JP2000344912A - Aromatic polyamide and/or aromatic polyimide film and magnetic recording medium - Google Patents

Aromatic polyamide and/or aromatic polyimide film and magnetic recording medium

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JP2000344912A
JP2000344912A JP11160665A JP16066599A JP2000344912A JP 2000344912 A JP2000344912 A JP 2000344912A JP 11160665 A JP11160665 A JP 11160665A JP 16066599 A JP16066599 A JP 16066599A JP 2000344912 A JP2000344912 A JP 2000344912A
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film
aromatic
aromatic polyamide
magnetic recording
solution
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JP11160665A
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Japanese (ja)
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Toshihiro Chikugi
稔博 筑木
Mitsuhiro Horiuchi
光弘 堀内
Akimitsu Tsukuda
佃  明光
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject film excellent in electromagnetic transducing characteristics, smoothness, friction characteristics to a magnetic head or the like and handleability, and useful for a magnetic recording media by limiting surface properties within specific values. SOLUTION: A solution dissolving an aromatic polyamide and/or an aromatic polyimide is formed into a film by a film-producing method by using the solution. Voronoi distribution as protrusions formed on the surface of the obtained film is carried out, and a relative standard deviation (σ/Xbar) (Xbar is an average area of the Voronoi polygons; σ is the standard deviation) is regulated so as to be <=1 to provide the objective film suitable for a magnetic recording medium. The aromatic polyamide preferably has >=50 mol.% repeating unit of the formula NH-Ar1-NH-CO-Ar2-CO (Ar1 and Ar2 are each phenylene or the like) or the like, and the polyimide preferably has >=50 mol.% repeating unit of formula I (Ar4 is formula II or the like; Ar5 is phenylene or the like) or the like.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に特
に好適に使用できる芳香族ポリアミド及び/または芳香
族ポリイミドフィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aromatic polyamide and / or aromatic polyimide film which can be particularly suitably used for a magnetic recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミド
は、その高い耐熱性、電気絶縁性から工業材料として有
用な高分子体である。特に、ポリパラフェニレンテレフ
タルアミド(PPTA)に代表されるようなパラ配向性
芳香核からなる芳香族ポリアミドは、その剛直性から上
記特性に加え、強度、弾性率に優れた成形体を与えるの
でその利用価値は高く、磁気記録媒体への応用が検討さ
れている。
2. Description of the Related Art Aromatic polyamides and aromatic polyimides are useful polymers as industrial materials because of their high heat resistance and electrical insulation. In particular, aromatic polyamides composed of para-oriented aromatic nuclei such as polyparaphenylene terephthalamide (PPTA) give a molded article excellent in strength and elastic modulus in addition to the above properties due to its rigidity. The utility value is high, and application to a magnetic recording medium is being studied.

【0003】従来、磁気記録媒体としては、ポリエステ
ルフィルムに酸化物塗布型磁性層やメタル塗布型磁性
層、金属薄膜型磁性層を設けてなる磁気記録媒体が知ら
れている(例えば特開昭61−26933号公報、特開
昭60−66319号公報など)。一般に、電磁変換特
性を高くとるためには、磁気記録媒体の平滑性が重要で
あるが、あまりに平滑すぎるとヘッドとの摩擦により走
行不良となったり磁性層が損傷を受けるため、適度に粗
れていることが必要である。つまり、かかる用途では表
面性を改良することが、特に重要である。例えば芳香族
ポリアミドを用いた磁気記録媒体用フィルムとして、無
機粒子を添加することにより表面性を改良した例とし
て、特開昭60−127523号公報、特開昭60−2
01914号公報、特開昭62−119024号公報、
特開昭63−268640号公報などがある。
Conventionally, as a magnetic recording medium, a magnetic recording medium in which an oxide coating type magnetic layer, a metal coating type magnetic layer, and a metal thin film type magnetic layer are provided on a polyester film has been known (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-1986). -26933, JP-A-60-66319, etc.). Generally, the smoothness of the magnetic recording medium is important to obtain high electromagnetic conversion characteristics.However, if the magnetic recording medium is too smooth, it may cause poor running or damage to the magnetic layer due to friction with the head. It is necessary to be. That is, in such applications, it is particularly important to improve the surface properties. For example, as a film for a magnetic recording medium using an aromatic polyamide, the surface properties of which have been improved by adding inorganic particles are disclosed in JP-A-60-127523 and JP-A-60-2.
01914, JP-A-62-119024,
JP-A-63-268640 is an example.

【0004】一方、磁気記録媒体は近年ますます高容量
化、高性能化が進み、Co−Ni等強磁性金属薄膜を用
いた磁気記録媒体のニーズが高まっている。しかしなが
ら、蒸着層は極めて薄いので、基材フィルムの表面形状
がダイレクトに反映されることなる。従って、良好な電
磁変換特性を得るためには、より一層表面形状の設計が
重要となる。
On the other hand, in recent years, the capacity and performance of magnetic recording media have been further increased, and the need for magnetic recording media using ferromagnetic metal thin films such as Co-Ni has been increasing. However, since the deposited layer is extremely thin, the surface shape of the base film is directly reflected. Therefore, in order to obtain good electromagnetic conversion characteristics, it is more important to design the surface shape.

【0005】これまでの磁気記録媒体に用いる基材フィ
ルムの表面設計にかかる思想には例えば、表面の粗さに
着目したものや突起の高さや密度を規定するものがあっ
た。
[0005] Heretofore, there have been thoughts concerning the surface design of a base film used for a magnetic recording medium, for example, focusing on the surface roughness and defining the height and density of the projections.

【0006】しかしながら、近年ますますの高容量化の
進展に伴い、ますます高速での記録再生の要求が高まっ
てきていて、単に表面粗さを規定したものでは、粗さ程
度について、フィルムの平均的な特性としては把握でき
るものの、ドロップアウトや磁気ヘッドの摩耗の原因と
なる粗大な突起については掴めるものではなく、また、
突起大きさあるいは密度を独立して考慮するものでもな
いので、必ずしも良好な電磁変換特性が得られなかった
り、あるいはスクラッチ性に難を生じたりする。この
点、突起高さや密度を規定するものは有効と言えるが、
これとても突起の分散、集合状態を表現するものではな
く、良好な電磁変換特性やスクラッチ性等に優れたフィ
ルムを得るためには不十分なものであった。
[0006] However, in recent years, with the progress of higher capacity, the demand for recording and reproduction at higher speeds has been increasing. If the surface roughness is simply specified, the average roughness of the film is not considered. Although it can be grasped as a typical characteristic, it can not grasp coarse projections that cause dropout and wear of the magnetic head,
Since the size or density of the projections is not considered independently, good electromagnetic conversion characteristics may not always be obtained or scratching may be difficult. In this regard, it can be said that what defines the protrusion height and density is effective,
This does not express the dispersion and aggregation state of the projections, and is insufficient for obtaining a film having good electromagnetic characteristics and excellent scratch properties.

【0007】一方、芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポ
リイミドは、一般には溶液製膜により得られる。すなわ
ち、溶液状態から溶媒を除去する事で成形されるが、重
合あるいは製膜時には、温度、pHや水分量など反応環
境が大きく変化したり、物質移動があったりする。表面
突起の形成には一般に粒子を添加するが、このようなこ
とが原因で粒子が凝集したり偏在化したりして、理想的
な表面形成には一段のブレークスルーが必要であった。
また、一般に芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミ
ドはかたいので、粗大突起の形成があったときには、ヘ
ッドの削れや粒子の脱落などの懸念があった。
On the other hand, aromatic polyamide or aromatic polyimide is generally obtained by solution casting. That is, molding is performed by removing the solvent from the solution state, but during polymerization or film formation, the reaction environment such as temperature, pH, and water content greatly changes, and mass transfer occurs. Particles are generally added for the formation of surface protrusions, but due to such a phenomenon, the particles are aggregated or unevenly distributed, so that a further breakthrough was required for ideal surface formation.
In addition, since aromatic polyamides or aromatic polyimides are generally hard, when coarse projections are formed, there is a concern that the head may be shaved or particles may fall off.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題を解決し、電磁変換特性、平滑性、磁気ヘッド等
に対する摩擦耐性、ハンドリング性などに優れ、とりわ
け磁気記録媒体用の基材フィルムに好適な芳香族ポリア
ミド及び/または芳香族ポリイミドフィルムを提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems, and is excellent in electromagnetic conversion characteristics, smoothness, friction resistance to a magnetic head and the like, handling properties, etc., and particularly a substrate for a magnetic recording medium. An object is to provide an aromatic polyamide and / or aromatic polyimide film suitable for a film.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】ずなわち、本発明は、芳
香族ポリアミド及び/または芳香族ポリイミドを主成分
とする基材フィルムであって、該フィルムの少なくとも
一面の表面に形成された突起についてボロノイ分割を行
い、そのボロノイ多角形の面積平均値をXbar、標準
偏差をσとしたとき、相対標準偏差(σ/Xbar)が
1以下であることを特徴とする芳香族ポリアミド及び/
または芳香族ポリイミドフィルムである。
In other words, the present invention relates to a base film mainly composed of an aromatic polyamide and / or an aromatic polyimide, wherein a projection formed on at least one surface of the film is provided. , And the relative standard deviation (σ / Xbar) is 1 or less when the Voronoi polygon area average is Xbar and the standard deviation is σ.
Or it is an aromatic polyimide film.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明で言う芳香族ポリアミドと
は、次の一般式(I)及び/または一般式(II)で表さ
れる繰り返し単位を50モル%以上、好ましくは70モ
ル%以上から構成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The aromatic polyamide referred to in the present invention refers to a repeating unit represented by the following general formula (I) and / or general formula (II) in an amount of 50 mol% or more, preferably 70 mol% or more. Consists of

【0011】[0011]

【化1】 Embedded image

【0012】[0012]

【化2】 ここで、Ar1 、Ar2 、Ar3 には、それぞれ例え
ば、
Embedded image Here, Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 each include, for example,

【0013】[0013]

【化3】 等が挙げられる。Embedded image And the like.

【0014】X、Yは、−O−,−CH2 −,−CO
−,−SO2 −,−S−,−C(CH3 2 −,−C
(CF3 2 −等から選択されるが、これらに限定され
るわけではない。
X and Y are -O-, -CH 2- , -CO
-, - SO 2 -, - S -, - C (CH 3) 2 -, - C
It is selected from (CF 3 ) 2- and the like, but is not limited thereto.

【0015】更に、これらの芳香環上の水素原子が、
R、R’あるいはR”としてハロゲン基、ニトロ基、C
1〜C3のアルキル基、C1〜C3のアルコキシ基、ト
リアルキルシリル基、アリール基、オキシアリール基、
チオアリール基等の置換基で置換されていても構わない
し、アミド基上の水素が他の置換基で置換されていても
構わない。
Further, hydrogen atoms on these aromatic rings are
R, R 'or R "represents a halogen group, a nitro group, C
An alkyl group of 1 to C3, an alkoxy group of C1 to C3, a trialkylsilyl group, an aryl group, an oxyaryl group,
It may be substituted with a substituent such as a thioaryl group, or hydrogen on the amide group may be substituted with another substituent.

【0016】また、特性面からは上記の芳香環がパラ位
で結合されたものが、全芳香環の50%以上、より好ま
しくは70%以上、更に好ましくは75%以上を占める
ことが好ましい。50モル%未満であれば、フィルムと
したときに強度、伸度、剛性、耐熱性等のフィルムとし
ての十分な機能を全うできない場合がある。そして、こ
のような条件を満たすとき、薄膜化が可能になって高容
量な磁気記録媒体として好適に用いることができる。こ
のようなパラ配向性芳香核の例としては、次のようなも
In terms of characteristics, it is preferable that the above aromatic ring bonded at the para position accounts for 50% or more, more preferably 70% or more, and further preferably 75% or more of the total aromatic ring. If it is less than 50 mol%, the film may not be able to fulfill its full functions such as strength, elongation, rigidity and heat resistance. When such a condition is satisfied, the film can be thinned and can be suitably used as a high-capacity magnetic recording medium. Examples of such para-oriented aromatic nuclei include:

【0017】[0017]

【化4】 がある。Embedded image There is.

【0018】また、芳香核上の水素を置換する置換基
は、その導入により、溶解性や吸湿性が改良され好まし
く用いられる。特に高度に置換された系においては、有
機溶媒に可溶となり、製膜性、表面性が大きく改善され
る。かかる効果を得る上で、芳香環の水素原子の一部が
ハロゲン基(特に塩素)、C1〜C3のアルキル基(特
にメチル基)、C1〜C3のアルコキシ基(特にメトキ
シ基)、トリメチルシリル基、で置換された芳香環が、
全体の50%以上である芳香族ポリアミドは好ましく用
いられる。また、上記したパラ結合性芳香核としても複
数種のものを用いても良く、芳香環の員数の異なる芳香
核の組み合わせ(例えばフェニレン基とビフェニレン基
あるいはナフチレン基)は、溶媒に対する溶解性に優
れ、生産性の良いフィルムを得ることができる。
The substituent for replacing hydrogen on the aromatic nucleus is preferably used because its introduction improves the solubility and hygroscopicity. Particularly in a highly substituted system, it becomes soluble in an organic solvent, and the film-forming property and surface properties are greatly improved. In order to obtain such an effect, a part of the hydrogen atoms of the aromatic ring may be a halogen group (particularly chlorine), a C1 to C3 alkyl group (particularly a methyl group), a C1 to C3 alkoxy group (particularly a methoxy group), a trimethylsilyl group, The aromatic ring substituted with
An aromatic polyamide which accounts for 50% or more of the whole is preferably used. In addition, a plurality of types of para-bonded aromatic nuclei may be used, and a combination of aromatic nuclei having different numbers of aromatic rings (for example, a phenylene group and a biphenylene group or a naphthylene group) has excellent solubility in a solvent. And a film with good productivity can be obtained.

【0019】本発明の芳香族ポリイミドとは、次の一般
式(III )及び/または一般式(IV)で表される繰り返
し単位が50モル%以上、好ましくは70モル%以上か
らなるものである。
The aromatic polyimide of the present invention is one in which a repeating unit represented by the following general formula (III) and / or general formula (IV) comprises at least 50 mol%, preferably at least 70 mol%. .

【0020】[0020]

【化5】 Embedded image

【0021】[0021]

【化6】 ここでAr4 、Ar6 は少なくとも1個の芳香環を含
み、イミド環を形成する2つのカルボニル基は芳香環上
の隣接する炭素原子に結合している。
Embedded image Here, Ar 4 and Ar 6 each include at least one aromatic ring, and two carbonyl groups forming an imide ring are bonded to adjacent carbon atoms on the aromatic ring.

【0022】このAr4 は、芳香族テトラカルボン酸、
あるいはこの無水物に由来する。代表例としては次のよ
うなもの
This Ar 4 is an aromatic tetracarboxylic acid,
Alternatively, it is derived from this anhydride. The following are typical examples

【0023】[0023]

【化7】 が挙げられる。Embedded image Is mentioned.

【0024】ここでZは −O−,−CH2 −,−CO−,−SO2 −,−S−,
−C(CH3 2 − 等から選ばれるが、これらに限定されるものではない。
Where Z is —O—, —CH 2 —, —CO—, —SO 2 —, —S—,
—C (CH 3 ) 2 — and the like, but is not limited thereto.

【0025】また、Ar6は芳香族無水カルボン酸、あ
るいはこのハライドに由来する。Ar5、Ar7 は例え
Ar 6 is derived from an aromatic carboxylic anhydride or its halide. Ar 5 and Ar 7 are, for example,

【0026】[0026]

【化8】 などが挙げられる。Embedded image And the like.

【0027】X’、Y’は −O−,−CH2 −,−CO−,−SO2 −,−S−,
−C(CH3 2 − 等から選ばれるが、これらに限定されるものではない。
更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
(特に塩素)、ニトロ基、炭素数1〜4のアルキル基
(特にメチル基)、炭素数1〜3のアルコキシ基などの
置換基で置換されているものも含み、また、重合体を構
成するアミド結合中の水素が他の置換基によって置換さ
れているものも含む。
[0027] X ', Y' is -O -, - CH 2 -, - CO -, - SO 2 -, - S-,
—C (CH 3 ) 2 — and the like, but is not limited thereto.
Further, some of the hydrogen atoms on these aromatic rings may be substituted with a substituent such as a halogen group (especially chlorine), a nitro group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (especially a methyl group), or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. And those in which the hydrogen in the amide bond constituting the polymer is substituted by another substituent.

【0028】ポリマの固有粘度(ポリマ0.5gを硫酸
中で100mlの溶液として、30℃で測定した値)
は、0.5以上であることが好ましい。
Intrinsic viscosity of polymer (measured at 30 ° C. in a solution of 0.5 g of polymer in 100 ml of sulfuric acid)
Is preferably 0.5 or more.

【0029】また、基材フィルムを構成するポリマーと
しては高ヤング率の得易いこと、後述の表面形成が比較
的容易に行えることから、芳香族ポリアミドが好まし
い。
As the polymer constituting the base film, an aromatic polyamide is preferable because it is easy to obtain a high Young's modulus and the surface can be formed relatively easily as described below.

【0030】そして、本発明の芳香族ポリアミドおよび
/または芳香族ポリイミドフィルムは、その少なくとも
一面に形成された突起についてボロノイ分割を行い、そ
のボロノイ多角形の面積平均値をXbar、標準偏差を
σとしたとき、相対標準偏差(σ/Xbar)が1以下
であることを特徴とする。
In the aromatic polyamide and / or aromatic polyimide film of the present invention, Voronoi division is performed on the projections formed on at least one surface of the film, and the average area of the Voronoi polygon is Xbar, and the standard deviation is σ. Then, the relative standard deviation (σ / Xbar) is 1 or less.

【0031】ボロノイ分割は、突起の分散状態を定量的
に把握できる。突起が固まって存在するときには、3次
元的に粒子が集合していることが多い。このような時は
突起の高さが大きく、すなわちスペーシングロスが大き
くなって、明らかに電磁変換特性に好ましくない影響が
あり、また、脱落し易かったり、ヘッドとの接触が安定
しなかったりして、走行性あるいは削れ性、耐スクラッ
チ性等の摩擦特性やハンドリング性に好ましくない影響
がある。しかしながら、突起の高さが均一であっても単
に平面に凝集している場合もあり、また凝集とまでは行
かないが、偏在化していることもあり、このような時も
また、ヘッドとの接触の安定性を損ねることとなり、電
磁変換特性や走行性あるいは削れ性、耐スクラッチ性に
好ましくない影響がある。また、ランダムに存在してい
る場合と規制された均一性を有している場合も、特性に
相違を与えるのである。このような状況は、従来の表面
粗さあるいは突起の高さ−密度による規定では把握でき
るものではなく、本発明に述べるボロノイ分割による規
定が有効である。
The Voronoi division can quantitatively grasp the dispersion state of the protrusions. When the projections are solidified, the particles often aggregate three-dimensionally. In such a case, the height of the projections is large, that is, the spacing loss is large, which obviously has an undesirable effect on the electromagnetic conversion characteristics, and is easy to fall off, or the contact with the head is not stable. In addition, there is an unfavorable effect on friction properties such as running properties, scraping properties, scratch resistance, and handling properties. However, even when the heights of the projections are uniform, they may be simply aggregated on a flat surface, and may not be aggregated, but may be unevenly distributed. The stability of the contact is impaired, and this has an unfavorable effect on the electromagnetic conversion characteristics, running properties, scraping properties, and scratch resistance. In addition, the characteristics are also different when they exist randomly and when they have regulated uniformity. Such a situation cannot be grasped by the conventional definition based on the surface roughness or the height-density of the projections, and the definition based on the Voronoi division described in the present invention is effective.

【0032】すなわち、本発明のフィルムはボロノイ多
角形の面積平均値をXbar、標準偏差をσとしたと
き、相対標準偏差(σ/Xbar)が1.0以下であ
る。1.0を越えると突起の凝集(偏在)は顕著であ
り、優れた特性を有する磁気記録媒体に好適なフィルム
とすることはできない。好ましくは0.7以下、更に好
ましくは0.525以下である。なお、理論的には突起
が完全にランダムに存在する場合、この相対標準偏差は
0.525となり、さらに秩序だって均一配列される傾
向が強くなると、小さくなってゆく。下限は特に限定さ
れるものではないが、0.3程度であれば実用的であ
る。
That is, the film of the present invention has a relative standard deviation (σ / Xbar) of 1.0 or less, where Xbar is the area average of the Voronoi polygon and σ is the standard deviation. If it exceeds 1.0, the aggregation (uneven distribution) of the projections is remarkable, and a film suitable for a magnetic recording medium having excellent characteristics cannot be obtained. Preferably it is 0.7 or less, more preferably 0.525 or less. Note that, in theory, when the protrusions exist completely at random, the relative standard deviation is 0.525, and becomes smaller as the tendency to orderly and uniformly increases. The lower limit is not particularly limited, but is practical if about 0.3.

【0033】本発明のフィルムには、高さが5nm以上
の微細突起が102 〜1010個/mm2 存在することが
好ましく、下限としては、好ましくは103 個/mm2
以上、更に好ましくは、104 個/mm2 以上であり、
上限としては、好ましくは109 個/mm2 以下、更に
好ましくは108 個/mm2 以下である。102 個/m
2 未満では、電磁変換特性こそ良好であるが、走行
性、スクラッチ性に懸念があり、1010個/mm2 を超
えると走行性、スクラッチ性の改善は、さほどのもので
もない割に、電磁変換特性や削れ性に悪影響がでてく
る。
The film of the present invention preferably has 10 2 to 10 10 fine protrusions / mm 2 with a height of 5 nm or more, and the lower limit is preferably 10 3 / mm 2.
Or more, more preferably 10 4 pieces / mm 2 or more;
The upper limit is preferably 10 9 / mm 2 or less, more preferably 10 8 / mm 2 or less. 10 2 pieces / m
If it is less than m 2 , the electromagnetic conversion characteristics are good, but there is concern about running properties and scratching properties. If it exceeds 10 10 pieces / mm 2 , the running properties and scratching properties are not so much improved. This has an adverse effect on the electromagnetic conversion characteristics and the sharpness.

【0034】また、5nmを越える突起の内、高さが5
0nmを越える突起は、全体の10%以下であることが
好ましく、更に好ましくは3%以下、特に好ましくは1
%以下である。高さが50nm以上の突起が、10%を
超えて存在すると、電磁変換特性に好ましくない影響が
あり、またヘッドの削れ耐性にも好ましくない影響があ
る。
The height of the projections exceeding 5 nm is 5
The number of protrusions exceeding 0 nm is preferably 10% or less of the whole, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
% Or less. If the protrusions having a height of 50 nm or more exist in excess of 10%, the electromagnetic conversion characteristics are unfavorably affected, and the abrasion resistance of the head is also unfavorably affected.

【0035】また、546nm以上の高さの粗大な突起
は、100個/100cm2 以下、好ましくは50個/
100cm2 以下であると良い。このような粗大突起
は、粒子の分散性を上げることなどによって生成を回避
できるが、本発明のごとき溶液製膜系においては、予め
溶媒中に分散された粒子(好ましくは単分散された粒
子)のディスパージョンを添加したりする方法を用いる
のがよい。また、かかる粗大な突起は、微分干渉顕微鏡
を用い、546nmの光線を当てたときの干渉縞が2個
以上生じる部分をマーキングし、観察面積からその密度
をもとめることができる。かかる粗大な突起は、磁気記
録媒体においてはドロップアウトを生じる原因となる。
The number of coarse projections having a height of 546 nm or more is 100/100 cm 2 or less, preferably 50/100 cm 2 or less.
It is good to be 100 cm 2 or less. Such coarse projections can be prevented from being generated by increasing the dispersibility of the particles. However, in the case of the solution casting system of the present invention, particles that are previously dispersed in a solvent (preferably monodispersed particles) are used. It is preferable to use a method of adding a dispersion of the above. The density of such coarse protrusions can be determined from the observation area by marking a portion where two or more interference fringes occur when a light beam of 546 nm is applied using a differential interference microscope. Such coarse protrusions cause dropout in a magnetic recording medium.

【0036】本発明のフィルムの少なくとも一方向の引
張りヤング率(20℃、相対湿度60%)E20は、E20
≧6.9GPa、より好ましくはE20≧7.8GPa、
更に好ましくはE20≧8.8GPaであることが好まし
い。ヤング率が6.9GPa未満では、張力下に変形を
生じ易くなることを意味し、しわや折れなどを生じ、実
用性を大きく害することとなる。また、E20≧6.9G
Paであれば該フィルムを薄膜化できる為、磁気記録媒
体においては高容量化に有利であり、また、幅方向のヤ
ング率が長手方向のそれの1.1倍以上であることが好
ましい。
The tensile Young's modulus (20 ° C., relative humidity 60%) E20 of at least one direction of the film of the present invention is E20
≧ 6.9 GPa, more preferably E20 ≧ 7.8 GPa,
More preferably, E20 ≧ 8.8 GPa. If the Young's modulus is less than 6.9 GPa, it means that deformation is likely to occur under tension, which causes wrinkles and breaks, which greatly impairs practicality. Also, E20 ≧ 6.9G
If Pa is used, the film can be made thinner, which is advantageous for increasing the capacity of the magnetic recording medium, and the Young's modulus in the width direction is preferably 1.1 times or more that in the longitudinal direction.

【0037】本発明のフィルムの吸湿率は、4%以下、
より好ましくは3%以下、更に好ましくは2%以下であ
ることが好ましい。4%を越えると、例えば蒸着法など
で磁性層を形成しようとするとき、加熱時にフィルム中
で気泡を発生して蒸着特性を害する可能性がある。この
吸湿率は、その分子構造中に置換基を導入したり、熱処
理等により結晶性を高めたりする方法などで達成でき
る。また、本発明の芳香族ポリアミドの場合、その末端
をアニリン、フタル酸無水物、ベンゾイルクロリド等で
処理すると、更に吸湿率の低減がはかれるので好まし
い。
The moisture absorption of the film of the present invention is 4% or less,
It is more preferably at most 3%, further preferably at most 2%. If it exceeds 4%, for example, when forming a magnetic layer by a vapor deposition method or the like, bubbles may be generated in the film at the time of heating and the vapor deposition characteristics may be impaired. This moisture absorption can be achieved by a method of introducing a substituent into the molecular structure or increasing the crystallinity by heat treatment or the like. Further, in the case of the aromatic polyamide of the present invention, it is preferable to treat the terminal with aniline, phthalic anhydride, benzoyl chloride or the like, since the moisture absorption can be further reduced.

【0038】次に、本発明のフィルムを得る方法につい
て説明する。もちろん、以下の記載に本発明は限定を受
けるものではない。
Next, a method for obtaining the film of the present invention will be described. Of course, the present invention is not limited to the following description.

【0039】芳香族ポリアミドを得る方法は例えば、低
温溶液重合法、界面重合法、溶融重合法、固相重合法な
どが挙げられるが、低温溶液重合法、例えばジ酸クロリ
ドとジアミンから得る場合には、N−メチルピロリドン
(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメ
チルホルムアミド(DMF)などの非プロトン性有機極
性溶媒中で合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生する
が、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、
トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノー
ルアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソ
シアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機
極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。
The method for obtaining an aromatic polyamide includes, for example, a low-temperature solution polymerization method, an interfacial polymerization method, a melt polymerization method, and a solid-phase polymerization method. In the case where the aromatic polyamide is obtained from a diacid chloride and a diamine, for example. Is synthesized in an aprotic organic polar solvent such as N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylacetamide (DMAc), dimethylformamide (DMF). When acid chloride and diamine are used as monomers in a polymer solution, hydrogen chloride is by-produced.When neutralizing this, inorganic neutralizers such as calcium hydroxide, calcium carbonate, lithium carbonate, and ethylene chloride are used. Oxide, propylene oxide, ammonia,
Organic neutralizers such as triethylamine, triethanolamine, diethanolamine, etc. are used. The reaction between the isocyanate and the carboxylic acid is performed in an aprotic organic polar solvent in the presence of a catalyst.

【0040】これらのポリマ溶液は、そのまま成形体を
得るための原液として使用してもよく、あるいはポリマ
を一度単離してから、上記の有機溶媒や、硫酸等の無機
溶媒に再溶解して原液を調製してもよい。
These polymer solutions may be used as a stock solution for obtaining a molded body as they are, or after isolating the polymer once and then re-dissolving it in the above-mentioned organic solvent or an inorganic solvent such as sulfuric acid. May be prepared.

【0041】この重合時において、高純度の原料を用
い、水等の不純物の除去された溶媒を用いることはもち
ろんであるが、特に工業的なスケールでの実施には、重
合時に溶液に適当なせん断応力を与え、効率的に混ぜる
ことが極めて重要である。芳香族ポリアミドの生成反応
は反応初期において非常な発熱を伴う。この反応熱によ
って溶媒分子との反応や活性末端の失活がおこり、オリ
ゴマ分子が生成する。従って、重合初期から終了にかけ
て、溶液の粘度上昇に合わせ混合速度を低下させてゆく
ように制御することが好ましい。上記手段はまた、ポリ
マの分子量分布もシャープに制御でき、機械特性及び吸
湿率に好ましい影響を与える。
In this polymerization, it is a matter of course to use a raw material of high purity and to use a solvent from which impurities such as water have been removed. It is extremely important to provide shear stress and mix efficiently. The reaction for forming an aromatic polyamide is accompanied by a very exothermic reaction at the beginning of the reaction. The reaction heat causes a reaction with the solvent molecule and deactivation of the active terminal, thereby generating an oligomer molecule. Therefore, it is preferable to control the mixing speed from the beginning to the end of the polymerization so as to decrease the mixing speed in accordance with the increase in the viscosity of the solution. The means can also sharply control the molecular weight distribution of the polymer and have a favorable effect on mechanical properties and moisture absorption.

【0042】本発明に用いる芳香族ポリアミドを得るた
めの原液には、溶解助剤として無機塩、例えば塩化カル
シウム、塩化マグネシウム、塩化リチウム、硝酸リチウ
ムなどを本発明の目的を損なわない範囲で添加しても良
い。また、重合原液をそのまま用いても構わないが、一
旦水等で再沈後、溶媒に溶解し用いても構わない。原液
中のポリマ濃度は、好ましくは2〜40重量%、更に好
ましくは5〜35重量%である。かかる範囲を下回れ
ば、吐出を大きく取る必要があり経済的に不利であり、
越えれば、吐出量あるいは溶液粘度の関係で、薄ものの
フィルムを得ようとするときの困難性が高い。
To the stock solution for obtaining the aromatic polyamide used in the present invention, an inorganic salt such as calcium chloride, magnesium chloride, lithium chloride, lithium nitrate or the like is added as a solubilizing agent within a range not to impair the object of the present invention. May be. Further, the polymerization stock solution may be used as it is, but it may be used after reprecipitation with water or the like and then dissolved in a solvent. The polymer concentration in the stock solution is preferably 2 to 40% by weight, more preferably 5 to 35% by weight. Below this range, it is necessary to take large discharge, which is economically disadvantageous,
If it exceeds, the difficulty in obtaining a thin film is high due to the relationship between the discharge amount and the solution viscosity.

【0043】一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミ
ド酸の溶液は、ポリアミド酸として、N−メチルピロリ
ドン(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、
ジメチルホルムアミド(DMF)等の非プロトン性有機
極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無水物やトリカルボ
ン酸無水物塩化物と芳香族ジアミンを反応させる等の方
法で得ることができる。また、芳香族ポリイミドは前記
のポリアミド酸を含有する溶液を加熱したり、ピリジン
などのイミド化剤を添加してポリイミドとし、再沈後、
溶媒に溶解して調製することができる。
On the other hand, a solution of an aromatic polyimide or a polyamic acid includes N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylacetamide (DMAc),
It can be obtained by a method of reacting tetracarboxylic dianhydride or tricarboxylic anhydride chloride with an aromatic diamine in an aprotic organic polar solvent such as dimethylformamide (DMF). Further, the aromatic polyimide is heated by heating the solution containing the polyamic acid, or by adding an imidizing agent such as pyridine to the polyimide, after reprecipitation,
It can be prepared by dissolving in a solvent.

【0044】次に、SiO2 、TiO2 、TiN、Al
2 3 、ZrO2 、ゼオライト、その他の金属微粉末な
どの無機粒子や、有機粒子等の粒子を含有量としてポリ
マ重量あたり0.01〜20重量%、好ましくは0.1
〜15重量%添加する。粒子の添加方法は特に制限はな
いが、粒子の分散度、凝集度の調整が必要なら、撹拌分
散器、ボールミル、超音波分散器、高圧分散器等を用い
好ましく調整する。
Next, SiO 2 , TiO 2 , TiN, Al
The content of inorganic particles such as 2 O 3 , ZrO 2 , zeolite and other fine metal powders and particles such as organic particles is 0.01 to 20% by weight per polymer weight, preferably 0.1 to 20%.
-15% by weight. The method for adding the particles is not particularly limited, but if adjustment of the degree of dispersion and aggregation of the particles is necessary, the adjustment is preferably performed using a stirring disperser, a ball mill, an ultrasonic disperser, a high-pressure disperser, or the like.

【0045】この分散された粒子は前記ポリマ溶液に混
合するが、混合にあたっては重合前の溶媒に添加、ある
いは重合後に添加、あるいはポリマ溶液調整時に添加し
てもよく、さらには吐出直前でも構わないが、本発明に
おいては突起を形成する成分に対する、例えばpHや温
度、無機イオンの生成などの周辺環境に鑑みて、その変
化を最小限度に抑えることが必要であるため、本発明の
フィルムの表面を形成する層を担うポリマー溶液は、突
起形成用原料の溶媒ディスパージョンに対し、まず、必
要により溶解助剤を添加し、次いで予め合成されて水洗
などで無機物が除去されたポリマーを、所望の濃度にな
るように徐々に添加して調製することが、本発明を簡便
に実施するに好適な方法である。
The dispersed particles are mixed with the polymer solution, and may be added to the solvent before the polymerization, or after the polymerization, or at the time of preparing the polymer solution. However, in the present invention, for the components forming the projections, for example, pH and temperature, in view of the surrounding environment such as the generation of inorganic ions, it is necessary to minimize the change, the surface of the film of the present invention The polymer solution for forming the layer is formed by first adding a dissolution aid, if necessary, to the solvent dispersion of the projection forming raw material, and then polymerizing the polymer synthesized in advance and removing inorganic substances by washing with water to obtain a desired polymer. It is a preferable method for easily carrying out the present invention to prepare the solution by gradually adding it to a concentration.

【0046】次にフィルム化について説明する。上記の
ように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜法によ
りフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾湿式法、
乾式法、湿式法などがあるが、本発明においては乾湿式
法あるいは湿式法を適用することが適当である。ここで
は乾湿式法を例にとって説明する。
Next, the film formation will be described. The film forming stock solution prepared as described above is formed into a film by a so-called solution film forming method. The solution casting method is a dry-wet method,
Although there are a dry method and a wet method, in the present invention, it is appropriate to apply a dry-wet method or a wet method. Here, the dry-wet method will be described as an example.

【0047】乾湿式法で製膜する場合は、該原液を口金
からドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出し
て薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ、
薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は例え
ば、室温〜220℃、60分以内の範囲で行うことがで
きる。この時、乾燥後のフィルムとしての溶媒残留量
は、多い方が好ましく、45%以上とすることが好まし
い。また表面にはスキン層、あるいは緻密層(極端に溶
媒含量が少ない層)が形成されないよう穏やかに加熱す
ることが必要である。この時、赤外線あるいは電磁加熱
などの内部加熱方式をとったり、また、流延媒体を予熱
し、流延後流延媒体側から加熱する等の手段は、本発明
を得る上で有効である。この乾式工程を終えたフィルム
は、支持体から剥離されて湿式工程に導入され、脱塩、
脱溶媒などが行なわれ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行
なわれてフィルムとなる。この工程において湿式工程、
延伸、熱処理工程は重要な役割を持つ。
When a film is formed by a dry-wet method, the stock solution is extruded from a die onto a support such as a drum or an endless belt to form a thin film, and then the solvent is scattered from the thin film layer.
Dry until the film is self-retaining. Drying can be performed, for example, at room temperature to 220 ° C. for 60 minutes or less. At this time, the residual amount of the solvent as a film after drying is preferably higher, and more preferably 45% or more. In addition, it is necessary to heat gently so as not to form a skin layer or a dense layer (a layer having an extremely low solvent content) on the surface. At this time, an internal heating method such as infrared or electromagnetic heating, or means for preheating the casting medium and heating from the casting medium side after casting is effective in obtaining the present invention. The film after the dry process is peeled from the support, introduced into the wet process, and desalted.
After the solvent is removed, stretching, drying and heat treatment are performed to form a film. In this process, a wet process,
The stretching and heat treatment steps play an important role.

【0048】湿式工程では、通常水等の貧溶媒を脱溶媒
とするが、貧溶媒のみで本発明のフィルム表面を得られ
ないときは、貧溶媒と良溶媒との混合媒を用いる。湿式
工程においては、脱溶媒の進行に伴い、フィルム近傍は
溶媒リッチな状況におかれるが、本発明の表面を得るた
めには、できるだけフィルムと凝固媒との相対速度を高
めること、すなわち凝固浴中の凝固媒は流速を持ってフ
ィルムに接するようにすることが極めて有効である。ま
た、浴温度は任意に選びうるが、低い方が好ましい。し
かし、あまりに低いと生産性に影響が出るため、例え
ば、ポリマ原液がNMP等の非プロトン系極性溶媒系で
あるときは、40℃程度を目安に設定すると、より容易
に目的を達することができる。
In the wet process, a poor solvent such as water is usually desolvated. However, when the film surface of the present invention cannot be obtained with only the poor solvent, a mixed medium of a poor solvent and a good solvent is used. In the wet process, with the progress of desolvation, the vicinity of the film is in a solvent-rich state, but in order to obtain the surface of the present invention, the relative speed between the film and the coagulating medium is increased as much as possible, that is, the coagulating bath. It is very effective that the coagulating medium in the film comes in contact with the film at a flow rate. The bath temperature can be arbitrarily selected, but a lower temperature is preferred. However, if the temperature is too low, the productivity is affected. For example, when the polymer stock solution is an aprotic polar solvent system such as NMP, setting the temperature at about 40 ° C. can achieve the purpose more easily. .

【0049】延伸は、湿式工程中あるいは加熱時に行え
て、延伸倍率として面倍率で1.1〜8.0(面倍率と
は、延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルムの面積で
除した値で定義する。)の範囲が通常用いられるが、延
伸前の段階で電子線等の物理的手段や架橋反応などの化
学的手段により、架橋構造、硬化構造を持った構成を表
面に形成せしめておくと、より容易に本発明の基材フィ
ルム表面を得ることができる。
The stretching can be performed during the wet process or at the time of heating, and the stretching ratio is 1.1 to 8.0 (area ratio is a value obtained by dividing the area of the film after stretching by the area of the film before stretching). Is usually used, but a structure having a crosslinked structure and a cured structure is formed on the surface by a physical means such as an electron beam or a chemical means such as a crosslinking reaction at the stage before stretching. By doing so, the surface of the substrate film of the present invention can be more easily obtained.

【0050】また、熱処理としては150〜500℃が
通常用いられるが、本発明においては、ポリマのガラス
転移点温度(Tg)〜Tg+50℃の温度で数秒から数
分間、定長あるいは若干リラックスさせて熱処理を行っ
ても良い。さらに、延伸あるいは熱処理後のフィルムを
徐冷する事は、寸法変動を抑えることに有効であり、5
0℃/秒以下の速度で冷却する事が有効である。
The heat treatment is usually carried out at a temperature of 150 to 500 ° C. In the present invention, the polymer is kept at a constant temperature or slightly relaxed for several seconds to several minutes at a temperature of glass transition temperature (Tg) to Tg + 50 ° C. Heat treatment may be performed. Furthermore, slow cooling of the film after stretching or heat treatment is effective in suppressing dimensional fluctuation,
It is effective to cool at a rate of 0 ° C./second or less.

【0051】本発明の芳香族ポリアミドフィルムは優れ
た機械特性を有しているので、特に薄もののフィルムと
したときに、他素材には見られない優れた効果を発揮す
る。好ましい厚みは0.5〜50μm、より好ましくは
1〜20μm、更に好ましくは2〜10μmであるが、
特に磁気記録媒体用には厚みが6.5μm以下、より好
ましくは4.5μm以下、更に好ましくは3.5μm以
下であることが好ましい。下限は、フィルムのヤング率
と走行系の設計等にかかり、0.5μm程度である。薄
膜化は好ましくパラ配向性芳香族ポリアミドとすれば達
成できる。また、幅が2.2〜15mmであって、磁気
記録媒体としたときの記録密度が、15キロバイト/m
2 以上(非圧縮時)であるテープ状磁気記録媒体とし
たときに、一層効果的に本発明の効果を利用した態様と
できる。磁気テープの高容量化は、支持体を薄くし長尺
化する方法とトラック幅の狭幅化、記録波長の短波長化
による単位面積あたりの記録容量を向上させる方法があ
り、これらは共用されることが多いが、記録密度の上昇
は単位面積当たりの磁化量及び出力特性を向上させる必
要があり、記録再生時にも高速にヘッドとの摺動が生じ
る。本発明のフィルムは、高度に表面性が制御され、か
つ磁気記録層の密着性にも優れたものであるので、この
要求にまさに応えたものと言える。記録密度としては、
より好ましくは25キロビット/mm2 以上、更に好ま
しくは34キロビット/mm2 以上である。上限は特に
無いが、最終的に磁性層を構成する成分により規制され
る。そして、上記高容量化対策の結果、全体としての記
憶容量としても、1GB以上、好ましくは8GB以上、
更に好ましくは16GB以上、特に好ましくは32GB
以上とできる。全体の記憶容量は、筐体サイズにもよる
が、上限は300〜1000GB程度である。
Since the aromatic polyamide film of the present invention has excellent mechanical properties, it exhibits excellent effects not found in other materials, especially when the film is made thin. The preferred thickness is 0.5 to 50 μm, more preferably 1 to 20 μm, and still more preferably 2 to 10 μm,
Particularly for a magnetic recording medium, the thickness is preferably 6.5 μm or less, more preferably 4.5 μm or less, and still more preferably 3.5 μm or less. The lower limit depends on the Young's modulus of the film and the design of the traveling system, and is about 0.5 μm. Thinning can be preferably achieved by using a para-oriented aromatic polyamide. Further, the width is 2.2 to 15 mm, and the recording density when used as a magnetic recording medium is 15 kilobytes / m.
When a tape-shaped magnetic recording medium having a size of m 2 or more (when not compressed) is used, an embodiment utilizing the effects of the present invention can be achieved more effectively. There are two ways to increase the capacity of magnetic tapes: a method of making the support thinner and making it longer, and a method of making the track width narrower and improving the recording capacity per unit area by shortening the recording wavelength. However, an increase in recording density requires an improvement in the amount of magnetization per unit area and output characteristics, and high-speed sliding with the head also occurs during recording and reproduction. Since the film of the present invention is highly controlled in surface properties and excellent in the adhesion of the magnetic recording layer, it can be said that the film exactly meets this demand. As the recording density,
It is more preferably at least 25 kilobits / mm 2, even more preferably at least 34 kilobits / mm 2 . There is no particular upper limit, but the upper limit is regulated by the components constituting the magnetic layer. Then, as a result of the above measures for increasing the capacity, the overall storage capacity is 1 GB or more, preferably 8 GB or more.
More preferably 16 GB or more, particularly preferably 32 GB
I can do that. Although the total storage capacity depends on the size of the housing, the upper limit is about 300 to 1000 GB.

【0052】また、ヘッドの走査方法としては、リニア
方式やヘリカルスキャン方式などがあるが、本願発明は
耐久性に優れているので摺動の強いヘリカルスキャン方
式での記録に向き、該方式は記録に使用される有効フィ
ルム面積が広く高容量化に向く。
A head scanning method includes a linear method and a helical scanning method. The present invention is excellent in durability and is suitable for recording in a helical scanning method in which sliding is strong. The effective area of the film used for a wide area is suitable for high capacity.

【0053】本発明のフィルムは、もちろん単層フィル
ムでも、積層フィルムであっても良い。積層フィルムと
する時は、最外層の一層が本発明で規定する表面を有し
ている。磁気記録媒体とするときには、磁性層を設ける
面を構成する層が、本発明で規定される表面性を有して
いることが好ましい。かかる構成とすることで、電磁変
換特性、磁性層の耐久性、走行性に優れたものとでき
る。これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、
口金内での積層、複合管での積層や、一旦1層を形成し
ておいてその上に他の層を形成する方法などがある。ま
た、各層を構成する成分は、同じ種類であっても異なる
ものであっても良い。例えば2層の場合には、重合した
芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドやポリアミ
ック酸溶液を二分し、それぞれ必要に応じ、同じあるい
は異なった粒子を添加した後、積層する。さらに3層以
上の場合も同様である。粒子の種類、含有量等は本発明
のフィルムに望ましく用いられるものを使用することが
望ましい。また、内層部に用いる粒子の径が、積層され
た本発明のフィルム中の粒子の径よりも大きいと、基材
フィルム表面に適度のうねりを持たせる事ができ、テ−
プ走行性がより一層良好となるので望ましく、ヘッドに
対向する面側の層に含有される粒子よりも反対面側の層
に含有される粒子の粒径及び/または含有量を大きくす
ることが走行性の点から見て好ましい。なお、積層構成
については、断面写真における粒子の深さ方向における
分布、あるいは断面のX線マイクロアナライザー分析、
二次イオン質量分析法、あるいはエッチングしながらE
SCA、あるいは赤外線分光法等を用いたり、極めて薄
層の場合には、前記の方法の他、表面写真を参酌し求め
ることができる。
The film of the present invention may of course be a single-layer film or a laminated film. When forming a laminated film, one of the outermost layers has the surface defined in the present invention. When a magnetic recording medium is used, it is preferable that a layer constituting a surface on which a magnetic layer is provided has a surface property defined by the present invention. With such a configuration, the electromagnetic conversion characteristics, the durability of the magnetic layer, and the running property can be excellent. These laminating methods include well-known methods, for example,
There are a method of laminating in a die, a method of laminating in a composite pipe, and a method of forming one layer once and forming another layer thereon. The components constituting each layer may be the same or different. For example, in the case of two layers, a polymerized aromatic polyamide, aromatic polyimide or polyamic acid solution is divided into two, and if necessary, the same or different particles are added and then laminated. The same applies to the case of three or more layers. It is desirable to use those which are desirably used for the film of the present invention as to the kind and content of the particles. Further, when the diameter of the particles used for the inner layer portion is larger than the diameter of the particles in the laminated film of the present invention, a moderate undulation can be provided on the surface of the substrate film, and
It is desirable because the runnability of the head is further improved, and it is preferable to increase the particle size and / or content of the particles contained in the layer on the side opposite to the head than the particles contained in the layer on the side facing the head. It is preferable from the viewpoint of running performance. In addition, regarding the lamination structure, the distribution of the particles in the depth direction in the cross-sectional photograph, or the X-ray microanalyzer analysis of the cross-section,
Secondary ion mass spectrometry or E while etching
In the case of using SCA, infrared spectroscopy, or the like, or in the case of an extremely thin layer, in addition to the above-described method, the surface can be determined by taking into consideration a surface photograph.

【0054】また、本発明のフィルムは、表面粗さがR
aで0.1〜100nm、より好ましくは0.2〜50
nm、Rzで2〜500nm、より好ましくは3〜40
0nmであるように好ましく設計される。また、片面の
み磁性層を有する磁気記録媒体においては、その裏面は
走行性の確保から適度にあれていることが好ましく、R
aとして0.5〜50nm程度とすることが好ましい。
なお、各パラメータの定義は、例えば奈良治郎著「表面
粗さ測定法」(総合技術センター、1983)に示され
ているものである。
The film of the present invention has a surface roughness of R
a is 0.1 to 100 nm, more preferably 0.2 to 50
nm, Rz is 2 to 500 nm, more preferably 3 to 40 nm.
It is preferably designed to be 0 nm. In the case of a magnetic recording medium having a magnetic layer only on one side, it is preferable that the back side of the magnetic recording medium has an appropriate degree in order to ensure running properties.
a is preferably about 0.5 to 50 nm.
The definition of each parameter is shown in, for example, “Method for Measuring Surface Roughness” by Jiro Nara (Tokyo Gijutsu Center, 1983).

【0055】本発明のフィルムの200℃、10分間で
の熱収縮率は、5%以下が好ましく、より好ましくは2
%以下であると、温度変化によるテープの寸法変化が小
さく、良好な電磁変換特性を保てるので望ましい。
The heat shrinkage of the film of the present invention at 200 ° C. for 10 minutes is preferably 5% or less, more preferably 2%.
% Is desirable because the dimensional change of the tape due to a temperature change is small and good electromagnetic conversion characteristics can be maintained.

【0056】本発明のフィルムの伸度は、10%以上、
より好ましくは20%以上、更に好ましくは30%以上
であると、テープが適度な柔軟性を持つので好ましい。
The elongation of the film of the present invention is 10% or more,
It is more preferably at least 20%, more preferably at least 30%, since the tape has appropriate flexibility.

【0057】本発明のフィルム中の分子量1000以下
のオリゴマの含有量は、1重量%未満、より好ましくは
0.5重量%未満であることが好ましい。ここで言うオ
リゴマは、本発明の芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポ
リイミドの構造単位を部分的にでも含有するものであ
り、例えば溶媒との反応物等も含む。このオリゴマの含
有量が1重量%を越えると、フィルムの機械的、熱的特
性を損ねたり、あるいは使用時の滲み出し等で、ローラ
などに巻き付いたりすることがある。
The content of the oligomer having a molecular weight of 1,000 or less in the film of the present invention is preferably less than 1% by weight, more preferably less than 0.5% by weight. The oligomer referred to herein includes at least a part of the aromatic polyamide or aromatic polyimide structural unit of the present invention, and includes, for example, a reaction product with a solvent. When the content of the oligomer exceeds 1% by weight, the mechanical and thermal properties of the film may be impaired, or the film may be wrapped around the roller due to bleeding during use.

【0058】また、本発明のフィルム中の金属イオン
(特に周期表のIA族、IIA族のイオン)は、好ましく
は3000ppm以下、更に好ましくは100ppm以
下、特に好ましくは30ppm以下であれば、ヘッドや
磁性層の腐蝕等の影響を及ぼさない優れた磁気記録媒体
とできる。ここで言う金属イオンは、イオン化された金
属成分であって、外部粒子等の、溶液から濾別あるいは
遠心分離可能な固形体を構成する金属成分は除かれる。
The metal ions (especially ions of groups IA and IIA of the periodic table) in the film of the present invention are preferably 3000 ppm or less, more preferably 100 ppm or less, and particularly preferably 30 ppm or less. An excellent magnetic recording medium which does not affect the corrosion of the magnetic layer or the like can be obtained. The metal ion referred to here is an ionized metal component, and excludes a metal component constituting a solid that can be filtered or centrifuged from a solution, such as external particles.

【0059】これは例えば、溶媒を含めた原料の純度を
高くすることはもちろんであるが、フィルム化の際製膜
用溶媒及び無機塩を抽出する工程において、表面に緻密
な層が形成されないようすることが好ましく、先述のよ
うに乾燥時にスキン層等が形成されないような配慮など
が必要である。また、湿式浴としても複数の浴を用い、
温度勾配あるいは濃度勾配を設けるなどして好ましく調
整できる。
This is, of course, not only to increase the purity of the raw materials including the solvent, but also to prevent the formation of a dense layer on the surface in the step of extracting the film-forming solvent and the inorganic salt during film formation. It is preferable to take care to prevent a skin layer or the like from being formed during drying as described above. Also, use multiple baths as a wet bath,
It can be preferably adjusted by providing a temperature gradient or a concentration gradient.

【0060】本発明のフィルムは、磁気記録媒体用途に
好適に用いることができる。記録方式としては任意であ
り、水平磁気記録、垂直磁気記録、光磁気記録など公知
の記録方式をとることができる。
The film of the present invention can be suitably used for magnetic recording media. The recording method is arbitrary, and a known recording method such as horizontal magnetic recording, vertical magnetic recording, and magneto-optical recording can be used.

【0061】磁性層を形成する方法は、強磁性粉末を各
種バインダーを用いて磁性塗料とし、基材フィルム上に
塗布する湿式法や、蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法などの乾式法があり、特に限定される
ものではないが、本発明は高度に制御された表面性を有
しており、密着性に優れているので、塗布型のものに比
べ遥かに薄く、性状としては固いため、より密着性に優
れた表面が要求される金属薄膜型磁性層において、その
効果を顕著に発揮できる。また、下塗り層などの非磁性
薄膜層を基材フィルム上に設けたときには、該薄膜に対
し密着性や好ましい結晶構造を形成せしめることがで
き、好ましく採用される。この際、磁性層などとの接着
性を更に改善するため、フィルム表面を予め紫外線、放
射線、放電処理などを行っても良い。
The magnetic layer can be formed by a wet method in which a ferromagnetic powder is formed into a magnetic paint using various binders and applied to a base film, or a dry method such as an evaporation method, a sputtering method, or an ion plating method. Yes, although not particularly limited, the present invention has a highly controlled surface property and excellent adhesion, so it is much thinner than the coating type, and it is hard as a property The effect can be remarkably exhibited in a metal thin film type magnetic layer which requires a surface having more excellent adhesion. Further, when a non-magnetic thin film layer such as an undercoat layer is provided on a base film, it is possible to form an adhesive or a preferable crystal structure on the thin film, and this is preferably employed. At this time, in order to further improve the adhesiveness with the magnetic layer or the like, the surface of the film may be subjected to ultraviolet light, radiation, discharge treatment or the like in advance.

【0062】この金属薄膜型の磁性層としては、Co、
Fe、Niなどの金属の単体、または合金やこれら単
体、または合金とCr、Mo、W、V、Nb、Ti、R
h、Ru等との合金及びこれら金属、あるいは合金の酸
化物が例示でき、必要に応じ同種、あるいは異種の磁性
層を積層することもできる。また、これら磁性層の上に
は、保護層あるいは潤滑層を好ましく形成することもで
きる。
As the metal thin film type magnetic layer, Co,
Cr, Mo, W, V, Nb, Ti, R
Examples thereof include alloys with h, Ru, and the like, and oxides of these metals or alloys. If necessary, the same type or different types of magnetic layers can be laminated. On these magnetic layers, a protective layer or a lubricating layer can be preferably formed.

【0063】この後、磁性層と反対側の面に、更に走行
性を向上させるために、公知の方法によりバックコート
層を設けてもよい。
Thereafter, a back coat layer may be provided on the surface opposite to the magnetic layer by a known method in order to further improve running properties.

【0064】[0064]

【実施例】本発明の物性の測定方法、効果の評価方法は
次の方法による。
EXAMPLES The method for measuring physical properties and the method for evaluating effects according to the present invention are as follows.

【0065】(1)突起密度、突起高さ デジタルインスツルメント社製原子間力顕微鏡(ナノス
コープIIIa)を用いて表面観察を行い、高さ5nm以上
の突起について平坦面を基準にしきい値面で切ったとき
の突起数を求め、突起密度を算出した。観察条件などは
以下の通りである。 走査サイズ:20μm、走査速度:0.5Hz。
(1) Projection Density, Projection Height Surface observation is performed using an atomic force microscope (Nanoscope IIIa) manufactured by Digital Instruments Co., Ltd. The number of protrusions at the time of cutting was determined, and the protrusion density was calculated. The observation conditions and the like are as follows. Scan size: 20 μm, scan speed: 0.5 Hz.

【0066】(2)ボロノイ分割にて求められる相対標
準偏差 上記原子間力顕微鏡観察データーをデジタルデータ化し
て計算機に転送し、計測された各突起において、隣り合
う突起間に垂直2等分線を引き、それぞれの突起につい
て該垂直2等分線にて囲まれた面積(Ai)を求めた
(注;視野境界領域など垂直2等分線にて閉じられてい
ない突起については計算対象としない)。ついで、下式
(2) Relative standard deviation obtained by Voronoi division The above-mentioned atomic force microscope observation data is converted into digital data and transferred to a computer. In each measured protrusion, a perpendicular bisector between adjacent protrusions is formed. Then, the area (Ai) surrounded by the vertical bisector for each projection was determined (note: projections not closed by the vertical bisector such as the visual field boundary area are not calculated). . Then,

【0067】[0067]

【数1】 により相対標準偏差を求めた。(Equation 1) To determine the relative standard deviation.

【0068】なお、本項目は粒子の位置,分布情報が判
れば良いので、測定は上記原子間力顕微鏡以外にも走査
電子顕微鏡や光学顕微鏡、微分干渉顕微鏡などを用いる
こともできなくはないが、粒子の大きさや分布状態によ
り適宜選定され、本願のような微細な突起を扱う場合は
原子間力顕微鏡を用いるのが好適である。また、視野内
には十分な突起が入るよう測定面積は適宜調整されるべ
きで、計算対象とできる突起が20個/1視野程度とす
ることが推奨される。なお、本発明では測定面積は5μ
m×5μmとした。
Since this item only needs to know the position and distribution information of the particles, it is not impossible to use a scanning electron microscope, an optical microscope, a differential interference microscope or the like for the measurement in addition to the atomic force microscope. It is appropriately selected according to the size and distribution of the particles, and it is preferable to use an atomic force microscope when dealing with fine projections as in the present application. In addition, the measurement area should be appropriately adjusted so that sufficient projections are included in the field of view, and it is recommended that the number of projections to be calculated is about 20/1 field of view. In the present invention, the measurement area is 5 μm.
m × 5 μm.

【0069】(3)吸湿率 基材フィルム数グラムを真空乾燥器中で100Pa以
下、180℃の条件下、恒量になるまで乾燥し、その重
量をW1とする。次いで、該フィルムを25℃、75%
RHの環境下に48時間置き、その後測定した重量をW
2とする。吸湿率は、 (W2−W1)/W1×100(単位:%) として求めた。
(3) Moisture Absorption A few grams of the substrate film is dried in a vacuum dryer under a condition of 100 Pa or less and 180 ° C. until a constant weight is obtained, and its weight is defined as W1. Then, the film was heated at 25 ° C., 75%
After placing in the environment of RH for 48 hours, the measured weight is
Let it be 2. The moisture absorption was determined as (W2−W1) / W1 × 100 (unit:%).

【0070】(4)ヤング率、伸度 オリエンテック社製テンシロンを用い、試幅10mm、
試長50mm、引張速度300mm/分で実施した。な
お、測定に当たり試料は20℃、相対湿度60%雰囲気
下に24時間以上置き、また該条件において測定を行っ
た。
(4) Young's modulus and elongation Tensilon manufactured by Orientec Co., Ltd.
The test was performed at a test length of 50 mm and a tensile speed of 300 mm / min. In the measurement, the sample was placed in an atmosphere of 20 ° C. and a relative humidity of 60% for 24 hours or more, and the measurement was performed under the same conditions.

【0071】(5)S/N比(電磁変換特性) 本発明の要件を満足する基材フィルム面にコロナ放電処
理を施し、次いで連続真空蒸着装置を用いて、CoO膜
を蒸着し、磁性層を形成した。次に蒸着層表面にカーボ
ン保護膜、反対面にバックコート層を公知の手段により
形成後、これらをスリットして得たパンケーキからカセ
ットに組み込み、磁気テープを得た。ついで6.5MH
zの正弦波を最適記録電流で記録し、再生出力を市販の
標準テープを対象にS/N比を求めた。
(5) S / N Ratio (Electromagnetic Conversion Characteristics) A corona discharge treatment is applied to the surface of the substrate film that satisfies the requirements of the present invention, and then a CoO film is deposited by using a continuous vacuum deposition apparatus. Was formed. Next, a carbon protective film was formed on the surface of the vapor-deposited layer, and a back coat layer was formed on the opposite surface by a known means, and these were slit into a pancake and then incorporated into a cassette to obtain a magnetic tape. Then 6.5 MH
A sine wave of z was recorded at the optimum recording current, and the S / N ratio of the reproduction output was determined for a commercially available standard tape.

【0072】(6)耐久性、耐スクラッチ性 上記(5)のS/N比測定を100回行い、S/N比の
低下を下記基準にて耐久性を評価した。 ◎:S/N比ダウンが殆ど認められない。 ○:S/N比ダウンは認められるが、実用上支障がな
い。 △:S/N比ダウンがあり、実用上問題がある。 ×:S/N比ダウンが激しく、全く実用にならない。
(6) Durability and Scratch Resistance The S / N ratio measurement of the above (5) was performed 100 times, and the durability was evaluated based on the following criteria for a decrease in the S / N ratio. A: S / N ratio is hardly reduced. :: S / N ratio is reduced, but there is no problem in practical use. Δ: S / N ratio is reduced, and there is a problem in practical use. X: The S / N ratio is drastically reduced and is not practical at all.

【0073】また、耐スクラッチ性は、S/N比を10
0回測定後に、磁性層面を顕微鏡観察し、その表面状態
を以下の基準にて評価した。 ◎:キズやケズレなどが全く認められない。 ○:かすかにキズが認められる。 ×:蒸着層の脱落が認められる。
Further, the scratch resistance is determined by setting the S / N ratio to 10
After the measurement was performed 0 times, the surface of the magnetic layer was observed under a microscope, and the surface state was evaluated according to the following criteria. ◎: No scratches or nicks are observed. :: Slight scratches are observed. ×: Dropout of the deposited layer is observed.

【0074】実施例1〜3、比較例1 以下の実施例あるいは比較例で用いた各原料の略記号
は、それぞれ次の通りである。
Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 The abbreviations of the respective raw materials used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

【0075】芳香族ジアミン成分: CPA:2-クロルパラフェニレンジアミン DPE:4,4'−ジアミノジフェニルエーテル 酸クロリド成分: TPC:テレフタル酸ジクロリド CPC:2-クロルテレフタル酸ジクロリド 酸無水物成分: BTA:3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸無水
物。
Aromatic diamine component: CPA: 2-chloroparaphenylenediamine DPE: 4,4'-diaminodiphenyl ether acid chloride component: TPC: terephthalic acid dichloride CPC: 2-chloroterephthalic acid dichloride acid anhydride component: BTA: 3 , 3 ', 4,4'-Biphenyltetracarboxylic anhydride.

【0076】支持体層成分の調製 N−メチルピロリドン(以下、NMPという)に各ポリ
マー原料は、特に断らない限り、それぞれの実施例及び
比較例と同じ組成となるよう添加し、2時間撹拌して重
合を完了した。次いで発生した塩化水素を水酸化リチウ
ムを用い、4分の1ずつ添加して中和を行い、ポリマ濃
度10重量%のポリマー溶液を得た。ここで平均粒径1
50nm、粒径の相対標準偏差0.2の表面疎水処理さ
れたシリカ粒子をNMP中に添加し、48時間超音波分
散を行ったあと、1.0μmのフィルターを用いて濾過
して得たシリカスラリーを、ポリマー溶液にシリカ濃度
がポリマーに対し1wt%となるように添加後、十分攪
拌して調製した。
Preparation of Support Layer Components Unless otherwise specified, each polymer raw material was added to N-methylpyrrolidone (hereinafter referred to as NMP) so as to have the same composition as in each of Examples and Comparative Examples, and stirred for 2 hours. To complete the polymerization. Next, the generated hydrogen chloride was neutralized by adding each quarter using lithium hydroxide to obtain a polymer solution having a polymer concentration of 10% by weight. Where the average particle size is 1
Silica particles obtained by adding 50 nm, silica particles having a surface hydrophobic treatment having a relative standard deviation of 0.2 of particle diameter into NMP, performing ultrasonic dispersion for 48 hours, and then filtering using a 1.0 μm filter. The slurry was added to the polymer solution so that the silica concentration was 1 wt% with respect to the polymer, and the slurry was sufficiently stirred to prepare.

【0077】実施例1 槽径1.8mの冷却ジャケット付き反応槽に、脱水した
NMPを入れ、次いで、80モル%のCPA、20モル
%のDPEを溶解させ、溶液を冷却する。ついで、10
0モル%のCPCを添加し、周速度を4m/秒から2m
/秒に変化させながら2時間撹拌後、水酸化リチウムで
中和して重合物を得た。次いで、該重合物を水中に導入
して、凝固させつつ粉砕し、水洗を繰り返して無機物を
除去し、乾燥してポリマー粉体を得た。
Example 1 A dehydrated NMP was placed in a reactor having a cooling jacket having a diameter of 1.8 m and then 80 mol% of CPA and 20 mol% of DPE were dissolved, and the solution was cooled. Then 10
0 mol% of CPC was added, and the peripheral speed was increased from 4 m / sec to 2 m.
The mixture was stirred for 2 hours while changing to / sec, and neutralized with lithium hydroxide to obtain a polymer. Next, the polymer was introduced into water, pulverized while coagulating, and repeatedly washed with water to remove inorganic substances, and dried to obtain a polymer powder.

【0078】次いで、実質的に単分散の平均一次粒径4
0nm、粒径の相対標準偏差0.2のコロイダルシリカ
の塩化リチウム−NMP分散体に、上述のポリマー粉体
を攪拌しながら徐々に添加、溶解させて、ポリマーあた
りの粒子の含量が0.8重量%、ポリマー濃度が10重
量%となるように調製した。
Next, a substantially monodisperse average primary particle size of 4
0 nm, the above-mentioned polymer powder was gradually added to a lithium chloride-NMP dispersion of colloidal silica having a relative standard deviation of 0.2 of particle diameter while stirring, and was dissolved, so that the content of particles per polymer was 0.8. % By weight and a polymer concentration of 10% by weight.

【0079】脱泡後このポリマ溶液を2μmカットのフ
ィルタ−を通し、また、別途調製した支持体層成分溶液
は5μmカットのフィルターを通じた後、最終フィルム
厚みとしてそれぞれ1.0μm、3.5μmとなるよう
積層管にて複合して、鏡面上に磨かれ120℃に予熱さ
れたステンレスベルト上に流延し、ベルト上下面から加
熱できる150℃から170℃に温度勾配のついた乾燥
機中で、溶媒含量が56%になるまで穏やかに蒸発後、
自己支持性を得たフィルムをベルトから剥離して、40
℃に保たれ、循環機構のついた、最初NMP/水(30
/70)浴、次に複数の水浴中に順次導入して残存溶媒
等を抽出した。この時、第2水槽以降において長手方向
に1.1倍延伸した。ついで、テンター中で300℃で
乾燥、熱処理し、この時幅方向に1.2倍延伸し、20
℃/秒の速度で常温に冷却して、厚さ4.5μmの芳香
族ポリアミドフィルムを得た。
After defoaming, the polymer solution was passed through a 2 μm-cut filter, and the separately prepared support layer component solution was passed through a 5 μm-cut filter, and the final film thickness was 1.0 μm and 3.5 μm, respectively. In a dryer with a temperature gradient from 150 ° C to 170 ° C, which can be heated from the upper and lower surfaces of the belt, and then cast on a stainless steel belt polished on a mirror surface and preheated to 120 ° C. , After gentle evaporation until the solvent content is 56%,
The self-supporting film was peeled off from the belt,
C., with NMP / water (30
/ 70) The solution was successively introduced into a bath and then into a plurality of water baths to extract residual solvents and the like. At this time, the film was stretched 1.1 times in the longitudinal direction after the second water tank. Then, it is dried and heat-treated at 300 ° C. in a tenter, and then stretched 1.2 times in the width direction.
After cooling to room temperature at a rate of ° C./sec, an aromatic polyamide film having a thickness of 4.5 μm was obtained.

【0080】このフィルムの諸物性ならびにフィルム特
性は、表1に示す通りであった。
The physical properties and film properties of this film are as shown in Table 1.

【0081】実施例2 実施例1と同様にして、70モル%のCPA、30モル
%のDPEを溶解させ、溶液を冷却する。ついで、10
0モル%のCPCを添加し、周速度を4m/秒から2m
/秒に変化させながら2時間撹拌後、水酸化リチウムで
中和して重合物を得た。次いで、該重合物を水中に導入
して、凝固させつつ粉砕し、水洗を繰り返して無機物を
除去し、乾燥してポリマー粉体を得た。
Example 2 In the same manner as in Example 1, 70 mol% of CPA and 30 mol% of DPE were dissolved, and the solution was cooled. Then 10
0 mol% of CPC was added, and the peripheral speed was increased from 4 m / sec to 2 m.
The mixture was stirred for 2 hours while changing to / sec, and neutralized with lithium hydroxide to obtain a polymer. Next, the polymer was introduced into water, pulverized while coagulating, and repeatedly washed with water to remove inorganic substances, and dried to obtain a polymer powder.

【0082】実質的に単分散の平均一次粒径30nm、
粒子径の相対標準偏差0.1のコロイダルシリカ粒子を
予め分散させたNMP分散体に、上述のポリマー粉体を
攪拌しながら徐々に添加、溶解させて、ポリマーあたり
の粒子の含量が0.8重量%、ポリマー濃度が1重量%
となるように調製した。
A substantially monodisperse average primary particle size of 30 nm,
The above-mentioned polymer powder was gradually added to an NMP dispersion in which colloidal silica particles having a relative standard deviation of 0.1 of particle diameter previously dispersed were stirred and stirred, and the content of particles per polymer was 0.8. Weight%, polymer concentration 1 weight%
It was prepared so that

【0083】次にポリマー成分として、80モル%のC
PA、20モル%のDPE、100モル%のCPCとし
て別途調製した支持体層成分溶液を5μmカットのフィ
ルターを通じた後、フィルム厚みとして3.5μmとな
るように鏡面上に磨かれ120℃に予熱されたステンレ
スベルト上に流延し、ベルト上下面から加熱できる15
0℃から170℃に温度勾配のついた乾燥機中で、溶媒
含量が56%になるまで穏やかに蒸発後、自己支持性を
得たフィルムをベルトから剥離し、次いで該剥離フィル
ムに対して、先に調製した30nmコロイダルシリカ含
有ポリマー溶液を脱泡後2μmカットのフィルタ−を通
して塗布し、該塗布層をラジエーションヒーターで半乾
燥状態にした。次いで湿式工程として、40℃に保たれ
た第一循環水槽として、20℃の水、第二、第三、第四
循環水槽としてそれぞれ30℃のNMP/水が、35/
65、15/85、0/100の組成比の水槽に通じ
た。この時第2水槽以降において長手方向に1.1倍延
伸した。ついで、テンター中で300℃で乾燥、熱処理
し、この時、幅方向に1.2倍延伸し、20℃/秒の速
度で常温に冷却して、厚さ3.5μmの芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。
Next, as a polymer component, 80 mol% of C
A support layer component solution separately prepared as PA, 20 mol% DPE and 100 mol% CPC was passed through a 5 μm cut filter, polished on a mirror surface to a film thickness of 3.5 μm, and preheated to 120 ° C. Can be cast on a stainless steel belt and heated from the upper and lower surfaces of the belt.
After gently evaporating in a dryer with a temperature gradient from 0 ° C. to 170 ° C. until the solvent content becomes 56%, the self-supporting film is peeled off from the belt, and then the peeled film is subjected to After defoaming the previously prepared 30 nm colloidal silica-containing polymer solution, it was applied through a 2 μm-cut filter, and the applied layer was semi-dried with a radiation heater. Next, as a wet process, as a first circulating water tank kept at 40 ° C., water at 20 ° C., and as second, third, and fourth circulating water tanks, NMP / water at 30 ° C., respectively, was 35/35.
The mixture was passed through a water tank having a composition ratio of 65, 15/85, 0/100. At this time, the film was stretched 1.1 times in the longitudinal direction after the second water tank. Then, it is dried and heat-treated at 300 ° C. in a tenter. At this time, the film is stretched 1.2 times in the width direction, and cooled to room temperature at a speed of 20 ° C./second to obtain a 3.5 μm-thick aromatic polyamide film. Obtained.

【0084】このフィルムの諸物性ならびにフィルム特
性は、表1に示す通りであった。
The physical properties and film properties of this film are as shown in Table 1.

【0085】実施例3 槽径1.8mの冷却ジャケット付き反応槽に、脱水した
NMPを入れ、アミノ末端を有するシランカップリング
剤で処理された、実質的に単分散の平均一次粒径60n
mのコロイダルシリカのNMP分散体をポリマーあたり
の粒子の含量が0.7重量%となるように添加し、次い
で、60モル%のCPA、40モル%のDPEを溶解さ
せ溶液を冷却する。ついで、100モル%のBTAを添
加し、周速度を4m/秒から2m/秒に変化させて重合
を行い、ポリマー濃度10重量%の芳香族ポリアミド酸
溶液を得た。
Example 3 A dehydrated NMP was placed in a reactor having a cooling jacket having a diameter of 1.8 m and treated with an amino-terminated silane coupling agent.
m of NMP dispersion of colloidal silica is added so that the content of particles per polymer is 0.7% by weight, then 60 mol% of CPA and 40 mol% of DPE are dissolved and the solution is cooled. Next, 100 mol% of BTA was added, and polymerization was carried out while changing the peripheral speed from 4 m / sec to 2 m / sec, to obtain an aromatic polyamic acid solution having a polymer concentration of 10% by weight.

【0086】脱泡後、製膜前の該溶液、及び別途調製し
た支持体層成分溶液に触媒を添加し、このポリマ溶液を
2μmカットのフィルタ−を通し、また、支持体層成分
溶液は5μmカットのフィルターを通じた後、最終フィ
ルム厚みとしてそれぞれ2.2μm、2.3μmとなる
よう積層管にて複合して、鏡面上に磨かれ120℃に予
熱されたステンレスベルト上に流延し、ベルト上下面か
ら加熱できる150℃から170℃に温度勾配のついた
乾燥機中で、溶媒含量が55%になるまでイミド化させ
つつ穏やかに蒸発後、自己支持性を得たフィルムをベル
トから剥離して、40℃に保たれ、循環機構のついた、
最初NMP/水(30/70)浴、次いで複数の水浴中
に順次導入して残存溶媒等を抽出した。ついで、テンタ
ー中で300℃で乾燥、熱処理し、この時長手方向に
1.2倍、幅方向に1.25倍延伸し、また、340℃
の雰囲気中で環化を完結させて、20℃/秒の速度で常
温に冷却して、厚さ4.5μmの芳香族ポリイミドフィ
ルムを得た。
After defoaming, a catalyst was added to the solution before membrane formation and to the separately prepared support layer component solution, and the polymer solution was passed through a 2 μm-cut filter. After passing through a cut filter, the final film thickness is 2.2 μm and 2.3 μm, respectively, and it is compounded in a laminated tube and cast on a stainless steel belt polished on a mirror surface and preheated to 120 ° C. In a dryer with a temperature gradient from 150 ° C. to 170 ° C., which can be heated from the upper and lower surfaces, the film was gently evaporated while imidizing until the solvent content became 55%. And kept at 40 ° C with a circulation mechanism.
It was first introduced into an NMP / water (30/70) bath and then into a plurality of water baths to extract residual solvents and the like. Then, it is dried and heat-treated at 300 ° C. in a tenter, and then stretched 1.2 times in the longitudinal direction and 1.25 times in the width direction.
The cyclization was completed in the above atmosphere, and the mixture was cooled to room temperature at a rate of 20 ° C./sec to obtain an aromatic polyimide film having a thickness of 4.5 μm.

【0087】このフィルムの諸物性ならびにフィルム特
性は、表1に示す通りであった。
The physical properties and film properties of this film are as shown in Table 1.

【0088】比較例1 槽径1.8mの冷却ジャケット付き反応槽に、脱水した
NMPおよび塩化リチウムを入れ、次いで、実施例3で
用いたコロイダルシリカをポリマーあたりの粒子の含量
が0.8重量%となるように添加し、次いで80モル%
のCPA、20モル%のDPEを溶解させ、溶液を冷却
する。ついで、100モル%のTPCを添加し、周速度
2m/秒で2時間撹拌後、水酸化リチウムで中和してポ
リマー濃度10重量%のポリマー溶液を得た。
Comparative Example 1 A dehydrated NMP and lithium chloride were placed in a reaction vessel having a cooling jacket having a vessel diameter of 1.8 m, and then the colloidal silica used in Example 3 was used in an amount of 0.8 wt. %, And then 80 mol%
Of CPA, 20 mol% of DPE are dissolved and the solution is cooled. Then, 100 mol% of TPC was added, and the mixture was stirred at a peripheral speed of 2 m / sec for 2 hours, and neutralized with lithium hydroxide to obtain a polymer solution having a polymer concentration of 10% by weight.

【0089】脱泡後このポリマ溶液を2μmカットのフ
ィルタ−を通し、また、別途調製した支持体層成分溶液
は5μmカットのフィルターを通じた後、最終フィルム
厚みとして、それぞれ2.2μm、2.3μmとなるよ
う積層管にて複合して、鏡面上に磨かれ120℃に予熱
されたステンレスベルト上に流延し、180℃の熱風乾
燥機中で乾燥し、自己支持性を得たフィルムをベルトか
ら剥離して40℃の水浴中に導入して、残存溶媒等を抽
出した。この時、水槽中において長手方向に1.1倍延
伸した。ついで、テンター中で300℃で乾燥、熱処理
し、この時、幅方向に1.2倍延伸し、20℃/秒の速
度で常温に冷却して、厚さ4.5μmの芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。
After defoaming, the polymer solution was passed through a 2 μm-cut filter, and the separately prepared support layer component solution was passed through a 5 μm-cut filter, and the final film thickness was 2.2 μm and 2.3 μm, respectively. The film is cast on a stainless steel belt polished on a mirror surface and preheated to 120 ° C., dried in a hot air drier at 180 ° C. to obtain a self-supporting film. Then, the mixture was separated and introduced into a 40 ° C. water bath to extract the remaining solvent and the like. At this time, the film was stretched 1.1 times in the longitudinal direction in the water tank. Then, it is dried and heat-treated at 300 ° C. in a tenter. At this time, the film is stretched 1.2 times in the width direction, and cooled to room temperature at a speed of 20 ° C./second to obtain a 4.5 μm-thick aromatic polyamide film. Obtained.

【0090】このフィルムの諸物性ならびにフィルム特
性は、表1に示す通りであった。
The physical properties and film properties of this film are as shown in Table 1.

【0091】[0091]

【表1】 [Table 1]

【0092】[0092]

【発明の効果】本発明は、耐熱性、機械特性に優れた芳
香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドからなるフィ
ルムであり、かつ優れた表面性を有しているので、磁気
カード、テープ、ディスクなど磁気記録媒体、特にコン
ピュータ用メモリーなどの高密度磁気記録媒体用途に好
適である。また、本発明により得られる優れた表面性
は、磁気テープとヘッドとの関係を、例えば感熱ヘッド
や被記録材と感熱転写用記録材との関係や、ロールや処
理板とフィルムとの関係に置き換えて考慮すれば自明な
ように、光記録媒体、感熱転写用記録材やフレキシブル
プリント配線板、コンデンサー、被覆材、高速回転する
電気機器の絶縁材、製版材料、写真フィルム、音響振動
板、太陽電池用基板等各種用途にも好適に用いることが
できる。
The present invention is directed to a film made of an aromatic polyamide or an aromatic polyimide having excellent heat resistance and mechanical properties, and having excellent surface properties. It is suitable for recording media, especially for high-density magnetic recording media such as computer memories. Further, the excellent surface properties obtained by the present invention, the relationship between the magnetic tape and the head, for example, the relationship between the thermal head or the recording material and the thermal transfer recording material, and the relationship between the roll and the processing plate and the film. As it is obvious when considering the replacement, optical recording media, recording materials for thermal transfer, flexible printed wiring boards, capacitors, coating materials, insulating materials for high-speed rotating electrical equipment, plate-making materials, photographic films, acoustic diaphragms, solar It can be suitably used for various uses such as a battery substrate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 79:00 Fターム(参考) 4F071 AA56 AH14 BC01 BC08 BC10 BC15 4F100 AB01B AK47A AK49A AR00B BA02 BA10A BA10B DD07A GB41 JG06B JJ03 JK01 JK07 JM02B YY00A 5D006 BB01 CB02 CB03 CB07 FA02 FA04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme coat ゛ (reference) C08L 79:00 F term (reference) 4F071 AA56 AH14 BC01 BC08 BC10 BC15 4F100 AB01B AK47A AK49A AR00B BA02 BA10A BA10B DD07A GB41 JG06B JJ03 JK01 JK07 JM02B YY00A 5D006 BB01 CB02 CB03 CB07 FA02 FA04

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】芳香族ポリアミド及び/または芳香族ポリ
イミドを主成分とするフィルムであって、該フィルムの
少なくとも一面の表面に形成された突起についてボロノ
イ分割を行い、そのボロノイ多角形の面積平均値をXb
ar、標準偏差をσとしたとき、相対標準偏差(σ/X
bar)が1以下であることを特徴とする芳香族ポリア
ミドおよび/または芳香族ポリイミドフィルム。
1. A film mainly composed of an aromatic polyamide and / or an aromatic polyimide, wherein a projection formed on at least one surface of the film is subjected to Voronoi division, and the area average value of the Voronoi polygon is obtained. To Xb
ar, standard deviation is σ, relative standard deviation (σ / X
(a) an aromatic polyamide and / or aromatic polyimide film, wherein bar) is 1 or less.
【請求項2】芳香族ポリアミドがパラ配向性芳香族ポリ
アミドである請求項1に記載のフィルム。
2. The film according to claim 1, wherein the aromatic polyamide is a para-oriented aromatic polyamide.
【請求項3】高さが5nm以上の微細突起が102 〜1
10個/mm2 存在する請求項1または2に記載の芳香
族ポリアミド及び/または芳香族ポリイミドフィルム。
3. The method according to claim 1, wherein the fine projections having a height of 5 nm or more are 10 2 to 1.
The aromatic polyamide and / or aromatic polyimide film according to claim 1 or 2, wherein the number is 0 10 / mm 2 .
【請求項4】高さが5nm以上の突起の内、高さが50
nmを越える突起が全体の10%以下である請求項1〜
3のいずれかに記載の芳香族ポリアミド及び/または芳
香族ポリイミドフィルム。
4. A projection having a height of 50 nm or more among projections having a height of 5 nm or more.
The protrusions exceeding nm are 10% or less of the whole.
4. The aromatic polyamide and / or aromatic polyimide film according to any one of 3.
【請求項5】突起高さの相対標準偏差が0.5以下であ
る請求項1〜4のいずれかに記載の芳香族ポリアミド及
び/または芳香族ポリイミドフィルム。
5. The aromatic polyamide and / or aromatic polyimide film according to claim 1, wherein the relative standard deviation of the height of the projections is 0.5 or less.
【請求項6】請求項1〜5のいずれかに記載のフィルム
の少なくとも一面に磁性層を設けてなる磁気記録媒体。
6. A magnetic recording medium comprising a magnetic layer provided on at least one surface of the film according to claim 1.
【請求項7】磁性層が金属薄膜型磁性層である請求項6
に記載の磁気記録媒体。
7. The magnetic layer according to claim 6, wherein the magnetic layer is a metal thin film type magnetic layer.
3. The magnetic recording medium according to claim 1.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004018743A (en) * 2002-06-18 2004-01-22 Toray Ind Inc Aromatic polyamide film
JP2007090770A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Kaneka Corp Aromatic polyimide film and manufacturing method of the polyimide film
JPWO2016017440A1 (en) * 2014-07-28 2017-06-29 住友化学株式会社 Film production method and coating solution storage method

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