JP2000323503A - 電子デバイス用接着剤および半導体実装装置 - Google Patents

電子デバイス用接着剤および半導体実装装置

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JP2000323503A
JP2000323503A JP13280999A JP13280999A JP2000323503A JP 2000323503 A JP2000323503 A JP 2000323503A JP 13280999 A JP13280999 A JP 13280999A JP 13280999 A JP13280999 A JP 13280999A JP 2000323503 A JP2000323503 A JP 2000323503A
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JP
Japan
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adhesive
inorganic filler
resin
thermosetting resin
present
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JP13280999A
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Hirokazu Nishimura
浩和 西村
Taiichi Kishimoto
泰一 岸本
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フリップチップ実装において、電気接続を妨
げることのない粒径の無機充填材を添加することによ
り、線膨張係数の低下を達成させ、なおかつ、作業性の
良好な粘度を保つことにある。 【解決手段】 本発明の電子デバイス用接着剤は、
(A)熱硬化性樹脂と(B)粒径が0.1〜10μmで
ある無機充填材からなる接着剤であって、該接着剤全体
に対して、(A)熱硬化性樹脂を30〜80重量%、
(B)無機充填材を20〜70体積%の割合にそれぞれ
含有することを特徴とし、また、本発明の半導体実装装
置は、上記電子デバイス用接着剤を用いて、半導体チッ
プを搭載してなることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子デバイス用途
に用いられる接着剤に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、半導体チップはより簡便な方
法で基板に搭載することが望まれてきており、その方法
として、従来多用されていた樹脂モールドパッケージ実
装から、ベアのチップを反転させて直接基板に接続し、
そのチップと基板の隙間のみを樹脂封止するというフリ
ップチップ実装が、先端情報機器内の実装に用いられて
きている。その中でも、異方性導電材料のような接着剤
を用いてベアチップを基板に熱圧着により搭載する方式
は、最も工程が少なく、短時間で搭載できる方法であ
る。
【0003】ここで、その電子デバイス用接着剤には、
次のような性能が求められる。
【0004】(1)無機充填材を含有することによる低
線膨張係数化、(2)作業性を重視した接着剤粘度、
(3)低い電気接続抵抗値である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】一般に、低線膨張係数
化を目的とした無機充填材の添加は、接着剤の粘度を増
加させて作業性に支障をきたす。ここで、粘度増加を抑
制するには、相対的に無機充填材の表面積を下げる、即
ち、無機充填材の粒径を大きくする必要がある。
【0006】しかしながら、異方性導電材料のような接
着剤は、熱圧着で電極間の接着および電気接続を達成す
るため、対向電極間に大きな無機充填材が存在すると電
気接続を妨げるという問題がある。
【0007】そこで、本発明の目的は、電気接続を妨げ
ることのない粒径の無機充填材を添加することにより、
線膨張係数の低下を達成させ、なおかつ、作業性の良好
な粘度を保つことにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、接着剤の線膨
張係数を十分に下げることができ、また、電極間の電気
接続に悪影響を及ぼさない無機充填材は、粒径を0.1
μm〜10μmの範囲に限定させればよく、それを特定
体積率で用いた熱硬化性樹脂組成物が、上記の目的を達
成することを見いだし、本発明を完成したものである。
【0009】即ち、本発明の電子デバイス用接着剤は、
(A)熱硬化性樹脂と(B)粒径が0.1〜10μmで
ある無機充填材からなる接着剤であって、該接着剤全体
に対して、(A)熱硬化性樹脂を30〜80重量%、
(B)無機充填材を20〜70体積%の割合にそれぞれ
含有することを特徴とし、また、本発明の半導体実装装
置は、上記電子デバイス用接着剤を用いて、半導体チッ
プを搭載してなることを特徴とする。
【0010】以下、本発明を詳細に説明する。
【0011】本発明に用いる(A)熱硬化性樹脂として
は、例えば、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、レゾルシノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ア
クリル樹脂、ビニルウレタン樹脂、シリコーン樹脂、α
−オレイン無水マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
イミド樹脂等が挙げられ、これらは単独又は2種以上混
合して使用でき、なかでもエポキシ樹脂が工業的に有利
に用いられる。
【0012】エポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエ
ポキシ基を有する、硬化可能なエポキシ樹脂であればよ
く、例えば、ビスフェノールF型エポキシ樹脂であれ
ば、液状エポキシ樹脂、固形エポキシ樹脂等特に制限な
く広く使用できる。また、ビスフェノールA型エポキシ
樹脂も同様に液状エポキシ樹脂、固形エポキシ樹脂等特
に制限なく広く使用できる。しかもこれらのエポキシ樹
脂には、必要に応じて液状のモノエポキシ樹脂を併用し
て、適宜の流動性を付与することができる。
【0013】熱硬化性樹脂の配合割合は、混合物全体の
30〜80重量%とすることがよく、この範囲外では、
本発明の目的が達せられない。この配合割合には、それ
ぞれの熱硬化性樹脂に必要な硬化剤が含まれる。
【0014】本発明に用いる(B)無機充填材は、粒径
を0.1μm〜10μmの範囲に限定したものである。
粒径が0.1μm未満では、その体積に対する相対表面
積が大きいため、熱硬化性樹脂を著しく増粘させ、十分
に無機充填材を含有できず、低線膨張係数化の効果が薄
くなる。また、粒径が10μmを超えると、熱圧着によ
る電極間の電気接続がその無機充填材の大きさにより阻
害される。
【0015】(B)無機充填材としては、例えば、シリ
カ、アルミナ、窒化ケイ素、炭酸カルシウム、炭酸バリ
ウム等が挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して
使用することができる。また、その配合割合は、混合物
全体の20〜70体積%である。この体積分率範囲外で
は、本発明の目的が満足できない。
【0016】本発明の接着剤は、前述した特定粒径の無
機充填材を熱硬化性樹脂に特定体積分率で配合するもの
であるが、本発明の目的に反しない範囲において、また
必要に応じて添加剤を配合することができる。
【0017】本発明の接着剤は導電性、非導電性いずれ
のものでもよいが、導電性を付与するための組成として
は、金属粒子や無機粒体又は有機粒体に金属層を有する
粒子などが挙げられ、特に制限されるものではない。導
電粒子の具体的なものとして、銅、銀、ニッケル、半田
等の金属粒子が、また樹脂粒体に金属粒子で例示した金
属の層を有するもの等が挙げられ、これら導電粒子は単
独又は2種以上混合して使用することができる。
【0018】また、本発明の目的に反しない範囲におい
て、難燃剤、カップリング剤、応力緩和剤、消泡剤、レ
ベリング剤、顔料、染料その他の成分を添加配合するこ
とができる。
【0019】本発明の電子デバイス用接着剤は、前述し
た成分を常法に従って十分に混合した後、さらに、例え
ば三本ロールによって混練処理を行い、次いで減圧脱泡
卯することなどにより得られる。こうして得られた接着
剤は、例えばシリンジに充填し、ディスペンサーを用い
て、あるいはスクリーン印刷法を用いて半導体チップ上
に塗布され、フェイスダウンした半導体チップを基板上
の所定の位置に熱圧着するなど搭載することにより、容
易に本発明の半導体実装装置を製造することができる。
【0020】
【作用】本発明において、無機充填材の粒径範囲および
配合体積率範囲を限定することで、接着剤の線膨張係数
を十分に下げることができ、また電極間の電気接合に悪
影響を及ぼさないということができる。即ち、無機充填
材を含有することによる低線膨張係数化、作業性を重視
した接着剤粘度、低い電気接続抵抗値のいずれをも満足
することができたものである。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例によって具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。なお、「%」とは特に説明のな
い限り、「重量%」を意味する。
【0022】実施例1 熱硬化性樹脂としてエピコート630(油化シェルエポ
キシ社製、商品名)50%、ノバキュアHX3921H
P(旭チバ社製、商品名)50%の混合物(A)を調製
する。無機充填材のSO25R(粒径0.5μm、アド
マテック社製商品名、粒径0.5μm)を混合物(A)
に対して100%含有させ接着剤を得た。この接着剤に
おける無機充填材の体積分率は34%であった。
【0023】比較例1 熱硬化性樹脂としてエピコート630(油化シェルエポ
キシ社製、商品名)50%、ノバキュアHX3921H
P(旭チバ社製、商品名)50%の混合物(A)を調製
する。無機充填材のRY200S(日本アエロジル社製
商品名、粒径0.02μm)を混合物(A)に対して1
0%含有させ接着剤を得た。この接着剤における無機充
填材の体積分率は5%であった。
【0024】比較例2 熱硬化性樹脂としてエピコート630(油化シェルエポ
キシ社製、商品名)50%、ノバキュアHX3921H
P(旭チバ社製、商品名)50%の混合物(A)を調製
する。無機充填材のFB−74(デンカ社製商品名、粒
径25μm)を混合物(A)に対して400%含有させ
接着剤を得た。この接着剤における無機充填材の体積分
率は67%であった。
【0025】実施例1、比較例1〜2で得た接着剤につ
いて、諸特性の試験結果を得たので、それらを表1に示
す。
【0026】
【表1】 *1:Auバンプを設けたチップとCuを電極とするポ
リイミド基板のフリップチップ接続で、四端子法で測定
した1接続部についての抵抗値である。
【0027】
【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の粒径範囲を選択した無機充填材を所定堆積
率で、接着剤に含有させることで、それを組成分とした
接着剤の低線膨張係数化を達成し、また、作業性、電極
間の接続も良好に維持することができた。
フロントページの続き Fターム(参考) 4J040 DA081 DD021 DE021 DF041 EB031 EB111 EB131 EC061 EF001 EG001 EH031 EK031 FA291 HA136 HA196 HA296 HA306 JB02 KA03 KA42 LA01 LA08 LA09 NA19 NA20 5F047 BA33 BB11 BB16

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)熱硬化性樹脂と(B)粒径が0.
    1〜10μmである無機充填材からなる接着剤であっ
    て、該接着剤全体に対して、(A)熱硬化性樹脂を30
    〜80重量%、(B)無機充填材を20〜70体積%の
    割合にそれぞれ含有することを特徴とする電子デバイス
    用接着剤。
  2. 【請求項2】 (A)熱硬化性樹脂と(B)粒径が0.
    1〜10μmである無機充填材からなる接着剤であっ
    て、該接着剤全体に対して、(A)熱硬化性樹脂を30
    〜80重量%、(B)無機充填材を20〜70体積%の
    割合にそれぞれ含有する電子デバイス用接着剤を用い
    て、半導体チップを搭載してなることを特徴とする半導
    体実装装置。
JP13280999A 1999-05-13 1999-05-13 電子デバイス用接着剤および半導体実装装置 Pending JP2000323503A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005008669A (ja) * 2003-06-16 2005-01-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体装置用接着剤,半導体装置およびそれを用いた表示装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005008669A (ja) * 2003-06-16 2005-01-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体装置用接着剤,半導体装置およびそれを用いた表示装置

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