JP2000356693A - ステージ機構 - Google Patents

ステージ機構

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JP2000356693A
JP2000356693A JP11167135A JP16713599A JP2000356693A JP 2000356693 A JP2000356693 A JP 2000356693A JP 11167135 A JP11167135 A JP 11167135A JP 16713599 A JP16713599 A JP 16713599A JP 2000356693 A JP2000356693 A JP 2000356693A
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pressure air
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Kazuharu Uchiumi
和晴 内海
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステージ機構において、ビームのたわみによ
る機能低下を防止する。 【解決手段】 ビーム6はベース1の上方に所定の間隔
をおいて位置し予め定められた方向に延びている。移動
体14はビームをガイドとしてビームに沿って移動す
る。移動体にはビームの外側に突出する位置でベースに
当接する移動体用静圧空気軸受けパッド14a乃至14
cが配設されており、ビームにはベースとの間に介在し
て少なくとも一つのビーム用静圧空気軸受けパッド15
が取り付けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は移動体がガイド上を
移動するステージ機構に関し、特に、ステージ機構に用
いられる構造体支持構造に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ステージ機構として移動体がガ
イドに沿って移動するものが知られている。
【0003】ここで、図3を参照して、従来のステージ
機構について説明する。
【0004】図示のステージ機構は、静圧軸受を用いた
1軸のステージ機構であり、ベース1上には一本のビー
ム6が固定されている。ビーム6上には移動体14が配
置されており、移動体14はビーム6をガイドとしてビ
ーム6に沿って移動することができる。図示のステージ
機構では、ビーム6及び移動体14は、例えば、セラミ
ックのような寸法管理が容易で、かつ、高い剛性を有す
る材料で作成される。
【0005】さらに、ステージ機構として、図4に示す
静圧軸受を用いた2軸のステージ機構が知られている。
図4を参照して、ベース1上には2本のレール2及び3
が所定の間隔をおいて配設されている。レール2及び3
にはそれぞれ移動体4及び5が配置されており、移動体
4及び5はそれぞれレール2及び3に沿って移動する
(運動する)。また、移動体4及び5はビーム6によっ
て連結されており、この結果、移動体4及び5がレール
2及び3上を移動するに連れてビーム6も移動すること
になる。そして、ビーム6上には移動体14が配置され
ており、移動体14はビーム6をガイドとしてビーム6
に沿って移動することができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、ステ
ージ機構が大型化する傾向にあり、図3及び図4に示す
ステージ機構ともに、移動体14の移動量(ストロー
ク)を大きくするため、ビーム6の長さを長くしてお
り、さらに、移動体14に搭載される負荷質量が大きく
なっている。この結果、ビーム6のたわみ量が無視でき
ない量となっている。そして、このようなたわみが発生
すると、移動体がスムースに移動できなくなってしま
う。
【0007】特に、図4に示すステージ機構において、
ビーム6のたわみ量を最小にするためにビーム6の中央
を保持しようにも、図4に示す構成では移動体14がビ
ーム6の4面をガイドとして用いている関係上、ビーム
6に支持体等を接触させることができない。さらに、ビ
ーム6自体がレール方向に移動するため、支持体をビー
ム6の移動に追従させて移動させなければならない。
【0008】本発明の目的はビームのたわみを容易に防
止することのできるステージ機構を提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ベース
の上方に所定の間隔をおいて位置し予め定められた方向
に延びるビームと、該ビームをガイドとして前記ビーム
に沿って移動する移動体とを有し、前記移動体には前記
ビームの外側に突出する位置で前記ベースに当接する少
なくとも一つの移動体用静圧空気軸受けパッドが配設さ
れており、前記ビームには前記ベースとの間に介在して
少なくとも一つのビーム用静圧空気軸受けパッドが取り
付けられていることを特徴とするステージ機構が得られ
る。
【0010】
【発明の実施の形態】以下本発明について図面を参照し
て説明する。
【0011】まず、図1を参照して、図1において、図
4と同一の構成要素については同一の参照番号を付す。
ベース1上には2本のレール2及び3が所定の間隔をお
いて配設されており、レール2及び3にはそれぞれ移動
体4及び5が配置されている。ここで、レール2及び移
動体4に着目すると、図1(b)に示すように、移動体
4には静圧空気軸受けパッド12が備えられており、レ
ール2と移動体4との間には静圧空気軸受けパッド12
が介在している。この静圧空気軸受けパッド12によっ
て移動体4は図1(a)に示すX軸方向にガイドされて
いる。さらに、図1(b)に示すように、移動体4には
静圧空気軸受けパッド13が備えられており、移動体4
は静圧空気軸受けパッドでベース1によってZ軸方向
(図1(b)において上方向)にガイドされて図1
(a)に示すY軸方向、つまり、レール2に沿って移動
する。
【0012】なお、同様に、移動体5にも静圧空気軸受
けパッド12及び13が備えられており、移動体5はレ
ール3に沿って移動可能となっている。
【0013】ビーム6は移動体4とリジット(例えば、
ネジを用いて)に固定されており、一方、ビーム6は移
動体5と板バネ構造によって連結されている。
【0014】ビーム6に移動体14が配置されており、
移動体14はビーム6をガイドとして、図1(a)のX
軸方向に移動する。図1(b)に示すように、ベース1
と移動体14との間には静圧空気軸受けパッド14a乃
至14cが配置されている。つまり、移動体14には静
圧空気軸受けパッド14a乃至14cが取り付けられて
おり、移動体14は静圧空気軸受けパッド14a乃至1
4cによってベース1に対してZ軸方向をガイドされ
て、X軸方向に移動する。
【0015】図1(a)に示されているように、移動体
14はビーム6を跨ぐようにしてビーム6上に配置され
ており、移動体14にはビーム6に対して直角にベース
1に対して平行に延びる一対のフランジ部141が形成
されている。つまり、移動体14にはY軸方向に延在す
るフランジ部141が形成されており、このフランジ部
141はビーム6の外側に位置する。そして、フランジ
部141には静圧空気軸受けパッド14a乃至14cが
取り付けられている(図1(a)に示す例では、図中下
側に位置するフランジ部141に静圧空気軸受けパッド
14a及び14bが取り付けられ、図中上側に位置する
フランジ部141に静圧空気軸受けパッド14cが取り
付けられている。
【0016】ビーム6の中央部において、その下面には
静圧空気軸受けパッド15が取り付けられ、この静圧空
気軸受けパッド15はベース1に当接している。そし
て、静圧空気軸受けパッド15によって、ビーム6が支
えられている。つまり、静圧空気軸受けパッド15は、
移動体14の移動を妨げることなく、X軸方向及びY軸
方向の全ストロークに亘ってビーム6に追従しつつビー
ム6の自重を受け持っており、ビーム6と移動体5の締
結部等に無理な負荷を掛けないようにビーム6を保持し
ている。
【0017】図2を参照して、本発明によるステージ機
構の他の例について説明する。なお、図2において、図
1と同一の構成要素については、同一の参照番号を付
し、説明を省略することとする。
【0018】図示の例は、レール2のみがベース1上に
配設されており、このレール2上には移動体4が配置さ
れている。前述のように、移動体4にはビーム6の一端
部がリジットに固定されており、移動体4には静圧空気
軸受けパッド12が備えられており、レール2と移動体
4との間には静圧空気軸受けパッド12が介在してい
る。この静圧空気軸受けパッド12によって移動体4は
X軸方向にガイドされている。さらに、移動体4には静
圧空気軸受けパッド13が備えられており、移動体4は
静圧空気軸受けパッドでベース1によってZ軸方向にガ
イドされて、Y軸方向、つまり、レール2に沿って移動
する。
【0019】ビーム6の他端部にはY軸方向に延びる腕
部材17が取り付けられている。腕部材17の下面には
Y軸方向に所定の間隔をおいて静圧空気軸受けパッド1
7a及び17bが取り付けられており、腕部材17は、
静圧空気軸受けパッド17a及び17bを介してベース
1に当接している。
【0020】ビーム6の中央部において、その下面には
静圧空気軸受けパッド18a及び18bがビーム6の幅
方向(Y軸方向)所定の間隔をおいて取り付けてもよ
く、これら静圧空気軸受けパッド18a及び18bはベ
ース1に当接している。そして、静圧空気軸受けパッド
18a及び18bによって、ビーム6が支えられてい
る。つまり、静圧空気軸受けパッド18a及び18b
は、移動体14の移動を妨げることなく、X軸方向及び
Y軸方向の全ストロークに亘ってビーム6に追従しつつ
ビーム6の自重を受け持っている。なお、一対の静圧空
気軸受けパッド18a及び18bをビーム6に取り付け
ることによって、ビーム6のX軸に対する回転、つま
り、ねじれを防止することができる。
【0021】また、一対の静圧空気軸受けパッド18a
及び18bをX軸方向に所定の間隔をおいて取り付ける
ことによって、ビーム6のたわみを防止することができ
る。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では静圧空
気軸受けパッドをビームの中央部に配置して、ビームの
中央部でベースに対してビームを支持するようにしたか
ら、ガイド構造体、つまり、容易にビームのたわみ及び
ねじれを防止することができ、移動体をスムースに移動
させることができるという効果がある。
【0023】さらに、ビームのたわみ等を心配する必要
がないので、組み立て調整に要する時間が削減でき、コ
ストダウンがはかれるという利点もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるステージ機構の一例を示す図であ
り、(a)は平面図、(b)は断面図である。
【図2】本発明によるステージ機構の他の例を示す図で
あり、(a)は平面図、(b)は断面図、(c)は
(a)のA−A線断面図である。
【図3】従来のステージ機構の一例を示す図である。
【図4】従来のステージ機構の他の例を示す図である。
【符号の説明】
1 ベース 2,3 レール 4,5,14 移動体 6 ビーム 8 板バネ 12,13,15 静圧空気軸受けパッド

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ベースの上方に所定の間隔をおいて位置
    し予め定められた方向に延びるビームと、該ビームをガ
    イドとして前記ビームに沿って移動する移動体とを有
    し、前記移動体には前記ビームの外側に突出する位置で
    前記ベースに当接する少なくとも3つの移動体用静圧空
    気軸受けパッドが配設されており、前記ビームには前記
    ベースとの間に介在して少なくとも一つのビーム用静圧
    空気軸受けパッドが取り付けられていることを特徴とす
    るステージ機構。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載されたステージ機構にお
    いて、前記ビーム用静圧空気軸受けパッドは前記予め定
    められた方向で前記ビームの中央部に取り付けられてい
    ることを特徴とするステージ機構。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載されたステージ機構にお
    いて、前記ベース上に所定の間隔をおいて配設され前記
    予め定められた方向に直交する直交方向に延びる第1及
    び第2のレールが配設され、前記第1及び前記第2のレ
    ールにはそれぞれ前記第1及び前記第2のレールに沿っ
    て移動する第1及び第2の移動体が配置されており、前
    記ビームは前記第1及び前記第2の移動体と連結したこ
    とを特徴とするステージ機構。
  4. 【請求項4】 請求項2に記載されたステージ機構にお
    いて、前記ベース上には前記予め定められた方向に直交
    する直交方向に延びるレールが配設され、前記レールに
    はレールに沿って移動する移動体が配置されており、前
    記ビームの一端は前記移動体に固定され前記ビームの他
    端には前記レール方向に延びる腕部が固定されており、
    前記腕部は腕部用静圧空気軸受けパッドを介して前記ベ
    ースに当接し、前記ビームの中央部には前記直交方向に
    所定の間隔をおいて一対のビーム用静圧空気軸受けパッ
    ドが配設されていることを特徴とするステージ機構。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010099814A (ja) * 2008-10-27 2010-05-06 Ihi Corp Xyステージ装置
US7743998B2 (en) 2003-10-23 2010-06-29 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Stage device
KR101210452B1 (ko) * 2010-06-01 2012-12-11 에버테크노 주식회사 스테이지

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7743998B2 (en) 2003-10-23 2010-06-29 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Stage device
JP2010099814A (ja) * 2008-10-27 2010-05-06 Ihi Corp Xyステージ装置
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