JP2000345340A - 薄膜形成方法およびその装置 - Google Patents
薄膜形成方法およびその装置Info
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- JP2000345340A JP2000345340A JP11156640A JP15664099A JP2000345340A JP 2000345340 A JP2000345340 A JP 2000345340A JP 11156640 A JP11156640 A JP 11156640A JP 15664099 A JP15664099 A JP 15664099A JP 2000345340 A JP2000345340 A JP 2000345340A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 円筒状、棒状あるいは螺旋状などの基板の表
面に、所要厚さの薄膜を均一に形成するための、薄膜形
成方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 螺旋状に形成された保持部材で、水平方
向に延びる円筒状の保持空間を構成し、該保持空間の中
心軸線で回転しながら、前記保持空間内で回転自在に保
持された円柱状、円筒状あるいは螺旋状の被成膜形成物
に対して、薄膜形成のために、蒸着源から成膜素材を放
出することを特徴とする。
面に、所要厚さの薄膜を均一に形成するための、薄膜形
成方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 螺旋状に形成された保持部材で、水平方
向に延びる円筒状の保持空間を構成し、該保持空間の中
心軸線で回転しながら、前記保持空間内で回転自在に保
持された円柱状、円筒状あるいは螺旋状の被成膜形成物
に対して、薄膜形成のために、蒸着源から成膜素材を放
出することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、蒸着技術によっ
て、被成膜形成物に薄膜を形成する薄膜形成方法および
その装置に関し、特に、円柱状、円筒状あるいは螺旋状
の、例えば、基板の表面に対して、金属薄膜などを均一
に形成するための薄膜形成方法およびその装置に関す
る。
て、被成膜形成物に薄膜を形成する薄膜形成方法および
その装置に関し、特に、円柱状、円筒状あるいは螺旋状
の、例えば、基板の表面に対して、金属薄膜などを均一
に形成するための薄膜形成方法およびその装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、蒸着による薄膜形成技術を利用し
て、高機能デバイスの開発が進められているが、種々の
設計上の要求から、通常の平板状の基板だけでなく、さ
まざまな形状、特に、円柱状、円筒状あるいは螺旋状の
基板に対して、高精度の均一な薄膜を形成する要求が高
まっている。
て、高機能デバイスの開発が進められているが、種々の
設計上の要求から、通常の平板状の基板だけでなく、さ
まざまな形状、特に、円柱状、円筒状あるいは螺旋状の
基板に対して、高精度の均一な薄膜を形成する要求が高
まっている。
【０００３】従来、円柱状、円筒状や螺旋状の基板に対
して、薄く成膜する薄膜形成装置に関しては、特開平７
−１２２１３２号、および、特開昭５９−１４０３７３
号の公報に記載のものが知られている。特に、特開平７
−１２２１３２号公報に示す薄膜形成（成膜）は、その
概略を図３に示すように、基板保持具の働きによって達
成されている。そして、その基板保持治具の構成は、図
４（分解斜視図）に示されている。
して、薄く成膜する薄膜形成装置に関しては、特開平７
−１２２１３２号、および、特開昭５９−１４０３７３
号の公報に記載のものが知られている。特に、特開平７
−１２２１３２号公報に示す薄膜形成（成膜）は、その
概略を図３に示すように、基板保持具の働きによって達
成されている。そして、その基板保持治具の構成は、図
４（分解斜視図）に示されている。
【０００４】この装置では、円環状の凹部１２を有する
一対の基板保持部材１１を、所要距離を介して、凹部１
２を向かい合わせる状態で、互いに対向させ、それら凹
部１２で、例えば、円柱状基板１３（被成膜形成物）の
両端を保持する。
一対の基板保持部材１１を、所要距離を介して、凹部１
２を向かい合わせる状態で、互いに対向させ、それら凹
部１２で、例えば、円柱状基板１３（被成膜形成物）の
両端を保持する。
【０００５】そして、基板保持部材１１の中心を貫通す
る水平支軸１４を、薄膜形成時に、モーター１６によ
り、回転させることで、凹部の内周縁上で円柱状基板１
３の両端部を回転させ、この状態で、円柱状基板１３の
周面に均一の薄膜を形成するのである。
る水平支軸１４を、薄膜形成時に、モーター１６によ
り、回転させることで、凹部の内周縁上で円柱状基板１
３の両端部を回転させ、この状態で、円柱状基板１３の
周面に均一の薄膜を形成するのである。
【０００６】なお、ここで、符号１７は、円柱状基板１
３に直流電圧（負電圧）を保持させるための直流電源で
あり、摺動電極１８を介して水平支軸１４に直流電圧を
印加する。また、１５は蒸着源（薄膜材料の供給源）で
あり、そこから、真空容器内で円柱状基板１３に成膜粒
子１９を放出する。このような薄膜形成装置は、その主
要部が基板保持部材１１と中心の水平支軸１４とで構成
されたものである。
３に直流電圧（負電圧）を保持させるための直流電源で
あり、摺動電極１８を介して水平支軸１４に直流電圧を
印加する。また、１５は蒸着源（薄膜材料の供給源）で
あり、そこから、真空容器内で円柱状基板１３に成膜粒
子１９を放出する。このような薄膜形成装置は、その主
要部が基板保持部材１１と中心の水平支軸１４とで構成
されたものである。
【０００７】また、特開昭５９−１４０３７３号の公報
に示す薄膜形成装置は、図５に示すように、円筒状基板
２１を着脱自在に水平回転軸２２に嵌合して、この回転
軸２２の回転の過程で、蒸着源から成膜粒子を放出し
て、真空蒸着により、円筒状基板２１の周面に、成膜す
るのである。
に示す薄膜形成装置は、図５に示すように、円筒状基板
２１を着脱自在に水平回転軸２２に嵌合して、この回転
軸２２の回転の過程で、蒸着源から成膜粒子を放出し
て、真空蒸着により、円筒状基板２１の周面に、成膜す
るのである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の薄膜形
成装置においては、基板の形状や強度如何で、均一な薄
膜形成ができない場合がある。例えば、特開平７−１２
２１３２号公報に所載の薄膜形成装置では、曲げ強度が
十分な棒状基板（被成膜形成物）については、均一な薄
膜形成が可能であるが、曲げ強度が小さく、変形しやす
い棒状基板については、水平保持が困難であるだけでな
く、基板保持部材１１の凹部内周縁上での、棒状基板の
回転が円滑にできず、その表面に対する均一な薄膜形成
が困難になる。
成装置においては、基板の形状や強度如何で、均一な薄
膜形成ができない場合がある。例えば、特開平７−１２
２１３２号公報に所載の薄膜形成装置では、曲げ強度が
十分な棒状基板（被成膜形成物）については、均一な薄
膜形成が可能であるが、曲げ強度が小さく、変形しやす
い棒状基板については、水平保持が困難であるだけでな
く、基板保持部材１１の凹部内周縁上での、棒状基板の
回転が円滑にできず、その表面に対する均一な薄膜形成
が困難になる。
【０００９】また、特開昭５９−１４０３７３号公報に
所載の薄膜形成装置については、円筒状や螺旋状のよう
な、中空の基板（被成膜形成物）に対して成膜すること
が可能であるが、円柱状の基板に対しては、それを保持
することができない。また、基板の中空部分に水平回転
軸２２を通すために、円筒状や螺旋状の基板の内側（中
空部分）に対して薄膜を形成することができない。
所載の薄膜形成装置については、円筒状や螺旋状のよう
な、中空の基板（被成膜形成物）に対して成膜すること
が可能であるが、円柱状の基板に対しては、それを保持
することができない。また、基板の中空部分に水平回転
軸２２を通すために、円筒状や螺旋状の基板の内側（中
空部分）に対して薄膜を形成することができない。
【００１０】本発明は、上記事情に基づいてなされたも
ので、その目的とするところは、円筒状、棒状あるいは
螺旋状などの基板の表面に、所要厚さの薄膜を均一に形
成するための、薄膜形成方法およびその装置を提供する
ことにある。
ので、その目的とするところは、円筒状、棒状あるいは
螺旋状などの基板の表面に、所要厚さの薄膜を均一に形
成するための、薄膜形成方法およびその装置を提供する
ことにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】このため、本発明の薄膜
形成方法では、螺旋状に形成された保持部材で、水平方
向に延びる円筒状の保持空間を構成し、該保持空間の中
心軸線で回転しながら、前記保持空間内で回転自在に保
持された円柱状、円筒状あるいは螺旋状の被成膜形成物
に対して、薄膜形成のために、蒸着源から成膜素材を放
出することを特徴とする。
形成方法では、螺旋状に形成された保持部材で、水平方
向に延びる円筒状の保持空間を構成し、該保持空間の中
心軸線で回転しながら、前記保持空間内で回転自在に保
持された円柱状、円筒状あるいは螺旋状の被成膜形成物
に対して、薄膜形成のために、蒸着源から成膜素材を放
出することを特徴とする。
【００１２】また、本発明では、円柱状、円筒状あるい
は螺旋状の被成膜形成物を、水平方向に延びる円筒状の
保持空間内で回転しながら、蒸着源から成膜素材を放出
して、前記被成膜形成物の表面に所要の薄膜を形成する
薄膜形成装置において、前記保持空間は、螺旋状に形成
された保持部材で構成され、該保持部材を回転させるよ
うに構成している。
は螺旋状の被成膜形成物を、水平方向に延びる円筒状の
保持空間内で回転しながら、蒸着源から成膜素材を放出
して、前記被成膜形成物の表面に所要の薄膜を形成する
薄膜形成装置において、前記保持空間は、螺旋状に形成
された保持部材で構成され、該保持部材を回転させるよ
うに構成している。
【００１３】なお、本発明の実施の形態として、前記保
持部材が、同一方向に巻かれた単数あるいは複数の螺旋
線材であること、あるいは、反対方向に巻かれた複数の
螺旋線材で網目状に構成されていることが好ましい。
持部材が、同一方向に巻かれた単数あるいは複数の螺旋
線材であること、あるいは、反対方向に巻かれた複数の
螺旋線材で網目状に構成されていることが好ましい。
【００１４】従って、蒸着源に対して、被成膜形成物を
横に配置し、薄膜形成時には、保持部材を回転させるた
め、被成膜形成物全体にわたって均一な膜厚で緻密な成
膜がなされる。また、被薄膜形成物は、螺旋状の保持部
材で保持されるので、保持部材の螺旋ピッチを選択すれ
ば、そのピッチで被成膜形成物の保持ができ、仮に、曲
げ強度が不十分で、変形しやすい被成膜形成物でも、そ
の直線性を保持し、保持空間内での円滑な回転が行え
る。また、保持部材が螺旋であるから、前記保持部材
（即ち、水平支軸）の回転時、その保持個所が、螺旋軸
方向に移動することになり、蒸着の影となる特定部分が
なく、成膜の均一性も保たれる。
横に配置し、薄膜形成時には、保持部材を回転させるた
め、被成膜形成物全体にわたって均一な膜厚で緻密な成
膜がなされる。また、被薄膜形成物は、螺旋状の保持部
材で保持されるので、保持部材の螺旋ピッチを選択すれ
ば、そのピッチで被成膜形成物の保持ができ、仮に、曲
げ強度が不十分で、変形しやすい被成膜形成物でも、そ
の直線性を保持し、保持空間内での円滑な回転が行え
る。また、保持部材が螺旋であるから、前記保持部材
（即ち、水平支軸）の回転時、その保持個所が、螺旋軸
方向に移動することになり、蒸着の影となる特定部分が
なく、成膜の均一性も保たれる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図１および図２にそれぞれ示す具体例で、詳細に説
明する。ここでは、例えば、真空ポンプなどで減圧され
た、更には、減圧状態で不活性ガスが充填された真空室
（図示せず）内において、円柱状、円筒状あるいは螺旋
状の被成膜形成物１を、水平方向に延びる円筒状の保持
空間内で回転しながら、蒸着源３から成膜素材を放出し
て、被成膜形成物１の表面に所要の薄膜を形成するので
あるが、特に、前記保持空間は、螺旋状に形成された保
持部材２で構成され、保持部材２を回転自在に支持する
水平回転支軸を、電動モータなどの適当な手段で、回転
させるように構成している。
て、図１および図２にそれぞれ示す具体例で、詳細に説
明する。ここでは、例えば、真空ポンプなどで減圧され
た、更には、減圧状態で不活性ガスが充填された真空室
（図示せず）内において、円柱状、円筒状あるいは螺旋
状の被成膜形成物１を、水平方向に延びる円筒状の保持
空間内で回転しながら、蒸着源３から成膜素材を放出し
て、被成膜形成物１の表面に所要の薄膜を形成するので
あるが、特に、前記保持空間は、螺旋状に形成された保
持部材２で構成され、保持部材２を回転自在に支持する
水平回転支軸を、電動モータなどの適当な手段で、回転
させるように構成している。
【００１６】なお、この実施の形態では、保持部材２
が、同一方向に巻かれた単数あるいは複数の螺旋線材４
であるか（図１を参照）、あるいは、反対方向に巻かれ
た複数の螺旋線材で網目状（ここでは、円筒籠の形態）
５に構成されている（図２を参照）。
が、同一方向に巻かれた単数あるいは複数の螺旋線材４
であるか（図１を参照）、あるいは、反対方向に巻かれ
た複数の螺旋線材で網目状（ここでは、円筒籠の形態）
５に構成されている（図２を参照）。
【００１７】而して、成膜時には、被成膜形成物１を、
保持部材２の内部、即ち、円筒状の保持空間内に挿入す
る。そして、保持部材２の回転で、被成膜形成物１は、
保持部材２におけるターン部分下側上で回転しながら、
保持部材２に保持される。
保持部材２の内部、即ち、円筒状の保持空間内に挿入す
る。そして、保持部材２の回転で、被成膜形成物１は、
保持部材２におけるターン部分下側上で回転しながら、
保持部材２に保持される。
【００１８】その保持個所は、保持部材２の螺旋ピッチ
毎に存在するから、仮に、被成膜形成物１が細くて、曲
げ強度が不十分で、変形しやすくても、これを水平に、
かつ、直線状態で、保持することができ、保持部材２の
回転に連れて、被成膜形成物１を前記保持空間内で円滑
・確実に回転させることができる。
毎に存在するから、仮に、被成膜形成物１が細くて、曲
げ強度が不十分で、変形しやすくても、これを水平に、
かつ、直線状態で、保持することができ、保持部材２の
回転に連れて、被成膜形成物１を前記保持空間内で円滑
・確実に回転させることができる。
【００１９】そして、前記真空室内で、蒸着源３からの
成膜粒子が、被成膜形成物１に向けて放出され、所要の
膜厚で、被成膜形成物１の表面に均一な薄膜を形成する
のである。
成膜粒子が、被成膜形成物１に向けて放出され、所要の
膜厚で、被成膜形成物１の表面に均一な薄膜を形成する
のである。
【００２０】なお、上述の実施の形態では、線材を用い
て螺旋状の保持部材２を構成したが、帯状部材を螺旋状
に巻いて、保持部材２を構成してもよい。
て螺旋状の保持部材２を構成したが、帯状部材を螺旋状
に巻いて、保持部材２を構成してもよい。
【００２１】
【発明の効果】本発明は、以上詳述したようになり、螺
旋状に形成された保持部材で、水平方向に延びる円筒状
の保持空間を構成し、該保持空間の中心軸線で回転しな
がら、前記保持空間内で回転自在に保持された円柱状、
円筒状あるいは螺旋状の被成膜形成物に対して、薄膜形
成のために、蒸着源から成膜素材を放出する。
旋状に形成された保持部材で、水平方向に延びる円筒状
の保持空間を構成し、該保持空間の中心軸線で回転しな
がら、前記保持空間内で回転自在に保持された円柱状、
円筒状あるいは螺旋状の被成膜形成物に対して、薄膜形
成のために、蒸着源から成膜素材を放出する。
【００２２】従って、蒸着源に対して、被成膜形成物を
横に配置し、薄膜形成時には、保持部材を回転させるた
め、被成膜形成物全体にわたって均一な膜厚で緻密な成
膜がなされる。また、被薄膜形成物は、螺旋状の保持部
材で保持されるので、保持部材の螺旋ピッチを選択すれ
ば、そのピッチで被成膜形成物の保持ができ、仮に、曲
げ強度が不十分で、変形しやすい被成膜形成物でも、そ
の直線性を保持し、保持空間内での円滑な回転が行え
る。また、保持部材が螺旋であるから、前記保持部材
（即ち、水平支軸）の回転時、その保持個所が、螺旋軸
方向に移動することになり、蒸着の影となる特定部分が
なく、成膜の均一性も保たれる。
横に配置し、薄膜形成時には、保持部材を回転させるた
め、被成膜形成物全体にわたって均一な膜厚で緻密な成
膜がなされる。また、被薄膜形成物は、螺旋状の保持部
材で保持されるので、保持部材の螺旋ピッチを選択すれ
ば、そのピッチで被成膜形成物の保持ができ、仮に、曲
げ強度が不十分で、変形しやすい被成膜形成物でも、そ
の直線性を保持し、保持空間内での円滑な回転が行え
る。また、保持部材が螺旋であるから、前記保持部材
（即ち、水平支軸）の回転時、その保持個所が、螺旋軸
方向に移動することになり、蒸着の影となる特定部分が
なく、成膜の均一性も保たれる。
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す薄膜形成装置
の概略構成図である。
の概略構成図である。
【図２】同じく、本発明の第２の実施の形態を示す薄膜
形成装置の概略構成図である。
形成装置の概略構成図である。
【図３】従来の薄膜形成装置の概略構成図である。
【図４】同じく、従来の保持部材の構成を示す分解斜視
図である。
図である。
【図５】他の従来の薄膜形成装置における保持部材の斜
視図である。
視図である。
１ 被薄膜形成物 ２ 薄膜形成用の保持部材 ３ 蒸着源 ４ 螺旋状の線状部材 ５ 網目状部材 １１ 基板保持部材 １２ 凹部 １３ 円柱状基板 １４ 中心軸 １５ 蒸着源（原料供給源） １６ モータ １７ 直流電源 １８ 電極 １９ 成膜粒子
Claims (4)
- 【請求項１】 螺旋状に形成された保持部材で、水平方
向に延びる円筒状の保持空間を構成し、該保持空間の中
心軸線で回転しながら、前記保持空間内で回転自在に保
持された円柱状、円筒状あるいは螺旋状の被成膜形成物
に対して、薄膜形成のために、蒸着源から成膜素材を放
出することを特徴とする、薄膜形成方法。 - 【請求項２】 円柱状、円筒状あるいは螺旋状の被成膜
形成物を、水平方向に延びる円筒状の保持空間内で回転
しながら、蒸着源から成膜素材を放出して、前記被成膜
形成物の表面に所要の薄膜を形成する薄膜形成装置にお
いて、前記保持空間は、螺旋状に形成された保持部材で
構成され、該保持部材を回転させるように構成している
ことを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項３】 前記保持部材は、同一方向に巻かれた単
数あるいは複数の螺旋線材であることを特徴とする請求
項２に記載の薄膜形成装置。 - 【請求項４】 前記保持部材は、反対方向に巻かれた複
数の螺旋線材で網目状に構成されていることを特徴とす
る請求項２に記載の薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11156640A JP2000345340A (ja) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | 薄膜形成方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11156640A JP2000345340A (ja) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | 薄膜形成方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000345340A true JP2000345340A (ja) | 2000-12-12 |
Family
ID=15632094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11156640A Pending JP2000345340A (ja) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | 薄膜形成方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000345340A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010189737A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Seiko Epson Corp | 光学部品の保持具 |
| CN103451603A (zh) * | 2013-08-28 | 2013-12-18 | 深圳大学 | 一种柱形体侧柱面镀膜装置及真空镀膜设备 |
-
1999
- 1999-06-03 JP JP11156640A patent/JP2000345340A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010189737A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Seiko Epson Corp | 光学部品の保持具 |
| CN103451603A (zh) * | 2013-08-28 | 2013-12-18 | 深圳大学 | 一种柱形体侧柱面镀膜装置及真空镀膜设备 |
| CN103451603B (zh) * | 2013-08-28 | 2015-12-23 | 深圳大学 | 一种柱形体侧柱面镀膜装置及真空镀膜设备 |
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