JP2000327375A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
光学素子の製造方法Info
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- JP2000327375A JP2000327375A JP11136423A JP13642399A JP2000327375A JP 2000327375 A JP2000327375 A JP 2000327375A JP 11136423 A JP11136423 A JP 11136423A JP 13642399 A JP13642399 A JP 13642399A JP 2000327375 A JP2000327375 A JP 2000327375A
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- glass
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/008—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments comprising a lixiviation step
Abstract
(57)【要約】
【課題】押圧成形された光学素子であっても、光の透過
率が高い良好な光学素子を得る。 【解決手段】加熱軟化したガラス素材を成形型により押
圧成形することにより、所望の形状の光学素子を得る光
学素子の製造方法において、押圧成形が終了した後に前
記成形型より取り出された前記光学素子を溶液中に浸漬
し、クモリ成分を解離させる。
率が高い良好な光学素子を得る。 【解決手段】加熱軟化したガラス素材を成形型により押
圧成形することにより、所望の形状の光学素子を得る光
学素子の製造方法において、押圧成形が終了した後に前
記成形型より取り出された前記光学素子を溶液中に浸漬
し、クモリ成分を解離させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加熱軟化したガラ
ス素材を押圧成形して得られる光学素子の製造方法に関
する。
ス素材を押圧成形して得られる光学素子の製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、加熱軟化したガラス素材を押圧成
形して光学素子を得る方法には、例えば、特公平７−９
１０７６号公報所載の技術（従来技術１）が開示されて
いる。この従来技術１では、溶融状態まで加熱軟化した
ガラス素材を適量滴下し、このガラス素材の滴下方向と
略直角方向から押圧するように対向配置された成形型
で、このガラス素材を押圧成形することにより光学素子
を得ている。
形して光学素子を得る方法には、例えば、特公平７−９
１０７６号公報所載の技術（従来技術１）が開示されて
いる。この従来技術１では、溶融状態まで加熱軟化した
ガラス素材を適量滴下し、このガラス素材の滴下方向と
略直角方向から押圧するように対向配置された成形型
で、このガラス素材を押圧成形することにより光学素子
を得ている。
【０００３】一方、ガラス素材と型部品との反応を防止
して成形品の着色およびクモリを防止するものとして、
特許第２７３９９１６号（平成１０年１月２３日登録）
に開示された技術（従来技術２）がある。この従来技術
２では、成形用素材として用いるガラスブランクのガラ
ス基体の表面層を、このガラス基体の芯部より水溶性成
分の含有量が少なくなるようにし、かつ、このガラス基
体上に炭化水素被覆層を形成した後、ガラスブランクを
加熱軟化し、その後押圧成形することにより、光学素子
を得ている。
して成形品の着色およびクモリを防止するものとして、
特許第２７３９９１６号（平成１０年１月２３日登録）
に開示された技術（従来技術２）がある。この従来技術
２では、成形用素材として用いるガラスブランクのガラ
ス基体の表面層を、このガラス基体の芯部より水溶性成
分の含有量が少なくなるようにし、かつ、このガラス基
体上に炭化水素被覆層を形成した後、ガラスブランクを
加熱軟化し、その後押圧成形することにより、光学素子
を得ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記従来技
術には、つぎのような問題点があった。すなわち、従来
技術１では、溶融されたガラス素材を何らの前処理も施
さずに成形型にて押圧成形するために、押圧初期には、
ガラス素材の温度が高く、かつ、ガラス素材中の水溶性
成分の化学反応が促進されるので、押圧成形された光学
素子の表面に水溶性成分がクモリとなって析出してい
た。
術には、つぎのような問題点があった。すなわち、従来
技術１では、溶融されたガラス素材を何らの前処理も施
さずに成形型にて押圧成形するために、押圧初期には、
ガラス素材の温度が高く、かつ、ガラス素材中の水溶性
成分の化学反応が促進されるので、押圧成形された光学
素子の表面に水溶性成分がクモリとなって析出してい
た。
【０００５】また、従来技術２では、ガラス素材である
ガラスブランクのガラス基体の表面層を、このガラス基
体の芯部より水溶性成分の含有量が少なくなるように
し、かつこのガラス基体上に炭化水素被覆層を形成した
後、ガラスブランクを加熱軟化し、その後押圧成形して
いるが、大きな体積のガラスブランクを成形しようとす
る場合、軟化のためには長時間加熱するか、または、よ
り高温に加熱する必要があるため、ガラス基体の表面付
近にある水溶性成分の化学反応が促進され、押圧成形さ
れた光学素子表面上にクモリが生じるという欠点があっ
た。このクモリは、光学素子を光学機器に装着して使用
した際に、光学素子の光学性能、特に光の透過率を低下
させるものであった。
ガラスブランクのガラス基体の表面層を、このガラス基
体の芯部より水溶性成分の含有量が少なくなるように
し、かつこのガラス基体上に炭化水素被覆層を形成した
後、ガラスブランクを加熱軟化し、その後押圧成形して
いるが、大きな体積のガラスブランクを成形しようとす
る場合、軟化のためには長時間加熱するか、または、よ
り高温に加熱する必要があるため、ガラス基体の表面付
近にある水溶性成分の化学反応が促進され、押圧成形さ
れた光学素子表面上にクモリが生じるという欠点があっ
た。このクモリは、光学素子を光学機器に装着して使用
した際に、光学素子の光学性能、特に光の透過率を低下
させるものであった。
【０００６】本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなさ
れたもので、請求項１または２に係る発明の課題は、押
圧成形された光学素子であっても、光の透過率が高い良
好な光学素子を得る光学素子の製造方法を提供すること
である。
れたもので、請求項１または２に係る発明の課題は、押
圧成形された光学素子であっても、光の透過率が高い良
好な光学素子を得る光学素子の製造方法を提供すること
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１または２に係る発明は、加熱軟化したガラ
ス素材を成形型により押圧成形することにより、所望の
形状の光学素子を得る光学素子の製造方法において、押
圧成形が終了した後に前記成形型より取り出された前記
光学素子を溶液中に浸漬し、クモリ成分を解離させる。
に、請求項１または２に係る発明は、加熱軟化したガラ
ス素材を成形型により押圧成形することにより、所望の
形状の光学素子を得る光学素子の製造方法において、押
圧成形が終了した後に前記成形型より取り出された前記
光学素子を溶液中に浸漬し、クモリ成分を解離させる。
【０００８】請求項１または２に係る発明の光学素子の
製造方法では、押圧成形が終了した後に成形型より取り
出された光学素子を溶液中に浸漬し、光学素子表面のク
モリ成分を解離させ、光学素子を透明にする。請求項２
に係る発明の光学素子の製造方法では、上記作用に加
え、溶液がアルカリ性溶液または酸性溶液であることに
より、光学素子表面に析出したクモリ成分とアルカリ性
溶液または酸性溶液とを化学反応させ、クモリ成分を光
学素子表面より解離させる。
製造方法では、押圧成形が終了した後に成形型より取り
出された光学素子を溶液中に浸漬し、光学素子表面のク
モリ成分を解離させ、光学素子を透明にする。請求項２
に係る発明の光学素子の製造方法では、上記作用に加
え、溶液がアルカリ性溶液または酸性溶液であることに
より、光学素子表面に析出したクモリ成分とアルカリ性
溶液または酸性溶液とを化学反応させ、クモリ成分を光
学素子表面より解離させる。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態における光学
素子の製造方法では、ガラス中の水溶性成分がクモリ成
分となって、光学素子表面に付着している押圧成形後の
光学素子を、アルカリ性または酸性の溶液中に浸漬し、
光学素子表面に析出したクモリ成分と前記溶液とを化学
反応させて、クモリ成分を前記光学素子表面上より解離
させる。このクモリ成分の解離により、押圧成形された
光学素子の表面を透明にして、光の透過率を向上させ
る。なお、本発明の実施の形態では、成形後の光学素子
として両凸レンズを例とするが、これに限定されるもの
ではなく、両凹レンズ、メニスカスレンズなどの他の形
状のレンズの他、成形されたプリズム、フィルタなどの
光学素子にも、本発明を適用することができる。以下、
具体的な実施の形態について説明する。
素子の製造方法では、ガラス中の水溶性成分がクモリ成
分となって、光学素子表面に付着している押圧成形後の
光学素子を、アルカリ性または酸性の溶液中に浸漬し、
光学素子表面に析出したクモリ成分と前記溶液とを化学
反応させて、クモリ成分を前記光学素子表面上より解離
させる。このクモリ成分の解離により、押圧成形された
光学素子の表面を透明にして、光の透過率を向上させ
る。なお、本発明の実施の形態では、成形後の光学素子
として両凸レンズを例とするが、これに限定されるもの
ではなく、両凹レンズ、メニスカスレンズなどの他の形
状のレンズの他、成形されたプリズム、フィルタなどの
光学素子にも、本発明を適用することができる。以下、
具体的な実施の形態について説明する。
【００１０】（実施の形態１）本実施の形態において、
成形された光学素子Ａの形状寸法は、外径２０ｍｍ、厚
さ３ｍｍ、両面の曲率半径３２ｍｍの両凸レンズであ
る。成形後の光学素子Ａの表面には、クモリ成分が析出
しており、顕微鏡で観察すると、白っぽく見えていた。
光学素子Ａのガラス素材の組成は、ＰｂＯ；６６．０ｗ
ｔ％、ＳｉＯ２；２６．０ｗｔ％、ＴｉＯ２；４．４ｗ
ｔ％、Ａｌ２Ｏ３；２．７ｗｔ％、Ｎａ２Ｏ；０．６６
ｗｔ％、その他；０．２４ｗｔ％である。ガラス素材
は、鉛の含有量が多いため、クモリの主成分は酸化鉛
（ＰｂＯ）であった。
成形された光学素子Ａの形状寸法は、外径２０ｍｍ、厚
さ３ｍｍ、両面の曲率半径３２ｍｍの両凸レンズであ
る。成形後の光学素子Ａの表面には、クモリ成分が析出
しており、顕微鏡で観察すると、白っぽく見えていた。
光学素子Ａのガラス素材の組成は、ＰｂＯ；６６．０ｗ
ｔ％、ＳｉＯ２；２６．０ｗｔ％、ＴｉＯ２；４．４ｗ
ｔ％、Ａｌ２Ｏ３；２．７ｗｔ％、Ｎａ２Ｏ；０．６６
ｗｔ％、その他；０．２４ｗｔ％である。ガラス素材
は、鉛の含有量が多いため、クモリの主成分は酸化鉛
（ＰｂＯ）であった。
【００１１】光学素子Ａのクモリを除去する溶液には、
アルカリ性溶液としてのＮａ４ＥＤＴＡ（ＥＤＴＡはエ
チレンジアミン四酢酸の略称）の１０％溶液を用い、フ
ッ素樹脂製容器に入れて使用した。Ｎａ４ＥＤＴＡの水
素イオン指数はｐＨ９に調整している。また、Ｎａ４Ｅ
ＤＴＡの１０％溶液を加熱するためにホットプレートを
使用した。
アルカリ性溶液としてのＮａ４ＥＤＴＡ（ＥＤＴＡはエ
チレンジアミン四酢酸の略称）の１０％溶液を用い、フ
ッ素樹脂製容器に入れて使用した。Ｎａ４ＥＤＴＡの水
素イオン指数はｐＨ９に調整している。また、Ｎａ４Ｅ
ＤＴＡの１０％溶液を加熱するためにホットプレートを
使用した。
【００１２】つぎに、光学素子Ａのクモリ除去方法につ
いて説明する。まず、Ｎａ４ＥＤＴＡの１０％溶液を入
れたフッ素樹脂製容器をホットプレート上に載置し、Ｎ
ａ４ＥＤＴＡの１０％溶液を５０℃に昇温する。つぎ
に、光学素子Ａをピンセットで挟持し、Ｎａ4 ＥＤＴＡ
の１０％溶液中に１分間浸漬する。このとき、ＥＤＴＡ
は、ガラス素材中に含まれる鉛と安定した複合体を形成
するために、クモリの主成分である酸化鉛（ＰｂＯ）が
光学素子Ａの表面から解離される。つぎに、光学素子Ａ
をピンセットで挟持し、Ｎａ４ＥＤＴＡの１０％溶液中
より取り出し、純水にて洗浄する。洗浄後の光学素子Ａ
を顕微鏡で観察したところ、光学素子Ａの表面に析出し
ていたクモリが除去され、透明になっていた。
いて説明する。まず、Ｎａ４ＥＤＴＡの１０％溶液を入
れたフッ素樹脂製容器をホットプレート上に載置し、Ｎ
ａ４ＥＤＴＡの１０％溶液を５０℃に昇温する。つぎ
に、光学素子Ａをピンセットで挟持し、Ｎａ4 ＥＤＴＡ
の１０％溶液中に１分間浸漬する。このとき、ＥＤＴＡ
は、ガラス素材中に含まれる鉛と安定した複合体を形成
するために、クモリの主成分である酸化鉛（ＰｂＯ）が
光学素子Ａの表面から解離される。つぎに、光学素子Ａ
をピンセットで挟持し、Ｎａ４ＥＤＴＡの１０％溶液中
より取り出し、純水にて洗浄する。洗浄後の光学素子Ａ
を顕微鏡で観察したところ、光学素子Ａの表面に析出し
ていたクモリが除去され、透明になっていた。
【００１３】比較のため、同様にして光学素子Ａを５０
℃に昇温したＮａ４ＥＤＴＡの１０％溶液中に５分間浸
漬し、純水にて洗浄後、顕微鏡で観察したところ、光学
素子Ａの表面が浸食され、光学素子として使用すること
はできなかった。同様に、５０℃に昇温した前記溶液中
に１０秒間浸漬し、純水にて洗浄後、顕微鏡で観察した
ところ、光学素子Ａの表面のクモリは除去できず、透明
にはならなかった。本実施の形態では、クモリ成分の解
離のための浸漬時間は、１分間が適切な時間であった
が、化学反応を利用するため、光学素子表面の表面積、
光学素子素材の組成比、Ｎａ４ＥＤＴＡの濃度、水素イ
オン指数（ｐＨ）、温度等により反応速度は異なるため
に、浸漬時間は、実験的に決定する必要がある。
℃に昇温したＮａ４ＥＤＴＡの１０％溶液中に５分間浸
漬し、純水にて洗浄後、顕微鏡で観察したところ、光学
素子Ａの表面が浸食され、光学素子として使用すること
はできなかった。同様に、５０℃に昇温した前記溶液中
に１０秒間浸漬し、純水にて洗浄後、顕微鏡で観察した
ところ、光学素子Ａの表面のクモリは除去できず、透明
にはならなかった。本実施の形態では、クモリ成分の解
離のための浸漬時間は、１分間が適切な時間であった
が、化学反応を利用するため、光学素子表面の表面積、
光学素子素材の組成比、Ｎａ４ＥＤＴＡの濃度、水素イ
オン指数（ｐＨ）、温度等により反応速度は異なるため
に、浸漬時間は、実験的に決定する必要がある。
【００１４】また、本実施の形態では、光学素子Ａをピ
ンセットで挟持し、フッ素樹脂製容器に入れたＮａ４Ｅ
ＤＴＡの１０％溶液に浸漬したが、洗浄ヤトイ等で光学
素子Ａを保持し、Ｎａ４ＥＤＴＡの１０％溶液への浸
漬、つぎに、純水による洗浄という工程で行っても何ら
本質的に変わることはない。また、光学素子素材の硝種
によっては、純水では乾きが遅く、ヤケが発生すること
もあるため、純水に替えて、揮発性の高いメチルアルコ
ールとジェチルエーテルとの混合溶剤、またはレンズク
リーナー（商品名、オリンパス光学（株）製）等の有機
溶剤により洗浄してもよい。
ンセットで挟持し、フッ素樹脂製容器に入れたＮａ４Ｅ
ＤＴＡの１０％溶液に浸漬したが、洗浄ヤトイ等で光学
素子Ａを保持し、Ｎａ４ＥＤＴＡの１０％溶液への浸
漬、つぎに、純水による洗浄という工程で行っても何ら
本質的に変わることはない。また、光学素子素材の硝種
によっては、純水では乾きが遅く、ヤケが発生すること
もあるため、純水に替えて、揮発性の高いメチルアルコ
ールとジェチルエーテルとの混合溶剤、またはレンズク
リーナー（商品名、オリンパス光学（株）製）等の有機
溶剤により洗浄してもよい。
【００１５】本実施の形態によれば、押圧成形後に、ア
ルカリ性溶液への浸漬によって、光学素子表面のクモリ
を除去できるために、従来技術で述べたようなガラス体
積の大きな素材から押圧成形される光学素子、または、
溶融したガラスを滴下してそのまま押圧成形して得られ
る光学素子の場合でも、クモリを除去し、光学素子を透
明にすることができる。これにより、光の透過率が高い
光学素子を得ることができる。
ルカリ性溶液への浸漬によって、光学素子表面のクモリ
を除去できるために、従来技術で述べたようなガラス体
積の大きな素材から押圧成形される光学素子、または、
溶融したガラスを滴下してそのまま押圧成形して得られ
る光学素子の場合でも、クモリを除去し、光学素子を透
明にすることができる。これにより、光の透過率が高い
光学素子を得ることができる。
【００１６】（実施の形態２）本実施の形態において、
成形された光学素子Ｂの形状寸法は、外径２０ｍｍ、厚
さ３ｍｍ、両面の曲率半径３２ｍｍの両凸レンズであ
る。成形後の光学素子Ｂの表面には、クモリ成分が析出
しており、顕微鏡で観察すると、白っぽく見えていた。
光学素子Ｂのガラス素材の組成は、ＳｉＯ２；７４．０
ｗｔ％、ＺｎＯ；１．４ｗｔ％、Ｎａ２Ｏ；１１．０ｗ
ｔ％、Ａｌ２Ｏ３；０．６ｗｔ％、ＢａＯ；２．０ｗｔ
％、Ｋ２Ｏ；１１．０ｗｔ％である。クモリの主成分
は、酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）および酸化ナトリウム（Ｎ
ａ２Ｏ）であった。
成形された光学素子Ｂの形状寸法は、外径２０ｍｍ、厚
さ３ｍｍ、両面の曲率半径３２ｍｍの両凸レンズであ
る。成形後の光学素子Ｂの表面には、クモリ成分が析出
しており、顕微鏡で観察すると、白っぽく見えていた。
光学素子Ｂのガラス素材の組成は、ＳｉＯ２；７４．０
ｗｔ％、ＺｎＯ；１．４ｗｔ％、Ｎａ２Ｏ；１１．０ｗ
ｔ％、Ａｌ２Ｏ３；０．６ｗｔ％、ＢａＯ；２．０ｗｔ
％、Ｋ２Ｏ；１１．０ｗｔ％である。クモリの主成分
は、酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）および酸化ナトリウム（Ｎ
ａ２Ｏ）であった。
【００１７】光学素子Ｂのクモリを除去する溶液には、
酸性溶液としてのＨＮＯ３の１０％溶液を用い、フッ素
樹脂製容器に入れて使用した。ＨＮＯ３の水素イオン指
数はｐＨ４に調整している。また、ＨＮＯ３の１０％溶
液を加熱するためにホットプレートを使用した。
酸性溶液としてのＨＮＯ３の１０％溶液を用い、フッ素
樹脂製容器に入れて使用した。ＨＮＯ３の水素イオン指
数はｐＨ４に調整している。また、ＨＮＯ３の１０％溶
液を加熱するためにホットプレートを使用した。
【００１８】つぎに、光学素子Ｂのクモリ除去方法につ
いて説明する。まず、ＨＮＯ３の１０％溶液を入れたフ
ッ素樹脂製容器をホットプレート上に載置し、ＨＮＯ３
の１０％溶液を５０℃に昇温する。つぎに、光学素子Ｂ
をピンセットで挟持し、ＨＮＯ３の１０％溶液中に５０
秒間浸漬する。このとき、ＨＮＯ３は、ガラス素材中に
含まれるカリウム、ナトリウムと反応するために、クモ
リの主成分である酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、酸化ナトリ
ウム（Ｎａ２Ｏ）が光学素子Ｂの表面から解離される。
つぎに、光学素子Ｂをピンセットで挟持し、ＨＮＯ３の
１０％溶液中より取り出し、純水にて洗浄する。洗浄後
の光学素子Ｂを顕微鏡で観察したところ、光学素子Ｂの
表面に析出していたクモリが除去され、透明になってい
た。
いて説明する。まず、ＨＮＯ３の１０％溶液を入れたフ
ッ素樹脂製容器をホットプレート上に載置し、ＨＮＯ３
の１０％溶液を５０℃に昇温する。つぎに、光学素子Ｂ
をピンセットで挟持し、ＨＮＯ３の１０％溶液中に５０
秒間浸漬する。このとき、ＨＮＯ３は、ガラス素材中に
含まれるカリウム、ナトリウムと反応するために、クモ
リの主成分である酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、酸化ナトリ
ウム（Ｎａ２Ｏ）が光学素子Ｂの表面から解離される。
つぎに、光学素子Ｂをピンセットで挟持し、ＨＮＯ３の
１０％溶液中より取り出し、純水にて洗浄する。洗浄後
の光学素子Ｂを顕微鏡で観察したところ、光学素子Ｂの
表面に析出していたクモリが除去され、透明になってい
た。
【００１９】比較のため、同様にして光学素子Ｂを５０
℃に昇温したＨＮＯ３の１０％溶液中に３分間浸漬し、
純水にて洗浄後、顕微鏡で観察したところ、光学素子Ｂ
の表面が浸食され、光学素子として使用することはでき
なかった。同様に、５０℃に昇温した前記溶液中に１０
秒間浸漬し、純水にて洗浄後、顕微鏡で観察したとこ
ろ、光学素子Ｂの表面のクモリは除去できず、透明には
ならなかった。本実施の形態では、クモリ成分の解離の
ための浸漬時間は、５０秒間が適切な時間であったが、
化学反応を利用するため、光学素子表面の表面積、光学
素子素材の組成比、ＨＮＯ３の濃度、水素イオン指数
（ｐＨ）、温度等により反応速度は異なるために、浸漬
時間は、実験的に決定する必要がある。
℃に昇温したＨＮＯ３の１０％溶液中に３分間浸漬し、
純水にて洗浄後、顕微鏡で観察したところ、光学素子Ｂ
の表面が浸食され、光学素子として使用することはでき
なかった。同様に、５０℃に昇温した前記溶液中に１０
秒間浸漬し、純水にて洗浄後、顕微鏡で観察したとこ
ろ、光学素子Ｂの表面のクモリは除去できず、透明には
ならなかった。本実施の形態では、クモリ成分の解離の
ための浸漬時間は、５０秒間が適切な時間であったが、
化学反応を利用するため、光学素子表面の表面積、光学
素子素材の組成比、ＨＮＯ３の濃度、水素イオン指数
（ｐＨ）、温度等により反応速度は異なるために、浸漬
時間は、実験的に決定する必要がある。
【００２０】また、本実施の形態では、光学素子Ｂをピ
ンセットで挟持し、フッ素樹脂製容器に入れたＨＮＯ３
の１０％溶液に浸漬したが、洗浄ヤトイ等で光学素子Ａ
を保持し、ＨＮＯ３の１０％溶液への浸漬、つぎに、純
水による洗浄という工程を行っても何ら本質的に変わる
ことはない。また、光学素子素材の硝種によっては、純
水では乾きが遅く、ヤケが発生することもあるため、純
水に替えて、揮発性の高いメチルアルコールとジェチル
エーテルとの混合溶剤、またはレンズクリーナー（商品
名、オリンパス光学（株）製）等の有機溶剤により洗浄
してもよい。
ンセットで挟持し、フッ素樹脂製容器に入れたＨＮＯ３
の１０％溶液に浸漬したが、洗浄ヤトイ等で光学素子Ａ
を保持し、ＨＮＯ３の１０％溶液への浸漬、つぎに、純
水による洗浄という工程を行っても何ら本質的に変わる
ことはない。また、光学素子素材の硝種によっては、純
水では乾きが遅く、ヤケが発生することもあるため、純
水に替えて、揮発性の高いメチルアルコールとジェチル
エーテルとの混合溶剤、またはレンズクリーナー（商品
名、オリンパス光学（株）製）等の有機溶剤により洗浄
してもよい。
【００２１】本実施の形態によれば、実施の形態１と同
様の効果に加え、光学素子表面に析出した鉛以外のクモ
リ成分の場合でも、クモリを除去することができる。
様の効果に加え、光学素子表面に析出した鉛以外のクモ
リ成分の場合でも、クモリを除去することができる。
【００２２】
【発明の効果】請求項１または２に係る発明によれば、
押圧成形された光学素子であっても、光学素子表面のク
モリを除去して、光の透過率が高い良好な光学素子を得
ることができる。請求項２に係る発明によれば、上記効
果に加え、光学素子表面に析出したクモリ成分とアルカ
リ性溶液または酸性溶液とを化学反応させ、クモリ成分
を光学素子表面より解離させる条件を容易に得ることが
できる。
押圧成形された光学素子であっても、光学素子表面のク
モリを除去して、光の透過率が高い良好な光学素子を得
ることができる。請求項２に係る発明によれば、上記効
果に加え、光学素子表面に析出したクモリ成分とアルカ
リ性溶液または酸性溶液とを化学反応させ、クモリ成分
を光学素子表面より解離させる条件を容易に得ることが
できる。
Claims (2)
- 【請求項１】 加熱軟化したガラス素材を成形型により
押圧成形することにより、所望の形状の光学素子を得る
光学素子の製造方法において、 押圧成形が終了した後に、前記成形型より取り出された
前記光学素子を溶液中に浸漬し、クモリ成分を解離させ
ることを特徴とする光学素子の製造方法。 - 【請求項２】 前記溶液は、アルカリ性溶液または酸性
溶液であることを特徴とする請求項１記載の光学素子の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136423A JP2000327375A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 光学素子の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP11136423A JP2000327375A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 光学素子の製造方法 |
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| JP2000327375A true JP2000327375A (ja) | 2000-11-28 |
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ID=15174815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11136423A Pending JP2000327375A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2000327375A (ja) |
-
1999
- 1999-05-17 JP JP11136423A patent/JP2000327375A/ja active Pending
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