JP2000344915A - Roughness-changeable film - Google Patents

Roughness-changeable film

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JP2000344915A
JP2000344915A JP2000098099A JP2000098099A JP2000344915A JP 2000344915 A JP2000344915 A JP 2000344915A JP 2000098099 A JP2000098099 A JP 2000098099A JP 2000098099 A JP2000098099 A JP 2000098099A JP 2000344915 A JP2000344915 A JP 2000344915A
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JP
Japan
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film
roughness
heat treatment
preferable
polymer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000098099A
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Japanese (ja)
Inventor
Akimitsu Tsukuda
佃  明光
Masanori Sueoka
雅則 末岡
Mitsuhiro Horiuchi
光弘 堀内
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject film having a surface roughness capable of being adjusted according to the purpose by heating the film at the time of processing in the film comprising an organic polymer. SOLUTION: A solution dissolving an organic polymer is formed into a film by a film-producing method by using the solution. The objective roughness- changeable film is obtained by regulating the value of Ra2/Ra1 (Ra1 is the average roughness of the film before the heat treatment; Ra2 is the average roughness after the heat treatment) so as to be <1. The film preferably has >=7 GPa Young's modulus at least in one direction. The organic polymer is preferably an aromatic polyamide containing >=50 mol%; unit of NH-Ar1-NHCO- Ar2-CO and/or NH-Ar3-CO (Ar1 to Ar3 are each phenylene or the like). When the organic polymer is the aromatic polyamide, the heat treatment is preferably carried out at 150-350 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、加工時に目的に応
じて表面粗さを調整することの出来る粗さ可変フィルム
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a variable roughness film whose surface roughness can be adjusted during processing according to the purpose.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機高分子フィルムは、工業材料として
広く使用されている。その用途としては、磁気記録媒体
のベースフィルム、FPC、TAB、太陽電池、コンデ
ンサー等電気、絶縁用途のベースフィルム、パッケージ
等の包装用途等枚挙にいとまがない。こうした用途全て
において、その表面性は重要な意味を持つ。
2. Description of the Related Art Organic polymer films are widely used as industrial materials. There are many uses, such as base films for magnetic recording media, FPCs, TABs, solar batteries, capacitors and other electrical and insulating base films, and packaging and other packaging applications. In all these applications, its surface properties are important.

【0003】例えば、磁気記録媒体においては、走行
性、加工性を確保するためには、表面が粗い方が好まし
く、一方、電磁変換特性を向上させるためには表面は平
滑な方が好ましい。こうした要請に応えるべく、フィル
ムの表面形成については、これまで様々な手法、形態が
提案されている。
For example, in a magnetic recording medium, it is preferable that the surface is rough in order to ensure the running property and workability, while it is preferable that the surface is smooth in order to improve the electromagnetic conversion characteristics. In order to meet such demands, various methods and forms have been proposed for film surface formation.

【0004】その手法としては、フィルムを形成するポ
リマー中に無機あるいは有機粒子を含有せしめる方法
(例えば、特開昭60ー127523号公報、特開昭6
0ー201914号公報)、フィルム成形時あるいは成
形後に、微細粒子を含有したスラリーをコーティングし
表面突起を形成する方法(例えば、特開平3ー1195
12号公報)が代表的なものとして挙げられ、更に両面
の粗さを規制する方法等が提案されている(例えば、特
開平1−247162号公報)。こうした、従来の方法
においては一旦形成されたフィルム表面はその後の加工
工程を経ても不変であり、平滑なものは平滑なまま、粗
いものは粗いままで最終製品に加工されてきた。従っ
て、フィルムにおいては、その用途の要請に応じてそれ
ぞれ個別の表面形成を行う必要があった。
[0004] As a method for this, a method of incorporating inorganic or organic particles into a polymer for forming a film (for example, JP-A-60-127523, JP-A-60-127523).
Japanese Patent Application Laid-Open No. 0-201914), a method of forming a surface projection by coating a slurry containing fine particles during or after film formation (for example, JP-A-3-1-1195).
No. 12) is mentioned as a typical example, and a method for controlling the roughness of both surfaces has been proposed (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-247162). In such a conventional method, the surface of the film once formed is invariant even after the subsequent processing steps, and the smooth one has been processed to the final product while the rough one remains smooth. Therefore, in the case of the film, it is necessary to form individual surfaces in accordance with the requirements of the application.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、用途に
応じて個別に表面設計を行うため、品種が増大し、コス
トアップの要因となる。また、加工工程と製品で要求さ
れる滑り性、平滑性など表面に関する要求が異なる場合
は、従来の方法では最早対処できない。例えば、蒸着型
磁気記録媒体の製造においては、磁性層、バックコート
層の形成時には、ロールとの摩擦性を低減し、工程速度
を上げるために易滑な表面が求められるが、製品とした
場合には、出力特性を確保するために極めて平滑な表面
が必要とされる。
However, since the surface is individually designed according to the application, the number of types increases, which causes a cost increase. Further, when the requirements regarding the surface such as the slipperiness and smoothness required in the processing step and the product are different, the conventional method can no longer cope with it. For example, in the production of a vapor-deposited magnetic recording medium, when forming a magnetic layer and a back coat layer, a smooth surface is required to reduce friction with a roll and increase a process speed, but when a product is used. Requires an extremely smooth surface to ensure output characteristics.

【0006】そこで本発明は、熱処理を加えることによ
り、フィルム表面を平滑化することが可能であり、加工
時、製品使用時にそれぞれ必要な表面粗さに調整できる
フィルムを提供することをその目的とするものである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a film capable of smoothing the surface of a film by applying a heat treatment, and capable of adjusting the surface roughness required at the time of processing and at the time of using the product. Is what you do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、有機高分子体
からなるフィルムにおいて、少なくとも片面の熱処理前
の平均粗さRa1と、熱処理後の平均粗さRa2が、
(I)式を充たすことを特徴とする粗さ可変フィルムで
ある。
According to the present invention, in a film made of an organic polymer, at least one surface has an average roughness Ra1 before heat treatment and an average roughness Ra2 after heat treatment.
A variable roughness film characterized by satisfying the formula (I).

【0008】Ra2/Ra1<1 (I)Ra2 / Ra1 <1 (I)

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明において有機高分子体は、
特に限定はなく、ポリエステル、脂肪族ポリアミド、ポ
リエチレン、ポリプロピレンなどのいわゆる溶融製膜法
により成形される有機高分子体、芳香族ポリアミド、芳
香族ポリイミドなどのいわゆる溶液製膜法により成形さ
れる有機高分子体などが例として挙げられる。この中で
も、フィルムの強靱さの点から、芳香族ポリアミドであ
ることが特に好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, an organic polymer is
There is no particular limitation, and organic polymers formed by a so-called melt film-forming method such as polyester, aliphatic polyamide, polyethylene, and polypropylene, and organic polymer formed by a so-called solution film-forming method such as aromatic polyamide and aromatic polyimide. A molecular body is an example. Among them, an aromatic polyamide is particularly preferable from the viewpoint of the toughness of the film.

【0010】芳香族ポリアミドとしては、次の一般式
(1)および/または一般式(2)で表わされる繰り返
し単位を50モル%以上含むものが好ましく、70モル
%以上からなるものがより好ましい。その他の成分とし
て、他の繰り返し単位が共重合、またはブレンドされて
いても差し支えない。
As the aromatic polyamide, those containing 50 mol% or more of the repeating units represented by the following general formulas (1) and / or (2) are preferable, and those containing 70 mol% or more are more preferable. Other repeating units may be copolymerized or blended as other components.

【0011】[0011]

【化1】 Embedded image

【0012】[0012]

【化2】 ここで、Ar1,Ar2、Ar3としては 例えば、Embedded image Here, as Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 , for example,

【0013】[0013]

【化3】 などが挙げられる。Embedded image And the like.

【0014】X、Yは −O−,−CH2−,−CO−,−SO2−、−S−,−
C(CH32− 等から選ばれるが、これらに限定されるものではない。
更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、フッ素、塩
素、臭素などのハロゲン基(特に塩素)、ニトロ基、メ
チル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基(特に
メチル基)、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
イソプロポキシ基などのアルコキシ基などの置換基で置
換されているものも含み、また、重合体を構成するアミ
ド結合中の水素が他の置換基によって置換されているも
のも含む。
[0014] X, Y is -O -, - CH 2 -, - CO -, - SO 2 -, - S -, -
It is selected from C (CH 3 ) 2 − and the like, but is not limited thereto.
Further, some of the hydrogen atoms on these aromatic rings may be substituted with halogen groups (especially chlorine) such as fluorine, chlorine, and bromine, alkyl groups (particularly methyl groups) such as nitro, methyl, ethyl, and propyl groups, and methoxy. Group, ethoxy group, propoxy group,
Also included are those substituted with a substituent such as an alkoxy group such as an isopropoxy group, and those in which hydrogen in an amide bond constituting the polymer is substituted with another substituent.

【0015】特性面からは上記の芳香環がパラ配向位で
結合されたものが、全芳香環の50%以上、好ましくは
75%以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐
熱性も良好となるため好ましい。尚ここでパラ配向位と
は結合位が直線となるものを意味する。また芳香環上の
水素原子の一部がハロゲン基(特に塩素)で置換された
芳香環が全体の30%以上であると耐湿性が向上し、吸
湿による寸法変化、剛性低下などの特性が改善されるた
めに好ましい。
From the viewpoint of properties, a polymer in which the above aromatic rings are bonded in a para-oriented position, which accounts for 50% or more, preferably 75% or more of the total aromatic rings, has high rigidity and good heat resistance of the film. Is preferable. Here, the para-oriented position means that the bonding position is linear. If the aromatic ring in which part of the hydrogen atoms on the aromatic ring is substituted with a halogen group (especially chlorine) is 30% or more of the whole, the moisture resistance is improved, and the characteristics such as dimensional change due to moisture absorption and rigidity decrease are improved. Is preferred.

【0016】また、本発明の粗さ可変フィルムは、用途
に応じて粒子を0.0001〜3.0重量%含有するこ
とも可能である。
Further, the variable roughness film of the present invention may contain 0.0001 to 3.0% by weight of particles depending on the use.

【0017】粒子としては、有機粒子、無機粒子何れで
も差し支えなく、例えば架橋ポリビニルベンゼン、アク
リル、架橋ポリスチレン、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド、フッ素樹脂などの有機高分子からなる粒
子、コロイダルシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カーボンブラ
ック、ゼオライト等の無機粒子、あるいは上記有機高分
子粒子に他の有機物で被覆等の各種処理を施した粒子、
あるいは上記無機粒子の表面を上記有機高分子で被覆等
の各種処理を施した粒子等が挙げられる。粒子径として
は、5〜100nmのものが好ましく、より好ましくは
10〜50nm、更に好ましくは15〜30nmであ
り、単分散粒子を用いることが好ましい。また、これら
の中から、複数の粒子を組み合わせて用いても良く、ま
た大きさの異なる粒子を組み合わせて使用しても差し支
えない。粒子の含有量は、用途により適切に設計される
ものであるが、特に磁気記録媒体用途に用いる場合には
フィルムの少なくとも片面の最外層において0. 000
1〜1.0重量%とするのが好ましく、より好ましくは
0.001〜0.2重量%、更に好ましくは0.005
〜0.1重量%である。
The particles may be either organic particles or inorganic particles, such as cross-linked polyvinyl benzene, acrylic, cross-linked polystyrene, polyester, polyimide,
Particles made of organic polymers such as polyamide and fluororesin, inorganic particles such as colloidal silica, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, carbon black and zeolite, or the above organic polymer particles coated with other organic substances, etc. Particles subjected to various treatments,
Alternatively, particles obtained by subjecting the surface of the above-mentioned inorganic particles to various treatments such as coating with the above-mentioned organic polymer may be used. The particle diameter is preferably from 5 to 100 nm, more preferably from 10 to 50 nm, still more preferably from 15 to 30 nm, and it is preferable to use monodisperse particles. From among these, a plurality of particles may be used in combination, or particles having different sizes may be used in combination. Although the content of the particles is appropriately designed depending on the application, particularly when used for a magnetic recording medium, it is 0.000 in at least one outermost layer of the film.
It is preferably set to 1 to 1.0% by weight, more preferably 0.001 to 0.2% by weight, and further preferably 0.005% by weight.
~ 0.1% by weight.

【0018】本発明の粗さ可変フィルムは均一な突起を
形成させることが好ましいので、粒子形状としては球形
粒子が好ましく、また粒径の均一なものを使用すること
が好ましい。詳しくは平均粒子径をDとした時の粒径分
布の相対標準偏差σ(標準偏差/平均粒子径)が、σ≦
0.3を充たすことが好ましく、より好ましくはσ≦
0.15である。
Since it is preferable that the variable roughness film of the present invention has uniform projections, it is preferable to use spherical particles as the particle shape and to use those having a uniform particle size. Specifically, the relative standard deviation σ (standard deviation / average particle size) of the particle size distribution when the average particle size is D is σ ≦
0.3 is preferable, and σ ≦ is more preferable.
0.15.

【0019】上記の粒子突起のフィルム表面における突
起個数は、用途により適切に設計されるものであるが、
突起個数が、0.1×104個/mm2以上20×104
個/mm2以下、より好ましくは、0.3×104個/m
2以上10×104個/mm 2以下、更に好ましくは、
0.7×104個/mm2以上2×104個/mm2以下で
あると、特に磁気記録媒体の基体として用いられた場
合、滑り性を更に向上させることができるため好まし
い。
The protrusions on the film surface of the above-mentioned particle protrusions
The starting number is appropriately designed according to the application.
The number of projections is 0.1 × 10FourPieces / mmTwoMore than 20 × 10Four
Pieces / mmTwoBelow, more preferably 0.3 × 10FourPieces / m
mTwoMore than 10 × 10FourPieces / mm TwoHereinafter, more preferably,
0.7 × 10FourPieces / mmTwoMore than 2 × 10FourPieces / mmTwoBelow
In some cases, especially when used as a substrate for magnetic recording media
Is preferable because the slipperiness can be further improved
No.

【0020】また、上記粒子突起の平均突起高さが10
nm以上75nm以下であると、フィルムの滑り性を更
に向上させることができるので好ましい。より好ましく
は20nm以上60nm以下であり、更に好ましくは3
0nm以上50nm以下である。
Further, the average projection height of the particle projections is 10
It is preferable that the thickness be at least 75 nm and at most 75 nm, because the slipperiness of the film can be further improved. More preferably, it is 20 nm or more and 60 nm or less, and still more preferably 3 nm or more.
It is not less than 0 nm and not more than 50 nm.

【0021】本発明の粗さ可変フィルムは上記組成物を
主要成分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲で、
酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤
等の無機または有機の添加剤がブレンドされていてもよ
い。
The variable roughness film of the present invention comprises the above composition as a main component, but within the range not to impair the object of the present invention.
Inorganic or organic additives such as antioxidants, heat stabilizers, lubricants, UV absorbers, nucleating agents and the like may be blended.

【0022】本発明の粗さ可変フィルムは、厚みが1〜
20μmの薄膜フィルムである場合に、本発明の効果を
より奏することができるので好ましい。より好ましくは
2〜10μm、更に好ましくは、2.5〜7μmであ
る。
The variable roughness film of the present invention has a thickness of 1 to 5.
A thin film having a thickness of 20 μm is preferable because the effects of the present invention can be further exhibited. More preferably, it is 2 to 10 μm, and further preferably, it is 2.5 to 7 μm.

【0023】本発明の粗さ可変フィルムは、少なくとも
片面の熱処理前の平均粗さRa1と、熱処理後の平均粗
さRa2が、(I)式を充たすことが必要である。
In the variable roughness film of the present invention, it is necessary that at least one surface has an average roughness Ra1 before heat treatment and an average roughness Ra2 after heat treatment satisfy the formula (I).

【0024】Ra2/Ra1<1 (I) Ra2/Ra1は好ましくは、0.8以下であり、より
好ましくは0.7以下である。Ra2/Ra1の下限は
特に定められるものではないが、小さすぎると原因は必
ずしも明確でないが、マクロな表面荒れが発生し、実用
的でなくなる場合があるので、0.2以上が好ましく、
より好ましくは0.5以上である。
Ra2 / Ra1 <1 (I) Ra2 / Ra1 is preferably 0.8 or less, more preferably 0.7 or less. The lower limit of Ra2 / Ra1 is not particularly limited, but if it is too small, the cause is not always clear, but macro surface roughness may occur and may become impractical.
More preferably, it is 0.5 or more.

【0025】Ra1の大きさは、用途により適切に設計
されることが好ましいが、好ましくは0.5nmから5
00nmの範囲であり、より好ましくは、0.8nmか
ら50nmの範囲である。特に磁気記録媒体に使用され
るときは、0.8nmから15nmの範囲であることが
好ましい。
The size of Ra1 is preferably designed appropriately depending on the application, but is preferably from 0.5 nm to 5 nm.
It is in the range of 00 nm, more preferably in the range of 0.8 nm to 50 nm. In particular, when used for a magnetic recording medium, the thickness is preferably in the range of 0.8 nm to 15 nm.

【0026】本発明でいう熱処理とは、選択された有機
高分子体の種類とフィルム加工時および製品時に要求さ
れる表面粗さにより、選定されるものである。例えば、
芳香族ポリアミドの場合、120℃から350℃の範囲
で調整を行うことが好ましい。
The heat treatment referred to in the present invention is selected according to the type of the selected organic polymer and the surface roughness required at the time of film processing and at the time of product. For example,
In the case of an aromatic polyamide, the adjustment is preferably performed in the range of 120 ° C to 350 ° C.

【0027】特に芳香族ポリアミドフィルムを磁気記録
媒体用ベースフィルムとして用いる場合、加工時の易滑
性と製品での表面平滑性を両立させるためには、300
℃、1分間での熱処理後の平均粗さRa2と熱処理前の
平均粗さRa1が、(II)式を充たすことがより好ま
しい。
In particular, when an aromatic polyamide film is used as a base film for a magnetic recording medium, it is necessary to use 300 in order to achieve both smoothness during processing and surface smoothness in a product.
It is more preferable that the average roughness Ra2 after the heat treatment at 1 ° C. for 1 minute and the average roughness Ra1 before the heat treatment satisfy Expression (II).

【0028】 0.2≦Ra2/Ra1≦0.90 (II) 更に好ましくは、0.2≦Ra2/Ra1≦0.85で
あり、最も好ましくは0.5≦Ra2/Ra1≦0.8
5である。
0.2 ≦ Ra2 / Ra1 ≦ 0.90 (II) More preferably, 0.2 ≦ Ra2 / Ra1 ≦ 0.85, and most preferably, 0.5 ≦ Ra2 / Ra1 ≦ 0.8.
5

【0029】上記の特性を充たすことにより、芳香族ポ
リアミドの耐熱性、剛性を十分に活かしたうえに、加工
性、磁気特性に優れた磁気記録媒体用、特に蒸着型磁気
記録媒体用ベースフィルムが得られることとなる。
By satisfying the above-mentioned properties, the base film for a magnetic recording medium having excellent workability and magnetic properties, in particular, a vapor-deposited magnetic recording medium can be obtained while fully utilizing the heat resistance and rigidity of the aromatic polyamide. Will be obtained.

【0030】更に本発明の粗さ可変フィルムは、少なく
とも一方向のヤング率が7GPa以上であることが、近
年ますます顕著になってきている基体としてのフィルム
の薄膜化を達成するため好ましい。例えば磁気テープの
出力は、テープとヘッドとのヘッドタッチ性の向上に伴
って上がるが、そのために基体であるフィルムの高ヤン
グ率化が求められる。記録方法が固定ヘッド式の場合は
長手方向の、ヘリカルスキャン方式の場合は幅方向のヤ
ング率が特に必要であり、フィルムの少なくとも一方向
のヤング率が7GPa以上であると、高出力が得られ
る。尚、本発明の粗さ可変フィルムの少なくとも一方向
のヤング率は、より好ましくは9GPa以上、更に好ま
しくは11GPa以上である。また、全ての方向のヤン
グ率が7GPa以上であることが好ましいのは言うまで
もない。ヤング率の上限は特に限定されるものではない
が、通常30GPa程度である。
Further, the variable roughness film of the present invention preferably has a Young's modulus in at least one direction of 7 GPa or more in order to achieve a thinner film as a base material, which has become increasingly remarkable in recent years. For example, the output of a magnetic tape increases with the improvement of the head touch property between the tape and the head. For this purpose, it is required to increase the Young's modulus of the film as the base. When the recording method is a fixed head type, the Young's modulus in the longitudinal direction is particularly required, and when the recording method is a helical scan type, a Young's modulus in the width direction is particularly necessary. . In addition, the Young's modulus of at least one direction of the variable roughness film of the present invention is more preferably 9 GPa or more, and further preferably 11 GPa or more. Needless to say, the Young's modulus in all directions is preferably 7 GPa or more. Although the upper limit of the Young's modulus is not particularly limited, it is usually about 30 GPa.

【0031】Ra2/Ra1およびヤング率を上記範囲
とする点からも、本発明においては有機高分子体が芳香
族ポリアミドであって、更にその芳香環がパラ配向性を
有しているものが、全芳香環の50%以上、より好まし
くは75%以上、更に好ましくは80%以上、一層好ま
しくは90%以上をしめていることが好ましい。
From the viewpoint that Ra2 / Ra1 and Young's modulus are set in the above ranges, in the present invention, the organic polymer is an aromatic polyamide and the aromatic ring thereof has para-orientation. It is preferable that 50% or more, more preferably 75% or more, even more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more of the total aromatic ring.

【0032】また、本発明の粗さ可変フィルムは、加熱
処理後のフィルム表面上に形成される高さ5nm以上の
突起個数が2×105個/mm2以上であることが好まし
い。突起個数がこの範囲にあると、フィルム等の製造時
に搬送性、スリット性が良好となり、また、磁気記録媒
体、特に蒸着型磁性層を形成した磁気記録媒体としたと
きの走行性、耐久性が良好となる。突起個数は、より好
ましくは、1×106個/mm2以上であり、さらに好ま
しいのは3×106個/mm2以上、最も好ましいのは5
×106個/mm2以上である。突起個数の上限は特に限
定されないが、109個/mm2を超えると磁気記録媒体
としたときに、かかる磁気記録媒体が使用されるシステ
ムによってはノイズが発生することがある。更に、高さ
50nm以上の突起が2×105個/mm2以下であり、
高さ5nmの水平面で切った突起の断面積が、総面積の
0.5〜20%の範囲にあることが一層好ましい。高さ
50nm以上の突起が2×105個/mm2を超える場
合、磁気記録媒体とした時の初期出力が低く、ドロップ
アウトが多発することがある。より好ましくは1×10
5個/mm2以下、更に好ましくは5×104個/mm2
下である。個数の下限については、0個/mm2である
が、使用用途によっては摩擦係数を低下させるため10
個/mm2程度あることが好ましい場合もある。また、
高さ5nmの水平面で切った突起の断面積が、総面積の
0.5%未満の場合、繰り返し走行させた場合、ヘッド
やガイドピンとの摺動時に突起が削れ易くなり耐久性が
低下することがあり、20%を越える場合、ヘッドやガ
イドピンとの接触面積が大きくなり耐久性が低下するこ
とがある。より好ましくは1.0〜15%、更に好まし
くは2.0〜10%、最も好ましくは、2.0〜5.0
%である。
In the variable roughness film of the present invention, the number of protrusions having a height of 5 nm or more formed on the film surface after the heat treatment is preferably 2 × 10 5 / mm 2 or more. When the number of protrusions is in this range, the transportability and slitting property become favorable during the production of a film or the like, and the running properties and durability when using a magnetic recording medium, particularly a magnetic recording medium having a vapor-deposited magnetic layer formed thereon, are improved. It will be good. The number of protrusions is more preferably 1 × 10 6 / mm 2 or more, still more preferably 3 × 10 6 / mm 2 or more, and most preferably 5 × 10 6 / mm 2.
× 10 6 pieces / mm 2 or more. The upper limit of the number of protrusions is not particularly limited, but if it exceeds 10 9 / mm 2 , when a magnetic recording medium is used, noise may occur depending on the system in which the magnetic recording medium is used. Further, the number of protrusions having a height of 50 nm or more is 2 × 10 5 protrusions / mm 2 or less,
It is more preferable that the cross-sectional area of the protrusion cut by a horizontal plane having a height of 5 nm is in the range of 0.5 to 20% of the total area. When the number of protrusions having a height of 50 nm or more exceeds 2 × 10 5 protrusions / mm 2 , the initial output when used as a magnetic recording medium is low, and dropout may occur frequently. More preferably 1 × 10
The number is 5 / mm 2 or less, more preferably 5 × 10 4 / mm 2 or less. The lower limit of the number is 0 / mm 2.
In some cases, it is preferable that the number is about pieces / mm 2 . Also,
When the cross-sectional area of the protrusion cut in a horizontal plane with a height of 5 nm is less than 0.5% of the total area, when the vehicle is repeatedly driven, the protrusion is easily scraped when sliding with the head or the guide pin, and the durability is reduced. If it exceeds 20%, the contact area with the head or the guide pin may increase, and the durability may decrease. More preferably 1.0 to 15%, further preferably 2.0 to 10%, most preferably 2.0 to 5.0.
%.

【0033】また、フィルム表面において高さ10nm
以上の突起は1×105個/mm2以上、より好ましくは
5×105個/mm2以上、更に好ましくは1×106
/mm2以上で、高さ10nmの水平面で切った突起の
断面積が、総面積の0.01〜10%、より好ましくは
0.05〜8%、更に好ましくは0.1〜7%であると
電磁変換特性および耐久性に、より向上が見られるため
好ましい。突起個数の上限は特に限定されないが、5×
108個/mm2を超えると磁気記録媒体としたときに、
かかる磁気記録媒体が使用されるシステムによってはノ
イズが発生することがある。
Further, the film surface has a height of 10 nm.
The above projections are 1 × 10 5 / mm 2 or more, more preferably 5 × 10 5 / mm 2 or more, and still more preferably 1 × 10 6 / mm 2 or more, and projections cut on a horizontal plane having a height of 10 nm. When the cross-sectional area is 0.01 to 10%, more preferably 0.05 to 8%, and still more preferably 0.1 to 7% of the total area, the electromagnetic conversion characteristics and durability are further improved. Therefore, it is preferable. Although the upper limit of the number of protrusions is not particularly limited, 5 ×
When it exceeds 10 8 pieces / mm 2 , when a magnetic recording medium is used,
Noise may occur depending on the system in which such a magnetic recording medium is used.

【0034】更に、フィルム表面において高さ15nm
以上の突起は2×104個/mm2以上、より好ましくは
5×104個/mm2以上、更に好ましくは1×105
/mm2以上で、高さ15nmの水平面で切った突起の
断面積が、総面積の5%以下、より好ましくは3%、更
に好ましくは0.001〜3%であると電磁変換特性お
よび耐久性に更に向上が見られるためより好ましい。突
起個数の上限は特に限定されないが、3×108個/m
2を超えると磁気記録媒体としたときに、かかる磁気
記録媒体が使用されるシステムによってはノイズが発生
することがある。、本発明の粗さ可変フィルムの少なく
とも一方向の伸度は10%以上、より好ましくは20%
以上、更に好ましくは30%以上であると適度な柔軟性
を持つので好ましい。伸度の上限は、通常100%程度
である。
Further, the film surface has a height of 15 nm.
The above projections are 2 × 10 4 / mm 2 or more, more preferably 5 × 10 4 / mm 2 or more, and still more preferably 1 × 10 5 / mm 2 or more, and projections cut on a horizontal plane with a height of 15 nm. Is preferably 5% or less of the total area, more preferably 3%, and still more preferably 0.001 to 3%, because the electromagnetic conversion characteristics and durability are further improved. The upper limit of the number of protrusions is not particularly limited, but is 3 × 10 8 / m
when the magnetic recording medium exceeds m 2, the noise may be generated by a system according magnetic recording medium is used. The elongation in at least one direction of the variable roughness film of the present invention is 10% or more, more preferably 20%.
Above, more preferably 30% or more, since it has appropriate flexibility. The upper limit of the elongation is usually about 100%.

【0035】また、フィルムの吸湿率は、5%以下、よ
り好ましくは3%以下、更に好ましくは2%以下である
と、磁気記録媒体用途にて湿度変化によるテープの伸縮
が抑えられ、良好な出力特性を保てるので好ましい。吸
湿率の下限については、特に限定されないが、あまりに
低くしようとすると他の物性に悪影響を及ぼすことがあ
るため、通常0.3%程度である。
When the moisture absorption of the film is 5% or less, more preferably 3% or less, and still more preferably 2% or less, expansion and contraction of the tape due to humidity changes in magnetic recording medium applications can be suppressed, and good results can be obtained. This is preferable because output characteristics can be maintained. The lower limit of the moisture absorption is not particularly limited, but if it is set too low, other physical properties may be adversely affected. Therefore, the lower limit is usually about 0.3%.

【0036】更に、フィルムの200℃、10分間での
熱収縮率は3%以下が好ましく、より好ましくは1.5
%以下であると、磁気記録媒体用途にて温度変化による
テープの伸びが抑えられ、良好な出力特性を保てるので
好ましい。熱収縮率の下限は通常0%である。
The heat shrinkage of the film at 200 ° C. for 10 minutes is preferably 3% or less, more preferably 1.5%.
% Or less is preferable because the elongation of the tape due to a temperature change can be suppressed in a magnetic recording medium application and good output characteristics can be maintained. The lower limit of the heat shrinkage is usually 0%.

【0037】本発明の粗さ可変フィルムの少なくとも片
面は無欠点性の高い面であることが、磁気記録媒体など
の用途に使用される場合好ましい。すなわちフィルムの
一方の面をA面、他方の面をB面とした場合、少なくと
もA面において高さh(nm)の粗大突起個数(a;個
/100cm2 )が下記式を満足することが好ましい。
It is preferable that at least one side of the variable roughness film of the present invention has a high defect-free surface when used for applications such as a magnetic recording medium. That is, when one surface of the film is the A surface and the other surface is the B surface, at least the A surface has a number of coarse protrusions (h: nm / 100 cm 2 ) having a height h (nm) satisfying the following expression. preferable.

【0038】 h≧270 a<100 h>540 a<70 h>810 a<15 h>1080 a<5 デジタルビデオテ−プなどの高密度記録磁気記録媒体で
は、この範囲を越えるような欠点の多い面では、データ
の欠落の指標であるドロップアウトが多く、到底本発明
の用途に供することは出来ない。上記の式を満足するた
め、所定の濾過精度を有するフィルタ−を通過せしめて
ポリマー中に存在する粗大異物を除去する方法が好まし
い。ここで濾過精度とは、粒子をポリマ−あるいは溶媒
などに分散し、フィルタ−を通過させた時に、丁度95
%フィルタ−上に捕捉された粒子の粒径として定義す
る。当然この濾過精度の値が小さくなるほど、より小さ
な異物の除去が可能となる。濾過精度としては1000
nm以下、好ましくは600nm以下、さらに好ましく
は300nm以下である。尚、上記粗大突起の個数は、
B面についても充たされることが更に好ましい。
H ≧ 270 a <100 h> 540 a <70 h> 810 a <15 h> 1080 a <5 A high-density recording magnetic recording medium such as a digital video tape has many disadvantages exceeding this range. In terms of data, there are many dropouts, which are indicators of data loss, and cannot be used for the present invention at all. In order to satisfy the above expression, a method of removing coarse foreign substances present in the polymer by passing through a filter having a predetermined filtration accuracy is preferable. Here, the filtration accuracy means that when particles are dispersed in a polymer or a solvent and passed through a filter, just 95%
% Defined as the size of the particles captured on the filter. Naturally, the smaller the value of the filtration accuracy, the smaller the removal of foreign matter. 1000 for filtration accuracy
nm or less, preferably 600 nm or less, more preferably 300 nm or less. The number of the coarse projections is
It is more preferable that the surface B is satisfied.

【0039】また、少なくともA面における測定面積
0.002mm2での3次元表面粗さSRa1と測定面
積1.0mm2での3次元表面粗さSRa2が下記式を
満足することが好ましい。
It is preferable that at least the three-dimensional surface roughness SRa1 at the measurement area of 0.002 mm 2 and the three-dimensional surface roughness SRa2 at the measurement area of 1.0 mm 2 satisfy the following expression.

【0040】0.8≦SRa2/SRa1≦2.5 SRa2/SRa1が2.5を超えるとフィルム表面に
凹凸状のうねりが発生し、磁気テープとした場合にヘッ
ドタッチが不安定となり出力低下、データの欠落等が発
生することがある。一方、SRa2/SRa1が0.8
未満であると、磁気テープの走行性の低下やロール状に
巻いた際のブロッキングを起こすことがある。SRa2
/SRa1は下式を満足することがより好ましい。
0.8 ≦ SRa2 / SRa1 ≦ 2.5 When SRa2 / SRa1 exceeds 2.5, uneven undulations are generated on the film surface, and when a magnetic tape is used, the head touch becomes unstable and the output decreases. Data loss may occur. On the other hand, SRa2 / SRa1 is 0.8
If the amount is less than the above range, the running property of the magnetic tape may be reduced, and blocking may occur when the magnetic tape is wound into a roll. SRa2
/ SRa1 more preferably satisfies the following expression.

【0041】1.1≦SRa2/SRa1≦1.8 尚、上記SRa2/SRa1の範囲は、B面についても
充たされることが更に好ましい。また、上記の特性は熱
処理後のフィルムにおいても充たされることが好まし
い。
1.1 ≦ SRa2 / SRa1 ≦ 1.8 It is more preferable that the above-mentioned range of SRa2 / SRa1 is satisfied also for the B side. Further, it is preferable that the above properties are satisfied in the film after the heat treatment.

【0042】SRa2/SRa1を上記の範囲に制御す
るためには、例えば以下の方法が有効である。すなわち
フィルムの製造工程において、エンドレスベルト等から
剥離したフィルムに接触するロール面を鏡面とする方法
や、フィルムの溶媒抽出や乾燥が急激に起こるのを防ぐ
ために、例えば溶媒抽出の工程での温度を−10〜50
℃の範囲とする方法、およびエンドレスベルト等から剥
離する際のフィルム中のポリマー濃度を30〜70重量
%とする方法、テンターでの乾燥および熱処理を実施す
る前段階で50〜100℃の温度にフィルムを予熱する
方法、あるいは上記方法の組み合わせなどが挙げられ
る。
For controlling SRa2 / SRa1 within the above range, for example, the following method is effective. In other words, in the film manufacturing process, a method in which the roll surface in contact with the film peeled off from the endless belt or the like is used as a mirror surface, or to prevent the solvent extraction and drying of the film from occurring rapidly, for example, by controlling the temperature in the solvent extraction process. -10 to 50
° C, a method in which the polymer concentration in the film at the time of peeling from an endless belt or the like is 30 to 70% by weight, and a temperature of 50 to 100 ° C before the drying and heat treatment in the tenter. Examples include a method of preheating the film, a combination of the above methods, and the like.

【0043】本発明の粗さ可変フィルムは、フレキシブ
ルプリント基板、コンデンサー、プリンタリボン、音響
振動板、太陽電池のベースフィルムなど種々の用途に好
ましく用いられるが、少なくとも片面に磁性層を設けた
磁気記録媒体として用いられると、加工時においてはそ
の易滑性故に磁性塗料の塗布性、フィルムの搬送性など
の加工特性に優れ、また、製品時においては平滑性が良
好となるため高出力、無欠点性を兼ね備えた磁気記録媒
体となるため特に好ましい。
The variable roughness film of the present invention is preferably used for various uses such as a flexible printed circuit board, a capacitor, a printer ribbon, an acoustic diaphragm, and a base film of a solar cell. When used as a medium, it has excellent processing properties such as magnetic paint coating properties and film transportability due to its slipperiness during processing, and has high output and no defects due to good smoothness in products. It is particularly preferable because the magnetic recording medium has the property.

【0044】磁気記録媒体の形態は、ディスク状、カー
ド状、テープ状等特に限定されないが、本発明の粗さ可
変フィルムの優れた表面性を活かした薄膜形状の具体例
としては、基体であるフィルムの厚みが6.5μm以
下、幅が2.3〜13mm、長さが100m/巻以上で
あり、磁気記録媒体としての記録密度(非圧縮時)が8
キロバイト/mm2以上の長尺、高密度の磁気テープと
した時に表面形状を規制すること、また高い剛性を持つ
ことによる優れた効果をより一層奏することができるの
で特に好ましい。ここで定義する記録密度とは、1カセ
ットあたりの全記録容量を使用されている磁気テープの
(長さ×幅)で除したものである。磁気テープに代表さ
れる磁気記録媒体には近年ますます小型化、高容量化の
要請が高いが、高容量化を実施する上で以下のポイント
がある。一つは、基体としてのフィルムの厚さを薄くし
て長尺化により全体としての記録容量を向上させる方法
であり、もう一つは、トラック幅の狭幅化、記録波長の
短波長化などにより単位面積当たりの記録容量を向上さ
せる方法であり、一般的にはこれらを併用する方向にあ
る。
The form of the magnetic recording medium is not particularly limited, such as a disk shape, a card shape, and a tape shape. A specific example of a thin film shape utilizing the excellent surface properties of the variable roughness film of the present invention is a substrate. The film has a thickness of 6.5 μm or less, a width of 2.3 to 13 mm, a length of 100 m / roll or more, and a recording density (uncompressed) of 8 as a magnetic recording medium.
It is particularly preferable since the surface shape is regulated when a long, high-density magnetic tape of kilobytes / mm 2 or more is used, and the excellent effects of having high rigidity can be further exhibited. The recording density defined here is obtained by dividing the total recording capacity per cassette by (length × width) of the used magnetic tape. In recent years, magnetic recording media typified by magnetic tapes have been increasingly demanded for miniaturization and high capacity, but there are the following points in implementing high capacity. One is to increase the overall recording capacity by reducing the thickness of the film as the substrate, and the other is to reduce the track width, shorten the recording wavelength, etc. Is a method for improving the recording capacity per unit area, and generally these are used in combination.

【0045】フィルムの厚みを薄くする場合には、フィ
ルムの剛性が高いことがもちろん必要であるが、フィル
ムが厚いときに較べてヘッドタッチ、ひいては電磁変換
特性に関わるフィルム表面の寄与が大きくなる。すなわ
ちテープが厚い場合は走行テンション、ヘッドへのタッ
チ圧は高く設定できるため、フィルム表面が無規制なも
のであってもヘッドに安定に接することができるのに対
し、テープの薄膜化を行った場合、走行テンションやヘ
ッドのタッチ圧は低くせざるを得ず、従って基体表面が
本発明のように規制されたものでないと、ヘッドへの密
着性、走行性が不均一、不安定なものとなるためトラッ
クの位置ずれやシグナルの欠落を発生しやすくなる。ま
た、データ転送速度の高速化の要請により、従来以上に
ヘッドとテープの相対速度が大きくなる傾向にあるが、
それによる摩擦熱を必要以上に発生させないためにも、
製品においては適度な粗さを発現することのできる本発
明の粗さ可変フィルムは極めて有効である。
When the thickness of the film is reduced, it is, of course, necessary for the film to have high rigidity. However, the contribution of the head surface and, in turn, the electromagnetic conversion characteristics of the film surface becomes larger than when the film is thick. In other words, when the tape is thick, the running tension and the touch pressure on the head can be set high, so that even if the film surface is unregulated, it can be stably contacted with the head, whereas the tape has been made thinner. In this case, the running tension and the touch pressure of the head must be reduced, and therefore, if the surface of the base is not restricted as in the present invention, the adhesion to the head and the running performance are non-uniform and unstable. As a result, track misalignment and signal loss are likely to occur. Also, due to the demand for higher data transfer speed, the relative speed between the head and the tape tends to be higher than before,
To avoid generating unnecessary frictional heat,
In a product, the roughness variable film of the present invention, which can exhibit an appropriate roughness, is extremely effective.

【0046】以上のように本発明の粗さ可変フィルム
は、こうした高容量化の要請に対し好適に応えることの
できる磁気テープとすることができる。
As described above, the variable roughness film of the present invention can be used as a magnetic tape which can suitably meet such a demand for high capacity.

【0047】基体としてのフィルムの厚みは好ましく
は、5.5μm以下、更に好ましくは4.5μm以下で
あり、磁気記録媒体としての記録密度は好ましくは25
キロバイト/mm2以上、更に好ましくは34キロバイ
ト/mm2以上である。
The thickness of the film as a substrate is preferably 5.5 μm or less, more preferably 4.5 μm or less, and the recording density as a magnetic recording medium is preferably 25 μm or less.
It is not less than kilobytes / mm 2, more preferably not less than 34 kilobytes / mm 2 .

【0048】また本発明の磁気記録媒体は、民生用、プ
ロ用、D−1、D−2、D−3等の放送局用、デジタル
ビデオカセット、DDS−2、3、4、データ8mm、
QIC、AIT等のデータストレージ用途に好適に用い
ることができるが、データ欠落等の信頼性が最も重視さ
れるデータストレージ用途に最適に用いることができ
る。
The magnetic recording medium of the present invention can be used for consumer, professional, broadcasting stations such as D-1, D-2, D-3, digital video cassettes, DDS-2, 3, 4, 8 mm data,
Although it can be suitably used for data storage applications such as QIC and AIT, it can be optimally used for data storage applications where reliability such as data loss is most important.

【0049】また磁性層の形成法は、酸化鉄、メタル粉
等の磁性粉を熱硬化性、熱可塑性あるいは放射線硬化性
などのバインダーと混練し塗布、乾燥を行う塗布法、N
i、Co、Cr、Fe、γ−Fe23などの金属または
それらの合金を蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング法などにより基材フィルム上に直接磁性金属薄膜
層を形成する乾式法のいずれの方式も採用できる。乾式
法を採用した場合、得られた磁気記録媒体の更なる耐久
性向上、滑り性付与を目的としてダイアモンド・ライク
・コーティングのような保護層、更にその上に潤滑層を
形成してもよい。
The magnetic layer may be formed by kneading a magnetic powder such as iron oxide or metal powder with a binder such as a thermosetting, thermoplastic or radiation-curing binder, and coating and drying.
Any of dry methods in which a metal such as i, Co, Cr, Fe, γ-Fe 2 O 3 or an alloy thereof is formed directly on a substrate film by vapor deposition, sputtering, ion plating, etc. A method can also be adopted. When the dry method is adopted, a protective layer such as a diamond-like coating and a lubricating layer may be further formed on the obtained magnetic recording medium for the purpose of further improving the durability and imparting slipperiness.

【0050】また、磁化方式については、水平磁化、垂
直磁化のいずれをも問わず、更に光記録テープにも好適
に使用できる。
Regarding the magnetization method, it can be used for optical recording tapes regardless of horizontal magnetization or vertical magnetization.

【0051】尚、本発明の粗さ可変フィルムは、単層で
あっても、多層であっても差し支えない。多層の場合、
本発明のフィルム表面が少なくとも一面の最外層に積層
されることが好ましく、更にその積層厚みが0.3μm
以上であると本発明の効果を十分に奏することができる
ので好ましい。
Incidentally, the variable roughness film of the present invention may be a single layer or a multilayer. For multi-layer,
It is preferable that the film surface of the present invention is laminated on at least one outermost layer, and the laminated thickness is 0.3 μm
This is preferable because the effects of the present invention can be sufficiently achieved.

【0052】次に本発明の粗さ可変フィルムの製造法に
ついて、有機高分子体が芳香族ポリアミドである場合に
ついて記すが、これに限定されるものではない。
Next, the method for producing the variable roughness film of the present invention will be described for the case where the organic polymer is an aromatic polyamide, but the present invention is not limited thereto.

【0053】まず、ポリマーであるが、前述した芳香族
ポリアミドに、後述する異種重合体を含有せしめること
が好ましい。
First, as for the polymer, it is preferable that the above-mentioned aromatic polyamide contains a heteropolymer described later.

【0054】まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリ
ドとジアミンから得る場合には、N−メチルピロリドン
(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメ
チルホルムアミド(DMF)などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。 この時、低分子量物の生成を
抑制するため、反応を阻害するような水、その他の物質
の混入は避けるべきであり、効率的な攪拌手段をとるこ
とが好ましい。また、原料の当量性は重要であるが、製
膜性を損なう恐れのある時は、適当に調整することがで
きる。また、溶解助剤として塩化カルシウム、塩化マグ
ネシウム、塩化リチウム、臭化リチウム、硝酸リチウム
などを添加しても良い。
First, an aromatic polyamide. When it is obtained from an acid chloride and a diamine, it is prepared in an aprotic organic polar solvent such as N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylacetamide (DMAc) or dimethylformamide (DMF). It is synthesized by solution polymerization or interfacial polymerization using an aqueous medium. At this time, in order to suppress the generation of low molecular weight substances, it is necessary to avoid mixing of water and other substances that would hinder the reaction, and it is preferable to use efficient stirring means. In addition, the equivalence of the raw materials is important, but when there is a risk of impairing the film forming property, it can be adjusted appropriately. Further, calcium chloride, magnesium chloride, lithium chloride, lithium bromide, lithium nitrate, or the like may be added as a dissolution aid.

【0055】単量体として芳香族ジ酸クロリドと芳香族
ジアミンを用いると塩化水素が副生するが、これを中和
する場合には、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭
酸リチウムなどの周期律表I族かII族のカチオンと水
酸化物イオン、炭酸イオンなどのアニオンからなる塩に
代表される無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プ
ロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、
トリエタノ−ルアミン、ジエタノ−ルアミンなどの有機
の中和剤が使用される。また、基材フィルムの湿度特性
を改善する目的で、塩化ベンゾイル、無水フタル酸、酢
酸クロリド、アニリン等を重合の完了した系に添加し、
ポリマーの末端を封鎖しても良い。また、イソシアネー
トとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒
中、触媒の存在下で行なわれる。
When an aromatic diacid chloride and an aromatic diamine are used as monomers, hydrogen chloride is by-produced. When neutralizing this, hydrogen chloride, calcium carbonate, lithium carbonate and other periodic table are used. Inorganic neutralizers represented by salts of Group I or Group II cations and hydroxide ions, anions such as carbonate ions, ethylene oxide, propylene oxide, ammonia, triethylamine,
Organic neutralizing agents such as triethanolamine and diethanolamine are used. Also, for the purpose of improving the humidity characteristics of the base film, benzoyl chloride, phthalic anhydride, acetic chloride, aniline, etc. are added to the system after polymerization,
The ends of the polymer may be blocked. The reaction between the isocyanate and the carboxylic acid is performed in an aprotic organic polar solvent in the presence of a catalyst.

【0056】これらのポリマー溶液はそのまま異種重合
体とのブレンド用原液として使用してもよく、あるいは
ポリマを一度単離してから上記の有機溶媒や、硫酸等の
無機溶剤に再溶解してブレンド用原液を調製してもよ
い。
These polymer solutions may be used directly as a stock solution for blending with a different polymer, or the polymer may be isolated once and then redissolved in the above-mentioned organic solvent or an inorganic solvent such as sulfuric acid to form a blend. A stock solution may be prepared.

【0057】また、添加させる異種重合体とは、前述の
芳香族ポリアミド以外の繰り返し単位を有する一種以上
の重合体である。異種重合体の含有量は、目的により最
適となるよう決定されるが、芳香族ポリアミドの優れた
機械特性、耐熱性を損なわないため、また、Ra2/R
a1を本発明の範囲に効果的に規制するために、芳香族
ポリアミドと異種重合体の総量に対し、0.1重量%以
上30重量%以下であることが好ましい。該重量分率が
0.1重量%未満の場合、突起の高さおよび個数が十分
でなく、熱処理の効果が顕著に見られないことがある。
また、30重量%を超える場合は、表面が大きくうねり
実用に適さないだけではなく、フイルムの機械特性が劣
化することがある。異種重合体の含有量は、用いられる
芳香族ポリアミドと異種重合体の種類、溶解性、分子
量、成形体のサイズ等により適切な設計が為されるべき
であるが、より好ましくは、0.5重量%以上8重量%
以下であり、更に好ましくは、1重量%以上6重量%以
下である。
The heteropolymer to be added is at least one polymer having a repeating unit other than the above-mentioned aromatic polyamide. The content of the heteropolymer is determined so as to be optimal depending on the purpose. However, since the excellent mechanical properties and heat resistance of the aromatic polyamide are not impaired, Ra2 / R
In order to effectively restrict a1 within the range of the present invention, the content is preferably 0.1% by weight or more and 30% by weight or less based on the total amount of the aromatic polyamide and the heteropolymer. When the weight fraction is less than 0.1% by weight, the height and the number of the projections are not sufficient, and the effect of the heat treatment may not be remarkably observed.
On the other hand, if it exceeds 30% by weight, not only is the surface undulating and not suitable for practical use, but also the mechanical properties of the film may deteriorate. The content of the heteropolymer should be appropriately designed according to the type of the aromatic polyamide and the heteropolymer used, the solubility, the molecular weight, the size of the molded article, etc., and more preferably, 0.5 8% by weight or more
Or less, more preferably 1% by weight or more and 6% by weight or less.

【0058】かかる異種重合体の種類は、目的の表面を
設計するために適宜選定され、特に限定されるものでは
ないが、芳香族ポリアミドの溶解性パラメーターδa、
含有される異種重合体の溶解性パラメーターδbとした
ときに、下式を充たすことが、本発明の目的を達成する
上で好ましい。
The kind of such a heteropolymer is appropriately selected for designing a target surface, and is not particularly limited, but the solubility parameter δa of the aromatic polyamide,
When the solubility parameter δb of the heterogeneous polymer contained is satisfied, it is preferable to satisfy the following expression in order to achieve the object of the present invention.

【0059】 50(MJ/m31/2≦δa≦70(MJ/m31/2 2(MJ/m31/2≦|δa−δb|≦20(MJ/m
31/2 ここで言う溶解性パラメーターとは、Fedorsの方
法により計算される値である(計算方法は、例えば、Pr
operties of Polymers, chapter 7(D.W.Van Kreveren
著、1976、Elsevier)等に示されている)。芳香族ポリ
アミド、異種重合体の構造によっては、含有される化学
種のパラメーターが求められていないためFedors
の方法で計算できないものもあるが、その場合は近似の
化学種を用いることで代用する(例えば、−SO2−に
ついてのパラメーターはないが、−S−と、−O−,−
O−の値を用いて代用することとする)。溶解性パラメ
ーターは、異種ポリマー間の相溶性の目安となるパラメ
ーターであり、δa、δbが上記の範囲であると、分散
相の大きさが規制され、本発明において好ましい表面突
起を容易に形成することができる。
50 (MJ / m 3 ) 1/2 ≦ δa ≦ 70 (MJ / m 3 ) 1/2 2 (MJ / m 3 ) 1/2 ≦ | δa−δb | ≦ 20 (MJ / m
3 ) 1/2 The solubility parameter mentioned here is a value calculated by the method of Fedors (calculation method is, for example, Pr
operties of Polymers, chapter 7 (DWVan Kreveren
Authors, 1976, Elsevier), etc.). Because the parameters of the chemical species contained are not required depending on the structure of the aromatic polyamide or the heteropolymer, Fedors
Of but some of which can not be calculated in a way, that case is replaced by the use of species approximating (e.g., -SO 2 - but parameters not for, and -S-, -O -, -
The value of O- will be used instead). The solubility parameter is a parameter serving as a measure of the compatibility between different polymers. When δa and δb are within the above ranges, the size of the dispersed phase is regulated, and the surface projections preferable in the present invention are easily formed. be able to.

【0060】|δa−δb|は、より好ましくは、 2(MJ/m31/2≦|δa−δb|≦16(MJ/m
31/2 であり、更に好ましくは、 2(MJ/m31/2≦|δa−δb|≦12(MJ/m
31/2 である。
| Δa−δb | is more preferably 2 (MJ / m 3 ) 1/2 ≦ | δa−δb | ≦ 16 (MJ / m
3 ) 1/2 , and more preferably 2 (MJ / m 3 ) 1/2 ≦ | δa−δb | ≦ 12 (MJ / m
3 ) 1/2 .

【0061】また、芳香族ポリアミド本来の耐熱性、機
械特性を充分に発揮させるためには異種重合体も耐熱性
に優れることが好ましく、ガラス転移温度、またはガラ
ス転移温度が明確でない場合は、JIS−D648に記
載の熱変形温度が、150℃以上、より好ましくは、2
00℃以上であることが好ましい。
In order to sufficiently exhibit the inherent heat resistance and mechanical properties of the aromatic polyamide, it is preferable that the heteropolymer also has excellent heat resistance. If the glass transition temperature or the glass transition temperature is not clear, JIS The heat distortion temperature described in D648 is 150 ° C. or higher, more preferably 2 ° C.
It is preferably at least 00 ° C.

【0062】このような異種重合体の例としては、ポリ
スルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスルフィドスル
ホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミ
ド、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキ
シド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリイミドまたはその前
駆体であるポリアミド酸、ポリフッ化ビニリデン、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリビニルアル
コール等が挙げられるが、形成される表面突起の均一
性、耐熱性の点から、ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン、ポリスルフィドスルホンなどの芳香族ポリスルホ
ン系重合体、芳香族ポリエーテルイミド系重合体、ポリ
フェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシドなど
のポリフェニレンオキシド系重合体、ポリエーテルケト
ン、ポリエーテルエーテルケトンなどの芳香族ポリケト
ン系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどの芳
香族ポリエステル系重合体、ポリイミドまたはその前駆
体であるポリアミド酸を用いる芳香族ポリイミド系重合
体等から選ばれる少なくとも一種の重合体を含有するこ
とが好ましい。この中で特に好ましいのは、芳香族ポリ
スルホン系重合体である。ここでいう芳香族ポリスルホ
ン系重合体とは、ビスフェノ−ルAのナトリウム塩と、
4,4’−ジクロロジフェニルスルホンとの重縮合、4
−(4−クロロフェニルスルホニル)フェノ−ルのカリ
ウム塩の重縮合などにより製造されるポリスルホンに代
表される繰り返し単位中に少なくとも1個のスルホン基
−SO2−を有する芳香族ポリスルホン系重合体であ
り、具体的には、下式で表される繰り返し単位を有する
公知の芳香族ポリスルホン系重合体が挙げられ、これら
を2種以上用いても差し支えない。
Examples of such heteropolymers include polysulfone, polyether sulfone, polysulfide sulfone, polyphenylene sulfide, polyether imide, polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polyether ketone, polyether ether ketone, polycarbonate, and polyethylene terephthalate. ,
Polybutylene terephthalate, polyimide or its precursor polyamic acid, polyvinylidene fluoride, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl alcohol, and the like. Aromatic polysulfone polymers such as ether sulfone and polysulfide sulfone, aromatic polyetherimide polymers, polyphenylene oxide, polyphenylene oxide polymers such as modified polyphenylene oxide, aromatic polyketones such as polyetherketone and polyetheretherketone -Based polymers, polycarbonate-based polymers, aromatic polyester-based polymers such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyimides or polyamides that are precursors thereof Preferably contains at least one polymer selected from an aromatic polyimide polymer and the like used. Of these, aromatic polysulfone polymers are particularly preferred. The aromatic polysulfone polymer referred to herein is a sodium salt of bisphenol A,
Polycondensation with 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone, 4
- (4-chlorophenyl sulfonyl) phenol - is an aromatic polysulfone polymer having a - -SO 2 at least one sulfonic group in the repeating unit represented by polysulfone manufactured by such polycondensation of the potassium salt of Le Specifically, a known aromatic polysulfone-based polymer having a repeating unit represented by the following formula may be mentioned, and two or more of these may be used.

【0063】[0063]

【化4】 ここで、nは正の整数であり、5以上1000以下のも
のが耐熱性および有機溶媒への溶解性の点で好ましい。
また、この中でも特に、
Embedded image Here, n is a positive integer, and a value of 5 or more and 1000 or less is preferable in terms of heat resistance and solubility in an organic solvent.
In particular,

【0064】[0064]

【化5】 が均一な突起を形成できる点で好ましい。Embedded image Is preferred in that uniform projections can be formed.

【0065】上記の芳香族ポリスルホン系重合体は、重
量分率で0.1%以上10%未満、より好ましくは0.
5%以上8%以下、更に好ましくは、1%以上6%以下
含有させることが望ましい。芳香族ポリスルホン系重合
体は、芳香族ポリアミドとは完全には相溶しないもので
あるが、本発明者らは、ポリマ−溶液とした場合、芳香
族ポリスルホン系重合体が少量であれば相溶性が良好
で、この混合溶液から後述のように注意深く製膜すれ
ば、芳香族ポリアミドと芳香族ポリスルホン系重合体と
の相分離により均一な突起が形成され、更に製膜後の熱
処理により表面粗さを制御しうることを見出したのであ
る。該重量分率が0.1%未満の場合、突起の高さおよ
び個数が十分でなく、熱処理の効果が顕著に見られない
ことがある。また、10%以上の場合は、表面が大きく
うねり実用に適さないだけではなく、フイルムの機械特
性が劣化することがある。
The above-mentioned aromatic polysulfone polymer is contained in a weight fraction of 0.1% or more and less than 10%, more preferably 0.1% by weight.
It is desirable to contain 5% or more and 8% or less, more preferably 1% or more and 6% or less. Although the aromatic polysulfone polymer is not completely compatible with the aromatic polyamide, the present inventors have found that when a polymer solution is used, the compatibility is small if the amount of the aromatic polysulfone polymer is small. If a film is carefully formed from this mixed solution as described later, uniform projections are formed by phase separation between the aromatic polyamide and the aromatic polysulfone polymer, and the surface roughness is further increased by heat treatment after the film formation. Can be controlled. If the weight fraction is less than 0.1%, the height and number of the projections are not sufficient, and the effect of the heat treatment may not be remarkably observed. On the other hand, if it is 10% or more, not only is the surface undulating and not suitable for practical use, but also the mechanical properties of the film may deteriorate.

【0066】芳香族ポリアミドと異種重合体とのブレン
ド方法としては、芳香族ポリアミドの重合前あるいは重
合後に、ペレット、粉末状の異種重合体を直接あるい
は、溶剤に溶解させて添加しても構わないが、芳香族ポ
リアミドと異種重合体とを溶剤に溶解させた状態でブレ
ンドし、成型用原液とすることが好ましい。芳香族ポリ
アミドと異種重合体を溶解させる溶剤は、それぞれ異な
ったものでも構わないが、コスト、生産性等の工業的メ
リットを勘案すると同種の溶剤が好ましい。このような
溶剤としては、N−メチルー2ーピロリドン、ジメチル
アセトアミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチレン
ホスホルアミド、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチル
スルホンなどの有機溶媒や濃硫酸等の鉱酸が挙げられ
る。
As a method for blending the aromatic polyamide and the heteropolymer, a pellet or powdery heteropolymer may be added directly or after being dissolved in a solvent before or after the polymerization of the aromatic polyamide. However, it is preferable to blend the aromatic polyamide and the heterogeneous polymer in a state of being dissolved in a solvent to obtain a stock solution for molding. Solvents for dissolving the aromatic polyamide and the different polymer may be different from each other, but the same type of solvent is preferable in view of industrial advantages such as cost and productivity. Examples of such a solvent include organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylacetamide, dimethylformamide, hexamethylenephosphoramide, dimethylimidazolidinone, and dimethylsulfone, and mineral acids such as concentrated sulfuric acid.

【0067】また、上記工程中に無機あるいは有機粒子
を添加しても良い。
Further, inorganic or organic particles may be added during the above steps.

【0068】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためにはポリマの固有粘度(ポリマ0.5gを硫酸中で
100mlの溶液として30℃で測定した値)は、0.
5以上であることが好ましい。
In order to obtain the aromatic polyamide film of the present invention, the intrinsic viscosity of the polymer (measured at 30 ° C. as a 100 ml solution of 0.5 g of the polymer in sulfuric acid) is 0.1.
It is preferably 5 or more.

【0069】次に本発明の粗さ可変フィルムの成形法に
つき、芳香族ポリアミドの場合を例にとって説明する。
Next, the method of forming a variable roughness film of the present invention will be described by taking an aromatic polyamide as an example.

【0070】上記のように調製された製膜原液は、濾過
精度が6000nm以下のフィルターによって濾過され
た後、いわゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれ
る。溶液製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法がある
が、本発明においては、相分離による表面突起形成を制
御しやすい点で、乾湿式法または乾式法が好ましい。乾
湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、エン
ドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次い
でかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性を
もつまで乾燥する。
The membrane-forming stock solution prepared as described above is filtered through a filter having a filtration accuracy of 6000 nm or less, and then formed into a film by a so-called solution casting method. The solution casting method includes a dry-wet method, a dry method, and a wet method. In the present invention, the dry-wet method or the dry method is preferred because the formation of surface projections by phase separation is easily controlled. When a film is formed by a dry-wet method, the undiluted solution is extruded from a die onto a support such as a drum or an endless belt to form a thin film, and then the solvent is scattered from the thin film layer and dried until the thin film has a self-holding property.

【0071】本発明の粗さ可変フィルムを得るには、こ
の乾燥工程条件が重要なポイントの1つであり、得られ
るフィルムの表面性に大きな影響を与える。すなわち、
原液キャスト時の支持体温度Tb(℃)とキャストフィ
ルム上に導入される熱風温度Ta(℃)が、下式を充た
す範囲であると溶剤乾燥時に発生する対流効果により異
種重合体が、場所によらず表面に析出するために、均
一、微細な表面突起を持つ本発明の芳香族ポリアミド系
フィルムを好適に得ることが可能となる。
In order to obtain the variable roughness film of the present invention, the drying step condition is one of the important points, and has a great influence on the surface properties of the obtained film. That is,
When the support temperature Tb (° C.) and the hot air temperature Ta (° C.) introduced onto the cast film at the time of casting the undiluted solution are within the range satisfying the following formula, the heterogeneous polymer is placed in the place due to the convection effect generated during solvent drying. Regardless, the aromatic polyamide-based film of the present invention having uniform and fine surface projections can be suitably obtained because it is deposited on the surface.

【0072】20≦Ta−TbTa−Tbが20℃未満
では、温度による対流効果が小さいため、充分な突起を
形成できないことがあり、より好ましくは40℃以上で
あり、更に好ましくは50℃以上である。Ta−Tbの
上限は極端な乾燥斑が発生しない範囲として100℃程
度である。
If 20 ≦ Ta−TbTa−Tb is less than 20 ° C., the convection effect due to temperature is small, so that sufficient projections may not be formed, more preferably 40 ° C. or more, further preferably 50 ° C. or more. is there. The upper limit of Ta-Tb is about 100 ° C. as a range in which extreme dry spots do not occur.

【0073】支持体としてエンドレスベルトを使用する
場合、エンドレスベルト上下の加熱温度を調整するこ
と、あるいは、フィルム剥離後にエンドレスベルトを冷
却することで、ポリマーキャスト時の温度差を好適に付
与できる。更にキャストフィルムから溶媒を飛散させ、
薄膜を乾燥する際に、脱溶媒速度を3〜20%/分、好
ましくは5〜15%/分で乾燥することが一層好まし
い。脱溶媒速度が3%/分未満の場合、突起が扁平にな
り、平均粗さの比が本発明の範囲を充たさないことがあ
る。また、脱溶媒速度が20%/分を超える場合、粗大
突起が多くなり、表面が粗れ、平均粗さの比が本発明の
範囲を超えることがある。更に、芳香族ポリアミドある
いは異種重合体の種類により口金からのキャスト温度を
40℃〜150℃の範囲で制御することにより、ポリマ
ー溶液段階で相分離を起こしやすい芳香族ポリアミド系
ポリマーを溶液中では、相溶し、成形時に相分離せしめ
本発明の表面突起を持つフィルムに仕上げることができ
る。また、この乾燥工程で用いられるドラム、エンドレ
スベルトの表面欠点頻度を制御することでベルト接触面
の表面性を制御できる。好ましくは径が30μm以上の
表面欠点頻度が0.001〜0.02個/mm2、より
好ましくは0.002〜0.015個/mm2である。
When an endless belt is used as a support, a temperature difference during polymer casting can be suitably imparted by adjusting the heating temperature of the upper and lower ends of the endless belt, or by cooling the endless belt after peeling the film. Further, the solvent is scattered from the cast film,
When drying the thin film, it is more preferable to dry at a solvent removal rate of 3 to 20% / min, preferably 5 to 15% / min. When the desolvation rate is less than 3% / min, the projections become flat, and the ratio of the average roughness may not satisfy the range of the present invention. When the solvent removal rate exceeds 20% / min, the number of coarse projections increases, the surface becomes rough, and the ratio of the average roughness may exceed the range of the present invention. Furthermore, by controlling the casting temperature from the die in the range of 40 ° C. to 150 ° C. depending on the type of the aromatic polyamide or the heteropolymer, the aromatic polyamide-based polymer which easily undergoes phase separation in the polymer solution stage is in solution. The film having the surface protrusions according to the present invention can be finished by melting and phase separation at the time of molding. In addition, the surface property of the belt contact surface can be controlled by controlling the frequency of surface defects of the drum and the endless belt used in the drying step. The frequency of surface defects having a diameter of 30 μm or more is preferably 0.001 to 0.02 defects / mm 2 , more preferably 0.002 to 0.015 defects / mm 2 .

【0074】こうして自己支持性を得たフィルムは、次
いで湿式工程に導入される。湿式浴は一般に水系媒体か
らなるものであり、水の他に有機、無機の溶剤や無機塩
等を含有していてもよい。該浴温度は通常0〜100℃
で使用され、湿式浴を通すことでフィルム中に含有され
た塩類、溶媒の抽出が行なわれる。ここで湿式浴に導入
されるときのフィルムは未だ充分な表面硬度を持ってい
ないため、湿式浴媒体にコンタミ等があるとフィルム表
面の付着し表面性が悪化する。このため湿式浴に使用さ
れる媒体は、濾過精度6000nm以下、好ましくは5
000nm以下、更に好ましくは3000nm以下のフ
ィルターを通して供給される必要がある。これら湿式浴
全体を通過する時間はフィルムの厚みにもよるが10秒
〜30分である。さらに必要に応じフィルムの長手方向
に延伸が行なわれる。
The film having thus obtained self-supporting property is then introduced into a wet process. The wet bath is generally composed of an aqueous medium, and may contain an organic or inorganic solvent or an inorganic salt in addition to water. The bath temperature is usually 0 to 100 ° C.
The salt and the solvent contained in the film are extracted by passing through a wet bath. Here, the film when introduced into the wet bath does not yet have a sufficient surface hardness, so if there is contamination or the like in the wet bath medium, the film surface adheres and the surface properties deteriorate. For this reason, the medium used for the wet bath has a filtration accuracy of 6000 nm or less, preferably 5 nm or less.
It needs to be supplied through a filter of 000 nm or less, more preferably 3000 nm or less. The time required to pass through these wet baths is 10 seconds to 30 minutes, depending on the thickness of the film. Further, if necessary, the film is stretched in the longitudinal direction.

【0075】フィルムは次いでテンターに導入され乾燥
および/または熱処理が行なわれるが、かかる乾燥およ
び/または熱処理条件が本発明の粗さ可変フィルムを得
るための重要な条件の1つである。乾燥および/または
熱処理は、一般にスリット状あるいは円筒状のノズルか
ら熱風をフィルム面に吹き付けることにより行われる
が、その最高温度が異種重合体のガラス転移温度または
熱変形温度(℃:以下Tgと記す)以上、(Tg+10
0)℃以下で行われると本発明のフィルムを達成する上
で好ましい。最高温度はより好ましくは、Tg以上(T
g+80)℃以下であり、更に好ましくはTg以上(T
g+50)℃である。また、Ra2/Ra1を本発明の
範囲に規制するためには、上記ノズルの風速を2m/秒
から13m/秒の範囲、より好ましくは、2m/秒から
8m/秒の範囲に規制することが好ましい。また、上記
最高温度による乾燥および/または熱処理は、テンター
中であれば何れの時点で行われても良い。例えば、一旦
乾燥後最高温度による熱処理を行っても良く、また、最
高温度による処理後、更にそれ以下の温度で熱処理を加
えても良い。
The film is then introduced into a tenter and subjected to drying and / or heat treatment, and such drying and / or heat treatment conditions are one of the important conditions for obtaining the variable roughness film of the present invention. Drying and / or heat treatment is generally performed by blowing hot air from a slit or cylindrical nozzle onto the film surface. The maximum temperature is the glass transition temperature or heat deformation temperature (° C .; hereinafter referred to as Tg) of the heterogeneous polymer. ) Or more, (Tg + 10
0) When carried out at a temperature of not more than 0 ° C., it is preferable to achieve the film of the present invention. The maximum temperature is more preferably Tg or more (T
g + 80) ° C. or lower, more preferably Tg or higher (T
g + 50) ° C. Further, in order to regulate Ra2 / Ra1 within the range of the present invention, it is necessary to regulate the wind speed of the nozzle in the range of 2 m / sec to 13 m / sec, more preferably in the range of 2 m / sec to 8 m / sec. preferable. The drying and / or heat treatment at the maximum temperature may be performed at any time as long as it is in the tenter. For example, heat treatment may be performed once at the maximum temperature after drying, or heat treatment may be performed at a temperature lower than that after the treatment at the maximum temperature.

【0076】以上のように形成されるフィルムはその製
膜工程中で、延伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で
0.8〜4.0(面倍率とは延伸後のフィルム面積を延
伸前のフィルムの面積で除した値で定義する。1以下は
リラックスを意味する。)の範囲内にあることが好まし
い。面倍率が0.8未満であると、フィルム表面が大き
くうねり、実用に適さないことがある。また、延伸倍率
が4.0より高いと、Ra2/Ra1が本発明の範囲を
外れることがある。より好ましくは1.2から1.8で
ある。面倍率が0.8未満であると、フィルム表面が大
きくうねり、実用に適さないことがある。
The film formed as described above is stretched during the film forming process, and the stretching ratio is 0.8 to 4.0 (area ratio). It is defined by the value divided by the area of the previous film. 1 or less means relaxation.) If the areal magnification is less than 0.8, the film surface may have large undulations and may not be suitable for practical use. If the stretching ratio is higher than 4.0, Ra2 / Ra1 may fall outside the range of the present invention. More preferably, it is 1.2 to 1.8. If the areal magnification is less than 0.8, the film surface may have large undulations and may not be suitable for practical use.

【0077】また、延伸あるいは熱処理後のフィルムを
徐冷する事が有効であり、50℃/秒以下の速度で冷却
する事が有効である。
It is effective to gradually cool the film after stretching or heat treatment, and it is effective to cool the film at a rate of 50 ° C./sec or less.

【0078】このようにして得られた本発明の粗さ可変
フィルムは、実質的に無拘束の状態で熱処理を加えるこ
とによりRa2/Ra1を本発明の範囲内とすることが
できる。芳香族ポリアミドの場合、熱処理温度は250
℃以上400℃以下の熱処理を加えることが好ましく、
芳香族ポリアミド、含有される異種重合体の種類によ
り、熱処理条件を変化させることで、所望のRa2/R
a1を得ることが可能となる。
The thus-obtained variable roughness film of the present invention can have Ra2 / Ra1 within the range of the present invention by applying a heat treatment in a substantially unconstrained state. In the case of aromatic polyamide, the heat treatment temperature is 250
It is preferable to add a heat treatment of not less than 400 ° C.
The desired Ra2 / R is obtained by changing the heat treatment conditions depending on the kind of the aromatic polyamide and the heteropolymer contained.
a1 can be obtained.

【0079】尚、フィルムを多層構造とする場合、例え
ば2層の場合には重合した芳香族ポリアミド溶液を二分
し、少なくとも一方を上気した本発明で好ましく使用さ
れるポリマーに調製し、積層することにより製造でき、
更に3層以上の場合も同様である。積層の方法として
は、周知の方法、例えば、口金内での積層、複合管での
積層や、一旦1層を形成しておいてその上に他の層を積
層する方法などが挙げられる。
When the film has a multilayer structure, for example, in the case of two layers, the polymerized aromatic polyamide solution is bisected, and at least one is prepared into a polymer preferably used in the present invention and laminated. Can be manufactured by
The same applies to the case of three or more layers. Examples of the lamination method include a well-known method, for example, lamination in a die, lamination in a composite pipe, and a method in which one layer is formed once and another layer is laminated thereon.

【0080】次に、本発明における特性値について、そ
の測定法および評価基準を説明する。
Next, measurement methods and evaluation criteria for the characteristic values in the present invention will be described.

【0081】(1)平均粗さ(Ra)、突起個数、突起
高さ、突起断面積割合について:原子間力顕微鏡(AF
M)を用いて以下の条件で、場所を変えて測定を10回
行う。 装置:NanoScopeIII AFM(Digital Instruments社製) カンチレバー:シリコン単結晶 走査モード :タッピングモード 走査範囲 :5μm×5μm 走査速度 :0.5Hz 測定環境 :温度 25℃、相対湿度 55% Ra、突起個数については、上記測定で得られた値の平
均値とする。
(1) About average roughness (Ra), number of protrusions, protrusion height, and protrusion cross-sectional area ratio: Atomic force microscope (AF)
Using M), measurement is performed 10 times at different locations under the following conditions. Apparatus: NanoScopeIII AFM (Digital Instruments) Cantilever: Silicon single crystal Scanning mode: Tapping mode Scanning range: 5 μm × 5 μm Scanning speed: 0.5 Hz Measurement environment: Temperature 25 ° C., relative humidity 55% Ra, number of protrusions The average value of the values obtained in the above measurement is used.

【0082】一定の高さの水平面で切った突起の断面積
の総面積に対する割合は、平坦面(0nm)から、一定
の高さの平坦面と平行な断面で切断したときの断面積を
上記のAFM測定より求め、その断面積を測定面積で除
した値に100を乗じたものとする。
The ratio of the cross-sectional area of the projection cut by a horizontal plane at a constant height to the total area is obtained by dividing the cross-sectional area when cutting from a flat surface (0 nm) by a cross section parallel to the flat surface at a constant height. And the value obtained by dividing the cross-sectional area by the measured area is multiplied by 100.

【0083】尚、走査電子顕微鏡にてシャドーイング
(5°)をかけた像を倍率30000倍以上で観察し、
影の長さより高さ5nm以上の突起をカウントすること
により、突起個数を求めても良い。また、それぞれの突
起の(長径+短径)/2をその突起の平均直径とし、突
起高さ/平均直径を100個以上の突起について求め、
その平均をHDとしても良い。
The image subjected to shadowing (5 °) was observed with a scanning electron microscope at a magnification of 30,000 or more.
The number of protrusions may be obtained by counting protrusions having a height of 5 nm or more than the length of the shadow. Also, (major axis + minor axis) / 2 of each projection is defined as the average diameter of the projection, and the projection height / average diameter is obtained for 100 or more projections.
The average may be set to HD.

【0084】(2)引張りヤング率・伸度 フィルムを幅10mm、長さ150mmに切断し、チャ
ック間距離100mmにして引張速度300mm/分、
チャート速度500mm/分、温度23℃、相対湿度6
5%の条件下にて、インストロンタイプの引張試験装置
にて引っ張る。得られた荷重ー伸び曲線の立ち上がり部
の接線より引張りヤング率を求める。またフィルム破断
時の長さからチャック間距離を減じたものをチャック間
距離で除したものに100を乗じて伸度とした。
(2) Tensile Young's Modulus and Elongation The film was cut into a width of 10 mm and a length of 150 mm, and the distance between the chucks was set to 100 mm, and the tensile speed was 300 mm / min.
Chart speed 500 mm / min, temperature 23 ° C, relative humidity 6
Under the condition of 5%, it is pulled with an Instron type tensile tester. The tensile Young's modulus is determined from the tangent at the rising portion of the obtained load-elongation curve. In addition, the elongation was obtained by multiplying the value obtained by subtracting the distance between the chucks from the length at the time of breaking the film by the distance between the chucks and multiplying by 100.

【0085】(3)3次元表面粗さ 小坂製作所(株)製の微細形状測定器ET−30HKを
用いて測定した。検出には光触針(HIPOSS,商品
名)を用い、フィルム表面に真空下でアルミ蒸着を施し
た後に測定した。測定条件を以下に記す。 イ.SRa1(測定面積0.002mm2) ・長手方向の測定長 0.02mm ・幅方向の測定長 0.10mm ・カットオフ値 0.08mm ロ.SRa2(測定面積1.0mm2) ・長手方向の測定長 0.50mm ・幅方向の測定長 2.00mm ・カットオフ値 0.08mm (4)粗大突起個数について フィルム表面50cm2 以上の範囲を実体顕微鏡にて
偏光下に観察し異物などの粗大突起をマーキングする。
その突起高さは多重干渉法により求め、個数を100c
2 当たりの個数に換算した。
(3) Three-dimensional surface roughness The surface roughness was measured using a fine shape measuring device ET-30HK manufactured by Kosaka Seisakusho Co., Ltd. For the detection, an optical stylus (HIPOSS, trade name) was used, and the film surface was subjected to aluminum evaporation under vacuum, and then measured. The measurement conditions are described below. I. SRa1 (measurement area 0.002 mm 2 ) ・ Measurement length in the longitudinal direction 0.02 mm ・ Measurement length in the width direction 0.10 mm ・ Cutoff value 0.08 mm b. SRa2 (measurement area: 1.0 mm 2 ) ・ Measurement length in the longitudinal direction 0.50 mm ・ Measurement length in the width direction 2.00 mm ・ Cutoff value 0.08 mm (4) Number of coarse projections Observe under polarized light and mark coarse projections such as foreign matter.
The height of the protrusion is determined by the multiple interference method, and the number is 100 c.
It was converted to the number per m 2 .

【0086】(5)含有粒子の平均粒子径 電子顕微鏡にて粒子を観察し、粒子の画像(粒子によっ
てできる光の濃淡)をイメ−ジアナライザ−(たとえば
ケンブリッジインストルメンタル製QTM900)に結
び付け、観察箇所を変えて粒子数5000個以上で次の
数値処理を行い、それによって求めた数平均径Dを平均
粒子径とする。 D=ΣDi/N ここで、Diは粒子の円相当径、Nは個数である。
(5) Average Particle Diameter of Containing Particles The particles are observed with an electron microscope, and the image of the particles (shading of light generated by the particles) is linked to an image analyzer (for example, QTM900 manufactured by Cambridge Instrumental Corporation) and observed. The following numerical processing is performed for 5000 or more particles at different locations, and the number average diameter D obtained thereby is defined as the average particle diameter. D = ΣDi / N Here, Di is the equivalent circle diameter of the particles, and N is the number.

【0087】(6)含有粒子の相対標準偏差 上記(5)の方法で測定された個々の粒子径Di、平均
粒子径D、粒子総数Nから計算される標準偏差σ(=
{Σ(Di−D)2 /N})を平均粒子径Dで割った
値(σ/D)で表わした。
(6) Relative standard deviation of contained particles The standard deviation σ (=) calculated from the individual particle diameter Di, the average particle diameter D, and the total number N of particles measured by the method (5).
{(Di-D) 2 / N}) was divided by the average particle diameter D (σ / D).

【0088】(7)含有粒子の含有量 粒子は溶解させない溶媒を選択しフィルムを溶解させ、
粒子を遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率(重量
%)をもって粒子含有量とする。場合によっては赤外分
光法の併用も有効である。
(7) Content of Content Particles A solvent that does not dissolve the particles is selected and the film is dissolved.
The particles are centrifuged, and the ratio (% by weight) to the total weight of the particles is defined as the particle content. In some cases, the combined use of infrared spectroscopy is also effective.

【0089】(8)脱溶媒速度 乾式工程でt分間乾燥後ベルトから剥離したゲルフィル
ムの一部を切り取り重量(W1)を測定する。このフィ
ルムを水浴中で10分間洗浄後、280℃で熱処理し、
その重量(W2)からゲルフィルム中のポリマ−濃度
(P1)を下式により算出する。脱溶媒速度は、P1と製
膜原液の初期濃度P0から下式 P1 = (W2/W1)×100 脱溶媒速度 = (P1−P0)/t により算出する。
(8) Desolvation Rate After drying for t minutes in the dry process, a part of the gel film peeled off from the belt is cut off and the weight (W 1 ) is measured. This film was washed in a water bath for 10 minutes and then heat-treated at 280 ° C.
From the weight (W 2 ), the polymer concentration (P 1 ) in the gel film is calculated by the following equation. Desolvation rate, P 1 and film initial concentration P 0 the following equation from P 1 = (W 2 / W 1) × 100 desolvation rate = (P 1 -P 0) of the stock solution is calculated by / t.

【0090】(9)熱収縮率 常温において、フィルムを幅1cm、長さ20cmの短
冊状にサンプリングし、長さ方向に15cm間隔の標線
を記す。ついでこのフィルムを所定の温度に設定された
熱風オーブンで、5分間加熱後オーブンより取り出す。
このフィルムを常温まで冷却後、標線間の距離を測定
し、下式
(9) Thermal Shrinkage At normal temperature, the film is sampled into a strip having a width of 1 cm and a length of 20 cm, and marked lines are drawn at 15 cm intervals in the length direction. Next, the film is heated in a hot air oven set at a predetermined temperature for 5 minutes and then taken out of the oven.
After cooling the film to room temperature, measure the distance between the marked lines,

【0091】[0091]

【数1】 により熱収縮率を求める。(Equation 1) To determine the heat shrinkage.

【0092】(10)吸湿率 フィルムを絶乾(150℃、2時間)後、相対湿度5%
未満のデシケーター内で常温まで冷却し、素早くその重
量を秤量する(その重量をW1とする)。次いで、相対
湿度75%のデシケーターに48時間入れた後、フィル
ムを取り出して素早く秤量し(その重量をW2とす
る)、下式
(10) Moisture Absorption After the film was completely dried (150 ° C., 2 hours), the relative humidity was 5%.
Cool to room temperature in a desiccator less than and weigh quickly (the weight is W1). Next, after putting in a desiccator at a relative humidity of 75% for 48 hours, the film was taken out and quickly weighed (the weight was W2), and the following formula was used.

【0093】[0093]

【数2】 により求める。(Equation 2) Ask by

【0094】(11)表面欠点頻度 支持体表面を面積100cm2以上について、ライトで
照らしながら目視観察し、欠点と見られる箇所を探す。
その箇所について、金属顕微鏡で観察を行い、径30μ
m以上のものの個数をカウントし、平方ミリあたりの値
に換算する。
(11) Frequency of Surface Defects The surface of the support is visually observed with an area of 100 cm 2 or more while being illuminated with a light, and a portion which is considered to be defective is searched for.
The location was observed with a metallographic microscope, and the diameter was 30μ.
The number of objects with m or more is counted and converted into a value per square millimeter.

【0095】[0095]

【実施例】次に実施例に基づき本発明を説明するがこれ
らに限定されるものではない。
Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0096】実施例1 N−メチルー2ーピロリドン(以下NMPと略す)に芳
香族ジアミン成分として90モル%に相当する2−クロ
ルパラフェニレンジアミンと、10モル%に相当する
4、4’−ジアミノジフェニルエ−テルとを溶解させ、
これに100モル%に相当する2−クロルテレフタル酸
クロリドを添加し、2時間撹拌して重合を完了した。こ
れを水酸化リチウムで中和して、ポリマ濃度10重量
%、粘度3000ポイズの芳香族ポリアミド溶液(以下
溶液Aとする)を得た。
Example 1 N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter abbreviated as NMP) was used as an aromatic diamine component in an amount of 90 mol% of 2-chloroparaphenylenediamine and 10 mol% of 4,4′-diaminodiphenyl. Dissolve ether and
To this, 2-chloroterephthalic acid chloride corresponding to 100 mol% was added and stirred for 2 hours to complete the polymerization. This was neutralized with lithium hydroxide to obtain an aromatic polyamide solution (hereinafter referred to as solution A) having a polymer concentration of 10% by weight and a viscosity of 3000 poise.

【0097】一方、ポリエーテルスルホン(住友化学
(株)製スミカエクセルPES−7300P、以下PE
Sと略す)をNMPに10重量%溶解させ、PESの含
有量が芳香族ポリアミドとPESの合計量に対し7重量
%含有されるように溶液Aとブレンドし、50℃で3時
間充分に混合した。
On the other hand, polyether sulfone (Sumika Excel PES-7300P manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd .;
Is dissolved in NMP at 10% by weight, and blended with the solution A so that the PES content is 7% by weight based on the total amount of the aromatic polyamide and PES, and mixed well at 50 ° C. for 3 hours. did.

【0098】こうして得られた混合溶液を濾過精度50
00nm、1000nmのフィルタ−を通した後、径が
30μm以上の表面欠点の頻度が0.005個/mm2
のエンドレスベルト上にキャスト時溶液温度60℃で流
延した。この時のキャスト時の支持体温度(Tb)は1
40℃、熱風温度(Ta)は170℃であり、脱溶媒速
度は12.5%/分であった。ベルトから剥離されたフ
ィルムは、続いて40℃の水浴中に5分間浸漬後、16
0℃で30秒乾燥を行い、風速4m/秒の250℃の熱
風により熱処理を行い、厚さ4.3μmの芳香族ポリア
ミド系フィルムを得た。また、製膜中に長手方向に1.
1倍、幅方向に1.4倍の延伸を行った。
The mixed solution thus obtained was filtered with a filtration accuracy of 50.
After passing through a 00 nm or 1000 nm filter, the frequency of surface defects having a diameter of 30 μm or more is 0.005 / mm 2.
Was cast at a solution temperature of 60 ° C. during casting. At this time, the support temperature (Tb) at the time of casting was 1
The temperature was 40 ° C., the hot air temperature (Ta) was 170 ° C., and the solvent removal rate was 12.5% / min. The film peeled from the belt was subsequently immersed in a 40 ° C. water bath for 5 minutes,
Drying was performed at 0 ° C. for 30 seconds, and heat treatment was performed using hot air of 250 ° C. at a wind speed of 4 m / sec to obtain an aromatic polyamide-based film having a thickness of 4.3 μm. During film formation, 1.
The film was stretched by a factor of 1 and a ratio of 1.4 in the width direction.

【0099】このフィルムのRa1は1.5nmであ
り、引張りヤング率は、長手、幅方向それぞれ11.6
GPa、16.7GPaであった。この最終フィルム
を、枠に貼り、熱風オーブン中で270℃、300℃、
350℃で1分間の熱処理を施したところ、Ra2はそ
れぞれ、1.3nm、1.2nm、0.9nmとなり、
製膜後の熱処理により表面が平滑になることが実証され
た。このときのRa2/Ra1は、それぞれ、0.8
7、0.80、0.60である。
The film had a Ra1 of 1.5 nm and a tensile Young's modulus of 11.6 in each of the longitudinal and width directions.
GPa and 16.7 GPa. This final film is stuck on a frame and heated in a hot air oven at 270 ° C, 300 ° C,
When a heat treatment was performed at 350 ° C. for 1 minute, Ra2 was 1.3 nm, 1.2 nm, and 0.9 nm, respectively.
It was demonstrated that the surface was smoothened by heat treatment after film formation. Ra2 / Ra1 at this time is 0.8, respectively.
7, 0.80 and 0.60.

【0100】比較例1 実施例1で用いた溶液Aをそのまま実施例1と同様に製
膜した。このフィルムのRa1は、0.8nmであり、
引張りヤング率は、長手、幅方向ともに11.5GPa
であった。この最終フィルムに、無拘束の状態で、27
0℃、300℃、350℃で1分間の熱処理を施したと
ころ、Ra2はそれぞれ、0.8nm、0.8nm、
0.7nmであり、熱処理による表面の粗面化は図れな
かった。このときのRa2/Ra1は、それぞれ、1.
0、1.0、1.0である。
Comparative Example 1 The solution A used in Example 1 was directly formed into a film in the same manner as in Example 1. Ra1 of this film is 0.8 nm,
The tensile Young's modulus is 11.5 GPa in both the longitudinal and width directions.
Met. On this final film, 27
When heat treatment was performed at 0 ° C., 300 ° C., and 350 ° C. for 1 minute, Ra2 was 0.8 nm, 0.8 nm,
0.7 nm, and the surface could not be roughened by the heat treatment. At this time, Ra2 / Ra1 is 1.
0, 1.0 and 1.0.

【0101】[0101]

【発明の効果】本発明の粗さ可変フィルムは、有機高分
子体からなるフィルムにおいて、少なくとも片面の熱処
理前の平均粗さRa1と、熱処理後の平均粗さRa2
が、Ra2/Ra1<1の関係であるため、加工時にお
ける熱処理により、表面粗さを目的に応じて小さくする
ことができる。これにより、加工時には易滑であり、製
品としては平滑であるフィルムを提供することが可能と
なり、加工、製品設計の自由度が極めて大きくなる。本
発明のフィルムは、磁気記録媒体分野、電気電子分野、
包装分野等のいずれの用途にも好適に用いることができ
るが、特に、加工時の易滑性と、製品時の平滑性が要求
される蒸着型磁気記録媒体分野に好ましく使用できる。
The roughness variable film of the present invention is a film made of an organic polymer, wherein at least one surface has an average roughness Ra1 before heat treatment and an average roughness Ra2 after heat treatment.
However, since the relationship of Ra2 / Ra1 <1 holds, the surface roughness can be reduced according to the purpose by the heat treatment during the processing. As a result, it is possible to provide a film which is smooth at the time of processing and which is smooth as a product, and the degree of freedom of processing and product design becomes extremely large. The film of the present invention is a magnetic recording medium field, an electric and electronic field,
Although it can be suitably used in any applications such as the packaging field, it can be particularly preferably used in the field of a vapor deposition type magnetic recording medium which requires smoothness in processing and smoothness in products.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】有機高分子体からなるフィルムにおいて、
少なくとも片面の熱処理前の平均粗さRa1と、熱処理
後の平均粗さRa2が、(I)式を充たすことを特徴と
する粗さ可変フィルム。 Ra2/Ra1<1 (I)
1. A film comprising an organic polymer,
An average roughness Ra1 on at least one side before heat treatment and an average roughness Ra2 after heat treatment satisfy Formula (I). Ra2 / Ra1 <1 (I)
【請求項2】少なくとも一方向のヤング率が7GPa以
上である請求項1に記載の粗さ可変フィルム。
2. The variable roughness film according to claim 1, wherein the Young's modulus in at least one direction is 7 GPa or more.
【請求項3】有機高分子体が、芳香族ポリアミドを70
モル%以上含有するものである請求項1または2に記載
の粗さ可変フィルム。
3. The method according to claim 1, wherein the organic polymer is an aromatic polyamide.
The variable roughness film according to claim 1, wherein the content of the film is not less than mol%.
【請求項4】300℃、1分間での熱処理後の平均粗さ
Ra2と熱処理前の平均粗さRa1が、(II)式を充
たし、且つRa1が0.8〜15nmであり、磁気記録
媒体用途に用いられるものである請求項1〜3のいずれ
かに記載の粗さ可変フィルム。 0.2≦Ra2/Ra1≦0.90 (II)
4. A magnetic recording medium wherein the average roughness Ra2 after heat treatment at 300 ° C. for 1 minute and the average roughness Ra1 before heat treatment satisfy the formula (II), and Ra1 is 0.8 to 15 nm. The variable roughness film according to any one of claims 1 to 3, which is used for applications. 0.2 ≦ Ra2 / Ra1 ≦ 0.90 (II)
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