JP2000269683A - Method for manufacturing light transmission electromagnetic wave shielding member - Google Patents

Method for manufacturing light transmission electromagnetic wave shielding member

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JP2000269683A
JP2000269683A JP11074384A JP7438499A JP2000269683A JP 2000269683 A JP2000269683 A JP 2000269683A JP 11074384 A JP11074384 A JP 11074384A JP 7438499 A JP7438499 A JP 7438499A JP 2000269683 A JP2000269683 A JP 2000269683A
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JP
Japan
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electromagnetic wave
pattern
wave shielding
resin composition
shielding member
Prior art date
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Application number
JP11074384A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Kondo
康彦 近藤
Hiroaki Kawasaki
裕章 川崎
Takehiko Matsuyama
武彦 松山
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Sumitomo Rubber Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Rubber Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for inexpensively and easily manufacturing a light transmission electromagnetic wave shielding member with improved electromagnetic wave shield effect, and at the same time each improved characteristic of light transmission property, visibility, visual field angle, and contrast. SOLUTION: In this method for manufacturing a light transmission electromagnetic wave shielding member, a conductive resin composition containing metal power is filled into the recessed part of an intaglio, the intaglio and the surface of a transparent base 2 that is coated with a transparent elastomer on its surface are crimped, the conductive resin composition in the recessed part is transferred directly, thus forming an electromagnetic wave shielding pattern 10 on the transparent base.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CRT(ブラウン
管)、PDP(プラズマ・ディスプレイ・パネル)等の
電子機器の表示部から照射される電磁波を効果的に遮蔽
し得る透光性電磁波シールド部材の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light-transmitting electromagnetic wave shielding member capable of effectively shielding electromagnetic waves emitted from a display portion of an electronic device such as a CRT (CRT) and a PDP (plasma display panel). It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電気機器から放射される電磁波が
人体に与える影響について種々の報告がなされており、
それに伴って、CRT等の表示画面から放射される電磁
波を遮蔽する技術について関心が高まっている。従来、
表示画面から放射される電磁波を遮蔽するには、透明フ
ィルム等の透明基材表面に銅箔等の金属からなるパター
ンを形成した電磁波シールド部材が用いられている。こ
の電磁波シールド部材には、電磁波のシールド(遮蔽)
効果が高いことのほかに、透光性(透視性)や視認性に
優れ、視野角が広いことが要求されており、とりわけ次
世代の画像表示装置として注目されているPDP用の電
磁波シールド部材には、PDPの表示画面から放射され
る電磁波がCRT等よりも強いことからより一層優れた
電磁波シールド特性が求められている。
2. Description of the Related Art In recent years, various reports have been made on the effects of electromagnetic waves radiated from electric devices on the human body.
Along with this, there is increasing interest in techniques for shielding electromagnetic waves radiated from a display screen such as a CRT. Conventionally,
In order to shield electromagnetic waves radiated from a display screen, an electromagnetic wave shielding member having a pattern made of a metal such as a copper foil formed on a surface of a transparent base material such as a transparent film is used. This electromagnetic wave shield member has a shield (shield) for electromagnetic waves.
In addition to being highly effective, it is required to have excellent translucency (transparency) and visibility, and to have a wide viewing angle. In particular, an electromagnetic wave shielding member for a PDP which is attracting attention as a next-generation image display device. Since electromagnetic waves emitted from a display screen of a PDP are stronger than a CRT or the like, more excellent electromagnetic wave shielding characteristics are required.

【0003】電磁波のシールド効果の規格としては、ス
ウェーデンのMPRII規格が世界でも最も厳しい規格と
して知られており、実質上の標準となりつつある。この
規格を満たすには、周波数が1〜1000MHzの極め
て広い領域において電磁波を十分にカットする必要があ
る。
As a standard for the electromagnetic wave shielding effect, the Swedish MPRII standard is known as the strictest standard in the world, and is becoming a practical standard. In order to satisfy this standard, it is necessary to sufficiently cut electromagnetic waves in an extremely wide frequency range of 1 to 1000 MHz.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド効果、
透光性、視認性、視野角等の各特性を十分に満たす電磁
波シールド部材の製造方法として、特開平10−163
673号公報や特開平5−16281号公報には、無電
解メッキによって透明基材の表面に銅箔層を形成し、フ
ォトリソ法にてレジストパターンを形成した後、エッチ
ングによって銅箔層をパターン化する方法が開示されて
いる。このようにエッチングプロセスによってパターン
を形成すれば、非常に微細なパターンを高い精度で形成
することができる。しかしながら、メッキにより形成さ
れた銅薄層の大部分をエッチングによって除去すること
になるため、銅材料の無駄が多く、廃液処理に費用がか
かるなど、電磁波シールド部材の製造コストが高くなる
という問題がある。
The electromagnetic wave shielding effect,
Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-163 discloses a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding member that sufficiently satisfies various characteristics such as translucency, visibility, and viewing angle.
No. 673 and JP-A-5-16281 disclose that a copper foil layer is formed on the surface of a transparent substrate by electroless plating, a resist pattern is formed by a photolithographic method, and then the copper foil layer is patterned by etching. A method for doing so is disclosed. If a pattern is formed by the etching process in this manner, a very fine pattern can be formed with high accuracy. However, since most of the thin copper layer formed by plating is removed by etching, there is a problem that the manufacturing cost of the electromagnetic wave shielding member increases, such as waste of copper material and cost of waste liquid treatment. is there.

【0005】特にPDPは主として大型画面への展開が
図られているため、電磁波シールド部材も大型化が求め
られているが、この場合、フォトリソ法におけるレジス
トパターン形成用の露光装置や、エッチング処理の装置
等を大型化する必要があり、設備投資の面でもコストが
かかる。一方、特公平2−48159号公報には、金属
粉末を混合した紫外線硬化型エポキシアクリレート樹脂
を透光性フィルム上に印刷することで、透光性電磁波シ
ールド部材を得る旨の開示がある。かかる方法によれ
ば、前述の無電解銅メッキ等による銅被覆層の形成やエ
ッチング処理を必要としないため、その製造が簡易で、
銅廃液処理の心配もない。また、銅等の金属の使用量も
パターンの形成に必要な量で足りるため、製造コストの
低減を図ることができる。
In particular, since PDPs are mainly developed for large screens, the size of the electromagnetic wave shielding member is also required to be increased. In this case, an exposure apparatus for forming a resist pattern in a photolithography method, an etching apparatus for etching, and the like. It is necessary to increase the size of the device and the like, and costs are increased in terms of capital investment. On the other hand, Japanese Patent Publication No. 2-48159 discloses that an ultraviolet-curable epoxy acrylate resin mixed with a metal powder is printed on a light-transmitting film to obtain a light-transmitting electromagnetic wave shielding member. According to such a method, the formation and etching of the copper coating layer by the above-described electroless copper plating or the like are not required, so that the production is simple,
There is no need to worry about copper waste liquid treatment. In addition, the amount of metal used, such as copper, is sufficient for the pattern formation, so that manufacturing costs can be reduced.

【0006】しかしながら、上記公報には具体的な印刷
方法についての開示がなく、従来の印刷法によって電磁
波シールドパターンを形成した場合には、一般に十分な
電磁波シールド効果と透光性とを両立することができな
いため、実用化に至っていないのが現状である。すなわ
ち、良好な透光性と優れた視野角とを得るには、パター
ンの線幅を極めて小さくし、その間隔を大きくするとと
もに、パターンの膜厚を小さくする必要があるものの、
従来の印刷法ではかかる微細かつ薄いパターンの形成が
困難であった。例えば、スクリーン印刷法では、印刷時
にスクリーン版が引き伸ばされるため、メッシュが伸縮
して、印刷寸法や印刷位置に±20μm程度のばらつき
が生じてしまう。また、従来のスクリーン印刷法やグラ
ビア印刷法にて線幅50μm以下のパターンを印刷する
と、パターン線幅のばらつきや断線が生じてしまい、電
磁波シールド効果や視認性が低下してしまう。
However, the above publication does not disclose a specific printing method. When an electromagnetic wave shielding pattern is formed by a conventional printing method, it is generally necessary to achieve both a sufficient electromagnetic wave shielding effect and translucency. At present, it has not been put to practical use because it is not possible. That is, in order to obtain good translucency and an excellent viewing angle, the line width of the pattern should be extremely small, the interval between them should be large, and the film thickness of the pattern should be small,
It has been difficult to form such a fine and thin pattern by a conventional printing method. For example, in the screen printing method, since the screen plate is stretched at the time of printing, the mesh expands and contracts, and a variation of about ± 20 μm occurs in a printing dimension and a printing position. Further, when a pattern having a line width of 50 μm or less is printed by a conventional screen printing method or a gravure printing method, variations in the pattern line width and disconnection occur, and the electromagnetic wave shielding effect and visibility are reduced.

【0007】また、電磁波シールド効果を高めるために
金属粉末の量を多くすると、パターンの膜厚がより一層
厚くなったり、樹脂ペーストが印刷に適さなくなるとい
った問題が生じる。さらに、たとえ印刷に適した範囲で
金属粉末の量を多くしたとしても、十分な導電性を有す
るパターンを形成することができなかった。そこで本発
明の目的は、上記課題を解決し、優れた電磁波のシール
ド効果を有するとともに、透光性、視認性、視野角およ
びコントラストの各特性にも優れた透光性電磁波シール
ド部材を低コストでかつ簡易に製造することのできる製
造方法を提供することである。
Further, when the amount of the metal powder is increased in order to enhance the electromagnetic wave shielding effect, there arises a problem that the thickness of the pattern is further increased and the resin paste becomes unsuitable for printing. Furthermore, even if the amount of the metal powder is increased in a range suitable for printing, a pattern having sufficient conductivity could not be formed. Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a low-cost light-transmitting electromagnetic wave shielding member having an excellent electromagnetic wave shielding effect and also having excellent characteristics of light transmission, visibility, viewing angle and contrast. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method which can be manufactured easily and easily.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、あらかじめ透
明基材の表面に所定の処理を施しておけば、微細なパタ
ーンの再現性に優れた凹版印刷法を採用し、かつ一般に
用いられるオフセット印刷よりも簡易な直刷り印刷で印
刷することにより、微細でかつ高精度の電磁波シールド
パターンを形成することができるという全く新たな事実
を見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, it has been found that if a predetermined treatment is applied to the surface of a transparent substrate in advance, a fine pattern can be reproduced. A completely new fact that it is possible to form a fine and high-precision electromagnetic wave shielding pattern by adopting intaglio printing method with excellent performance and printing by direct printing which is simpler than commonly used offset printing And completed the present invention.

【0009】すなわち、本発明の透光性電磁波シールド
部材の製造方法は、金属粉末を含有する導電性樹脂組成
物を凹版の凹部に充填した後、この凹版と、表面に透明
なエラストマーのコーティングが施された透明基材の当
該表面とを圧着して、前記凹部内の導電性樹脂組成物を
直接転写することにより、前記透明基材上に電磁波シー
ルドパターンを形成することを特徴とする。
That is, according to the method of manufacturing a light-transmitting electromagnetic wave shielding member of the present invention, after a conductive resin composition containing a metal powder is filled in a concave portion of an intaglio plate, the intaglio plate and a transparent elastomer coating are applied to the surface. The electromagnetic wave shield pattern is formed on the transparent substrate by pressing the applied surface of the transparent substrate and directly transferring the conductive resin composition in the concave portion.

【0010】上記本発明の製造方法によれば、電磁波の
周波数が1〜1000MHzの極めて広い領域において
優れたシールド効果を有する電磁波シールド部材が得ら
れるとともに、微細でかつ高精度の印刷パターンを形成
することができることに起因して、透光性、視認性、視
野角およびコントラストの各特性にも優れた透光性電磁
波シールド部材を得ることができる。さらには、印刷法
を採用したことによって、当該部材を低コストでかつ簡
易に製造できるという利点をも得ることができる。
According to the manufacturing method of the present invention, it is possible to obtain an electromagnetic wave shielding member having an excellent shielding effect in an extremely wide range where the frequency of electromagnetic waves is 1 to 1000 MHz, and to form a fine and highly accurate print pattern. As a result, it is possible to obtain a light-transmitting electromagnetic wave shielding member having excellent characteristics of light-transmitting property, visibility, viewing angle, and contrast. Further, by adopting the printing method, there can be obtained an advantage that the member can be easily manufactured at low cost.

【0011】また、上記本発明の透光性電磁波シールド
部材の製造方法においては、電磁波シールドパターンが
ストライプ状、格子状または幾何学模様であり、当該電
磁波シールドパターンの線幅Wsが5〜40μm、膜厚
Wtが0.5〜50μmで、かつ前記電磁波シールドパ
ターンの全面積Ssと当該電磁波シールドパターンが形
成されていない領域の全面積Skとが式(1) : 1≦Sk/Ss≦9 を満たすものであるのが好ましい。
In the method for manufacturing a light-transmitting electromagnetic wave shielding member according to the present invention, the electromagnetic wave shielding pattern is a stripe, a lattice, or a geometric pattern, and the line width Ws of the electromagnetic wave shielding pattern is 5 to 40 μm. The total area Ss of the electromagnetic wave shield pattern having a thickness Wt of 0.5 to 50 μm and the total area Sk of a region where the electromagnetic wave shield pattern is not formed is expressed by the following equation (1): 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9 Preferably, it satisfies.

【0012】電磁波シールドパターンの線幅Ws、比S
k/Ss、膜厚Wtが上記範囲を満たすことによって、
電磁波シールド部材のシールド性能をより一層優れたも
のにすることができるとともに、その透光性、視認性お
よび視野角をもより一層優れたものにすることができ
る。
The line width Ws and the ratio S of the electromagnetic wave shield pattern
When k / Ss and film thickness Wt satisfy the above ranges,
The shielding performance of the electromagnetic wave shielding member can be further improved, and the light transmittance, visibility, and viewing angle can be further improved.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の透光性電磁波シールド部材の製造方法
は、前述のように、透明基材の表面に導電性樹脂組成物
を印刷して、導電性シールドパターンに対応した印刷パ
ターンを形成するものであって、(1) 印刷法として、凹
版直刷り印刷法を採用し、(2) インキ受容性を高めるた
めに、あらかじめ透明基材の表面に透明なエラストマー
のコーティングを施し、当該表面に弾性を付与しておく
ことを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. As described above, the method for manufacturing a translucent electromagnetic wave shielding member of the present invention involves printing a conductive resin composition on the surface of a transparent substrate to form a printed pattern corresponding to the conductive shield pattern. (1) The intaglio direct printing printing method is adopted as the printing method, and (2) a transparent elastomer coating is applied to the surface of the transparent substrate in advance to increase the ink receptivity, and the surface is given elasticity. It is characterized by keeping.

【0014】〔導電性樹脂組成物の印刷方法〕本発明に
おいて、導電性樹脂組成物を印刷する際の印刷方法に
は、形成されるラインの直線性が良好で、極めて微細な
パターンを高い精度で印刷再現できる凹版印刷法が用い
られる。一般に、凹版印刷法においては、ブランケット
を介して凹版から被印刷物にインキを転写する凹版オフ
セット印刷法が用いられる。この凹版オフセット印刷法
によれば、パターンの線幅が50μmを下回る極めて細
い場合であっても、均一な厚みでかつ高い印刷精度もっ
てパターンを形成することができる。
[Printing Method of Conductive Resin Composition] In the present invention, a printing method for printing a conductive resin composition includes a line having good linearity and an extremely fine pattern having high precision. The intaglio printing method which can reproduce the print by the method is used. Generally, in the intaglio printing method, an intaglio offset printing method is used in which ink is transferred from the intaglio to a printing medium via a blanket. According to this intaglio offset printing method, a pattern can be formed with a uniform thickness and high printing precision even when the line width of the pattern is extremely thin, less than 50 μm.

【0015】一方、本発明においては、あらかじめ透明
基材の表面に透明なエラストマーのコーティングを施す
ことによって当該表面の弾性が高められており、その結
果、インキの受容性が高くなっている。このため、弾性
を有するブランケットを介さなくても、硬質の凹版から
透明基材に直接導電性樹脂組成物を転移させる、いわゆ
る直刷り印刷によって、上記凹版オフセット印刷法と同
程度またはそれ以上の優れた印刷精度で持ってパターン
を形成することができる。
On the other hand, in the present invention, the elasticity of the transparent base material is enhanced by previously applying a transparent elastomer coating to the surface of the transparent base material, and as a result, ink receptivity is increased. Therefore, without using an elastic blanket, the conductive resin composition is directly transferred from the hard intaglio to the transparent substrate, by so-called direct printing, the same or better as the intaglio offset printing method A pattern can be formed with high printing accuracy.

【0016】前記凹版直刷り印刷を採用することによ
り、導電性樹脂組成物を一旦ブランケットに転移させる
工程が省かれるため、印刷機の構造を極めてシンプルな
ものとすることができかつ印刷時間を短縮することがで
き、ひいては生産性を向上させることができる。また、
連続印刷によるブランケットの劣化を考慮する必要がな
く、安定した生産を行うことができる。
By employing the intaglio direct printing, the step of temporarily transferring the conductive resin composition to a blanket can be omitted, so that the structure of the printing machine can be made extremely simple and the printing time can be reduced. And thus productivity can be improved. Also,
There is no need to consider the deterioration of the blanket due to continuous printing, and stable production can be performed.

【0017】さらに、導電性樹脂組成物の転移時に生じ
る当該樹脂組成物の分断が、凹版から透明基材への転移
時の1回しか起こらないことから、1回の印刷で十分な
膜厚を有するパターンを形成でき、生産性の向上、ひい
ては製造コストの削減を図ることができる。また、ライ
ンやエッジの形状などが極めて良好で、印刷精度が極め
て高いパターンを形成することができる。
Furthermore, since the resin composition is cut off only once when the conductive resin composition is transferred from the intaglio to the transparent substrate, a sufficient film thickness can be obtained by one printing. Pattern can be formed, thereby improving productivity and reducing manufacturing costs. Further, it is possible to form a pattern in which the shapes of lines and edges are extremely good and the printing accuracy is extremely high.

【0018】導電性シールドパターンの形成に、導電性
樹脂組成物を凹版直刷り印刷法で印刷する方法を用いた
場合の製造コストを1とすると、凹版オフセット印刷法
や平版オフセット印刷法を用いた場合のコストは2〜3
程度、フォトリソ法を用いた場合のコストは5〜10で
ある。 (凹版)本発明に用いられる凹版としては、例えばソー
ダライムガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス、低
アルカリガラス、低膨張ガラス等のガラス;フッ素樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹
脂、ポリメタクリル樹脂等の樹脂;ステンレス、銅、低
膨張合金アンバー等の金属などが用いられる。中でも、
ソーダライムガラス等の軟質ガラスを用いるのが、微細
なパターンを高精度で再現する上で好ましい。また、凹
版は平らなものに限定されるものではなく、例えば筒状
または曲面上のものであれば、後述するように、印刷パ
ターンの形成時に当該凹版を透明基材上に転がすことで
印刷を行なうことができ、印刷工程の連続処理を可能に
するといった利点が得られる。
Assuming that the production cost when the method of printing the conductive resin composition by the intaglio direct printing method is 1 for forming the conductive shield pattern, the intaglio offset printing method and the lithographic offset printing method are used. Cost is 2-3
The cost when using the photolithography method is 5 to 10. (Intaglio) Intaglio used in the present invention includes, for example, glass such as soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, low alkali glass, and low expansion glass; fluororesin, polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polymethacrylic resin, etc. Resin; metals such as stainless steel, copper, and low expansion alloy invar are used. Among them,
It is preferable to use a soft glass such as soda lime glass in order to reproduce a fine pattern with high accuracy. In addition, the intaglio is not limited to a flat one.For example, if the intaglio is on a cylindrical or curved surface, as described later, printing is performed by rolling the intaglio on a transparent substrate when forming a print pattern. And has the advantage of enabling continuous processing of the printing process.

【0019】凹版の表面は、ドクタリング時にインキの
かき残りが生じて非画線部の汚れ(地汚れ)が発生して
しまうのを防止するために、極めて平坦であることが求
められる。最も安価に表面平坦性の優れた凹版を作製す
るには、上記例示のガラスを用いて、エッチングによっ
て凹版を作製するのが好ましい。凹版凹部の線幅および
線間隔は、電磁波シールドパターン部の形状に応じて適
宜設定される。また、凹版凹部の深さも電磁波シールド
パターン部の形状に応じて適宜設定されるものである
が、通常1〜50μm程度に設定するのが適当である。
透明基材表面のインキ転移性を良好なものとした場合に
おいて、凹版凹部から透明基材へは凹部内のインキの約
半分が転移することから、凹部の深さは上記転移時にお
けるインキのロスを考慮して設定すればよい。
The surface of the intaglio printing plate is required to be extremely flat in order to prevent the remaining of the ink during doctoring from causing stains on the non-image area (ground stains). In order to produce an intaglio with excellent surface flatness at the lowest cost, it is preferable to produce an intaglio by etching using the glass exemplified above. The line width and the line interval of the intaglio recess are appropriately set according to the shape of the electromagnetic wave shield pattern portion. Further, the depth of the intaglio concave portion is appropriately set according to the shape of the electromagnetic wave shield pattern portion, but it is usually appropriate to set it to about 1 to 50 μm.
When the ink transferability on the surface of the transparent base material is good, about half of the ink in the concave part transfers from the intaglio concave part to the transparent base material. May be set in consideration of.

【0020】(透明基材)本発明に用いられる透明基材
としては、可視光線に対して優れた透光性を有するもの
であるほかに、導電性樹脂組成物を透明基材上に印刷し
た後で加熱工程を経ることから、充分な耐熱性を有する
ものが好ましい。また、製造時にロール状に巻き付けて
連続処理が可能となるように、可撓性を有するものであ
ることが好ましい。
(Transparent Substrate) The transparent substrate used in the present invention has excellent translucency to visible light and a conductive resin composition printed on the transparent substrate. A material having a sufficient heat resistance is preferable because a heating step is performed later. Further, it is preferable that the material has flexibility so that continuous processing can be performed by winding the film into a roll at the time of manufacturing.

【0021】具体的に、透明基材としては、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET、屈折率n=1.575)等
のポリエステル類;ポリエチレン(n=1.51)、ポ
リプロピレン(n=1.49)、ポリスチレン(n=
1.59)等のポリオレフィン類;ポリ塩化ビニル(P
VC、n=1.545)、ポリ塩化ビニリデン(PVD
C、n=1.62)等のビニル類;ポリエーテルスルホ
ン;ポリメタクリル酸メチル(PMMA樹脂、n=1.
49)等のアクリル樹脂;ポリアミド樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂(PC、n=1.59)、ポリイミド樹脂等
が挙げられる。中でも、可視光線の透過性が非常に良好
でかつ安価であるPETフィルムが好適に用いられる。
Specifically, as the transparent substrate, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET, refractive index n = 1.575); polyethylene (n = 1.51), polypropylene (n = 1.49), polystyrene (N =
Polyolefins such as 1.59); polyvinyl chloride (P
VC, n = 1.545), polyvinylidene chloride (PVD)
Vinyls such as C, n = 1.62); polyether sulfone; polymethyl methacrylate (PMMA resin, n = 1.
Acrylic resins such as 49); polyamide resins, polycarbonate resins (PC, n = 1.59), polyimide resins and the like. Above all, a PET film having very good visible light transmittance and being inexpensive is preferably used.

【0022】なお、透明基材は上記例示のものに限定さ
れるものではなく、透明であれば、従来公知の種々のガ
ラス基板または樹脂基板を用いることができる。透明基
材の厚みは特に限定されないが、電磁波シールド部材の
透光性を維持するという観点から薄いほど好ましく、使
用時の形態(フィルム状、シート状)や必要とされる機
械的強度に応じて、通常0.05〜5mmの範囲で適宜
設定すればよい。
The transparent substrate is not limited to those described above, and various types of conventionally known glass substrates or resin substrates can be used as long as they are transparent. The thickness of the transparent substrate is not particularly limited, but is preferably thinner from the viewpoint of maintaining the translucency of the electromagnetic wave shielding member, depending on the form (film-like or sheet-like) in use and the required mechanical strength. Usually, it may be appropriately set in the range of 0.05 to 5 mm.

【0023】(透明なエラストマー)透明基材表面への
コーティング剤として用いられる透明なエラストマーと
しては、透明基材表面と導電性樹脂組成物の双方に対し
て親和性が良好であり、かつ電磁波シールド部材の透光
性を阻害することがない程度に十分な透明性を有するも
のであればよいが、中でも、電磁波シールド部材の透光
性を維持するという観点から、透明基材との屈折率nの
差ができる限り小さいものが好適である。
(Transparent Elastomer) The transparent elastomer used as a coating agent on the surface of the transparent substrate has a good affinity for both the surface of the transparent substrate and the conductive resin composition, and is shielded from electromagnetic waves. Any material may be used as long as it has sufficient transparency so as not to hinder the light transmittance of the member. Among them, from the viewpoint of maintaining the light transmittance of the electromagnetic wave shielding member, the refractive index n with the transparent base material is preferred. Is preferably as small as possible.

【0024】透明基材と上記エラストマーとの屈折率n
の差は0.15以下であるのが好ましい。本発明に使用
可能なエラストマーとしては、例えば天然ゴム(屈折率
n=1.52、Δn=0.055)、ブタジエンゴム
(n=1.50、Δn=0.075)、ポリ塩化ビニル
(n=1.55、Δn=0.025)、クロロプレンゴ
ム、ニトリルゴム等が挙げられる。なお、上記例示中、
カッコ内に示したΔnは、透明基材として好適なポリエ
チレンテレフタレート(PET)フィルム(n=1.5
75)との屈折率の差である。
The refractive index n between the transparent substrate and the above elastomer
Is preferably 0.15 or less. Examples of the elastomer usable in the present invention include natural rubber (refractive index n = 1.52, Δn = 0.555), butadiene rubber (n = 1.50, Δn = 0.0075), polyvinyl chloride (n = 1.55, Δn = 0.025), chloroprene rubber, nitrile rubber and the like. In the above example,
Δn shown in parentheses is a polyethylene terephthalate (PET) film (n = 1.5) suitable as a transparent substrate.
75).

【0025】また、上記エラストマーに配合する添加剤
としては、当該エラストマーと同程度の屈折率を有し、
エラストマー内で均一に分散させることができるもので
あるのが好ましい。例えば、前記エラストマーとして天
然ゴムを用いる場合には、屈折率が極めて近く、かつ均
一に分散させ得る炭酸マグネシウムを添加することによ
り、極めて透明性の高いコーティングを形成することが
できる。
The additive to be added to the above elastomer has a refractive index similar to that of the elastomer,
Preferably, it can be uniformly dispersed in the elastomer. For example, when natural rubber is used as the elastomer, a very transparent coating can be formed by adding magnesium carbonate, which has a very close refractive index and can be dispersed uniformly.

【0026】透明なエラストマーによるコーティングの
厚さは、導電性樹脂組成物を印刷する際の、透明基材表
面の変形の度合いや、基材の透光性に応じて適宜設定さ
れるものであるが、一般に1〜500μm、とりわけ5
〜100μmの範囲で設定するのが好ましい。前記コー
ティングが硬いと、透明基材の表面に弾性を付与する効
果が得られず、逆に柔らかすぎると、導電性樹脂組成物
の印刷時における変形量が大きくなって、高精度の印刷
を行うことができなくなる。そこで、前記コーティング
の硬さは、JIS−A硬度で1〜80度、とりわけ10
〜70度の範囲で設定するのが好ましい。
The thickness of the coating made of the transparent elastomer is appropriately set according to the degree of deformation of the surface of the transparent substrate when the conductive resin composition is printed, and the transparency of the substrate. But generally 1 to 500 μm, especially 5
It is preferable to set the thickness in the range of 100 μm to 100 μm. If the coating is hard, the effect of imparting elasticity to the surface of the transparent substrate cannot be obtained, and if the coating is too soft, the amount of deformation during printing of the conductive resin composition increases, and high-precision printing is performed. You will not be able to do it. Therefore, the hardness of the coating is 1 to 80 degrees in JIS-A hardness, especially 10 to 80 degrees.
It is preferable to set the angle in the range of -70 degrees.

【0027】上記コーティングは、透明基材の表面に前
述のエラストマー(または前記エラストマーを適当な溶
媒に溶かしたもの)を塗布して硬化させた後、必要に応
じて加硫を施せばよい。加硫条件は、エラストマーの種
類に応じて、常法に従って適宜設定すればよい。 (導電性樹脂組成物)本発明において、透明基材上に印
刷されて、電磁波シールドパターンを構成する導電性樹
脂組成物としては、樹脂成分中に少なくとも、導電性を
付与するための金属粉末を配合したものが用いられる。
The above-mentioned coating may be applied with the above-mentioned elastomer (or a solution obtained by dissolving the above-mentioned elastomer in a suitable solvent) on the surface of a transparent substrate, cured, and then vulcanized as required. Vulcanization conditions may be appropriately set according to a conventional method, depending on the type of the elastomer. (Conductive resin composition) In the present invention, as the conductive resin composition which is printed on a transparent base material and constitutes an electromagnetic wave shielding pattern, at least a metal powder for imparting conductivity to a resin component is used. What is blended is used.

【0028】(i) 樹脂成分 上記導電性樹脂組成物における樹脂成分としては、例え
ばポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチ
ルセルロース樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリアミド樹脂等の熱可塑性樹脂;(メタ)アクリ
ル樹脂等の紫外線硬化樹脂;ポリエステル−メラミン樹
脂、メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリイミド樹脂、
(メタ)アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂のいずれも使用
できる。
(I) Resin component The resin component in the conductive resin composition is, for example, a thermoplastic resin such as a polyester resin, a polyvinyl butyral resin, an ethyl cellulose resin, a polyethylene resin, a polystyrene resin, and a polyamide resin; (meth) acrylic resin UV-curable resins such as polyester-melamine resin, melamine resin, epoxy-melamine resin, phenol resin, epoxy resin, amino resin, polyimide resin,
Any of thermosetting resins such as (meth) acrylic resin can be used.

【0029】中でも、加熱・硬化の際に還元性のガスを
発生する樹脂は、金属粉末の酸化を防止し、金属粉末の
体積固有抵抗が低下するのを防止することができるため
に、好適である。かかる樹脂としては、硬化時にアンモ
ニア、ハロゲン化水素、ホルムアルデヒド等の還元性の
ガス、好ましくはホルムアルデヒドを発生する熱硬化性
樹脂が挙げられる。ホルムアルデヒドを発生する熱硬化
性樹脂としては、例えばフェノール樹脂(とくにメチロ
ール基の多いレゾール型フェノール樹脂)やアミノ樹脂
(とくにメラミン樹脂)があげられる。
Among them, a resin that generates a reducing gas upon heating and curing is preferable because it can prevent oxidation of the metal powder and prevent the volume resistivity of the metal powder from decreasing. is there. Examples of such a resin include a thermosetting resin that generates a reducing gas such as ammonia, hydrogen halide, or formaldehyde during curing, preferably formaldehyde. Examples of the thermosetting resin that generates formaldehyde include a phenol resin (especially a resole-type phenol resin having many methylol groups) and an amino resin (especially a melamine resin).

【0030】(ii)金属粉末 本発明において、導電性樹脂組成物に配合される金属粉
末としては、例えば銀、銅、ニッケル、パラジウム、
金、アルミニウム、タングステン、クロム、チタン等の
粉末が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合
して用いられる。また、本発明においては、前記金属単
体の粉末のほかに、銅粉末やニッケル粉末の表面を銀で
被覆したものを用いることもできる。
(Ii) Metal Powder In the present invention, the metal powder to be mixed with the conductive resin composition includes, for example, silver, copper, nickel, palladium,
Powders of gold, aluminum, tungsten, chromium, titanium and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more. In addition, in the present invention, in addition to the powder of the simple metal, a powder obtained by coating the surface of a copper powder or a nickel powder with silver can be used.

【0031】上記例示の金属粉末のなかでもとりわけ銀
粉末は、絶縁性の高い酸化物が生成しにくく、かつ体積
固有抵抗が低いことから好適に用いられる。ニッケル粉
末は、体積固有抵抗が銀粉末や銅粉末ほどは小さくない
ものの、耐酸化性が強いため、遮蔽効果の経時変化が少
ない電磁波シールドパターンを作製するのに好適であ
る。銅粉末は表面の酸化が生じやすいので、硬化させる
際に還元性のガスを発生する樹脂とともに用いるのが好
ましい。
Among the metal powders exemplified above, silver powder is particularly preferably used because it is difficult to form an oxide having a high insulating property and the volume resistivity is low. Although nickel powder has a volume resistivity not as small as silver powder or copper powder, it has high oxidation resistance, and thus is suitable for producing an electromagnetic wave shield pattern in which the shielding effect has little change with time. Copper powder is apt to be oxidized on the surface, and therefore is preferably used together with a resin that generates a reducing gas when cured.

【0032】導電性樹脂組成物中での金属粉末の充填密
度は、電磁波シールドパターンの導電性を高めて、電磁
波シールド効果をより一層高くするという観点から、高
いほど好ましい。但し、充填密度が高すぎるとかえって
導電性が悪くなる傾向がみられる。一般に、導電性は、
金属粉末の充填率が80%前後であるときに最も良好で
ある。
The higher the packing density of the metal powder in the conductive resin composition, the better the conductivity of the electromagnetic wave shielding pattern and the higher the electromagnetic wave shielding effect. However, if the packing density is too high, the conductivity tends to worsen. In general, the conductivity is
It is best when the filling ratio of the metal powder is around 80%.

【0033】電磁波シールドパターンの導電性は、使用
する金属粉末自体の体積固有抵抗のみで決まるものでは
なく、パターンの内部での金属粉末間の接触抵抗によっ
ても大きく左右される。例えば、電磁波シールドパター
ンの内部に金属粒子が高密度で充填されていても、金属
粉末間の接触抵抗が大きければ、パターン全体の導電性
が低くなるおそれがある。
The conductivity of the electromagnetic wave shield pattern is not determined only by the volume resistivity of the metal powder used itself, but is greatly influenced by the contact resistance between the metal powders inside the pattern. For example, even if metal particles are densely filled in the electromagnetic shield pattern, if the contact resistance between the metal powders is large, the conductivity of the entire pattern may be reduced.

【0034】金属粉末の平均粒径は特に限定されない
が、導電性樹脂組成物中に均一に配合されることを考慮
して、通常1〜15μmの範囲で設定するのが好まし
い。平均粒径が上記範囲を超えると金属粉末同士の接触
点が少なくなり、接触抵抗が大きくなるおそれがある。
また、電磁波シールドパターンの表面に凹凸を生じさせ
る原因になるおそれもある。逆に、平均粒径が上記範囲
を下回ると金属粉末を導電性樹脂組成物中に均一に分散
させるのが困難になるおそれがある。一方、金属粉末の
充填密度を高めることを目的として、平均粒径が上記範
囲にある金属粉末と、平均粒径が0.01〜3μmの小
粒径のものを100:1〜100:50の重量比で混合
してもよい。
Although the average particle size of the metal powder is not particularly limited, it is usually preferably set in the range of 1 to 15 μm in consideration of being uniformly mixed in the conductive resin composition. If the average particle size exceeds the above range, the number of contact points between the metal powders decreases, and the contact resistance may increase.
In addition, there is a possibility that the surface of the electromagnetic wave shield pattern becomes uneven. Conversely, if the average particle size is below the above range, it may be difficult to uniformly disperse the metal powder in the conductive resin composition. On the other hand, for the purpose of increasing the packing density of the metal powder, a metal powder having an average particle diameter in the above range and a small particle having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm have a particle diameter of 100: 1 to 100: 50. You may mix by weight ratio.

【0035】金属粉末の形状は球状、鱗片状等のいずれ
の形状であってもよいが、金属粉末同士の接触面を大き
くする(接触抵抗を小さくする)ことを考慮すれば、球
状よりも鱗片状のものを使用するのが好ましい。導電性
樹脂組成物中の金属粉末の配合量は、金属粉末の充填密
度や電磁波シールドパターンに要求される導電性に応じ
て設定されるものであって、特に限定されるものではな
いが、通常、導電性樹脂組成物中の含有割合が60〜9
5重量%、好ましくは70〜90重量%の範囲となるよ
うに設定される。金属粉末の含有割合が上記範囲を下回
ると、金属粉末同士の接触点が不足して、電磁波シール
ドパターンの体積固有抵抗が大きくなるおそれがある。
逆に、含有割合が上記範囲を超えると、導電性樹脂組成
物の全量に対する樹脂の含有量が少なくなり過ぎて、金
属粉末を結合させる力が小さくなり、その結果、電磁波
シールドパターンの体積固有抵抗が大きくなるおれがあ
る。また、金属粉末の含有割合が上記範囲を超えると、
導電性樹脂組成物の印刷適性が低下したり、電磁波シー
ルドパターンの強度不足を招いたりするおそれもある。
The shape of the metal powder may be any shape such as a sphere or a scale. However, in consideration of increasing the contact surface between the metal powders (reducing the contact resistance), the shape of the metal powder is larger than that of the sphere. It is preferred to use ones in the form. The blending amount of the metal powder in the conductive resin composition is set according to the packing density of the metal powder and the conductivity required for the electromagnetic wave shielding pattern, and is not particularly limited, but is usually limited. The content ratio in the conductive resin composition is 60 to 9;
It is set to be in the range of 5% by weight, preferably 70 to 90% by weight. If the content ratio of the metal powder is below the above range, the contact points between the metal powders become insufficient, and the volume resistivity of the electromagnetic wave shielding pattern may increase.
Conversely, when the content ratio exceeds the above range, the content of the resin with respect to the total amount of the conductive resin composition becomes too small, and the force for bonding the metal powder becomes small. As a result, the volume resistivity of the electromagnetic wave shielding pattern becomes small. There is me that becomes larger. Further, when the content ratio of the metal powder exceeds the above range,
The printability of the conductive resin composition may be reduced, or the strength of the electromagnetic wave shield pattern may be insufficient.

【0036】(iii) その他の成分 上記導電性樹脂組成物は、凹版オフセット印刷法等での
印刷に適した粘度とするため、上記樹脂および金属粉末
の混合物にさらに溶剤を加えてペースト状に調製され
る。使用する溶剤は、例えば沸点が150℃以上の溶剤
を用いるのが好適である。溶剤の沸点が上記範囲を下回
ると、印刷時において溶剤が乾燥しやすくなり、ピンホ
ールが発生するおそれがある。
(Iii) Other Components The conductive resin composition is prepared into a paste by adding a solvent to the mixture of the resin and the metal powder in order to obtain a viscosity suitable for printing by an intaglio offset printing method or the like. Is done. As the solvent to be used, for example, a solvent having a boiling point of 150 ° C. or more is preferably used. When the boiling point of the solvent is lower than the above range, the solvent tends to dry during printing, and pinholes may be generated.

【0037】使用可能な溶剤の具体例としては、ヘキサ
ノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウン
デカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデ
カノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、
セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオー
ル等のアルコール;エチレングリコールモノブチルエー
テル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、
セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、
カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテー
ト等のアルキルエーテルがあげられ、印刷適正や作業性
等を考慮して適宜選択すればよい。
Specific examples of usable solvents include hexanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, pentadecanol, stearyl alcohol,
Alcohols such as seryl alcohol, cyclohexanol, and terpineol; ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol),
Cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate,
Examples thereof include alkyl ethers such as carbitol acetate and butyl carbitol acetate, which may be appropriately selected in consideration of printability and workability.

【0038】溶剤として高級アルコールを使用する場合
は、導電性樹脂組成物の乾燥性や流動性が低下するおそ
れがあるため、これらよりも乾燥性が良好なブチルカル
ビトール、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブ
チルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテ
ートなどを併用すればよい。溶剤の使用量は、導電性樹
脂組成物の粘度によって決定されるが、上記金属粉末の
添加量との兼ね合いから、通常、樹脂成分100重量部
に対して100〜500重量部、好ましくは100〜3
00重量部であるのがよい。溶剤の使用量が上記範囲を
下回ると、金属粉末の添加量が最小の400重量部であ
っても粘度が1000P(ポアズ)以上となり、透明基
材上に印刷する際にピンホールが多発してしまう。逆
に、上記範囲を上回ると、金属粉末の使用量が最大の1
000重量部であっても粘度が10P以下となり、透明
基材への粘着力が不足する。その結果、導電性樹脂組成
物が透明基材からはじかれてしまい、良好な印刷形状で
もって電磁波シールドパターンを形成することができな
くなる。
When a higher alcohol is used as a solvent, there is a possibility that the drying property and the fluidity of the conductive resin composition may be reduced. Therefore, butyl carbitol, butyl cellosolve, ethyl carbitol, which have better drying property than these, may be used. Butyl cellosolve acetate, butyl carbitol acetate and the like may be used in combination. The amount of the solvent to be used is determined by the viscosity of the conductive resin composition, and is usually 100 to 500 parts by weight, preferably 100 to 500 parts by weight, per 100 parts by weight of the resin component, in consideration of the amount of the metal powder added. 3
It is preferably 00 parts by weight. When the amount of the solvent used falls below the above range, the viscosity becomes 1000 P (poise) or more even when the addition amount of the metal powder is the minimum of 400 parts by weight, and pinholes frequently occur when printing on a transparent substrate. I will. Conversely, if the ratio exceeds the above range, the amount of the metal powder used is the maximum of 1
Even if the amount is 000 parts by weight, the viscosity becomes 10 P or less, and the adhesive strength to the transparent substrate is insufficient. As a result, the conductive resin composition is repelled from the transparent base material, and it becomes impossible to form an electromagnetic wave shielding pattern with a good printed shape.

【0039】本発明における導電性樹脂組成物の粘度
は、通常10〜1000P、好ましくは100〜500
Pに調整するのが好ましい。上記範囲より粘度が低い場
合には印刷形状の劣化が生じる。一方、上記範囲より粘
度が高い場合には、ピンホールが多発する。本発明にお
ける導電性樹脂組成物には、上記樹脂成分と金属粉末の
他に、さらに黒色顔料を配合するのが好ましい。黒色顔
料は、導電性樹脂組成物を印刷して形成される層を黒色
化して外光からの反射を防ぎ、表示画面のコントラスト
を向上させるのに寄与する。
The viscosity of the conductive resin composition in the present invention is generally 10 to 1000 P, preferably 100 to 500 P.
It is preferable to adjust to P. If the viscosity is lower than the above range, the printed shape is deteriorated. On the other hand, when the viscosity is higher than the above range, many pinholes occur. It is preferable that the conductive resin composition of the present invention further contains a black pigment in addition to the resin component and the metal powder. The black pigment blackens the layer formed by printing the conductive resin composition, prevents reflection from external light, and contributes to improving the contrast of the display screen.

【0040】かかる黒色顔料としては、例えばアセチレ
ンブラック等の、従来公知の種々のカーボンブラックが
挙げられる。また、黒色顔料の導電性樹脂組成物中の含
有割合は、導電性樹脂組成物中の含有割合が0.5〜5
0重量%の範囲となるように設定される。黒色顔料の含
有割合が上記範囲を下回るとコントラストを向上させる
ことができなくなるおそれがある。逆に、上記範囲を超
えると、電磁波シールドパターンの導電性が低下し、電
磁波のシールド効果が低下するおそれがある。
Examples of such black pigments include various conventionally known carbon blacks such as acetylene black. Further, the content ratio of the black pigment in the conductive resin composition is 0.5 to 5 in the conductive resin composition.
It is set to be in the range of 0% by weight. If the content of the black pigment is less than the above range, the contrast may not be improved. Conversely, if the ratio exceeds the above range, the conductivity of the electromagnetic wave shielding pattern may be reduced, and the electromagnetic wave shielding effect may be reduced.

【0041】また、導電性樹脂組成物中において金属粉
末や黒色顔料の凝集や分散不良が生じると、内部電極間
の短絡の発生を引き起こす場合があることから、導電性
樹脂組成物に分散剤を配合することもできる。分散剤と
しては種々の界面活性剤が挙げられるが、中でも、導電
性樹脂組成物の安定化を図るという点から高分子界面活
性剤を使用するのがよい。
In addition, if agglomeration or poor dispersion of the metal powder or black pigment occurs in the conductive resin composition, a short circuit may occur between the internal electrodes. It can also be blended. Various surfactants can be used as the dispersant. Among them, a polymer surfactant is preferably used from the viewpoint of stabilizing the conductive resin composition.

【0042】本発明に用いられる導電性樹脂組成物は、
上記成分の他に、必要に応じて可塑剤、静電防止剤、消
泡剤、酸化防止剤、滑剤、硬化剤等の助剤を適宜配合
し、3本ロール、ニーダー等の混合機を用いて混練・分
散することによって調製される。また、金属粉末の分散
性をさらに向上させるためには、3本ロール等による混
練の前にあらかじめプラネタリーミキサー等で十分に混
合しておいてもよい。
The conductive resin composition used in the present invention comprises:
In addition to the above components, if necessary, auxiliary agents such as a plasticizer, an antistatic agent, an antifoaming agent, an antioxidant, a lubricant, and a curing agent are appropriately compounded, and a three-roller, a kneader or the like mixer is used. It is prepared by kneading and dispersing. Further, in order to further improve the dispersibility of the metal powder, the metal powder may be sufficiently mixed in advance with a planetary mixer or the like before kneading with three rolls or the like.

【0043】(印刷パターンの形成方法)本発明におい
て、金属粉末を含有する導電性樹脂組成物を透明基材の
表面に転写する方法としては、(I) 平らな凹版を用い、
筒状のシリンダに巻きつけられた透明基材を前記凹版に
圧接しながら転がす方法、あるいは(II)筒状の凹版を用
い、平らな透明基材上に前記凹版を圧接しながら転がす
方法のいずれであってもよい。
(Method of Forming Print Pattern) In the present invention, as a method of transferring the conductive resin composition containing the metal powder to the surface of the transparent substrate, (I) using a flat intaglio,
Either a method in which the transparent substrate wound around a cylindrical cylinder is rolled while being pressed against the intaglio plate, or (II) a method in which the cylindrical intaglio plate is used to roll while pressing the intaglio plate on a flat transparent substrate. It may be.

【0044】上記圧接時における圧力は印刷精度を左右
する重要な因子であって、本発明においては、1〜20
kg/cm2 、とりわけ2〜10kg/cm2 の範囲で
設定するのが好ましい。圧力が前記範囲を超えると透明
基材上のコーティングまたは透明基材や凹版自体の変形
が大きくなりすぎて、印刷精度が損なわれるおそれがあ
る。逆に、圧力が前記範囲を下回ると、凹版から透明基
材への導電性樹脂組成物の転写が不十分になるおそれが
ある。
The pressure at the time of pressure contact is an important factor that affects printing accuracy.
kg / cm 2, especially preferably set in the range of 2 to 10 kg / cm 2. If the pressure exceeds the above range, the coating on the transparent substrate or the deformation of the transparent substrate or the intaglio itself becomes too large, and the printing accuracy may be impaired. Conversely, when the pressure is lower than the above range, the transfer of the conductive resin composition from the intaglio to the transparent substrate may be insufficient.

【0045】〔印刷パターンの硬化処理〕透明基材上に
印刷形成された導電性樹脂組成物のパターンは、通常8
0〜250℃で10〜90分間、好ましくは100〜1
50℃で15〜60分間加熱、乾燥することにより硬化
される。前記加熱の条件は、導電性樹脂組成物の硬化温
度や透明基材の耐熱温度に応じて適宜調整すればよい。
[Cutting Treatment of Print Pattern] The pattern of the conductive resin composition printed and formed on the transparent substrate is usually 8
0-250 ° C for 10-90 minutes, preferably 100-1
It is cured by heating and drying at 50 ° C. for 15 to 60 minutes. The heating conditions may be appropriately adjusted according to the curing temperature of the conductive resin composition and the heat resistant temperature of the transparent substrate.

【0046】前記加熱はクリーンオーブン等で行えばよ
い。 〔透光性電磁波シールド部材の一実施形態〕本発明の製
造方法により得られる透光性電磁波シールド部材1の一
実施形態としては、例えば図1に示すように、透明基材
2の表面に電磁波シールドパターン10が形成されたも
のが挙げられる。
The heating may be performed in a clean oven or the like. [One Embodiment of Translucent Electromagnetic Wave Shield Member] As one embodiment of the translucent electromagnetic wave shield member 1 obtained by the manufacturing method of the present invention, for example, as shown in FIG. One in which the shield pattern 10 is formed is exemplified.

【0047】(電磁波シールドパターンの形状)電磁波
シールドパターンの形状としては、例えば図2に示すス
トライプ状のパターン11や、図3および4に示す格子
状のパターン12,13等が挙げられる。電磁波シール
ドパターンの形状は、上記ストライプ状および格子状の
ほかに、幾何学模様であってもよい。すなわち、例えば
正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形;正方
形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形等の四角形;
(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)
二十角形等の(正)N角形;円、楕円、星型等の種々の
図形単位を繰り返して得られる幾何学模様を電磁波シー
ルドパターンとしてもよい。かかる幾何学模様におい
て、前記図形単位は2種以上を組み合わせたものであっ
てもよい。また、電磁波シールド部材の除電をスムーズ
に行う観点から、幾何学模様中の各図形単位がそれぞれ
連続していることが好ましい。幾何学模様からなるパタ
ーン形状の具体例としては、例えば図5に示すように円
形模様(図5(a) )、ひし形模様(図5(b) )、正六角
形模様(図5(c) )等のパターンが挙げられる。
(Shape of Electromagnetic Wave Shield Pattern) Examples of the shape of the electromagnetic wave shield pattern include a stripe pattern 11 shown in FIG. 2 and lattice patterns 12 and 13 shown in FIGS. The shape of the electromagnetic wave shield pattern may be a geometric pattern other than the above-mentioned stripe shape and lattice shape. That is, for example, a triangle such as an equilateral triangle, an isosceles triangle, and a right triangle; a square such as a square, a rectangle, a diamond, a parallelogram, and a trapezoid;
(Regular) hexagon, (Regular) octagon, (Regular) dodecagon, (Regular)
A (positive) N-polygon such as an icosagon; a geometric pattern obtained by repeating various graphic units such as a circle, an ellipse, and a star may be used as the electromagnetic wave shielding pattern. In such a geometric pattern, the graphic unit may be a combination of two or more types. In addition, from the viewpoint of smoothly removing static electricity from the electromagnetic wave shielding member, it is preferable that each figure unit in the geometric pattern is continuous. As a specific example of the pattern shape composed of a geometric pattern, for example, as shown in FIG. 5, a circular pattern (FIG. 5A), a diamond pattern (FIG. 5B), and a regular hexagonal pattern (FIG. 5C) And the like.

【0048】なお、図2〜4および図5(a) 〜(c) にお
いて、ハッチングを施した部分は電磁波シールドパター
ン10を示し、ハッチングを施していない部分は電磁波
シールドパターンが形成されていない領域20を示す。
電磁波シールドパターン10の線幅Ws、線間隔Wk
(隣合ったパターン10間の間隔)および膜厚Wtと、
電磁波シールドパターン10の全面積Ssと当該シール
ドパターンが形成されていない領域20の全面積Skと
の比Sk/Ssとは、それぞれ電磁波の遮蔽効果を充分
なものとすることができる範囲で、かつ電磁波シールド
部材の透光性を確保するために、シールドパターン10
自体が肉眼では認識されることのない範囲で設定され
る。
In FIGS. 2 to 4 and FIGS. 5 (a) to 5 (c), the hatched portions indicate the electromagnetic wave shield patterns 10, and the unhatched portions indicate the regions where the electromagnetic wave shield patterns are not formed. 20 is shown.
Line width Ws and line spacing Wk of the electromagnetic wave shield pattern 10
(Interval between adjacent patterns 10) and film thickness Wt;
The ratio Sk / Ss of the total area Ss of the electromagnetic wave shield pattern 10 to the total area Sk of the region 20 where the shield pattern is not formed is within a range in which the electromagnetic wave shielding effect can be sufficient. In order to ensure the translucency of the electromagnetic wave shielding member, the shielding pattern 10
It is set within a range that cannot be recognized by the naked eye.

【0049】電磁波シールドパターンが長方形の格子状
である場合(図3)において、前記シールドパターンの
線間隔WkにはWkとWk’の2種の間隔が存在する
が、この場合、線間隔WkとWk’がそれぞれ後述する
所定の範囲内にあればよい。電磁波シールドパターンが
幾何学模様である場合において、線幅Wsとは、幾何学
模様を構成する1ユニット(すなわち、三角形、四角
形、N角形、円、楕円等の構成単位)の幅をいう。線間
隔Wkとはユニット間の距離をいい、1ユニットの面積
の平方根(すなわち、1ユニットを正方形と擬制したと
きの1辺の長さ)を求め、隣接するユニットとの中心位
置での距離から前記平方根を引いた値をユニット間の距
離とする。
In the case where the electromagnetic wave shield pattern has a rectangular lattice shape (FIG. 3), there are two types of line intervals Wk of the shield pattern, Wk and Wk '. It is sufficient that Wk 'is within a predetermined range described later. In the case where the electromagnetic wave shield pattern is a geometric pattern, the line width Ws refers to the width of one unit (that is, a constituent unit such as a triangle, a quadrangle, an N-gon, a circle, an ellipse, etc.) constituting the geometric pattern. The line interval Wk refers to the distance between units, and the square root of the area of one unit (that is, the length of one side when one unit is simulated as a square) is calculated from the distance at the center position between adjacent units. The value obtained by subtracting the square root is defined as the distance between the units.

【0050】(線幅Ws、膜厚Wtおよび比Ss/Sk
の好適範囲)本発明の透光性電磁波シールド部材におい
ては、透明基材表面のうち電磁波シールドパターンが形
成されている領域の全面積Ssと、当該シールドパター
ンが形成されていない領域の全面積Skとの比Ss/S
kが1以上、9以下で、かつ前記シールドパターンの線
幅Wsが5〜40μmおよび膜厚Wtが0.5〜50μ
mの範囲にあるのが好ましい。
(Line width Ws, film thickness Wt and ratio Ss / Sk
In the translucent electromagnetic wave shielding member of the present invention, the total area Ss of the area where the electromagnetic wave shield pattern is formed on the surface of the transparent base material and the total area Sk of the area where the shield pattern is not formed Ratio Ss / S
k is 1 or more and 9 or less, and the line width Ws of the shield pattern is 5 to 40 μm and the film thickness Wt is 0.5 to 50 μm.
It is preferably in the range of m.

【0051】特開平10−156320号公報には、電
磁波シールド部材の線幅が5〜80μm、線間隔が20
0〜3000μmおよび膜厚が0.5〜50μmである
ことが、良好なシールド効果と透過性とを得る上で好適
である旨の記載がある。しかしながら、後述する比較例
1の結果からも明らかなように、上記の範囲では1〜5
00MHzにおいては良好なシールド効果を得ることが
できても、1000MHzもの高周波領域ではシールド
効果が不十分になる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-156320 discloses that an electromagnetic wave shielding member has a line width of 5 to 80 μm and a line interval of 20.
There is a description that 0 to 3000 μm and a film thickness of 0.5 to 50 μm are preferable for obtaining a good shielding effect and transparency. However, as is clear from the results of Comparative Example 1 described later, 1 to 5 in the above range.
Although a good shielding effect can be obtained at 00 MHz, the shielding effect becomes insufficient in a high frequency region of 1000 MHz.

【0052】上記比Sk/Ssが1を下回ると透光性が
不十分になるおそれがある。逆に、比Sk/Ssが9を
超えると電磁波シールド効果が不十分になるおそれがあ
る。比Sk/Ssは上記範囲の中でも特に1〜5である
のが好ましく、1〜3であるのがより好ましい。電磁波
シールドパターンの線幅Wsが5μmを下回るように形
成するのは困難であって、断線が生じやすくなるため、
電磁波シールド効果の低下、不良品の発生につながるお
それがある。逆に、線幅Wsが40μmを超えると電磁
波シールドパターンが目視で認識され易くなり、透光性
の低下につながるおそれがある。線幅Wsは上記範囲の
中でも特に5〜25μmであるのが好ましく、5〜20
μmであるのがより好ましい。
When the ratio Sk / Ss is less than 1, the light transmittance may be insufficient. Conversely, if the ratio Sk / Ss exceeds 9, the electromagnetic wave shielding effect may be insufficient. The ratio Sk / Ss is particularly preferably from 1 to 5 and more preferably from 1 to 3 in the above range. It is difficult to form the electromagnetic wave shield pattern so that the line width Ws is less than 5 μm, and disconnection easily occurs.
There is a possibility that the electromagnetic wave shielding effect is reduced and defective products are generated. Conversely, if the line width Ws exceeds 40 μm, the electromagnetic wave shield pattern is easily recognized visually, which may lead to a decrease in light transmission. The line width Ws is particularly preferably 5 to 25 μm in the above range, and is preferably 5 to 20 μm.
More preferably, it is μm.

【0053】電磁波シールドパターンの膜厚Wtが0.
5μmを下回るとパターンの断線が発生し易くなり、導
電性も低下することから、電磁波シールド効果の低下に
つながるおそれがある。逆に、膜厚Wtが50μmを超
えると、シールド部材を見る角度によって電磁波シール
ドパターンが認識され易くなり、視認性や視野角の低
下、ひいては透光性の低下につながるおそれがある。膜
厚Wtは上記範囲の中でも特に1〜30μmであるのが
好ましい。
When the thickness Wt of the electromagnetic wave shield pattern is 0.
When the thickness is less than 5 μm, disconnection of the pattern is likely to occur, and the conductivity is also reduced, which may lead to a reduction in the electromagnetic wave shielding effect. Conversely, when the film thickness Wt exceeds 50 μm, the electromagnetic wave shield pattern is easily recognized depending on the angle at which the shield member is viewed, which may lead to a decrease in visibility and a viewing angle, and eventually a decrease in light transmission. The film thickness Wt is particularly preferably 1 to 30 μm in the above range.

【0054】透光性電磁波シールド部材の開口率(%)
は、電磁波シールドパターンの線幅Wsと線間隔Wkか
ら、次式により求められる。 開口率=〔Wk/(Wk+Ws)〕2 ×100 また、上記開口率(%)は上記比Sk/Ssと次式に示
す関係にある。 Sk/Ss=開口率/(100−開口率) 本発明の透光性電磁波シールド部材において開口率は特
に限定されるものではなく、前述の比Sk/Ss等に応
じて決まるものであるが、透光性と電磁波シールド性と
の兼ね合いから、通常50〜90%、好ましくは60〜
80%の範囲となるように設定される。開口率が上記範
囲を下回ると、電磁波シールド効果が良好になるもの
の、透光性が不十分になるおそれがある。逆に、上記範
囲を超えると、電磁波シールド効果が不十分になるおそ
れがある。なお、PDP用のシールド部材の場合、より
優れた電磁波シールド性が求められるため、開口率は上
記範囲の中でも特に60%以上であるのが好ましい。
Aperture ratio (%) of translucent electromagnetic wave shielding member
Is determined from the line width Ws and the line interval Wk of the electromagnetic wave shield pattern by the following equation. Opening ratio = [Wk / (Wk + Ws)] 2 × 100 Further, the opening ratio (%) has a relationship shown in the following equation with the ratio Sk / Ss. Sk / Ss = Aperture ratio / (100−Aperture ratio) In the translucent electromagnetic wave shielding member of the present invention, the aperture ratio is not particularly limited, and is determined according to the above-described ratio Sk / Ss and the like. Due to the balance between the translucency and the electromagnetic wave shielding property, it is usually 50 to 90%, preferably 60 to 90%.
It is set to be in the range of 80%. When the aperture ratio is less than the above range, the electromagnetic wave shielding effect is improved, but the light transmittance may be insufficient. Conversely, if it exceeds the above range, the electromagnetic wave shielding effect may be insufficient. In the case of a shield member for a PDP, since an excellent electromagnetic wave shielding property is required, the aperture ratio is particularly preferably 60% or more in the above range.

【0055】(透光性電磁波シールド部材の用途)本発
明の透光性電磁波シールド部材は、例えばCRT、PD
P等のディスプレイにおける表示画面の前面に設置する
ことにより、表示画面から放射される電磁波の遮蔽を目
的として用いられるほか、透光性電磁波シールド部材の
表面に透明粘着層を形成し、この粘着層にディスプレイ
パネルまたはディスプレイの透明基材を貼り合せること
によって、前記ディスプレイと一体化した電磁波シール
ドパネルとして用いることもできる。
(Use of Transparent Electromagnetic Wave Shield Member) The translucent electromagnetic wave shield member of the present invention may be, for example, a CRT or PD.
By being installed on the front of the display screen of a display such as P, it is used for shielding electromagnetic waves radiated from the display screen, and a transparent adhesive layer is formed on the surface of the translucent electromagnetic wave shielding member, and this adhesive layer is formed. By bonding a display panel or a transparent base material of the display to the display panel, it can be used as an electromagnetic wave shielding panel integrated with the display.

【0056】[0056]

【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて本発明を
説明する。 〔透光性電磁波シールド部材の製造〕導電性ペーストと
しては、ポリエステル樹脂〔住友ゴム工業(株)製、無
水トリメリト酸とネオペンチルグリコールとのエステ
ル、重量平均分子量Mw=20000〕80重量部、メ
ラミン樹脂〔住友化学工業(株)製の「スミマールM−
100C」〕20重量部、カーボンブラック(平均粒径
20nm)5重量部、およびフレーク状の銀粉末〔福田
金属箔粉工業(株)製、平均粒径5μm〕800重量部
を混合し、酢酸ブチルカルビトールと炭素数13〜15
の高級アルコールとの混合物(30〜50重量部)で粘
度を調整し、さらに硬化触媒であるp−トルエンスルホ
ン酸(1〜2重量部)を配合したもの(以下、「銀ペー
スト」という)を用いた。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples. [Production of translucent electromagnetic wave shielding member] As the conductive paste, 80 parts by weight of a polyester resin [manufactured by Sumitomo Rubber Industries, Ltd., ester of trimellitic anhydride and neopentyl glycol, weight average molecular weight Mw = 20,000] 80 parts by weight, melamine Resin [Sumimar M- manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.]
100C "], 20 parts by weight, 5 parts by weight of carbon black (average particle size: 20 nm), and 800 parts by weight of flaky silver powder [average particle size: 5 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd.] Carbitol and carbon number 13-15
A mixture (30 to 50 parts by weight) of a mixture with a higher alcohol of which the viscosity is adjusted and a curing catalyst p-toluenesulfonic acid (1 to 2 parts by weight) is blended (hereinafter referred to as "silver paste"). Using.

【0057】透明基材としては、厚さ100μmのポリ
エチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。
導電性樹脂組成物を凹版直刷り印刷法にて印刷する場合
においては、前記透明基材の表面に透明エラストマーと
してのブタジエンゴム(JIS−A硬度30)を厚さ2
00μmで塗布し、当該エラストマーを170℃で20
分間程度加硫させた上で使用した。なお、上記ブタジエ
ンゴムは、そのゴム100重量部に対して、架橋剤とし
てのジクミルパーオキサイド(DOP)2重量部を添加
した上で使用した。
As a transparent substrate, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm was used.
When the conductive resin composition is printed by intaglio direct printing, a butadiene rubber (JIS-A hardness 30) as a transparent elastomer having a thickness of 2 is formed on the surface of the transparent substrate.
And apply the elastomer at 170 ° C. for 20 minutes.
It was used after being vulcanized for about a minute. The butadiene rubber was used after adding 2 parts by weight of dicumyl peroxide (DOP) as a crosslinking agent to 100 parts by weight of the rubber.

【0058】導電性樹脂組成物を凹版直刷り印刷法にて
印刷する場合において、凹版にはソーダライムガラス製
のものを用いた。 実施例1 凹版直刷り印刷法にて上記PETフィルムの表面に銀ペ
ーストを印刷し、正方形の格子状ユニットを有する印刷
パターン(Sk/Ss=5.26、パターンの間隔11
0μm、開口率84%)を形成した。
When printing the conductive resin composition by the intaglio direct printing printing method, the intaglio was made of soda-lime glass. Example 1 A silver paste was printed on the surface of the PET film by the intaglio direct printing method, and a printing pattern having square lattice units (Sk / Ss = 5.26, pattern interval 11)
0 μm, and an aperture ratio of 84%).

【0059】次いで、クリーンオーブン(100℃)中
で20分間加熱、硬化させることにより、厚さ10μm
のパターンを得た。こうして、線幅Ws、線間隔Wk、
膜厚Wtおよび比Sk/Ssが下記の表1に示す値に設
定された電磁波シールドパターンを有する透光性電磁波
シールド部材を得た。
Then, by heating and curing in a clean oven (100 ° C.) for 20 minutes, a thickness of 10 μm
Pattern was obtained. Thus, the line width Ws, the line interval Wk,
A translucent electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding pattern in which the film thickness Wt and the ratio Sk / Ss were set to the values shown in Table 1 below was obtained.

【0060】実施例2〜9 透光性電磁波シールドパターンの線幅Ws、線間隔W
k、膜厚Wtおよび比Sk/Ssを下記の表1に示す値
となるように調整したほかは、実施例1と同様にして透
光性電磁波シールド部材の製造を行った。 比較例1 特開平10−163673号公報に記載の実施例1と同
様にして、透光性電磁波シールド部材を作製した。
Examples 2 to 9 Line width Ws and line spacing W of the translucent electromagnetic wave shielding pattern
A light-transmitting electromagnetic wave shielding member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that k, the film thickness Wt, and the ratio Sk / Ss were adjusted to have the values shown in Table 1 below. Comparative Example 1 A translucent electromagnetic wave shielding member was manufactured in the same manner as in Example 1 described in JP-A-10-163673.

【0061】すなわち、透明基材としてのPETフィル
ムの表面全面に、ポリビニルブチラール樹脂とパラジウ
ム触媒とを含む混合液を塗布し、さらにこの表面に無電
解銅メッキを施して銅薄膜を形成した。次いで、銅薄膜
の表面全面にフォトレジストを塗布し、露光、現像によ
って格子状のレジストパターンを形成した後、塩化第二
鉄/塩酸水溶液によって銅メッキ被膜をエッチング除去
し、さらに前記レジストを剥離した。
That is, a mixed solution containing a polyvinyl butyral resin and a palladium catalyst was applied to the entire surface of a PET film as a transparent substrate, and the surface was further subjected to electroless copper plating to form a copper thin film. Next, a photoresist was applied to the entire surface of the copper thin film, and a grid-like resist pattern was formed by exposure and development. Then, the copper plating film was removed by etching with a ferric chloride / hydrochloric acid aqueous solution, and the resist was peeled off. .

【0062】こうして、銅薄膜からなり、線幅Ws、比
Sk/Ssおよび膜厚Wtが下記の表1に示す値に設定
された電磁波シールドパターンを有する透光性電磁波シ
ールド部材を得た。 比較例2 特公平2−48159号公報に記載の実施例1と同様に
して、透光性電磁波シールド部材を作製した。
Thus, a translucent electromagnetic wave shielding member having an electromagnetic wave shielding pattern composed of a copper thin film and having the line width Ws, the ratio Sk / Ss, and the film thickness Wt set to the values shown in Table 1 below was obtained. Comparative Example 2 A translucent electromagnetic wave shielding member was manufactured in the same manner as in Example 1 described in Japanese Patent Publication No. 2-48159.

【0063】すなわち、透明基材としてのPETフィル
ム上に、スクリーン印刷法にて紫外線硬化型ペーストを
印刷して、線幅Ws100μmの、線間隔Wk1mmの
正方形の格子状パターンを形成し、紫外線照射によって
硬化させた。 比較例3 凹版オフセット印刷法に代えて、東レ(株)製の水無し
平版(商品名「TAN」)を用いた平板オフセット印刷
法を用いたほかは、実施例1と同様にして、透光性電磁
波シールド部材を得た。
That is, a UV-curable paste is printed on a PET film as a transparent base material by a screen printing method to form a square grid pattern having a line width Ws of 100 μm and a line interval Wk of 1 mm. Cured. Comparative Example 3 In the same manner as in Example 1 except that a flat plate offset printing method using a waterless lithographic plate (trade name "TAN") manufactured by Toray Industries, Inc. was used instead of the intaglio offset printing method, the light transmission was performed. A conductive electromagnetic wave shielding member was obtained.

【0064】比較例4 凹版直刷り印刷に代えて、シリコーンブランケットを用
いた凹版オフセット印刷法を用いたほかは、実施例1と
同様にして、透光性電磁波シールド部材を得た。上記の
各実施例および比較例におけるパターンの形成方法と、
電磁波シールドパターンの線幅Ws、線間隔Wk、膜厚
Wt、比Sk/Ssおよび開口率を表1に示す。
Comparative Example 4 A translucent electromagnetic wave shielding member was obtained in the same manner as in Example 1, except that intaglio offset printing using a silicone blanket was used instead of intaglio direct printing. A pattern forming method in each of the above Examples and Comparative Examples,
Table 1 shows the line width Ws, line interval Wk, film thickness Wt, ratio Sk / Ss, and aperture ratio of the electromagnetic wave shield pattern.

【0065】[0065]

【表1】 [Table 1]

【0066】〔透光性電磁波シールド部材の物性評価〕
上記実施例および比較例で得られた透光性電磁波シール
ド部材について、以下の物性を評価した。 (電磁波のシールド効果)実施例および比較例で得られ
た電磁波シールド部材から20cm×20cmのサンプ
ルを切り取ってクローズセルに挟みこみ、(社)関西電
子工業振興センターのKEC法にて、電磁波の遮蔽性
(遮蔽効果)を評価した。なお、測定は0.1〜100
0MHzまでの範囲で行い、1000MHzでの電磁波
の減衰率をもって、シールド効果を評価した。
[Evaluation of Physical Properties of Transparent Electromagnetic Shielding Member]
The following physical properties were evaluated for the translucent electromagnetic wave shielding members obtained in the above Examples and Comparative Examples. (Electromagnetic Wave Shielding Effect) A sample of 20 cm × 20 cm was cut out from the electromagnetic wave shielding members obtained in Examples and Comparative Examples, sandwiched in a closed cell, and shielded from electromagnetic waves by the KEC method of Kansai Electronic Industry Promotion Center. The property (shielding effect) was evaluated. In addition, measurement is 0.1-100.
The shielding effect was evaluated in the range up to 0 MHz and the attenuation rate of the electromagnetic wave at 1000 MHz.

【0067】電磁波のシールド効果は、減衰率(dB)
が大きいほど優れている。評価の基準は以下のとおりで
ある。 A+ :60dB以上;遮蔽性が極めて良好であった。 A:50dB以上、60dB未満;電磁波の遮蔽性が良
好であった。 B:40dB以上、50dB未満;1000MHzでの
遮蔽性は実用上十分であったが、100MHzまたは5
00MHzでの遮蔽性は不十分であった。 C:20dB以上、40dB未満;遮蔽性が不十分であ
った。 C- :20dB未満;遮蔽性が極めて不十分であった。
The shielding effect of the electromagnetic wave is determined by the attenuation rate (dB).
The larger the better. The evaluation criteria are as follows. A + : 60 dB or more; very good shielding. A: 50 dB or more and less than 60 dB; electromagnetic wave shielding was good. B: 40 dB or more and less than 50 dB; the shielding property at 1000 MHz was practically sufficient, but 100 MHz or 5
The shielding at 00 MHz was insufficient. C: 20 dB or more and less than 40 dB; the shielding property was insufficient. C -: less than 20 dB; shielding property was very poor.

【0068】(可視光透過率)分光顕微鏡(大塚電子
(株)製の「MCPD2000」)にて、波長400〜
700nmの光(可視光線)の透過率(%)を測定し、
その平均値から透光性の評価を行った。透過率が大きい
ほど透光性が優れていることを示す。 A+ :90%以上;透光性が極めて良好であった。 A:80%以上、90%未満;透光性が良好であった。 A- :70%以上、80%未満;透光性が実用上良好で
あった。 B:50%以上、70%未満;透光性が不十分であっ
た。 C:50%未満;透光性が極めて不十分であった。
(Visible light transmittance) Using a spectroscopic microscope (“MCPD2000” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), a wavelength of 400 to
Measure the transmittance (%) of 700 nm light (visible light),
The light transmittance was evaluated from the average value. The higher the transmittance, the better the light transmittance. A + : 90% or more; translucency was extremely good. A: 80% or more and less than 90%; light transmittance was good. A -: 70% or more, less than 80%; translucency was practically favorable. B: 50% or more and less than 70%; translucency was insufficient. C: less than 50%; translucency was extremely insufficient.

【0069】(目視による評価、視認性)透光性電磁波
シールド部材をPDP画面の最前面に貼り付けて目視で
観察し、以下の基準で評価した。 A:全面にわたってムラやメッシュ等の模様が観察でき
なかった。 B:かすかにムラやメッシュが観察された。 C:全面にわたってムラやメッシュ等の模様が観察され
た。
(Evaluation and Visibility by Visual Inspection) A translucent electromagnetic wave shielding member was adhered to the forefront of the PDP screen, visually observed, and evaluated according to the following criteria. A: No pattern such as unevenness or mesh could be observed over the entire surface. B: Slight unevenness or mesh was observed. C: Patterns such as unevenness and mesh were observed over the entire surface.

【0070】(コントラスト)透光性電磁波シールド部
材をPDP画面の最前面に貼り付け、PDP画面に表示
されたテストパターンを目視で観察して、以下の基準で
評価した。 A:コントラストが良好で、階調表示もわかりやすかっ
た。 B:ややコントラストが低く、階調表示もわかりにくか
った。 C:コントラストが低く、階調表示が非常にわかりにく
かった。
(Contrast) A translucent electromagnetic wave shielding member was adhered to the forefront of the PDP screen, and the test pattern displayed on the PDP screen was visually observed and evaluated according to the following criteria. A: The contrast was good and the gradation display was easy to understand. B: The contrast was rather low, and the gradation display was hard to understand. C: The contrast was low and the gradation display was very difficult to understand.

【0071】(製造コストの比較)実施例1における透
光性電磁波シールド部材の製造に要したコストを1とし
て、他の製造方法による製造コストの比を求めた。上記
実施例および比較例の電磁波シールドパターン部におけ
る各物性の評価結果を表2に示す。
(Comparison of Manufacturing Cost) The cost required for manufacturing the light-transmitting electromagnetic wave shielding member in Example 1 was set to 1, and the ratio of the manufacturing cost by another manufacturing method was determined. Table 2 shows the evaluation results of the respective physical properties of the electromagnetic wave shield pattern portions of the above-mentioned Examples and Comparative Examples.

【0072】[0072]

【表2】 [Table 2]

【0073】表2より明らかなように、実施例1〜9で
は電磁波のシールド効果がいずれも良好であった。これ
に対し、電磁波シールドパターンの形成をフォトリソグ
ラフィ法によって行った比較例1では、エッチング処理
等によってパターン形成用の材料に多量のロスが生じ、
製造コストが実施例1に対して10倍と極めて高いとい
う問題があった。
As is clear from Table 2, in Examples 1 to 9, the electromagnetic wave shielding effect was all good. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the formation of the electromagnetic wave shielding pattern was performed by the photolithography method, a large amount of loss occurred in the material for forming the pattern due to the etching process,
There was a problem that the manufacturing cost was extremely high, 10 times that of the first embodiment.

【0074】パターンの形成にスクリーン印刷法を用い
た比較例2では、断線等の問題を生じることなく形成し
得るパターンの最小線幅が100μm程度であるため、
視認性が低下する等の問題があった。比較例3では平版
オフセット印刷法を用いているため、十分な膜厚を有す
るパターンを形成することができず、シールド性能が極
めて低いという問題があった。なお、平版オフセット印
刷の場合、印刷を数回から十数回繰り返すことで十分な
膜厚を得ることができるが、生産性が非常に悪く、コス
トがかかる上、印刷精度の低下も生じるおそれがある。
In Comparative Example 2 using the screen printing method for forming the pattern, the minimum line width of the pattern that can be formed without causing a problem such as disconnection is about 100 μm.
There were problems such as a decrease in visibility. In Comparative Example 3, since the planographic offset printing method was used, a pattern having a sufficient film thickness could not be formed, and there was a problem that the shielding performance was extremely low. In the case of lithographic offset printing, a sufficient film thickness can be obtained by repeating the printing several to several tens of times, but the productivity is very poor, the cost is high, and the printing accuracy may be reduced. is there.

【0075】また、凹版オフセット印刷を用いた比較例
4では電磁波のシールド効果がいずれも良好であったも
のの、凹版直刷り印刷を用いた実施例に比べて製造コス
トが3倍にもなるといった問題があった。
In Comparative Example 4 using intaglio offset printing, although the shielding effect of electromagnetic waves was good, the production cost was tripled as compared with the embodiment using intaglio direct printing. was there.

【0076】[0076]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
電磁波シールド効果、透光性、視認性、視野角の各特性
に優れ、かつ低コストの電磁波シールド部材を得ること
ができる。従って、本発明の透光性電磁波シールド部材
の製造方法は、PDP用等の電磁波シールド部材を製造
する方法として好適である。
As described in detail above, according to the present invention,
It is possible to obtain a low-cost electromagnetic wave shielding member which is excellent in the characteristics of the electromagnetic wave shielding effect, translucency, visibility, and viewing angle, and is low in cost. Therefore, the method for manufacturing a light-transmitting electromagnetic wave shielding member of the present invention is suitable as a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding member for a PDP or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】同図(a) は透光性電磁波シールド部材を示す斜
視図、同図(b) はそのA−A部分拡大断面図、同図(c)
は電磁波シールドパターン10をさらに拡大した断面図
である。
FIG. 1 (a) is a perspective view showing a translucent electromagnetic wave shielding member, FIG. 1 (b) is an enlarged sectional view of AA part thereof, FIG. 1 (c)
FIG. 3 is a sectional view further enlarging the electromagnetic wave shield pattern 10.

【図2】ストライプ状パターンの一例を示す模式図であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a stripe pattern.

【図3】格子状パターンの一例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of a lattice pattern.

【図4】格子状パターンの他の例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing another example of a lattice pattern.

【図5】同図(a) 〜(c) は、幾何学模様からなるパター
ンの一例を示す模式図である。
FIGS. 5A to 5C are schematic diagrams showing an example of a pattern formed of a geometric pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透光性電磁波シールド部材 2 透明基材 10 電磁波シールドパターン 10a 導電性ペーストからなる層 10b 金属被膜 Ws 線幅 Wk 線間隔 Wt 膜厚 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent electromagnetic wave shielding member 2 Transparent base material 10 Electromagnetic wave shielding pattern 10a Layer made of conductive paste 10b Metal coating Ws Line width Wk Line spacing Wt Film thickness

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年7月6日(1999.7.6)[Submission date] July 6, 1999 (1999.7.6)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0050[Correction target item name] 0050

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0050】(線幅Ws、膜厚Wtおよび比Sk/Ss
の好適範囲)本発明の透光性電磁波シールド部材におい
ては、透明基材表面のうち電磁波シールドパターンが形
成されている領域の全面積Ssと、当該シールドパター
ンが形成されていない領域の全面積Skとの比Sk/S
が1以上、9以下で、かつ前記シールドパターンの線
幅Wsが5〜40μmおよび膜厚Wtが0.5〜50μ
mの範囲にあるのが好ましい。
(Line width Ws, film thickness Wt and ratio Sk / Ss
In the translucent electromagnetic wave shielding member of the present invention, the total area Ss of the area where the electromagnetic wave shield pattern is formed on the surface of the transparent base material and the total area Sk of the area where the shield pattern is not formed Ratio Sk / S
s is 1 or more and 9 or less, and the line width Ws of the shield pattern is 5 to 40 μm and the film thickness Wt is 0.5 to 50 μm.
It is preferably in the range of m.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属粉末を含有する導電性樹脂組成物を凹
版の凹部に充填した後、この凹版と、表面に透明なエラ
ストマーのコーティングが施された透明基材の当該表面
とを圧着して、前記凹部内の導電性樹脂組成物を直接転
写することにより、前記透明基材上に電磁波シールドパ
ターンを形成することを特徴とする透光性電磁波シール
ド部材の製造方法。
1. A conductive resin composition containing a metal powder is filled in a concave portion of an intaglio plate, and then the intaglio plate is pressed against the surface of a transparent substrate having a surface coated with a transparent elastomer. And forming an electromagnetic wave shield pattern on the transparent substrate by directly transferring the conductive resin composition in the concave portion.
【請求項2】前記電磁波シールドパターンがストライプ
状、格子状または幾何学模様であり、当該電磁波シール
ドパターンの線幅Wsが5〜40μm、膜厚Wtが0.
5〜50μmで、かつ前記電磁波シールドパターンの全
面積Ssと当該電磁波シールドパターンが形成されてい
ない領域の全面積Skとが式(1) : 1≦Sk/Ss≦9 を満たす請求項1記載の透光性電磁波シールド部材の製
造方法。
2. The electromagnetic wave shield pattern has a stripe shape, a lattice shape, or a geometric pattern, and the electromagnetic wave shield pattern has a line width Ws of 5 to 40 μm and a film thickness Wt of 0.
The total area Ss of the electromagnetic wave shield pattern and the total area Sk of a region where the electromagnetic wave shield pattern is not formed is 5 to 50 μm and satisfies the following expression (1): 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9. A method for manufacturing a translucent electromagnetic wave shielding member.
JP11074384A 1999-03-18 1999-03-18 Method for manufacturing light transmission electromagnetic wave shielding member Pending JP2000269683A (en)

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