JP2000268418A - Annealing apparatus and production of disk for recording medium - Google Patents

Annealing apparatus and production of disk for recording medium

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JP2000268418A
JP2000268418A JP11067030A JP6703099A JP2000268418A JP 2000268418 A JP2000268418 A JP 2000268418A JP 11067030 A JP11067030 A JP 11067030A JP 6703099 A JP6703099 A JP 6703099A JP 2000268418 A JP2000268418 A JP 2000268418A
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Japan
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annealing
recording medium
disk
disks
spacer
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Japanese (ja)
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Yoshihito Fukushima
義仁 福島
Yuko Nakamura
祐子 中村
Junichi Nemoto
淳一 根本
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To three-dimensionally house disks and to effectively use spacers by placing and holding the individual disks for recording media to a pole via spacers and subjecting the plural held disks to an annealing treatment by heating. SOLUTION: The spacers 31 are penetrated with the pole 3 through the central holes disposed at their centers and are used by being disposed between the two plastic substrates 1 for optical disks. Spacer supporting surfaces composed of spacer supporting parts for supporting the spacers 31 placed thereon support the spacers 31 placed on the spacers 31 of these spacers supporting surfaces and the plastic substrates 1 for optical disks placed on the parts upper than the spacers 31 are supported on the disk supporting surfaces composed of the disk supporting parts for supporting the disks. The spacers 31 are so designed as to satisfy the conditions t1<t2 when the thickness of the plastic substrates 1 for optical disks is defined as t1 and the distance between the spacer supporting surfaces and disk supporting surfaces of the spacers 31 as t2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、アニール装置に関
し、詳しくは記録媒体用ディスクに対してアニール処理
を行う際に使用されるアニール装置に関する。また、本
発明は、記録媒体用ディスクの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an annealing apparatus, and more particularly, to an annealing apparatus used for performing an annealing process on a recording medium disk. The present invention also relates to a method for manufacturing a recording medium disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報量の増大とともに、光記録媒
体における高密度化が進み、光学的特性の変化により情
報の記録・再生を行う、いわゆる光ディスクにおいても
形状的及び光学的な特性に対する品質の向上の要求が高
くなってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, as the amount of information has increased, the density of optical recording media has increased, and the recording and reproduction of information due to changes in optical characteristics. The demand for improvement is increasing.

【0003】光ディスクの基板としては、プラスチック
基板が一般的に用いられている。このプラスチック基板
は、ガラス基板などに比べ、軽量でかつ成形加工が容易
であり、しかも低コストでの製造が可能であるといる利
点を有している。
[0003] As a substrate of an optical disk, a plastic substrate is generally used. This plastic substrate has the advantage that it is lighter in weight and easier to mold than a glass substrate or the like, and can be manufactured at low cost.

【0004】通常の光ディスクのプラスチック基板とし
ては、大量生産する場合、コストの問題から、ポリカー
ボネート等の高分子材料を射出成形することで得られる
射出成形基板が広く用いられている。この射出成形基板
には通常残留歪みが存在しており、残留歪みが残存した
ままではこの歪みによって生じる複屈折により、ディス
クの信号品質は著しく劣化する。そのため、この残留歪
みを取り除くために、高分子材料の軟化点より低い温度
において数時間ディスクを放置する工程が必要になる。
この工程は、アニール処理と呼ばれ、光ディスクの製造
においては広く用いられている手法である。また、光デ
ィスクの製造においては、薄膜を成膜後においても、薄
膜に内部応力が存在するため、これを緩和させるために
アニール処理を実施する場合もある。
[0004] As a plastic substrate of an ordinary optical disk, an injection-molded substrate obtained by injection-molding a polymer material such as polycarbonate is widely used due to cost problems in mass production. This injection-molded substrate usually has residual distortion, and if the residual distortion remains, the signal quality of the disk is significantly deteriorated due to the birefringence caused by the distortion. Therefore, in order to remove the residual strain, it is necessary to leave the disk at a temperature lower than the softening point of the polymer material for several hours.
This process is called an annealing process, and is a method widely used in the manufacture of optical discs. Further, in the production of an optical disk, even after a thin film is formed, an annealing process may be performed to reduce the internal stress in the thin film because the internal stress exists.

【0005】通常、アニール処理では、図15に示すよ
うにプラスチック基板が縦置きに収納されるカセットに
入れて行われる。この場合、アニール処理時における温
度の上げ下げにおいて、プラスチック基板とカセットと
の熱膨張率の差から、プラスチック基板とカセットとの
接触部分において歪みが生じ、ディスクの形状的及び光
学的に不具合が生じる場合がある。
[0005] Usually, the annealing process is performed by placing the plastic substrate in a cassette in which it is stored vertically as shown in FIG. In this case, when raising or lowering the temperature during the annealing process, distortion occurs at the contact portion between the plastic substrate and the cassette due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the plastic substrate and the cassette, and the shape and optical defects of the disk occur. There is.

【0006】これらの問題点を解決するために、例え
ば、特開平8−63807号公報や、特開平3−248
345号公報などの考案がなされている。特開平8−6
3807号公報では、プラスチック基板をアニール処理
時にプラスチック基板をカセットに収納しながらもプラ
スチック基板の自重を一点で受けることにより、プラス
チック基板の局部的複屈折異常を無くし、複屈折の均一
な光ディスク用プラスチック基板を得ることができると
述べられている。一方、特開平3−248345号公報
では、プラスチック基板に設けられた中心孔に支持体を
貫通し、その支持体でプラスチック基板を支持してアニ
ール処理することにより、プラスチック基板の外周部に
おいても複屈折分布の均一なプラスチック基板を得るこ
とができると述べられている。
In order to solve these problems, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-63807 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-248
No. 345 has been devised. JP-A-8-6
Japanese Patent No. 3807 discloses a plastic for optical discs having uniform birefringence by eliminating the local birefringence abnormality of a plastic substrate by receiving the weight of the plastic substrate at one point while accommodating the plastic substrate in a cassette at the time of annealing. It is stated that a substrate can be obtained. On the other hand, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-248345, a support is pierced through a center hole provided in a plastic substrate, and the plastic substrate is supported by the support and annealed. It is stated that a plastic substrate having a uniform refractive index distribution can be obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、何れの場合も
プラスチック基板を縦置きにカセットに収納し、横方向
にプラスチック基板を配置する方法が採用されている。
この方法では、連続してプラスチック基板を生産する場
合、プラスチック基板を横方向に配置しなければならな
いため、広いスペースが必要となる。この問題を解消す
るためには、プラスチック基板を収納するカセット等を
三次元的に配置するような機構にしなければならない
が、製造設備としては非常に複雑な構造になる。そし
て、この問題は、プラスチック基板をアニール処理する
場合に限らず、記録媒体用ディスクの製造においては、
同じ問題を抱えている。
However, in any case, a method is employed in which the plastic substrates are stored vertically in a cassette and the plastic substrates are arranged in the horizontal direction.
In this method, when plastic substrates are continuously produced, a large space is required because the plastic substrates must be arranged in a horizontal direction. In order to solve this problem, a mechanism for three-dimensionally arranging cassettes and the like for accommodating plastic substrates must be provided, but the structure becomes extremely complicated as a manufacturing facility. This problem is not limited to the case where the plastic substrate is annealed.
Have the same problem.

【0008】そこで、本発明は、このような従来の実情
に鑑みて提案されたものであり、記録媒体用ディスクを
三次元的に収納し、空間を有効に使用でき、形状的に優
れた特性を持つ記録媒体用ディスクを製造することがで
きるアニール装置を提供することを目的としている。
Accordingly, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and a recording medium disk is three-dimensionally accommodated, a space can be effectively used, and the shape is excellent. It is an object of the present invention to provide an annealing apparatus that can manufacture a recording medium disk having the following characteristics.

【0009】また、本発明は、記録媒体用ディスクを三
次元的に収納し、空間を有効に使用でき、形状的に優れ
た特性を持つ記録媒体用ディスクを製造することができ
る製造方法を提供することも目的としている。
Further, the present invention provides a manufacturing method capable of storing a recording medium disk three-dimensionally, effectively using a space, and manufacturing a recording medium disk having excellent characteristics in shape. It is also intended to be.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明に係るアニール装
置は、記録媒体用ディスクに対してアニール処理を施す
アニール装置であって、所定の形状に成形された複数の
記録媒体用ディスクを、個々の記録媒体用ディスクには
自重以外の荷重が加わらないように、スペーサを介して
ポールに積載して保持するディスク保持手段と、上記デ
ィスク保持手段によって保持された複数の記録媒体用デ
ィスクを加熱してアニール処理を施すアニール手段とを
備えることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An annealing apparatus according to the present invention is an annealing apparatus for performing an annealing process on a recording medium disk, wherein a plurality of recording medium disks formed in a predetermined shape are individually formed. In order to prevent a load other than its own weight from being applied to the recording medium disk, a disk holding means loaded and held on a pole via a spacer, and a plurality of recording medium disks held by the disk holding means are heated. And annealing means for performing an annealing process.

【0011】上記ディスク保持手段は、所定の形状に成
形された複数の記録媒体用ディスクを、個々の記録媒体
用ディスクには自重以外の荷重が加わらないように、ス
ペーサを介してポールに積載して保持する。また、上記
アニール手段は、上記ディスク保持手段によって保持さ
れた複数の記録媒体用ディスクを加熱してアニール処理
を施す。したがって、上記アニール装置では、個々の記
録媒体用ディスクには自重以外の荷重が加わらない状態
でアニール処理を施すことができる。
The disk holding means mounts a plurality of recording medium disks formed in a predetermined shape on a pole via a spacer so that a load other than its own weight is not applied to each recording medium disk. Hold. The annealing unit heats the plurality of recording medium disks held by the disk holding unit to perform an annealing process. Therefore, in the annealing apparatus described above, it is possible to perform the annealing process without applying a load other than its own weight to each recording medium disk.

【0012】また、本発明に係るアニール装置は、記録
媒体用のディスクに対してアニール処理を施すアニール
装置であって、所定の形状に成形された記録媒体用ディ
スクを加熱してアニール処理を施すアニール手段と、上
記アニール手段によってアニール処理が施された記録媒
体用ディスクを冷却する冷却手段と、上記記録媒体用デ
ィスクを回転させる回転手段とを備え、上記回転手段
は、少なくとも上記冷却手段により記録媒体用ディスク
を冷却するときに、記録媒体用ディスクを間欠又は連続
して回転させることを特徴とする。
The annealing apparatus according to the present invention is an annealing apparatus for performing an annealing process on a recording medium disk. The annealing apparatus performs an annealing process by heating a recording medium disk formed into a predetermined shape. Annealing means, cooling means for cooling the recording medium disk that has been annealed by the annealing means, and rotating means for rotating the recording medium disk, wherein the rotating means records at least the cooling means When cooling the medium disk, the recording medium disk is rotated intermittently or continuously.

【0013】上記アニール手段は、所定の形状に成形さ
れた記録媒体用ディスクを加熱してアニール処理を施
す。また、上記冷却手段は、上記アニール手段によって
アニール処理が施された記録媒体用ディスクを冷却す
る。そして、上記回転手段は、上記記録媒体用ディスク
を冷却するときに、記録媒体用ディスクを間欠又は連続
して回転させる。したがって、上記アニール装置では、
記録媒体用ディスクをアニール処理を施した後、冷却す
る際に、記録媒体用ディスクは、部位によるばらつきが
なく均一に冷却されるため、冷却時における熱応力の発
生を防げ、それに起因する形状特性のばらつきを防げ
る。
The annealing means heats a recording medium disk formed in a predetermined shape to perform an annealing process. The cooling unit cools the recording medium disk that has been subjected to the annealing process by the annealing unit. The rotating means rotates the recording medium disk intermittently or continuously when cooling the recording medium disk. Therefore, in the annealing apparatus,
When the recording medium disk is annealed and then cooled, the recording medium disk is uniformly cooled without any variation between parts, so that thermal stress during cooling can be prevented and the resulting shape characteristics Can be prevented.

【0014】そして、本発明に係る記録媒体用ディスク
の製造方法は、所定の形状に成形された複数の記録媒体
用ディスクを、個々の記録媒体用ディスクには自重以外
の荷重が加わらないように、スペーサを介してポールに
積載する積載工程と、上記積載工程で積載された複数の
記録媒体用ディスクを加熱してアニール処理を施すアニ
ール工程とを備えることを特徴とする 上記積載工程では、所定の形状に成形された複数の記録
媒体用ディスクを、個々の記録媒体用ディスクには自重
以外の荷重が加わらないように、スペーサを介してポー
ルに積載する。また、上記アニール工程では、上記積載
工程で積載された複数の記録媒体用ディスクを加熱して
アニール処理を施す。したがって、上記製造方法では、
個々の記録媒体用ディスクには自重以外の荷重が加わら
ない状態でアニール処理を施すことができる。
The method of manufacturing a disk for a recording medium according to the present invention is characterized in that a plurality of disks for a recording medium molded in a predetermined shape are formed so that a load other than its own weight is not applied to each disk for a recording medium. A loading step of loading the plurality of recording medium disks loaded in the loading step and performing an annealing process by heating the plurality of recording medium disks loaded in the loading step. A plurality of recording medium disks formed in the shape described above are mounted on the pole via the spacers so that a load other than the own weight is not applied to each recording medium disk. Further, in the annealing step, the plurality of recording medium disks loaded in the loading step are heated to perform an annealing process. Therefore, in the above manufacturing method,
The individual recording medium disks can be annealed in a state where no load other than their own weight is applied.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0016】なお、本発明は以下の例により限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、変更
可能である。また、本発明は、光ディスク用プラスチッ
ク基板成形後成膜工程前におけるアニール処理方法に限
定するものではなく、例えば、膜の応力を緩和するため
に成膜後に行うアニール処理、そして、種々の光記録媒
体、磁気記録媒体等のディスクのアニール処理に対して
広く適用可能である。
The present invention is not limited to the following examples, and can be modified without departing from the gist of the present invention. In addition, the present invention is not limited to the annealing method before the film forming step after molding the plastic substrate for the optical disc. For example, the annealing treatment performed after the film formation to reduce the stress of the film, and various optical recording methods The present invention can be widely applied to annealing of a disk such as a medium and a magnetic recording medium.

【0017】図1に、本発明を適用した光ディスク用プ
ラスチック基板のアニール装置の概念図を示す。図2
に、図1に示したアニール装置のアニールゾーンをアニ
ールゾーン出口の方向から見た図を示す。
FIG. 1 shows a conceptual diagram of an annealing apparatus for a plastic substrate for an optical disk to which the present invention is applied. FIG.
FIG. 2 shows a view of the annealing zone of the annealing apparatus shown in FIG. 1 as viewed from the direction of the annealing zone exit.

【0018】光ディスク用プラスチック基板1を空間を
効率良く使用しアニール処理するためには、図3
(a),図3(b)に示すスペーサ2を使用し、図4に
示すように光ディスク用プラスチック基板1を垂直にポ
ールに積載し、縦方向に積み上げる手法が考えられる。
しかし、この場合、光ディスク用プラスチック基板1に
は、自重の他に該光ディスク用プラスチック基板1より
も上部に積載されている全ての光ディスク用プラスチッ
ク基板1及びスペーサ2の重量が加わってしまう。具体
的には光ディスク用プラスチック基板1の内周部に該光
ディスク用プラスチック基板1よりも上部に積載されて
いる全ての光ディスク用プラスチック基板1及びスペー
サ2の重量が加わってしまう。
In order to efficiently use the space and anneal the plastic substrate 1 for an optical disk, FIG.
(A), a method of vertically mounting the plastic substrate 1 for an optical disk on a pole as shown in FIG. 4 using the spacer 2 shown in FIG.
However, in this case, the weight of all the plastic substrates 1 for optical disks and the spacers 2 loaded above the plastic substrate 1 for optical disks is added to the plastic substrate 1 for optical disks in addition to its own weight. Specifically, the weight of all the optical disc plastic substrates 1 and the spacers 2 loaded above the optical disc plastic substrate 1 is added to the inner peripheral portion of the optical disc plastic substrate 1.

【0019】一般にプラスチック基板をアニール処理す
る場合、プラスチック基板内部の歪みは時間的に一様に
は緩和せず、プラスチック基板は、過渡期においては歪
み緩和の不均一性により微少な変形を生じる。このと
き、プラスチック基板の一部もしくは全部が他の要因に
より固定されていると、プラスチック基板は、自由な動
きが妨げられ、基板の形状に悪影響が与えられる。ま
た、図4に示すような積載方法を行った場合、その光デ
ィスク用プラスチック基板1の上に何枚の光ディスク用
プラスチック基板1及びスペーサ2が積載されているか
によって、光ディスク用プラスチック基板1の内周部に
かかる重量が異なる。したがって、このようにポール3
に積載する方法を用いてアニール処理を行い、一様な形
状的特性を有する光ディスク用プラスチック基板1を得
ることは非常に難しい。
Generally, when a plastic substrate is annealed, the strain in the plastic substrate does not relax uniformly over time, and the plastic substrate undergoes a slight deformation due to non-uniformity of strain relaxation in a transitional period. At this time, if a part or the whole of the plastic substrate is fixed by other factors, the plastic substrate is prevented from freely moving, and the shape of the substrate is adversely affected. When the loading method as shown in FIG. 4 is performed, the inner circumference of the plastic substrate 1 for an optical disk depends on how many plastic substrates 1 for an optical disk and the spacers 2 are mounted on the plastic substrate 1 for an optical disk. The weight on the part is different. Therefore, this way pole 3
It is very difficult to perform an annealing process using the method of loading on the optical disc and obtain a plastic substrate 1 for an optical disc having uniform shape characteristics.

【0020】そこで本発明によるアニール装置では、例
えば、図5(a),図5(b)に示すようなスペーサ3
1を使用して、図6に示すように光ディスク用プラスチ
ック基板1を垂直にポールマガジン4上に積載する。図
5(a)は、本発明に係るスペーサ31の平面図であ
り、図5(b)は、その正面図である。本発明に係るス
ペーサ31は、中心に設けられた中心孔にポール3を貫
通して光ディスク用プラスチック基板1と光ディスク用
プラスチック基板1との間に配されて使用される。本発
明に係るスペーサ31は、上に積載されるスペーサ31
を支持するスペーサ支持部5aにより構成されるスペー
サ支持面5bにおいて該スペーサ31上に載置されたス
ペーサ31を支持し、ディスクを支持するディスク支持
部6aにより構成されるディスク支持面6bにおいて該
スペーサ31よりも上部に載置された光ディスク用プラ
スチック基板1を支持する。ここで本発明に係るスペー
サ31は、光ディスク用プラスチック基板1の厚みをt
1とし、スペーサ31のスペーサ支持面5bとディスク
支持面6bとの距離をt2とした時、t2の寸法がt1
<t2の条件を満たすように設計されている。これによ
り、個々の光ディスク用プラスチック基板1に加わる荷
重は、光ディスク用プラスチック基板1の自重のみとな
り、他の光ディスク用プラスチック基板1やスペーサ3
1の重量が加わらないため、形状的な特性に悪影響を及
ぼすことなくアニール処理及び冷却処理を行うことがで
きる。
Therefore, in the annealing apparatus according to the present invention, for example, the spacer 3 shown in FIGS. 5A and 5B is used.
6, the optical disc plastic substrate 1 is vertically mounted on the pole magazine 4 as shown in FIG. FIG. 5A is a plan view of the spacer 31 according to the present invention, and FIG. 5B is a front view thereof. The spacer 31 according to the present invention is disposed between the optical disc plastic substrate 1 and the optical disc plastic substrate 1 through the pole 3 in the center hole provided at the center. The spacer 31 according to the present invention has a
The spacer 31 mounted on the spacer 31 is supported by a spacer support surface 5b formed by a spacer support portion 5a that supports the disk, and the spacer is supported by a disk support surface 6b formed by a disk support portion 6a that supports a disk. The optical disk plastic substrate 1 placed above the support 31 is supported. Here, the spacer 31 according to the present invention has a thickness t of the plastic substrate 1 for an optical disk.
When the distance between the spacer supporting surface 5b of the spacer 31 and the disk supporting surface 6b is t2, the dimension of t2 is t1
It is designed to satisfy the condition of <t2. As a result, the load applied to each optical disc plastic substrate 1 is only the own weight of the optical disc plastic substrate 1, and the other optical disc plastic substrates 1 and spacers 3
Since the weight of No. 1 is not added, the annealing process and the cooling process can be performed without adversely affecting the shape characteristics.

【0021】また、本発明に係るスペーサ31は上記の
条件を満たしていれば図7(a),図7(b)に示すよ
うに、上下が対称な形状をしていても良い。これによ
り、上下の判定をする必要が無くなり、実際の作業工程
においては、作業が簡易化される。また、本発明に係る
スペーサ31は、エッジ部7に面取りを行うか、あるい
は丸みをつけて用いられることが望ましい。これによ
り、光ディスク用プラスチック基板1がスペーサ31に
乗り上げたり、光ディスク用プラスチック基板1がスペ
ーサ31のエッジ部7に当たり、傷をつけたりすること
を防ぐことができるからである。
The spacer 31 according to the present invention may have a vertically symmetric shape as shown in FIGS. 7A and 7B if the above conditions are satisfied. This eliminates the need to determine the up / down direction, and simplifies the work in the actual work process. It is desirable that the spacer 31 according to the present invention be used by chamfering or rounding the edge portion 7. Thereby, it is possible to prevent the plastic substrate for an optical disk 1 from riding on the spacer 31 and the plastic substrate for an optical disk 1 from hitting the edge portion 7 of the spacer 31 and damaging it.

【0022】そして、本発明に係るスペーサ31は、熱
膨張率が光ディスク用プラスチック基板1の熱膨張率よ
りも小さいことが望ましい。これにより、アニール処理
中にスペーサ31及び光ディスク用プラスチック基板1
が膨張した際、スペーサ31が光ディスク用プラスチッ
ク基板1の内周部を押し広げ、光ディスク用プラスチッ
ク基板1の形状に悪影響を与えることを防げるからであ
る。
The spacer 31 according to the present invention desirably has a coefficient of thermal expansion smaller than that of the plastic substrate 1 for an optical disk. Thereby, during the annealing process, the spacer 31 and the plastic substrate 1
This is because when the spacer expands, the spacer 31 can spread out the inner peripheral portion of the plastic substrate 1 for an optical disk, thereby preventing the shape of the plastic substrate 1 for an optical disk from being adversely affected.

【0023】次に、本発明に係るアニール装置の構成に
ついて説明する。
Next, the configuration of the annealing apparatus according to the present invention will be described.

【0024】本発明に係るアニール装置は、アニールゾ
ーン17と低露点ブース18を備える。
The annealing apparatus according to the present invention includes an annealing zone 17 and a low dew point booth 18.

【0025】アニールゾーン17は、アニールゾーン入
口8と、アニールゾーン出口10と、ステンレスコンベ
ア9と、温風の吹き出し口11と、ジャマ板(図示せ
ず)と、HEPA(High Efficiency Particulate A
ir)フィルタ12と、温風の加熱部(図示せず)と、吸
引口13と、温風循環用のファン14とを備える。
The annealing zone 17 includes an annealing zone inlet 8, an annealing zone outlet 10, a stainless steel conveyor 9, a hot air outlet 11, a jammer plate (not shown), and a HEPA (High Efficiency Particulate A).
ir) A filter 12, a heating unit for hot air (not shown), a suction port 13, and a fan 14 for circulating hot air are provided.

【0026】アニールゾーン入口8は、アニール装置に
おいて低露点ブース18の反対側の側面に位置し、ここ
からポールマガジン4に積載された光ディスク用プラス
チック基板1がアニールゾーン17内に搬入される。
The annealing zone entrance 8 is located on the side opposite to the low dew point booth 18 in the annealing apparatus, from which the optical disc plastic substrate 1 loaded on the pole magazine 4 is carried into the annealing zone 17.

【0027】アニールゾーン出口10は、アニール装置
のアニールゾーン17においてアニールゾーン入口8と
反対側の側面で、アニールゾーン17と低露点ブース1
8との境界部に位置する。アニールゾーン出口10は、
通常はシャッタ(図示せず)により閉鎖されており、ア
ニールゾーン17の熱が低露点ブースに逃げないように
なっている。そして、このシャッタは、アニール処理が
終了したポールマガジン4に積載された光ディスク用プ
ラスチック基板1を、冷却処理を施すために低露点ブー
ス18に移送するときのみ開閉される。
The annealing zone outlet 10 is located on the side opposite to the annealing zone inlet 8 in the annealing zone 17 of the annealing apparatus.
8 and is located at the boundary. Anneal zone exit 10
Normally, the shutter is closed by a shutter (not shown) so that heat in the annealing zone 17 does not escape to the low dew point booth. The shutter is opened and closed only when the plastic substrate 1 for an optical disc loaded on the pole magazine 4 after the annealing process is transferred to the low dew point booth 18 for performing the cooling process.

【0028】アニールゾーン17は、図8に示すように
アニールゾーン入口8側の第1のアニール炉とアニール
ゾーン出口側の第2のアニール炉16とに区切られてお
り、光ディスク用プラスチック基板1は、2段階の温度
においてアニール処理が行われる。すなわち、第1及び
第2のアニール炉でのアニール処理温度は、光ディスク
用プラスチック基板1の軟化点以下の温度であり、か
つ、第2のアニール炉16でのアニール処理温度の方が
第1のアニール炉15でのアニール処理温度よりも高い
温度に設定される。そして、第1のアニール炉15と第
2のアニール炉16とは壁により区切られているが、ス
テンレスコンベア9及び光ディスク用プラスチック基板
1の移動部は開口しており、第1のアニール炉15によ
るアニール処理と第2のアニール炉16でのアニール処
理は連続して行われる。これにより、光ディスク用プラ
スチック基板1は、急激に温度上昇することがないた
め、光ディスク用プラスチック基板1の積載位置によら
ず、また、個々の光ディスク用プラスチック基板1内に
おいても部位による温度の偏りが防がれ、形状的な特性
への悪影響が防がれる。
As shown in FIG. 8, the annealing zone 17 is divided into a first annealing furnace at the entrance 8 of the annealing zone and a second annealing furnace 16 at the exit of the annealing zone. Annealing is performed at two temperatures. That is, the annealing temperature in the first and second annealing furnaces is lower than the softening point of the plastic substrate 1 for optical discs, and the annealing temperature in the second annealing furnace 16 is the first. The temperature is set higher than the annealing temperature in the annealing furnace 15. The first annealing furnace 15 and the second annealing furnace 16 are separated by a wall, but the moving parts of the stainless steel conveyor 9 and the plastic substrate 1 for an optical disk are open. The annealing process and the annealing process in the second annealing furnace 16 are performed continuously. As a result, the temperature of the plastic substrate 1 for the optical disk does not rise rapidly, so that the temperature deviation depending on the position does not depend on the loading position of the plastic substrate 1 for the optical disk and also in each plastic substrate 1 for the optical disk. And the adverse effect on the shape characteristics is prevented.

【0029】ステンレスコンベア9はアニールゾーン入
口8の外部から、アニールゾーン入口8を通して、アニ
ールゾーン出口10までアニールゾーン17の床面上に
配置されている。ステンレスコンベア9は、所定の速度
においてアニールゾーン入口8の方向からアニールゾー
ン出口10の方向に稼働しており、ポールマガジン4ご
と光ディスク用プラスチック基板1をアニールゾーン入
口8の外部からアニールゾーン出口10まで運搬する。
The stainless steel conveyor 9 is arranged on the floor of the annealing zone 17 from the outside of the annealing zone entrance 8 to the annealing zone exit 10 through the annealing zone entrance 8. The stainless steel conveyor 9 is operated at a predetermined speed from the direction of the annealing zone entrance 8 to the direction of the annealing zone exit 10, and the optical disk plastic substrate 1 together with the pole magazine 4 from the outside of the annealing zone entrance 8 to the annealing zone exit 10. Transport.

【0030】温風の吹き出し口11は、ステンレスコン
ベア9の側面に沿ってアニールゾーン入口8からアニー
ルゾーン出口10にかけて配置されている。温風の吹き
出し口11には、ジャマ板が取り付けられており、風向
を調製することができるようになっている。これによ
り、光ディスク用プラスチック基板1の積載枚数の変更
等、種々のアニール処理条件に対応することができる。
また、吹き出し口11のジャマ板は、スイングするよう
になっていても良い。これにより、アニールゾーン内の
空気は均一に攪拌され、より確実に温度分布の均一性が
保たれる。そして、吹き出し口11のジャマ板をスイン
グさせる代わりに、光ディスク用プラスチック基板1を
ポールマガジン4ごとステンレスコンベア9上で回転さ
せるようにしても良い。これにより、光ディスク用プラ
スチック基板1は、より確実に均一に加熱されるからで
ある。
The hot air outlet 11 is disposed along the side surface of the stainless steel conveyor 9 from the annealing zone inlet 8 to the annealing zone outlet 10. A baffle plate is attached to the hot air outlet 11 so that the wind direction can be adjusted. This makes it possible to cope with various annealing processing conditions, such as a change in the number of stacked optical disc plastic substrates 1.
Further, the jammer plate of the outlet 11 may swing. As a result, the air in the annealing zone is uniformly stirred, and the uniformity of the temperature distribution is more reliably maintained. Then, instead of swinging the jammer plate of the outlet 11, the optical disc plastic substrate 1 may be rotated together with the pole magazine 4 on the stainless steel conveyor 9. This is because the plastic substrate for optical disc 1 is more reliably and uniformly heated.

【0031】アニールゾーン17内は温風により加熱さ
れるため、温風の吹き出し口11は、所定の温度におい
てアニールゾーン17内の温度分布が一様になるように
アニールゾーン17内においての位置が設計されてい
る。また、温風の吹き出し口11から吹き出される温風
は、極力微風にすることが望ましい。風量を少なくする
ことにより光ディスク用プラスチック基板1に温風が当
たることが防がれ、光ディスク用プラスチック基板1が
局部的に加熱されることが防がれるため、光ディスク用
プラスチック基板1は、均一に加熱され、形状的な特性
のばらつきが生じることを防がれるからである。
Since the inside of the annealing zone 17 is heated by the warm air, the outlet 11 of the warm air is positioned in the annealing zone 17 so that the temperature distribution in the annealing zone 17 becomes uniform at a predetermined temperature. Designed. It is desirable that the warm air blown out from the outlet 11 for the warm air be as small as possible. By reducing the air volume, it is possible to prevent the hot air from hitting the plastic substrate 1 for an optical disk, and to prevent the plastic substrate 1 for an optical disk from being locally heated. This is because it is possible to prevent the shape characteristics from being varied due to heating.

【0032】HEPAフィルタ12は、温風の吹き出し
口11の奥に配置され、温風を循環させる際に温風の清
浄を行い、清浄された温風がアニールゾーン17内に送
られる。
The HEPA filter 12 is disposed at the back of the outlet 11 for hot air, and cleans the hot air when circulating the hot air. The cleaned hot air is sent into the annealing zone 17.

【0033】温風の加熱部は、HEPAフィルタ12の
奥に位置し、温風を循環させる際に温風に加熱を施す。
The hot air heating section is located at the back of the HEPA filter 12, and heats the hot air when circulating the hot air.

【0034】吸引口13は、ステンレスコンベア9を介
して吹き出し口11の反対側に配置され、アニールゾー
ン17内の空気を回収する。吸引口13は、アニールゾ
ーン17内において低い位置には位置されることが望ま
しい。これにより、温風の吹き出し口11から吹き出さ
れた温風に比べ、温度の下がった空気を吸引することが
でき、アニールゾーン17内の温度分布をより均一に保
つことができるからである。
The suction port 13 is disposed on the opposite side of the outlet 11 via the stainless steel conveyor 9 and collects air in the annealing zone 17. It is desirable that the suction port 13 be located at a lower position in the annealing zone 17. Thereby, compared to the warm air blown out from the outlet 11 for the warm air, the cooled air can be sucked and the temperature distribution in the annealing zone 17 can be kept more uniform.

【0035】ファン14は、アニールゾーン17内の天
井部に配置され、吸引口13より吸引されたアニールゾ
ーン17内の空気を温風の加熱部に送り、アニールゾー
ン17内の空気を循環させる働きをする。
The fan 14 is disposed on the ceiling in the annealing zone 17, sends the air in the annealing zone 17 sucked from the suction port 13 to the hot air heating section, and circulates the air in the annealing zone 17. do.

【0036】低露点ブース18には、冷却ゾーン19が
配置され、冷却ゾーン19は、ステンレスコンベア9
と、冷却用フード24と、ダクト25と、冷却風収集フ
ード26と、仕切板27と、ポールマガジンの回転機構
とを備える。ポールマガジンの回転機構は、ポールマガ
ジン支持用爪21と、上下シリンダ22と、モータ23
と、回転軸29と、ギア30とを備える。図9は、図1
において低露点ブース出口20の方向から見た冷却ゾー
ン19の概念図である。図10はポールマガジンの回転
機構の概念図である。
In the low dew point booth 18, a cooling zone 19 is provided.
, A cooling hood 24, a duct 25, a cooling air collecting hood 26, a partition plate 27, and a rotating mechanism of a pole magazine. The rotating mechanism of the pole magazine includes a pawl magazine supporting claw 21, an upper and lower cylinder 22, and a motor 23.
, A rotating shaft 29 and a gear 30. FIG. 9 shows FIG.
FIG. 3 is a conceptual diagram of a cooling zone 19 viewed from the direction of a low dew point booth outlet 20 in FIG. FIG. 10 is a conceptual diagram of a rotating mechanism of the pole magazine.

【0037】低露点ブース18は、アニールゾーン出口
10を介してアニールゾーン17に隣接して配置され
る。低露点ブース18内には、乾燥・冷却された空気が
循環されている。
The low dew point booth 18 is located adjacent to the annealing zone 17 via the annealing zone outlet 10. Inside the low dew point booth 18, dried and cooled air is circulated.

【0038】ステンレスコンベア9は、低露点ブース1
8内の床面上にアニールゾーン出口10から低露点ブー
ス出口20にわたって配置される。ステンレスコンベア
9は、アニール処理が終了し、第2のアニール炉16か
ら低露点ブース18内に移送された光ディスク用プラス
チック基板1をポールマガジン4に積載した状態で冷却
処理が行われる所定の位置まで運搬し、また、冷却処理
が終了した光ディスク用プラスチック基板1をポールマ
ガジン4に積載した状態で低露点ブース出口20まで運
搬する。また、ステンレスコンベア9は、光ディスク用
プラスチック基板1の冷却処理が行われる位置におい
て、ポールマガジン支持用爪21が上下できる程度の大
きさの開口部を有する。
The stainless steel conveyor 9 has a low dew point booth 1
8 is disposed on the floor surface from the annealing zone outlet 10 to the low dew point booth outlet 20. When the annealing process is completed, the stainless steel conveyor 9 is loaded with the optical disc plastic substrate 1 transferred from the second annealing furnace 16 into the low dew point booth 18 on the pole magazine 4 to a predetermined position where the cooling process is performed. The optical disk plastic substrate 1 after the cooling process is transported to the low dew point booth exit 20 while being loaded on the pole magazine 4. The stainless steel conveyor 9 has an opening large enough to allow the pawl magazine support claws 21 to move up and down at the position where the cooling process of the optical disc plastic substrate 1 is performed.

【0039】ポールマガジン支持用爪21は、ポールマ
ガジン4をその上に乗せ、かつ挟み込んで固定するため
に、略直方体の形状に上部主面上の対向する縁端部にガ
イドを形成した形状を有する。ポールマガジン支持用爪
21は、ポールマガジン4が所定の位置に運搬されるま
では、ステンレスコンベア9の開口部の下部に位置して
いる。また、ポールマガジン支持用爪21は後述する回
転軸29を介して後述する上下シリンダ22に接続され
ており、これにより上下させることができるようになっ
ている。また、ポールマガジン支持用爪21は、後述す
る回転軸29及びギア30を介して後述するモータ23
と接続されており、モータ23の駆動力を伝達すること
により、回転させることができるようになっている。そ
して、ポールマガジン支持用爪21は、ポールマガジン
4が所定の位置に運搬されると、上下シリンダ22によ
り、ステンレスコンベア9の開口部より上に押し上げら
れ、ポールマガジン4を挟み込むとともにポールマガジ
ン4をステンレスコンベア9から離間させる。そして、
ポールマガジン支持用爪21は、モータ23の駆動力が
伝達されることにより、ポールマガジン4及び光ディス
ク用プラスチック基板とともに所定の速度で回転させら
れる。これにより、冷却風は、光ディスク用プラスチッ
ク基板1に一様に当たるため、光ディスク用プラスチッ
ク基板1は、冷却が均一に行われ、形状的な特性のばら
つきが生じることが防がれる。ここで、ポールマガジン
支持用爪21は、連続して回転させられても良く、ま
た、間欠的に回転させられても良い。
The pawl 21 for supporting the pole magazine has a substantially rectangular parallelepiped shape in which guides are formed at opposing edges on the upper main surface in order to mount the pole magazine 4 thereon and fix the pole magazine 4 therebetween. Have. The pawl magazine supporting pawl 21 is located below the opening of the stainless steel conveyor 9 until the pawl magazine 4 is transported to a predetermined position. Further, the pawl magazine supporting pawl 21 is connected to a vertical cylinder 22 described later via a rotary shaft 29 described later, so that it can be moved up and down. Further, the pawl magazine supporting pawl 21 is connected to a motor 23 to be described later via a rotating shaft 29 and a gear 30 to be described later.
, And can be rotated by transmitting the driving force of the motor 23. Then, when the pole magazine 4 is transported to a predetermined position, the pole magazine supporting claw 21 is pushed up above the opening of the stainless steel conveyor 9 by the upper and lower cylinders 22, sandwiching the pole magazine 4 and holding the pole magazine 4. Separate from the stainless steel conveyor 9. And
The pawl magazine supporting pawl 21 is rotated at a predetermined speed together with the pawl magazine 4 and the plastic substrate for an optical disc by transmitting the driving force of the motor 23. This allows the cooling air to uniformly hit the plastic substrate 1 for an optical disk, so that the plastic substrate 1 for an optical disk is uniformly cooled, thereby preventing a variation in shape characteristics. Here, the pawl magazine support claws 21 may be rotated continuously or intermittently.

【0040】上下シリンダ22は、ポールマガジン支持
用爪21下部に配置され、後述する回転軸29を介して
ポールマガジン支持用爪21と接続されている。そし
て、上下シリンダ22は、光ディスク用プラスチック基
板の冷却処理を行う際、ポールマガジン支持用爪21を
光ディスク用プラスチック基板1を積載したポールマガ
ジン4とともに所定の高さまで持ち上げ、ステンレスコ
ンベア9から離間させる。また、上下シリンダ22は、
冷却処理が終了した際に、ポールマガジン支持用爪21
を元の位置まで下げ、ポールマガジン4及び光ディスク
用プラスチック1をステンレスコンベア9上に載置す
る。
The upper and lower cylinders 22 are arranged below the pawl magazine supporting pawls 21 and are connected to the pawl magazine supporting pawls 21 via a rotating shaft 29 described later. The upper and lower cylinders 22 raise the pawl magazine supporting claws 21 to a predetermined height together with the pole magazine 4 on which the optical disc plastic substrate 1 is loaded, and separate the pawl magazine 21 from the stainless steel conveyor 9 when cooling the optical disc plastic substrate. The upper and lower cylinders 22
When the cooling process is completed, the pawl supporting pawl 21
Is lowered to its original position, and the pole magazine 4 and the optical disc plastic 1 are placed on the stainless steel conveyor 9.

【0041】モータ23は、回転軸29の横に配置さ
れ、後述する回転軸29及び後述するギア30を介して
ポールマガジン支持用爪21と接続されている。そし
て、回転軸29及びギア30を介して駆動力を伝達する
ことによりポールマガジン支持用爪21を回転させる。
The motor 23 is arranged beside the rotating shaft 29 and is connected to the pawl magazine supporting pawl 21 via a rotating shaft 29 described later and a gear 30 described later. Then, the pawl magazine supporting pawl 21 is rotated by transmitting the driving force via the rotating shaft 29 and the gear 30.

【0042】回転軸29は、ポールマガジン支持用爪2
1の下部主面中心に取り付けられ、ポールマガジン支持
用爪21と上下シリンダ22、及びポールマガジン支持
用爪21とモータ23とを接続している。
The rotating shaft 29 is provided with the pawl supporting pawl 2
The pawl magazine supporting pawl 21 is connected to the upper and lower cylinders 22, and the pawl magazine supporting pawl 21 is connected to the motor 23.

【0043】ギア30は、回転軸29のポールマガジン
支持用爪21と反対側の端部及びモータ23に取り付け
られ、モータ23の駆動力を回転軸29に伝達する。
The gear 30 is attached to the end of the rotating shaft 29 opposite to the pawl magazine supporting pawl 21 and to the motor 23, and transmits the driving force of the motor 23 to the rotating shaft 29.

【0044】冷却用フード24は、ステンレスコンベア
9の一方の側面であり、ポールマガジン4の停止位置の
横部分に配置される。
The cooling hood 24 is located on one side surface of the stainless steel conveyor 9 and is located at a side portion of the stop position of the pole magazine 4.

【0045】ダクト25は、冷却用フード24の上部に
配置され、低露点再生装置において低露点化された冷却
風を供給するダクト25が接続されている。
The duct 25 is disposed above the cooling hood 24, and is connected to a duct 25 for supplying cooling air having a low dew point in the low dew point regeneration device.

【0046】冷却風収集フード26は、ポールマガジン
4を介して冷却用フード24の反対側に配置され、光デ
ィスク用プラスチック基板1を冷却した冷却風を収集す
る。そして、冷却風収集用フード26において収集され
た冷却風は、冷却風収集用フード26の下部に吸引さ
れ、低露点再生装置に送られ、低露点化された後、冷却
風として冷却ゾーン19に戻される。
The cooling air collecting hood 26 is arranged on the opposite side of the cooling hood 24 via the pole magazine 4, and collects cooling air that has cooled the plastic substrate 1 for an optical disk. Then, the cooling air collected in the cooling air collecting hood 26 is sucked into a lower portion of the cooling air collecting hood 26, sent to a low dew point regenerating device, and after the dew point is lowered, the cooling air is transferred to the cooling zone 19 as cooling air. Will be returned.

【0047】仕切板27は、冷却用フード24内に配置
され、ダクト25から供給される低露点化された冷却風
は、冷却用フード24内に配置された仕切板27に当た
ることにより、光ディスク用プラスチック基板1に当た
るように進行方向を変えられる。これにより、冷却風
は、光ディスク用プラスチック基板1に当てられ、光デ
ィスク用プラスチック基板1を冷却する。
The partition plate 27 is disposed in the cooling hood 24, and the cooling air supplied from the duct 25 and having a reduced dew point strikes the partition plate 27 disposed in the cooling hood 24, thereby forming an optical disk. The traveling direction can be changed so as to hit the plastic substrate 1. As a result, the cooling air is applied to the plastic substrate 1 for an optical disc to cool the plastic substrate 1 for an optical disc.

【0048】次に本発明に係るプラスチック基板の製造
方法について説明する。
Next, a method of manufacturing a plastic substrate according to the present invention will be described.

【0049】本発明に係るプラスチック基板の製造方法
では、上述したアニール装置を用いたプラスチック基板
のアニール処理及び冷却処理を行う。
In the method of manufacturing a plastic substrate according to the present invention, the annealing and cooling of the plastic substrate are performed using the above-described annealing apparatus.

【0050】まず、積載工程において、成形工程におい
て所定の形状に成形された複数の光ディスク用プラスチ
ック基板1は、図5(a),図5(b)に示すような本
発明に係るスペーサ31を介して、個々の光ディスク用
プラスチック基板1には自重以外の荷重がかからないよ
うにポールマガジン4に積載される。
First, in the loading step, a plurality of optical disc plastic substrates 1 formed in a predetermined shape in the forming step are provided with spacers 31 according to the present invention as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b). Each of the optical disc plastic substrates 1 is loaded on the pole magazine 4 so that no load other than its own weight is applied to the plastic substrate 1 for an optical disc.

【0051】次に、アニール工程において、ポールマガ
ジン4に積載した状態で光ディスク用プラスチック基板
1に対してアニール処理が行われる。光ディスク用プラ
スチック基板1のアニールゾーン17への挿入はステン
レスコンベア9を用いて行われる。すなわち、ポールマ
ガジン4に積載した光ディスク用プラスチック基板1を
ポールマガジン4ごとアニールゾーン入口8においてス
テンレスコンベア9に乗せる。これにより、光ディスク
用プラスチック基板1は、ポールマガジン4ごとアニー
ルゾーン17に挿入され、第1のアニール炉15、第2
のアニール炉16を通過し、アニールゾーン出口10ま
で運ばれる。このとき、ステンレスコンベア9は、所定
の速度において、間欠もしくは連続して稼働する。
Next, in an annealing step, an annealing process is performed on the plastic substrate 1 for an optical disk while being loaded on the pole magazine 4. The plastic substrate 1 for an optical disk is inserted into the annealing zone 17 using the stainless steel conveyor 9. That is, the optical disc plastic substrate 1 loaded on the pole magazine 4 is put on the stainless steel conveyor 9 together with the pole magazine 4 at the annealing zone entrance 8. As a result, the plastic substrate 1 for an optical disk is inserted into the annealing zone 17 together with the pole magazine 4 and the first annealing furnace 15 and the second
And passed to the annealing zone outlet 10. At this time, the stainless steel conveyor 9 operates intermittently or continuously at a predetermined speed.

【0052】アニール工程は、第1のアニール工程と第
2のアニール工程に分かれている。第1のアニール工程
では、第1のアニール炉15内で、アニールゾーン17
の外部から挿入された室温状態にある光ディスク用プラ
スチック基板1に対してアニール処理が行われる。この
時、第1のアニール炉15内は、光ディスク用プラスチ
ック基板1の軟化点以下であり第2のアニール炉16の
加熱温度よりも低い所定の温度に加熱されている。
The annealing step is divided into a first annealing step and a second annealing step. In a first annealing step, an annealing zone 17 is set in a first annealing furnace 15.
Annealing is performed on the plastic substrate 1 for an optical disk at room temperature inserted from outside. At this time, the inside of the first annealing furnace 15 is heated to a predetermined temperature which is lower than the softening point of the plastic substrate 1 for optical disks and lower than the heating temperature of the second annealing furnace 16.

【0053】第2のアニール工程では、第2のアニール
炉16内で、第1のアニール工程において所定の温度に
加熱され、第1のアニール炉15からステンレスコンベ
ア9により運ばれた光ディスク用プラスチック基板1に
対して続けてアニール処理が行われる。この時、第2の
アニール炉16内は、光ディスク用プラスチック基板1
の軟化点以下であり第1のアニール炉15の加熱温度よ
りも高い、最終的なアニール温度に加熱されている。光
ディスク用プラスチック基板1は、第1のアニール工程
及び第2のアニール工程でアニール温度を2段階に設定
しアニール処理することにより、光ディスク用プラスチ
ック基板1の温度が急激に上昇することが防がれる。そ
のため、光ディスク用プラスチック基板1は、形状的な
特性に悪影響が与えられることなく、均一な形状的特性
を有する。
In the second annealing step, the plastic substrate for the optical disk heated to a predetermined temperature in the first annealing step in the second annealing furnace 16 and conveyed from the first annealing furnace 15 by the stainless steel conveyor 9 is used. Annealing processing is performed on 1 in succession. At this time, the inside of the second annealing furnace 16 is
Is heated to a final annealing temperature lower than the softening point of the first annealing furnace and higher than the heating temperature of the first annealing furnace 15. The plastic substrate for an optical disk 1 is prevented from sharply rising in temperature by setting the annealing temperature in two stages in the first annealing process and the second annealing process and performing the annealing process. . Therefore, the plastic substrate for optical disc 1 has uniform shape characteristics without adversely affecting the shape characteristics.

【0054】第1のアニール工程及び第2のアニール工
程においては、第1のアニール炉15内及び第2のアニ
ール炉16内は、常時温風の吹き出し口11から吹き出
されている温風により所定の温度に均一に保たれてお
り、光ディスク用プラスチック基板1は、第1のアニー
ル炉15及び第2のアニール炉16の中を通過する間に
所定の温度に加熱され、アニール処理が施される。第1
のアニール工程及び第2のアニール工程でのアニール処
理温度及びアニール処理時間は光ディスク用プラスチッ
ク基板1の材質、寸法及び後述する冷却処理を施す時間
等により適宜決められる。
In the first annealing step and the second annealing step, the inside of the first annealing furnace 15 and the inside of the second annealing furnace 16 are always kept in a predetermined state by the warm air blown from the outlet 11 of the warm air. The plastic substrate 1 for an optical disk is heated to a predetermined temperature while passing through the first annealing furnace 15 and the second annealing furnace 16 to be subjected to an annealing treatment. . First
The annealing temperature and the annealing time in the annealing step and the second annealing step are appropriately determined depending on the material and dimensions of the plastic substrate for optical disc 1 and the time for performing a cooling process described later.

【0055】また、光ディスク用プラスチック基板1
は、ポールマガジン4ごと回転させられても良い。これ
により、光ディスク用プラスチック基板1は、より均一
に加熱され、より形状特性に優れた光ディスク用プラス
チック基板1が得られるからである。
Further, the plastic substrate 1 for an optical disk
May be rotated together with the pole magazine 4. Thereby, the plastic substrate 1 for an optical disk is more uniformly heated, and the plastic substrate 1 for an optical disk having more excellent shape characteristics can be obtained.

【0056】第1アニール炉15及び第2アニール炉1
6でアニール処理が行われた光ディスク用プラスチック
基板1は、アニールゾーン出口10に運ばれた時点で、
ポールマガジン4に積載された状態でアニールゾーン出
口10から取り出され、アニールゾーン17に隣接して
配置されている低露点ブース18に運ばれる。
First annealing furnace 15 and second annealing furnace 1
When the plastic substrate for optical disc 1 subjected to the annealing process in 6 is carried to the annealing zone exit 10,
While being loaded on the pole magazine 4, it is taken out of the annealing zone outlet 10 and transported to the low dew point booth 18 arranged adjacent to the annealing zone 17.

【0057】次に、冷却工程では、アニール処理が終了
し、低露点ブース18内に運ばれた光ディスク用プラス
チック基板1に対して冷却処理が行われる。低露点ブー
ス18内に運ばれた光ディスク用プラスチック基板1
は、低露点ブース18内に配置されたステンレスコンベ
ア9にポールマガジン4ごと乗せられ、冷却ゾーン19
の所定の位置まで運ばれる。次に、冷却ゾーン19の所
定の位置に運ばれた光ディスク用プラスチック基板1
は、ダクト25を通じて冷却用フード24から吹き出さ
れる冷却風により冷却される。この時、光ディスク用プ
ラスチック基板1は、ポールマガジン支持用爪21によ
り、ポールマガジン4ごと持ち上げられ、ステンレスコ
ンベア9から離間させられる。そして、光ディスク用プ
ラスチック基板1は、この状態でポールマガジン4の回
転機構によりポールマガジン4ごと回転させられる。こ
れにより、光ディスク用プラスチック基板1は、均一に
冷却風に当たることになり、部位によるばらつきがなく
均一に冷却されるため、冷却時における熱応力の発生を
防げ、それに起因する形状特性のばらつきを防げるから
である。また、冷却風は、全ての光ディスク用プラスチ
ック基板1に当たるように、かつ、光ディスク用プラス
チック基板1と光ディスク用プラスチック基板1との間
の隙間にも冷却風が入り込むように仕切板27により進
行方向を変えられる。これにより、光ディスク用プラス
チック基板1は、外周部から内周部まで全ての部分が均
一に冷却されるため、冷却時における熱応力の発生を防
げ、それに起因する形状特性のばらつきを防げるからで
ある。冷却処理時間は光ディスク用プラスチック基板1
の材質、寸法等により適宜決められる。また、冷却風の
速度に関しては、極力風速を速くし、風量を多くして急
冷することが望ましい。具体的には、1m/s2以上の
速度が望ましい。急冷することにより、光ディスク用プ
ラスチック基板1の冷却時における吸湿を防げるからで
ある。
Next, in the cooling step, the annealing process is completed, and the cooling process is performed on the plastic substrate 1 for the optical disc carried in the low dew point booth 18. Plastic substrate 1 for optical disc carried in low dew point booth 18
Is put on the stainless steel conveyor 9 arranged in the low dew point booth 18 together with the pole magazine 4 and the cooling zone 19
To a predetermined position. Next, the plastic substrate 1 for an optical disc carried to a predetermined position in the cooling zone 19
Is cooled by cooling air blown from the cooling hood 24 through the duct 25. At this time, the plastic substrate 1 for the optical disk is lifted together with the pawl magazine 4 by the pawl magazine supporting claws 21 and is separated from the stainless steel conveyor 9. Then, the plastic substrate 1 for an optical disk is rotated together with the pole magazine 4 by the rotation mechanism of the pole magazine 4 in this state. As a result, the plastic substrate 1 for an optical disk is uniformly exposed to the cooling air, and is uniformly cooled without any variation depending on parts. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of thermal stress at the time of cooling and to prevent the variation in shape characteristics due to the cooling. Because. The traveling direction of the cooling air is controlled by the partition plate 27 so that the cooling air hits all the plastic substrates 1 for the optical disk and the cooling air also enters the gap between the plastic substrates 1 for the optical disk. be changed. Thereby, the plastic substrate for optical disc 1 is uniformly cooled from the outer peripheral portion to the inner peripheral portion, so that the occurrence of thermal stress during cooling can be prevented, and the variation in shape characteristics due to the cooling can be prevented. . Cooling time is plastic substrate 1 for optical disk
It is appropriately determined according to the material, dimensions and the like. As for the speed of the cooling air, it is desirable to increase the air velocity as much as possible and increase the amount of air for rapid cooling. Specifically, a speed of 1 m / s 2 or more is desirable. This is because rapid cooling can prevent moisture absorption during cooling of the optical disc plastic substrate 1.

【0058】最後に、所定の時間冷却され、冷却処理の
終了した光ディスク用プラスチック基板1は、再びポー
ルマガジン4ごとステンレスコンベア9上に載置され、
ステンレスコンベア9により低露点ブース出口20まで
運ばれる。そして、低露点ブース出口20より取り出さ
れ次工程である成膜工程に移される。
Finally, the plastic substrate 1 for an optical disk, which has been cooled for a predetermined time and has been cooled, is placed again on the stainless steel conveyor 9 together with the pole magazine 4.
It is carried to the low dew point booth exit 20 by the stainless steel conveyor 9. Then, it is taken out from the low dew point booth outlet 20 and transferred to the film forming step which is the next step.

【0059】以上の工程により、光ディスク用プラスチ
ック基板1のアニール処理及び冷却処理が行われる。
Through the above steps, the annealing process and the cooling process of the optical disc plastic substrate 1 are performed.

【0060】上述したアニール処理及び冷却処理方法を
用いて光ディスク用プラスチック基板を作製し、機械特
性の評価を行った。
A plastic substrate for an optical disk was manufactured using the above-described annealing and cooling methods, and the mechanical properties were evaluated.

【0061】基板A 図5(a),図5(b)に示すスペーサ31を使用して
ポールに50枚の光ディスク用プラスチック基板を積載
し、第1のアニール炉においてのアニール処理条件を6
0℃×0.5時間、第2のアニール炉においてのアニー
ル処理条件を100℃×3時間、冷却処理においての冷
却風の風速を2m/s2、冷却処理においての光ディス
ク用プラスチック基板の回転数を60rpmとして光ディ
スク用プラスチック基板を作製した。
Substrate A Fifty optical disk plastic substrates are mounted on a pole using the spacers 31 shown in FIGS. 5A and 5B, and the annealing conditions in the first annealing furnace are set to six.
0 ° C. × 0.5 hours, annealing condition in the second annealing furnace: 100 ° C. × 3 hours, cooling air velocity in cooling processing: 2 m / s 2 , rotation speed of plastic substrate for optical disk in cooling processing At 60 rpm to produce a plastic substrate for an optical disk.

【0062】基板B ポールに光ディスク用プラスチック基板を積載する際、
図3(a),図3(b)に示すスペーサ2を使用して積
載したこと以外は、基板Aと同様にして光ディスク用プ
ラスチック基板を作製した。
When a plastic substrate for an optical disk is loaded on the substrate B pole,
A plastic substrate for an optical disk was manufactured in the same manner as the substrate A, except that the substrate 2 was mounted using the spacers 2 shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b).

【0063】基板C 第1のアニール炉においてのアニール処理条件を100
℃×3時間としたこと以外は、基板Aと同様にして光デ
ィスク用プラスチック基板を作製した。
The annealing condition in the first annealing furnace of the substrate C was set to 100.
A plastic substrate for an optical disk was prepared in the same manner as for the substrate A, except that the temperature was set to 3 hours.

【0064】基板D 冷却処理において、光ディスク用プラスチック基板を回
転させずに冷却したこと以外は、基板Aと同様にして光
ディスク用プラスチック基板を作製した。
In the substrate D cooling process, a plastic substrate for an optical disk was produced in the same manner as the substrate A, except that the plastic substrate for the optical disk was cooled without rotating.

【0065】<評価>基板A〜基板Dで作製した光ディ
スク用プラスチック基板について、50枚の光ディスク
用プラスチック基板から3枚おきに抜き取って、縦方向
の加速度を測定した。基板Aの結果を図11に、基板B
の結果を図12に、基板Cの結果を図14に、基板Dの
結果を図14に示す。図11〜図14において、横軸の
Disc No.は積載した光ディスク用プラスチック
基板の上からの順番を示している。そして、図11〜図
14の結果を基に基板A〜基板Dの光ディスク用プラス
チック基板における縦方向の加速度の平均値及び光ディ
スク用プラスチック基板間のばらつき(標準偏差)をま
とめたものを表1に示す。
<Evaluation> With respect to the plastic substrates for optical disks produced from the substrates A to D, every third substrate was extracted from 50 plastic substrates for optical disks, and the vertical acceleration was measured. FIG. 11 shows the result of the substrate A, and FIG.
12 is shown in FIG. 12, the result of the substrate C is shown in FIG. 14, and the result of the substrate D is shown in FIG. In FIGS. 11 to 14, Disc No. on the horizontal axis is shown. Indicates the order from the top of the loaded optical disc plastic substrate. Table 1 summarizes the average value of the acceleration in the longitudinal direction and the variation (standard deviation) between the plastic substrates for the optical disk on the plastic substrates for the optical disk of the substrates A to D based on the results of FIGS. Show.

【0066】なお、加速度の測定条件は、ISO/IE
C15041に従った。
Note that the measurement conditions for the acceleration are ISO / IE
C15041 was followed.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】図11と図12とから、図5(a),図5
(b)に示すスペーサ2を使用して、光ディスク用プラ
スチック基板1には自重以外の重量が加わらないように
積載してアニール処理を行うことにより、形状特性が向
上することがわかる。
From FIG. 11 and FIG. 12, FIG.
It can be seen that the shape characteristics are improved by using the spacer 2 shown in (b) and loading the plastic substrate 1 for an optical disc so that a weight other than its own weight is not added thereto and performing the annealing process.

【0069】図11と図13とから、光ディスク用プラ
スチック基板1をアニール処理する際は、光ディスク用
プラスチック基板1の温度を急激に上昇させず、2段階
に分けて光ディスク用プラスチック基板1の温度を上昇
させることにより、形状特性が向上することがわかる。
From FIG. 11 and FIG. 13, when annealing the plastic substrate 1 for an optical disk, the temperature of the plastic substrate 1 for an optical disk is not divided into two stages and the temperature of the plastic substrate 1 for an optical disk is increased in two stages. It can be seen that the shape characteristics are improved by raising.

【0070】図11と図14とから、冷却処理を行う際
に光ディスク用プラスチック基板1を回転させることに
より形状特性が上昇することがわかる。
From FIGS. 11 and 14, it can be seen that the shape characteristics are increased by rotating the optical disc plastic substrate 1 during the cooling process.

【0071】また、これらの結果をまとめた表1から、
縦方向の加速度に関して、平均値及び光ディスク用プラ
スチック基板間のばらつきの両方において、個々のプラ
スチック基板には、自重以外の荷重が加わらないように
スペーサ31を介してポールに積載し、第2のアニール
炉におけるアニール温度が第1のアニール炉におけるア
ニール温度よりも高い条件においてアニール処理を行
い、光ディスク用プラスチック基板を回転させながら冷
却処理を行うことによって、非常に優れた特性が得られ
ることがわかる。
Further, from Table 1 which summarizes these results,
Regarding the vertical acceleration, both the average value and the variation between the plastic substrates for the optical disk, the individual plastic substrates are loaded on the pole via the spacer 31 so that a load other than their own weight is not applied, and the second annealing is performed. It can be seen that extremely excellent characteristics can be obtained by performing the annealing treatment under the condition that the annealing temperature in the furnace is higher than the annealing temperature in the first annealing furnace and performing the cooling treatment while rotating the plastic substrate for the optical disk.

【0072】[0072]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るアニ
ール装置によれば、記録媒体用ディスクをポールに積載
するため、記録媒体用ディスクを三次元的に収納し、空
間を有効に使用することができる。
As described above, according to the annealing apparatus of the present invention, since the recording medium disk is loaded on the pole, the recording medium disk is stored three-dimensionally and the space is effectively used. be able to.

【0073】また、本発明に係るアニール装置によれ
ば、個々の記録媒体用ディスクには自重以外の荷重が加
わらない状態でアニール処理を施し、記録媒体用ディス
クを回転させながら冷却処理を行うため、形状特性に優
れた記録媒体用ディスクを製造することができる。
According to the annealing apparatus of the present invention, the individual recording medium disks are annealed in a state where no load other than their own weight is applied, and the cooling processing is performed while rotating the recording medium disks. Thus, it is possible to manufacture a recording medium disk having excellent shape characteristics.

【0074】本発明に係る記録媒体用ディスクの製造方
法によれば、記録媒体用ディスクをポールに積載するた
め、記録媒体用ディスクを三次元的に収納し、空間を有
効に使用することができる。
According to the method of manufacturing a recording medium disk according to the present invention, since the recording medium disk is mounted on the pole, the recording medium disk can be stored three-dimensionally and the space can be used effectively. .

【0075】また、本発明に係る記録媒体用ディスクの
製造方法によれば、個々の記録媒体用ディスクには自重
以外の荷重が加わらない状態でアニール処理を施し、記
録媒体用ディスクを回転させながら冷却処理を行うた
め、形状特性に優れた記録媒体用ディスクを製造するこ
とができる。
Further, according to the method of manufacturing a recording medium disk according to the present invention, the individual recording medium disks are annealed in a state where no load other than their own weight is applied, and the recording medium disks are rotated. Since the cooling treatment is performed, it is possible to manufacture a recording medium disk having excellent shape characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した光ディスク用プラスチック基
板のアニール装置の一構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of an annealing apparatus for a plastic substrate for an optical disk to which the present invention is applied.

【図2】図1に示したアニール装置のアニールゾーンを
アニールゾーン出口の方向から見た図である。
FIG. 2 is a view of an annealing zone of the annealing apparatus shown in FIG. 1 as viewed from a direction of an annealing zone outlet.

【図3】(a)は平板状のスペーサの平面図であり、
(b)は当該スペーサの正面図である。
FIG. 3A is a plan view of a flat spacer.
(B) is a front view of the spacer.

【図4】プラスチック基板を平板状のスペーサを用いて
ポールに積載した状態の一例を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a state in which a plastic substrate is mounted on a pole using a flat spacer.

【図5】(a)は本発明に係るスペーサの一例を示す平
面図であり、(b)は当該スペーサの正面図である。
FIG. 5A is a plan view showing an example of a spacer according to the present invention, and FIG. 5B is a front view of the spacer.

【図6】プラスチック基板を本発明に係るスペーサを用
いてポールに積載した状態の一例を示す図である。
FIG. 6 is a view showing an example of a state in which a plastic substrate is mounted on a pole using the spacer according to the present invention.

【図7】(a)は本発明に係るスペーサの他の例を示す
平面図であり、(b)は当該スペーサの正面図である。
FIG. 7A is a plan view showing another example of the spacer according to the present invention, and FIG. 7B is a front view of the spacer.

【図8】第1のアニール炉と第2のアニール炉との中に
ポールマガジン上に積載された光ディスク用プラスチッ
ク基板が搬送されている状態を説明する図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a state in which a plastic substrate for an optical disk loaded on a pole magazine is being transported between a first annealing furnace and a second annealing furnace.

【図9】図1に示したアニール装置の冷却ゾーンを低露
点ブース出口の方向から見た図である。
FIG. 9 is a view of a cooling zone of the annealing apparatus shown in FIG. 1 as viewed from a low dew point booth outlet direction.

【図10】ポールマガジンの回転機構の概念図である。FIG. 10 is a conceptual diagram of a rotation mechanism of a pole magazine.

【図11】基板Aにおける縦方向の加速度特性を示した
図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating acceleration characteristics of a substrate A in a vertical direction.

【図12】基板Bにおける縦方向の加速度特性を示した
図である。
FIG. 12 is a diagram showing a vertical acceleration characteristic of a substrate B;

【図13】基板Cにおける縦方向の加速度特性を示した
図である。
FIG. 13 is a diagram showing acceleration characteristics of a substrate C in a vertical direction.

【図14】基板Dにおける縦方向の加速度特性を示した
図である。
FIG. 14 is a diagram showing acceleration characteristics of a substrate D in a vertical direction.

【図15】従来のカセット収納型のプラスチック基板収
納方法の一例を説明する図である。
FIG. 15 is a diagram illustrating an example of a conventional cassette-storing-type plastic substrate housing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光ディスク用プラスチック基板、4 ポールマガジ
ン、8 アニールゾーン入口、9 ステンレスコンベ
ア、10 アニールゾーン出口、11 温風の吹き出し
口、12 HEPAフィルタ、14 ファン、17 ア
ニールゾーン、18低露点ブース、19 冷却ゾーン、
20 低露点ブース出口
1 plastic substrate for optical disk, 4 pole magazine, 8 annealing zone inlet, 9 stainless steel conveyor, 10 annealing zone outlet, 11 hot air outlet, 12 HEPA filter, 14 fan, 17 annealing zone, 18 low dew point booth, 19 cooling zone ,
20 Low dew point booth exit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 根本 淳一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D121 AA02 GG08 GG28 5F031 CA01 DA20 FA01 FA09 GA51 GA53 MA30  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Junichi Nemoto 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo F-term in Sony Corporation (reference) 5D121 AA02 GG08 GG28 5F031 CA01 DA20 FA01 FA09 GA51 GA53 MA30

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 記録媒体用ディスクに対してアニール処
理を施すアニール装置であって、 所定の形状に成形された複数の記録媒体用ディスクを、
個々の記録媒体用ディスクには自重以外の荷重が加わら
ないように、スペーサを介してポールに積載して保持す
るディスク保持手段と、 上記ディスク保持手段によって保持された複数の記録媒
体用ディスクを加熱してアニール処理を施すアニール手
段とを備えることを特徴とするアニール装置。
An annealing apparatus for performing an annealing process on a recording medium disk, comprising: a plurality of recording medium disks formed in a predetermined shape;
Disk holding means for loading and holding each of the recording medium disks on a pole via a spacer so as to prevent a load other than its own weight from being applied; and heating the plurality of recording medium disks held by the disk holding means. And annealing means for performing an annealing process.
【請求項2】 上記アニール手段は、上記複数の記録媒
体用ディスクを加熱してアニール処理を施す第1のアニ
ール炉と、上記第1のアニール炉でアニール処理が施さ
れた複数の記録媒体用ディスクを加熱してアニール処理
を施す第2のアニール炉とを備え、 上記第1及び第2のアニール炉でのアニール処理温度
は、上記記録媒体用ディスクの軟化点以下であり、か
つ、上記第2のアニール炉でのアニール処理温度の方が
上記第1のアニール炉でのアニール処理温度よりも高い
ことを特徴とする請求項1記載のアニール装置。
A first annealing furnace that heats the plurality of recording medium disks to perform an annealing process; and a plurality of recording mediums that have been subjected to the annealing process in the first annealing furnace. A second annealing furnace for heating and performing an annealing process on the disk, wherein an annealing process temperature in the first and second annealing furnaces is equal to or lower than a softening point of the recording medium disk; 2. The annealing apparatus according to claim 1, wherein an annealing temperature in the second annealing furnace is higher than an annealing temperature in the first annealing furnace.
【請求項3】 上記ディスク保持手段によって保持され
た記録媒体用ディスクを回転させる回転手段を備え、 上記回転手段は、上記アニール手段によりアニール処理
を行うときに、上記ディスク保持手段によって保持され
た記録媒体用ディスクを間欠又は連続して回転させるこ
とを特徴とする請求項1記載のアニール装置。
3. A rotating means for rotating a recording medium disk held by the disk holding means, wherein the rotating means performs the recording held by the disk holding means when performing the annealing process by the annealing means. 2. The annealing apparatus according to claim 1, wherein the medium disk is rotated intermittently or continuously.
【請求項4】 上記アニール手段によってアニール処理
が施された記録媒体用ディスクを冷却する冷却手段を備
え、 上記ディスク保持手段によって保持された複数の記録媒
体用ディスクを、上記アニール手段によってアニール処
理を施した後、上記冷却手段へ移送して冷却することを
特徴とする請求項1記載のアニール装置。
4. A cooling means for cooling a recording medium disk which has been annealed by said annealing means, wherein said plurality of recording medium disks held by said disk holding means are annealed by said annealing means. 2. The annealing apparatus according to claim 1, wherein after being applied, it is transferred to said cooling means and cooled.
【請求項5】 上記ディスク保持手段によって保持され
た記録媒体用ディスクを回転させる回転手段を備え、 上記回転手段は、上記冷却手段により記録媒体用ディス
クを冷却するときに、上記ディスク保持手段によって保
持された記録媒体用ディスクを間欠又は連続して回転さ
せることを特徴とする請求項4記載のアニール装置。
5. A rotating device for rotating a recording medium disk held by the disk holding device, wherein the rotating device holds the recording medium disk when the cooling device cools the recording medium disk. 5. The annealing apparatus according to claim 4, wherein the recording medium disk is rotated intermittently or continuously.
【請求項6】 上記スペーサは、記録媒体用ディスクを
ポールに積載したときに記録媒体用ディスクを支持する
ディスク支持面と、上に積載されるスペーサを支持する
スペーサ支持面とが異なり、 上記ディスク保持手段は、個々のスペーサのスペーサ支
持面上にスペーサを積載していくとともに、それらのス
ペーサのディスク支持面上にそれぞれ記録媒体用ディス
クを乗せることで、個々の記録媒体用ディスクを自重以
外の荷重が加わらないように保持することを特徴とする
請求項1記載のアニール装置。
6. The disk according to claim 1, wherein the spacer is different from a disk supporting surface for supporting the recording medium disk when the recording medium disk is mounted on the pole and a spacer supporting surface for supporting the spacer mounted thereon. The holding means stacks the spacers on the spacer supporting surfaces of the individual spacers, and places the recording medium disks on the disk supporting surfaces of the spacers, respectively, so that the individual recording medium disks have a weight other than their own weight. The annealing apparatus according to claim 1, wherein the annealing apparatus is held so that a load is not applied.
【請求項7】 上記記録媒体用ディスクは、中央に円形
の開口部を有し、 上記スペーサは、ディスク支持面を構成するディスク支
持部と、スペーサ支持面を構成するスペーサ支持部とを
有し、 上記ディスク保持手段は、記録媒体用ディスクの開口部
に上記スペーサ支持部を挿入した状態で、上記ディスク
支持部のディスク支持面上に記録媒体用ディスクを載せ
ることで、記録媒体用ディスクを保持し、 上記スペーサ支持部は、エッジ部分の少なくとも一部が
面取りされて、もしくは丸みをつけられてなることを特
徴とする請求項6記載のアニール装置。
7. The recording medium disk has a circular opening in the center, and the spacer has a disk support portion forming a disk support surface and a spacer support portion forming a spacer support surface. The disk holding means holds the recording medium disk by placing the recording medium disk on the disk support surface of the disk support portion with the spacer support portion inserted into the opening of the recording medium disk. 7. The annealing apparatus according to claim 6, wherein at least a part of an edge portion of the spacer supporting portion is chamfered or rounded.
【請求項8】 上記スペーサの熱膨張率は、上記記録媒
体用ディスクの熱膨張率よりも小さいことを特徴とする
請求項1記載のアニール装置。
8. The annealing apparatus according to claim 1, wherein a thermal expansion coefficient of the spacer is smaller than a thermal expansion coefficient of the recording medium disk.
【請求項9】 記録媒体用のディスクに対してアニール
処理を施すアニール装置であって、所定の形状に成形さ
れた記録媒体用ディスクを加熱してアニール処理を施す
アニール手段と、 上記アニール手段によってアニール処理が施された記録
媒体用ディスクを冷却する冷却手段と、 上記記録媒体用ディスクを回転させる回転手段とを備
え、 上記回転手段は、少なくとも上記冷却手段により記録媒
体用ディスクを冷却するときに、記録媒体用ディスクを
間欠又は連続して回転させることを特徴とするアニール
装置。
9. An annealing apparatus for performing an annealing process on a recording medium disk, comprising: an annealing unit for heating a recording medium disk formed into a predetermined shape to perform an annealing process; Cooling means for cooling the recording medium disk that has been subjected to the annealing treatment, and rotating means for rotating the recording medium disk, wherein the rotating means is used to cool the recording medium disk by at least the cooling means. An annealing apparatus for intermittently or continuously rotating a recording medium disk.
【請求項10】 上記回転手段は、上記アニール手段に
より記録媒体用ディスクに対してアニール処理を施すと
きも、記録媒体用ディスクを間欠又は連続して回転させ
ることを特徴とする請求項9記載のアニール装置。
10. The recording medium disk according to claim 9, wherein the rotating means rotates the recording medium disk intermittently or continuously even when performing an annealing process on the recording medium disk by the annealing means. Annealing equipment.
【請求項11】 所定の形状に成形された複数の記録媒
体用ディスクを、個々の記録媒体用ディスクには自重以
外の荷重が加わらないように、スペーサを介してポール
に積載する積載工程と、 上記積載工程で積載された複数の記録媒体用ディスクを
加熱してアニール処理を施すアニール工程とを備えるこ
とを特徴とする記録媒体用ディスクの製造方法。
11. A loading step of loading a plurality of recording medium disks formed in a predetermined shape on a pole via a spacer so that a load other than its own weight is not applied to each recording medium disk; An annealing step of heating and annealing the plurality of recording medium disks loaded in the loading step.
【請求項12】 上記アニール工程は、上記複数の記録
媒体用ディスクを加熱してアニール処理を施す第1のア
ニール工程と、上記第1のアニール工程でアニール処理
が施された複数の記録媒体用ディスクを加熱してアニー
ル処理を施す第2のアニール工程とを含み、 上記第1及び第2のアニール工程でのアニール処理温度
は、上記記録媒体用ディスクの軟化点以下であり、か
つ、上記第2のアニール工程でのアニール処理温度の方
が上記第1のアニール工程でのアニール処理温度よりも
高いことを特徴とする請求項11記載の記録媒体用ディ
スクの製造方法。
12. The annealing step comprises: a first annealing step of heating the plurality of recording medium disks to perform an annealing treatment; and a plurality of recording medium disks subjected to the annealing treatment in the first annealing step. A second annealing step of heating the disk to perform an annealing process, wherein the annealing temperature in the first and second annealing steps is equal to or lower than the softening point of the recording medium disk, and The method according to claim 11, wherein the annealing temperature in the second annealing step is higher than the annealing temperature in the first annealing step.
【請求項13】 上記アニール工程でアニール処理を行
うときに、上記積載工程で積載された複数の記録媒体用
ディスクを、間欠又は連続して回転させることを特徴と
する請求項11記載の記録媒体用ディスクの製造方法。
13. The recording medium according to claim 11, wherein the plurality of recording medium disks loaded in the loading step are rotated intermittently or continuously when performing the annealing process in the annealing step. Method of manufacturing discs.
【請求項14】 上記アニール工程の後に、上記積載工
程で積載された複数の記録媒体用ディスクを冷却する冷
却工程を備え、 上記冷却工程で記録媒体用ディスクを冷却するときに、
上記積載工程で積載された複数の記録媒体用ディスク
を、間欠又は連続して回転させることを特徴とする請求
項11記載の記録媒体用ディスクの製造方法。
14. A cooling step for cooling the plurality of recording medium disks loaded in the loading step after the annealing step, wherein the cooling step cools the recording medium disks in the cooling step.
The method for manufacturing a recording medium disk according to claim 11, wherein the plurality of recording medium disks stacked in the loading step are intermittently or continuously rotated.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006323236A (en) * 2005-05-20 2006-11-30 Hoya Corp Method of manufacturing phase shift mask blank, and method of manufacturing phase shift mask

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