JP2001001458A

JP2001001458A - 防汚性材料及びその製造方法

Info

Publication number: JP2001001458A
Application number: JP17090799A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Narita; 雅浩成田; Masahiro Ishikawa; 雅啓石川
Original assignee: Aisin Seiki Co Ltd
Current assignee: Aisin Corp
Priority date: 1999-06-17
Filing date: 1999-06-17
Publication date: 2001-01-09

Abstract

(57)【要約】【課題】優れた防汚性を発揮する，防汚性材料及びそ
の製造方法を提供すること。【解決手段】基材１１と該基材１１の表面に設けた撥
水性表面層１２とよりなり，上記撥水性表面層１２には
防汚性粒子１３が含まれていると共に上記撥水性表面層
１２の外表面は凹凸面１２０を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【技術分野】本発明は，水性の汚れが付着し難い防汚性
材料及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来技術】給水，給湯設備や汚水，排泄物の処理など
の衛生設備にかかわる物品の構成材料として，水性の汚
れが付着し難く，仮に付着しても容易に脱落可能な撥水
性材料を使用することがある。例えば，（１）基材の表
面に触媒や撥水性粒子を含むシリコーンよりなる表面層
を設けた撥水性材料が従来知られている（特開平１０−
２３７４３１）。

【０００３】この材料は基材に設けた表面層に，該表面
層の厚みよりも大きな粒径を持った撥水性粒子が含まれ
ており，表面層より撥水性粒子が突き出すことで凹凸表
面が形成される。この凹凸表面と撥水性粒子とによって
材料表面の撥水性が確保され，水性の汚れがはじかれ
る。また，（２）樹脂よりなる基材に撥水性粒子や防黴
性粒子等を含ませた材料が従来知られている（特開平８
−１０００９２）。

【０００４】

【解決しようとする課題】しかしながら，従来知られた
撥水材料では，汚れの付着について満足する性能を得る
ことができず，より優れた防汚性材料が望まれていた。

【０００５】本発明は，かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので，優れた防汚性を発揮する，防汚性材料及
びその製造方法を提供しようとするものである。

【０００６】

【課題の解決手段】請求項１に記載の発明は，基材と該
基材の表面に設けた撥水性表面層とよりなり，上記撥水
性表面層には防汚性粒子が含まれていると共に上記撥水
性表面層の外表面は凹凸面を有することを特徴とする防
汚性材料にある。

【０００７】本発明の作用につき説明する。本発明にか
かる防汚性材料は基材が撥水性表面層に覆われており，
水性の汚れが付着し難い。また，仮に付着した場合でも
撥水性により速やかに汚れは脱落する。更に，撥水性表
面層の外表面は凹凸面であるため，該凹凸面による撥水
性を重ねて得ることができる。また，撥水性表面層に防
汚性粒子が含まれているため，汚れ付着の防止効果を更
に重ねて得ることができる。

【０００８】以上，本発明によれば，優れた防汚性を発
揮する防汚性材料を提供することができる。

【０００９】なお，上記撥水性表面層は基材の少なくと
も一部に設けてあればよい。撥水性表面層は汚れ付着防
止の効果が必要な部分の基材にのみ設ければよい。

【００１０】上記防汚性粒子としては，光触媒または抗
菌剤等を使用することができる。光触媒を利用すること
で付着した汚れを自然と分解除去させることができる。
また，抗菌剤を利用することで特に黴や細菌繁殖による
汚れを防止することができる。

【００１１】光触媒とは，その結晶の伝導帯と価電子帯
との間のエネルギーギャップよりも大きなエネルギー
（すなわち短い波長）の光（励起光）を照射したときに
価電子帯中の電子の励起（光励起）が生じて伝導電子と
正孔とを生成しうる物質をいい，このような物質の一例
として次に示す光触媒性酸化物を用いることができる。
すなわち，アナターゼ型酸化チタン，ルチル型酸化チタ
ン，酸化亜鉛，酸化錫，酸化第二鉄，三酸化二ビスマ
ス，三酸化タングステン，チタン酸ストロンチウム等の
酸化物が好適に利用できる。

【００１２】また，上記抗菌剤としては，硝酸銀，硫酸
銀，塩化銀等を使用することができる。また，銀，銅，
亜鉛，あるいは錫を担持したゼオライト，銀，銅，亜鉛
あるいは錫を担持したシリカゲルを使用することができ
る。

【００１３】また，防汚性粒子とあるが，その形態は厳
密に粒子状（球体状）である必要はなく，フィラー状，
鱗状，薄片状，針状，塊状，不定形状等の各種の形態を
持ったものを使用することができる。更に，多数の一次
粒子が凝集した二次粒子状のものを使用することもでき
る。

【００１４】また，上記撥水性表面層は優れた撥水性を
有する弗素樹脂よりなることが好ましい。この弗素樹脂
としては，ポリテトラフルオロエチレン，テトラフルオ
ロエチレン，パーフルオロアルキルビニルエーテル共重
合体，テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピ
レン共重合体，テトラフルオロエチレン・エチレン共重
合体，ポリクロロトリフルオロエチレン，ポリフッ化ビ
ニリデン，テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプ
ロピレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合
体，ポリビニルフルオライド等が挙げられる。

【００１５】また，上記基材は，本発明にかかる防汚性
材料を適用する物品に応じて適宜選択することができ
る。各種金属，樹脂，セラミックス等，撥水性表面層と
の密着性が確保できれば，いかなる材料を使用してもよ
い。

【００１６】また，上記基材と撥水性表面層との界面は
凹凸面であることが好ましい。これにより，基材と撥水
性表面層との間に高い密着性を得ることができ，撥水性
表面層の脱落等をより強く防止することができる。

【００１７】次に，請求項２に記載の発明のように，上
記防汚性粒子は上記撥水性表面層の内部にあることが好
ましい。上記撥水性表面層は外表面が凹凸面であり，上
記防汚性粒子は撥水表面層の内部にある。つまり防汚性
粒子は凹凸面のより凹部の側に存在する。汚れは凹部の
側により付着する傾向があるが，凹部の防汚性粒子がこ
れを防ぐため，より汚れ難い防汚性材料を得ることがで
きる。

【００１８】なお，上記防汚性粒子の全てが撥水性表面
層の内部にある場合が最も好ましいが，若干の防汚性粒
子が撥水性表面層の外部に露出した場合であっても本発
明にかかる効果を得ることができる。

【００１９】また，本発明にかかる防汚性材料は給水，
給湯設備や汚水，排泄物の処理などの衛生設備を構成す
る材料として広く使用することができる。特に便座，便
器等のように糞尿等に接して，不衛生となりやすい物品
への適用が本発明の特徴を活用する上で好ましい。

【００２０】次に，請求項３に記載の発明は，基材と該
基材の表面に設けた撥水性表面層とよりなり，上記撥水
性表面層には防汚性粒子が含まれていると共に上記撥水
性表面層の外表面は凹凸面を有する防汚性材料を製造す
るに当たり，凹凸面よりなる成形面を有する成形型を準
備し，該成形面に撥水性粒子と防汚性粒子とを含有した
表面層用混合物を配置した後，該表面層用混合物に基材
を密着させて，基材表面に撥水性表面層を形成すること
を特徴とする防汚性材料の製造方法にある。

【００２１】これにより，基材表面に撥水性粒子と防汚
性粒子とを含む撥水性表面層が形成された防汚性材料を
得ることができる。基材の表面が撥水性表面層に覆われ
ており，よって水性の汚れが付着し難い。また，仮に付
着した場合でも撥水性により速やかに汚れは脱落する。
更に，撥水性表面層の外表面は凹凸面であるため，該凹
凸面による撥水性を重ねて得ることができる。また，撥
水性表面層に防汚性粒子が含まれているため，汚れ付着
の防止効果を更に重ねて得ることができる。

【００２２】更に，基材と表面層用混合物とを密着させ
るために，基材に力を加えるが，これが成形面の凹凸面
を撥水性表面層と基材との間の界面に転写して，界面に
凹凸面を形成する。このため，撥水性表面層と基材との
間互いに入り組みあって密着し，両者が剥離し難い防汚
性材料を得ることができる（実施形態例２参照）。

【００２３】以上，本発明によれば，優れた防汚性を発
揮することができる防汚性材料の製造方法を提供するこ
とができる。

【００２４】また，撥水性表面層の外表面は上記成形面
の凹凸面が転写された凹凸面となるため，凹凸面の状態
の制御が容易で，所望の外観をもつ防汚性材料を容易に
得ることができる。また，上記表面層用混合物として
は，撥水性粒子と防汚性粒子を含む塗料やペースト，ま
たは両者を含むフィルムを使用することができる。な
お，撥水性粒子，防汚性粒子，基材の種類については上
述した請求項１の記載と同様である。

【００２５】また，上記表面層用混合物に基材を密着さ
せるに当り，射出成形を利用することが好ましい。この
場合，成形型として通常の射出成形型を用いるが，基材
等が射出されて，成形が行われる成形面に対し，上述し
た表面層用混合物を予め配置しておく。その後，通常の
射出成形と同様に溶融した基材を射出して成形型内を満
たし，冷却，固化を施すことで，基材表面に撥水性表面
層が強く密着した防汚性材料を得ることができる。

【００２６】基材が射出される際の射出圧が表面層用混
合物を強く成形面に対して押圧し，表面層用混合物中の
撥水性粒子や防汚性粒子を硬く固めると共に，溶融した
基材が表面層用混合物と接触し，その後基材が固化され
るため，両者の密着性が高くなる。このため，従来技術
の（１）にかかる材料のようにコーティング組成物等を
利用する方法よりも，基材−撥水性表面層との間の密着
性に優れた防汚性材料を得ることができる。また，射出
成形による製造は基材と撥水性表面層との密着性が高い
ため，表面層や撥水性粒子の剥がれや脱落も生じ難く，
信頼性に優れ，製造歩留まりよく，安価なコストで防汚
性材料を製造することができる。

【００２７】また，表面層用混合物に基材を密着させる
他の方法としては，プレス成形やトランスファー成形，
回転成形等の種々の樹脂成形にかかる方法も挙げられ
る。

【００２８】次に，請求項４記載の発明のように，上記
成形面の凹凸面は凸部のピッチ間隔が５〜８００μｍ，
凸部の高さが５〜１００μｍであることが好ましい。こ
のような凹凸面を成形面が有し，また撥水性粒子や防汚
性粒子の粒径を適宜選択することで，表面層用混合物と
基材とが密着する際に，成形面の凹部，つまり撥水性表
面層の凸部となる部分に撥水性粒子を，成形面の凸部，
つまり撥水性表面層の凹部となる部分に防汚性粒子を集
めることができる（図１参照）。このように構成された
防汚性材料は，撥水性表面層の凹部に溜まりやすい汚れ
を防汚性粒子が除去できるため，より高い防汚性能を得
ることができる。

【００２９】なお，凸部のピッチ間隔とは，後述する図
３に示すごとく，凹凸面の隣接する凸部間の先端距離の
平均である。また，凸部の高さとは隣接する凸部と凹部
との最も高い位置と最も低い位置との間の長さの平均で
ある。上記ピッチ間隔が５μｍ未満である場合には，表
面張力を活かした形状的な撥水性能が低下し，また撥水
性のない防汚性粒子と表面に付いた水滴が触れあうこと
による撥水性能の低下が生じるおそれがある。８００μ
ｍを越えた場合には，表面に付着した水滴が凹部に沈み
こんで撥水性能が低下するおそれがある。

【００３０】また，上記凸部の高さが５μｍ未満である
場合には，前述のように水滴が凹部に存在する防汚性粒
子と接触して撥水性能を低下させるおそれがある。１０
０μｍを越えた場合には，撥水性表面層は撥水性粒子で
構成されていることから，凸部の強度が不足するおそれ
がある。

【００３１】次に，請求項５記載の発明のように，上記
防汚性粒子の粒径は７〜５００μｍであり，更に撥水性
粒子の粒径は防汚性粒子の粒径よりも小さいことが好ま
しい。このような防汚性粒子や撥水性粒子を使用し，ま
た成形面の有する凹凸面を適宜選択することで，表面層
用混合物と基材とが密着する際に，成形面の凹部，つま
り撥水性表面層の凸部となる部分に撥水性粒子を，成形
面の凸部，つまり撥水性表面層の凹部となる部分に防汚
性粒子を集めることができる（図１参照）。このように
構成された防汚性材料は，撥水性表面層の凹部に溜まり
やすい汚れを防汚性粒子が除去できるため，より高い防
汚性能を得ることができる。

【００３２】また，防汚性粒子の粒径が７μｍ未満であ
る場合には，凸部の表面付近に防汚性粒子が存在しやす
くなるため，撥水性表面層の撥水性能が低下するおそれ
がある。５００μｍを越えた場合には，防汚性粒子が大
きすぎるためブツ状の表面となり，防汚性材料の表面外
観が損なわれるおそれがある。また，撥水性表面層の内
部に存在させることが困難となるおそれがある。

【００３３】次に，請求項６記載の発明のように，上記
撥水性粒子の融点は基材の融点よりも高いことが好まし
い。これにより，溶融した基材を成形型に導入し，その
後溶融基材を冷却固化させることで，基材の表面に撥水
性表面層を形成させることができる。よって，基材と撥
水性表面層との密着性を一層確実なものとすることがで
きる。また，溶融基材の導入の際に撥水性粒子の溶融が
生じ難く，基材中に入り込まず，撥水性表面層の表面に
撥水性粒子を確実に存在させることができる。

【００３４】

【発明の実施の形態】実施形態例１本発明の実施形態例にかかる防汚性材料及びその製造方
法につき，図１〜図３を用いて説明する。図１に示すご
とく，本例の防汚性材料１は，基材１１と該基材１１の
表面に設けた撥水性表面層１２とよりなり，上記撥水性
表面層１２には防汚性粒子１３が含まれていると共に上
記撥水性表面層１２の外表面は凹凸面１２０を有する。
また，この防汚性材料１を製造するに当たっては，図２
に示すごとく，凹凸面２１１よりなる成形面を有する射
出成形型２を準備し，該成形面に撥水性粒子と防汚性粒
子とを含有した表面層用混合物を配置した後，該表面層
用混合物に基材を密着させて，基材１１の表面に撥水性
表面層１２を形成し，防汚性材料１となす。

【００３５】以下，詳細に説明する。図１（ａ）に示す
ごとく，本例の防汚性材料１は，基材１１のポリプロピ
レン樹脂の表面に撥水性表面層１２を有し，該撥水性表
面層１２は防汚性粒子１３と撥水性粒子１４とよりな
る。ここに防汚性粒子１３は光触媒，撥水性粒子１４は
フッ素パウダーよりなる。各フッ素パウダーは平均粒径
は０．３μｍ程度の一次粒子が凝集して形成された二次
粒子よりなる。また，光触媒の平均粒径は２μｍであ
る。

【００３６】また，図１（ｂ）に示すごとく，撥水性表
面層１２は撥水性粒子１４が粒子の形態を残したまま
で，集積することで構成されている。凸部１２１の側は
ほぼ撥水性粒子１４で占められており，防汚性粒子１３
は界面１１０や凹部１２２の側に存在する。また，基材
１１と撥水性表面層１２との界面１１０は凹凸面となっ
ている。

【００３７】次に，本例の防汚性材料の製造方法につい
て説明する。図２（ｂ）に示すごとく，上型２１と下型
２２とよりなり，両者が合わさることで成形部２１０が
形成される射出用成形型２を準備する。上型２１は基材
注入用の注入口２２１を有する。また，下型２１の成形
面はシボ模様状の凹凸面２１１よりなる。この凹凸面２
１１において，図３に示すごとく，凸部２１５のピッチ
間隔は凹凸面２１１の隣接する凸部２１５，２１７間の
先端距離ｐの平均である。また，凸部の高さは隣接する
凸部２１５と凹部２１６との最も高い位置と最も低い位
置との間の長さｈの平均である。本例の凹凸面はピッチ
間隔２００μｍ，凸部の高さ９５μｍであった。

【００３８】図２（ａ）に示すごとく，撥水性粒子と防
汚性粒子とバインダーであるイソプロピルアルコールと
よりなるペースト状の表面層用混合物２５を作製し，下
型２１の凹凸面２１１に厚さ１．０ｍｍで塗布する。そ
の後，上型２２を下型２１にセットし，成形部２１０を
形成する。次いで，注入口２２１より溶融したポリプロ
ピレン樹脂を圧力６００ｋｇ／ｃｍ³で注入した。基材
の注入圧力のために，凹凸面の凹部２１６側により粒径
の小さいフッ素パウダーが移動し，より粒径の大きい光
触媒は凹凸面の凸部２１５近傍に取り残される。また，
溶融した基材樹脂の熱によりバインダーは揮発する。

【００３９】その後，射出成形型２を冷却し，基材を固
化させ，射出成形型２から取出す。これにより，フッ素
パウダーと光触媒とよりなる図１に示すごとき，撥水性
表面層１２が基材１１に対し充分に密着した，本例にか
かる防汚性材料１を得た。

【００４０】本例にかかる作用効果について説明する。
本例の防汚性材料１は，基材１１が撥水性表面層１２に
覆われており，よって水性の汚れが付着し難い。また，
仮に付着した場合でも撥水性により速やかに汚れは脱落
する。更に，撥水性表面層１２の外表面は凹凸面１２０
であるため，該凹凸面１２０による撥水性を重ねて得る
ことができる。また，撥水性表面層１２に防汚性粒子１
３が含まれているため，汚れ付着の防止効果を更に重ね
て得ることができる。

【００４１】更に，本例の防汚性材料１は撥水表面層１
２のより内部の側に防汚性粒子１３がある。そして，汚
れは凹部の側により付着する傾向があるから，凹部にた
まる汚れが防汚性粒子１３である光触媒に分解されて，
より汚れ難い防汚性材料を得ることができる。また，基
材１１と撥水性表面層１２との界面１１０は凹凸面であ
るため，両者の間の密着性が高く，撥水性表面層１２の
脱落等がより生じ難い。

【００４２】更に，本例では，溶融した基材を射出成形
型２の下型２１における凹凸面に配置した表面層用混合
物２５に対し導入することで，基材１１と撥水性表面層
１２とが良く密着した防汚性材料１を作製することがで
きる。また，射出成形による製造なので，基材１１と撥
水性表面層１２との密着性が高くなり，撥水性表面層１
２や防汚性粒子１３，撥水性粒子１４の剥がれや脱落も
生じ難く，信頼性に優れ，製造歩留まりよく，安価なコ
ストで防汚性材料を製造することができる。

【００４３】以上，本例によれば，優れた防汚性を発揮
する，防汚性材料及びその製造方法を提供することがで
きる。

【００４４】実施形態例２本例は各種防汚性材料を実施形態例１と同様の製法で作
製し，得られた各試料の性能を評価するものである。試
料１にかかる防汚性材料について説明する。基材は熱可
塑性樹脂のポリプロピレン樹脂（ＢＣ８，日本ポリケム
製）よりなる。撥水性粒子は一次粒子径が０．３μｍの
フッ素パウダー（ルブロンＬ−２，ダイキン工業社製）
を，防汚性粒子は粒径２μｍの光触媒（ギンテックＡ１
２０，大同特殊鋼社製）を使用した。また，成形型の凹
凸面に塗布する際には，両者をバインダーであるイソプ
ロピルアルコールと混合し，ぺースト状としたものを用
いた。また，凹凸面は棚沢八光社製のＴＨ１５４Ａとい
うシボプレートで構成した。

【００４５】試料２は，基材はポリプロピレン樹脂（Ｂ
Ｃ８，日本ポリケム製）を使用し，撥水性粒子は一次粒
子径が０．３μｍのフッ素パウダー（ルブロンＬ−２，
ダイキン工業社製）を，防汚性粒子は粒径５００μｍの
光触媒（ＳＴＢ−１１，石原テクノ社製）を使用した。
また，成形型の凹凸面に塗布する際には，両者をバイン
ダーであるイソプロピルアルコールと混合し，ぺースト
状としたものを用いた。また，凹凸面は棚沢八光社製の
ＴＨ１４５Ａというシボプレートで構成した。

【００４６】上記試料１，試料２と性能を比較する比較
試料Ｃ１について説明する。比較試料Ｃ１は試料１と同
じ基材，撥水性粒子，防汚性粒子を用いた。また，使用
した成形型は成形面が鏡面である他は試料１と同様であ
る。

【００４７】得られた各試料，比較試料について，次の
基準に基づいて性能評価した。まず，水との接触角を協
和界面科学（株）製の接触角計（ＣＡ−Ｄ型）にて測定
した。なお，水との接触角は撥水性の目安になる数値で
ある。

【００４８】また，撥水性表面層と基材との密着性を，
撥水性表面層をカッターナイフにて十字にクロスカット
した上に粘着性のテープを貼付けた後，該粘着性テープ
を引き剥がすという，テープ剥離試験により測定した。
この試験で撥水性表面層の剥離が発生しない場合を○，
した場合を×で示した。また，各試料，比較試料の撥水
性表面層の外表面の状態及び基材と撥水性表面層との境
界の状態について，電子顕微鏡で観察した。外表面や界
面に凹凸が存在した場合を○，平らであった場合を×と
した。これらの結果を表１に記載した。

【００４９】電子顕微鏡観察によれば，図４に示すごと
く，撥水性表面層９２の外表面９２０，界面１１０は平
らであった。撥水性表面層９２は実施形態例１と同様に
（図１（ｂ）参照）撥水性粒子が集積することにより構
成され，その中に均一に防汚性粒子１３が分散してい
た。また，試料１，試料２にかかる防汚性材料の電子顕
微鏡観察による模式図は実施形態例１の図１と同様であ
る。

【００５０】また，表１によれば，試料１，２は比較試
料Ｃ１に比べて水の接触角が大きく，撥水性に優れてい
ることが分かった。このため，水性の汚れが非常に付着
し難いことが分かる。また，試料１，２，比較試料Ｃ１
は撥水性表面層と基材との間の密着性に優れていた。ま
た，試料１，２は外表面や界面が凹凸面であった。比較
試料Ｃ１は平らであった。

【００５１】このように本発明にかかる試料１，２は撥
水性に優れ，優れた防汚性を発揮すると共に撥水性表面
層と基材との密着性に優れ，両者の剥離等が生じ難いこ
とが分かった。比較試料Ｃ１は外表面も界面も共に平ら
であるため，撥水性に劣り，撥水性表面層と基材との密
着性に劣ることが分かった。

【００５２】

【表１】

【００５３】

【発明の効果】上述のごとく，本発明によれば，優れた
防汚性を発揮する，防汚性材料及びその製造方法を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態例１における，（ａ）防汚性材料の説
明図，（ｂ）表面層の要部説明図。

【図２】実施形態例１における，防汚性材料の製造方法
の説明図。

【図３】実施形態例１における，射出成形型の成形面の
凹凸面の説明図。

【図４】実施形態例２における，比較試料Ｃ１にかかる
防汚性材料の説明図。

【符号の説明】

１．．．防汚性材料，１１．．．基材，１２．．．撥水性表面層，１２０．．．凹凸面，１３．．．防汚性粒子，１４．．．撥水性粒子，

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Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材と該基材の表面に設けた撥水性表面
層とよりなり，上記撥水性表面層には防汚性粒子が含ま
れていると共に上記撥水性表面層の外表面は凹凸面を有
することを特徴とする防汚性材料。
【請求項２】請求項１において，上記防汚性粒子は上
記撥水性表面層の内部にあることを特徴とする防汚性材
料。
【請求項３】基材と該基材の表面に設けた撥水性表面
層とよりなり，上記撥水性表面層には防汚性粒子が含ま
れていると共に上記撥水性表面層の外表面は凹凸面を有
する防汚性材料を製造するに当たり，凹凸面よりなる成
形面を有する成形型を準備し，該成形面に撥水性粒子と
防汚性粒子とを含有した表面層用混合物を配置した後，
該表面層用混合物に基材を密着させて，基材表面に撥水
性表面層を形成することを特徴とする防汚性材料の製造
方法。
【請求項４】請求項３において，上記成形面の凹凸面
は凸部のピッチ間隔が５〜８００μｍ，凸部の高さが５
〜１００μｍであることを特徴とする防汚性材料の製造
方法。
【請求項５】請求項３または４のいずれか一項におい
て，上記防汚性粒子の粒径は７〜５００μｍであり，更
に撥水性粒子の粒径は防汚性粒子の粒径よりも小さいこ
とを特徴とする防汚性材料の製造方法。
【請求項６】請求項３〜５のいずれか一項において，
上記撥水性粒子の融点は基材の融点よりも高いことを特
徴とする防汚性材料の製造方法。