JP2000340987A - 電磁波シールド性光透過窓材及びパネル貼合材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＰＤＰ用フィルター等として好適な、高透明
性で、電磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良好
な電磁波シールド性光透過窓材と、このような窓材をＰ
ＤＰに一体化したパネル貼合材を提供する。 【解決手段】 ２枚の透明基板２Ａ，２Ｂ又は透明基板
とＰＤＰ本体との間に電磁波シールド性熱線カットフィ
ルム３Ａ，３Ｂを介在させて接着用中間膜４Ａ〜４Ｃで
一体化した電磁波シールド性光透過窓材１又はパネル貼
合材。電磁波シールド性熱線カットフィルム３Ａは、ベ
ースフィルム上に酸化物透明導電膜と金属薄膜とを５層
積層したものであり、電磁波シールド性熱線カットフィ
ルム３Ｂは、ベースフィルム上に酸化物透明導電膜と金
属薄膜とを７層積層したものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材及びパネル貼合材に係り、特に、良好な電磁波
シールド性と熱線（近赤外線）カット性とを備え、かつ
光透過性で、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の
前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性光透過窓
材と、ＰＤＰに電磁波シールド性熱線カット材を一体化
させることによりパネル貼合材自体に電磁波シールド性
と熱線カット性等の機能を付与し、パネル貼合材の軽
量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコス
トの低減を可能としたガス放電型パネル貼合材に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。

【０００３】そこで、従来、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フ
ィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性
の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓
材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護する
ために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材とし
ても利用されている。

【０００４】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。

【０００５】本出願人は、このような従来の電磁波シー
ルド性光透過窓材の特性や施工性を改善するものとし
て、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させ
て、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド
性光透過窓材を提案した（特開平１１−７４６８３号公
報）。

【０００６】また、高透明性で、電磁波シールド性及び
熱線カット性が良好な電磁波シールド熱線カット性光透
過窓材として、本出願人は、２枚の透明基板間に、酸化
物透明導電膜と金属薄膜とを交互に積層した多層膜より
なる中間膜を介在させて、接着樹脂で接合一体化してな
る電磁波シールド熱線カット性光透過窓材を提案した
（特開平１１−９７８８０号公報）。

【０００７】この酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交互
に積層してなる多層膜であれば、透明性を損なうことな
く、良好な電磁波シールド性と熱線（近赤外線）カット
性を得ることができる。

【０００８】ところで、放電現像を利用したＰＤＰ（ｐ
ｌａｓｍａ ｄｉｓｐｌａｙ ｐａｎｅｌ）は、液晶デ
ィスプレイ（ＬＣＤ）やブラウン管（ＣＲＴ）に比べ
て、次のような利点を有することから、近年、テレビや
パソコン、ワープロ等のＯＡ機器、交通機器、看板、そ
の他の表示板等のパネル貼合材として研究開発及び実用
化が進められている。 放電光利用であり自発光である。 ０．１〜０．３ｍｍの放電ギャップであるのでパネ
ル型にできる。 螢光体を利用してカラー発光できる。 大画面パネルが作り易い。

【０００９】ＰＤＰの基本的な表示機構は、２枚のガラ
ス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に
放電発光させることで文字や図形を表示するものであ
り、例えば、図４に示すような構成とされている。図４
において２１は前面板（フロントガラス）、２２は背面
板（リヤガラス）、２３は隔壁、２４は表示セル（放電
セル）、２５は補助セル、２６は陰極、２７は表示陽
極、２８は補助陽極であり、各表示セル２４の内壁に
は、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体（図示せ
ず。）が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印
加された電圧による放電で発光する。

【００１０】ＰＤＰの前面からは、電圧印加、放電、発
光により、周波数：数ｋＨｚ〜数ＧＨｚ程度の電磁波が
発生するため、これを遮蔽する必要がある。また、表示
コントラスト向上のためには、前面における外部光の反
射を防止する必要がある。更に、機器の本体側からの熱
で画面が過熱するという問題もあった。

【００１１】このため、従来においては、ＰＤＰからの
電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能
を有する透明板をＰＤＰの前面に配置している。

【００１２】ＰＤＰと別体の透明板をＰＤＰの前面に設
けたものでは、次のような欠点がある。 ２つの板材を配置するため構造が複雑となる。 ＰＤＰにも電磁波シールド性の透明板にも、ガラス
等の透明基板を必要とするため、ＰＤＰと電磁波シール
ド性の透明板とを設けることで厚肉となり、また、重量
が重くなる。 部品点数、生産工程数が増え、コストアップを招
く。

【００１３】このような問題を解決し、ＰＤＰに電磁波
シールド材を一体化させることによりパネル貼合材と
し、それ自体に電磁波シールド性等の機能を付与するこ
とで軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及
びコストの低減を可能とし、更には、電磁波シールド性
と共に、近赤外線カット性を兼備するものを提供するべ
く、本出願人は先に、ＰＤＰ本体と、該ＰＤＰ本体の前
面に透明接着剤により接着された電磁波シールド材と、
該電磁波シールド材の前面に透明接着剤により接着され
た透明基板とを備えてなる表示パネルであって、該透明
基板とＰＤＰ本体との間に、更に、熱線カット層を設け
たものを提案した（特開平１１−１１９６６６号公
報）。

【００１４】この特開平１１−１１９６６６号公報の表
示パネルは、ＰＤＰと電磁波シールド材、熱線カット層
及び透明基板とが透明接着剤で一体化されているため、
軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及びコ
ストの低減を図ることができる。しかも、電磁波シール
ド材と共に熱線カット層を積層一体化しているため、電
磁波シールド性のみならず、良好な近赤外線カット性を
得ることができる。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】このような電磁波シー
ルド性光透過窓材や表示パネルにあっては、リモコンの
誤作動等をより確実に防止する目的で熱線カット性能が
極めて重要な要求特性とされている。特に、最近では、
ＰＤＰの輝度の向上に伴って、近赤外線の発生量も多く
なっていることから、より一層高度な熱線カット性能が
必要とされている。

【００１６】一方で、構成を簡易なものとして、製造工
程の簡略化、製造コストの低減、生産効率の向上を図る
点においては、電磁波シールド材としては導電性メッシ
ュを用いるよりも透明導電性膜を用いる方が有利であ
る。

【００１７】前述の特開平１１−９７８８０号公報に記
載される酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交互に積層し
てなる多層膜であれば、導電性メッシュを用いることな
く、電磁波シールド性と熱線カット性を有する多層膜を
介挿させて電磁波シールド性と熱線カット性能とを得る
ことができるが、未だ十分な性能が得られているとは言
えず、より一層電磁波シールド性と熱線カット性に優
れ、しかも可視光領域の透過率が高く、鮮明な画像を得
ることができる電磁波シールド性光透過窓材及びパネル
貼合材が望まれる。

【００１８】本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされ
たものであって、著しく良好な電磁波シールド性と熱線
カット性を有し、しかも可視光領域の透過率が高く、鮮
明な画像を得ることができる電磁波シールド性光透過窓
材及びＰＤＰ一体型パネル貼合材を提供することを目的
とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
性光透過窓材は、２枚の透明基板を、該透明基板間に電
磁波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤で接合
一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、
該電磁波シールド性熱線カット層は、酸化物透明導電膜
／金属薄膜／酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透明
導電膜の５層積層膜よりなる第１の電磁波シールド性熱
線カット層と、酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透
明導電膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸
化物透明導電膜の７層積層膜よりなる第２の電磁波シー
ルド性熱線カット層とで構成されることを特徴とする。

【００２０】本発明のパネル貼合材は、プラズマディス
プレイパネル本体と透明基板とを、該プラズマディスプ
レイパネル本体の前面と透明基板との間に電磁波シール
ド性熱線カット層を介して透明接着剤で接合一体化して
なるパネル貼合材において、該電磁波シールド性熱線カ
ット層は、酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透明導
電膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜の５層積層膜よりな
る第１の電磁波シールド性熱線カット層と、酸化物透明
導電膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化
物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜の７層積層
膜よりなる第２の電磁波シールド性熱線カット層とで構
成されることを特徴とする。

【００２１】本発明に従って、電磁波シールド性熱線カ
ット層を酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透明導電
膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜の５層積層膜よりなる
第１の電磁波シールド性熱線カット層と、酸化物透明導
電膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物
透明導電膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜の７層積層膜
よりなる第２の電磁波シールド性熱線カット層とで構成
することにより、高透明性で電磁波シールド性、熱線カ
ット性に著しく優れた電磁波シールド性光透過窓材及び
パネル貼合材を得ることができる。

【００２２】本発明において、電磁波シールド性熱線カ
ット層は、ベースフィルム上に第１の電磁波シールド性
熱線カット層が形成された第１の電磁波シールド性熱線
カットフィルムと、ベースフィルム上に第２の電磁波シ
ールド性熱線カット層が形成された第２の電磁波シール
ド性熱線カットフィルムとで形成するのが好ましい。

【００２３】また、接着一体化に通常の接着剤を用いる
と、衝撃等で窓材又はパネル貼合材が破損した場合、破
片が飛散し、安全性の面で問題となるが、透明接着剤と
して透明弾性接着剤を用いることにより、衝撃等で窓材
又はパネル貼合材が破損した場合の破片の飛散を防止す
ることができ、安全性が高められる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明す
る。

【００２５】図１，２は各々本発明の電磁波シールド性
光透過窓材及びパネル貼合材の実施の形態を示す模式的
な断面図であり、図３（ａ），（ｂ）は本発明に係る電
磁波シールド性熱線カットフィルムの実施の形態を示す
模式的な断面図である図１の電磁波シールド性光透過窓
材１は、２枚の透明基板２Ａ，２Ｂ間に、接着剤となる
接着用中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃを用いて第１の電磁波シ
ールド性熱線カットフィルム３Ａと、第２の電磁波シー
ルド性熱線カットフィルム３Ｂを積層させて一体化した
ものである。

【００２６】また、図２に示すパネル貼合材１０は、透
明基板２とＰＤＰ本体２０（このＰＤＰ本体としては図
４に示す構成、その他の一般的なＰＤＰ本体を適用でき
る。）との間に、図１と同様の、接着剤となる接着用中
間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃと、第１の電磁波シールド性熱線
カットフィルム３Ａと、第２の電磁波シールド性熱線カ
ットフィルム３Ｂの積層構造が形成されていること以外
は、図１の電磁波シールド性光透過窓材１と同様の構成
とされている。

【００２７】本発明において、透明基板２Ａ，２Ｂ，２
の構成材料としては、ガラス、ポリエステル、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、ア
クリル板、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、
トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金
属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリ
ウレタン、セロファン等、好ましくは、ガラス、ＰＥ
Ｔ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙げられる。

【００２８】透明基板２Ａ，２Ｂ，２の厚さは得られる
窓材の用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等
によって適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜１０
ｍｍの範囲とされる。

【００２９】透明基板２Ａ，２Ｂは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、ＰＤＰ前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板２Ａを厚さ０．１〜１
０ｍｍ程度のガラス板とし、裏面側（電磁波発生源側）
の透明基板２Ｂを厚さ１μｍ〜１０ｍｍ程度のＰＥＴフ
ィルム又はＰＥＴ板、アクリルフィルム又はアクリル
板、ポリカーボネートフィルム又はポリカーボネート板
等とすることもできる。

【００３０】本実施例の電磁波シールド性光透過窓材１
では、裏面側となる透明基板２Ｂの周縁部にアクリル樹
脂をベースとする黒枠塗装６が設けられている。

【００３１】また、本実施例の電磁波シールド性光透過
窓材１及びパネル貼合材１０では、表面側となる透明基
板２Ａ，２の表面に反射防止膜５が形成されている。こ
の透明基板２Ａ，２の表面側に形成される反射防止膜５
としては、下記（１）の単層膜や、高屈折率透明膜と低
屈折率透明膜との積層膜、例えば、下記（２）〜（５）
のような積層構造の積層膜が挙げられる。 （１） 透明基板よりも屈折率の低い透明膜を一層積層
したもの。 （２） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を１層ずつ合
計２層に積層したもの。 （３） 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの。 （４） 中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの。 （５） 高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。

【００３２】高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズイ
ンジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎ
Ｏ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上の
薄膜、好ましくは透明導電性の薄膜を形成することがで
きる。また、低屈折率透明膜としてはＳｉＯ₂、Ｍｇ
Ｆ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等の屈折率が１．６以下の低屈折率材料
よりなる薄膜を形成することができる。これらの膜厚は
光の干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構
成、膜種、中心波長により異なってくるが４層構造の場
合、透明基板側の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０
ｎｍ、第２層（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３
層（高屈折率透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低
屈折率透明膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成さ
れる。

【００３３】また、このような反射防止膜５の上に更に
汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるように
しても良い。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系
薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１０００ｎｍ
程度の薄膜が好ましい。

【００３４】本発明の電磁波シールド性光透過窓材及び
パネル貼合材では、表面側となる透明基板２Ａ，２に
は、更に、シリコン系材料等によるハードコート処理、
或いはハードコート層内に光散乱材料を練り込んだアン
チグレア加工等を施しても良い。また、透明基板２Ａ，
２に前述の反射防止フィルム、ハードコートフィルム、
アンチグレアフィルム等を透明粘着剤や透明接着剤で貼
り付けることもできる。裏面側となる透明基板２Ｂに
は、金属薄膜又は透明導電性膜等の熱線反射コート等を
施して機能性を高めることができる。透明導電性膜は表
面側の透明基板２Ａ，２に形成することもできる。

【００３５】第１の電磁波シールド性熱線カットフィル
ム３Ａは、図３（ａ）に示す如く、ベースフィルム１１
上に、酸化物透明導電膜１２と金属薄膜１３とを交互に
積層してなる５層の積層膜を設けたものである。また、
第２の電磁波シールド性熱線カットフィルム３Ｂは、図
３（ｂ）に示す如く、ベースフィルム１１上に、酸化物
透明導電膜１２と金属薄膜１３とを交互に積層してなる
７層の積層膜を設けたものである。

【００３６】このベースフィルム１１としては、前述の
透明基板の構成材料と同様の樹脂フィルム、好ましく
は、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなるフィルムを用い
ることができる。このフィルムは、得られる窓材の厚さ
を過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保
する上で１μｍ〜５ｍｍ程度とするのが好ましい。

【００３７】このベースフィルム１１上に形成される酸
化物透明導電膜１２としては、ＩＴＯ、ＺｎＯ、Ａｌを
ドープしたＺｎＯ、ＳｎＯ₂等の薄膜を形成することが
でき、その膜厚は、通常の場合、５〜５０００Å程度で
ある。

【００３８】また、金属薄膜１３としては、銀、銅、ア
ルミニウム、ニッケル、金、白金、クロム等の単独膜、
真鍮、ステンレス等の合金膜等の膜を光透過性を損なわ
ない薄さで形成することができ、その膜厚は、通常の場
合、２〜２０００Å程度である。

【００３９】これらの酸化物透明導電膜１２及び金属薄
膜１３は、スパッタ法や真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、ＣＶＤ法等、好ましくは膜厚制御が容易なスパ
ッタ法により、ベースフィルム１１上に容易に形成する
ことができる。

【００４０】本発明においては、電磁波シールド性熱線
カットフィルムと共に、更に透明導電性フィルムを透明
基板間又は透明基板とＰＤＰ本体との間に設けても良
く、この場合、透明導電性フィルムとしては、導電性粒
子を分散させた樹脂フィルム、又はベースフィルムに透
明導電性層を形成したものを用いることができる。

【００４１】フィルム中に分散させる導電性粒子として
は、導電性を有するものであれば良く特に制限はない
が、例えば、次のようなものが挙げられる。 (i) カーボン粒子ないし粉末。 (ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウ
ム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チ
タン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導
電性酸化物の粒子ないし粉末。 (iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック
粒子の表面に上記(i)，(ii)の導電性材料のコーティン
グ層を形成したもの。

【００４２】これらの導電性粒子の粒径は、過度に大き
いと光透過性や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼ
すことから、０．５ｍｍ以下であることが好ましい。好
ましい導電性粒子の粒径は０．０１〜０．５ｍｍであ
る。

【００４３】また、透明導電性フィルム中の導電性粒子
の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度
に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電
性フィルムの樹脂に対する重量割合で０．１〜５０重量
％、特に０．１〜２０重量％、とりわけ０．５〜２０重
量％程度とするのが好ましい。

【００４４】導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜
選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途か
ら、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場
合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整
することで、画面が見やすくなるという効果もある。

【００４５】ベースフィルムに透明導電性層を形成した
ものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、ＣＶＤ等により、スズインジウム酸化物、亜鉛
アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられ
る。この場合、透明導電層の厚さが０．０１μｍ未満で
は、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、
十分な電磁波シールド性を得ることができず、５μｍを
超えると光透過性が損なわれる恐れがある。

【００４６】なお、透明導電性フィルムのマトリックス
樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステ
ル、ＰＥＴ、ポリブチレンテレフタレート、ＰＭＭＡ、
アクリル板、ＰＣ、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙げられ
る。

【００４７】このような透明導電性フィルムの厚さは、
通常の場合、１μｍ〜５ｍｍ程度とされる。

【００４８】透明導電性フィルムを設けることにより、
より一層優れた電磁波シールド性を得ることができる。

【００４９】透明基板２Ａと透明基板２Ｂ、又は、透明
基板２とＰＤＰ本体２０を電磁波シールド性熱線カット
フィルム３Ａ，３Ｂを介して接着する接着樹脂として
は、透明で弾性のあるもの、例えば、通常、合せガラス
用接着剤として用いられているものが好ましく、具体的
には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アク
リル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸
共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合
体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金
属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、
部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）ア
クリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニ
ル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重
合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」は「ア
クリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニ
ルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、アクリル
樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹
脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で
最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、耐貫通
性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用
いられているＰＶＢ樹脂も好適である。

【００５０】ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重
量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３
００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

【００５１】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。

【００５２】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。

【００５３】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。

【００５４】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。

【００５５】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。

【００５６】ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。

【００５７】以下に、樹脂としてＥＶＡを用いた場合を
例示して本発明に係る接着用中間膜についてより詳細に
説明する。

【００５８】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００５９】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、１０重量部以下、好ま
しくは０．１〜１０重量部の割合で使用される。

【００６０】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００６１】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００６２】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で、或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１０
０重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５
〜５重量部用いられる。

【００６３】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て１０重量部以下、好ましくは０．１〜１０重量部使用
される。

【００６４】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００６５】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００６６】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００６７】なお、本発明に係る接着用中間膜４Ａ〜４
Ｃには、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防
止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フ
ィルター自体の色合いを調整するために染料、顔料など
の着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カル
シウム等の充填剤を適量配合してもよい。

【００６８】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。

【００６９】本発明に係る接着用中間膜は、接着樹脂と
上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した
後カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション
等の成膜法により所定の形状にシート成形することによ
り製造される。成膜に際してはブロッキング防止、透明
基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与
される。

【００７０】なお、電磁波シールド性熱線カットフィル
ム３Ａ，３Ｂと接着用中間膜４Ａ〜４Ｃとで形成される
接着層の厚さは、電磁波シールド性光透過窓材又はパネ
ル貼合材の用途等によっても異なるが、通常の場合２μ
ｍ〜２ｍｍ程度とされる。従って、接着用中間膜４Ａ〜
４Ｃは、このような厚さの接着層が得られるような厚さ
に成形される。

【００７１】図１，２に示す電磁波シールド性光透過窓
材１及びパネル貼合材１０を製造するには、反射防止膜
５を形成した透明基板２Ａ，２と、黒枠塗装６を設けた
透明基板２Ｂ又はＰＤＰ本体２０と電磁波シールド性熱
線カットフィルム３Ａ，３Ｂと接着用中間膜４Ａ〜４Ｃ
を準備し、透明基板２Ａと透明基板２Ｂとの間、又は透
明基板２とＰＤＰ本体２０との間に、電磁波シールド性
熱線カットフィルム３Ａ，３Ｂを各々接着用中間膜４
Ａ，４Ｂ，４Ｃの間に挟んだものを積層し、接着用中間
膜４Ａ〜４Ｃの硬化条件で加圧下、加熱又は光照射して
一体化すれば良い。

【００７２】なお、図１，２に示す電磁波シールド性光
透過窓材及びパネル貼合材は本発明の電磁波シールド性
光透過窓材及びパネル貼合材の一例であって、本発明は
図示のものに限定されるものではない。例えば、電磁波
シールド性熱線カット層としての前述の５層積層膜及び
７層積層膜は、図１，２に示す如く、透明基板等とは別
体のフィルムとして２枚の透明基板間又は透明基板とＰ
ＤＰ本体との間に介在させる他、一方又は双方の透明基
板或いはＰＤＰ本体の接着面側に、直接、形成したもの
であっても良い。５層積層膜と７層積層膜の位置には特
に制限はなく、例えば、図１，２において、電磁波シー
ルド性熱線カットフィルム３Ａと電磁波シールド性熱線
カットフィルム３Ｂとを入れ換えた構成としても良い。

【００７３】また、前述の如く、近赤外線カットフィル
ムと共に透明導電性フィルムを設けたものであっても良
く、更には、透明基板の板面に直接透明導電性膜を形成
したものであっても良い。このような電磁波シールド性
光透過窓材又はパネル貼合材としては、透明基板に次の
ような透明導電性膜を形成したものが挙げられる。

【００７４】 透明基板の板面に、フォトレジストの
コーティング、パターン露光及びエッチングの工程によ
り所定パターンにエッチングして形成した格子状又はパ
ンチングメタル状の金属膜。 透明基板の板面に導電性インキをパターン印刷して
形成した格子状又はパンチングメタル状の印刷膜。

【００７５】また、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材又はパネル貼合材は、透明導電性フィルムの代りに、
パターンエッチングにより格子状又はパンチングメタル
状とした金属箔を透明基板に接着したものであっても良
く、更には導電性メッシュを用いることを何ら排除する
ものではない。

【００７６】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
ＰＤＰの前面フィルタとして、或いは、病院や研究室等
の精密機器設置場所の窓材等として有効に利用可能であ
る。

【００７７】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。

【００７８】なお、実施例及び比較例で用いた接着用中
間膜及び電磁波シールド性熱線カットフィルムは、次の
ようにして製造した。

【００７９】［接着用中間膜の製造］エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体（東洋曹逹社製ウルトラセン６３４：酢酸
ビニル含量２６％、メルトインデックス４）１００重量
部に、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン（日本油脂社製パー
ヘキサ３Ｍ）１重量部、γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン０．１重量部、ジアリルフタレート２
重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソルブ１３０（住
友化学工業社製）０．５重量部とを混合し、４０ｍｍ押
出機にて５００μｍ厚さの両面エンボスの接着用樹脂フ
ィルム４Ａ，４Ｂ，４Ｃを作製した。

【００８０】［電磁波シールド性熱線カットフィルム］
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上にマグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ４００ÅのＩＴＯ膜と厚さ１０
０ÅのＡｇ膜とを図３（ａ），（ｂ）に示す如くそれぞ
れ５層，７層に交互に積層して電磁波シールド性熱線カ
ット層を形成して電磁波シールド性熱線カットフィルム
３Ａ，３Ｂとした。

【００８１】実施例１ 表面側透明基板２Ａとして厚さ３．０ｍｍのガラス板を
用い、この透明基板２Ａの表面に、ＳｉＯ₂／ＩＴＯ／
ＳｉＯ₂／ＩＴＯよりなる反射防止膜（総膜厚約２５０
０Å）５を形成し、裏面側透明基板２Ｂとして厚さ０．
１ｍｍのＰＥＴシートを用い、これらの間に２枚の接着
用樹脂フィルム４Ａ，４Ｂ，４Ｃに図１に示す如く、電
磁波シールド性熱線カットフィルム３Ａ，３Ｂを挟んだ
ものを介在させ、これをゴム袋に入れて真空脱気し、９
０℃の温度で１０分加熱して予備圧着した。その後、こ
の予備圧着体をオーブン中に入れ、１５０℃の条件下で
１５分間加熱処理し、架橋硬化させて一体化した。

【００８２】得られた窓材について下記方法により、３
０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁波シールド性、光
透過率、熱線カット性を調べ、結果を表１に示した。

【００８３】［電磁波シールド性］ＫＥＣ法（関西電子
工業振興センター）に準拠したアンリツ社製ＥＭＩシー
ルド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を用いて電界の減衰測
定を行った。サンプルの大きさは９０ｍｍ×１１０ｍｍ
であった。

【００８４】［光透過率（％）］日立製可視紫外光分光
測定装置（Ｕ−４０００）を用い、３８０ｎｍ〜７８０
ｎｍ間の平均可視光透過率を求めた。

【００８５】［熱線カット性］上記日立製可視紫外光分
光測定装置（Ｕ−４０００）を用い、８５０〜１１００
ｎｍ間の平均近赤外光透過率を求めた。

【００８６】比較例１，２ 比較のため、電磁波シールド性熱線カットフィルム３Ａ
又は３Ｂのいずれか一方のみを用いたこと以外は実施例
１と同様にして窓材を製造し、同様にその評価を行っ
て、結果を表１に示した。

【００８７】

【表１】

【００８８】表１より、５層積層膜の電磁波シールド性
熱線カット層と７層積層膜の電磁波シールド性熱線カッ
ト層とを併用することにより、透明性、電磁波シールド
性、熱線カット性のすべてにおいて良好な特性を得るこ
とができることがわかる。

【００８９】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、Ｐ
ＤＰ用フィルター等として工業的に極めて有用な、高透
明性で、電磁波シールド性及び熱線カット性が著しく良
好な電磁波シールド性光透過窓材と、このような窓材と
ＰＤＰとを一体化させたパネル貼合材が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の電磁波シールド性光透過窓材の
実施の形態を示す模式的な断面図である。

【図２】本発明のパネル貼合材の実施の形態を示す模式
的な断面図である。

【図３】本発明に係る電磁波シールド性熱線カットフィ
ルムの実施の形態を示す模式的な断面図である。

【図４】一般的なＰＤＰの構成を示す一部切欠斜視図で
ある。

【符号の説明】

１ 電磁波シールド性光透過窓材 ２，２Ａ，２Ｂ 透明基板 ３Ａ，３Ｂ 電磁波シールド性熱線カットフィルム ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ 接着用中間膜 ５ 反射防止膜 １０ パネル貼合材 １１ ベースフィルム １２ 酸化物透明導電膜 １３ 金属薄膜 ２０ ＰＤＰ本体 ２１ 前面板 ２２ 背面板 ２３ 隔壁 ２４ 表示セル ２５ 補助セル ２６ 陰極 ２７ 表示陽極 ２８ 補助陽極

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２枚の透明基板を、該透明基板間に電磁
   波シールド性熱線カット層を介して透明接着剤で接合一
   体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、 該電磁波シールド性熱線カット層は、酸化物透明導電膜
   ／金属薄膜／酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透明
   導電膜の５層積層膜よりなる第１の電磁波シールド性熱
   線カット層と、酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透
   明導電膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸
   化物透明導電膜の７層積層膜よりなる第２の電磁波シー
   ルド性熱線カット層とで構成されることを特徴とする電
   磁波シールド性光透過窓材。
2. 【請求項２】 請求項１において、２枚の透明基板間
   に、ベースフィルム上に第１の電磁波シールド性熱線カ
   ット層が形成された第１の電磁波シールド性熱線カット
   フィルムと、ベースフィルム上に第２の電磁波シールド
   性熱線カット層が形成された第２の電磁波シールド性熱
   線カットフィルムとが介在されていることを特徴とする
   電磁波シールド性光透過窓材。
3. 【請求項３】 請求項１又は２において、該透明接着剤
   が透明弾性接着剤であることを特徴とする電磁波シール
   ド性光透過窓材。
4. 【請求項４】 プラズマディスプレイパネル本体と透明
   基板とを、該プラズマディスプレイパネル本体の前面と
   透明基板との間に電磁波シールド性熱線カット層を介し
   て透明接着剤で接合一体化してなるパネル貼合材におい
   て、 該電磁波シールド性熱線カット層は、酸化物透明導電膜
   ／金属薄膜／酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透明
   導電膜の５層積層膜よりなる第１の電磁波シールド性熱
   線カット層と、酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸化物透
   明導電膜／金属薄膜／酸化物透明導電膜／金属薄膜／酸
   化物透明導電膜の７層積層膜よりなる第２の電磁波シー
   ルド性熱線カット層とで構成されることを特徴とするパ
   ネル貼合材。
5. 【請求項５】 請求項４において、プラズマディスプレ
   イパネル本体と透明基板との間に、ベースフィルム上に
   第１の電磁波シールド性熱線カット層が形成された第１
   の電磁波シールド性熱線カットフィルムと、ベースフィ
   ルム上に第２の電磁波シールド性熱線カット層が形成さ
   れた第２の電磁波シールド性熱線カットフィルムとが介
   在されていることを特徴とするパネル貼合材。
6. 【請求項６】 請求項４又は５において、該透明接着剤
   が透明弾性接着剤であることを特徴とするパネル貼合
   材。