JP2000315623A - Manufacture of ceramic electronic parts - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミック電子部
品の製造方法に関し、詳しくは、セラミック素子の表面
に電極が配設された構造を有するセラミック電子部品の
製造方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic electronic component, and more particularly, to a method for manufacturing a ceramic electronic component having a structure in which electrodes are provided on a surface of a ceramic element.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】例え
ば、図8に示すように、セラミック素子51の両端部に
外部電極52a,52bが配設された構造を有するセラ
ミック電子部品を製造する場合、セラミック素子51に
外部電極52a,52bを形成する方法としては、通
常、セラミック素子に電極ペーストを塗布して、電極ペ
ーストを硬化させたり、焼き付けたりする方法が一般的
に用いられている。2. Description of the Related Art For example, as shown in FIG. 8, when manufacturing a ceramic electronic component having a structure in which external electrodes 52a and 52b are provided at both ends of a ceramic element 51, As a method of forming the external electrodes 52a and 52b on the ceramic element 51, generally, a method of applying an electrode paste to the ceramic element and curing or baking the electrode paste is generally used.
【0003】この方法は、例えば、図9(a)に示すよう
に、定盤60上に、Ag粉末などの金属粉末を導電成分
とする電極ペースト62を所定の厚みとなるように塗布
し、図9(b)に示すように、セラミック素子51を、そ
の一方の端部(端面)51aを電極ペースト62に浸漬
した後、図9(c)に示すように、セラミック素子51を
電極ペースト62から引き上げ、セラミック素子1の他
方の端部(端面)51bにも電極ペースト62を塗布し
た後(図示せず)、電極ペーストを熱硬化させたり、焼
き付けたりすることにより、外部電極52a,52bを
形成するものである。In this method, for example, as shown in FIG. 9A, an electrode paste 62 having a metal powder such as Ag powder as a conductive component is applied on a surface plate 60 so as to have a predetermined thickness. As shown in FIG. 9B, after one end (end face) 51a of the ceramic element 51 is immersed in the electrode paste 62, as shown in FIG. Then, after the electrode paste 62 is applied to the other end (end face) 51b of the ceramic element 1 (not shown), the external electrodes 52a and 52b are cured by heating or baking the electrode paste. To form.
【0004】しかし、上記従来の方法では、セラミック
素子51の端部(端面)51a,51bに、均一な厚み
で電極ペーストを塗布することは困難であり、塗膜の厚
みを薄くすると、セラミック素子51の端面51a,5
1bの稜部に電極ペーストの塗膜が形成されない部分が
生じ、また、塗膜の厚みを厚くすると、セラミック素子
51の端面51a,51bの中央部では塗膜の厚みが大
きくなるという問題点がある。However, it is difficult to apply the electrode paste to the end portions (end surfaces) 51a and 51b of the ceramic element 51 with a uniform thickness by the above-mentioned conventional method. 51 end faces 51a, 5
There is a problem that a portion where the coating film of the electrode paste is not formed is formed on the ridge of 1b, and when the thickness of the coating film is increased, the thickness of the coating film becomes large at the center of the end faces 51a and 51b of the ceramic element 51. is there.
【0005】そして、上述のように、電極ペーストを均
一な膜厚で塗布することができない場合、寸法精度の高
いセラミック電子部品を製造することができず、高密度
実装が困難になったり、実装信頼性が低下したりすると
いう問題点がある。なお、セラミック電子部品の寸法が
大きくなると、その傾向がより強くなる。[0005] As described above, when the electrode paste cannot be applied in a uniform film thickness, ceramic electronic components with high dimensional accuracy cannot be manufactured, and high-density mounting becomes difficult or the mounting becomes difficult. There is a problem that reliability is reduced. In addition, as the size of the ceramic electronic component increases, the tendency becomes stronger.
【0006】また、上記従来の方法では、セラミック素
子に十分に電極ペーストを付着させようとすると、セラ
ミック素子の同一箇所を、複数回繰り返して電極ペース
トに浸漬することが必要になる場合があり、生産性向上
の妨げになるという問題点がある。Further, in the above-mentioned conventional method, in order to sufficiently adhere the electrode paste to the ceramic element, it may be necessary to repeatedly immerse the same portion of the ceramic element in the electrode paste a plurality of times. There is a problem that productivity improvement is hindered.
【0007】本発明は、上記問題点を解決するものであ
り、セラミック素子に、電極ペーストを均一な膜厚で、
効率よく塗布することが可能な、セラミック電子部品の
製造方法を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has an electrode paste having a uniform thickness on a ceramic element.
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a ceramic electronic component that can be applied efficiently.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のセラミック電子部品は、セラミック素子の
表面に電極が配設された構造を有するセラミック電子部
品の製造方法であって、溝が形成されたローラの外周面
に、電極形成用の電極ペーストを所定の厚みで付着さ
せ、セラミック素子をローラの外周面の電極ペーストに
接触させながらローラを回転させるとともに、セラミッ
ク素子をローラの周速度に対応する速度で、ローラの回
転方向に対応する方向に移動させることにより、セラミ
ック素子の表面に所定の厚みで電極ペーストを付与する
工程を具備することを特徴としている。In order to achieve the above object, a ceramic electronic component according to the present invention is a method for manufacturing a ceramic electronic component having a structure in which electrodes are provided on the surface of a ceramic element, comprising: An electrode paste for forming an electrode is adhered to the outer peripheral surface of the roller with a predetermined thickness, and the roller is rotated while the ceramic element is in contact with the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller. The method includes a step of applying an electrode paste with a predetermined thickness to the surface of the ceramic element by moving the roller at a speed corresponding to the speed in a direction corresponding to the rotation direction of the roller.
【0009】溝が形成されたローラの外周面に、電極ペ
ーストを所定の厚みで付着させ、セラミック素子をロー
ラの外周面の電極ペーストに接触させながらローラを回
転させるとともに、セラミック素子をローラの周速度に
対応する速度で、ローラの回転方向に対応する方向に移
動させることにより、セラミック素子の表面に、電極ペ
ーストを均一な厚みで、しかも速やかに塗布することが
可能になり、該電極ペーストを熱硬化させたり、焼き付
けたりすることにより、外部電極を備えた、寸法精度の
高いセラミック電子部品を効率よく製造することが可能
になる。The electrode paste is adhered to the outer peripheral surface of the grooved roller at a predetermined thickness. The roller is rotated while the ceramic element is in contact with the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller. By moving in a direction corresponding to the rotation direction of the roller at a speed corresponding to the speed, it becomes possible to apply the electrode paste to the surface of the ceramic element with a uniform thickness and quickly, and to apply the electrode paste. By thermosetting or baking, it is possible to efficiently manufacture a ceramic electronic component having external electrodes and high dimensional accuracy.
【0010】すなわち、セラミック素子をローラの周速
度に対応する速度で、ローラの回転方向に対応する方向
に移動させながらセラミック素子に電極ペーストを塗布
するようにしているので、電極ペーストを効率よくセラ
ミック素子に付与することが可能になり、生産性の向上
を図ることが可能になる。That is, the electrode paste is applied to the ceramic element while moving the ceramic element at a speed corresponding to the peripheral speed of the roller in the direction corresponding to the rotation direction of the roller. This can be applied to the element, and the productivity can be improved.
【0011】また、外周面に溝が形成されたローラを用
いており、この溝が、ローラ外周面と電極ペーストの濡
れ性に打ち勝って、セラミック素子に転移しやすくする
機能を果たすことから、セラミック素子の電極ペースト
を塗布すべき面に、電極ペーストの付与されない部分が
生じたり、塗布面の中央部では塗膜の厚みが大きく、周
辺部では厚みが小さくなるというような膜厚の不均一を
生じたりすることを防止し、電極ペーストを均一な膜厚
でセラミック素子に塗布することが可能になる。なお、
本発明において、電極ペーストとは、Ag粉末やCu粉
末、Ni粉末などを導電成分とし、これにガラスフリッ
トや有機ビヒクルを配合した導電ペーストや、導電成分
と樹脂とを配合した導電樹脂などを含む広い概念であ
る。In addition, a roller having a groove formed on the outer peripheral surface is used. The groove has a function of overcoming the wettability of the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller and the electrode paste to facilitate transfer to the ceramic element. The surface where the electrode paste of the element is to be applied may have a portion where the electrode paste is not applied, or the thickness of the coating film may be large at the center of the applied surface and small at the periphery. The electrode paste can be prevented from being generated, and the electrode paste can be applied to the ceramic element with a uniform film thickness. In addition,
In the present invention, the electrode paste includes a conductive paste in which Ag powder, Cu powder, Ni powder, or the like is used as a conductive component and glass frit or an organic vehicle is added thereto, or a conductive resin in which a conductive component and a resin are mixed. It is a broad concept.
【0012】また、請求項2のセラミック電子部品の製
造方法は、前記セラミック素子を前記電極ペーストが付
着したローラの外周面に接触させながらローラを回転さ
せるとともに、セラミック素子をローラの周速度に対応
する速度で、ローラの回転方向に対応する方向に移動さ
せることにより、セラミック素子の表面に所定の厚みで
電極ペーストを付与するようにしたことを特徴としてい
る。According to a second aspect of the present invention, in the method for manufacturing a ceramic electronic component, the ceramic element is rotated while the ceramic element is in contact with the outer peripheral surface of the roller on which the electrode paste is adhered, and the ceramic element is adapted to the peripheral speed of the roller. The electrode paste is applied at a predetermined thickness to the surface of the ceramic element by moving the roller in a direction corresponding to the rotation direction of the roller at a predetermined speed.
【0013】セラミック素子を、電極ペーストが付着し
たローラの外周面に接触させながらローラの回転ととも
に移動させることにより、ローラの外周面の電極ペース
トを、安定してセラミック素子の表面に付与することが
可能になる。[0013] By moving the ceramic element with the rotation of the roller while making contact with the outer peripheral surface of the roller to which the electrode paste is attached, it is possible to stably apply the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller to the surface of the ceramic element. Will be possible.
【0014】また、請求項3のセラミック電子部品の製
造方法は、前記ローラの外周面に形成された溝が、(a)
ローラの周方向に平行に形成された複数の溝(b)ローラ
の軸方向に平行に形成された複数の溝、及び、(c)ロー
ラの周方向に平行な複数の溝と、軸方向に平行な複数の
溝からなる格子状の溝のいずれか一種であることを特徴
としている。According to a third aspect of the present invention, in the method for manufacturing a ceramic electronic component, the groove formed on the outer peripheral surface of the roller may include:
(B) a plurality of grooves formed in parallel with the axial direction of the roller, and (c) a plurality of grooves formed in parallel with the circumferential direction of the roller. It is characterized by being one kind of a lattice-shaped groove composed of a plurality of parallel grooves.
【0015】ローラとして、その外周面に、上記の
(a),(b)及び(c)のいずれかの溝が形成されたローラ
を用いることにより、電極ペーストを、確実にローラの
外周面に所定の厚みで保持させることが可能になり、均
一な厚みでセラミック素子に塗布して本発明を実効あら
しめることができる。As the roller, on the outer peripheral surface thereof,
By using a roller in which any one of the grooves (a), (b) and (c) is formed, the electrode paste can be reliably held at a predetermined thickness on the outer peripheral surface of the roller, and the uniformity can be obtained. The present invention can be effectively applied to a ceramic element with a suitable thickness.
【0016】また、請求項4のセラミック電子部品の製
造方法は、前記セラミック素子をローラの外周面の電極
ペーストに接触させながら、ローラを回転させるととも
に、セラミック素子をローラの周速度と略同一速度で、
ローラの回転方向に対応する接線方向に移動させること
により、セラミック素子の表面に所定の厚みで電極ペー
ストを付与するようにしたことを特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a ceramic electronic component, the roller is rotated while the ceramic element is in contact with the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller, and the ceramic element is rotated at substantially the same speed as the peripheral speed of the roller. so,
An electrode paste having a predetermined thickness is applied to the surface of the ceramic element by moving the roller in a tangential direction corresponding to the rotation direction of the roller.
【0017】ローラを回転させるとともに、セラミック
素子をローラの周速度と略同一速度で、ローラの回転方
向に対応する接線方向に移動させることにより、ローラ
の外周面の電極ペーストを、より確実に、しかも均一に
セラミック素子に付着させる(塗布する)ことが可能に
なり、本発明をさらに実効あらしめることができる。By rotating the roller and moving the ceramic element at a speed substantially equal to the peripheral speed of the roller in a tangential direction corresponding to the rotational direction of the roller, the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller can be more reliably removed. In addition, it is possible to uniformly adhere (apply) the ceramic element to the ceramic element, and the present invention can be further made effective.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を示し
てその特徴とするところをさらに詳しく説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be shown and features thereof will be described in more detail.
【0019】図1は、本発明の一実施形態にかかるセラ
ミック電子部品の製造方法の一工程において、セラミッ
ク素子に電極ペーストを塗布している状態を示す図、図
2はローラの外周面に形成された溝の配設パターンを示
す図、図3は溝の断面形状を示す図である。FIG. 1 is a view showing a state in which an electrode paste is applied to a ceramic element in one step of a method of manufacturing a ceramic electronic component according to an embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a diagram showing an arrangement pattern of grooves formed, and FIG. 3 is a diagram showing a cross-sectional shape of the grooves.
【0020】なお、この実施形態では、図4に示すよう
に、セラミック層4を介して内部電極2が互いに対向す
るように配設され、交互に異なる側の端面に引き出され
た構造を有するセラミック素子1の両端部に、内部電極
2と導通するように一対の外部電極3a,3bを配設し
てなる積層セラミックコンデンサを製造する場合を例に
とって説明する。In this embodiment, as shown in FIG. 4, a ceramic having a structure in which the internal electrodes 2 are disposed so as to face each other via a ceramic layer 4 and are alternately drawn to end faces on different sides. A case of manufacturing a multilayer ceramic capacitor in which a pair of external electrodes 3a and 3b are arranged at both ends of the element 1 so as to be electrically connected to the internal electrode 2 will be described as an example.
【0021】この実施形態では、セラミック素子1に電
極ペースト3を塗布するための装置として、外周面に格
子状の溝12(図2,図3)を形成したローラ11と、
ローラ11の外周面11aに付着した電極ペースト3の
厚みを均一にするためのスクレーパ13(図1)と、電
極ペースト3を溜めるペースト浴14(図1)とを備え
た塗布装置が用いられている。なお、この塗布装置は、
図示は省略しているが、その他にも、ローラ11を回転
させるためのローラ駆動機構、セラミック素子1を保持
する保持機構及び該保持機構を移動させることによりセ
ラミック素子1を移動させる移動機構などを備えてい
る。In this embodiment, as a device for applying the electrode paste 3 to the ceramic element 1, a roller 11 having a lattice-like groove 12 (FIGS. 2 and 3) formed on the outer peripheral surface is provided.
A coating apparatus including a scraper 13 (FIG. 1) for uniformizing the thickness of the electrode paste 3 attached to the outer peripheral surface 11a of the roller 11 and a paste bath 14 (FIG. 1) for storing the electrode paste 3 is used. I have. In addition, this coating device
Although not shown, a roller driving mechanism for rotating the roller 11, a holding mechanism for holding the ceramic element 1, a moving mechanism for moving the ceramic element 1 by moving the holding mechanism, and the like are also illustrated. Have.
【0022】なお、ローラ11の外周面11aには、図
2に示すように、ローラ11の周方向に平行な溝12a
と、軸方向に平行な溝12bからなる格子状のパターン
の溝12が形成されている。また、ローラ11の外周面
11aに形成された溝12a,12bは、図3に示すよ
うに、断面V字状で、幅Wが0.4mm、角度θが60゜
とされている。The outer peripheral surface 11a of the roller 11 has grooves 12a parallel to the circumferential direction of the roller 11, as shown in FIG.
And grooves 12 having a lattice pattern formed of grooves 12b parallel to the axial direction. As shown in FIG. 3, the grooves 12a and 12b formed on the outer peripheral surface 11a of the roller 11 have a V-shaped cross section, a width W of 0.4 mm, and an angle θ of 60 °.
【0023】上述のように、溝12の形状をV字状とし
たのは、電極ペースト3が抜けやすいことを考慮したも
のである。なお、上記の溝12a,12bは、旋盤加工
などの機械加工により容易に形成することができる。な
お、その他の方法で形成することも可能である。As described above, the shape of the groove 12 is V-shaped in consideration of the fact that the electrode paste 3 is easily removed. The grooves 12a and 12b can be easily formed by machining such as lathing. In addition, it can also be formed by other methods.
【0024】また、溝12の形状を決定するにあたって
は、セラミック素子1の端面1a,1bへの電極ペース
ト3の塗布厚(膜厚)Tや、塗布面積の大きさ、塗布形
状などを考慮して決定することが望ましい。In determining the shape of the groove 12, the thickness (film thickness) T of application of the electrode paste 3 to the end faces 1a and 1b of the ceramic element 1, the size of the application area, the application shape, and the like are taken into consideration. It is desirable to determine
【0025】また、ローラ11の構成材料としては、電
極ペースト3との相性(親和性)に優れた、金属や樹脂
などを用いることが望ましい。As a constituent material of the roller 11, it is desirable to use a metal, a resin, or the like, which has excellent compatibility (affinity) with the electrode paste 3.
【0026】次に、上記塗布装置を用いて、セラミック
素子に電極ペーストを塗布する方法について説明する。 まず、ローラ11を回転させながら、ローラ11の外
周面11aに電極ペースト3を供給し、スクレーパ13
により、一定の膜厚T1とする。なお、ここでの膜厚T
1は、セラミック素子1の端面1a,1bと隣接する側
面への折り返し部の寸法Eには影響を与えるが、セラミ
ック素子1の端面1a,1bに塗布される膜厚Tにはあ
まり影響を与えない。Next, a method for applying an electrode paste to a ceramic element by using the above-described coating apparatus will be described. First, while rotating the roller 11, the electrode paste 3 is supplied to the outer peripheral surface 11a of the roller 11, and the scraper 13 is supplied.
As a result, a constant film thickness T1 is obtained. Here, the film thickness T
1 affects the dimension E of the folded portion to the side surface adjacent to the end faces 1a and 1b of the ceramic element 1, but has a small influence on the film thickness T applied to the end faces 1a and 1b of the ceramic element 1. Absent.
【0027】それから、セラミック素子1の電極を形
成すべき端面1aを、ローラ11の外周面11aには接
触しないような態様で、ローラ11の外周面11aに形
成された電極ペースト3に接触させながら、ローラ11
を所定の速度で回転させるとともに、セラミック素子1
をローラ11の周速度とほぼ同一の速度で、ローラ11
の回転方向に対応する接線方向(矢印Aの方向)に移動
させることにより、セラミック素子1の端面1aに電極
ペースト3を塗布する。なお、請求項4の「ローラの回
転方向に対応する接線方向に移動させる」とは、上述の
ように、ローラ11の回転方向に沿って、そのまま接線
方向(矢印Aの方向)に直線的にセラミック素子1を移
動させることを意味する概念である。Then, the end surface 1a of the ceramic element 1 on which the electrode is to be formed is brought into contact with the electrode paste 3 formed on the outer peripheral surface 11a of the roller 11 in such a manner as not to contact the outer peripheral surface 11a of the roller 11. , Roller 11
Is rotated at a predetermined speed, and the ceramic element 1 is rotated.
At approximately the same speed as the peripheral speed of the roller 11
The electrode paste 3 is applied to the end face 1a of the ceramic element 1 by moving the electrode paste 3 in the tangential direction (the direction of arrow A) corresponding to the rotation direction of. The "moving in the tangential direction corresponding to the rotation direction of the roller" in claim 4 means that, as described above, the linear movement is performed in the tangential direction (the direction of arrow A) along the rotation direction of the roller 11 as it is. This is a concept meaning that the ceramic element 1 is moved.
【0028】なお、セラミック素子に電極ペーストを塗
布するにあたっては、同一のローラを用いて、上記及
びの動作を複数回繰り返してもよく、また、複数のロ
ーラを用い、各ローラに異なる厚みとなるように電極ペ
ーストを付着させておいて、各ローラを用いて複数回繰
り返して電極ペーストをセラミック素子に塗布するよう
に構成することも可能である。In applying the electrode paste to the ceramic element, the above operation may be repeated a plurality of times using the same roller, or a plurality of rollers may be used, each of which has a different thickness. In this way, it is also possible to apply a configuration in which the electrode paste is repeatedly applied a plurality of times using the respective rollers, and the electrode paste is applied to the ceramic element.
【0029】それから、特に図示しないが、セラミッ
ク素子1を反転させ、上記と同様の方法で、逆側の端面
1bにも電極ペーストを塗布する。なお、セラミック素
子の端面に繰り返して複数回電極ペーストを塗布する場
合においては、同じ端面に繰り返して塗布するようにし
てもよく、また、交互に異なる端面側に電極ペーストを
塗布するようにしてもよい。Then, although not particularly shown, the ceramic element 1 is inverted, and an electrode paste is applied to the opposite end face 1b in the same manner as described above. When the electrode paste is repeatedly applied to the end face of the ceramic element a plurality of times, the electrode paste may be repeatedly applied to the same end face, or the electrode paste may be applied alternately to different end faces. Good.
【0030】上述のように、格子状に溝12が形成され
たローラ11の外周面11aに電極ペースト3を付着さ
せ、セラミック素子1の電極を、ローラ11の外周面1
1aの電極ペースト3に接触させながらローラ11を回
転させるとともに、セラミック素子1をローラ11の周
速度とほぼ同一の速度で、ローラ11の回転方向に対応
する接線方向に移動させて、電極ペーストをセラミック
素子の表面に付与するようにしているので、電極ペース
トを均一な厚みで、しかも多数のセラミック素子の表面
に連続的に速やかに塗布することが可能になり、該電極
ペーストを熱硬化させたり、焼き付けたりすることによ
り、表面に電極を備えた、寸法精度の高いセラミック電
子部品を効率よく製造することが可能になる。As described above, the electrode paste 3 is applied to the outer peripheral surface 11a of the roller 11 in which the grooves 12 are formed in a lattice shape, and the electrodes of the ceramic element 1 are attached to the outer peripheral surface 1 of the roller 11.
The roller 11 is rotated while being in contact with the electrode paste 3a, and the ceramic element 1 is moved in a tangential direction corresponding to the rotation direction of the roller 11 at substantially the same speed as the peripheral speed of the roller 11 to remove the electrode paste. Since the electrode paste is applied to the surface of the ceramic element, it is possible to apply the electrode paste in a uniform thickness and continuously to the surface of a large number of ceramic elements continuously and quickly. By baking, it is possible to efficiently manufacture a ceramic electronic component having electrodes on the surface and having high dimensional accuracy.
【0031】また、従来のようにセラミック素子の端部
を電極ペーストに浸漬して引き上げるという方法をとら
ないので、端面から側面への溢れ出しを大幅に低減する
ことができる。なお、ローラへの塗布厚などを調整する
ことにより、電極ペーストを端面側から側面側に回り込
ませるようにすることも可能である。また、上記実施形
態では、ローラ11の外周面11aに、格子状の溝12
を形成した場合について説明したが、図5(a)に示すよ
うに、周方向に平行な複数の溝12aのみが形成された
ローラ11や、図5(b)に示すように、軸方向に平行な
複数の溝12bのみが形成されたローラ11を用いるこ
とも可能である。Since the end of the ceramic element is not immersed in the electrode paste and pulled up as in the prior art, overflow from the end face to the side face can be greatly reduced. It is also possible to make the electrode paste wrap around from the end face side to the side face side by adjusting the thickness of the coating on the roller. In the above embodiment, the outer peripheral surface 11a of the roller 11 has
5 (a), the roller 11 in which only a plurality of grooves 12a parallel to the circumferential direction are formed, as shown in FIG. 5 (a), or the roller 11 in the axial direction as shown in FIG. 5 (b). It is also possible to use a roller 11 in which only a plurality of parallel grooves 12b are formed.
【0032】しかし、外周面11aに溝が形成されてい
ないローラを用いた場合、付着する電極ペーストの転移
が不安定となり、電極ペーストをセラミック素子に均一
に塗布することが困難で、電極ペーストを塗布した後
に、平滑性を向上させるための工程が必要となることが
ある。However, when a roller having no groove formed on the outer peripheral surface 11a is used, the transfer of the electrode paste to be attached becomes unstable, and it is difficult to uniformly apply the electrode paste to the ceramic element. After coating, a step for improving smoothness may be required.
【0033】また、図6(a)に示すように、ローラ11
の軸方向に対して約45゜の角度を持つ斜めの溝12c
を形成したり、図6(b)に示すように、ローラ11の軸
方向に対して約45度の角度を持ち、互いに直交する溝
12c,12dを形成して格子状としたりした場合に
も、電極ペーストをセラミック素子に均一に塗布するこ
とが困難で、電極ペーストを塗布した後に、平滑性を向
上させるための工程が必要となる。Further, as shown in FIG.
Groove 12c having an angle of about 45 ° with respect to the axial direction
6B, or as shown in FIG. 6B, when the grooves 12c and 12d are formed at an angle of about 45 degrees with respect to the axial direction of the roller 11 and are orthogonal to each other to form a lattice shape. However, it is difficult to uniformly apply the electrode paste to the ceramic element, and a step for improving the smoothness after applying the electrode paste is required.
【0034】なお、上記実施形態(図1)では、セラミ
ック素子の下端面に電極ペーストを塗布するようにした
場合について説明したが、例えば、図7に示すように、
セラミック素子1の向きを変えて、電極ペースト3を塗
布すべき面(図7では1a)が上端面となるように構成
することも可能である。In the above embodiment (FIG. 1), the case where the electrode paste is applied to the lower end face of the ceramic element has been described. For example, as shown in FIG.
It is also possible to change the direction of the ceramic element 1 so that the surface on which the electrode paste 3 is to be applied (1a in FIG. 7) is the upper end surface.
【0035】また、上記実施形態では、セラミック素子
1の端面1a,1bが、ローラ11の外周面11aには
接触せず、電極ペースト3にのみ接触するようにしてい
るが、セラミック素子1の端面1a,1bが、ローラ1
1の外周面11aに接触するように構成することも可能
である。その場合、セラミック素子1とローラ11の位
置関係が一定になる(間隔が常に0となる)ことから、
安定した塗布操作を行うことが可能になる。In the above embodiment, the end faces 1a and 1b of the ceramic element 1 do not contact the outer peripheral face 11a of the roller 11 but only contact the electrode paste 3. 1a and 1b are rollers 1
It is also possible to configure so as to come into contact with the outer peripheral surface 11a. In this case, since the positional relationship between the ceramic element 1 and the roller 11 becomes constant (the interval is always 0),
A stable coating operation can be performed.
【0036】また、上記実施形態においては、積層セラ
ミックコンデンサを例にとって説明したが、本発明は、
積層セラミックコンデンサに限らず、板状コンデンサ、
積層バリスタ、LC複合部品、多層基板などの種々のセ
ラミック電子部品に適用することが可能である。In the above embodiment, the multilayer ceramic capacitor has been described as an example.
Not only multilayer ceramic capacitors but also plate capacitors,
The present invention can be applied to various ceramic electronic components such as a multilayer varistor, an LC composite component, and a multilayer substrate.
【0037】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではなく、ローラの具体的な構成(ローラの直
径、溝の具体的な形状や配設態様)、電極ペーストの種
類、ローラの回転速度、セラミック素子の具体的な形
状、電極ペーストの塗布位置や塗布厚みなどに関し、発
明の要旨の範囲内において、種々の応用、変形を加える
ことが可能である。The present invention is not limited to the above embodiment, but includes the specific configuration of the roller (the diameter of the roller, the specific shape and arrangement of the groove), the type of electrode paste, and the type of the roller. Regarding the rotation speed, the specific shape of the ceramic element, the application position and the application thickness of the electrode paste, various applications and modifications can be made within the scope of the invention.
【0038】[0038]
【発明の効果】上述のように、本発明(請求項1)のセ
ラミック電子部品の製造方法は、溝が形成されたローラ
の外周面に、電極ペーストを所定の厚みで付着させ、セ
ラミック素子をローラの外周面の電極ペーストに接触さ
せながらローラを回転させるとともに、セラミック素子
をローラの周速度に対応する速度で、ローラの回転方向
に対応する方向に移動させるようにしているので、電極
ペーストをセラミック素子に速やかに塗布することが可
能になるとともに、セラミック素子の表面に電極ペース
トを塗布した場合における、塗布厚や形状のばらつきを
抑制することが可能になる。また、端面から側面への電
極ペーストの回り込みを抑制することができるようにな
る。したがって、表面に平滑性に優れた電極を有し、寸
法精度の高いセラミック電子部品を効率よく製造するこ
とが可能になる。As described above, according to the method for manufacturing a ceramic electronic component of the present invention (claim 1), the electrode paste is adhered to the outer peripheral surface of the grooved roller at a predetermined thickness, and the ceramic element is mounted. The roller is rotated while being in contact with the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller, and the ceramic element is moved in a direction corresponding to the rotation direction of the roller at a speed corresponding to the peripheral speed of the roller. It is possible to quickly apply the paste to the ceramic element, and it is possible to suppress variations in the applied thickness and shape when the electrode paste is applied to the surface of the ceramic element. Further, it is possible to suppress the electrode paste from flowing from the end face to the side face. Therefore, it is possible to efficiently manufacture a ceramic electronic component having electrodes having excellent smoothness on the surface and high dimensional accuracy.
【0039】また、請求項2のセラミック電子部品の製
造方法のように、セラミック素子を、電極ペーストが付
着したローラの外周面に接触させながらローラを回転さ
せることにより、セラミック素子1とローラ11の位置
関係が一定になる(間隔が常に0となる)ことから、安
定した塗布操作を行うことが可能になる。Further, as in the method for manufacturing a ceramic electronic component according to the second aspect, the roller is rotated while the ceramic element is in contact with the outer peripheral surface of the roller to which the electrode paste is adhered, thereby forming the ceramic element 1 and the roller 11. Since the positional relationship is constant (the interval is always 0), a stable application operation can be performed.
【0040】また、請求項3のセラミック電子部品の製
造方法のように、ローラとして、(a)ローラの周方向に
平行に形成された複数の溝、(b)ローラの軸方向に平行
に形成された複数の溝、(c)ローラの周方向に平行な複
数の溝と、軸方向に平行な複数の溝からなる格子状の溝
のいずれか一種がその外周面に形成されたローラを用い
ることにより、さらに確実に形状精度や厚みの均一性に
優れた外部電極を効率よく形成することが可能になる。Further, as in the method for manufacturing a ceramic electronic component according to the third aspect, as the roller, (a) a plurality of grooves formed parallel to the circumferential direction of the roller, and (b) a plurality of grooves formed parallel to the axial direction of the roller. A plurality of grooves formed, (c) a roller in which any one of a plurality of grooves parallel to the circumferential direction of the roller and a plurality of grooves in the form of a lattice formed of a plurality of grooves parallel to the axial direction is formed on the outer peripheral surface thereof. This makes it possible to more efficiently form an external electrode having excellent shape accuracy and thickness uniformity more reliably.
【0041】また、請求項4のセラミック電子部品の製
造方法のように、ローラを回転させるとともに、セラミ
ック素子をローラの周速度と略同一速度で、ローラの回
転方向に対応する接線方向に移動させるようにした場
合、ローラの外周面の電極ペーストを、より確実に、し
かも均一にセラミック素子に付着させる(塗布する)こ
とが可能になり、本発明をさらに実効あらしめることが
できる。Further, as in the method for manufacturing a ceramic electronic component according to the fourth aspect, the roller is rotated and the ceramic element is moved at a speed substantially equal to the peripheral speed of the roller in a tangential direction corresponding to the rotation direction of the roller. In this case, the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller can be more securely and evenly adhered (applied) to the ceramic element, and the present invention can be further effectively demonstrated.
【図1】本発明の一実施形態にかかるセラミック電子部
品の製造方法の一工程において、セラミック素子に電極
ペーストを塗布している状態を示す図である。FIG. 1 is a view showing a state in which an electrode paste is applied to a ceramic element in one step of a method for manufacturing a ceramic electronic component according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施形態にかかるセラミック電子部
品の製造方法の一工程で用いたローラの、外周面に形成
された溝の配設パターンを示す図である。FIG. 2 is a view showing an arrangement pattern of grooves formed on an outer peripheral surface of a roller used in one step of a method for manufacturing a ceramic electronic component according to an embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施形態にかかるセラミック電子部
品の製造方法の一工程で用いたローラの、外周面に形成
された溝の断面形状を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a cross-sectional shape of a groove formed on an outer peripheral surface of a roller used in one step of a method for manufacturing a ceramic electronic component according to an embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施形態にかかる製造方法により製
造されたセラミック電子部品(積層セラミック電子部
品)を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a ceramic electronic component (multilayer ceramic electronic component) manufactured by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
【図5】(a)及び(b)は、本発明のセラミック電子部品
の製造方法において用いることが可能なローラの変形例
を示す図である。FIGS. 5A and 5B are views showing a modified example of a roller that can be used in the method for manufacturing a ceramic electronic component of the present invention.
【図6】(a),(b)は、いずれもローラの外周面への溝
の形成態様の好ましくない例を示す図である。6 (a) and 6 (b) are diagrams each showing an unfavorable example of a mode of forming a groove on the outer peripheral surface of a roller.
【図7】本発明の一実施形態にかかるセラミック電子部
品の製造方法の変形例を示す図である。FIG. 7 is a view showing a modification of the method for manufacturing a ceramic electronic component according to one embodiment of the present invention.
【図8】従来の方法により製造されたセラミック電子部
品を示す図である。FIG. 8 is a view showing a ceramic electronic component manufactured by a conventional method.
【図9】(a),(b),(c)は、従来のセラミック素子へ
の外部電極の形成方法を示す図である。FIGS. 9A, 9B and 9C are views showing a conventional method of forming an external electrode on a ceramic element.
1 セラミック素子 1a,1b セラミック素子の端面 2 内部電極 3 電極ペースト 3a,3b 外部電極 4 セラミック層 11 ローラ 11a ローラの外周面 12 溝 12a ローラの周方向に平行な溝 12b ローラの軸方向に平行な溝 13 スクレーパ 14 ペースト浴 T セラミック素子への電極ペーストの
塗布厚(膜厚) T1 ローラの外周面の電極ペーストの膜
厚DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic element 1a, 1b End face of ceramic element 2 Internal electrode 3 Electrode paste 3a, 3b External electrode 4 Ceramic layer 11 Roller 11a Outer peripheral surface of roller 12 Groove 12a Groove parallel to the circumferential direction of roller 12b Groove parallel to the axial direction of roller Groove 13 Scraper 14 Paste bath T Thickness (film thickness) of electrode paste applied to ceramic element T1 Film thickness of electrode paste on outer peripheral surface of roller
Claims (4)
構造を有するセラミック電子部品の製造方法であって、 溝が形成されたローラの外周面に、電極形成用の電極ペ
ーストを所定の厚みで付着させ、セラミック素子をロー
ラの外周面の電極ペーストに接触させながらローラを回
転させるとともに、セラミック素子をローラの周速度に
対応する速度で、ローラの回転方向に対応する方向に移
動させることにより、セラミック素子の表面に所定の厚
みで電極ペーストを付与する工程を具備することを特徴
とするセラミック電子部品の製造方法。1. A method for manufacturing a ceramic electronic component having a structure in which electrodes are provided on a surface of a ceramic element, wherein an electrode paste for forming an electrode is coated on a peripheral surface of a roller having a groove with a predetermined thickness. By rotating the roller while contacting the ceramic element with the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller, and moving the ceramic element at a speed corresponding to the peripheral speed of the roller in a direction corresponding to the rotation direction of the roller. Applying a predetermined thickness of electrode paste to the surface of the ceramic element.
付着したローラの外周面に接触させながらローラを回転
させるとともに、セラミック素子をローラの周速度に対
応する速度で、ローラの回転方向に対応する方向に移動
させることにより、セラミック素子の表面に所定の厚み
で電極ペーストを付与するようにしたことを特徴とする
請求項1記載のセラミック電子部品の製造方法。2. The method according to claim 1, further comprising: rotating the roller while bringing the ceramic element into contact with the outer peripheral surface of the roller on which the electrode paste is adhered; and moving the ceramic element at a speed corresponding to the peripheral speed of the roller, in a direction corresponding to the rotation direction of the roller. 2. The method for manufacturing a ceramic electronic component according to claim 1, wherein the electrode paste is applied with a predetermined thickness to the surface of the ceramic element by moving the electrode paste.
び、 (c)ローラの周方向に平行な複数の溝と、軸方向に平行
な複数の溝からなる格子状の溝 のいずれか一種であることを特徴とする請求項1又は2
記載のセラミック電子部品の製造方法。3. A groove formed on the outer peripheral surface of the roller includes: (a) a plurality of grooves formed in parallel with the circumferential direction of the roller; (b) a plurality of grooves formed in parallel with the axial direction of the roller; And (c) one of a plurality of grooves parallel to the circumferential direction of the roller and a plurality of grooves parallel to the axial direction.
The manufacturing method of the ceramic electronic component described in the above.
極ペーストに接触させながら、ローラを回転させるとと
もに、セラミック素子をローラの周速度と略同一速度
で、ローラの回転方向に対応する接線方向に移動させる
ことにより、セラミック素子の表面に所定の厚みで電極
ペーストを付与するようにしたことを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載のセラミック電子部品の製造方
法。4. The roller is rotated while contacting the ceramic element with the electrode paste on the outer peripheral surface of the roller, and the ceramic element is moved at substantially the same speed as the peripheral speed of the roller in a tangential direction corresponding to the rotation direction of the roller. The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the electrode paste is applied to the surface of the ceramic element with a predetermined thickness by moving the ceramic paste.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11125884A JP2000315623A (en) | 1999-05-06 | 1999-05-06 | Manufacture of ceramic electronic parts |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11125884A JP2000315623A (en) | 1999-05-06 | 1999-05-06 | Manufacture of ceramic electronic parts |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2000315623A true JP2000315623A (en) | 2000-11-14 |
Family
ID=14921318
Family Applications (1)
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JP11125884A Pending JP2000315623A (en) | 1999-05-06 | 1999-05-06 | Manufacture of ceramic electronic parts |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2000315623A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6827783B2 (en) | 2001-11-19 | 2004-12-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Paste application apparatus and method for applying paste |
-
1999
- 1999-05-06 JP JP11125884A patent/JP2000315623A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6827783B2 (en) | 2001-11-19 | 2004-12-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Paste application apparatus and method for applying paste |
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