JP2000515162A - Cox―2阻害剤としての1,2―ジアリールインドール - Google Patents

Cox―2阻害剤としての1,2―ジアリールインドール

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Abstract

(57)【要約】 一般式(I)で表される誘導体、式中、Rは、C1-6低級アルキル基、C1-6低級ハロアルキル基、又は、−NH2基を表す;Aは、芳香環(a)、又は、チオフェン、フラン、ピリジン又はピリミジンであるヘテロ環を表す;Y1及びY2のそれぞれは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、OR’基、ここでR’は水素原子若しくはC1-6低級アルキル基を表す、C1-6低級アルキル基、及び、SO2R基、ここでRは上述と同様である、を表す;並びに、Y3は、水素原子又はC1-6低級アルキル基を表す;この化合物の治療上の使用、特に抗炎症作用及び鎮痛作用を有する薬品としての使用を開示する。

Description

【発明の詳細な説明】 COX−2阻害剤としての1,2−ジアリールインドール 本発明は、新規の化合物としての、一般式(I)で表される1,2−ジアリ− ルインドール誘導体に関する。 アラキドン酸の生体内変換経路の1つは、シクロオキシゲナーゼ経路であり、 この経路では、PGG2を経てアラキドン酸をPGH2に変換することが可能で ある。シクロオキシゲナーゼのクローニング及び配列順序に関する最近の研究に よって、幾つかの種、特にヒトにおいて、シクロオキシゲナーゼ−1(COX− 1)及びシクロオキシゲナーゼ−2(COX−2)という2つのイソ酵素が存在 することが明らかになった。前者の酵素は、多数の組織で発現する構成酵素であ り、一方、後者の酵素は、脳などの数少ない組織で発現するものであり、多数の 組織においては、多くの化合物、特にサイトカイン、及び、炎症反応中に産出さ れる伝達因子により誘導できる。各酵素は異なる役割を持ち、COX−1又はC OX−2を阻害しても同一の結果は得られない。COX−1の阻害は、ホメオス タシスに関与するプロスタグランジンの減少を誘発し、副作用が生じる場合があ る。COX−2の阻害は、炎症状態で産出されるプロスタグランジンの減少を誘 発する。従って、COX−2を選択的に阻害すると、寛容性に優れた抗炎症作用 を得ることが可能である。 本発明の化合物は、この選択的な阻害を達成することができる。従って、当該 化合物は、抗炎症作用及び鎮痛作用を有する一方で、特に胃の段階で極めて優れ た寛容性を有するので、極めて価値のある薬理学的側面を持つものである。上記 化合物は、炎症の治療及び痛みの治療において特に有用であることが後に指摘さ れるであろう。 その使用例としては、関節炎、特にリウマチ様関節炎、脊椎炎、関節性痛風、 骨関節炎及び若年性関節炎、自己免疫疾患、並びに、紅斑性狼瘡を挙げることが できる。上記化合物は、また、気管支喘息、月経困難症、腱炎、滑液嚢炎、並び に、乾癬、湿疹、火傷及び皮膚炎等の皮膚の炎症の治療においても有用である。 上記化合物は、更に、胃腸の炎症、クローン病、胃炎及び潰瘍性大腸炎の治療で 、癌、特に結腸の腺癌の防止、神経変性病、特にアルツハイマー病の防止、卒中 及 び癲癇防止、並びに、早産の防止においても用いることができる。 その鎮痛作用のために、上記化合物は、更に、痛みを伴う全ての症状、特に筋 痛症、関節痛又は神経痛、歯痛、帯状庖疹及び偏頭痛の治療、リウマチ様の痛み 及び癌に起因する痛みの治療において、並びに、感染症及び発熱状態の補助的な 治療としても用いることができる。 本発明は、また、上記化合物の製造方法、及び、その治療上の使用にも関する 。 シクロオキシゲナーゼ−2阻害剤として、ある種のヘテロ環ジアリール誘導体 が文献に記載されている。例えば、Merck FrosstのWO96/06 840号を挙げることができる。しかしながら、この文献を読むと、2つのイン ドール誘導体が記載されているのみで、本発明の化合物とは異なるこれらの誘導 体は2位及び3位が置換されており、1位及び2位の置換ではないことに気づく 。驚くべきことに、1位、すなわち窒素原子上にアリールを有するインドール誘 導体が非常に良好なCOX−2阻害作用を有するということを想定させる記載は 全くない。本発明の出願人は、また、インドールの2位にあるフェニル基にこそ 、−SO2R置換がその4位に存在しなければならないことも見いだした。この 置換が、1位にあるフェニル、すなわち窒素原子上にあるフェニルにある時は、 その誘導体は良好なCOX−2阻害作用を有しない。 シクロオキシゲナーゼ−2阻害剤として利用するために、他のインドール誘導 体がMerck Frosstの特許US5510368号に記載されている。 この誘導体は、その化学構造の観点から、本発明で特許請求する化合物とは全く 異なるものである。これらは2位がメチル基で置換されたインドール誘導体であ り、2位がアリール基で置換された本発明の化合物とは異なるからである。また 、先行技術文献に記載された化合物は全て、本発明の化合物のいずれもが持たな いエステル又は酸基とともに、3位にアルキル鎖を有する。更に、これらの化合 物は、1位にアリール基ではなく、ベンジル基を常に有することから、本発明の 化合物とはより一層隔たりのあるものである。 本発明の1,2−ジアリールインドール誘導体は、一般式(I)で表されるも のである: 式中: Rは: −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、 −1〜6個の炭素原子を有する低級ハロアルキル基、又は、 −−NH2基を表す; Aは: −芳香環 を表す: 式中、X1及びX2は、独立して: −水素原子、 −ハロゲン原子、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、 −トリフルオロメチル基、 −(CH2nNR12基、ここで: −nは、0〜2の整数である、並びに、 −R1及びR2は、独立して、水素原子、若しくは、1〜6個の炭素原子を有す る低級アルキル基を表す、 −1〜6個の炭素原子を有する低級O−アルキル基、又は、 −SO2R基、ここでRは上述したものと同様である、を表すか、 あるいは、X1とX2が一緒になってメチレンジオキシ基を形成する; Aは、また、チオフエン、フラン、ピリジン又はピリミジンであるヘテロ環を 表してもよい; Y1及びY2は、独立して: −水素原子、 −ハロゲン原子、 −OR’基、ここでR’は、水素原子、若しくは、1〜6個の炭素原子を有する 低級アルキル基を表す、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、又は、 −SO2R基、ここでRは上述したものと同様である、を表す;並びに Y3は: −水素原予、又は、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基を表す。 本明細書及び請求の範囲において、低級アルキルとは、1〜6個の炭素原子を 有する直鎖状又は分枝状の炭化水素鎖を意味するものとする。低級アルキル基は 、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t ert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル又はイソヘキシル基である 。 低級ハロアルキル基とは、1〜7個の水素原子が1〜7個のハロゲン原子に置 換された、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を意味するものとする。低級 ハロアルキル基は、例えば、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロ エチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2−ジフルオロ−3,3,3−トリフ ルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、又は、クロロメチル若しくはブ ロモメチル基である。 ハロゲンとは、塩素、臭素、ヨウ素又はフッ素原子を意味するものとする。 好ましくは、本発明の誘導体は、上記式(I)で表されるもののうち、式中: Rは: −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、又は、 −NH2基を表す; Aは、芳香環 を表す: 式中、X1及びX2は、独立して: −水素原子、 −ハロゲン原子、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、 −1〜6個の炭素原子を有する低級O−アルキル基、又は、 −(CH2nNR12基、ここで: −nは、0若しくは1に等しい、並びに、 −R1及びR2は、1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基を表すか; あるいは、X1とX2が一緒になってメチレンジオキシ基を形成する; Aは、チオフェン、ピリジン又はピリミジンであるヘテロ環を表す; Y1及びY2は、独立して: −水素原子、 −ハロゲン原子、 −OH基 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、又は、 −SO2R基、ここでRは上述したものと同様である、を表す;並びに Y3は: −水素原子、又は、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基を表す 上記式(I)で表される誘導体である。 本発明の構成においては、以下の条件のうち少なくとも1つを満たす式(I) で表される化合物を用いることが好ましい: −Rは、メチル基又はNH2基を表す; −Aは、芳香環 を表す: 式中: −X1は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、又は、N(CH32 基を表す、及び、 −X2は、水素原子を表す; −Y1は、水素原子又はフッ素原子を表す; −Y2は、水素原子を表す;並びに −Y3は、水素原子を表す。 本発明の特に好ましい化合物は、以下のものである: 1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イ ンドール 1−(4−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イン ドール1−(4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イン ドール 1−フェニル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール 4−(1−フェニル−2−インドーリル)ベンゼンスルホンアミド 1−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]インドール 5−フルオロ−1−フェニル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イン ドール 本発明の式(I)で表される化合物は、式(II)で表される誘導体: 式中: Y1,Y2及びY3は、上述したものと同様であり、R’は、1〜6個の炭素原 子を有する低級アルキル基、又は、1〜6個の炭素原子を有する低級ハロアルキ ル基を表す、 から、式(III)で表される化合物: A−X 式(III) 式中、Aは、芳香環 を表すか: ここでX1及びX2は、上述したものと同様である、又は、チオフェン、フラン、 ピリジン若しくはピリミジンであるヘテロ環を表す、 並びに、式中、Xは、ハロゲン原子を表す、 との反応によって、例えば、以下の文献に記載された条件下で得ることができる : Khan,M.A.及びRocha,E.K.、Chem.Pharm.Bu 11.1977年、3110頁。 Unangst,P.C.、Connor,D.T.、Stabler,S. R.及びWeikert,R.J.、J.Het.Chem.1987年、81 4頁。 Unangst,P.C.、Connor,D.T.及びStabler,S .R.、J.Het.Chem.1987年、818頁。 Saleha,S.、Siddiqui,A.A.及びKhan,N.H.、 Ind.J.Chem.1980年、19B巻、198、81頁。 RがNH2基を表す場合の式(I)で表される本発明の化合物は、Y1,Y2、 Y3及びAが上述したものと同様でありかつRがメチル基を表す場合の式(I) で表される誘導体: から、メチルスルホンをスルホンアミドに変換するものとして文献で公知の方法 のいずれかを用いて得ることができる。例えば、Tetrahedron Le tters、1994年、39巻、35号、7201頁に記載の方法は、還流下 、テトラヒドロフラン等の有機溶剤中で、メチルスルホンを塩基及びトリアルキ ルボランと反応させた後、ヒドロキシルアミン−O−スルホン酸を作用させるこ とからなる。 式(II)で表される化合物は、以下の文献: E.Fischer、F.Jourdan、Ber.1883年、16巻、2 241頁 E.Fischer、O.Hess、Ber.1884年、17巻、559頁 B.Robinson、Chem.Rev.1963年、63巻、372頁 B.Robinson、Chem.Rev.1969年、69巻、227頁 B.Robinson、The Fischer Indole Synth esis(Wiley、New York、1982年) に記載されているようなインドールの古典的合成法によって、式(IV)で表さ れるヒドラゾン誘導体: (式中、Y1、Y2、Y3及びR’は上述したものと同様である)から、塩化亜鉛 若しくは他のルイス酸等の触媒の存在下で、又は、硫酸若しくはポリリン酸 (PPA)等のプロトン酸の存在下で加熱することにより得られる。 式(IV)で表される化合物は、式(V)で表されるヒドラジン: (式中、Y1及びY2は上述したものと同様である)と、式(VI)で表されるケ トン: (式中、Y3及びR’は上述したものと同様である)を縮合することによる一般 的な方法で得られる。 式(VI)で表される誘導体は、式(VII)で表される化合物:(式中、Y3及びR’は上述したものと同様である)から、ジクロロメタン等の 有機溶剤中でm−クロロ過安息香酸等の過酸を用いるか、又は、酢酸等の溶剤中 で過マンガン酸カリウム若しくは過ホウ酸ナトリウム等の無機酸化剤を用いる酸 化反応を利用して製造する。 R’及びY3は上述したものと同様である式(VII)で表される化合物は、 式(VIII)で表される誘導体: (式中、R’は上述したものと同様である)から、AlCl3又は他のルイス酸 の存在下における、式(IX)で表される酸クロライド: (式中、Y3は上述したものと同様である)とのフリーデルクラフツ反応を利用 して製造する。 Y3が水素原子を表す場合には、式(VII)で表されるアセトフェノン化合 物は、Organic Synthesis Coll.、4巻、1963年、 708頁に記載の方法によって、式(X)で表される酸:(式中、R’は上述したものと同様である)から得ることもできる。この酸は文 献で公知のものである。 この方法は、式(X)で表される酸のクロライドをジエチルマロン酸エトキシ マグネシウムと反応させることからなる。 本発明の式(I)で表される化合物を製造する別の方法は、式(XI)で表さ れる誘導体の脱水素化を実施することからなる。なお、式中、A、Y1、Y2、Y3 及びRは、上述したものと同様である。 この脱水素化は、数時間から数日という期間をかけて、10%Pd/C等の触 媒の存在下、メシチレン等の有機溶剤中、常温〜250℃の温度で実施する。 例えば、以下の文献: Trost,Barry M.、J.Am.Chem.Soc.1967年、1 847頁、 Jackman,L.M.、Advances in Organic Che mistry、 Methods and Results、II巻、Raphael,R.A. 、Taylor,E.C.及びWynberg,H.編、Interscien ce Publishers Inc.、New York、N.Y.1960 年、Linstead,R.P.及びMichaeles,K.O.A.、J. Chem.Soc.1940年、1134頁 等に記載されている他の脱水素化方法も用いることができる。従って、フェネト ール等の溶剤の存在下でオルトクロラニル(orthochloranil)又 はDDQ等のキノンを利用する方法でも、式(I)で表される化合物を入手でき る。 式(XI)で表される誘導体は、式(XII)で表されるアニリン(式中、A は上述したものと同様である): A−NH2 式(XII) を、式(XIII)で表される誘導体: (式中、Y1.Y2、Y3及びRは、上述したものと同様である)と、酢酸等の有 機溶剤中で反応させることで得られる。 式(XII)で表される誘導体は、市販のものか、又は、有機化学の一般的な 方法で入手可能である。 式(XIII)で表される誘導体は、以下の文献: Stork,G.;Terrell,R.及びSzmuszkovics J. 、J.Am.Chem.Soc.1954年、76巻、2029頁 Stork,G.及びLandesman,H.、J.Am.Chem.Soc .1956年、78巻、5128頁 に記載されたストーク(Stork)反応によって、式(XIV)で表されるエ ナミン:と、式(XV)で表されるハロゲン化化合物: から得られる。式中、Y1,Y2、Y3及びRは、上述したものと同様であり、X は、塩素、臭素又はヨウ素等のハロゲン原子を表す。 式(XV)で表される化合物は、文献記載の一般的なハロゲン化反応によって 、上述した式(VI)又は(VII)で表される誘導体から製造可能である。 上述の式(I)で表される化台物は、シクロオキシゲナーゼ−2阻害剤であり 、優れた寛容性、特に胃寛容性とともに、非常に良好な抗炎症作用及び鎮痛作用 を有するものである。 これらの作用は、治療上における使用を可能にし、本発明は、また、薬品とし ての、上記式(I)で定義される化合物にも関する。 従って、本発明は、更に、必要に応じて薬理学上許容される賦形剤、媒体又は 担体中に配合された、薬理学上有効な量の、上述の式(I)で表される化合物の 少なくとも1つからなることを特徴とする医薬用組成物にも関する。 この組成物は、経口、経直腸、注射、経皮、点眼、点鼻又は点耳により投与す ることができる。 この組成物は、固体又は液体であってよく、人間用の医薬品で通常用いられる 薬品形態、例えば、単純な又は被膜加工された錠剤、ゼラチンカプセル、丸薬、 座薬、注射用薬剤、経皮システム、点眼剤、エアゾル及びスプレー、並びに、点 耳剤等であってよい。これらは一般的な方法で調剤される。有効成分は、薬理学 上有効な量の、上述の式(I)で表される化合物の少なくとも1つからなり、タ ルク、アラビアゴム、ラクトース、デンプン、ステアリン酸マグネシウム、ポリ ビドン、セルロース誘導体、ココア脂、半合成のグリセリド、水性又は非水性の 媒体、動物又は植物由来の油脂、種々の湿潤剤、分散剤又は乳化剤、シリコーン ゲル、何らかの重合体又は共重合体、防腐剤、香料及び染料等の、医薬用組成物 で通常用いられる賦形剤とともに配合してもよい。 本発明は、また、特に炎症及び痛みの有利な治療法として用いることができる 、抗炎症作用及び鎮痛作用を有する医薬用組成物であって、所望により薬理学上 許容される賦形剤、媒体又は担体中に配合された、薬理学上有効な量の、上述の 式(I)で表される化合物の少なくとも1つからなることを特徴とする医薬用組 成物にも関する。 ある態様においては、特に種々の炎症及び痛みの有利な治療法として用いるこ とが可能な、抗炎症作用及び鎮痛作用を有する医薬用組成物が製造される。 本発明は、更に、癌、特に結腸の腺癌の防止、神経変性病、特にアルツハイマ ー病の防止、卒中及び癲瘤の防止、並びに、早産の防止において有用な医薬用組 成物にも関する。 ある態様では、1mg〜1000mgの用量を含有するゼラチンカプセル若し くは錠剤として、又は、0.1mg〜500mgの用量を含有する注射用製剤と して組成物は調剤される。また、座薬、軟膏、クリーム、ゲル、エアゾル薬剤、 経皮薬剤又は膏剤として調剤された組成物を用いることもできる。 本発明は、更にまた、治療上有効な量の、上述の式(I)で表される化合物の 少なくとも1つを哺乳類に投与することを特徴とする、哺乳類の治療処置方法に も関する。この治療方法のある態様では、そのものか又は薬理学上許容される賦 形剤とともにであるかに関わらず、式(I)で表される化合物は、経口投与のた めに1mg〜1000mgの用量を含有するゼラチンカプセル若しくは錠剤とし て、0.1mg〜500mgの用量を含有する注射用製剤として、又は、座薬、 軟膏、クリーム、ゲル若しくはエアゾル製剤として調剤される。 この方法は、炎症及び痛みの特に有利な治療法を提供する。 人間と動物の治療においては、式(I)で表される化合物は、そのものか又は 生理学的に許容される賦形剤とともに、いかなる形態でも、特に、ゼラチンカプ セル若しくは錠剤として経口で、又は、注射用溶液として非経口で投与すること ができる。座剤、軟膏、クリーム、ゲル又はエアゾル製剤等の他の投与形態を採 ることも可能である。 本明細書の最後に記載する薬理学上の実験から明らかになるように、本発明の 化合物は、上述したように、人間の治療においては、平均体重60〜70kgの 成人に対して、1日当たり1回以上の服用量単位で、1mg〜1000mgの用 量を含有する錠剤若しくはゼラチンカプセルとして経口で、又は、0.1mg〜 500mgの用量を含有する注射用製剤として非経口で、投与することができる 。 動物の治療においては、使用可能な1日当たりの用量は、kg当たり0.1m g〜100mgである。 以下に実施例を掲げて、本発明の更なる特徴及び利点をより詳細に説明するが 、これらは本発明を限定するものではなく、例示として記載するものである。 実施例1:4−(メチルスルホニル)フルオロベンゼン フルオロベンゼン150mlとAlCl358.3g(0.4モル)の混合物 に、メタンスルホニルクロライド50g(0.44モル)を滴下した。7時間の 還流後、反応液を水と氷の混合物に注ぎ込んだ。それをジクロロメタンで抽出し た。合わせた有機相を炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、MgSO4で乾燥させ 、濃縮した。 得られた白色固体を水からの再結晶で精製し、4−(メチルスルホニル)フル オロベンゼン46.9gを得た。 実験式:C77FO2S 融点:73℃ 実施例2:4−(メチルスルホニル)アセトフェノン 式(VI):Y3=H;R’=CH3 方法A: 実施例2a:ジエチルマロン酸エトキシマグネシウム エーテルで脱脂したマグネシウム2.9g(0.12モル)に、エタノール2 .7mlとCCl40.3mlの混合物を滴下した。無水エーテル41ml、次 いでマロン酸エチル20g(0.125モル)を滴下して、溶剤を加熱せずに還 流温度に維持した。添加が終了した後、マグネシウムが完全に消失するまで5時 間、混合物を還流した。 この化合物を精製せずに次の段階で用いた。 実施例2b:4−(メチルスルホニル)アセトフェノン 式(VI):Y3=H;R’=CH3 4−メチルスルホニルベンゾイルクロライド(4−メチルスルホニル安息香酸 20gを、SOCl215ml、トルエン150ml及びピリジン数滴の存在下 で3時間還流した後、過剰なトルエン及びSOCl2を留去し、残滓をイソプロ ピルエーテルに溶かして、融点が129℃の白色固体22.6gとして得た)2 2.6gを加熱ベンゼン200mlに溶かした後、実施例2aで得たジエチルマ ロン酸エトキシマグネシウム28gに添加した。 反応混合物を30分間水槽で加熱した。冷却後、水150mlで希釈した濃硫 酸18mlを投入した。混合物を1時間攪拌した後、デカンテーションをした。 pHが中性になるまで、有機相を水で洗浄し、MgSO4で乾燥させ、濃縮した 。得られた油状物を、濃塩酸100ml、酢酸100ml及び水50mlの混合 物に溶かした。得られた混合物を3時間還流し、水500mlで希釈し、クロロ ホルムで抽出した。有機相を合わせて、炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄した後、 MgSO4で乾燥させ、濃縮した。 4−(メチルスルホニル)アセトフェノン15.1gが得られた。 実験式:C9103S 融点:127℃方法B: 実施例2c:4−(メチルチオ)アセトフェノン 式(VII):R’=CH3;Y3=H 予め0℃に冷却した、チオアニソール100g(0.8モル)、CH2Cl27 50ml及び塩化アセチル63ml(0.9モル)の混合物に、スパチュラで、 AlCl3123g(0.92モル)を添加した。この添加は、温度が10℃を 超えないようにして行った。この混合物を常温で1時間攪拌し、40℃に1時間 加熱した後、氷/水の混合物800mlに注ぎ込んだ。得られた混合物を分離し 、CH2Cl2で抽出した。有機相を合わせ、水で洗浄した後、MgSO4で乾燥 させ、濃縮して、4−(メチルチオ)アセトフェノン117.1gを得た。 実験式:C910OS 融点:80℃ 実施例2d:4−(メチルスルホニル)アセトフェノン 式(VI):R’=CH3;Y3=H KMnO4152g(0.96モル)を水3.5Lに溶かした溶液を、実施例 2cで得た4−(メチルチオ)アセトフェノン117.1g(0.7モル)及び 酢酸292mlの混合物に投入した。水2.3Lを添加し、反応温度を常温に回 復させた。溶液の色が消えるまで、亜硫酸ナトリウム飽和溶液を滴下した。これ を常温で一晩放置した。得られた固体をろ別し、大量の水で洗浄し、95%エタ ノールから再結晶して、4−(メチルスルホニル)アセトフェノン91.5gを 得た。 実験式:C9103S 融点:126℃ 実施例3の化合物は、適当な酸クロライドを用いて、実施例2c及び2dの方 法に従って製造した。 実施例3:1−[4−(メチルスルホニル)フェニル]プロパノン 式(VI):R’=CH3;Y3=CH3 実験式:C10123S 融点:107℃ 実施例4:2−ブロモ−1−(4−メチルスルホニルフェニル)エタノン 式(XV):R=CH3;Y3=H;X=Br 実施例2b又は2dに従って得た4−(メチルスルホニル)アセトフェノン3 13.7gの酢酸3080ml中の懸濁液に、濃塩酸3mlを滴下した。次いで 、臭素75.6ml及び酢酸216mlの溶液を滴下した。懸濁液が脱色して、 溶液に変質するのが観察された。臭素の添加終了時点で、沈殿物が生じ出した。 この混合物を常温で一晩放置した。沈殿物を吸引ろ過した。水相を水16Lで希 釈して、沈殿物を吸引ろ過した。得られた固体を合わせて、大量の水で洗浄した 後、乾燥させて、2−ブロモ−1−(4−メチルスルホニルフェニル)エタノン 376.2gを得た。 実験式:C99BrO3S 融点:126℃ 実施例5:4−(メチルスルホニル)アセトフェノン フェニルヒドラゾン 式(IV):R’=CH3;Y1=Y2=Y3=H 実施例2b又は2dで得た4−(メチルスルホニル)アセトフェノン15.1 g(0.076モル)、フェニルヒドラジン86ml(0.088モル)及びト ルエン80mlの混合物を4時間還流した。反応中に生じた水は、ディーンスタ ーク装置を用いて除去した。これによって、4−(メチルスルホニル)アセトフ ェノン フェニルヒドラゾン20.7gが得られた。 実験式:C151622S 融点:175℃ 実施例6〜12の化合物は、適当なケトン及びヒドラジンを用いて、実施例5 の方法に従って製造した。 実施例6:4−(メチルスルホニル)アセトフェノン 4−クロロフェニルヒド ラゾン 式(IV):R’=CH3;Y1=4−Cl;Y2=Y3=H 実験式:C1515ClN22S 融点:163℃ 実施例7:4−(メチルスルホニル)アセトフェノン 4−(メチルスルホニル )フェニルヒドラゾン 式(IV):R’=CH3;Y1=4−SO2CH3;Y2=Y3=H 実験式:C1618242 融点:285℃ 実施例8:1−[4−(メチルスルホニル)フェニル]プロパノン フェニルヒ ドラゾン 式(IV):R’=CH3;Y1=Y2=H;Y3=CH3 実験式:C161822S 融点:149℃ 実施例9:4−(メチルスルホニル)アセトフエノン 3,5−ジクロロフェニ ルヒドラゾン 式(IV):R’=CH3;Y1=3−Cl;Y2=5−Cl;Y3=H 実験式:C1514Cl222S 融点:218〜219℃ 実施例10:4−(メチルスルホニル)アセトフエノン 4−メチルフェニルヒ ドラゾン 式(IV):R’=CH3;Y1=4−CH3;Y2=Y3=H 実験式:C161822S 融点:204℃ 実施例11:4−(メチルスルホニル)アセトフェノン 4−フルオロフェニル ヒドラゾン 式(IV):R’=CH3;Y1=4−F;Y2=Y3=H 実験式:C1515FN22S 融点:182℃ 実施例12:4−(メチルスルホニルアセトフェノン)−2,4−ジフルオロフ ェニルヒドラゾン 式(IV):R’=CH3;Y1=2−F;Y2=4−F;Y3=H 実験式:C151422S 融点:170℃ 実施例13:2−[4−メチルスルホニルフェニル]インドール 式(II):R’=CH3;Y1=Y2=Y3=H 予め40℃に加熱したポリリン酸(PPA)613gに、実施例5で得た4− (メチルスルホニル)アセトフェノン フェニルヒドラゾン87.3g(0.3 モル)を数度に分けて添加した。この混合物の温度を100℃で1時間、次いで 135℃で10分間維持した。温度を約80℃に保ちつつ、水345mlを滴下 した。この混合物を冷却させて、50%KOH1300mlで中和した。沈殿物 をろ別し、水で洗浄し、乾燥させ、メトキシエタノールから再結晶して、2−[ 4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール40.8gを得た。 実験式:C1513NO2S 融点:250℃ 母液を濃縮すると、更に34.1gが得られた。 実施例14〜20の化合物は、適当なヒドラゾンを用いて、実施例13に従っ て製造した。 実施例14:5−クロロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドー ル 式(II):R’=CH3;Y1=5−Cl;Y2=Y3=H 実験式:C1512ClNO2S 融点:246℃ 実施例15:5−(メチルスルホニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]インドール 式(II):R’=CH3;Y1=5−SO2CH3;Y2=Y3=H 実験式:C1615NO42 融点:325℃ 実施例16:3−メチル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドー ル 式(II):R’=CH3;Y1=Y2=H;Y3=CH3 実験式:C1615NO2S 融点:184℃ 実施例17:4,6−ジクロロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] インドール 式(II):R’=CH3;Y1=4−Cl;Y2=6−Cl;Y3=H 実験式:C1511l2NO2S 融点:263〜264℃ 実施例18:5−メチル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドー ル 式(II):R’=CH3;Y1=5−CH3;Y2=Y3=H 実験式:C1615NO2S 融点:249℃ 実施例19:5−フルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インド ール 式(II):R’=CH3;Y1=5−F;Y2=Y3=H 実験式:C1512FNO2S 融点:239℃ 実施例20:5,7−ジフルオロ−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル] インドール 式(II):R’=CH3;Y1=5−F;Y2=7−F;Y3=H 実験式:C15112NO2S 融点:252〜254℃ 実施例21:1−シクロヘキシ−1−エニルピロリジン 式(XIV):Y1=Y2=H シクロヘキサノン52ml、ピロリジン70ml及びトルエン100mlの混 合物を、ディーンスタークを備えた反応器で、4時間還流下で加熱した。減圧留 去して、1−シクロヘキシ−1−エニルピロリジン54.1gを得た。 実験式:C1017N 沸点:20mmHg下で106℃ 実施例22:2−[2−(4−メチルスルホニルフェニル)−2−オキソ−エチ ル]シクロヘキサノン 式(XIII):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H 実施例21に従って得た1−シクロヘキシ−1−エニルピロリジン10.9g 及びトルエン80mlの溶液を還流下で加熱した。実施例4で得た2−ブロモ− 1−(4−メチルスルホニルフェニル)エタノン20gを数度に分けて添加した 。添加終了後、還流を2時間維持した。この混合物を冷却させた後、水36ml を投入し、還流下で更に2時間全体を加熱することで加水分解した。トルエンを 留去した。得られた水相をジクロロメタンで抽出した。有機相を合わせて、乾燥 させ、濃縮して、クルードの固体を得た。シリカゲルクロマトグラフィー(溶出 液はCH2Cl290%;酢酸エチル10%)で精製して、2−[2−(4−メチ ルスルホニルフェニル)−2−オキソ−エチル]シクロヘキサノン11.7gを 得た。 実験式:C15184S 融点:122℃ 実施例23の化合物は、実施例22に従って製造した。 実施例23:4−[2−オキソ−シクロヘキシル)アセチル]ベンゼンスルホン アミド 式(XIII):R=NH2;Y1=Y2=Y3=H シリカゲルでのクロマトグラフィー(溶出液はCH2Cl280%;酢酸エチル 20%)による精製。 実験式:C1417NO4S 融点:147℃ 実施例24:1−ベンゾ[1,3]ジオキソル−5−イル−2−(4−メチルス ルホニルフェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インドール 式(XI):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 実施例22で得た2−[2−(4−メチルスルホニルフェニル)−2−オキソ −エチル]シクロヘキサノン5.1g、3,4−(メチレンジオキシ)アニリン 2.5g及び酢酸15mlの混合物を30分間還流下で加熱した。冷却後、混合 物を水60mlで希釈した。得られた固体を濾別し、水で洗浄し、乾燥させた。 エタノールで結晶化し、4−[2−オキソ−シクロヘキシル)アセチル]ベンゼ ンスルホンアミド6.5gを得た。 実験式:C2121NO4S 融点:185℃ 実施例25〜30の化合物は、適当なアニリンを用いて、実施例24の方法に従 って製造した。 実施例25:1−(4−フルオロフェニル)−2−(4−メタンスルホニルフェ ニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インドール 式(XI):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 実験式:C2120FNO2S 融点:193〜195℃ 実施例26:4−[1−(4−フルオロフェニル)4,5,6,7−テトラヒド ロ−1H−インドール−2−イル]ベンゼンスルホンアミド 式(XI):R=NH2;Y1=Y2=Y3=H; 実験式:C2019FN22S 融点:144℃ 実施例27:1−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)−2−(4−メタンス ルホニルフェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インドール 式(XI):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 実験式:C2222ClNO3S 融点:185℃ 実施例28:1−(3−ヒドロキシフェニル)−2−(4−メタンスルホニル フェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インドール 式(XI):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 実験式:C2121NO3S 融点:179℃ 実施例29:5−tert−ブチル−1−(4−フルオロフェニル)−2−(4 −メタンスルホニルフェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インド ール 式(X1):R=CH3;Y1=5−tBu;Y2=Y3=H; 実験式:C2528FNO2S 融点:207℃ 実施例30:1−(3,4−ジクロロフェニル)−2−(4−メタンスルホニル フェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インドール 式(XI):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 実験式:C2119Cl2NO2S 融点:163℃ 実施例31:1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル) フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 実施例13で得た2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール5g (0.018モル)、4−フルオロブロモベンゼン6.7ml(0.061モル )、N−メチルピロリドン(NMP)50ml,Na2CO32.Ig(0.02 モル)及びCU2Br25.7g(0.02モル)の混合物を、窒素雰囲気下、2 00℃で7時間加熱した。反応を薄膜クロマトグラフィー(TLC)でモニター した。更に4−フルオロブロモベンゼン3mlを添加して、反応を5時間続けた 。冷却後、反応混合物を、水70mlとエチレンジアミン10mlの混合物に注 ぎ込んだ。酢酸エチルを添加した。この混合物をセライトでろ過して、銅塩を除 去し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機相を合わせて、pHが中性になるまで 水で洗浄した後、MgSO4で乾燥させ、濃縮した。得られた油状物をシリカゲ ルのクロマトグラフィー(トルエン90%/酢酸エチル10%)で精製した。2 −メトキシエタノールから再結晶して、1−(4−フルオロフェニル)−2−[ 4−(メチルスルホニルフェニル)]インドール2.3gを得た。 実験式:C2116FNO2S 融点:184℃ 実施例32:1−ベンゾ[1,3]ジオキソル−5−イル−2−(4−メチルス ルホニルフェニル)インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H 実施例24で得た1−ベンゾ[1,3]ジオキソル−5−イル−2−(4−メ チルスルホニルフェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インドール 6.5g、10%Pd/C4.2g及びメシチレン105mlの混合物を8時間 還流下で加熱した。次いで、温かい混合物をセライトでろ過した。ろ液を濃縮し た。得られた固体を、エタノール、次いでイソプロピルエーテルで洗浄した。 まず、シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液はCH2Cl298%/酢酸エ チル2%)で精製し、次に、2−メトキシエタノールから再結晶して、1−ベン ゾ[1,3]ジオキソル−5−イル−2−(4−メチルスルホニルフェニル)イ ンドール4.1gを得た。 実験式:C2217NO4S 融点:186℃ 実施例33:1−(3,4−ジクロロフェニル)−2−(4−メタンスルホニル フェニル)インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 実施例30で得た1−(3,4−ジクロロフェニル)−2−(4−メタンスル ホニルフェニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インドール3g、9 8%2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ)2 .4g及びエチルフェニルエーテル(フェネトール)20mlの混合物を、80 ℃で15時間加熱した。 冷却後、不溶物を濾別した。ろ液をエーテルで希釈し、塩基性の水で洗浄し、 乾燥させ、濃縮した。得られた褐色油状物を、シリカゲルのクロマトグラフィー (溶出液はCH2Cl2)で精製して、1−(3,4−ジクロロフェニル)−2− (4−メタンスルホニルフェニル)インドール0.9gを得た。 実験式:C2115Cl2NO2S 融点:200℃ 実施例34〜54の化合物は、実施例31、32又は33の方法を用いて製造し た。 実施例34:1−(4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液はトルエン95%/酢酸エチル5% )で精製。 実験式:C2219NO2S 融点:186℃ 実施例35:1−フェニル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インド ール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液はトルエン95%/酢酸エチル5% )で精製。 実験式:C2117NO2S 融点:175℃ 実施例36:1−(4−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 3段階の連続的なシリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、トルエン90 %/酢酸エチル10%、次に、トルエン95%/酢酸エチル5%、最後に、クロ ロホルム95%/イソプロピルアミン5%)で精製した後、アセトニトリルから 再結晶した。 実験式:C2116ClNO2S 融点:174℃ 実施例37:5−(メチルスルホニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]−1−フェニルインドール 式(I):R=CH3;Y1=5−SO2CH3;Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液はトルエン95%/酢酸エチル5% )で精製。 実験式:C2219NO4S 融点:238℃ 実施例38:1−(2−チエニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル ]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液はトルエン80%/酢酸エチル20 %)及び5倍容量のアセトニトリル中での結晶化により精製。 実験式:C1912NO22 融点:168℃ 実施例39:1−[4−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェニル]−2−[ 4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 2段階のシリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、CH2Cl295%/ア セトン5%、次に、CHCl395%/イソプロピルアミン5%)で精製した後 、アセトニトリルから再結晶した。 実験式:C242422S 融点:147℃ 実施例40:3−メチル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−1−フ ェニルインドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=H;Y3=CH3 実験式:C2219NO2S 融点:224℃ 実施例41:1−[4−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェニル]−3−メ チル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=H;Y3=CH3 2段階の連続的なシリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、CH2Cl28 0%/アセトン20%、次に、CH2Cl295%/メタノール5%)で精製。 実験式:C252622S 融点:196℃ 実施例42:5−メチル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−1−フ ェニルインドール 式(I):R=CH3;Y1=5−CH3;Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液はトルエン95%/酢酸エチル5% )で精製。 2−メトキシエタノールから再結晶。 実験式:C2219NO2S 融点:152℃ 実施例43:2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−1−(3−ピリジル )インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液はCH2Cl2)で精製。 イソプロパノールから再結晶。 実験式:C2016NO2S 融点:171℃ 実施例44:4,6−ジクロロ−1−[4−(N,N−ジメチルアミノメチル) フェニル]−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=4−Cl;Y2=6−Cl;Y3=H; 実験式:C2320Cl222S 融点:138℃ 実施例45:1−[4−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェニル]−5−メ チル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=5−CH3;Y2=H;Y3=H; 2段階の連続的なシリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、CHCl39 5%/メタノール5%と;CHCl398%/メタノール2%)で精製。 エタノールから再結晶。 実験式:C252622S 融点:148℃ 実施例46:1−(5−ピリミジニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェ ニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; A=5−ピリミジニル 2段階のシリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、CH2Cl295%/酢 酸エチル5%と、CH2Cl290%/酢酸エチル10%)で精製。 2−メトキシエタノールから再結晶。 実験式:C191532S 融点:200℃ 実施例47:1−[4−(N,N−ジメチルアミノフェニル)]−2−[4−( メチルスルホニル)フェニル]インドール塩酸塩 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; この塩基を、2段階の連続的なシリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、 CH2Cl2と、トルエン80%/酢酸エチル20%)で精製した。 2−メトキシエタノールから再結晶。 実験式:C232222S;HCl 融点:244℃ 実施例48:5−フルオロ−1−(4−フェニル)−2−[4−(メチルスルホ ニル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=5−F;Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液はCH2Cl2)で精製。 アセトニトリルと、次いで2−メトキシエタノールから再結晶。 実験式:C2116FNO2S 融点:203℃ 実施例49:5−フルオロ−1−(3−ピリジニル)−2−[4−(メチルスル ホニル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=5−F;Y2=Y3=H;X2=H; A=3−ピリジニル シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、CH2Cl295%/酢酸エチル 5%)で精製。 イソプロパノールから再結晶。 実験式:C2015FN22S 融点:179℃ 実施例50:5−フルオロ−1−[4−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェ ニル]−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=5−F;Y2=Y3=H; 2段階の連続的なシリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液、CH2Cl295 %/メタノール5%と、CHCl395%/イソプロピルアミン5%)で精製。 エタノールから再結晶。 実験式:C2423FN22S 融点:135℃ 実施例51:5−フルオロ−1−(6−メチル−3−ピリジニル)−2−[4− (メチルスルホニル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=5−F;Y2=Y3=H; A=6−メチル−3−ピリジニル 2段階の連続的なシリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、CH2Cl29 5%/アセトン5%)で精製。 2−メトキシエタノールから再結晶。 実験式:C2117FN22S 融点:214℃ 実施例52:1−(3−クロロフェニル]−2−[4−(メチルスルホニル)フ ェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、トルエン90%/酢酸エチル1 0%)で精製。 2−メトキシエタノールから再結晶。 実験式:C2116ClNO2S 融点:194℃ 実施例53:5−ヒドロキシ−1−(フェニル)−2−[4−(メチルスルホニ ル)フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=5−OH;Y2=Y3=H; シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出液は、CH2Cl295%/イソプロピ ルアミン5%)で精製。 実験式:C2117NO3S 融点:211℃ 実施例54:1−(4−メトキシフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル) フェニル]インドール 式(I):R=CH3;Y1=Y2=Y3=H; 2−メトキシエタノールから再結晶。 実験式:C2218NO3S 融点:202℃ 実施例55:4−(1−フェニル−2−インドーリル)ベンゼンスルホンアミド 式(I):R=NH2;Y1=Y2=Y3=H; 実施例35で得た2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]−1−フェニル インドール16.6g(0.048モル)及び無水THF200mlの溶液を0 ℃に冷却した後、メチルマグネシウムクロライドの3M THF溶液20ml( 0.06モル)を滴下した。 温度を常温に回復させた。反応の30分後、再び0℃に冷却して、トリブチル ボランの1M THF溶液72ml(0.072モル)を滴下した。温度を常温 に回復させた。反応の30分後、混合物を還流下で18時間加熱した。反応液を 再び0℃に冷却して、酢酸ナトリウム27.5g、ヒドロキシルアミン−O−ス ルホン酸18.9g及び水120mlの溶液を投入した。 常温で3時間反応させて、デカンテーションをし、有機相を酢酸エチルで希釈 し、NaHCO3の飽和溶液、次にNaClの飽和溶液で洗浄し、MgSO4で乾 燥させて濃縮した。得られた化合物を、シリカゲルのクロマトグラフィー(溶出 液は、CHCl395%/イソプロピルアミン5%)で精製して、トルエンから 再結晶し、4−(1−フェニル−2−インドーリル)ベンゼンスルホンアミド3 .6gを得た。 実験式:C201622S 融点:172℃ 薬理学 COX−1及びCOX−2酵素活性の阻害 2UのCOX−1(雄羊の精嚢から採取し精製した酵素)又は1UのCOX−2 (雌羊の胎盤から採取し精製した酵素)とともに、試験化合物を25℃で10分 間、前培養した。反応培地にアラキドン酸(COX−1の場合は6μM、COX −2の場合は4μM)を添加して、25℃で5分間、培養を行った。培養が終了 すると、1N塩酸を添加して酵素反応を終わらせ、産出されたPGE2をEIA で測定した。 結果は、COX−1及びCOX−2酵素活性の阻害割合として表したものであり 、4つの測定値を平均して求めた平均値(±)標準偏差に対応する。 毒性 最初に行った毒性に関する調査から、実施例の化合物は、ラットが300mg/ kgまでの用量を経口吸収しても、有害な作用を誘発しないことが分かった。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成10年10月16日(1998.10.16) 【補正内容】 5−フルオロ−1−フェニル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イン ドール 7. 例えば炭酸ナトリウム等の塩基、及び、例えば銅塩等の金属触媒の存在 下で、例えばN−メチルピロリドン等の有機溶剤中、150〜220℃の温度に 加熱することにより、式(II)で表される化合物: 式中: Y1、Y2及びY3は、請求項1に記載したものと同様であり、R’は、1〜6 個の炭素原子を有する低級アルキル基、又は、1〜6個の炭素原子を有するハロ アルキル基を表す、 を、式(III)で表される化合物: A−X 式(III) 式中、Aは、芳香環: ここでX1及びX2は、請求項1に記載したものと同様である、又は、フラン、ピ リジン、ピリミジン若しくはチオフェンであるヘテロ環を表す、並びに、Xは、 ハロゲン原子を表す、と反応させる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の式( I)で表される化合物の製造方法であって、Rが−SO2NH2基を表す式(I) で表される化合物は、Rがメチル基を表す式(I)で表される化合物を、還流下 、テトラヒドロフラン等の有機溶剤中、塩基及びトリアルキルボランと反応させ た後、ヒドロキシルアミン−O−スルホン酸と反応させることにより、製造する ことができることを特徴とする製造方法。 8. 式(XI)で表される誘導体: 式中、Y1、Y2、Y3、R及びAは、請求項1に記載したものと同様である、を 脱水素化する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の式(I)で表される化合物 の製造方法であって、この脱水素化は、例えば10%Pd/C等の触媒の存在下 で、メシチレン等の有機溶剤中、常温〜250℃の温度で実施するか、又は、フ ェネトール等の溶剤の存在下で、例えばオルトクロラニル(orthochlo ranil)若しくはDDQ等のキノンを利用する方法によって実施することが 可能であることを特徴とする製造方法。 9. 必要に応じて薬理学上許容される賦形剤、媒体又は担体中に配合された、 薬理学上有効な量の、請求項1〜6のいずれか1項に記載した式(I)で表され る化合物の少なくとも1つからなることを特徴とする医薬用組成物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61P 25/28 A61P 25/28 29/00 29/00 35/00 35/00 43/00 111 43/00 111 C07D 401/04 C07D 401/04 403/04 403/04 405/04 405/04 409/04 409/04 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT ,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA, CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,F I,GB,GE,GH,HU,IL,IS,JP,KE ,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS, LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,M X,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE ,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT, UA,UG,US,UZ,VN,YU,ZW

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 一般式(I)で表されることを特徴とする1,2−ジアリールインドー ル誘導体: 式中: Rは: −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、 −1〜6個の炭素原子を有する低級ハロアルキル基、又は、 −−NH2基を表す; Aは: −芳香環 を表す: 式中、X1及びX2は、独立して: −水素原子、 −ハロゲン原子、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、 −トリフルオロメチル基、 −(CH2nNR12基、ここで: −nは、0〜2の整数である、並びに、 −R1及びR2は、独立して、水素原子、若しくは、1〜6個の炭素原子を有す る低級アルキル基を表す、 −1〜6個の炭素原子を有する低級O−アルキル基、又は、 −SO2R基、ここでRは上述したものと同様である、を表すか、 あるいは、X1とX2が一緒になってメチレンジオキシ基を形成する; Aは、また、チオフェン、フラン、ピリジン又はピリミジンであるヘテロ環を 表してもよい; Y1及びY2は、独立して: −水素原子、 −ハロゲン原子、 −OR’基、ここでR’は、水素原子、若しくは、1〜6個の炭素原子を有する 低級アルキル基を表す、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、又は、 −SO2R基、ここでRは上述したものと同様である、を表す;並びに Y3は: −水素原子、又は、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基を表す。 2. Rは、1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、又は、NH2基を表 す; Aは、芳香環 を表す: 式中、X1及びX2は、独立して: −水素原子、 −ハロゲン原子、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、 −1〜6個の炭素原子を有する低級O−アルキル基、又は、 −(CH2nNR12基、ここで: −nは、0若しくは1に等しい、並びに、 −R1及びR2は、1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基を表す、を表す か; あるいは、X1とX2が一緒になってメチレンジオキシ基を形成する; Aは、チオフェン、ピリジン又はピリミジンであるヘテロ環を表す; Y1及びY2は、独立して: −水素原子、 −ハロゲン原子、 −OH基 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基、又は、 −SO2R基、ここでRは上述したものと同様である、を表す;並びに Y3は: −水素原子、又は、 −1〜6個の炭素原子を有する低級アルキル基を表す 請求項1記載の、式(I)で表される誘導体。 3. Rは、メチル基又はNH2基を表す請求項1又は2記載の誘導体。 4. X1は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はN(CH32基を表し、 X2は、水素原子を表す請求項1〜3のいずれか1項に記載の誘導体。 5. Y1は、水素原子又はフッ素原子を表し、Y2は、水素原子を表す請求項1 〜4のいずれか1項に記載の誘導体。 6. 以下の化合物から選択される請求項1記載の誘導体: 1−(4−フルオロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イ ンドール 1−(4−クロロフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イン ドール 1−(4−メチルフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イン ドール 1−フェニル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]インドール 4−(1−フェニル−2−インドーリル)ベンゼンスルホンアミド 1−(4−ジメチルアミノフェニル)−2−[4−(メチルスルホニル)フェニ ル]インドール5−フルオロ−1−フェニル−2−[4−(メチルスルホニル)フェニル]イン ドール 7. 例えば炭酸ナトリウム等の塩基、及び、例えば銅塩等の金属触媒の存在 下で、例えばN−メチルピロリドン等の有機溶剤中、150〜220℃の温度に 加熱することにより、式(II)で表される化合物: 式中: Y1、Y2及びY3は、請求項1に記載したものと同様であり、R’は、1〜6 個の炭素原子を有する低級アルキル基、又は、1〜6個の炭素原子を有するハロ アルキル基を表す、 を、式(III)で表される化合物: A−X 式(III) 式中、Aは、芳香環:ここでX1及びX2は、請求項1に記載したものと同様である、又は、ピリジン、 ピリミジン若しくはチオフェンであるヘテロ環を表す、並びに、Xは、ハロゲン 原子を表す、と反応させる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の式(I)で表 される化合物の製造方法であって、Rが−SO2NH2基を表す式(I)で表され る化合物は、Rがメチル基を表す式(I)で表される化合物を、還流下、テトラ ヒドロフラン等の有機溶剤中、塩基及びトリアルキルボランと反応させた後、ヒ ドロキシルアミン−O−スルホン酸と反応させることにより、製造することがで きることを特徴とする製造方法。 8. 式(XI)で表される誘導体: 式中、Y1、Y2、Y3、R及びAは、請求項1に記載したものと同様である、を 脱水素化するる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の式(I)で表される化合 物の製造方法であって、この脱水素化は、例えば10%Pd/C等の触媒の存在 下で、メシチレン等の有機溶剤中、常温〜250℃の温度で実施するか、又は、 フェネトール等の溶剤の存在下で、例えばオルトクロラニル(orthochl oranil)若しくはDDQ等のキノンを利用する方法によって実施すること が可能であることを特徴とす製造方法。 9. 必要に応じて薬理学上許容される賦形剤、媒体又は担体中に配合された、 薬理学上有効な量の、請求項1〜6のいずれか1項に記載した式(I)で表され る化合物の少なくとも1つからなることを特徴とする医薬用組成物。 10. 必要に応じて薬理学上許容される賦形剤、媒体又は担体中に配合された 、薬理学上有効な量の、請求項1〜6のいずれか1項に記載した式(I)で表さ れる化合物を含有することを特徴とする、抗炎症作用及び鎮痛作用を有する医薬 用組成物。 11. 薬理学上許容される賦形剤、媒体又は担体中に配合された、薬理学上有 効な量の、請求項1〜6のいずれか1項に記載した式(I)で表される化合物を 含有することを特徴とする、癌、特に腺癌の防止、神経変性病、特にアルツハイ マー病の防止、卒中及び癲癲の防止、並びに、早産の防止に有用な医薬用組成物 。 12. 1mg〜1000mgの用量を含有するゼラチンカプセル若しくは錠 剤の形態、又は、0.1mg〜500mgの用量を含有する注射用製剤の形態を とる請求項9、10又は11記載の医薬用組成物。
JP10507674A 1996-08-01 1997-07-31 Cox―2阻害剤としての1,2―ジアリールインドール Pending JP2000515162A (ja)

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