JP2000316996A - レーザ脱毛方法 - Google Patents
レーザ脱毛方法Info
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- JP2000316996A JP2000316996A JP11129523A JP12952399A JP2000316996A JP 2000316996 A JP2000316996 A JP 2000316996A JP 11129523 A JP11129523 A JP 11129523A JP 12952399 A JP12952399 A JP 12952399A JP 2000316996 A JP2000316996 A JP 2000316996A
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- Japan
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- laser
- gel
- heat sink
- hair removal
- removal method
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】レーザ照射の際の火傷や痛みを防いで皮膚に十
分な光熱反応を起こすことができるようにする。 【解決手段】むだ毛を取り除く脱毛工程と、むだ毛を取
り除いた箇所にジェルを塗ってヒートシンク被膜を形成
するヒートシンク被膜形成工程と、ヒートシンク被膜の
上からレーザ光を照射するレーザ光照射工程で構成す
る。
分な光熱反応を起こすことができるようにする。 【解決手段】むだ毛を取り除く脱毛工程と、むだ毛を取
り除いた箇所にジェルを塗ってヒートシンク被膜を形成
するヒートシンク被膜形成工程と、ヒートシンク被膜の
上からレーザ光を照射するレーザ光照射工程で構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、むだ毛を取り除い
た箇所にレーザ光を照射し、毛乳頭や皮脂腺にたんぱく
変性を起こしてその部分の毛の発育を抑制する美容用の
レーザ脱毛方法に関する。
た箇所にレーザ光を照射し、毛乳頭や皮脂腺にたんぱく
変性を起こしてその部分の毛の発育を抑制する美容用の
レーザ脱毛方法に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】レーザ光を皮膚に照射
すると、レーザ光を照射したまわりの正常細胞に光熱反
応によって軽い火傷が起きたり、皮膚に多少の痛みを感
じることがある。このため、従来は火傷や痛みによる恐
怖感や不安感が先にたち、皮膚に十分な光熱反応を起こ
すことができず、脱毛トリートメントを有効に行うこと
が困難であった。
すると、レーザ光を照射したまわりの正常細胞に光熱反
応によって軽い火傷が起きたり、皮膚に多少の痛みを感
じることがある。このため、従来は火傷や痛みによる恐
怖感や不安感が先にたち、皮膚に十分な光熱反応を起こ
すことができず、脱毛トリートメントを有効に行うこと
が困難であった。
【０００３】そこで本発明は、レーザ照射の際の火傷や
痛みを和らげて皮膚に十分な光熱反応を起こすことがで
きるようにすることを目的になされたものである。
痛みを和らげて皮膚に十分な光熱反応を起こすことがで
きるようにすることを目的になされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明は以下のように構成した。
めに、本発明は以下のように構成した。
【０００５】すなわち、請求項１の発明は、むだ毛を取
り除く脱毛工程と、むだ毛を取り除いた箇所にジェルを
塗ってヒートシンク被膜を形成するヒートシンク被膜形
成工程と、ヒートシンク被膜の上からレーザ光を照射す
るレーザ光照射工程と、から成るレーザ脱毛方法であ
る。請求項２の発明は、前記ジェルの主成分が被膜剤と
基剤および保湿剤であることを特徴とする請求項１記載
のレーザ脱毛方法である。請求項３の発明は、前記ジェ
ルを塗る前に所定の温度以下にジェルを冷却することを
特徴とする請求項１記載のレーザ脱毛方法である。請求
項４の発明は、前記ジェルに表面麻酔を行う麻酔剤を配
合することを特徴とする請求項１記載のレーザ脱毛方法
である。請求項５の発明は、前記ジェルに抗生物質入り
のステロイド剤を配合することを特徴とする請求項１記
載のレーザ脱毛方法である。請求項６の発明は、前記ジ
ェルに美肌効果のある栄養成分を配合することを特徴と
する請求項１記載のレーザ脱毛方法である。請求項７の
発明は、前記レーザ光をピーク波長６００〜１６００ｎ
ｍの半導体レーザ光とする請求項１記載のレーザ脱毛方
法である。請求項８の発明は、前記レーザ光を光出力５
ｍＷ〜３Ｗの半導体レーザ光とする請求項１記載のレー
ザ脱毛方法である。
り除く脱毛工程と、むだ毛を取り除いた箇所にジェルを
塗ってヒートシンク被膜を形成するヒートシンク被膜形
成工程と、ヒートシンク被膜の上からレーザ光を照射す
るレーザ光照射工程と、から成るレーザ脱毛方法であ
る。請求項２の発明は、前記ジェルの主成分が被膜剤と
基剤および保湿剤であることを特徴とする請求項１記載
のレーザ脱毛方法である。請求項３の発明は、前記ジェ
ルを塗る前に所定の温度以下にジェルを冷却することを
特徴とする請求項１記載のレーザ脱毛方法である。請求
項４の発明は、前記ジェルに表面麻酔を行う麻酔剤を配
合することを特徴とする請求項１記載のレーザ脱毛方法
である。請求項５の発明は、前記ジェルに抗生物質入り
のステロイド剤を配合することを特徴とする請求項１記
載のレーザ脱毛方法である。請求項６の発明は、前記ジ
ェルに美肌効果のある栄養成分を配合することを特徴と
する請求項１記載のレーザ脱毛方法である。請求項７の
発明は、前記レーザ光をピーク波長６００〜１６００ｎ
ｍの半導体レーザ光とする請求項１記載のレーザ脱毛方
法である。請求項８の発明は、前記レーザ光を光出力５
ｍＷ〜３Ｗの半導体レーザ光とする請求項１記載のレー
ザ脱毛方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。
施の形態について説明する。
【０００７】本発明を実施したレーザ脱毛方法は、脱毛
工程と、ヒートシンク被膜形成工程と、レーザ光照射工
程で構成する。
工程と、ヒートシンク被膜形成工程と、レーザ光照射工
程で構成する。
【０００８】脱毛工程は、むだ毛を取り除く効率を上げ
るため、脱毛用のワックスシートを脱毛箇所に貼り、い
っきにむだ毛を毛根から剥がし取る。脱毛用のワックス
シートは、 商品名 ＳＴＡＢＬＩＴＥ ＥＳＴＨＥＲ−１０ ５４．２５％ ＳＴＡＢＬＩＴＥ Ｘ−１９９ ２３．５０％ ＢＥＮＺＯＦＬＥＸ ９−８８ １８．２５％ ＨＥＲＣＯＬＹＮＤ ４．００％ から成る成分のものを使用する。
るため、脱毛用のワックスシートを脱毛箇所に貼り、い
っきにむだ毛を毛根から剥がし取る。脱毛用のワックス
シートは、 商品名 ＳＴＡＢＬＩＴＥ ＥＳＴＨＥＲ−１０ ５４．２５％ ＳＴＡＢＬＩＴＥ Ｘ−１９９ ２３．５０％ ＢＥＮＺＯＦＬＥＸ ９−８８ １８．２５％ ＨＥＲＣＯＬＹＮＤ ４．００％ から成る成分のものを使用する。
【０００９】ヒートシンク被膜形成工程は、脱毛用のワ
ックスシートでむだ毛を取り除いた跡に、熱容量の大き
なジェルを厚く塗る。これにより、ジェル層によるヒー
トシンク被膜を形成し、表皮を冷やすと共に、表皮の熱
を効率よく吸収する。このときのジェルは、あらかじめ
冷蔵庫などに入れて所定の温度以下に冷やしておく。
ックスシートでむだ毛を取り除いた跡に、熱容量の大き
なジェルを厚く塗る。これにより、ジェル層によるヒー
トシンク被膜を形成し、表皮を冷やすと共に、表皮の熱
を効率よく吸収する。このときのジェルは、あらかじめ
冷蔵庫などに入れて所定の温度以下に冷やしておく。
【００１０】ジェルは、高分子化合物のポリビニルアル
コールやポリ酢酸ビニルエマルジョンなどの被膜剤、変
性アルコールや精製水などの基剤、１，３−ブチレング
リコールなどの保湿剤、パラオキシ安息香酸エステルな
どの防腐剤を配合する。
コールやポリ酢酸ビニルエマルジョンなどの被膜剤、変
性アルコールや精製水などの基剤、１，３−ブチレング
リコールなどの保湿剤、パラオキシ安息香酸エステルな
どの防腐剤を配合する。
【００１１】また、レーザ光照射時の痛みをさらに緩和
するため、表面麻酔を行う麻酔剤を配合する。
するため、表面麻酔を行う麻酔剤を配合する。
【００１２】また、脱毛した跡をケアするため、抗生物
質入りのステロイド剤を配合する。
質入りのステロイド剤を配合する。
【００１３】また、肌に潤いを与えるなどの美肌効果の
ある各種の栄養成分を配合する。
ある各種の栄養成分を配合する。
【００１４】レーザ光照射工程は、ジェル層の上からレ
ーザ光を照射する。ジェル層を透過したレーザ光は、表
皮内メラニンに吸収されてジュール熱を発生し、この熱
によって皮膚組織にたんぱく変性が起こる。
ーザ光を照射する。ジェル層を透過したレーザ光は、表
皮内メラニンに吸収されてジュール熱を発生し、この熱
によって皮膚組織にたんぱく変性が起こる。
【００１５】さらに、レーザ光の光熱反応によって皮脂
腺や毛乳頭部にもダメージが及び、ケラチンの変性・分
解を促進する。このとき、皮脂腺や毛乳頭部が凝縮して
毛包の組織が硬くなり、新生毛が育ちにくくなることに
より毛の発育が抑制される。
腺や毛乳頭部にもダメージが及び、ケラチンの変性・分
解を促進する。このとき、皮脂腺や毛乳頭部が凝縮して
毛包の組織が硬くなり、新生毛が育ちにくくなることに
より毛の発育が抑制される。
【００１６】レーザ光の光源には、ＧａＡｓ（ガリウム
アルセナイド）などの化合物半導体を用いたＰＮ接合ダ
イオードに直接電流を流して励起し、レーザ発振を得る
半導体レーザダイオードを使用する。半導体レーザダイ
オードは、ピーク波長６００〜１６００ｎｍのレーザ光
を出力し、表皮内メラニンに選択的に反応して十分な光
熱反応を起こす。また、光出力５ｍＷ〜３Ｗのレーザ光
を出力し、適正なパワー密度で生体組織を損傷する作用
はなく、皮膚に障害を起こす危険性はない。
アルセナイド）などの化合物半導体を用いたＰＮ接合ダ
イオードに直接電流を流して励起し、レーザ発振を得る
半導体レーザダイオードを使用する。半導体レーザダイ
オードは、ピーク波長６００〜１６００ｎｍのレーザ光
を出力し、表皮内メラニンに選択的に反応して十分な光
熱反応を起こす。また、光出力５ｍＷ〜３Ｗのレーザ光
を出力し、適正なパワー密度で生体組織を損傷する作用
はなく、皮膚に障害を起こす危険性はない。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明のレーザ脱毛
方法は、むだ毛を取り除いた箇所にジェルを塗ってヒー
トシンク被膜を形成し、ヒートシンク被膜の上からレー
ザ光を照射する。従って、本発明によれば、ヒートシン
ク被膜が表皮の過熱を防ぐので、皮膚に十分な光熱反応
を起こして有効な脱毛トリートメントを行うことができ
る。また、皮膚を冷却することによって痛みを緩和する
沈痛効果を発揮する。さらに、皮膚を冷却することによ
って新陳代謝を活発にする活性化効果も発揮する。
方法は、むだ毛を取り除いた箇所にジェルを塗ってヒー
トシンク被膜を形成し、ヒートシンク被膜の上からレー
ザ光を照射する。従って、本発明によれば、ヒートシン
ク被膜が表皮の過熱を防ぐので、皮膚に十分な光熱反応
を起こして有効な脱毛トリートメントを行うことができ
る。また、皮膚を冷却することによって痛みを緩和する
沈痛効果を発揮する。さらに、皮膚を冷却することによ
って新陳代謝を活発にする活性化効果も発揮する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C026 AA01 BB08 HH02 HH12 4C060 MM22 4C082 RA01 RC09 RL02 RL12
Claims (8)
- 【請求項１】 むだ毛を取り除く脱毛工程と、 むだ毛を取り除いた箇所にジェルを塗ってヒートシンク
被膜を形成するヒートシンク被膜形成工程と、 ヒートシンク被膜の上からレーザ光を照射するレーザ光
照射工程と、から成るレーザ脱毛方法。 - 【請求項２】 前記ジェルの主成分が被膜剤と基剤およ
び保湿剤であることを特徴とする請求項１記載のレーザ
脱毛方法。 - 【請求項３】 前記ジェルを塗る前に所定の温度以下に
ジェルを冷却することを特徴とする請求項１記載のレー
ザ脱毛方法。 - 【請求項４】 前記ジェルに表面麻酔を行う麻酔剤を配
合することを特徴とする請求項１記載のレーザ脱毛方
法。 - 【請求項５】 前記ジェルに抗生物質入りのステロイド
剤を配合することを特徴とする請求項１記載のレーザ脱
毛方法。 - 【請求項６】 前記ジェルに美肌効果のある栄養成分を
配合することを特徴とする請求項１記載のレーザ脱毛方
法。 - 【請求項７】 前記レーザ光をピーク波長６００〜１６
００ｎｍの半導体レーザ光とする請求項１記載のレーザ
脱毛方法。 - 【請求項８】 前記レーザ光を光出力５ｍＷ〜３Ｗの半
導体レーザ光とする請求項１記載のレーザ脱毛方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129523A JP2000316996A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | レーザ脱毛方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129523A JP2000316996A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | レーザ脱毛方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000316996A true JP2000316996A (ja) | 2000-11-21 |
Family
ID=15011621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11129523A Pending JP2000316996A (ja) | 1999-05-11 | 1999-05-11 | レーザ脱毛方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000316996A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012487A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-15 | Ya Man Ltd | レーザートリートメント用美容液及びレーザートリートメント方法 |
| EP1364624A1 (en) * | 2002-05-23 | 2003-11-26 | Ed. Geistlich Söhne Ag Für Chemische Industrie | Improvements in laser treatment |
| EP1937175B1 (fr) * | 2005-10-17 | 2015-05-27 | Eurofeedback | Procede d'epilation |
-
1999
- 1999-05-11 JP JP11129523A patent/JP2000316996A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012487A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-15 | Ya Man Ltd | レーザートリートメント用美容液及びレーザートリートメント方法 |
| EP1364624A1 (en) * | 2002-05-23 | 2003-11-26 | Ed. Geistlich Söhne Ag Für Chemische Industrie | Improvements in laser treatment |
| EP1937175B1 (fr) * | 2005-10-17 | 2015-05-27 | Eurofeedback | Procede d'epilation |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040105 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040323 |