JP2000306960A - Frame for semiconductor device - Google Patents

Frame for semiconductor device

Info

Publication number
JP2000306960A
JP2000306960A JP11451599A JP11451599A JP2000306960A JP 2000306960 A JP2000306960 A JP 2000306960A JP 11451599 A JP11451599 A JP 11451599A JP 11451599 A JP11451599 A JP 11451599A JP 2000306960 A JP2000306960 A JP 2000306960A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frame
semiconductor device
resin
wiring pattern
metal pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11451599A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taketoshi Kano
武敏 鹿野
Tadao Izumi
直生 和泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP11451599A priority Critical patent/JP2000306960A/en
Publication of JP2000306960A publication Critical patent/JP2000306960A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent warping or deforming of a frame in the assembly process of an IC, by equipping it with a circuit part consisting of a wiring pattern for electrically connecting an IC chip mounted on itself, and a metallic pattern arranged at each side of the peripheral section of the frame for a semiconductor device. SOLUTION: A circuit part consisting of a wiring pattern 3 to be electrically connected with an IC chip is arranged on base material 2 consisting of resin such as glass epoxy, polyimide, or the like constituting the resinous frame 1 for a semiconductor device. The circuit part of this wiring pattern 3 consists of metal such as Cu, Ni, Au, or the like, or its alloy, and the thickness is 20-50 μm. Moreover, a metallic pattern 4 consisting of the same material as the wiring pattern 3 is arranged at the margin of one side of the base material 2 constituting the resinous frame 1. Hereby, the metallic pattern 4 can raise the entire heat conductivity of the resinous frame 1, and it can prevent the transformation of the resinous frame 1 caused by partial heating.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えばBGA
(Ball Grid Array )やCSP(Chip Scale Package)
等のエリアアレイ型半導体パッケージに用いられる半導
体装置用フレームに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
(Ball Grid Array) and CSP (Chip Scale Package)
The present invention relates to a semiconductor device frame used for an area array type semiconductor package.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体装置の小型化および薄型化
を図るため、半導体パッケージの基板として樹脂系のフ
レームが使用されている。半導体パッケージの全高が2
mm以下のBGAやCSPに使用される樹脂系フレーム
は、従来IC組立に用いられたCuや42Alloy等
の金属系フレームとは異なり、弾性率が低いため撓み易
く、かつ線膨張係数が高いため、局所的に熱が加わると
熱応力によりフレーム全体が反るという現象が生じる。
2. Description of the Related Art In recent years, a resin-based frame has been used as a substrate of a semiconductor package in order to reduce the size and thickness of a semiconductor device. Total height of semiconductor package is 2
mm or less, resin-based frames used for BGA and CSP are different from metal-based frames such as Cu and 42Alloy which have been conventionally used for IC assembly. When heat is applied locally, a phenomenon occurs in which the entire frame is warped due to thermal stress.

【0003】図9は従来の半導体装置用の樹脂系フレー
ムを示す平面図である。図において、1は樹脂系フレー
ム、2は樹脂系フレーム1を構成するガラスエポキシや
ポリイミド等の樹脂からなる基材2、3は基材2上に配
設されたICチップと電気的に接続される配線パターン
で、Cu、NiあるいはAu等の金属あるいはその合金
により構成される。なお、樹脂系フレーム1にはICチ
ップが搭載され電気的に接続される配線パターン2等か
らなる回路部が複数個連設されている。樹脂系フレーム
1を構成する基材2は、弾性率が低いガラスエポキシや
ポリイミド等を用い、0.05〜0.3mm厚の薄板で
構成されるため、樹脂系フレーム1を片持ちした場合に
は10〜20mmの撓みを生じ、図10に示すように、
樹脂系フレーム1は変形する。このため、樹脂系フレー
ム1を用いた半導体パッケージを、従来の金属系フレー
ム対応の装置を用いて組立を行った場合、組立工程中の
熱履歴により樹脂系フレーム1には大きな反りが生じ、
搬送中にフレームが搬送レールに引っかかり変形して、
工程途中におけるワイヤ変形やインナーバンプ剥がれを
生じさせるなどの問題があった。
FIG. 9 is a plan view showing a conventional resin-based frame for a semiconductor device. In the figure, reference numeral 1 denotes a resin frame, 2 denotes a substrate 2 made of a resin such as glass epoxy or polyimide, which constitutes the resin frame 1, and 3 is electrically connected to an IC chip disposed on the substrate 2. And is made of a metal such as Cu, Ni or Au or an alloy thereof. The resin frame 1 is provided with a plurality of circuit portions including a wiring pattern 2 and the like on which an IC chip is mounted and electrically connected. The base material 2 constituting the resin frame 1 is made of a thin plate having a thickness of 0.05 to 0.3 mm using glass epoxy, polyimide, or the like having a low modulus of elasticity. Produces a deflection of 10-20 mm, as shown in FIG.
The resin frame 1 is deformed. For this reason, when a semiconductor package using the resin frame 1 is assembled using a conventional apparatus compatible with a metal frame, a large warpage occurs in the resin frame 1 due to the heat history during the assembly process.
During transportation, the frame is caught on the transportation rail and deformed,
There have been problems such as wire deformation during the process and peeling of the inner bumps.

【0004】IC組立工程中における樹脂系フレームの
反りを防止する方法として、樹脂系フレーム専用の装置
を新規に購入するあるいは従来装置を改造する、または
フレームの厚みを厚くしてフレームの剛性を向上させ
る、またはフレームの周囲に補強のためのガイドフレー
ムを装着するなどの方法が提案されている。
As a method of preventing the warpage of the resin frame during the IC assembling process, a new apparatus dedicated to the resin frame is newly purchased or the conventional apparatus is modified, or the thickness of the frame is increased to improve the rigidity of the frame. For example, a method has been proposed in which a guide frame for reinforcement is mounted around the frame.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来、IC組立工程中
における樹脂系フレームの反りを防止する方法として、
樹脂系フレーム専用の装置を新規に購入するあるいは従
来装置を改造する、またはフレームを構成する基材の厚
みを厚くしてフレームの剛性を向上させる、またはフレ
ームの周囲に補強のためのガイドフレームを装着する方
法が提案されているが、従来装置の改造や新規装置の購
入には、新たな設備投資が必要となり、製造コストを上
昇させるという問題があった。また、フレームを構成す
る基材の厚みを厚くする方法は、パッケージの小型化お
よび薄型化を阻害して、パッケージの縦構造の見直しを
必要とするなどの問題があった。また、フレームの周囲
にガイドフレームを装着する方法では、ガイドフレーム
の着脱等のため工数が増加し、生産性の低下かつ製造コ
ストの上昇を生じさせるなどの問題があった。
Conventionally, as a method of preventing warpage of a resin frame during an IC assembly process,
Purchase a new device specifically for resin-based frames, modify the existing device, or increase the thickness of the base material that makes up the frame to improve the rigidity of the frame, or install a guide frame around the frame for reinforcement. Although a mounting method has been proposed, remodeling of the conventional device or purchase of a new device requires a new capital investment and raises the manufacturing cost. In addition, the method of increasing the thickness of the base material constituting the frame has a problem in that the miniaturization and thinning of the package are hindered, and the vertical structure of the package needs to be reviewed. In addition, the method of mounting the guide frame around the frame has a problem that the number of steps is increased due to attachment / detachment of the guide frame and the like, resulting in a decrease in productivity and an increase in manufacturing cost.

【0006】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、半導体装置用フレームとして
樹脂系フレームを用いた場合においても、IC組立工程
中におけるフレームの反りや変形を防止できる半導体装
置用フレームを得ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and prevents warpage or deformation of a frame during an IC assembly process even when a resin frame is used as a semiconductor device frame. It is an object of the present invention to obtain a semiconductor device frame that can be used.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明に係わる樹脂を
基材とする半導体装置用フレームは、ICチップが搭載
され電気的に接続される配線パターンからなる回路部
と、半導体装置用フレームの周縁部の各辺に配設された
金属パターンを備えたものである。また、金属パターン
は、半導体装置用フレームの片面もしくは両面に配設さ
れるものである。また、金属パターンには、少なくとも
一箇所にスリットが設けられているものである。また、
配線パターンと金属パターンは、結線部により電気的に
接続されているものである。また、配線パターンと金属
パターンは、同一金属からなる。
According to the present invention, there is provided a semiconductor device frame using a resin as a base material according to the present invention, comprising a circuit portion having a wiring pattern on which an IC chip is mounted and electrically connected, and a peripheral portion of the semiconductor device frame. And a metal pattern provided on each side of the section. The metal pattern is provided on one side or both sides of the semiconductor device frame. Further, the metal pattern is provided with a slit in at least one place. Also,
The wiring pattern and the metal pattern are electrically connected by a connection portion. The wiring pattern and the metal pattern are made of the same metal.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、この発明の
一実施の形態である半導体装置用フレームを図について
説明する。図1は本発明の実施の形態1による半導体装
置用フレームを示す平面図、図2は図1のA−A線に沿
った断面図である。図において、1は半導体装置用の樹
脂系フレーム、2は樹脂系フレーム1を構成するガラス
エポキシやポリイミド等の樹脂からなる基材2、3は基
材2上に配設されたICチップと電気的に接続される配
線パターンで、Cu、NiあるいはAu等の金属あるい
はその合金からなる厚みが20〜50μmのパターンで
ある。なお、樹脂系フレーム1にはICチップが搭載さ
れ電気的に接続される配線パターン2等からなる回路部
が複数個連設されている。4は樹脂系フレーム1の片面
の周縁部に配線パターン3と同一素材で配設された厚み
が20〜30μmの金属パターンで、樹脂系フレーム1
の強度を向上させる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 Hereinafter, a semiconductor device frame according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a frame for a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG. In the figure, reference numeral 1 denotes a resin frame for a semiconductor device, 2 denotes a substrate made of a resin such as glass epoxy or polyimide which constitutes the resin frame 1, and 3 denotes an IC chip disposed on the substrate 2 and an electric chip. This is a wiring pattern that is electrically connected and is made of a metal such as Cu, Ni or Au or an alloy thereof and has a thickness of 20 to 50 μm. The resin frame 1 is provided with a plurality of circuit portions including a wiring pattern 2 and the like on which an IC chip is mounted and electrically connected. Reference numeral 4 denotes a metal pattern having a thickness of 20 to 30 μm, which is provided on the periphery of one surface of the resin frame 1 using the same material as the wiring pattern 3.
Improve the strength of.

【0009】本実施の形態による半導体装置用フレーム
では、樹脂系フレーム1を構成する基材2の片面の周縁
部に配線パターン3と同一素材からなる金属パターン4
を配設することにより、樹脂系フレーム1の弾性率を向
上させることができ、樹脂系フレーム1を片持ちした場
合の撓みは2〜5mm程度に低減できる。この値は従来
のCu、42Alloy等を用いた金属系フレームと同
程度の値である。さらに、金属パターン4を形成するこ
とにより、樹脂系フレーム1全体の熱伝導性が向上し、
局所的な加熱による樹脂系フレーム1の変形を防止でき
る。
In the frame for a semiconductor device according to the present embodiment, the metal pattern 4 made of the same material as the wiring pattern 3 is formed on the periphery of one side of the base material 2 constituting the resin frame 1.
By disposing the resin frame 1, the elastic modulus of the resin frame 1 can be improved, and the bending when the resin frame 1 is cantilevered can be reduced to about 2 to 5 mm. This value is about the same as that of a conventional metal frame using Cu, 42Alloy, or the like. Further, by forming the metal pattern 4, the thermal conductivity of the entire resin-based frame 1 is improved,
Deformation of the resin frame 1 due to local heating can be prevented.

【0010】本実施の形態によれば、樹脂系フレーム1
を構成する基材2の片面の周縁部に金属パターン4を配
設した樹脂系フレーム1を用いることにより、樹脂系フ
レーム1の弾性率を向上させることができると共に、樹
脂系フレーム1全体の熱伝導性が向上して局所的な加熱
による樹脂系フレーム1の変形を防止でき、IC組立工
程中のフレームの反りや変形を低減して、樹脂系フレー
ム1を用いたIC組立工程において、従来の金属系フレ
ーム対応の装置を適用できる。
According to the present embodiment, the resin frame 1
By using the resin-based frame 1 in which the metal pattern 4 is disposed on the peripheral edge of one side of the base material 2 constituting, the elastic modulus of the resin-based frame 1 can be improved and the heat of the entire resin-based frame 1 can be improved. The conductivity is improved so that deformation of the resin frame 1 due to local heating can be prevented, and the warpage and deformation of the frame during the IC assembly process can be reduced. An apparatus compatible with a metal frame can be applied.

【0011】実施の形態2.実施の形態1では、樹脂系
フレーム1を構成する基材2の片面の周縁部に金属パタ
ーン4を配設したが、図3に示すように基材2の両面の
周縁部に金属パターン4を配設することによっても同様
の効果が得られる。なお、基材2の両面に配設される金
属パターン4のサイズは同じでも異なっていてもよい。
Embodiment 2 In the first embodiment, the metal pattern 4 is disposed on the peripheral edge of one side of the base material 2 constituting the resin-based frame 1, but as shown in FIG. The same effect can be obtained by disposing. The sizes of the metal patterns 4 provided on both surfaces of the base material 2 may be the same or different.

【0012】実施の形態3.図4はこの発明の実施の形
態3を示す半導体装置用フレームの平面図、図5は図4
のB−B線に沿った断面図である。図において、5は金
属パターン4に設けられたスリットである。なお、その
他の構成は実施の形態1と同様であるので説明を省略す
る。
Embodiment 3 FIG. 4 is a plan view of a semiconductor device frame according to a third embodiment of the present invention, and FIG.
It is sectional drawing along the BB line of FIG. In the figure, reference numeral 5 denotes a slit provided in the metal pattern 4. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted.

【0013】半導体パッケージの生産性向上を目的とし
て、1フレームにおけるパッケージの取り数を増やすた
めに、フレームの長さが15cmを超える長フレーム化
およびマトリクス化が進められ、その結果、組立工程中
にフレームに対して局所的に熱が加えられることが多く
なる。例えば、樹脂系フレーム1にフレームを構成する
基材2のガラス転移温度を超える温度が加えられたと
き、実施の形態1で示す基材2の周縁部に金属パターン
4を配設した樹脂系フレーム1を用いた場合において
も、樹脂系フレーム1と金属パターン4では線膨張係数
が異なるため応力集中が起こって反りが生じ、フレーム
が冷却された後にも反り部は残存する。この現象が1フ
レーム中で複数箇所に生じることにより、図11に示す
ように、樹脂系フレーム1は複雑な形状に反り変形す
る。この問題を解消するためには、樹脂系フレーム1に
発生する熱応力を分散させる必要がある。本実施の形態
では、局所加熱により樹脂系フレーム1に発生する熱応
力の緩和を目的として、図4および図5に示すように、
樹脂系フレーム1を構成する基材2の片面の周縁部に配
設された金属パターン4にスリット5を所定の間隔で設
ける。
In order to increase the number of packages in one frame for the purpose of improving the productivity of the semiconductor package, the length of the frame is increased to more than 15 cm and the matrix is formed. As a result, during the assembly process, Heat is often applied locally to the frame. For example, when a temperature exceeding the glass transition temperature of the base material 2 constituting the frame is applied to the resin-based frame 1, the resin-based frame in which the metal pattern 4 is disposed on the periphery of the base material 2 described in the first embodiment. Even when the resin frame 1 is used, since the resin-based frame 1 and the metal pattern 4 have different linear expansion coefficients, stress concentration occurs and warpage occurs, and the warped portion remains even after the frame is cooled. When this phenomenon occurs at a plurality of locations in one frame, the resin-based frame 1 is warped and deformed into a complicated shape as shown in FIG. In order to solve this problem, it is necessary to disperse the thermal stress generated in the resin frame 1. In the present embodiment, as shown in FIGS. 4 and 5, for the purpose of relaxing thermal stress generated in the resin frame 1 due to local heating, as shown in FIGS.
Slits 5 are provided at predetermined intervals in a metal pattern 4 disposed on a peripheral edge of one surface of a base material 2 constituting the resin frame 1.

【0014】本実施の形態によれば、樹脂系フレーム1
に直接スリットを設けた場合には樹脂系フレーム1自身
の弾性率を低下させるが、樹脂系フレーム1を構成する
基材2の周縁部に配設された金属パターン4に所定の間
隔でスリット5を設けることにより、樹脂系フレーム1
自身の弾性率は低下せず、かつ局所的に加熱された場合
に金属パターン4と樹脂系フレーム1の線膨張係数の違
いにより生じる応力の集中を緩和して、樹脂系フレーム
1の変形を防止でき、1フレームにおけるパッケージの
取り数が増やされて1フレームの長さが長い樹脂系フレ
ーム1に対しても、従来の金属系フレーム対応の装置を
適用できる。
According to the present embodiment, the resin frame 1
When the slits are provided directly on the metal frame 1, the elastic modulus of the resin frame 1 itself is reduced. However, the slits 5 are formed at predetermined intervals in the metal pattern 4 disposed on the peripheral portion of the base material 2 constituting the resin frame 1. By providing the resin-based frame 1
The elastic modulus of itself does not decrease and the concentration of stress caused by the difference in linear expansion coefficient between the metal pattern 4 and the resin frame 1 when locally heated is reduced, thereby preventing the deformation of the resin frame 1. In addition, a conventional apparatus compatible with a metal-based frame can be applied to a resin-based frame 1 in which the number of packages in one frame is increased and the length of one frame is long.

【0015】実施の形態4.実施の形態3では、樹脂系
フレーム1を構成する基材2の片面の周縁部にスリット
5を有する金属パターン4を配設したが、図6および図
7に示すように基材2の両面の周縁部に配設された金属
パターン4にスリット5をもうけることによっても同様
の効果が得られる。なお、基材2の両面に配設された金
属パターン4に設けられるスリット5の位置は、図6に
示すように両面同じ位置にスリット5を設けても、図7
に示すように異なる位置およびピッチでスリット5を設
けてもよい。
Embodiment 4 In the third embodiment, the metal pattern 4 having the slit 5 is provided on the peripheral edge of one side of the base material 2 constituting the resin frame 1, but as shown in FIGS. A similar effect can be obtained by forming a slit 5 in the metal pattern 4 disposed on the peripheral portion. The positions of the slits 5 provided in the metal patterns 4 provided on both surfaces of the base material 2 are the same as those shown in FIG.
The slits 5 may be provided at different positions and pitches as shown in FIG.

【0016】実施の形態5.図8はこの発明の実施の形
態5を示す半導体装置用フレームの平面図である。図に
おいて、6は配線パターン3と金属パターン4を電気的
に短絡させる結線部である。なお、その他の構成は実施
の形態1と同様であるので説明を省略する。本実施の形
態では、配線パターン3(例えばグランド部)と金属パ
ターン4を結線部6により短絡させる。このとき、金属
パターン4はIC組立工程で用いるマガジンや搬送レー
ルに接触するよう設計する。また、この結線部6はパッ
ケージの個片化処理時に切り離す
Embodiment 5 8 is a plan view of a semiconductor device frame according to a fifth embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 6 denotes a connection portion for electrically shorting the wiring pattern 3 and the metal pattern 4. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted. In the present embodiment, the wiring pattern 3 (for example, a ground portion) and the metal pattern 4 are short-circuited by the connection portion 6. At this time, the metal pattern 4 is designed to be in contact with a magazine or a transport rail used in the IC assembly process. Also, this connection portion 6 is cut off during the package singulation process.

【0017】本実施の形態によれば、樹脂系フレーム1
上のICチップと電気的に接続される配線パターン3と
金属パターン4を結線部6を介して短絡させることによ
り、絶縁体からなる樹脂系フレーム1に発生する静電気
によるICチップへの悪影響を防止することができる。
According to the present embodiment, the resin frame 1
The wiring pattern 3 and the metal pattern 4 that are electrically connected to the upper IC chip are short-circuited via the connection portion 6 to prevent the IC chip from being adversely affected by static electricity generated in the resin frame 1 made of an insulator. can do.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、半導
体装置用フレームとして樹脂系フレームを用いた場合に
おいても、樹脂系フレームを構成する基材の周縁部に金
属パターンを配設することにより、樹脂系フレームの弾
性率を向上させることができると共に、金属パターンに
より樹脂系フレーム全体の熱伝導性が向上して局所的な
加熱による樹脂系フレームの変形を防止でき、IC組立
工程中のフレームの反りや変形を低減して、樹脂系フレ
ームを採用したIC組立工程において、従来の金属系フ
レーム対応の装置を適用でき、従来装置の改造や新規装
置の購入等の設備投資が不要となる。
As described above, according to the present invention, even when a resin-based frame is used as a frame for a semiconductor device, a metal pattern is provided on the periphery of a base material constituting the resin-based frame. Thereby, the elastic modulus of the resin frame can be improved, the thermal conductivity of the entire resin frame is improved by the metal pattern, and the deformation of the resin frame due to local heating can be prevented. By reducing the warpage and deformation of the frame, it is possible to apply equipment compatible with conventional metal frames in the IC assembly process that employs resin frames, eliminating the need for capital investment such as remodeling of existing equipment or purchasing new equipment. .

【0019】また、樹脂系フレームを構成する基材の周
縁部に配設された金属パターンにスリットを設けること
により、1フレームにおけるパッケージの取り数が多く
1フレームの長さが長い樹脂系フレームにおいても、樹
脂系フレームの弾性率を向上させることができると共
に、局所的に加熱された場合に金属パターンと樹脂系フ
レームの線膨張係数の違いにより生じる応力の集中を緩
和して樹脂系フレームの変形を防止でき、樹脂系フレー
ムを採用したIC組立工程において、従来の金属系フレ
ーム対応の装置を適用できる。また、樹脂系フレーム上
のICチップと電気的に接続される配線パターンと金属
パターンを短絡させることにより、IC組立工程中に樹
脂系フレームに発生する静電気によるICチップの静電
破壊を防止することができる。
Further, by providing slits in the metal pattern disposed on the peripheral portion of the base material constituting the resin frame, the number of packages per frame is large and the length of one frame is long. In addition, the elastic modulus of the resin frame can be improved, and the concentration of the stress caused by the difference in the linear expansion coefficient between the metal pattern and the resin frame when locally heated can be reduced to deform the resin frame. In the IC assembling process employing a resin frame, a conventional apparatus compatible with a metal frame can be applied. Further, by short-circuiting the wiring pattern and the metal pattern that are electrically connected to the IC chip on the resin frame, it is possible to prevent electrostatic breakdown of the IC chip due to static electricity generated in the resin frame during the IC assembly process. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1による半導体装置用
フレームを示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a semiconductor device frame according to a first embodiment of the present invention;

【図2】 この発明の実施の形態1による半導体装置用
フレームを示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a semiconductor device frame according to the first embodiment of the present invention;

【図3】 この発明の実施の形態2による半導体装置用
フレームを示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a semiconductor device frame according to a second embodiment of the present invention;

【図4】 この発明の実施の形態3による半導体装置用
フレームを示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a semiconductor device frame according to a third embodiment of the present invention;

【図5】 この発明の実施の形態3による半導体装置用
フレームを示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a semiconductor device frame according to a third embodiment of the present invention;

【図6】 この発明の実施の形態4による半導体装置用
フレームを示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a semiconductor device frame according to a fourth embodiment of the present invention;

【図7】 この発明の実施の形態4による他の半導体装
置用フレームを示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing another semiconductor device frame according to a fourth embodiment of the present invention;

【図8】 この発明の実施の形態5による半導体装置用
フレームを示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a frame for a semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention;

【図9】 従来のこの種半導体装置用フレームを示す平
面図である。
FIG. 9 is a plan view showing a conventional semiconductor device frame of this type.

【図10】 従来の半導体装置用フレームの問題点を説
明するための図である。
FIG. 10 is a view for explaining a problem of a conventional semiconductor device frame.

【図11】 半導体装置用フレームの問題点を説明する
ための図である。
FIG. 11 is a view for explaining a problem of the semiconductor device frame;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 樹脂系フレーム、2 基材、3 配線パターン、4
金属パターン、5 スリット、6 結線部。
1 Resin frame, 2 base material, 3 wiring pattern, 4
Metal pattern, 5 slits, 6 connections.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂を基材とする半導体装置用フレーム
において、 ICチップが搭載され電気的に接続される配線パターン
からなる回路部と、 上記半導体装置用フレームの周縁部の各辺に配設された
金属パターンを備えたことを特徴とする半導体装置用フ
レーム。
1. A semiconductor device frame comprising a resin as a base material, wherein a circuit portion comprising a wiring pattern on which an IC chip is mounted and electrically connected to the semiconductor device frame is provided on each side of a peripheral portion of the semiconductor device frame. A frame for a semiconductor device, comprising: a metal pattern formed thereon.
【請求項2】 金属パターンは、半導体装置用フレーム
の片面もしくは両面に配設されることを特徴とする請求
項1記載の半導体装置用フレーム。
2. The semiconductor device frame according to claim 1, wherein the metal pattern is provided on one or both surfaces of the semiconductor device frame.
【請求項3】 金属パターンには、少なくとも一箇所に
スリットが設けられていることを特徴とする請求項1ま
たは請求項2記載の半導体装置用フレーム。
3. The semiconductor device frame according to claim 1, wherein the metal pattern is provided with a slit at at least one position.
【請求項4】 配線パターンと金属パターンは、結線部
により電気的に接続されていることを特徴とする請求項
1〜3のいずれか一項記載の半導体装置用フレーム。
4. The semiconductor device frame according to claim 1, wherein the wiring pattern and the metal pattern are electrically connected by a connection portion.
【請求項5】 配線パターンと金属パターンは、同一金
属からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一
項記載の半導体装置用フレーム。
5. The semiconductor device frame according to claim 1, wherein the wiring pattern and the metal pattern are made of the same metal.
JP11451599A 1999-04-22 1999-04-22 Frame for semiconductor device Pending JP2000306960A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11451599A JP2000306960A (en) 1999-04-22 1999-04-22 Frame for semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11451599A JP2000306960A (en) 1999-04-22 1999-04-22 Frame for semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000306960A true JP2000306960A (en) 2000-11-02

Family

ID=14639693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11451599A Pending JP2000306960A (en) 1999-04-22 1999-04-22 Frame for semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000306960A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008004855A (en) * 2006-06-26 2008-01-10 Nitto Denko Corp Tape carrier for tab

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008004855A (en) * 2006-06-26 2008-01-10 Nitto Denko Corp Tape carrier for tab

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9793197B2 (en) Low profile leaded semiconductor package
US6472727B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
US7288439B1 (en) Leadless microelectronic package and a method to maximize the die size in the package
US6710265B2 (en) Multi-strand substrate for ball-grid array assemblies and method
US6229205B1 (en) Semiconductor device package having twice-bent tie bar and small die pad
KR900002908B1 (en) Resin-sealed simiconductor device
US6265762B1 (en) Lead frame and semiconductor device using the lead frame and method of manufacturing the same
US20130130492A1 (en) System and method for improving solder joint reliability in an integrated circuit package
US6642082B2 (en) Method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device
JP4615282B2 (en) Manufacturing method of semiconductor package
US7183134B2 (en) Ultrathin leadframe BGA circuit package
US6424025B1 (en) Cross grid array package structure and method of manufacture
JP2000306960A (en) Frame for semiconductor device
JP4506168B2 (en) Semiconductor device and its mounting structure
US6948239B2 (en) Method for fabricating semiconductor apparatus using board frame
JP3548023B2 (en) Semiconductor device
JPH0758112A (en) Semiconductor device
US6288439B1 (en) Tape carrier package for a semiconductor device
US6476504B1 (en) Adhesive pattern for attaching semiconductor chip onto substrate
JP3739632B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
KR20000040592A (en) Wafer level chip scale package having dummy solder ball
JPH04280439A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JP3768690B2 (en) Aggregate substrate having a rigid member and semiconductor device obtained from the aggregate substrate
JPH03124055A (en) Manufacture of lead frame and semiconductor device using same
JP2000012730A (en) Bga package

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Effective date: 20060123

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060207

A977 Report on retrieval

Effective date: 20071126

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

RD01 Notification of change of attorney

Effective date: 20071101

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20080108

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20080603

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02