JP2000306930A - Potting method and apparatus and manufacture of semiconductor device using the same - Google Patents

Potting method and apparatus and manufacture of semiconductor device using the same

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JP2000306930A
JP2000306930A JP11112518A JP11251899A JP2000306930A JP 2000306930 A JP2000306930 A JP 2000306930A JP 11112518 A JP11112518 A JP 11112518A JP 11251899 A JP11251899 A JP 11251899A JP 2000306930 A JP2000306930 A JP 2000306930A
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JP
Japan
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nozzle
substrate
resin
potting
tape substrate
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JP11112518A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Kuroda
明 黒田
Kazunori Higuchi
和範 樋口
Tomiji Suda
富司 須田
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve reliability in potting a resin. SOLUTION: This apparatus comprises a nozzle 7 for jetting a resin 8 to be potted, a first clamp section 5 for supporting an upper surface 4f of a tape substrate 4 opposed to a distal end surface 7a of the nozzle 7, and having an opening part 4e formed therein so as to correspond to an electrode pad of a semiconductor chip 1 mounted on the substrate 4, a heat block 17 for heating the resin 8, a second clamp section 16 for supporting the substrate 4 by clamping the substrate 4 together with the section 15 on the block 17 during potting, and a nozzle control section for controlling the position of the surface 7a of the nozzle 7 with respect to the surface 4f of the substrate 4. With the surface 4f of the substrate 4 as a reference, the nozzle control section controls the distance between the nozzle 7 and the surface 4f of the substrate 4 to perform potting, whereby variations in the application of the resin 8 is reduced and positional deviations in its application is prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂のポッティン
グ技術に関し、特に、半導体製造技術のポッティング封
止における信頼性向上に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin potting technique, and more particularly to a technique which is effective when applied to improve reliability in potting sealing of a semiconductor manufacturing technique.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
2. Description of the Related Art The technology described below studies the present invention,
Upon completion, they were examined by the inventor, and the outline is as follows.

【0003】薄形および小形化を図る半導体装置の一例
として、CSP(Chip Scale PackageまたはChip Size
Package)と呼ばれるチップサイズ、または、半導体チッ
プより若干大きい程度の半導体装置が知られており、こ
のCSPの構造の一例として、半導体チップがエラスト
マ(弾性構造体)を介してテープ基板(例えば、ポリイ
ミドのテープ基板)に支持されているものがある。
[0003] As an example of a semiconductor device designed to be thin and small, a CSP (Chip Scale Package or Chip Size) is used.
A semiconductor device having a chip size called "Package" or a slightly larger semiconductor device than a semiconductor chip is known. As an example of the structure of the CSP, a semiconductor chip is attached to a tape substrate (for example, polyimide) through an elastomer (elastic structure). Supported by the tape substrate of the present invention.

【0004】このような構造のCSPにおける封止は、
テープ基板の開口部を介して半導体チップの主面上に封
止用の樹脂をポッティングして半導体チップの表面電極
(ボンディングパッドなどともいう)とこれに電気的に
接続されたテープ基板のリード部とを覆って行われる。
The sealing in the CSP having such a structure is as follows.
Potting resin for sealing onto the main surface of the semiconductor chip through the opening of the tape substrate, and the surface electrode (also called a bonding pad) of the semiconductor chip and the lead portion of the tape substrate electrically connected thereto And is done over.

【0005】なお、このようなポッティング封止におい
ては、テープ基板のノズル側と反対側の面(以降、下面
という)または半導体チップの裏面(主面と反対側の
面)をポッティングの基準とし、この基準からノズルの
先端面の位置(高さ)を制御してポッティングを行って
いる。
[0005] In such potting sealing, the surface of the tape substrate opposite to the nozzle side (hereinafter referred to as the lower surface) or the back surface of the semiconductor chip (the surface opposite to the main surface) is used as a reference for potting. Potting is performed by controlling the position (height) of the tip surface of the nozzle from this reference.

【0006】ここで、種々のCSPの構造については、
例えば、日経BP社、1997年4月1日発行、「日経
マイクロデバイス1997年4月1日号・NO.14
2」、44〜53頁に記載されており、また、センタパ
ッド配列の半導体チップを用いたCSPに対するポッテ
ィング方法については、例えば、特開平9−26053
5号公報にその記載がある。
Here, regarding the structure of various CSPs,
For example, Nikkei BP, published on April 1, 1997, “Nikkei Micro Devices April 1, 1997 Issue No. 14
2 ", pp. 44-53, and a potting method for a CSP using a semiconductor chip having a center pad arrangement is described in, for example, JP-A-9-26053.
No. 5 has the description.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術のポッティングにおいては、テープ基板が反ったり、
また、撓んだりして変形し易いため、テープ基板の下面
または半導体チップの裏面からその反対側に配置された
ノズルの先端面までの距離のばらつきが大きくなり、そ
の結果、樹脂の塗布量のばらつきが大きくなることが問
題となる。
However, in the potting of the above technique, the tape substrate warps,
In addition, since it easily bends and deforms, the variation in the distance from the lower surface of the tape substrate or the back surface of the semiconductor chip to the tip surface of the nozzle arranged on the opposite side increases, and as a result, the amount of resin applied becomes The problem is that the variation increases.

【0008】また、テープ基板を保持している保持治具
の厚さや平坦度のばらつきが大きいと、ポッティングの
基準であるテープ基板の下面や半導体チップの裏面の位
置のばらつきが大きくなり、その結果、前記同様、樹脂
の塗布量のばらつきが大きくなることが問題となる。
Further, if the thickness and flatness of the holding jig holding the tape substrate vary widely, the position of the lower surface of the tape substrate and the lower surface of the semiconductor chip, which is a reference for potting, becomes large. As described above, there is a problem that the variation in the amount of applied resin becomes large.

【0009】さらに、半導体チップのテープ基板への固
定には、接着剤などが用いられているため、テープ基板
とエラストマと半導体チップとの厚さのばらつきも大き
く、これにより、ポッティングの基準であるテープ基板
の下面や半導体チップの裏面の位置とその反対側のノズ
ルの先端面との距離のばらつきが大きくなり、その結
果、前記同様、樹脂の塗布量のばらつきが大きくなるこ
とが問題となる。
Further, since an adhesive or the like is used for fixing the semiconductor chip to the tape substrate, the thickness variation between the tape substrate, the elastomer and the semiconductor chip is large, which is a standard for potting. The variation in the distance between the position of the lower surface of the tape substrate or the back surface of the semiconductor chip and the tip surface of the nozzle on the opposite side increases, and as a result, the variation in the application amount of the resin increases.

【0010】また、テープ基板の下面や半導体チップの
裏面の位置とノズルの先端面との距離が許容範囲を越え
て長くなると、ノズル下降距離も長くなる。これによ
り、ポッティングの際にノズルの先端面に形成される樹
脂溜まりがノズルの側面に回り込み、その結果、塗布位
置のずれが発生することが問題となる。
If the distance between the lower surface of the tape substrate or the back surface of the semiconductor chip and the tip surface of the nozzle becomes longer than the allowable range, the nozzle descending distance also becomes longer. This causes a problem that the resin pool formed on the tip surface of the nozzle at the time of potting wraps around the side surface of the nozzle, and as a result, a shift in the application position occurs.

【0011】本発明の目的は、樹脂のポッティングの信
頼性の向上を図るポッティング方法および装置ならびに
それを用いた半導体装置の製造方法を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a potting method and apparatus for improving the reliability of potting of a resin and a method of manufacturing a semiconductor device using the same.

【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0014】すなわち、本発明のポッティング方法は、
ポッティング用の樹脂を吐出可能なノズルの先端面と配
線基板の塗布側の面とを対向させて前記ノズルと前記配
線基板とを配置する工程と、前記配線基板の前記塗布側
の面と直角を成す方向における前記配線基板の前記塗布
側の面の位置と前記ノズルの前記先端面の位置とを合わ
せる工程と、前記配線基板の前記塗布側の面を基準とし
て、前記ノズルの前記配線基板の前記塗布側の面からの
距離を制御して前記ノズルから前記樹脂を吐出させて前
記配線基板の被塗布部に前記樹脂を滴下する工程とを有
するものである。
That is, the potting method of the present invention comprises:
A step of disposing the nozzle and the wiring substrate with the tip surface of the nozzle capable of discharging the potting resin and the surface on the application side of the wiring substrate facing each other, and forming a right angle with the surface on the application side of the wiring substrate. Matching the position of the coating side surface of the wiring substrate in the forming direction with the position of the tip end surface of the nozzle, and the coating substrate surface of the nozzle based on the coating side surface of the wiring substrate. Controlling the distance from the surface on the application side to discharge the resin from the nozzle and dropping the resin on the portion to be coated of the wiring board.

【0015】これにより、配線基板の変形あるいは配線
基板を支持する保持治具の厚さのばらつきや変形などに
無関係に配線基板のノズル側の塗布側の面とノズルとの
距離を制御することができ、したがって、配線基板の変
形あるいは配線基板を支持する保持治具の厚さのばらつ
きや変形などの影響を受けることなく配線基板とノズル
の先端面との距離を制御できる。
Thus, it is possible to control the distance between the nozzle and the coating side surface of the wiring substrate on the nozzle side irrespective of the deformation of the wiring substrate or the thickness variation or deformation of the holding jig supporting the wiring substrate. Therefore, the distance between the wiring board and the tip surface of the nozzle can be controlled without being affected by the deformation of the wiring board or the variation or deformation of the thickness of the holding jig supporting the wiring board.

【0016】その結果、配線基板とノズルの先端面との
距離を高精度に制御することができ、これにより、樹脂
の塗布量のばらつきを低減させることができる。
As a result, the distance between the wiring board and the tip end surface of the nozzle can be controlled with high precision, thereby reducing the variation in the amount of resin applied.

【0017】また、本発明のポッティング装置は、ポッ
ティング用の樹脂を吐出するノズルと、前記ノズル側に
配置され、前記樹脂のポッティング時に前記ノズルの先
端面に対向する配線基板の塗布側の面を支持する基板主
支持部と、前記基板主支持部による前記配線基板の支持
を補助する基板補助支持部と、前記樹脂を加熱する加熱
手段と、前記配線基板の前記塗布側の面に対する前記ノ
ズルの前記先端面の位置を制御するノズル制御部とを有
し、前記配線基板の前記塗布側の面を基準として、前記
ノズル制御部によって前記ノズルの前記配線基板の前記
塗布側の面からの距離を制御して前記樹脂のポッティン
グを行うものである。
Further, the potting apparatus of the present invention includes a nozzle for discharging a resin for potting, and a coating-side surface of a wiring substrate, which is disposed on the nozzle side and faces a tip end surface of the nozzle when the resin is potted. A substrate main support for supporting, a substrate auxiliary support for assisting the support of the wiring substrate by the substrate main support, a heating unit for heating the resin, and a nozzle for the coating side surface of the wiring substrate on the application side. A nozzle control unit that controls the position of the tip end surface, and with reference to the application-side surface of the wiring board, the nozzle control unit determines the distance of the nozzle from the wiring-side surface of the wiring substrate by the nozzle control unit. The potting of the resin is performed by controlling.

【0018】さらに、本発明の半導体装置の製造方法
は、半導体チップを配線基板に搭載する工程と、前記半
導体チップの表面電極とこれに対応する前記配線基板の
リード部とを電気的に接続する工程と、前記半導体チッ
プを搭載した前記配線基板のチップ搭載面に対する反対
側の面である塗布側の面とポッティング用の樹脂を吐出
可能なノズルの先端面とを対向させて前記配線基板と前
記ノズルとを配置する工程と、前記配線基板の前記塗布
側の面と直角を成す方向における前記配線基板の前記塗
布側の面の位置と前記ノズルの前記先端面の位置とを合
わせる工程と、前記配線基板の前記塗布側の面を基準と
して、前記ノズルの前記配線基板の前記塗布側の面から
の距離を制御して前記ノズルから前記樹脂を吐出させて
前記半導体チップの前記表面電極上に前記樹脂を滴下し
て封止部を形成する工程と、前記リード部と電気的に接
続させて前記配線基板に外部端子を設ける工程とを有す
るものである。
Further, in the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the step of mounting the semiconductor chip on the wiring board and the step of electrically connecting the surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding lead portion of the wiring board are performed. And the wiring substrate, wherein the coating-side surface, which is the surface opposite to the chip mounting surface of the wiring substrate on which the semiconductor chip is mounted, and the tip end surface of a nozzle capable of discharging potting resin face each other. Disposing a nozzle, and matching a position of the coating-side surface of the wiring substrate with a position of the tip surface of the nozzle in a direction perpendicular to the coating-side surface of the wiring substrate; The resin is discharged from the nozzle by controlling the distance of the nozzle from the coating-side surface of the wiring board with reference to the coating-side surface of the wiring board, and the resin is discharged from the nozzle. Forming a sealing portion by dropping the resin on the serial surface electrode, and a step of said lead portion and electrically connected to provide an external terminal on the wiring board.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0020】図1は本発明の実施の形態によるポッティ
ング装置の構造の一例を示す図であり、(a) は一部破
断して示す正面図、(b)は(a)のA−A断面を示す
断面図、図2は図1に示すポッティング装置のポッティ
ング部の構造を一部断面にして示す拡大側面図、図3は
図2に示すポッティング部の構造を示す部分拡大平面
図、図4は本発明の実施の形態の半導体装置の製造方法
によって組み立てられる半導体装置(CSP)の構造を
示す斜視図、図5は図4に示す半導体装置の構造を示す
図であり、(a) は平面図、(b)は底面図、(c)は
(b)のA−A断面を示す断面図、(d)は(b)のB
−B断面を示す断面図、図6は本発明の実施の形態の半
導体装置の製造方法における組み立て手順の一例を示す
製造プロセスフローである。
FIGS. 1A and 1B are views showing an example of the structure of a potting apparatus according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a partially cutaway front view, and FIG. FIG. 2 is an enlarged side view showing a part of the structure of the potting unit of the potting device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a partially enlarged plan view showing the structure of the potting unit shown in FIG. 5 is a perspective view showing a structure of a semiconductor device (CSP) assembled by the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention, FIG. 5 is a diagram showing a structure of the semiconductor device shown in FIG. 4, and FIG. FIG. 4B is a bottom view, FIG. 4C is a cross-sectional view showing the AA cross section of FIG. 4B, and FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a cross section taken along a line B, and FIG. 6 is a manufacturing process flow showing an example of an assembling procedure in the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention.

【0021】図1に示す本実施の形態のポッティング装
置は、例えば、半導体製造工程のポッティング工程(樹
脂封止工程)で、半導体装置におけるポッティング対象
部材に対してポッティング用の樹脂8(図2参照)を滴
下して樹脂封止する際に用いるものである。
The potting apparatus of the present embodiment shown in FIG. 1 is, for example, in a potting step (resin sealing step) of a semiconductor manufacturing process, a potting resin 8 (see FIG. 2) for a member to be potted in a semiconductor device. ) Is dropped and used for resin sealing.

【0022】なお、本実施の形態では、前記ポッティン
グ装置を用いてポッティングによる樹脂封止が行われる
前記半導体装置として、図4、図5に示す小形のチップ
サイズのCSP11の場合を例に取り上げて説明する。
In the present embodiment, a small chip size CSP 11 shown in FIGS. 4 and 5 will be taken as an example of the semiconductor device which is subjected to resin sealing by potting using the potting device. explain.

【0023】したがって、本実施の形態のポッティング
装置によってポッティングが行われる前記ポッティング
対象部材は、半導体チップ1を搭載し、かつ半導体チッ
プ1の電極パッド(表面電極)1bとこれに対応するテ
ープ基板(配線基板)4のリード部4cとが電気的に接
続された構造のテープ基板4であり、テープ基板4上の
半導体チップ1の電極パッド1bとリード部4cとに樹
脂8を塗布する。
Therefore, the potting target member on which potting is performed by the potting apparatus of the present embodiment mounts the semiconductor chip 1, and has an electrode pad (surface electrode) 1b of the semiconductor chip 1 and a corresponding tape substrate ( The lead portion 4c of the wiring substrate 4 is a tape substrate 4 having a structure electrically connected thereto. The resin 8 is applied to the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1 on the tape substrate 4 and the lead portions 4c.

【0024】図1〜図5を用いて図1に示すポッティン
グ装置の基本構成について説明すると、半導体チップ1
が搭載されたテープ基板4を送り出すローダ9と、ポッ
ティング処理が行われるポッティング部10と、ポッテ
ィング処理後のテープ基板4を順次収容するアンローダ
12と、テープ基板4の搬送を案内するガイドレール1
3と、ローダ9、ポッティング部10、アンローダ12
およびガイドレール13などが設置された装置本体部1
4とからなり、ポッティング部10において、テープ基
板4上に搭載された半導体チップ1の電極パッド1bと
これに電気的に接続されたリード部4cとにポッティン
グを行うものである。
The basic configuration of the potting apparatus shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS.
, A potting unit 10 for performing a potting process, an unloader 12 for sequentially storing the tape substrate 4 after the potting process, and a guide rail 1 for guiding the transport of the tape substrate 4.
3, loader 9, potting unit 10, unloader 12
Body 1 on which guide rails 13 and the like are installed
In the potting section 10, potting is performed on the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1 mounted on the tape substrate 4 and on the lead sections 4c electrically connected thereto.

【0025】さらに、図2に示すように、ポッティング
部10には、ポッティング用の樹脂8を吐出するノズル
7と、テープ基板4のノズル7側に配置され、かつ樹脂
8のポッティング時にノズル7の先端面7aに対向する
テープ基板4の塗布側の面(ポッティング時にノズル7
側すなわち上方を向く面であり、以降この面を上面4f
という)を支持するとともに、テープ基板4に搭載され
た半導体チップ1の電極パッド1b(表面電極)に対応
して開口部4eが形成された第1クランプ部15(基板
主支持部)と、テープ基板4のノズル7側と反対側に設
けられ、かつ樹脂8を加熱するヒートブロック17(加
熱手段)と、ポッティング時にヒートブロック17上で
第1クランプ部15とともにテープ基板4をクランプし
てテープ基板4を支持する第2クランプ部16(基板補
助支持部)と、テープ基板4の上面4fに対するノズル
7の先端面7aの位置(テープ基板4の上面4fと直角
を成す方向のノズル7の先端面7aの位置)を制御する
ノズル制御部18とが設けられており、本実施の形態の
ポッティング装置では、ポッティングを行う際に、テー
プ基板4の上面4fを基準として、ノズル制御部18に
よってノズル7のテープ基板4の上面4fからの距離を
自動で制御してノズル7から樹脂8をテープ基板4の開
口部4eを介して半導体チップ1の電極パッド1bに滴
下する。
Further, as shown in FIG. 2, a nozzle 7 for discharging a potting resin 8 and a nozzle 7 which is arranged on the nozzle 7 side of the tape substrate 4 and which is The surface on the coating side of the tape substrate 4 facing the front end surface 7a (the nozzle 7
Side, that is, a surface facing upward, and this surface is hereinafter referred to as an upper surface 4f.
A first clamp portion 15 (substrate main support portion) having an opening 4e corresponding to the electrode pad 1b (surface electrode) of the semiconductor chip 1 mounted on the tape substrate 4; A heat block 17 (heating means) provided on the side opposite to the nozzle 7 side of the substrate 4 and for heating the resin 8; and a tape substrate by clamping the tape substrate 4 together with the first clamp portion 15 on the heat block 17 during potting. And a position of the tip surface 7a of the nozzle 7 with respect to the upper surface 4f of the tape substrate 4 (the tip surface of the nozzle 7 in a direction perpendicular to the upper surface 4f of the tape substrate 4). 7a), a nozzle control unit 18 for controlling the position of the upper surface 4 of the tape substrate 4 when performing potting. The distance between the nozzle 7 and the upper surface 4f of the tape substrate 4 is automatically controlled by the nozzle control unit 18 on the basis of the above, and the resin 8 is supplied from the nozzle 7 through the opening 4e of the tape substrate 4 to the electrode pad 1b To be dropped.

【0026】すなわち、前記ポッティング装置は、第1
クランプ部15の高さと第2クランプ部16の高さとを
それぞれ独立に自動調整可能なものであり、これによ
り、テープ基板4の上面4fからのノズル7の距離を自
動で高精度に制御することができる。
That is, the potting device comprises:
The height of the clamp portion 15 and the height of the second clamp portion 16 can be independently and automatically adjusted, whereby the distance of the nozzle 7 from the upper surface 4f of the tape substrate 4 can be automatically and precisely controlled. Can be.

【0027】なお、本実施の形態で説明するCSP11
では、テープ基板4の上面4fが、半導体チップ1が搭
載されるチップ搭載面4gと反対側の面であり、この面
は、CSP11の外部端子であるバンプ電極2を搭載す
る面でもある。
The CSP 11 described in the present embodiment
The upper surface 4f of the tape substrate 4 is a surface opposite to the chip mounting surface 4g on which the semiconductor chip 1 is mounted, and this surface is also a surface on which the bump electrodes 2 as external terminals of the CSP 11 are mounted.

【0028】ここで、第1クランプ部15は、ウィンド
クランパとも呼ばれ、テープ基板4の塗布側の面である
上面4fをその上側から押さえて支持する部材であり、
図3に示すように、その支持部分の内側には開口窓15
aが形成されており、ポッティング時には、この開口窓
15aにテープ基板4の開口部4eと半導体チップ1の
電極パッド1bとこれに電気的に接続されたリード部4
cとが配置される。
Here, the first clamp portion 15 is also called a wind clamper, and is a member for holding the upper surface 4f, which is the surface on the application side of the tape substrate 4, by pressing the upper surface 4f from the upper side thereof.
As shown in FIG. 3, an opening window 15 is provided inside the support portion.
When the potting is performed, the opening 4e of the tape substrate 4, the electrode pad 1b of the semiconductor chip 1, and the lead 4 electrically connected thereto are formed in the opening window 15a.
c are arranged.

【0029】さらに、ノズル7は、図1(b)に示すよ
うに、上下動自在に取り付けられたZ方向動作部20に
よって支持され、また、このZ方向動作部20は、テー
プ基板4の開口部4eに沿ってノズル7を移動させる
(図3に示すテープ送り方向であるX方向と直角をなす
水平方向つまりY方向に移動させる)ことが可能なY方
向動作部21に取り付けられ、さらに、このY方向動作
部21がX方向動作部22に取り付けられている。ただ
し、X方向、Y方向およびZ方向の取り付け順序の関係
は、前記順序に限定されるものではない。
Further, as shown in FIG. 1B, the nozzle 7 is supported by a Z-direction operating unit 20 which is vertically movably mounted. The nozzle 7 is attached to a Y-direction operation unit 21 which can move the nozzle 7 along the portion 4e (moves the nozzle 7 in a horizontal direction perpendicular to the X direction which is the tape feeding direction shown in FIG. 3, that is, in the Y direction). The Y-direction operating unit 21 is attached to the X-direction operating unit 22. However, the relationship between the mounting order in the X, Y, and Z directions is not limited to the above order.

【0030】したがって、ノズル7の昇降(上下)動作
は、ノズル制御部18によってZ方向動作部20を介し
て行い、また、ノズル7の前記テープ送り方向と同方向
のX方向の移動はノズル制御部18によってX方向動作
部22を介して行い、さらに、ノズル7のY方向の移動
はノズル制御部18によってY方向動作部21を介して
行う。
Therefore, the raising / lowering (up / down) operation of the nozzle 7 is performed by the nozzle control unit 18 via the Z-direction operation unit 20, and the movement of the nozzle 7 in the X direction in the same direction as the tape feeding direction is controlled by the nozzle control unit. The movement of the nozzle 7 in the Y direction is performed by the nozzle control unit 18 through the Y direction operation unit 21 by the unit 18 via the X direction operation unit 22.

【0031】なお、ノズル7は、ディスペンサ23に接
続され、このディスペンサ23によってノズル7から吐
出させるポッティング用の樹脂8の吐出圧力と吐出時間
を調整する。
The nozzle 7 is connected to a dispenser 23, and adjusts the discharge pressure and the discharge time of the potting resin 8 discharged from the nozzle 7 by the dispenser 23.

【0032】また、図2に示すように、第2クランプ部
16は、テープ基板4のチップ搭載面4gである下面を
その下側から押さえて支持する部材である。
As shown in FIG. 2, the second clamp portion 16 is a member that supports the lower surface, which is the chip mounting surface 4g of the tape substrate 4, by pressing it from below.

【0033】さらに、ヒートブロック17は、ポッティ
ング部10において、半導体チップ1の下方で半導体チ
ップ1から僅か(例えば、0.1mm程度)に離れて配置
され、ポッティング時に半導体チップ1上に滴下された
樹脂8をその流動性を向上させるために加熱するもので
あり、半導体チップ1の裏面1c側から半導体チップ1
を介して加熱する。
Further, the heat block 17 is disposed slightly below (for example, about 0.1 mm) from the semiconductor chip 1 below the semiconductor chip 1 in the potting section 10, and is dropped on the semiconductor chip 1 during potting. The resin 8 is heated to improve its fluidity, and the semiconductor chip 1 is heated from the back surface 1 c side of the semiconductor chip 1.
Heat through.

【0034】したがって、テープ基板4は、ポッティン
グ時に第1クランプ部15と第2クランプ部16とによ
ってヒートブロック17上でクランプされて支持され
る。
Therefore, the tape substrate 4 is clamped and supported on the heat block 17 by the first clamp portion 15 and the second clamp portion 16 at the time of potting.

【0035】また、ポッティング装置において、チップ
搭載済みのテープ基板4のX方向への搬送は、テープ基
板4に接着によって固定された保持治具であるキャリア
治具19をガイドレール13上で移動させることによっ
て行われる。
In the potting apparatus, when the tape substrate 4 on which chips are mounted is transported in the X direction, a carrier jig 19 as a holding jig fixed to the tape substrate 4 by adhesion is moved on the guide rail 13. This is done by:

【0036】なお、キャリア治具19は、図2に示すよ
うに、テープ基板4における基板本体部4a(半導体チ
ップ1が搭載される領域)から外方に突出する基板突出
部4bを接着などによって固定されて保持するものであ
る。
As shown in FIG. 2, the carrier jig 19 is formed by bonding a substrate projecting portion 4b projecting outward from a substrate body 4a (a region where the semiconductor chip 1 is mounted) on the tape substrate 4 by bonding or the like. It is fixed and held.

【0037】また、本実施の形態のポッティング装置で
は、第1クランプ部15および第2クランプ部16にお
けるそれぞれのテープ基板4の厚さ方向の位置が、相互
に独立して位置調整自在に設けられている。
In the potting apparatus according to the present embodiment, the positions in the thickness direction of the respective tape substrates 4 in the first clamp portion 15 and the second clamp portion 16 are provided so as to be adjustable independently of each other. ing.

【0038】つまり、前記ポッティング装置では、第1
クランプ部15と第2クランプ部16とが、それぞれに
独立して高さ調整自在に設けられている。
That is, in the potting apparatus, the first
The clamp part 15 and the second clamp part 16 are provided independently and independently so as to be adjustable in height.

【0039】次に、図2に示す本実施の形態のポッティ
ング装置のポッティング部10における第1クランプ部
15と第2クランプ部16とヒートブロック17のそれ
ぞれの動作機構について説明する。
Next, the respective operating mechanisms of the first clamp unit 15, the second clamp unit 16, and the heat block 17 in the potting unit 10 of the potting apparatus of the present embodiment shown in FIG. 2 will be described.

【0040】まず、第1クランプ部15は、内側に開口
窓15a(図3参照)が形成された枠状のものであり、
L形のクランパ支持部15bに固定されている。さら
に、クランパ支持部15bはカムフォロア15cを介し
てカム15dと係合し、カップリング15eを介してモ
ータ15fに接続されている。モータ15fは、角度を
任意に設定することができる。
First, the first clamp portion 15 has a frame shape with an opening window 15a (see FIG. 3) formed inside.
It is fixed to the L-shaped clamper support 15b. Further, the clamper support 15b is engaged with the cam 15d via the cam follower 15c, and is connected to the motor 15f via the coupling 15e. The angle of the motor 15f can be arbitrarily set.

【0041】したがって、モータ15fを所定角度駆動
させることにより、カム15dを所定角度回転させるこ
とができ、これにより、第1クランプ部15を所定量リ
フトさせることができる。
Therefore, by driving the motor 15f at a predetermined angle, the cam 15d can be rotated at a predetermined angle, whereby the first clamp portion 15 can be lifted by a predetermined amount.

【0042】すなわち、カム15dによって、クランパ
支持部15bを介して第1クランプ部15の高さをカム
15dのリフト量に応じて調整することができる。
That is, the height of the first clamp portion 15 can be adjusted by the cam 15d via the clamper support portion 15b according to the lift amount of the cam 15d.

【0043】また、ヒートブロック17は、ヒートブロ
ック支持部17aに固定され、第1クランプ部15と同
様に、カムフォロア17bを介してカム17cと係合
し、さらに、カップリング17dを介してモータ17e
に接続されている。
The heat block 17 is fixed to the heat block support portion 17a, engages with the cam 17c via the cam follower 17b, like the first clamp portion 15, and further, the motor 17e via the coupling 17d.
It is connected to the.

【0044】したがって、モータ17eを所定角度駆動
させることにより、カム17cを所定角度回転させるこ
とができ、これにより、前記第1クランプ部15の場合
と同様に、ヒートブロック17を所定量リフトさせるこ
とができる。
Therefore, by driving the motor 17e by a predetermined angle, the cam 17c can be rotated by a predetermined angle, so that the heat block 17 is lifted by a predetermined amount as in the case of the first clamp portion 15. Can be.

【0045】すなわち、カム17cによって、ヒートブ
ロック支持部17aを介してヒートブロック17の高さ
をカム17cのリフト量に応じて調整することができ
る。
That is, the height of the heat block 17 can be adjusted by the cam 17c via the heat block support 17a in accordance with the lift of the cam 17c.

【0046】また、本実施の形態のポッティング装置で
は、図2に示すように、第2クランプ部16は、ヒート
ブロック17に支持されており、その際、第2クランプ
部16には、第2クランプ部16のクランプ面16aを
第1クランプ部15のクランプ面15gに倣わせる弾性
部材であるばね部材25が設けられている。
Further, in the potting apparatus according to the present embodiment, as shown in FIG. 2, the second clamp 16 is supported by the heat block 17, and at this time, the second clamp 16 A spring member 25 is provided as an elastic member for causing the clamp surface 16a of the clamp portion 16 to follow the clamp surface 15g of the first clamp portion 15.

【0047】すなわち、第2クランプ部16は、ヒート
ブロック17に取り付けられているため、ヒートブロッ
ク17と連動して動作するが、ヒートブロック17の外
周突出部17fには第2クランプ部16を押し上げるよ
うにばね部材25が設けられており、これにより、第2
クランプ部16は常時テープ基板4を押し上げるような
圧力を受けている。したがって、ヒートブロック17が
所定高さに到達した時点で、テープ基板4を常に下方か
ら加圧する構造となっている。
That is, since the second clamp portion 16 is attached to the heat block 17, it operates in conjunction with the heat block 17. However, the second clamp portion 16 is pushed up by the outer peripheral projecting portion 17 f of the heat block 17. The spring member 25 is provided as described above.
The clamp section 16 is constantly under pressure to push up the tape substrate 4. Therefore, when the heat block 17 reaches a predetermined height, the tape substrate 4 is always pressed from below.

【0048】その結果、本実施の形態のポッティング装
置では、ポッティングの際に、ヒートブロック17を半
導体チップ1の裏面1cに接触させずに、かつ0.1mm
程度の近距離まで接近させて配置することにより、半導
体チップ1を非接触で加熱することができ、これによ
り、テープ基板4の被塗布部24に滴下した樹脂8を半
導体チップ1を介して加熱する。
As a result, in the potting apparatus according to the present embodiment, the heat block 17 does not come into contact with the back surface 1c of the semiconductor chip 1 and is 0.1 mm in the potting.
The semiconductor chip 1 can be heated in a non-contact manner by arranging the semiconductor chip 1 close to a short distance, so that the resin 8 dropped on the coated portion 24 of the tape substrate 4 is heated via the semiconductor chip 1. I do.

【0049】さらに、この状態において、ヒートブロッ
ク17に取り付けられたばね部材25によって第2クラ
ンプ部16を介して下側からテープ基板4を加圧できる
ため、第1クランプ部15と第2クランプ部16とによ
ってテープ基板4をクランプしてヒートブロック17上
で支持することができる。
Further, in this state, since the tape substrate 4 can be pressed from below by the spring member 25 attached to the heat block 17 via the second clamp portion 16, the first clamp portion 15 and the second clamp portion 16 can be pressed. Thus, the tape substrate 4 can be clamped and supported on the heat block 17.

【0050】したがって、この状態においては、図2に
示すように、半導体チップ1とヒートブロック17とが
離れて配置されているため、テープ基板4に反りなどの
変形や厚さのばらつきなどを生じていても、テープ基板
4の上面4f基準に対しては影響を及ぼすことがない。
Therefore, in this state, as shown in FIG. 2, since the semiconductor chip 1 and the heat block 17 are arranged apart from each other, deformation such as warpage or variation in thickness of the tape substrate 4 occurs. Does not affect the upper surface 4f reference of the tape substrate 4.

【0051】これにより、テープ基板4の上面4fとノ
ズル7の先端面7aとの距離を高精度に制御することが
できる。
As a result, the distance between the upper surface 4f of the tape substrate 4 and the tip surface 7a of the nozzle 7 can be controlled with high accuracy.

【0052】すなわち、ポッティングにおいてテープ基
板4の変形あるいはテープ基板4を支持する保持治具で
あるキャリア治具19の厚さのばらつきや変形を吸収で
き、これにより、樹脂8の塗布量のばらつきを低減させ
ることができる。
That is, in the potting, the deformation of the tape substrate 4 or the thickness variation and the deformation of the carrier jig 19 which is a holding jig for supporting the tape substrate 4 can be absorbed. Can be reduced.

【0053】なお、図1(a)に示すように、ポッティ
ング部10の上方には、テープ基板4の開口部4eの位
置やノズル7の位置などを認識する際に用いられるカメ
ラ26が設置されている。
As shown in FIG. 1A, a camera 26 used for recognizing the position of the opening 4e of the tape substrate 4, the position of the nozzle 7, and the like is provided above the potting section 10. ing.

【0054】次に、本実施の形態のポッティング装置を
用いてポッティングが行われて組み立てられる半導体装
置の一例であるCSP11の構造について説明する。
Next, the structure of a CSP 11, which is an example of a semiconductor device assembled by potting using the potting apparatus of the present embodiment, will be described.

【0055】図4、図5に示す本実施の形態のCSP1
1は、チップサイズの小形のものであり、例えば、DR
AM(Dynamic Random Access Memory) チップなどを有
するものである。
The CSP 1 according to the present embodiment shown in FIGS.
1 is a small chip size, for example, DR
It has an AM (Dynamic Random Access Memory) chip and the like.

【0056】さらに、CSP11が有する半導体チップ
1は、主面1a(本実施の形態ではこの主面1aを表面
とする)が長方形を成すものであり、この主面1aの対
向する長辺の中間付近に複数の電極パッド1b(表面電
極)が前記長辺に平行に並んで配置されている。
Further, the semiconductor chip 1 of the CSP 11 has a main surface 1a (in the present embodiment, the main surface 1a is the surface), which forms a rectangle. In the vicinity, a plurality of electrode pads 1b (surface electrodes) are arranged in parallel with the long side.

【0057】なお、このような電極パッド1bの配列の
ことを、以降、センタパッド配列という。
The arrangement of the electrode pads 1b is hereinafter referred to as a center pad arrangement.

【0058】したがって、本実施の形態のCSP11
は、センタパッド配列の半導体チップ1を搭載したもの
である。
Therefore, the CSP 11 of the present embodiment
Is mounted with a semiconductor chip 1 having a center pad arrangement.

【0059】また、CSP11は、その外部端子がバン
プ電極2であり、したがって、CSP11をボール・グ
リッド・アレイと呼ぶこともある。
The external terminals of the CSP 11 are the bump electrodes 2, and therefore, the CSP 11 may be called a ball grid array.

【0060】前記CSP11の構造について説明する
と、半導体チップ1の主面1aに形成された電極パッド
1bを露出させて半導体チップ1の主面1aに配置され
たエラストマ3と、半導体チップ1の電極パッド1bに
対応した複数のリード部4cを備えるとともに、半導体
チップ1の電極パッド1bとこれに電気的に接続された
リード部4cとを露出させる開口部4eが形成され、か
つエラストマ3を介して半導体チップ1を支持するテー
プ基板4と、半導体チップ1とエラストマ3とテープ基
板4とによって形成され、かつ端部で外部に開口する2
つの流路開口部6aとテープ基板4の開口部4eとに連
通する樹脂流路部6と、樹脂流路部6に樹脂8(図2参
照、この樹脂8のことをレジンともいう)が注入されて
ポッティング封止によって形成され、かつ半導体チップ
1の電極パッド1bとテープ基板4のリード部4cとを
封止する封止部5と、リード部4cと電気的に接続され
てテープ基板4に設けられた複数の外部端子であるバン
プ電極2とによって構成される。
The structure of the CSP 11 will be described. The electrode 3 is disposed on the main surface 1a of the semiconductor chip 1 by exposing the electrode pads 1b formed on the main surface 1a of the semiconductor chip 1; 1b, a plurality of leads 4c corresponding to the semiconductor chip 1 are formed, an opening 4e for exposing the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1 and the leads 4c electrically connected thereto is formed, and the semiconductor 3 A tape substrate 4 supporting the chip 1, a semiconductor chip 1, an elastomer 3, and a tape substrate 4 which are open to the outside at an end;
The resin flow path 6 communicates with the two flow path openings 6a and the opening 4e of the tape substrate 4, and the resin 8 (see FIG. 2, this resin 8 is also referred to as resin) is injected into the resin flow path 6. A sealing portion 5 formed by potting sealing and sealing the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1 and the lead portions 4c of the tape substrate 4, and the tape substrate 4 electrically connected to the lead portions 4c. A plurality of external terminals are provided as bump electrodes 2.

【0061】なお、図5(b) に示すCSP11は、半
導体チップ1の電極パッド1bやテープ基板4のリード
部4cを表すために、図4に示す封止部5を透過して表
したものである。
The CSP 11 shown in FIG. 5B is a transparent CSP 11 shown in FIG. 4 to represent the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1 and the lead portions 4c of the tape substrate 4. It is.

【0062】したがって、図5(b) では、封止部5の
記載が省略されているが、図5(b) に示すCSP11
のテープ基板4の開口部4e内には、本来、図4に示す
ような封止部5が形成されている。
Therefore, in FIG. 5B, the illustration of the sealing portion 5 is omitted, but the CSP 11 shown in FIG.
In the opening 4e of the tape substrate 4, a sealing portion 5 as shown in FIG. 4 is originally formed.

【0063】なお、本実施の形態のCSP11では、図
4に示すように、半導体チップ1のセンタパッド配列に
応じたテープ基板4の細長い1つの開口部4eの両側に
2列に外部端子であるバンプ電極2が設けられている。
In the CSP 11 of the present embodiment, as shown in FIG. 4, external terminals are provided in two rows on both sides of one elongated opening 4e of the tape substrate 4 corresponding to the center pad arrangement of the semiconductor chip 1. A bump electrode 2 is provided.

【0064】また、本実施の形態のエラストマ3は、そ
の両面に接着層が形成された絶縁性の弾性部材であり、
テープ基板4と半導体チップ1との間に配置されてい
る。
Further, the elastomer 3 of the present embodiment is an insulating elastic member having an adhesive layer formed on both surfaces thereof,
It is arranged between the tape substrate 4 and the semiconductor chip 1.

【0065】また、CSP11における樹脂流路部6
は、半導体チップ1とエラストマ3とテープ基板4とを
接合した際、半導体チップ1とテープ基板4との間にお
いて細長い2つのエラストマ3がその間に複数の電極パ
ッド1bを配置して設けられるため、半導体チップ1の
主面1aと2つのエラストマ3とテープ基板4とによっ
て囲まれた領域である。
The resin flow path 6 in the CSP 11
When the semiconductor chip 1, the elastomer 3 and the tape substrate 4 are joined, two elongated elastomers 3 are provided between the semiconductor chip 1 and the tape substrate 4 with a plurality of electrode pads 1 b disposed therebetween. This is an area surrounded by the main surface 1 a of the semiconductor chip 1, the two elastomers 3, and the tape substrate 4.

【0066】さらに、樹脂流路部6は、半導体チップ1
の2つの短辺のうち一方の短辺側から他方の短辺側を連
通させたものであり、樹脂流路部6の両側の端部でその
外部に開口する流路開口部6a(図5(c)参照)が形
成されている。
Further, the resin flow path portion 6 is
The flow path opening 6a (FIG. 5) is formed by connecting one short side to the other short side of the two short sides, and opens to the outside at both ends of the resin flow path 6. (See (c)).

【0067】したがって、ポッティングの際には、図2
に示すように、テープ基板4の開口部4eを介して被塗
布部24に樹脂8を滴下し、これを固めて封止部5が形
成される。
Therefore, at the time of potting, FIG.
As shown in (1), the resin 8 is dropped onto the portion to be coated 24 via the opening 4e of the tape substrate 4, and is solidified to form the sealing portion 5.

【0068】また、CSP11におけるテープ基板4に
は、それぞれのリード部4cとバンプ電極2とを電気的
に接続する複数の配線4d(図5(b)参照)が設けら
れている。
The tape substrate 4 of the CSP 11 is provided with a plurality of wirings 4d (see FIG. 5B) for electrically connecting the respective lead portions 4c and the bump electrodes 2.

【0069】ここで、CSP11に用いられる各部材の
材料について説明する。ただし、ここに挙げる各部材の
材料、大きさまたは厚さなどは、一例であり、必ずしも
この条件に限定されるものではない。
Here, the material of each member used for the CSP 11 will be described. However, the material, size, thickness, and the like of each member described here are merely examples, and are not necessarily limited to these conditions.

【0070】まず、テープ基板4は、その基材となるテ
ープが、ポリイミド樹脂によって形成され、その厚さは
25〜75μm程度である。さらに、テープ基板4に設
けられた配線4d(リード部4cを含む)は、銅箔であ
る。
First, the tape substrate 4 has a tape serving as a base material formed of a polyimide resin, and has a thickness of about 25 to 75 μm. Further, the wiring 4d (including the lead portion 4c) provided on the tape substrate 4 is a copper foil.

【0071】また、弾性構造体であるエラストマ3は、
表裏両面に接着層を有した基層からなるとともに、ポリ
イミド樹脂などによって形成されたものである。
The elastomer 3, which is an elastic structure,
It is made of a base layer having an adhesive layer on both front and back surfaces, and is formed of a polyimide resin or the like.

【0072】さらに、封止部5を形成する封止材である
樹脂8は、エポキシ系の液状樹脂である。
Further, the resin 8 as a sealing material for forming the sealing portion 5 is an epoxy-based liquid resin.

【0073】また、バンプ電極2の材料は、Sn/Pb
の共晶半田やその他の高融点半田などである。
The material of the bump electrode 2 is Sn / Pb
Eutectic solder and other high melting point solders.

【0074】次に、本実施の形態のポッティング方法を
CSP11(半導体装置)の製造方法に含めて説明す
る。ここでは、CSP11の製造方法を図6に示す製造
プロセスフローにしたがって説明する。
Next, the potting method of the present embodiment will be described as being included in the method of manufacturing the CSP 11 (semiconductor device). Here, the method of manufacturing the CSP 11 will be described according to the manufacturing process flow shown in FIG.

【0075】まず、所望の半導体集積回路が形成され、
かつ主面1aが長方形を成すセンタパッド配列の半導体
チップ1を準備する。
First, a desired semiconductor integrated circuit is formed.
In addition, a semiconductor chip 1 having a center pad array whose main surface 1a forms a rectangle is prepared.

【0076】さらに、半導体チップ1の電極パッド1b
に電気的に接続可能な複数のリード部4cおよび配線4
dを備えるとともに、この複数のリード部4cを配置す
る細長い開口部4eが設けられたポリイミドテープなど
のテープ基板4(配線基板)を準備する。
Further, the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1
Leads 4c and wires 4 electrically connectable to
d, and a tape substrate 4 (wiring substrate) such as a polyimide tape having an elongated opening 4e for disposing the plurality of leads 4c is prepared.

【0077】また、細長いテープ状のエラストマ3を半
導体チップ1の主面1aの長手方向の長さとほぼ同じ長
さに切断して形成した2つのエラストマ3を準備する。
Further, two elastomers 3 formed by cutting the elongated tape-shaped elastomer 3 into a length substantially equal to the length in the longitudinal direction of the main surface 1a of the semiconductor chip 1 are prepared.

【0078】その後、図6に示すステップS1のテープ
基板供給とステップS2のエラストマ供給とを行い、ス
テップS3のエラストマ張り付けを行う。
Thereafter, the supply of the tape substrate in step S1 and the supply of the elastomer in step S2 shown in FIG. 6 are performed, and the elastomer is attached in step S3.

【0079】なお、エラストマ3の張り付けは、テープ
基板4とエラストマ3とを接合することによって行う。
Incidentally, the attachment of the elastomer 3 is performed by joining the tape substrate 4 and the elastomer 3 together.

【0080】ここでは、図4、図5に示すように、テー
プ基板4のバンプ電極取り付け面である上面4f(塗布
側の面)と反対側の面に、その開口部4eを開口させ、
かつ開口部4eの両側にこの開口部4eに沿って細長い
2つのエラストマ3を張り付ける。
Here, as shown in FIGS. 4 and 5, an opening 4e is opened on the surface of the tape substrate 4 opposite to the upper surface 4f (surface on the coating side) which is the bump electrode mounting surface.
Two elongated elastomers 3 are attached to both sides of the opening 4e along the opening 4e.

【0081】これにより、テープ基板4を、エラストマ
3を張り付けた状態とすることができる。
Thus, the tape substrate 4 can be brought into a state where the elastomer 3 is attached.

【0082】その後、図6のステップS4に示すよう
に、半導体チップ1の供給であるチップ供給を行い、こ
れにより、ステップS5のチップ張り付けすなわちテー
プ基板4への半導体チップ1の搭載を行う。
Thereafter, as shown in step S4 in FIG. 6, chip supply for supplying the semiconductor chip 1 is performed, whereby the chip is attached in step S5, that is, the semiconductor chip 1 is mounted on the tape substrate 4.

【0083】ここで、ステップS5のチップ張り付け
は、図5(b)に示すように、センタパッド配列の半導
体チップ1の電極パッド1bをテープ基板4の開口部4
eに露出させて、図5(d)に示すように、半導体チッ
プ1の主面1aとエラストマ3とを接合する。
Here, as shown in FIG. 5B, the chip bonding in step S5 is performed by connecting the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1 having the center pad arrangement to the openings 4 of the tape substrate 4.
e, and the main surface 1a of the semiconductor chip 1 and the elastomer 3 are joined as shown in FIG.

【0084】つまり、エラストマ3に半導体チップ1を
張り付ける。
That is, the semiconductor chip 1 is attached to the elastomer 3.

【0085】これにより、半導体チップ1の主面1aに
おいては、複数の電極パッド1bの両側にこれらの電極
パッド1bと平行にそれぞれの細長いエラストマ3が配
置されたことになり、さらに、テープ基板4の開口部4
eの上方からは、リード部4cと半導体チップ1の電極
パッド1bとを眺めることができる。
As a result, on the main surface 1a of the semiconductor chip 1, the elongated elastomers 3 are arranged on both sides of the plurality of electrode pads 1b in parallel with the electrode pads 1b. Opening 4
From above e, the lead portion 4c and the electrode pad 1b of the semiconductor chip 1 can be viewed.

【0086】さらに、エラストマ3に半導体チップ1を
張り付けたことにより、端部で外部に開口する2つの流
路開口部6aとテープ基板4の開口部4eとに連通する
樹脂流路部6が形成され、樹脂流路部6においては、一
方の流路開口部6aと他方の流路開口部6aとテープ基
板4の開口部4eとが連通した構造となる。
Further, by attaching the semiconductor chip 1 to the elastomer 3, the resin flow path portion 6 communicating with the two flow path openings 6 a which are open to the outside at the ends and the opening 4 e of the tape substrate 4 is formed. The resin flow path 6 has a structure in which one flow path opening 6a, the other flow path opening 6a, and the opening 4e of the tape substrate 4 communicate with each other.

【0087】その後、図6に示すステップS6により、
エラストマキュアベークを行い、エラストマ3から半導
体チップ1が剥がれない程度にエラストマ3をキュアさ
せる。
Thereafter, in step S6 shown in FIG.
Elastomer cure baking is performed to cure the elastomer 3 to such an extent that the semiconductor chip 1 does not peel off from the elastomer 3.

【0088】なお、前記エラストマキュアベークは、ス
テップS10に示す封止材キュアベークの際にこれと一
緒に行ってもよい。
The above-described elastomer cure bake may be performed together with the encapsulant cure bake shown in step S10.

【0089】続いて、ステップS7によってリード部接
続を行う。
Subsequently, the connection of the lead portion is performed in step S7.

【0090】すなわち、半導体チップ1の電極パッド1
bとこれに対応するテープ基板4のリード部4cとを電
気的に接続する。
That is, the electrode pad 1 of the semiconductor chip 1
b and the corresponding lead portion 4c of the tape substrate 4 are electrically connected.

【0091】なお、本実施の形態では、前記リード部接
続として、ワイヤボンディング装置のボンディングツー
ルを用いたシングルポイントボンディングによって接続
を行う。
In the present embodiment, connection is made by single point bonding using a bonding tool of a wire bonding apparatus as the lead connection.

【0092】つまり、前記ボンディングツールをテープ
基板4の開口部4e上に配置し、開口部4eを介して半
導体チップ1のそれぞれの電極パッド1bとこれに対応
するテープ基板4のリード部4cとを順次接続してい
く。
That is, the bonding tool is arranged on the opening 4e of the tape substrate 4, and each electrode pad 1b of the semiconductor chip 1 and the corresponding lead 4c of the tape substrate 4 are connected through the opening 4e. Connect sequentially.

【0093】その後、図6のステップS8に示す封止材
である樹脂8の供給すなわち封止材供給を行って、ステ
ップS9に示す樹脂封止を行う。
Thereafter, the supply of the resin 8 as the sealing material shown in step S8 in FIG. 6, that is, the supply of the sealing material is performed, and the resin sealing shown in step S9 is performed.

【0094】ここでは、CSP11の樹脂流路部6つま
り被塗布部24に対してテープ基板4の開口部4eから
樹脂8を注入することにより、流路開口部6aから外部
に樹脂流路部6内のエアーを逃がしつつポッティング封
止を行い、これによって、半導体チップ1の電極パッド
1bとリード部4cとを封止してそこに封止部5を形成
する。
Here, by injecting the resin 8 from the opening 4e of the tape substrate 4 into the resin flow path portion 6 of the CSP 11, that is, the coated portion 24, the resin flow path portion 6 Potting sealing is performed while releasing the air therein, thereby sealing the electrode pads 1b and the lead portions 4c of the semiconductor chip 1 and forming the sealing portions 5 there.

【0095】まず、図1に示すポッティング装置のロー
ダ9にチップマウント(半導体チップ1のテープ基板4
への搭載)とリード部接続(リードボンディング)とを
終えたテープ基板4をセットする。
First, the chip mount (the tape substrate 4 of the semiconductor chip 1) is mounted on the loader 9 of the potting apparatus shown in FIG.
The tape substrate 4 that has been subjected to the mounting on the tape substrate 4 and the connection of the leads (lead bonding) is set.

【0096】なお、テープ基板4は、図3に示すよう
に、その両端部が保持治具であるキャリア治具19によ
って支持されたものであり、図2に示すように、キャリ
ア治具19をガイドレール13によって案内しつつ、こ
のローダ9からポッティング対象部材であるリードボン
ディング済みのテープ基板4を順次ポッティング部10
に搬送する。
As shown in FIG. 3, both ends of the tape substrate 4 are supported by a carrier jig 19 as a holding jig. As shown in FIG. While being guided by the guide rail 13, the lead-bonded tape substrate 4, which is a member to be potted, is sequentially transferred from the loader 9 to the potting section 10.
Transport to

【0097】その際、テープ基板4の上面4f(塗布側
の面でありかつバンプ搭載面でもある)をノズル7側す
なわち上方に向けてセットし、この状態でテープ基板4
を搬送する。
At this time, the upper surface 4f of the tape substrate 4 (the surface on the coating side and also the surface on which the bumps are mounted) is set toward the nozzle 7, that is, upward.
Is transported.

【0098】続いて、ヒートブロック17上に半導体チ
ップ1が配置され、かつ図3に示す第1クランプ部15
の開口窓15aにテープ基板4の開口部4eが配置する
箇所でテープ基板4の搬送を停止する。
Subsequently, the semiconductor chip 1 is placed on the heat block 17 and the first clamp 15 shown in FIG.
The conveyance of the tape substrate 4 is stopped at the position where the opening 4e of the tape substrate 4 is arranged in the opening window 15a of the tape substrate 4.

【0099】これにより、ヒートブロック17上におい
て、ノズル7の先端面7aとテープ基板4の上面4fと
が対向して配置され、かつ第1クランプ部15の開口窓
15aにテープ基板4の開口部4eが配置された状態と
なる。
Thus, on the heat block 17, the tip end surface 7 a of the nozzle 7 and the upper surface 4 f of the tape substrate 4 are arranged to face each other, and the opening of the tape substrate 4 is 4e is arranged.

【0100】続いて、カメラ26によってテープ基板4
の開口部4eの位置とノズル7の位置とを認識する。
Subsequently, the tape substrate 4 is
The position of the opening 4e and the position of the nozzle 7 are recognized.

【0101】その後、第1クランプ部15のクランプ面
15gがテープ基板4の上面4fに軽く接触する程度に
第1クランプ部15を下降させて停止させる。
Thereafter, the first clamp portion 15 is lowered and stopped to such an extent that the clamp surface 15g of the first clamp portion 15 slightly contacts the upper surface 4f of the tape substrate 4.

【0102】ここでは、モータ15fを所望角度駆動さ
せることにより、カム15dを所望角度回転させて、こ
れにより、第1クランプ部15を所定量リフトさせる。
Here, the cam 15d is rotated by a desired angle by driving the motor 15f to a desired angle, thereby lifting the first clamp portion 15 by a predetermined amount.

【0103】すなわち、カム15dによって、クランパ
支持部15bを介して第1クランプ部15の高さをカム
15dのリフト量に応じて調整し、これにより、テープ
基板4の上面4fの高さに第1クランプ部15のクラン
プ面15gの高さを合わせる。
That is, the height of the first clamp portion 15 is adjusted by the cam 15d via the clamper support portion 15b in accordance with the lift amount of the cam 15d, whereby the height of the first clamp portion 15 is adjusted to the height of the upper surface 4f of the tape substrate 4. 1 The height of the clamp surface 15g of the clamp unit 15 is adjusted.

【0104】続いて、カム17cによって、ヒートブロ
ック支持部17aを介してヒートブロック17およびこ
れに取り付けられた第2クランプ部16のクランプ面1
6aの高さをカム17cのリフト量に応じて調整する。
Subsequently, the clamp 17 of the heat block 17 and the second clamp 16 attached to the heat block 17 via the heat block support 17a by the cam 17c.
The height of 6a is adjusted according to the lift of the cam 17c.

【0105】すなわち、カム17cを、半導体チップ1
の裏面1cとヒートブロック17との間隔が0.1mm程
度になるまで回転させ、これにより、ヒートブロック1
7を上昇させて半導体チップ1に近づける。
That is, the cam 17c is connected to the semiconductor chip 1
The heat block 17 is rotated until the distance between the back surface 1c of the heat block 17 and the heat block 17 becomes about 0.1 mm.
7 is moved closer to the semiconductor chip 1.

【0106】その際、第2クランプ部16のクランプ面
16aはヒートブロック17の上昇の途中からテープ基
板4を加圧し始める。
At this time, the clamp surface 16 a of the second clamp portion 16 starts to press the tape substrate 4 in the middle of the rise of the heat block 17.

【0107】すなわち、第2クランプ部16のクランプ
面16aがテープ基板4を押圧し始めた箇所から第1ク
ランプ部15と第2クランプ部16とによってテープ基
板4を挟持し始める。
That is, the tape substrate 4 starts to be clamped by the first clamp portion 15 and the second clamp portion 16 from the position where the clamp surface 16a of the second clamp portion 16 starts pressing the tape substrate 4.

【0108】その後、半導体チップ1の裏面1cとヒー
トブロック17との間隔が0.1mm程度になった箇所で
カム17cを回転を停止し、ヒートブロック17の上昇
を停止させる。
Thereafter, the rotation of the cam 17c is stopped at a point where the distance between the back surface 1c of the semiconductor chip 1 and the heat block 17 is about 0.1 mm, and the rise of the heat block 17 is stopped.

【0109】なお、第2クランプ部16は、ばね部材2
5を介してヒートブロック17の外周突出部17fに固
定されているため、ばね部材25によって第2クランプ
部16のクランプ面16aを第1クランプ部15のクラ
ンプ面15gに倣わせることができ、その結果、クラン
プ面15gとクランプ面16aとが相互に平行な状態で
なく傾斜成分を有している場合であっても、第1クラン
プ部15と第2クランプ部16とによってクランプ面1
5g、16aとテープ基板4との間に隙間を形成するこ
となく確実にテープ基板4を支持することができる。
Note that the second clamp portion 16 is
5, the clamp surface 16a of the second clamp portion 16 can be made to follow the clamp surface 15g of the first clamp portion 15 by the spring member 25. As a result, even when the clamp surface 15g and the clamp surface 16a are not parallel to each other but have an inclined component, the first clamp portion 15 and the second
The tape substrate 4 can be reliably supported without forming a gap between the tape substrate 4g and the tape substrate 4g.

【0110】その後、テープ基板4の上面4fの高さと
ノズル7の先端面7aの高さとを合わせる。
Thereafter, the height of the upper surface 4f of the tape substrate 4 and the height of the tip end surface 7a of the nozzle 7 are matched.

【0111】ここでは、まず、カメラ26が認識したノ
ズル7の位置に基づいて、ノズル制御部18によってX
方向動作部22およびY方向動作部21を動作させ、こ
れにより、テープ基板4の開口部4e上にノズル7を配
置させる。
Here, first, based on the position of the nozzle 7 recognized by the camera 26, X
The direction operating unit 22 and the Y-direction operating unit 21 are operated, whereby the nozzle 7 is arranged on the opening 4 e of the tape substrate 4.

【0112】この状態で、ノズル制御部18によってZ
方向動作部20を動作させ、これにより、ノズル7を下
降させる。
In this state, Z is controlled by the nozzle controller 18.
The direction operating unit 20 is operated, and thereby the nozzle 7 is lowered.

【0113】その際、ノズル7の先端面7aを第1クラ
ンプ部15のクランプ面15gの高さに合わせる。ただ
し、ノズル7の先端面7aをテープ基板4の上面4fの
高さに合わせてもよい。
At this time, the tip surface 7a of the nozzle 7 is adjusted to the height of the clamp surface 15g of the first clamp portion 15. However, the tip surface 7a of the nozzle 7 may be adjusted to the height of the upper surface 4f of the tape substrate 4.

【0114】さらに、ノズル7の先端面7aの高さを第
1クランプ部15のクランプ面15gもしくはテープ基
板4の上面4fの高さに合わせるのは、目視によって行
ってもよく、または専用のセンサなどを設置しておき、
このセンサを用いて行ってもよい。
Further, the height of the tip end surface 7a of the nozzle 7 may be adjusted to the height of the clamp surface 15g of the first clamp portion 15 or the height of the upper surface 4f of the tape substrate 4 by visual observation or by a dedicated sensor. Etc. are set up,
This may be performed using this sensor.

【0115】これにより、本実施の形態のポッティング
装置では、このテープ基板4の上面4f(塗布側の面)
の高さの位置をノズル7のポッティング動作のポッティ
ング基準位置(高さ)とし、ノズル制御部18によって
テープ基板4の上面4fからのノズル7の高さを制御し
てポッティングを行う。
As a result, in the potting apparatus of the present embodiment, the upper surface 4f of this tape substrate 4 (the surface on the coating side)
Is set as the potting reference position (height) for the potting operation of the nozzle 7, and the nozzle controller 18 controls the height of the nozzle 7 from the upper surface 4 f of the tape substrate 4 to perform potting.

【0116】そこで、一端、ノズル7を上昇させ、前記
ポッティング基準位置であるテープ基板4の上面4fか
ら所定の距離の位置でノズル7を停止させる。
Then, the nozzle 7 is raised at one end, and the nozzle 7 is stopped at a position at a predetermined distance from the upper surface 4f of the tape substrate 4 which is the potting reference position.

【0117】さらに、ディスペンサ23によって、ノズ
ル7から吐出させる樹脂8の吐出圧力と吐出時間を調整
した後、ノズル制御部18によってZ方向動作部20を
動作させてノズル7を下降させてテープ基板4の開口部
4eにノズル7を挿入するとともに、テープ基板4の上
面4fから20〜40μmの高さの箇所でノズル7の下
降を停止し、その後、ポッティングを開始する。
Further, after adjusting the discharge pressure and discharge time of the resin 8 discharged from the nozzle 7 by the dispenser 23, the Z-direction operating unit 20 is operated by the nozzle control unit 18 to lower the nozzle 7 and the tape substrate 4. The nozzle 7 is inserted into the opening 4e, and the descent of the nozzle 7 is stopped at a height of 20 to 40 μm from the upper surface 4f of the tape substrate 4, and then potting is started.

【0118】なお、ポッティングの際には、ノズル制御
部18によってY方向動作部21を動作させ、図2に示
すように、ノズル7をテープ基板4の開口部4eに沿っ
て移動させながら樹脂8を吐出していく。
At the time of potting, the nozzle control section 18 operates the Y-direction operation section 21 to move the nozzle 7 along the opening 4e of the tape substrate 4 while the resin 8 is moved, as shown in FIG. Is discharged.

【0119】つまり、テープ基板4の開口部4eを介し
てノズルから樹脂8を吐出させてテープ基板4の被塗布
部24すなわち半導体チップ1の電極パッド1bおよび
リード部4cに樹脂8を滴下していく。
That is, the resin 8 is discharged from the nozzle through the opening 4 e of the tape substrate 4, and the resin 8 is dropped on the coating portion 24 of the tape substrate 4, that is, the electrode pads 1 b and the lead portions 4 c of the semiconductor chip 1. Go.

【0120】さらに、ポッティング時には、ヒートブロ
ック17によって半導体チップ1、エラストマ3および
テープ基板4を加熱し、これによってテープ基板4の被
塗布部24に滴下された樹脂8を加熱する。その結果、
樹脂8の流動性を向上させることができる。
Further, at the time of potting, the semiconductor chip 1, the elastomer 3 and the tape substrate 4 are heated by the heat block 17, thereby heating the resin 8 dropped on the coated portion 24 of the tape substrate 4. as a result,
The fluidity of the resin 8 can be improved.

【0121】なお、ここで用いるポッティング用の樹脂
8は、例えば、エポキシ系の液状樹脂である。
The potting resin 8 used here is, for example, an epoxy liquid resin.

【0122】続いて、テープ基板4の被塗布部24(樹
脂流路部6)に対して所定量の樹脂8を充填せさ、これ
により、封止部5を形成する。
Subsequently, a predetermined amount of the resin 8 is filled in the coated portion 24 (the resin flow path portion 6) of the tape substrate 4, thereby forming the sealing portion 5.

【0123】この際、樹脂流路部6には、その両端に流
路開口部6aが形成されているため、樹脂流路部6内の
エアーを2つの流路開口部6aから外部に逃がしつつ樹
脂8を注入し続けることができる。
At this time, since the resin flow path 6 has flow path openings 6a formed at both ends thereof, the air in the resin flow path 6 is released from the two flow path openings 6a to the outside. The resin 8 can be continuously injected.

【0124】したがって、ボイドが形成されない図4に
示す封止部5を形成できる。
Therefore, the sealing portion 5 shown in FIG. 4 where no void is formed can be formed.

【0125】なお、ノズル7の移動方向は、図2に示す
方向と逆の方向であってもよい。
The direction of movement of the nozzle 7 may be opposite to the direction shown in FIG.

【0126】その後、図6のステップS10に示すよう
に、封止材キュアベークを行って封止部5を固める。
Thereafter, as shown in step S10 of FIG. 6, the sealing member 5 is hardened by performing a curing bake of the sealing material.

【0127】さらに、ステップS11に示すバンプ電極
2用のボール材をテープ基板4に供給するボール供給を
行ってステップS12に示すバンプ形成を行う。
Further, the ball supply for supplying the ball material for the bump electrode 2 shown in step S11 to the tape substrate 4 is performed to form the bump shown in step S12.

【0128】つまり、テープ基板4のリード部4cと電
気的に接続させてテープ基板4のバンプ電極搭載面であ
る上面4fにバンプ電極2を設ける。
That is, the bump electrodes 2 are provided on the upper surface 4f of the tape substrate 4 which is the bump electrode mounting surface by being electrically connected to the lead portions 4c of the tape substrate 4.

【0129】この際、テープ基板4の上面4fに前記ボ
ール材を供給したものをリフロー炉に通して前記バンプ
形成を行う。
At this time, the bumps are formed by supplying the ball material to the upper surface 4f of the tape substrate 4 through a reflow furnace.

【0130】これにより、半導体チップ1の電極パッド
1bとこれに対応するバンプ電極2とが配線4dおよび
リード部4cを介して電気的に接続される。
Thus, the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1 and the corresponding bump electrodes 2 are electrically connected via the wirings 4d and the lead portions 4c.

【0131】その後、ステップS13に示すように、製
品(CSP11)の型番などのマークを付すマークを行
う。
Thereafter, as shown in step S13, a mark for marking such as a model number of the product (CSP11) is made.

【0132】続いて、ステップS14に示すように、切
断を行って基板本体部4aと基板突出部4bとを分離
し、所望サイズの個々のCSP11を取得する。
Subsequently, as shown in step S14, cutting is performed to separate the substrate main body portion 4a and the substrate protruding portion 4b, and individual CSPs 11 of a desired size are obtained.

【0133】本実施の形態のポッティング方法および装
置ならびにそれを用いた半導体装置(CSP11)の製
造方法によれば、以下のような作用効果が得られる。
According to the potting method and apparatus of the present embodiment and the method of manufacturing a semiconductor device (CSP11) using the same, the following effects can be obtained.

【0134】すなわち、樹脂8のポッティングを行う際
に、塗布対象部材であるテープ基板4のノズル7側に配
置される上面4f(塗布側の面)を基準として、この上
面4fからのノズル7の距離を制御して樹脂8を滴下す
ることにより、テープ基板4の変形あるいはテープ基板
4を支持するキャリア治具19の厚さのばらつきや変形
などに無関係にテープ基板4の樹脂8とノズル7との距
離を制御することができる。
That is, when the potting of the resin 8 is performed, the upper surface 4f (the surface on the coating side) of the tape substrate 4 which is the member to be coated is positioned on the nozzle 7 side as a reference. By controlling the distance and dropping the resin 8, the resin 8 of the tape substrate 4 and the nozzle 7 can be connected independently of the deformation of the tape substrate 4 or the thickness variation or deformation of the carrier jig 19 supporting the tape substrate 4. Distance can be controlled.

【0135】したがって、テープ基板4の変形あるいは
テープ基板4を支持するキャリア治具19の厚さのばら
つきや変形などの影響を受けることがないため、テープ
基板4とノズル7の先端面7aとの距離を高精度に制御
することができる。
Therefore, since there is no influence from the deformation of the tape substrate 4 or the thickness variation or deformation of the carrier jig 19 supporting the tape substrate 4, the distance between the tape substrate 4 and the tip end surface 7 a of the nozzle 7 is not affected. Distance can be controlled with high accuracy.

【0136】すなわち、ポッティングにおいてテープ基
板4の変形あるいはテープ基板4を支持するキャリア治
具19の厚さのばらつきや変形を吸収でき、これによ
り、樹脂8の塗布量のばらつきを低減させることができ
る。
That is, in the potting, the deformation of the tape substrate 4 or the thickness variation and the deformation of the carrier jig 19 supporting the tape substrate 4 can be absorbed, whereby the variation of the applied amount of the resin 8 can be reduced. .

【0137】その結果、樹脂8のポッティングの信頼性
の向上を図ることができる。
As a result, the reliability of the potting of the resin 8 can be improved.

【0138】また、テープ基板4とノズル7の先端面7
aとの距離を高精度に制御できるため、ポッティングの
際のノズル7の下降距離を一定に保つことができる。
The tape substrate 4 and the tip surface 7 of the nozzle 7
Since the distance to a can be controlled with high precision, the descending distance of the nozzle 7 during potting can be kept constant.

【0139】したがって、ノズル7の先端面7aに形成
される樹脂溜まりがノズル7の側面7bに回り込むこと
を防ぐことができ、これにより、塗布位置のずれを防止
することができる。
Therefore, it is possible to prevent the resin pool formed on the tip end surface 7a of the nozzle 7 from wrapping around the side surface 7b of the nozzle 7, thereby preventing the application position from shifting.

【0140】その結果、前記同様、ポッティングの信頼
性の向上を図ることができる。
As a result, the potting reliability can be improved as described above.

【0141】なお、本実施の形態の半導体装置の製造工
程のように、半導体チップ1を搭載したテープ基板4に
樹脂封止としてポッティングを行う際には、ポッティン
グの信頼性を向上できるため、したがって、CSP11
のような半導体装置の信頼性および品質の向上を図るこ
とができる。
When potting is performed with resin sealing on the tape substrate 4 on which the semiconductor chip 1 is mounted as in the manufacturing process of the semiconductor device of the present embodiment, the reliability of the potting can be improved. , CSP11
It is possible to improve the reliability and quality of such a semiconductor device.

【0142】その際、本実施の形態では、配線基板がテ
ープ基板4であるため、テープ基板4は変形しやすいた
め、ポッティングの信頼性をさらに向上できる。
At this time, in this embodiment, since the wiring substrate is the tape substrate 4, the tape substrate 4 is easily deformed, so that the reliability of potting can be further improved.

【0143】また、CSP11の製造工程としてポッテ
ィングを行う際に、テープ基板4とノズル7の先端面7
aとの距離を高精度に制御することができるため、CS
P11(半導体装置)ごとにテープ基板4とノズル7と
の距離の測定を行う必要がなくなる。
When potting is performed as a manufacturing process of the CSP 11, the tape substrate 4 and the tip surface 7
a can be controlled with high accuracy.
It is not necessary to measure the distance between the tape substrate 4 and the nozzle 7 for each P11 (semiconductor device).

【0144】その結果、ポッティング封止におけるその
作業性を向上できる。
As a result, the workability in potting sealing can be improved.

【0145】これにより、CSP11の製造性を向上で
きる。
As a result, the manufacturability of the CSP 11 can be improved.

【0146】また、テープ基板4をクランプして支持す
る第1クランプ部15と第2クランプ部16のうち、第
2クランプ部16に、これのクランプ面16aを第1ク
ランプ部15のクランプ面15gに倣わせるばね部材2
5(弾性部材)が設けられていることにより、第1クラ
ンプ部15の高さの変化(第1クランプ部15の反りや
変形)に第2クランプ部16を追従させることができ
る。
Further, of the first clamp portion 15 and the second clamp portion 16 which clamp and support the tape substrate 4, the second clamp portion 16 is provided with the clamp surface 16a of the first clamp portion 15 by the clamp surface 15g of the first clamp portion 15. Spring member 2 imitating
By providing 5 (elastic member), the second clamp portion 16 can follow a change in the height of the first clamp portion 15 (warpage or deformation of the first clamp portion 15).

【0147】すなわち、第2クランプ部16における高
さのばらつき(傾斜成分なども含む)を微調整すること
ができる。
That is, it is possible to finely adjust the height variation (including the inclination component and the like) in the second clamp portion 16.

【0148】これにより、テープ基板4を第1クランプ
部15および第2クランプ部16によって挟持した際
に、テープ基板4の反りや変形に無関係に挟持すること
ができ、その結果、樹脂8の塗布量のばらつきや塗布位
置のずれを防止させることができる。
Thus, when the tape substrate 4 is clamped by the first clamp portion 15 and the second clamp portion 16, the tape substrate 4 can be clamped irrespective of the warpage or deformation of the tape substrate 4. Variations in the amount and displacement of the application position can be prevented.

【0149】また、第1クランプ部15および第2クラ
ンプ部16におけるそれぞれの高さ(テープ基板4の厚
さ方向の位置)が、相互に独立して位置調整自在に設け
られていることにより、第1クランプ部15に第2クラ
ンプ部16を追従させてテープ基板4をクランプするこ
とができ、その結果、前記同様、樹脂8の塗布量のばら
つきや塗布位置のずれを防止させることができる。
Further, since the respective heights (positions in the thickness direction of the tape substrate 4) of the first clamp portion 15 and the second clamp portion 16 are provided independently of each other so as to be freely adjustable, The tape substrate 4 can be clamped by causing the second clamp portion 16 to follow the first clamp portion 15, and as a result, similarly to the above, it is possible to prevent a variation in the application amount of the resin 8 and a shift in the application position.

【0150】さらに、本実施の形態のポッティング装置
は、第1クランプ部15と、加熱手段であるヒートブロ
ック17とがそれぞれ独立して高さ調整可能な構造であ
ることにより、テープ基板4のクランプとは無関係にヒ
ートブロック17によってテープ基板4を介して樹脂8
を加熱することができる。
Further, the potting apparatus of the present embodiment has a structure in which the first clamp portion 15 and the heat block 17 serving as a heating means have a height adjustable structure independently of each other. Irrespective of the temperature of the resin 8 via the tape substrate 4 by the heat block 17
Can be heated.

【0151】これにより、テープ基板4の反りや変形に
無関係に樹脂8を適切に加熱することができる。
Thus, the resin 8 can be appropriately heated regardless of the warpage or deformation of the tape substrate 4.

【0152】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the invention. However, the invention is not limited to the embodiments of the invention, and does not depart from the gist of the invention. It is needless to say that various changes can be made.

【0153】例えば、前記実施の形態のポッティング装
置においては、ヒートブロック17の昇降動作(高さ調
整)に連動して第2クランプ部16も昇降する構造の場
合を説明したが、両者は、独立して昇降動作可能(高さ
調整可能)なように設けられていてもよい。
For example, in the potting apparatus of the above embodiment, the case where the second clamp portion 16 is moved up and down in conjunction with the elevating operation (height adjustment) of the heat block 17 has been described. It may be provided so as to be able to move up and down (adjustable height).

【0154】また、テープ基板4をキャリア治具19に
貼り付けずにテープ基板4を連続的につないで搬送して
いるものでもよい。
Further, the tape substrate 4 may be continuously connected and conveyed without attaching the tape substrate 4 to the carrier jig 19.

【0155】さらに、キャリア治具19の移動を案内す
るガイドレール13が昇降自在に設置されていてもよ
く、これにより、キャリア治具19の高さを第1クラン
プ部15のクランプ面15gに高精度に合わせることが
でき、ポッティングの信頼性をさらに向上できる。
Further, a guide rail 13 for guiding the movement of the carrier jig 19 may be provided so as to be able to move up and down. This allows the height of the carrier jig 19 to be raised on the clamp surface 15 g of the first clamp portion 15. Accuracy can be adjusted to further improve the potting reliability.

【0156】また、キャリア治具19を押し上げる機構
にこのキャリア治具19の高さ調整を行える機構を設け
てもよい。
The mechanism for pushing up the carrier jig 19 may be provided with a mechanism for adjusting the height of the carrier jig 19.

【0157】さらに、前記実施の形態においては、基板
主支持部が第1クランプ部15で、かつ基板補助支持部
が第2クランプ部16であり、両者によってテープ基板
4を挟持する場合を説明したが、前記基板主支持部が第
1クランプ部15であり、かつ基板補助支持部を真空吸
着機構としてもよい。
Further, in the above-described embodiment, the case where the substrate main supporting portion is the first clamp portion 15 and the substrate auxiliary supporting portion is the second clamp portion 16, and the tape substrate 4 is sandwiched between the two has been described. However, the substrate main support portion may be the first clamp portion 15, and the substrate auxiliary support portion may be a vacuum suction mechanism.

【0158】すなわち、テープ基板4を前記基板主支持
部と前記基板補助支持部とによって挟持するのではな
く、第1クランプ部15に加熱手段も設けて、第1クラ
ンプ部15から真空吸着によってテープ基板4を吸着保
持するものである。
That is, instead of sandwiching the tape substrate 4 between the substrate main support portion and the substrate auxiliary support portion, a heating means is also provided in the first clamp portion 15 and the tape is sucked from the first clamp portion 15 by vacuum suction. This is for holding the substrate 4 by suction.

【0159】この場合、テープ基板4に搭載された半導
体チップ1の裏面1c側には複雑な機構の設置が不要と
なる。
In this case, it is not necessary to install a complicated mechanism on the back surface 1c side of the semiconductor chip 1 mounted on the tape substrate 4.

【0160】また、前記実施の形態では、配線基板がテ
ープ基板4の場合を説明したが、前記配線基板は、比較
的厚いプリント配線基板(ボード)などであってもよ
く、その場合、ノズル7からレジスト液などの樹脂8を
塗布する場合においても、前記プリント配線基板の塗布
側の面を基準としてこのプリント配線基板の被塗布部に
ノズル7から樹脂8を滴下することができる。
In the above-described embodiment, the case where the wiring substrate is the tape substrate 4 has been described. However, the wiring substrate may be a relatively thick printed wiring substrate (board) or the like. Even when a resin 8 such as a resist solution is applied from above, the resin 8 can be dropped from the nozzle 7 to the coated portion of the printed wiring board with reference to the coating side surface of the printed wiring board.

【0161】なお、半導体装置における弾性構造体であ
るエラストマ3の形状についても、前記実施の形態で説
明した細長いテープ状のものに限らず、半導体チップ1
とテープ基板4との間に介在され、かつ半導体チップ1
の複数の電極パッド1bとこれに電気的に接続されたリ
ード部4cとを露出可能な形状であれば、他の形状であ
ってもよい。
The shape of the elastomer 3, which is an elastic structure in the semiconductor device, is not limited to the elongated tape-like shape described in the above embodiment.
Between the semiconductor chip 1 and the tape substrate 4
Any other shape may be used as long as the plurality of electrode pads 1b and the lead portions 4c electrically connected thereto can be exposed.

【0162】また、前記実施の形態においては、半導体
チップ1が長方形の場合について説明したが、半導体チ
ップ1は正方形であってもよい。
In the above embodiment, the case where the semiconductor chip 1 is rectangular has been described, but the semiconductor chip 1 may be square.

【0163】さらに、半導体チップ1に設けられる電極
パッド1bの設置箇所についても、センタパッド配列に
限定されるものではなく、主面1aの外周部などに設け
られた外周パッド配列であってもよい。
Further, the location of the electrode pads 1b provided on the semiconductor chip 1 is not limited to the center pad arrangement, but may be an outer peripheral pad arrangement provided on the outer peripheral portion of the main surface 1a. .

【0164】なお、その際の電極パッド1bの数および
バンプ電極2の数についても、図4または図5に示すC
SP11のように20個に限定されるものではなく、2
0個以下であっても、あるいは、20個以上であっても
よい。
In this case, the number of electrode pads 1b and the number of bump electrodes 2 are also the same as those shown in FIG. 4 or FIG.
It is not limited to 20 like SP11, but 2
The number may be 0 or less, or may be 20 or more.

【0165】また、テープ基板4の開口部4eの形状に
ついても、長方形に限定されるものではなく、半導体チ
ップ1の電極パッド1bとこれに電気的に接続されたリ
ード部4cとを露出可能な形状であれば、長方形以外の
形状であってもよい。
The shape of the opening 4e of the tape substrate 4 is not limited to a rectangle, but can expose the electrode pads 1b of the semiconductor chip 1 and the leads 4c electrically connected thereto. As long as it is a shape, it may be a shape other than a rectangle.

【0166】さらに、前記実施の形態では、半導体装置
の一例としてCSP11の場合を説明したが、前記半導
体装置は、テープ基板4を用いたTAB(Tape Automat
ed Bonding)などであってもよく、この場合のポッティ
ング装置は、TAB用の塗布装置となる。
Further, in the above-described embodiment, the case of the CSP 11 has been described as an example of the semiconductor device, but the semiconductor device is a TAB (Tape Automat) using the tape substrate 4.
ed Bonding) or the like, and the potting device in this case is a coating device for TAB.

【0167】[0167]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0168】(1).塗布対象部材である配線基板のノ
ズル側に配置される塗布側の面からのノズルの距離を制
御して樹脂を滴下することにより、配線基板の変形ある
いは配線基板を支持する保持治具の厚さのばらつきや変
形などに無関係に配線基板の塗布側の面とノズルとの距
離を制御することができ、これにより、配線基板とノズ
ルの先端面との距離を高精度に制御することができる。
したがって、樹脂の塗布量のばらつきを低減させること
ができる。その結果、ポッティングの信頼性の向上を図
ることができる。
(1). By controlling the distance of the nozzle from the coating-side surface, which is disposed on the nozzle side of the wiring substrate, which is the coating target member, and dripping the resin, the wiring substrate is deformed or the thickness of the holding jig that supports the wiring substrate The distance between the coating-side surface of the wiring board and the nozzle can be controlled irrespective of the variation or deformation of the wiring board, whereby the distance between the wiring board and the tip end face of the nozzle can be controlled with high accuracy.
Therefore, it is possible to reduce the variation in the application amount of the resin. As a result, the reliability of potting can be improved.

【0169】(2).配線基板とノズルの先端面との距
離を高精度に制御できるため、ポッティングの際のノズ
ル下降距離を一定に保つことができる。したがって、ノ
ズルの先端面に形成される樹脂溜まりがノズルの側面に
回り込むことを防ぐことができ、これにより、塗布位置
のずれを防止することができる。
(2). Since the distance between the wiring board and the tip surface of the nozzle can be controlled with high precision, the nozzle descent distance during potting can be kept constant. Therefore, it is possible to prevent the resin pool formed on the tip end face of the nozzle from wrapping around the side face of the nozzle, thereby preventing the application position from being shifted.

【0170】(3).半導体チップを搭載した配線基板
に樹脂封止としてポッティングを行う際には、ポッティ
ングの信頼性を向上できるため、したがって、半導体装
置の信頼性および品質の向上を図ることができる。
(3). When potting is performed as resin sealing on a wiring board on which a semiconductor chip is mounted, the reliability of potting can be improved, and therefore, the reliability and quality of the semiconductor device can be improved.

【0171】(4).半導体装置の製造工程としてポッ
ティングを行う際に、配線基板とノズルの先端面との距
離を高精度に制御できるため、半導体装置ごとに配線基
板とノズルとの距離の測定を行う必要がなくなる。その
結果、ポッティング封止におけるその作業性を向上でき
る。これにより、半導体装置の製造性を向上できる。
(4). When potting is performed as a manufacturing process of a semiconductor device, the distance between the wiring substrate and the tip end surface of the nozzle can be controlled with high accuracy, so that it is not necessary to measure the distance between the wiring substrate and the nozzle for each semiconductor device. As a result, the workability in potting sealing can be improved. Thereby, the manufacturability of the semiconductor device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a),(b) は本発明の実施の形態によるポッ
ティング装置の構造の一例を示す図であり、(a) は一
部破断して示す正面図、(b)は(a)のA−A断面を
示す断面図である。
FIGS. 1A and 1B are diagrams showing an example of the structure of a potting device according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a partially cutaway front view, and FIG. 2) is a sectional view showing an AA section.

【図2】図1に示すポッティング装置のポッティング部
の構造を一部断面にして示す拡大側面図である。
FIG. 2 is an enlarged side view showing a part of a structure of a potting portion of the potting device shown in FIG.

【図3】図2に示すポッティング部の構造を示す部分拡
大平面図である。
FIG. 3 is a partially enlarged plan view showing a structure of a potting section shown in FIG. 2;

【図4】本発明の実施の形態の半導体装置の製造方法に
よって組み立てられる半導体装置(CSP)の構造を示
す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a structure of a semiconductor device (CSP) assembled by a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図5】(a),(b),(c),(d)は図4に示す半導体
装置の構造を示す図であり、(a) は平面図、(b)は
底面図、(c)は(b)のA−A断面を示す断面図、
(d)は(b)のB−B断面を示す断面図である。
5 (a), 5 (b), 5 (c) and 5 (d) are views showing the structure of the semiconductor device shown in FIG. 4, wherein FIG. 5 (a) is a plan view, FIG. 5 (b) is a bottom view, and FIG. ) Is a sectional view showing an AA section of (b),
(D) is a sectional view showing a BB section of (b).

【図6】本発明の実施の形態の半導体装置の製造方法に
おける組み立て手順の一例を示す製造プロセスフローで
ある。
FIG. 6 is a manufacturing process flow showing an example of an assembling procedure in a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 1a 主面 1b 電極パッド(表面電極) 1c 裏面 2 バンプ電極(外部端子) 3 エラストマ 4 テープ基板(配線基板) 4a 基板本体部 4b 基板突出部 4c リード部 4d 配線 4e 開口部 4f 上面(塗布側の面) 4g チップ搭載面 5 封止部 6 樹脂流路部 6a 流路開口部 7 ノズル 7a 先端面 7b 側面 8 樹脂 9 ローダ 10 ポッティング部 11 CSP(半導体装置) 12 アンローダ 13 ガイドレール 14 装置本体部 15 第1クランプ部(基板主支持部) 15a 開口窓 15b クランパ支持部 15c カムフォロア 15d カム 15e カップリング 15f モータ 15g クランプ面 16 第2クランプ部(基板補助支持部) 16a クランプ面 17 ヒートブロック(加熱手段) 17a ヒートブロック支持部 17b カムフォロア 17c カム 17d カップリング 17e モータ 17f 外周突出部 18 ノズル制御部 19 キャリア治具 20 Z方向動作部 21 Y方向動作部 22 X方向動作部 23 ディスペンサ 24 被塗布部 25 ばね部材(弾性部材) 26 カメラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 1a Main surface 1b Electrode pad (front electrode) 1c Back surface 2 Bump electrode (external terminal) 3 Elastomer 4 Tape substrate (wiring substrate) 4a Substrate body 4b Substrate protrusion 4c Lead 4d Wiring 4e Opening 4f Upper surface ( 4g Chip mounting surface 5 Sealing part 6 Resin flow path part 6a Flow path opening part 7 Nozzle 7a Tip face 7b Side face 8 Resin 9 Loader 10 Potting part 11 CSP (semiconductor device) 12 Unloader 13 Guide rail 14 Device Body 15 First clamp (substrate main support) 15a Opening window 15b Clamper support 15c Cam follower 15d Cam 15e Coupling 15f Motor 15g Clamp surface 16 Second clamp (substrate auxiliary support) 16a Clamp surface 17 Heat block ( Heating means) 17a Heat block Holder 17b Cam follower 17c Cam 17d Coupling 17e Motor 17f Outer periphery protrusion 18 Nozzle controller 19 Carrier jig 20 Z-direction operation unit 21 Y-direction operation unit 22 X-direction operation unit 23 Dispenser 24 Coated part 25 Spring member (elastic member) ) 26 Camera

フロントページの続き (72)発明者 樋口 和範 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 須田 富司 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 Fターム(参考) 4D075 AC07 BB22Y DA06 DB06 DB53 DC22 EA07 EB33 4F041 AA06 AB01 BA07 BA46 CA02 5F061 AA01 BA05 CA04 DE06 Continued on the front page (72) Inventor Kazunori Higuchi 3-3-2 Fujibashi, Ome-shi, Tokyo Inside Hitachi Tokyo Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Tomoji Suda 3-2-2 Fujibashi, Ome-shi, Tokyo Hitachi Tokyo Electronics Co., Ltd. In-house F term (reference) 4D075 AC07 BB22Y DA06 DB06 DB53 DC22 EA07 EB33 4F041 AA06 AB01 BA07 BA46 CA02 5F061 AA01 BA05 CA04 DE06

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポッティング用の樹脂を吐出可能なノズ
ルの先端面と配線基板の塗布側の面とを対向させて前記
ノズルと前記配線基板とを配置する工程と、 前記配線基板の前記塗布側の面と直角を成す方向におけ
る前記配線基板の前記塗布側の面の位置と前記ノズルの
前記先端面の位置とを合わせる工程と、 前記配線基板の前記塗布側の面を基準として、前記ノズ
ルの前記配線基板の前記塗布側の面からの距離を制御し
て前記ノズルから前記樹脂を吐出させて前記配線基板の
被塗布部に前記樹脂を滴下する工程とを有することを特
徴とするポッティング方法。
A step of disposing the nozzle and the wiring substrate such that a tip end surface of a nozzle capable of discharging a potting resin and a surface on a coating side of the wiring substrate face each other; Matching the position of the coating-side surface of the wiring substrate with the position of the tip end surface of the nozzle in a direction perpendicular to the surface of the nozzle; and, with reference to the coating-side surface of the wiring substrate, Controlling the distance of the wiring substrate from the surface on the application side to discharge the resin from the nozzle to drop the resin onto the application portion of the wiring substrate.
【請求項2】 半導体チップを搭載したテープ基板のチ
ップ搭載面に対する反対側の面である塗布側の面とポッ
ティング用の樹脂を吐出可能なノズルの先端面とを対向
させて、前記樹脂を加熱するヒートブロック上に前記テ
ープ基板を配置する工程と、 前記半導体チップが搭載された前記テープ基板を前記ノ
ズル側に配置される第1クランプ部と前記ヒートブロッ
ク側に配置される第2クランプ部とによってクランプし
て前記ヒートブロック上で支持する工程と、 前記テープ基板の前記塗布側の面の高さと前記ノズルの
前記先端面の高さとを合わせる工程と、 前記テープ基板の前記塗布側の面を基準として、前記ノ
ズルの前記テープ基板の前記塗布側の面からの距離を制
御して前記ノズルから前記テープ基板の開口部を介して
前記半導体チップの表面電極に前記樹脂を滴下する工程
とを有することを特徴とするポッティング方法。
2. A heating method for heating a resin on a tape substrate on which a semiconductor chip is mounted, with a coating-side surface opposite to a chip mounting surface of the tape substrate facing a tip end surface of a nozzle capable of discharging a resin for potting. Disposing the tape substrate on a heat block, and a first clamp unit disposed on the nozzle side and a second clamp unit disposed on the heat block side of the tape substrate on which the semiconductor chip is mounted. Clamping and supporting on the heat block; matching the height of the coating side surface of the tape substrate with the height of the tip end surface of the nozzle; As a reference, the distance of the nozzle from the surface on the coating side of the tape substrate is controlled to control the semiconductor chip from the nozzle through the opening of the tape substrate. Dropping the resin onto a surface electrode of a pump.
【請求項3】 ポッティング用の樹脂を吐出するノズル
と、 前記ノズル側に配置され、前記樹脂のポッティング時に
前記ノズルの先端面に対向する配線基板の塗布側の面を
支持する基板主支持部と、 前記基板主支持部による前記配線基板の支持を補助する
基板補助支持部と、 前記樹脂を加熱する加熱手段と、 前記配線基板の前記塗布側の面に対する前記ノズルの前
記先端面の位置を制御するノズル制御部とを有し、 前記配線基板の前記塗布側の面を基準として、前記ノズ
ル制御部によって前記ノズルの前記配線基板の前記塗布
側の面からの距離を制御して前記樹脂のポッティングを
行うことを特徴とするポッティング装置。
3. A nozzle for discharging a potting resin, and a substrate main support portion disposed on the nozzle side and supporting a surface on a coating side of the wiring substrate facing a tip end surface of the nozzle when the resin is potted. A substrate auxiliary support part that assists the substrate main support part in supporting the wiring board; a heating unit that heats the resin; and a position of the tip end face of the nozzle with respect to the coating side surface of the wiring board. A nozzle control unit that performs potting of the resin by controlling a distance of the nozzle from the coating side surface of the wiring substrate by the nozzle control unit with reference to the coating side surface of the wiring substrate. A potting device.
【請求項4】 ポッティング用の樹脂を吐出するノズル
と、 前記ノズル側に配置され、前記樹脂のポッティング時に
前記ノズルの先端面に対向するテープ基板の塗布側の面
を支持し、前記テープ基板に搭載された半導体チップの
表面電極に対応して開口部が形成された第1クランプ部
と、 前記配線基板の前記ノズル側と反対側に設けられ、前記
樹脂を加熱するヒートブロックと、 前記ポッティング時に前記ヒートブロック上で前記第1
クランプ部とともに前記テープ基板をクランプして前記
テープ基板を支持する第2クランプ部と、 前記テープ基板の前記塗布側の面に対する前記ノズルの
前記先端面の位置を制御するノズル制御部とを有し、 前記テープ基板の前記塗布側の面を基準として、前記ノ
ズル制御部によって前記ノズルの前記テープ基板の前記
塗布側の面からの距離を制御して前記ノズルから前記樹
脂を前記テープ基板の前記開口部を介して前記半導体チ
ップの前記表面電極に滴下することを特徴とするポッテ
ィング装置。
4. A nozzle for discharging a resin for potting, a nozzle disposed on the nozzle side, supporting a surface on a coating side of a tape substrate facing a tip end surface of the nozzle at the time of potting the resin, and supporting the tape substrate. A first clamp portion having an opening formed corresponding to a surface electrode of a mounted semiconductor chip; a heat block provided on a side of the wiring board opposite to the nozzle side, for heating the resin; The first on the heat block
A second clamp unit that clamps the tape substrate together with the clamp unit to support the tape substrate, and a nozzle control unit that controls a position of the tip surface of the nozzle with respect to the application side surface of the tape substrate. The nozzle control unit controls the distance of the nozzle from the coating-side surface of the tape substrate by using the nozzle control unit with reference to the coating-side surface of the tape substrate, and the resin from the nozzle to the opening of the tape substrate. A potting device that drops the liquid onto the front surface electrode of the semiconductor chip through a portion.
【請求項5】 請求項4記載のポッティング装置であっ
て、前記第2クランプ部に、前記第2クランプ部のクラ
ンプ面を前記第1クランプ部のクランプ面に倣わせる弾
性部材が設けられていることを特徴とするポッティング
装置。
5. The potting apparatus according to claim 4, wherein said second clamp portion is provided with an elastic member for causing a clamp surface of said second clamp portion to follow a clamp surface of said first clamp portion. A potting device.
【請求項6】 請求項4または5記載のポッティング装
置であって、前記第1クランプ部および前記第2クラン
プ部におけるそれぞれの前記テープ基板の厚さ方向の位
置が、相互に独立して位置調整自在に設けられているこ
とを特徴とするポッティング装置。
6. The potting device according to claim 4, wherein the positions of the tape substrates in the thickness direction of the first clamp portion and the second clamp portion are adjusted independently of each other. A potting device, which is provided freely.
【請求項7】 半導体チップを配線基板に搭載する工程
と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記配線
基板のリード部とを電気的に接続する工程と、 前記半導体チップを搭載した前記配線基板のチップ搭載
面に対する反対側の面である塗布側の面とポッティング
用の樹脂を吐出可能なノズルの先端面とを対向させて前
記配線基板と前記ノズルとを配置する工程と、 前記配線基板の前記塗布側の面と直角を成す方向におけ
る前記配線基板の前記塗布側の面の位置と前記ノズルの
前記先端面の位置とを合わせる工程と、 前記配線基板の前記塗布側の面を基準として、前記ノズ
ルの前記配線基板の前記塗布側の面からの距離を制御し
て前記ノズルから前記樹脂を吐出させて前記半導体チッ
プの前記表面電極上に前記樹脂を滴下して封止部を形成
する工程と、 前記リード部と電気的に接続させて前記配線基板に外部
端子を設ける工程とを有することを特徴とする半導体装
置の製造方法。
7. A step of mounting a semiconductor chip on a wiring board; a step of electrically connecting a surface electrode of the semiconductor chip to a corresponding lead portion of the wiring board; Arranging the wiring board and the nozzle such that a coating-side surface opposite to a chip mounting surface of the wiring substrate and a tip end surface of a nozzle capable of discharging a potting resin face each other; Matching the position of the coating-side surface of the wiring board with the position of the tip end surface of the nozzle in a direction perpendicular to the coating-side surface of the substrate; and based on the coating-side surface of the wiring substrate. Controlling the distance of the nozzle from the surface of the wiring substrate on the coating side to discharge the resin from the nozzle and drop the resin onto the front surface electrode of the semiconductor chip to seal the resin; Forming a part, a method of manufacturing a semiconductor device characterized by a step of said lead portion and electrically connected to provide an external terminal on the wiring board.
【請求項8】 半導体チップを配線基板に搭載する工程
と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記配線
基板のリード部とを電気的に接続する工程と、 前記半導体チップを搭載した前記配線基板のチップ搭載
面に対する反対側の面である塗布側の面とポッティング
用の樹脂を吐出可能なノズルの先端面とを対向させて、
前記樹脂を加熱するヒートブロック上に前記配線基板を
配置する工程と、 前記半導体チップが搭載された前記配線基板を前記ノズ
ル側に配置される第1クランプ部と前記ヒートブロック
側に配置される第2クランプ部とによってクランプして
前記ヒートブロック上で支持する工程と、 前記配線基板の前記塗布側の面の高さと前記ノズルの前
記先端面の高さとを合わせる工程と、 前記配線基板の前記塗布側の面を基準として、前記ノズ
ルの前記配線基板の前記塗布側の面からの距離を制御し
て前記ノズルから前記配線基板の開口部を介して前記半
導体チップの前記表面電極に前記樹脂を滴下して封止部
を形成する工程と、 前記リード部と電気的に接続させて前記配線基板に外部
端子を設ける工程とを有することを特徴とする半導体装
置の製造方法。
8. A step of mounting a semiconductor chip on a wiring board, a step of electrically connecting a surface electrode of the semiconductor chip and a corresponding lead of the wiring board, and a step of mounting the semiconductor chip. With the coating side, which is the opposite side to the chip mounting surface of the wiring board, and the tip end surface of the nozzle that can discharge the potting resin,
Arranging the wiring board on a heat block that heats the resin; and placing the wiring board on which the semiconductor chip is mounted on a first clamp portion disposed on the nozzle side and a third clamp portion disposed on the heat block side. A step of supporting the substrate on the heat block by clamping with the two clamps; a step of matching the height of the coating-side surface of the wiring board with the height of the tip end surface of the nozzle; The resin is dropped from the nozzle to the front surface electrode of the semiconductor chip through the opening of the wiring board by controlling the distance of the nozzle from the coating side surface of the wiring board with reference to the side surface. Manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: forming an encapsulation portion by forming an external terminal on the wiring substrate by being electrically connected to the lead portion; Method.
【請求項9】 請求項7または8記載の半導体装置の製
造方法であって、前記配線基板として、テープ基板を用
いることを特徴とする半導体装置の製造方法。
9. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 7, wherein a tape substrate is used as said wiring substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008062137A (en) * 2006-09-05 2008-03-21 Athlete Fa Kk Potting device

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