JP2000348153A - Electronic circuit board and its manufacture - Google Patents

Electronic circuit board and its manufacture

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JP2000348153A
JP2000348153A JP11162146A JP16214699A JP2000348153A JP 2000348153 A JP2000348153 A JP 2000348153A JP 11162146 A JP11162146 A JP 11162146A JP 16214699 A JP16214699 A JP 16214699A JP 2000348153 A JP2000348153 A JP 2000348153A
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antenna
chip
film
semiconductor
conductor film
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Hiromi Tozaki
博己 戸▲崎▼
Masao Sekihashi
正雄 関端
Takatsugu Takenaka
隆次 竹中
Yoshiaki Hotta
美明 堀田
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
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    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily connect an antenna and an IC chip and to increase the number of turns of the antenna by constituting a coiled antenna by connecting antenna conductor films on the side of a base material and antenna conductor films on a chip side. SOLUTION: The antenna conductor films 20 are formed on the circuit base material 10 in a specific pattern by screen printing. The antenna conductor films 20 may be formed by etching copper foil. A semiconductor IC chip 30 is arranged across the antenna conductor films 20, whose start and end points are connected directly to connection terminals of the semiconductor IC chip 30. This constitution makes it easy to connect the antenna and IC chip through the facedown connection of the semiconductor IC chip 30 and can reduce the width of the antenna conductor films formed on the IC chip 30, so that the number of turns of the antenna can be increased.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子回路基板及び
その製造方法に係り、特に、コイル状アンテナを有する
電子回路基板に適用するに好適な電子回路基板及びその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic circuit board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an electronic circuit board suitable for application to an electronic circuit board having a coil antenna and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】非接触型ICカードは、有機高分子材料
からなる回路基材に、メモリやマイクロコンピュータ・
無線通信用の機能を有する半導体ICチップとコイル状
アンテナとを接続固定して、カード内に内蔵した構成を
有している。非接触型ICカードは、メモリ容量が磁気
テープより格段に増し、また、カード情報の授受が 電
気的接点を介して行なうことが不要であり、従来の磁気
カード及び接触型ICカードに比べて、携行の利便性の
高い記録媒体として広く普及しつつある。非接触型IC
カードのように、コイル状アンテナと半導体ICチップ
とを有する電子回路基板においては、アンテナの始点及
び終点を半導体ICチップの2つの接続端子に接続する
必要がある。コイル状アンテナは、螺旋状に形成されて
いるため、半導体ICチップを、アンテナの外周側に配
置する場合には、例えば、アンテナの始点とICチップ
の一方の接続端子は直接接続しても、アンテナの終点と
ICチップの他方の接続端子を接続する際には、接続線
は、アンテナを跨ぎ越えるようにして設ける必要があ
る。そのために、導体のアンテナと接続線の間を電気的
に絶縁する必要があり、製造工程が複雑になるという問
題があった。
2. Description of the Related Art A non-contact type IC card includes a memory, a microcomputer, and a circuit base made of an organic polymer material.
It has a configuration in which a semiconductor IC chip having a function for wireless communication and a coiled antenna are connected and fixed, and are built in a card. Non-contact type IC cards have a much larger memory capacity than magnetic tapes, and do not require the transfer of card information via electrical contacts. It is becoming widely used as a highly portable recording medium. Non-contact type IC
In an electronic circuit board having a coiled antenna and a semiconductor IC chip like a card, it is necessary to connect the start point and the end point of the antenna to two connection terminals of the semiconductor IC chip. Since the coiled antenna is formed in a spiral shape, when the semiconductor IC chip is arranged on the outer peripheral side of the antenna, for example, even if the starting point of the antenna and one connection terminal of the IC chip are directly connected, When connecting the end point of the antenna to the other connection terminal of the IC chip, the connection line needs to be provided so as to cross over the antenna. Therefore, it is necessary to electrically insulate between the conductor antenna and the connection line, and there is a problem that the manufacturing process becomes complicated.

【0003】そこで、例えば、特許第2814477号
明細書に記載されているように、アンテナを跨ぐように
ICチップを配置して、アンテナの始点・終点とICチ
ップの接続端子を直接接続する方式が知られている。こ
のように構成することにより、接続線が不要になり、ア
ンテナとICチップの接続を容易に行えるものである。
For example, as disclosed in Japanese Patent No. 2,814,477, a method of arranging an IC chip so as to straddle an antenna and directly connecting a starting point and an ending point of the antenna to a connection terminal of the IC chip is known. Are known. With this configuration, a connection line is not required, and the antenna and the IC chip can be easily connected.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特許第
2814477号明細書に記載されている方式では、ア
ンテナのターン数が制限されるという問題がある。即
ち、コイル状のアンテナが、例えば、回路基板の上に導
電ペーストをスクリーン印刷により形成する場合、現状
のスクリーン印刷の技術では、アンテナの線幅を200
μm以下にすることは困難である。従って、例えば、ア
ンテナの線幅を200μmとし、隣り合うアンテナ間の
隙間の幅を200μmとし、ICチップの接続端子間の
距離を1.0mmとすると、ICチップの接続端子間に
配置できるアンテナのコイル数は、2本であり、アンテ
ナのターン数は、3ターンとなる。また、コイル状のア
ンテナが、例えば、回路基板の上に形成された銅箔をエ
ッチングして形成する場合、現状の技術では、アンテナ
の線幅を100μm以下にすることは困難である。従っ
て、例えば、アンテナの線幅を100μmとし、隣り合
うアンテナ間の隙間の幅を100μmとし、ICチップ
の接続端子間の距離を1.0mmとすると、ICチップ
の接続端子間に配置できるアンテナのコイル数は、4本
であり、アンテナのターン数は、5ターンとなる。
However, the method described in Japanese Patent No. 2,814,477 has a problem that the number of turns of the antenna is limited. That is, for example, when a coil-shaped antenna is formed by screen printing a conductive paste on a circuit board, the line width of the antenna is 200 mm in the current screen printing technology.
It is difficult to reduce it to μm or less. Therefore, for example, if the line width of the antenna is 200 μm, the width of the gap between adjacent antennas is 200 μm, and the distance between the connection terminals of the IC chip is 1.0 mm, the antenna that can be arranged between the connection terminals of the IC chip will be described. The number of coils is two, and the number of turns of the antenna is three. Further, when a coil-shaped antenna is formed by etching a copper foil formed on a circuit board, for example, it is difficult to reduce the line width of the antenna to 100 μm or less with the current technology. Therefore, for example, if the line width of the antenna is 100 μm, the width of the gap between adjacent antennas is 100 μm, and the distance between the connection terminals of the IC chip is 1.0 mm, the antenna that can be arranged between the connection terminals of the IC chip will be described. The number of coils is four, and the number of turns of the antenna is five.

【0005】本発明の目的は、アンテナとICチップの
接続を容易に行えるとともに、アンテナのターン数を増
やすことのできる電子回路基板及びその製造方法を提供
することにある。
An object of the present invention is to provide an electronic circuit board capable of easily connecting an antenna to an IC chip and increasing the number of turns of the antenna, and a method of manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、コイル状アンテナと、このアンテナを跨
ぐようにして配置され、このアンテナの始点及び終点に
それぞれ接続端子を介して接続された半導体ICチップ
を有する電子回路基板において、上記コイル状アンテナ
は、回路基材の表面に形成された複数の基材側のアンテ
ナ用導体膜と、上記半導体ICチップの上記接続端子が
設けられた面に形成された複数のチップ側のアンテナ用
導体膜とから構成され、上記基材側の複数のアンテナ導
体膜と、上記チップ側の複数のアンテナ用導体膜をそれ
ぞれ接続してコイル状アンテナを構成するようにしたも
のである。かかる構成により、半導体ICチップのフェ
イスダウン接続により、アンテナとICチップの接続を
容易に行えるとともに、半導体ICチップに形成される
アンテナ用導体膜の幅を小さくでき、アンテナのターン
数を増やし得るものとなる。
In order to achieve the above object, the present invention provides a coil antenna, which is disposed so as to straddle the antenna, and which is connected to a start point and an end point of the antenna via connection terminals, respectively. In the electronic circuit board having the semiconductor IC chip formed, the coiled antenna is provided with a plurality of substrate-side antenna conductor films formed on the surface of a circuit substrate and the connection terminals of the semiconductor IC chip. A plurality of antenna conductor films on the chip side formed on a plurality of surfaces, and the plurality of antenna conductor films on the base material side and the plurality of antenna conductor films on the chip side are respectively connected to form a coiled antenna. Is constituted. With this configuration, the antenna and the IC chip can be easily connected by face-down connection of the semiconductor IC chip, and the width of the antenna conductor film formed on the semiconductor IC chip can be reduced, and the number of turns of the antenna can be increased. Becomes

【0007】また、上記目的を達成するために、本発明
は、電気絶縁性回路基材の表面に、一部が切断された形
状のコイル状アンテナ用導体膜の一部を形成し、半導体
ICチップの接続端子が形成される面に上記回路基材表
面に形成されるコイル状アンテナの切断部分に対応する
アンテナ用導体膜の一部を半導体膜形成工程により、上
記接続端子の形成と同時に形成し、上記回路基材に形成
されたアンテナ用導体膜の始点及び終点を、上記半導体
ICチップの接続端子に接続し、上記一部が切断された
コイル状アンテナ用導体膜の各端部を、上記半導体IC
チップに形成されたアンテナ用導体膜の各端部とを接続
して、コイル状アンテナを形成するようにしたものであ
る。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit device, comprising: forming a part of a coil-shaped antenna conductive film on a surface of an electrically insulating circuit substrate; Forming a part of the antenna conductor film corresponding to the cut portion of the coiled antenna formed on the surface of the circuit substrate on the surface of the chip where the connection terminals are formed, at the same time as the formation of the connection terminals by a semiconductor film formation step Then, the starting point and the ending point of the antenna conductor film formed on the circuit substrate are connected to the connection terminals of the semiconductor IC chip, and each end of the partially cut coil-shaped antenna conductor film is The above semiconductor IC
A coiled antenna is formed by connecting each end of an antenna conductor film formed on a chip.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図7を用いて、本発
明の一実施形態による電子回路基板及びその製造方法に
ついて説明する。最初に、図1を用いて、本実施形態に
よる電子回路基板の平面形状について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an electronic circuit board according to an embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same will be described with reference to FIGS. First, the planar shape of the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIG.

【0009】本実施形態による電子回路基板は、回路基
材10と、アンテナ用導体膜20と、半導体ICチップ
30とから構成されている。アンテナ用導体膜20は、
回路基材10の上に、スクリーン印刷により、所定のパ
ターンとなるように形成されている。なお、アンテナ用
導体膜20は、銅箔をエッチングして形成するようにし
てもよいものである。半導体ICチップ30は、アンテ
ナ用導体膜20の上に跨って配置されており、図7を用
いて後述するように、アンテナ用導体膜20の始点と終
点は、半導体ICチップ30の接続端子に直接接続され
ている。
The electronic circuit board according to the present embodiment includes a circuit substrate 10, a conductor film 20 for an antenna, and a semiconductor IC chip 30. The conductor film 20 for the antenna
It is formed on the circuit substrate 10 by screen printing so as to have a predetermined pattern. The antenna conductor film 20 may be formed by etching a copper foil. The semiconductor IC chip 30 is disposed over the antenna conductor film 20, and a start point and an end point of the antenna conductor film 20 are connected to connection terminals of the semiconductor IC chip 30 as described later with reference to FIG. 7. Directly connected.

【0010】ここで、図2を用いて、本実施形態による
電子回路基板におけるアンテナ用導体膜20のパターン
について説明する。回路基材10の上に形成されたアン
テナ用導体膜20は、導体膜20A,20B,20C,
20D,20E,20Fから構成されている。導体膜2
0A,…,20Fは、切断部22において切断されてお
り、互いに独立した6本の導体膜を構成している。
Here, the pattern of the antenna conductive film 20 in the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. The conductor film for antenna 20 formed on the circuit substrate 10 includes conductor films 20A, 20B, 20C,
20D, 20E, and 20F. Conductive film 2
.., 20F are cut at the cutting portion 22 to form six independent conductive films.

【0011】導体膜20Aの一方の端部は、切断部22
の方向に方向に折り曲げて形成されており、アンテナの
始点20sとなる。導体膜20Aの他方の端部は、切断
部22において、アンテナの中間点20c6となる。導
体膜20Bの両端部は、切断部22において、それぞ
れ、アンテナの中間点20c1,20c7となる。導体
膜20Cの両端部は、切断部22において、それぞれ、
アンテナの中間点20c2,20c8となる。導体膜2
0Dの両端部は、切断部22において、それぞれ、アン
テナの中間点20c3,20c9となる。導体膜20E
の両端部は、切断部22において、それぞれ、アンテナ
の中間点20c4,20c10となる。導体膜20Fの
一方の端部は、切断部22の方向に方向に折り曲げて形
成されており、アンテナの終点20eとなる。導体膜2
0Fの他方の端部は、切断部22において、アンテナの
中間点20c5となる。
One end of the conductor film 20A is
, And is formed as a starting point 20s of the antenna. The other end of the conductor film 20 </ b> A becomes the intermediate point 20 c 6 of the antenna at the cut portion 22. Both ends of the conductor film 20B become the intermediate points 20c1 and 20c7 of the antenna in the cut portion 22, respectively. Both ends of the conductor film 20C are cut at the cut portion 22, respectively.
The intermediate points 20c2 and 20c8 of the antenna are provided. Conductive film 2
Both ends of 0D are the intermediate points 20c3 and 20c9 of the antenna in the cutting section 22, respectively. Conductive film 20E
Are the midpoints 20c4 and 20c10 of the antenna in the cutting section 22, respectively. One end of the conductor film 20F is formed by being bent in the direction of the cut portion 22, and serves as an end point 20e of the antenna. Conductive film 2
The other end of OF becomes an intermediate point 20c5 of the antenna at the cutting section 22.

【0012】そして、図3を用いて後述するように、切
断部22の上に、半導体ICチップを載置することによ
り、中間点20c1と中間点20c6が接続され、中間
点20c2と中間点20c7が接続され、中間点20c
3と中間点20c8が接続され、中間点20c4と中間
点20c9が接続され、中間点20c5と中間点20c
10が接続される。これによって、アンテナ用導体膜2
0A,…,20Fは、連続した導体膜となり、かつ、螺
旋状に形成されることになるので、始点20sと終点2
0eを有する6ターンのアンテナ用コイルとなる。始点
20s及び終点20eは、それぞれ、図3を用いて後述
する半導体ICチップの接続端子に接続される。
Then, as will be described later with reference to FIG. 3, by mounting a semiconductor IC chip on the cut portion 22, the intermediate points 20c1 and 20c6 are connected, and the intermediate points 20c2 and 20c7 are connected. Are connected to the intermediate point 20c.
3, the intermediate point 20c8 is connected, the intermediate point 20c4 and the intermediate point 20c9 are connected, and the intermediate point 20c5 and the intermediate point 20c are connected.
10 is connected. Thereby, the conductor film 2 for the antenna is formed.
.., 20F are continuous conductor films and are formed in a spiral shape.
It becomes a 6-turn antenna coil having 0e. The start point 20s and the end point 20e are respectively connected to connection terminals of a semiconductor IC chip described later with reference to FIG.

【0013】ここで、回路基材10としては、ポリエス
テル等の有機高分子材料からなるフィルム,例えば、ポ
リエステルフィルムを使用し、その厚さは、0.12m
mである。アンテナ用導体膜20は、回路基材10の上
に、銀(Ag)粉末からなる導体ペーストをスクリーン
印刷した後、乾燥することにより形成される。各導体膜
20A,…,20Fの幅を200μmとし、導体膜20
A,…,20Fの間の隙間を200μmとすると、導体
膜20Aの外周端から導体膜20Fの内周端までの幅L
1は、2.2mmである。また、導体膜20Aの始点2
0sと導体膜20Fの終点20eの間の距離L2は、1
mmとしている。
Here, a film made of an organic polymer material such as polyester, for example, a polyester film is used as the circuit substrate 10, and its thickness is 0.12 m.
m. The antenna conductor film 20 is formed by screen-printing a conductor paste made of silver (Ag) powder on the circuit substrate 10 and then drying it. The width of each of the conductor films 20A,.
If the gap between A,..., 20F is 200 μm, the width L from the outer peripheral end of the conductor film 20A to the inner peripheral end of the conductor film 20F is L.
1 is 2.2 mm. Also, the starting point 2 of the conductor film 20A
0s and the end point 20e of the conductive film 20F are 1
mm.

【0014】次に、図3を用いて、本実施形態による電
子回路基板に用いる半導体ICチップ上に形成される導
体膜の形状について説明する。図3は、本実施形態によ
る半導体ICチップの接続端子の形成面側に形成される
導体膜の形状を示している。
Next, the shape of the conductor film formed on the semiconductor IC chip used for the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 3 shows the shape of the conductor film formed on the surface on which the connection terminals of the semiconductor IC chip according to the present embodiment are formed.

【0015】半導体ICチップ30は、一辺の長さL3
が2mmの正方形状である。なお、図3においては、図
1及び図2に対して拡大して図示している。半導体IC
チップ30の接続面には、2個の接続端子31S,31
Eと、5本のアンテナ用導体膜32U,32V,32
W,32X,32Yが形成されている。
The semiconductor IC chip 30 has a side length L3
Is a 2 mm square shape. Note that FIG. 3 is an enlarged view of FIGS. 1 and 2. Semiconductor IC
On the connection surface of the chip 30, two connection terminals 31S, 31
E and five antenna conductor films 32U, 32V, 32
W, 32X, and 32Y are formed.

【0016】接続端子31S,31Eは、60μm角で
あり、両者の間の距離L4は、1mmである。アンテナ
用導体膜32U,32V,32W,32X,32Yは、
それぞれ、両端部32U1,32U2,…,32Y1,
32Y2は、幅が200μmであり、図2に示したアン
テナ用導体膜20A,…,20Fの幅と等しくしてい
る。しかしながら、接続端子31Sと接続端子31Eに
よって挟まれている中央部では、両端部に比べて幅が狭
くなっており、50μmとなっている。また、中央部で
は、導体膜32U,…,32Yの間の隙間の幅は、50
μmである。従って、接続端子31Sと接続端子31E
の間の隙間(幅1mm)の間に、5本のアンテナ用導体
膜32U,…,32Yを十分に配置することができる。
接続端子31S,31E及びアンテナ用導体膜32U,
…,32Yは、後述するように、半導体膜形成工程によ
り、同一工程によって、金(Au)めっきにより形成さ
れる。また、半導体膜形成工程を用いることにより、ア
ンテナ用導体膜32の線幅を細くすることができる。
The connection terminals 31S and 31E are 60 μm square, and the distance L4 between them is 1 mm. The conductor films 32U, 32V, 32W, 32X, 32Y for the antenna
32Y1, 32U1, 32U1,.
32Y2 has a width of 200 μm and is equal to the width of the antenna conductor films 20A,..., 20F shown in FIG. However, the width at the center between the connection terminals 31S and 31E is smaller than that at both ends, and is 50 μm. In the central part, the width of the gap between the conductor films 32U,.
μm. Therefore, the connection terminals 31S and 31E
, 32Y can be sufficiently arranged between the gaps (width 1 mm).
Connection terminals 31S, 31E and antenna conductive film 32U,
, 32Y are formed by gold (Au) plating in the same step in the semiconductor film forming step as described later. Further, by using the semiconductor film forming step, the line width of the conductor film 32 for the antenna can be reduced.

【0017】図3に示した半導体ICチップ30の接続
端子31S,31Eが形成されている面を下向きにし
て、即ち、フェイスダウンして、図2に示したアンテナ
用導体膜20の切断部22の上に搭載する。このとき、
半導体ICチップ30の接続端子31Sが、アンテナ用
導体膜20Aの始点20sと一致し、半導体ICチップ
30の接続端子31Eが、アンテナ用導体膜20Fの終
点20eと一致するようにして接続する。このとき、半
導体ICチップ30のアンテナ用導体膜32Uの両端部
32U1,32U2が、それぞれ、アンテナ用導体膜2
0Bの中間点20c1とアンテナ用導体膜20Aの中間
点20c6に一致して接続される。同様にして、アンテ
ナ用導体膜32Vの両端部32V1,32V2が、それ
ぞれ、アンテナ用導体膜20Cの中間点20c2とアン
テナ用導体膜20Bの中間点20c7に一致して接続さ
れる。また、アンテナ用導体膜32Wの両端部32W
1,32W2が、それぞれ、アンテナ用導体膜20Dの
中間点20c3とアンテナ用導体膜20Cの中間点20
c8に一致して接続される。さらに、アンテナ用導体膜
32Xの両端部32X1,32X2が、それぞれ、アン
テナ用導体膜20Eの中間点20c4とアンテナ用導体
膜20Dの中間点20c9に一致して接続される。ま
た、さらに、アンテナ用導体膜32Yの両端部32Y
1,32Y2が、それぞれ、アンテナ用導体膜20Fの
中間点20c5とアンテナ用導体膜20Eの中間点20
c10に一致して接続される。
The surface on which the connection terminals 31S and 31E of the semiconductor IC chip 30 shown in FIG. 3 are formed faces downward, that is, faces down, and the cut portion 22 of the antenna conductive film 20 shown in FIG. Mount on top. At this time,
The connection is performed such that the connection terminal 31S of the semiconductor IC chip 30 matches the start point 20s of the antenna conductor film 20A, and the connection terminal 31E of the semiconductor IC chip 30 matches the end point 20e of the antenna conductor film 20F. At this time, both ends 32U1 and 32U2 of the antenna conductor film 32U of the semiconductor IC chip 30 are respectively connected to the antenna conductor film 2U.
0B and the middle point 20c6 of the antenna conductor film 20A. Similarly, both ends 32V1 and 32V2 of the conductor film 32V for the antenna are connected to the middle point 20c2 of the conductor film 20C for the antenna and the middle point 20c7 of the conductor film 20B for the antenna, respectively. Further, both ends 32W of the conductor film 32W for the antenna.
The intermediate point 20c3 of the antenna conductive film 20D and the intermediate point 20c3 of the antenna conductive film 20C are respectively denoted by 1, 32W2.
Connected in accordance with c8. Furthermore, both ends 32X1 and 32X2 of the conductor film 32X for the antenna are connected to coincide with the middle point 20c4 of the conductor film 20E for the antenna and the middle point 20c9 of the conductor film 20D for the antenna, respectively. Further, both ends 32Y of the conductor film 32Y for the antenna.
1, 32Y2 are the intermediate point 20c5 of the antenna conductive film 20F and the intermediate point 20c of the antenna conductive film 20E, respectively.
Connected in accordance with c10.

【0018】このようにして、アンテナ用導体膜20
A,アンテナ用導体膜32U,アンテナ用導体膜20
B,アンテナ用導体膜32V,アンテナ用導体膜20
C,アンテナ用導体膜32W,アンテナ用導体膜20
D,アンテナ用導体膜32X,アンテナ用導体膜20
E,アンテナ用導体膜32Y,アンテナ用導体膜20F
が、連続的に接続されることとなり、6ターンのアンテ
ナ用コイルが形成される。
Thus, the antenna conductor film 20 is formed.
A, antenna conductor film 32U, antenna conductor film 20
B, antenna conductor film 32V, antenna conductor film 20
C, conductor film 32W for antenna, conductor film 20 for antenna
D, antenna conductor film 32X, antenna conductor film 20
E, antenna conductive film 32Y, antenna conductive film 20F
Are connected continuously, and a six-turn antenna coil is formed.

【0019】次に、図4を用いて、本実施形態による電
子回路基板に用いる半導体ICチップ上に形成される接
続端子及び導体膜の構成について説明する。半導体IC
チップの基材33の上には、回路膜34が形成される。
回路膜34のうえには、半導体ICチップの電気的絶縁
保護膜35が形成される。保護膜35の一部は開口して
おり、回路膜34がパンプ形成用導体膜36を介して、
接続端子31に接続される。また、保護膜35の上に
は、バンプ形成用導体膜36を介して、半導体膜形成工
程により、アンテナ用導体膜32が形成される。
Next, the configuration of the connection terminals and the conductor film formed on the semiconductor IC chip used for the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. Semiconductor IC
A circuit film 34 is formed on the base material 33 of the chip.
On the circuit film 34, an electrical insulating protection film 35 of a semiconductor IC chip is formed. A part of the protective film 35 is opened, and the circuit film 34 is opened via the pump forming conductor film 36.
Connected to connection terminal 31. On the protective film 35, the antenna conductor film 32 is formed by a semiconductor film formation process via the bump formation conductor film 36.

【0020】次に、図5及び図6を用いて、本実施形態
による電子回路基板の製造方法について説明する。図5
は、本発明の一実施形態による電子回路基板の製造方法
の工程を示すプロセスフロー図であり、図6は、本発明
の一実施形態による電子回路基板の製造方法の各工程に
おけるチップ断面図である。
Next, the method for fabricating the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIGS. FIG.
FIG. 6 is a process flow chart showing steps of a method of manufacturing an electronic circuit board according to one embodiment of the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view of a chip in each step of the method of manufacturing an electronic circuit board according to one embodiment of the present invention. is there.

【0021】図5に示すように、電子回路基板の製造方
法は、半導体ICチップの製造工程と、電子回路基板の
製造工程からなり、最初に、半導体ICチップの製造工
程について説明する。図5のプロセスP100におい
て、半導体ICの回路膜を形成する。なお、この際、回
路膜の上には、無機保護膜を形成すると共に、アンテナ
用導体膜と接続するために用いられる接続端子部には、
開口を形成する。即ち、図6(A)に示すように、シリ
コンウェハ等の回路基材33の上に、回路膜34を形成
する。なお、回路膜34の成膜の詳細については、省略
する。
As shown in FIG. 5, the method of manufacturing an electronic circuit board includes a semiconductor IC chip manufacturing step and an electronic circuit board manufacturing step. First, the semiconductor IC chip manufacturing step will be described. In a process P100 of FIG. 5, a circuit film of a semiconductor IC is formed. At this time, an inorganic protective film is formed on the circuit film, and a connection terminal portion used for connecting to the conductor film for the antenna includes:
Form an opening. That is, as shown in FIG. 6A, a circuit film 34 is formed on a circuit substrate 33 such as a silicon wafer. The details of the formation of the circuit film 34 are omitted.

【0022】次に、プロセスP110において、図6
(B)に示すように、回路膜34の上に、電気絶縁保護
膜35を形成する。電気絶縁保護膜35としては、例え
ば、ポリイミド系のものを用いる。そして、アンテナ用
導体膜と接続するために用いられる接続端子部には、開
口35Aを形成する。次に、プロセスP122におい
て、図6(C)に示すように、電気絶縁保護膜35及び
その開口部35Aの全面に、接続端子及びアンテナ導体
膜をめっきにより形成するためのめっき用導電膜36を
形成する。めっき用導電膜36としては、例えば、Ti
/Pd等の厚さ約0.5μmの薄膜をスパッタリングに
より形成する。
Next, in process P110, FIG.
As shown in (B), an electric insulating protection film 35 is formed on the circuit film 34. As the electric insulating protection film 35, for example, a polyimide-based film is used. An opening 35A is formed in a connection terminal used for connection with the antenna conductor film. Next, in a process P122, as shown in FIG. 6C, a plating conductive film 36 for forming a connection terminal and an antenna conductor film by plating is formed on the entire surface of the electric insulating protective film 35 and the opening 35A thereof. Form. As the conductive film for plating 36, for example, Ti
A thin film having a thickness of about 0.5 μm such as / Pd is formed by sputtering.

【0023】次に、プロセスP124において、図6
(C)に示すように、めっき用導電膜36の全面に、め
っき用レジスト材を塗布し、仮硬化する。そして、図3
に示した接続端子31とアンテナ用導電膜32を形成す
るための開口を有するホトマスクを介して、レジスト膜
を露光・現像し、パターニングされためっきレジスト膜
41を形成する。めっきレジスト膜41には、接続端子
形成用の開口41Aと、アンテナ用導電膜形成用の開口
41Bが形成されている。なお、接続端子形成用の開口
41Aは2カ所形成され、アンテナ用導電膜形成用の開
口41Bは5カ所形成されるものであるが、ここでは、
それぞれ、1カ所づつ図示している。
Next, in process P124, FIG.
As shown in (C), a plating resist material is applied on the entire surface of the conductive film for plating 36 and is temporarily cured. And FIG.
The resist film is exposed and developed through a photomask having an opening for forming the connection terminal 31 and the conductive film 32 for the antenna shown in (1) to form a patterned plating resist film 41. The plating resist film 41 has an opening 41A for forming a connection terminal and an opening 41B for forming a conductive film for an antenna. The opening 41A for forming the connection terminal is formed in two places, and the opening 41B for forming the conductive film for the antenna is formed in five places.
Each is shown one by one.

【0024】次に、プロセスP130において、図6
(D)に示すように、めっき用導電膜36を電極とし
て、Au電気めっき槽に浸漬して、開口部41A,41
Bの上に、厚さ約20μmのAuめっき膜31A,32
Aを、めっき用導電膜36の上に電着析出させる。次
に、プロセスP140において、図6(D)に示す状態
において、めっきレジスト膜41を溶解除去して、図6
(E)に示すように、接続端子31とアンテナ用導電膜
32を形成する。
Next, in process P130, FIG.
As shown in (D), the conductive films for plating 36 were used as electrodes to be immersed in an Au electroplating bath to form openings 41A and 41A.
B, Au plating films 31A and 32 having a thickness of about 20 μm.
A is electrodeposited and deposited on the conductive film 36 for plating. Next, in a process P140, the plating resist film 41 is dissolved and removed in the state shown in FIG.
As shown in (E), a connection terminal 31 and a conductive film 32 for an antenna are formed.

【0025】次に、プロセスP150において、図6
(E)に示す状態において、めっき用導電膜36を溶解
除去して、図6(F)に示すように、接続端子31とア
ンテナ用導電膜32以外の部分は、電気絶縁保護膜35
を露出させる。次に、プロセスP160において、半導
体ウェハを切断して、図4に示した半導体ICチップを
形成する。
Next, in process P150, FIG.
In the state shown in (E), the conductive film for plating 36 is dissolved and removed, and as shown in FIG. 6 (F), portions other than the connection terminal 31 and the conductive film for antenna 32 are electrically insulated and protected.
To expose. Next, in process P160, the semiconductor wafer is cut to form the semiconductor IC chip shown in FIG.

【0026】以上の工程により、接続用端子及びアンテ
ナ膜が形成された半導体ICチップを製造することがで
きる。ここで、図6(A)〜(F)の各工程は、いずれ
も、接続端子31を形成するために従来から用いられて
いた工程であり、本実施形態のように、アンテナ膜32
を半導体ICチップに形成する場合でも、工程に変更は
ないものである。ただ、図6(C)に示す工程で用いる
ホトマスクの開口パターンを、接続端子のみを形成する
ものから、接続端子とアンテナ膜を形成するものに変更
するのみで、半導体膜形成工程により、接続端子の形成
と同時に、アンテナ膜を形成することができる。
Through the above steps, a semiconductor IC chip on which connection terminals and an antenna film are formed can be manufactured. Here, each of the steps of FIGS. 6A to 6F is a step that has been conventionally used for forming the connection terminal 31, and as in the present embodiment, the antenna film 32
Is formed on a semiconductor IC chip, there is no change in the process. The only difference is that the opening pattern of the photomask used in the step shown in FIG. 6C is changed from one in which only the connection terminal is formed to one in which the connection terminal and the antenna film are formed. Can be formed simultaneously with the formation of the antenna film.

【0027】また、接続端子31及びアンテナ膜32
は、めっきにより形成しているため、Cu箔をエッチン
グする場合に比べて、線幅を狭くすることができる。具
体的には、図4に示す例において、接続端子31の一辺
の長さL5は、60μmとして、接続端子31は、正方
形状としている。アンテナ膜32の幅L7は50μmと
しているが、めっきによる膜形成の場合には、現状の技
術では、線幅L7を10μmまで狭くすることができ
る。また、膜と膜の間の隙間の距離,例えば、接続端子
31同士の間の距離は50μmであり、また、接続端子
31とアンテナ膜32の間の距離L6は225μmであ
るが、これは、50μm以下、例えば、10μmまで狭
くすることができる。
The connection terminal 31 and the antenna film 32
Is formed by plating, so that the line width can be reduced as compared with the case where Cu foil is etched. Specifically, in the example shown in FIG. 4, the length L5 of one side of the connection terminal 31 is set to 60 μm, and the connection terminal 31 has a square shape. Although the width L7 of the antenna film 32 is set to 50 μm, in the case of forming a film by plating, the line width L7 can be reduced to 10 μm with the current technology. The distance of the gap between the films, for example, the distance between the connection terminals 31 is 50 μm, and the distance L6 between the connection terminals 31 and the antenna film 32 is 225 μm. It can be as narrow as 50 μm or less, for example up to 10 μm.

【0028】次に、図5のプロセスP200〜P230
及び図7を用いて、本実施形態による電子回路基板の製
造工程について説明する。図7は、本実施形態による電
子回路基板の部分断面図であり、図7(A)は、図1の
J−J拡大断面を示しており、図7(B)は、図1のK
−K拡大断面を示している。
Next, processes P200 to P230 in FIG.
The steps of manufacturing the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIGS. FIG. 7 is a partial cross-sectional view of the electronic circuit board according to the present embodiment. FIG. 7A shows an JJ enlarged cross section of FIG. 1, and FIG.
The -K enlargement cross section is shown.

【0029】最初に、プロセスP200において、ポリ
エステルフィルムからなる回路基材10の上に、スクリ
ーン印刷により、Ag粉末からなる導電ペーストを印刷
し、乾燥させて、図2に示したコイル状のアンテナ膜2
0のパターンを形成する。アンテナ膜20は、切断部2
2を有する6本の独立した線状の導電膜である。次に、
プロセスP210において、半導体ICチップの搭載
部,即ち、図2に示したアンテナ膜20の切断部22を
覆うように、異方性導電接着膜を塗布する。
First, in a process P200, a conductive paste made of Ag powder is printed on the circuit substrate 10 made of a polyester film by screen printing and dried, and the coiled antenna film shown in FIG. 2
A pattern of 0 is formed. The antenna film 20 has a cutting portion 2
2 and 6 independent linear conductive films. next,
In process P210, an anisotropic conductive adhesive film is applied so as to cover the mounting portion of the semiconductor IC chip, that is, the cut portion 22 of the antenna film 20 shown in FIG.

【0030】次に、プロセスP220において、異方性
導電接着膜の上に、半導体ICチップを搭載する。この
とき、図7(A)に示すように、アンテナ膜の中間点2
0c1,…,20c5の上に、異方性導電接着膜50を
介して、半導体ICチップ30のアンテナ用導体膜32
U,32V,32W,32X,32Yの端部32U1,
…,32Y1が載置されるように位置決めされ、また、
図7(B)に示すように、アンテナ膜の始点20s及び
終点20eの上に、異方性導電接着膜50を介して、半
導体ICチップ30の接続端子31S,31Eが載置さ
れるように位置決めされる。
Next, in process P220, a semiconductor IC chip is mounted on the anisotropic conductive adhesive film. At this time, as shown in FIG.
, 20c5, via the anisotropic conductive adhesive film 50, the antenna conductor film 32 of the semiconductor IC chip 30.
U, 32V, 32W, 32X, 32Y end 32U1,
..., 32Y1 are positioned so as to be placed, and
As shown in FIG. 7B, the connection terminals 31S and 31E of the semiconductor IC chip 30 are mounted on the start point 20s and the end point 20e of the antenna film via the anisotropic conductive adhesive film 50. Positioned.

【0031】次に、プロセスP230において、回路基
材10と半導体ICチップ30を加熱圧着して、半導体
ICチップ30の接続端子31を、回路基材10に形成
されたアンテナ導体膜の始点及び終点をそれぞれ電気的
に接続するとともに、半導体ICチップ30に形成され
たアンテナ導体膜32を、回路基材10に形成されたア
ンテナ導体膜20に電気的に接続する。
Next, in process P230, the circuit substrate 10 and the semiconductor IC chip 30 are heated and pressed to connect the connection terminals 31 of the semiconductor IC chip 30 to the starting point and the ending point of the antenna conductor film formed on the circuit substrate 10. Are electrically connected to each other, and the antenna conductor film 32 formed on the semiconductor IC chip 30 is electrically connected to the antenna conductor film 20 formed on the circuit substrate 10.

【0032】このようにして、回路基板材面に形成した
アンテナ用導体膜と半導体ICチップ表面に形成したア
ンテナ用導体膜により、アンテナ膜がコイル状に形成さ
れるとともに、アンテナの始点と終点とが半導体ICチ
ップの回路端子に接続されて電子回路が形成される。
In this way, the antenna film formed on the surface of the circuit board material and the antenna conductor film formed on the surface of the semiconductor IC chip form the antenna film in a coil shape, and the start and end points of the antenna are determined. Are connected to circuit terminals of a semiconductor IC chip to form an electronic circuit.

【0033】以上により作製した電子回路基板は、回路
基材への1回の印刷膜形成と 従来の工程による半導体
ICチップの作製、及び半導体ICチップとアンテナ用
導体印刷膜の加熱圧着による簡便な構成で作製できるよ
うになり、従来より安価な電子回路基板を提供できるよ
うになる。
The electronic circuit board manufactured as described above can be easily formed by forming a printed film on a circuit substrate once, manufacturing a semiconductor IC chip by a conventional process, and heat-pressing the semiconductor IC chip and a conductor printed film for an antenna. With this configuration, an electronic circuit board that is less expensive than the conventional one can be provided.

【0034】なお、以上の説明おいては、回路基材の表
面のアンテナ用導体膜をAgペーストの印刷膜により形
成したが、Ag粉末以外の金属粉末から成る導体ペース
トの印刷膜や、CuやAl等金属箔のエッチングによる
アンテナ用導体膜のパターニングや、CuやNi等の金
属の選択的めっきによるパターニングや、あるいは薄膜
形成工程によるAl等の金属薄膜パターニングにより形
成するものでもよいものである。また、半導体ICチッ
プの表面に形成する端子及びアンテナ用導体膜として、
Auめっき膜を用いたが、Ni,Al,Snあるいはは
んだ等の金属膜による形成してもよいものである。な
お、本実施形態によるアンテナ膜の構成では、回路基材
上に形成するアンテナ膜の始点と終点の距離がチップサ
イズ以下、より厳密には半導体ICチップの表面に形成
できるアンテナの始点と終点に接続する半導体IC回路
に接続される端子の間隔以下であるよう、アンテナ特性
の要求を鑑みて、アンテナ用導体膜の幅と間隔及び巻き
線数が設計できるものである。
In the above description, the conductor film for the antenna on the surface of the circuit substrate is formed by a printed film of Ag paste. However, a printed film of a conductor paste made of a metal powder other than Ag powder, It may be formed by patterning a conductor film for an antenna by etching a metal foil such as Al, patterning by selective plating of a metal such as Cu or Ni, or patterning a thin metal film such as Al by a thin film forming step. Further, as a terminal formed on the surface of the semiconductor IC chip and a conductor film for the antenna,
Although the Au plating film is used, it may be formed by a metal film such as Ni, Al, Sn or solder. In the configuration of the antenna film according to the present embodiment, the distance between the start point and the end point of the antenna film formed on the circuit substrate is equal to or smaller than the chip size, more strictly, the start point and the end point of the antenna that can be formed on the surface of the semiconductor IC chip. The width, the interval, and the number of windings of the antenna conductive film can be designed in consideration of the requirements of the antenna characteristics so that the interval is equal to or less than the interval between the terminals connected to the semiconductor IC circuit to be connected.

【0035】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、アンテナとICチップの接続を容易に行えるととも
に、アンテナのターン数を増やすことができる。
As described above, according to the present embodiment, the connection between the antenna and the IC chip can be easily performed, and the number of turns of the antenna can be increased.

【0036】次に、図8を用いて、本実施形態による電
子回路基板を用いた非接触型ICカードの構成について
説明する。なお、図1〜図4と同一符号は同一部分を示
している。図8は、本発明の一実施形態による電子回路
基板を用いた非接触型ICカードの構成を示す断面図で
ある。
Next, the configuration of the non-contact type IC card using the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. 1 to 4 indicate the same parts. FIG. 8 is a cross-sectional view showing a configuration of a non-contact type IC card using an electronic circuit board according to one embodiment of the present invention.

【0037】図1〜図7において説明した製造方法によ
り、厚さ0.12mmのポリエステルフィルムからなる
回路基材10の上に、コイル状のアンテナ膜20を形成
する。アンテナ膜20の中間点20cに、半導体ICチ
ップ30に形成されたアンテナ膜32が接続されるよう
に、アンテナ膜20の上に異方性導電接着膜50を介し
て半導体ICチップ30を接着する。
A coil-shaped antenna film 20 is formed on a circuit substrate 10 made of a polyester film having a thickness of 0.12 mm by the manufacturing method described with reference to FIGS. The semiconductor IC chip 30 is bonded via an anisotropic conductive adhesive film 50 on the antenna film 20 such that the antenna film 32 formed on the semiconductor IC chip 30 is connected to the intermediate point 20c of the antenna film 20. .

【0038】次に、アンテナ印刷膜20と半導体ICチ
ップ30とを備えた回路基板に、ポリエステル系接着剤
からなる中間材60を用いて、厚さ0.12mmのポリ
エステルフィルムからなる表面フィルム70を貼り付
け、厚さ0.5mmの非接触型ICカードを構成する。
Next, a surface film 70 made of a polyester film having a thickness of 0.12 mm is formed on a circuit board provided with the antenna printed film 20 and the semiconductor IC chip 30 by using an intermediate material 60 made of a polyester-based adhesive. A non-contact type IC card having an attached thickness of 0.5 mm is formed.

【0039】以上のように、本実施形態による電子回路
基板を用いることにより、アンテナとICチップの接続
を容易に行えるとともに、アンテナのターン数を増やす
ことができ、非接触型ICカードの性能を向上すること
ができる。
As described above, by using the electronic circuit board according to the present embodiment, the antenna and the IC chip can be easily connected, the number of turns of the antenna can be increased, and the performance of the non-contact type IC card can be improved. Can be improved.

【0040】次に、図9〜図11を用いて、本発明の他
の実施形態による電子回路基板及びその製造方法につい
て説明する。なお、図1〜図3と同一符号は同一部分を
示している。最初に、図9を用いて、本実施形態による
電子回路基板の平面形状について説明する。
Next, an electronic circuit board and a method of manufacturing the same according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same reference numerals as those in FIGS. 1 to 3 indicate the same parts. First, the planar shape of the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIG.

【0041】本実施形態による電子回路基板は、回路基
材10’と、アンテナ用導体膜20’と、半導体ICチ
ップ30’とから構成されている。回路基材10’は、
厚さ0.3mmのガラスエポキシ板である。アンテナ用
導体膜20’は、回路基材10’の上に、厚さ0.02
3mmのCu箔のエッチングにより、所定のパターンと
なるように形成されている。半導体ICチップ30’
は、アンテナ用導体膜20’の上に跨って配置されてお
り、アンテナ用導体膜20’の始点と終点は、半導体I
Cチップ30’の接続端子に直接接続されている。半導
体ICチップ30’の大きさは、一辺が1.5mmの正
方形であり、接続端子間の距離は、1.3mmである。
The electronic circuit board according to the present embodiment includes a circuit substrate 10 ', a conductor film 20' for an antenna, and a semiconductor IC chip 30 '. The circuit substrate 10 ′
It is a 0.3 mm thick glass epoxy plate. The antenna conductor film 20 ′ has a thickness of 0.02 mm on the circuit substrate 10 ′.
It is formed so as to have a predetermined pattern by etching a 3 mm Cu foil. Semiconductor IC chip 30 '
Are disposed over the antenna conductor film 20 ′, and the start and end points of the antenna conductor film 20 ′ are
It is directly connected to the connection terminal of the C chip 30 '. The size of the semiconductor IC chip 30 'is a square having a side of 1.5 mm, and the distance between the connection terminals is 1.3 mm.

【0042】ここで、図10を用いて、本実施形態によ
る電子回路基板におけるアンテナ用導体膜20’のパタ
ーンについて説明する。回路基材10’の上に形成され
たアンテナ用導体膜20’は、導体膜20A’,20
B’,20C’,20D’,20E’,20F’から構
成されている。導体膜20A’,…,20F’は、切断
部22’において切断されており、互いに独立した6本
の導体膜を構成している。
Here, the pattern of the antenna conductive film 20 'in the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. The conductor film for antenna 20 ′ formed on the circuit substrate 10 ′ is made of a conductor film 20 A ′, 20.
B ', 20C', 20D ', 20E', and 20F '. The conductor films 20A ′,..., 20F ′ are cut at the cut portions 22 ′, and constitute six independent conductor films.

【0043】ここで、回路基材10としては、厚さ0.
3mmのガラスエポキシ板を用いている。アンテナ用導
体膜20’は、回路基材10’の上に、厚さ0.023
mmのCu箔のエッチングにより、所定のパターンとな
るように形成されている。各導体膜20A’,…,20
F’の幅を100μmとし、導体膜20A’,…,20
F’の間の隙間を100μmである。
Here, the circuit substrate 10 has a thickness of 0.1 mm.
A 3 mm glass epoxy plate is used. The antenna conductor film 20 ′ has a thickness of 0.023 on the circuit substrate 10 ′.
It is formed so as to have a predetermined pattern by etching the Cu foil of mm. Each of the conductor films 20A ',..., 20
The width of F ′ is 100 μm, and the conductor films 20A ′,.
The gap between F ′ is 100 μm.

【0044】導体膜20A’の始点20s’は、図2に
示したものと異なり、中間点20c1’,…,20c
5’と同じ形状となっている。また、導体膜20A’の
終点20e’は、中間点20c6’,…,20c10’
と同じ形状となっている。その他の中間点20c1’,
…,20c10’の形状は、図2に示したものと同様で
ある。半導体ICチップ30’の接続端子間の距離が、
アンテナ用導体膜20’の全体の幅と同程度のときに
は、図2に示したように、始点及び終点を、切断部の方
に折り曲げるパターンとすることは必要ないものであ
る。
The starting point 20s' of the conductor film 20A 'is different from that shown in FIG. 2 in that the intermediate points 20c1',.
It has the same shape as 5 '. The end point 20e 'of the conductor film 20A' is located at the intermediate point 20c6 ', ..., 20c10'.
It has the same shape as. Other intermediate points 20c1 ',
, 20c10 'are the same as those shown in FIG. The distance between the connection terminals of the semiconductor IC chip 30 'is
When the entire width of the antenna conductor film 20 'is almost the same, it is not necessary to form a pattern in which the start point and the end point are bent toward the cut portion as shown in FIG.

【0045】次に、図11を用いて、本実施形態による
電子回路基板に用いる半導体ICチップ上に形成される
導体膜の形状について説明する。図11は、本実施形態
による半導体ICチップの接続端子の形成面側に形成さ
れる導体膜の形状を示している。
Next, the shape of the conductor film formed on the semiconductor IC chip used for the electronic circuit board according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 11 shows the shape of the conductor film formed on the surface on which the connection terminals of the semiconductor IC chip according to the present embodiment are formed.

【0046】半導体ICチップ30’は、一辺の長さが
1.5mmの正方形状である。半導体ICチップ30’
の接続面には、2個の接続端子31S’,31E’と、
5本のアンテナ用導体膜32U’,32V’,32
W’,32X’,32Y’が形成されている。
The semiconductor IC chip 30 'has a square shape with one side length of 1.5 mm. Semiconductor IC chip 30 '
The two connection terminals 31S 'and 31E'
Five antenna conductor films 32U ', 32V', 32
W ', 32X', and 32Y 'are formed.

【0047】接続端子31S’,31E’は、60μm
角である。アンテナ用導体膜32U’,32V’,32
W’,32X’,32Y’は、それぞれ、両端部32U
1,32U2,…,32Y1,32Y2は、幅が100
μmであり、図10に示したアンテナ用導体膜20
A’,…,20F’の幅と等しくしている。しかしなが
ら、中央部では、両端部に比べて幅が狭くなっており、
50μmとなっている。また、中央部では、導体膜32
U’,…,32Y’の間の隙間の幅は、50μmであ
る。接続端子31S’,31E’及びアンテナ用導体膜
32U’,…,32Y’は、前述したように、同一工程
によって、金(Au)めっきにより形成される。
The connection terminals 31S 'and 31E' are 60 μm
Is the corner. Antenna conductor films 32U ', 32V', 32
W ', 32X', 32Y 'are both ends 32U.
, 32Y1, 32Y2 have a width of 100
μm, and the antenna conductor film 20 shown in FIG.
A ', ..., 20F'. However, at the center, the width is smaller than at both ends,
It is 50 μm. In the central part, the conductive film 32
The width of the gap between U ′,..., 32Y ′ is 50 μm. The connection terminals 31S ', 31E' and the conductor films 32U ',..., 32Y' for the antenna are formed by gold (Au) plating in the same step as described above.

【0048】図11に示した半導体ICチップ30’の
接続端子31S’,31E’が形成されている面を下向
きにして、即ち、フェイスダウンして、図10に示した
アンテナ用導体膜20’の切断部22’の上に搭載す
る。このとき、半導体ICチップ30’の接続端子31
S’が、アンテナ用導体膜20A’の始点20s’と一
致し、半導体ICチップ30’の接続端子31E’が、
アンテナ用導体膜20F’の終点20e’と一致するよ
うにして、異方性導電接着剤により接続される。そし
て、半導体ICチップ30’のアンテナ用導体膜32
U’の両端部32U1’,32U2’が、それぞれ、ア
ンテナ用導体膜20B’の中間点20c1’とアンテナ
用導体膜20A’の中間点20c6’に一致して接続さ
れる。同様にして、アンテナ用導体膜32V’の両端部
32V1’,32V2’が、それぞれ、アンテナ用導体
膜20C’の中間点20c2’とアンテナ用導体膜20
B’の中間点20c7’に一致して接続される。また、
アンテナ用導体膜32W’の両端部32W1’,32W
2’が、それぞれ、アンテナ用導体膜20D’の中間点
20c3’とアンテナ用導体膜20C’の中間点20c
8’に一致して接続される。さらに、アンテナ用導体膜
32X’の両端部32X1’,32X2’が、それぞ
れ、アンテナ用導体膜20E’の中間点20c4’とア
ンテナ用導体膜20D’の中間点20c9’に一致して
接続される。また、さらに、アンテナ用導体膜32Y’
の両端部32Y1’,32Y2’が、それぞれ、アンテ
ナ用導体膜20F’の中間点20c5’とアンテナ用導
体膜20E’の中間点20c10’に一致して接続され
る。
The surface on which the connection terminals 31S 'and 31E' of the semiconductor IC chip 30 'shown in FIG. 11 are formed faces downward, that is, faces down, so that the antenna conductor film 20' shown in FIG. Is mounted on the cutting portion 22 'of the above. At this time, the connection terminals 31 of the semiconductor IC chip 30 '
S ′ coincides with the starting point 20s ′ of the antenna conductor film 20A ′, and the connection terminal 31E ′ of the semiconductor IC chip 30 ′
The connection is made by an anisotropic conductive adhesive so as to coincide with the end point 20e 'of the antenna conductor film 20F'. Then, the antenna conductor film 32 of the semiconductor IC chip 30 '
Both ends 32U1 'and 32U2' of U 'are connected to and coincide with the middle point 20c1' of the antenna conductor film 20B 'and the middle point 20c6' of the antenna conductor film 20A ', respectively. Similarly, both ends 32V1 'and 32V2' of the antenna conductor film 32V 'are respectively located at the midpoint 20c2' of the antenna conductor film 20C 'and the antenna conductor film 20C'.
It is connected to the middle point 20c7 'of B'. Also,
Both ends 32W1 ', 32W of conductor film 32W' for antenna
2 ′ is an intermediate point 20c of the antenna conductive film 20D ′ and an intermediate point 20c of the antenna conductive film 20C ′, respectively.
8 'is connected. Furthermore, both ends 32X1 'and 32X2' of the conductor film 32X 'for the antenna are connected to coincide with the middle point 20c4' of the conductor film 20E 'and the middle point 20c9' of the conductor film 20D '. . Further, the antenna conductor film 32Y 'is further provided.
The ends 32Y1 'and 32Y2' of the antenna conductor film 20F 'are connected to the intermediate point 20c5' of the antenna conductor film 20F 'and the intermediate point 20c10' of the antenna conductor film 20E ', respectively.

【0049】このようにして、アンテナ用導体膜20
A’,アンテナ用導体膜32U’,アンテナ用導体膜2
0B’,アンテナ用導体膜32V’,アンテナ用導体膜
20C’,アンテナ用導体膜32W’,アンテナ用導体
膜20D’,アンテナ用導体膜32X’,アンテナ用導
体膜20E’,アンテナ用導体膜32Y’,アンテナ用
導体膜20F’が、連続的に接続されることとなり、6
ターンのアンテナ用コイルが形成される。
Thus, the antenna conductive film 20
A ', conductor film 32U' for antenna, conductor film 2 for antenna
0B ', antenna conductor film 32V', antenna conductor film 20C ', antenna conductor film 32W', antenna conductor film 20D ', antenna conductor film 32X', antenna conductor film 20E ', antenna conductor film 32Y ', The antenna conductor film 20F' is continuously connected,
A turn antenna coil is formed.

【0050】また、図9に示した電子回路基板を用い
て、非接触型ICカードを製造する際には、図8に示し
たものと同様に、電子回路基板の表面に エポキシ系樹
脂を薄板状に成形して中間材形成し、電子回路基板の裏
面とエポキシ材の表面に0.05mmのポリエステルフ
ィルムを接着して、コイル状アンテナと半導体ICチッ
プとを内蔵する厚さ0.76mmの非接触型ICカード
を作製する。
When a non-contact type IC card is manufactured using the electronic circuit board shown in FIG. 9, a thin epoxy resin is applied to the surface of the electronic circuit board in the same manner as shown in FIG. A 0.05 mm polyester film is adhered to the back surface of the electronic circuit board and the surface of the epoxy material to form an intermediate material, and a coil antenna and a semiconductor IC chip having a thickness of 0.76 mm are incorporated. A contact type IC card is manufactured.

【0051】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、アンテナとICチップの接続を容易に行え、非接触
型ICカードの製造コストを低減できる。
As described above, according to this embodiment, the antenna and the IC chip can be easily connected, and the manufacturing cost of the non-contact type IC card can be reduced.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明によれば、アンテナとICチップ
の接続を容易に行えるとともに、アンテナのターン数を
増やすことのできる。
According to the present invention, the connection between the antenna and the IC chip can be easily performed, and the number of turns of the antenna can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態による電子回路基板の平面
図である。
FIG. 1 is a plan view of an electronic circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態による電子回路基板におけ
るアンテナ用導体膜のパターンの説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a pattern of a conductor film for an antenna in an electronic circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施形態による電子回路基板に用い
る半導体ICチップ上に形成される導体膜の形状の説明
図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a shape of a conductive film formed on a semiconductor IC chip used for an electronic circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施形態による電子回路基板に用い
る半導体ICチップ上に形成される接続端子及び導体膜
の構成の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a configuration of a connection terminal and a conductor film formed on a semiconductor IC chip used for an electronic circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施形態による電子回路基板の製造
方法の工程を示すプロセスフロー図である。
FIG. 5 is a process flow chart showing steps of a method of manufacturing an electronic circuit board according to one embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施形態による電子回路基板の製造
方法の各工程におけるチップ断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a chip in each step of the method for manufacturing an electronic circuit board according to one embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施形態による電子回路基板の部分
断面図である。
FIG. 7 is a partial cross-sectional view of an electronic circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施形態による電子回路基板を用い
た非接触型ICカードの構成を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a configuration of a non-contact type IC card using an electronic circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図9】本発明の他の実施形態による電子回路基板の平
面図である。
FIG. 9 is a plan view of an electronic circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図10】本発明の他の実施形態による電子回路基板に
おけるアンテナ用導体膜のパターンの説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a pattern of a conductor film for an antenna in an electronic circuit board according to another embodiment of the present invention.

【図11】本発明の他の実施形態による電子回路基板に
用いる半導体ICチップ上に形成される導体膜の形状の
説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram of a shape of a conductor film formed on a semiconductor IC chip used for an electronic circuit board according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…回路基材 20…アンテナ用導体膜 20s…始点 20e…終点 20c…中間点 22…切断部 30…半導体ICチップ 31…接続端子 32…アンテナ用導体膜 33…チップ基材 34…半導体IC回路膜 35…電気絶縁保護膜 36…めっき形成用導電膜 50…異方性導電接着剤 60…中間材 70…表面シート DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Circuit base material 20 ... Antenna conductor film 20s ... Start point 20e ... End point 20c ... Intermediate point 22 ... Cutting part 30 ... Semiconductor IC chip 31 ... Connection terminal 32 ... Antenna conductor film 33 ... Chip base material 34 ... Semiconductor IC circuit Film 35: Electrical insulating protective film 36: Plating conductive film 50: Anisotropic conductive adhesive 60: Intermediate material 70: Surface sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/32 G06K 19/00 K (72)発明者 竹中 隆次 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所エンタープライズサーバ事業部内 (72)発明者 堀田 美明 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所エンタープライズサーバ事業部内 Fターム(参考) 4E351 AA02 BB09 BB14 BB30 BB31 CC11 DD04 DD05 EE01 GG20 5B035 BA03 BB09 CA01 CA23 5E319 AA03 AB05 BB16 CC61 GG20 5E338 AA00 BB75 BB80 CC01 CD12 CD17 CD33 EE23 EE31 5F044 KK02 KK09 LL09 QQ00 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/32 G06K 19/00 K (72) Inventor Ryuji Takenaka 1st Horiyamashita, Hadano-shi, Kanagawa Japan Co., Ltd. (72) Inventor Yoshiaki Hotta 1-Horiyamashita, Hadano-shi, Kanagawa F-term (in reference) 4E351 AA02 BB09 BB14 BB30 BB31 CC11 DD04 DD05 EE01 GG20 5B035 BA03 BB09 CA01 CA23 5E319 AA03 AB05 BB16 CC61 GG20 5E338 AA00 BB75 BB80 CC01 CD12 CD17 CD33 EE23 EE31 5F044 KK02 KK09 LL09 QQ00

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】コイル状アンテナと、このアンテナを跨ぐ
ようにして配置され、このアンテナの始点及び終点にそ
れぞれ接続端子を介して接続された半導体ICチップを
有する電子回路基板において、 上記コイル状アンテナは、回路基材の表面に形成された
複数の基材側のアンテナ用導体膜と、上記半導体ICチ
ップの上記接続端子が設けられた面に形成された複数の
チップ側のアンテナ用導体膜とから構成され、 上記基材側の複数のアンテナ導体膜と、上記チップ側の
複数のアンテナ用導体膜をそれぞれ接続してコイル状ア
ンテナを構成することを特徴とする電子回路基板。
1. An electronic circuit board comprising: a coiled antenna; and a semiconductor IC chip disposed so as to straddle the antenna and connected to a start point and an end point of the antenna via connection terminals, respectively. A plurality of antenna conductor films on the substrate side formed on the surface of the circuit substrate, and a plurality of antenna conductor films on the chip side formed on the surface of the semiconductor IC chip where the connection terminals are provided. An electronic circuit board comprising: a plurality of antenna conductor films on the substrate side and a plurality of antenna conductor films on the chip side connected to each other to form a coiled antenna.
【請求項2】電気絶縁性回路基材の表面に、一部が切断
された形状のコイル状アンテナ用導体膜の一部を形成
し、 半導体ICチップの接続端子が形成される面に上記回路
基材表面に形成されるコイル状アンテナの切断部分に対
応するアンテナ用導体膜の一部を半導体膜形成工程によ
り、上記接続端子の形成と同時に形成し、 上記回路基材に形成されたアンテナ用導体膜の始点及び
終点を、上記半導体ICチップの接続端子に接続し、上
記一部が切断されたコイル状アンテナ用導体膜の各端部
を、上記半導体ICチップに形成されたアンテナ用導体
膜の各端部とを接続して、コイル状アンテナを形成する
ことを特徴とする電子回路基板の製造方法。
2. A partially cut coil-shaped antenna conductor film is formed on the surface of an electrically insulating circuit substrate, and the circuit is formed on a surface on which connection terminals of a semiconductor IC chip are formed. A part of the conductor film for the antenna corresponding to the cut portion of the coiled antenna formed on the surface of the substrate is formed at the same time as the formation of the connection terminal by a semiconductor film forming step, and the antenna for the antenna formed on the circuit substrate is formed. The starting point and the ending point of the conductive film are connected to the connection terminals of the semiconductor IC chip, and the ends of the partially cut coil-shaped antenna conductive film are connected to the antenna conductive film formed on the semiconductor IC chip. A method of manufacturing an electronic circuit board, comprising connecting each end of the electronic circuit board to a coiled antenna.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6344824B1 (en) * 1998-09-18 2002-02-05 Hitachi Maxell, Ltd. Noncontact communication semiconductor device
US7312528B2 (en) * 2003-02-18 2007-12-25 Hitachi Maxell, Ltd. Semiconductor device having antenna connection electrodes

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