JP2000264937A - ポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロック共重合体、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体、およびこれらの製造方法 - Google Patents

ポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロック共重合体、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体、およびこれらの製造方法

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JP2000264937A
JP2000264937A JP11068002A JP6800299A JP2000264937A JP 2000264937 A JP2000264937 A JP 2000264937A JP 11068002 A JP11068002 A JP 11068002A JP 6800299 A JP6800299 A JP 6800299A JP 2000264937 A JP2000264937 A JP 2000264937A
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polyvinyl
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bdc
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Sachiyoshi Oki
祥嘉 沖
Yoshio Okamoto
佳男 岡本
Mitsuo Sawamoto
光男 澤本
Yoshiaki Kano
芳明 加納
Kazutsugu Kitahata
千嗣 北畠
Kazunobu Yamada
和信 山田
Yoshimichi Okano
善道 岡野
Masamichi Nishimura
政通 西村
Kazutoshi Terada
和俊 寺田
Hiroshi Ida
大嗣 井田
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Japan Chemical Innovation Institute
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規なポリ塩化ビニル共重合体−ポリスチレ
ンブロック共重合体、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル
ブロック共重合体、およびこれらの製造方法を提供する
こと。 【解決手段】 ベンジルN,N−ジエチルジチオカルバ
メートをラジカル重合開始剤として塩化ビニル単量体に
光照射を行って重合反応を開始し、ポリ塩化ビニルを生
成したのち、該ポリ塩化ビニルおよびスチレンまたは酢
酸ビニルに光照射を行ってスチレンまたは酢酸ビニルの
重合を開始することにより、AB型のポリ塩化ビニル−
ポリスチレンブロック共重合体またはポリ塩化ビニル−
ポリ酢酸ビニルブロック共重合体を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なポリ塩化ビ
ニル−ポリスチレンブロック共重合体、ポリ塩化ビニル
−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体、およびこれらの製
造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般的に、重合体の物理化学的特性は、
重合体の一次構造に大きく影響している。その中でも、
2種以上の単量体からなる共重合体は、単独重合体どう
しの混合物とは異なった物理化学的特性を示すことか
ら、多くの共重合体が合成され検討されている。そし
て、その中でも特に、共重合体の配列を制御したブロッ
ク共重合体が注目されている。このブロック共重合体
は、一般的にイオン重合反応により合成されている。し
かし、このようなイオン重合反応は、重合反応系内にお
ける不純物、溶媒などの影響を受けやすいうえに、高純
度のビニル系単量体、不活性雰囲気が必要になるなど、
操作が難しく、経済的にも不利であるため工業化が困難
である。
【0003】一方、不純物や溶媒の影響を受けにくい重
合方法としては、ラジカル重合が知られており、実験室
レベルでも、また工業的にも広く採用されている。特
に、近年、リビングラジカル重合と呼ばれる重合方法が
盛んに検討されている。例えば、遷移金属錯体を用い、
メタクリル酸メチルまたはスチレンのような共役系単量
体を重合することにより、リビングラジカル重合が進行
することが報告されている。このような方法により得ら
れる重合体は、分子量分布が狭く、さらに重合系に他の
単量体を添加することにより、ブロック共重合体が得ら
れることも報告されている。
【0004】ところで、ポリ塩化ビニルは、硬質分野か
ら軟質分野まで、フィルム、パイプなどに広く利用され
いる。そして、ポリ塩化ビニルは、通常、塩化ビニル単
量体の単独重合体が使用されているが、特殊なものとし
て、エチレン、酢酸ビニル、アクリル酸エステルまたは
塩化ビニリデンなどとのランダム共重合体が用いられて
いる。しかしながら、塩化ビニル単量体に代表される非
共役系単量体は、重合反応の制御が困難である。表1
に、塩化ビニルおよび他の単量体のラジカル重合反応の
定数を示す。
【0005】
【表1】
【0006】なお、表1に示す記号は、それぞれ下記の
とおりである。 Q;共鳴安定化を表す指標 e;極性効果を表す指標 kP ;生長速度定数 kt ;停止速度定数 kP (St);ポリスチレンラジカルに対する付加速度
定数 ktr;単量体への移動定数
【0007】表1に示されるように、塩化ビニルラジカ
ルは、他の単量体と比較して、非常に反応性が高い。そ
のため、塩化ビニル単量体のラジカル共重合反応におけ
る数平均分子量(Mn)や分子量分布(Mw/Mn)、
および配列制御の検討は行われているが、それらを制御
し、熱安定性が高く、高性能な塩化ビニル系ブロック共
重合体の合成に関する報告はいまだされていない。塩化
ビニルと、エチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデンなど
とを、ランダム共重合ではなく、配列を制御したブロッ
ク共重合して得られる共重合体は、新規な高分子重合体
材料として期待されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の課題を背景になされたもので、優れた物理化学的特
性を有する新規なポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロッ
ク共重合体、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック
共重合体、およびこれらの製造方法を提供することを目
的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、特定の化合物をラ
ジカル重合開始剤として用い、塩化ビニル単量体の光重
合を行うことにより得られるポリ塩化ビニルを用いるこ
とにより、新規なポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロッ
ク共重合体およびポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロ
ック共重合体が得られることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
【0010】本発明は、ポリ塩化ビニルブロック単位A
およびポリスチレンブロック単位BよりなるAB型ブロ
ックポリマーであって、かつ数平均分子量が5,000
〜200,000であるポリ塩化ビニル−ポリスチレン
ブロック共重合体である。また、本発明は、ベンジル
N,N−ジエチルジチオカルバメートをラジカル重合開
始剤として、塩化ビニル単量体の光重合を行ってポリ塩
化ビニルを生成し、得られたポリ塩化ビニルにスチレン
を添加して光重合を行うことを特徴とする上記ポリ塩化
ビニル−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法であ
る。次に、本発明は、ポリ塩化ビニルブロック単位Aお
よびポリ酢酸ビニルブロック単位BよりなるAB型ブロ
ックポリマーであって、かつ数平均分子量が5,000
〜200,000であるポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニ
ルブロック共重合体である。また、本発明は、ベンジル
N,N−ジエチルジチオカルバメートをラジカル重合開
始剤として、塩化ビニル単量体の光重合を行ってポリ塩
化ビニルを生成し、得られたポリ塩化ビニルに酢酸ビニ
ルを添加して光重合を行うことを特徴とする上記記載の
ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体の製
造方法である。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明のポリ塩化ビニル−ポリス
チレンブロック共重合体は、塩化ビニル単量体よりなる
ポリ塩化ビニルブロック単位Aと、スチレンよりなるポ
リスチレンブロック単位Bとよりなる、下記(化1)で
表されるAB型ブロックポリマーである。
【0012】
【化1】
【0013】本発明のポリ塩化ビニル−ポリスチレンブ
ロック共重合体の数平均分子量は、5,000〜20
0,000、好ましくは10,000〜160,00
0、さらに好ましくは37,800〜152,500で
ある。なお、5,000未満では、ポリスチレン単位が
少なく、一方、200,000を超えると、ポリ塩化ビ
ニル単位が少なく、目的とするブロック共重合体の特性
を発現できない。
【0014】なお、ポリ塩化ビニルブロック単位Aの数
平均分子量は、通常、3,000〜10,000、好ま
しくは5,000〜7,000、ポリスチレンブロック
単位Bの数平均分子量は、通常、2,000〜190,
000、好ましくは5,000〜153,000であ
る。
【0015】また、本発明のポリ塩化ビニル−ポリスチ
レンブロック共重合体を構成するポリ塩化ビニルブロッ
ク単位Aとポリスチレンブロック単位Bの比率は任意で
はあるが、ポリ塩化ビニルブロック単位A/ポリスチレ
ンブロック単位B(重量比)は、好ましくは98/2〜
2/98、さらに好ましくは70/30〜30/70で
ある。さらに、本発明のポリ塩化ビニル−ポリスチレン
ブロック共重合体の分子量分布(重量平均分子量/数平
均分子量)は、通常、1.10〜2.00、好ましくは
1.38〜1.97である。
【0016】本発明のポリ塩化ビニル−ポリスチレンブ
ロック共重合体の製造方法としては、特に制限はなく、
本発明のポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロック共重合
体を得ることが可能であればいかなる方法も用いること
ができる。
【0017】以下に、本発明のポリ塩化ビニル−ポリス
チレンブロック共重合体の製造方法について、より具体
的に示すためにその好ましい一例を示すが、本発明のポ
リ塩化ビニル−ポリスチレンブロック共重合体は、以下
の製造方法により得られたものに限定されるものではな
い。
【0018】すなわち、本発明のポリ塩化ビニル−ポリ
スチレンブロック共重合体は、下記(化2)で表される
ベンジルN,N−ジエチルジチオカルバメート(BD
C)をラジカル重合開始剤として、塩化ビニル単量体の
光重合を行ってポリ塩化ビニルを生成し、得られたポリ
塩化ビニルにスチレンを添加して光重合を行うことによ
り製造することが好ましい。
【0019】
【化2】
【0020】ベンジルN,N−ジエチルジチオカルバメ
ート(BDC)の合成は、例えば、T.Otsu、A.
Kuriyama,Polym.Bull.,11,1
35(1984)などに記載の方法が使用でき、下記
(化3)に示すように、ベンジルクロライドおよびN,
N−ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム・3水和物
を、エタノール中、暗所、室温条件で、2日間反応させ
て得られる。BDCの沸点は130℃/2mmHgであ
る。
【0021】
【化3】
【0022】上記ベンジルN,N−ジエチルジチオカル
バメート(BDC)をラジカル重合開始剤として用い、
光照射を行って塩化ビニル単量体の重合反応を開始し、
下記(化4)で表される光による重合反応開始能を有す
るポリ塩化ビニル(BDC−VC)を生成する。
【0023】
【化4】
【0024】上記重合反応の工程は、下記(化5)で表
されるように開始反応および成長反応からなる。
【0025】
【化5】
【0026】上記(BDC−VC)の数平均分子量は、
好ましくは2,000〜30,000、さらに好ましく
は3,000〜10,000、特に好ましくは4,70
0〜7,200である。なお、2,000未満では、低
分子量のためポリ塩化ビニルとしての特性が発現でき
ず、一方、30,000を超えると、高分子量のため共
重合反応に用いることが困難である。また、上記(BD
C−VC)の分子量分布(重量平均分子量/数平均分子
量)は、好ましくは1.20〜1.90、さらに好まし
くは1.43〜1.71である。
【0027】そして、上記工程により得られた光による
重合反応開始能を有するポリ塩化ビニル(BDC−V
C)は、下記(化6)に示すように、他のビニル単量体
と反応し、ブロック共重合体を生成する。ビニル単量体
がスチレンの場合、BDC−VCおよびスチレンに光を
照射すると、スチレンの重合反応を開始し、AB型ブロ
ックポリマーであるポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロ
ック共重合体が製造できる。
【0028】
【化6】
【0029】上記の光による重合反応開始能を有するポ
リ塩化ビニル(BDC−VC)の調製およびポリ塩化ビ
ニル−ポリスチレンブロック共重合体の製造における重
合方法は、光照射下における塊状重合、溶液重合などの
一般的な重合反応を行うことができる。そして、溶液重
合を行う際の重合溶媒としては特に制限はなく、慣用的
な溶媒、例えばアセトン、シクロヘキサノンなどのケト
ン類;1,2−ジクロロエタン、2,4,6−トリクロ
ロペンタンなどのハロゲン系溶媒、1,4−ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなどのエーテル類を挙げること
ができる。特に、シクロヘキサノン、1,2−ジクロロ
エタンが好ましい。
【0030】上記の重合反応条件としては、特に制限は
なく、適宜選択して行うことができる。重合反応圧力と
しては、常圧下または加圧下のどちらでもよい。また、
重合反応温度としては、例えば20〜50℃の範囲から
選択することができ、好ましくは30〜40℃、さらに
好ましくは30℃程度である。また、(BDC−VC)
の調製の重合時間は、好ましくは1〜200時間、さら
に好ましくは24〜144時間であり、共重合体の重合
時間は、好ましくは1〜100時間、さらに好ましくは
3〜70時間である。重合反応は、窒素、アルゴンなど
の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【0031】塩化ビニル単量体およびスチレンの重合反
応を開始する際に用いる光としては、一般的に光ラジカ
ル重合反応の際に用いられている光を用いることがで
き、特に紫外線(UV)が好ましい。
【0032】本発明における光による重合反応開始能を
有するポリ塩化ビニル(BDC−VC)は、図1に示す
ように、 1H−NMRスペクトル解析により、ポリ塩化
ビニルに由来するピークとして、4.5〜5.0ppm
に−CH−、2.0〜2.8ppmに−CH2 −のピー
クが観測される。また、BDCに由来するピークとし
て、7.3〜7.6ppmにベンゼン環に基づくピーク
が、4ppm付近にBDCの窒素原子の隣の−CH2
のピークが、また1.4ppm付近にBDCの末端の−
CH3 に基づくピークが観測される。以上の結果より、
本発明のBDC−VCは、ポリ塩化ビニルがBDC間に
挿入された構造をとることを確認することができる。
【0033】また、本発明のポリ塩化ビニル−ポリスチ
レンブロック共重合体は、図2に示すように、 1H−N
MRスペクトル解析により、ポリスチレンに由来するピ
ークとして、6.6〜7.4ppmにフェニル基、2.
0〜2.3ppmに−CH−、1.5〜2.1ppmに
−CH2 −のそれぞれを、またポリ塩化ビニルに由来す
るピークとして、4.7〜5.0ppmに−CH−、
2.4〜2.8ppmに−CH2 −のそれぞれを観測す
ることができ、ポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロック
共重合体であることを確認することができる。
【0034】次に、本発明のポリ塩化ビニル−ポリ酢酸
ビニルブロック共重合体は、塩化ビニル単量体よりなる
ポリ塩化ビニルブロック単位Aと、酢酸ビニル単量体よ
りなるポリ酢酸ビニルブロック単位Bとよりなる、下記
(化7)で表されるAB型ブロックポリマーである。
【0035】
【化7】
【0036】本発明のポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル
ブロック共重合体の数平均分子量は、5,000〜20
0,000、好ましくは10,000〜150,00
0、さらに好ましくは10,900〜12,400であ
る。なお、5,000未満では、ポリ酢酸ビニル単位が
少なく、一方、200,000を超えると、ポリ塩化ビ
ニル単位が少なく、目的とするブロック共重合体の特性
を発現できない。
【0037】なお、ポリ塩化ビニルブロック単位Aの数
平均分子量は、通常、3,000〜10,000、好ま
しくは5,000〜7,000、ポリ酢酸ビニルブロッ
ク単位Bの数平均分子量は、通常、2,000〜19
0,000、好ましくは5,000〜143,000で
ある。
【0038】また、本発明のポリ塩化ビニル−ポリ酢酸
ビニルブロック共重合体を構成するポリ塩化ビニルブロ
ック単位Aとポリ酢酸ビニルブロック単位Bの比率は任
意ではあるが、ポリ塩化ビニルブロック単位A/ポリ酢
酸ビニルブロック単位B(重量比)は、好ましくは98
/2〜2/98、さらに好ましくは70/30〜30/
70である。さらに、本発明のポリ塩化ビニル−ポリ酢
酸ビニルブロック共重合体の分子量分布(重量平均分子
量/数平均分子量)は、好ましくは1.20〜1.9
0、さらに好ましくは1.41〜1.44である。
【0039】本発明のポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル
ブロック共重合体の製造方法としては、特に制限はな
く、本発明のポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック
共重合体を得ることが可能であればいかなる方法も用い
ることができる。
【0040】以下に、本発明のポリ塩化ビニル−ポリ酢
酸ビニルブロック共重合体の製造方法について、より具
体的に示すためにその好ましい一例を示すが、本発明の
ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体は、
以下の製造方法により得られたものに限定されるもので
はない。
【0041】すなわち、本発明のポリ塩化ビニル−ポリ
酢酸ビニルブロック共重合体は、上記同様、ベンジル
N,N−ジエチルジチオカルバメート(BDC)をラジ
カル重合開始剤として、塩化ビニル単量体の光重合を行
って光による重合反応開始能を有するポリ塩化ビニル
(BDC−VC)を生成し、得られたポリ塩化ビニルに
酢酸ビニルを添加して光重合を行うことにより製造する
ことが好ましい。そして、上記工程により得られた光に
よる重合反応開始能を有するポリ塩化ビニル(BDC−
VC)および酢酸ビニルに光を照射し、酢酸ビニルの重
合反応を開始し、AB型ブロックポリマーであるポリ塩
化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体を製造する
ものである。
【0042】上記の光による重合反応開始能を有するポ
リ塩化ビニル(BDC−VC)の調製方法は、上記と同
様である。また、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロ
ック共重合体の製造における重合方法は、光照射下にお
ける塊状重合、溶液重合などの一般的な重合反応を行う
ことができる。そして、溶液重合を行う際の重合溶媒と
しては特に制限はなく、慣用的な溶媒、例えばアセト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類;1,2−ジクロ
ロエタン、2,4,6−トリクロロペンタンなどのハロ
ゲン系溶媒、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン
などのエーテル類を挙げることができる。特に、シクロ
ヘキサノン、1,2−ジクロロエタンが好ましい。
【0043】上記の重合反応条件としては、特に制限は
なく、適宜選択して行うことができる。重合反応圧力と
しては、常圧下または加圧下のどちらでもよい。また、
重合反応温度としては、例えば20〜50℃の範囲から
選択することができ、好ましくは30〜40℃、さらに
好ましくは30℃程度である。また、重合時間は、好ま
しくは1〜90時間、さらに好ましくは24〜70時間
である。重合反応は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましい。
【0044】塩化ビニル単量体および酢酸ビニルの重合
反応を開始する際に用いる光としては、一般的に光ラジ
カル重合反応の際に用いられている光を用いることがで
き、特に紫外線(UV)が好ましい。本発明のポリ塩化
ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体の 1H−NM
Rチャートを図3に示す。図3によれば、ポリ酢酸ビニ
ルに由来するピークとして、4.8〜5.0ppmに−
CH−、2.0ppm付近に−CH3 、1.8〜2.0
ppmに−CH2 −のそれぞれを、またポリ塩化ビニル
に由来するピークとして、4.3〜4.7ppmに−C
H−、2.2〜2.5ppmに−CH2 −のそれぞれを
観測することができ、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル
ブロック共重合体であることを確認することができる。
【0045】なお、重合反応生成物からのポリ塩化ビニ
ル−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体の分離法を、図4
を使用して下記に説明する。反応生成物は、メタノール
中に投入され、不溶分と可溶分に分離される。メタノー
ル可溶分は大量のn−ヘキサンに投入され、不溶分と可
溶分に分離される。不溶分は、アセトニトリル中で室温
攪拌し、不溶分と可溶分に分離される。アセトニトリル
可溶分にはポリ酢酸ビニルが含まれ、アセトニトリル不
溶分にはポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロック共重
合体が含まれる。
【0046】本発明のポリ塩化ビニル−ポリスチレンブ
ロック共重合体およびポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル
ブロック共重合体は、例えばフィルム、シート、塗料な
どの一般的なポリ塩化ビニルの用途に用いることができ
る。さらに、ブロック共重合体である特性を活かし、相
溶化剤、熱可塑性エラストマーなどへの応用も可能であ
る。
【0047】
【実施例】以下に、実施例を示すことにより、本発明を
より詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定さ
れるものではない。なお、以下の実施例における反応系
は、特に断りのない限り、乾燥窒素雰囲気下で行ったも
のである。
【0048】数平均分子量(Mn)、重量平均分子量
(Mw)の測定および分子量分布(Mw/Mn) (共)重合体をゲル・パーミエーション・クロマトグラ
フィー〔日本分光(株)製〕にて、溶媒としてテトラヒ
ドロフランを用い、ポリスチレン換算値の数平均分子量
(Mn)および重量平均分子量(Mw)を測定し、分子
量分布(Mw/Mn)を算出した。
【0049】NMR測定 試料の2重量%の溶液を、400MHz、プロトン−N
MR(商品名;Varian Gemini 2000
spectrometer)を用い、 1H−NMR測
定を行った。
【0050】参考例1〔ベンジルN,N−ジエチルジチ
オカルバメート(BDC)の合成〕 ガラス製アンプルに、窒素雰囲気下でベンジルクロライ
ド12.7ml(0.11mol)およびN,N−ジエ
チルジチオカルバミン酸ナトリウム・3水和物25g
(0.11mol)、溶媒としてエタノール50mlを
仕込み、暗所、室温条件で、2日間反応させ、ベンジル
N,N−ジエチルジチオカルバメート(BDC)を得
た。得られたBDCの沸点は130℃/2mmHgで、
収量17.70g(0.06mol)、収率54.8%
であった。得られたBDCの 1H−NMR測定結果(重
水素化クロロホルム溶液中、室温)を図5に示す。
【0051】図5に示す 1H−NMRスペクトル解析で
は、BDCは、7.2〜7.5ppmにベンゼン環に基
づくピークが、4.5ppm付近にベンゼン環の隣の−
CH 2 −のピークが、4ppm付近にBDCの窒素原子
の隣の−CH2 −のピークが、また1.4ppm付近に
BDCの末端の−CH3 に基づくピークが観測される。
【0052】参考例2〜5〔光による重合反応開始能を
有するポリ塩化ビニル(BDC−VC1〜4)の合成〕 ガラス製アンプルに、窒素雰囲気下にて、ラジカル重合
開始剤として上記参考例1で得られたBDCを58.0
mg(0.20mmol、39.5mmol/L)、溶
媒として1,2−ジクロロエタン2.6ml、塩化ビニ
ル単量体2.4ml(0.035mol、7mol/
L)を仕込み、30℃に調整した恒温槽に浸し、UVラ
ンプにて光を照射することにより重合反応を開始した。
反応時間が24時間経過した時点で、重合反応系を−7
8℃に冷却することにより重合反応を停止した。得られ
た重合反応液を大量のメタノール中に投入することによ
り、ポリ塩化ビニル(BDC−VC1)を回収した。
【0053】得られたポリ塩化ビニル(BDC−VC
1)は、数平均分子量(Mn)4,900、分子量分布
(Mw/Mn)1.69であり、テトラヒドロフラン
(THF)中で、標準ポリスチレンによるゲル・パーミ
エーション・クロマトグラフィー(GPC)結果により
求めた転化率は、5.6%であった。(BDC−VC
1)の合成結果およびGPCの測定結果を、表2および
図6の(a)に示す。反応時間を45時間、70時間、
144時間に変えた以外は、上記と同様にして反応を行
い、ポリ塩化ビニル(BDC−VC2〜4)を合成し
た。(BDC−VC2〜4)の合成結果およびGPCの
測定結果を、表2および図6の(b)、(c)、(d)
に示す。BDC−VC1〜4の結果から得られた転化率
と数平均分子量(Mn)との関係を図7に示す。
【0054】
【表2】
【0055】参考例6〔光による重合反応開始能を有す
るポリ塩化ビニル(BDC−VC5)の合成〕 反応時間を22時間にした以外は、参考例2と同様にし
てBDC−VC5を回収した。得られたBDC−VC5
は、数平均分子量(Mn)4,700、分子量分布(M
w/Mn)1.49であり、テトラヒドロフラン(TH
F)中で、標準ポリスチレンによるゲル・パーミエーシ
ョン・クロマトグラフィー(GPC)結果により求めた
転化率は、3.9%であった。得られたBDC−VC5
のGPCの測定結果を図8の(a)に、 1H−NMR測
定結果(重水素化ニトロベンゼン溶液中、60℃)を図
1に示す。
【0056】図1においては、ポリ塩化ビニルに由来す
るピークとして、4.5〜5.0ppmに−CH−、
2.0〜2.8ppmに−CH2 −のピークが観測され
る。また、BDCに由来するピークとして、7.3〜
7.6ppmにベンゼン環に基づくピークが、4ppm
付近にBDCの窒素原子の隣の−CH2 −のピークが、
また1.4ppm付近にBDCの末端の−CH3 に基づ
くピークが観測され、本発明の目的とするBDC−VC
構造(ポリ塩化ビニルがBDC間に挿入された構造)で
あることが確認された。
【0057】実施例1〜3(ポリ塩化ビニル−ポリスチ
レンブロック共重合体の合成) 3つのガラスアンプル中に、窒素雰囲気下にて上記参考
例6で得られた(BDC−VC5)0.0151g、溶
媒としてシクロヘキサノン0.8ml、およびスチレン
3.2ml(27.7mmol、7mol/L)を投入
したのち、30℃に調整した恒温槽に浸し、UVランプ
にて光を照射し、重合反応を開始した。重合反応時間が
3時間、24時間、70時間に到達した時点で、重合反
応系を−78℃に冷却することにより反応を停止した。
重合溶液を大量のメタノールに投入し、ポリマーを回収
した。
【0058】得られたポリ塩化ビニル−ポリスチレンブ
ロック共重合体の反応結果を表3に、GPCの測定結果
を、それぞれ、図8の(b),(c),(d)に示す。
【0059】
【表3】
【0060】実施例1で得られたポリマーをシクロヘキ
サン中で12時間還流したのち、ろ過してスチレンホモ
ポリマーを含むシクロヘキサン可溶分とポリ塩化ビニル
−ポリスチレンブロック共重合体を含む不溶分に分離
し、乾燥した。シクロヘキサン不溶分(ポリ塩化ビニル
−ポリスチレンブロック共重合体)の収量は0.08
g、数平均分子量(Mn)36,300、分子量分布
(Mw/Mn)1.72であり、シクロヘキサン可溶分
の収量は0.01g、数平均分子量(Mn)41,60
0、分子量分布(Mw/Mn)1.52であった。シク
ロヘキサン不溶分(ポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロ
ック共重合体)の 1H−NMR測定結果(重水素化ニト
ロベンゼン溶液中、60℃)を図2に示し、シクロヘキ
サン可溶分の 1H−NMR測定結果(重水素化クロロホ
ルム溶液中、60℃)を図9に示す。
【0061】図2においては、ポリスチレンに由来する
ピークとして、6.6〜7.4ppmにフェニル基、
2.0〜2.3ppmに−CH−、1.5〜2.1pp
mに−CH2 −のそれぞれを、またポリ塩化ビニルに由
来するピークとして、4.7〜5.0ppmに−CH
−、2.4〜2.8ppmに−CH2 −のそれぞれを観
測することができる。よって、シクロヘキサン不溶分
は、ポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロック共重合体で
あることが確認された。図9においては、ポリスチレン
に由来するピークとして、6.3〜7.2ppmにフェ
ニル基、1.7〜2.0ppmに−CH−、1.4pp
m付近に−CH 2 −のそれぞれを観測することができ
る。よって、シクロヘキサン可溶分は、スチレンホモポ
リマーであることが確認された。なお、実施例1と同様
に、実施例2〜3においても、生成ポリマーにはスチレ
ンホモポリマーとポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロッ
ク共重合体が含まれ、スチレンホモポリマーの収量は、
共重合体の収量の10重量%程度であった。
【0062】参考例7〔光による重合反応開始能を有す
るポリ塩化ビニル(BDC−VC6)の合成〕 反応時間を144時間に変えた以外は、参考例2と同様
にして反応を行い、ポリ塩化ビニル(BDC−VC6)
を回収した。得られたBDC−VC6は、数平均分子量
(Mn)6,500、分子量分布(Mw/Mn)1.4
3であり、テトラヒドロフラン(THF)中で、標準ポ
リスチレンによるゲル・パーミエーション・クロマトグ
ラフィー(GPC)結果により求めた転化率は、17.
4%であった。
【0063】実施例4(ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニ
ルブロック共重合体の合成) ガラスアンプル中に、窒素雰囲気下にて上記参考例7で
得られた(BDC−VC6)0.0272g、溶媒とし
てシクロヘキサノン1.1ml、および酢酸ビニル1.
9ml(21mmol、7mol/L)を投入したの
ち、30℃に調整した恒温槽に浸し、UVランプにて光
を照射し、重合反応を開始した。重合反応時間が70時
間に到達した時点で、重合反応系を−78℃に冷却する
ことにより反応を停止した。重合溶液をメタノール中に
投入し、不溶分と可溶分に分離した。メタノール不溶分
の収量は痕跡のみであった。メタノール可溶分を大量の
n−ヘキサンに投入し、不溶分と可溶分に分離した。n
−ヘキサン溶液を蒸発乾固させたが、可溶分は得られな
かった。n−ヘキサン不溶分の収量は0.125gであ
った。n−ヘキサン不溶分の 1H−NMR測定結果(重
水素化アセトン溶液中、室温)を図10に示す。
【0064】図10においては、ポリ塩化ビニルに由来
するピークとして、4.5〜4.8ppmに−CH−、
2.0〜2.6ppmに−CH2 −のピークが観測され
る。また、ポリ酢酸ビニルに由来するピークとして、
5.0ppm付近に−CH−に基づくピークが、2.1
ppm付近に−CH3 に基づくピークが、また1.8p
pm付近に−CH2 −に基づくピークが観測される。よ
って、n−ヘキサン不溶分中には、ポリ酢酸ビニルのホ
モポリマーおよびポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロ
ック共重合体が含まれることが確認された。
【0065】n−ヘキサン不溶分を、アセトニトリル中
で室温5時間攪拌し、不溶分と可溶分に分離した。アセ
トニトリル不溶分の収量は0.024g、数平均分子量
(Mn)12,400、重量平均分子量/数平均分子量
(Mw/Mn)1.41であった。アセトニトリル不溶
分の 1H−NMR測定結果(重水素化アセトン溶液中、
室温)を図3に示す。アセトニトリル可溶分の収量は
0.101g、数平均分子量(Mn)11,900、分
子量分布(Mw/Mn)1.71であった。アセトニト
リル可溶分の 1H−NMR測定結果(重水素化アセトン
溶液中、室温)を図11に示す。
【0066】図3においては、ポリ酢酸ビニルに由来す
るピークとして、4.8〜5.0ppmに−CH−、
2.0ppm付近に−CH3 、1.8〜2.0ppmに
−CH 2 −のそれぞれを、またポリ塩化ビニルに由来す
るピークとして、4.3〜4.7ppmに−CH−、
2.2〜2.5ppmに−CH2 −のそれぞれを観測す
ることができ、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロッ
ク共重合体であることが確認された。図11において
は、ポリ酢酸ビニルに由来するピークとして、5.0p
pm付近に−CH−に基づくピークが、2.0ppm付
近に−CH3 に基づくピークが、また1.8ppm付近
に−CH2 −に基づくピークが観測され、ポリ酢酸ビニ
ルのホモポリマーであることが確認された。
【0067】実施例5(ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニ
ルブロック共重合体の合成) 重合反応時間を24時間にした以外は、実施例4と同様
にして共重合反応を行った。重合溶液をメタノール中に
投入し、不溶分と可溶分に分離した。メタノール不溶分
の収量は痕跡のみであった。メタノール可溶分を大量の
n−ヘキサンに投入し、不溶分と可溶分に分離した。n
−ヘキサン溶液を蒸発乾固させたが、可溶分は得られな
かった。n−ヘキサン不溶分の収量は0.080gであ
った。n−ヘキサン不溶分をアセトニトリル中で5時間
室温攪拌し、不溶分と可溶分に分離した。アセトニトリ
ル不溶分の収量は0.021g、数平均分子量(Mn)
10,900、分子量分布(Mw/Mn)1.44であ
った。アセトニトリル可溶分の収量は0.059g、数
平均分子量(Mn)11,500、分子量分布(Mw/
Mn)1.66であった。
【0068】
【発明の効果】本発明は、新規なポリ塩化ビニル−ポリ
スチレンブロック共重合体、ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸
ビニルブロック共重合体、およびこれらの製造方法を提
供するものであり、その工業的価値は極めて高いもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の参考例6で得られた、光による重合反
応開始能を有するポリ塩化ビニル(BDC−VC5)の
1H−NMRチャートである。
【図2】本発明の実施例1で得られた、ポリ塩化ビニル
−ポリスチレンブロック共重合体の 1H−NMRチャー
トである。
【図3】本発明の実施例4で得られた、ポリ塩化ビニル
−ポリ酢酸ビニルブロック共重合体の 1H−NMRチャ
ートである。
【図4】本発明のポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロ
ック共重合生成物からのポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニ
ルブロック共重合体の分離方法を示すフローチャートで
ある。
【図5】ベンジルN,N−ジエチルジチオカルバメート
(BDC)の 1H−NMRチャートである。
【図6】参考例2〜5で合成した光による重合反応開始
能を有するポリ塩化ビニル(BDC−VC1〜4)のG
PCのチャートである。
【図7】参考例2〜5の転化率と数平均分子量(Mn)
との関係を示すグラフである。。
【図8】参考例6で合成したBDC−VC1〔(a)〕
および実施例1〜3で合成したポリ塩化ビニル−ポリス
チレンブロック共重合体〔(b)〜(d)〕のGPCの
チャートである。
【図9】実施例1で得られたシクロヘキサン可溶分の 1
H−NMRチャートである。
【図10】実施例4で得られたn−ヘキサン不溶分の 1
H−NMRチャートである。
【図11】実施例4で得られたアセトニトリル可溶分の
1H−NMRチャートである。
フロントページの続き (72)発明者 加納 芳明 三重県四日市市霞1−8 東ソー株式会社 四日市研究所内 (72)発明者 北畠 千嗣 京都府宇治市宇治小桜23番地 ユニチカ株 式会社中央研究所内 (72)発明者 山田 和信 京都府宇治市宇治小桜23番地 ユニチカ株 式会社中央研究所内 (72)発明者 岡野 善道 兵庫県姫路市網干区新在家1239 ダイセル 化学工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 西村 政通 兵庫県姫路市網干区新在家1239 ダイセル 化学工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 寺田 和俊 岡山県倉敷市酒津2045−1 株式会社クラ レくらしき研究所内 (72)発明者 井田 大嗣 岡山県倉敷市酒津2045−1 株式会社クラ レくらしき研究所内 Fターム(参考) 4J026 HA09 HA29 HA32 HA38 HB06 HB10 HB29 HB32 HB38 HB45 HB48 HE01

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ポリ塩化ビニルブロック単位Aおよびポ
    リスチレンブロック単位BよりなるAB型ブロックポリ
    マーであって、かつ数平均分子量が5,000〜20
    0,000であるポリ塩化ビニル−ポリスチレンブロッ
    ク共重合体。
  2. 【請求項2】 ベンジルN,N−ジエチルジチオカルバ
    メートをラジカル重合開始剤として、塩化ビニル単量体
    の光重合を行ってポリ塩化ビニルを生成し、得られたポ
    リ塩化ビニルにスチレンを添加して光重合を行うことを
    特徴とする請求項1記載のポリ塩化ビニル−ポリスチレ
    ンブロック共重合体の製造方法。
  3. 【請求項3】 ポリ塩化ビニルブロック単位Aおよびポ
    リ酢酸ビニルブロック単位BよりなるAB型ブロックポ
    リマーであって、かつ数平均分子量が5,000〜20
    0,000であるポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニルブロ
    ック共重合体。
  4. 【請求項4】 ベンジルN,N−ジエチルジチオカルバ
    メートをラジカル重合開始剤として、塩化ビニル単量体
    の光重合を行ってポリ塩化ビニルを生成し、得られたポ
    リ塩化ビニルに酢酸ビニルを添加して光重合を行うこと
    を特徴とする請求項3記載のポリ塩化ビニル−ポリ酢酸
    ビニルブロック共重合体の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013102116A (ja) * 2011-05-24 2013-05-23 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機薄膜トランジスタ絶縁層材料

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013102116A (ja) * 2011-05-24 2013-05-23 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機薄膜トランジスタ絶縁層材料
KR20140033441A (ko) * 2011-05-24 2014-03-18 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 유기 박막 트랜지스터 절연층 재료
KR101888718B1 (ko) 2011-05-24 2018-08-14 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 유기 박막 트랜지스터 절연층 재료

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