JP2000300930A - ガス処理装置 - Google Patents
ガス処理装置Info
- Publication number
- JP2000300930A JP2000300930A JP11109454A JP10945499A JP2000300930A JP 2000300930 A JP2000300930 A JP 2000300930A JP 11109454 A JP11109454 A JP 11109454A JP 10945499 A JP10945499 A JP 10945499A JP 2000300930 A JP2000300930 A JP 2000300930A
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- Japan
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- gas
- processing
- liquid
- spray
- tower
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- Pending
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- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理ガス中の特定成分濃度が高くこれを極微
量にするなど幅広い濃度のガスに対応できるガス処理装
置を提供する。 【解決手段】 処理ガス中に含まれる高濃度の特定成分
を極微量にまで除去するガス処理装置において、処理塔
１０の底部に液溜め部１２を形成し、その液溜め部１２
の上部の処理塔１０に処理ガスの導入口１３を、頂部に
排出口１４を形成し、処理塔１０の上部１６に液溜め部
１２の吸収液１１をスプレーするスプレー部１８を設け
ると共にそのスプレー部１８の下方に吸収液１１を受け
て処理ガスと気液接触させるトレイ部２０を設けたもの
である。
量にするなど幅広い濃度のガスに対応できるガス処理装
置を提供する。 【解決手段】 処理ガス中に含まれる高濃度の特定成分
を極微量にまで除去するガス処理装置において、処理塔
１０の底部に液溜め部１２を形成し、その液溜め部１２
の上部の処理塔１０に処理ガスの導入口１３を、頂部に
排出口１４を形成し、処理塔１０の上部１６に液溜め部
１２の吸収液１１をスプレーするスプレー部１８を設け
ると共にそのスプレー部１８の下方に吸収液１１を受け
て処理ガスと気液接触させるトレイ部２０を設けたもの
である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、脱硫装置や吸収装
置などのガス処理装置に関するものである。
置などのガス処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガス中の特定成分を吸収除去など
の処理を行う場合、スプレー方式とトレイ方式とが用い
られている。
の処理を行う場合、スプレー方式とトレイ方式とが用い
られている。
【０００３】スプレー方式は、処理ガス中に吸収液など
をスプレーして処理ガス中の特定成分と反応させて、処
理ガスから特定成分を吸収除去するもので、トレイ方式
は、複数の棚段の上段から吸収液を流し、棚段の下方か
ら処理ガスを流し、各棚段のトレイ部で吸収液と処理ガ
スを接触させて処理ガス中の特定成分を吸収除去するも
のである。
をスプレーして処理ガス中の特定成分と反応させて、処
理ガスから特定成分を吸収除去するもので、トレイ方式
は、複数の棚段の上段から吸収液を流し、棚段の下方か
ら処理ガスを流し、各棚段のトレイ部で吸収液と処理ガ
スを接触させて処理ガス中の特定成分を吸収除去するも
のである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、スプレー方
式では、処理ガス中の特定成分濃度が低い場合に有効で
あり、トレイ方式では特定成分濃度が高い場合に有効で
ある。
式では、処理ガス中の特定成分濃度が低い場合に有効で
あり、トレイ方式では特定成分濃度が高い場合に有効で
ある。
【０００５】しかしながら、処理すべき成分が、入口側
で高濃度でかつ出口側では極微量にする場合、スプレ
ー、トレイ両方式とも装置の大型化又は複数化する必要
がある。
で高濃度でかつ出口側では極微量にする場合、スプレ
ー、トレイ両方式とも装置の大型化又は複数化する必要
がある。
【０００６】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、処理ガス中の特定成分濃度が高くこれを極微量にす
るなど幅広い濃度のガスに対応できるガス処理装置を提
供することにある。
し、処理ガス中の特定成分濃度が高くこれを極微量にす
るなど幅広い濃度のガスに対応できるガス処理装置を提
供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、処理ガス中に含まれる高濃度の
特定成分を極微量にまで除去するガス処理装置におい
て、処理塔の底部に液溜め部を形成し、その液溜め部の
上部の処理塔に処理ガスの導入口を、頂部に排出口を形
成し、処理塔の上部に液溜め部の吸収液をスプレーする
スプレー部を設けると共にそのスプレー部の下方に吸収
液を受けて処理ガスと気液接触させるトレイ部を設けた
ガス処理装置である。
に、請求項１の発明は、処理ガス中に含まれる高濃度の
特定成分を極微量にまで除去するガス処理装置におい
て、処理塔の底部に液溜め部を形成し、その液溜め部の
上部の処理塔に処理ガスの導入口を、頂部に排出口を形
成し、処理塔の上部に液溜め部の吸収液をスプレーする
スプレー部を設けると共にそのスプレー部の下方に吸収
液を受けて処理ガスと気液接触させるトレイ部を設けた
ガス処理装置である。
【０００８】請求項２の発明は、液溜め部に対してトレ
イ部の処理塔径を縮径し、そのトレイ部の径に対してス
プレー部の径を縮径して形成した請求項１記載のガス処
理装置である。
イ部の処理塔径を縮径し、そのトレイ部の径に対してス
プレー部の径を縮径して形成した請求項１記載のガス処
理装置である。
【０００９】請求項３の発明は、処理ガスが、脱硫剤の
再生後のＳＯ2 を数％含んだ再生オフガスであり、吸収
液が石灰石スラリーからなり、液溜め部に吸収液酸化用
の空気吹き込み管が設けられる請求項１又は２記載のガ
ス処理装置である。
再生後のＳＯ2 を数％含んだ再生オフガスであり、吸収
液が石灰石スラリーからなり、液溜め部に吸収液酸化用
の空気吹き込み管が設けられる請求項１又は２記載のガ
ス処理装置である。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適一実施の形態
を添付図面に基づいて詳述する。
を添付図面に基づいて詳述する。
【００１１】図１において、１０は処理塔で、底部に、
吸収液１１の液溜め部１２が形成され、その液溜め部１
２の上方の処理塔１０の側面に処理ガスＧの導入口１３
が形成され、頂部に排出口１４が形成される。
吸収液１１の液溜め部１２が形成され、その液溜め部１
２の上方の処理塔１０の側面に処理ガスＧの導入口１３
が形成され、頂部に排出口１４が形成される。
【００１２】処理塔１０は、液溜め部１２より、その上
部の中間部１５が縮径され、更に上部１６が縮径されて
形成される。
部の中間部１５が縮径され、更に上部１６が縮径されて
形成される。
【００１３】この処理塔１０の上部１６に液溜め部１２
の吸収液１１をスプレーするスプレー管１７からなるス
プレー部１８が形成され、その下方の中間部１５に吸収
液１１を受けて処理ガスと気液接触させる複数段の棚１
９からなるトレイ部２０が設けられる。
の吸収液１１をスプレーするスプレー管１７からなるス
プレー部１８が形成され、その下方の中間部１５に吸収
液１１を受けて処理ガスと気液接触させる複数段の棚１
９からなるトレイ部２０が設けられる。
【００１４】スプレー部１８のスプレー管１７は、処理
塔１０の上部１６に上下多段に設けられ、循環ライン２
１、循環ポンプ２２を介して液溜め部１２に接続されて
構成され、液溜め部１２内の吸収液１１を、各段のスプ
レー管１７から噴霧するようになっている。
塔１０の上部１６に上下多段に設けられ、循環ライン２
１、循環ポンプ２２を介して液溜め部１２に接続されて
構成され、液溜め部１２内の吸収液１１を、各段のスプ
レー管１７から噴霧するようになっている。
【００１５】トレイ部２０は、複数段の棚１９からな
り、その棚１９に吸収液を下段の棚１９に流下させるダ
ウンカマー２３が設けられて構成される。このダウンカ
マー２３は、各棚１９で左右交互に設けられ、その上端
が吸収液層２４の堰を形成すると共に下端が下段の棚１
９の吸収液層２４に浸って棚１９間を上昇する処理ガス
のシールを形成すると共に吸収液の流下路２５を形成す
るようになっている。なお最下段のダウンカマー２３ａ
は液溜め部１２の吸収液面に浸るように設けられる。
り、その棚１９に吸収液を下段の棚１９に流下させるダ
ウンカマー２３が設けられて構成される。このダウンカ
マー２３は、各棚１９で左右交互に設けられ、その上端
が吸収液層２４の堰を形成すると共に下端が下段の棚１
９の吸収液層２４に浸って棚１９間を上昇する処理ガス
のシールを形成すると共に吸収液の流下路２５を形成す
るようになっている。なお最下段のダウンカマー２３ａ
は液溜め部１２の吸収液面に浸るように設けられる。
【００１６】このトレイ部２０では、スプレー部１８か
ら噴霧された吸収液を上段の棚１９が受け、ダウンカマ
ー２３から適宜オーバーフローしながら順次下段の棚１
９に流下して液溜め部１２に流下するようにされ、処理
ガスは、順次格段の棚１９を通ってその吸収液層２４内
に吹き込まれて気液接触しながら上部のスプレー部１８
に流れるようになっている。
ら噴霧された吸収液を上段の棚１９が受け、ダウンカマ
ー２３から適宜オーバーフローしながら順次下段の棚１
９に流下して液溜め部１２に流下するようにされ、処理
ガスは、順次格段の棚１９を通ってその吸収液層２４内
に吹き込まれて気液接触しながら上部のスプレー部１８
に流れるようになっている。
【００１７】液溜め部１２には、吸収液の供給ライン２
６が接続されると共に特定成分を吸収した後の吸収液を
排出する排出ライン２７が接続される。
６が接続されると共に特定成分を吸収した後の吸収液を
排出する排出ライン２７が接続される。
【００１８】また、液溜め部１２内には、処理ガス中の
特定成分を吸収した吸収液を酸化する空気吹き込み管２
８が設けられる。
特定成分を吸収した吸収液を酸化する空気吹き込み管２
８が設けられる。
【００１９】以上において、導入口１３から、特定成分
の濃度が数％の処理ガスが導入され、その処理ガスがト
レイ部２０の各棚１９を上昇してその吸収液層２４と気
液接触して特定成分が吸収除去され、さらに上部１６の
スプレー部１８でスプレー管１７から噴霧された吸収液
によって吸収除去される。
の濃度が数％の処理ガスが導入され、その処理ガスがト
レイ部２０の各棚１９を上昇してその吸収液層２４と気
液接触して特定成分が吸収除去され、さらに上部１６の
スプレー部１８でスプレー管１７から噴霧された吸収液
によって吸収除去される。
【００２０】この処理ガス中の特定成分を吸収除去など
の処理する場合、トレイ部２０では、高濃度から中低濃
度、スプレー部では、中低濃度から極低領域の処理が効
果的であり、両者を組み合わせることで、従来２つの方
式を別々に組み合わせて設置する場合に比べて、ポンプ
等の設備が簡略化できる。また幅広い濃度のガスに対応
して処理することが可能となる。この場合、処理塔１０
の中間部１５と上部１６を適宜縮径して塔内を上昇する
処理ガスの流速を最適化することで、吸収液と処理ガス
の接触時間の調整が可能となる。
の処理する場合、トレイ部２０では、高濃度から中低濃
度、スプレー部では、中低濃度から極低領域の処理が効
果的であり、両者を組み合わせることで、従来２つの方
式を別々に組み合わせて設置する場合に比べて、ポンプ
等の設備が簡略化できる。また幅広い濃度のガスに対応
して処理することが可能となる。この場合、処理塔１０
の中間部１５と上部１６を適宜縮径して塔内を上昇する
処理ガスの流速を最適化することで、吸収液と処理ガス
の接触時間の調整が可能となる。
【００２１】次により具体的な例を説明する。
【００２２】石炭ガス化複合発電（ＩＧＣＣ）において
は、ガス化炉で生成された石炭ガス化ガスを乾式脱硫し
た際、その脱硫剤の再生オフガスとして、特定成分とし
てＳＯ2 が数ｖｏｌ％（５〜６％）含んだ再生オフガス
が生成し、この再生オフガスを処理ガスとし、ＳＯ2 の
吸収除去として石灰石（ＣａＣＯ3 ）スラリーを吸収液
として処理する場合を説明する。
は、ガス化炉で生成された石炭ガス化ガスを乾式脱硫し
た際、その脱硫剤の再生オフガスとして、特定成分とし
てＳＯ2 が数ｖｏｌ％（５〜６％）含んだ再生オフガス
が生成し、この再生オフガスを処理ガスとし、ＳＯ2 の
吸収除去として石灰石（ＣａＣＯ3 ）スラリーを吸収液
として処理する場合を説明する。
【００２３】導入口１３から５〜６％のＳＯ2 を含んだ
処理ガス（再生オフガス）が処理塔１０内に導入され、
トレイ部２０の各棚１９上のＣａＣＯ3 スラリー吸収液
２４と接触して、ＳＯ2 が亜硫酸石膏とされて吸収除去
される。このトレイ部２０ではその処理ガス中のＳＯ2
の濃度が２０００ｐｐｍ程度まで吸収除去され、次に、
残りの２０００ｐｐｍのＳＯ2 がスプレー部１８で数１
０ｐｐｍまで吸収除去されて排出口１４から排出され
る。
処理ガス（再生オフガス）が処理塔１０内に導入され、
トレイ部２０の各棚１９上のＣａＣＯ3 スラリー吸収液
２４と接触して、ＳＯ2 が亜硫酸石膏とされて吸収除去
される。このトレイ部２０ではその処理ガス中のＳＯ2
の濃度が２０００ｐｐｍ程度まで吸収除去され、次に、
残りの２０００ｐｐｍのＳＯ2 がスプレー部１８で数１
０ｐｐｍまで吸収除去されて排出口１４から排出され
る。
【００２４】この際、トレイ部２０から液溜め部１２に
は亜硫酸石膏となった吸収液が流下してくるが、液溜め
部１２の空気吹き込み管２８から空気を吹き込むことで
亜硫酸石膏が石膏化される。
は亜硫酸石膏となった吸収液が流下してくるが、液溜め
部１２の空気吹き込み管２８から空気を吹き込むことで
亜硫酸石膏が石膏化される。
【００２５】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のごと
き優れた効果を発揮する。
き優れた効果を発揮する。
【００２６】（１）処理ガス中の特定成分の濃度が高濃
度でも極微量にまで低減することが可能となる。
度でも極微量にまで低減することが可能となる。
【００２７】（２）スプレー方式とトレイ方式を別々に
設置するのに比べて、ポンプ塔の設備が簡略化できる。
設置するのに比べて、ポンプ塔の設備が簡略化できる。
【図１】本発明の一実施の形態を示す図である。
１０ 処理塔 １１ 吸収液 １２ 液溜め部 １３ 導入口 １４ 排出口 １６ 上部 １８ スプレー部 ２０ トレイ部
Claims (3)
- 【請求項１】 処理ガス中に含まれる高濃度の特定成分
を極微量にまで除去するガス処理装置において、処理塔
の底部に液溜め部を形成し、その液溜め部の上部の処理
塔に処理ガスの導入口を、頂部に排出口を形成し、処理
塔の上部に液溜め部の吸収液をスプレーするスプレー部
を設けると共にそのスプレー部の下方に吸収液を受けて
処理ガスと気液接触させるトレイ部を設けたことを特徴
とするガス処理装置。 - 【請求項２】 液溜め部に対してトレイ部の処理塔径を
縮径し、そのトレイ部の径に対してスプレー部の径を縮
径して形成した請求項１記載のガス処理装置。 - 【請求項３】 処理ガスが、脱硫剤の再生後のＳＯ2 を
数％含んだ再生オフガスであり、吸収液が石灰石スラリ
ーからなり、液溜め部に吸収液酸化用の空気吹き込み管
が設けられる請求項１又は２記載のガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11109454A JP2000300930A (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11109454A JP2000300930A (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000300930A true JP2000300930A (ja) | 2000-10-31 |
Family
ID=14510655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11109454A Pending JP2000300930A (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000300930A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100522321C (zh) * | 2006-04-07 | 2009-08-05 | 北京龙源环保工程有限公司 | 湿式脱硫排烟一体化装置 |
| CN109432959A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-03-08 | 江门市佐敦环保科技有限公司 | 一种逆流式多级喷淋装置 |
| CN109432957A (zh) * | 2018-11-28 | 2019-03-08 | 江门市佐敦环保科技有限公司 | 一种新型喷淋装置 |
-
1999
- 1999-04-16 JP JP11109454A patent/JP2000300930A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100522321C (zh) * | 2006-04-07 | 2009-08-05 | 北京龙源环保工程有限公司 | 湿式脱硫排烟一体化装置 |
| CN109432957A (zh) * | 2018-11-28 | 2019-03-08 | 江门市佐敦环保科技有限公司 | 一种新型喷淋装置 |
| CN109432959A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-03-08 | 江门市佐敦环保科技有限公司 | 一种逆流式多级喷淋装置 |
| CN109432959B (zh) * | 2018-11-30 | 2021-07-27 | 江门市佐敦环保科技有限公司 | 一种逆流式多级喷淋装置 |
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