JP2001007517A - Printed wiring board and its production - Google Patents

Printed wiring board and its production

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JP2001007517A
JP2001007517A JP17665099A JP17665099A JP2001007517A JP 2001007517 A JP2001007517 A JP 2001007517A JP 17665099 A JP17665099 A JP 17665099A JP 17665099 A JP17665099 A JP 17665099A JP 2001007517 A JP2001007517 A JP 2001007517A
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JP
Japan
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conductive paste
metal foil
printed wiring
adhesive layer
wiring board
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Application number
JP17665099A
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Japanese (ja)
Inventor
Masao Sugano
雅雄 菅野
Masashi Isono
雅司 磯野
Kenji Takai
健次 高井
Shigeharu Ariga
茂晴 有家
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Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board which is highly dense and excellent in reliability and in which interlayer connection is applied by a conductive paste, as well as a method for producing such a printed wiring board efficiently. SOLUTION: This printed wiring board includes conductor layers which are connected with each other by a conductive paste generating no air bubbles and having a volatility of <3 wt.%. This method for producing the printed wiring board includes (a) a step for making a hole to a metallic foil from the side of an adhesive layer at a desired place of the metallic foil with the adhesive layer; (b) a step for filling the hole with a conductive paste and reducing the volatility of the conductive paste to <3 wt.%; (c) a step for overlapping the metallic foil with the adhesive layer in which the conductive paste is buried in the surface of an inner layer circuit board, in a manner that the metallic foil may be placed outside, and pressurizing/heating it for integration of laminated layered; and (d) a step for working the outer metallic foil to form a conductor pattern.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板と
その製造法に関する。
[0001] The present invention relates to a printed wiring board and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、高性能化、多機能化
に伴い、多層プリント配線板には、より一層の高密度化
が求められるようになってきている。これらの要求を満
たすために、層間の薄型化、配線の微細化、層間接続穴
の小径化が行われ、また隣接する層間の導体のみを接続
するビアホール等が用いられるようになり、このビアホ
ールも小径化されつつある。配線の多層化には、通常、
複数の回路層とその回路層間の絶縁層をまとめて重ね、
加圧、加熱して積層一体化し、必要な箇所に穴をあけ接
続する多層配線板と、回路を形成した上に層間絶縁層を
形成し、その上に回路を形成し、必要な箇所に穴を設
け、というように回路層と絶縁層とを順次形成するビル
ドアップ多層配線板とがある。
2. Description of the Related Art With the miniaturization, high performance, and multifunctionality of electronic devices, multilayer printed wiring boards have been required to have higher densities. In order to satisfy these requirements, thinning between layers, miniaturization of wiring, and reduction in the diameter of interlayer connection holes have been performed, and via holes that connect only conductors between adjacent layers have been used. The diameter is getting smaller. For multi-layer wiring,
Multiple circuit layers and insulating layers between the circuit layers are piled together,
Multi-layer wiring board that presses, heats, laminates and integrates and drills holes where necessary, forms a circuit, forms an interlayer insulating layer on top, forms a circuit on it, and drills holes And a build-up multilayer wiring board in which a circuit layer and an insulating layer are sequentially formed.

【0003】このビルドアップ多層配線板の製造法の一
つとして、接着層に形成した穴に導電性ペーストを充填
し、内層回路板と加圧、加熱して前記接着層に形成した
外層回路と電気的に接続する方法がある。この後必要に
応じ、上記と同様の工程を繰り返すことにより、必要と
する多層回路が形成できる。
As one method of manufacturing this build-up multilayer wiring board, a hole formed in an adhesive layer is filled with a conductive paste, and an inner layer circuit board is pressed and heated to form an outer layer circuit formed in the adhesive layer. There is a method of electrically connecting. Thereafter, if necessary, the same steps as described above are repeated to form a required multilayer circuit.

【0004】そして、近年の多層プリント配線板の高密
度化によって、ビアホール径に対して、0.2mm、さ
らには0.1mm以下の要求がされつつあって、接着層
に形成した穴に導電性ペーストを充填する際、穴内での
溶剤の揮発によるボイドの発生を防止するために、無溶
剤や揮発量が3重量%未満の導電性ペーストを用いるこ
とが一般に行われている。
With the recent increase in the density of multilayer printed wiring boards, it has been required that the diameter of the via hole be 0.2 mm or even 0.1 mm or less. When filling the paste, in order to prevent generation of voids due to volatilization of the solvent in the holes, it is common practice to use a conductive paste having no solvent or a volatilization amount of less than 3% by weight.

【0005】ところが、このような無溶剤や揮発量が3
重量%未満の導電性ペーストを用いると、導電性ペース
トの粘度が高くなってしまい、穴径が小さい場合や接着
層の厚さが厚い場合、あるいは金属箔付接着層の非貫通
穴に導電性ペーストを充填する場合は、穴内への良好な
充填が困難であるという課題があった。
However, such a solvent-free or volatile amount is 3
If the conductive paste is used in an amount of less than 10% by weight, the viscosity of the conductive paste becomes high, and when the hole diameter is small, when the thickness of the adhesive layer is large, or when the non-through hole of the adhesive layer with metal foil is used, When filling the paste, there is a problem that it is difficult to fill the holes well.

【0006】この課題を解決する方法として、例えば、
特許第2601128号公報に開示されているように、
導電物質の含有量が比較的少なく印刷適性に優れた導電
性ペーストを非圧縮性の多孔質基材の貫通穴に充填し、
加熱加圧工程時において導電性ペースト中のバインダ成
分が非圧縮性の多孔質基材の空孔に浸透することによっ
て、導電性ペーストの導電物質の構成比を増大させる方
法が提案されている。
As a method for solving this problem, for example,
As disclosed in Japanese Patent No. 26001128,
Fill the through hole of the non-compressible porous base material with a conductive paste with relatively low content of conductive material and excellent printability,
There has been proposed a method in which the binder component in the conductive paste permeates the pores of the non-compressible porous base material during the heating and pressurizing step, thereby increasing the composition ratio of the conductive material in the conductive paste.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、特許第260
1128号公報に開示されている方法には、非圧縮性の
多孔質基材という特殊な材料を用いなければならず、穴
あけの条件や取り扱いが通常のプリント配線板用材料と
異なるので製造が効率的でなく、また、多孔質であるた
め接着剤にも特殊なものを使用しなければならないとい
う課題があった。
However, Patent No. 260
In the method disclosed in Japanese Patent No. 1128, a special material called an incompressible porous base material must be used, and the drilling conditions and handling are different from those of ordinary materials for printed wiring boards, so that production is efficient. However, there is a problem that a special adhesive must be used because it is porous and porous.

【0008】本発明は、高密度で信頼性に優れた、導電
性ペーストによる層間の接続をしたプリント配線板と、
そのようなプリント配線板を効率よく製造する方法を提
供することを目的とする。
[0008] The present invention provides a printed wiring board having a high density and excellent reliability, in which layers are connected by a conductive paste,
An object of the present invention is to provide a method for efficiently manufacturing such a printed wiring board.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のプリント配線板
は、導体層間の接続を、揮発量が3重量%未満でかつ気
泡のない導電性ペーストで接続したことを特徴とする。
The printed wiring board of the present invention is characterized in that the connection between the conductor layers is made by a conductive paste having a volatilization amount of less than 3% by weight and having no bubbles.

【0010】また、本発明のプリント配線板の製造法
は、以下の工程を有することを特徴とする。 (a)接着層付金属箔の所望の箇所に、接着層側から金
属箔に達する穴をあける工程 (b)その穴に導電粒子と樹脂と揮発分からなる導電性
ペーストを充填し、導電性ペーストの揮発量を3重量%
未満にまで低下させる工程 (c)内層回路板の表面に導電性ペーストを埋めた接着
層付金属箔を、金属箔が外側になるようにして重ね、加
圧・加熱して積層一体化する工程 (d)外側の金属箔を加工して導体パターンを形成する
工程
[0010] A method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention is characterized by comprising the following steps. (A) a step of making a hole reaching the metal foil from the side of the adhesive layer at a desired position of the metal foil with an adhesive layer; (b) filling the hole with a conductive paste made of conductive particles, a resin and volatile components, 3% by weight
(C) a step of laminating a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of the inner circuit board so that the metal foil is on the outside, and pressing and heating to laminate and integrate (D) forming a conductor pattern by processing the outer metal foil;

【0011】さらにまた、本発明のプリント配線板の製
造法は、以下の工程を有することを特徴とする。 (a1)接着層付金属箔の所望の箇所に、接着層と金属
箔を貫通する穴をあける工程 (b)その穴に導電粒子と樹脂と揮発分からなる導電性
ペーストを充填し、導電性ペーストの揮発量を3重量%
未満にまで低下させる工程 (c)内層回路板の表面に導電性ペーストを埋めた接着
層付金属箔を、金属箔が外側になるようにして重ね、加
圧・加熱して積層一体化する工程 (c1)積層一体化した基板の表面に金属めっきを行っ
て、導電性ペーストと金属箔を電気的に接続する工程 (d)外側の金属箔を加工して導体パターンを形成する
工程
Further, the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention is characterized by comprising the following steps. (A1) A step of making a hole penetrating the adhesive layer and the metal foil at a desired position of the metal foil with the adhesive layer. (B) Filling the hole with a conductive paste made of conductive particles, a resin and volatile components, 3% by weight
(C) a step of laminating a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of the inner circuit board so that the metal foil is on the outside, and pressing and heating to laminate and integrate (C1) a step of performing metal plating on the surface of the integrated substrate and electrically connecting the conductive paste and the metal foil; and (d) a step of processing the outer metal foil to form a conductor pattern.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の導電性ペーストには、導
電粒子と樹脂及び揮発分を主成分とするもので、揮発量
が3重量%以上のものが使用できる。この揮発量は、粘
度を10〜100Pa・sの範囲にすることが好まし
い。揮発量が3重量%未満であると、粘度が高くなり充
填されない箇所が気泡として残るおそれがある。粘度が
10Pa・s未満では、導電性ペーストが流れすぎて印
刷しづらい。さらに粘度を100Pa・s以下にするに
は、揮発量が5重量%以上であることがより好ましい。
また、揮発量は30重量%以下が好ましい。揮発量が3
0重量%を越えても効果には変化がないが、揮発させる
時間が長くなるので経済的でない。導電性ペーストの導
電粒子には、銀や銅あるいは表面を銀で被覆した銅等を
用いることができる。樹脂には、エポキシ樹脂、フェノ
ール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等を
用いることができる。揮発分には、乳酸エチル、エチル
カルビトール、ブチルセロソルブアセテート等の有機溶
剤を用いることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The conductive paste of the present invention contains conductive particles, a resin and volatile components as main components, and has a volatile content of 3% by weight or more. This volatilization amount preferably has a viscosity in the range of 10 to 100 Pa · s. If the volatilization amount is less than 3% by weight, the viscosity may increase and unfilled portions may remain as bubbles. When the viscosity is less than 10 Pa · s, the conductive paste flows too much and printing is difficult. In order to further reduce the viscosity to 100 Pa · s or less, the volatilization amount is more preferably 5% by weight or more.
Further, the volatilization amount is preferably 30% by weight or less. Volatility is 3
If the content exceeds 0% by weight, there is no change in the effect, but it is not economical because the volatilization time becomes long. Silver or copper, copper whose surface is coated with silver, or the like can be used as the conductive particles of the conductive paste. As the resin, an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, or the like can be used. Organic solvents such as ethyl lactate, ethyl carbitol, and butyl cellosolve acetate can be used for volatile components.

【0013】接着層には、エポキシやポリイミド類を成
分として含むものが使用でき、分子量10万以上の高分
子量エポキシ重合体を主成分としたエポキシ系接着フィ
ルム、変成ゴムを添加したエポキシ系接着フィルム、ポ
リイミド系接着フィルム、直径が1.0μm〜6μmで
長さが5μm〜1mmの繊維状物質をエポキシ樹脂中に
分散させたエポキシ系接着剤フィルムが使用できる。
As the adhesive layer, those containing epoxy or polyimide as a component can be used, and an epoxy adhesive film containing a high molecular weight epoxy polymer having a molecular weight of 100,000 or more as a main component, an epoxy adhesive film containing modified rubber And polyimide-based adhesive films, and epoxy-based adhesive films in which a fibrous substance having a diameter of 1.0 μm to 6 μm and a length of 5 μm to 1 mm are dispersed in an epoxy resin.

【0014】(工程a,a1)層間の電気的接続を行う
場所に穴をあける方法には、ドリルとレーザーを用いる
ことができる。工程aにおいて金属箔に達する穴をあけ
るには、レーザーを用いるのが好ましく、レーザーには
エキシマレーザーや炭酸ガスレーザーを用いることがで
き、加工速度や加工費等の点から炭酸ガスレーザーが好
適である。工程a1においては、経済的なので、ドリル
を用いるのが好ましい。
(Steps a and a1) A drill and a laser can be used as a method of making a hole at a place where an electrical connection between layers is to be made. In step a, it is preferable to use a laser to make a hole reaching the metal foil, and an excimer laser or a carbon dioxide gas laser can be used as the laser, and a carbon dioxide gas laser is preferable in terms of processing speed and processing cost. is there. In step a1, it is preferable to use a drill because it is economical.

【0015】(工程b)その穴に導電性ペーストを充填
し、導電性ペーストの揮発量を3重量%未満にまで低下
させるには、工程cの前に、加熱工程を設けることによ
って行うことができる。揮発量を3重量%未満にする加
熱条件は、導電性ペーストやその充填量によって異な
り、温度が高い場合は短時間で良いが、一般的には温度
を80℃〜130℃、時間を5分〜30分の範囲とする
のが好ましい。温度が高く、時間を長くする程、導電性
ペースト中の揮発量を低下させることができるが、同時
に加熱される接着層が硬化してしまうと、その硬化した
ときの形状を維持するので、凹凸があると、後の工程に
おいて加工が困難になることもあり、接着層が硬化しな
い程度の条件が好ましい。また、温度が低いと時間がか
かりすぎる。
(Step b) Filling the hole with a conductive paste and reducing the volatilization amount of the conductive paste to less than 3% by weight can be performed by providing a heating step before the step c. it can. The heating conditions for reducing the volatilization amount to less than 3% by weight depend on the conductive paste and the filling amount thereof, and when the temperature is high, a short time is sufficient, but generally the temperature is 80 ° C. to 130 ° C. and the time is 5 minutes. It is preferable to set the range to 30 minutes. The higher the temperature and the longer the time, the lower the volatilization amount in the conductive paste can be.However, if the adhesive layer that is heated at the same time is hardened, the hardened shape is maintained, If there is, processing may be difficult in a subsequent step, and a condition that does not cure the adhesive layer is preferable. On the other hand, when the temperature is low, it takes too much time.

【0016】(工程c)内層回路板の表面に導電性ペー
ストを埋めた接着層付金属箔を、金属箔が外側になるよ
うにして重ね、加圧・加熱して積層一体化するには、通
常の多層プリント配線板に用いる積層技術をそのまま使
用することができる。一般的には、温度を160〜18
0℃、圧力を1〜4MPa、時間を30〜120分位の
条件である。
(Step c) To laminate a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of the inner layer circuit board so that the metal foil is on the outside and press and heat to laminate and integrate The laminating technique used for ordinary multilayer printed wiring boards can be used as it is. Generally, the temperature is 160-18
The conditions are 0 ° C., a pressure of 1 to 4 MPa, and a time of about 30 to 120 minutes.

【0017】(工程c1)金属箔と接着層を貫通する穴
に埋められた導電性ペーストと外層の金属箔との接続を
行うために、積層一体化した基板の表面に金属めっきを
行う工程である。金属めっきには、銅めっき、ニッケル
めっき、などの安価な金属めっきを行うことができ、め
っき方法には、無電解めっきでも電解めっきでも用いる
ことはできるが、経済的なことから、電解めっきを用い
るのが好ましい。
(Step c1) In the step of performing metal plating on the surface of the laminated and integrated substrate in order to connect the conductive paste filled in the hole penetrating the metal foil and the adhesive layer with the outer metal foil. is there. Inexpensive metal plating such as copper plating and nickel plating can be used for metal plating.Electroless plating or electrolytic plating can be used for the plating method. It is preferably used.

【0018】(工程d)外側の金属箔を加工して導体パ
ターンを形成するには、回路の形状にエッチングレジス
トを形成して、エッチングレジストに覆われていない箇
所を、化学エッチング液に接触させることによって、選
択的に金属箔を除去し、回路を形成することができる。
(Step d) In order to form a conductor pattern by processing the outer metal foil, an etching resist is formed in the shape of a circuit, and a portion not covered with the etching resist is brought into contact with a chemical etching solution. Thereby, the metal foil can be selectively removed to form a circuit.

【0019】[0019]

【実施例】実施例 (内層回路板の作製工程)基材の厚さが0.6mm、銅
箔の厚さ18μmのガラス布−エポキシ樹脂含浸両面銅
張り積層板であるMCL−679(日立化成工業株式会
社製、商品名)を使用し、穴あけ、無電解銅めっきを行
いスルーホールを形成し、不要な箇所の銅箔をエッチン
グ除去して内層回路を形成し、続いて、シルクスクリー
ン印刷法によって、スルーホールの箇所に、熱硬化性樹
脂としてCCR−506(株式会社アサヒ化学研究所、
商品名)を塗布して穴を埋め、加熱硬化した後、穴から
はみ出した樹脂を研磨して除去し、内層回路板を作製し
た。
EXAMPLES (Process of manufacturing inner circuit board) MCL-679 (Hitachi Chemical Co., Ltd.) is a glass cloth-epoxy resin impregnated double-sided copper-clad laminate having a base material thickness of 0.6 mm and a copper foil thickness of 18 μm. Drilling and electroless copper plating to form through-holes, remove unnecessary portions of copper foil by etching to form inner layer circuits, and then use silk-screen printing As a result, CCR-506 (Asahi Chemical Laboratory Co., Ltd.,
After filling the hole by applying (trade name) and curing by heating, the resin protruding from the hole was polished and removed to prepare an inner layer circuit board.

【0020】(工程a)厚さ18μmの銅箔の片面に厚
さ55μmのエポキシ系接着剤層を設けた、MCF−3
000E(日立化成工業株式会社製、商品名)を用い、
接着層の表面に厚さ15μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムをロールラミネーターで貼り合わせた接着
層付金属箔の接着層の側から、炭酸ガスインパクトレー
ザー孔あけ機L−500(住友重機械工業株式会社製、
商品名)により、周波数=150Hz、電圧=20k
V、パルスエネルギー=85mJ、ショット数=7ショ
ットの条件で、レーザー光を照射し、層間接続をとる部
分の樹脂を取り除き、銅箔まで届く直径0.15mmの
穴をあけた。
(Step a) MCF-3 having an epoxy adhesive layer having a thickness of 55 μm provided on one surface of a copper foil having a thickness of 18 μm.
000E (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
From the side of the adhesive layer of the metal foil with an adhesive layer in which a 15 μm-thick polyethylene terephthalate film was adhered to the surface of the adhesive layer with a roll laminator, a carbon dioxide gas impact laser drilling machine L-500 (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.
According to the product name), frequency = 150Hz, voltage = 20k
Under a condition of V, pulse energy = 85 mJ, and number of shots = 7 shots, a laser beam was irradiated to remove the resin at the portion for making interlayer connection, and a hole having a diameter of 0.15 mm reaching the copper foil was made.

【0021】(工程b)穴をあけた接着層付金属箔に、
導電性ペーストMP−200V−5(日立化成工業株式
会社製、商品名)をポリエチレンテレフタレートフィル
ム面上からスクリーン印刷法によって充填した。このと
きの導電性ペーストの揮発量は、5重量%であった。ま
た、粘度は60Pa・sであった。この導電性ペースト
を充填した接着層付金属箔を、110℃で15分加熱し
て、導電性ペーストの揮発量を2重量%にした。さら
に、ポリエチレンテレフタレートフィルムを引き剥がし
た。
(Step b) On the metal foil with an adhesive layer having a hole,
A conductive paste MP-200V-5 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was filled from above the surface of the polyethylene terephthalate film by a screen printing method. At this time, the volatile amount of the conductive paste was 5% by weight. The viscosity was 60 Pa · s. The metal foil with an adhesive layer filled with the conductive paste was heated at 110 ° C. for 15 minutes to reduce the volatilization amount of the conductive paste to 2% by weight. Further, the polyethylene terephthalate film was peeled off.

【0022】(工程c)接着層付金属箔を内層回路板の
両側に重ね、圧力2.94MPa、温度175℃、90
分の条件で積層一体化し、積層体を得た。
(Step c) A metal foil with an adhesive layer is laminated on both sides of the inner circuit board, and the pressure is 2.94 MPa, the temperature is 175 ° C., and the
The laminate was integrated under the conditions of minutes to obtain a laminate.

【0023】(工程d)積層体の両面に、エッチングレ
ジストフィルムHK−425(日立化成工業株式会社
製、商品名)をラミネートし、フォトマスクを重ね、紫
外線を照射し、現像してエッチングレジストを形成し、
不要な銅をエッチング除去して外層回路を形成し、プリ
ント配線板を作製した。
(Step d) An etching resist film HK-425 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is laminated on both sides of the laminate, a photomask is overlaid, ultraviolet rays are irradiated and developed, and the etching resist is removed. Forming
Unnecessary copper was removed by etching to form an outer layer circuit, and a printed wiring board was manufactured.

【0024】この実施例のプリント配線板の導通抵抗
は、400個のビアをシリーズに接続した状態で、2.
5Ωで、表面の回路部分の抵抗2Ωを引いて得られるビ
ア抵抗は、1ビアホールあたり1.25mΩであった。
また、260℃のはんだ槽に3分フロートした場合や熱
サイクル試験として−65℃と125℃の気相中に30
分ずつ1000回浸積した場合の導電性ペーストの抵抗
の変化率は、5%以下であった。
The continuity resistance of the printed wiring board of this embodiment is as follows: 1. With 400 vias connected in series.
The via resistance obtained by subtracting the resistance of 2 Ω of the circuit portion on the surface from 5 Ω was 1.25 mΩ per via hole.
Further, when the sample is floated in a solder bath at 260 ° C. for 3 minutes or in a gas phase at −65 ° C. and 125 ° C.
The rate of change in resistance of the conductive paste when immersed 1000 times per minute was 5% or less.

【0025】比較例 (内層回路板の作製工程)実施例と同様の方法により、
内層回路板を作製した。 (工程a)実施例と同様の方法により、穴をあけた接着
層付金属箔を作製した。 (工程b)導電性ペーストに、CB100(デュポン株
式会社製、商品名)を用いた以外は、実施例と同様にし
て作製した。このとき導電性ペーストの揮発量は2重量
%であった。また、粘度は135Pa・sであった。 (工程c)実施例と同様にして、積層体を作製した。 (工程d)実施例と同様にして外層回路を形成し、プリ
ント配線板を作製した。この比較例のプリント配線板の
導通抵抗は、400個のビアをシリーズに接続した状態
で、1MΩ以上であった。この原因を調べるため、アク
リル樹脂で注型し、ビアホールの部分の断面を観察した
結果、穴内に空隙を巻き込んで導電性ペーストが充填さ
れたためと判明した。
Comparative Example (Process for Producing Inner-Layer Circuit Board)
An inner circuit board was produced. (Step a) A metal foil with an adhesive layer with holes was prepared in the same manner as in the example. (Step b) Except that CB100 (trade name, manufactured by DuPont) was used as the conductive paste, it was prepared in the same manner as in the example. At this time, the volatilization amount of the conductive paste was 2% by weight. The viscosity was 135 Pa · s. (Step c) A laminate was produced in the same manner as in the example. (Step d) An outer layer circuit was formed in the same manner as in the example, and a printed wiring board was manufactured. The conduction resistance of the printed wiring board of this comparative example was 1 MΩ or more when 400 vias were connected in series. In order to investigate the cause, casting with an acrylic resin and observing the cross section of the via hole portion revealed that the conductive paste was filled by entrapping voids in the holes.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明によっ
て、高密度で信頼性に優れた、導電性ペーストによる層
間の接続をしたプリント配線板と、そのようなプリント
配線板を効率よく製造する方法を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention, a printed wiring board having a high-density and excellent reliability, in which layers are connected by a conductive paste, and a method for efficiently manufacturing such a printed wiring board. Can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/40 H05K 3/40 K (72)発明者 高井 健次 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 有家 茂晴 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 Fターム(参考) 4E351 AA01 BB31 CC14 CC20 DD02 DD52 EE11 GG16 5E317 AA24 CC25 CC32 CD27 CD32 5E346 AA43 CC08 CC31 DD23 EE13 EE18 FF13 FF18 GG08 GG09 GG15 GG17 GG28 HH31 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/40 H05K 3/40 K (72) Inventor Kenji Takai 1500 Oji Ogawa, Shimodate City, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd. Shimodate Research Institute, Inc. (72) Inventor Shigeharu Ariya 1500 Ogawa, Oji, Shimodate City, Ibaraki Prefecture F-term in Shimodate Research Laboratory, Hitachi Chemical Co., Ltd. AA43 CC08 CC31 DD23 EE13 EE18 FF13 FF18 GG08 GG09 GG15 GG17 GG28 HH31

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】導体層間の接続を、揮発量が3重量%未満
でかつ気泡のない導電性ペーストで接続したことを特徴
とするプリント配線板。
1. A printed wiring board wherein the connection between conductive layers is made by a conductive paste having a volatilization amount of less than 3% by weight and having no bubbles.
【請求項2】以下の工程を有することを特徴とするプリ
ント配線板の製造法。 (a)接着層付金属箔の所望の箇所に、接着層側から金
属箔に達する穴をあける工程 (b)その穴に導電粒子と樹脂と揮発分からなる導電性
ペーストを充填し、導電性ペーストの揮発量を3重量%
未満にまで低下させる工程 (c)内層回路板の表面に導電性ペーストを埋めた接着
層付金属箔を、金属箔が外側になるようにして重ね、加
圧・加熱して積層一体化する工程 (d)外側の金属箔を加工して導体パターンを形成する
工程
2. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising the following steps. (A) a step of making a hole reaching the metal foil from the side of the adhesive layer at a desired position of the metal foil with an adhesive layer; (b) filling the hole with a conductive paste made of conductive particles, a resin and volatile components, 3% by weight
(C) a step of laminating a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of the inner circuit board so that the metal foil is on the outside, and pressing and heating to laminate and integrate (D) forming a conductor pattern by processing the outer metal foil;
【請求項3】以下の工程を有することを特徴とするプリ
ント配線板の製造法。 (a1)接着層付金属箔の所望の箇所に、接着層と金属
箔を貫通する穴をあける工程 (b)その穴に導電粒子と樹脂と揮発分からなる導電性
ペーストを充填し、導電性ペーストの揮発量を3重量%
未満にまで低下させる工程 (c)内層回路板の表面に導電性ペーストを埋めた接着
層付金属箔を、金属箔が外側になるようにして重ね、加
圧・加熱して積層一体化する工程 (c1)積層一体化した基板の表面に金属めっきを行っ
て、導電性ペーストと金属箔とを電気的に接続する工程 (d)外側の金属箔を加工して導体パターンを形成する
工程
3. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising the following steps. (A1) A step of making a hole penetrating the adhesive layer and the metal foil at a desired position of the metal foil with the adhesive layer. (B) Filling the hole with a conductive paste made of conductive particles, a resin and volatile components, 3% by weight
(C) a step of laminating a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of the inner circuit board so that the metal foil is on the outside, and pressing and heating to laminate and integrate (C1) Step of performing metal plating on the surface of the laminated and integrated substrate to electrically connect the conductive paste and the metal foil (d) Step of processing the outer metal foil to form a conductor pattern
【請求項4】工程(d)で作製したプリント配線板を工
程(c)の内層回路板として用いることを特徴とする請
求項2または3に記載のプリント配線板の製造法。
4. The method for producing a printed wiring board according to claim 2, wherein the printed wiring board prepared in the step (d) is used as an inner layer circuit board in the step (c).
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