JP2001005138A - 塗布液および熱現像画像記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗布に際して塗布面状の悪化がなく、塗布・
乾燥して作成された熱現像感材の取扱い中に搬送不良に
よる熱処理ムラ等を生じない最外層塗布液を提供するこ
と。 【解決手段】 支持体の少なくとも一方に少なくとも画
像形成層と最外層を有し、８０℃以上１４０℃以下の現
像温度で熱現像処理が行われる熱現像画像記録材料の、
最外層を形成するために使用する最外層塗布液であっ
て、ラテックスを含有しシリコーン含有量が５０ｐｐｍ
以下の水系塗布液であることを特徴とする最外層塗布
液。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像画像記録材料
に関するものであり、特に写真製版用に用いられる熱現
像画像記録材料に関し、スキャナー、イメージセッター
用画像記録材料に関し、さらに詳しくは、熱現像でフィ
ルムの搬送性トラブルがなくかつ傷付き故障のない熱現
像画像記録材料に関する。さらに写真性能を悪化するこ
とのない帯電防止性に優れたカラー写真製版に適する熱
現像画像記録材料、熱現像用マイクロ感材及び熱現像用
のレントゲン感材にも関するものである。

【０００２】

【従来の技術】写真感光材料の露光方法の一つに、原図
を走査し、その画像信号に基づいてハロゲン化銀写真感
光材料上に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像
もしくはポジ画像を形成するいわゆるスキャナー方式に
よる画像形成方法が知られている。さらにスキャナーか
らフィルムに出力した後、返し工程を経ずに直接刷版に
焼き付けるケースやソフトなビームプロファイルを有す
るスキャナー光源に対しては超硬調な特性を有するスキ
ャナー感材が求められている。支持体上に感光層を有
し、画像露光することで画像形成を行う感光材料は、数
多く知られている。それらの中でも、環境保全や画像形
成手段が簡易にできるシステムとして、熱現像により画
像を形成する技術が挙げられる。近年写真製版分野にお
いて環境保全、省スペースの観点から処理廃液の減量が
強く望まれている。そこで、レーザー・スキャナーまた
はレーザー・イメージセッターにより効率的に露光させ
ることができ、高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒
色画像を形成することができる写真製版用途の感光性熱
現像材料に関する技術が必要とされている。これらの感
光性熱現像材料では、溶液系処理化学薬品の使用をなく
し、より簡単で環境を損なわない熱現像処理システムを
顧客に対して供給することができる。

【０００３】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、およびＤ．
モーガン(Morgan)とＢ．シェリー(Shely)による「熱に
よって処理される銀システム（Thermally Processed
Silver Systems）」（イメージング・プロセッシーズ
・アンド・マテリアルズ（Imaging Processes and Mate
rials) Neblette 第８版、スタージ(Sturge)、V．ウォ
ールワース(Walworth)、Ａ．シェップ(Shepp)編集、第
２頁、1969年）に記載されている。このような感光材料
は、還元可能な非感光性の銀源（例えば有機銀塩）、触
媒活性量の光触媒（例えばハロゲン化銀）、および銀の
還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に分散した
状態で含有している。感光材料は常温で安定であるが、
露光後高温（例えば８０℃以上）に加熱した場合に、還
元可能な銀源（酸化剤として機能する）と還元剤との間
の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反
応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促進され
る。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。

【０００４】この場合、フィルムの取り扱いは従来の湿
式に比べ、その簡便性から今まで以上に過酷に取り扱わ
れる。例えば、高速搬送での搬送性や傷付きであり、現
像中でにおけるジャミングや搬送ローラーへの巻き付き
故障の原因となる。さらにまたは保存中に感材の表面と
バック面がくっ付く故障を発生する。そして、静電気に
よる帯電故障のゴミ付きとなり商品価値を著しく低下さ
せる。これらの、課題を解決するために熱現像感材が提
案されているが、その作成に当たっては従来感材で中心
であったゼラチンバインダーが、熱に対して収縮するこ
とから利用できないという大きな問題に当たっている。
この解決として、疎水性ポリマーであるラテックスバイ
ンダーが鋭意研究されてきた。しかし、その作成に際し
て大きな問題として塗布適性が不良となることが挙げら
れ、その改善がポイントとなっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこれら従来技
術の問題点を解消することを解決すべき課題とした。す
なわち、本発明は、熱現像塗布に際して塗布面状の悪化
のない最外層塗布液を提供すること解決すべき課題の一
つとした。さらに、塗布・乾燥して作成された熱現像感
材の取扱い中に搬送不良による熱処理ムラを発生しない
熱現像画像記録材料を提供すること解決すべき課題の一
つとした。さらにまた取扱い中に傷の付きにくいかつ接
着跡のつきにくい熱現像画像記録材料を提供すること解
決すべき課題の一つとした。又、取り扱い時におけるゴ
ミ付き故障や静電気トラブルのない熱現像画像記録材料
を提供することを解決すべき課題の一つとした。更にま
た熱現像後の時間経過における寸法変化が少ない熱現像
画像記録材料を提供することを解決すべき課題の一つと
した。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討を重ねた結果、ラテックスを含
有しシリコーン含有量が特定濃度以下である水系塗布液
を用いて最外層を形成すれば所期の効果を奏する優れた
熱現像画像形成材料を製造しうることを見出し、本発明
を提供するに至った。すなわち本発明によれば、支持体
の少なくとも一方に少なくとも画像形成層と最外層を有
し、８０℃以上１４０℃以下の現像温度で熱現像処理が
行われる熱現像画像記録材料の、最外層を形成するため
に使用する最外層塗布液であって、ラテックスを含有し
シリコーン含有量が５０ｐｐｍ以下の水系塗布液である
ことを特徴とする最外層塗布液が提供される。本発明の
好ましい態様では、最外層塗布液は滑り剤分散微粒子を
含有する。また、含フッ素系界面活性剤を含有すること
も好ましい。さらに、本発明の最外層塗布液は表面張力
が２２ダイン／ｃｍ以上３５ダイン／ｃｍ以下であり、
また、ｐＨが２以上７以下であることが好ましい。本発
明の別の側面によれば、支持体の少なくとも一方に熱現
像画像形成層と最外層を有し、８０℃以上１４０℃以下
の現像温度で熱現像処理が行われる熱現像画像記録材料
において、最外層がラテックスと滑り剤分散物を含有し
シリコーン含有量が５０ｐｐｍ以下である最外層塗布液
を塗布・乾燥して作成されたことを特徴とする熱現像画
像記録材料が提供される。本発明の好ましい態様では、
熱現像画像記録材料は、最外層の内側に形成された１以
上の層も、ラテックスと滑り剤分散物を含有しシリコー
ン含有量が５０ｐｐｍ以下である塗布液を塗布・乾燥し
て作成されたものであることが好ましい。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下に本発明の最外層塗布液およ
び熱現像画像記録材料の実施態様および実施方法につい
て詳細に説明する。本発明の最外層塗布液は、最外層バ
インダーとしてのラテックスを含有することを一つの特
徴とする。ラテックスは、水不溶な疎水性ポリマーが微
細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したバインダー
である。本発明で用いられるラテックスは、分散状態と
してはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化
重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリ
マー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が
分子状分散したものなどいずれでもよい。なお本発明に
好ましく用いるラテックスについては、「合成樹脂エマ
ルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(197
8))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、
鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(199
3))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊
行会発行(1970))」などに記載されている。本発明のラ
テックス分散粒子の平均粒径は、１〜5000nm、より好ま
しくは5〜1000nm、特に好ましくは２０〜３００ｎｍで
ある。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、
広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つも
のでもよい。本発明のラテックスは、均一構造のポリマ
ーのラテックスでもよく、あるいはいわゆるコア／シェ
ル型のポリマーのラテックスでもよい。この場合コアと
シェルはガラス転移温度を変えてもよい。

【０００８】本発明の最外層用バインダーに用いるポリ
マーラテックスのポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は
種々の機器と接触するために膜強度、接着故障防止の観
点から１５℃〜１００℃のガラス転移温度が特に好まし
い。本発明のポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)
は−３０℃〜９０℃、より好ましくは０℃〜８０℃程度
が好ましい。最低造膜温度をコントロールするために造
膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は一時可塑剤ともよ
ばれポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有
機化合物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテッ
クスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に
記載されている。本発明の最外層用ポリマーラテックス
に用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム
系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオ
レフィン樹脂、またはこれらの共重合体などがある。ポ
リマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマ
ーでも、また架橋されたポリマーでも良い。またポリマ
ーとしては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリ
マーでも良いし、二種以上のモノマーが重合したコポリ
マーでも良い。コポリマーの場合はランダムコポリマー
でもブロックコポリマーでも良い。ポリマーの分子量は
重量平均分子量で５０００〜１００００００、好ましく
は１００００〜１０００００程度が好ましい。分子量が
小さすぎるものはバインダーとしての力学強度が不十分
であり、大きすぎるものは造膜性が悪く好ましくない。

【０００９】本発明の熱現像画像記録材料の最外層塗布
液中に用いられるポリマーラテックスの具体例としては
以下のようなものがある。メチルメタクリレート／エチ
ルメタクリレート／メタクリル酸コポリマー、メチルメ
タクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ヒド
ロキシエチルメタクリレート／スチレン／アクリル酸コ
ポリマー、スチレン／ブタジエン／アクリル酸コポリマ
ー、スチレン／ブタジエン／ジビニルベンゼン／メタク
リル酸コポリマー、メチルメタクリレート／塩化ビニル
／アクリル酸コポリマー、塩化ビニリデン／エチルアク
リレート／アクリロニトリル／メタクリル酸コポリマー
など。またこのようなポリマーは市販もされていて、以
下のようなポリマーが利用できる。例えばアクリル樹脂
の例として、セビアンA-4635,46583、4601(以上ダイセ
ル化学工業（株）製)、Nipol Lx811、814、821、820、8
57、857x2(以上日本ゼオン（株）製)、VONCORT R3340、
R3360、R3370、4280、2830、2210（以上大日本インキ化
学（株）製）、ジュリマーET-410、530、SEK101-SEK30
1、FC30、FC35（以上日本純薬（株）製）、ポリゾールF
410、AM200、AP50（以上昭和高分子（株）製）など、ポ
リエステル樹脂としては、FINETEX ES650、611、675、8
50(以上大日本インキ化学（株）製)、WD-size、WMS(以
上イーストマンケミカル製)など、ポリウレタン樹脂と
してはHYDRAN AP10、20、30、40、VONDIC 1320NS(以上
大日本インキ化学（株）製)など、ゴム系樹脂としてはL
ACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C、LQ-618-1(以上大
日本インキ化学（株）製)、Nipol Lx416、410、430、43
5、2507(以上日本ゼオン（株）製)など、塩化ビニル樹
脂としてはNipol G351、G576(以上日本ゼオン（株）製)
など、塩化ビニリデン樹脂としてはL502、L513(以上旭
化成工業（株）製)、アロンD7020、D5040、D5071（以上
東亜合成（株）製）など、オレフィン樹脂としてはケミ
パールS120、SA100(以上三井石油化学（株）製)などを
挙げることができる。これらポリマーは単独で用いても
よいし、必要に応じて二種以上ブレンドして用いても良
い。

【００１０】本発明の最外層塗布液に添加されるポリマ
ーラテックスーとしては、アクリル系、スチレン系、ア
クリル／スチレン系、塩化ビニル系、塩化ビニリデン系
のポリマーラテックスが好ましく用いられる。具体的に
はアクリル樹脂系のVONCORTR3370、4280、Nipol Lx85
7、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリ
レート／ヒドロキシエチルメタクリレート／スチレン／
アクリル酸コポリマー、塩化ビニル樹脂のNipol G576、
塩化ビニリデン樹脂のアロンD5071が好ましく用いられ
る。また、スチレン／ブタジエン系のポリマーラテック
スが好ましく用いられ、具体的にはゴム系樹脂のLACSTA
R3307B、Nipol Lx430、435が好ましく用いられる。本発
明のバインダーには必要に応じて全バインダーの２５wt
%以下の範囲で親水性ポリマーを含有してもよく、例え
ば、各種ゼラチン類（アルカリ処理、酸処理、酵素処
理、改質（フタル化、コハク化、トリメリト化など）、
変性、特別な分子量分布等のゼラチンなど）、置換もし
くは無置換のセルロース類、天然物のアラビアゴム、デ
キストランなどの親水性バインダーやポリビニルアルコ
ール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピル
メチルセルロースなどを添加してもよい。さらに好まし
くは、親水性ポリマーの添加量は最外層の全バインダー
の１５wt%以下が好ましい。

【００１１】本発明の最外層塗布液のラテックス濃度
は、１〜４０重量％であり、より好ましくは５〜３５重
量％であり、特に好ましく５〜３０重量％である。そし
て、塗布・乾燥後の熱現像画像感材中のラテックスの含
有量は、０．５〜１０．０g／m ²が好ましく、より好ま
しくは０．８〜５．０g／m²の範囲が好ましい。本発明
のラッテクスを有する最外層塗布液中に、硬化剤を用い
て架橋することも好ましい。さらに、親水性ポリマーを
併用する場合特に好ましい。好ましい架橋剤としては、
公知の硬化剤を使用することができる。これらは、例え
ば、前記ＲＤ３０７１０５、第Ｘ章の文献に記載されて
いる化合物を使用することができる。その中でもイソシ
アネート基を２つ以上有する多官能イソシアネート化合
物やエポキシ化合物などの使用が好ましい。この様な硬
化剤を使用することによって高分子量化し、ラテックス
や親水性ポリマーの架橋により熱現像時の高温度による
膜の軟膜化を防止することができ、強いフィルム形成性
膜を賦与することができる。最外層塗布液には、必要に
応じてマット剤、塗布助剤、濡れ剤などを含有してもよ
い。

【００１２】次に本発明で最外層塗布液に添加される滑
り剤について記す。本発明で好ましく利用される滑り剤
分散微粒子においては、感材を塗布・乾燥して作成した
後、表面あるいは表面近傍に存在して、接触する相手物
質との摩擦を低減する素材であれば特に限定されない
が、好ましくは一般式（１）で表される滑り剤である。 一般式（１） （Ｒ¹ＣＯＯ）_pＬ（ＣＯＯＲ²）_q （式中、Ｒ¹およびＲ²は、炭素数１〜６０の置換もしく
は無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基ま
たはアリール基であり、ｐまたはｑが２以上である場
合、複数存在するＲ¹およびＲ²は互いに同一でも相違し
ていてもよい；Ｌは、酸素原子または硫黄原子を含んで
いてもよいｐ＋ｑ価の炭化水素基であり、ｐおよびｑは
０〜６の整数を表し、１≦ｐ＋ｑ≦６である）

【００１３】一般式（１）で表される化合物における総
炭素数は特に限定されないが、一般的には４０〜１００
が好ましく、さらに５０〜１００がより好ましく、特に
５０〜８０が好ましい。Ｒ¹とＲ²の定義におけるアルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基が
有していてもよい置換基の例としては、ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、アシル基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、アリール基およびアルキル基を
挙げることができる。これらの基はさらに置換基を有し
てもよい。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキ
シカルボニル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ
基、アシル基およびアルキル基である。ハロゲン原子と
しては、フッ素原子、塩素原子が好ましい。アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基における
アルキル成分は後述するＲ²のアルキル基と同じであ
る。アシルアミノ基、スルホニルアミノ基のアミノ基は
Ｎ置換アミノ基であってもよく、置換基はアルキル基が
好ましい。アシルアミノ基、アシル基のカルボニル基お
よびスルホニルアミノ基のスルホニル基に結合する基は
アルキル基、アリール基であるが、上記アルキル基が好
ましい。

【００１４】Ｒ¹およびＲ²は、炭素数１〜６０、好まし
くは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１０〜４０
の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、ア
ラルキル基またはアリール基であり、これらアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基は、直鎖でも分岐鎖で
も環状構造を含むものでもよく、これらが混合したもの
でもよい。好ましいＲ¹およびＲ²の例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、ｔ−オクチ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、２−ヘキ
シルデシル、オクタデシル、Ｃ_nＨ_2n-1（ｎは２０〜６
０を表す）、エイコシル、ドコサニル、メリシニル、オ
クテニル、ミリストレイル、オレイル、エルシル、フェ
ニル、ナフチル、ベンジル、ノニルフェニル、ジペンチ
ルフェニル、シクロヘキシル基およびこれらの上記置換
基を有する基等を挙げることができる。Ｌは、酸素原子
または硫黄原子を含んでいてもよいｐ＋ｑ価の炭化水素
基である。炭化水素基の炭素数は特に限定されないが、
好ましくは１〜６０、より好ましくは１〜４０、さらに
好ましくは１０〜４０である。ｐ＋ｑ価の炭化水素基に
おける「ｐ＋ｑ価」とは炭化水素中のｐ＋ｑ個の水素原
子が除かれて、そこにｐ個のＲ¹ＣＯＯ−基とｑ個のＲ²
ＯＣＯ−基が結合することを示す。ｐおよびｑは０〜６
の整数を表し、１≦ｐ＋ｑ≦６であり、好ましくは１≦
ｐ＋ｑ≦４である。また、ｐまたはｑのいずれかが０で
ある場合が好ましい。

【００１５】本発明で用いる一般式（１）で表される化
合物は、合成物であっても天然物であってもよい。天然
物、あるいは合成物であっても天然物の高級脂肪酸やア
ルコールを原料とした合成化合物は、炭素数の異なるも
のや直鎖と分岐のものを含み、これらの混合物となる
が、これらの混合物を使用することも可能である。組成
の品質安定性の観点では合成物が好ましい。特に天然物
はその採取・精製工程で各種の薬品や添加剤が使用さ
れ、不純物の混入が避けられない。例えばシリコーン系
消泡剤の混入による塗布ハジキ故障などが大きな問題と
なる。なお、化合物としては、素材の主成分となるもの
を表す。以下に好ましい一般式（１）で表される化合物
の具体例を示す。

【００１６】

【化１】

【００１７】これらの化合物は、例えば、特開昭５８−
９０６３３号に一部記載がある。上記化合物に加え、天
然物の例としてモンタン酸エステル、カルナウバＷＡ
Ｘ、オレオストックなども加えることができる。本発明
で用いる一般式（１）で表される化合物は、融点が５０
℃以上２００℃以下であり、より好ましくは６０℃以上
であり、特に好ましくは７０℃以上１６０℃以下であ
る。

【００１８】本発明では、一般式（１）で表される化合
物に加え、公知の他の滑り剤と併用することもできる。
公知の滑り剤として好ましいものは、一般式（１）で表
される化合物に類似する、例えば、米国特許第４，２７
５，１４６号に記載の高級脂肪族アミド類、米国特許第
３，９３３，５１６号に記載の高級脂肪酸もしくはその
金属塩類、その他高級アルコールおよびその誘導体類、
ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、マイクロ
クリスタリンワックス、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル化合物等を挙げることができる。また、
天然物の油脂、ワックス、オイル、例えば、蜜蝋なども
併用することができる。さらに、併用できる好ましい公
知の滑り剤として、市販または合成によって入手可能な
シリコーン系化合物を挙げることができる。シリコーン
系化合物にあってもポリオルガノシロキサン類が好まし
い。これらの水溶液での利用に当たっては分散体の形で
添加させることがこのましい。

【００１９】本発明で用いる一般式（１）で表される滑
り剤は、水溶液中で分散物の形で滑り剤層に添加され
る。この場合、水分散系で他の有機溶媒を適宜選択して
含有することが出来る。その中で利用できる有機溶剤と
しては、例えばケトン類（アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンな
ど）、アルコール類（炭素数１〜８の低級アルコール、
例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、ブチルアルコール、ヘキシルアルコ
ール、オクチルアルコールなど）、グリコール誘導体類
（セロソルブ、エチレングリコールジエチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）、炭素
数１〜５の低級脂肪酸エステル類（酢酸エチル、酢酸ブ
チル、プロピオン酸エチルなど）、ハロアルカン類（メ
チレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレ
ン、トリクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素
など）、炭化水素類（オクタン、ソルベントナフサ、テ
レピン油、石油エーテル、シンナー、石油ベンジン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなど）、フェノール類（フ
ェノール、レゾルシノールなど）、エーテル類（テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなど）、リン酸エステル類
（トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、
トリブチルホスフェートなど）、アミド系のＤＭＦその
他ＤＭＳＯなどを挙げることができる。好ましくはアル
コール類、ケトン類、グリコール誘導体類、低級脂肪酸
エステル類、ハロアルカン類、炭化水素類である。特
に、水を混合使用する溶媒系においては、水と均一溶媒
となるアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類の
中から選ばれる溶媒であり、水不使用の場合の溶媒とし
ては炭化水素類、ケトン類、低級脂肪酸エステル類、ハ
ロアルカン類の使用が好ましい。

【００２０】この場合、水と有機溶剤の比率は１００〜
５０：０〜５０（容量％）であり、より好ましくは１０
０〜７５：０〜２５（容量％）である。これらにより水
系塗布液中での滑り剤の分散物の安定性、塗布性、得ら
れる塗膜の平滑性、感材屑やゴミ等の付着防止、現像処
理時のハジキ改良、耐傷性に優れるものである。なお、
上記の有機溶媒は、同一もしくは異なる種類の溶媒と２
種以上を混合して用いてもよい。微細分散物は公知の分
散技術、例えば、機械的な剪断力による分散、超音波分
散、２液混合による析出法などにより得られる。

【００２１】一般式（１）を含む滑り剤分散粒子は、予
め分散される前にその化合物の融点以上で溶融すること
が好ましい。そして、分散媒となる水溶剤系を同様に高
温に加温しておき、この中に溶融した滑り剤を添加し各
種の分散方法にて微細分散化すればよい。なお、滑り剤
の融点が高い場合は上述の有機溶剤を少量添加して、滑
り剤の有機溶剤混合体の形で高温溶解してもよい。一般
式（１）の滑り剤を溶解する非水系有機溶剤にこれらを
溶解したのち、水の中で他の水溶解性の界面活性剤を利
用して微細分散し、そのまま滑り剤の分散粒子として最
外層に添加してもよく、例えば非水系有機溶媒として酢
酸エチルなどが好ましい。さらに有機溶剤を分散後に除
去して滑り剤粒子分散物として利用することも有用であ
る。この場合の優位点として、一般式（１）の化合物の
融点が１００℃以上でも、低温度で有機溶剤中で溶解混
合することができ、水系での高融点滑り剤分散粒子を作
成できることである。ここで、一般式（１）の化合物の
融点は傷付き特性に対して有効な融点５０℃以上である
ことから一般式（１）の滑り剤を使用する場合は、水の
温度を５０℃以上として分散することが好ましい。

【００２２】本発明においては、一般式（１）の化合物
の分散に当たっては分散剤を使用することが好ましく、
特に界面活性剤を使用することが好ましい。界面活性剤
は、下記一般式（２）で表されるものが好ましい。 一般式（２） Ｒｏ−Ａｏ−Ｘｏ 式中Ｒｏは少なくとも１０個、好ましくは１２個以上の
炭素原子を含有する置換もしくは無置換のアルキル基、
アルケニル基またはアリール基を表わす。Ａｏは二価の
連結基または単結合を表わし、Ｘｏは水溶性基を表わ
す。Ａｏは、好ましくはアルキレン基、アリーレン基又
はそれらの複合基を表わし、これは酸素、エステル基、
アミド基、スルホニル基、硫黄の如き異種原子で中断さ
れた二価の置換もしくは無置換の連結基であっても良
い。好ましいこれらの界面活性剤の代表的な具体的化合
物を下記に示すが、これらに限定されるものではない。

【００２３】

【化２】

【００２４】

【化３】

【００２５】

【化４】

【００２６】

【化５】

【００２７】一般式（２）で表わされる界面活性剤は、
一般式（１）の滑り剤に対して０．５〜２００重量％添
加することが好ましく、より好ましくは１〜１００重量
％であり、特に好ましいのは５〜５０重量％である。分
散に当たっては一般式（１）の滑り剤と一般式（２）の
分散剤を予め一緒に混合した後に、水、あるいは加温し
た熱水を加えても良いし、一般式（１）の滑り剤と一般
式（２）の分散剤を別々に加えても分散しても良く、特
に限定されない。以下に具体的な分散の実施例を記す。 （滑り剤分散微粒子の作成）化合物ＬＢ‐７（融点９０
℃）１００ｇとｐ−ノニルフェノキシポリオキシエチレ
ン（平均重合度１０）１０ｇ及びＣ₄₀Ｈ₈₁Ｏ（ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂Ｏ）₁₆Ｈ １０ｇを2リットルのステンレス分散機に
添加し、100℃に加温して混合して均一にして粘性のあ
る混合物を得た。この溶融液に95℃の熱水800ｇを加
え、高速でホモジナイザー（10000回転、10分）で分散
した。攪拌を継続しつつ分散機を冷却して内温を徐々に
低下した。このようにして得られた滑り剤の分散微粒子
は光回折法でその平均粒子径を評価したところ、０．１
４μｍであった。

【００２８】本発明では、画像形成層の最外層に本発明
の一般式（１）からなる滑り剤分散微粒子を少なくとも
１種含有する。その場合、一般式（１）で表される滑り
剤は２種以上を、例えば一般式（１）で表わされる化合
物を２種以上、あるいは一般式（１）で表わされる化合
物とそれ以外の滑り剤との組み合せ使用することができ
る。一般式（１）からなる滑り剤分散微粒子の塗設量は
２〜２００mg／m²の範囲である。好ましくは５〜１００
mg／m²であり、さらに好ましくは５〜５０mg／m²の範囲
である。なお、一般式（１）で表される化合物とそれ以
外の滑り剤の併用にあっては、一般式（１）で表される
化合物は全滑り剤の5０重量％以上が望ましい。特に70
重量％以上が好ましい。

【００２９】本発明の最外層塗布液を塗布して得られる
熱現像感材の画像層側の滑り性は、動摩擦係数が０．２
５以下が好ましく更に好ましくは０．２以下であり、特
に好ましくは０．１７以下である。ここで動摩擦係数の
評価にあたっては、２５℃、６０％RHの環境下で、１０
０ｇの荷重をかけた直径５ｍｍのステンレス硬球を６０
ｍｍ／秒のスピードで、滑り剤を含有する最外層表面と
の動摩擦を測定したものである。

【００３０】次に本発明の最外層塗布液は、シリコーン
含有量が５０ｐｐｍ以下であることを特徴とするもので
ある。本発明においては、最外層塗布液は熱現像感材を
作成するために、塗布・乾燥して製造される。特に、塗
布時に面状の悪化を伴わない塗布液であることが必須で
ある。鋭意本発明の塗布液を検討した結果、塗布面状は
最外層塗布液に不純物として混入するシリコーンの影響
が極めて大きいことが判明した。ここで、本発明で述べ
るシリコーンとは有機性のシリコーンであり、シリカな
どの無機珪素とは異なる。本発明の最外層塗布液のシリ
コーン含有量は、好ましくは２５ｐｐｍ以下であり、よ
り好ましくは１０ｐｐｍ、特に好ましくは５ｐｐｍ以下
であり少ないほど好ましい。ここで述べる塗布面状悪化
とは、ハジキ状の欠陥であり現像後の画像の抜けやなっ
て商品価値を損なうものであり、新聞用などでは２００
μｍ以上でまたグラフィックアーツでは２０μｍ以上
で、さらにマイクロ感材では１０μｍ以上のサイズで問
題となるものである。

【００３１】本発明のシリコーンの混入の原因として
は、最外層塗布液に添加される素材や、それらを製造す
る処方上あるいは工程、さらには収納容器などから由来
するものであることが挙げられる。例えば、ラテックス
製造時の泡ち防止用として添加されたり、界面活性剤の
濃縮工程での消泡として使用されたり、さらに搬送容器
の離型剤として付着したシリコーンなどを挙げるこおｔ
ができる。また、これらの製造メーカーでシリコーン離
型剤を製造している工程と共用されるタンク・配管から
の混入なども挙げられる。したがって、本発明の最外層
の塗布面状の改良のためには、添加される各種の素材の
混入シリコーンを少なくするか除去することが必要であ
る。また、本発明の最外層塗布液を塗布する場合にも、
シリコーンの混入を極力避けることが必須である。それ
らは、例えば最外層調液設備からの送液ポンプからの漏
れによるシリコーンオイルの混入、攪拌シール部の潤滑
シリコーンオイルの滴れによる混入、作動ポンプからの
シリコーンミストの空気拡散による混入など、工程や環
境からのシリコーンに十分注意することが重要である。

【００３２】次に、本発明ではフッ素含有界面活性剤が
最外層塗布液に利用される。フッ素系界面活性剤はその
特異な特性から好ましく用いられ、特に少量添加で塗布
液の表面張力を低下させ塗布性能に優れ面状も良好であ
ること、更にフッ素基による帯電列上で負帯電性を示す
ことから帯電防止に利用できる点である。本発明に好ま
しく使用されるフッ素含有界面活性剤は下記一般式
（３）で表される。 一般式（３） Ｒｆ−Ａ−Ｘ 式中Ｒｆは少なくとも３個、好ましくは７個以上のフッ
素原子を含有する部分フッ素化又は全フッ素化された置
換、無置換のアルキル基、アルケニル基、もしくはアリ
ール基を表わす。Ａは二価の連結基または単結合を表わ
し、Ｘは水溶性基を表わす。Ａは、好ましくはアルキレ
ン基、アリーレン基又はそれらの複合基を表わし、これ
は酸素、エステル基、アミド基、スルホニル基、硫黄の
如き異種原子で中断された二価の置換、無置換の連結基
であっても良い。

【００３３】Ｘは親水性基であり、例えば一般式-(B-O)
n -R⁴のポリオキシアルキレン基（ここでＢは-CH₂CH
₂-、-CH₂CH₂CH₂- 又は-CH₂CH(OH)CH₂-を表わし、ｎはポ
リオキシアルキレン基の平均重合度を表わし、１〜５０
の数である。又Ｒ₄は置換、無置換のアルキル基、アリ
ール基を表わす）で表わされるノニオン基、親水性ベタ
イン基、例えば - +N(R⁵)(R⁶)-AIK-COO - 及び -⁺N(R⁵)
(R⁶)-AIK-SO₃-（式中ＡＩＫは炭素数１〜５の低級アル
キレン基、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブ
チレンを表わし、Ｒ⁵、Ｒ⁶はそれぞれ独立に水素原子、
炭素数１〜１２の置換、無置換のアルキル基、アルケニ
ル基、アラルキル基、アリール基、例えばメチル基、エ
チル基、ベンジル基等を表わす）および親水性カチオン
基、例えば- +N(R⁵)(R⁶)(R⁷)・Y - （式中、R⁵、Ｒ⁶、
Ｒ⁷は前記Ｒ⁵と同義であり、Ｙ-は無機もしくは有機の
陰イオンを表わし、ヒドロキシ基、ハロゲン基、硫酸
基、炭酸基、過塩素酸基、有機カルボン酸基、有機スル
ホン酸基、有機硫酸基等を表わす）であり、および好ま
しくは親水性アニオン基、例えば-SO₃M 、-OSO₃M、-COO
M 、-O-PO(OM)₂、-PO(OM)₂、-O-PO(OM)(O-A-Rf)、-PO(O
M)(O-A-Rf)等が挙げられる。ここでＭは無機又は有機の
陽イオンを表わし、好ましくは水素原子、アルカリ金属
（Li⁺、Na⁺、K⁺など）、アルカリ土類金属（Mg²⁺、Ca²⁺
など）、炭素数０〜１８のアンモニウム、低級アルキル
アミン等である。Ａ及びＲｆは前記と同義である。本発
明の代表的なフッ素含有界面活性剤の具体例を以下に示
す。

【００３４】

【化６】

【００３５】

【化７】

【００３６】

【化８】

【００３７】

【化９】

【００３８】

【化１０】

【００３９】

【化１１】

【００４０】本発明においては、フッ素含有界面活性剤
の塗設量は、１m²当り２５０mg以下０．０１mg以上であ
る。好ましくは１００mg以下０．１mg以上であり、より
好ましくは５０mg以下０．５mgの範囲である。本発明で
は最外層塗布液中に、非フッ素含有界面活性剤を用いる
ことも好ましく、カチオン系、アニオン系、ベタイン
系、ノニオン系非フッ素含有界面活性剤をいずれも使用
することができる。好ましくはカチオン系、アニオン系
およびノニオン系であり前述の化合物例に記載の界面活
性剤を利用できる。本発明の最外層塗布液の塗布方式
は、前記ＲＤ３０７１０５、第XV章に記載されている。
例えば、公知の塗布方式のエアードクター、ブレード、
エアナイフ、スクイズ、含浸、リバースロール、トラン
スファーロール、グラビア、キス、キャスト、スプレ
イ、ディップ、バー、エクストリュージョン等を挙げる
ことができる。

【００４１】本発明の最外層塗布液は、その表面張力が
２０〜３５ダイン／ｃｍであることが好ましい。これ
は、高速塗布において特に必須となる。好ましい最外層
塗布液の表面張力は２０〜３０ダイン／ｃｍであり、特
に好ましくは２０〜２８ダイン／ｃｍである。３５ダイ
ン／ｃｍ以上では高速塗布時に塗布スジを発生しやす
く、また２０ダイン／ｃｍ以下では一見小さくて好まし
く感じるが、表面に疎水性物質が油分として析出した
り、アニオン・カチオンコンプレックス形成により表面
張力を下げている結果であることが多い。その場合、多
層塗布や既に塗布作成された中間感材に対して界面張力
の大幅な低下となり、塗布スジやハジキを発生する。以
上から本発明の最外層塗布液の表面張力は好ましい範囲
がある。

【００４２】本発明の最外層塗布液は、そのｐＨが２〜
７であることが好ましい。これは、本発明の熱現像に当
たり、現像剤としてフタル酸や４−メチルフタル酸を使
用するが、乳剤層とは出来るだけ離れて存在させること
が好ましい。従って、これらの酸性物質は本発明の最外
層塗布液中に添加されることが好ましい。その際に、最
外層塗布液はｐＨが低下し一般に４以下となる。ラテッ
クスの安定性を考慮すると中性領域が好ましいが、写真
性能への悪化が見られ、中性ｐＨは利用できない。した
がって、本発明の最外層塗布液は、そのｐＨが２〜７が
好ましく、より好ましくはｐＨ２〜５であり、特に好ま
しくはｐＨ２〜４である。これにより、熱現像活性に優
れた熱現像記録材料を得ることが出来る。

【００４３】本発明の最外層塗布液は、水系の塗布液で
あるが、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)
の６０wt%以上が水であることをいう。塗布液の溶媒の
水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、
ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、ベンジ
ルアルコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、オキシエチルフェニルエーテルなどの水混和性の有
機溶媒を用いることができる。本発明の最外層塗布液の
塗布量は、５〜５００ｃｃ／m²が好ましく、より好まし
くは１０〜４００ｃｃ／m²、さらに好ましくは１５〜３
００ｃｃ／m²、特に好ましくは２０〜１００ｃｃ／m²で
ある。また、塗布スピードは特に限定されないが、好ま
しく１０〜５００ｍ／分、より好ましくは３０〜２５０
ｍ／分、さらには４０〜２００ｍ／分である。遅すぎる
と生産性に劣り、速すぎても塗布面状が悪化しやすい。

【００４４】次に本発明の熱現像画像記録材料において
最外層以外の構成層について、以下に記述する。本発明
においては、導電性帯電防止剤からなる帯電防止層が好
ましく用いられる。それらの帯電防止剤としては、特に
制限はなく、有機物でもよくまた無機化合物でもよい。
有機物の場合は、アニオン、カチオン、ノニオンのいず
れでもよく低分子化合物でも高分子化合物でもいずれで
も良い。有機化合物の場合は、高分子ポリマーが好まし
く、たとえばアニオン性高分子電解質としてはカルボン
酸及びその塩、スルホン酸塩を含む高分子で、例えば特
開昭４８−２２０１７号、特公昭４６−２４１５９号、
特開昭５１−３０７２５号、特開昭５１−１２９２１６
号、特開昭５５−９５９４２号に記載されているような
高分子である。また、カチオン性高分子としては例えば
特開昭４９−１２１５２３号、特開昭４８−９１１６５
号、特公昭４９−２４５８２号に記載されているような
ものがある。また低分子化合物としてのイオン性界面活
性剤もアニオン性とカチオン性とがあり、例えば特開昭
４９−８５８２６号、特開昭４９−３３６３０号、米国
特許第２，９９２，１０８、米国特許第３，２０６，３
１２、特開昭４８−８７８２６号、特公昭４９−１１５
６７号、特公昭４９−１１５６８号、特開昭５５−７０
８３７号などに記載されているような化合物を挙げるこ
とができる。

【００４５】また無機導電性材料による帯電防止層は非
常に有用であり、その中でも帯電防止剤として好ましい
ものは、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂
Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃、Ｖ₂ Ｏ₅の中
から選ばれた少くとも１種の金属酸化物あるいはこれら
の複合酸化物（Ｓｂ，Ｐ，Ｂ，Ｉｎ，Ｓ，Ｓｉ，Ｃな
ど）の微粒子であり、それらは結晶性でもゾル状のもの
でもよい。さらにまた、導電性カーボン粒子でもよい。
本発明に使用される導電性の結晶性またはゾル状金属酸
化物又はその複合酸化物の微粒子は、その体積抵抗率が
１０⁷Ω・ｃｍ以下、より好ましくは１０⁵Ω・ｃｍ以下
である。その形状は特に限定されず、球状，棒状，針
状，鱗片状あるいは板状など種々挙げることができる。
さらにまた中空状でもよくカーボンナノファイバーなる
素材が該当する。その一次粒子サイズは０．００００１
〜２μｍ、特に０．０００１〜１μｍであることが望ま
しい。更に効率良く導電性を与えるために、一次微粒子
を一部凝集（２〜１００００個の凝集体など）させて、
０．０１〜０．５μｍにした導電性の結晶性あるいはゾ
ル状の酸化物又はその複合酸化物の微粒子やフィラーの
集合体を用いることが好ましい。なお、これらの導電性
粒子はその結晶子サイズと粒子のサイズとの関係は特に
限定されず、結晶性の高い場合は結晶子サイズと粒子サ
イズとの比は１／１であり、結晶性が低くアモルファス
の場合はその比は１／２０００も有り得る。

【００４６】特に本発明の導電性材料では導電性アンチ
モン含有又は被着酸化錫微粉末が有用であり、それらは
市販品として容易に入手でき、球形や針状の素材があ
る。特にこの中で有用な針状導電性アンチモン含有酸化
錫粉末について詳細に記す。これは、少なくとも一方に
短軸平均粒子径が０．００５〜１μｍであり長軸平均粒
子径が０．０５〜１０μｍであってアスペクト比が３以
上でかつ比抵抗が１ｋΩ・ｃｍ以下である針状導電性ア
ンチモン含有酸化錫粉末する層を有することを特徴と
し、以下に詳細に記す。ここで、針状とは、その物性値
の範囲内において針状のもののほかに、繊維状、柱状、
棒状、燐片状、その他類似状のものも包含される。本発
明の針状導電性アンチモン含有酸化錫微粉末状粉末は、
基体粒子としての針状酸化錫の表面に含水アンチモンを
沈着した後、焼成することにより得ることが出来る。ま
た、あらかじめ酸化錫を作成する段階で酸化アンチモン
を含有させることでも作成できる。本発明の針状導電性
アンチモン含有酸化錫微粉末は、その作成方法において
特に限定されないが、これらの作成方法は例えば特開平
９−１２３１４号、同８−２３１２２２号、同８−２１
７４４５号、同８−２１７４４４号、ＵＳ−５５７５９
５７号、ＥＰ―７１９７３０号、特開昭５６−１２０５
１９号、同６２−１５８１９９号などの詳細に記載され
ている。

【００４７】本発明の好ましく用いられる針状導電性ア
ンチモン含有又は被着酸化錫微粉末は、少なくとも一方
に短軸平均粒子径が０．００５〜１μｍであり長軸平均
粒子径が０．０５〜１０μｍであってアスペクト比が３
以上でかつ比抵抗が１ｋΩ・ｃｍ以下であるが、好まし
くは短軸平均粒子径が０．００５〜０．５μｍであり更
に好ましくは０．００５〜０．２μｍであり、長軸平均
粒子径が０．０５〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜
５μｍであり特に好ましくは０．１〜３である。短軸平
均粒子径と長軸平均粒子径のアスペクト比が３以上であ
るが、好ましくは５以上特に好ましくは７以上である。
又、針状導電性アンチモン含有酸化錫微粉末状の比抵抗
は、１ｋΩ・ｃｍ以下であり好ましくは５００Ω・ｃｍ
以下特に好ましくは１００Ω・ｃｍ以下である。更に効
率良く導電性を与えるために、一次微粒子を一部凝集さ
せて０．０５〜１．０μｍにした針状導電性アンチモン
含有又はひ着酸化錫微粉末状の凝集体を用いることが好
ましい。また、これらを用いて帯電防止層を作製する場
合に到達する導電性としては、好ましくはその電気抵抗
が１０¹²Ω以下であり、より好ましくは１０¹⁰Ω以下、
特に好ましいのは電気抵抗が１０^9.5Ω以下である。そ
の場合一般的に帯電防止層への含有量としては、５〜１
０００ｍｇ／ｍ²が好ましく、特に好ましくは１０〜５
００ｍｇ／ｍ²である。また、バインダーの量は５〜１
０００ｍｇ／ｍ²が好ましく、特に５〜５００ｍｇ／ｍ²
が好ましい。針状導電性アンチモン含有又は被着酸化錫
微粉末とバインダーの量の比は１／３００〜１００／１
が好ましく、より好ましくは１／１００〜１００／５で
ある。

【００４８】次に本発明の導電性材料に好ましく用いら
れるバインダーについて記す。本発明に用いられるバイ
ンダーは従来、各種の結合剤として使用されている公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂、反
応型樹脂、酸、アルカリ又は生分解性ポリマー、天然物
重合体（蛋白質、セルロース誘導体、糖誘導体など）お
よびこれらの混合物を使用することができる。好ましい
上記樹脂のＴｇは−４０℃〜３００℃、重量平均分子量
は０．２万〜１００万、好ましくは０．５万〜３０万で
ある。上記熱可塑性樹脂としては、ビニル系共重合体、
ニトロセルロース、セルロースジアセテート、セルロー
ストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネー
ト、セルロースアセテートブチレート、セルローストリ
プロピオネート、セルロースドデカノエート樹脂などの
セルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリ
ウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカ
ーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
エーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン
ブタジエン樹脂、ブタジエンアクリロニトリル樹脂等の
ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂を挙げる
ことができる。

【００４９】以上列挙のバインダーは単独または数種混
合で使用され、クロロシアヌル酸系、ビニルスルホン
系、エポキシ系、アジリジン系、イソシアネート系の公
知の架橋剤、および／あるいは放射線硬化型ビニル系モ
ノマーを添加して硬化処理することができる。イソシア
ネート系架橋剤としてはイソシアネート基を２個以上有
するポリイソシアネート化合物で、たとえばトリレンジ
イソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレ
ンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシア
ネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネー
トなどのイソシアネート類、これらのイソシアネート類
とポリアルコールとの反応生成物（例えば、トリレンジ
イソシアナート３ｍｏｌとトリメチロールプロパン１ｍ
ｏｌの反応生成物）、及びこれらのイソシアネート類の
縮合により生成したポリイソシアネート、などがあげら
れる。また、エポキシ系としては、ネオペンチルアルコ
ールトリグリシジル、ペンタエリスリトールテトラグリ
シジル、ジペンタエリスリトールヘキサグリシジル、グ
リセリントリグリシジルなどを挙げることが出来る。

【００５０】また、本発明の導電性材料を有する層に親
水性バインダーも使用できる。使用する親水性バインダ
ーとしては、リサーチ・ディスクロージャー No.１７６
４３、２６頁、および同 No.１８７１６、６５１頁に記
載されており、水溶性ポリマー、セルロースエステル、
ラテックスポリマー、水溶性ポリエステルなどが例示さ
れている。水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチ
ン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷ
ん、ポリビニールアルコール、ポリアクリル酸共重合
体、無水マレイン酸共重合体などであり、セルロースエ
ステルとしてはカルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロースなどである。ラテックスポリマーと
しては塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共
重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル
含有共重合体、ブタジエン含有共重合体などである。こ
の中で最も好ましいのはゼラチンであり、アルカリ処理
や酸処理ゼラチンが挙げられ、その中に残存する塩類に
ついては特に限定されないが、好ましくはカルシウムが
３０００ｐｐｍ以下より好ましくは２０００ｐｐｍ以下
であり、特に１０００ｐｐｍが好ましく５００ｐｐｍ以
下が更に好ましい。

【００５１】前述の球状や針状導電性金属微粉末（例え
ば、アンチモン含有または被着酸化錫微粉末）を上記バ
インダ−中に分散する方法は、例えば特願平４−１８９
６５２の他、種々の公知の手段が可能であるが、ニーダ
ー、ピン型ミル、アニュラー型ミルなどが好ましく、ニ
ーダーとピン型ミル、もしくはニーダーとアニュラー型
ミルの併用も好ましい。ニーダーとしては、開放型（オ
ープン）、密閉型、連続型などがあり、その他３本ロー
ルミル、ラボプラストミル等の混練機も用いられる。ま
た、分散に際して特開平５−０８８２８３記載の分散剤
や、その他の公知の分散剤が使用できる。導電層の厚み
は０．０１〜５μｍ、好ましくは０．０５〜２μｍ、よ
り好ましくは０．０５μ〜０．５μである。導電性アン
チモン含有又は被着酸化錫微粉末とバインダーの重量比
は好ましくは０．５：９９．５〜９９：１からなり、よ
り好ましくは５：９５〜９０：１０である。本発明の導
電層は、画像材料の少なくとも片面に設けられ、塗布又
は印刷によって全面またはストライプ状に設けることが
できる。導電層を塗布する方法としてはエアードクター
コート、ブレードコート、エアナイフコート、スクイズ
コート、含浸コート、リバースロールコート、トランス
ファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キ
ャストコート、スプレイコート、ディップコート、バー
コート、エクストリュージョンコート等が利用出来、そ
の他の方法も可能であり、これらの具体的説明は朝倉書
店発行の「コーティング工学」２５３頁〜２７７頁（昭
和４６．３．２０．発行）に詳細に記載されている。

【００５２】次に本発明においては下塗り用材料として
とくに限定されず、ゼラチン、ＳＢＲ、アクリレート系
ポリマーなどである。その中でも好ましく用いられる塩
化ビニリデン下塗り層について記述する。本発明の熱現
像画像記録材料は、熱現像処理によって画像を形成する
ものであり、その現像温度は８０℃以上１４０℃以下で
ある。この場合の熱現像処理における加熱には、画像形
成のための加熱のみならず、処理ムラの抑制などを目的
とした予備加熱なども包含される。従って、現像は一定
温度で行うものであってもよく、一定温度での加熱のの
ちにこれより高い温度で加熱を行うような多段階加熱で
あってもよい。下塗りの機能としてはその上に塗布され
る各種の機能層や中間層を接着することであり、その塗
布膜厚保は特に限定されない。しかし、グラフィックア
ーツ感材のように、カラー画像を取り扱う場合にはその
寸度安定性が重要になってくる。このような熱現像画像
記録材料において、塩化ビニリデン共重合体を含有する
０．３μm以上の厚さ（片面当たりの合計厚）の下塗り
層で両面を被覆した支持体を用いることによって、熱現
像後の経時による寸法変化を防止することができる。そ
して、熱現像時に発生しやすいシワの発生をなくすこと
が可能であり、かつ熱現像に伴う寸法変化を抑えること
が可能であるため、上記の熱現像後の経時による寸法変
化は極めて小さいものとなることも塩化ビニリデン下塗
り系の大きな優位な技術である。特に、本発明では、二
軸延伸したポリエステル支持体が好ましく用いられる
が、このような支持体では、好ましくは下塗り層を設け
た後に熱処理を施すことによって、支持体自体の加熱に
よる寸法変化やベコの発生が抑えられる。したがって、
熱処理した後のポリエステル支持体を用いると、熱現像
画像記録材料の熱現像時のシワの発生がなくなり、熱現
像前後の寸法変化が小さくなる。そのためには、本発明
で好ましく用いられるポリエステル支持体を、熱処理、
好ましくは塩化ビニリデンを含有する下塗り層を設けた
後に１３０℃以上１８５℃以下の温度で熱処理を行う。

【００５３】これに対し、本発明と異なり、支持体の両
面を被覆する下塗り層に塩化ビニリデン共重合体以外の
重合体（例えばスチレン−ブタジエン系共重合体）のみ
を用いると、熱現像後の経時による寸法変化を抑えるこ
とができない。また、この塩化ビニリデン共重合体下塗
り層の厚さ（片面当たりの合計厚）が０．３μm 未満と
なっても熱現像後の経時による寸法変化は抑えられなく
なる。本発明の塩化ビニリデン共重合体は、７０〜９
９．９重量％、より好ましくは８５〜９９重量％の塩化
ビニリデン単量体と０．１〜５重量％、より好ましくは
０．２〜３重量％のカルボキシル基含有ビニル単量体を
含有する共重合体である。本発明の塩化ビニリデン共重
合体組成について詳細に記載する。塩化ビニリデン共重
合体に用いられるカルボキシル基含有ビニル単量体とは
分子内に１つ以上のカルボキシル基を有するビニル単量
体で、具体例としてアクリル酸、メタクリル酸、イタコ
ン酸、シトラコン酸などを挙げることができる。本発明
の塩化ビニリデン共重合体には塩化ビニリデン単量体、
カルボキシル基含有単量体以外にこれらと共重合可能な
単量体の繰り返し単位を含有させてもよい。これら共重
合可能な単量体の具体例として、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、グリシジルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ビニルア
セテート、アクリルアミド、スチレン等を挙げることが
できる。これらの共重合可能な単量体は単独で用いても
２種以上併用してもよい。

【００５４】本発明の塩化ビニリデン共重合体の分子量
は、重量平均分子量で45000以下、さらには10000以上45
000以下が好ましい。分子量が大きくなると塩化ビニリ
デン共重合体層とポリエステル等の支持体層との接着性
が悪化してしまう。本発明の塩化ビニリデン共重合体は
有機溶媒に溶かした形態でも、ラテックスの水分散物の
形態でもどちらでも良いが、ラテックスの水分散物の形
態の方が好ましい。この場合、均一構造のポリマー粒子
のラテックスであってもコア部とシェル部で組成の異な
ったいわゆるコア−シェル構造のポリマー粒子のラテッ
クスでもよい。ラテックス中のポリマー粒子の粒径等に
ついては、後述の画像形成層や保護層のバインダーに用
いられるものと同様である。塩化ビニリデン共重合体の
単量体単位の配列については限定されず、周期、ランダ
ム、ブロック等のいずれであってもよい。本発明の塩化
ビニリデン共重合体の具体例として以下のものを挙げる
ことができる。ただし（ ）内の数字は重量比を表す。
また平均分子量は重量平均分子量を表す。

【００５５】V−1 塩化ビニリデン：メチルアクリレ
ート：アクリル酸（90：9：1）のラテックス（平均分子
量42000） V−2 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチル
メタクリレート：アクリロニトリル：メタクリル酸（8
7：4：4：4：1）のラテックス（平均分子量40000） V−3 塩化ビニリデン：メチルメタクリレート：グリ
シジルメタクリレート：メタクリル酸（90：6：2：2）
のラテックス（平均分子量38000） V−4 塩化ビニリデン：エチルメタクリレート：２−
ヒドロキシエチルメタクリレート：アクリル酸（90：
8：1．5：0．5）のラテックス（平均分子量44000） V−5 コアシェルタイプのラテックス（コア部90重量
％、シェル部10重量％） コア部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチル
メタクリレート：アクリロニトリル：アクリル酸（93：
3：3：0．9：0．1） シェル部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチ
ルメタクリレート：アクリロニトリル：アクリル酸（8
8：3：3：3：3）（平均分子量38000） V−6 コアシェルタイプのラテックス（コア部70重量
％、シェル部30重量％） コア部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチル
メタクリレート：アクリロニトリル：メタクリル酸（9
2.5：3：3：1：0．5） シェル部 塩化ビニリデン：メチルアクリレート：メチ
ルメタクリレート：アクリロニトリル：メタクリル酸
（90：3：3：1：3）（平均分子量20000）

【００５６】塩化ビニリデン共重合体は単独で用いても
２種以上併用してもよい。下塗り層としての塩化ビニリ
デン共重合体層は、下塗り層のどの層でもよく特に限定
されない。しかし中でも、支持体に直接設層される下塗
り層第１層として設けることが好ましく、通常は片面ご
とに１層ずつ設けられるが、場合によっては２層以上設
けてもよい。２層以上の多層構成とするときは、塩化ビ
ニリデン共重合体量が合計で本発明の範囲となるように
すればよい。塩化ビニリデン共重合体層の厚さは、塗布
面状を良好のものとするために、好ましくは０．３μm
以上４μm以下、より好ましくは０．６μm以上３μm以
下、更に好ましくは１．０μm以上２μm以下の範囲であ
る。

【００５７】本発明の熱現像画像記録材料は、好ましく
は、塩化ビニリデン共重合体を含有する下塗り層で両面
が被覆されたポリエステル支持体上に有機銀塩、還元剤
および感光性ハロゲン化銀を含む画像形成層を有し、画
像形成層上には少なくとも１層の保護層が設けられてい
る。また、本発明の熱現像画像記録材料は、支持体に対
して、画像形成層を反対側に少なくとも１層のバック層
を有することが好ましく、画像形成層そしてバック層を
有するときはバック層のバインダーとして、合成ポリマ
ーや天然ポリマーが用いられ、それらは疎水性でもよく
親水性でもよい。また、このような層には塩化ビニリデ
ン共重合体のほか、架橋剤やマット剤などを含有させて
もよい。

【００５８】本発明の熱現像画像記録材料には、種々の
支持体を用いることができる。典型的な支持体は、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、
などのポリエステル、硝酸セルロース、セルロースエス
テル、ポリビニルアセタール、ポリカーボネートなどを
含む。このうち二軸延伸したポリエステル、特にポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）は強度、寸法安定性、
耐薬品性などの点から好ましい。支持体の厚みは下塗り
層を除いたベース厚みで６０〜２００μmであることが
好ましい。本発明の熱現像画像記録材料に用いる支持体
は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和さ
せ、熱現像中に発生する熱収縮歪みをなくすために、１
３０〜１８５℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステ
ル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いら
れる。このような熱緩和処理は温度範囲内の一定温度で
実施してもよく、昇温しながら実施してもよい。

【００５９】支持体の熱処理はロール状で実施してもよ
く、ウエッブ状で搬送しながら実施してもよい。ウエッ
ブ状で搬送しながら実施する場合、熱処理時の支持体の
搬送張力は比較的低い方が好ましく、具体的には７kg／
cm²以下、特に４．２kg／cm²以下にすることが好まし
い。このときの搬送張力の下限には特に制限はないが
０．５kg／cm²程度である。このような熱処理は、支持
体に対する画像形成層やバック層の接着性を向上させる
ための処理、塩化ビニリデン共重合体を含有する下塗り
層の設層等を施した後に行うことが好ましい。熱処理後
における支持体の１２０℃３０秒加熱による熱収縮率は
縦方向（ＭＤ）が−０．０３％〜＋０．０１％、横方向
（ＴＤ）が０〜０．０４％であることが好ましい。支持
体は必要に応じて塩化ビニリデン共重合体層のほか、Ｓ
ＢＲ、ポリエステル、ゼラチン等をバインダーとする下
塗り層を塗布してもよい。これらの下塗り層は多層構成
としてもよく、また支持体に対して片面または両面に設
けてもよく、これら下塗り層の少なくとも一層を導電層
とすることができる。下塗り層の一般的厚み（１層当た
り）は０．０１〜５μm、より好ましくは０．０５〜１
μmである。下塗り層が前述の導電性層を兼ねることも
問題ない。

【００６０】次に、画像形成層や中間層、バック層、バ
ック保護層等のバインダーについて説明する。本発明の
バインダーはポリマーバインダーが好ましく用いられ、
それらは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水
溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態として
はポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合
されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー
分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子
状分散したものなどいずれでもよい。分散粒子の平均粒
径は1〜5000nm、より好ましくは5〜1000nm程度の範囲が
好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はな
く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持
つものでもよい。本発明のポリマーバインダーとしては
通常の均一構造のポリマーのラテックス以外、いわゆる
コア／シェル型のポリマーのラテックスでもよい。この
場合コアとシェルはガラス転移温度を変えると好ましい
場合がある。

【００６１】本発明のバインダーに用いるポリマーラテ
ックスのポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）はバック層
と画像形成層とでは好ましい温度範囲が異なる。バック
層は種々の機器と接触するために膜強度、接着故障防止
の観点から２５℃〜１００℃のガラス転移温度が特に好
ましく、画像形成層は熱現像時に写真有用素材の拡散を
促し、高Dmax、低カブリなど良好な写真性を得るために
−３０℃〜４０℃のガラス転移温度が好ましく、特に好
ましくはガラス転移温度が０℃〜４０℃である。本発明
のポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は−３０℃
〜９０℃、より好ましくは０℃〜７０℃程度が好まし
い。最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を
添加してもよい。造膜助剤は一時可塑剤ともよばれポリ
マーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物
(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテックスの化
学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載され
ている。

【００６２】本発明の画像層としてのポリマーラテック
スに用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴ
ム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ
オレフィン樹脂、またはこれらの共重合体などがある。
ポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリ
マーでも、また架橋されたポリマーでも良い。またポリ
マーとしては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポ
リマーでも良いし、二種以上のモノマーが重合したコポ
リマーでも良い。コポリマーの場合はランダムコポリマ
ーでもブロックコポリマーでも良い。ポリマーの分子量
は重量平均分子量で５０００〜１００００００、好まし
くは１００００〜１０００００程度が好ましい。分子量
が小さすぎるものはバインダーとしての力学強度が不十
分であり、大きすぎるものは造膜性が悪く好ましくな
い。

【００６３】本発明に利用できるバインダーとしては、
アクリル系、スチレン系、アクリル／スチレン系、塩化
ビニル系、塩化ビニリデン系のポリマーラテックスが好
ましく用いられる。具体的にはアクリル樹脂系のVONCOR
T R3370、4280、Nipol Lx857、メチルメタクリレート／
２−エチルヘキシルアクリレート／ヒドロキシエチルメ
タクリレート／スチレン／アクリル酸コポリマー、塩化
ビニル樹脂のNipol G576、塩化ビニリデン樹脂のアロン
D5071が好ましく用いられる。バック層用のバインダー
としては、アクリル系、オレフィン系、塩化ビニリデン
系のポリマーラテックスが用いられ、具体的にはアクリ
ル樹脂系のジュリマーET-410、セビアンA-4635、ポリゾ
ールF410など、オレフィン樹脂系のケミパールS120、塩
化ビニリデン系のL502、アロンD7020などが好ましい。
本発明のバインダーには必要に応じて全バインダーの２
０wt%以下の範囲でポリビニルアルコール、メチルセル
ロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース
などの親水性ポリマーを添加してもよい。これら親水性
ポリマーの添加量は画像形成層の全バインダーの１０wt
%以下が好ましい。

【００６４】本発明の画像形成層用の全バインダー量は
０．２〜３０g／m²、より好ましくは１．０〜１５g／m²
の範囲が好ましい。本発明のバック層用の全バインダー
量は０．０１〜１５g／m²、より好ましくは０．０５〜
５g／m²の範囲が好ましい。それぞれの層には架橋のた
めの架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加
してもよい。これらの各層は、２層以上設けられる場合
がある。画像形成層が２層以上である場合は、すべての
層のバインダーとしてポリマーラテックスを主に用いる
ことが好ましい。また、保護層は画像形成層上に設けら
れる層であり２層以上存在する場合の最外層でない層を
指し、少なくとも１層が好ましい。また、バック層は支
持体のバック面の下塗り層の上部に設けられる層であり
２層以上存在する場合もあるが、少なくとも１層、特に
最外層のバック層にポリマーラテックスを用いることが
好ましい。

【００６５】本発明におけるベック平滑度は、日本工業
規格（ＪＩＳ）Ｐ８１１９「紙および板紙のベック試験
器による平滑度試験方法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４
７９により容易に求めることができる。本発明の熱現像
画像記録材料の画像形成層を有する面およびその反対面
の最外層表面の少なくとも一方、好ましくは両方のベッ
ク平滑度は、２０００秒以下であり、より好ましくは１
０秒〜２０００秒である。熱現像画像記録材料の画像形
成層を有する面の最外層表面およびその反対面の最外層
表面のベック平滑度は、前記両面の層に含有させるマッ
ト剤と称される微粒子の平均粒径および添加量を種々変
化させることによってコントロールすることができる。
マット剤は画像形成層を有する面においては支持体から
最も離れた最外層となる保護層に含有させることが好ま
しく、その反対側においては、最外層または最外層でな
いバック層に含有させることが好ましい。

【００６６】本発明において好ましいマット剤の平均粒
径は、０．５〜２０μmの範囲であり、好ましくは１か
ら１０μｍである。本発明において好ましいマット剤の
添加量は、５〜４００mg／m²、特に５〜１００mg／m²の
範囲である。本発明に用いられるマット剤は、写真的諸
特性に悪影響を及ぼさない固体粒子であれば、どのよう
なものでもよい。無機系のマット剤としては、二酸化ケ
イ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛および
カルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫酸
塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、有
機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビニ
ルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合体
のマット剤が挙げられる。本発明では、特開平3-109542
号公報２頁左下欄８行目〜３頁右上欄４行目に記載され
た多孔性のマット剤、特開平4-127142号公報３頁右上欄
７行目〜５頁右下欄４行に記載されたアルカリで表面修
飾したマット剤、特開平6-118542号公報の段落番号「０
００５」から「００２６」に記載された有機重合体のマ
ット剤を用いることがより好ましい。また、これらのマ
ット剤を２種以上併用してもよい。例えば、無機系のマ
ット剤と有機系のマット剤の併用、多孔性のマット剤と
非多孔性のマット剤の併用、不定形のマット剤と球形の
マット剤の併用、平均粒径の異なるマット剤の併用（例
えば特開平6-118542号に記載されている平均粒径が１．
５μm以上のマット剤と平均粒径が１μm以下のマット剤
の併用）などがある。

【００６７】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀
は、塩化銀、塩臭化銀、ヨウ塩臭化銀のいずれでもよ
い。また、粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一で
あってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したも
のでもよく、あるいは連続的に変化したものでもよい。
本発明における感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界
ではよく知られており例えば、リサーチディスクロージ
ャー1978年6月の第17029号、および米国特許第3,700,45
8号に記載されている方法を用いることができる。本発
明で用いることのできる具体的な方法としては、調製さ
れた有機銀塩中にハロゲン含有化合物を添加することに
より有機銀塩の銀の一部を感光性ハロゲン化銀に変換す
る方法、ゼラチンあるいは他のポリマー溶液の中に銀供
給化合物およびハロゲン供給化合物を添加することによ
り感光性ハロゲン化銀粒子を調製し有機銀塩と混合する
方法を用いることができる。本発明において好ましくは
後者の方法を用いることができる。感光性ハロゲン化銀
の粒子サイズは、画像形成後の白濁を低く抑える目的の
ために小さいことが好ましく具体的には0.20μｍ以下、
より好ましくは0.01μm以上0.15μm以下、更に好ましく
は0.02μｍ以上0.12μｍ以下がよい。ここでいう粒子サ
イズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体あるいは八面体の
いわゆる正常晶である場合にはハロゲン化銀粒子の稜の
長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子であ
る場合には主表面の投影面積と同面積の円像に換算した
ときの直径をいう。その他正常晶でない場合、例えば球
状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化銀粒子の体
積と同等な球を考えたときの直径をいう。

【００６８】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:1がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数（ミラー指数）については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
[100]面の占める割合が高いことが好ましい。その割合
としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、
80%以上が更に好ましい。ミラー指数[100]面の比率は増
感色素の吸着における[111]面と[100]面との吸着依存性
を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記
載の方法により求めることができる。

【００６９】本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、周期
律表の第VII族あるいは第VIII族（第７族〜第１０族）
の金属または金属錯体を含有することが好ましい。周期
律表の第VII族あるいは第VIII族の金属または金属錯体
の中心金属として好ましくはロジウム、レニウム、ルテ
ニウム、オスニウム、イリジウムである。これら金属錯
体は１種類でもよいし、同種金属および異種金属の錯体
を二種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀１モル
に対し1nモルから10mモルの範囲が好ましく、10nモルか
ら１00μモルの範囲がより好ましい。具体的な金属錯体
の構造としては特開平7-225449号等に記載された構造の
金属錯体を用いることができる。本発明のハロゲン化銀
乳剤は化学増感されることが好ましい。化学増感の方法
としては、硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法、
貴金属増感法などの知られている方法を用いることがで
き、単独または組み合わせて用いられる。組み合わせて
使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫
黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテル
ル増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法とテル
ル増感法と金増感法などが好ましい。本発明に用いられ
る硫黄増感は、通常、硫黄増感剤を添加して、４０℃以
上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行われ
る。硫黄増感剤としては公知の化合物を使用することが
でき、例えば、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物のほ
か、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素
類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることができ
る。好ましい硫黄化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合
物である。硫黄増感剤の添加量は、化学熟成時のｐＨ、
温度、ハロゲン化銀粒子の大きさなどの種々の条件下で
変化するが、ハロゲン化銀１モル当たり１０^-7〜１０^-2
モルであり、より好ましくは１０^-5〜１０^-3モルであ
る。

【００７０】本発明のハロゲン化銀調製法としては、有
機銀塩の一部の銀を有機または無機のハロゲン化物でハ
ロゲン化するいわゆるハライデーション法も好ましく用
いられる。ここで用いる有機ハロゲン化物としては有機
銀塩と反応しハロゲン化銀を生成する化合物で有ればい
かなる物でもよいが、N-ハロゲノイミド(N-ブロモスク
シンイミドなど)、ハロゲン化4級窒素化合物(臭化テト
ラブチルアンモニウムなど)、ハロゲン化4級窒素塩とハ
ロゲン分子の会合体(過臭化臭化ピリジニウム)などが挙
げられる。無機ハロゲン化合物としては有機銀塩と反応
しハロゲン化銀を生成する化合物で有ればいかなる物で
もよいが、ハロゲン化アルカリ金属またはアンモニウム
(塩化ナトリウム、臭化リチウム、沃化カリウム、臭化
アンモニウムなど)、ハロゲン化アルカリ土類金属(臭化
カルシウム、塩化マグネシウムなど)、ハロゲン化遷移
金属(塩化第2鉄、臭化第2銅など)、ハロゲン配位子を有
する金属錯体(臭化イリジウム酸ナトリウム、塩化ロジ
ウム酸アンモニウムなど)、ハロゲン分子(臭素、塩素、
沃素)などがある。また、所望の有機無機ハロゲン化物
を併用しても良い。

【００７１】本発明でハライデーションする際のハロゲ
ン化物の添加量としては有機銀塩1モル当たりハロゲン
原子として1mモル〜500mモルが好ましく、10mモル〜250
mモルがさらに好ましい。本発明に用いることのできる
有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光され
た光触媒（感光性ハロゲン化銀の潜像など）および還元
剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に
銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還
元できる源を含む任意の有機物質であってよい。有機酸
の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長
鎖脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。配位子が4.0〜10.
0の範囲の錯安定度定数を有する有機または無機銀塩の
錯体も好ましい。銀供給物質は、好ましくは画像形成層
の約5〜70重量%を構成することができる。好ましい有機
銀塩はカルボキシル基を有する有機化合物の銀塩を含
む。これらの例は、脂肪族カルボン酸の銀塩および芳香
族カルボン酸の銀塩を含むがこれらに限定されることは
ない。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例としては、
ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイ
ン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸
銀、パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石
酸銀、リノール酸銀、酪酸銀および樟脳酸銀、これらの
混合物などを含む。

【００７２】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm以上0.2
0μm以下、長軸0.10μm以上5.0μm以下が好ましく、短
軸0.01μm以上0.15μm以下、長軸0.10μm以上4.0μm以
下がより好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散
であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれ
の長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の百
分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。

【００７３】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
好ましくは脱塩をすることができる。脱塩を行う方法と
しては特に制限はなく公知の方法を用いることができる
が、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロ
ック形成水洗等の公知の濾過方法を好ましく用いること
ができる。本発明に用いることのできる有機銀塩は粒子
サイズの小さい、凝集のない微粒子を得る目的で、分散
剤を使用した固体微粒子分散物とする方法が用いられ
る。有機銀塩を固体微粒子分散化する方法は、分散助剤
の存在下で公知の微細化手段（例えば、ボールミル、振
動ボールミル、遊星ボールミル、サンドミル、コロイド
ミル、ジェットミル、ローラーミル、高圧ホモジナイザ
ー）を用い、機械的に分散することができる。 有機銀
塩を分散剤を使用して固体微粒子化する際には、例え
ば、ポリアクリル酸、アクリル酸の共重合体、マレイン
酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリ
ロイルメチルプロパンスルホン酸共重合体、などの合成
アニオンポリマー、カルボキシメチルデンプン、カルボ
キシメチルセルロースなどの半合成アニオンポリマー、
アルギン酸、ペクチン酸などのアニオン性ポリマー、特
開昭52-92716号、WO88／04794号などに記載のアニオン
性界面活性剤、特願平7-350753号に記載の化合物、ある
いは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界面活
性剤や、その他ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース
等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の自然界に存在
する高分子化合物を適宜選択して用いることができる。

【００７４】本発明の有機銀塩は所望の量で使用できる
が、熱現像画像記録材料１m²当たりの量で示して、銀量
として0.1〜5g/m²が好ましく、さらに好ましくは1〜3g/
m²である。本発明の熱現像画像記録材料には有機銀塩の
ための還元剤を含むことが好ましい。有機銀塩のための
還元剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質、好
ましくは有機物質であってよい。フェニドン、ハイドロ
キノンおよびカテコールなどの従来の写真現像剤は有用
であるが、ヒンダードフェノール還元剤が好ましい。還
元剤は、画像形成層を有する面の銀1モルに対して5〜50
%（モル）含まれることが好ましく、10〜40%（モル）で
含まれることがさらに好ましい。還元剤の添加層は画像
形成層を有する面のいかなる層でも良い。画像形成層以
外の層に添加する場合は銀1モルに対して10〜50%（モ
ル）と多めに使用することが好ましい。また、還元剤は
現像時のみ有効に機能を持つように誘導化されたいわゆ
るプレカーサーであってもよい。有機銀塩を利用した熱
現像感光材料においては広範囲の色調剤が特開昭46-607
7号、同47-10282号、同49-5019号、同49-5020号、同49-
91215号、同49-91215号、同50-2524号、同50-32927号、
同50-67132号、同50-67641号、同50-114217号、同51-32
23号、同51-27923号、同52-14788号、同52-99813号、同
53-1020号、同53-76020号、同54-156524号、同54-15652
5号、同61-183642号、特開平4-56848号、特公昭49-1072
7号、同54-20333号、米国特許3,080,254号、同3,446,64
8号、同3,782,941号、同4,123,282号、同4,510,236号、
英国特許1380795号、ベルギー特許841910号などに開示
されている。

【００７５】本発明の熱現像画像記録材料は、硬調な画
像を得るために、好ましくは画像形成層および／または
その隣接層中に超硬調化剤を含有する。また、本発明は
超硬調画像形成のために、前記の超硬調化剤とともに硬
調化促進剤を併用することができる。例えば、米国特許
第5,545,505号に記載のアミン化合物、具体的にはＡＭ-
1〜ＡＭ-5、同5,545,507号に記載のヒドロキサム酸類、
具体的にはＨＡ-1〜ＨＡ-11、同5,545,507号に記載のア
クリロニトリル類、具体的にはＣＮ-1〜ＣＮ-13、同5,5
58,983号に記載のヒドラジン化合物、具体的にはＣＡ-1
〜ＣＡ-6、日本特許特願平8-132836号に記載のオニュ−
ム塩類、具体的にはＡ-1〜Ａ-42、Ｂ-1〜Ｂ-27、Ｃ-1〜
Ｃ-14などを用いることができる。本発明における増感
色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波
長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので有れ
ばいかなるものでも良い。増感色素としては、シアニン
色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色
素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシ
アニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソ
ノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることがで
きる。

【００７６】赤色光への分光増感の例としては、He-Ne
レーザー、赤色半導体レーザーやLEDなどのいわゆる赤
色光源に対しては、特開昭54-18726号に記載のI-1からI
-38の化合物、特開平6-75322号に記載のI-1からI-35の
化合物および特開平7-287338号に記載のI-1からI-34の
化合物、特公昭55-39818号に記載の色素1から20、特開
昭62-284343号に記載のI-1からI-37の化合物および特開
平7-287338号に記載のI-1からI-34の化合物などが有利
に選択される。750〜1400ｎｍの波長領域の半導体レー
ザー光源に対しては、シアニン、メロシアニン、スチリ
ル、ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノールお
よびキサンテン色素を含む種々の既知の色素により、ス
ペクトル的に有利に増感させることができる。有用なシ
アニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン
核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾ
ール核、セレナゾール核およびイミダゾール核などの塩
基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニ
ン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チ
オヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオ
ン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾ
リノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核などの
酸性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニン色素
において、イミノ基またはカルボキシル基を有するもの
が特に効果的である。例えば、米国特許3,761,279号、
同3,719,495号、同3,877,943号、英国特許1,466,201
号、同1,469,117号、同1,422,057号、特公平3-10391
号、同6-52387号、特開平5-341432号、同6-194781号、
同6-301141号に記載されたような既知の色素から適当に
選択してよい。

【００７７】また、J-bandを形成する色素として米国特
許5,510,236号、同3,871,887号の実施例5記載の色素、
特開平2-96131号、特開昭59-48753号が開示されてお
り、本発明に好ましく用いることができる。本発明にお
けるハロゲン化銀乳剤または/および有機銀塩は、カブ
リ防止剤、安定剤および安定剤前駆体によって、付加的
なカブリの生成に対して更に保護され、在庫貯蔵中にお
ける感度の低下に対して安定化することができる。単独
または組合せて使用することができる適当なカブリ防止
剤、安定剤および安定剤前駆体は、米国特許第2,131,03
8号および同第2,694,716号に記載のチアゾニウム塩、米
国特許第2,886,437号および同第2,444,605号に記載のア
ザインデン、米国特許第2,728,663号に記載の水銀塩、
米国特許第3,287,135号に記載のウラゾール、米国特許
第3,235,652号に記載のスルホカテコール、英国特許第6
23,448号に記載のオキシム、ニトロン、ニトロインダゾ
ール、米国特許第2,839,405号に記載の多価金属塩、米
国特許第3,220,839号に記載のチウロニウム塩、ならび
に米国特許第2,566,263号および同第2,597,915号に記載
のパラジウム、白金および金塩、米国特許第4,108,665
号および同第4,442,202号に記載のハロゲン置換有機化
合物、米国特許第4,128,557号および同第4,137,079号、
第4,138,365号および同第4,459,350号に記載のトリアジ
ンならびに米国特許第4,411,985号に記載のリン化合物
などがある。

【００７８】本発明のカブリ防止剤は、溶液、粉末、固
体微粒子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固
体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミ
ル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェ
ットミル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体
微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。本発明の
熱現像画像記録材料は高感度化やカブリ防止を目的とし
て安息香酸類を含有しても良い。本発明には現像を抑制
あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を
向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためな
どにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化
合物を含有させることができる。本発明における熱現像
画像記録材料は、支持体の一方の側に少なくとも1層の
ハロゲン化銀乳剤を含む感光性層のような画像形成層を
有し、他方の側にバック層（バッキング層）を有する、
いわゆる片面画像記録材料であることが好ましい。本発
明においてバック層は、所望の波長範囲での最大吸収が
0.3以上2以下であることが好ましく、さらに好ましくは
0.5以上2以下の吸収であり、かつ処理後の可視領域にお
いての吸収が0.001以上0.5未満であることが好ましく、
さらに好ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度を有する
層であることが好ましい。また、バック層に用いるハレ
ーション防止染料の例としては前述のアンチハレーショ
ン層と同じである。米国特許第4,460,681号および同第
4,374,921号に示されるような裏面抵抗性加熱層(backsi
de resistive heating layer)を感光性熱現像写真画像
系に使用することもできる。本発明の画像形成層、保護
層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜
剤の例としては、米国特許4,281,060号、特開平6-20819
3号などに記載されているポリイソシアネート類、米国
特許4,791,042号などに記載されているエポキシ化合物
類、特開昭62-89048号などに記載されているビニルスル
ホン系化合物類などが用いられる。

【００７９】本発明において、像様露光に用いられる露
光装置は露光時間が１０^-7秒未満の露光が可能な装置で
あればいずれでもよいが、一般的にはLaser Diode（Ｌ
Ｄ）、Light Emitting Diode（ＬＥＤ）を光源に使用
した露光装置が好ましく用いられる。特に、ＬＤは高出
力、高解像度の点でより好ましい。これらの光源は目的
波長範囲の電磁波スペクトルの光を発生することができ
るものであればいずれでもよい。例えばＬＤであれば、
色素レーザー、ガスレーザー、固体レーザー、半導体レ
ーザーなどを用いることができる。本発明の露光は光源
の光ビームをオーバーラップさせて露光し、オーバーラ
ップとは副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをい
う。オーバーラップとは例えば、ビーム径をビーム強度
の半値幅（ＦＷＨＭ）で表わしたときＦＷＨＭ／副走査
ピッチ幅 （オーバーラップ係数）で定量的に表現する
ことができる。本発明ではこのオーバラップ係数が０．
２以上であることが好ましい。本発明に使用する露光装
置の光源の走査方式は特に限定はなく、円筒外面走査方
式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いること
ができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでも
マルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合には
マルチチャンネルが好ましく用いられる。

【００８０】本発明の熱現像感光材料は露光時のヘイズ
が低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。この干渉縞
発生防止技術としては、特開平5-113548号などに開示さ
れているレーザー光を感光材料に対して斜めに入光させ
る技術や、国際特許ＷＯ95/31754号などに開示されてい
るマルチモードレーザーを利用する方法が知られてお
り、これらの技術を用いることが好ましい。本発明の画
像形成方法の加熱現像工程はいかなる方法で現像されて
も良いが、通常イメージワイズに露光した感光材料を昇
温して現像される。用いられる熱現像機の好ましい態様
としては、熱現像感光材料をヒートローラーやヒートド
ラムなどの熱源に接触させるタイプとして特公平5-5649
9号、特許公報第684453号、特開平9-292695号、特開平9
-297385号および国際特許ＷＯ95/30934号に記載の熱現
像機、非接触型のタイプとして特開平7-13294号、国際
特許ＷＯ97/28489号、同97/28488号および同97/28487号
に記載の熱現像機がある。特に好ましい態様としては非
接触型の熱現像機である。好ましい現像温度としては80
〜250℃であり、さらに好ましくは100〜140℃である。
現像時間としては1〜180秒が好ましく、５〜90秒がさら
に好ましい。本発明の熱現像感光材料の熱現像時の寸法
変化による処理ムラを防止する方法として、80℃以上11
5℃未満の温度で画像が出ないようにして３秒以上加熱
した後、110℃以上140℃以下で熱現像して画像形成させ
る方法（いわゆる多段階加熱方法）が有効である。

【００８１】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用
いられる熱現像機の一構成例を図１に示す。図１は熱現
像機の側面図を示したものである。図−１の熱現像機は
熱現像感光材料１０を平面状に矯正及び予備加熱しなが
ら加熱部に搬入する搬入ローラー対１１（下部ローラー
がヒートローラー）と熱現像後の熱現像後の熱現像感光
材料１０を平面状に矯正しながら加熱部から搬出する搬
出ローラー対１２を有する。熱現像感光材料１０は搬入
ローラー対１１から搬出ローラー対１２へと搬送される
間に熱現像される。この熱現像中の熱現像感光材料１０
を搬送する搬送手段は画像形成層を有する面が接触する
側に複数のローラー１３が設置され、その反対側のバッ
ク面が接触する側には不織布（たとえばポリフェニレン
サルファイトやテフロンから成る）等が貼り合わされた
平滑面１４が設置される。熱現像感光材料１０は画像形
成層を有する面に接触する複数のローラー１３の駆動に
より、バック面は平滑面１４の上を滑って搬送される。
加熱手段はローラー１３の上部及び平滑面１４の下部に
熱現像感光材料１０の両面から加熱されるように加熱ヒ
ーター１５が設置される。この場合の加熱手段としては
板状ヒーター等が挙げられる。ローラー１３と平滑面１
４とのクリアランスは平滑面の部材により異なるが、熱
現像感光材料１０が搬送できるクリアランスに適宜調整
される。好ましくは０〜１ｍｍである。

【００８２】ローラー１３の表面の材質及び平滑面１４
の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料１０の搬
送に支障がなければ何でも良いが、ローラー表面の材質
はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミドまた
はテフロン（ＰＴＦＥ）製の不織布が好ましい。加熱手
段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度を
自由に設定することが好ましい。なお、熱現像処理部の
上流の予備加熱部は、熱現像温度よりも低く（例えば１
０〜２０℃程度程度低く）、熱現像感光材料中の水分量
を蒸発させるのに十分な温度および時間に設定すること
が望ましく、熱現像感光材料１０の支持体のガラス転移
温度（Ｔｇ）よりも高い温度で、現像ムラが出ないよう
に設定することが好ましい。また、熱現像処理部の下流
にはガイド板１６が設置され、さらに、徐冷部が設置さ
れる。ガイド板は熱伝導率の低い素材が好ましく、冷却
は徐々に行うのが好ましい。以上、図示例に従って説明
したが、これに限らず、例えば特開平7-13294号に記載
のものなど、本発明に用いられる熱現像機は種々の構成
のものであってもよい。また、本発明において好ましく
用いられる多段加熱方法の場合は、上述のような装置に
おいて、加熱温度の異なる熱源を２個以上設置し、連続
的に異なる温度で加熱するようにすればよい。

【００８３】

【実施例】以下に実施例を記載して本発明をさらに具体
的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割
合、操作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変
更することができる。したがって、本発明の範囲は以下
に示す具体例に制限されるものではない。

【００８４】＜実施例１＞１．ハロゲン化銀乳剤の調製 １−１）乳剤Ａ 水700mlにアルカリ処理ゼラチン（カルシウム含有量と
して2700ppm以下）11gおよび臭化カリウム30mg、ベンゼ
ンチオスルホン酸ナトリウム10mgを溶解して温度40℃に
てpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.6gを含む水溶液159m
lと臭化カリウムを1モル/リットル（ＮＨ₄）₂ＲｈＣｌ₅
（Ｈ₂Ｏ）を5×10^-6モル／リットル及びＫ₃ＩｒＣｌ₆を
2×10^-5モル／リットルで含む水溶液をpAg7.7に保ちな
がらコントロールダブルジェット法で6分30秒間かけて
添加した。ついで、硝酸銀55.5gを含む水溶液476mlと臭
化カリウムを1モル/リットル及びＫ₃ＩｒＣｌ₆を2×10
^-5モル／リットルで含むハロゲン塩水溶液をpAg7.7に保
ちながらコントロールダブルジェット法で28分30秒間か
けて添加した。その後pHを下げて凝集沈降させて脱塩処
理をし、化合物Ａを0.17g、平均分子量１万５千の低分
子量ゼラチン（カルシウム含有量として20ppm以下）51.
1g加え、pH5.9、pAg8.0に調製した。得られた粒子は平
均粒子サイズ0.08μm、投影面積変動係数9%、(100)面比
率90%の立方体粒子であった。こうして得たハロゲン化
銀粒子を60℃に昇温して銀1モル当たりベンゼンチオス
ルホン酸ナトリウム76μモルを添加し、3分後にトリエ
チルチオ尿素71μモルを添加して、100分熟成し、４−
ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザ
インデンを5×10^-4モル加えた後、40℃に降温させた。
その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀1モルに対し
て12.8×10^-4モルの下記増感色素Ａ、6.4×10^-3モルの
化合物Ｂを攪拌しながら添加し、20分後に30℃に急冷し
てハロゲン化銀乳剤Ａの調製を終了した。

【００８５】

【化１２】

【００８６】１−２）有機酸銀分散物の調製 ＜有機酸銀Ａ＞ヘンケル社製ベヘン酸（製品名Ｅｄｅｎ
ｏｒC22-85R）87.6g、蒸留水423ml、5N−NaOH水溶液49.
2ml、tert−ブチルアルコール120mlを混合し、75℃にて
1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液を得
た。別に、硝酸銀40.4gの水溶液206.2mlを用意し、10℃
にて保温した。635mlの蒸留水と30mlのtert-ブチルアル
コールを入れた反応容器を30℃に保温し、攪拌しながら
先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全
量を流量一定でそれぞれ62分10秒と60分かけて添加し
た。この時、硝酸銀水溶液添加開始後7分20秒間は硝酸
銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸
ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液添加終了後
9分30秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加される
ようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、
液温度が上がらないようにコントロールした。また、ベ
ヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、スチームトレ
ースにより保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75
℃になるようにスチーム量をコントロールした。また、
硝酸銀水溶液の添加系の配管は、２重管の外側に冷水を
循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶
液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は攪拌軸を中心
として対称的な配置とし、また反応液に接触しないよう
な高さに調節した。ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了
後、そのままの温度で20分間攪拌放置し、25℃に降温し
た。その後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を濾水
の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして得ら
れた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保
管した。得られたベヘン酸銀の粒子の形態を電子顕微鏡
撮影により評価したところ、平均投影面積径0.52μｍ、
平均粒子厚み0.14μm、平均球相当径の変動係数15％の
鱗片状の結晶であった。

【００８７】つぎに、以下の方法でベヘン酸銀の分散物
を作成した。乾燥固形分100ｇ相当のウエットケーキに
対し、ポリビニルアルコール(商品名：PVA-217，平均重
合度：約1700)7.4ｇおよび水を添加し、全体量を385ｇ
としてからホモミキサーにて予備分散した。次に予備分
散済みの原液を分散機(商品名：マイクロフルイダイザ
ーＭ−１１０Ｓ−ＥＨ、マイクロフルイデックス・イン
ターナショナル・コーポレーション製、Ｇ１０Ｚインタ
ラクションチャンバー使用)の圧力を１７５０kg/cm²に
調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却
操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの
前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで所望の
分散温度に設定した。こうして得たベヘン酸銀分散物に
含まれるベヘン酸銀粒子は体積加重平均直径0.52μm、
変動係数15%の粒子であった。粒子サイス゛の測定は、Malve
rn Instruments Ltd.製MasterSizerXにて行った。また
電子顕微鏡撮影により評価すると、長辺と短辺の比が1.
5、粒子厚み0.14μm、平均アスペクト比（粒子の投影面
積の円相当径と粒子厚みの比）が5.1であった。

【００８８】１−３）1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメ
チルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン：還元剤固体
微粒子分散物の調製 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-
トリメチルヘキサン25gに対してクラレ(株)製ＭＰポリ
マーのMP-203の20%水溶液を25g、日信化学（株）製サフ
ィノール104Eを0.1g、メタノール2gと水48ml添加してよ
く撹拌して、スラリーとして3時間放置した。その後、1
mmのジルコニアビーズを360g用意してスラリーと一緒に
ベッセルに入れ、分散機（1／4Ｇサンドグラインダーミ
ル：アイメックス(株)製）にて3時間分散し還元剤固体
微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80重量%が
0.3μm以上1.0μm以下であった。

【００８９】１−４）ポリハロゲン化合物の固体微粒子
分散物の調製 ポリハロゲン化合物−Ａの30gに対してクラレ（株）製
ＭＰポリマーのMP-203を4g、化合物Ｃ0.25gと、水66gを
添加し良く撹拌し、その後0.5mmのジルコニアシリケー
トビーズを200g用意してスラリーと一緒にベッセルに入
れ、分散機（1/16Gサンドグラインダーミル：アイメッ
クス（株）製）にて5時間分散し、固体微粒子分散物を
調製した。粒子径は、粒子の80重量%が0.3μm以上1.0μ
m以下であった。ポリハロゲン化合物−Ｂについてもポ
リハロゲン化合物−Ａと同様に固体微粒子分散物を調製
し、同様な粒子径となった。

【００９０】１−５）造核剤の固体微粒子分散物の調製 表１に記載の造核剤10gに対して、ポリビニルアルコー
ル（クラレ製PVA-217）2.5g、水87.5gを添加し良く攪拌
してスラリーとして3時間放置した。その後、0.5mmのジ
ルコニアビーズを240g用意してスラリーと一緒にベッセ
ルに入れ、分散機（1/4Gサンドグラインダーミル：アイ
メックス（株）製）にて10時間分散し、固体微粒子分散
物を調製した。粒子径は、粒子の80重量%が0.1μｍ以上
1.0μｍ以下で、平均粒径0.5μｍであった。

【００９１】１−６）化合物Ｚの固体微粒子分散物の調
製 化合物Ｚの30gに対して、クラレ（株）製ＭＰポリマー
のMP-203を3gと水87ml添加してよく攪拌して、スラリー
として3時間放置した。その後、上記還元剤固体微粒子
分散物の調製と同様にして、化合物Ｚの固体微粒子分散
物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μｍ以上1.
0μｍ以下であった。

【００９２】１−７）乳剤層塗布液の調製 上記で作成した有機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対し
て、以下のバインダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤
Ａを添加して、水を加えて、乳剤層塗布液とした。粘度
は２０−７０ｃｐ（２５℃）であり、ｐＨは７．４であ
った。 ・バインダー；ラックスター3307Ｂ 固形分として 397g （大日本インキ化学工業(株)製；SBRラテックスでガラス転移温度17℃） ・1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 149g ・ポリハロゲン化合物-Ａ 固形分として 34.8g ・ポリハロゲン化合物-Ｂ 固形分として 9.0g ・エチルチオスルホン酸ナトリウム 0.30g ・ベンゾトリアゾール 1.04g ・ポリビニルアルコール（クラレ(株)製PVA-235） 10.8g ・6-iso-プロピルフタラジン 15.0g ・オルトりん酸二水素ナトリウム・２水和物 0.37g ・化合物Ｚ 固形分として 9.7g ・造核剤 化合物ＡＡ 5.0ｇ ・染料Ａ 783nmの光学濃度が0.3になる塗布量（目安として0.37g） ・ハロゲン化銀乳剤Ａ Ag量として0.06モル

【００９３】

【化１３】

【００９４】２．乳剤面下層保護層塗布液の調製 メチルメタクリレート／スチレン／2-エチルヘキシルア
クリレート／2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アク
リル酸＝58.9／8.6／25.4／5.1／2（wt％）のポリマー
ラテックス溶液（共重合体でガラス転移温度57℃、固形
分濃度として21.5%、造膜助剤として化合物Ｄをラテッ
クスの固形分に対して15wt%含有）956gにH₂Oを加え、化
合物Ｅ−１ ０．８１、化合物Ｅ−２ ０．８１g、化
合物Ｓ １．６２ｇ、マット剤（ポリスチレン粒子、平
均粒径7μm）1.98gおよびポリビニルアルコール（クラ
レ(株)製，PVA-235，５％水溶液）23.6gを加え、さらに
H₂Oを加えて、塗布液１リットルを調製した。粘度は２
０−７０ｃｐ（２５℃）であり、ｐＨは５．４であっ
た。

【００９５】３．乳剤面最外層塗布液（上層保護層の塗
布液）の調製 メチルメタクリレート／スチレン／2-エチルヘキシルア
クリレート／2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アク
リル酸＝58.9／8.6／25.4／5.1／2（wt％）のポリマー
ラテックス溶液（共重合体でガラス転移温度54℃、固形
分濃度として21.5%、造膜助剤として化合物Ｄをラテッ
クスの固形分に対して15wt%含有）630gにH₂Oを加え、本
分中に記載の本発明の滑り剤分散微粒子１0wt%溶液を
１．４４ｇ、化合物Ｅ−１、 0.３６g、化合物Ｅ−２
０．３６ｇ、化合物Ｅ−３ ０．７２ｇ、化合物Ｆ
7.95g、化合物Ｓ 0、７２ｇ、マット剤（ポリスチレン
粒子、平均粒径7μm）1.18gおよびポリビニルアルコー
ル（クラレ(株)製，PVA-235、５％水溶液）8.30gを加
え、さらにポリジメチルシロキサン（分子量約５００
０、メタノール溶液）を表１の含有量になるように添加
し、さらにH₂Oを加えて、塗布液１リットルを調製した。粘
度は２０−７０ｃｐ（２５℃）の間であり、ｐＨは２．
９であった。また表面張力は２５〜２８ダイン／ｃｍの
間であった。

【００９６】

【化１４】

【００９７】４．バック／下塗り層のついたPET支持体
の作製 ４−１)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、ＩＶ(固有粘度)＝0.66（フェノール／テトラクロル
エタン＝６／４（重量比）中25℃で測定）のＰＥＴを得
た。これをペレット化した後、130℃で４時間乾燥した
後、300℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出した後急冷し、
熱固定後の膜厚が120μｍになるような厚みの未延伸フ
イルムを作成した。これを周速の異なるロールを用い、
3.3倍に縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施
した。このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/cm²
で巻きとった。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、
厚み120μｍのロールを得た。

【００９８】 ４−２)下塗り層(a) ・ポリマーラテックス-（１）（コア部90重量%、シェル部10重量%のコアシェル タイプのラテックスで、コア部：塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチル メタクリレート／アクリロニトリル／アクリル酸＝93/3/3/0.9/0.1（重量%）、 シェル部：塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチルメタクリレート／アク リロニトリル／アクリル酸＝88/3/3/3/3（重量%）から成る重量平均分子量38000 のポリマーラテックス） 固形分量として 3.0g/m² ・2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン 23mg/m² ・マット剤（ポリスチレン、平均粒子径2.4μｍ） 1.5mg/m²

【００９９】 ４−３)下塗り層(b) ・脱イオン処理ゼラチン （Ca²⁺含量0.6ppm、ゼリー強度230g） 50mg/m²

【０１００】 ４−４)導電層 ・ジュリマーET-410（日本純薬（株）製） 96mg/m² ・アルカリ処理ゼラチン（分子量約10000、Ca²⁺含量30ppm） 42mg/m² ・脱イオン処理ゼラチン（Ca²⁺含量0.6ppm） 8mg/m² ・化合物-Ａ 0.2mg/m² ・ポリ（重合度＝１２）オキシエチレンノニルフェニルエーテル 10mg/m² ・スミテックスレジンＭ-3 （水溶性メラミン化合物、住友化学工業（株）製） 18mg/m² ・染料Ａ 783nmの光学濃度が1.2になる塗布量 ・SnO₂／Sb₂Ｏ₃（9/1重量比、針状微粒子、長軸／短軸＝20〜30、 石原産業（株）製 ＦＰ１０） 160mg/m² ・マット剤（架橋ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μｍ） 7mg/m²

【０１０１】 ４−５)バック保護層 ・ポリマーラテックス−（２） （メチルメタクリレート／スチレン／2−エチルヘキシルアクリレート／ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸 ＝59／9／26／5／1（重量%の共重合体）） 固形分量として 1000mg/m² ・ポリスチレンスルホン酸塩（分子量1000〜5000） 2.6mg/m² ・セチル硫酸ナトリウム 10mg/m² ・セロゾール524（カルナウバワックス、中京油脂（株）） 15mg/m² ・スミテックスレジンＭ-3 （水溶性メラミン化合物、住友化学工業（株）製） 218mg/m²

【０１０２】４−６）バック／下塗り層のついたＰＥＴ
支持体の作製 支持体（ベース）の両面に下塗り層(a)と下塗り層(b)を
順次塗布し、それぞれ180℃、４分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した上の一方の側
の面に導電層と保護層を順次塗布し、それぞれ180℃、4
分間乾燥して、バック／下塗り層のついたPET支持体を
作製した。下塗り層（a）の乾燥厚みは2.0μｍであっ
た。

【０１０３】５．搬送熱処理 ５−１)熱処理 作製したバック／下塗り層のついたPET支持体を160℃設
定した全長200m熱処理ゾーンに入れ、張力3kg/cm²、搬
送速度20m／分で搬送した。

【０１０４】５−２）後熱処理 上記熱処理に引き続き、40℃のゾーンに15秒間通して後
熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力は10
kg/cm²であった。

【０１０５】

【化１５】

【０１０６】６．熱現像感光材料の作製 前記下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した側のPET支持
体の下塗り層の上に前記の乳剤層塗布液を塗布銀量1.7g
/m²になるように塗布した。さらにその上に、前記乳剤
面下層保護層塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布
量が1.31g/m²になるように乳剤塗布液と共に同時重層塗
布した。その後でその上に前記乳剤面上層保護層塗布液
をポリマーラテックスの固形分塗布量が3.02g/m²になる
ように塗布し、熱現像感光材料を作製した。得られた熱
現像感光材料の画像形成側の膜面ｐＨは4.9、ベック平
滑度が660秒であり、反対側の膜面ｐＨは5.9、ベック平
滑度は560であった。

【０１０７】７．熱現像 ７−１）露光処理 得られた熱現像感光材料を、ビーム径（ビーム強度の1/
2のＦＷＨＭ）12.56μｍ、レーザー出力50mW、出力波長
783nmの半導体レーザーを搭載した単チャンネル円筒内
面方式のレーザー露光装置を使用し、ミラーの回転数を
変化させることにより露光時間を、出力値を変えること
により露光量を調整し、2×10^-8秒で露光した。この時
のオーバーラップ係数0.449にした。

【０１０８】７−２）熱現像処理 露光済みの熱現像感光材料を図１の熱現像機を用いて、
熱現像処理部のローラー表面材質はシリコンゴム、平滑
面はテフロン不織布にして予備加熱部90〜100℃で5秒、
熱現像処理部120℃で20秒間熱現像処理を行った。な
お、幅方向の温度精度は±1℃であった。

【０１０９】８．評価 ８−１）塗布スジの評価 塗布された感材の表面を目視にて観察し、スジ状のムラ
を評価した。評価は以下に分類した。 Ａ：塗布スジは認められない。 Ｂ：塗布スジが少し認められる。 Ｃ：塗布スジが相当認められる。 Ｃ：塗布スジが全面に認められる。

【０１１０】８−２）塗布ハジキの評価 塗布された感材の表面を目視にて観察し、ハジキ状の欠
陥ムラ（円形）を評価した。評価は以下に分類した。 Ａ：塗布ハジキは認められない。 Ｂ：塗布ハジキが少し認められるがサイズは小さい。 Ｃ：塗布ハジキが相当認められ、サイズも大きい。 Ｃ：塗布ハジキが全面に認められ、サイズも極端に大き
い。

【０１１１】８−３）ピンホールの評価 全面をスキャナー露光された感材を、図１に示す熱現像
機を用いて現像温度１２０℃、現像時間２０秒の現像条
件で試料（サイズ６０cm×７５cm）を熱現像処理した。
なお、図１のドラム式熱現像機は、ランプの配光を最適
化し、幅方向の温度精度を±１℃で行った。また、矯正
ガイド板７付近において熱現像画像記録材料の温度が９
０℃以下にならないように雰囲気温度を調整した。熱現
像後の試料を高照度シャーカステンで透過させ、ピンホ
ールを目視にて観察し以下ように評価した。 Ａ：ピンホールは認められない。 Ｂ：ピンホールが少し認められる。 Ｃ：ピンホールが相当認められる。 Ｃ：ピンホールが多数認められサイズも大きい。

【０１１２】８−４）熱現像ムラの評価 図１に示す熱現像機を用いて、現像温度１２０℃、現像
時間３０秒の現像条件で試料（サイズ６０cm×７５cm）
を熱現像処理し、処理中での試料の皺（シワ）の発生の
有無を目視で観察した。なお、図１のドラム式熱現像機
は、ランプの配光を最適化し、幅方向の温度精度を±１
℃で行った。また、矯正ガイド板７付近において熱現像
画像記録材料の温度が９０℃以下にならないように雰囲
気温度を調整した。評価は以下に分類した。 Ａ：熱現像ムラは認められない。 Ｂ：熱現像ムラが少し認められる。 Ｃ：熱現像ムラが相当認められる。

【０１１３】８−５）傷つき 図１に示す熱現像機を用いて、現像温度１２０℃、現像
時間３０秒の現像条件で試料（サイズ６０cm×７５cm）
を熱現像処理し、処理後の画像面側の傷の発生レベルを
目視で観察した。なお、図１のドラム式熱現像機は、ラ
ンプの配光を最適化し、幅方向の温度精度を±１℃で行
った。また、矯正ガイド板７付近において熱現像画像記
録材料の温度が９０℃以下にならないように雰囲気温度
を調整した。評価は以下に分類した。 Ａ：熱現像後の傷つきがほとんど認められず、プリント
上に実害ない。 Ｂ：熱現像後の傷つきが少し認められ、プリント上に写
る。 Ｃ：熱現像後の傷つきが相当認められ、プリント上で修
復不可能な実害を発生する。

【０１１４】８−６）接着跡 得られた生試料を、２５℃、７０％RH条件下で２時間調
湿し、バック面と乳剤面を重ねあわせ、過重１００ｇ／
ｃｍ²で３日放置経時させ、乳剤面の接着程度を目視で
観察した。 Ａ：接着跡は認められない。 Ｂ：接着跡が少し認められる。 Ｃ：接着跡が相当認められる。

【０１１５】８−７）ゴミ付き評価 得られた試料を全露光状態で、１２０℃、２５秒で熱処
理し黒化サンプルとした。このサンプルを２５℃、１０
％RH条件下で２時間調湿し、バック面と乳剤面を重ねあ
わせ、過重１ｋｇ／ｃｍ²で１０回こすった。この乳剤
面に粉砕したポリスチレン片をばらまき、その付着程度
を目視で観察した。Ａ：ポリスチレン片の付着は認めら
れない。 Ｂ：ポリスチレン片の付着が少し認められる。 Ｃ：ポリスチレン片の付着が相当認められる。

【０１１６】８−８）導電性 得られた生試料を、２５℃、１０％RH条件下で２時間調
湿し、側面に銀ペイントを塗布して、試料の電気抵抗
（Ω）を測定した。

【０１１７】８−９）熱現像処理に伴う寸法変化率の測
定法 全面を曝光した処理前の試料（サイズ５cm×２５cm）に
２００mmの間隔を置いて、直径８mmの穴を２個開け、１
／１０００mm精度のピンゲージを用いて、２個の穴の間
隔を正確に測定した。このときの寸法をＸ（単位mm）と
する。ついで、図１の熱現像機を用いて、１２０℃３０
秒の現像条件で熱現像処理した後、１２０分後の寸法を
ピンゲージにて測定した。このときの寸法をＹ（単位m
m）とする。 寸法変化率（％）＝［（Ｙ−Ｘ）／２００］×１００ の値で評価した。ベースの横方向についての評価値であ
る。

【０１１８】８―１０）評価結果 得られた試料０１〜０７についての特性評価をした。表
１から明らかなように、本発明の試料０３〜０７は、塗
布スジや塗布ハジキ及びピンホールの全てを満足するも
のであった。さらに本発明の試料は、熱現像ムラ、傷つ
き、接着跡、ゴミ付きも全て優れたものであり、導電性
としての抵抗は１０の８乗台（Ω）であった。また動摩
擦係数はすべて１．１以下であり優れた特性であった。
さらに、熱現像処理に伴う寸法変化率も小さく良好であ
った。一方、本発明の領域を越えたシリコーンを最外層
塗布液に含有した比較試料０１〜０３は、塗布スジ、塗
布ハジキ及びピンホールの点で問題であった。

【０１１９】

【表１】

【０１２０】＜実施例２＞実施例１の本発明の試料０５
において画像層側の最外層塗布液に添加した滑り剤分散
微粒子を除外する以外は、実施−１と全く同様にして試
料２５を得た。この試料は、塗布スジや塗布ハジキ及び
ピンホールの全てを満足するものであった。しかし、熱
現像ムラが若干見られ、滑り特性が０．３０となり悪化
したが、実用上大きな問題はおこさなかった。以上から
本発明においては、滑り剤分散微粒子を含有することが
好ましいことが明らかである。

【０１２１】＜実施例３＞実施例１の本発明の試料０５
において画像層側の最外層塗布液に添加したフッ素系界
面活性剤（化合物Ｅ−１，Ｅ−２）を除去する以外は、
実施−１と全く同様にして試料３５を得た。この時の最
外層塗布液の表面張力は、３３ダイン／ｃｍであった。
これらの試料について、実施例１と同様に全く同様に評
価を行った。その結果、実害はないが押し出しコーター
の塗布に際し、塗布スピードを１２０ｍ／分に上げた時
に若干最初の塗り付けが不安定であった。これに対し
て、本発明の好ましい態様である試料０５の塗布液は表
面張力が２６ダイン／ｃｍであり、高速塗布でも安定し
たギーサービードを形成し、塗り付けも安定したもので
あった。これらの結果から、フッ素系界面活性剤の添加
が本発明の効果を発揮するのに優れたものであることが
わかる。さらに、最外層塗布液からフッソ系界面活性剤
（化合物Ｅ−１，Ｅ−２）だけでなく、非フッ素系界面
活性剤Ｅ−３も除去する以外は、実施−１と全く同様に
して試料３５１を得た。この時の最外層塗布液の表面張
力は、３７ダイン／ｃｍであった。これらの試料につい
て、実施例１と同様に全く同様に評価を行った。その結
果、実害はないが押し出しコーターの塗布に際し、塗布
スピードを１００ｍ／分に上げた時に若干最初の塗り付
けとベース接合部での塗布が不安定であった。以上か
ら、最外層塗布液の表面張力が３５ダイン／ｃｍ以下で
あることは、高速塗布でも安定したギーサービードを形
成し、塗り付けも安定したものであることが明白であ
る。

【０１２２】＜実施例４＞実施例１の本発明の試料０５
において画像層側のバック側の導電性層の針状導電性ア
ンチモン含有酸化錫微粉末を除去した以外は、実施−１
と全く同様にして試料４５を得た。試料０５の導電性が
１０⁸であるのに対して、試料４６の導電性は１０¹⁵Ω
であり、導電性が失活した。これらの試料について、実
施例１と全く同様に評価を行った。その結果、実害はな
いが反射で詳細に観察した時に、面状が弱いムラを発生
することがわかった。これに対して、本発明の好ましい
態様である試料０５の塗布液はこれらのムラは全く見ら
れず優れた画像を得ることができた。これらの結果か
ら、導電性層を付与することが、本発明の効果を発揮す
るのに優れたものであることがわかる。

【０１２３】＜実施例５＞実施例１の本発明の試料０５
において支持体の下塗り層の塩化ビニリデン素材をSBR
化合物に変更する以外は実施−１と全く同様にして試料
５５を得た。これらの試料について、実施例１と全く同
様に評価を行った。その結果、本発明の塩化ビニリデン
下塗り層に代わり、ＳＢＲラテックスを下塗りした比較
試料４５は、熱現像に伴う寸法変化率や７５％ＲＨでの
経時による寸法変化率、更にＤｍｉｎの点で大きく劣っ
ていた。これらは、印刷感材の長期経時で色ずれの原因
となり、短時間での使用に限定されるという制約を有す
るものであった。

【０１２４】＜実施例６＞実施例１の本発明の試料０５
において乳剤面最外層塗布液（上層保護層の塗布液）の
ｐＨを１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨ７．５に中和して作
成・変更する以外は実施例１と全く同様にして試料６５
を得た。これらの試料について、実施例１と全く同様に
評価を行った。その結果、最外層塗布液をｐＨ７．５に
した比較試料６５は、写真性上でＤｍｉｎの点で大きく
劣っていた。これはｐＨが高くなったことにより熱現像
特性に影響しカブリを発生しやすくなったことが原因で
ある。

【０１２５】

【発明の効果】本発明によれば、塗布スジ、塗布ハジキ
及びピンホールが改良され、かつ熱現像時のムラ、傷つ
き、接着跡が大幅に改良できることが明らかとなった。
更に、熱現像後の経時に伴う寸法変化を少なくできる。
また、ゴミ付きのない優れた熱現像画像材料を作成する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】熱現像機の一構成例を示す側面図である。

【符号の説明】

１０ 熱現像感光材料 １１ 搬入ローラー対 １２ 搬出ローラー対 １３ ローラー １４ 平滑面 １５ 加熱ヒーター １６ ガイド板 Ａ 予備加熱部 Ｂ 熱現像処理部 Ｃ 徐冷部

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体の少なくとも一方に少なくとも画
   像形成層と最外層を有し、８０℃以上１４０℃以下の現
   像温度で熱現像処理が行われる熱現像画像記録材料の、
   最外層を形成するために使用する最外層塗布液であっ
   て、ラテックスを含有しシリコーン含有量が５０ｐｐｍ
   以下の水系塗布液であることを特徴とする最外層塗布
   液。
2. 【請求項２】 滑り剤分散微粒子を含有することを特徴
   とする請求項１の最外層塗布液。
3. 【請求項３】 含フッ素系界面活性剤を含有することを
   特徴とする請求項１または２の最外層塗布液。
4. 【請求項４】 表面張力が２２ダイン／ｃｍ以上３５ダ
   イン／ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３の
   いずれかの最外層塗布液。
5. 【請求項５】 ｐＨが２以上７以下であることを特徴と
   する請求項１〜４のいずれかの最外層塗布液。
6. 【請求項６】 支持体の少なくとも一方に熱現像画像形
   成層と最外層を有し、８０℃以上１４０℃以下の現像温
   度で熱現像処理が行われる熱現像画像記録材料におい
   て、最外層がラテックスと滑り剤分散物を含有しシリコ
   ーン含有量が５０ｐｐｍ以下である最外層塗布液を塗布
   ・乾燥して作成されたことを特徴とする熱現像画像記録
   材料。
7. 【請求項７】 最外層の内側に形成された１以上の層
   も、ラテックスと滑り剤分散物を含有しシリコーン含有
   量が５０ｐｐｍ以下である塗布液を塗布・乾燥して作成
   されたことを特徴とする請求項６の熱現像画像記録材
   料。