JP2000347410A5 - - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 3
- 150000000180 1,2-diols Chemical group 0.000 claims 2
- 150000000185 1,3-diols Chemical group 0.000 claims 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical group [H]* 0.000 claims 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15869899A JP3936492B2 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | ポジ型感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15869899A JP3936492B2 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000347410A JP2000347410A (ja) | 2000-12-15 |
JP2000347410A5 true JP2000347410A5 (hr) | 2005-07-07 |
JP3936492B2 JP3936492B2 (ja) | 2007-06-27 |
Family
ID=15677414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15869899A Expired - Fee Related JP3936492B2 (ja) | 1999-06-04 | 1999-06-04 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3936492B2 (hr) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4512340B2 (ja) * | 2003-10-20 | 2010-07-28 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP4300131B2 (ja) * | 2004-02-16 | 2009-07-22 | 富士フイルム株式会社 | 液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP4801477B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2011-10-26 | 富士通株式会社 | レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 |
JP5305890B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2013-10-02 | 住友ゴム工業株式会社 | 二輪自動車用タイヤ |
JP5556522B2 (ja) * | 2009-09-17 | 2014-07-23 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物 |
JP5621432B2 (ja) * | 2009-09-17 | 2014-11-12 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物 |
JP2011075750A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Jsr Corp | 化学増幅型レジスト用感放射線性樹脂組成物および重合体 |
DE102009046194A1 (de) | 2009-10-30 | 2011-05-05 | Evonik Röhm Gmbh | Verfahren zur Herstellung von (1-Alkoxy-2-methyl-1-oxopropan--2yl)-(meth)acrylat |
DE102009046197A1 (de) | 2009-10-30 | 2011-05-05 | Evonik Röhm Gmbh | Homopolymere und Copolymere der Hydroxyisobuttersäure(ester)(meth)acrylate |
JP5572570B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100219573B1 (ko) * | 1996-08-05 | 1999-09-01 | 윤종용 | 감광성 고분자 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
JPH10221852A (ja) * | 1997-02-06 | 1998-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
JP3948795B2 (ja) * | 1997-09-30 | 2007-07-25 | ダイセル化学工業株式会社 | 放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP3237605B2 (ja) * | 1998-04-06 | 2001-12-10 | 日本電気株式会社 | 1,2−ジオール構造を有する脂環式(メタ)アクリレート誘導体、およびその重合体 |
JP4434358B2 (ja) * | 1998-05-25 | 2010-03-17 | ダイセル化学工業株式会社 | フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用樹脂組成物 |
JP3353825B2 (ja) * | 1999-05-10 | 2002-12-03 | 日本電気株式会社 | 化学増幅ポジ型レジスト、およびそれを用いたパターン形成方法 |
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1999
- 1999-06-04 JP JP15869899A patent/JP3936492B2/ja not_active Expired - Fee Related