を4逓
倍する逓倍回路の場合について説明する。ここで、前段
の逓倍器71に入力する入力信号の周波数をfとする
と、逓倍器71から、入力信号の第2高調波(2f)の
他に、不要波の第3高調波(3×f)成分が出力され、
後段の逓倍器72に入力する。このため、後段の逓倍器
72から、所望の周波数(4×f)以外に、3倍の周波
数(3×f)など不要な周波数が出力され、そして出力
端子OUTに出力される。不要な周波数は、逓倍回路の
後段に接続される回路などの動作に悪い影響を与える。
しかし、上記した構成では、このような不要な周波数成
分を除去することが困難になっている。A conventional semiconductor device is:
For example, when a multiplier is configured, a harmonic component generated in a preceding circuit may be amplified and output. For example,
As shown in FIG. 7, a case of a multiplier circuit in which two-stage multipliers 71 and 72 are connected in cascade and the frequency of an input signal input from an input terminal IN is multiplied by 4 will be described. Here, assuming that the frequency of the input signal input to the multiplier 71 at the preceding stage is f, the third harmonic (3 × f) of the unnecessary wave is output from the multiplier 71 in addition to the second harmonic (2f) of the input signal. ) Component is output,
It is input to the multiplier 72 at the subsequent stage. Therefore, in addition to the desired frequency (4 × f), an unnecessary frequency such as a triple frequency (3 × f) is output from the multiplier 72 at the subsequent stage, and output to the output terminal OUT. The unnecessary frequency adversely affects the operation of a circuit connected to the subsequent stage of the frequency multiplier.
However, with the above-described configuration, it is difficult to remove such unnecessary frequency components.
【0013】本発明は、上記の欠点を解決し、不要な周
波数成分を取り除くことができる半導体装置を提供する
ことを目的とする。An object of the present invention is to provide a semiconductor device which can solve the above-mentioned drawbacks and can remove unnecessary frequency components.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明は、複数の電極を
有する能動素子と、この能動素子の1つの電極にバイア
ス電圧を印加するバイアス回路とを具備した半導体装置
において、前記バイアス回路が、一端が接地された2つ
のキャパシタと、この2つのキャパシタの他端間に接続
された伝送線路と、前記1つの電極から遠い側に位置す
るキャパシタの他端と接地との間に接続された抵抗とで
構成されている。According to the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: an active element having a plurality of electrodes; and a bias circuit for applying a bias voltage to one electrode of the active element. Two capacitors having one end grounded, a transmission line connected between the other ends of the two capacitors, and a resistor connected between the other end of the capacitor located farther from the one electrode and the ground; It is composed of
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】本発明の実施形態について図1を
参照して説明する。符号INは入力端子で、入力端子I
Nは、入力カップリングキャパシタ11を介して整合回
路12に接続されている。整合回路12はFET13の
ゲート電極Gに接続されている。FET13のゲート電
極Gには、接地GNDとの間に抵抗14が接続されてい
る。FET13のソース電極Sには、一端が接地GND
に接続された2つのキャパシタC1、C2、および、キ
ャパシタC1、C2の他端問に接続された伝送線路1
5、そして、ソース電極Sから遠い側のキャパシタC2
と接地GND間に接続された抵抗16から構成された自
己バイアス回路が接続されている。なお、抵抗16は、
通常、半導体抵抗、あるいは、薄膜抵抗で構成される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Symbol IN indicates an input terminal, and input terminal I
N is connected to a matching circuit 12 via an input coupling capacitor 11. The matching circuit 12 is connected to the gate electrode G of the FET 13. The resistor 14 is connected between the gate electrode G of the FET 13 and the ground GND. One end of the source electrode S of the FET 13 is ground GND.
And the transmission line 1 connected to the other ends of the capacitors C1 and C2.
5, and the capacitor C2 far from the source electrode S
And a self-bias circuit composed of a resistor 16 connected between the ground GND. Note that the resistor 16 is
Usually, it is composed of a semiconductor resistor or a thin film resistor.
【0016】また、FET13のドレイン電極Dには、
ドレイン用のバイアス回路を構成するスタブ17、およ
び、スタブ17を接地するためのキャパシタC3が接続
されている。スタブ17とキャパシタC3の接続点に
は、バイアス端子Bdが接続されている。また、ドレイ
ン電極Dは、整合回路18に接続され、整合回路18は
出力カップリングキャパシタ19を介して出力端子OU
Tに接続されている。また、ドレイン電極Dと整合回路
18間に、入力波(周波数f)が出力しないように、入
力波を抑圧するためのスタブ20が接続されている。ス
タブ20は、たとえば入力波の波長(λ)の1/4の線
路長に形成される。Also, the drain electrode D of the FET 13
A stub 17 constituting a bias circuit for the drain and a capacitor C3 for grounding the stub 17 are connected. A bias terminal Bd is connected to a connection point between the stub 17 and the capacitor C3. Further, the drain electrode D is connected to a matching circuit 18, and the matching circuit 18 is connected to an output terminal OU via an output coupling capacitor 19.
Connected to T. Further, a stub 20 for suppressing the input wave is connected between the drain electrode D and the matching circuit 18 so that the input wave (frequency f) is not output. The stub 20 is formed, for example, with a line length of 1 / of the wavelength (λ) of the input wave.
【0017】ここで、FET13のソース電極Sに接続
された回路の特性について、その回路部分を抜き出した
図2を参照して説明する。図2では、図1に対応する部
分に同じ符号を付し重複する説明は省略する。キャパシ
タC1、C2の容量、および、伝送線路15の長さをあ
る値に選んだ場合、図2において、ソース電極Sから矢
印Y方向を見たインピーダンスの周波数特性は図3のよ
うになる。図3(a)はインピーダンスの絶対値を示
し、その横軸は周波数(f)、縦軸はインピーダンス
(Z)の絶対値である。また、図3(b)はスミスチャ
ートにおける軌跡を示している。図3で示すように、イ
ンピーダンスの絶対値は、特定の2倍の周波数(2×
f)と、これの2倍の周波数(4×f)でほぼ0とな
る。また、3倍の周波数(3×f)で大きくなり、3倍
の周波数(3×f)を抑圧するフィルタが構成される。Here, the characteristics of the circuit connected to the source electrode S of the FET 13 will be described with reference to FIG. In FIG. 2, the portions corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. When the capacitances of the capacitors C1 and C2 and the length of the transmission line 15 are selected to be certain values, the frequency characteristics of the impedance viewed from the source electrode S in the arrow Y direction in FIG. 2 are as shown in FIG. FIG. 3A shows the absolute value of the impedance. The horizontal axis represents the frequency (f), and the vertical axis represents the absolute value of the impedance (Z). FIG. 3B shows a locus in the Smith chart. As shown in FIG. 3, the absolute value of the impedance is twice the specific frequency (2 ×
f), and becomes almost zero at twice the frequency (4 × f). In addition, a filter that increases at the triple frequency (3 × f) and suppresses the triple frequency (3 × f) is configured.
【0018】したがって、FET13のソース電極に、
図2に示したバイアス回路を接続した逓倍器を構成し、
そして、このような構成の逓倍器を、たとえば逓倍器を
2段に縦列接続した周波数逓倍回路の後段の逓倍器とし
て適用する。この場合、後段の逓倍器は、3倍の周波数
(3×f)でバイアス回路が抵抗に見える。そのため、
2倍の周波数や4倍の周波数に比べ、3倍の周波数でF
ET13のゲインが減少し、不要波成分が抑圧される。
また、ゲート用のバイアス回路が抵抗で構成されている
ため、MMICのチップ面積も小さくできる。Therefore, the source electrode of the FET 13
A multiplier connected to the bias circuit shown in FIG.
The multiplier having such a configuration is applied as, for example, a subsequent multiplier of a frequency multiplier in which multipliers are connected in cascade in two stages. In this case, in the subsequent multiplier, the bias circuit looks like a resistor at the triple frequency (3 × f). for that reason,
F at 3 times frequency compared to 2 times or 4 times frequency
The gain of the ET 13 decreases, and unnecessary wave components are suppressed.
Further, since the gate bias circuit is constituted by resistors, the chip area of the MMIC can be reduced.
【0019】上記の実施形態では、逓倍器の場合で説明
している。しかし、上記した構成によれば、特定の周波
数たとえば入力信号と局部発振信号の差周波数を抑圧す
る特性が得られる。したがって、入力信号と局部発振信
号とを混合する混合器の中にFETが使用される場合、
そのソース電極にフィードバック回路を接続すれば、混
合器で発生したイメージ周波数を抑圧することもでき
る。In the above embodiment, the case of the multiplier has been described. However, according to the configuration described above, a characteristic of suppressing a specific frequency, for example, a difference frequency between an input signal and a local oscillation signal can be obtained. Therefore, if the FET is used in a mixer that mixes the input signal and the local oscillation signal,
If a feedback circuit is connected to the source electrode, the image frequency generated by the mixer can be suppressed.
【0020】また、上記した実施形態では、MMICに
使用する能動素子をFETの場合で説明している。しか
し、この発明は、FETに限らず、たとえば、バイポー
ラトランジスタなどにも適用できる。In the above-described embodiment, the case where the active element used for the MMIC is the FET is described. However, the present invention can be applied not only to FETs but also to, for example, bipolar transistors.
【0021】[0021]
【発明の効果】本発明によれば、自己バイアス回路を有
し、入力信号の高調波成分などを抑制できる半導体装置
を実現できる。According to the present invention, a semiconductor device having a self-bias circuit and capable of suppressing harmonic components of an input signal can be realized.
【図1】本発明の実施形態を説明するための回路構成図
である。FIG. 1 is a circuit configuration diagram for explaining an embodiment of the present invention.
【図2】本発明に使用されるバイアス回路を説明するた
めの回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram for explaining a bias circuit used in the present invention.
【図3】本発明の特性を説明するための特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram for explaining characteristics of the present invention.
【図4】従来例を説明するための回路構成図である。FIG. 4 is a circuit configuration diagram for explaining a conventional example.
【図5】従来例の特性を説明するための特性図である。FIG. 5 is a characteristic diagram for explaining characteristics of a conventional example.
【図6】従来例のバイアス回路を説明するための回路図
である。FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a conventional bias circuit.
【図7】従来例の逓倍器を縦列接続して構成した逓倍回
路を説明するための回路構成図である。FIG. 7 is a circuit configuration diagram for explaining a multiplication circuit configured by cascade-connecting conventional multipliers.
11…入力カップリングキャパシタ 12…整合回路 13…FET 14…抵抗 15…伝送線路 16…抵抗 17…スタブ 18…整合回路 19…出力カップリングキャパシタ 20…スタブ C1、C2、C3…キャパシタ IN…入力端子 OUT…出力端子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Input coupling capacitor 12 ... Matching circuit 13 ... FET 14 ... Resistor 15 ... Transmission line 16 ... Resistor 17 ... Stub 18 ... Matching circuit 19 ... Output coupling capacitor 20 ... Stub C1, C2, C3 ... Capacitor IN ... Input terminal OUT… Output terminal
Claims (3)
動素子の1つの電極にバイアス電圧を印加するバイアス
回路とを具備した半導体装置において、前記バイアス回
路が、一端が接地された2つのキャパシタと、この2つ
のキャパシタの他端間に接続された伝送線路と、前記1
つの電極から遠い側に位置するキャパシタの他端と接地
との間に接続された抵抗とで構成されていることを特徴
とする半導体装置。1. A semiconductor device comprising: an active element having a plurality of electrodes; and a bias circuit for applying a bias voltage to one electrode of the active element, wherein the bias circuit includes two capacitors each having one end grounded. And a transmission line connected between the other ends of the two capacitors;
A semiconductor device comprising: a resistor connected between the other end of a capacitor located far from one of the electrodes and ground;
た周波数逓倍回路。2. A frequency multiplier comprising the semiconductor device according to claim 1.
周波数逓倍回路において、請求項1の半導体装置を用い
て構成された周波数逓倍器が複数段の2段目以降に接続
された周波数逓倍回路。3. A frequency multiplier in which a plurality of frequency multipliers are connected in cascade in a frequency multiplier, wherein the frequency multiplier configured by using the semiconductor device according to claim 1 is connected to a second or subsequent one of the plurality of stages. circuit.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP11183959A JP2001016041A (en) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | Semiconductor device and frequency multiplexing circuit using the same |
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