JP2000328161A - 真空用水素吸蔵材及び密閉空間の真空化方法 - Google Patents

真空用水素吸蔵材及び密閉空間の真空化方法

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JP2000328161A
JP2000328161A JP11141043A JP14104399A JP2000328161A JP 2000328161 A JP2000328161 A JP 2000328161A JP 11141043 A JP11141043 A JP 11141043A JP 14104399 A JP14104399 A JP 14104399A JP 2000328161 A JP2000328161 A JP 2000328161A
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hydrogen
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hydrogen gas
alloy
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JP11141043A
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Hitoshi Uehara
斎 上原
Hideaki Tanaka
秀明 田中
Hiroyuki Takeshita
博之 竹下
Fumiaki Aono
文昭 青野
Toru Nakazawa
亨 中澤
Toshiharu Tabata
寿晴 田端
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Benkan Corp
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Benkan Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 容易に水素を吸収し、しかも、一度吸収した
水素は高温に曝されても放出することなく安定して固定
でき、したがって、密閉空間内の真空を維持することが
できて信頼性を向上させることができる。 【解決手段】 真空用水素吸蔵材は、希土類金属の単体
及び/又は合金から選ばれる金属Aと、周期表の6A族
からパラジウムを除く8族遷移金属の単体及び/又は合
金から選ばれる金属Bとからなる二元系以上の合金であ
り、Bの組成比がAの3.5倍以下である。この真空用
水素吸蔵材を用いて密閉空間の真空化を行うには、真空
用水素吸蔵材を密閉空間に収め、空間内を水素ガスによ
り置換し、この水素ガスを真空用水素吸蔵材に吸収さ
せ、空間内の真空化を図る。本発明の真空用水素吸蔵材
は、高温に曝されても一度吸収した水素ガスを放出せず
に保持し続けるので、空間内の真空を維持することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空断熱容器、真
空断熱管など、各種の密閉空間を真空化するために用い
る真空用水素吸蔵材及び密閉空間の真空化方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、真空断熱配管、真空断熱容器など
の断熱層内の多くは、輻射熱を遮蔽するために、フィル
ム状、粉末状の輻射断熱材を装着、又は充填している。
しかしながら、このような断熱層においては、真空ポン
プによる真空排気方法では、排気コンダクタンスなどの
影響により、効率的に真空化を図ることは困難であっ
た。
【0003】そこで、本発明者らは、真空断熱管などの
密閉空間を水素ガスで置換し、密閉空間内をその使用温
度領域において十分に真空化し得る水素解離圧特性を持
った水素吸蔵合金で水素ガスを吸収することにより、密
閉空間内の真空化とその後の真空化維持を図るという手
法について検討を行ってきた。その結果、密閉空間内の
水素ガス量に対して所定量の利用温度に合った水素吸蔵
合金を用いることで、密閉空間内の真空化とその後の真
空化維持が可能であることを確認した。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
水素吸蔵合金は高温になるほど水素解離圧力が上昇する
特性を持つことから、例えば、従来の水素吸蔵合金によ
る上記真空化技術を用いた真空断熱管や真空断熱容器な
どが設置現場において、火災など、予想外の高温に曝さ
れた場合や、想定温度以上の温度で利用された場合など
では、一度吸収していた水素が水素吸蔵合金から放出さ
れ、断熱層内の圧力が上昇し、断熱性能の劣化を伴うば
かりでなく、圧力の異常上昇によっては断熱層が破壊さ
れ、水素ガスが大気中に放出されるという危険性が少な
からずとも存在した。
【0005】真空用水素吸蔵材としては、高真空まで水
素を吸収することができる金属が望ましく、例えば、希
土類金属、Ti,Ca,Liなど、単体で500℃以上
の温度においても安定的に水素を吸収することができる
金属もある。しかしながら、それらの金属は非常に酸化
しやすく、大気中に曝されると、直ちに表面が酸化さ
れ、表面を金属状態に維持することができない。そのた
め、水素分子を原子へ解離することができず、初期の水
素吸収速度が著しく低下し、水素吸収能力の劣化を招
き、反応温度が著しく高いなど、取扱いが困難であると
いう問題があった。
【0006】そこで、本発明者らは、上記問題を解決す
べく試験、研究を行った結果、特定の範囲で生成した希
土類系合金が室温で水素を容易に吸収することができ、
水素を吸収することで合金自体が水素化分解し、非常に
安定な希土類金属水素化物と合金とに分解し、しかも、
一度吸収した水素を高温に曝されても放出することがな
く、安定して吸収状態に保持することができ、真空用の
水素吸蔵材として適していることを見出した。本発明
は、この試験、研究の結果に基づき、密閉空間内の真空
化を図ることができるとともに、仮に密閉空間の使用環
境が想定温度以上に変化したとしても長期間に亘って真
空を維持することができ、信頼性の向上を図ることがで
きるようにした真空用水素吸蔵材及び密閉空間の真空化
方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の真空用水素吸蔵材は、希土類金属の単体及び
/又は合金から選ばれる金属Aと、周期表の6A族から
パラジウムを除く8族遷移金属の単体及び/又は合金か
ら選ばれる金属Bとからなる二元系以上の合金であり、
Bの組成比がAの3.5倍以下となるようにしたもので
ある。
【0008】上記本発明の真空用水素吸蔵材において、
AとしてLa、若しくはミッシュメタルのいずれかを用
い、BとしてNi、Coの単体、若しくは合金のいずれ
かを用いるのが好ましい。また、上記各真空用水素吸蔵
材として、Bの一部を他の金属で置換した多元系合金を
用いることができる。
【0009】また、上記各真空用水素吸蔵材は、表面に
金属フッ化物を主成分とする膜を形成して耐被毒性を付
与するのが好ましい。
【0010】上記課題を解決するために、本発明の密閉
空間の真空化方法は、上記真空用水素吸蔵材を密閉する
空間に収め、上記空間を水素ガスにより置換し、この水
素ガスを上記水素吸蔵材に吸収させ、この水素吸蔵材に
一度吸収させた水素ガスを吸収状態で保持させ、上記密
閉空間の真空を維持するようにしたものである。
【0011】上記課題を解決するために本発明の他の真
空化方法は、上記耐被毒表面処理を施した真空用水素吸
蔵材に加えて水素ガス以外のガスを吸着し得るゲッター
材を密閉する空間に収め、上記空間を水素ガスにより置
換し、この水素ガスを上記水素吸蔵材に吸収させ、水素
ガス以外のガスを上記ゲッター材に吸着させ、上記水素
吸蔵材に一度吸収させた水素ガスを吸収状態で保持さ
せ、上記密閉空間の真空を維持するようにしたものであ
る。
【0012】上記各真空化方法において、密閉する空間
を水素ガスにより置換した後、上記空間内を軽く真空排
気して残存する水素ガスを水素吸蔵材に吸収させ、また
は残存する水素ガスを水素吸蔵材に吸収させ、残存する
水素ガス以外のガスをゲッター材に吸着させるようにす
ることができる。
【0013】上記各真空化方法において、真空用水素吸
蔵材、若しくは真空用水素吸蔵材とゲッター材をガラス
カプセルに真空封止しておき、このカプセルを収めた密
閉空間を水素ガス置換後に封止する際、若しくは封止し
た後にガラスカプセルを破壊して真空用水素吸蔵材、ゲ
ッター材の実効的吸収、吸着作用を開始させることによ
り、真空用水素吸蔵材の水素ガス吸収効率、ゲッター材
の不純ガス吸着効率を向上させることができる。
【0014】上記組成の本発明の真空用水素吸蔵材は、
常温で速やかに水素を吸収し得る合金であり、水素を吸
収することで不均化(水素化分解)を起こし、一度吸収
した水素は高温に曝されても正圧状態で放出することが
ないという特性を有する。例えば、La7Ni3と同様、
又はそれよりNiの組成比が少ない合金では、常温、又
はそれ以上の温度で水素を吸収するか、水素を吸収した
後、高温に曝されることで容易に水素化分解が起こり、
La水素化物、LaNi5水素化物やアモルファスに分
解する。ここで、La水素化物の水素解離圧は、800
℃おいても数Torr程度と負圧特性を示し、更に、L
aの融点である920℃においても負圧特性を維持して
いるため、実質上、一度吸収された水素は放出されるこ
とがないのと同じである。
【0015】又、La−Ni系合金のNiの占める割合
がLa2Ni7以下であり、La7Ni3を超す合金では、
50℃程度かそれ以上の温度で水素化することで水素化
分解が起こり、La水素化物、LaNi5水素化物やア
モルファスに分解されるため、水素吸収時に上記温度以
上で反応させるか、又は合金が水素を吸収する際に発生
する反応熱を利用して上記温度以上にするか、反応後に
上記温度に加熱するか、又は予想外に加熱された場合
に、その温度を利用して水素化分解を起こすことで、L
7Ni3と同様、又はそれよりNiの組成比が少ない合
金と同様、合金の水素化分解により一度吸収された水素
は放出されることがない。
【0016】上記の特定の組成の本発明の真空用水素吸
蔵材の特性は、合金そのものが水素化物を生成するより
も、La水素化物と合金に分解した方がより安定化を図
ることができることに由来する現象である。又、LaN
5水素化物は常温において容易に水素を放出可能であ
るが、水素化分解のプロセスが下記プロセスにより進行
しているため、LaNi5が水素化物になるまで水素を
吸収させなければ、実質、常に真空を維持することが可
能である。
【0017】La7Ni3を例とした水素化分解プロセス (1)Laのみが水素化物を形成する分の水素を吸収し
た場合 La7Ni3→LaH2+LaNi5に分解 (2)上記の水素以上に水素を吸収した場合 La7Ni3→LaH3+LaNi56に分解
【0018】ここで、上記のように希土類金属の単体及
び/又は合金から選ばれる金属Aと、周期表の6A族か
らパラジウムを除く8族遷移金属の単体及び/又は合金
から選ばれる金属Bとからなる二元系以上の合金におい
て、B金属が存在することにより、その表面で水素分子
が水素原子に解離し、原子状水素が合金内部に拡散し、
水素化物を生成することができ、B金属の水素吸収能は
低いが、A金属による水素吸収反応を助ける役割を果た
すことになる。そして、B金属の組成比がA金属の3.
5倍以下であれば、上記のように水素化分解により高真
空まで水素を吸収することができ、しかも高温に曝され
ても水素を放出することがない。したがって、B金属の
組成比がA金属の3.5倍以下で任意に選択することが
できる。
【0019】B金属が極端に少ないと、A金属の酸化や
水素分子の原子への解離等の問題により、水素化物を形
成し難くなる場合があり、B金属が組成比でA金属の
0.1倍程度存在することで、室温で水素を容易に吸収
することができる。また、B金属が組成比でA金属の
3.5倍以下であれば、上記のように水素化分解により
高真空まで水素を吸収し得る希土類金属水素化物の生成
が可能であるが、B金属が多くなる分、実質的に真空ま
で水素を吸収することができる希土類金属水素化物の生
成量が減少するため、B金属の含有率は、実質的水素吸
収量、水素との反応性の面からA金属の0.1〜2倍程
度に設定するのが最適である。
【0020】また、A金属として、La、若しくはミッ
シュメタルのいずれかを用い、B金属としてNi、Co
の単体、若しくは合金のいずれかを用いることにより、
比較的簡単に、かつ低コストで真空用水素吸収蔵材を得
ることができる。
【0021】また、B金属の一部をAl、Siなどの他
の金属で置換することにより、合金の特性、例えば、圧
力−組成等温特性などを微調整することができる。
【0022】そして、上記特定の組成の本発明の真空用
水素吸蔵材を密閉空間内に入れ、密閉空間を水素ガスに
より置換し、置換した水素ガスを常温近傍の温度下で真
空用水素吸蔵材に吸収させて密閉空間内の圧力を低下さ
せ、真空化を図り、又、水素化分解を起こすことで水素
の安定的な固定が可能となり、広範囲の温度レベルにお
いて真空の維持が可能である。したがって、安全性の高
い真空断熱容器、真空断熱配管などを実現することがで
きる。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明による真空用水素吸蔵材に
ついては上記のとおりであるので、ここでは、その真空
用水素吸蔵材を用いた密閉空間の真空化方法の実施形態
について図1に示す概略説明図を参照しながら説明す
る。
【0024】図1に示すように、密閉空間である真空化
容器1の中に上記ようにして得られた粉末状の真空用水
素吸蔵材2を収める。真空化容器1の一端に接続された
流路3に真空ゲージ4、バルブ5を介して真空ポンプ6
を接続する。流路3からの分岐流路7にバルブ8を介し
て水素ガス供給源9を接続する。真空化容器1の他端に
接続された流路10はバルブ11を介して大気に開放す
る。真空化容器1内の両端に真空用水素吸蔵材2を飛散
させないようにフィルタ(図示省略)を設ける。
【0025】そして、まず、バルブ11、8を閉じ、バ
ルブ5を開けた状態で真空ポンプ6を駆動して真空化容
器1から真空排気する。このときの真空度を真空ゲージ
4により計測する。真空排気後、真空ポンプ6の駆動を
停止する。続いて、バルブ5を閉じ、バルブ8を開いて
水素ガス供給源9から水素ガスを流路7、3に通して真
空化容器1内に流入させ、バルブ11を開けて水素ガス
を流路10に通して排出する(この水素ガスは回収する
こともできる。)。このような水素ガスフローにより系
内ガスを水素ガスで置換する。この水素ガス置換の際に
真空化容器1を所望温度で加熱してベーキング処理を施
すことができる。このようにして系内を水素ガスで十分
に置換すると、バルブ8,11を閉じて真空化容器1を
封止する。
【0026】真空化容器1内の水素ガスを真空用水素吸
蔵材2により吸収することにより、真空化容器1内の真
空化を図ることができる。また、真空化容器1が高温に
曝されても真空用水素吸蔵材2が水素を放出することな
く、保持することができるので、真空化の維持を図るこ
とができる。
【0027】本発明の他の実施形態に係る密閉空間の真
空化方法として、上記のように真空化容器1における水
素ガスフローを行うことなく、上記のように真空化容器
1の真空排気後、真空化容器1に水素ガスを所定の圧力
で導入して真空化容器1を密閉する。これに伴い、真空
化容器1内に収めてある真空用水素吸蔵材2が水素ガス
を吸収し、真空化容器1内の真空化を図り、又、真空用
水素吸蔵材2における水素ガス吸収の際の微粉化に伴う
新生面の出現により、水素ガス以外のガスも吸着するこ
とができるので、真空ポンプで排気して得られる以上の
低い圧力が得られる。このとき、真空化容器1に供給す
る水素ガスは高純度である程、好ましい。
【0028】本発明の真空用水素吸蔵材2は、室温(常
温)で容易に水素ガスを吸収し、真空化を図ることがで
きるが、長期間大気に放置されたり、真空化容器1内に
置換された水素ガスの純度が低い場合には、真空用水素
吸蔵材2が不純ガスによる被毒を受ける。そこで、これ
を回避するために、真空用水素吸蔵材2の粉末の表面を
フッ素を含むガス、又は液体で処理して金属フッ化物を
主成分とする膜を形成し、表面被毒を有する物質に対し
て非活性化し、真空用水素吸蔵材2の耐被毒性を向上さ
せることができる。この真空用水素吸蔵材2を真空化方
法に用いると、真空排気した後の真空化容器1内が純度
の低い水素ガスで置換されても、不純ガスによる真空用
水素吸蔵材2の被毒を回避しながら水素ガスを吸収し、
真空化容器1内の圧力を低下させて真空化を図ることが
でき、かつ一度吸収した水素ガスは高温に曝されても真
空用水素吸蔵材2に保持され、真空化容器1内に真空が
維持される。
【0029】本発明の真空用水素吸蔵材2をゲッター材
と一緒に真空化方法に用いると、真空排気した後の真空
化容器1内が純度の低い水素ガスで置換された際、水素
ガス以外の不純ガスをゲッター材に吸着させ、水素ガス
を真空用水素吸蔵材2に吸収させることができて、真空
化容器1内の圧力を低下させてより高い真空化を図るこ
とができ、かつ一度吸収した水素ガスは高温に曝されて
も真空用水素吸蔵材2に保持され、水素以外のガスもゲ
ッター材から放出されることはない。しかしながら、ゲ
ッター材が水素ガスを吸収していた場合には、その水素
が放出される場合であるが、真空用水素吸蔵材2がその
水素を随時吸収することができるので、真空化容器1内
を高い真空度とすることができる。この場合、真空用水
素吸蔵材2は上記のように水素ガス以外の不純ガスによ
る被毒を受けないように耐被毒処理を施しておくのが好
ましい。
【0030】本発明の更に他の実施形態に係る密閉空間
の真空化方法として、上記のように真空化容器1内を水
素ガスで置換した後、真空化容器1内を軽く真空排気し
て真空化容器内に残存する水素ガスを水素吸蔵材2に吸
収させ、または残存する水素ガスを水素吸蔵材2に吸収
させ、残存する水素以外のガスをゲッター材に吸着させ
るようにする。上記のように軽く真空排気された真空化
容器1内の残存ガスは、水素雰囲気の低真空状態である
ため、水素吸蔵材、ゲッター材を少量用いることによ
り、真空容器1内の真空化を図ることができる。
【0031】
【実施例】(実施例1)図1に示すステンレス製の真空
化容器(外径34mm、長さ100mm、肉厚3.4m
m)1に、真空用水素吸蔵材2として250μm以下の
粉末状のLa7Ni3を5g収め、バルブ5を開け、真空
ポンプ6の駆動により真空化容器1内を真空ゲージ4に
より測定しながら0.01Torrまで真空排気した。
その後、バルブ5を閉じ、バルブ8を開けて水素ガス供
給源9から水素ガスを流路7、3に通して真空化容器1
内に導入し、バルブ10を開いて水素ガスフローを行
い、真空化容器1内を水素ガスで置換した。置換した水
素ガスの圧力は1atmであった。水素ガス導入後、直
ちに水素ガスが真空用水素吸蔵材2に吸収され、真空化
容器1内の圧力が低下し、0.005Torrでほぼ安
定した。その後、真空化溶器1の温度を600℃まで昇
温し、真空化容器1内の圧力変化を測定した。その結
果、図2のグラフに示すように、0.02Torrまで
圧力は上昇したが、真空を維持することが確認された。
【0032】(評価)上記実施例1の真空用水素吸蔵材
2を真空化容器1内から取り出し、EDX(エネルギー
分散形X線分析装置)により組成分析を行った。その結
果、水素化反応前の真空用水素吸蔵材2では分析した場
所にかかわらず、一様にLa7Ni3の組成比を示してい
たが、水素化後の真空用水素吸蔵材2では、明らかに水
素化前とは異なる濃度分布が見られ、場所によっては殆
んどLaしか検出されない部分が存在した。
【0033】(実施例2)図1に示すステンレス製の真
空化容器(外径34mm、長さ100mm、肉厚3.4
mm)1に、真空用水素吸蔵材2として250μm以下
の粉末状のLa2Ni7を10g収め、上記と同様にして
真空化容器1内を0.01Torrまで真空排気した
後、真空化容器1内を水素ガスで置換した。水素ガスの
圧力は1atmであった。水素ガス導入後、直ちに水素
ガスが真空用水素吸蔵材2に吸収され、真空化容器1内
の圧力が低下し、0.1Torrでほぼ安定した。その
後、真空化容器1の温度を50℃まで昇温し、真空化容
器1内の圧力変化を測定した。その結果、図3のグラフ
に示すように、圧力は更に低下し、0.08Torrま
で達した。その後、更に600℃まで昇温したが、真空
化容器1内の圧力は図3のグラフに示すように、0.1
Torr程度を示しており、真空を維持することが確認
された。
【0034】(評価)上記実施例2の真空用水素吸蔵材
2を真空化容器1内から取り出し、EDX(エネルギー
分散形X線分析装置)により組成分析を行った。その結
果、水素化反応前には分析した場所にかかわらず、一様
にLa2Ni7の組成比を示していたが、水素化後では、
明らかに水素化前とは異なる濃度分布が見られ、場所に
よってはLaしか検出されない部分とほぼLaNi5
近い組成比を示す部分とに分かれていた。
【0035】(比較例)図1に示すステンレス製の真空
化容器(外径34mm、長さ100mm、肉厚3.4m
m)1に、試料として250μm以下の粉末状のTiを
5g収め、上記と同様にして真空化容器1内を0.01
Torrまで真空排気した後、真空化容器1内を水素ガ
スにより置換した。水素ガスの圧力は1atmであっ
た。水素ガス導入後、10日経ってもTiが水素ガスを
吸収することはなく、真空化容器1内の圧力変化は見ら
れなかった。その後、真空化容器1内を450℃に昇温
しながら0.01Torrまで真空排気した後、450
℃の温度で1atmの高純度水素ガス(7N)を真空化
容器1内に導入した。その結果、真空化容器1内の圧力
は図4のグラフに示すように、徐々に低下し、50To
rr近傍まで低下した。その後、室温まで冷却したとこ
ろ、0.02Torrまで真空化を図ることができた。
その状態で再度600℃に加熱したところ、図4のグラ
フに示すように、温度上昇と共に圧力が上昇し、600
℃では1atm以上の圧力に上昇した。
【0036】上記本発明実施例の真空用水素吸蔵材を密
閉空間の真空化に用いることにより、真空化とその後の
真空維持に極めて有用であり、その中でも上記AB合金
のAの組成比が多い程、より水素ガス吸収量が多く、低
い温度で水素化分解が生じるため、少ない量で所定の真
空化とその真空の維持を図ることができる。
【0037】
【発明の効果】以上要するに本発明の真空用水素吸蔵材
によれば、容易に水素ガスを吸収することができ、又、
一度吸収した水素ガスは高温に曝されても放出すること
なく安定して固定することができる。又、この真空用水
素吸蔵材を用いる本発明の真空化方法によれば、密閉空
間内を置換した水素ガスを真空用水素吸蔵材に吸収さ
せ、密閉空間内の圧力を低下させて真空化を図ることが
でき、しかも、一度吸収させた水素ガスは高温に曝され
ても保持できて、密閉空間内の真空を維持することがで
きるので、密閉空間は加圧されることがない。したがっ
て、安全性の高い真空断熱容器や真空断熱配管等の密閉
空間を実現することができる。
【0038】また、本発明の真空化方法において、密閉
する空間を水素ガスにより置換した後、上記空間を軽く
真空排気して上記空間に残存する水素ガスを水素吸蔵材
に吸収させ、または残存する水素ガスを水素吸蔵材に吸
収させ、残存する水素ガス以外のガスをゲッター材に吸
着させることにより、密閉容器内の残存ガスは、水素雰
囲気の真空状態であるので、少量の水素吸蔵材、または
少量の水素吸蔵材およびゲッター材で密閉容器の真空化
を図ることができて、低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空用水素吸蔵材を用いた真空化
方法を実施する装置の概略説明図である。
【図2】本発明の実施例1に係る真空用水素吸蔵材を用
いて真空化を行った結果を示すグラフである。
【図3】本発明の実施例2に係る真空用水素吸蔵材を用
いて真空化を行った結果を示すグラフである。
【図4】従来の比較例に係る水素吸蔵材を用いて真空化
を行った結果を示すグラフである。
【符号の説明】
1 真空化容器 2 真空用水素吸蔵材 6 真空ポンプ 9 水素ガス供給源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 秀明 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 竹下 博之 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 青野 文昭 東京都大田区山王2丁目5番13号 株式会 社ベンカン内 (72)発明者 中澤 亨 東京都大田区山王2丁目5番13号 株式会 社ベンカン内 (72)発明者 田端 寿晴 東京都大田区山王2丁目5番13号 株式会 社ベンカン内 Fターム(参考) 4G066 AA02B AA32D BA09 CA38 FA37

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 希土類金属の単体及び/又は合金から選
    ばれる金属Aと、周期表の6A族からパラジウムを除く
    8族遷移金属の単体及び/又は合金から選ばれる金属B
    とからなる二元系以上の合金であり、Bの組成比がAの
    3.5倍以下である真空用水素吸蔵材。
  2. 【請求項2】 AがLa、若しくはミッシュメタルのい
    ずれかであり、BがNi、Coの単体、若しくは合金の
    いずれかである請求項1記載の真空用水素吸蔵材。
  3. 【請求項3】 Bの一部を他の金属で置換した多元系合
    金である請求項1又は2記載の真空用水素吸蔵材。
  4. 【請求項4】 表面に金属フッ化物を主成分とする膜が
    形成された請求項1乃至3のいずれかに記載の真空用水
    素吸蔵材。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれかに記載の真空
    用水素吸蔵材を密閉する空間に収め、上記空間を水素ガ
    スにより置換し、この水素ガスを上記水素吸蔵材に吸収
    させ、この水素吸蔵材に一度吸収させた水素ガスを吸収
    状態で保持させ、上記密閉空間の真空を維持するように
    した密閉空間の真空化方法。
  6. 【請求項6】 請求項4記載の真空用水素吸蔵材に加え
    て水素ガス以外のガスを吸着し得るゲッター材を密閉す
    る空間に収め、上記空間を水素ガスにより置換し、この
    水素ガスを上記水素吸蔵材に吸収させ、水素ガス以外の
    ガスを上記ゲッター材に吸着させ、上記水素吸蔵材に一
    度吸収させた水素ガスを吸収状態で保持させ、上記密閉
    空間の真空を維持するようにした密閉空間の真空化方
    法。
  7. 【請求項7】 密閉する空間を水素ガスにより置換した
    後、上記空間内を軽く真空排気するようにした請求項5
    または6記載の密閉空間の真空化方法。
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