JP2000274481A - アクティブ除振装置 - Google Patents
アクティブ除振装置Info
- Publication number
- JP2000274481A JP2000274481A JP11079158A JP7915899A JP2000274481A JP 2000274481 A JP2000274481 A JP 2000274481A JP 11079158 A JP11079158 A JP 11079158A JP 7915899 A JP7915899 A JP 7915899A JP 2000274481 A JP2000274481 A JP 2000274481A
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- excitation
- acceleration
- floor
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】大型の振動試験設備が不要であり、振動試験を
行う準備である据付及び調整作業に大きな費用と期間を
要することを防止する。 【解決手段】メモリ７のデータに基づいて設定された自
動掃引発振回路８からの加振信号によってアクティブ除
振用のアクチュエータ４を駆動することによって、対象
物１に所定の床振動と等価な振動を与え、対象物１の振
動評価試験を行う。
行う準備である据付及び調整作業に大きな費用と期間を
要することを防止する。 【解決手段】メモリ７のデータに基づいて設定された自
動掃引発振回路８からの加振信号によってアクティブ除
振用のアクチュエータ４を駆動することによって、対象
物１に所定の床振動と等価な振動を与え、対象物１の振
動評価試験を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造装置や半
導体検査装置などの対象物に対し設置場所の床面からの
振動を低減させるためのアクティブ除振装置に関するも
のである。
導体検査装置などの対象物に対し設置場所の床面からの
振動を低減させるためのアクティブ除振装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来からリソグラフィー装置などの半導
体ウェハ製造装置や測長電子顕微鏡などの半導体ウェハ
検査装置には、半導体プロセスの微細化要求に対応した
高精度の性能、すなわちパターン描画精度やパターン測
定精度を確保するため、設置場所の床振動の影響を軽減
させるためのアクティブ除振装置が用いられている。こ
れらの装置が設置される場所、例えばクリーンルームに
必要な床振動の許容条件を決定するため、あるいは所定
の床振動がこれらの装置の性能に及ぼす影響を評価する
ため、アクティブ除振装置を含めた半導体製造装置、な
いしは半導体検査装置の振動試験を行う必要がある。し
かしながら、この振動試験を行うためには、アクティブ
除振装置を含めた半導体製造装置、ないしは半導体検査
装置全体を加振できるような大型の振動試験設備が必要
であった。また、振動試験を行うための準備として、半
導体製造装置、ないしは半導体検査装置の据付及び調整
作業に大きな費用と期間を要するという問題点があっ
た。このため出荷される装置１台毎に振動試験を実施す
ることは現実的ではなかった。
体ウェハ製造装置や測長電子顕微鏡などの半導体ウェハ
検査装置には、半導体プロセスの微細化要求に対応した
高精度の性能、すなわちパターン描画精度やパターン測
定精度を確保するため、設置場所の床振動の影響を軽減
させるためのアクティブ除振装置が用いられている。こ
れらの装置が設置される場所、例えばクリーンルームに
必要な床振動の許容条件を決定するため、あるいは所定
の床振動がこれらの装置の性能に及ぼす影響を評価する
ため、アクティブ除振装置を含めた半導体製造装置、な
いしは半導体検査装置の振動試験を行う必要がある。し
かしながら、この振動試験を行うためには、アクティブ
除振装置を含めた半導体製造装置、ないしは半導体検査
装置全体を加振できるような大型の振動試験設備が必要
であった。また、振動試験を行うための準備として、半
導体製造装置、ないしは半導体検査装置の据付及び調整
作業に大きな費用と期間を要するという問題点があっ
た。このため出荷される装置１台毎に振動試験を実施す
ることは現実的ではなかった。
【０００３】上記のような振動試験のための装置とし
て、例えば、特開平8−170446 号公報に記載されたもの
には、ビル等の構造物の屋上に置かれた制振装置の制振
機能を確認するために、制振装置に加振装置を付加し、
制振制御と加振制御とを切換えるようにした装置が記載
されている。しかしながら、この制振装置は制振する対
象物であるビルの屋上に設置され、地上からの地震等の
振動を屋上で抑える構造を有するものであって、本発明
のような、半導体ウェハの製造装置，検査装置が設置さ
れるクリーンルームの床からこれら装置に伝達される振
動を、その途中で抑えるものではないので、制振の機構
そのものが異なっており、上記問題点の解決には参考に
ならない。
て、例えば、特開平8−170446 号公報に記載されたもの
には、ビル等の構造物の屋上に置かれた制振装置の制振
機能を確認するために、制振装置に加振装置を付加し、
制振制御と加振制御とを切換えるようにした装置が記載
されている。しかしながら、この制振装置は制振する対
象物であるビルの屋上に設置され、地上からの地震等の
振動を屋上で抑える構造を有するものであって、本発明
のような、半導体ウェハの製造装置，検査装置が設置さ
れるクリーンルームの床からこれら装置に伝達される振
動を、その途中で抑えるものではないので、制振の機構
そのものが異なっており、上記問題点の解決には参考に
ならない。
【０００４】また、特開平9−222390 号公報に記載され
たものには、環境試験機の加振される試料が載置される
振動テーブルを加振する加振機と架台との間に除振装置
を設け、架台への振動の伝達を防止した装置が記載され
ている。すなわち、この装置は、加振機で発生する振動
を架台等のそれを支える周辺の装置に伝達しないように
するものであって、上記問題点の解決には参考にならな
い。
たものには、環境試験機の加振される試料が載置される
振動テーブルを加振する加振機と架台との間に除振装置
を設け、架台への振動の伝達を防止した装置が記載され
ている。すなわち、この装置は、加振機で発生する振動
を架台等のそれを支える周辺の装置に伝達しないように
するものであって、上記問題点の解決には参考にならな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アク
ティブ除振装置を含めた半導体製造装置、ないしは半導
体検査装置全体を加振できるような大型の振動試験設備
を不要とし、振動試験を行う準備である据付及び調整作
業に大きな費用と期間を要することを防止することにあ
る。
ティブ除振装置を含めた半導体製造装置、ないしは半導
体検査装置全体を加振できるような大型の振動試験設備
を不要とし、振動試験を行う準備である据付及び調整作
業に大きな費用と期間を要することを防止することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、アクティブ除振装置に加振信号発生手段を設けて、
アクティブ除振用のアクチュエータを駆動し、対象物を
加振することによってアクティブ除振装置を含めた対象
物の振動試験ができる構成とした。
め、アクティブ除振装置に加振信号発生手段を設けて、
アクティブ除振用のアクチュエータを駆動し、対象物を
加振することによってアクティブ除振装置を含めた対象
物の振動試験ができる構成とした。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
例を説明する。
例を説明する。
【０００８】図１は、本発明の実施例を示し、アクティ
ブ除振装置の機能の概略構成を示すブロック図である。
半導体製造装置ないし半導体検査装置などの対象物１
は、クリーンルーム等の床面２の上で複数のアクチュエ
ータ４によって支持されている。
ブ除振装置の機能の概略構成を示すブロック図である。
半導体製造装置ないし半導体検査装置などの対象物１
は、クリーンルーム等の床面２の上で複数のアクチュエ
ータ４によって支持されている。
【０００９】まず、スイッチ９をＯＦＦに設定した場
合、従来のアクティブ除振モードとなる。このアクティ
ブ除振モードの場合、対象物１の振動は加速度検出器３
によって検出され、加算器１０を経て除振制御回路５及
び駆動回路６によってアクチュエータ４を駆動すること
により、対象物１の振動が小さくなるようにフィードバ
ック制御が行われる。この除振制御動作が複数のアクチ
ュエータ４及び加速度検出器３に対してそれぞれ行われ
ることによって、床面２での振動の大きさ、すなわち床
振動の加速度α１に比べ、対象物１の振動加速度α２を
小さく抑え、減衰させる。
合、従来のアクティブ除振モードとなる。このアクティ
ブ除振モードの場合、対象物１の振動は加速度検出器３
によって検出され、加算器１０を経て除振制御回路５及
び駆動回路６によってアクチュエータ４を駆動すること
により、対象物１の振動が小さくなるようにフィードバ
ック制御が行われる。この除振制御動作が複数のアクチ
ュエータ４及び加速度検出器３に対してそれぞれ行われ
ることによって、床面２での振動の大きさ、すなわち床
振動の加速度α１に比べ、対象物１の振動加速度α２を
小さく抑え、減衰させる。
【００１０】次に、スイッチ９をＯＮに設定した場合、
振動試験のための加振モードとなる。この加振モードの
場合、メモリ７に予め記憶された加振周波数に対する所
定の加振加速度の設定値に基づいて、加振信号発生手段
として自動掃引発振回路８から発生された加振信号がス
イッチ９及び加算器１０を経て除振制御回路５に加算し
て入力されることにより、所望の加振加速度で複数のア
クチュエータ４を駆動し、対象物１を加振することがで
きる。
振動試験のための加振モードとなる。この加振モードの
場合、メモリ７に予め記憶された加振周波数に対する所
定の加振加速度の設定値に基づいて、加振信号発生手段
として自動掃引発振回路８から発生された加振信号がス
イッチ９及び加算器１０を経て除振制御回路５に加算し
て入力されることにより、所望の加振加速度で複数のア
クチュエータ４を駆動し、対象物１を加振することがで
きる。
【００１１】この加振モードにおいて、メモリ７及び自
動掃引発振回路８のさらに詳細な動作について、図２か
ら図５を用いて説明する。図２は、アクティブ除振によ
る周波数ｆ対振動減衰率Ｇ(ｆ)の関係の一例を示す相関
図、図３は、周波数ｆと床振動加速度αt1(ｆ)との関係
を示す相関図、図４は、自動掃引発振回路による周波数
ｆと加振加速度αt2(ｆ)との関係を示す相関図、図５
は、自動掃引発振回路による加振加速度αt2(ｆ)の時間
変化を示す相関図である。
動掃引発振回路８のさらに詳細な動作について、図２か
ら図５を用いて説明する。図２は、アクティブ除振によ
る周波数ｆ対振動減衰率Ｇ(ｆ)の関係の一例を示す相関
図、図３は、周波数ｆと床振動加速度αt1(ｆ)との関係
を示す相関図、図４は、自動掃引発振回路による周波数
ｆと加振加速度αt2(ｆ)との関係を示す相関図、図５
は、自動掃引発振回路による加振加速度αt2(ｆ)の時間
変化を示す相関図である。
【００１２】アクティブ除振モードにおいて、アクティ
ブ除振による振動減衰率Ｇ(ｆ)は、床振動α１に対する
対象物１の振動α２の比で表わすことができ、 Ｇ(ｆ)＝α２(ｆ)／α１(ｆ) …（１） となる。アクティブ除振モードにおいて、予め振動減衰
率Ｇ(ｆ)を測定して求めておく。
ブ除振による振動減衰率Ｇ(ｆ)は、床振動α１に対する
対象物１の振動α２の比で表わすことができ、 Ｇ(ｆ)＝α２(ｆ)／α１(ｆ) …（１） となる。アクティブ除振モードにおいて、予め振動減衰
率Ｇ(ｆ)を測定して求めておく。
【００１３】周波数ｆに対する所定の床振動加速度αt1
(ｆ)が例えば図３のように与えられたときの対象物１の
加振加速度αt2(ｆ)は、（１）式から、 αt2(ｆ)＝Ｇ(ｆ)・αt1(ｆ) …（２） と求められ、図４に示す例のようになるので、この加振
加速度αt2(ｆ)を予めメモリに記憶させておく。
(ｆ)が例えば図３のように与えられたときの対象物１の
加振加速度αt2(ｆ)は、（１）式から、 αt2(ｆ)＝Ｇ(ｆ)・αt1(ｆ) …（２） と求められ、図４に示す例のようになるので、この加振
加速度αt2(ｆ)を予めメモリに記憶させておく。
【００１４】この加振加速度αt2(ｆ)のデータに従っ
て、自動掃引発振回路８の発振周波数及び出力振幅が制
御され、図５に示すような加振加速度αt2の時間変化を
示す波形により、アクチュエータ４が駆動される。この
加振モードによる加振状態において、対象物１の装置性
能、すなわち半導体製造装置のパターン描画精度ないし
半導体検査装置のパターン測定精度などの性能を測定す
ることによって、所定の床振動が装置性能に及ぼす影響
を評価することができる。自動掃引発振回路８による加
振信号は、所定の測定周波数毎に、対象物１の装置性能
を測定するために必要な時間に渡って印加すればよい。
て、自動掃引発振回路８の発振周波数及び出力振幅が制
御され、図５に示すような加振加速度αt2の時間変化を
示す波形により、アクチュエータ４が駆動される。この
加振モードによる加振状態において、対象物１の装置性
能、すなわち半導体製造装置のパターン描画精度ないし
半導体検査装置のパターン測定精度などの性能を測定す
ることによって、所定の床振動が装置性能に及ぼす影響
を評価することができる。自動掃引発振回路８による加
振信号は、所定の測定周波数毎に、対象物１の装置性能
を測定するために必要な時間に渡って印加すればよい。
【００１５】本発明の実施例によれば、アクティブ除振
装置及び対象物を含めた装置全体を大型の特別な振動試
験装置で加振することなく、加振信号発生手段によって
アクティブ除振のためのアクチュエータを駆動して、通
常の装置設置状態において、所定の床振動が加えられた
場合と等価な振動を対象物に与えて加振し、対象物の装
置性能の振動試験を行うことができる。
装置及び対象物を含めた装置全体を大型の特別な振動試
験装置で加振することなく、加振信号発生手段によって
アクティブ除振のためのアクチュエータを駆動して、通
常の装置設置状態において、所定の床振動が加えられた
場合と等価な振動を対象物に与えて加振し、対象物の装
置性能の振動試験を行うことができる。
【００１６】このように、アクティブ除振装置を含めた
半導体製造装置、ないしは半導体検査装置の振動試験を
行う場合、アクティブ除振装置を含めた半導体製造装
置、ないしは半導体検査装置全体を加振できるような大
型の振動試験設備を必要とせず、また、振動試験を行う
ための準備として、半導体製造装置、ないしは半導体検
査装置の据付及び調整作業に大きな費用と期間を要する
ことを防止できる。このため、出荷される装置１台毎に
振動試験を実施することも可能である。
半導体製造装置、ないしは半導体検査装置の振動試験を
行う場合、アクティブ除振装置を含めた半導体製造装
置、ないしは半導体検査装置全体を加振できるような大
型の振動試験設備を必要とせず、また、振動試験を行う
ための準備として、半導体製造装置、ないしは半導体検
査装置の据付及び調整作業に大きな費用と期間を要する
ことを防止できる。このため、出荷される装置１台毎に
振動試験を実施することも可能である。
【００１７】
【発明の効果】上述のように、本発明によれば、アクテ
ィブ除振装置を含めた半導体製造装置、ないしは半導体
検査装置全体を加振できるような大型の振動試験設備が
不要であり、振動試験を行う準備である据付及び調整作
業に大きな費用と期間を要することを防止できるという
効果がある。
ィブ除振装置を含めた半導体製造装置、ないしは半導体
検査装置全体を加振できるような大型の振動試験設備が
不要であり、振動試験を行う準備である据付及び調整作
業に大きな費用と期間を要することを防止できるという
効果がある。
【図１】アクティブ除振装置の機能の概略構成を示すブ
ロック図。
ロック図。
【図２】アクティブ除振による周波数ｆ対振動減衰率Ｇ
の関係の一例を示す相関図。
の関係の一例を示す相関図。
【図３】周波数ｆと床振動加速度αt1との関係を示す相
関図。
関図。
【図４】自動掃引発振回路による周波数ｆと加振加速度
αt2との関係を示す相関図。
αt2との関係を示す相関図。
【図５】自動掃引発振回路による加振加速度αt2の時間
変化を示す相関図。
変化を示す相関図。
１…対象物、２…床面、３…加速度検出器、４…アクチ
ュエータ、５…除振制御回路、６…駆動回路、７…メモ
リ、８…自動掃引発振回路、９…スイッチ、１０…加算
器。
ュエータ、５…除振制御回路、６…駆動回路、７…メモ
リ、８…自動掃引発振回路、９…スイッチ、１０…加算
器。
Claims (1)
- 【請求項１】床に設置された対象物の前記床から伝達さ
れる床振動の振動加速度を検出するための加速度検出器
と、前記加速度検出器の出力信号に基づいて前記対象物
の振動を低減させる制御を行う除振制御回路とからなる
アクティブ除振装置において、前記対象物に接続された
アクチュエータと、前記床振動に対するアクティブ除振
による振動減衰率を予め記憶するメモリと、周波数自動
掃引型発振回路からなり、予め定められた床振動試験レ
ベルに前記振動減衰率を乗じた振動レベルを加振信号と
して発生する加振信号発生手段と、前記加振信号発生手
段の出力信号に基づいて前記アクチュエータを駆動する
駆動回路とからなることを特徴とするアクティブ除振装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11079158A JP2000274481A (ja) | 1999-03-24 | 1999-03-24 | アクティブ除振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11079158A JP2000274481A (ja) | 1999-03-24 | 1999-03-24 | アクティブ除振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000274481A true JP2000274481A (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13682161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11079158A Pending JP2000274481A (ja) | 1999-03-24 | 1999-03-24 | アクティブ除振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000274481A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010043875A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-25 | Kajima Corp | アクティブ制振性能評価システム及びプログラム |
| JP2011153991A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Kurashiki Kako Co Ltd | 加振機能を有するアクティブ除振装置 |
-
1999
- 1999-03-24 JP JP11079158A patent/JP2000274481A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010043875A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-25 | Kajima Corp | アクティブ制振性能評価システム及びプログラム |
| JP2011153991A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Kurashiki Kako Co Ltd | 加振機能を有するアクティブ除振装置 |
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