JP2000264868A - 新規ケージドアミノ酸 - Google Patents
新規ケージドアミノ酸Info
- Publication number
- JP2000264868A JP2000264868A JP2000001702A JP2000001702A JP2000264868A JP 2000264868 A JP2000264868 A JP 2000264868A JP 2000001702 A JP2000001702 A JP 2000001702A JP 2000001702 A JP2000001702 A JP 2000001702A JP 2000264868 A JP2000264868 A JP 2000264868A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon
- aromatic ring
- group
- proton
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、新規な構造を有するケージング基
によりケージド化されたアミノ酸化合物を提供すること
を目的とする。 【解決手段】 本発明にかかるケージドアミノ酸は、下
記式１で表される構造を有する。 【化１】 （ここで、Ｘ及びＹは水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルキルオキシ基、アルキルアミノ基又はベンゾ
基を表し、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2及
びＲ3は水素原子又はアルキル基を表し、Ａはアミノ酸
の残基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属又はアルカ
リ土類金属を表す。）
によりケージド化されたアミノ酸化合物を提供すること
を目的とする。 【解決手段】 本発明にかかるケージドアミノ酸は、下
記式１で表される構造を有する。 【化１】 （ここで、Ｘ及びＹは水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルキルオキシ基、アルキルアミノ基又はベンゾ
基を表し、Ｒ1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ2及
びＲ3は水素原子又はアルキル基を表し、Ａはアミノ酸
の残基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属又はアルカ
リ土類金属を表す。）
Description
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なケージドア
ミノ酸に関する。
ミノ酸に関する。
【従来の技術】グルタミン酸等の生理活性アミノ酸化合
物の生体における作用機構を調べるには、その化合物の
生体系内での消長を定量的に短時間で測定をすることが
必要である。更に系内に導入された前記化合物につい
て、追従する種々の変化を観察することも重要である。
一方生体反応は多くの場合極めて速く、また複数の反応
が複雑に関連しながら同時に進行することが普通であ
る。そのために外部から前記アミノ酸化合物を添加した
場合に、系内を拡散する過程がむしろ律速となり、実際
測定したいその後の反応が明確に捉らえられなくなって
しまうという問題があった。
物の生体における作用機構を調べるには、その化合物の
生体系内での消長を定量的に短時間で測定をすることが
必要である。更に系内に導入された前記化合物につい
て、追従する種々の変化を観察することも重要である。
一方生体反応は多くの場合極めて速く、また複数の反応
が複雑に関連しながら同時に進行することが普通であ
る。そのために外部から前記アミノ酸化合物を添加した
場合に、系内を拡散する過程がむしろ律速となり、実際
測定したいその後の反応が明確に捉らえられなくなって
しまうという問題があった。
【発明が解決しようとする課題】かかる問題を解決する
ため、すばやく目的物質たるアミノ酸化合物を添加する
方法について様々な方法が提案されているが、その１つ
に、光照射に基づく技術、いわゆるケージド(Caged)試
薬を用いる方法が報告されている。この方法は一般的に
は、追跡される生理活性物質の活性部位を特定の保護基
で保護したケージド化合物（ケージング基を導入した化
合物、若しくはケージング基でラベル化された化合物を
意味する）を生体系に導入し、この物質が十分作用点に
拡散したことを確認した後に、光照射により保護基（ケ
ージング基）を脱離させてアミノ酸化合物を遊離放出す
るものであり、これによって目的とするアミノ酸化合物
による反応が追跡可能となる。このケージド化合物（ケ
ージドアミノ酸）の特徴は、光照射のみによりアミノ酸
が放出できる点、極めて迅速に保護基の脱離が可能であ
る点、及び必要に応じて特定の部分にのみ光照射をしぼ
り込むことによりアミノ酸の位置特異的な供給が可能で
ある点である。本発明は上述の作用を有するものであっ
て、新規な構造を有するケージング基によりケージド化
されたアミノ酸化合物を提供するものである。
ため、すばやく目的物質たるアミノ酸化合物を添加する
方法について様々な方法が提案されているが、その１つ
に、光照射に基づく技術、いわゆるケージド(Caged)試
薬を用いる方法が報告されている。この方法は一般的に
は、追跡される生理活性物質の活性部位を特定の保護基
で保護したケージド化合物（ケージング基を導入した化
合物、若しくはケージング基でラベル化された化合物を
意味する）を生体系に導入し、この物質が十分作用点に
拡散したことを確認した後に、光照射により保護基（ケ
ージング基）を脱離させてアミノ酸化合物を遊離放出す
るものであり、これによって目的とするアミノ酸化合物
による反応が追跡可能となる。このケージド化合物（ケ
ージドアミノ酸）の特徴は、光照射のみによりアミノ酸
が放出できる点、極めて迅速に保護基の脱離が可能であ
る点、及び必要に応じて特定の部分にのみ光照射をしぼ
り込むことによりアミノ酸の位置特異的な供給が可能で
ある点である。本発明は上述の作用を有するものであっ
て、新規な構造を有するケージング基によりケージド化
されたアミノ酸化合物を提供するものである。
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究し
た結果、かかる優れた作用を有するケージドアミノ酸化
合物の合成に成功し、本発明を完成したものである。す
なわち、本発明にかかる新規なケージドアミノ酸は、基
本構造として、目的のアミノ酸化合物のアミノ基と、特
定構造を有する桂皮酸誘導体のカルボキシル基とのアミ
ド結合を有する。更に、前記桂皮酸誘導体は、その二重
結合に対して芳香族環とカルボキシル基がそれぞれトラ
ンス配向をとる。また、前記芳香族環には、二重結合炭
素の結合位置に対してオルト位置にアミノ基が置換され
ていることが特徴である。本発明にかかる新規なケージ
ドアミノ酸は暗所で安定に存在する一方、光存在下で前
記アミド結合が分子内反応により切断され、アミノ酸化
合物を放出することとなる。より詳しくは、本発明にか
かる新規なケージドアミノ酸は、下記式１で示されるケ
ージドアミノ酸である。
た結果、かかる優れた作用を有するケージドアミノ酸化
合物の合成に成功し、本発明を完成したものである。す
なわち、本発明にかかる新規なケージドアミノ酸は、基
本構造として、目的のアミノ酸化合物のアミノ基と、特
定構造を有する桂皮酸誘導体のカルボキシル基とのアミ
ド結合を有する。更に、前記桂皮酸誘導体は、その二重
結合に対して芳香族環とカルボキシル基がそれぞれトラ
ンス配向をとる。また、前記芳香族環には、二重結合炭
素の結合位置に対してオルト位置にアミノ基が置換され
ていることが特徴である。本発明にかかる新規なケージ
ドアミノ酸は暗所で安定に存在する一方、光存在下で前
記アミド結合が分子内反応により切断され、アミノ酸化
合物を放出することとなる。より詳しくは、本発明にか
かる新規なケージドアミノ酸は、下記式１で示されるケ
ージドアミノ酸である。
【化１９】 ここで、 Ｘ及びＹは各々独立に水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１から４までのアルキル基、炭素数１から４
までのアルキルオキシ基、炭素数１から４までのアルキ
ルアミノ基、及びベンゾ基からなる群より選ばれる一種
を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ
1は、水素原子及び炭素数１から４までのアルキル基か
らなる群より選ばれる一種を表す。Ｒ2及びＲ3は各々独
立に水素原子又は炭素数１から４までのアルキル基を表
し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａは、グリ
シン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セ
リン、トレオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、γ
−アミノブタン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−アスパラギン酸、
アスパラギン、グルタミン、リシン、ヒドロキシリシ
ン、アルギニン、システイン、シスチン、メチオニン、
フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、ヒスチ
ジン、プロリン及び４−ヒドロキシプロリンからなる群
より選ばれるアミノ酸の残基を表す。また、Ｍは水素原
子、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群より
選ばれる一種を表す。本発明にかかる新規なケージドア
ミノ酸のうち好ましい例として、具体的には以下の式２
から式１８に示す構造を有するケージドアミノ酸が挙げ
られる。
子、炭素数１から４までのアルキル基、炭素数１から４
までのアルキルオキシ基、炭素数１から４までのアルキ
ルアミノ基、及びベンゾ基からなる群より選ばれる一種
を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ
1は、水素原子及び炭素数１から４までのアルキル基か
らなる群より選ばれる一種を表す。Ｒ2及びＲ3は各々独
立に水素原子又は炭素数１から４までのアルキル基を表
し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａは、グリ
シン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セ
リン、トレオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、γ
−アミノブタン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−アスパラギン酸、
アスパラギン、グルタミン、リシン、ヒドロキシリシ
ン、アルギニン、システイン、シスチン、メチオニン、
フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、ヒスチ
ジン、プロリン及び４−ヒドロキシプロリンからなる群
より選ばれるアミノ酸の残基を表す。また、Ｍは水素原
子、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群より
選ばれる一種を表す。本発明にかかる新規なケージドア
ミノ酸のうち好ましい例として、具体的には以下の式２
から式１８に示す構造を有するケージドアミノ酸が挙げ
られる。
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
【化２７】
【化２８】
【化２９】
【化３０】
【化３１】
【化３２】
【化３３】
【化３４】
【化３５】
【化３６】 かかるケージドアミノ酸化合物は、図１に示すように、
シンナメート基の二重結合がトランス（E）構造である
ために、暗所にては安定に存在するが、光照射により上
記シンナメート基の二重結合が光異性化平衡によりシス
（Z）構造が生成する。このシス異性体は分子内アミド
結合形成に好ましい立体構造であり、速やかにクマリン
類似体（カルボスチリル）の生成と同時にアミノ酸を放
出することとなる。
シンナメート基の二重結合がトランス（E）構造である
ために、暗所にては安定に存在するが、光照射により上
記シンナメート基の二重結合が光異性化平衡によりシス
（Z）構造が生成する。このシス異性体は分子内アミド
結合形成に好ましい立体構造であり、速やかにクマリン
類似体（カルボスチリル）の生成と同時にアミノ酸を放
出することとなる。
【発明の実施の形態】以下更に詳しく本発明を説明す
る。合成方法 本発明にかかるケージドアミノ酸の合成法については特
に限定されず、通常公知の有機化学反応が好ましく使用
できる。本発明において好ましく使用可能な方法の具体
例として、図２、図３及び図４に例示される３通りの合
成ルートが挙げられる。これらの方法により、容易にか
つ収率よく、高純度で本発明にかかる種々の置換基を有
するケージドアミノ酸を合成することが可能である。図
２に示す合成ルートは、好ましい置換基を有する２−ニ
トロベンズアルデヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を
含む）と好ましい置換基を導入するためのWittig（ウイ
ティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬を含む）との反
応によるシンナメート骨格を形成するステップを含む
（図2(a)）。必要な出発物質である２−ニトロベンズア
ルデヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を含む）、及び
Wittig（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬を
含む）は、市販品を使用することが可能である。また、
従来公知の有機合成方法により合成することも可能であ
る（Organic Synthesis, col. vol. 3 , 641.、Organic
Synthesis, col. vol. 4, 735.、Organic Synthesis,
col. vol. 5 , 825.、Kienzle, Frank，Helv. Chim. Ac
ta , 63 (8), 2364 - 2369 (1980)、 Wani, Mansukh
C.; Ronman, PeterE.; Lindley, James T.; Wall, Monr
oe E.，J. Med. Chem. 1980, 23, 554 - 560.）。 ま
た、Wittig反応の反応条件については特に制限はなく、
通常公知の条件を使用可能である（Organic Reaction v
ol.14, p270 - 423 (1965),Organic Reaction vol.25,7
3(1977)）。かかる文献等を参照して好ましい反応条件
を選択し最適化することは当業者にとっては容易であ
る。ここで、得られるシンナメート誘導体は二重結合に
対してシス体及びトランス体のいずれでもよく、また、
それらの混合物であってもよい。構造確認の手段も特に
限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可
能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、
核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段によ
り、二重結合、エステル基及びニトロ基の存在を確認す
ることができる。また、種々の公知又は市販の液体クロ
マトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることによ
り、生成物の収率、純度を決定することが可能である。
更に、図２に示す合成は、エステルを加水分解によりカ
ルボン酸とする反応を含む（図２(b)）。かかるエステ
ル（通常はメチル若しくはエチルエステルである）の加
水分解の反応方法についても特に制限はなく、通常公知
の方法（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “Protective Gr
oup in Organic Synthesis” 2nd ed.,p224-251., John
Wiley & Sons (1991).）を好ましく使用可能である。
具体的には酸性条件若しくはアルカリ性条件下での反応
が挙げられる。かかる加水分解反応の反応条件ついては
特に制限はなく、通常公知の条件を使用することが可能
である。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択
し最適化することは当業者にとって容易である。ここ
で、得られるシンナメート誘導体は二重結合に対してシ
ス体及びトランス体のいずれでもよく、またそれらの混
合物であってもよい。構造確認の手段も特に限定され
ず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、二重
結合、カルボキシル基及びニトロ基の存在を確認するこ
とができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマト
グラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生
成物の収率、純度を決定することが可能である。更に、
図２に示す合成は、得られた酸誘導体とケージド化合物
にする対象のアミノ酸誘導体との脱水縮合によりアミド
化合物とする反応を含む（図２(c)）。ここで、シンナ
ミック酸誘導体と脱水縮合するアミノ酸誘導体は、その
分子内にあるカルボキシル基（アミノ酸側鎖に他に一つ
ないし二つのカルボキシル基がある場合には、このカル
ボキシル基もこれに含まれる）が炭素数１から４までの
アルキル基を有するアルコールによりエステル化され
た、カルボキシル基保護アミノ酸誘導体（例えばグルタ
ミン酸 ジ -ｔ-ブチルエステル）を使用する。かかるカ
ルボキシル基保護アミノ酸は市販品を使用することが可
能であり、また、従来公知の有機合成反応による合成す
ることも可能である（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “P
rotective Group in Organic Synthesis” 2nd ed., p2
24-251., JohnWiley & Sons (1991).）。前記シンナミ
ック酸誘導体とアミノ酸誘導体との脱水縮合の反応方法
について特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使
用可能である。好ましくは、極性非水溶媒中（例えば、
ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−
ジオキサン、ジクロロメタン）で種々の脱水剤を用いる
ものである。脱水剤としては、具体的には、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド（DCC）、1-エチル-3−（3-ジメ
チルアミノプロピル)-カルボジイミド（EDC），1-エチ
ル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸
塩（EDC-HCl）が挙げられる。かかる脱水縮合の反応条
件については特に制限はなく、通常公知の条件を使用す
ることが可能である（J.C.Sheehan and G.P.Hess, J.A
m.Chem.Soc., 77, 1067 (1955).、J.C.Sheehan , J.Pr
eston and P.A. Cruikshank , J.Am.Chem.Soc., 87, 24
92 (1965). 、J.C.Sheehan, and J. J. Hlavka, J. Or
g. Chem., 21, 439 (1956). ）。かかる文献を参照して
好ましい反応条件を選択し最適化することは当業者にと
って容易である。構造確認の手段も特に限定されず、通
常公知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体
的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペ
クトル、質量スペクトル等の手段により、二重結合、ア
ミド基、エステル基及び芳香族ニトロ基の存在を確認す
ることができる。また、種々の公知又は市販の液体クロ
マトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることによ
り、生成物の収率、純度を決定することが可能である。
更に、図２に示す合成は、芳香族ニトロ基をアミノ基に
還元する反応を含む（図２(d)）。このニトロ基をアミ
ノ基へ還元する反応方法には特に制限はなく、通常公知
の種々の方法が好ましく使用可能である（Marino Artic
oa, Romano Silvestri, and Giorgio Stefancich, Syn
thesis Comm., 22(10), 1433 - 1439 (1992).、 Yos
hiaki Sato, Yoshiharu Nakajima, and Chung-gi Shin,
Heterocycles, 33 (2), 589 - 595 (1992). 、Robe
rt A. Mack,Vassil St. Georgiev,Edwin S.C. Wu, and
James R. Matz, J.Org.Chem., 58 6158 - 6162 (199
3).,Pierre Martin and Tammo Winkler, Helvetica Che
mica Acta , 17, 111-120 (1994).）。具体的には、酸
性条件下での金属による還元反応が挙げられる。より具
体的には、酢酸酸性条件での鉄（鉄粉末を含む）を用い
る方法が挙げられる。かかる酢酸／鉄還元反応の条件に
ついては特に制限はなく、通常公知の条件を使用するこ
とが可能である。かかる文献を参照して好ましい反応条
件の選択し最適化することは当業者にとって容易であ
る。ここで得られる芳香族アミノ誘導体は、二重結合に
対してトランス体である。上記の還元反応によりシス体
が同様に生成するが、図1に示す光反応と同様なメカニ
ズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体（カルボスチ
リル誘導体）を形成するからである。構造確認の手段も
特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が使
用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル（I
R）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段
により、トランス二重結合、アミド基、エステル基及び
芳香族アミノ基の存在を確認することができる。また、
種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマ
トグラフ等を用いることにより、生成物の収率、純度を
決定することが可能である。更に、図２に示す合成は、
アミノ酸部エステル基の加水分解により保護基を脱離し
てカルボン酸とし、本発明のケージドアミノ酸を合成す
る反応を含む（図２(e)）。かかるエステル（通常は炭
素数１から４のアルキルエステルである）の加水分解の
反応方法について特に制限はなく、通常公知の方法を好
ましく使用可能である。具体的には酸性条件若しくはア
ルカリ条件下での反応が挙げられる。かかる加水分解反
応の反応条件については特に制限はなく、通常公知の条
件を使用することが可能である（T.W.Greene and P.G.
M.Wuts, “Protective Group inOrganic Synthesis” 2
nd ed., p224-251., John Wiley & Sons (1991).）。か
かる文献を参照して好ましい反応条件を選択し最適化す
ることは当業者にとって容易である。ここで得られるシ
ンナメート酸誘導体は、二重結合に対してトランス体で
ある。上記の還元反応によりシス体が同様に生成する
が、図1に示す光反応と同様なメカニズムにより容易に
窒素置換クマリン誘導体を形成するからである。構造確
認の手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分
析手段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペ
クトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル
等の手段により、トランス二重結合、アミド基、カルボ
ン酸及び芳香族アミノ基の存在を確認することができ
る。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、
ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収
率、純度を決定することが可能である。他の合成ルート
として、図３に示すように前記合成の途中段階にてN-ス
クシンイミドエステルを経由する合成方法がある。図３
に示す合成は、図２と同様にWittig反応によりシンナメ
ートエステル誘導体とし、更にこれを加水分解して酸誘
導体とする反応を含む（図3(a)及び図３(b)）。更に図
３は、得られた酸誘導体とN-ヒドロキシスクシンイミド
（及びそのスルフォン酸基を有する誘導体を含む）との
脱水縮合によりN-スクシンイミジルシンナメートとする
反応を含む（図３(c)）。この脱水縮合の反応方法につ
いて特に制限はなく、通常公知の方法（G.W.Anderson,
J.E.Zimmerman, F.Callahan, J.Am.Chem. Soc., 85, 30
39 (1963).）を好ましく使用可能である。好ましくは、
極性非水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テト
ラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタ
ン）で種々の脱水剤を用いるものである。脱水剤として
は、具体的には、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DC
C）、1-エチル-3−（3-ジメチルアミノプロピル)-カル
ボジイミド（EDC），1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプ
ロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）が挙げられ
る。かかる脱水縮合の反応条件については特に制限はな
く、通常公知の条件を使用することが可能である。かか
る文献を参照して好ましい反応条件を選択し最適化する
ことは当業者にとって容易である。ここで得られるＮ−
スクシンイミジルエステル基を有するシンナメート誘導
体は、二重結合に対してシス体及びトランス体のいずれ
でもよく、またそれらの混合物であってもよい。また、
構造確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機化合
物の分析手段が使用可能である。具体的には、赤外線吸
収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペ
クトル等の手段により、二重結合、ニトロ基及びN-スク
シンイミジル基の存在を確認することができる。また、
種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマ
トグラフ等を用いることにより、生成物の収率、純度を
決定することが可能である。更に図３に示す合成は、芳
香族ニトロ基をアミノ基に還元する反応を含む（図３
(d)）。このニトロ基をアミノ基へ還元する方法に特に
制限はなく、先に図２の説明時に挙げた通常公知の種々
の方法が好ましく使用可能である。具体的には、酸性条
件下での金属による還元反応、より具体的には酢酸酸性
条件での鉄（鉄粉末を含む）を用いる方法が挙げられ
る。かかる酢酸／鉄還元反応の条件については特に制限
はなく、通常公知の条件を使用することが可能である。
かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択し最適化
することは当業者にとって容易である。ここで得られる
アミノ誘導体は、二重結合に対してトランス体である。
上記の還元反応によりシス体が同様に生成するが、図１
に示す光反応と同様なメカニズムにより容易に窒素置換
クマリン誘導体を形成するからである。構造確認の手段
も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が
使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル
（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手
段により、トランス二重結合、エステル基及び芳香族ア
ミノ基の存在を確認することができる。また、種々の公
知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ
等を用いることにより、生成物の収率、純度を決定する
ことが可能である。更に図３に示す合成は、ケージド化
合物としたいアミノ酸と前記N-スクシンイミドエステル
とを反応させ、本発明のケージドアミノ酸を合成する反
応を含む（図３(e)）。かかるN-スクシンイミドエステ
ルとアミノ酸とのカップリング反応の方法について特に
制限はなく、通常公知の方法（DONDONI, A.; JUNQUERA,
F.;MERCHAN, F. L.; MERINO, P.; TEJERO, T., J. Ch
em. Soc., Chem. Commun. (1995) 20, 2127-2128、 RE
NN, O.; MEARES, C. F., Bioconjugate Chem. 3 (1992)
6, 563-569.,、 SHERADSKY, T.; MILVITSKAYA, J.; P
OLLAK, I., Tetrahedron Lett. 32 (1991) 1, 133-13
6、 P. L. Southwick, G.K.Chin, M. A. Koshute, J.
R. Miller, K.E.Niemela, C.A.Soege;, R. T. Nolte an
d W.E.Brown, J.Org. Chem., 49 (6), 1130 (1984).、K
azuyoshi Takeda, Izumi Sawada, AkiraSuzuki, and Ha
ruo Ogura, Tetrahedron. Lett. , 24 , 4451 (198
3).）を好ましく使用可能である。好ましくは、水中又
は極性非水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタ
ン、或いはこれらの混合物）で反応することができる。
また、反応を更に速く進行させたいときは、トリエチル
アミン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩
基性化合物を添加する事も可能である。かかる文献を参
照して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業
者にとって容易である。ここで得られるアミノ酸誘導体
は、二重結合に対してトランス体である。上記の還元反
応によりシス体が同様に生成するが、図１に示す光反応
と同様なメカニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導
体を形成するからである。構造確認の手段も特に限定さ
れず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、トラ
ンス二重結合、N-スクシンイミド基及び芳香族アミノ基
の存在を確認することができる。また、種々の公知又は
市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用
いることにより、生成物の収率、純度を決定することが
可能である。更に図３に示す合成は、得られるN-スクシ
ンイミドエステルとケージド化合物としたいアミノ酸の
カルボキシル基エステル保護誘導体との反応を含む（図
３(f)）。かかるN-スクシンイミドエステルとアミノ酸
誘導体とのカップリング反応の方法についても特に制限
はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能である。好
ましくは、水中又は極性非水溶媒中（例えば、ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、或いはこれらの混合物）での反応
が可能である。また、反応を更に速く進行させたいとき
は、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム等の塩基性化合物を添加する事も可能である。
ここで得られるアミノ酸誘導体は、二重結合に対してト
ランス体である。上記の還元反応によりシス体が同様に
生成するが、図１に示す光反応と同様なメカニズムによ
り容易に窒素置換クマリン誘導体を形成するからであ
る。構造確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機
化合物の分析手段が使用可能である。具体的には、赤外
線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量
スペクトル等の手段により、トランス二重結合、アミド
基及び芳香族アミノ基の存在を確認することができる。
また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガス
クロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収率、
純度を決定することが可能である。更に図３に示す合成
は、アミノ酸部カルボキシル基のエステル基を加水分解
によりカルボン酸とし、本発明のケージドアミノ酸を合
成する反応を含む（図３(g)）。かかるエステル（通常
は炭素数１から４のアルキルエステルである）の加水分
解の反応方法について特に制限はなく、通常公知の方法
を好ましく使用可能である。具体的には酸性条件若しく
はアルカリ条件下での反応が可能である。かかる加水分
解の反応条件については特に制限はなく、通常公知の条
件を使用することが可能である（T.W.Greene and P.G.
M.Wuts, “Protective Group in Organic Synthesis”
2nd ed., p224-251., John Wiley & Sons (1991).）。
かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択し最適化
することは当業者にとって容易である。ここで得られる
アミノ酸誘導体は、二重結合に対してトランス体であ
る。上記の還元反応によりシス体が同様に生成するが、
図１に示す光反応と同様なメカニズムにより容易に窒素
置換クマリン誘導体を形成するからである。構造確認の
手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手
段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクト
ル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の
手段により、トランス二重結合、アミド基、カルボキシ
ル基及び芳香族アミノ基の存在を確認することができ
る。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、
ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収
率、純度を決定することが可能である。また、図４に示
すように、他の合成ルートとして、前記合成の途中段階
にて、ｐ−ニトロフェニルエステルを経由する合成方法
がある。図４に示す合成は、図２及び図３と同様にWitt
ig反応によりシンナメートエステル誘導体とする反応を
含む（図４(a)）。更に図４に示す合成は、芳香族ニト
ロ基をアミノ基に還元する反応を含む（図４(b)）。こ
のニトロ基をアミノ基へ還元する方法に特に制限はな
く、先に図２及び図３の説明時に挙げた通常公知の種々
の方法が好ましく使用可能である。具体的には、酸性条
件下での金属による還元反応が挙げられる。より具体的
には酢酸酸性条件での鉄（鉄粉末を含む）を用いる方法
が挙げられる。かかる酢酸／鉄還元反応の条件について
は特に制限はなく、通常公知の条件を使用することが可
能である。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選
択し最適化することは当業者にとって容易である。ここ
で得られるアミノ誘導体は、二重結合に対してトランス
体である。上記の還元反応によりシス体が同様に生成す
るが、図１に示す光反応と同様なメカニズムにより容易
に窒素置換クマリン誘導体を形成するからである。構造
確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の
分析手段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収ス
ペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクト
ル等の手段により、トランス二重結合、エステル基及び
芳香族アミノ基の存在を確認することができる。また、
種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマ
トグラフ等を用いることにより、生成物の収率、純度を
決定することが可能である。更に、図４に示す合成は、
エステル基を加水分解によりカルボン酸とする反応を含
む（図４(c)）。かかるエステル（通常はメチル若しく
はエチルエステルである）の加水分解の反応方法につい
て特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能
である。具体的には酸性条件、若しくはアルカリ条件下
での反応が挙げられる。かかる加水分解反応の反応条件
については特に制限はなく、通常公知の条件を使用する
ことが可能である。かかる文献を参照して好ましい反応
条件を選択し最適化することは当業者にとって容易であ
る。構造確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機
化合物の分析手段が使用可能である。具体的には、赤外
線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量
スペクトル等の手段により、トランス二重結合、カルボ
ン酸及び芳香族アミノ基の存在を確認することができ
る。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、
ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収
率、純度を決定することが可能である。更に、図４に示
す合成は、得られた酸誘導体とp-ニトロフェノールとの
脱水縮合によりｐ-ニトロフェニルアミノシンナメート
とする反応を含む（図４(d)）。かかる脱水縮合反応の
方法についても特に制限はなく、通常公知の方法（BILL
INGTON, S.; MANN, J.; QUAZI, P.; ALEXANDER, R.;EAT
ON, M. A. W.; MILLAR, K.; MILLICAN, A.; Tetrahedro
n 47 (1991) 28, 5231-5236、； HUANG, S.-B.; NELSO
N, J. S.; WELLER, D. D.; J. Org. Chem. 56 (1991) 2
1, 6007 - 6018、；PFEIFFER, M. J.; HANNA, S. B.; J
Org Chem 58 (1993) 3, 735-740.、； CABARET, D.;
LIU, J.; WAKSELMAN, M.; Synthesis (1994) 5, 480-48
2.）を好ましく使用可能である。好ましくは、極性非水
溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタン）で種々
の脱水剤を用いるものである。脱水剤としては、具体的
には、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）、1-エ
チル-3−（3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド
（EDC），1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カ
ルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）が挙げられる。かかる
縮合反応の反応条件については特に制限はなく、通常公
知の条件を使用することが可能である。かかる文献を参
照して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業
者にとって容易である。構造確認の手段も特に限定され
ず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、トラ
ンス二重結合、エステル基、芳香族アミノ基及び芳香族
ニトロ基の存在を確認することができる。また、種々の
公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラ
フ等を用いることにより、生成物の収率、純度を決定す
ることが可能である。更に図４に示す合成は、ケージド
化合物としたいアミノ酸と得られたｐ−ニトロフェニル
エステルとから本発明のケージドアミノ酸を合成する反
応を含む（図４(e)）。かかるｐ−ニトロフェニルエス
テルとアミノ酸とのカップリング反応の方法について特
に制限はなく、通常公知の方法（I.Barral等, Synthesi
s, p795(1973); R.Feldstein等, J.Org.Chem.,26,1656
(1961); G.W.Anderson等, J.Am.Chem.Soc.,82,3359(196
0); M.Bodansky等, J.Am.Che.Soc.,821,2504(1959)）を
好ましく使用可能である。好ましくは、水中又は極性非
水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタン、酢酸
エチル、或いはこれらの混合物）での反応が挙げられ
る。反応を更に速く進行させたいときは、トリエチルア
ミン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基
性化合物を添加する事も可能である。かかる文献を参照
して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業者
にとって容易である。ここで得られるアミノ酸誘導体は
二重結合に対してトランス体である。上記の還元反応に
よりシス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同
様なメカニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を
形成するからである。構造確認の手段も特に限定され
ず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、トラ
ンス二重結合、芳香族ニトロ基及び芳香族アミノ基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。更に図４に示す合成は、得られるｐ−ニトロフ
ェニルエステルとケージド化合物としたいアミノ酸のカ
ルボキシル基エステル保護誘導体との反応を含む（図４
(f)）。かかるｐ−ニトロフェニルエステルとアミノ酸
誘導体とのカップリング反応の方法について特に制限は
なく、通常公知の方法を好ましく使用可能である。好ま
しくは、水中又は極性非水溶媒中（例えば、ジメチルホ
ルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、酢酸エチル、或いはこれらの混合
物）での反応が挙げられる。また、反応を更に速く進行
させたいときは、トリエチルアミン、水酸化ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性化合物を添加する事
も可能である。ここで得られるアミノ酸誘導体は二重結
合に対してトランス体である。上記の還元反応によりシ
ス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメ
カニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成す
るからである。構造確認の手段も特に限定されず、通常
公知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的
には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペク
トル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基及び芳香族アミノ基の存在を確認すること
ができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグ
ラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成
物の収率、純度を決定することが可能である。更に図４
に示す合成は、アミノ酸部カルボキシル基のエステル基
を加水分解によりカルボン酸とし、本発明のケージドア
ミノ酸を合成する反応を含む（図４(g)）。かかるエス
テル（通常は炭素数１から４のアルキルエステルであ
る）の加水分解の反応方法について特に制限はなく、通
常公知の方法を好ましく使用可能である。具体的には酸
性条件若しくはアルカリ条件下で可能である。かかる加
水分解の反応条件については特に制限はなく、通常公知
の条件を使用することが可能である（T.W.Greene and
P.G.M.Wuts, “Protective Group in Organic Synthesi
s” 2nd ed., p224-251., John Wiley & Sons (199
1).）。かかる文献を参照して好ましい反応条件の選択
し最適化は当業者にとって容易である。ここで得られる
アミノ酸誘導体は二重結合に対してトランス体である。
上記の還元反応によりシス体が同様に生成するが、図１
に示す光反応と同様なメカニズムにより容易に窒素置換
クマリン誘導体を形成するからである。構造確認の手段
も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が
使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル
（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手
段により、トランス二重結合、アミド基、カルボキシル
基及び芳香族アミノ基の存在を確認することができる。
また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガス
クロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収率、
純度を決定することが可能である。上述の図２、図３及
び図４の合成ルートにより目的とするケージドアミノ酸
を高収率かつ高選択的に得ることができるが、更に、図
3(d)、図４(c)及び図４(d)の各反応において得られる中
間生成物のアミノ基に保護基を導入することにより、副
反応を抑制し目的のケージドアミノ酸をより高収率かつ
高選択的に得ることができる。ここで、アミノ基に導入
する保護基の好ましい例として、具体的にはtert-ブチ
ルオキシカルボニル基、トリメチルシリルエトキシカル
ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基などが挙げられ
る。このアミノ基の保護基化は、目的とするアミノ酸が
２級アミンである場合に特に有効である。なお、前記保
護基の脱離反応は容易に行うことができる。例えばトリ
メチルシリルエチルオキシカルボニル基の場合には、カ
ップリング反応の後処理工程でトリフルオロ酢酸（TF
A）を用いて容易に脱離することができる。新規ケージド アミノ酸の光反応 本発明にかかる新規ケージドアミノ酸に光照射を行う
と、図１に示すように、アミノシンナメート構造を有す
るケージング官能基とアミノ酸のアミノ基との間のアミ
ド結合の開裂が起こり、アミノ酸とＮ−置換クマリン誘
導体とを容易に生成することができる。また、顕微鏡等
を使用することで組織の特定の位置でのみアミノ酸を生
成することが可能であり、アミノ酸を部分的に遊離する
ために光照射を調節することも可能である。新規ケージドアミノ酸の安定性 本発明にかかるケージドアミノ酸は、光反応を引き起こ
すシンナメート構造を有する官能基とアミノ酸との結合
が非常に強固なアミド結合によるものであるために、暗
所においては非常に高い安定性を示す。以下本発明を実
施例に従い更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実
施例に何ら限定されるものではない。
る。合成方法 本発明にかかるケージドアミノ酸の合成法については特
に限定されず、通常公知の有機化学反応が好ましく使用
できる。本発明において好ましく使用可能な方法の具体
例として、図２、図３及び図４に例示される３通りの合
成ルートが挙げられる。これらの方法により、容易にか
つ収率よく、高純度で本発明にかかる種々の置換基を有
するケージドアミノ酸を合成することが可能である。図
２に示す合成ルートは、好ましい置換基を有する２−ニ
トロベンズアルデヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を
含む）と好ましい置換基を導入するためのWittig（ウイ
ティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬を含む）との反
応によるシンナメート骨格を形成するステップを含む
（図2(a)）。必要な出発物質である２−ニトロベンズア
ルデヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を含む）、及び
Wittig（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬を
含む）は、市販品を使用することが可能である。また、
従来公知の有機合成方法により合成することも可能であ
る（Organic Synthesis, col. vol. 3 , 641.、Organic
Synthesis, col. vol. 4, 735.、Organic Synthesis,
col. vol. 5 , 825.、Kienzle, Frank，Helv. Chim. Ac
ta , 63 (8), 2364 - 2369 (1980)、 Wani, Mansukh
C.; Ronman, PeterE.; Lindley, James T.; Wall, Monr
oe E.，J. Med. Chem. 1980, 23, 554 - 560.）。 ま
た、Wittig反応の反応条件については特に制限はなく、
通常公知の条件を使用可能である（Organic Reaction v
ol.14, p270 - 423 (1965),Organic Reaction vol.25,7
3(1977)）。かかる文献等を参照して好ましい反応条件
を選択し最適化することは当業者にとっては容易であ
る。ここで、得られるシンナメート誘導体は二重結合に
対してシス体及びトランス体のいずれでもよく、また、
それらの混合物であってもよい。構造確認の手段も特に
限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可
能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、
核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段によ
り、二重結合、エステル基及びニトロ基の存在を確認す
ることができる。また、種々の公知又は市販の液体クロ
マトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることによ
り、生成物の収率、純度を決定することが可能である。
更に、図２に示す合成は、エステルを加水分解によりカ
ルボン酸とする反応を含む（図２(b)）。かかるエステ
ル（通常はメチル若しくはエチルエステルである）の加
水分解の反応方法についても特に制限はなく、通常公知
の方法（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “Protective Gr
oup in Organic Synthesis” 2nd ed.,p224-251., John
Wiley & Sons (1991).）を好ましく使用可能である。
具体的には酸性条件若しくはアルカリ性条件下での反応
が挙げられる。かかる加水分解反応の反応条件ついては
特に制限はなく、通常公知の条件を使用することが可能
である。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択
し最適化することは当業者にとって容易である。ここ
で、得られるシンナメート誘導体は二重結合に対してシ
ス体及びトランス体のいずれでもよく、またそれらの混
合物であってもよい。構造確認の手段も特に限定され
ず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、二重
結合、カルボキシル基及びニトロ基の存在を確認するこ
とができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマト
グラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生
成物の収率、純度を決定することが可能である。更に、
図２に示す合成は、得られた酸誘導体とケージド化合物
にする対象のアミノ酸誘導体との脱水縮合によりアミド
化合物とする反応を含む（図２(c)）。ここで、シンナ
ミック酸誘導体と脱水縮合するアミノ酸誘導体は、その
分子内にあるカルボキシル基（アミノ酸側鎖に他に一つ
ないし二つのカルボキシル基がある場合には、このカル
ボキシル基もこれに含まれる）が炭素数１から４までの
アルキル基を有するアルコールによりエステル化され
た、カルボキシル基保護アミノ酸誘導体（例えばグルタ
ミン酸 ジ -ｔ-ブチルエステル）を使用する。かかるカ
ルボキシル基保護アミノ酸は市販品を使用することが可
能であり、また、従来公知の有機合成反応による合成す
ることも可能である（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “P
rotective Group in Organic Synthesis” 2nd ed., p2
24-251., JohnWiley & Sons (1991).）。前記シンナミ
ック酸誘導体とアミノ酸誘導体との脱水縮合の反応方法
について特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使
用可能である。好ましくは、極性非水溶媒中（例えば、
ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−
ジオキサン、ジクロロメタン）で種々の脱水剤を用いる
ものである。脱水剤としては、具体的には、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド（DCC）、1-エチル-3−（3-ジメ
チルアミノプロピル)-カルボジイミド（EDC），1-エチ
ル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸
塩（EDC-HCl）が挙げられる。かかる脱水縮合の反応条
件については特に制限はなく、通常公知の条件を使用す
ることが可能である（J.C.Sheehan and G.P.Hess, J.A
m.Chem.Soc., 77, 1067 (1955).、J.C.Sheehan , J.Pr
eston and P.A. Cruikshank , J.Am.Chem.Soc., 87, 24
92 (1965). 、J.C.Sheehan, and J. J. Hlavka, J. Or
g. Chem., 21, 439 (1956). ）。かかる文献を参照して
好ましい反応条件を選択し最適化することは当業者にと
って容易である。構造確認の手段も特に限定されず、通
常公知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体
的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペ
クトル、質量スペクトル等の手段により、二重結合、ア
ミド基、エステル基及び芳香族ニトロ基の存在を確認す
ることができる。また、種々の公知又は市販の液体クロ
マトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることによ
り、生成物の収率、純度を決定することが可能である。
更に、図２に示す合成は、芳香族ニトロ基をアミノ基に
還元する反応を含む（図２(d)）。このニトロ基をアミ
ノ基へ還元する反応方法には特に制限はなく、通常公知
の種々の方法が好ましく使用可能である（Marino Artic
oa, Romano Silvestri, and Giorgio Stefancich, Syn
thesis Comm., 22(10), 1433 - 1439 (1992).、 Yos
hiaki Sato, Yoshiharu Nakajima, and Chung-gi Shin,
Heterocycles, 33 (2), 589 - 595 (1992). 、Robe
rt A. Mack,Vassil St. Georgiev,Edwin S.C. Wu, and
James R. Matz, J.Org.Chem., 58 6158 - 6162 (199
3).,Pierre Martin and Tammo Winkler, Helvetica Che
mica Acta , 17, 111-120 (1994).）。具体的には、酸
性条件下での金属による還元反応が挙げられる。より具
体的には、酢酸酸性条件での鉄（鉄粉末を含む）を用い
る方法が挙げられる。かかる酢酸／鉄還元反応の条件に
ついては特に制限はなく、通常公知の条件を使用するこ
とが可能である。かかる文献を参照して好ましい反応条
件の選択し最適化することは当業者にとって容易であ
る。ここで得られる芳香族アミノ誘導体は、二重結合に
対してトランス体である。上記の還元反応によりシス体
が同様に生成するが、図1に示す光反応と同様なメカニ
ズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体（カルボスチ
リル誘導体）を形成するからである。構造確認の手段も
特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が使
用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル（I
R）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段
により、トランス二重結合、アミド基、エステル基及び
芳香族アミノ基の存在を確認することができる。また、
種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマ
トグラフ等を用いることにより、生成物の収率、純度を
決定することが可能である。更に、図２に示す合成は、
アミノ酸部エステル基の加水分解により保護基を脱離し
てカルボン酸とし、本発明のケージドアミノ酸を合成す
る反応を含む（図２(e)）。かかるエステル（通常は炭
素数１から４のアルキルエステルである）の加水分解の
反応方法について特に制限はなく、通常公知の方法を好
ましく使用可能である。具体的には酸性条件若しくはア
ルカリ条件下での反応が挙げられる。かかる加水分解反
応の反応条件については特に制限はなく、通常公知の条
件を使用することが可能である（T.W.Greene and P.G.
M.Wuts, “Protective Group inOrganic Synthesis” 2
nd ed., p224-251., John Wiley & Sons (1991).）。か
かる文献を参照して好ましい反応条件を選択し最適化す
ることは当業者にとって容易である。ここで得られるシ
ンナメート酸誘導体は、二重結合に対してトランス体で
ある。上記の還元反応によりシス体が同様に生成する
が、図1に示す光反応と同様なメカニズムにより容易に
窒素置換クマリン誘導体を形成するからである。構造確
認の手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分
析手段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペ
クトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル
等の手段により、トランス二重結合、アミド基、カルボ
ン酸及び芳香族アミノ基の存在を確認することができ
る。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、
ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収
率、純度を決定することが可能である。他の合成ルート
として、図３に示すように前記合成の途中段階にてN-ス
クシンイミドエステルを経由する合成方法がある。図３
に示す合成は、図２と同様にWittig反応によりシンナメ
ートエステル誘導体とし、更にこれを加水分解して酸誘
導体とする反応を含む（図3(a)及び図３(b)）。更に図
３は、得られた酸誘導体とN-ヒドロキシスクシンイミド
（及びそのスルフォン酸基を有する誘導体を含む）との
脱水縮合によりN-スクシンイミジルシンナメートとする
反応を含む（図３(c)）。この脱水縮合の反応方法につ
いて特に制限はなく、通常公知の方法（G.W.Anderson,
J.E.Zimmerman, F.Callahan, J.Am.Chem. Soc., 85, 30
39 (1963).）を好ましく使用可能である。好ましくは、
極性非水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テト
ラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタ
ン）で種々の脱水剤を用いるものである。脱水剤として
は、具体的には、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DC
C）、1-エチル-3−（3-ジメチルアミノプロピル)-カル
ボジイミド（EDC），1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプ
ロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）が挙げられ
る。かかる脱水縮合の反応条件については特に制限はな
く、通常公知の条件を使用することが可能である。かか
る文献を参照して好ましい反応条件を選択し最適化する
ことは当業者にとって容易である。ここで得られるＮ−
スクシンイミジルエステル基を有するシンナメート誘導
体は、二重結合に対してシス体及びトランス体のいずれ
でもよく、またそれらの混合物であってもよい。また、
構造確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機化合
物の分析手段が使用可能である。具体的には、赤外線吸
収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペ
クトル等の手段により、二重結合、ニトロ基及びN-スク
シンイミジル基の存在を確認することができる。また、
種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマ
トグラフ等を用いることにより、生成物の収率、純度を
決定することが可能である。更に図３に示す合成は、芳
香族ニトロ基をアミノ基に還元する反応を含む（図３
(d)）。このニトロ基をアミノ基へ還元する方法に特に
制限はなく、先に図２の説明時に挙げた通常公知の種々
の方法が好ましく使用可能である。具体的には、酸性条
件下での金属による還元反応、より具体的には酢酸酸性
条件での鉄（鉄粉末を含む）を用いる方法が挙げられ
る。かかる酢酸／鉄還元反応の条件については特に制限
はなく、通常公知の条件を使用することが可能である。
かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択し最適化
することは当業者にとって容易である。ここで得られる
アミノ誘導体は、二重結合に対してトランス体である。
上記の還元反応によりシス体が同様に生成するが、図１
に示す光反応と同様なメカニズムにより容易に窒素置換
クマリン誘導体を形成するからである。構造確認の手段
も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が
使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル
（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手
段により、トランス二重結合、エステル基及び芳香族ア
ミノ基の存在を確認することができる。また、種々の公
知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ
等を用いることにより、生成物の収率、純度を決定する
ことが可能である。更に図３に示す合成は、ケージド化
合物としたいアミノ酸と前記N-スクシンイミドエステル
とを反応させ、本発明のケージドアミノ酸を合成する反
応を含む（図３(e)）。かかるN-スクシンイミドエステ
ルとアミノ酸とのカップリング反応の方法について特に
制限はなく、通常公知の方法（DONDONI, A.; JUNQUERA,
F.;MERCHAN, F. L.; MERINO, P.; TEJERO, T., J. Ch
em. Soc., Chem. Commun. (1995) 20, 2127-2128、 RE
NN, O.; MEARES, C. F., Bioconjugate Chem. 3 (1992)
6, 563-569.,、 SHERADSKY, T.; MILVITSKAYA, J.; P
OLLAK, I., Tetrahedron Lett. 32 (1991) 1, 133-13
6、 P. L. Southwick, G.K.Chin, M. A. Koshute, J.
R. Miller, K.E.Niemela, C.A.Soege;, R. T. Nolte an
d W.E.Brown, J.Org. Chem., 49 (6), 1130 (1984).、K
azuyoshi Takeda, Izumi Sawada, AkiraSuzuki, and Ha
ruo Ogura, Tetrahedron. Lett. , 24 , 4451 (198
3).）を好ましく使用可能である。好ましくは、水中又
は極性非水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタ
ン、或いはこれらの混合物）で反応することができる。
また、反応を更に速く進行させたいときは、トリエチル
アミン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩
基性化合物を添加する事も可能である。かかる文献を参
照して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業
者にとって容易である。ここで得られるアミノ酸誘導体
は、二重結合に対してトランス体である。上記の還元反
応によりシス体が同様に生成するが、図１に示す光反応
と同様なメカニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導
体を形成するからである。構造確認の手段も特に限定さ
れず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、トラ
ンス二重結合、N-スクシンイミド基及び芳香族アミノ基
の存在を確認することができる。また、種々の公知又は
市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用
いることにより、生成物の収率、純度を決定することが
可能である。更に図３に示す合成は、得られるN-スクシ
ンイミドエステルとケージド化合物としたいアミノ酸の
カルボキシル基エステル保護誘導体との反応を含む（図
３(f)）。かかるN-スクシンイミドエステルとアミノ酸
誘導体とのカップリング反応の方法についても特に制限
はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能である。好
ましくは、水中又は極性非水溶媒中（例えば、ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、或いはこれらの混合物）での反応
が可能である。また、反応を更に速く進行させたいとき
は、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム等の塩基性化合物を添加する事も可能である。
ここで得られるアミノ酸誘導体は、二重結合に対してト
ランス体である。上記の還元反応によりシス体が同様に
生成するが、図１に示す光反応と同様なメカニズムによ
り容易に窒素置換クマリン誘導体を形成するからであ
る。構造確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機
化合物の分析手段が使用可能である。具体的には、赤外
線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量
スペクトル等の手段により、トランス二重結合、アミド
基及び芳香族アミノ基の存在を確認することができる。
また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガス
クロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収率、
純度を決定することが可能である。更に図３に示す合成
は、アミノ酸部カルボキシル基のエステル基を加水分解
によりカルボン酸とし、本発明のケージドアミノ酸を合
成する反応を含む（図３(g)）。かかるエステル（通常
は炭素数１から４のアルキルエステルである）の加水分
解の反応方法について特に制限はなく、通常公知の方法
を好ましく使用可能である。具体的には酸性条件若しく
はアルカリ条件下での反応が可能である。かかる加水分
解の反応条件については特に制限はなく、通常公知の条
件を使用することが可能である（T.W.Greene and P.G.
M.Wuts, “Protective Group in Organic Synthesis”
2nd ed., p224-251., John Wiley & Sons (1991).）。
かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択し最適化
することは当業者にとって容易である。ここで得られる
アミノ酸誘導体は、二重結合に対してトランス体であ
る。上記の還元反応によりシス体が同様に生成するが、
図１に示す光反応と同様なメカニズムにより容易に窒素
置換クマリン誘導体を形成するからである。構造確認の
手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手
段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクト
ル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の
手段により、トランス二重結合、アミド基、カルボキシ
ル基及び芳香族アミノ基の存在を確認することができ
る。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、
ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収
率、純度を決定することが可能である。また、図４に示
すように、他の合成ルートとして、前記合成の途中段階
にて、ｐ−ニトロフェニルエステルを経由する合成方法
がある。図４に示す合成は、図２及び図３と同様にWitt
ig反応によりシンナメートエステル誘導体とする反応を
含む（図４(a)）。更に図４に示す合成は、芳香族ニト
ロ基をアミノ基に還元する反応を含む（図４(b)）。こ
のニトロ基をアミノ基へ還元する方法に特に制限はな
く、先に図２及び図３の説明時に挙げた通常公知の種々
の方法が好ましく使用可能である。具体的には、酸性条
件下での金属による還元反応が挙げられる。より具体的
には酢酸酸性条件での鉄（鉄粉末を含む）を用いる方法
が挙げられる。かかる酢酸／鉄還元反応の条件について
は特に制限はなく、通常公知の条件を使用することが可
能である。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選
択し最適化することは当業者にとって容易である。ここ
で得られるアミノ誘導体は、二重結合に対してトランス
体である。上記の還元反応によりシス体が同様に生成す
るが、図１に示す光反応と同様なメカニズムにより容易
に窒素置換クマリン誘導体を形成するからである。構造
確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の
分析手段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収ス
ペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクト
ル等の手段により、トランス二重結合、エステル基及び
芳香族アミノ基の存在を確認することができる。また、
種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマ
トグラフ等を用いることにより、生成物の収率、純度を
決定することが可能である。更に、図４に示す合成は、
エステル基を加水分解によりカルボン酸とする反応を含
む（図４(c)）。かかるエステル（通常はメチル若しく
はエチルエステルである）の加水分解の反応方法につい
て特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能
である。具体的には酸性条件、若しくはアルカリ条件下
での反応が挙げられる。かかる加水分解反応の反応条件
については特に制限はなく、通常公知の条件を使用する
ことが可能である。かかる文献を参照して好ましい反応
条件を選択し最適化することは当業者にとって容易であ
る。構造確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機
化合物の分析手段が使用可能である。具体的には、赤外
線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量
スペクトル等の手段により、トランス二重結合、カルボ
ン酸及び芳香族アミノ基の存在を確認することができ
る。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、
ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収
率、純度を決定することが可能である。更に、図４に示
す合成は、得られた酸誘導体とp-ニトロフェノールとの
脱水縮合によりｐ-ニトロフェニルアミノシンナメート
とする反応を含む（図４(d)）。かかる脱水縮合反応の
方法についても特に制限はなく、通常公知の方法（BILL
INGTON, S.; MANN, J.; QUAZI, P.; ALEXANDER, R.;EAT
ON, M. A. W.; MILLAR, K.; MILLICAN, A.; Tetrahedro
n 47 (1991) 28, 5231-5236、； HUANG, S.-B.; NELSO
N, J. S.; WELLER, D. D.; J. Org. Chem. 56 (1991) 2
1, 6007 - 6018、；PFEIFFER, M. J.; HANNA, S. B.; J
Org Chem 58 (1993) 3, 735-740.、； CABARET, D.;
LIU, J.; WAKSELMAN, M.; Synthesis (1994) 5, 480-48
2.）を好ましく使用可能である。好ましくは、極性非水
溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタン）で種々
の脱水剤を用いるものである。脱水剤としては、具体的
には、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）、1-エ
チル-3−（3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド
（EDC），1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カ
ルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）が挙げられる。かかる
縮合反応の反応条件については特に制限はなく、通常公
知の条件を使用することが可能である。かかる文献を参
照して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業
者にとって容易である。構造確認の手段も特に限定され
ず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、トラ
ンス二重結合、エステル基、芳香族アミノ基及び芳香族
ニトロ基の存在を確認することができる。また、種々の
公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラ
フ等を用いることにより、生成物の収率、純度を決定す
ることが可能である。更に図４に示す合成は、ケージド
化合物としたいアミノ酸と得られたｐ−ニトロフェニル
エステルとから本発明のケージドアミノ酸を合成する反
応を含む（図４(e)）。かかるｐ−ニトロフェニルエス
テルとアミノ酸とのカップリング反応の方法について特
に制限はなく、通常公知の方法（I.Barral等, Synthesi
s, p795(1973); R.Feldstein等, J.Org.Chem.,26,1656
(1961); G.W.Anderson等, J.Am.Chem.Soc.,82,3359(196
0); M.Bodansky等, J.Am.Che.Soc.,821,2504(1959)）を
好ましく使用可能である。好ましくは、水中又は極性非
水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタン、酢酸
エチル、或いはこれらの混合物）での反応が挙げられ
る。反応を更に速く進行させたいときは、トリエチルア
ミン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基
性化合物を添加する事も可能である。かかる文献を参照
して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業者
にとって容易である。ここで得られるアミノ酸誘導体は
二重結合に対してトランス体である。上記の還元反応に
よりシス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同
様なメカニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を
形成するからである。構造確認の手段も特に限定され
ず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、トラ
ンス二重結合、芳香族ニトロ基及び芳香族アミノ基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。更に図４に示す合成は、得られるｐ−ニトロフ
ェニルエステルとケージド化合物としたいアミノ酸のカ
ルボキシル基エステル保護誘導体との反応を含む（図４
(f)）。かかるｐ−ニトロフェニルエステルとアミノ酸
誘導体とのカップリング反応の方法について特に制限は
なく、通常公知の方法を好ましく使用可能である。好ま
しくは、水中又は極性非水溶媒中（例えば、ジメチルホ
ルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、酢酸エチル、或いはこれらの混合
物）での反応が挙げられる。また、反応を更に速く進行
させたいときは、トリエチルアミン、水酸化ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性化合物を添加する事
も可能である。ここで得られるアミノ酸誘導体は二重結
合に対してトランス体である。上記の還元反応によりシ
ス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメ
カニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成す
るからである。構造確認の手段も特に限定されず、通常
公知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的
には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペク
トル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基及び芳香族アミノ基の存在を確認すること
ができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグ
ラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成
物の収率、純度を決定することが可能である。更に図４
に示す合成は、アミノ酸部カルボキシル基のエステル基
を加水分解によりカルボン酸とし、本発明のケージドア
ミノ酸を合成する反応を含む（図４(g)）。かかるエス
テル（通常は炭素数１から４のアルキルエステルであ
る）の加水分解の反応方法について特に制限はなく、通
常公知の方法を好ましく使用可能である。具体的には酸
性条件若しくはアルカリ条件下で可能である。かかる加
水分解の反応条件については特に制限はなく、通常公知
の条件を使用することが可能である（T.W.Greene and
P.G.M.Wuts, “Protective Group in Organic Synthesi
s” 2nd ed., p224-251., John Wiley & Sons (199
1).）。かかる文献を参照して好ましい反応条件の選択
し最適化は当業者にとって容易である。ここで得られる
アミノ酸誘導体は二重結合に対してトランス体である。
上記の還元反応によりシス体が同様に生成するが、図１
に示す光反応と同様なメカニズムにより容易に窒素置換
クマリン誘導体を形成するからである。構造確認の手段
も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が
使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル
（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手
段により、トランス二重結合、アミド基、カルボキシル
基及び芳香族アミノ基の存在を確認することができる。
また、種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガス
クロマトグラフ等を用いることにより、生成物の収率、
純度を決定することが可能である。上述の図２、図３及
び図４の合成ルートにより目的とするケージドアミノ酸
を高収率かつ高選択的に得ることができるが、更に、図
3(d)、図４(c)及び図４(d)の各反応において得られる中
間生成物のアミノ基に保護基を導入することにより、副
反応を抑制し目的のケージドアミノ酸をより高収率かつ
高選択的に得ることができる。ここで、アミノ基に導入
する保護基の好ましい例として、具体的にはtert-ブチ
ルオキシカルボニル基、トリメチルシリルエトキシカル
ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基などが挙げられ
る。このアミノ基の保護基化は、目的とするアミノ酸が
２級アミンである場合に特に有効である。なお、前記保
護基の脱離反応は容易に行うことができる。例えばトリ
メチルシリルエチルオキシカルボニル基の場合には、カ
ップリング反応の後処理工程でトリフルオロ酢酸（TF
A）を用いて容易に脱離することができる。新規ケージド アミノ酸の光反応 本発明にかかる新規ケージドアミノ酸に光照射を行う
と、図１に示すように、アミノシンナメート構造を有す
るケージング官能基とアミノ酸のアミノ基との間のアミ
ド結合の開裂が起こり、アミノ酸とＮ−置換クマリン誘
導体とを容易に生成することができる。また、顕微鏡等
を使用することで組織の特定の位置でのみアミノ酸を生
成することが可能であり、アミノ酸を部分的に遊離する
ために光照射を調節することも可能である。新規ケージドアミノ酸の安定性 本発明にかかるケージドアミノ酸は、光反応を引き起こ
すシンナメート構造を有する官能基とアミノ酸との結合
が非常に強固なアミド結合によるものであるために、暗
所においては非常に高い安定性を示す。以下本発明を実
施例に従い更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実
施例に何ら限定されるものではない。
【実施例】以下では、グルタミン酸、γ−アミノブタン
酸（GABA）、アスパラギン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−アスパ
ラギン酸、グリシン及びグルタミンを対象とする場合の
新規ケージドアミノ酸の合成方法について詳細に記載し
たが、種々の官能基を導入した2−ニトロベンズアルデ
ヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を含む）及びWittig
（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬を含む）
を用いることにより、また、種々のアミノ酸、アミノ酸
類縁体及びそれらのカルボキシル基保護体を用いること
により、本発明にかかるすべてのケージドアミノ酸及び
ケージドアミノ酸類縁体を合成することが可能である。3−（4、5−ジメトキシ−2−ニトロフェニル）−2−メ
チル−2−プロペン酸 エチルエステルの合成 暗室にて、6−ニトロベラトラルアルデヒド 10g（50.0
mmol)（6−Nitroveratlaldehyde、アルドリッチ社製）
と、Wittig試薬（Carboethoxy ethylidene triphenylph
osphorane、 アルドリッチ社製 ）18.1 g（50.0 mmol）
とを、ベンゼン中、室温で、18時間撹拌して反応させ
た。反応終了後、減圧でベンゼンを除き、白色結晶を得
た。これを酢酸エチルから再結晶して目的化合物28.5g
を得た（収率76%）。本化合物の構造は、赤外吸収スペ
クトル（IR）、1H-NMR、13C-NMR、TOF−MSにより確認し
た。ここで、赤外吸収スペクトルは、日本電子（株）社
製JIR-WINSPEC50、1H-NMR、13C-NMRは日本電子（株）社
製JNM-LA300、TOF−MSは島津製作所（株）製KOMPACT M
ALDIIVを用いた（以下同じ）。 IR：1700cm-1（エステル） TOF−MS：296（M/C）1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.93 （1H、s、プ
ロペン酸3位プロトン）、7.74（1H、s、芳香環3’位プ
ロトン）、6.72（1H、s、芳香環6’位プロトン）、 4.2
9（2H、q、J=7 Hz、エチル基のメチレン基プロトン）、
3.99 ppm （3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、
3.96（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、1.92
（3H、s、プロペン2位のメチル基プロトン）、1.36（3
H、t、J=7 Hz、エチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.9（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、153.1（四級炭素、芳香環
5’位炭素）、148.7（四級炭素、芳香環4’位炭素）、1
45.1（四級炭素、 プロペン2位炭素）、143.4（四級炭
素、芳香環2’位炭素）、136.5（CH、プロペン3位炭
素）、126.6（四級炭素、芳香環1’位炭素）、112.3（C
H、芳香環6’位炭素）、107.9（CH、芳香環3’位炭
素）、61.9（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.5
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、56.5（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、14.3（CH3、エチル基のメチ
ル基炭素）、14.1（CH3、プロペン2位のメチル基炭
素）。3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸（3-（4、5-Dimethoxy-2-nitrophenyl）-2-m
ethyl-2-propenoic acid）の合成 上記得られた、3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル（1）11.3
g をメタノール 250mlに溶解し、これに2規定水酸化ナ
トリウム水溶液45mlを加えて、40℃にて4時間反応させ
た。反応終了後、1規定塩酸を用いて溶液をpH 4 に調整
して冷却し、析出した結晶を濾別して、目的の化合物1
0.1gを得た（収率99%）。本化合物の構造は、赤外吸収
スペクトル（IR）、1H-NMR、13Ｃ-NMR、TOF-MSにより確
認した。 IR：1685cm-1（カルボキシル基） TOF-MS：268（M/C）1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）;12.60（1
H、bs、カルボキシル基プロトン）、7.77（1H、s、プロ
ペン3位プロトン）、7.72（1H、s、芳香環3’位プロト
ン）、6.97（1H、s、芳香環6’位プロトン）、3.91（3
H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.90（3H、
s、メトキシ基のメチル基プロトン）、1.84 （3H、s、
プロペン2位のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド,δppm）; 168.7（四
級炭素、1位カルボキシル基炭素）、152.8（四級炭素、
芳香環5’位炭素）、148.2（四級炭素、芳香環4’位炭
素）、139.8（四級炭素、芳香環2’位炭素）、135.5（C
H、プロペン3位炭素）、129.4（四級炭素、プロペン2位
炭素）、125.7（四級炭素、芳香環1’位炭素）、112.7
（CH、芳香環6’位炭素）、107.7（CH、芳香環3’位炭
素）、56.4（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、56.0
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、13.8（CH3、プロ
ペン2位のメチル基炭素）。N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメ
トキシ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamic acid3-(4,5-
dimethoxy-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 無水ジクロロメタン 300 ml に3-(4,5-ジメトキシ-2-ニ
トロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 9.1g（34mmo
l），グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩酸塩 10.0 g
（34 mmol)（シグマ社製）及びトリエチルアミン 3.5
g (41 mmol)を加え，更に氷冷撹拌下粉末状の1-エチル-
3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC/HCl)（和光純薬社製）7.9 g (41 mmol)を数回に
分けて加えた。反応溶液を室温に戻し一夜間撹拌した
後，大部分の溶媒を減圧留去し，これに酢酸エチル及び
水を加えた。この有機層（酢酸エチル層）を洗浄し，乾
燥後濃縮して17.7 g の褐色油状物を得た。これをクロ
ロホルム／メタノール20:1 を溶出液としたシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し，目的化合物1
6.26g をガム状固形物として得た（収率 94 %）。本化
合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm）：7.74 (1H, s,芳香
環3’位プロトン),7.59 (1H, s,プロペン酸3位プロト
ン), 6.76(1H, d, J=7.5Hz, アミド基プロトン), 6.71
(1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.5H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン, 3.98
(3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.95 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン) , 2.37 (2H,m,グ
ルタミン酸部ガンマ位メチレン基プロトン), 2.05 (2H,
s,アミノ基プロトン), 2.03 (2H,m,グルタミン酸部β位
メチレン基プロトン), 1.93 (9H,s,ブチル基のメチル基
プロトン), 1.92 (9H, s,ブチル基のメチル基プロト
ン), 1.50 (3H, s,プロペン2位のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム，δppm)：172.6 (四級炭素,
グルタミン酸部カルボニル炭素), 171.3 (グルタミン酸
部カルボニル炭素), 168.7(四級炭素,1位カルボニル炭
素), 152.9 (四級炭素, 芳香環5’位炭素), 148.7 (四
級炭素,芳香環4’位炭素), 140.2 (四級炭素, プロペン
2位炭素), 132.4 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 131.8
(CH, プロペン3位炭素), 126.6 (四級炭素, 芳香環1’
位炭素), 112.4 (CH, 芳香環6’位炭素), 107.8 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
1.1 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.5 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 56.4 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.7 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.6 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 28.0 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素) , 14.2 (CH3, プロペ
ン2位のメチル基炭素)。(E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(2-ア
ミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamicacid 3-
(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-propenoic
amide）の合成 N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメ
トキシ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド15.1 g（30mml) 、鉄粉（Iron powder Kosochem. C
o.）7.8 g （140 mmol) 、酢酸 130 ml及び蒸留水 10 m
l を500ml褐色4つ口フラスコに秤取し、メカニカルスタ
ーラを用いて激しく撹拌しながら約70℃で3時間撹拌し
た。TLCにより反応の終了を確認した後、溶液を冷却し
未反応の鉄粉及び不溶物を濾取した。この濾液を濃縮
し、水200 ml ／酢酸エチル400 ml混合液に溶解して飽
和重曹水で3回洗浄した後、更に不溶物を濾別した。こ
の濾液の酢酸エチル層を水、炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後濃縮して粗生成物 15 g を得た。更にこれをカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノプロピル修
飾タイプ）Fuji silysia chem. co., NH-DM1020 1000 g
，溶離液 ヘキサン/酢酸エチル 1：1）により精製
し、目的化合物11.5gを得た（収率80％）。本化合物の
構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム、δppm)：7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン), 6.75 (1H, d, J=7.3Hz, アミド基
プロトン), 6.63 (1H, s, 芳香環6’位プロトン),6.30
(1H, s, 芳香環3’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.3H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン), 3.8
5 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.80 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.59 (2H, bs ア
ミノ基プロトン), 2.39 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基プロトン), 2.25 (2H,m, グルタミン酸部
β位メチレン基プロトン), 2.05 (3H, s,プロペン2位の
メチル基プロトン), 1.50 (9H, s, ブチル基のメチル基
プロトン), 1.45 (9H, s, ブチル基のメチル基プロト
ン)13 C-NMR(重クロロホルム、δppm)：172.6 (四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素), 171.2 (グルタミン酸部
カルボニル炭素), 168.7 (四級炭素,1位カルボニル炭
素), 150.4 (四級炭素,芳香環4’位炭素), 141.6 (四級
炭素, 芳香環2’位炭素), 139.2 (四級炭素, 芳香環5’
位炭素), 131.1 (CH, プロペン3位炭素), 131.1 (四級
炭素, プロペン2位炭素), 113.6 (CH, 芳香環6’位炭
素), 112.8 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 100.3 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
0.8 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.7 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 55.8 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.8 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.7 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 27.5 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素), 14.2 (CH3, プロペン
2位のメチル基炭素)。(E) N−Ｌ−グルタミン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキ
シフェニル)-2-アミノ-2-プロペン酸アミド（(E) N-L-g
lutamic acid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-met
hyl-2-propenoic amide）の合成 （E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(2-
アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸アミド10.4 g ( 22 mmol)、1規定塩酸-メタノール溶
液 20 ml 及びジクロロメタン 50 ml を常温で一夜間撹
拌した。反応の終了をTLCにより確認した後、反応液を
そのまま減圧濃縮し、20 g の油状物を得た。これを一
旦水 30 ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物 9.9 g をクロロホル
ム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:1 〜40:10:1
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，凍結乾燥して目的化合物5.7 gを得た（収
率71%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確
認した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：8.44 (1H,
d, J=7.5 Hz, アミド基プロトン), 7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロト), 7.24 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン), 6.94 (1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.36 (1H,
ddd, J=9.3Hz, 7.7Hz,5.5Hz, グルタミン酸部α位メチ
ン基プロトン), 4.10 (2H, bs アミノ基プロトン), 3.8
2 (6H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.47 (2H,
dd, J=7.5Hz,7.5Hz, グルタミン酸部ガンマ位メチレン
基プロトン), 2.07 (2H, m, グルタミン酸部β位メチレ
ン基プロトン), 1.97 (3H, s, プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン)13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：169.3, 16
9.1, 169.0 (四級炭素,グルタミン酸部カルボニル炭素
と1位カルボニル炭素), 148.6 (四級炭素,芳香環4’位
炭素), 147.8 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 135.1 (
四級炭素, 芳香環5’位炭素), 126.9 (CH, プロペン3位
炭素), 122.6 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 112.8 (C
H, 芳香環6’位炭素), 107.6 (CH, 芳香環3’位炭素),
55.8 (CH3,メトキシ基のメチル基炭素), 55.7 (CH3, メ
トキシ基のメチル基炭素), 51.7 (CH, グルタミン酸部
α位メチン基炭素), 30.3 (CH2, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基炭素), 26.0 (CH2, グルタミン酸部β位
メチレン基炭素), 14.5 (CH3,プロペン2位結合のメチル
基炭素)。3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-スクシンイミジルエステル（ 3-（4、5-
Dimethoxy-2-nitrophenyl）-2-methyl-2-propenoic aci
d N-succinimide ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸（2）7.0 g（26.2 mmol）と N-ヒドロキシス
クシンイミド 3.5 g（30.0mmol）（和光純薬製）とをジ
クロロメタン100 mlに溶解し、これにジメチルアミノピ
リジン500 mg（和光純薬社製）を加えた。この溶液に氷
冷撹拌下1-エチル-3-（3-ジメチルアミノプロピル）-カ
ルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）6.3 g（33.0 mmol）
（和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻してから2時
間撹拌した。この反応の終点を薄層クロマトグラフ（TL
C）によって確認した後、反応液を減圧下濃縮し、酢酸
エチル100ml に転溶した。この溶液を洗浄及び乾燥した
後、溶媒を留去して目的物8.3 g を油状物として得た
（収率81 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRに
より確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.29（1
H、s、プロペン3位プロトン）、7.78（1H、s、芳香環
3’位プロトン）、7.14（1H、s、芳香環6’位プロト
ン）、3.94（3H、s、メトキシ基のメチルプロトン）、
3.92（3H、s、メトキシ基のメチルプロトン）、2.87（4
H、s、スクシンイミジル基のメチレンプロトン）、2.01
（3H、s、プロペン2位のメチル基プロトン）13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm）：170.4（四
級炭素、スクシンイミジル基のカルボニル炭素）、162.
9（四級炭素、1位カルボニル基炭素）、153.1（四級炭
素、芳香環5’位炭素）、149.0（四級炭素、芳香環4’
位炭素）、141.3（CH、プロペン3位炭素）、139.8（四
級炭素、芳香環2’位炭素）、124.3（四級炭素、 プロ
ペン2位炭素）、123.7（四級炭素、 芳香環1’位炭
素）、113.0（CH、芳香環6’位炭素）、107.7（CH、芳
香環3’位炭素）、56.6（CH3、メトキシ基のメチル基炭
素）、56.0（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、25.5
（CH2、スクシンイミジル基3”位と4”位のメチレン基
炭素）、13.8（CH3、プロペン2位のメチル基炭素）。（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 N-スクシンイミド エステル（3-
（2-Amino-4、5-Dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-pr open
oic acid N-succinimide ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-スクシンイミジルエステル（3）8.3 g
（22.8 mmol）を酢酸 70 mlと水 5mlとの混合溶媒に溶
解し、鉄粉 5.0g（Iron powder、 89.5 mmol）を加えて
70℃に加熱した。2時間の反応後、不溶物を濾別し、濾
液を水 500 ml へ加えた。生じた結晶を濾別し、水洗、
乾燥して目的化合物を結晶で 6.2 g 得た（収率81%）。
本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.82（1
H、s、プロペン3位プロトン）、6.81 （1H、s、芳香環
6’位プロトン）、6.44（1H、s、芳香環3’位プロト
ン）、5.20 （2H、bs、アニリン性アミノ基プロト
ン）、3.73（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.67（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、2.85（4H、s、スクシンイミジル基のメチレン基
プロトン）、2.16（3H、s、プロペン2位メチル基プロト
ン）13 C-NMR（DMSO-d6、δppm）：170.4（四級炭素、 スク
シンイミジル基カルボニル炭素）、163.8（四級炭素、1
位カルボニル炭素）、152.0（四級炭素、芳香環4’位炭
素）、144.5（四級炭素、芳香環2’位炭素）、140.1（C
H、プロペン3位炭素）、140.0（四級炭素、芳香環5’位
炭素）、118.2（四級炭素、プロペン2位炭素）、113.9
（CH、芳香環6’位炭素）、109.5（四級炭素、芳香環
1’位炭素）、99.8（CH、芳香環3’位炭素）、56.3（CH
3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.1（CH3、メトキシ
基のメチル基炭素）、25.4（CH2、スクシンイミジル基
3”位と4”位メチレン基炭素）、14.3（CH3、プロペン2
位のメチル基炭素）。(E) N-L-グルタミン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフ
ェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド（(E) N-L-gluta
mic acid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-
2-propenoic amide）の合成 （E）3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.5g（1.5 m
mol）をジメチルホルムアミド40ｍｌに溶解し、これに
Ｌ-グルタミン酸2.3g（10 mmol）を0.5規定炭酸水素ナ
トリウム水溶液80ｍｌに溶解した水溶液を加え、室温に
て4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えてpH4に
調整した後、これをそのまま減圧濃縮し、これを一旦水
30 ml に溶解してから残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，これを凍結乾燥して0.35 g を得た（収率6
3％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：8.44 (1H,
d, J=7.5 Hz, アミド基プロトン), 7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロト), 7.24 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン), 6.94 (1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.36 (1H,
ddd, J=9.3Hz, 7.7Hz,5.5Hz, グルタミン酸部α位メチ
ン基プロトン), 4.10 (2H, bs アミノ基プロトン), 3.8
2 (6H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.47 (2H,
dd, J=7.5Hz,7.5Hz, グルタミン酸部ガンマ位メチレン
基プロトン), 2.07 (2H, m, グルタミン酸部β位メチレ
ン基プロトン), 1.97 (3H, s, プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン)13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：169.3, 16
9.1, 169.0 (四級炭素,グルタミン酸部カルボニル炭素
と1位カルボニル炭素), 148.6 (四級炭素,芳香環4’位
炭素), 147.8 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 135.1 (
四級炭素, 芳香環5’位炭素), 126.9 (CH, プロペン3位
炭素), 122.6 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 112.8 (C
H, 芳香環6’位炭素), 107.6 (CH, 芳香環3’位炭素),
55.8 (CH3,メトキシ基のメチル基炭素), 55.7 (CH3, メ
トキシ基のメチル基炭素), 51.7 (CH, グルタミン酸部
α位メチン基炭素), 30.3 (CH2, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基炭素), 26.0 (CH2, グルタミン酸部β位
メチレン基炭素), 14.5 (CH3,プロペン2位結合のメチル
基炭素)。(E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(2-ア
ミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamicacid 3-
(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-propenoic
amide）の合成 （E）3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.33g（1.0
mmol）と、グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩酸塩
0.89g（3.0 mmol）（シグマ社製）とをテトラヒドロフ
ラン200ｍｌに溶解し、室温にて4時間反応させた。溶媒
を減圧で除き、残渣に酢酸エチル及び水を加えた。酢酸
エチル層を洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した
後、濃縮して粗生成物を得た。これをカラムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fu
ji silysia chem. co., NH-DM1020 1000 g ，溶離液
ヘキサン/酢酸エチル 1：1）により精製して目的物0.3
2gを得た（収率65%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C
-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム、δppm)：7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン), 6.75 (1H, d, J=7.3Hz, アミド基
プロトン), 6.63 (1H, s, 芳香環6’位プロトン),6.30
(1H, s, 芳香環3’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.3H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン), 3.8
5 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.80 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.59 (2H, bs ア
ミノ基プロトン), 2.39 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基プロトン), 2.25 (2H,m, グルタミン酸部
β位メチレン基プロトン), 2.05 (3H, s,プロペン2位の
メチル基プロトン), 1.50 (9H, s, ブチル基のメチル基
プロトン), 1.45 (9H, s, ブチル基のメチル基プロト
ン)13 C-NMR(重クロロホルム、δppm)：172.6 (四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素), 171.2 (グルタミン酸部
カルボニル炭素), 168.7 (四級炭素,1位カルボニル炭
素), 150.4 (四級炭素,芳香環4’位炭素), 141.6 (四級
炭素, 芳香環2’位炭素), 139.2 (四級炭素, 芳香環5’
位炭素), 131.1 (CH, プロペン3位炭素), 131.1 (四級
炭素, プロペン2位炭素), 113.6 (CH, 芳香環6’位炭
素), 112.8 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 100.3 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
0.8 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.7 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 55.8 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.8 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.7 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 27.5 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素), 14.2 (CH3, プロペン
2位のメチル基炭素)。3-ニトロ-2-ナフトアルデヒドの合成 3-ニトロ-2-ナフトアルデヒドの合成は文献に記載の方
法に準じて行った（Kienzle、Frank、Helv.Chim.Acta、
63（8）、2364 - 2369（1980）；Wani、MansukhC、Ronm
an、Peter E、Lindley、James T. Wall、Monroe E.、J.
Med. Chem.1980、23、554 - 560）。本化合物の構造は
1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：10.52（1H、s、ホ
ルミル基プロトン）、8.68（1H、s、4位プロトン）、8.
47（1H、s、1位プロトン）、8.12-8.05（2H、m、5位と8
位プロトン ）、7.82-7.76（2H、m、6位と7位プロト
ン）13 C-NMR （重クロロホルム、δppm）：188.2（CH、ホル
ミル基炭素）、159.4（四級炭素、2位炭素）、145.9
（四級炭素、3位炭素）、134.2（四級炭素、4a位炭
素）、133.7（四級炭素、8a位炭素）、132.1（CH、1位
炭素）、130.6（CH、6位又は7位炭素）、130.5（CH、6
位又は7位炭素）、129.8（CH、5位又は8位炭素）、129.
6（CH、5位又は8位炭素）、126.0（CH、4位炭素）3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸 エチルエステル（3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-
2-methyl-2-propenoic acid ethyl ester）の合成 3-ニトロ-2-ナフトアルデヒド9.3g (46mmol)とWittig試
薬（Carbethoxy ethylidene triphenylphosphorane ）1
7.6 g (48.5mmol)（アルドリッチ社製）とをベンゼン 2
00 ml に加え、常温で一夜間撹拌した。TLCにより反応
の終了を確認し、反応液を濃縮して粗生成物を得た。こ
の粗生成物をカラムクロマトグラフィー（アミノプロピ
ル修飾シリカゲル(Fuji silysia chem.co.,NH-DM)，展
開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し、目
的化合物を結晶で13.0g 得た（収率：96%）。本化合物
の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム , δppm)：8.70 (1H, s, 芳香
環3’位プロトン), 8.03-8.00 (2H, m, 芳香環4’位と
7’位プロトン), 7.80 (1H, s, プロペン3位プロト
ン), 7.78 (1H, s, 芳香環8’位プロトン), 7.74-7.63
(2H, m, 芳香環5’位と6’位プロトン), 4.32 (2H, q,
J=7 Hz, エチル基のメチレン基プロトン),3.89 (2H, b
s, NH2), 2.00 (3H, s, プロペン2位結合メチル基のプ
ロトン), 1.37 (3H, t, J=7 Hz, エチル基のメチル基プ
ロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：167.8 (四級炭素,
1位カルボニル炭素), 145.8 (四級炭素,芳香環2’位炭
素), 135.7 (CH, プロペン3位炭素),134.6 (四級炭素,
芳香環7a’位炭素), 131.4 (四級炭素, 芳香環3a’位炭
素), 131.0 (CH,芳香環8’位炭素), 130.0 (四級炭素,
芳香環1’位炭素), 129.9 (CH, 芳香環5’位又は6’位
炭素), 129.4 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭素), 128.3
(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 127.9 (CH, 芳香環
4’位又は7’位炭素), 127.7 (四級炭素,プロペン2位炭
素 ), 125.8 (CH, 芳香環3’位炭素), 61.1 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素), 14.3 (CH3, エチル基のメチ
ル基炭素), 14.0 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素)。3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸 （3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-p
ropenoic acid ）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 エチルエステル5.48g (19 mmol)をメタノール 130 m
l に溶解させ，これに2規定 水酸化ナトリウム水溶液 2
3 ml を加え，40℃にて一夜間撹拌を行った。TLCにより
反応の終了を確認した後，反応液を減圧濃縮し，これに
1規定 塩酸を加えてpH 1 にし析出した結晶を濾別し
た。この結晶を水及び少量のメタノールにて洗浄し，乾
燥して目的化合物を結晶として4.8 g 得た（収率：98
%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認し
た。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：8.90 (1H,
s, 芳香環3’位プロトン), 8.25 -8.12 (2H, m, 芳香
環4’位と7’位プロトン), 8.08 (1H, s, プロペン3位
プロトン), 7.85 (1H, s, 芳香環8’位プロトン), 7.82
-7.71 (2H, m,芳香環5’位と6’位プロトン), 1.93 (3
H, s, プロペン2位結合メチル基のプロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：168.6
(四級炭素,1位カルボニル炭素), 145.6 (四級炭素,芳香
環2’位炭素), 134.9 (CH, プロペン3位炭素),134.2
(四級炭素,芳香環7a’位炭素), 131.0 (CH, 四級炭素,
芳香環8’位炭素), 130.9 (四級炭素, 芳香環3a’位炭
素), 130.0 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭素),129.9
(四級炭素,芳香環1’位炭素), 129.4 (CH, 芳香環5’位
又は6’位炭素),128.3 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭
素), 128.0 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 126.8
(四級炭素,プロペン2位炭素), 125.6 (CH, 芳香環3’
位炭素), 13.7 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素)。3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル （（E）
3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic
acid N-hydroxysuccinimide ester）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸7.8 g (19 mmol) とN-ヒドロキシサクシンイミド 3.2
8 g (28.5mmol)（和光純薬製）をジクロロメタン 90 ml
に溶解し，これにジメチルアミノピリジン230 mg （和
光純薬社製）を加えた。この溶液に氷冷撹拌下1-エチル
-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC-HCl） 5.46 g (28.5 mmol) （和光純薬社製）を
分割投入し、室温に戻して一夜間撹拌した。この反応液
を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶した。この溶
液を洗浄及び乾燥した後、溶媒を留去して得られた粗生
成物をカラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾
シリカゲル(Fuji silysia chem.co.,NH-DM)，展開溶
媒：ヘキサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し，目的化
合物を結晶で6.7g 得た（収率：98%）。本化合物の構造
は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重メチルスルホキシド , δppm)：9.00 (1H,
s, 芳香環3'位プロトン),8.30-8.14(2H, m, 芳香環4'と
7'位プロトン),8.24 (1H, s, プロペン3位プロトンと
芳香環8’位プロトン), 7.86-7.75 (2H, m, 芳香環５’
位と6’位プロトン), 2.89 (4H, s, スクシンイミジル
基のメチレン基プロトン), 2.10 (3H, s,プロペン2位結
合のメチル基プロトン)13 H-NMR (重メチルスルホキシド , δppm)：170.2 (四
級炭素, スクシンイミジル基のカルボニル炭素), 163.0
(四級炭素,1位カルボニル炭素), 145.0 (四級炭素, 芳
香環２’位炭素), 134.2 (CH, プロペン3位炭素), 131.
4 (CH, 芳香環8’位炭素), 130.4 (CH, 芳香環5’位又
は6’位炭素), 129.7 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭
素), 128.8 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭素)), 128.2
(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素)), 126.1 (CH, 芳香環
3’位炭素), 125.6 (四級炭素, プロペン2位炭素), 2
5.5 (CH2, スクシンイミジル基のメチレン基炭素), 13.
7 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。（E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミドエステル
（（E） 3-（2-Amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2- pr
openoic acid N-hydroxysuccinimide ester）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル6.7 g (19
mmol)を酢酸 70 mlと水 5mlとの混合溶媒に溶解し，鉄
粉 4.7g（Iron powder, 89.5 mmol）（小宗化学社製）
を加えて70℃に加熱した．1.5時間の反応後，不溶物を
濾別し，濾液を水300 ml へ加えた。これを酢酸エチル4
00mlにて2回抽出し，得られた溶液を水，重曹水，飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。これを無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、濃縮して目的化合物を4.2 g 得
た（収率66%）。本化合物の構造は，1H-NMRにより確認
した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：7.94 (1H,
s, プロペン3位プロトン）, 7.77 (1H, s, 芳香環8’
位プロトン), 7.73-7.49 (2H, m, 芳香環4’位と7’位
プロトン）, 7.36-7.12 (2H, m, 芳香環5’位と6’位プ
ロトン）, 7.04 (1H, s, 芳香環3’位プロトン), 3.30
(2H, アミノ基プロトン), 2.87 (4H, s, スクシンイミ
ジル基のメチレンプロトン), 2.18 (3H, s, プロペン2
位結合メチル基プロトン)。3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸エチルエステル（3-（2-Amino-4、5-dimetho
xyphenyl）-2-methyl-2-propenic acid ethyl ester）
の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸エチルエステル19.0 gを氷酢酸250ml に溶解
し、これに鉄粉 15.0 gとイオン交換水20mlとを加え、4
0分間加熱環流を行った。この反応液を濾過し、濾液を
減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチルに転溶した。こ
れを水、5％重曹水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で一晩放置し乾燥し
た。この溶液から酢酸エチルを減圧留去し、得られた粗
生成物をヘキサン・エタノールから再結晶して目的の化
合物12.5 gを得た（収率78 %）。本化合物の構造は1H-N
MR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.57（1H、s、プロ
ペン酸3位プロトン）、6.68（1H、s、芳香環6’位プロ
トン）、6.29（1H、s、芳香環3’位プロトン）、4.25
（2H、q、J=7 Hz、エチル基のメチレン基プロトン）、
3.84（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.79
（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.57（2
H、bs、アミノ基プロトン）、2.03（3H、s、プロペン2
位のメチル基プロトン）、1.33（3H、t、J=7 Hz、エチ
ル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.6（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、150.6（四級炭素、芳香環
4’位炭素）、141.6（四級炭素、芳香環2’位炭素）、1
39.6（四級炭素、芳香環5’位炭素）、134.6（CH、プロ
ペン3位炭素）、128.2（四級炭素、プロペン2位炭
素）、113.5（CH、芳香環6’位炭素）、112.7（四級炭
素、芳香環1’位炭素）、100.3（CH、芳香環3’位炭
素）、60.8（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.7
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.8（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、14.4（CH3、エチル基のメチ
ル基炭素）、14.3（CH3、プロペン2位のメチル基炭
素）。（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸（（E） 3-（2-amino-4、5-dimethox
yphenyl）-2-methyl-2-propenoic acid）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸エチルエステル1.0gをテトラヒドロ
フラン（THF）10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液10mlを加えて40℃にて4時間反応させた。反
応終了後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、析出した結
晶を濾別して、目的の化合物0.85gを得た（95%）。本化
合物の構造は1H-NMRと13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.51(1H、
s、プロペン酸3位プロトン）、6.70(1H、s、芳香環6'位
プロトン）、6.42(1H、s、芳香環3'位プロトン)、3.72
(3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.65(3H、
s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.36(2H、bs、ア
ミノ基プロトン）、1.98(3H、s、プロペン２位のメチル
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.7
（四級炭素、1位カルボニル炭素）、150.7（四級炭素、
芳香環4'位炭素）、142.6（四級炭素、芳香環2'位炭
素）、139.8（四級炭素、芳香環5'位炭素）、134.7（C
H、プロペン3位炭素）、125.2（四級炭素、プロペン2位
炭素）、114.3（CH、芳香環6'位炭素）、111.0（四級炭
素、芳香環1'炭素）、100.1（CH、芳香環3'炭素）、60.
8（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.5（CH3、メ
トキシ基のメチル基炭素）、55.1（CH3、メトキシ基の
メチル基炭素）、14.4（CH3、エチル基のメチル基炭
素）、14.3（CH3、プロペン2位のメチル基炭素）。（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル（（E）
3-（2-Amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-prop
enic acid p-nitrophenyl ester ）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 0.82 g （3.5 mmol）と p-ニトロフ
ェノール 0.97g（7 mmol）（和光純薬社製）とをジクロ
ロメタン20 mlに溶解し、これにジメチルアミノピリジ
ン 40 mg（和光純薬社製）を加えた。これに氷冷撹拌下
1-エチル-3-（3-ジメチルアミノプロピル）-カルボジイ
ミド塩酸塩（EDC/HCl）0.81g（4.2 mmol）（和光純薬社
製）を分割投入し、室温に戻して20時間撹拌した。反応
の終点をTLCにより確認した後、反応液を減圧で濃縮
し、酢酸エチル100ml に転溶した。この溶液を洗浄及び
乾燥した後、溶媒を留去しあめ状の粗生成物を得た。こ
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサ
ン：酢酸エチル=2：1）にて精製し、目的の化合物を0.1
5 g 黄色結晶として得た（収率12%）。本化合物の構造
は1H-NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.31（2H、d、J=9
Hz、p-ニトロフェニルオキシ基2”位と6”位プロト
ン）、7.88（1H、s、プロペン3位プロトン）、7.36（2
H、d、J=9 Hz、p-ニトロフェニルオキシ基3”位と5”位
プロトン）、6.79（1H、s、シンナミル芳香環6’位プロ
トン）、6.33（1H、s、シンナミル芳香環3’位プロト
ン）、3.88（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.84（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.68（2H、bs、アミノ基プロトン）、2.20（3H、
s、プロペン2位メチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：166.2（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、156.1（四級炭素、p-ニトロ
フェニルオキシ基1”位炭素）、151.5（四級炭素、シン
ナミル芳香環4’位炭素）、145.2（四級炭素、p-ニトロ
フェニルオキシ基4”位炭素）、141.9（四級炭素、シン
ナミル芳香環2’位炭素）、140.3（四級炭素、シンナミ
ル芳香環5’位炭素）、137.7（CH、プロペン3位炭
素）、125.6（四級炭素、プロペン2位炭素）、125.2（C
H、p-ニトロフェニルオキシ基3”位と5”位炭素）、12
2.6（CH、p-ニトロフェニルオキシ基2”位と6”位炭
素）、113.4（CH、シンナミル芳香環6’位炭素）、112.
0（quaternary、シンナミル芳香環1’位炭素）、100.4
（CH、シンナミル芳香環3’位炭素）、56.7（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメ
チル基炭素）、14.5（CH3、プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 フェニルエチルアミド （（E） 3-
（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propen
ic acid phenethyl amide の合成 上記得られた（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエス
テル0.72g（2.0 mmol）と、2-フェニルエチルアミン 0.
48g（4.0 mmol）（東京化成（株）社製）とをジメチル
ホルムアミド30ｍｌに溶解し、室温にて一夜間反応させ
た。溶媒を減圧で除き、残渣を酢酸エチルに転溶した。
この溶液を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒を減圧で除いて粗生成物を得た。これをアミノ
プロピル修飾タイプシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（n-ヘキサン：酢酸エチル=1：1）にて精製し目的化
合物を0.68g得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-
NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.35 - 7.30（2H、
m、フェネチル芳香環２”と６”位プロトン）、7.26 -
7.21（4H、m、プロペン３位プロトン位とフェネチル芳
香環３”、4”、５”位プロトン）、6.60（1H、s、シン
ナメート芳香環６’位プロトン）、6.29（1H、s、シン
ナメート芳香環３’位プロトン）、5.93（1H、bs、アミ
ド基のアミノプロトン）、3.84（3H、s、メトキシ基の
メチル基プロトン）、3.78（3H、s、メトキシ基のメチ
ル基プロトン）、3.64 ppm（2H、dt、J=7 Hz、フェネチ
ルのメチレン基プロトン）、3.54 ppm（2H、s、アミノ
基プロトン）、2.90 ppm（2H、t、J=7 Hz、フェネチル
のメチレン基プロトン）、1.96 ppm（3H、s、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム δppm）：169.1（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、150.2（四級炭素、シンナ
メート芳香環４’位炭素）、141.6（四級炭素、シンナ
メート芳香環２’位炭素）、139.2（四級炭素、 シンナ
メート芳香環５’位炭素）、139.0（四級炭素、フェネ
チル芳香環１”位炭素）、131.7（四級炭素、プロペン
２位炭素）、130.3（CH、プロペン３位炭素）、128.8
（CH、フェネチル芳香環２”と６”位炭素）、128.7（C
H、フェネチル芳香環３”と５”位炭素）、126.7（CH、
フェネチル芳香環４”位炭素）、113.7（CH、シンナメ
ート芳香環６’位炭素）、112.8（四級炭素、シンナメ
ート芳香環１’位炭素）、100.4（CH、シンナメート芳
香環３’位炭素）、56.7（CH3、メトキシ基のメチル基
炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、41.
0（CH2、フェネチルのメチレン基炭素）、35.7（CH2、
フェネチルのメチレン基炭素）、14.3（CH3、プロペン
２位結合のメチル基炭素）。（E） N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキ
シフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-
L-glutamic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxypheny
l）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.72g
（2.0 mmol）をテトラヒドロフラン80ｍｌに溶解し、こ
れにＬ-グルタミン酸2.3g（10 mmol）を0.5規定炭酸水
素ナトリウム水溶液160ｍｌに溶解したものを加え、室
温にて一夜間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えてp
H4に調整した後、そのまま減圧濃縮した。この残渣を一
旦水 30 ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、これを凍結乾燥して目的化合物0.74 g を
得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-
NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H、d、J=7.5 Hz、アミド基プロトン）、7.34（1H、s、
プロペン酸3位プロト）、7.24（1H、s、芳香環3’位プ
ロトン）、6.94（1H、s、芳香環6’位プロトン）、4.36
（1H、ddd、J=9.3Hz、7.7Hz、5.5Hz、グルタミン酸部α
位メチン基プロトン）、4.10（2H、bs アミノ基プロト
ン）、3.82（6H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、2.47（2H、 dd、J=7.5Hz、7.5Hz、グルタミン酸
部ガンマ位メチレン基プロトン）、2.07（2H、m、グル
タミン酸部β位メチレン基プロトン）、1.97（3H、s、
プロペン2位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.3、1
69.1、169.0（四級炭素、グルタミン酸部カルボニル炭
素と1位カルボニル炭素）、148.6（四級炭素、芳香環
4’位炭素）、147.8（四級炭素、芳香環2’位炭素）、1
35.1（四級炭素、芳香環5’位炭素）、126.9（CH、プロ
ペン3位炭素）、122.6（四級炭素、芳香環1’位炭
素）、112.8（CH、芳香環6’位炭素）、107.6（CH、芳
香環3’位炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメチル基炭
素）、55.7（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、51.7
（CH、グルタミン酸部α位メチン基炭素）、30.3（C
H2、グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素）、26.0
（CH2、グルタミン酸部β位メチレン基炭素）、14.5（C
H3、プロペン2位結合のメチル基炭素）。（E） N-（o-ジ-t-ブチルオキシ）-L-グルタミン酸 3-
（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド （（E） N-（o-Di-t-butyloxy）-L-gl
utamic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-m
ethyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.36g
（1.0 mmol）と、グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩
酸塩0.89g（3.0 mmol）（シグマ社製）とをテトラヒド
ロフラン200ｍｌに溶解し、室温にて4時間反応させた。
溶媒を減圧で除き、残渣を酢酸エチルに転用した。この
溶液を洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濃
縮して粗生成物 を得た。これをカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fuji s
ilysia chem. co.、NH-DM1020 1000 g 、溶離液 ヘキ
サン/酢酸エチル 1：1）により精製し、目的物0.48gを
得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-
NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.34（1H、s、プロ
ペン酸3位プロトン）、6.75（1H、d、J=7.3Hz、アミド
基プロトン）、6.63（1H、s、芳香環6’位プロトン）、
6.30（1H、s、芳香環3’位プロトン）、4.59（1H、dt、
J=7.3Hz、4.6Hz、グルタミン酸部α位メチン基プロト
ン）、3.85（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.80（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.59（2H、bs、アミノ基プロトン）、2.39 （2
H、m、グルタミン酸部ガンマ位メチレン基プロトン）、
2.25（2H、m、グルタミン酸部β位メチレン基プロト
ン）、2.05（3H、s、プロペン2位のメチル基プロト
ン）、1.50（9H、s、ブチル基のメチル基プロトン）、
1.45（9H、s、ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：172.6（四級炭
素、グルタミン酸部カルボニル炭素）、171.2（グルタ
ミン酸部カルボニル炭素）、168.7（四級炭素、1位カル
ボニル炭素）、150.4（四級炭素、芳香環4’位炭素）、
141.6（四級炭素、芳香環2’位炭素）、139.2（四級炭
素、 芳香環5’位炭素）、131.1（CH、プロペン3位炭
素）、131.1（四級炭素、プロペン2位炭素）、113.6（C
H、芳香環6’位炭素）、112.8（四級炭素、芳香環1’位
炭素）、100.3（CH、芳香環3’位炭素）、82.4（四級炭
素、ブチル基炭素）、80.8（四級炭素、ブチル基炭
素）、56.7（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.8
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、52.8（CH、グル
タミン酸部α位メチン基炭素）、31.7（CH2、グルタミ
ン酸部ガンマ位メチレン基炭素）、28.1（CH3、ブチル
基のメチル基炭素）、27.5（CH2、グルタミン酸部β位
メチレン基炭素）、14.2（CH3、プロペン2位のメチル基
炭素）。エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロペネ
ート（Ethyl 2-methyl-3-（2-nitrophenyl）-2-propena
te）の合成 2-ニトロベンズアルデヒド 21.0 （139.0 mmol）（アル
ドリッチ社製）、Wittig試薬（Carbethoxyetylidene tr
iphenylphosphorane） 50.0 g（138.0 mmol）（アルド
リッチ社製）をベンゼン500 ml に溶解し、室温にて一
夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した後、反
応液を減圧濃縮し、これにエタノールを加え、析出した
結晶を濾別した。この濾液を減圧濃縮して得られた油状
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン=1／4）で精製し
て、目的化合物を油状物質として32.1 g 得た（収率98.
2 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより決定
した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.13（d、1H、芳香
環３’位プロトン ）、7.90（s、1H、プロペン3位プロ
トン）、7.66（dd、1H、芳香環５’位プロトン）、7.51
（dd、1H、芳香環4’位プロトン）、7.37（d、1H、芳香
環６’位プロトン）、4.30（q、2H、エチル基のメチレ
ン基プロトン）、1.90（s、3H、プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン）、1.36（t、3H、エチル基のメチルプロ
トン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.6（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、147.8（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、135.3（CH、プロペン3位炭素）、133.2
（CH、芳香環５’位炭素）、132.0（四級炭素、芳香環
１’位炭素）、131.3（CH、芳香環４’位炭素）、130.6
（四級炭素、プロペン2位炭素）、128.9（CH、芳香環
６’位炭素）、124.9（CH、芳香環３’位炭素）、61.1
（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチ
ル基のメチル基炭素）、14.0（CH3、プロペン2位結合メ
チル基炭素）。2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロペン酸
（（E） 2-Methyl-3-（2-nitrophenyl）-2-propenoic a
cid）の合成 エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロペネ
ート11.8 g（50.2 mmol）をメタノール 200 ml に溶解
させ、これに2規定 水酸化ナトリウム水溶液 200ml を
加え、40℃にて一夜撹拌を行った。TLCにより反応の終
了を確認した後、反応液を減圧濃縮し、これに1規定 塩
酸を加えてpH 1 にしたものを酢酸エチルに転溶した。
この溶液を水にて3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
を加えて一夜間乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過した
後、濾液を減圧濃縮して目的化合物を結晶として10.2 g
得た（収率：98.0 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び
13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：12.69（b
s、1H、カルボキシル基プロトン）、8.15（d、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.80（dd、1H、芳香環５’位プロ
トン）、7.76（s、1H、プロペン３位プロトン）、7.64
（dd、1H、芳香環４’位プロトン）、7.53（d、1H、芳
香環６’位プロトン）、1.82（s、3H、プロペン２位結
合のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：168.5
（四級炭素、カルボキシル基炭素）、147.5（四級炭
素、芳香環２’位炭素）、134.5（CH、プロペン３位炭
素）、133.7（CH、芳香環５’位炭素）、131.3（CH、芳
香環６’位炭素）、130.9（四級炭素、芳香環１’位炭
素）、130.5（四級炭素、プロペン２位炭素）、129.4
（CH、芳香環４’位炭素）、124.5（CH、芳香環３’位
炭素）、13.7（CH3、プロペン２位結合のメチル基炭
素）。（E） エチル 3-（2-アミノフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペネート（（E） Ethyl3-（2-aminophenyl）-2-methy
l-2-propenate）の合成 （E） エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プ
ロペネート 10 g （42.5mmol）を酢酸160 ml に溶解
し、撹拌しながら鉄粉 10.9 g（195.2 mmol）（Koso ch
em. Co.）及び蒸留水 12 ml を室温にて加え、昇温し、
100℃にて1時間環流を行った。TLCにより反応の終点を
確認した後、反応液を冷却し、酢酸を減圧留去して、こ
れに酢酸エチルを加えて不溶解物を濾取した。濾液に水
を加え分液し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液の順で洗浄した後、硫酸ナトリウムを加えて一晩乾
燥させた。無水硫酸ナトリウムを濾別した後、濾液を減
圧濃縮し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン=1／3）で精製して、目的化合物を油状物として6.4
g 得た（収率：71.5 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び
13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）:7.60（s、1H、プロ
ペン３位プロトン）、7.14（dd、1H、芳香環４’位プロ
トン）、7.10（d、1H、芳香環６’位プロトン）、6.77
（dd、1H、芳香環５’位プロトン）、6.72（d、1H、芳
香環3'位プロトン）、4.27（q、2H、エチル基のメチレ
ン基プロトン）、3.74（bs、2H、アミノ基プロトン）、
2.00（s、3H、プロペン2位結合のメチル基プロトン）、
1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.4（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、144.5（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.9（CH、プロペン３位炭素）、130.2
（四級炭素、プロペン2位炭素）、129.6（CH、芳香環
４’位炭素）、129.4（CH、芳香環６’位炭素）、121.3
（四級炭素、芳香環１’位炭素）、118.1（CH、芳香環
５’位炭素）、115.5（CH、芳香環３’位炭素）、60.8
（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチ
ル基のメチル基炭素）、14.1（CH3、プロペン2位結合の
メチル基炭素 ）。エチル 3-（4-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート（Ethyl 3-（4-chloro-2-nitrophenyl）-2
-methyl-2-propenate）の合成 4-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド 10.0g （53.8mmo
l）（アルドリッチ社製）とWittig試薬（Carbethoxy et
ylidene triphenylphosphorane ）18.1 g （50.0mmol）
（アルドリッチ社製）とをベンゼン 200 ml 中、常温で
一夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した後、
反応液を濃縮して粗生成物を得た。これをカラムクロマ
トグラフィー（アミノプロピル修飾シリカゲル（Fuji s
ilysia chem.co.、NH-DM）、展開溶媒：ヘキサン／酢酸
エチル=1／1）にて精製し、目的化合物 を結晶で13.1g
得た（収率：97%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-N
MRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.14（s、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.82（s、1H、プロペン３位プロ
トン）、7.64（d、1H、芳香環５’位プロトン）、7.32
（d、1H、芳香環６’位プロトン）、4.29（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、1.90（s、3H、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）、1.36（t、3H、エチル
基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.4（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、148.0（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.8（四級炭素、 芳香環４’位炭
素）、134.1（CH、プロペン３位炭素）、133.4（CH、芳
香環５’位炭素）、132.5（CH、芳香環６’位炭素）、1
31.3（四級炭素、芳香環１’位炭素）、130.3（四級炭
素、プロペン２位炭素）、125.1（CH、芳香環３’位炭
素）、61.3（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3
（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.1（CH3、プロペ
ン２位結合のメチル基炭素 ）。（E） エチル 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メ
チル-2-プロペネート （（E） Ethyl 3-（2-amino-4-ch
lorophenyl）-2-methyl-2-propenate ）の合成 エチル 3-（4-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート11.0gを酢酸170 ml に溶解し、撹拌しなが
ら鉄粉 10.9 g （195.2 mmol）（Koso chem.Co.）及び
蒸留水 13 ml を室温にて加え、昇温し、97℃にて2時間
反応を行った。TLCにより反応の終点を確認した後、反
応液を冷却し、酢酸を減圧留去した。これに水300 ml
、酢酸エチル400 mlを加えて不溶解物を濾別し、濾液
を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム
水溶液の順で洗浄した後、硫酸ナトリウムを加えて一夜
間乾燥させた。硫酸ナトリウムを濾別した後、濾液を減
圧濃縮して9.8 gの粗結晶を得た。これをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾シリカゲ
ル（Fuji silysia chem.co.、NH-DM1020）、展開溶媒：
ヘキサン／酢酸エチル=2／1）にて精製し、目的化合物
を結晶として7.2 g得た（収率：73.3 %）。本化合物の
構造は1H-NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.50（s、1H、プロ
ペン3位プロトン）、7.01（d、1H、芳香環６’位プロト
ン）、6.73（d、1H、芳香環５’位プロトン）、6.72
（s、1H、芳香環３’位プロトン）、4.27（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、3.68（bs、2H、アミノ基
プロトン）、1.98（s、3H、プロペン２位結合のメチル
基プロトン）、1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロ
トン）13 C-NMR （重クロロホルム、δppm）：168.2（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、145.6（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.9（四級炭素、芳香環４’位炭
素）、133.8（CH、プロペン3位炭素）、130.9（四級炭
素、プロペン２位炭素））、130.7（CH、芳香環６’位
炭素）、119.6（四級炭素、芳香環１’位炭素）、118.2
（CH、芳香環５’位炭素）、115.2（CH、芳香環３’位
炭素）、61.0（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.
3（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.2（CH3、プロ
ペン２位結合のメチル基炭素）。エチル3-（5-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート（Ethyl 3-（5-chloro-2-nitrophenyl）-2
-methyl-2-propenate）の合成 5-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド10.0g （53.8mmo
l）（アルドリッチ社製）とWittig試薬（Carbethoxy et
ylidene triphenylphosphorane ）18.1 g （50.0mmol）
（アルドリッチ社製）とをベンゼン 200 mlに加え、常
温で一夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した
後、反応液を濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物を
カラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾シリカ
ゲル（Fujisilysia chem.co.、NH-DM）、展開溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し、目的化合物を
結晶で13.3g 得た（収率：98%）。本化合物の構造は1H-
NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.11（d、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.83（s、1H、プロペン3位プロト
ン）、7.47（d、1H、芳香環４’位プロトン）、7．３４
（s、1H、芳香環６’位プロトン）、4.30（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、1.91（s、3H、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）、1.35（t、3H、エチル
基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.3（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、146.1（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、139.8（四級炭素、芳香環５’位炭
素）、134.1（CH、プロペン3位炭素）、133.8（四級炭
素、芳香環１’位炭素）、131.4（四級炭素、プロペン
２位炭素）、131.1（CH、芳香環６’位炭素）、129.0
（CH、芳香環４’位炭素）、126.4（CH、芳香環３’位
炭素）、61.3（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.
2（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.0（CH3、プロ
ペン２位結合のメチル基炭素）。（E） エチル 3-（2-アミノ-5-クロロフェニル）-2-メ
チル-2-プロペネート （（E） Ethyl 3-（2-amino-5-ch
lorophenyl）-2-methyl-2-propenate ）の合成 エチル3-（5-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート11.0 （41.0 mmol）を酢酸170 ml に溶解
し、これに鉄粉 10.9 g （195.2 mmol）（Koso chem. C
o.）及び蒸留水 13 ml を室温にて撹拌しながら加えた
後、昇温し、97℃にて2時間反応を行った。TLCにより反
応の終点を確認した後、反応液を冷却し、酢酸を減圧留
去し、これに水300 ml 、酢酸エチル400 mlを加えて不
溶解物を濾別した。この濾液を水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄した後、
硫酸ナトリウムを加えて一晩乾燥させた。硫酸ナトリウ
ムを濾過した後、濾液を減圧濃縮し、9.8gの油状の粗生
成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（アミノプロピル修飾シリカゲル（Fuji silysia che
m.co.、NH-DM1020）、展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル
=2／1）にて精製し、目的化合物を油状物として7.2 g
得た（収率：73.3 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.49（s、1H、プロ
ペン3位プロトン）、 7.07（d、1H、芳香環４’位プロ
トン）、7.05（s、1H、芳香環６’位プロトン）、6.64
（d、1H、芳香環３’位プロトン）、4.27（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、3.74（bs、2H、アミノ基
プロトン）、1.99（s、3H、プロペン２位結合のメチル
基プロトン）、1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロ
トン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.0（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、143.2（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、133.6（CH、プロペン3位炭素）、131.4
（四級炭素、プロペン２位炭素）、129.1（CH、芳香環
４’又は６’位炭素）、128.9（CH、芳香環４’又は
６’位炭素）、122.6（四級炭素、芳香環１’又は５’
位炭素）、122.5（四級炭素、芳香環１’又は５’位炭
素）、116.7（CH、芳香環３’位炭素）、61.0（CH2、エ
チル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチル基のメ
チル基炭素）、14.2（CH3、プロペン２位結合のメチル
基炭素）。（E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸エチルエステル （（E） 3-（2-Amino-ben
zo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic acid ethyl este
r）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 エチルエステル 2.0 g (7 mmol)を酢酸30 ml に溶解
し，これに鉄粉 1.73 g [Koso chem. Co.]及び蒸留水
2.5 ml を室温にて撹拌しながら加え，昇温し，70℃に
加熱した。1.5時間の反応後，不溶物を濾別し，濾液を
水100 ml へ投入して、酢酸エチル100mlによる抽出を２
回行った。得られた酢酸エチル溶液を水，重曹水，飽和
塩化ナトリウム水で順次洗浄し，無水硫酸ナトリウム上
で乾燥した後、濃縮して油状物を得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル，展開溶媒：
酢酸エチル／ヘキサン=1／5）で精製して，目的化合物
を油状物として1.4 g 得た（収率：77 %)。本化合物の
構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム , δppm)：7.73 (1H, s, プ
ロペン3位プロトン), 7.70-7.58 (2H, m, 芳香環4’位
と7’位プロトン）, 7.58 (1H, s, 芳香環8’位プロト
ン), 7.40-7.20 (2H, m, 芳香環5’位と6’位プロト
ン), 7.04 (1H, s, 芳香環位プロトン), 4.31 (2H, q,
J=7 Hz, エチル基のメチレン基プロトン), 3.89 (2H, b
s, アミノ基プロトン), 2.06 (3H, s, プロペン2位結合
メチル基のプロトン), 1.37 (3H, t, J=7 Hz, エチル基
のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：168.2 (四級炭素,
1位カルボニル炭素), 142.6 (四級炭素,芳香環2’位炭
素), 134.8 (CH, プロペン3位炭素),134.7 (四級炭素,,
芳香環3a’位炭素), 131.6 (四級炭素,プロペン2位炭
素 ), 129.2 (CH,芳香環5’位又は6’位炭素), 127.9
(CH, 芳香環5’位又は6’位炭素), 127.5 (四級炭素,芳
香環7a’位炭素), 126.8 (CH, 芳香環4’位又は7’位
炭素), 125.5(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 124.8
(四級炭素,芳香環1’位炭素), 122.9(CH, 芳香環8’位
炭素), 109.2 (CH, 芳香環3’位炭素), 61.0 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素), 14.4 (CH3, エチル基のメチ
ル基炭素), 14.3 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素）。4-ジメチルアミノ-2-ニトロベンジルアルデヒド(4-Dime
thylamino-2-nitrobenzaldehyde)の合成 窒素雰囲気下，冷却したジメチルホルムアミド(DMF)88
ml にオキシ塩化リン（Phosphorous oxychloride）51 g
（0.33 mol）（和光純薬社製）を滴下した。滴下時の温
度が2〜4℃を保つように滴下速度を調節し、滴下終了後
更に2℃で30分間撹拌を続けた。これにニトロジメチル
アニリン(N,N-Dimethyl-3-nitroaniline) 54.8 g（0.33
mol）（東京化成工業社製）のジメチルホルムアミド70
ml溶液を、反応温度が5℃を超えないように滴下し、そ
のまま2時間撹拌した。その後、徐々に温度を上げ60℃
で一夜間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、激し
く撹拌した氷水500 ml中に注加した。これに酢酸ナトリ
ウムを加えて約pH8に調製し、析出した結晶を濾別、乾
燥し、粗生成物50.2 gを得た。これをアセトン-ノルマ
ルヘキサンから再結晶して、目的物21 gを得た（収率33
％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；10.12 (1H, s, ホル
ミル基プロトン)，7.91(1H, d, J=9 Hz, 6位プロト
ン)，7.10 (1H, s, 3位プロトン)，6.85 (1H, d, J=9 H
z, 5位プロトン)，3.15 (6H, s, ジメチルアミノ基プロ
トン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；186.7 (CH, ホルミ
ル基)，153.6 (四級炭素, 4位炭素)，152.7 (四級炭素,
2位炭素)，131.4 (CH, 6位炭素)，117.5 (四級炭素, 1
位炭素)，114.3 (CH, 5位炭素），105.8 (CH, 3位炭
素)，40.4 (CH3,ジメチルアミノ基メチル基炭素)。(E) エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2
-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dimethylami
no-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）の合成 4-ジメチルアミノ-2-ニトロベンジルアルデヒド(4-Dime
thylamino-2-nitrobenzaldehyde) 20.0 g (0.10 mol)
とカルベエトキシ-エチリデン トリフェニルホスホラ
ン（Carbethoxy ethylidene triphneylphosphorane）
（Aldrich社製）36.2 g (0.10 mol)とをベンゼン(benze
ne) 250 mlに溶解し、室温にて一夜間撹拌した。溶媒を
減圧留去して58 g の粗生成物を得、これをカラムクロ
マトグラフィー（アミノプロピル化シリカゲルFuji sil
ysia chem. Co., NH-DM1020 ）で精製して目的化合物を
結晶として20.8 g得た（収率；74.7%）。本化合物の構
造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.81 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.33 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン)，7.23 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環６’位プロトン)，
6.86 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環５’位プロトン)，4.27
(2H, q, J = 7Hz,エチル基のメチレン基プロトン)，3.0
6 (6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，1.9
6 (3H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)，1.34
(3H, t,J=7Hz, エチル基のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；168.2 (四級炭素,
１位カルボニル炭素)，150.2 (四級炭素, 芳香環2’位
炭素)，149.1 (四級炭素, 芳香環４’位炭素)，135.7
(CH, プロペン酸3位炭素)，132.0 (CH, 芳香環６’位炭
素)，128.2 (四級炭素, プロペン２位炭素)，118.0 (四
級炭素, 芳香環１’位炭素)，115.7 (CH, 芳香環５’位
炭素)，107.0 (CH, 芳香環３’位炭素)，60.8 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素)，40.2 (CH3, ジメチルアミノ
基のメチル基炭素)，14.3 (CH3, エチル基のメチル基炭
素)，14.1 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。(E) エチル 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-2
-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(2-amino-4-dim
ethylaminophenyl)-2-methyl-2-propenate）の合成 暗室にて、エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェ
ニル)-2-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dime
thylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）20.
5 g (0.07 mol)、トリエチルアミン（Triethylamine）
（和光純薬社製）33.4 g (0.33 mol) 及び10 % Pd/C 2.
1 g をアセトニトリル(acetonitrile) 200ml に溶解
し、これに蟻酸 (formic acid)（和光純薬社製）13.8 g
(0.30 mol)を室温にて滴下した。滴下と共に反応温度
は上昇し、45℃となった。滴下終了後、反応液を60℃に
加熱して1 時間撹拌した。反応の終了をTLCで確認した
後、反応液を室温まで冷却し、不溶物を濾別し、濾液を
減圧濃縮した後、これを酢酸エチル400 ml に転溶し
た。この溶液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄し、更に無水硫酸ナ
トリウムにより乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物17.4
g を得た。これをノルマルヘキサン-酢酸エチルから再
結晶させ、目的化合物4.67 g を得た（収率；27 %）。
本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.60 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.08 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，6.19 (1H, d, J=8 Hz, 芳香環5’位プ
ロトン)，6.01 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，4.23
(2H, q, J = 7Hz, エチル基のメチレン基プロトン)，3.
74 (2H, bs, アニリン性アミノ基プロトン），2.94 (6
H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，2.04 (3
H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)，1.31 (3
H, t, J=7Hz, エチル基のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；169.1 (四級炭素,
１位カルボニル炭素)，151.7 (四級炭素, 芳香環2’位
炭素)，146.2 (四級炭素, 芳香環４’位炭素)，134.7
(CH, プロペン酸3位炭素)，130.9 (CH, 芳香環６’位炭
素)，125.7 (四級炭素, プロペン２位炭素)，110.4 (四
級炭素, 芳香環１’位炭素)，103.3 (CH, 芳香環５’位
炭素)，98.5 (CH, 芳香環３’位炭素)，60.5 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素)，40.2 (CH3, ジメチルアミノ
基のメチル基炭素)，14.4 (CH3, エチル基のメチル基炭
素)，14.4 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。(E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸（(E) 3-(4-dimethylamino-2-nitrophen
yl)-2-methyl-2-propenoic acid）の合成 (E) エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2
-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dimethylami
no-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）15.0 g (5
3.9 mmol)をメタノール 150 mlに溶解し，これに水酸化
ナトリウム 3.2g (80 mmol)を加えて45℃にて5.5時間撹
拌した。反応液から溶媒を減圧留去した後，残渣を水10
0 mlに溶解し、これに２規定塩酸を加えて中性に調整し
た．析出した結晶を濾別し、水で十分に洗浄した後乾燥
させ、目的化合物を12.1 g 結晶として得た（収率；89.
7 ％）。本化合物の構造は1H-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.93 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.33 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，7.24 (1H, d, J=8 Hz, 芳香環5’位プ
ロトン)，6.87 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，3.05
(6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，1.97
(3H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)(E) 3-(4,5-ジメトキシ-2-メチルアミノフェニル)-2-メ
チル-2-プロペン酸((E)3-(4,5-dimethoxy-2-methylamin
ophenyl)-2-methyl-2-propenic acid)の合成 暗室内にて(E) 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-
2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル3.0ｇ（11.3 mmo
l）とトリフルオロ酢酸無水物（和光純薬社製）18 mlと
を混合し、室温にて一夜間攪拌した。未反応のトリフル
オロ酢酸無水物及びトリフルオロ酢酸を減圧下留去し、
(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(N-トリフルオロアセチル)ア
ミノフェニル]-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル
を3.8g得た。これをテトラヒドロフランに溶解し、この
溶液にヨウ化メチル（和光純薬社製）8 mlと炭酸カリウ
ム（和光純薬社製）1.1 g とを加えて一夜間還流した。
反応終了をTLCにて確認後反応液を減圧下濃縮して粗生
成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（シリカゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia che
m. Co., NH-DM1020，溶媒：ノルマルヘキサン／酢酸エ
チル＝４／１）にて精製し、(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-
（N-メチル-N-トリフルオロアセチル）アミノフェニル]
-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステルを3.7ｇ得た。
更にこれをジオキサンに溶解し、２規定水酸化ナトリウ
ム水溶液50mlを加えて40℃にて一夜間反応させた。この
反応液を減圧下濃縮した後、過剰のアルカリおよび不純
物塩を除去する目的で固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-
20（三菱化学社製）を用いたカラムにアプライし、水で
溶出することで脱塩を行い、引き続きメタノールにて溶
出し、これを凍結乾燥して目的物を2.3 g得た（収率：7
5 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR (重メタノール δppm)；7.13 (1H, s, プロペ
ン酸部3位プロトン), 6.73 (1H, s, 芳香環6’位プロト
ン), 6.30 (1H, s, 芳香環3’位プロトン), 3.85(3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.73 (3H, s, メ
トキシ基のメチル基プロトン)，2.81（3H, s, アニリン
性アミノ基結合メチル基プロトン），1.94(3H, s, プロ
ペン酸部2位結合のメチル基プロトン)13 C-NMR (重メタノール，δppm)，178.4（四級炭素，
プロペン酸1位カルボニル炭素)，151.6（四級炭素,芳香
環4’位炭素)，144.8（四級炭素, 芳香環5’位炭素)，
141.1（四級炭素，芳香環2’位炭素)，136.6 (四級炭
素,プロペン酸部2位炭素)，130.3(CH, プロペン酸部3位
炭素)， 117.1 (CH, 芳香環6’位炭素)，115.7 (四級炭
素, 芳香環1’位炭素)， 97.2（CH, 芳香環3’位炭
素)， 58.1（CH3,メトキシ基のメチル基炭素)，56.4 (C
H3, メトキシ基のメチル基炭素)，31.3（CH3, アニリン
性アミノ基結合メチル基炭素），15.6 (CH3, プロペン
酸部2位結合のメチル基炭素)。(E) N-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメトシキ-2-メチルア
ミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミドの合成 暗室内にて(E) 3-（4,5-ジメトキシ-2-メチルアミノフ
ェニル)-2-メチル-2-プロペン酸500mg（ 1.83 mmol）を
ジメチルホルムアミドに溶解し、これに窒素雰囲気下1-
ヒドロキシベンゾトリアゾール ハイドレート-１水和
物（HOBt・H2O）（国産化学株式会社製；Kokusan chemi
cal works）247mg (1.83 mmol)、L-グルタミン酸ジエチ
ルエステル塩酸塩（国産化学株式会社製；Kokusan chem
ical works）438ｍ g（1.83 mmol）及びN,N’-ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（DCC）（和光純薬社製）377 g
（1.83 mmol）を加えて室温にて一夜間撹拌した。反応
終了後沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮してその残渣
を酢酸エチルに転溶した。この有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、20%クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムによる乾燥の後、濃縮して
粗生成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia chem. C
o., NH-DM1020，溶出液：ノルマルヘキサン／酢酸エチ
ル＝9／1）により精製し、(E) N-L-グルタミン酸ジエチ
ルエステル 3-(4,5-ジメトシキ-2-メチルアミノフェニ
ル)-2-メチル-2-プロペン酸アミドを700 mg得た。更に
これをジオキサンに溶解し、2規定水酸化ナトリウム水
溶液3 ml を加えて一夜間攪拌した。反応終了を確認後
反応液を減圧下濃縮し、過剰のアルカリおよび不純物塩
を除去する目的で、固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-20
（三菱化学社製）を用いたカラムにアプライし、水で溶
出することで脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶
液にて溶出し、これを凍結乾燥して目的物を350ｍ g得
た（収率：41 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NM
Rにより確認した。1 H-NMR (重メタノール δppm)；7.19 (1H, s, プロペ
ン酸3位プロトン)，6.75(1H, s, 芳香環6’位プロト
ン)，6.31 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，4.33 (1H,
dd, J=8.0 Hz, J=4.0Hz, グルタミン酸部α位メチン基
プロトン)，3.87 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロト
ン)，3.75 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン)，
2.83（3H, s, アニリン性アミノ基結合メチル基プロト
ン），2.40-2.22 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ位メチ
レン基プロトン)，2.20-2.06 (2H, m,グルタミン酸部ベ
ータ位メチレン基プロトン)，2.03 (3H, s, プロペン2
位結合のメチル基プロトン)13 C-NMR (重メタノール，δppm)；182.3（四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素），179.3（四級炭素,グル
タミン酸部カルボニル炭素），171.8（四級炭素，プロ
ペン酸1位カルボニル炭素)，152.1（四級炭素,芳香環
4’位炭素)，145.1（四級炭素, 芳香環5’位炭素)，14
0.8（四級炭素，芳香環2’位炭素)，132.8 (四級炭素,
プロペン2位炭素)，131.0 (CH, プロペン3位炭素)，11
7.0 (CH, 芳香環6’位炭素)，114.1 (四級炭素, 芳香環
1’位炭素)，96.9（CH, 芳香環3’位炭素)，58.1（CH3,
メトキシ基のメチル基炭素），57.2（CH, グルタミン
酸部α位メチン基炭素)，56.3 (CH3, メトキシ基のメチ
ル基炭素)，35.8 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレ
ン基炭素)，31.2（CH3, アニリン性アミノ基結合メチル
基），30.5 (CH2, グルタミン酸部β位メチレン基炭
素)，14.6 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素）。６,７−ジメトキシ−３−メチルカルボスチリル（6,7-D
imethoxy-3-methyl-carbostyril）の合成 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸エチルエステル0.5gをエチルアルコール30mlに
溶解し、これに365nmの紫外線を約20時間照射し、析出
した結晶を濾別し、この結晶をエタノールから再結晶し
て目的化合物0.38gを得た（収率92％）。本化合物の構
造は赤外線吸収スペクトル(IR)、1H-NMR、13C-NMR、TOF
-MS等により決定した。 IR：1654ｃｍ-1（ラクタム） TOF-MS：219(M/C)1 H-NMR (重クロロホルム,δppm)：12.3 (1H, bs, アミ
ド基のプロトン), 7.56 (1H, s, 4位プロトン), 6.90
(1H, s, 8位プロトン), 6.88 (1H, s, 5位プロトン),
3.99 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.92
(3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.28 ppm (3
H, s, 3位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：164.5 (四級炭
素、2位カルボニル基炭素),151.5 (四級炭素,3位炭素),
145.7 (四級炭素,7位炭素), 137.1 (CH, 4位炭素), 1
33.2 (四級炭素,8a位炭素), 126.9 (四級炭素,6位炭
素), 133.7 (四級炭素,4a位炭素), 107.4 (CH, 5位炭
素) 98.0 (CH, 8位炭素), 56.2 (CH3, メトキシ基のメ
チル基), 16.6 (CH3,3位に結合するメチル基炭素)。3-メチルベンゾ[g]カルボスチリル（3-Methyl-benzo[g]
carbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) 3-(2-アミノ-
ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸エチルエス
テル 0.5 g をエタノール20ml に溶解し、撹拌しながら
365 nm の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧濃縮
し、粗結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を得
た。本化合物の構造は1H-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.08 (1H, s, 4位
プロトン）、7.90 (1H, d, J=8 Hz, 6位又は9位）、7.8
2 (1H, d, J=8 Hz, 6位又は9位）、7.80 (1H, s,5位プ
ロトン）、7.66 (1H, s, 10位プロトン）、7.46 (1H, d
d, J=8 Hz, 7位プロトン又は8位プロトン）、7.36 (1H,
dd, J=8 Hz, 7位プロトン又は8位プロトン）、2.19 (3
H, s, 4位結合メチル基）。3-メチルカルボスチリル（3-Methylcarbostyril）の合
成 (E) エチル 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペ
ネート0.5 g をエタノール10 ml に溶解し、撹拌しなが
ら256 nm の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧濃
縮し、粗結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を
得た。本化合物の構造は1H-NMR、13C-NMRにより決定し
た。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド, δppm)：11.72 (bs,
1H, 1位アミド基プロトン), 7.72 (s,1H, 4位プロト
ン), 7.54 (d, 1H, 5位プロトン), 7.39 (dd, 1H,7位プ
ロトン), 7.28 (d, 1H, 8位プロトン), 7.12 (dd, 6位
プロトン), 2.10 (s, 3H, 3位に結合するメチル基プロ
トン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：162.3 (四
級炭素, 2位カルボニル炭素), 137.8 (四級炭素, 9位炭
素), 136.1 (CH, 4位炭素), 129.7 (四級炭素,3位炭
素), 128.8 (CH, 7位炭素), 126.7 (CH,5位炭素), 121.
4 (CH, 6位炭素), 119.3 (四級炭素, 10位炭素), 114.6
(CH, 8位炭素), 16.4 (CH3, 3位に結合するメチル基プ
ロトン)。7-クロロ-3-メチルカルボスチリル（7-Chloro-3-Methyl
carbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) エチル3-(2-
アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート10
ml をエタノールに溶解し、撹拌しながら256 nm の紫
外線を72時間照射した。反応液を減圧濃縮し、粗結晶を
エタノールから再結晶して目的化合物を得た。本化合物
の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：11.80 (bs,
1H,1位アミド基のプロトン), 7.71 (s, 1H, 4位プロト
ン), 7.55 (d, 1H, 5位プロトン ), 7.30 (s, 1H,8位プ
ロトン), 7.13 (d, 1H, 6位プロトン), 2.10 (s, 3H, 3
位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：162.3 (四
級炭素、2位カルボニル基炭素), 138.8 (四級炭素, 8a
位炭素), 135.6 (CH, 4位炭素), 133.5 (四級炭素,7位
炭素), 130.2 (四級炭素, 4a位炭素), 128.4 (CH, 5位
炭素), 121.6 (CH,6位炭素), 118.2 (四級炭素, 3位炭
素), 114.1 (CH, 8位炭素), 16.5 (CH3, 位に結合する
メチル基炭素) 。6-クロロ-3-メチルカルボスチリル（6-Chloro-3-Methyl
carbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) エチル3-(2-
アミノ-5-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート0.
5 g をエタノール10 ml に溶解し、撹拌しながら256 nm
の紫外線を72時間照射した。反応液を減圧濃縮し，粗
結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を得た。本
化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm)：11.86 (bs,
1H, 1位アミド基のプロトン), 7.72 (s, 1H, 4位プロ
トン), 7.65 (s, 1H, 5位プロトン), 7.43 (d, 1H, 7位
プロトン), 7.28 (d, 1H, 8位プロトン), 2.10 (s, 3
H, 3位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm)：162.2 (四
級炭素、2位カルボニル基炭素), 136.4 (四級炭素,8a位
炭素), 135.1 (CH, 4位炭素), 131.4 (四級炭素, 6位炭
素), 128.7 (CH, 7位炭素), 125.8 (CH, 5位炭素), 12
5.3 (四級炭素, 4a位炭素),120.5 (四級炭素, 4 位炭
素), 116.5 (CH, 8位炭素), 16.5 (CH3, 3位に結合する
メチル基炭素) 。７−ジメチルアミノ−３−メチルカルボスチリル（7-di
methylamino-3-methyl-carbostyril)の合成 石英製30ml三角フラスコ内で(E) エチル 3-(2-アミノ-4
-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネート20
0 mgをエタノールに溶解し、これを攪拌しながら365nm
の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧下濃縮した後
エタノールから再結晶して目的化合物を得た（収率98
%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認し
た。1 H-NMR (DMSO-d6, δppm)；11.29（1H, s, アミド基プ
ロトン），7.52（1H, s,4位プロトン），7.32（1H, d,
J=8.8 Hz, 5位プロトン），6.62（1H, d, J=8.8Hz, 6位
プロトン），6.46（1H, s, 8位プロトン），2.96（6H,
s, ジメチルアミノ基のメチル基プロトン）, 2.01（3H,
s, 3位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR (DMSO-d6, δppm)；163.0（四級炭素，2位カル
ボニル基炭素)，150.8（四級炭素，7位炭素），139.7
（四級炭素，8位炭素），136.4（CH，4位炭素），127.6
（CH，5位炭素），123.4（四級炭素，3位炭素），110.4
（四級炭素，4a位炭素），108.3（CH，6位炭素），95.4
（CH，8位炭素），39.9 （CH3，アミノメチル基炭
素），16.3 （CH3，3位結合のメチル基炭素）。(E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸（(E) 3-(2-Amino -benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-
propenoic acid ）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸エチルエステル0.65 g をテトラヒドロフラン(TH
F) 10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液
10mlを加えて40℃にて4時間反応させた。反応終了後、1
規定塩酸10mlを加えて冷却し、析出した結晶を濾別して
目的の化合物0.57gを得た（収率：98%）。本化合物の構
造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）： 7.85-7.7
5 (3H， m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位と8
‘位プロトン），7.73 （1Ｈ，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.52-7.33 (3H， m， ベンゾシンナミル芳香環
4’位と7’位と3‘位プロトン），2.02 （3H，s， プロ
ペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：168.9
（四級炭素，1位カルボニル炭素），133.3 （CH， プロ
ペン3位炭素），131.5 （四級炭素，プロペン2位炭
素），131.4 （四級炭素， ベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素）， 129.3 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
5’位と6’位炭素），128.7 （四級炭素，ベンゾシンナ
ミル芳香環7a’位炭素）， 127.8 （CH，ベンゾシンナ
ミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 126.8 （CH，ベン
ゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），126.2 （四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），126.0
（CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），124.2
（CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），14.1 （C
H3，プロペン2位結合メチル基の炭素）。(E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 p-ニトロフェニルエステル （(E) 3-(2-Amino
-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-propenoic acidp-nitrop
henyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 0.57 g (2.5 mmol)と p-ニトロフェノール 0.52
g (3.8 mmol)（和光純薬社製）をジクロロメタン 20 m
l に溶解し、これにジメチルアミノピリジン 20 mg
（和光純薬社製）を加えた。更に、氷冷撹拌下1-エチル
-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC/HCl) 0.71 g (3.8 mmol) （和光純薬社製）を分
割投入し、室温に戻して20時間撹拌した。反応の終点を
TLCによって確認した後、反応液を減圧で濃縮し、酢酸
エチル100ml に転溶した。この溶液を5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、溶
媒を留去し粗生成物を得た。これをエタノールから再結
晶して目的の化合物を0.69 g 結晶として得た（収率：8
0%)。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認
した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.32 （2Ｈ，ｄ，
Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“と5”位プロト
ン），8.01 （1H， s， プロペン3位プロトン），7.73-
7.67 (2H， m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位
プロトン）， 7.61（1H， ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシン
ナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），7.43-7.38
（1H， m, ベンゾシンナミル芳香環4’位或いは6’位プ
ロトン），7.39 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニル
オキシ基2“と6”プロトン），7.29- 7.24（1Ｈ，ｍ，
ベンゾシンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.09 （1
H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），3.9
1 （2H， bs， アミノ基プロトン），2.23 （3H，s，
プロペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：165.7 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），155.8（四級炭素，ニトロフ
ェニルオキシ基1“位炭素），145.3 （四級炭素，ニト
ロフェニルオキシ基4“位炭素），142.4（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環2’位炭素），138.0 （CH， プロ
ペン3位炭素），135.0 （四級炭素，プロペン2位炭
素），129.6 （四級炭素， ベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素）， 129.4 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素）128.0 （CH， ベンゾシンナミル
芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環7a’位炭素）， 127.1 （CH，ベ
ンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.5
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），
125.2（ＣＨ，ニトロフェニルオキシ基3”と5“位炭
素），123.8 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），123.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素）， 122.5 （ＣＨ，ニトロフェニルオキシ基2”と
6“位炭素），109.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。(E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
（(E) 3-(2-Aminophenyl)-2 -methyl-2-propenoic acid
）の合成 (E) エチル3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネ
ート1.50 g （7.31 mmol）をテトラヒドロフラン(THF)
10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液10m
lを加えて、40℃にて4時間反応させた。TLCにて反応の
終了を確認した後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、析
出した結晶を濾別して、目的の化合物1.30gを得た（定
量的)。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確
認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.70 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），7.49 （1H，ｄ，Ｊ=7
Hz，芳香環3’位プロトン），7.42 - 7.29 （3H，m，芳
香環４’位と5‘位と6’位プロトン），1.91 （3H，
ｓ，プロペン２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド、δppm）：168.7
（四級炭素，１位カルボニル炭素）， 132.6 （CH，プ
ロペン3位炭素），132.1（四級炭素，プロペン２位炭
素），130.2 （ＣＨ，芳香環4’位炭素），129.3 （C
H，芳香環６’位炭素），128.8 （四級炭素，芳香環
１’位炭素），126.0 （CH，芳香環５’位炭素）， 12
2.4（CH，芳香環３’位炭素），14.1 （CH3，プロペン
２位結合のメチル基炭素）。(E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 p-
ニトロフェニルエステル（(E) 3-(2-Aminophenyl)-2-me
thyl-2-propenoic acid p-nitrophenyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 0.1
9 g (1.1 mmol)と p-ニトロフェノール 0.18 g （和光
純薬社製）とをジクロロメタン 20 ml に溶解し、これ
にジメチルアミノピリジン 10 mg （和光純薬社製）を
加えた。更に、氷冷撹拌下、1-エチル-3-(3-ジメチルア
ミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC/HCl） 0.41
g （和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻して20時
間攪拌した。反応の終点をTLCによって確認した後、反
応液を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶した。こ
の溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩
化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにより乾燥した後、溶媒を留去し粗生成物を得た。
これを、エタノールから再結晶して目的の化合物を0.29
g 結晶として得た（収率：91%）。本化合物の構造は1H
-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.35 （2
Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“位と5”
位プロトン），7.86 （1H，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.54 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキ
シ基2“位と6”位プロトン），7.17 （1H，ｄ，Ｊ=8 H
z，シンナミル芳香環６’位プロトン），7.09（1H，ｄ
ｄ，Ｊ=8 Hz，Ｊ=8 Hz，シンナミル芳香環4’位プロト
ン），6.75 （1H， ｄ，Ｊ=8Ｈｚ，芳香環３’位プロト
ン），6.63（1H，ｄｄ，Ｊ=8 Hz， Ｊ=8Hz，芳香環５’
位プロトン），5.35（2H，bs，アミノ基プロトン），2.
10 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：165.8
（四級炭素，１位カルボニル炭素），156.0（四級炭
素，ニトロフェニルオキシ基1”位炭素），147.4（四級
炭素，ニトロフェニルオキシ基4”位炭素），144.8
（四級炭素，シンナミル芳香環２’位炭素），138.6
（CH，プロペン3位炭素）， 130.0 （ＣＨ，シンナミル
芳香環４’位炭素），129.4 （CH，シンナミル芳香環
６’位炭素），125.2（四級炭素，シンナミル芳香環
１’位炭素），125.1 （CH，ニトロフェニルオキシ基3
“と5”位炭素），123.1 （CH，ニトロフェニルオキシ
基2“と6”位炭素），118.6 （四級炭素，プロペン２位
炭素），115.5 （CH，シンナミル芳香環５’位炭素），
115.3（CH，シンナミル芳香環３’位炭素），14.2 （C
H3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。(E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 （(E) 3-(2-Amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2
-propenoic acid ）の合成 (E) エチル3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2
-プロペネート1.24 g（5.18 mmol）をテトラヒドロフラ
ン(THF) 10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム
水溶液10mlを加えて、40℃にて4時間反応させた。TLCに
て反応終了を確認後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、
析出した結晶を濾別して目的の化合物1.03gを得た（収
率：94%)。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより
確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.42 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），7.02 （1H，ｄ，Ｊ=8
Hz，芳香環６’位プロトン），6.74 （1H，ｓ，芳香環
３’位プロトン），6.55（1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，芳香環
５’位プロトン），5.37（2H，bs，アミノ基プロト
ン），1.90 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プ
ロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.2
（四級炭素，１位カルボニル炭素）， 148.2 （四級炭
素，芳香環２’位炭素），133.7 （CH，プロペン3位炭
素）， 133.4 （四級炭素，芳香環４’位炭素），130.7
（CH，芳香環６’位炭素），128.7（四級炭素，プロペ
ン２位炭素），118.3 （四級炭素，芳香環１’位炭
素），115.0 （CH，芳香環５’位炭素）， 114.0（CH，
芳香環３’位炭素），14.1 （CH3，プロペン２位結合の
メチル基炭素）。(E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 p-ニトロフェニルエステル（(E) 3-(2-Amino-4-
chlorophenyl)-2-methyl-2-propenoic acid p-nitrophe
nyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 0.81 g (3.8 mmol)と p-ニトロフェノール 1.0
g （和光純薬社製）をジクロロメタン 20 ml に溶解
し、これにジメチルアミノピリジン 40 mg （和光純薬
社製）を加えた。更に、氷冷撹拌下1-エチル-3-(3-ジメ
チルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC/HC
l） 1.0 g （和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻し
て20時間撹拌した。反応の終点をTLCによって確認した
後、反応液を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶し
た。この溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、
飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥後、溶媒を留去し粗生成物を得
た。これをエタノールから再結晶して目的の化合物を1.
2 g結晶として得た（収率：91%）。本化合物の構造は1H
-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.30 （2
Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“位と5”
位プロトン），7.80 （1H，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.45 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキ
シ基2“位と6”位プロトン），7.09 （1H，ｄ，Ｊ=8 H
z，芳香環６’位プロトン），6.81 （1H，ｓ，芳香環
３’位プロトン），6.63（1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，芳香環
５’位プロトン），5.08（2H，bs，アミノ基プロト
ン），2.11 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プ
ロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：170.5
（四級炭素，１位カルボニル炭素），160.9（四級炭
素，ニトロフェニルオキシ基1”位炭素），152.9（四級
炭素，ニトロフェニルオキシ基4”位炭素），149.8
（四級炭素，シンナミル芳香環２’位炭素），142.4
（CH，プロペン3位炭素）， 139.9 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環４’位炭素），135.6 （CH，シンナミル芳香
環６’位炭素），131.8（四級炭素，プロペン２位炭
素），129.9 （CH，ニトロフェニルオキシ基3“と5”位
炭素），127.9 （CH，ニトロフェニルオキシ基2“と6”
位炭素），122.7 （四級炭素，シンナミル芳香環１’位
炭素），121.1 （CH，シンナミル芳香環５’位炭素），
119.7（CH，シンナミル芳香環３’位炭素），19.2 （C
H3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。（E） N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメト
キシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E）
N-L-Asparatic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxypheny
l）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにＬ-アスパラギン酸2.3g（5.0 mmol）の0.5規
定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解した溶液を加
え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加
えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し、これを一旦水20 ml に溶解して、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
を0.19 g 得た（収率；72％）。本化合物の構造は1H-NM
R及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 Ｈ-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.22
（1Ｈ，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.24 （1
Ｈ，ｓ，プロペン3位プロトン），6.98 （1Ｈ，ｓ，シ
ンナミル芳香環3‘位プロトン），6.89 （1Ｈ，ｓ，シ
ンナミル芳香環６‘位プロトン），4.68 （1Ｈ，ｔ-d，
Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），3.78 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチ
ル基プロトン），2.83 （１Ｈ，d-d，Ｊ=4Hz，J=17 H
z，アスパラギン酸部β位プロトン），2.72 （１Ｈ，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロト
ン），1.96 （3Ｈ，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン）13 Ｃ-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.5
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），171.
9 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），17
0.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），149.1
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），146.3
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4
（四級炭素，シンナミル芳香環5‘位炭素），133.9
（四級炭素，プロペン2位炭素），127.8 （ＣＨ，プロ
ペン3位炭素），115.8 （四級炭素，シンナミル芳香環
１‘位炭素），113.4 （ＣＨ，シンナミル芳香環６‘位
炭素），106.0 （ＣＨ，シンナミル芳香環３‘位炭
素），56.1 （ＣＨ3，芳香環結合メトキシ基のメチル基
炭素），55.6 （ＣＨ3，芳香環結合メトキシ基のメチル
基炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭素），3
5.9 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），14.4 （CH
3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-(2
-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparatic
acid 3-（2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-p
ropenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩
酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）を加え、室温
にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、洗浄及
び無水硫酸マグネシウムによる乾燥を行った。その後、
溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノー
ル：95／5）にて精製して目的化合物を0.23 g 得た（収
率：65％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.36 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），7.05 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミ
ド基プロトン），6.63 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.33 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），4.81（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，
アスパラギン酸部α位メチン基プロトン），3.83 （3
H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），2.95 （１H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17Hz，アスパラ
ギン酸部β位メチレン基プロトン），2.82 （１H，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン
基プロトン），2.06 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル
基プロトン），1.49 （9H，s，ブチル基のメチル基プロ
トン），1.46 （9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.4 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），150.0 （四級
炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），141.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4（四級炭素，
シンナミル芳香環5‘位炭素），131.1 （CH，プロペン3
位炭素），130.4 （四級炭素，プロペン2位炭素），11
3.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.2 （四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.0 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.0 （四級炭素，ブ
チル基），81.2 （四級炭素，ブチル基），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），49.2 （C
H，アスパラギン酸部α位炭素），37.2 （CH2，アスパ
ラギン酸部β位炭素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル
基炭素），27.6 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），1
3.9 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-aspara
tic acid 3-（2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl
-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.30 g
（0.84 mmol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステ
ル・塩酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）とをジ
メチルホルムアミド ３mlに溶解し、これにトリエチル
アミン0.14ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間
反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、反応液に酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液した。この
溶液を5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩
化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減圧下にて留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：メチレンクロライド／メタノール：95／5）にて精
製して目的化合物0.39 gを得た（収率定量的）。本化合
物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.36 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），7.05 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミ
ド基プロトン），6.63 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.33 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），4.81（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，
アスパラギン酸部α位メチン基プロトン），3.83 （3
H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），2.95 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17Hz，アスパラ
ギン酸部β位メチレン基プロトン），2.82 （1H，d-d，
Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン基プ
ロトン），2.06 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プ
ロトン），1.49 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.46 （9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.4 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），150.0 （四級
炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），141.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4（四級炭素，
シンナミル芳香環5‘位炭素），131.1 （CH，プロペン3
位炭素），130.4 （四級炭素，プロペン2位炭素），11
3.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.2 （四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.0 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.0 （四級炭素，ブ
チル基），81.2 （四級炭素，ブチル基），56.4 （ＣＨ
3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.4 （CH
3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），49.2 （C
H，アスパラギン酸部α位炭素），37.2 （CH2，アスパ
ラギン酸部β位炭素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル
基炭素），27.6 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），1
3.9 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキ
シフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-
L-Asparatic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxypheny
l）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド0.39 g（0.84 mmol）を10％トリフルオ
ロ酢酸含有のクロロホルムに溶解し、室温にて3時間脱
保護反応（保護基の脱離反応）を行った。反応の終了を
TLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥を行い、目的化合物
0.30 g を得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NM
R及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.22 （1
H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.24 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.98 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環3‘位プロトン），6.89 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環６‘位プロトン），4.68 （1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4
Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），3.79 （3H，
ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.78
（3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロト
ン），2.83 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギ
ン酸部β位プロトン），2.72 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=1
7 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），1.96 （3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）。13 Ｃ-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.5
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），171.
9 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），17
0.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），149.1
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），146.3
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4
（四級炭素，シンナミル芳香環5‘位炭素），133.9
（四級炭素，プロペン2位炭素），127.8 （CH，プロペ
ン3位炭素），115.8 （四級炭素，シンナミル芳香環１
‘位炭素），113.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭
素），106.0 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），5
6.1 （CH3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），5
5.6 （CH3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），4
9.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭素），35.9 （CH2，
アスパラギン酸部β位炭素），14.4 （CH3，プロペン2
位結合メチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-4、5-ジ
メトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド
（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-4、5-dimetho
xyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノｎ-酪酸0.52g（5.0 mmol）（和光
純薬社製）を0.5規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌ
に溶解したものを加え、室温にて4時間反応させた。反
応液に2規定塩酸を加えて約pH4に調整したのち、反応液
をそのまま減圧濃縮し、これを一旦水 20 ml に溶解し
て、残存する塩酸を除くため凍結乾燥を行った。得られ
た凍結乾燥物 をクロロホルム-メタノール・トリフルオ
ロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01 を移動相としたシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、これを
凍結乾燥して目的化合物0.18 g を得た（収率；75
％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.23 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.08 （1H，ｓ，プロペン
3位プロトン），6.74 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.70 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），3.74 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ
基のメチル基プロトン），3.71 （3H，ｓ，芳香環結合
メトキシ基のメチル基プロトン），3.21 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.94
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.75
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.4 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），149.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），142.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環２‘位炭素），134.9 （四級炭
素，シンナミル芳香環５‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭
素），115.4 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭
素），113.9 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），10
2.7 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.3 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），38.4 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.6 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.6 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-
（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩
0.15 g（1.0 mmol）（ナカライテスク社製）を加え、室
温にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、
酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機
層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行っ
た。その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド
／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物を0.18
g 得た（収率：70％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.33 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.65 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環6‘位プロトン），6.35 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），3.83 （3H，ｓ，芳香環結合メト
キシ基のメチル基プロトン），3.79 （3H，ｓ，芳香環
結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.68 （3H，
ｓ， GABA部メチルエステルのメチル基プロトン），3.4
7 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロト
ン），2.46 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基
プロトン），2.07 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基
プロトン），1.96 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GA
BA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.2 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.6 （四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），150.2 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環4‘位炭素），141.2 （四級炭素，シンナミ
ル芳香環２‘位炭素），139.5 （四級炭素，シンナミル
芳香環５‘位炭素），131.2 （ＣＨ，プロペン3位炭
素），130.1 （四級炭素，プロペン2位炭素），113.5
（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.4 （CH，シン
ナミル芳香環３‘位炭素），56.6 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），55.5 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），51.7（CH3，GABA部メチル
エステルのメチル基炭素），39.8 （CH2，GABA部γ位メ
チレン基炭素），31.5 （CH2，GABA部α位メチレン基炭
素），23.9 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.0
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-
（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.30 g
（0.84 mmol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩
酸塩0.15 g（1.00 mmol）（ナカライテスク社製）をジ
メチルホルムアミド ３mlに溶解し、これにトリエチル
アミン0.14 ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時
間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチ
ル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素
ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液
にて順次洗浄した。これを無水硫酸マグネシウムにより
乾燥させた後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライ
ド／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物0.28g
を得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.33 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.65 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環6‘位プロトン），6.35 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），3.83 （3H，ｓ，芳香環結合メト
キシ基のメチル基プロトン），3.79 （3H，ｓ，芳香環
結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.68 （3H，
ｓ， GABA部メチルエステルのメチル基プロトン），3.4
7 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロト
ン），2.46 （2Ｈ，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン
基プロトン），2.07 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル
基プロトン），1.96（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，G
ABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.2 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.6 （四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），150.2 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環4‘位炭素），141.2 （四級炭素，シンナミ
ル芳香環２‘位炭素），139.5 （四級炭素，シンナミル
芳香環５‘位炭素），131.2 （CH，プロペン3位炭
素），130.1 （四級炭素，プロペン2位炭素），113.5
（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.4（CH，シン
ナミル芳香環３‘位炭素），56.6 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），55.5 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），51.7（CH3，GABA部メチル
エステルのメチル基炭素），39.8 （CH2，GABA部γ位メ
チレン基炭素），31.5 （CH2，GABA部α位メチレン基炭
素），23.9 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.0
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-4、5-ジ
メトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド
（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-4、5-dimetho
xyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-(2-アミ
ノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド0.16 g （0.48 mmol）をメタノール１mlに溶解
し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液2mlを加え、室
温にて12時間反応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH
４に調整した後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン
／メタノール=10／3）により精製し、目的化合物を0.15
g得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.23 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.08 （1H，ｓ，プロペン
3位プロトン），6.74 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.70 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），3.74 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ
基のメチル基プロトン），3.71 （3H，ｓ，芳香環結合
メトキシ基のメチル基プロトン），3.21 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.94
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.75
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.4 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），149.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），142.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環２‘位炭素），134.9 （四級炭
素，シンナミル芳香環５‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭
素），115.4 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭
素），113.9 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），10
2.7 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.3 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），38.4 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.6 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.6 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E）N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-L-glutam
ic acid 3-(2- amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-pro
penoic amide）の合成 （E） 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24
ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにＬ-グルタミン酸0.74g（5.0 mmol）を0.5規
定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解したものを加
え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加
えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し，これを一旦水 20 ml に溶解し、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01 を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
0.17 gを得た（収率；63％）。本化合物の構造は1H-NMR
及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.96 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.92（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.95- 7.90 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.90（1Ｈ，ｓ，
プロペン3位プロトン）， 7.59 - 7.47 （2H， m，ベン
ゾシンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベン
ゾシンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.49
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロト
ン），4.41 （1H，t-d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン
酸部α位プロトン），2.39 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グル
タミン酸部γ位プロトン），2.22 - 2.03 （2H，ｍ，
グルタミン酸部β位プロトン），2.11 （3H，ｓ，プロ
ペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.7
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），172.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），168.7
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），139.5（四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），136.2
（四級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），132.1 （四級炭素， プロペン2位炭
素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.7
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素），127.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.7 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素），127.0 （CH， プロペン3位
炭素）， 117.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又
は7’位炭素）， 117.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル
芳香環1’位炭素），113.3 （CH， ベンゾシンナミル芳
香環8’位炭素），109.5 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環3’位炭素），52.3 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），31.3 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 26.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.2 （CH3，プロ
ペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E）N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamic acid 3-
（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic a
mide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸
塩0.29 g（1.0 mmol）（シグマ社製）を加えて室温にて
3時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エ
チル及び水を加えて酢酸エチル層を分液し、洗浄、無水
硫酸マグネシウムによる乾燥及び溶媒の減圧留去を行っ
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：
95／5）にて精製して目的化合物0.22 g を得た（収率：
55％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確
認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.67 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.58 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.54（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.47 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.36 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.22 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.09 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），7.03 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.60（1H，ddd，J=9Hz，J=7 Hz，J=4 Hz，
グルタミン酸部α位プロトン），2.50 - 2.37（2H，
ｍ， グルタミン酸部γ位メチレン基プロトン），2.14
- 2.05（2H，ｍ， グルタミン酸部β位メチレン基プロ
トン），2.10 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン），1.50 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.48（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.9 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），171.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），134.7 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 129.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.8 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.6 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.4
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.5 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），109.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.7 （四級炭素，ブチル基），82.5 （四級炭
素，ブチル基），53.0 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），32.1 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 28.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），28.0 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），14.1 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamic acid 3-
（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic a
mide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.57 mm
ol）とL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩0.
20 g（0.69 mmol）（シグマ社製）とをジメチルホルム
アミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.01ml
（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。
反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加
え、酢酸エチル層を分液し、これを5％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させた後、
溶媒を減圧下にて留去した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンク
ロライド／メタノール：95／5）にて精製して目的化合
物を0.27 g 得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-
NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.67 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.58 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.54（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.47（1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.36（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.22（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.09（1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），7.03（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プ
ロトン），4.60（1H，ddd，J=9 Hz，J=7 Hz，J=4 Hz，
グルタミン酸部α位プロトン），2.50 - 2.37（2H，
ｍ， グルタミン酸部γ位メチレン基プロトン），2.14
- 2.05（2H，ｍ， グルタミン酸部β位メチレン基プロ
トン），2.10（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン），1.50 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.48（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.9 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），171.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），134.7 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 129.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.8 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.6 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.4
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.5 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），109.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.7 （四級炭素，ブチル基），82.5 （四級炭
素，ブチル基），53.0 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），32.1 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 28.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），28.0 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），14.1 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。（E）N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-L-glutam
ic acid 3-(2-amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-prop
enoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.27 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて5時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.21 gを得た（収率定量的）。本化
合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.96 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.92（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.95- 7.90 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.90（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン）， 7.59 - 7.47 （2H， m，ベンゾ
シンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベンゾ
シンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.49
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），
4.41（1H，t-d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン酸部α位
プロトン），2.39 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グルタミン酸
部γ位プロトン），2.22 - 2.03 （2H，ｍ， グルタミ
ン酸部β位プロトン），2.11 （3H，ｓ，プロペン2位結
合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.7
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），172.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），168.7
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），139.5（四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），136.2
（四級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），132.1 （四級炭素， プロペン2位炭
素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.7
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素），127.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.7 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素），127.0 （CH， プロペン3位
炭素）， 117.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又
は7’位炭素）， 117.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル
芳香環1’位炭素），113.3 （CH， ベンゾシンナミル芳
香環8’位炭素），109.5 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環3’位炭素），52.3 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），31.3 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 26.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.2 （CH3，プロ
ペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-グリシン 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-
メチル-2-プロペン酸アミド（（E) N- Glycine 3-（2-
amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoicamide）
の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド10mlに溶解
し、これにグリシン0.38g（5.0 mmol）を0.5規定炭酸水
素ナトリウム水溶液20ｍｌに溶解したものを加え、室温
にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えて約pH
4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮し、これを
一旦水 20ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った．得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，これを凍結乾燥して目的化合物を0.15 g
得た（収率；72％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ
-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
H，ｔ，Ｊ=６Hz，アミド基プロトン），7.66 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プ
ロトン）， 7.55（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’
位プロトン），7.51 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナ
ミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），7.28 （1H，
ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環
５‘位或いは６’位プロトン），7.16 （1H，ｓ，プロ
ペン3位プロトン），7.10 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=
8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），6.96 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環
3’位プロトン），3.89 （2H，d， J=６ Hz， グリシン
部α位メチレン基プロトン），1.99 （3H，ｓ，プロペ
ン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：171.8
（四級炭素，グリシン部カルボニル炭素），169.4 （四
級炭素，1位カルボニル炭素），144.9（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，
プロペン2位炭素とベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），128.7（CH， プロペン3位炭素）， 128.4 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.6
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 126.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
‘a位炭素）， 126.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素）， 124.7 （CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.0（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），121.2 （CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），107.0 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），41.0 （CH，グリシン部
α位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E）N-グリシン 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-
メチル-2-プロペン酸アミド（（E）N-glycine 3-(2- a
mino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-propenoic amide）
の合成 （E） 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.17 g（0.48 mm
ol）とグリシンエチルエステル・塩酸塩0.081 g（0.58
mmol）（国産化学社製）をジメチルホルムアミド 1mlに
溶解し、これに、トリエチルアミン0.08 ml（和光純薬
社製）を加えて室温にて20時間反応させた。反応の終了
をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチ
ル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数
回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減
圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：95／
5）にて精製して、これをメタノール1mlに溶解した後に
1規定水酸化ナトリウム2mlを加え、室温にて一晩脱保護
反応を行った。2規定塩酸にて系を約ｐＨ4に調整した
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／メタノール
=10／3）により精製し、目的化合物を0.14 g得た（収率
定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより
確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
Ｈ，ｔ，Ｊ=６Hz，アミド基プロトン），7.66 (1H，
d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位
プロトン）， 7.55（1Ｈ，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環
8’位プロトン），7.51 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシ
ンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.28
（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル
芳香環５‘位或いは６’位プロトン），7.16 （1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.10 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），6.96 （1H， s， ベンゾシンナミル
芳香環3’位プロトン），3.89 （２Ｈ，d， J=６ Hz，
グリシン部α位メチレン基プロトン），1.99 （3Ｈ，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：171.8
（四級炭素，グリシン部カルボニル炭素），169.4 （四
級炭素，1位カルボニル炭素），144.9（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，
プロペン2位炭素とベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），128.7（CH， プロペン3位炭素）， 128.4 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.6
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 126.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
‘a位炭素）， 126.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素）， 124.7 （CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.0（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），121.2 （CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），107.0 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），41.0 （CH，グリシン部
α位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N- L-Asp
aratic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl
-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol） をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶
解し、これにＬ-アスパラギン酸2.3g（5.0 mmol）を0.5
規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解したものを
加え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を
加えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し、これを一旦水 20 ml に溶解し、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01 を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
0.12 g を得た（収率；45％）。本化合物の構造は1H-NM
R及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.43 （1
Ｈ，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.93 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プ
ロトン），7.88（1Ｈ，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’
位プロトン），7.87 - 7.85 (1H， m， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.82 （1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン）， 7.56 - 7.47 （2H， m，
ベンゾシンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンと
ベンゾシンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），
7.45 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロト
ン），4.85 （1Ｈ，ｔ-d，Ｊ=7 Hz，Ｊ=6 Hz，アスパラ
ギン酸部α位プロトン），2.93（１Ｈ，d-d，Ｊ=6 Hz，
J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），2.81 （１
Ｈ，d-d，Ｊ=6 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プ
ロトン），2.08 （3Ｈ，ｓ，プロペン2位結合メチル基
プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：173.0
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
4 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
8.9 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.2（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），133.0 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.9 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 128.3 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 127.6 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.2 （CH， プロペン3位炭
素）， 118.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 116.1 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），114.2 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），110.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），36.4 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素）、14.8
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparatic ac
id 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩
酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）を加えて室温
にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機層
を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。
その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メ
タノール：95／5）にて精製して目的化合物0.14 gを得
た（収率：40％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-N
MRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.53 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.43 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.37（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.37 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.23 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.09 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.04 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），6.88 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.75（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アス
パラギン酸部α位メチン基プロトン），2.87（1H，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン
基プロトン），2.75（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，ア
スパラギン酸部β位メチレン基プロトン），1.97（3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.38 （9H，
s，ブチル基のメチル基プロトン），1.35 （9H，s，ブ
チル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.0（四
級炭素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.4 （四級炭素，
プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.5 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 128.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.5 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.1 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.2 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.2
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），108.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.2 （四級炭素，ブチル基），81.3 （四級炭
素，ブチル基），49.3 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），37.3 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），27.7
（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.6 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），13.9 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparatic ac
id 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.57 mm
ol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩
0.24 g（0.86 mmol）（国産化学社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.12m
l（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.26 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.53 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.43 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.37（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.37 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.23 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.09 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.04 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），6.88 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.75 （1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，ア
スパラギン酸部α位メチン基プロトン），2.87 （１H，
d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレ
ン基プロトン），2.75 （１H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 H
z，アスパラギン酸部β位メチレン基プロトン），1.97
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.38
（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン），1.35 （9H，
s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.0（四
級炭素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.4 （四級炭素，
プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.5 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 128.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.5 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.1 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.2 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.2
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），108.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.2 （四級炭素，ブチル基），81.3 （四級炭
素，ブチル基），49.3 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），37.3 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），27.7
（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.6 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），13.9 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-L-Aspa
ratic acid 3-(2-amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-p
ropenoic amide）の合成 （（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸アミド0.26 g（0.57 mmol）を10％トリフルオロ酢酸
含有のクロロホルムに溶解し、室温にて3時間脱保護反
応を行った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及
び乾燥を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量
的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認
した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.43（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.93 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.88（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.87- 7.85 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.82（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン）， 7.56 - 7.47（2H， m，ベンゾ
シンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベンゾ
シンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.45
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），
4.85（1H，ｔ-d，Ｊ=7 Hz，Ｊ=6 Hz，アスパラギン酸部
α位プロトン），2.93（１H，d-d，Ｊ=6 Hz，J=17 Hz，
アスパラギン酸部β位プロトン），2.81（１H，d-d，Ｊ
=6 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），2.
08（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：173.0
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
4 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
8.9 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.2（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），133.0 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.9 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 128.3 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 127.6 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.2 （CH， プロペン3位炭
素）， 118.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 116.1 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），114.2 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），110.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），36.4 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素）、14.8
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-ベンゾ
[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N
-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-benzo[d]phenyl)-2-met
hyl-2-propenoic amide）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24ｇ
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノ-ｎ-酪酸0.52g（5.0 mmol）（和光
純薬社製）を0.5規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌ
に溶解したものを加え、室温にて4時間反応させた。反
応液に2規定塩酸を加えて約pH4に調整した後、反応液を
そのまま減圧濃縮し、これを一旦水 20 ml に溶解し、
残存する塩酸を除くため凍結乾燥を行った。得られた凍
結乾燥物をクロロホルム-メタノール・トリフルオロ酢
酸100:10:0.01 〜40:10:0.01 を移動相としたシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し，これを凍結
乾燥して目的化合物0.17 g を得た（収率；74％）。本
化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52（1
H，bs，アミド基プロトン），7.97 - 7.88 (4H， m，
ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及びベン
ゾシンナミル芳香環4‘位又は7’位プロトン及びベンゾ
シンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.58-7.48（2H，
ｍ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ンとベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），7.39（1
H， s， プロペン3位プロトン），3.25（2H，ｔ，Ｊ=7
Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.33 （2Ｈ，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），2.00
（3H，s，プロペン2位結合メチル基のプロトン）, 1.79
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），136.7（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），132.1（四級炭素，プロペ
ン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），1
30.8（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミ
ル芳香環3a’位炭素），129.5（CH， ベンゾシンナミル
芳香環5’位又は6’位炭素），127.9（CH， ベンゾシン
ナミル芳香環5’位又は6’位炭素）， 128.0 （四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環7a’位炭素）， 127.1（C
H，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），12
6.4 （CH， プロペン3位炭素）， 126.9 （CH，ベンゾ
シンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.9（四級
炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），126.1（C
H， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），115.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），38.4（CH2，
GABA部γ位メチレン基炭素），31.3（CH2，GABA部α位
メチレン基炭素），24.5（CH2，GABA部β位メチレン基
炭素），14.8 （CH3，プロペン2位結合メチル基の炭
素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル3-（2-アミ
ノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-（2-amino-be
nzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24ｇ
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩
0.15 g（1.0 mmol）（ナカライテスク社製）を加え、室
温にて6時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、
酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機
層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行っ
た。その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド
／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物を0.17
g 得た（収率：69％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム,δppm）：7.82 - 7.46（3H，
m，ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及び
ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），
7.38（1H，s，プロペン3位プロトン）， 7.33（1H，
ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは
7’位プロトン），7.23 - 7.17（1H，ｍ，ベンゾシンナ
ミル芳香環8’位プロトン）， 6.99（1H， s， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位プロトン），6.61（1H，bs，ア
ミド基プロトン），3.98 （2H， bs， アミノ基プロト
ン），3.67（3H，ｓ，GABA部メチルエステルのメチル基
プロトン），3.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチ
レン基プロトン），2.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α
位メチレン基プロトン），1.92（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，
Ｊ=7Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）2.03（3H，
s， プロペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.1 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭素，1位
カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシンナミ
ル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，プロペン2位
炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），134.3
（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），130.2 （CH， プロペン3位炭素），
128.8 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位
炭素）,127.6（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.3（四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 126.4（CH，ベンゾシンナミル芳香
環4’位又は7’位炭素）， 125.3（CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.6（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），122.5（CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），108.8 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），51.7（CH3，GABA部メチ
ルエステルのメチル基炭素），39.6（CH2，GABA部γ位
メチレン基炭素），31.7 （ＣＨ2，GABA部α位メチレン
基炭素），24.3（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），1
4.2 （CH3，プロペン2位結合メチル基の炭素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル3-（2-アミ
ノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E) N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-(2-amino-benz
o[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.17 g（0.48 mm
ol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.089
g（0.58 mmol）（ナカライテスク社製）をジメチルホ
ルムアミド 1mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.08
ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.16 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.82 - 7.46（3H，
m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及
びベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.38（1H， s， プロペン3位プロトン）， 7.33
（1H， ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位
或いは7’位プロトン），7.23 - 7.17（1Ｈ，ｍ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン）， 6.99（1H，
s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），6.61（1
H，bs，アミド基プロトン），3.98 （2H， bs， アミノ
基プロトン），3.67（3H，ｓ， GABA部メチルエステル
のメチル基プロトン），3.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA
部γ位メチレン基プロトン），2.42（2Ｈ，ｔ，Ｊ=7 H
z，GABA部α位メチレン基プロトン），1.92（2H，ｔ-
ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロト
ン）2.03（3H，s， プロペン2位結合メチル基のプロト
ン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.1 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭素，1位
カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシンナミ
ル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，プロペン2位
炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），134.3
（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），130.2 （CH， プロペン3位炭素），
128.8 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位
炭素）127.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 126.4 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素）， 125.3 （CH，ベンゾシン
ナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.6 （四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），122.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），108.8 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），51.7 （C
H3，GABA部メチルエステルのメチル基炭素），39.6 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.7 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.3 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.2 （CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-ベンゾ
[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N
-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-benzo[d]phenyl)-2-met
hyl-2-propenoic amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-(2-アミ
ノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 アミ
ド0.16 g （0.48 mmol）をメタノール１mlに溶解し、こ
れに1規定 水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、40度に
て４時間反応させた。1規定塩酸にて系内を約pH４に調
整した後、反応溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／
メタノール=10／3）により精製し、目的化合物を0.15 g
得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ
-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.97 - 7.88 (4H， m，
ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及びベン
ゾシンナミル芳香環4‘位又は7’位プロトン及びベンゾ
シンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.58-7.48 （2H，
ｍ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ンとベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），7.39
（1H， s， プロペン3位プロトン），3.25 （2H，ｔ，
Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.33 （2
Ｈ，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），
2.00 （3H，s， プロペン2位結合メチル基のプロト
ン）, 1.79 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β
位メチレン基プロトン）。13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），136.7（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），132.1 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），130.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.5 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.9 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素）， 128.
0 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7a’位炭素），
127.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位
炭素），126.4 （CH， プロペン3位炭素）， 126.9 （C
H，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 12
5.9（四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），
126.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），11
5.5（CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），38.4
（CH2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3（CH2，GABA
部α位メチレン基炭素），24.5 （CH2，GABA部β位メチ
レン基炭素），14.8（CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-(Di-t-butyloxy)-L-glutamic acid 3-
（2-amino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenoic am
ide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩0.
21 g（0.72 mmol）（シグマ社製）をジメチルホルムア
ミド ２mlに溶解し、これに、トリエチルアミン0.10ml
（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。
反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加
え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水
溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.27 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.78 （1H，ｄ，
Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.22 （1Ｈ，ｓ，プロペ
ン3位プロトン），6.93 （1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル
芳香環6‘位プロトン），6.68 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環３‘位プロトン），6.65 （1H，ｄ，J=8 Hz，シン
ナミル芳香環５‘位プロトン），4.52 - 4.45 （1H，
ｍ， グルタミン酸部α位プロトン），2.51 - 2.42 （2
H，ｍ， グルタミン酸部γ位プロトン），2.25 - 2.04
（2H，ｍ， グルタミン酸部β位プロトン），1.99 （3
H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.49 （9
H，s，ブチル基のメチル基プロトン），1.46 （9H，s，
ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：171.3 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），170.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.8 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），146.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），134.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），130.4 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），130.1 （CH，プロペン3位炭素），11
8.9 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），117.
3 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），114.8 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.4 （四級炭素，ブ
チル基），81.1 （四級炭素，ブチル基），53.2 （CH，
グルタミン酸部α位炭素），31.5 （CH2，グルタミン酸
部γ位炭素）， 26.9 （CH2，グルタミン酸部β位炭
素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），13.9
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N- L-グルタミン酸3-（2-アミノ-4 -クロロフェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-L-Glutam
ic acid 3-(2-amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2-prop
enoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.27 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて5時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量的）。本化
合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.39 （1
H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロトン），7.11 （1H，ｄ，
J=8Hz，シンナミル芳香環6‘位プロトン），7.05 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），6.93 （1H，ｓ，シン
ナミル芳香環３‘位プロトン），6.77 （1H，ｄ，J=8 H
z，シンナミル芳香環５‘位プロトン），4.34 （1H，t-
d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン酸部α位プロトン），
2.29 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グルタミン酸部γ位プロト
ン），2.19 - 1.97 （2H，ｍ， グルタミン酸部β位プ
ロトン），1.93 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プ
ロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），173.6
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.2
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.1（四
級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），133.4（四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.0（四級炭素，
プロペン2位炭素），130.9（CH，シンナミル芳香環６
‘位炭素），127.6（CH，プロペン3位炭素），120.8（C
H，シンナミル芳香環５‘位炭素），117.0（四級炭素，
シンナミル芳香環１‘位炭素），115.6 （CH，シンナミ
ル芳香環３‘位炭素），52.1 （CH，グルタミン酸部α
位炭素），31.5 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 2
6.5 （CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.4 （CH3，
プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-アミ
ノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミ
ド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-（2-amino-
4-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合
成 （E） 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.11
g（0.72 mmol）（ナカライテスク社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.10m
l（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.19 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.22（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.08 （1H，bs，アミド基プロト
ン），6.94（1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル芳香環6‘位プ
ロトン），6.69（1H，ｓ，シンナミル芳香環３‘位プロ
トン），6.67（1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル芳香環５
‘位プロトン），3.66（3H，ｓ， GABA部メチルエステ
ルのメチル基プロトン），3.44（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GAB
A部γ位メチレン基プロトン），2.44（2H，ｔ，Ｊ=7 H
z，GABA部α位メチレン基プロトン），2.00（3H，ｓ，
プロペン2位結合メチル基プロトン），1.94（2H，ｔ-
ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロト
ン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.3（四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.2（四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），146.1（四級炭素，シンナミ
ル芳香環2‘位炭素），134.6（四級炭素，シンナミル芳
香環4‘位炭素），132.8（四級炭素，プロペン2位炭
素），130.6（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），13
0.2 （CH，プロペン3位炭素），119.2（四級炭素，シン
ナミル芳香環１‘位炭素），117.6 （CH，シンナミル芳
香環５‘位炭素），115.0（CH，シンナミル芳香環３
‘位炭素），51.8（CH3，GABA部メチルエステルのメチ
ル基炭素），39.9（CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.7 （CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.1
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.2 （CH3，プ
ロペン2位結合メチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-4-クロロ
フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド（（E） N-3
-Carboxypropyl 3-（2-amino-4-chlorophenyl）- 2-meth
yl-2-propenoic amide）の合成 (E) N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-アミ
ノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド
0.23 g（0.75 mmol）をメタノール１mlに溶解し、これ
に1規定 水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、室温にて
12時間反応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH４に調
整した後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／メタ
ノール=10／1）により精製し、目的化合物を0.22 g得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.31 （1
H，bs，アミド基プロトン），6.99 （1H，ｄ，J=8Hz，
シンナミル芳香環6‘位プロトン），6.94 （1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），6.76 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），6.55 （1H，ｄ，J=8Hz，シンナミ
ル芳香環５‘位プロトン），3.24 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，
GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.91 （3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.79 （2H，
ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロ
トン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：175.3
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.5 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），148.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），133.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.0 （四級炭
素，プロペン2位炭素），130.7 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭素），11
8.6 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），115.
0 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），113.7 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），38.8 （CH2，GABA部γ
位メチレン基炭素），32.2 （CH2，GABA部α位メチレン
基炭素），25.0 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），
14.7 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-（2-ア
ミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparatic acid3-(2
-amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩
0.20 g（0.72 mmol）（国産化学社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これに、トリエチルアミン0.1
0ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.26 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.31（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.22 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド
基プロトン），6.96（1H，ｄ，J=9Hz，シンナミル芳香
環6‘位プロトン），6.71（1H，ｓ，シンナミル芳香環
３‘位プロトン），6.70（1H，ｄ，J=9 Hz，シンナミル
芳香環５‘位プロトン），4.83（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，
Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），2.99（1
H，d-d，Ｊ=4Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロ
トン），2.84（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラ
ギン酸部β位プロトン），2.03（3H，ｓ，プロペン2位
結合メチル基プロトン），1.49（9H，s，ブチル基のメ
チル基プロトン），1.47（9H，s，ブチル基のメチル基
プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.3 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.7 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.9 （四級
炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），134.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），132.3（四級炭素，
プロペン2位炭素），130.9（CH，プロペン3位炭素），1
30.5（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），119.1（四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），117.6（CH，
シンナミル芳香環５‘位炭素），114.9（CH，シンナミ
ル芳香環３‘位炭素），82.7（四級炭素，ブチル基），
81.8（四級炭素，ブチル基），49.6（CH，アスパラギン
酸部α位炭素），37.2（CH2，アスパラギン酸部β位炭
素），27.9（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.7（C
H3，ブチル基のメチル基炭素），13.9（CH3，プロペン2
位結合メチル基炭素）。（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-4-クロロフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（E） N-L-Aspara
tic acid 3-（2-amino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-p
ropenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-(2
-アミノ-4 -クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.26 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて６時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量的）。本化
合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.39 （1
H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.08 （1Ｈ，
ｄ，J=9Hz，シンナミル芳香環6‘位プロトン），7.01
（1Ｈ，ｓ，プロペン3位プロトン），6.89 （1H，ｓ，
シンナミル芳香環３‘位プロトン），6.74 （1H，ｄ，J
=9 Hz，シンナミル芳香環５‘位プロトン），4.69 （1
H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プ
ロトン），2.87（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパ
ラギン酸部β位プロトン），2.72 （1H，d-d，Ｊ=4 H
z，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），1.92
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.8
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
0 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
9.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.2
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.8
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.5
（四級炭素，プロペン2位炭素），131.1 （CH，シンナ
ミル芳香環６‘位炭素），128.0 （CH，プロペン3位炭
素），117.7 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），11
7.2 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），113.
4 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），49.3 （CH，
アスパラギン酸部α位炭素），36.1 （CH2，アスパラギ
ン酸部β位炭素），14.6 （ CH3，プロペン2位結合メチ
ル基炭素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド（（E）
N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-（2-aminophenyl）-2
-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸
p-ニトロフェニルエステル0.65 g（2.2 mmol）とγ-ア
ミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.40 g（2.6 mmo
l）（ナカライテスク社製）とをジメチルホルムアミド
４mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.36ml（和光純
薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。反応の終
了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加え、酢酸エ
チル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数
回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減
圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：95／
5）にて精製して目的化合物を0.58 g 得た（収率；95
％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.32 （1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.12 （1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，シン
ナミル芳香環６’位プロトン），7.07 （1H，ｄｄ，Ｊ=
8 Hz，Ｊ=8 Hz，シンナミル芳香環4’位プロトン），6.
76 （1H， ｄ，Ｊ=8Ｈｚ，芳香環３’位プロトン），6.
70（1H，ｄｄ，Ｊ=8 Hz， Ｊ=8 Hz，芳香環５’位プロ
トン），3.68 （3H，ｓ， GABA部メチルエステルのメチ
ル基プロトン），3.45 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位
メチレン基プロトン），2.45（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA
部α位メチレン基プロトン），2.02（3H，ｓ，プロペン
2位結合メチル基プロトン），1.94（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 H
z，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.4 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.21 （四級炭素，プ
ロペン1位カルボニル炭素），144.8 （四級炭素，シン
ナミル芳香環２’位炭素），132.3 （四級炭素，プロペ
ン２位炭素），131.4 （CH，プロペン3位炭素）， 129.
6 （CH，シンナミル芳香環４’位炭素），129.3 （CH，
シンナミル芳香環６’位炭素），121.1（四級炭素，シ
ンナミル芳香環１’位炭素），118.0 （CH，シンナミル
芳香環５’位炭素）， 115.6（CH，シンナミル芳香環
３’位炭素），51.9 （CH3，GABA部メチルエステルのメ
チル基炭素），40.0 （CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.8 （CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.2
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.2 （CH3，プ
ロペン２位結合のメチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノフェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド（（E） N-3-Carbo
xypropyl 3-（2-aminophenyl）-2-methyl-2-propenoic
amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド0.58 g
（2.1 mmol）をメタノール5mlに溶解し、これに1規定
水酸化ナトリウム水溶液5mlを加えて室温にて12時間反
応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH４に調整した
後、溶媒を減圧下にて留去し、得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロ
メタン／メタノール=10／2）により精製し、目的化合物
を0.55 g得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR
及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.47（1
H、ｔ、J=6 Hz、アミド基プロトン）、7.47 （1H，ｄ，
Ｊ=7 Hz，シンナミル芳香環3’位プロトン），7.44 -
7.32 （3H，m，シンナミル芳香環4’位と5‘位と6’位
プロトン）、7.26 （1H，ｓ，プロペン3位プロトン），
3.22 （2H，ｔ-ｄ，Ｊ=6 Hz， Ｊ=6 Hz，GABA部γ位メ
チレン基プロトン），2.31 （2H，ｔ，Ｊ=6 Hz，GABA部
α位メチレン基プロトン），1.89 （3H，ｓ，プロペン2
位結合メチル基プロトン），1.76 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=6 H
z，Ｊ=6 Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），170.0 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），136.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環２’位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン２位炭素）， 130.1 （ＣＨ，シンナミル
芳香環４’位炭素），130.1 （CH，シンナミル芳香環
６’位炭素），129.4（四級炭素，シンナミル芳香環
１’位炭素），128.7（CH，シンナミル芳香環５’位炭
素）， 126.3 （CH，プロペン3位炭素），122.7（CH，
シンナミル芳香環３’位炭素），38.4 （CH2，GABA部γ
位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部α位メチレン
基炭素），24.5 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），
14.6 （CH3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。(E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル 3-(4-ジメ
チルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド（(E) N-L-glutamic acid diethyl ester 3-(4-d
imethylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenoic a
mide ）の合成 (E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸 9.0 g(36 mmol) をテトラヒドロフラン9
0 ml に溶解し、窒素雰囲気下、1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）（国
産化学株式会社製；Kokusan chemical works） 5.6 g、
グルタミン酸ジエチルエステル塩酸塩（国産化学株式会
社製；Kokusan chemical works） 9.1 g 及びトリエチ
ルアミン（和光純薬社製） 3.8 gを加えた。更にN,N’-
ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）（和光純薬社
製）7.8 g をテトラヒドロフラン15 ml 溶解したものを
加えて室温にて一夜間撹拌した。反応終了後沈殿物を濾
過により除き、濾液を減圧下濃縮して得られた残渣を酢
酸エチル500 ml に転溶した。この溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、2Ｍクエン酸水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
により乾燥を行った後濃縮して粗生成物を得た。これを
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タ
イプ）Fuji silysia chem. Co.、 NH-DM1020 、1000
g、溶離液 クロロホルム／メタノール20：１）により
精製し、目的化合物を12.1 g得た（収率：77.3 %）。(E) N-L-グルタミン酸 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミノ
フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド・２ナトリウ
ム塩（(E) N-L-Glutamic acid 3-(2-amino-4-dimethyla
minophenyl)-2-methyl-2-propenoic amide di-sodium s
alt）の合成 暗室内にて、(E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル
3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミド 12.0 g (27.6 mmol)、鉄粉（Iron p
owder Koso Chem.Co.）7.3 g (130.7 mmol)、 酢酸 11
3.6 ml及び蒸留水 8.7 mlを反応容器に取り激しく撹拌
しながら92℃にて30分間撹拌反応を行った。TLCにて反
応の終了を確認し、冷却後鉄粉及び不溶物を濾取した。
この濾液を減圧下濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液 1000 ml を加えて不溶物を濾過した後、酢酸エチル3
00 ml による抽出を3回行った。抽出した酢酸エチル溶
液を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥後濃縮して粗生成物を得た。これを
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タ
イプ）Fuji silysia chem. Co.、NH-DM1020、900 g）、
溶離液 クロロホルム／メタノール20：１）により精製
し、E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル 3-(2-ア
ミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸アミドを4.5 g得た。更に、これをメタノール 45 ml
に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液 23 ml を加
え室温にて一夜間撹拌した。反応液から溶媒を留去した
後、過剰のアルカリ及び不純物塩を除去する目的で、固
相抽出充填剤ダイヤイオンHP 20（三菱化学社製）約100
0ml を用いたカラムにアプライし、水で溶出することで
脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶液にて溶出
し、これを凍結乾燥して目的化合物を2.9 g 得た（収
率：26.8 %）。本化合物の構造は、1H-NMR，13C-NMRに
より確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；7.45 (1H,
d, J=6Hz, アミド基プロトン，7.11 (1H, s, プロペン
酸3位プロトン)，6.89 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環6’
位プロトン)，6.06 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，6.
04 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環5’位プロトン)，4.85 (2H,
bs, アニリン性アミノ基プロトン），3.92（1H, ddd,
J=5Hz, J= 7Hz, J=6Hz, グルタミン酸部α位プロト
ン），2.89 (6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロト
ン )，2.04 (3H, s, プロペン2位のメチル基プロト
ン)，2.42 - 2.00 （4H, m, グルタミン酸部β位及びγ
位メチレン基プロトン），1.95 (3H, s, プロペン酸２
位結合メチル基プロトン）13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；173.6 (四
級炭素, グルタミン酸部カルボニル炭素)，172.9 (四
級炭素, グルタミン酸部カルボニル炭素)，167.8(四級
炭素, １位カルボニル炭素)，151.0 (四級炭素, 芳香環
４’位炭素)，147.7 (四級炭素, 芳香環2’位炭素)，13
0.1 (CH, 芳香環６’位炭素)，129.1 (CH,プロペン酸3
位炭素)，128.1 (四級炭素, プロペン２位炭素)，109.6
(四級炭素, 芳香環１’位炭素)，101.5 (CH, 芳香環
５’位炭素)，98.2 (CH, 芳香環３’位炭素)，53.6 （C
H, グルタミン酸部α位炭素），39.8 (CH3, ジメチルア
ミノ基のメチル基炭素)，30.0 （CH2, グルタミン酸部
γ位炭素），27.9 （CH2, グルタミン酸部β位炭素），
14.4 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。(E) N-3-エチルオキシカルボニルプロピル 3-(4-ジメ
チルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド（(E) N-3-ethyloxycarbonylpropyl 3-(4-d imeth
ylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 (E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸 5.5 g(22.0 mmol) をテトラヒドロフラ
ン60 ml に溶解し、窒素雰囲気下、1-ヒドロキシベンゾ
トリアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）
（国産化学株式会社製；Kokusan chemical works） 3.4
g、γ−アミノブタン酸エチルエステル 3.9 g 及びト
リエチルアミン （和光純薬社製）2.3 gを加えた。更
に、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）
（和光純薬社製） 7.8 g をテトラヒドロフラン10 ml
に溶解したものを加えて室温にて一夜間撹拌した。反応
終了後、沈殿物を濾過により除き，濾液を減圧下濃縮し
てその残渣を酢酸エチル400 ml に転溶した。この溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、2Ｍクエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムにより乾燥を行った後、濃縮して粗生
成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia chem. Co., NH
-DM1020 ，1000 g）、溶離液 クロロホルム／メタノー
ル20：１）により精製し、目的化合物を7.77 g得た（収
率：97.3 %）。(E) N-γ-アミノブタン酸 3-(2-アミノ-4-ジメチルア
ミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド ナトリ
ウム塩（(E) N-γ-aminobutyric acid 3-(2-amino- 4-di
methylaminophenyl)-2-methyl-2-propenoic amide sod
ium salt）の合成 暗室内にて、(E) N-エチルオキシカルボニルプロピル 3
-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 アミド7.7 g (21.2 mmol)、鉄粉（Iron powd
er Koso Chem.Co.）5.5 g (98.5 mmol)、酢酸 120 ml、
蒸留水 6.92 mlを反応容器に取り激しく撹拌しながら室
温にて15時間撹拌反応を行った。TLCにて反応の終了を
確認し、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中へ投
じ、これに酢酸エチル500 ml を加えて抽出を行った。
この有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し，無
水硫酸マグネシウム上で乾燥後濃縮して粗生成物を得
た。更に、これをカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル（アミノ修飾タイプ、Fujisilysia chem. Co., NH-DM
1020 ，900 g）、溶離液 クロロホルム／メタノール2
0：１）により精製し、(E) N-3-エチルオキシカルボニ
ルプロピル 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-
2-メチル-2-プロペン酸アミドを5.87 g得た。更に、こ
れをメタノール 60 mlに溶解し、１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液 27 mlを加え、室温にて一夜間撹拌した。この
反応液から溶媒を留去した後、過剰のアルカリ及び不純
物塩を除去する目的で、固相抽出充填剤ダイヤイオン H
P 20（三菱化学社製）約1000ml を用いたカラムにアプ
ライし、水で溶出することで脱塩を行い、引き続き10%
メタノール水溶液にて溶出し、これを凍結乾燥して目的
化合物を4.76 g 得た（収率：69.2 %）。本化合物の構
造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)； 8.89 (1
H, d, J=4Hz, アミド基プロトン，7.02 (1H, s, プロペ
ン酸3位プロトン)，6.90 (1H, d, J=8 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，6.03 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン)，6.01 (1H, d, J=8Hz, 芳香環5’位プロトン)，5.0
5 (2H, bs, アニリン性アミノ基プロトン），3.14 （2
H, dt, J=4Hz, J= 7Hz, γ-アミノブタン酸部 α位プロ
トン），2.93 (6H, s, ジメチルアミノ基のメチル基プ
ロトン )，2.06 (2H, s, γ-アミノブタン酸部 γ位プ
ロトン)，1.91 (3H, s, プロペン酸２位結合メチル基プ
ロトン），1.69（2H, tt, J=7Hz, J=7Hz, γ-アミノブ
タン酸部 β位プロトン）13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)； 177.2
(四級炭素, γ-ブタン酸部カルボニル炭素)，169.6
(四級炭素, １位カルボニル炭素)，150.9 (四級炭素,
芳香環2’位炭素)，147.8 (四級炭素, 芳香環4’位炭
素)，129.9 (CH, 芳香環６’位炭素)，129.9 (CH, プロ
ペン酸3位炭素)，128.3 (四級炭素, プロペン２位炭
素)，128.1 (CH, プロペン酸3位炭素)，109.3 (四級炭
素, 芳香環１’位炭素)，101.3 (CH, 芳香環５’位炭
素)，98.0 (CH, 芳香環３’位炭素)，40.5（CH2, γ-ア
ミノブタン酸部 α位炭素），39.9 (CH3, ジメチルアミ
ノ基のメチル基炭素)，36.5 （CH2, γ-アミノブタン酸
部γ位炭素），25.4 （CH2, γ-アミノブタン酸部β位
炭素），14.6 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭
素)。(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリルエトキシ
カルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
((E) 3-[4,5-dimethoxy-2-(trimethylsilylethoxycarbo
nyl ) aminophenyl]-2-methyl-2-propenoic acid)の合
成 暗室内にて、(E) エチル 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシ
フェニル)-2-メチル-2-プロペネート12.2 g (46.2 mmo
l)をアセトニトリル120 ml に溶解し、窒素雰囲気下氷
冷しながら粉砕した炭酸カリウム7.6 g (55.4 mmol)を
加えた。反応混濁液を激しく撹拌しながらトリメチルシ
リルエトキシカルボニル クロライド(Teoc-Cl) 10 g
(55.4 mmol)をゆっくりと滴下し、室温にて一夜間撹拌
を行った。反応液を冷水500 ml に注加し、酢酸エチル3
00 ml による抽出を行った。この酢酸エチル溶液を、
水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水
溶液の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥後、
溶媒を留去して粗生成物13.5 gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ノルマルヘキサ
ン／酢酸エチル＝３／１）により精製し、(E) エチル
3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリルエトキシカ
ルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネートを
7.0 g 得た。更にこれをジオキサン 30 ml に溶解し、
これに１規定水酸化ナトリウム水溶液 25 ml を加えて4
0℃で撹拌した。反応の終了をTLCにて確認し、反応液に
蒸留水150 mlを加えて１規定塩酸でpH 3に調整した後、
析出した結晶を濾過し乾燥して目的化合物を5.6 g 得た
（収率：32 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)； 8.81 （1H, bs,
アミド基プロトン），7.56 (1H, s, プロペン酸３位プ
ロトン）， 6.97 (1H, s, 芳香環３’位プロトン），6.
89 (1H, s,芳香環６’位プロトン），4.12 (2H, t, J=
8 Hz, トリメチルシリルエトキシ基α位メチレン基プロ
トン），3.77 (6H, s, メトキシ基メチル基プロト
ン），1.94 (3H, s,プロペン酸２位結合メチル基プロト
ン），0.94 (2H,t, J=8 Hz, トリメチルシリルエトキシ
基β位メチレン基プロトン），0.03 (9H,s, トリメチル
シリルエトキシ基メチル基プロトン）13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)； 169.4 (四級炭
素,プロペン酸１位カルボニル基炭素），154.6 (四級炭
素,トリメチルシリルエトキシカルボニル基カルボニル
炭素），148.7 (四級炭素, 芳香環４’位炭素），145.7
(四級炭素, 芳香環５’位炭素），134.9 (CH, プロペ
ン酸３位炭素），130.3 (四級炭素, 芳香環２’位炭
素），127.8 (四級炭素, プロペン酸２位炭素），112.3
(CH, 芳香環６’位炭素），62.1 (CH2, トリメチルシ
リルエトキシ基β位メチレン基炭素），55.7 (CH3, メ
トキシ基メチル基炭素）， 55.5 (CH3, メトキシ基メチ
ル基炭素），17.3 (CH2,トリメチルシリルエトキシ基α
位メチレン基炭素），14.0 (CH3, プロペン酸２位結合
メチル基炭素），-1.5 (CH3, トリメチルシリルエトキ
シ基メチル基炭素）。(E) N-(N-メチル)-D-アスパラギン酸 3-(2-アミノ-4,5
-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（(E) N-(N-Methyl)-D-asparatic acid 3-(2-amino-4,5
-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-pepenoic amide）の合
成 暗室内にて(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸4.5 g（11.4 mmol）をテトラヒドロフラン50 m
l に溶解し、これに窒素雰囲気下1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）（国
産化学株式会社製；Kokusan chemical works）1.83 g
、N-メチル-D-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル
3.10 g 、N-メチルホルモリン（和光純薬社製） 1.15
g及びN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）
（和光純薬社製）2.47 g を加えて室温にて１０日間撹
拌した。反応終了後沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮
してその残渣を酢酸エチル200ml に転溶した。この有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、20%クエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾
燥を行った後濃縮して粗生成物を得た。これをカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タイプ）Fu
ji silysia chem.Co., NH-DM1020 ）により精製し、(E)
N-(N-メチル)-D-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステ
ル 3-(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミドを6.84 g得た（収率：94.4 %）。更
にこれをメタノール200 mlに溶解し、１規定塩酸を加え
室温にて１ヶ月撹拌した。保護基の脱離反応の終了を確
認し、反応液を１規定水酸化ナトリウムでアルカリ性に
調節した後、過剰のアルカリ及び不純物塩の除去のため
固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-20（三菱化学社製）約
1000ml を用いたカラムにアプライし、水で溶出するこ
とで脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶液にて溶
出し、これを凍結乾燥して目的物を3.04 g得た（収率：
71.0 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより
確認した。1 H-NMR (重水, δppm)；6.85 (1H, s, 芳香環６’位プ
ロトン)，6.61 (1H, s,芳香環３’位プロトン)，6.48(1
H, s, プロペン酸3位メチン基プロトン)，5.02 (1H, d
d, J=9 Hz, J=6Hz, アスパラギン酸部α位メチン基プロ
トン)，3.83 (3H, s, メトキシ基メチル基プロトン) ，
3.81 (3H, s, メトキシ基メチル基プロトン)，3.20 〜
2.79 (2H, m, アスパラギン酸部β位メチレン基プロト
ン)，2.90 (3H, s,アスパラギン酸部窒素結合メチル基
プロトン）， 1.96 (3H, s, プロペン酸2位結合メチル
基プロトン)13 C-NMR (重水, δppm)；177.2 (四級炭素, アスパラギ
ン酸部カルボニル炭素），176.3 (四級炭素, アスパラ
ギン酸部カルボニル炭素），174.7(四級炭素,プロペン
酸1位カルボニル炭素)，149.8 (四級炭素, 芳香環4'位
炭素)，141.9 (四級炭素, 芳香環２'位炭素),139.4 (四
級炭素,芳香環５'位炭素)，134.2 (四級炭素, プロペン
酸2位炭素)，126.9 (CH, プロペン酸3位メチン基炭
素)，114.9 (四級炭素, 芳香環１'位炭素)，114.6 (CH,
芳香環６'位炭素)，102.5 (CH, 芳香環３'位炭素)，6
2.1 (CH, アスパラギン酸部α位メチン基炭素)， 57.4
(CH3, メトキシ基メチル基炭素)，56.4 (CH3, メトキシ
基メチル基炭素)，36.0 (CH2, アスパラギン酸部β位メ
チレン基炭素)，30.3 (CH3, アスパラギン酸部窒素結合
メチル基炭素），15.8 (CH3, プロペン酸2位結合メチル
基炭素)。(E) N-L-グルタミン 3-(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェ
ニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド（(E) N-L-Glutami
ne 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-pepe
noic amide）の合成 暗室内にて(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸4.4 g（11.1 mmol）をテトラヒドロフラン45 m
l に溶解し、-10℃に冷却して窒素雰囲気下クロロ炭酸
イソブチル（Isobutylchloroformate）（国産化学株式
会社製；Kokusan chemical works）1.7 gを加え30分間
撹拌した。これにN-メチルモルホリン（和光純薬社製）
1.2 gとグルタミン t-ブチルエステル塩酸塩（国産
化学株式会社製；Kokusan chemicalworks） 3 gをジメ
チルホルムアミド35 mlに溶解したものとを加えて室温
まで徐々に昇温し、室温にて１時間撹拌した。反応終了
後溶媒を減圧下留去し、残渣に酢酸エチル200 ml及び水
100 ml を加えた。この有機層を５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、１規定塩酸、水にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った後濃縮して粗生成物
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、(E) N-グルタミン t-ブチルエステル 3-
(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミドを4.64 g得た（収率：73.9%）。更にこれ
をジクロロメタン40 mlに溶解し、トリフルオロ酢酸
（和光純薬社製）5 mlを加え30℃にて24時間撹拌した。
保護基の脱離反応の終了を確認後、減圧下濃縮してその
残渣をイオン交換水に転溶し、凍結乾燥を行い目的物を
2.7 g得た（収率：93.8 %）。本化合物の構造は1H-NMR
及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；7.02 (1H,
s, 芳香環６’位プロトン)，6.92 (1H, s, 芳香環３’
位プロトン)，7.38(1H, s, プロペン酸３位メチン基プ
ロトン)，4.28 (1H, dd, J=12 Hz, J=8Hz, グルタミン
部α位メチン基プロトン)，3.79 (6H, s, メトキシ基メ
チル基プロトン），2.22 (2H, t, J= 7Hz,グルタミン部
γ位メチン基プロトン)，2.14 〜 1.90 (2H, m, グルタ
ミン部β位メチン基プロトン)，1.98 (3H, s,プロペン
酸2位結合メチル基プロトン )13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；174.0 (四
級炭素, グルタミン部カルボニル炭素），173.5 (四級
炭素, グルタミン部カルボニル炭素），168.4 (四級炭
素,プロペン酸部1位カルボニル炭素），148.9 (四級炭
素, 芳香環４’位炭素），147.4 (四級炭素, 芳香環
５’位炭素），127.5 (CH, プロペン酸3位メチン基炭
素），134.7 (四級炭素, 芳香環２’位炭素），124.0
(四級炭素, プロペン酸部2位炭素），117.4 (四級炭素,
芳香環１’位炭素）， 113.6 (CH, 芳香環５’位炭
素），56.0 (CH3, メトキシ基メチル基炭素) ，55.8 (C
H3, メトキシ基メチル基炭素) ，52.4 (CH, グルタミン
部α位メチン基炭素），31.6 (CH2, グルタミン部γ位
メチレン基炭素），26.5 (CH2, グルタミン部β位メチ
レン基炭素），14.5 (CH3, プロペン酸部2位結合メチル
基炭素）。光照射によるアミノ酸の放出 上記得られたケージドグルタミン酸の水溶液（100mM）
に320nmの単色光を30分間照射し、得られた生成物をHPL
Cを用いて以下に示す条件で分離分析した。その結果、
カルボスチリルが生成したことが確認された（図５
(a)、(b)）。 HPLC条件： カラム ： 関東化学社製、MightysilRP-18,150-4.6 溶出溶媒： 0.05%トリフルオロ酢酸含有、アセトニトリル/水 （グラジエント条件：10/90から70/30(20分)） 溶出速度： 1ml/min 保持時間： ケージドグルタメート 4.8min カルボスチリル 8.5min 放出されたグルタミン酸の検出のため、上記光照射した
試料にダンシルクロリドを添加してグルタミン酸のダン
シル誘導体化を行った。得られた生成物をHPLCを用いて
以下に示す条件で分離分析した結果、ダンシル化グルタ
ミン酸が生成したことが確認された（図６(a)、(b)）。 HPLC条件： カラム ： 関東化学社製、MightysilRP-18,150-4.6 溶出溶媒： 0.05%トリフルオロ酢酸含有、アセトニトリル/水 （グラジエント条件：10/90から70/30(20分)） 溶出速度： 1ml/min 保持時間： ダンシル化グルタミン酸 7.2min。
酸（GABA）、アスパラギン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−アスパ
ラギン酸、グリシン及びグルタミンを対象とする場合の
新規ケージドアミノ酸の合成方法について詳細に記載し
たが、種々の官能基を導入した2−ニトロベンズアルデ
ヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を含む）及びWittig
（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬を含む）
を用いることにより、また、種々のアミノ酸、アミノ酸
類縁体及びそれらのカルボキシル基保護体を用いること
により、本発明にかかるすべてのケージドアミノ酸及び
ケージドアミノ酸類縁体を合成することが可能である。3−（4、5−ジメトキシ−2−ニトロフェニル）−2−メ
チル−2−プロペン酸 エチルエステルの合成 暗室にて、6−ニトロベラトラルアルデヒド 10g（50.0
mmol)（6−Nitroveratlaldehyde、アルドリッチ社製）
と、Wittig試薬（Carboethoxy ethylidene triphenylph
osphorane、 アルドリッチ社製 ）18.1 g（50.0 mmol）
とを、ベンゼン中、室温で、18時間撹拌して反応させ
た。反応終了後、減圧でベンゼンを除き、白色結晶を得
た。これを酢酸エチルから再結晶して目的化合物28.5g
を得た（収率76%）。本化合物の構造は、赤外吸収スペ
クトル（IR）、1H-NMR、13C-NMR、TOF−MSにより確認し
た。ここで、赤外吸収スペクトルは、日本電子（株）社
製JIR-WINSPEC50、1H-NMR、13C-NMRは日本電子（株）社
製JNM-LA300、TOF−MSは島津製作所（株）製KOMPACT M
ALDIIVを用いた（以下同じ）。 IR：1700cm-1（エステル） TOF−MS：296（M/C）1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.93 （1H、s、プ
ロペン酸3位プロトン）、7.74（1H、s、芳香環3’位プ
ロトン）、6.72（1H、s、芳香環6’位プロトン）、 4.2
9（2H、q、J=7 Hz、エチル基のメチレン基プロトン）、
3.99 ppm （3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、
3.96（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、1.92
（3H、s、プロペン2位のメチル基プロトン）、1.36（3
H、t、J=7 Hz、エチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.9（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、153.1（四級炭素、芳香環
5’位炭素）、148.7（四級炭素、芳香環4’位炭素）、1
45.1（四級炭素、 プロペン2位炭素）、143.4（四級炭
素、芳香環2’位炭素）、136.5（CH、プロペン3位炭
素）、126.6（四級炭素、芳香環1’位炭素）、112.3（C
H、芳香環6’位炭素）、107.9（CH、芳香環3’位炭
素）、61.9（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.5
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、56.5（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、14.3（CH3、エチル基のメチ
ル基炭素）、14.1（CH3、プロペン2位のメチル基炭
素）。3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸（3-（4、5-Dimethoxy-2-nitrophenyl）-2-m
ethyl-2-propenoic acid）の合成 上記得られた、3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル（1）11.3
g をメタノール 250mlに溶解し、これに2規定水酸化ナ
トリウム水溶液45mlを加えて、40℃にて4時間反応させ
た。反応終了後、1規定塩酸を用いて溶液をpH 4 に調整
して冷却し、析出した結晶を濾別して、目的の化合物1
0.1gを得た（収率99%）。本化合物の構造は、赤外吸収
スペクトル（IR）、1H-NMR、13Ｃ-NMR、TOF-MSにより確
認した。 IR：1685cm-1（カルボキシル基） TOF-MS：268（M/C）1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）;12.60（1
H、bs、カルボキシル基プロトン）、7.77（1H、s、プロ
ペン3位プロトン）、7.72（1H、s、芳香環3’位プロト
ン）、6.97（1H、s、芳香環6’位プロトン）、3.91（3
H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.90（3H、
s、メトキシ基のメチル基プロトン）、1.84 （3H、s、
プロペン2位のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド,δppm）; 168.7（四
級炭素、1位カルボキシル基炭素）、152.8（四級炭素、
芳香環5’位炭素）、148.2（四級炭素、芳香環4’位炭
素）、139.8（四級炭素、芳香環2’位炭素）、135.5（C
H、プロペン3位炭素）、129.4（四級炭素、プロペン2位
炭素）、125.7（四級炭素、芳香環1’位炭素）、112.7
（CH、芳香環6’位炭素）、107.7（CH、芳香環3’位炭
素）、56.4（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、56.0
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、13.8（CH3、プロ
ペン2位のメチル基炭素）。N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメ
トキシ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamic acid3-(4,5-
dimethoxy-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 無水ジクロロメタン 300 ml に3-(4,5-ジメトキシ-2-ニ
トロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 9.1g（34mmo
l），グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩酸塩 10.0 g
（34 mmol)（シグマ社製）及びトリエチルアミン 3.5
g (41 mmol)を加え，更に氷冷撹拌下粉末状の1-エチル-
3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC/HCl)（和光純薬社製）7.9 g (41 mmol)を数回に
分けて加えた。反応溶液を室温に戻し一夜間撹拌した
後，大部分の溶媒を減圧留去し，これに酢酸エチル及び
水を加えた。この有機層（酢酸エチル層）を洗浄し，乾
燥後濃縮して17.7 g の褐色油状物を得た。これをクロ
ロホルム／メタノール20:1 を溶出液としたシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し，目的化合物1
6.26g をガム状固形物として得た（収率 94 %）。本化
合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm）：7.74 (1H, s,芳香
環3’位プロトン),7.59 (1H, s,プロペン酸3位プロト
ン), 6.76(1H, d, J=7.5Hz, アミド基プロトン), 6.71
(1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.5H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン, 3.98
(3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.95 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン) , 2.37 (2H,m,グ
ルタミン酸部ガンマ位メチレン基プロトン), 2.05 (2H,
s,アミノ基プロトン), 2.03 (2H,m,グルタミン酸部β位
メチレン基プロトン), 1.93 (9H,s,ブチル基のメチル基
プロトン), 1.92 (9H, s,ブチル基のメチル基プロト
ン), 1.50 (3H, s,プロペン2位のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム，δppm)：172.6 (四級炭素,
グルタミン酸部カルボニル炭素), 171.3 (グルタミン酸
部カルボニル炭素), 168.7(四級炭素,1位カルボニル炭
素), 152.9 (四級炭素, 芳香環5’位炭素), 148.7 (四
級炭素,芳香環4’位炭素), 140.2 (四級炭素, プロペン
2位炭素), 132.4 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 131.8
(CH, プロペン3位炭素), 126.6 (四級炭素, 芳香環1’
位炭素), 112.4 (CH, 芳香環6’位炭素), 107.8 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
1.1 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.5 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 56.4 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.7 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.6 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 28.0 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素) , 14.2 (CH3, プロペ
ン2位のメチル基炭素)。(E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(2-ア
ミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamicacid 3-
(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-propenoic
amide）の合成 N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメ
トキシ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド15.1 g（30mml) 、鉄粉（Iron powder Kosochem. C
o.）7.8 g （140 mmol) 、酢酸 130 ml及び蒸留水 10 m
l を500ml褐色4つ口フラスコに秤取し、メカニカルスタ
ーラを用いて激しく撹拌しながら約70℃で3時間撹拌し
た。TLCにより反応の終了を確認した後、溶液を冷却し
未反応の鉄粉及び不溶物を濾取した。この濾液を濃縮
し、水200 ml ／酢酸エチル400 ml混合液に溶解して飽
和重曹水で3回洗浄した後、更に不溶物を濾別した。こ
の濾液の酢酸エチル層を水、炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後濃縮して粗生成物 15 g を得た。更にこれをカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノプロピル修
飾タイプ）Fuji silysia chem. co., NH-DM1020 1000 g
，溶離液 ヘキサン/酢酸エチル 1：1）により精製
し、目的化合物11.5gを得た（収率80％）。本化合物の
構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム、δppm)：7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン), 6.75 (1H, d, J=7.3Hz, アミド基
プロトン), 6.63 (1H, s, 芳香環6’位プロトン),6.30
(1H, s, 芳香環3’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.3H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン), 3.8
5 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.80 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.59 (2H, bs ア
ミノ基プロトン), 2.39 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基プロトン), 2.25 (2H,m, グルタミン酸部
β位メチレン基プロトン), 2.05 (3H, s,プロペン2位の
メチル基プロトン), 1.50 (9H, s, ブチル基のメチル基
プロトン), 1.45 (9H, s, ブチル基のメチル基プロト
ン)13 C-NMR(重クロロホルム、δppm)：172.6 (四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素), 171.2 (グルタミン酸部
カルボニル炭素), 168.7 (四級炭素,1位カルボニル炭
素), 150.4 (四級炭素,芳香環4’位炭素), 141.6 (四級
炭素, 芳香環2’位炭素), 139.2 (四級炭素, 芳香環5’
位炭素), 131.1 (CH, プロペン3位炭素), 131.1 (四級
炭素, プロペン2位炭素), 113.6 (CH, 芳香環6’位炭
素), 112.8 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 100.3 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
0.8 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.7 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 55.8 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.8 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.7 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 27.5 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素), 14.2 (CH3, プロペン
2位のメチル基炭素)。(E) N−Ｌ−グルタミン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキ
シフェニル)-2-アミノ-2-プロペン酸アミド（(E) N-L-g
lutamic acid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-met
hyl-2-propenoic amide）の合成 （E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(2-
アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸アミド10.4 g ( 22 mmol)、1規定塩酸-メタノール溶
液 20 ml 及びジクロロメタン 50 ml を常温で一夜間撹
拌した。反応の終了をTLCにより確認した後、反応液を
そのまま減圧濃縮し、20 g の油状物を得た。これを一
旦水 30 ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物 9.9 g をクロロホル
ム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:1 〜40:10:1
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，凍結乾燥して目的化合物5.7 gを得た（収
率71%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確
認した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：8.44 (1H,
d, J=7.5 Hz, アミド基プロトン), 7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロト), 7.24 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン), 6.94 (1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.36 (1H,
ddd, J=9.3Hz, 7.7Hz,5.5Hz, グルタミン酸部α位メチ
ン基プロトン), 4.10 (2H, bs アミノ基プロトン), 3.8
2 (6H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.47 (2H,
dd, J=7.5Hz,7.5Hz, グルタミン酸部ガンマ位メチレン
基プロトン), 2.07 (2H, m, グルタミン酸部β位メチレ
ン基プロトン), 1.97 (3H, s, プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン)13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：169.3, 16
9.1, 169.0 (四級炭素,グルタミン酸部カルボニル炭素
と1位カルボニル炭素), 148.6 (四級炭素,芳香環4’位
炭素), 147.8 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 135.1 (
四級炭素, 芳香環5’位炭素), 126.9 (CH, プロペン3位
炭素), 122.6 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 112.8 (C
H, 芳香環6’位炭素), 107.6 (CH, 芳香環3’位炭素),
55.8 (CH3,メトキシ基のメチル基炭素), 55.7 (CH3, メ
トキシ基のメチル基炭素), 51.7 (CH, グルタミン酸部
α位メチン基炭素), 30.3 (CH2, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基炭素), 26.0 (CH2, グルタミン酸部β位
メチレン基炭素), 14.5 (CH3,プロペン2位結合のメチル
基炭素)。3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-スクシンイミジルエステル（ 3-（4、5-
Dimethoxy-2-nitrophenyl）-2-methyl-2-propenoic aci
d N-succinimide ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸（2）7.0 g（26.2 mmol）と N-ヒドロキシス
クシンイミド 3.5 g（30.0mmol）（和光純薬製）とをジ
クロロメタン100 mlに溶解し、これにジメチルアミノピ
リジン500 mg（和光純薬社製）を加えた。この溶液に氷
冷撹拌下1-エチル-3-（3-ジメチルアミノプロピル）-カ
ルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）6.3 g（33.0 mmol）
（和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻してから2時
間撹拌した。この反応の終点を薄層クロマトグラフ（TL
C）によって確認した後、反応液を減圧下濃縮し、酢酸
エチル100ml に転溶した。この溶液を洗浄及び乾燥した
後、溶媒を留去して目的物8.3 g を油状物として得た
（収率81 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRに
より確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.29（1
H、s、プロペン3位プロトン）、7.78（1H、s、芳香環
3’位プロトン）、7.14（1H、s、芳香環6’位プロト
ン）、3.94（3H、s、メトキシ基のメチルプロトン）、
3.92（3H、s、メトキシ基のメチルプロトン）、2.87（4
H、s、スクシンイミジル基のメチレンプロトン）、2.01
（3H、s、プロペン2位のメチル基プロトン）13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm）：170.4（四
級炭素、スクシンイミジル基のカルボニル炭素）、162.
9（四級炭素、1位カルボニル基炭素）、153.1（四級炭
素、芳香環5’位炭素）、149.0（四級炭素、芳香環4’
位炭素）、141.3（CH、プロペン3位炭素）、139.8（四
級炭素、芳香環2’位炭素）、124.3（四級炭素、 プロ
ペン2位炭素）、123.7（四級炭素、 芳香環1’位炭
素）、113.0（CH、芳香環6’位炭素）、107.7（CH、芳
香環3’位炭素）、56.6（CH3、メトキシ基のメチル基炭
素）、56.0（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、25.5
（CH2、スクシンイミジル基3”位と4”位のメチレン基
炭素）、13.8（CH3、プロペン2位のメチル基炭素）。（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 N-スクシンイミド エステル（3-
（2-Amino-4、5-Dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-pr open
oic acid N-succinimide ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-スクシンイミジルエステル（3）8.3 g
（22.8 mmol）を酢酸 70 mlと水 5mlとの混合溶媒に溶
解し、鉄粉 5.0g（Iron powder、 89.5 mmol）を加えて
70℃に加熱した。2時間の反応後、不溶物を濾別し、濾
液を水 500 ml へ加えた。生じた結晶を濾別し、水洗、
乾燥して目的化合物を結晶で 6.2 g 得た（収率81%）。
本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.82（1
H、s、プロペン3位プロトン）、6.81 （1H、s、芳香環
6’位プロトン）、6.44（1H、s、芳香環3’位プロト
ン）、5.20 （2H、bs、アニリン性アミノ基プロト
ン）、3.73（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.67（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、2.85（4H、s、スクシンイミジル基のメチレン基
プロトン）、2.16（3H、s、プロペン2位メチル基プロト
ン）13 C-NMR（DMSO-d6、δppm）：170.4（四級炭素、 スク
シンイミジル基カルボニル炭素）、163.8（四級炭素、1
位カルボニル炭素）、152.0（四級炭素、芳香環4’位炭
素）、144.5（四級炭素、芳香環2’位炭素）、140.1（C
H、プロペン3位炭素）、140.0（四級炭素、芳香環5’位
炭素）、118.2（四級炭素、プロペン2位炭素）、113.9
（CH、芳香環6’位炭素）、109.5（四級炭素、芳香環
1’位炭素）、99.8（CH、芳香環3’位炭素）、56.3（CH
3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.1（CH3、メトキシ
基のメチル基炭素）、25.4（CH2、スクシンイミジル基
3”位と4”位メチレン基炭素）、14.3（CH3、プロペン2
位のメチル基炭素）。(E) N-L-グルタミン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフ
ェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド（(E) N-L-gluta
mic acid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-
2-propenoic amide）の合成 （E）3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.5g（1.5 m
mol）をジメチルホルムアミド40ｍｌに溶解し、これに
Ｌ-グルタミン酸2.3g（10 mmol）を0.5規定炭酸水素ナ
トリウム水溶液80ｍｌに溶解した水溶液を加え、室温に
て4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えてpH4に
調整した後、これをそのまま減圧濃縮し、これを一旦水
30 ml に溶解してから残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，これを凍結乾燥して0.35 g を得た（収率6
3％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：8.44 (1H,
d, J=7.5 Hz, アミド基プロトン), 7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロト), 7.24 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン), 6.94 (1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.36 (1H,
ddd, J=9.3Hz, 7.7Hz,5.5Hz, グルタミン酸部α位メチ
ン基プロトン), 4.10 (2H, bs アミノ基プロトン), 3.8
2 (6H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.47 (2H,
dd, J=7.5Hz,7.5Hz, グルタミン酸部ガンマ位メチレン
基プロトン), 2.07 (2H, m, グルタミン酸部β位メチレ
ン基プロトン), 1.97 (3H, s, プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン)13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：169.3, 16
9.1, 169.0 (四級炭素,グルタミン酸部カルボニル炭素
と1位カルボニル炭素), 148.6 (四級炭素,芳香環4’位
炭素), 147.8 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 135.1 (
四級炭素, 芳香環5’位炭素), 126.9 (CH, プロペン3位
炭素), 122.6 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 112.8 (C
H, 芳香環6’位炭素), 107.6 (CH, 芳香環3’位炭素),
55.8 (CH3,メトキシ基のメチル基炭素), 55.7 (CH3, メ
トキシ基のメチル基炭素), 51.7 (CH, グルタミン酸部
α位メチン基炭素), 30.3 (CH2, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基炭素), 26.0 (CH2, グルタミン酸部β位
メチレン基炭素), 14.5 (CH3,プロペン2位結合のメチル
基炭素)。(E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(2-ア
ミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamicacid 3-
(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-propenoic
amide）の合成 （E）3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.33g（1.0
mmol）と、グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩酸塩
0.89g（3.0 mmol）（シグマ社製）とをテトラヒドロフ
ラン200ｍｌに溶解し、室温にて4時間反応させた。溶媒
を減圧で除き、残渣に酢酸エチル及び水を加えた。酢酸
エチル層を洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した
後、濃縮して粗生成物を得た。これをカラムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fu
ji silysia chem. co., NH-DM1020 1000 g ，溶離液
ヘキサン/酢酸エチル 1：1）により精製して目的物0.3
2gを得た（収率65%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C
-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム、δppm)：7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン), 6.75 (1H, d, J=7.3Hz, アミド基
プロトン), 6.63 (1H, s, 芳香環6’位プロトン),6.30
(1H, s, 芳香環3’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.3H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン), 3.8
5 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.80 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.59 (2H, bs ア
ミノ基プロトン), 2.39 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基プロトン), 2.25 (2H,m, グルタミン酸部
β位メチレン基プロトン), 2.05 (3H, s,プロペン2位の
メチル基プロトン), 1.50 (9H, s, ブチル基のメチル基
プロトン), 1.45 (9H, s, ブチル基のメチル基プロト
ン)13 C-NMR(重クロロホルム、δppm)：172.6 (四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素), 171.2 (グルタミン酸部
カルボニル炭素), 168.7 (四級炭素,1位カルボニル炭
素), 150.4 (四級炭素,芳香環4’位炭素), 141.6 (四級
炭素, 芳香環2’位炭素), 139.2 (四級炭素, 芳香環5’
位炭素), 131.1 (CH, プロペン3位炭素), 131.1 (四級
炭素, プロペン2位炭素), 113.6 (CH, 芳香環6’位炭
素), 112.8 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 100.3 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
0.8 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.7 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 55.8 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.8 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.7 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 27.5 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素), 14.2 (CH3, プロペン
2位のメチル基炭素)。3-ニトロ-2-ナフトアルデヒドの合成 3-ニトロ-2-ナフトアルデヒドの合成は文献に記載の方
法に準じて行った（Kienzle、Frank、Helv.Chim.Acta、
63（8）、2364 - 2369（1980）；Wani、MansukhC、Ronm
an、Peter E、Lindley、James T. Wall、Monroe E.、J.
Med. Chem.1980、23、554 - 560）。本化合物の構造は
1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：10.52（1H、s、ホ
ルミル基プロトン）、8.68（1H、s、4位プロトン）、8.
47（1H、s、1位プロトン）、8.12-8.05（2H、m、5位と8
位プロトン ）、7.82-7.76（2H、m、6位と7位プロト
ン）13 C-NMR （重クロロホルム、δppm）：188.2（CH、ホル
ミル基炭素）、159.4（四級炭素、2位炭素）、145.9
（四級炭素、3位炭素）、134.2（四級炭素、4a位炭
素）、133.7（四級炭素、8a位炭素）、132.1（CH、1位
炭素）、130.6（CH、6位又は7位炭素）、130.5（CH、6
位又は7位炭素）、129.8（CH、5位又は8位炭素）、129.
6（CH、5位又は8位炭素）、126.0（CH、4位炭素）3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸 エチルエステル（3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-
2-methyl-2-propenoic acid ethyl ester）の合成 3-ニトロ-2-ナフトアルデヒド9.3g (46mmol)とWittig試
薬（Carbethoxy ethylidene triphenylphosphorane ）1
7.6 g (48.5mmol)（アルドリッチ社製）とをベンゼン 2
00 ml に加え、常温で一夜間撹拌した。TLCにより反応
の終了を確認し、反応液を濃縮して粗生成物を得た。こ
の粗生成物をカラムクロマトグラフィー（アミノプロピ
ル修飾シリカゲル(Fuji silysia chem.co.,NH-DM)，展
開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し、目
的化合物を結晶で13.0g 得た（収率：96%）。本化合物
の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム , δppm)：8.70 (1H, s, 芳香
環3’位プロトン), 8.03-8.00 (2H, m, 芳香環4’位と
7’位プロトン), 7.80 (1H, s, プロペン3位プロト
ン), 7.78 (1H, s, 芳香環8’位プロトン), 7.74-7.63
(2H, m, 芳香環5’位と6’位プロトン), 4.32 (2H, q,
J=7 Hz, エチル基のメチレン基プロトン),3.89 (2H, b
s, NH2), 2.00 (3H, s, プロペン2位結合メチル基のプ
ロトン), 1.37 (3H, t, J=7 Hz, エチル基のメチル基プ
ロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：167.8 (四級炭素,
1位カルボニル炭素), 145.8 (四級炭素,芳香環2’位炭
素), 135.7 (CH, プロペン3位炭素),134.6 (四級炭素,
芳香環7a’位炭素), 131.4 (四級炭素, 芳香環3a’位炭
素), 131.0 (CH,芳香環8’位炭素), 130.0 (四級炭素,
芳香環1’位炭素), 129.9 (CH, 芳香環5’位又は6’位
炭素), 129.4 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭素), 128.3
(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 127.9 (CH, 芳香環
4’位又は7’位炭素), 127.7 (四級炭素,プロペン2位炭
素 ), 125.8 (CH, 芳香環3’位炭素), 61.1 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素), 14.3 (CH3, エチル基のメチ
ル基炭素), 14.0 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素)。3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸 （3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-p
ropenoic acid ）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 エチルエステル5.48g (19 mmol)をメタノール 130 m
l に溶解させ，これに2規定 水酸化ナトリウム水溶液 2
3 ml を加え，40℃にて一夜間撹拌を行った。TLCにより
反応の終了を確認した後，反応液を減圧濃縮し，これに
1規定 塩酸を加えてpH 1 にし析出した結晶を濾別し
た。この結晶を水及び少量のメタノールにて洗浄し，乾
燥して目的化合物を結晶として4.8 g 得た（収率：98
%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認し
た。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：8.90 (1H,
s, 芳香環3’位プロトン), 8.25 -8.12 (2H, m, 芳香
環4’位と7’位プロトン), 8.08 (1H, s, プロペン3位
プロトン), 7.85 (1H, s, 芳香環8’位プロトン), 7.82
-7.71 (2H, m,芳香環5’位と6’位プロトン), 1.93 (3
H, s, プロペン2位結合メチル基のプロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：168.6
(四級炭素,1位カルボニル炭素), 145.6 (四級炭素,芳香
環2’位炭素), 134.9 (CH, プロペン3位炭素),134.2
(四級炭素,芳香環7a’位炭素), 131.0 (CH, 四級炭素,
芳香環8’位炭素), 130.9 (四級炭素, 芳香環3a’位炭
素), 130.0 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭素),129.9
(四級炭素,芳香環1’位炭素), 129.4 (CH, 芳香環5’位
又は6’位炭素),128.3 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭
素), 128.0 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 126.8
(四級炭素,プロペン2位炭素), 125.6 (CH, 芳香環3’
位炭素), 13.7 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素)。3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル （（E）
3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic
acid N-hydroxysuccinimide ester）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸7.8 g (19 mmol) とN-ヒドロキシサクシンイミド 3.2
8 g (28.5mmol)（和光純薬製）をジクロロメタン 90 ml
に溶解し，これにジメチルアミノピリジン230 mg （和
光純薬社製）を加えた。この溶液に氷冷撹拌下1-エチル
-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC-HCl） 5.46 g (28.5 mmol) （和光純薬社製）を
分割投入し、室温に戻して一夜間撹拌した。この反応液
を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶した。この溶
液を洗浄及び乾燥した後、溶媒を留去して得られた粗生
成物をカラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾
シリカゲル(Fuji silysia chem.co.,NH-DM)，展開溶
媒：ヘキサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し，目的化
合物を結晶で6.7g 得た（収率：98%）。本化合物の構造
は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重メチルスルホキシド , δppm)：9.00 (1H,
s, 芳香環3'位プロトン),8.30-8.14(2H, m, 芳香環4'と
7'位プロトン),8.24 (1H, s, プロペン3位プロトンと
芳香環8’位プロトン), 7.86-7.75 (2H, m, 芳香環５’
位と6’位プロトン), 2.89 (4H, s, スクシンイミジル
基のメチレン基プロトン), 2.10 (3H, s,プロペン2位結
合のメチル基プロトン)13 H-NMR (重メチルスルホキシド , δppm)：170.2 (四
級炭素, スクシンイミジル基のカルボニル炭素), 163.0
(四級炭素,1位カルボニル炭素), 145.0 (四級炭素, 芳
香環２’位炭素), 134.2 (CH, プロペン3位炭素), 131.
4 (CH, 芳香環8’位炭素), 130.4 (CH, 芳香環5’位又
は6’位炭素), 129.7 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭
素), 128.8 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭素)), 128.2
(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素)), 126.1 (CH, 芳香環
3’位炭素), 125.6 (四級炭素, プロペン2位炭素), 2
5.5 (CH2, スクシンイミジル基のメチレン基炭素), 13.
7 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。（E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミドエステル
（（E） 3-（2-Amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2- pr
openoic acid N-hydroxysuccinimide ester）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル6.7 g (19
mmol)を酢酸 70 mlと水 5mlとの混合溶媒に溶解し，鉄
粉 4.7g（Iron powder, 89.5 mmol）（小宗化学社製）
を加えて70℃に加熱した．1.5時間の反応後，不溶物を
濾別し，濾液を水300 ml へ加えた。これを酢酸エチル4
00mlにて2回抽出し，得られた溶液を水，重曹水，飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。これを無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、濃縮して目的化合物を4.2 g 得
た（収率66%）。本化合物の構造は，1H-NMRにより確認
した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：7.94 (1H,
s, プロペン3位プロトン）, 7.77 (1H, s, 芳香環8’
位プロトン), 7.73-7.49 (2H, m, 芳香環4’位と7’位
プロトン）, 7.36-7.12 (2H, m, 芳香環5’位と6’位プ
ロトン）, 7.04 (1H, s, 芳香環3’位プロトン), 3.30
(2H, アミノ基プロトン), 2.87 (4H, s, スクシンイミ
ジル基のメチレンプロトン), 2.18 (3H, s, プロペン2
位結合メチル基プロトン)。3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸エチルエステル（3-（2-Amino-4、5-dimetho
xyphenyl）-2-methyl-2-propenic acid ethyl ester）
の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸エチルエステル19.0 gを氷酢酸250ml に溶解
し、これに鉄粉 15.0 gとイオン交換水20mlとを加え、4
0分間加熱環流を行った。この反応液を濾過し、濾液を
減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチルに転溶した。こ
れを水、5％重曹水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で一晩放置し乾燥し
た。この溶液から酢酸エチルを減圧留去し、得られた粗
生成物をヘキサン・エタノールから再結晶して目的の化
合物12.5 gを得た（収率78 %）。本化合物の構造は1H-N
MR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.57（1H、s、プロ
ペン酸3位プロトン）、6.68（1H、s、芳香環6’位プロ
トン）、6.29（1H、s、芳香環3’位プロトン）、4.25
（2H、q、J=7 Hz、エチル基のメチレン基プロトン）、
3.84（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.79
（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.57（2
H、bs、アミノ基プロトン）、2.03（3H、s、プロペン2
位のメチル基プロトン）、1.33（3H、t、J=7 Hz、エチ
ル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.6（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、150.6（四級炭素、芳香環
4’位炭素）、141.6（四級炭素、芳香環2’位炭素）、1
39.6（四級炭素、芳香環5’位炭素）、134.6（CH、プロ
ペン3位炭素）、128.2（四級炭素、プロペン2位炭
素）、113.5（CH、芳香環6’位炭素）、112.7（四級炭
素、芳香環1’位炭素）、100.3（CH、芳香環3’位炭
素）、60.8（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.7
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.8（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、14.4（CH3、エチル基のメチ
ル基炭素）、14.3（CH3、プロペン2位のメチル基炭
素）。（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸（（E） 3-（2-amino-4、5-dimethox
yphenyl）-2-methyl-2-propenoic acid）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸エチルエステル1.0gをテトラヒドロ
フラン（THF）10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液10mlを加えて40℃にて4時間反応させた。反
応終了後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、析出した結
晶を濾別して、目的の化合物0.85gを得た（95%）。本化
合物の構造は1H-NMRと13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.51(1H、
s、プロペン酸3位プロトン）、6.70(1H、s、芳香環6'位
プロトン）、6.42(1H、s、芳香環3'位プロトン)、3.72
(3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.65(3H、
s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.36(2H、bs、ア
ミノ基プロトン）、1.98(3H、s、プロペン２位のメチル
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.7
（四級炭素、1位カルボニル炭素）、150.7（四級炭素、
芳香環4'位炭素）、142.6（四級炭素、芳香環2'位炭
素）、139.8（四級炭素、芳香環5'位炭素）、134.7（C
H、プロペン3位炭素）、125.2（四級炭素、プロペン2位
炭素）、114.3（CH、芳香環6'位炭素）、111.0（四級炭
素、芳香環1'炭素）、100.1（CH、芳香環3'炭素）、60.
8（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.5（CH3、メ
トキシ基のメチル基炭素）、55.1（CH3、メトキシ基の
メチル基炭素）、14.4（CH3、エチル基のメチル基炭
素）、14.3（CH3、プロペン2位のメチル基炭素）。（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル（（E）
3-（2-Amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-prop
enic acid p-nitrophenyl ester ）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 0.82 g （3.5 mmol）と p-ニトロフ
ェノール 0.97g（7 mmol）（和光純薬社製）とをジクロ
ロメタン20 mlに溶解し、これにジメチルアミノピリジ
ン 40 mg（和光純薬社製）を加えた。これに氷冷撹拌下
1-エチル-3-（3-ジメチルアミノプロピル）-カルボジイ
ミド塩酸塩（EDC/HCl）0.81g（4.2 mmol）（和光純薬社
製）を分割投入し、室温に戻して20時間撹拌した。反応
の終点をTLCにより確認した後、反応液を減圧で濃縮
し、酢酸エチル100ml に転溶した。この溶液を洗浄及び
乾燥した後、溶媒を留去しあめ状の粗生成物を得た。こ
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサ
ン：酢酸エチル=2：1）にて精製し、目的の化合物を0.1
5 g 黄色結晶として得た（収率12%）。本化合物の構造
は1H-NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.31（2H、d、J=9
Hz、p-ニトロフェニルオキシ基2”位と6”位プロト
ン）、7.88（1H、s、プロペン3位プロトン）、7.36（2
H、d、J=9 Hz、p-ニトロフェニルオキシ基3”位と5”位
プロトン）、6.79（1H、s、シンナミル芳香環6’位プロ
トン）、6.33（1H、s、シンナミル芳香環3’位プロト
ン）、3.88（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.84（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.68（2H、bs、アミノ基プロトン）、2.20（3H、
s、プロペン2位メチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：166.2（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、156.1（四級炭素、p-ニトロ
フェニルオキシ基1”位炭素）、151.5（四級炭素、シン
ナミル芳香環4’位炭素）、145.2（四級炭素、p-ニトロ
フェニルオキシ基4”位炭素）、141.9（四級炭素、シン
ナミル芳香環2’位炭素）、140.3（四級炭素、シンナミ
ル芳香環5’位炭素）、137.7（CH、プロペン3位炭
素）、125.6（四級炭素、プロペン2位炭素）、125.2（C
H、p-ニトロフェニルオキシ基3”位と5”位炭素）、12
2.6（CH、p-ニトロフェニルオキシ基2”位と6”位炭
素）、113.4（CH、シンナミル芳香環6’位炭素）、112.
0（quaternary、シンナミル芳香環1’位炭素）、100.4
（CH、シンナミル芳香環3’位炭素）、56.7（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメ
チル基炭素）、14.5（CH3、プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 フェニルエチルアミド （（E） 3-
（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propen
ic acid phenethyl amide の合成 上記得られた（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエス
テル0.72g（2.0 mmol）と、2-フェニルエチルアミン 0.
48g（4.0 mmol）（東京化成（株）社製）とをジメチル
ホルムアミド30ｍｌに溶解し、室温にて一夜間反応させ
た。溶媒を減圧で除き、残渣を酢酸エチルに転溶した。
この溶液を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒を減圧で除いて粗生成物を得た。これをアミノ
プロピル修飾タイプシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（n-ヘキサン：酢酸エチル=1：1）にて精製し目的化
合物を0.68g得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-
NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.35 - 7.30（2H、
m、フェネチル芳香環２”と６”位プロトン）、7.26 -
7.21（4H、m、プロペン３位プロトン位とフェネチル芳
香環３”、4”、５”位プロトン）、6.60（1H、s、シン
ナメート芳香環６’位プロトン）、6.29（1H、s、シン
ナメート芳香環３’位プロトン）、5.93（1H、bs、アミ
ド基のアミノプロトン）、3.84（3H、s、メトキシ基の
メチル基プロトン）、3.78（3H、s、メトキシ基のメチ
ル基プロトン）、3.64 ppm（2H、dt、J=7 Hz、フェネチ
ルのメチレン基プロトン）、3.54 ppm（2H、s、アミノ
基プロトン）、2.90 ppm（2H、t、J=7 Hz、フェネチル
のメチレン基プロトン）、1.96 ppm（3H、s、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム δppm）：169.1（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、150.2（四級炭素、シンナ
メート芳香環４’位炭素）、141.6（四級炭素、シンナ
メート芳香環２’位炭素）、139.2（四級炭素、 シンナ
メート芳香環５’位炭素）、139.0（四級炭素、フェネ
チル芳香環１”位炭素）、131.7（四級炭素、プロペン
２位炭素）、130.3（CH、プロペン３位炭素）、128.8
（CH、フェネチル芳香環２”と６”位炭素）、128.7（C
H、フェネチル芳香環３”と５”位炭素）、126.7（CH、
フェネチル芳香環４”位炭素）、113.7（CH、シンナメ
ート芳香環６’位炭素）、112.8（四級炭素、シンナメ
ート芳香環１’位炭素）、100.4（CH、シンナメート芳
香環３’位炭素）、56.7（CH3、メトキシ基のメチル基
炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、41.
0（CH2、フェネチルのメチレン基炭素）、35.7（CH2、
フェネチルのメチレン基炭素）、14.3（CH3、プロペン
２位結合のメチル基炭素）。（E） N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキ
シフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-
L-glutamic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxypheny
l）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.72g
（2.0 mmol）をテトラヒドロフラン80ｍｌに溶解し、こ
れにＬ-グルタミン酸2.3g（10 mmol）を0.5規定炭酸水
素ナトリウム水溶液160ｍｌに溶解したものを加え、室
温にて一夜間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えてp
H4に調整した後、そのまま減圧濃縮した。この残渣を一
旦水 30 ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、これを凍結乾燥して目的化合物0.74 g を
得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-
NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H、d、J=7.5 Hz、アミド基プロトン）、7.34（1H、s、
プロペン酸3位プロト）、7.24（1H、s、芳香環3’位プ
ロトン）、6.94（1H、s、芳香環6’位プロトン）、4.36
（1H、ddd、J=9.3Hz、7.7Hz、5.5Hz、グルタミン酸部α
位メチン基プロトン）、4.10（2H、bs アミノ基プロト
ン）、3.82（6H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、2.47（2H、 dd、J=7.5Hz、7.5Hz、グルタミン酸
部ガンマ位メチレン基プロトン）、2.07（2H、m、グル
タミン酸部β位メチレン基プロトン）、1.97（3H、s、
プロペン2位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.3、1
69.1、169.0（四級炭素、グルタミン酸部カルボニル炭
素と1位カルボニル炭素）、148.6（四級炭素、芳香環
4’位炭素）、147.8（四級炭素、芳香環2’位炭素）、1
35.1（四級炭素、芳香環5’位炭素）、126.9（CH、プロ
ペン3位炭素）、122.6（四級炭素、芳香環1’位炭
素）、112.8（CH、芳香環6’位炭素）、107.6（CH、芳
香環3’位炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメチル基炭
素）、55.7（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、51.7
（CH、グルタミン酸部α位メチン基炭素）、30.3（C
H2、グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素）、26.0
（CH2、グルタミン酸部β位メチレン基炭素）、14.5（C
H3、プロペン2位結合のメチル基炭素）。（E） N-（o-ジ-t-ブチルオキシ）-L-グルタミン酸 3-
（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド （（E） N-（o-Di-t-butyloxy）-L-gl
utamic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-m
ethyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.36g
（1.0 mmol）と、グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩
酸塩0.89g（3.0 mmol）（シグマ社製）とをテトラヒド
ロフラン200ｍｌに溶解し、室温にて4時間反応させた。
溶媒を減圧で除き、残渣を酢酸エチルに転用した。この
溶液を洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濃
縮して粗生成物 を得た。これをカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fuji s
ilysia chem. co.、NH-DM1020 1000 g 、溶離液 ヘキ
サン/酢酸エチル 1：1）により精製し、目的物0.48gを
得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-
NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.34（1H、s、プロ
ペン酸3位プロトン）、6.75（1H、d、J=7.3Hz、アミド
基プロトン）、6.63（1H、s、芳香環6’位プロトン）、
6.30（1H、s、芳香環3’位プロトン）、4.59（1H、dt、
J=7.3Hz、4.6Hz、グルタミン酸部α位メチン基プロト
ン）、3.85（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.80（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.59（2H、bs、アミノ基プロトン）、2.39 （2
H、m、グルタミン酸部ガンマ位メチレン基プロトン）、
2.25（2H、m、グルタミン酸部β位メチレン基プロト
ン）、2.05（3H、s、プロペン2位のメチル基プロト
ン）、1.50（9H、s、ブチル基のメチル基プロトン）、
1.45（9H、s、ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：172.6（四級炭
素、グルタミン酸部カルボニル炭素）、171.2（グルタ
ミン酸部カルボニル炭素）、168.7（四級炭素、1位カル
ボニル炭素）、150.4（四級炭素、芳香環4’位炭素）、
141.6（四級炭素、芳香環2’位炭素）、139.2（四級炭
素、 芳香環5’位炭素）、131.1（CH、プロペン3位炭
素）、131.1（四級炭素、プロペン2位炭素）、113.6（C
H、芳香環6’位炭素）、112.8（四級炭素、芳香環1’位
炭素）、100.3（CH、芳香環3’位炭素）、82.4（四級炭
素、ブチル基炭素）、80.8（四級炭素、ブチル基炭
素）、56.7（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.8
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、52.8（CH、グル
タミン酸部α位メチン基炭素）、31.7（CH2、グルタミ
ン酸部ガンマ位メチレン基炭素）、28.1（CH3、ブチル
基のメチル基炭素）、27.5（CH2、グルタミン酸部β位
メチレン基炭素）、14.2（CH3、プロペン2位のメチル基
炭素）。エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロペネ
ート（Ethyl 2-methyl-3-（2-nitrophenyl）-2-propena
te）の合成 2-ニトロベンズアルデヒド 21.0 （139.0 mmol）（アル
ドリッチ社製）、Wittig試薬（Carbethoxyetylidene tr
iphenylphosphorane） 50.0 g（138.0 mmol）（アルド
リッチ社製）をベンゼン500 ml に溶解し、室温にて一
夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した後、反
応液を減圧濃縮し、これにエタノールを加え、析出した
結晶を濾別した。この濾液を減圧濃縮して得られた油状
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン=1／4）で精製し
て、目的化合物を油状物質として32.1 g 得た（収率98.
2 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより決定
した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.13（d、1H、芳香
環３’位プロトン ）、7.90（s、1H、プロペン3位プロ
トン）、7.66（dd、1H、芳香環５’位プロトン）、7.51
（dd、1H、芳香環4’位プロトン）、7.37（d、1H、芳香
環６’位プロトン）、4.30（q、2H、エチル基のメチレ
ン基プロトン）、1.90（s、3H、プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン）、1.36（t、3H、エチル基のメチルプロ
トン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.6（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、147.8（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、135.3（CH、プロペン3位炭素）、133.2
（CH、芳香環５’位炭素）、132.0（四級炭素、芳香環
１’位炭素）、131.3（CH、芳香環４’位炭素）、130.6
（四級炭素、プロペン2位炭素）、128.9（CH、芳香環
６’位炭素）、124.9（CH、芳香環３’位炭素）、61.1
（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチ
ル基のメチル基炭素）、14.0（CH3、プロペン2位結合メ
チル基炭素）。2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロペン酸
（（E） 2-Methyl-3-（2-nitrophenyl）-2-propenoic a
cid）の合成 エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロペネ
ート11.8 g（50.2 mmol）をメタノール 200 ml に溶解
させ、これに2規定 水酸化ナトリウム水溶液 200ml を
加え、40℃にて一夜撹拌を行った。TLCにより反応の終
了を確認した後、反応液を減圧濃縮し、これに1規定 塩
酸を加えてpH 1 にしたものを酢酸エチルに転溶した。
この溶液を水にて3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
を加えて一夜間乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過した
後、濾液を減圧濃縮して目的化合物を結晶として10.2 g
得た（収率：98.0 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び
13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：12.69（b
s、1H、カルボキシル基プロトン）、8.15（d、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.80（dd、1H、芳香環５’位プロ
トン）、7.76（s、1H、プロペン３位プロトン）、7.64
（dd、1H、芳香環４’位プロトン）、7.53（d、1H、芳
香環６’位プロトン）、1.82（s、3H、プロペン２位結
合のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：168.5
（四級炭素、カルボキシル基炭素）、147.5（四級炭
素、芳香環２’位炭素）、134.5（CH、プロペン３位炭
素）、133.7（CH、芳香環５’位炭素）、131.3（CH、芳
香環６’位炭素）、130.9（四級炭素、芳香環１’位炭
素）、130.5（四級炭素、プロペン２位炭素）、129.4
（CH、芳香環４’位炭素）、124.5（CH、芳香環３’位
炭素）、13.7（CH3、プロペン２位結合のメチル基炭
素）。（E） エチル 3-（2-アミノフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペネート（（E） Ethyl3-（2-aminophenyl）-2-methy
l-2-propenate）の合成 （E） エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プ
ロペネート 10 g （42.5mmol）を酢酸160 ml に溶解
し、撹拌しながら鉄粉 10.9 g（195.2 mmol）（Koso ch
em. Co.）及び蒸留水 12 ml を室温にて加え、昇温し、
100℃にて1時間環流を行った。TLCにより反応の終点を
確認した後、反応液を冷却し、酢酸を減圧留去して、こ
れに酢酸エチルを加えて不溶解物を濾取した。濾液に水
を加え分液し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液の順で洗浄した後、硫酸ナトリウムを加えて一晩乾
燥させた。無水硫酸ナトリウムを濾別した後、濾液を減
圧濃縮し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン=1／3）で精製して、目的化合物を油状物として6.4
g 得た（収率：71.5 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び
13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）:7.60（s、1H、プロ
ペン３位プロトン）、7.14（dd、1H、芳香環４’位プロ
トン）、7.10（d、1H、芳香環６’位プロトン）、6.77
（dd、1H、芳香環５’位プロトン）、6.72（d、1H、芳
香環3'位プロトン）、4.27（q、2H、エチル基のメチレ
ン基プロトン）、3.74（bs、2H、アミノ基プロトン）、
2.00（s、3H、プロペン2位結合のメチル基プロトン）、
1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.4（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、144.5（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.9（CH、プロペン３位炭素）、130.2
（四級炭素、プロペン2位炭素）、129.6（CH、芳香環
４’位炭素）、129.4（CH、芳香環６’位炭素）、121.3
（四級炭素、芳香環１’位炭素）、118.1（CH、芳香環
５’位炭素）、115.5（CH、芳香環３’位炭素）、60.8
（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチ
ル基のメチル基炭素）、14.1（CH3、プロペン2位結合の
メチル基炭素 ）。エチル 3-（4-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート（Ethyl 3-（4-chloro-2-nitrophenyl）-2
-methyl-2-propenate）の合成 4-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド 10.0g （53.8mmo
l）（アルドリッチ社製）とWittig試薬（Carbethoxy et
ylidene triphenylphosphorane ）18.1 g （50.0mmol）
（アルドリッチ社製）とをベンゼン 200 ml 中、常温で
一夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した後、
反応液を濃縮して粗生成物を得た。これをカラムクロマ
トグラフィー（アミノプロピル修飾シリカゲル（Fuji s
ilysia chem.co.、NH-DM）、展開溶媒：ヘキサン／酢酸
エチル=1／1）にて精製し、目的化合物 を結晶で13.1g
得た（収率：97%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-N
MRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.14（s、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.82（s、1H、プロペン３位プロ
トン）、7.64（d、1H、芳香環５’位プロトン）、7.32
（d、1H、芳香環６’位プロトン）、4.29（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、1.90（s、3H、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）、1.36（t、3H、エチル
基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.4（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、148.0（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.8（四級炭素、 芳香環４’位炭
素）、134.1（CH、プロペン３位炭素）、133.4（CH、芳
香環５’位炭素）、132.5（CH、芳香環６’位炭素）、1
31.3（四級炭素、芳香環１’位炭素）、130.3（四級炭
素、プロペン２位炭素）、125.1（CH、芳香環３’位炭
素）、61.3（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3
（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.1（CH3、プロペ
ン２位結合のメチル基炭素 ）。（E） エチル 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メ
チル-2-プロペネート （（E） Ethyl 3-（2-amino-4-ch
lorophenyl）-2-methyl-2-propenate ）の合成 エチル 3-（4-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート11.0gを酢酸170 ml に溶解し、撹拌しなが
ら鉄粉 10.9 g （195.2 mmol）（Koso chem.Co.）及び
蒸留水 13 ml を室温にて加え、昇温し、97℃にて2時間
反応を行った。TLCにより反応の終点を確認した後、反
応液を冷却し、酢酸を減圧留去した。これに水300 ml
、酢酸エチル400 mlを加えて不溶解物を濾別し、濾液
を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム
水溶液の順で洗浄した後、硫酸ナトリウムを加えて一夜
間乾燥させた。硫酸ナトリウムを濾別した後、濾液を減
圧濃縮して9.8 gの粗結晶を得た。これをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾シリカゲ
ル（Fuji silysia chem.co.、NH-DM1020）、展開溶媒：
ヘキサン／酢酸エチル=2／1）にて精製し、目的化合物
を結晶として7.2 g得た（収率：73.3 %）。本化合物の
構造は1H-NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.50（s、1H、プロ
ペン3位プロトン）、7.01（d、1H、芳香環６’位プロト
ン）、6.73（d、1H、芳香環５’位プロトン）、6.72
（s、1H、芳香環３’位プロトン）、4.27（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、3.68（bs、2H、アミノ基
プロトン）、1.98（s、3H、プロペン２位結合のメチル
基プロトン）、1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロ
トン）13 C-NMR （重クロロホルム、δppm）：168.2（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、145.6（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.9（四級炭素、芳香環４’位炭
素）、133.8（CH、プロペン3位炭素）、130.9（四級炭
素、プロペン２位炭素））、130.7（CH、芳香環６’位
炭素）、119.6（四級炭素、芳香環１’位炭素）、118.2
（CH、芳香環５’位炭素）、115.2（CH、芳香環３’位
炭素）、61.0（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.
3（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.2（CH3、プロ
ペン２位結合のメチル基炭素）。エチル3-（5-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート（Ethyl 3-（5-chloro-2-nitrophenyl）-2
-methyl-2-propenate）の合成 5-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド10.0g （53.8mmo
l）（アルドリッチ社製）とWittig試薬（Carbethoxy et
ylidene triphenylphosphorane ）18.1 g （50.0mmol）
（アルドリッチ社製）とをベンゼン 200 mlに加え、常
温で一夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した
後、反応液を濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物を
カラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾シリカ
ゲル（Fujisilysia chem.co.、NH-DM）、展開溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し、目的化合物を
結晶で13.3g 得た（収率：98%）。本化合物の構造は1H-
NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.11（d、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.83（s、1H、プロペン3位プロト
ン）、7.47（d、1H、芳香環４’位プロトン）、7．３４
（s、1H、芳香環６’位プロトン）、4.30（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、1.91（s、3H、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）、1.35（t、3H、エチル
基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.3（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、146.1（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、139.8（四級炭素、芳香環５’位炭
素）、134.1（CH、プロペン3位炭素）、133.8（四級炭
素、芳香環１’位炭素）、131.4（四級炭素、プロペン
２位炭素）、131.1（CH、芳香環６’位炭素）、129.0
（CH、芳香環４’位炭素）、126.4（CH、芳香環３’位
炭素）、61.3（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.
2（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.0（CH3、プロ
ペン２位結合のメチル基炭素）。（E） エチル 3-（2-アミノ-5-クロロフェニル）-2-メ
チル-2-プロペネート （（E） Ethyl 3-（2-amino-5-ch
lorophenyl）-2-methyl-2-propenate ）の合成 エチル3-（5-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート11.0 （41.0 mmol）を酢酸170 ml に溶解
し、これに鉄粉 10.9 g （195.2 mmol）（Koso chem. C
o.）及び蒸留水 13 ml を室温にて撹拌しながら加えた
後、昇温し、97℃にて2時間反応を行った。TLCにより反
応の終点を確認した後、反応液を冷却し、酢酸を減圧留
去し、これに水300 ml 、酢酸エチル400 mlを加えて不
溶解物を濾別した。この濾液を水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄した後、
硫酸ナトリウムを加えて一晩乾燥させた。硫酸ナトリウ
ムを濾過した後、濾液を減圧濃縮し、9.8gの油状の粗生
成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（アミノプロピル修飾シリカゲル（Fuji silysia che
m.co.、NH-DM1020）、展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル
=2／1）にて精製し、目的化合物を油状物として7.2 g
得た（収率：73.3 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
C-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.49（s、1H、プロ
ペン3位プロトン）、 7.07（d、1H、芳香環４’位プロ
トン）、7.05（s、1H、芳香環６’位プロトン）、6.64
（d、1H、芳香環３’位プロトン）、4.27（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、3.74（bs、2H、アミノ基
プロトン）、1.99（s、3H、プロペン２位結合のメチル
基プロトン）、1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロ
トン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.0（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、143.2（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、133.6（CH、プロペン3位炭素）、131.4
（四級炭素、プロペン２位炭素）、129.1（CH、芳香環
４’又は６’位炭素）、128.9（CH、芳香環４’又は
６’位炭素）、122.6（四級炭素、芳香環１’又は５’
位炭素）、122.5（四級炭素、芳香環１’又は５’位炭
素）、116.7（CH、芳香環３’位炭素）、61.0（CH2、エ
チル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチル基のメ
チル基炭素）、14.2（CH3、プロペン２位結合のメチル
基炭素）。（E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸エチルエステル （（E） 3-（2-Amino-ben
zo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic acid ethyl este
r）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 エチルエステル 2.0 g (7 mmol)を酢酸30 ml に溶解
し，これに鉄粉 1.73 g [Koso chem. Co.]及び蒸留水
2.5 ml を室温にて撹拌しながら加え，昇温し，70℃に
加熱した。1.5時間の反応後，不溶物を濾別し，濾液を
水100 ml へ投入して、酢酸エチル100mlによる抽出を２
回行った。得られた酢酸エチル溶液を水，重曹水，飽和
塩化ナトリウム水で順次洗浄し，無水硫酸ナトリウム上
で乾燥した後、濃縮して油状物を得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル，展開溶媒：
酢酸エチル／ヘキサン=1／5）で精製して，目的化合物
を油状物として1.4 g 得た（収率：77 %)。本化合物の
構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム , δppm)：7.73 (1H, s, プ
ロペン3位プロトン), 7.70-7.58 (2H, m, 芳香環4’位
と7’位プロトン）, 7.58 (1H, s, 芳香環8’位プロト
ン), 7.40-7.20 (2H, m, 芳香環5’位と6’位プロト
ン), 7.04 (1H, s, 芳香環位プロトン), 4.31 (2H, q,
J=7 Hz, エチル基のメチレン基プロトン), 3.89 (2H, b
s, アミノ基プロトン), 2.06 (3H, s, プロペン2位結合
メチル基のプロトン), 1.37 (3H, t, J=7 Hz, エチル基
のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：168.2 (四級炭素,
1位カルボニル炭素), 142.6 (四級炭素,芳香環2’位炭
素), 134.8 (CH, プロペン3位炭素),134.7 (四級炭素,,
芳香環3a’位炭素), 131.6 (四級炭素,プロペン2位炭
素 ), 129.2 (CH,芳香環5’位又は6’位炭素), 127.9
(CH, 芳香環5’位又は6’位炭素), 127.5 (四級炭素,芳
香環7a’位炭素), 126.8 (CH, 芳香環4’位又は7’位
炭素), 125.5(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 124.8
(四級炭素,芳香環1’位炭素), 122.9(CH, 芳香環8’位
炭素), 109.2 (CH, 芳香環3’位炭素), 61.0 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素), 14.4 (CH3, エチル基のメチ
ル基炭素), 14.3 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素）。4-ジメチルアミノ-2-ニトロベンジルアルデヒド(4-Dime
thylamino-2-nitrobenzaldehyde)の合成 窒素雰囲気下，冷却したジメチルホルムアミド(DMF)88
ml にオキシ塩化リン（Phosphorous oxychloride）51 g
（0.33 mol）（和光純薬社製）を滴下した。滴下時の温
度が2〜4℃を保つように滴下速度を調節し、滴下終了後
更に2℃で30分間撹拌を続けた。これにニトロジメチル
アニリン(N,N-Dimethyl-3-nitroaniline) 54.8 g（0.33
mol）（東京化成工業社製）のジメチルホルムアミド70
ml溶液を、反応温度が5℃を超えないように滴下し、そ
のまま2時間撹拌した。その後、徐々に温度を上げ60℃
で一夜間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、激し
く撹拌した氷水500 ml中に注加した。これに酢酸ナトリ
ウムを加えて約pH8に調製し、析出した結晶を濾別、乾
燥し、粗生成物50.2 gを得た。これをアセトン-ノルマ
ルヘキサンから再結晶して、目的物21 gを得た（収率33
％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；10.12 (1H, s, ホル
ミル基プロトン)，7.91(1H, d, J=9 Hz, 6位プロト
ン)，7.10 (1H, s, 3位プロトン)，6.85 (1H, d, J=9 H
z, 5位プロトン)，3.15 (6H, s, ジメチルアミノ基プロ
トン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；186.7 (CH, ホルミ
ル基)，153.6 (四級炭素, 4位炭素)，152.7 (四級炭素,
2位炭素)，131.4 (CH, 6位炭素)，117.5 (四級炭素, 1
位炭素)，114.3 (CH, 5位炭素），105.8 (CH, 3位炭
素)，40.4 (CH3,ジメチルアミノ基メチル基炭素)。(E) エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2
-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dimethylami
no-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）の合成 4-ジメチルアミノ-2-ニトロベンジルアルデヒド(4-Dime
thylamino-2-nitrobenzaldehyde) 20.0 g (0.10 mol)
とカルベエトキシ-エチリデン トリフェニルホスホラ
ン（Carbethoxy ethylidene triphneylphosphorane）
（Aldrich社製）36.2 g (0.10 mol)とをベンゼン(benze
ne) 250 mlに溶解し、室温にて一夜間撹拌した。溶媒を
減圧留去して58 g の粗生成物を得、これをカラムクロ
マトグラフィー（アミノプロピル化シリカゲルFuji sil
ysia chem. Co., NH-DM1020 ）で精製して目的化合物を
結晶として20.8 g得た（収率；74.7%）。本化合物の構
造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.81 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.33 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン)，7.23 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環６’位プロトン)，
6.86 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環５’位プロトン)，4.27
(2H, q, J = 7Hz,エチル基のメチレン基プロトン)，3.0
6 (6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，1.9
6 (3H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)，1.34
(3H, t,J=7Hz, エチル基のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；168.2 (四級炭素,
１位カルボニル炭素)，150.2 (四級炭素, 芳香環2’位
炭素)，149.1 (四級炭素, 芳香環４’位炭素)，135.7
(CH, プロペン酸3位炭素)，132.0 (CH, 芳香環６’位炭
素)，128.2 (四級炭素, プロペン２位炭素)，118.0 (四
級炭素, 芳香環１’位炭素)，115.7 (CH, 芳香環５’位
炭素)，107.0 (CH, 芳香環３’位炭素)，60.8 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素)，40.2 (CH3, ジメチルアミノ
基のメチル基炭素)，14.3 (CH3, エチル基のメチル基炭
素)，14.1 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。(E) エチル 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-2
-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(2-amino-4-dim
ethylaminophenyl)-2-methyl-2-propenate）の合成 暗室にて、エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェ
ニル)-2-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dime
thylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）20.
5 g (0.07 mol)、トリエチルアミン（Triethylamine）
（和光純薬社製）33.4 g (0.33 mol) 及び10 % Pd/C 2.
1 g をアセトニトリル(acetonitrile) 200ml に溶解
し、これに蟻酸 (formic acid)（和光純薬社製）13.8 g
(0.30 mol)を室温にて滴下した。滴下と共に反応温度
は上昇し、45℃となった。滴下終了後、反応液を60℃に
加熱して1 時間撹拌した。反応の終了をTLCで確認した
後、反応液を室温まで冷却し、不溶物を濾別し、濾液を
減圧濃縮した後、これを酢酸エチル400 ml に転溶し
た。この溶液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄し、更に無水硫酸ナ
トリウムにより乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物17.4
g を得た。これをノルマルヘキサン-酢酸エチルから再
結晶させ、目的化合物4.67 g を得た（収率；27 %）。
本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.60 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.08 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，6.19 (1H, d, J=8 Hz, 芳香環5’位プ
ロトン)，6.01 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，4.23
(2H, q, J = 7Hz, エチル基のメチレン基プロトン)，3.
74 (2H, bs, アニリン性アミノ基プロトン），2.94 (6
H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，2.04 (3
H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)，1.31 (3
H, t, J=7Hz, エチル基のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；169.1 (四級炭素,
１位カルボニル炭素)，151.7 (四級炭素, 芳香環2’位
炭素)，146.2 (四級炭素, 芳香環４’位炭素)，134.7
(CH, プロペン酸3位炭素)，130.9 (CH, 芳香環６’位炭
素)，125.7 (四級炭素, プロペン２位炭素)，110.4 (四
級炭素, 芳香環１’位炭素)，103.3 (CH, 芳香環５’位
炭素)，98.5 (CH, 芳香環３’位炭素)，60.5 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素)，40.2 (CH3, ジメチルアミノ
基のメチル基炭素)，14.4 (CH3, エチル基のメチル基炭
素)，14.4 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。(E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸（(E) 3-(4-dimethylamino-2-nitrophen
yl)-2-methyl-2-propenoic acid）の合成 (E) エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2
-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dimethylami
no-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）15.0 g (5
3.9 mmol)をメタノール 150 mlに溶解し，これに水酸化
ナトリウム 3.2g (80 mmol)を加えて45℃にて5.5時間撹
拌した。反応液から溶媒を減圧留去した後，残渣を水10
0 mlに溶解し、これに２規定塩酸を加えて中性に調整し
た．析出した結晶を濾別し、水で十分に洗浄した後乾燥
させ、目的化合物を12.1 g 結晶として得た（収率；89.
7 ％）。本化合物の構造は1H-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.93 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.33 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，7.24 (1H, d, J=8 Hz, 芳香環5’位プ
ロトン)，6.87 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，3.05
(6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，1.97
(3H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)(E) 3-(4,5-ジメトキシ-2-メチルアミノフェニル)-2-メ
チル-2-プロペン酸((E)3-(4,5-dimethoxy-2-methylamin
ophenyl)-2-methyl-2-propenic acid)の合成 暗室内にて(E) 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-
2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル3.0ｇ（11.3 mmo
l）とトリフルオロ酢酸無水物（和光純薬社製）18 mlと
を混合し、室温にて一夜間攪拌した。未反応のトリフル
オロ酢酸無水物及びトリフルオロ酢酸を減圧下留去し、
(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(N-トリフルオロアセチル)ア
ミノフェニル]-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル
を3.8g得た。これをテトラヒドロフランに溶解し、この
溶液にヨウ化メチル（和光純薬社製）8 mlと炭酸カリウ
ム（和光純薬社製）1.1 g とを加えて一夜間還流した。
反応終了をTLCにて確認後反応液を減圧下濃縮して粗生
成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（シリカゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia che
m. Co., NH-DM1020，溶媒：ノルマルヘキサン／酢酸エ
チル＝４／１）にて精製し、(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-
（N-メチル-N-トリフルオロアセチル）アミノフェニル]
-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステルを3.7ｇ得た。
更にこれをジオキサンに溶解し、２規定水酸化ナトリウ
ム水溶液50mlを加えて40℃にて一夜間反応させた。この
反応液を減圧下濃縮した後、過剰のアルカリおよび不純
物塩を除去する目的で固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-
20（三菱化学社製）を用いたカラムにアプライし、水で
溶出することで脱塩を行い、引き続きメタノールにて溶
出し、これを凍結乾燥して目的物を2.3 g得た（収率：7
5 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR (重メタノール δppm)；7.13 (1H, s, プロペ
ン酸部3位プロトン), 6.73 (1H, s, 芳香環6’位プロト
ン), 6.30 (1H, s, 芳香環3’位プロトン), 3.85(3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.73 (3H, s, メ
トキシ基のメチル基プロトン)，2.81（3H, s, アニリン
性アミノ基結合メチル基プロトン），1.94(3H, s, プロ
ペン酸部2位結合のメチル基プロトン)13 C-NMR (重メタノール，δppm)，178.4（四級炭素，
プロペン酸1位カルボニル炭素)，151.6（四級炭素,芳香
環4’位炭素)，144.8（四級炭素, 芳香環5’位炭素)，
141.1（四級炭素，芳香環2’位炭素)，136.6 (四級炭
素,プロペン酸部2位炭素)，130.3(CH, プロペン酸部3位
炭素)， 117.1 (CH, 芳香環6’位炭素)，115.7 (四級炭
素, 芳香環1’位炭素)， 97.2（CH, 芳香環3’位炭
素)， 58.1（CH3,メトキシ基のメチル基炭素)，56.4 (C
H3, メトキシ基のメチル基炭素)，31.3（CH3, アニリン
性アミノ基結合メチル基炭素），15.6 (CH3, プロペン
酸部2位結合のメチル基炭素)。(E) N-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメトシキ-2-メチルア
ミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミドの合成 暗室内にて(E) 3-（4,5-ジメトキシ-2-メチルアミノフ
ェニル)-2-メチル-2-プロペン酸500mg（ 1.83 mmol）を
ジメチルホルムアミドに溶解し、これに窒素雰囲気下1-
ヒドロキシベンゾトリアゾール ハイドレート-１水和
物（HOBt・H2O）（国産化学株式会社製；Kokusan chemi
cal works）247mg (1.83 mmol)、L-グルタミン酸ジエチ
ルエステル塩酸塩（国産化学株式会社製；Kokusan chem
ical works）438ｍ g（1.83 mmol）及びN,N’-ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（DCC）（和光純薬社製）377 g
（1.83 mmol）を加えて室温にて一夜間撹拌した。反応
終了後沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮してその残渣
を酢酸エチルに転溶した。この有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、20%クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムによる乾燥の後、濃縮して
粗生成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia chem. C
o., NH-DM1020，溶出液：ノルマルヘキサン／酢酸エチ
ル＝9／1）により精製し、(E) N-L-グルタミン酸ジエチ
ルエステル 3-(4,5-ジメトシキ-2-メチルアミノフェニ
ル)-2-メチル-2-プロペン酸アミドを700 mg得た。更に
これをジオキサンに溶解し、2規定水酸化ナトリウム水
溶液3 ml を加えて一夜間攪拌した。反応終了を確認後
反応液を減圧下濃縮し、過剰のアルカリおよび不純物塩
を除去する目的で、固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-20
（三菱化学社製）を用いたカラムにアプライし、水で溶
出することで脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶
液にて溶出し、これを凍結乾燥して目的物を350ｍ g得
た（収率：41 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NM
Rにより確認した。1 H-NMR (重メタノール δppm)；7.19 (1H, s, プロペ
ン酸3位プロトン)，6.75(1H, s, 芳香環6’位プロト
ン)，6.31 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，4.33 (1H,
dd, J=8.0 Hz, J=4.0Hz, グルタミン酸部α位メチン基
プロトン)，3.87 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロト
ン)，3.75 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン)，
2.83（3H, s, アニリン性アミノ基結合メチル基プロト
ン），2.40-2.22 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ位メチ
レン基プロトン)，2.20-2.06 (2H, m,グルタミン酸部ベ
ータ位メチレン基プロトン)，2.03 (3H, s, プロペン2
位結合のメチル基プロトン)13 C-NMR (重メタノール，δppm)；182.3（四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素），179.3（四級炭素,グル
タミン酸部カルボニル炭素），171.8（四級炭素，プロ
ペン酸1位カルボニル炭素)，152.1（四級炭素,芳香環
4’位炭素)，145.1（四級炭素, 芳香環5’位炭素)，14
0.8（四級炭素，芳香環2’位炭素)，132.8 (四級炭素,
プロペン2位炭素)，131.0 (CH, プロペン3位炭素)，11
7.0 (CH, 芳香環6’位炭素)，114.1 (四級炭素, 芳香環
1’位炭素)，96.9（CH, 芳香環3’位炭素)，58.1（CH3,
メトキシ基のメチル基炭素），57.2（CH, グルタミン
酸部α位メチン基炭素)，56.3 (CH3, メトキシ基のメチ
ル基炭素)，35.8 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレ
ン基炭素)，31.2（CH3, アニリン性アミノ基結合メチル
基），30.5 (CH2, グルタミン酸部β位メチレン基炭
素)，14.6 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素）。６,７−ジメトキシ−３−メチルカルボスチリル（6,7-D
imethoxy-3-methyl-carbostyril）の合成 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸エチルエステル0.5gをエチルアルコール30mlに
溶解し、これに365nmの紫外線を約20時間照射し、析出
した結晶を濾別し、この結晶をエタノールから再結晶し
て目的化合物0.38gを得た（収率92％）。本化合物の構
造は赤外線吸収スペクトル(IR)、1H-NMR、13C-NMR、TOF
-MS等により決定した。 IR：1654ｃｍ-1（ラクタム） TOF-MS：219(M/C)1 H-NMR (重クロロホルム,δppm)：12.3 (1H, bs, アミ
ド基のプロトン), 7.56 (1H, s, 4位プロトン), 6.90
(1H, s, 8位プロトン), 6.88 (1H, s, 5位プロトン),
3.99 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.92
(3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.28 ppm (3
H, s, 3位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：164.5 (四級炭
素、2位カルボニル基炭素),151.5 (四級炭素,3位炭素),
145.7 (四級炭素,7位炭素), 137.1 (CH, 4位炭素), 1
33.2 (四級炭素,8a位炭素), 126.9 (四級炭素,6位炭
素), 133.7 (四級炭素,4a位炭素), 107.4 (CH, 5位炭
素) 98.0 (CH, 8位炭素), 56.2 (CH3, メトキシ基のメ
チル基), 16.6 (CH3,3位に結合するメチル基炭素)。3-メチルベンゾ[g]カルボスチリル（3-Methyl-benzo[g]
carbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) 3-(2-アミノ-
ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸エチルエス
テル 0.5 g をエタノール20ml に溶解し、撹拌しながら
365 nm の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧濃縮
し、粗結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を得
た。本化合物の構造は1H-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.08 (1H, s, 4位
プロトン）、7.90 (1H, d, J=8 Hz, 6位又は9位）、7.8
2 (1H, d, J=8 Hz, 6位又は9位）、7.80 (1H, s,5位プ
ロトン）、7.66 (1H, s, 10位プロトン）、7.46 (1H, d
d, J=8 Hz, 7位プロトン又は8位プロトン）、7.36 (1H,
dd, J=8 Hz, 7位プロトン又は8位プロトン）、2.19 (3
H, s, 4位結合メチル基）。3-メチルカルボスチリル（3-Methylcarbostyril）の合
成 (E) エチル 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペ
ネート0.5 g をエタノール10 ml に溶解し、撹拌しなが
ら256 nm の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧濃
縮し、粗結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を
得た。本化合物の構造は1H-NMR、13C-NMRにより決定し
た。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド, δppm)：11.72 (bs,
1H, 1位アミド基プロトン), 7.72 (s,1H, 4位プロト
ン), 7.54 (d, 1H, 5位プロトン), 7.39 (dd, 1H,7位プ
ロトン), 7.28 (d, 1H, 8位プロトン), 7.12 (dd, 6位
プロトン), 2.10 (s, 3H, 3位に結合するメチル基プロ
トン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：162.3 (四
級炭素, 2位カルボニル炭素), 137.8 (四級炭素, 9位炭
素), 136.1 (CH, 4位炭素), 129.7 (四級炭素,3位炭
素), 128.8 (CH, 7位炭素), 126.7 (CH,5位炭素), 121.
4 (CH, 6位炭素), 119.3 (四級炭素, 10位炭素), 114.6
(CH, 8位炭素), 16.4 (CH3, 3位に結合するメチル基プ
ロトン)。7-クロロ-3-メチルカルボスチリル（7-Chloro-3-Methyl
carbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) エチル3-(2-
アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート10
ml をエタノールに溶解し、撹拌しながら256 nm の紫
外線を72時間照射した。反応液を減圧濃縮し、粗結晶を
エタノールから再結晶して目的化合物を得た。本化合物
の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：11.80 (bs,
1H,1位アミド基のプロトン), 7.71 (s, 1H, 4位プロト
ン), 7.55 (d, 1H, 5位プロトン ), 7.30 (s, 1H,8位プ
ロトン), 7.13 (d, 1H, 6位プロトン), 2.10 (s, 3H, 3
位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：162.3 (四
級炭素、2位カルボニル基炭素), 138.8 (四級炭素, 8a
位炭素), 135.6 (CH, 4位炭素), 133.5 (四級炭素,7位
炭素), 130.2 (四級炭素, 4a位炭素), 128.4 (CH, 5位
炭素), 121.6 (CH,6位炭素), 118.2 (四級炭素, 3位炭
素), 114.1 (CH, 8位炭素), 16.5 (CH3, 位に結合する
メチル基炭素) 。6-クロロ-3-メチルカルボスチリル（6-Chloro-3-Methyl
carbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) エチル3-(2-
アミノ-5-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート0.
5 g をエタノール10 ml に溶解し、撹拌しながら256 nm
の紫外線を72時間照射した。反応液を減圧濃縮し，粗
結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を得た。本
化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより決定した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm)：11.86 (bs,
1H, 1位アミド基のプロトン), 7.72 (s, 1H, 4位プロ
トン), 7.65 (s, 1H, 5位プロトン), 7.43 (d, 1H, 7位
プロトン), 7.28 (d, 1H, 8位プロトン), 2.10 (s, 3
H, 3位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm)：162.2 (四
級炭素、2位カルボニル基炭素), 136.4 (四級炭素,8a位
炭素), 135.1 (CH, 4位炭素), 131.4 (四級炭素, 6位炭
素), 128.7 (CH, 7位炭素), 125.8 (CH, 5位炭素), 12
5.3 (四級炭素, 4a位炭素),120.5 (四級炭素, 4 位炭
素), 116.5 (CH, 8位炭素), 16.5 (CH3, 3位に結合する
メチル基炭素) 。７−ジメチルアミノ−３−メチルカルボスチリル（7-di
methylamino-3-methyl-carbostyril)の合成 石英製30ml三角フラスコ内で(E) エチル 3-(2-アミノ-4
-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネート20
0 mgをエタノールに溶解し、これを攪拌しながら365nm
の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧下濃縮した後
エタノールから再結晶して目的化合物を得た（収率98
%）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認し
た。1 H-NMR (DMSO-d6, δppm)；11.29（1H, s, アミド基プ
ロトン），7.52（1H, s,4位プロトン），7.32（1H, d,
J=8.8 Hz, 5位プロトン），6.62（1H, d, J=8.8Hz, 6位
プロトン），6.46（1H, s, 8位プロトン），2.96（6H,
s, ジメチルアミノ基のメチル基プロトン）, 2.01（3H,
s, 3位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR (DMSO-d6, δppm)；163.0（四級炭素，2位カル
ボニル基炭素)，150.8（四級炭素，7位炭素），139.7
（四級炭素，8位炭素），136.4（CH，4位炭素），127.6
（CH，5位炭素），123.4（四級炭素，3位炭素），110.4
（四級炭素，4a位炭素），108.3（CH，6位炭素），95.4
（CH，8位炭素），39.9 （CH3，アミノメチル基炭
素），16.3 （CH3，3位結合のメチル基炭素）。(E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸（(E) 3-(2-Amino -benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-
propenoic acid ）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸エチルエステル0.65 g をテトラヒドロフラン(TH
F) 10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液
10mlを加えて40℃にて4時間反応させた。反応終了後、1
規定塩酸10mlを加えて冷却し、析出した結晶を濾別して
目的の化合物0.57gを得た（収率：98%）。本化合物の構
造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）： 7.85-7.7
5 (3H， m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位と8
‘位プロトン），7.73 （1Ｈ，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.52-7.33 (3H， m， ベンゾシンナミル芳香環
4’位と7’位と3‘位プロトン），2.02 （3H，s， プロ
ペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：168.9
（四級炭素，1位カルボニル炭素），133.3 （CH， プロ
ペン3位炭素），131.5 （四級炭素，プロペン2位炭
素），131.4 （四級炭素， ベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素）， 129.3 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
5’位と6’位炭素），128.7 （四級炭素，ベンゾシンナ
ミル芳香環7a’位炭素）， 127.8 （CH，ベンゾシンナ
ミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 126.8 （CH，ベン
ゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），126.2 （四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），126.0
（CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），124.2
（CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），14.1 （C
H3，プロペン2位結合メチル基の炭素）。(E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 p-ニトロフェニルエステル （(E) 3-(2-Amino
-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-propenoic acidp-nitrop
henyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 0.57 g (2.5 mmol)と p-ニトロフェノール 0.52
g (3.8 mmol)（和光純薬社製）をジクロロメタン 20 m
l に溶解し、これにジメチルアミノピリジン 20 mg
（和光純薬社製）を加えた。更に、氷冷撹拌下1-エチル
-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC/HCl) 0.71 g (3.8 mmol) （和光純薬社製）を分
割投入し、室温に戻して20時間撹拌した。反応の終点を
TLCによって確認した後、反応液を減圧で濃縮し、酢酸
エチル100ml に転溶した。この溶液を5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、溶
媒を留去し粗生成物を得た。これをエタノールから再結
晶して目的の化合物を0.69 g 結晶として得た（収率：8
0%)。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認
した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.32 （2Ｈ，ｄ，
Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“と5”位プロト
ン），8.01 （1H， s， プロペン3位プロトン），7.73-
7.67 (2H， m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位
プロトン）， 7.61（1H， ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシン
ナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），7.43-7.38
（1H， m, ベンゾシンナミル芳香環4’位或いは6’位プ
ロトン），7.39 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニル
オキシ基2“と6”プロトン），7.29- 7.24（1Ｈ，ｍ，
ベンゾシンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.09 （1
H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），3.9
1 （2H， bs， アミノ基プロトン），2.23 （3H，s，
プロペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：165.7 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），155.8（四級炭素，ニトロフ
ェニルオキシ基1“位炭素），145.3 （四級炭素，ニト
ロフェニルオキシ基4“位炭素），142.4（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環2’位炭素），138.0 （CH， プロ
ペン3位炭素），135.0 （四級炭素，プロペン2位炭
素），129.6 （四級炭素， ベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素）， 129.4 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素）128.0 （CH， ベンゾシンナミル
芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環7a’位炭素）， 127.1 （CH，ベ
ンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.5
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），
125.2（ＣＨ，ニトロフェニルオキシ基3”と5“位炭
素），123.8 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），123.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素）， 122.5 （ＣＨ，ニトロフェニルオキシ基2”と
6“位炭素），109.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。(E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
（(E) 3-(2-Aminophenyl)-2 -methyl-2-propenoic acid
）の合成 (E) エチル3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネ
ート1.50 g （7.31 mmol）をテトラヒドロフラン(THF)
10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液10m
lを加えて、40℃にて4時間反応させた。TLCにて反応の
終了を確認した後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、析
出した結晶を濾別して、目的の化合物1.30gを得た（定
量的)。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確
認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.70 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），7.49 （1H，ｄ，Ｊ=7
Hz，芳香環3’位プロトン），7.42 - 7.29 （3H，m，芳
香環４’位と5‘位と6’位プロトン），1.91 （3H，
ｓ，プロペン２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド、δppm）：168.7
（四級炭素，１位カルボニル炭素）， 132.6 （CH，プ
ロペン3位炭素），132.1（四級炭素，プロペン２位炭
素），130.2 （ＣＨ，芳香環4’位炭素），129.3 （C
H，芳香環６’位炭素），128.8 （四級炭素，芳香環
１’位炭素），126.0 （CH，芳香環５’位炭素）， 12
2.4（CH，芳香環３’位炭素），14.1 （CH3，プロペン
２位結合のメチル基炭素）。(E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 p-
ニトロフェニルエステル（(E) 3-(2-Aminophenyl)-2-me
thyl-2-propenoic acid p-nitrophenyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 0.1
9 g (1.1 mmol)と p-ニトロフェノール 0.18 g （和光
純薬社製）とをジクロロメタン 20 ml に溶解し、これ
にジメチルアミノピリジン 10 mg （和光純薬社製）を
加えた。更に、氷冷撹拌下、1-エチル-3-(3-ジメチルア
ミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC/HCl） 0.41
g （和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻して20時
間攪拌した。反応の終点をTLCによって確認した後、反
応液を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶した。こ
の溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩
化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにより乾燥した後、溶媒を留去し粗生成物を得た。
これを、エタノールから再結晶して目的の化合物を0.29
g 結晶として得た（収率：91%）。本化合物の構造は1H
-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.35 （2
Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“位と5”
位プロトン），7.86 （1H，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.54 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキ
シ基2“位と6”位プロトン），7.17 （1H，ｄ，Ｊ=8 H
z，シンナミル芳香環６’位プロトン），7.09（1H，ｄ
ｄ，Ｊ=8 Hz，Ｊ=8 Hz，シンナミル芳香環4’位プロト
ン），6.75 （1H， ｄ，Ｊ=8Ｈｚ，芳香環３’位プロト
ン），6.63（1H，ｄｄ，Ｊ=8 Hz， Ｊ=8Hz，芳香環５’
位プロトン），5.35（2H，bs，アミノ基プロトン），2.
10 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：165.8
（四級炭素，１位カルボニル炭素），156.0（四級炭
素，ニトロフェニルオキシ基1”位炭素），147.4（四級
炭素，ニトロフェニルオキシ基4”位炭素），144.8
（四級炭素，シンナミル芳香環２’位炭素），138.6
（CH，プロペン3位炭素）， 130.0 （ＣＨ，シンナミル
芳香環４’位炭素），129.4 （CH，シンナミル芳香環
６’位炭素），125.2（四級炭素，シンナミル芳香環
１’位炭素），125.1 （CH，ニトロフェニルオキシ基3
“と5”位炭素），123.1 （CH，ニトロフェニルオキシ
基2“と6”位炭素），118.6 （四級炭素，プロペン２位
炭素），115.5 （CH，シンナミル芳香環５’位炭素），
115.3（CH，シンナミル芳香環３’位炭素），14.2 （C
H3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。(E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 （(E) 3-(2-Amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2
-propenoic acid ）の合成 (E) エチル3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2
-プロペネート1.24 g（5.18 mmol）をテトラヒドロフラ
ン(THF) 10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム
水溶液10mlを加えて、40℃にて4時間反応させた。TLCに
て反応終了を確認後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、
析出した結晶を濾別して目的の化合物1.03gを得た（収
率：94%)。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより
確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.42 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），7.02 （1H，ｄ，Ｊ=8
Hz，芳香環６’位プロトン），6.74 （1H，ｓ，芳香環
３’位プロトン），6.55（1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，芳香環
５’位プロトン），5.37（2H，bs，アミノ基プロト
ン），1.90 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プ
ロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.2
（四級炭素，１位カルボニル炭素）， 148.2 （四級炭
素，芳香環２’位炭素），133.7 （CH，プロペン3位炭
素）， 133.4 （四級炭素，芳香環４’位炭素），130.7
（CH，芳香環６’位炭素），128.7（四級炭素，プロペ
ン２位炭素），118.3 （四級炭素，芳香環１’位炭
素），115.0 （CH，芳香環５’位炭素）， 114.0（CH，
芳香環３’位炭素），14.1 （CH3，プロペン２位結合の
メチル基炭素）。(E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 p-ニトロフェニルエステル（(E) 3-(2-Amino-4-
chlorophenyl)-2-methyl-2-propenoic acid p-nitrophe
nyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 0.81 g (3.8 mmol)と p-ニトロフェノール 1.0
g （和光純薬社製）をジクロロメタン 20 ml に溶解
し、これにジメチルアミノピリジン 40 mg （和光純薬
社製）を加えた。更に、氷冷撹拌下1-エチル-3-(3-ジメ
チルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC/HC
l） 1.0 g （和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻し
て20時間撹拌した。反応の終点をTLCによって確認した
後、反応液を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶し
た。この溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、
飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥後、溶媒を留去し粗生成物を得
た。これをエタノールから再結晶して目的の化合物を1.
2 g結晶として得た（収率：91%）。本化合物の構造は1H
-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.30 （2
Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“位と5”
位プロトン），7.80 （1H，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.45 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキ
シ基2“位と6”位プロトン），7.09 （1H，ｄ，Ｊ=8 H
z，芳香環６’位プロトン），6.81 （1H，ｓ，芳香環
３’位プロトン），6.63（1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，芳香環
５’位プロトン），5.08（2H，bs，アミノ基プロト
ン），2.11 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プ
ロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：170.5
（四級炭素，１位カルボニル炭素），160.9（四級炭
素，ニトロフェニルオキシ基1”位炭素），152.9（四級
炭素，ニトロフェニルオキシ基4”位炭素），149.8
（四級炭素，シンナミル芳香環２’位炭素），142.4
（CH，プロペン3位炭素）， 139.9 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環４’位炭素），135.6 （CH，シンナミル芳香
環６’位炭素），131.8（四級炭素，プロペン２位炭
素），129.9 （CH，ニトロフェニルオキシ基3“と5”位
炭素），127.9 （CH，ニトロフェニルオキシ基2“と6”
位炭素），122.7 （四級炭素，シンナミル芳香環１’位
炭素），121.1 （CH，シンナミル芳香環５’位炭素），
119.7（CH，シンナミル芳香環３’位炭素），19.2 （C
H3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。（E） N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメト
キシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E）
N-L-Asparatic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxypheny
l）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにＬ-アスパラギン酸2.3g（5.0 mmol）の0.5規
定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解した溶液を加
え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加
えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し、これを一旦水20 ml に溶解して、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
を0.19 g 得た（収率；72％）。本化合物の構造は1H-NM
R及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 Ｈ-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.22
（1Ｈ，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.24 （1
Ｈ，ｓ，プロペン3位プロトン），6.98 （1Ｈ，ｓ，シ
ンナミル芳香環3‘位プロトン），6.89 （1Ｈ，ｓ，シ
ンナミル芳香環６‘位プロトン），4.68 （1Ｈ，ｔ-d，
Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），3.78 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチ
ル基プロトン），2.83 （１Ｈ，d-d，Ｊ=4Hz，J=17 H
z，アスパラギン酸部β位プロトン），2.72 （１Ｈ，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロト
ン），1.96 （3Ｈ，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン）13 Ｃ-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.5
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），171.
9 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），17
0.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），149.1
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），146.3
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4
（四級炭素，シンナミル芳香環5‘位炭素），133.9
（四級炭素，プロペン2位炭素），127.8 （ＣＨ，プロ
ペン3位炭素），115.8 （四級炭素，シンナミル芳香環
１‘位炭素），113.4 （ＣＨ，シンナミル芳香環６‘位
炭素），106.0 （ＣＨ，シンナミル芳香環３‘位炭
素），56.1 （ＣＨ3，芳香環結合メトキシ基のメチル基
炭素），55.6 （ＣＨ3，芳香環結合メトキシ基のメチル
基炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭素），3
5.9 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），14.4 （CH
3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-(2
-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparatic
acid 3-（2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-p
ropenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩
酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）を加え、室温
にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、洗浄及
び無水硫酸マグネシウムによる乾燥を行った。その後、
溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノー
ル：95／5）にて精製して目的化合物を0.23 g 得た（収
率：65％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.36 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），7.05 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミ
ド基プロトン），6.63 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.33 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），4.81（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，
アスパラギン酸部α位メチン基プロトン），3.83 （3
H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），2.95 （１H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17Hz，アスパラ
ギン酸部β位メチレン基プロトン），2.82 （１H，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン
基プロトン），2.06 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル
基プロトン），1.49 （9H，s，ブチル基のメチル基プロ
トン），1.46 （9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.4 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），150.0 （四級
炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），141.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4（四級炭素，
シンナミル芳香環5‘位炭素），131.1 （CH，プロペン3
位炭素），130.4 （四級炭素，プロペン2位炭素），11
3.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.2 （四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.0 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.0 （四級炭素，ブ
チル基），81.2 （四級炭素，ブチル基），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），49.2 （C
H，アスパラギン酸部α位炭素），37.2 （CH2，アスパ
ラギン酸部β位炭素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル
基炭素），27.6 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），1
3.9 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-aspara
tic acid 3-（2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl
-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.30 g
（0.84 mmol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステ
ル・塩酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）とをジ
メチルホルムアミド ３mlに溶解し、これにトリエチル
アミン0.14ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間
反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、反応液に酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液した。この
溶液を5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩
化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減圧下にて留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：メチレンクロライド／メタノール：95／5）にて精
製して目的化合物0.39 gを得た（収率定量的）。本化合
物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.36 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），7.05 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミ
ド基プロトン），6.63 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.33 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），4.81（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，
アスパラギン酸部α位メチン基プロトン），3.83 （3
H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），2.95 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17Hz，アスパラ
ギン酸部β位メチレン基プロトン），2.82 （1H，d-d，
Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン基プ
ロトン），2.06 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プ
ロトン），1.49 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.46 （9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.4 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），150.0 （四級
炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），141.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4（四級炭素，
シンナミル芳香環5‘位炭素），131.1 （CH，プロペン3
位炭素），130.4 （四級炭素，プロペン2位炭素），11
3.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.2 （四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.0 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.0 （四級炭素，ブ
チル基），81.2 （四級炭素，ブチル基），56.4 （ＣＨ
3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.4 （CH
3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），49.2 （C
H，アスパラギン酸部α位炭素），37.2 （CH2，アスパ
ラギン酸部β位炭素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル
基炭素），27.6 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），1
3.9 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキ
シフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-
L-Asparatic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxypheny
l）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド0.39 g（0.84 mmol）を10％トリフルオ
ロ酢酸含有のクロロホルムに溶解し、室温にて3時間脱
保護反応（保護基の脱離反応）を行った。反応の終了を
TLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥を行い、目的化合物
0.30 g を得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NM
R及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.22 （1
H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.24 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.98 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環3‘位プロトン），6.89 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環６‘位プロトン），4.68 （1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4
Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），3.79 （3H，
ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.78
（3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロト
ン），2.83 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギ
ン酸部β位プロトン），2.72 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=1
7 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），1.96 （3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）。13 Ｃ-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.5
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），171.
9 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），17
0.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），149.1
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），146.3
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4
（四級炭素，シンナミル芳香環5‘位炭素），133.9
（四級炭素，プロペン2位炭素），127.8 （CH，プロペ
ン3位炭素），115.8 （四級炭素，シンナミル芳香環１
‘位炭素），113.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭
素），106.0 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），5
6.1 （CH3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），5
5.6 （CH3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），4
9.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭素），35.9 （CH2，
アスパラギン酸部β位炭素），14.4 （CH3，プロペン2
位結合メチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-4、5-ジ
メトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド
（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-4、5-dimetho
xyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノｎ-酪酸0.52g（5.0 mmol）（和光
純薬社製）を0.5規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌ
に溶解したものを加え、室温にて4時間反応させた。反
応液に2規定塩酸を加えて約pH4に調整したのち、反応液
をそのまま減圧濃縮し、これを一旦水 20 ml に溶解し
て、残存する塩酸を除くため凍結乾燥を行った。得られ
た凍結乾燥物 をクロロホルム-メタノール・トリフルオ
ロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01 を移動相としたシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、これを
凍結乾燥して目的化合物0.18 g を得た（収率；75
％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.23 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.08 （1H，ｓ，プロペン
3位プロトン），6.74 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.70 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），3.74 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ
基のメチル基プロトン），3.71 （3H，ｓ，芳香環結合
メトキシ基のメチル基プロトン），3.21 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.94
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.75
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.4 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），149.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），142.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環２‘位炭素），134.9 （四級炭
素，シンナミル芳香環５‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭
素），115.4 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭
素），113.9 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），10
2.7 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.3 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），38.4 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.6 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.6 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-
（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩
0.15 g（1.0 mmol）（ナカライテスク社製）を加え、室
温にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、
酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機
層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行っ
た。その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド
／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物を0.18
g 得た（収率：70％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.33 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.65 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環6‘位プロトン），6.35 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），3.83 （3H，ｓ，芳香環結合メト
キシ基のメチル基プロトン），3.79 （3H，ｓ，芳香環
結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.68 （3H，
ｓ， GABA部メチルエステルのメチル基プロトン），3.4
7 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロト
ン），2.46 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基
プロトン），2.07 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基
プロトン），1.96 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GA
BA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.2 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.6 （四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），150.2 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環4‘位炭素），141.2 （四級炭素，シンナミ
ル芳香環２‘位炭素），139.5 （四級炭素，シンナミル
芳香環５‘位炭素），131.2 （ＣＨ，プロペン3位炭
素），130.1 （四級炭素，プロペン2位炭素），113.5
（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.4 （CH，シン
ナミル芳香環３‘位炭素），56.6 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），55.5 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），51.7（CH3，GABA部メチル
エステルのメチル基炭素），39.8 （CH2，GABA部γ位メ
チレン基炭素），31.5 （CH2，GABA部α位メチレン基炭
素），23.9 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.0
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-
（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.30 g
（0.84 mmol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩
酸塩0.15 g（1.00 mmol）（ナカライテスク社製）をジ
メチルホルムアミド ３mlに溶解し、これにトリエチル
アミン0.14 ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時
間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチ
ル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素
ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液
にて順次洗浄した。これを無水硫酸マグネシウムにより
乾燥させた後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライ
ド／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物0.28g
を得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.33 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.65 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環6‘位プロトン），6.35 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），3.83 （3H，ｓ，芳香環結合メト
キシ基のメチル基プロトン），3.79 （3H，ｓ，芳香環
結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.68 （3H，
ｓ， GABA部メチルエステルのメチル基プロトン），3.4
7 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロト
ン），2.46 （2Ｈ，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン
基プロトン），2.07 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル
基プロトン），1.96（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，G
ABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.2 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.6 （四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），150.2 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環4‘位炭素），141.2 （四級炭素，シンナミ
ル芳香環２‘位炭素），139.5 （四級炭素，シンナミル
芳香環５‘位炭素），131.2 （CH，プロペン3位炭
素），130.1 （四級炭素，プロペン2位炭素），113.5
（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.4（CH，シン
ナミル芳香環３‘位炭素），56.6 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），55.5 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），51.7（CH3，GABA部メチル
エステルのメチル基炭素），39.8 （CH2，GABA部γ位メ
チレン基炭素），31.5 （CH2，GABA部α位メチレン基炭
素），23.9 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.0
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-4、5-ジ
メトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド
（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-4、5-dimetho
xyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-(2-アミ
ノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド0.16 g （0.48 mmol）をメタノール１mlに溶解
し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液2mlを加え、室
温にて12時間反応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH
４に調整した後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン
／メタノール=10／3）により精製し、目的化合物を0.15
g得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.23 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.08 （1H，ｓ，プロペン
3位プロトン），6.74 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.70 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），3.74 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ
基のメチル基プロトン），3.71 （3H，ｓ，芳香環結合
メトキシ基のメチル基プロトン），3.21 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.94
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.75
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.4 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），149.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），142.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環２‘位炭素），134.9 （四級炭
素，シンナミル芳香環５‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭
素），115.4 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭
素），113.9 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），10
2.7 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.3 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），38.4 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.6 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.6 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E）N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-L-glutam
ic acid 3-(2- amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-pro
penoic amide）の合成 （E） 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24
ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにＬ-グルタミン酸0.74g（5.0 mmol）を0.5規
定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解したものを加
え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加
えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し，これを一旦水 20 ml に溶解し、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01 を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
0.17 gを得た（収率；63％）。本化合物の構造は1H-NMR
及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.96 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.92（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.95- 7.90 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.90（1Ｈ，ｓ，
プロペン3位プロトン）， 7.59 - 7.47 （2H， m，ベン
ゾシンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベン
ゾシンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.49
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロト
ン），4.41 （1H，t-d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン
酸部α位プロトン），2.39 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グル
タミン酸部γ位プロトン），2.22 - 2.03 （2H，ｍ，
グルタミン酸部β位プロトン），2.11 （3H，ｓ，プロ
ペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.7
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），172.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），168.7
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），139.5（四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），136.2
（四級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），132.1 （四級炭素， プロペン2位炭
素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.7
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素），127.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.7 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素），127.0 （CH， プロペン3位
炭素）， 117.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又
は7’位炭素）， 117.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル
芳香環1’位炭素），113.3 （CH， ベンゾシンナミル芳
香環8’位炭素），109.5 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環3’位炭素），52.3 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），31.3 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 26.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.2 （CH3，プロ
ペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E）N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamic acid 3-
（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic a
mide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸
塩0.29 g（1.0 mmol）（シグマ社製）を加えて室温にて
3時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エ
チル及び水を加えて酢酸エチル層を分液し、洗浄、無水
硫酸マグネシウムによる乾燥及び溶媒の減圧留去を行っ
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：
95／5）にて精製して目的化合物0.22 g を得た（収率：
55％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確
認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.67 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.58 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.54（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.47 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.36 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.22 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.09 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），7.03 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.60（1H，ddd，J=9Hz，J=7 Hz，J=4 Hz，
グルタミン酸部α位プロトン），2.50 - 2.37（2H，
ｍ， グルタミン酸部γ位メチレン基プロトン），2.14
- 2.05（2H，ｍ， グルタミン酸部β位メチレン基プロ
トン），2.10 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン），1.50 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.48（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.9 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），171.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），134.7 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 129.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.8 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.6 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.4
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.5 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），109.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.7 （四級炭素，ブチル基），82.5 （四級炭
素，ブチル基），53.0 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），32.1 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 28.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），28.0 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），14.1 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamic acid 3-
（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic a
mide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.57 mm
ol）とL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩0.
20 g（0.69 mmol）（シグマ社製）とをジメチルホルム
アミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.01ml
（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。
反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加
え、酢酸エチル層を分液し、これを5％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させた後、
溶媒を減圧下にて留去した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンク
ロライド／メタノール：95／5）にて精製して目的化合
物を0.27 g 得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-
NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.67 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.58 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.54（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.47（1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.36（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.22（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.09（1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），7.03（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プ
ロトン），4.60（1H，ddd，J=9 Hz，J=7 Hz，J=4 Hz，
グルタミン酸部α位プロトン），2.50 - 2.37（2H，
ｍ， グルタミン酸部γ位メチレン基プロトン），2.14
- 2.05（2H，ｍ， グルタミン酸部β位メチレン基プロ
トン），2.10（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン），1.50 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.48（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.9 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），171.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），134.7 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 129.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.8 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.6 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.4
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.5 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），109.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.7 （四級炭素，ブチル基），82.5 （四級炭
素，ブチル基），53.0 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），32.1 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 28.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），28.0 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），14.1 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。（E）N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-L-glutam
ic acid 3-(2-amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-prop
enoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.27 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて5時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.21 gを得た（収率定量的）。本化
合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.96 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.92（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.95- 7.90 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.90（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン）， 7.59 - 7.47 （2H， m，ベンゾ
シンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベンゾ
シンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.49
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），
4.41（1H，t-d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン酸部α位
プロトン），2.39 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グルタミン酸
部γ位プロトン），2.22 - 2.03 （2H，ｍ， グルタミ
ン酸部β位プロトン），2.11 （3H，ｓ，プロペン2位結
合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.7
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），172.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），168.7
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），139.5（四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），136.2
（四級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），132.1 （四級炭素， プロペン2位炭
素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.7
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素），127.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.7 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素），127.0 （CH， プロペン3位
炭素）， 117.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又
は7’位炭素）， 117.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル
芳香環1’位炭素），113.3 （CH， ベンゾシンナミル芳
香環8’位炭素），109.5 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環3’位炭素），52.3 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），31.3 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 26.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.2 （CH3，プロ
ペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-グリシン 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-
メチル-2-プロペン酸アミド（（E) N- Glycine 3-（2-
amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoicamide）
の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド10mlに溶解
し、これにグリシン0.38g（5.0 mmol）を0.5規定炭酸水
素ナトリウム水溶液20ｍｌに溶解したものを加え、室温
にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えて約pH
4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮し、これを
一旦水 20ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った．得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，これを凍結乾燥して目的化合物を0.15 g
得た（収率；72％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ
-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
H，ｔ，Ｊ=６Hz，アミド基プロトン），7.66 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プ
ロトン）， 7.55（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’
位プロトン），7.51 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナ
ミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），7.28 （1H，
ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環
５‘位或いは６’位プロトン），7.16 （1H，ｓ，プロ
ペン3位プロトン），7.10 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=
8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），6.96 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環
3’位プロトン），3.89 （2H，d， J=６ Hz， グリシン
部α位メチレン基プロトン），1.99 （3H，ｓ，プロペ
ン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：171.8
（四級炭素，グリシン部カルボニル炭素），169.4 （四
級炭素，1位カルボニル炭素），144.9（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，
プロペン2位炭素とベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），128.7（CH， プロペン3位炭素）， 128.4 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.6
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 126.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
‘a位炭素）， 126.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素）， 124.7 （CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.0（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），121.2 （CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），107.0 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），41.0 （CH，グリシン部
α位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E）N-グリシン 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-
メチル-2-プロペン酸アミド（（E）N-glycine 3-(2- a
mino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-propenoic amide）
の合成 （E） 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.17 g（0.48 mm
ol）とグリシンエチルエステル・塩酸塩0.081 g（0.58
mmol）（国産化学社製）をジメチルホルムアミド 1mlに
溶解し、これに、トリエチルアミン0.08 ml（和光純薬
社製）を加えて室温にて20時間反応させた。反応の終了
をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチ
ル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数
回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減
圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：95／
5）にて精製して、これをメタノール1mlに溶解した後に
1規定水酸化ナトリウム2mlを加え、室温にて一晩脱保護
反応を行った。2規定塩酸にて系を約ｐＨ4に調整した
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／メタノール
=10／3）により精製し、目的化合物を0.14 g得た（収率
定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより
確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
Ｈ，ｔ，Ｊ=６Hz，アミド基プロトン），7.66 (1H，
d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位
プロトン）， 7.55（1Ｈ，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環
8’位プロトン），7.51 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシ
ンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.28
（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル
芳香環５‘位或いは６’位プロトン），7.16 （1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.10 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），6.96 （1H， s， ベンゾシンナミル
芳香環3’位プロトン），3.89 （２Ｈ，d， J=６ Hz，
グリシン部α位メチレン基プロトン），1.99 （3Ｈ，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：171.8
（四級炭素，グリシン部カルボニル炭素），169.4 （四
級炭素，1位カルボニル炭素），144.9（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，
プロペン2位炭素とベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），128.7（CH， プロペン3位炭素）， 128.4 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.6
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 126.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
‘a位炭素）， 126.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素）， 124.7 （CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.0（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），121.2 （CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），107.0 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），41.0 （CH，グリシン部
α位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N- L-Asp
aratic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl
-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol） をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶
解し、これにＬ-アスパラギン酸2.3g（5.0 mmol）を0.5
規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解したものを
加え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を
加えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し、これを一旦水 20 ml に溶解し、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01 を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
0.12 g を得た（収率；45％）。本化合物の構造は1H-NM
R及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.43 （1
Ｈ，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.93 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プ
ロトン），7.88（1Ｈ，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’
位プロトン），7.87 - 7.85 (1H， m， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.82 （1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン）， 7.56 - 7.47 （2H， m，
ベンゾシンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンと
ベンゾシンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），
7.45 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロト
ン），4.85 （1Ｈ，ｔ-d，Ｊ=7 Hz，Ｊ=6 Hz，アスパラ
ギン酸部α位プロトン），2.93（１Ｈ，d-d，Ｊ=6 Hz，
J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），2.81 （１
Ｈ，d-d，Ｊ=6 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プ
ロトン），2.08 （3Ｈ，ｓ，プロペン2位結合メチル基
プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：173.0
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
4 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
8.9 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.2（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），133.0 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.9 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 128.3 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 127.6 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.2 （CH， プロペン3位炭
素）， 118.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 116.1 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），114.2 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），110.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），36.4 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素）、14.8
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparatic ac
id 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩
酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）を加えて室温
にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機層
を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。
その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メ
タノール：95／5）にて精製して目的化合物0.14 gを得
た（収率：40％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-N
MRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.53 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.43 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.37（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.37 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.23 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.09 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.04 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），6.88 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.75（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アス
パラギン酸部α位メチン基プロトン），2.87（1H，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン
基プロトン），2.75（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，ア
スパラギン酸部β位メチレン基プロトン），1.97（3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.38 （9H，
s，ブチル基のメチル基プロトン），1.35 （9H，s，ブ
チル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.0（四
級炭素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.4 （四級炭素，
プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.5 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 128.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.5 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.1 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.2 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.2
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），108.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.2 （四級炭素，ブチル基），81.3 （四級炭
素，ブチル基），49.3 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），37.3 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），27.7
（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.6 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），13.9 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparatic ac
id 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.57 mm
ol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩
0.24 g（0.86 mmol）（国産化学社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.12m
l（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.26 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.53 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.43 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.37（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.37 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.23 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.09 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.04 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），6.88 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.75 （1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，ア
スパラギン酸部α位メチン基プロトン），2.87 （１H，
d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレ
ン基プロトン），2.75 （１H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 H
z，アスパラギン酸部β位メチレン基プロトン），1.97
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.38
（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン），1.35 （9H，
s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.0（四
級炭素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.4 （四級炭素，
プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.5 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 128.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.5 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.1 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.2 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.2
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），108.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.2 （四級炭素，ブチル基），81.3 （四級炭
素，ブチル基），49.3 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），37.3 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），27.7
（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.6 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），13.9 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-L-Aspa
ratic acid 3-(2-amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-p
ropenoic amide）の合成 （（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸アミド0.26 g（0.57 mmol）を10％トリフルオロ酢酸
含有のクロロホルムに溶解し、室温にて3時間脱保護反
応を行った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及
び乾燥を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量
的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認
した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.43（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.93 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.88（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.87- 7.85 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.82（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン）， 7.56 - 7.47（2H， m，ベンゾ
シンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベンゾ
シンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.45
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），
4.85（1H，ｔ-d，Ｊ=7 Hz，Ｊ=6 Hz，アスパラギン酸部
α位プロトン），2.93（１H，d-d，Ｊ=6 Hz，J=17 Hz，
アスパラギン酸部β位プロトン），2.81（１H，d-d，Ｊ
=6 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），2.
08（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：173.0
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
4 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
8.9 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.2（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），133.0 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.9 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 128.3 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 127.6 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.2 （CH， プロペン3位炭
素）， 118.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 116.1 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），114.2 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），110.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），36.4 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素）、14.8
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-ベンゾ
[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N
-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-benzo[d]phenyl)-2-met
hyl-2-propenoic amide）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24ｇ
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノ-ｎ-酪酸0.52g（5.0 mmol）（和光
純薬社製）を0.5規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌ
に溶解したものを加え、室温にて4時間反応させた。反
応液に2規定塩酸を加えて約pH4に調整した後、反応液を
そのまま減圧濃縮し、これを一旦水 20 ml に溶解し、
残存する塩酸を除くため凍結乾燥を行った。得られた凍
結乾燥物をクロロホルム-メタノール・トリフルオロ酢
酸100:10:0.01 〜40:10:0.01 を移動相としたシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し，これを凍結
乾燥して目的化合物0.17 g を得た（収率；74％）。本
化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52（1
H，bs，アミド基プロトン），7.97 - 7.88 (4H， m，
ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及びベン
ゾシンナミル芳香環4‘位又は7’位プロトン及びベンゾ
シンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.58-7.48（2H，
ｍ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ンとベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），7.39（1
H， s， プロペン3位プロトン），3.25（2H，ｔ，Ｊ=7
Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.33 （2Ｈ，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），2.00
（3H，s，プロペン2位結合メチル基のプロトン）, 1.79
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），136.7（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），132.1（四級炭素，プロペ
ン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），1
30.8（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミ
ル芳香環3a’位炭素），129.5（CH， ベンゾシンナミル
芳香環5’位又は6’位炭素），127.9（CH， ベンゾシン
ナミル芳香環5’位又は6’位炭素）， 128.0 （四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環7a’位炭素）， 127.1（C
H，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），12
6.4 （CH， プロペン3位炭素）， 126.9 （CH，ベンゾ
シンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.9（四級
炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），126.1（C
H， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），115.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），38.4（CH2，
GABA部γ位メチレン基炭素），31.3（CH2，GABA部α位
メチレン基炭素），24.5（CH2，GABA部β位メチレン基
炭素），14.8 （CH3，プロペン2位結合メチル基の炭
素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル3-（2-アミ
ノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-（2-amino-be
nzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24ｇ
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩
0.15 g（1.0 mmol）（ナカライテスク社製）を加え、室
温にて6時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、
酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機
層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行っ
た。その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド
／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物を0.17
g 得た（収率：69％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13
Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重クロロホルム,δppm）：7.82 - 7.46（3H，
m，ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及び
ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），
7.38（1H，s，プロペン3位プロトン）， 7.33（1H，
ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは
7’位プロトン），7.23 - 7.17（1H，ｍ，ベンゾシンナ
ミル芳香環8’位プロトン）， 6.99（1H， s， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位プロトン），6.61（1H，bs，ア
ミド基プロトン），3.98 （2H， bs， アミノ基プロト
ン），3.67（3H，ｓ，GABA部メチルエステルのメチル基
プロトン），3.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチ
レン基プロトン），2.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α
位メチレン基プロトン），1.92（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，
Ｊ=7Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）2.03（3H，
s， プロペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.1 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭素，1位
カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシンナミ
ル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，プロペン2位
炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），134.3
（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），130.2 （CH， プロペン3位炭素），
128.8 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位
炭素）,127.6（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.3（四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 126.4（CH，ベンゾシンナミル芳香
環4’位又は7’位炭素）， 125.3（CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.6（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），122.5（CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），108.8 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），51.7（CH3，GABA部メチ
ルエステルのメチル基炭素），39.6（CH2，GABA部γ位
メチレン基炭素），31.7 （ＣＨ2，GABA部α位メチレン
基炭素），24.3（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），1
4.2 （CH3，プロペン2位結合メチル基の炭素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル3-（2-アミ
ノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E) N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-(2-amino-benz
o[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.17 g（0.48 mm
ol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.089
g（0.58 mmol）（ナカライテスク社製）をジメチルホ
ルムアミド 1mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.08
ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.16 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.82 - 7.46（3H，
m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及
びベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.38（1H， s， プロペン3位プロトン）， 7.33
（1H， ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位
或いは7’位プロトン），7.23 - 7.17（1Ｈ，ｍ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン）， 6.99（1H，
s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），6.61（1
H，bs，アミド基プロトン），3.98 （2H， bs， アミノ
基プロトン），3.67（3H，ｓ， GABA部メチルエステル
のメチル基プロトン），3.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA
部γ位メチレン基プロトン），2.42（2Ｈ，ｔ，Ｊ=7 H
z，GABA部α位メチレン基プロトン），1.92（2H，ｔ-
ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロト
ン）2.03（3H，s， プロペン2位結合メチル基のプロト
ン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.1 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭素，1位
カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシンナミ
ル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，プロペン2位
炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），134.3
（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），130.2 （CH， プロペン3位炭素），
128.8 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位
炭素）127.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 126.4 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素）， 125.3 （CH，ベンゾシン
ナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.6 （四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），122.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），108.8 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），51.7 （C
H3，GABA部メチルエステルのメチル基炭素），39.6 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.7 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.3 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.2 （CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-ベンゾ
[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N
-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-benzo[d]phenyl)-2-met
hyl-2-propenoic amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-(2-アミ
ノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 アミ
ド0.16 g （0.48 mmol）をメタノール１mlに溶解し、こ
れに1規定 水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、40度に
て４時間反応させた。1規定塩酸にて系内を約pH４に調
整した後、反応溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／
メタノール=10／3）により精製し、目的化合物を0.15 g
得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ
-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.97 - 7.88 (4H， m，
ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及びベン
ゾシンナミル芳香環4‘位又は7’位プロトン及びベンゾ
シンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.58-7.48 （2H，
ｍ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ンとベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），7.39
（1H， s， プロペン3位プロトン），3.25 （2H，ｔ，
Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.33 （2
Ｈ，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），
2.00 （3H，s， プロペン2位結合メチル基のプロト
ン）, 1.79 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β
位メチレン基プロトン）。13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），136.7（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），132.1 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），130.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.5 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.9 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素）， 128.
0 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7a’位炭素），
127.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位
炭素），126.4 （CH， プロペン3位炭素）， 126.9 （C
H，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 12
5.9（四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），
126.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），11
5.5（CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），38.4
（CH2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3（CH2，GABA
部α位メチレン基炭素），24.5 （CH2，GABA部β位メチ
レン基炭素），14.8（CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-(Di-t-butyloxy)-L-glutamic acid 3-
（2-amino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenoic am
ide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩0.
21 g（0.72 mmol）（シグマ社製）をジメチルホルムア
ミド ２mlに溶解し、これに、トリエチルアミン0.10ml
（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。
反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加
え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水
溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.27 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.78 （1H，ｄ，
Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.22 （1Ｈ，ｓ，プロペ
ン3位プロトン），6.93 （1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル
芳香環6‘位プロトン），6.68 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環３‘位プロトン），6.65 （1H，ｄ，J=8 Hz，シン
ナミル芳香環５‘位プロトン），4.52 - 4.45 （1H，
ｍ， グルタミン酸部α位プロトン），2.51 - 2.42 （2
H，ｍ， グルタミン酸部γ位プロトン），2.25 - 2.04
（2H，ｍ， グルタミン酸部β位プロトン），1.99 （3
H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.49 （9
H，s，ブチル基のメチル基プロトン），1.46 （9H，s，
ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：171.3 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），170.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.8 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），146.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），134.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），130.4 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），130.1 （CH，プロペン3位炭素），11
8.9 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），117.
3 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），114.8 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.4 （四級炭素，ブ
チル基），81.1 （四級炭素，ブチル基），53.2 （CH，
グルタミン酸部α位炭素），31.5 （CH2，グルタミン酸
部γ位炭素）， 26.9 （CH2，グルタミン酸部β位炭
素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），13.9
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N- L-グルタミン酸3-（2-アミノ-4 -クロロフェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-L-Glutam
ic acid 3-(2-amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2-prop
enoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.27 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて5時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量的）。本化
合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.39 （1
H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロトン），7.11 （1H，ｄ，
J=8Hz，シンナミル芳香環6‘位プロトン），7.05 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），6.93 （1H，ｓ，シン
ナミル芳香環３‘位プロトン），6.77 （1H，ｄ，J=8 H
z，シンナミル芳香環５‘位プロトン），4.34 （1H，t-
d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン酸部α位プロトン），
2.29 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グルタミン酸部γ位プロト
ン），2.19 - 1.97 （2H，ｍ， グルタミン酸部β位プ
ロトン），1.93 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プ
ロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），173.6
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.2
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.1（四
級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），133.4（四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.0（四級炭素，
プロペン2位炭素），130.9（CH，シンナミル芳香環６
‘位炭素），127.6（CH，プロペン3位炭素），120.8（C
H，シンナミル芳香環５‘位炭素），117.0（四級炭素，
シンナミル芳香環１‘位炭素），115.6 （CH，シンナミ
ル芳香環３‘位炭素），52.1 （CH，グルタミン酸部α
位炭素），31.5 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 2
6.5 （CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.4 （CH3，
プロペン2位結合メチル基炭素）。（E）N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-アミ
ノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミ
ド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-（2-amino-
4-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合
成 （E） 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.11
g（0.72 mmol）（ナカライテスク社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.10m
l（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.19 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.22（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.08 （1H，bs，アミド基プロト
ン），6.94（1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル芳香環6‘位プ
ロトン），6.69（1H，ｓ，シンナミル芳香環３‘位プロ
トン），6.67（1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル芳香環５
‘位プロトン），3.66（3H，ｓ， GABA部メチルエステ
ルのメチル基プロトン），3.44（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GAB
A部γ位メチレン基プロトン），2.44（2H，ｔ，Ｊ=7 H
z，GABA部α位メチレン基プロトン），2.00（3H，ｓ，
プロペン2位結合メチル基プロトン），1.94（2H，ｔ-
ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロト
ン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.3（四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.2（四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），146.1（四級炭素，シンナミ
ル芳香環2‘位炭素），134.6（四級炭素，シンナミル芳
香環4‘位炭素），132.8（四級炭素，プロペン2位炭
素），130.6（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），13
0.2 （CH，プロペン3位炭素），119.2（四級炭素，シン
ナミル芳香環１‘位炭素），117.6 （CH，シンナミル芳
香環５‘位炭素），115.0（CH，シンナミル芳香環３
‘位炭素），51.8（CH3，GABA部メチルエステルのメチ
ル基炭素），39.9（CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.7 （CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.1
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.2 （CH3，プ
ロペン2位結合メチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノ-4-クロロ
フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド（（E） N-3
-Carboxypropyl 3-（2-amino-4-chlorophenyl）- 2-meth
yl-2-propenoic amide）の合成 (E) N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-アミ
ノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド
0.23 g（0.75 mmol）をメタノール１mlに溶解し、これ
に1規定 水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、室温にて
12時間反応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH４に調
整した後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／メタ
ノール=10／1）により精製し、目的化合物を0.22 g得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.31 （1
H，bs，アミド基プロトン），6.99 （1H，ｄ，J=8Hz，
シンナミル芳香環6‘位プロトン），6.94 （1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），6.76 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），6.55 （1H，ｄ，J=8Hz，シンナミ
ル芳香環５‘位プロトン），3.24 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，
GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.91 （3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.79 （2H，
ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロ
トン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：175.3
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.5 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），148.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），133.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.0 （四級炭
素，プロペン2位炭素），130.7 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭素），11
8.6 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），115.
0 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），113.7 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），38.8 （CH2，GABA部γ
位メチレン基炭素），32.2 （CH2，GABA部α位メチレン
基炭素），25.0 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），
14.7 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-（2-ア
ミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparatic acid3-(2
-amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩
0.20 g（0.72 mmol）（国産化学社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これに、トリエチルアミン0.1
0ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.26 g 得た
（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.31（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.22 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド
基プロトン），6.96（1H，ｄ，J=9Hz，シンナミル芳香
環6‘位プロトン），6.71（1H，ｓ，シンナミル芳香環
３‘位プロトン），6.70（1H，ｄ，J=9 Hz，シンナミル
芳香環５‘位プロトン），4.83（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，
Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），2.99（1
H，d-d，Ｊ=4Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロ
トン），2.84（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラ
ギン酸部β位プロトン），2.03（3H，ｓ，プロペン2位
結合メチル基プロトン），1.49（9H，s，ブチル基のメ
チル基プロトン），1.47（9H，s，ブチル基のメチル基
プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.3 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.7 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.9 （四級
炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），134.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），132.3（四級炭素，
プロペン2位炭素），130.9（CH，プロペン3位炭素），1
30.5（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），119.1（四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），117.6（CH，
シンナミル芳香環５‘位炭素），114.9（CH，シンナミ
ル芳香環３‘位炭素），82.7（四級炭素，ブチル基），
81.8（四級炭素，ブチル基），49.6（CH，アスパラギン
酸部α位炭素），37.2（CH2，アスパラギン酸部β位炭
素），27.9（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.7（C
H3，ブチル基のメチル基炭素），13.9（CH3，プロペン2
位結合メチル基炭素）。（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-4-クロロフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（E） N-L-Aspara
tic acid 3-（2-amino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-p
ropenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-(2
-アミノ-4 -クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.26 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて６時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量的）。本化
合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.39 （1
H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.08 （1Ｈ，
ｄ，J=9Hz，シンナミル芳香環6‘位プロトン），7.01
（1Ｈ，ｓ，プロペン3位プロトン），6.89 （1H，ｓ，
シンナミル芳香環３‘位プロトン），6.74 （1H，ｄ，J
=9 Hz，シンナミル芳香環５‘位プロトン），4.69 （1
H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プ
ロトン），2.87（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパ
ラギン酸部β位プロトン），2.72 （1H，d-d，Ｊ=4 H
z，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），1.92
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.8
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
0 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
9.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.2
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.8
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.5
（四級炭素，プロペン2位炭素），131.1 （CH，シンナ
ミル芳香環６‘位炭素），128.0 （CH，プロペン3位炭
素），117.7 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），11
7.2 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），113.
4 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），49.3 （CH，
アスパラギン酸部α位炭素），36.1 （CH2，アスパラギ
ン酸部β位炭素），14.6 （ CH3，プロペン2位結合メチ
ル基炭素）。（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド（（E）
N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-（2-aminophenyl）-2
-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸
p-ニトロフェニルエステル0.65 g（2.2 mmol）とγ-ア
ミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.40 g（2.6 mmo
l）（ナカライテスク社製）とをジメチルホルムアミド
４mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.36ml（和光純
薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。反応の終
了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加え、酢酸エ
チル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数
回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減
圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：95／
5）にて精製して目的化合物を0.58 g 得た（収率；95
％）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認
した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.32 （1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.12 （1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，シン
ナミル芳香環６’位プロトン），7.07 （1H，ｄｄ，Ｊ=
8 Hz，Ｊ=8 Hz，シンナミル芳香環4’位プロトン），6.
76 （1H， ｄ，Ｊ=8Ｈｚ，芳香環３’位プロトン），6.
70（1H，ｄｄ，Ｊ=8 Hz， Ｊ=8 Hz，芳香環５’位プロ
トン），3.68 （3H，ｓ， GABA部メチルエステルのメチ
ル基プロトン），3.45 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位
メチレン基プロトン），2.45（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA
部α位メチレン基プロトン），2.02（3H，ｓ，プロペン
2位結合メチル基プロトン），1.94（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 H
z，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.4 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.21 （四級炭素，プ
ロペン1位カルボニル炭素），144.8 （四級炭素，シン
ナミル芳香環２’位炭素），132.3 （四級炭素，プロペ
ン２位炭素），131.4 （CH，プロペン3位炭素）， 129.
6 （CH，シンナミル芳香環４’位炭素），129.3 （CH，
シンナミル芳香環６’位炭素），121.1（四級炭素，シ
ンナミル芳香環１’位炭素），118.0 （CH，シンナミル
芳香環５’位炭素）， 115.6（CH，シンナミル芳香環
３’位炭素），51.9 （CH3，GABA部メチルエステルのメ
チル基炭素），40.0 （CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.8 （CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.2
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.2 （CH3，プ
ロペン２位結合のメチル基炭素）。（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-アミノフェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド（（E） N-3-Carbo
xypropyl 3-（2-aminophenyl）-2-methyl-2-propenoic
amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド0.58 g
（2.1 mmol）をメタノール5mlに溶解し、これに1規定
水酸化ナトリウム水溶液5mlを加えて室温にて12時間反
応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH４に調整した
後、溶媒を減圧下にて留去し、得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロ
メタン／メタノール=10／2）により精製し、目的化合物
を0.55 g得た（収率定量的）。本化合物の構造は1H-NMR
及び13Ｃ-NMRにより確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.47（1
H、ｔ、J=6 Hz、アミド基プロトン）、7.47 （1H，ｄ，
Ｊ=7 Hz，シンナミル芳香環3’位プロトン），7.44 -
7.32 （3H，m，シンナミル芳香環4’位と5‘位と6’位
プロトン）、7.26 （1H，ｓ，プロペン3位プロトン），
3.22 （2H，ｔ-ｄ，Ｊ=6 Hz， Ｊ=6 Hz，GABA部γ位メ
チレン基プロトン），2.31 （2H，ｔ，Ｊ=6 Hz，GABA部
α位メチレン基プロトン），1.89 （3H，ｓ，プロペン2
位結合メチル基プロトン），1.76 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=6 H
z，Ｊ=6 Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），170.0 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），136.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環２’位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン２位炭素）， 130.1 （ＣＨ，シンナミル
芳香環４’位炭素），130.1 （CH，シンナミル芳香環
６’位炭素），129.4（四級炭素，シンナミル芳香環
１’位炭素），128.7（CH，シンナミル芳香環５’位炭
素）， 126.3 （CH，プロペン3位炭素），122.7（CH，
シンナミル芳香環３’位炭素），38.4 （CH2，GABA部γ
位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部α位メチレン
基炭素），24.5 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），
14.6 （CH3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。(E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル 3-(4-ジメ
チルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド（(E) N-L-glutamic acid diethyl ester 3-(4-d
imethylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenoic a
mide ）の合成 (E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸 9.0 g(36 mmol) をテトラヒドロフラン9
0 ml に溶解し、窒素雰囲気下、1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）（国
産化学株式会社製；Kokusan chemical works） 5.6 g、
グルタミン酸ジエチルエステル塩酸塩（国産化学株式会
社製；Kokusan chemical works） 9.1 g 及びトリエチ
ルアミン（和光純薬社製） 3.8 gを加えた。更にN,N’-
ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）（和光純薬社
製）7.8 g をテトラヒドロフラン15 ml 溶解したものを
加えて室温にて一夜間撹拌した。反応終了後沈殿物を濾
過により除き、濾液を減圧下濃縮して得られた残渣を酢
酸エチル500 ml に転溶した。この溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、2Ｍクエン酸水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
により乾燥を行った後濃縮して粗生成物を得た。これを
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タ
イプ）Fuji silysia chem. Co.、 NH-DM1020 、1000
g、溶離液 クロロホルム／メタノール20：１）により
精製し、目的化合物を12.1 g得た（収率：77.3 %）。(E) N-L-グルタミン酸 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミノ
フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド・２ナトリウ
ム塩（(E) N-L-Glutamic acid 3-(2-amino-4-dimethyla
minophenyl)-2-methyl-2-propenoic amide di-sodium s
alt）の合成 暗室内にて、(E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル
3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミド 12.0 g (27.6 mmol)、鉄粉（Iron p
owder Koso Chem.Co.）7.3 g (130.7 mmol)、 酢酸 11
3.6 ml及び蒸留水 8.7 mlを反応容器に取り激しく撹拌
しながら92℃にて30分間撹拌反応を行った。TLCにて反
応の終了を確認し、冷却後鉄粉及び不溶物を濾取した。
この濾液を減圧下濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液 1000 ml を加えて不溶物を濾過した後、酢酸エチル3
00 ml による抽出を3回行った。抽出した酢酸エチル溶
液を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥後濃縮して粗生成物を得た。これを
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タ
イプ）Fuji silysia chem. Co.、NH-DM1020、900 g）、
溶離液 クロロホルム／メタノール20：１）により精製
し、E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル 3-(2-ア
ミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸アミドを4.5 g得た。更に、これをメタノール 45 ml
に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液 23 ml を加
え室温にて一夜間撹拌した。反応液から溶媒を留去した
後、過剰のアルカリ及び不純物塩を除去する目的で、固
相抽出充填剤ダイヤイオンHP 20（三菱化学社製）約100
0ml を用いたカラムにアプライし、水で溶出することで
脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶液にて溶出
し、これを凍結乾燥して目的化合物を2.9 g 得た（収
率：26.8 %）。本化合物の構造は、1H-NMR，13C-NMRに
より確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；7.45 (1H,
d, J=6Hz, アミド基プロトン，7.11 (1H, s, プロペン
酸3位プロトン)，6.89 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環6’
位プロトン)，6.06 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，6.
04 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環5’位プロトン)，4.85 (2H,
bs, アニリン性アミノ基プロトン），3.92（1H, ddd,
J=5Hz, J= 7Hz, J=6Hz, グルタミン酸部α位プロト
ン），2.89 (6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロト
ン )，2.04 (3H, s, プロペン2位のメチル基プロト
ン)，2.42 - 2.00 （4H, m, グルタミン酸部β位及びγ
位メチレン基プロトン），1.95 (3H, s, プロペン酸２
位結合メチル基プロトン）13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；173.6 (四
級炭素, グルタミン酸部カルボニル炭素)，172.9 (四
級炭素, グルタミン酸部カルボニル炭素)，167.8(四級
炭素, １位カルボニル炭素)，151.0 (四級炭素, 芳香環
４’位炭素)，147.7 (四級炭素, 芳香環2’位炭素)，13
0.1 (CH, 芳香環６’位炭素)，129.1 (CH,プロペン酸3
位炭素)，128.1 (四級炭素, プロペン２位炭素)，109.6
(四級炭素, 芳香環１’位炭素)，101.5 (CH, 芳香環
５’位炭素)，98.2 (CH, 芳香環３’位炭素)，53.6 （C
H, グルタミン酸部α位炭素），39.8 (CH3, ジメチルア
ミノ基のメチル基炭素)，30.0 （CH2, グルタミン酸部
γ位炭素），27.9 （CH2, グルタミン酸部β位炭素），
14.4 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。(E) N-3-エチルオキシカルボニルプロピル 3-(4-ジメ
チルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド（(E) N-3-ethyloxycarbonylpropyl 3-(4-d imeth
ylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 (E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸 5.5 g(22.0 mmol) をテトラヒドロフラ
ン60 ml に溶解し、窒素雰囲気下、1-ヒドロキシベンゾ
トリアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）
（国産化学株式会社製；Kokusan chemical works） 3.4
g、γ−アミノブタン酸エチルエステル 3.9 g 及びト
リエチルアミン （和光純薬社製）2.3 gを加えた。更
に、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）
（和光純薬社製） 7.8 g をテトラヒドロフラン10 ml
に溶解したものを加えて室温にて一夜間撹拌した。反応
終了後、沈殿物を濾過により除き，濾液を減圧下濃縮し
てその残渣を酢酸エチル400 ml に転溶した。この溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、2Ｍクエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムにより乾燥を行った後、濃縮して粗生
成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia chem. Co., NH
-DM1020 ，1000 g）、溶離液 クロロホルム／メタノー
ル20：１）により精製し、目的化合物を7.77 g得た（収
率：97.3 %）。(E) N-γ-アミノブタン酸 3-(2-アミノ-4-ジメチルア
ミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド ナトリ
ウム塩（(E) N-γ-aminobutyric acid 3-(2-amino- 4-di
methylaminophenyl)-2-methyl-2-propenoic amide sod
ium salt）の合成 暗室内にて、(E) N-エチルオキシカルボニルプロピル 3
-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 アミド7.7 g (21.2 mmol)、鉄粉（Iron powd
er Koso Chem.Co.）5.5 g (98.5 mmol)、酢酸 120 ml、
蒸留水 6.92 mlを反応容器に取り激しく撹拌しながら室
温にて15時間撹拌反応を行った。TLCにて反応の終了を
確認し、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中へ投
じ、これに酢酸エチル500 ml を加えて抽出を行った。
この有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し，無
水硫酸マグネシウム上で乾燥後濃縮して粗生成物を得
た。更に、これをカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル（アミノ修飾タイプ、Fujisilysia chem. Co., NH-DM
1020 ，900 g）、溶離液 クロロホルム／メタノール2
0：１）により精製し、(E) N-3-エチルオキシカルボニ
ルプロピル 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-
2-メチル-2-プロペン酸アミドを5.87 g得た。更に、こ
れをメタノール 60 mlに溶解し、１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液 27 mlを加え、室温にて一夜間撹拌した。この
反応液から溶媒を留去した後、過剰のアルカリ及び不純
物塩を除去する目的で、固相抽出充填剤ダイヤイオン H
P 20（三菱化学社製）約1000ml を用いたカラムにアプ
ライし、水で溶出することで脱塩を行い、引き続き10%
メタノール水溶液にて溶出し、これを凍結乾燥して目的
化合物を4.76 g 得た（収率：69.2 %）。本化合物の構
造は1H-NMR及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)； 8.89 (1
H, d, J=4Hz, アミド基プロトン，7.02 (1H, s, プロペ
ン酸3位プロトン)，6.90 (1H, d, J=8 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，6.03 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン)，6.01 (1H, d, J=8Hz, 芳香環5’位プロトン)，5.0
5 (2H, bs, アニリン性アミノ基プロトン），3.14 （2
H, dt, J=4Hz, J= 7Hz, γ-アミノブタン酸部 α位プロ
トン），2.93 (6H, s, ジメチルアミノ基のメチル基プ
ロトン )，2.06 (2H, s, γ-アミノブタン酸部 γ位プ
ロトン)，1.91 (3H, s, プロペン酸２位結合メチル基プ
ロトン），1.69（2H, tt, J=7Hz, J=7Hz, γ-アミノブ
タン酸部 β位プロトン）13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)； 177.2
(四級炭素, γ-ブタン酸部カルボニル炭素)，169.6
(四級炭素, １位カルボニル炭素)，150.9 (四級炭素,
芳香環2’位炭素)，147.8 (四級炭素, 芳香環4’位炭
素)，129.9 (CH, 芳香環６’位炭素)，129.9 (CH, プロ
ペン酸3位炭素)，128.3 (四級炭素, プロペン２位炭
素)，128.1 (CH, プロペン酸3位炭素)，109.3 (四級炭
素, 芳香環１’位炭素)，101.3 (CH, 芳香環５’位炭
素)，98.0 (CH, 芳香環３’位炭素)，40.5（CH2, γ-ア
ミノブタン酸部 α位炭素），39.9 (CH3, ジメチルアミ
ノ基のメチル基炭素)，36.5 （CH2, γ-アミノブタン酸
部γ位炭素），25.4 （CH2, γ-アミノブタン酸部β位
炭素），14.6 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭
素)。(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリルエトキシ
カルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
((E) 3-[4,5-dimethoxy-2-(trimethylsilylethoxycarbo
nyl ) aminophenyl]-2-methyl-2-propenoic acid)の合
成 暗室内にて、(E) エチル 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシ
フェニル)-2-メチル-2-プロペネート12.2 g (46.2 mmo
l)をアセトニトリル120 ml に溶解し、窒素雰囲気下氷
冷しながら粉砕した炭酸カリウム7.6 g (55.4 mmol)を
加えた。反応混濁液を激しく撹拌しながらトリメチルシ
リルエトキシカルボニル クロライド(Teoc-Cl) 10 g
(55.4 mmol)をゆっくりと滴下し、室温にて一夜間撹拌
を行った。反応液を冷水500 ml に注加し、酢酸エチル3
00 ml による抽出を行った。この酢酸エチル溶液を、
水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水
溶液の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥後、
溶媒を留去して粗生成物13.5 gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ノルマルヘキサ
ン／酢酸エチル＝３／１）により精製し、(E) エチル
3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリルエトキシカ
ルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネートを
7.0 g 得た。更にこれをジオキサン 30 ml に溶解し、
これに１規定水酸化ナトリウム水溶液 25 ml を加えて4
0℃で撹拌した。反応の終了をTLCにて確認し、反応液に
蒸留水150 mlを加えて１規定塩酸でpH 3に調整した後、
析出した結晶を濾過し乾燥して目的化合物を5.6 g 得た
（収率：32 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMR
により確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)； 8.81 （1H, bs,
アミド基プロトン），7.56 (1H, s, プロペン酸３位プ
ロトン）， 6.97 (1H, s, 芳香環３’位プロトン），6.
89 (1H, s,芳香環６’位プロトン），4.12 (2H, t, J=
8 Hz, トリメチルシリルエトキシ基α位メチレン基プロ
トン），3.77 (6H, s, メトキシ基メチル基プロト
ン），1.94 (3H, s,プロペン酸２位結合メチル基プロト
ン），0.94 (2H,t, J=8 Hz, トリメチルシリルエトキシ
基β位メチレン基プロトン），0.03 (9H,s, トリメチル
シリルエトキシ基メチル基プロトン）13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)； 169.4 (四級炭
素,プロペン酸１位カルボニル基炭素），154.6 (四級炭
素,トリメチルシリルエトキシカルボニル基カルボニル
炭素），148.7 (四級炭素, 芳香環４’位炭素），145.7
(四級炭素, 芳香環５’位炭素），134.9 (CH, プロペ
ン酸３位炭素），130.3 (四級炭素, 芳香環２’位炭
素），127.8 (四級炭素, プロペン酸２位炭素），112.3
(CH, 芳香環６’位炭素），62.1 (CH2, トリメチルシ
リルエトキシ基β位メチレン基炭素），55.7 (CH3, メ
トキシ基メチル基炭素）， 55.5 (CH3, メトキシ基メチ
ル基炭素），17.3 (CH2,トリメチルシリルエトキシ基α
位メチレン基炭素），14.0 (CH3, プロペン酸２位結合
メチル基炭素），-1.5 (CH3, トリメチルシリルエトキ
シ基メチル基炭素）。(E) N-(N-メチル)-D-アスパラギン酸 3-(2-アミノ-4,5
-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（(E) N-(N-Methyl)-D-asparatic acid 3-(2-amino-4,5
-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-pepenoic amide）の合
成 暗室内にて(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸4.5 g（11.4 mmol）をテトラヒドロフラン50 m
l に溶解し、これに窒素雰囲気下1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）（国
産化学株式会社製；Kokusan chemical works）1.83 g
、N-メチル-D-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル
3.10 g 、N-メチルホルモリン（和光純薬社製） 1.15
g及びN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）
（和光純薬社製）2.47 g を加えて室温にて１０日間撹
拌した。反応終了後沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮
してその残渣を酢酸エチル200ml に転溶した。この有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、20%クエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾
燥を行った後濃縮して粗生成物を得た。これをカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タイプ）Fu
ji silysia chem.Co., NH-DM1020 ）により精製し、(E)
N-(N-メチル)-D-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステ
ル 3-(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミドを6.84 g得た（収率：94.4 %）。更
にこれをメタノール200 mlに溶解し、１規定塩酸を加え
室温にて１ヶ月撹拌した。保護基の脱離反応の終了を確
認し、反応液を１規定水酸化ナトリウムでアルカリ性に
調節した後、過剰のアルカリ及び不純物塩の除去のため
固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-20（三菱化学社製）約
1000ml を用いたカラムにアプライし、水で溶出するこ
とで脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶液にて溶
出し、これを凍結乾燥して目的物を3.04 g得た（収率：
71.0 %）。本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRにより
確認した。1 H-NMR (重水, δppm)；6.85 (1H, s, 芳香環６’位プ
ロトン)，6.61 (1H, s,芳香環３’位プロトン)，6.48(1
H, s, プロペン酸3位メチン基プロトン)，5.02 (1H, d
d, J=9 Hz, J=6Hz, アスパラギン酸部α位メチン基プロ
トン)，3.83 (3H, s, メトキシ基メチル基プロトン) ，
3.81 (3H, s, メトキシ基メチル基プロトン)，3.20 〜
2.79 (2H, m, アスパラギン酸部β位メチレン基プロト
ン)，2.90 (3H, s,アスパラギン酸部窒素結合メチル基
プロトン）， 1.96 (3H, s, プロペン酸2位結合メチル
基プロトン)13 C-NMR (重水, δppm)；177.2 (四級炭素, アスパラギ
ン酸部カルボニル炭素），176.3 (四級炭素, アスパラ
ギン酸部カルボニル炭素），174.7(四級炭素,プロペン
酸1位カルボニル炭素)，149.8 (四級炭素, 芳香環4'位
炭素)，141.9 (四級炭素, 芳香環２'位炭素),139.4 (四
級炭素,芳香環５'位炭素)，134.2 (四級炭素, プロペン
酸2位炭素)，126.9 (CH, プロペン酸3位メチン基炭
素)，114.9 (四級炭素, 芳香環１'位炭素)，114.6 (CH,
芳香環６'位炭素)，102.5 (CH, 芳香環３'位炭素)，6
2.1 (CH, アスパラギン酸部α位メチン基炭素)， 57.4
(CH3, メトキシ基メチル基炭素)，56.4 (CH3, メトキシ
基メチル基炭素)，36.0 (CH2, アスパラギン酸部β位メ
チレン基炭素)，30.3 (CH3, アスパラギン酸部窒素結合
メチル基炭素），15.8 (CH3, プロペン酸2位結合メチル
基炭素)。(E) N-L-グルタミン 3-(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェ
ニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド（(E) N-L-Glutami
ne 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-pepe
noic amide）の合成 暗室内にて(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸4.4 g（11.1 mmol）をテトラヒドロフラン45 m
l に溶解し、-10℃に冷却して窒素雰囲気下クロロ炭酸
イソブチル（Isobutylchloroformate）（国産化学株式
会社製；Kokusan chemical works）1.7 gを加え30分間
撹拌した。これにN-メチルモルホリン（和光純薬社製）
1.2 gとグルタミン t-ブチルエステル塩酸塩（国産
化学株式会社製；Kokusan chemicalworks） 3 gをジメ
チルホルムアミド35 mlに溶解したものとを加えて室温
まで徐々に昇温し、室温にて１時間撹拌した。反応終了
後溶媒を減圧下留去し、残渣に酢酸エチル200 ml及び水
100 ml を加えた。この有機層を５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、１規定塩酸、水にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った後濃縮して粗生成物
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、(E) N-グルタミン t-ブチルエステル 3-
(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミドを4.64 g得た（収率：73.9%）。更にこれ
をジクロロメタン40 mlに溶解し、トリフルオロ酢酸
（和光純薬社製）5 mlを加え30℃にて24時間撹拌した。
保護基の脱離反応の終了を確認後、減圧下濃縮してその
残渣をイオン交換水に転溶し、凍結乾燥を行い目的物を
2.7 g得た（収率：93.8 %）。本化合物の構造は1H-NMR
及び13C-NMRにより確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；7.02 (1H,
s, 芳香環６’位プロトン)，6.92 (1H, s, 芳香環３’
位プロトン)，7.38(1H, s, プロペン酸３位メチン基プ
ロトン)，4.28 (1H, dd, J=12 Hz, J=8Hz, グルタミン
部α位メチン基プロトン)，3.79 (6H, s, メトキシ基メ
チル基プロトン），2.22 (2H, t, J= 7Hz,グルタミン部
γ位メチン基プロトン)，2.14 〜 1.90 (2H, m, グルタ
ミン部β位メチン基プロトン)，1.98 (3H, s,プロペン
酸2位結合メチル基プロトン )13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；174.0 (四
級炭素, グルタミン部カルボニル炭素），173.5 (四級
炭素, グルタミン部カルボニル炭素），168.4 (四級炭
素,プロペン酸部1位カルボニル炭素），148.9 (四級炭
素, 芳香環４’位炭素），147.4 (四級炭素, 芳香環
５’位炭素），127.5 (CH, プロペン酸3位メチン基炭
素），134.7 (四級炭素, 芳香環２’位炭素），124.0
(四級炭素, プロペン酸部2位炭素），117.4 (四級炭素,
芳香環１’位炭素）， 113.6 (CH, 芳香環５’位炭
素），56.0 (CH3, メトキシ基メチル基炭素) ，55.8 (C
H3, メトキシ基メチル基炭素) ，52.4 (CH, グルタミン
部α位メチン基炭素），31.6 (CH2, グルタミン部γ位
メチレン基炭素），26.5 (CH2, グルタミン部β位メチ
レン基炭素），14.5 (CH3, プロペン酸部2位結合メチル
基炭素）。光照射によるアミノ酸の放出 上記得られたケージドグルタミン酸の水溶液（100mM）
に320nmの単色光を30分間照射し、得られた生成物をHPL
Cを用いて以下に示す条件で分離分析した。その結果、
カルボスチリルが生成したことが確認された（図５
(a)、(b)）。 HPLC条件： カラム ： 関東化学社製、MightysilRP-18,150-4.6 溶出溶媒： 0.05%トリフルオロ酢酸含有、アセトニトリル/水 （グラジエント条件：10/90から70/30(20分)） 溶出速度： 1ml/min 保持時間： ケージドグルタメート 4.8min カルボスチリル 8.5min 放出されたグルタミン酸の検出のため、上記光照射した
試料にダンシルクロリドを添加してグルタミン酸のダン
シル誘導体化を行った。得られた生成物をHPLCを用いて
以下に示す条件で分離分析した結果、ダンシル化グルタ
ミン酸が生成したことが確認された（図６(a)、(b)）。 HPLC条件： カラム ： 関東化学社製、MightysilRP-18,150-4.6 溶出溶媒： 0.05%トリフルオロ酢酸含有、アセトニトリル/水 （グラジエント条件：10/90から70/30(20分)） 溶出速度： 1ml/min 保持時間： ダンシル化グルタミン酸 7.2min。
【発明の効果】本発明にかかるケージドアミノ酸化合物
は、以上説明したように特徴的な構造を有するものであ
り、光照射により、特定の場所に、特定の時間、特定の
量、アミノ酸を放出させることを可能とするものであ
る。また、放出されたアミノ酸の量を、同時に生成する
カルボスチリル誘導体からの強い蛍光を測定することで
測定することが可能となる。
は、以上説明したように特徴的な構造を有するものであ
り、光照射により、特定の場所に、特定の時間、特定の
量、アミノ酸を放出させることを可能とするものであ
る。また、放出されたアミノ酸の量を、同時に生成する
カルボスチリル誘導体からの強い蛍光を測定することで
測定することが可能となる。
【図１】本発明のケージドアミノ酸への光照射により、
クマリン類似体（カルボスチリル）とアミノ酸が放出さ
れることを示す反応経路図である。
クマリン類似体（カルボスチリル）とアミノ酸が放出さ
れることを示す反応経路図である。
【図２】（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ本発明にかかるケー
ジドアミノ酸の合成ルートの一例を示す反応経路図であ
る。
ジドアミノ酸の合成ルートの一例を示す反応経路図であ
る。
【図３】（ａ）〜（ｇ）はそれぞれ本発明にかかるケー
ジドアミノ酸の合成ルートの一例を示す反応経路図であ
る。
ジドアミノ酸の合成ルートの一例を示す反応経路図であ
る。
【図４】（ａ）〜（ｇ）はそれぞれ本発明にかかるケー
ジドアミノ酸の合成ルートの一例を示す反応経路図であ
る。
ジドアミノ酸の合成ルートの一例を示す反応経路図であ
る。
【図５】（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、単色光を照射す
る前及び照射した後のケージドグルタミン酸水溶液のＨ
ＰＬＣクロマトグラムを示すグラフである。（ａ）及び
（ｂ）において、縦軸は吸光度を表し、横軸は測定時間
［分］を表す。なお、これらのグラフの縦軸の数値につ
いて、例えば「１．２１０６」は「１．２×１０ ６」を
意味する。
る前及び照射した後のケージドグルタミン酸水溶液のＨ
ＰＬＣクロマトグラムを示すグラフである。（ａ）及び
（ｂ）において、縦軸は吸光度を表し、横軸は測定時間
［分］を表す。なお、これらのグラフの縦軸の数値につ
いて、例えば「１．２１０６」は「１．２×１０ ６」を
意味する。
【図６】（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、吸光度モード及
び蛍光モードで測定した、前記光照射後のケージドグル
タミン酸水溶液にダンシルクロリドを添加した水溶液の
ＨＰＬＣクロマトグラムを示すグラフである。（ａ）の
縦軸は吸光度を表し、横軸は測定時間［分］を表す。
（ｂ）の縦軸は蛍光強度を表し、横軸は測定時間［分］
を表す。なお、（ａ）及び（ｂ）の縦軸の数値につい
て、例えば「１．５１０５」は「１．５×１０５」を意
味する。
び蛍光モードで測定した、前記光照射後のケージドグル
タミン酸水溶液にダンシルクロリドを添加した水溶液の
ＨＰＬＣクロマトグラムを示すグラフである。（ａ）の
縦軸は吸光度を表し、横軸は測定時間［分］を表す。
（ｂ）の縦軸は蛍光強度を表し、横軸は測定時間［分］
を表す。なお、（ａ）及び（ｂ）の縦軸の数値につい
て、例えば「１．５１０５」は「１．５×１０５」を意
味する。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年１月１３日（２０００．１．１
３）
３）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なケージドア
ミノ酸に関する。
ミノ酸に関する。
【０００２】
【従来の技術】グルタミン酸等の生理活性アミノ酸化合
物の生体における作用機構を調べるには、その化合物の
生体系内での消長を定量的に短時間で測定をすることが
必要である。更に系内に導入された前記化合物につい
て、追従する種々の変化を観察することも重要である。
物の生体における作用機構を調べるには、その化合物の
生体系内での消長を定量的に短時間で測定をすることが
必要である。更に系内に導入された前記化合物につい
て、追従する種々の変化を観察することも重要である。
【０００３】一方生体反応は多くの場合極めて速く、ま
た複数の反応が複雑に関連しながら同時に進行すること
が普通である。そのために外部から前記アミノ酸化合物
を添加した場合に、系内を拡散する過程がむしろ律速と
なり、実際測定したいその後の反応が明確に捉らえられ
なくなってしまうという問題があった。
た複数の反応が複雑に関連しながら同時に進行すること
が普通である。そのために外部から前記アミノ酸化合物
を添加した場合に、系内を拡散する過程がむしろ律速と
なり、実際測定したいその後の反応が明確に捉らえられ
なくなってしまうという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】かかる問題を解決する
ため、すばやく目的物質たるアミノ酸化合物を添加する
方法について様々な方法が提案されているが、その１つ
に、光照射に基づく技術、いわゆるケージド(Caged)試
薬を用いる方法が報告されている。この方法は一般的に
は、追跡される生理活性物質の活性部位を特定の保護基
で保護したケージド化合物（ケージング基を導入した化
合物、若しくはケージング基でラベル化された化合物を
意味する）を生体系に導入し、この物質が十分作用点に
拡散したことを確認した後に、光照射により保護基（ケ
ージング基）を脱離させてアミノ酸化合物を遊離放出す
るものであり、これによって目的とするアミノ酸化合物
による反応が追跡可能となる。このケージド化合物（ケ
ージドアミノ酸）の特徴は、光照射のみによりアミノ酸
が放出できる点、極めて迅速に保護基の脱離が可能であ
る点、及び必要に応じて特定の部分にのみ光照射をしぼ
り込むことによりアミノ酸の位置特異的な供給が可能で
ある点である。本発明は上述の作用を有するものであっ
て、新規な構造を有するケージング基によりケージド化
されたアミノ酸化合物を提供するものである。
ため、すばやく目的物質たるアミノ酸化合物を添加する
方法について様々な方法が提案されているが、その１つ
に、光照射に基づく技術、いわゆるケージド(Caged)試
薬を用いる方法が報告されている。この方法は一般的に
は、追跡される生理活性物質の活性部位を特定の保護基
で保護したケージド化合物（ケージング基を導入した化
合物、若しくはケージング基でラベル化された化合物を
意味する）を生体系に導入し、この物質が十分作用点に
拡散したことを確認した後に、光照射により保護基（ケ
ージング基）を脱離させてアミノ酸化合物を遊離放出す
るものであり、これによって目的とするアミノ酸化合物
による反応が追跡可能となる。このケージド化合物（ケ
ージドアミノ酸）の特徴は、光照射のみによりアミノ酸
が放出できる点、極めて迅速に保護基の脱離が可能であ
る点、及び必要に応じて特定の部分にのみ光照射をしぼ
り込むことによりアミノ酸の位置特異的な供給が可能で
ある点である。本発明は上述の作用を有するものであっ
て、新規な構造を有するケージング基によりケージド化
されたアミノ酸化合物を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究し
た結果、かかる優れた作用を有するケージドアミノ酸化
合物の合成に成功し、本発明を完成したものである。
た結果、かかる優れた作用を有するケージドアミノ酸化
合物の合成に成功し、本発明を完成したものである。
【０００６】すなわち、本発明にかかる新規なケージド
アミノ酸は、基本構造として、目的のアミノ酸化合物の
アミノ基と、特定構造を有する桂皮酸誘導体のカルボキ
シル基とのアミド結合を有する。更に、前記桂皮酸誘導
体は、その二重結合に対して芳香族環とカルボキシル基
がそれぞれトランス配向をとる。また、前記芳香族環に
は、二重結合炭素の結合位置に対してオルト位置にアミ
ノ基が置換されていることが特徴である。
アミノ酸は、基本構造として、目的のアミノ酸化合物の
アミノ基と、特定構造を有する桂皮酸誘導体のカルボキ
シル基とのアミド結合を有する。更に、前記桂皮酸誘導
体は、その二重結合に対して芳香族環とカルボキシル基
がそれぞれトランス配向をとる。また、前記芳香族環に
は、二重結合炭素の結合位置に対してオルト位置にアミ
ノ基が置換されていることが特徴である。
【０００７】本発明にかかる新規なケージドアミノ酸は
暗所で安定に存在する一方、光存在下で前記アミド結合
が分子内反応により切断され、アミノ酸化合物を放出す
ることとなる。
暗所で安定に存在する一方、光存在下で前記アミド結合
が分子内反応により切断され、アミノ酸化合物を放出す
ることとなる。
【０００８】より詳しくは、本発明にかかる新規なケー
ジドアミノ酸は、下記式１で示されるケージドアミノ酸
である。
ジドアミノ酸は、下記式１で示されるケージドアミノ酸
である。
【０００９】
【化１９】
【００１０】ここで、 Ｘ及びＹは各々独立に水素原
子、ハロゲン原子、炭素数１から４までのアルキル基、
炭素数１から４までのアルキルオキシ基、炭素数１から
４までのアルキルアミノ基、及びベンゾ基からなる群よ
り選ばれる一種を表し、それぞれ同一でも異なっていて
もよい。Ｒ1は、水素原子及び炭素数１から４までのア
ルキル基からなる群より選ばれる一種を表す。Ｒ2及び
Ｒ3は各々独立に水素原子又は炭素数１から４までのア
ルキル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ａは、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イ
ソロイシン、セリン、トレオニン、アスパラギン酸、グ
ルタミン酸、γ−アミノブタン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−ア
スパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、リシン、ヒ
ドロキシリシン、アルギニン、システイン、シスチン、
メチオニン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトフ
ァン、ヒスチジン、プロリン及び４−ヒドロキシプロリ
ンからなる群より選ばれるアミノ酸の残基を表す。ま
た、Ｍは水素原子、アルカリ金属及びアルカリ土類金属
からなる群より選ばれる一種を表す。
子、ハロゲン原子、炭素数１から４までのアルキル基、
炭素数１から４までのアルキルオキシ基、炭素数１から
４までのアルキルアミノ基、及びベンゾ基からなる群よ
り選ばれる一種を表し、それぞれ同一でも異なっていて
もよい。Ｒ1は、水素原子及び炭素数１から４までのア
ルキル基からなる群より選ばれる一種を表す。Ｒ2及び
Ｒ3は各々独立に水素原子又は炭素数１から４までのア
ルキル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ａは、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イ
ソロイシン、セリン、トレオニン、アスパラギン酸、グ
ルタミン酸、γ−アミノブタン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−ア
スパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、リシン、ヒ
ドロキシリシン、アルギニン、システイン、シスチン、
メチオニン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトフ
ァン、ヒスチジン、プロリン及び４−ヒドロキシプロリ
ンからなる群より選ばれるアミノ酸の残基を表す。ま
た、Ｍは水素原子、アルカリ金属及びアルカリ土類金属
からなる群より選ばれる一種を表す。
【００１１】本発明にかかる新規なケージドアミノ酸の
うち好ましい例として、具体的には以下の式２から式１
８に示す構造を有するケージドアミノ酸が挙げられる。
うち好ましい例として、具体的には以下の式２から式１
８に示す構造を有するケージドアミノ酸が挙げられる。
【００１２】
【化２０】
【００１３】
【化２１】
【００１４】
【化２２】
【００１５】
【化２３】
【００１６】
【化２４】
【００１７】
【化２５】
【００１８】
【化２６】
【００１９】
【化２７】
【００２０】
【化２８】
【００２１】
【化２９】
【００２２】
【化３０】
【００２３】
【化３１】
【００２４】
【化３２】
【００２５】
【化３３】
【００２６】
【化３４】
【００２７】
【化３５】
【００２８】
【化３６】
【００２９】かかるケージドアミノ酸化合物は、図１に
示すように、シンナメート基の二重結合がトランス
（E）構造であるために、暗所にては安定に存在する
が、光照射により上記シンナメート基の二重結合が光異
性化平衡によりシス（Z）構造が生成する。このシス異
性体は分子内アミド結合形成に好ましい立体構造であ
り、速やかにクマリン類似体（カルボスチリル）の生成
と同時にアミノ酸を放出することとなる。
示すように、シンナメート基の二重結合がトランス
（E）構造であるために、暗所にては安定に存在する
が、光照射により上記シンナメート基の二重結合が光異
性化平衡によりシス（Z）構造が生成する。このシス異
性体は分子内アミド結合形成に好ましい立体構造であ
り、速やかにクマリン類似体（カルボスチリル）の生成
と同時にアミノ酸を放出することとなる。
【００３０】
【発明の実施の形態】以下更に詳しく本発明を説明す
る。
る。
【００３１】合成方法 本発明にかかるケージドアミノ酸の合成法については特
に限定されず、通常公知の有機化学反応が好ましく使用
できる。本発明において好ましく使用可能な方法の具体
例として、図２、図３及び図４に例示される３通りの合
成ルートが挙げられる。これらの方法により、容易にか
つ収率よく、高純度で本発明にかかる種々の置換基を有
するケージドアミノ酸を合成することが可能である。
に限定されず、通常公知の有機化学反応が好ましく使用
できる。本発明において好ましく使用可能な方法の具体
例として、図２、図３及び図４に例示される３通りの合
成ルートが挙げられる。これらの方法により、容易にか
つ収率よく、高純度で本発明にかかる種々の置換基を有
するケージドアミノ酸を合成することが可能である。
【００３２】図２に示す合成ルートは、好ましい置換基
を有する２−ニトロベンズアルデヒド誘導体（フェニル
ケトン誘導体を含む）と好ましい置換基を導入するため
のWittig（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬
を含む）との反応によるシンナメート骨格を形成するス
テップを含む（図2(a)）。必要な出発物質である２−ニ
トロベンズアルデヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を
含む）、及びWittig（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-
Emmons試薬を含む）は、市販品を使用することが可能で
ある。また、従来公知の有機合成方法により合成するこ
とも可能である（Organic Synthesis, col. vol. 3 , 6
41.、Organic Synthesis, col. vol. 4, 735.、Organic
Synthesis, col. vol. 5 , 825.、Kienzle, Frank，He
lv. Chim. Acta , 63 (8), 2364 - 2369 (1980)、 Wan
i, Mansukh C.; Ronman, PeterE.; Lindley, James T.;
Wall, Monroe E.，J. Med. Chem. 1980, 23, 554 - 56
0.）。 また、Wittig反応の反応条件については特に制
限はなく、通常公知の条件を使用可能である（Organic
Reaction vol.14, p270 - 423 (1965),Organic Reactio
n vol.25,73(1977)）。かかる文献等を参照して好まし
い反応条件を選択し最適化することは当業者にとっては
容易である。
を有する２−ニトロベンズアルデヒド誘導体（フェニル
ケトン誘導体を含む）と好ましい置換基を導入するため
のWittig（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬
を含む）との反応によるシンナメート骨格を形成するス
テップを含む（図2(a)）。必要な出発物質である２−ニ
トロベンズアルデヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を
含む）、及びWittig（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-
Emmons試薬を含む）は、市販品を使用することが可能で
ある。また、従来公知の有機合成方法により合成するこ
とも可能である（Organic Synthesis, col. vol. 3 , 6
41.、Organic Synthesis, col. vol. 4, 735.、Organic
Synthesis, col. vol. 5 , 825.、Kienzle, Frank，He
lv. Chim. Acta , 63 (8), 2364 - 2369 (1980)、 Wan
i, Mansukh C.; Ronman, PeterE.; Lindley, James T.;
Wall, Monroe E.，J. Med. Chem. 1980, 23, 554 - 56
0.）。 また、Wittig反応の反応条件については特に制
限はなく、通常公知の条件を使用可能である（Organic
Reaction vol.14, p270 - 423 (1965),Organic Reactio
n vol.25,73(1977)）。かかる文献等を参照して好まし
い反応条件を選択し最適化することは当業者にとっては
容易である。
【００３３】ここで、得られるシンナメート誘導体は二
重結合に対してシス体及びトランス体のいずれでもよ
く、また、それらの混合物であってもよい。構造確認の
手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手
段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクト
ル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の
手段により、二重結合、エステル基及びニトロ基の存在
を確認することができる。また、種々の公知又は市販の
液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いるこ
とにより、生成物の収率、純度を決定することが可能で
ある。
重結合に対してシス体及びトランス体のいずれでもよ
く、また、それらの混合物であってもよい。構造確認の
手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手
段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクト
ル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の
手段により、二重結合、エステル基及びニトロ基の存在
を確認することができる。また、種々の公知又は市販の
液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いるこ
とにより、生成物の収率、純度を決定することが可能で
ある。
【００３４】更に、図２に示す合成は、エステルを加水
分解によりカルボン酸とする反応を含む（図２(b)）。
かかるエステル（通常はメチル若しくはエチルエステル
である）の加水分解の反応方法についても特に制限はな
く、通常公知の方法（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “P
rotective Group in Organic Synthesis” 2nd ed.,p22
4-251., John Wiley & Sons (1991).）を好ましく使用
可能である。具体的には酸性条件若しくはアルカリ性条
件下での反応が挙げられる。かかる加水分解反応の反応
条件ついては特に制限はなく、通常公知の条件を使用す
ることが可能である。かかる文献を参照して好ましい反
応条件を選択し最適化することは当業者にとって容易で
ある。
分解によりカルボン酸とする反応を含む（図２(b)）。
かかるエステル（通常はメチル若しくはエチルエステル
である）の加水分解の反応方法についても特に制限はな
く、通常公知の方法（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “P
rotective Group in Organic Synthesis” 2nd ed.,p22
4-251., John Wiley & Sons (1991).）を好ましく使用
可能である。具体的には酸性条件若しくはアルカリ性条
件下での反応が挙げられる。かかる加水分解反応の反応
条件ついては特に制限はなく、通常公知の条件を使用す
ることが可能である。かかる文献を参照して好ましい反
応条件を選択し最適化することは当業者にとって容易で
ある。
【００３５】ここで、得られるシンナメート誘導体は二
重結合に対してシス体及びトランス体のいずれでもよ
く、またそれらの混合物であってもよい。構造確認の手
段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段
が使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル
（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手
段により、二重結合、カルボキシル基及びニトロ基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。
重結合に対してシス体及びトランス体のいずれでもよ
く、またそれらの混合物であってもよい。構造確認の手
段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段
が使用可能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル
（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手
段により、二重結合、カルボキシル基及びニトロ基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。
【００３６】更に、図２に示す合成は、得られた酸誘導
体とケージド化合物にする対象のアミノ酸誘導体との脱
水縮合によりアミド化合物とする反応を含む（図２
(c)）。ここで、シンナミック酸誘導体と脱水縮合する
アミノ酸誘導体は、その分子内にあるカルボキシル基
（アミノ酸側鎖に他に一つないし二つのカルボキシル基
がある場合には、このカルボキシル基もこれに含まれ
る）が炭素数１から４までのアルキル基を有するアルコ
ールによりエステル化された、カルボキシル基保護アミ
ノ酸誘導体（例えばグルタミン酸 ジ -ｔ-ブチルエステ
ル）を使用する。かかるカルボキシル基保護アミノ酸は
市販品を使用することが可能であり、また、従来公知の
有機合成反応による合成することも可能である（T.W.Gr
eene and P.G.M.Wuts, “Protective Group in Organic
Synthesis” 2nd ed., p224-251., JohnWiley & Sons
(1991).）。
体とケージド化合物にする対象のアミノ酸誘導体との脱
水縮合によりアミド化合物とする反応を含む（図２
(c)）。ここで、シンナミック酸誘導体と脱水縮合する
アミノ酸誘導体は、その分子内にあるカルボキシル基
（アミノ酸側鎖に他に一つないし二つのカルボキシル基
がある場合には、このカルボキシル基もこれに含まれ
る）が炭素数１から４までのアルキル基を有するアルコ
ールによりエステル化された、カルボキシル基保護アミ
ノ酸誘導体（例えばグルタミン酸 ジ -ｔ-ブチルエステ
ル）を使用する。かかるカルボキシル基保護アミノ酸は
市販品を使用することが可能であり、また、従来公知の
有機合成反応による合成することも可能である（T.W.Gr
eene and P.G.M.Wuts, “Protective Group in Organic
Synthesis” 2nd ed., p224-251., JohnWiley & Sons
(1991).）。
【００３７】前記シンナミック酸誘導体とアミノ酸誘導
体との脱水縮合の反応方法について特に制限はなく、通
常公知の方法を好ましく使用可能である。好ましくは、
極性非水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テト
ラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタ
ン）で種々の脱水剤を用いるものである。脱水剤として
は、具体的には、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DC
C）、1-エチル-3−（3-ジメチルアミノプロピル)-カル
ボジイミド（EDC），1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプ
ロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）が挙げられ
る。かかる脱水縮合の反応条件については特に制限はな
く、通常公知の条件を使用することが可能である（J.C.
Sheehan and G.P.Hess, J.Am.Chem.Soc., 77, 1067 (1
955).、J.C.Sheehan , J.Preston and P.A. Cruikshank
, J.Am.Chem.Soc., 87, 2492 (1965). 、J.C.Sheeha
n, and J. J. Hlavka, J. Org. Chem., 21, 439 (195
6). ）。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択
し最適化することは当業者にとって容易である。
体との脱水縮合の反応方法について特に制限はなく、通
常公知の方法を好ましく使用可能である。好ましくは、
極性非水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テト
ラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタ
ン）で種々の脱水剤を用いるものである。脱水剤として
は、具体的には、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DC
C）、1-エチル-3−（3-ジメチルアミノプロピル)-カル
ボジイミド（EDC），1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプ
ロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）が挙げられ
る。かかる脱水縮合の反応条件については特に制限はな
く、通常公知の条件を使用することが可能である（J.C.
Sheehan and G.P.Hess, J.Am.Chem.Soc., 77, 1067 (1
955).、J.C.Sheehan , J.Preston and P.A. Cruikshank
, J.Am.Chem.Soc., 87, 2492 (1965). 、J.C.Sheeha
n, and J. J. Hlavka, J. Org. Chem., 21, 439 (195
6). ）。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択
し最適化することは当業者にとって容易である。
【００３８】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、二重結合、アミド
基、エステル基及び芳香族ニトロ基の存在を確認するこ
とができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマト
グラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生
成物の収率、純度を決定することが可能である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、二重結合、アミド
基、エステル基及び芳香族ニトロ基の存在を確認するこ
とができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマト
グラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生
成物の収率、純度を決定することが可能である。
【００３９】更に、図２に示す合成は、芳香族ニトロ基
をアミノ基に還元する反応を含む（図２(d)）。このニ
トロ基をアミノ基へ還元する反応方法には特に制限はな
く、通常公知の種々の方法が好ましく使用可能である
（Marino Articoa, Romano Silvestri, and Giorgio St
efancich, Synthesis Comm., 22(10), 1433 - 1439 (1
992).、 Yoshiaki Sato, Yoshiharu Nakajima, and
Chung-gi Shin, Heterocycles, 33 (2), 589 - 595
(1992). 、Robert A. Mack,Vassil St. Georgiev,Edwi
n S.C. Wu, and James R. Matz, J.Org.Chem., 58 6158
- 6162 (1993).,Pierre Martin and Tammo Winkler, H
elvetica Chemica Acta , 17, 111-120 (1994).）。具
体的には、酸性条件下での金属による還元反応が挙げら
れる。より具体的には、酢酸酸性条件での鉄（鉄粉末を
含む）を用いる方法が挙げられる。かかる酢酸／鉄還元
反応の条件については特に制限はなく、通常公知の条件
を使用することが可能である。かかる文献を参照して好
ましい反応条件の選択し最適化することは当業者にとっ
て容易である。
をアミノ基に還元する反応を含む（図２(d)）。このニ
トロ基をアミノ基へ還元する反応方法には特に制限はな
く、通常公知の種々の方法が好ましく使用可能である
（Marino Articoa, Romano Silvestri, and Giorgio St
efancich, Synthesis Comm., 22(10), 1433 - 1439 (1
992).、 Yoshiaki Sato, Yoshiharu Nakajima, and
Chung-gi Shin, Heterocycles, 33 (2), 589 - 595
(1992). 、Robert A. Mack,Vassil St. Georgiev,Edwi
n S.C. Wu, and James R. Matz, J.Org.Chem., 58 6158
- 6162 (1993).,Pierre Martin and Tammo Winkler, H
elvetica Chemica Acta , 17, 111-120 (1994).）。具
体的には、酸性条件下での金属による還元反応が挙げら
れる。より具体的には、酢酸酸性条件での鉄（鉄粉末を
含む）を用いる方法が挙げられる。かかる酢酸／鉄還元
反応の条件については特に制限はなく、通常公知の条件
を使用することが可能である。かかる文献を参照して好
ましい反応条件の選択し最適化することは当業者にとっ
て容易である。
【００４０】ここで得られる芳香族アミノ誘導体は、二
重結合に対してトランス体である。上記の還元反応によ
りシス体が同様に生成するが、図1に示す光反応と同様
なメカニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体（カ
ルボスチリル誘導体）を形成するからである。
重結合に対してトランス体である。上記の還元反応によ
りシス体が同様に生成するが、図1に示す光反応と同様
なメカニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体（カ
ルボスチリル誘導体）を形成するからである。
【００４１】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基、エステル基及び芳香族アミノ基の存在を
確認することができる。また、種々の公知又は市販の液
体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いること
により、生成物の収率、純度を決定することが可能であ
る。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基、エステル基及び芳香族アミノ基の存在を
確認することができる。また、種々の公知又は市販の液
体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いること
により、生成物の収率、純度を決定することが可能であ
る。
【００４２】更に、図２に示す合成は、アミノ酸部エス
テル基の加水分解により保護基を脱離してカルボン酸と
し、本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含む
（図２(e)）。かかるエステル（通常は炭素数１から４
のアルキルエステルである）の加水分解の反応方法につ
いて特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可
能である。具体的には酸性条件若しくはアルカリ条件下
での反応が挙げられる。かかる加水分解反応の反応条件
については特に制限はなく、通常公知の条件を使用する
ことが可能である（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “Pro
tective Group inOrganic Synthesis” 2nd ed., p224-
251., John Wiley & Sons (1991).）。かかる文献を参
照して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業
者にとって容易である。
テル基の加水分解により保護基を脱離してカルボン酸と
し、本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含む
（図２(e)）。かかるエステル（通常は炭素数１から４
のアルキルエステルである）の加水分解の反応方法につ
いて特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可
能である。具体的には酸性条件若しくはアルカリ条件下
での反応が挙げられる。かかる加水分解反応の反応条件
については特に制限はなく、通常公知の条件を使用する
ことが可能である（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “Pro
tective Group inOrganic Synthesis” 2nd ed., p224-
251., John Wiley & Sons (1991).）。かかる文献を参
照して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業
者にとって容易である。
【００４３】ここで得られるシンナメート酸誘導体は、
二重結合に対してトランス体である。上記の還元反応に
よりシス体が同様に生成するが、図1に示す光反応と同
様なメカニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を
形成するからである。構造確認の手段も特に限定され
ず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、トラ
ンス二重結合、アミド基、カルボン酸及び芳香族アミノ
基の存在を確認することができる。また、種々の公知又
は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を
用いることにより、生成物の収率、純度を決定すること
が可能である。
二重結合に対してトランス体である。上記の還元反応に
よりシス体が同様に生成するが、図1に示す光反応と同
様なメカニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を
形成するからである。構造確認の手段も特に限定され
ず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可能であ
る。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気
共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段により、トラ
ンス二重結合、アミド基、カルボン酸及び芳香族アミノ
基の存在を確認することができる。また、種々の公知又
は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を
用いることにより、生成物の収率、純度を決定すること
が可能である。
【００４４】他の合成ルートとして、図３に示すように
前記合成の途中段階にてN-スクシンイミドエステルを経
由する合成方法がある。図３に示す合成は、図２と同様
にWittig反応によりシンナメートエステル誘導体とし、
更にこれを加水分解して酸誘導体とする反応を含む（図
3(a)及び図３(b)）。
前記合成の途中段階にてN-スクシンイミドエステルを経
由する合成方法がある。図３に示す合成は、図２と同様
にWittig反応によりシンナメートエステル誘導体とし、
更にこれを加水分解して酸誘導体とする反応を含む（図
3(a)及び図３(b)）。
【００４５】更に図３は、得られた酸誘導体とN-ヒドロ
キシスクシンイミド（及びそのスルフォン酸基を有する
誘導体を含む）との脱水縮合によりN-スクシンイミジル
シンナメートとする反応を含む（図３(c)）。この脱水
縮合の反応方法について特に制限はなく、通常公知の方
法（G.W.Anderson, J.E.Zimmerman, F.Callahan, J.Am.
Chem. Soc., 85, 3039 (1963).）を好ましく使用可能で
ある。好ましくは、極性非水溶媒中（例えば、ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン）で種々の脱水剤を用いるものであ
る。脱水剤としては、具体的には、ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（DCC）、1-エチル-3−（3-ジメチルアミ
ノプロピル)-カルボジイミド（EDC），1-エチル-3-(3-
ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC-
HCl）が挙げられる。かかる脱水縮合の反応条件につい
ては特に制限はなく、通常公知の条件を使用することが
可能である。かかる文献を参照して好ましい反応条件を
選択し最適化することは当業者にとって容易である。
キシスクシンイミド（及びそのスルフォン酸基を有する
誘導体を含む）との脱水縮合によりN-スクシンイミジル
シンナメートとする反応を含む（図３(c)）。この脱水
縮合の反応方法について特に制限はなく、通常公知の方
法（G.W.Anderson, J.E.Zimmerman, F.Callahan, J.Am.
Chem. Soc., 85, 3039 (1963).）を好ましく使用可能で
ある。好ましくは、極性非水溶媒中（例えば、ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン）で種々の脱水剤を用いるものであ
る。脱水剤としては、具体的には、ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（DCC）、1-エチル-3−（3-ジメチルアミ
ノプロピル)-カルボジイミド（EDC），1-エチル-3-(3-
ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC-
HCl）が挙げられる。かかる脱水縮合の反応条件につい
ては特に制限はなく、通常公知の条件を使用することが
可能である。かかる文献を参照して好ましい反応条件を
選択し最適化することは当業者にとって容易である。
【００４６】ここで得られるＮ−スクシンイミジルエス
テル基を有するシンナメート誘導体は、二重結合に対し
てシス体及びトランス体のいずれでもよく、またそれら
の混合物であってもよい。また、構造確認の手段も特に
限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可
能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、
核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段によ
り、二重結合、ニトロ基及びN-スクシンイミジル基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。
テル基を有するシンナメート誘導体は、二重結合に対し
てシス体及びトランス体のいずれでもよく、またそれら
の混合物であってもよい。また、構造確認の手段も特に
限定されず、通常公知の有機化合物の分析手段が使用可
能である。具体的には、赤外線吸収スペクトル（IR）、
核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル等の手段によ
り、二重結合、ニトロ基及びN-スクシンイミジル基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。
【００４７】更に図３に示す合成は、芳香族ニトロ基を
アミノ基に還元する反応を含む（図３(d)）。このニト
ロ基をアミノ基へ還元する方法に特に制限はなく、先に
図２の説明時に挙げた通常公知の種々の方法が好ましく
使用可能である。具体的には、酸性条件下での金属によ
る還元反応、より具体的には酢酸酸性条件での鉄（鉄粉
末を含む）を用いる方法が挙げられる。かかる酢酸／鉄
還元反応の条件については特に制限はなく、通常公知の
条件を使用することが可能である。かかる文献を参照し
て好ましい反応条件を選択し最適化することは当業者に
とって容易である。
アミノ基に還元する反応を含む（図３(d)）。このニト
ロ基をアミノ基へ還元する方法に特に制限はなく、先に
図２の説明時に挙げた通常公知の種々の方法が好ましく
使用可能である。具体的には、酸性条件下での金属によ
る還元反応、より具体的には酢酸酸性条件での鉄（鉄粉
末を含む）を用いる方法が挙げられる。かかる酢酸／鉄
還元反応の条件については特に制限はなく、通常公知の
条件を使用することが可能である。かかる文献を参照し
て好ましい反応条件を選択し最適化することは当業者に
とって容易である。
【００４８】ここで得られるアミノ誘導体は、二重結合
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
【００４９】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、エステル基及び芳香族アミノ基の存在を確認するこ
とができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマト
グラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生
成物の収率、純度を決定することが可能である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、エステル基及び芳香族アミノ基の存在を確認するこ
とができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマト
グラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生
成物の収率、純度を決定することが可能である。
【００５０】更に図３に示す合成は、ケージド化合物と
したいアミノ酸と前記N-スクシンイミドエステルとを反
応させ、本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含
む（図３(e)）。かかるN-スクシンイミドエステルとア
ミノ酸とのカップリング反応の方法について特に制限は
なく、通常公知の方法（DONDONI, A.; JUNQUERA, F.;ME
RCHAN, F. L.; MERINO, P.; TEJERO, T., J. Chem. So
c., Chem. Commun. (1995) 20, 2127-2128、 RENN,
O.; MEARES, C. F., Bioconjugate Chem. 3 (1992) 6,
563-569.,、 SHERADSKY, T.; MILVITSKAYA, J.; POLLA
K, I., Tetrahedron Lett. 32 (1991) 1, 133-136、
P. L. Southwick, G.K.Chin, M. A. Koshute, J. R. Mi
ller, K.E.Niemela, C.A.Soege;, R. T. Nolte and W.
E.Brown, J.Org. Chem., 49 (6), 1130 (1984).、Kazuy
oshi Takeda, Izumi Sawada, AkiraSuzuki, and Haruo
Ogura, Tetrahedron. Lett. , 24 , 4451 (1983).）を
好ましく使用可能である。好ましくは、水中又は極性非
水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタン、或い
はこれらの混合物）で反応することができる。また、反
応を更に速く進行させたいときは、トリエチルアミン、
水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性化合
物を添加する事も可能である。かかる文献を参照して好
ましい反応条件を選択し最適化することは当業者にとっ
て容易である。
したいアミノ酸と前記N-スクシンイミドエステルとを反
応させ、本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含
む（図３(e)）。かかるN-スクシンイミドエステルとア
ミノ酸とのカップリング反応の方法について特に制限は
なく、通常公知の方法（DONDONI, A.; JUNQUERA, F.;ME
RCHAN, F. L.; MERINO, P.; TEJERO, T., J. Chem. So
c., Chem. Commun. (1995) 20, 2127-2128、 RENN,
O.; MEARES, C. F., Bioconjugate Chem. 3 (1992) 6,
563-569.,、 SHERADSKY, T.; MILVITSKAYA, J.; POLLA
K, I., Tetrahedron Lett. 32 (1991) 1, 133-136、
P. L. Southwick, G.K.Chin, M. A. Koshute, J. R. Mi
ller, K.E.Niemela, C.A.Soege;, R. T. Nolte and W.
E.Brown, J.Org. Chem., 49 (6), 1130 (1984).、Kazuy
oshi Takeda, Izumi Sawada, AkiraSuzuki, and Haruo
Ogura, Tetrahedron. Lett. , 24 , 4451 (1983).）を
好ましく使用可能である。好ましくは、水中又は極性非
水溶媒中（例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフラン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタン、或い
はこれらの混合物）で反応することができる。また、反
応を更に速く進行させたいときは、トリエチルアミン、
水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性化合
物を添加する事も可能である。かかる文献を参照して好
ましい反応条件を選択し最適化することは当業者にとっ
て容易である。
【００５１】ここで得られるアミノ酸誘導体は、二重結
合に対してトランス体である。上記の還元反応によりシ
ス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメ
カニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成す
るからである。
合に対してトランス体である。上記の還元反応によりシ
ス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメ
カニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成す
るからである。
【００５２】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、N-スクシンイミド基及び芳香族アミノ基の存在を確
認することができる。また、種々の公知又は市販の液体
クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることに
より、生成物の収率、純度を決定することが可能であ
る。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、N-スクシンイミド基及び芳香族アミノ基の存在を確
認することができる。また、種々の公知又は市販の液体
クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることに
より、生成物の収率、純度を決定することが可能であ
る。
【００５３】更に図３に示す合成は、得られるN-スクシ
ンイミドエステルとケージド化合物としたいアミノ酸の
カルボキシル基エステル保護誘導体との反応を含む（図
３(f)）。かかるN-スクシンイミドエステルとアミノ酸
誘導体とのカップリング反応の方法についても特に制限
はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能である。好
ましくは、水中又は極性非水溶媒中（例えば、ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、或いはこれらの混合物）での反応
が可能である。また、反応を更に速く進行させたいとき
は、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム等の塩基性化合物を添加する事も可能である。
ンイミドエステルとケージド化合物としたいアミノ酸の
カルボキシル基エステル保護誘導体との反応を含む（図
３(f)）。かかるN-スクシンイミドエステルとアミノ酸
誘導体とのカップリング反応の方法についても特に制限
はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能である。好
ましくは、水中又は極性非水溶媒中（例えば、ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、或いはこれらの混合物）での反応
が可能である。また、反応を更に速く進行させたいとき
は、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム等の塩基性化合物を添加する事も可能である。
【００５４】ここで得られるアミノ酸誘導体は、二重結
合に対してトランス体である。上記の還元反応によりシ
ス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメ
カニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成す
るからである。
合に対してトランス体である。上記の還元反応によりシ
ス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメ
カニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成す
るからである。
【００５５】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基及び芳香族アミノ基の存在を確認すること
ができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグ
ラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成
物の収率、純度を決定することが可能である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基及び芳香族アミノ基の存在を確認すること
ができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグ
ラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成
物の収率、純度を決定することが可能である。
【００５６】更に図３に示す合成は、アミノ酸部カルボ
キシル基のエステル基を加水分解によりカルボン酸と
し、本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含む
（図３(g)）。かかるエステル（通常は炭素数１から４
のアルキルエステルである）の加水分解の反応方法につ
いて特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可
能である。具体的には酸性条件若しくはアルカリ条件下
での反応が可能である。かかる加水分解の反応条件につ
いては特に制限はなく、通常公知の条件を使用すること
が可能である（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “Protect
ive Group in Organic Synthesis” 2nd ed., p224-25
1., John Wiley & Sons (1991).）。かかる文献を参照
して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業者
にとって容易である。
キシル基のエステル基を加水分解によりカルボン酸と
し、本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含む
（図３(g)）。かかるエステル（通常は炭素数１から４
のアルキルエステルである）の加水分解の反応方法につ
いて特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可
能である。具体的には酸性条件若しくはアルカリ条件下
での反応が可能である。かかる加水分解の反応条件につ
いては特に制限はなく、通常公知の条件を使用すること
が可能である（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “Protect
ive Group in Organic Synthesis” 2nd ed., p224-25
1., John Wiley & Sons (1991).）。かかる文献を参照
して好ましい反応条件を選択し最適化することは当業者
にとって容易である。
【００５７】ここで得られるアミノ酸誘導体は、二重結
合に対してトランス体である。上記の還元反応によりシ
ス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメ
カニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成す
るからである。
合に対してトランス体である。上記の還元反応によりシ
ス体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメ
カニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成す
るからである。
【００５８】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基、カルボキシル基及び芳香族アミノ基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基、カルボキシル基及び芳香族アミノ基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。
【００５９】また、図４に示すように、他の合成ルート
として、前記合成の途中段階にて、ｐ−ニトロフェニル
エステルを経由する合成方法がある。
として、前記合成の途中段階にて、ｐ−ニトロフェニル
エステルを経由する合成方法がある。
【００６０】図４に示す合成は、図２及び図３と同様に
Wittig反応によりシンナメートエステル誘導体とする反
応を含む（図４(a)）。
Wittig反応によりシンナメートエステル誘導体とする反
応を含む（図４(a)）。
【００６１】更に図４に示す合成は、芳香族ニトロ基を
アミノ基に還元する反応を含む（図４(b)）。このニト
ロ基をアミノ基へ還元する方法に特に制限はなく、先に
図２及び図３の説明時に挙げた通常公知の種々の方法が
好ましく使用可能である。具体的には、酸性条件下での
金属による還元反応が挙げられる。より具体的には酢酸
酸性条件での鉄（鉄粉末を含む）を用いる方法が挙げら
れる。かかる酢酸／鉄還元反応の条件については特に制
限はなく、通常公知の条件を使用することが可能であ
る。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択し最
適化することは当業者にとって容易である。
アミノ基に還元する反応を含む（図４(b)）。このニト
ロ基をアミノ基へ還元する方法に特に制限はなく、先に
図２及び図３の説明時に挙げた通常公知の種々の方法が
好ましく使用可能である。具体的には、酸性条件下での
金属による還元反応が挙げられる。より具体的には酢酸
酸性条件での鉄（鉄粉末を含む）を用いる方法が挙げら
れる。かかる酢酸／鉄還元反応の条件については特に制
限はなく、通常公知の条件を使用することが可能であ
る。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選択し最
適化することは当業者にとって容易である。
【００６２】ここで得られるアミノ誘導体は、二重結合
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
【００６３】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、エステル基及び芳香族アミノ基の存在を確認するこ
とができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマト
グラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生
成物の収率、純度を決定することが可能である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、エステル基及び芳香族アミノ基の存在を確認するこ
とができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマト
グラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生
成物の収率、純度を決定することが可能である。
【００６４】更に、図４に示す合成は、エステル基を加
水分解によりカルボン酸とする反応を含む（図４
(c)）。かかるエステル（通常はメチル若しくはエチル
エステルである）の加水分解の反応方法について特に制
限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能である。
具体的には酸性条件、若しくはアルカリ条件下での反応
が挙げられる。かかる加水分解反応の反応条件について
は特に制限はなく、通常公知の条件を使用することが可
能である。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選
択し最適化することは当業者にとって容易である。構造
確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の
分析手段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収ス
ペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクト
ル等の手段により、トランス二重結合、カルボン酸及び
芳香族アミノ基の存在を確認することができる。また、
種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマ
トグラフ等を用いることにより、生成物の収率、純度を
決定することが可能である。
水分解によりカルボン酸とする反応を含む（図４
(c)）。かかるエステル（通常はメチル若しくはエチル
エステルである）の加水分解の反応方法について特に制
限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能である。
具体的には酸性条件、若しくはアルカリ条件下での反応
が挙げられる。かかる加水分解反応の反応条件について
は特に制限はなく、通常公知の条件を使用することが可
能である。かかる文献を参照して好ましい反応条件を選
択し最適化することは当業者にとって容易である。構造
確認の手段も特に限定されず、通常公知の有機化合物の
分析手段が使用可能である。具体的には、赤外線吸収ス
ペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクト
ル等の手段により、トランス二重結合、カルボン酸及び
芳香族アミノ基の存在を確認することができる。また、
種々の公知又は市販の液体クロマトグラフ、ガスクロマ
トグラフ等を用いることにより、生成物の収率、純度を
決定することが可能である。
【００６５】更に、図４に示す合成は、得られた酸誘導
体とp-ニトロフェノールとの脱水縮合によりｐ-ニトロ
フェニルアミノシンナメートとする反応を含む（図４
(d)）。かかる脱水縮合反応の方法についても特に制限
はなく、通常公知の方法（BILLINGTON, S.; MANN, J.;
QUAZI, P.; ALEXANDER, R.;EATON, M. A. W.; MILLAR,
K.; MILLICAN, A.; Tetrahedron 47 (1991) 28, 5231-5
236、； HUANG, S.-B.; NELSON, J. S.; WELLER, D.
D.; J. Org. Chem. 56 (1991) 21, 6007 - 6018、；PFE
IFFER, M. J.; HANNA, S. B.; J Org Chem 58 (1993)
3, 735-740.、； CABARET, D.; LIU, J.; WAKSELMAN,
M.; Synthesis (1994) 5, 480-482.）を好ましく使用可
能である。好ましくは、極性非水溶媒中（例えば、ジメ
チルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオ
キサン、ジクロロメタン）で種々の脱水剤を用いるもの
である。脱水剤としては、具体的には、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド（DCC）、1-エチル-3−（3-ジメチル
アミノプロピル)-カルボジイミド（EDC），1-エチル-3-
(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（E
DC-HCl）が挙げられる。かかる縮合反応の反応条件につ
いては特に制限はなく、通常公知の条件を使用すること
が可能である。かかる文献を参照して好ましい反応条件
を選択し最適化することは当業者にとって容易である。
体とp-ニトロフェノールとの脱水縮合によりｐ-ニトロ
フェニルアミノシンナメートとする反応を含む（図４
(d)）。かかる脱水縮合反応の方法についても特に制限
はなく、通常公知の方法（BILLINGTON, S.; MANN, J.;
QUAZI, P.; ALEXANDER, R.;EATON, M. A. W.; MILLAR,
K.; MILLICAN, A.; Tetrahedron 47 (1991) 28, 5231-5
236、； HUANG, S.-B.; NELSON, J. S.; WELLER, D.
D.; J. Org. Chem. 56 (1991) 21, 6007 - 6018、；PFE
IFFER, M. J.; HANNA, S. B.; J Org Chem 58 (1993)
3, 735-740.、； CABARET, D.; LIU, J.; WAKSELMAN,
M.; Synthesis (1994) 5, 480-482.）を好ましく使用可
能である。好ましくは、極性非水溶媒中（例えば、ジメ
チルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジオ
キサン、ジクロロメタン）で種々の脱水剤を用いるもの
である。脱水剤としては、具体的には、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド（DCC）、1-エチル-3−（3-ジメチル
アミノプロピル)-カルボジイミド（EDC），1-エチル-3-
(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（E
DC-HCl）が挙げられる。かかる縮合反応の反応条件につ
いては特に制限はなく、通常公知の条件を使用すること
が可能である。かかる文献を参照して好ましい反応条件
を選択し最適化することは当業者にとって容易である。
【００６６】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、エステル基、芳香族アミノ基及び芳香族ニトロ基の
存在を確認することができる。また、種々の公知又は市
販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用い
ることにより、生成物の収率、純度を決定することが可
能である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、エステル基、芳香族アミノ基及び芳香族ニトロ基の
存在を確認することができる。また、種々の公知又は市
販の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用い
ることにより、生成物の収率、純度を決定することが可
能である。
【００６７】更に図４に示す合成は、ケージド化合物と
したいアミノ酸と得られたｐ−ニトロフェニルエステル
とから本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含む
（図４(e)）。かかるｐ−ニトロフェニルエステルとア
ミノ酸とのカップリング反応の方法について特に制限は
なく、通常公知の方法（I.Barral等, Synthesis, p795
(1973); R.Feldstein等, J.Org.Chem.,26,1656(1961);
G.W.Anderson等, J.Am.Chem.Soc.,82,3359(1960); M.Bo
dansky等, J.Am.Che.Soc.,821,2504(1959)）を好ましく
使用可能である。好ましくは、水中又は極性非水溶媒中
（例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタン、酢酸エチ
ル、或いはこれらの混合物）での反応が挙げられる。反
応を更に速く進行させたいときは、トリエチルアミン、
水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性化合
物を添加する事も可能である。かかる文献を参照して好
ましい反応条件を選択し最適化することは当業者にとっ
て容易である。
したいアミノ酸と得られたｐ−ニトロフェニルエステル
とから本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含む
（図４(e)）。かかるｐ−ニトロフェニルエステルとア
ミノ酸とのカップリング反応の方法について特に制限は
なく、通常公知の方法（I.Barral等, Synthesis, p795
(1973); R.Feldstein等, J.Org.Chem.,26,1656(1961);
G.W.Anderson等, J.Am.Chem.Soc.,82,3359(1960); M.Bo
dansky等, J.Am.Che.Soc.,821,2504(1959)）を好ましく
使用可能である。好ましくは、水中又は極性非水溶媒中
（例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、１、４−ジオキサン、ジクロロメタン、酢酸エチ
ル、或いはこれらの混合物）での反応が挙げられる。反
応を更に速く進行させたいときは、トリエチルアミン、
水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性化合
物を添加する事も可能である。かかる文献を参照して好
ましい反応条件を選択し最適化することは当業者にとっ
て容易である。
【００６８】ここで得られるアミノ酸誘導体は二重結合
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
【００６９】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、芳香族ニトロ基及び芳香族アミノ基の存在を確認す
ることができる。また、種々の公知又は市販の液体クロ
マトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることによ
り、生成物の収率、純度を決定することが可能である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、芳香族ニトロ基及び芳香族アミノ基の存在を確認す
ることができる。また、種々の公知又は市販の液体クロ
マトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることによ
り、生成物の収率、純度を決定することが可能である。
【００７０】更に図４に示す合成は、得られるｐ−ニト
ロフェニルエステルとケージド化合物としたいアミノ酸
のカルボキシル基エステル保護誘導体との反応を含む
（図４(f)）。かかるｐ−ニトロフェニルエステルとア
ミノ酸誘導体とのカップリング反応の方法について特に
制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能であ
る。好ましくは、水中又は極性非水溶媒中（例えば、ジ
メチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジ
オキサン、ジクロロメタン、酢酸エチル、或いはこれら
の混合物）での反応が挙げられる。また、反応を更に速
く進行させたいときは、トリエチルアミン、水酸化ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性化合物を添加す
る事も可能である。
ロフェニルエステルとケージド化合物としたいアミノ酸
のカルボキシル基エステル保護誘導体との反応を含む
（図４(f)）。かかるｐ−ニトロフェニルエステルとア
ミノ酸誘導体とのカップリング反応の方法について特に
制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可能であ
る。好ましくは、水中又は極性非水溶媒中（例えば、ジ
メチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１、４−ジ
オキサン、ジクロロメタン、酢酸エチル、或いはこれら
の混合物）での反応が挙げられる。また、反応を更に速
く進行させたいときは、トリエチルアミン、水酸化ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性化合物を添加す
る事も可能である。
【００７１】ここで得られるアミノ酸誘導体は二重結合
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
【００７２】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基及び芳香族アミノ基の存在を確認すること
ができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグ
ラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成
物の収率、純度を決定することが可能である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基及び芳香族アミノ基の存在を確認すること
ができる。また、種々の公知又は市販の液体クロマトグ
ラフ、ガスクロマトグラフ等を用いることにより、生成
物の収率、純度を決定することが可能である。
【００７３】更に図４に示す合成は、アミノ酸部カルボ
キシル基のエステル基を加水分解によりカルボン酸と
し、本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含む
（図４(g)）。かかるエステル（通常は炭素数１から４
のアルキルエステルである）の加水分解の反応方法につ
いて特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可
能である。具体的には酸性条件若しくはアルカリ条件下
で可能である。かかる加水分解の反応条件については特
に制限はなく、通常公知の条件を使用することが可能で
ある（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “Protective Grou
p in Organic Synthesis” 2nd ed., p224-251., John
Wiley & Sons (1991).）。かかる文献を参照して好まし
い反応条件の選択し最適化は当業者にとって容易であ
る。
キシル基のエステル基を加水分解によりカルボン酸と
し、本発明のケージドアミノ酸を合成する反応を含む
（図４(g)）。かかるエステル（通常は炭素数１から４
のアルキルエステルである）の加水分解の反応方法につ
いて特に制限はなく、通常公知の方法を好ましく使用可
能である。具体的には酸性条件若しくはアルカリ条件下
で可能である。かかる加水分解の反応条件については特
に制限はなく、通常公知の条件を使用することが可能で
ある（T.W.Greene and P.G.M.Wuts, “Protective Grou
p in Organic Synthesis” 2nd ed., p224-251., John
Wiley & Sons (1991).）。かかる文献を参照して好まし
い反応条件の選択し最適化は当業者にとって容易であ
る。
【００７４】ここで得られるアミノ酸誘導体は二重結合
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
に対してトランス体である。上記の還元反応によりシス
体が同様に生成するが、図１に示す光反応と同様なメカ
ニズムにより容易に窒素置換クマリン誘導体を形成する
からである。
【００７５】構造確認の手段も特に限定されず、通常公
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基、カルボキシル基及び芳香族アミノ基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。
知の有機化合物の分析手段が使用可能である。具体的に
は、赤外線吸収スペクトル（IR）、核磁気共鳴スペクト
ル、質量スペクトル等の手段により、トランス二重結
合、アミド基、カルボキシル基及び芳香族アミノ基の存
在を確認することができる。また、種々の公知又は市販
の液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ等を用いる
ことにより、生成物の収率、純度を決定することが可能
である。
【００７６】上述の図２、図３及び図４の合成ルートに
より目的とするケージドアミノ酸を高収率かつ高選択的
に得ることができるが、更に、図3(d)、図４(c)及び図
４(d)の各反応において得られる中間生成物のアミノ基
に保護基を導入することにより、副反応を抑制し目的の
ケージドアミノ酸をより高収率かつ高選択的に得ること
ができる。ここで、アミノ基に導入する保護基の好まし
い例として、具体的にはtert-ブチルオキシカルボニル
基、トリメチルシリルエトキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基などが挙げられる。このアミノ基の
保護基化は、目的とするアミノ酸が２級アミンである場
合に特に有効である。なお、前記保護基の脱離反応は容
易に行うことができる。例えばトリメチルシリルエチル
オキシカルボニル基の場合には、カップリング反応の後
処理工程でトリフルオロ酢酸（TFA）を用いて容易に脱
離することができる。
より目的とするケージドアミノ酸を高収率かつ高選択的
に得ることができるが、更に、図3(d)、図４(c)及び図
４(d)の各反応において得られる中間生成物のアミノ基
に保護基を導入することにより、副反応を抑制し目的の
ケージドアミノ酸をより高収率かつ高選択的に得ること
ができる。ここで、アミノ基に導入する保護基の好まし
い例として、具体的にはtert-ブチルオキシカルボニル
基、トリメチルシリルエトキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基などが挙げられる。このアミノ基の
保護基化は、目的とするアミノ酸が２級アミンである場
合に特に有効である。なお、前記保護基の脱離反応は容
易に行うことができる。例えばトリメチルシリルエチル
オキシカルボニル基の場合には、カップリング反応の後
処理工程でトリフルオロ酢酸（TFA）を用いて容易に脱
離することができる。
【００７７】新規ケージド アミノ酸の光反応 本発明にかかる新規ケージドアミノ酸に光照射を行う
と、図１に示すように、アミノシンナメート構造を有す
るケージング官能基とアミノ酸のアミノ基との間のアミ
ド結合の開裂が起こり、アミノ酸とＮ−置換クマリン誘
導体とを容易に生成することができる。また、顕微鏡等
を使用することで組織の特定の位置でのみアミノ酸を生
成することが可能であり、アミノ酸を部分的に遊離する
ために光照射を調節することも可能である。
と、図１に示すように、アミノシンナメート構造を有す
るケージング官能基とアミノ酸のアミノ基との間のアミ
ド結合の開裂が起こり、アミノ酸とＮ−置換クマリン誘
導体とを容易に生成することができる。また、顕微鏡等
を使用することで組織の特定の位置でのみアミノ酸を生
成することが可能であり、アミノ酸を部分的に遊離する
ために光照射を調節することも可能である。
【００７８】新規ケージドアミノ酸の安定性 本発明にかかるケージドアミノ酸は、光反応を引き起こ
すシンナメート構造を有する官能基とアミノ酸との結合
が非常に強固なアミド結合によるものであるために、暗
所においては非常に高い安定性を示す。
すシンナメート構造を有する官能基とアミノ酸との結合
が非常に強固なアミド結合によるものであるために、暗
所においては非常に高い安定性を示す。
【００７９】以下本発明を実施例に従い更に詳しく説明
するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるもの
ではない。
するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるもの
ではない。
【００８０】
【実施例】以下では、グルタミン酸、γ−アミノブタン
酸（GABA）、アスパラギン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−アスパ
ラギン酸、グリシン及びグルタミンを対象とする場合の
新規ケージドアミノ酸の合成方法について詳細に記載し
たが、種々の官能基を導入した2−ニトロベンズアルデ
ヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を含む）及びWittig
（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬を含む）
を用いることにより、また、種々のアミノ酸、アミノ酸
類縁体及びそれらのカルボキシル基保護体を用いること
により、本発明にかかるすべてのケージドアミノ酸及び
ケージドアミノ酸類縁体を合成することが可能である。
酸（GABA）、アスパラギン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−アスパ
ラギン酸、グリシン及びグルタミンを対象とする場合の
新規ケージドアミノ酸の合成方法について詳細に記載し
たが、種々の官能基を導入した2−ニトロベンズアルデ
ヒド誘導体（フェニルケトン誘導体を含む）及びWittig
（ウイティッヒ）試薬（Wadsworth-Emmons試薬を含む）
を用いることにより、また、種々のアミノ酸、アミノ酸
類縁体及びそれらのカルボキシル基保護体を用いること
により、本発明にかかるすべてのケージドアミノ酸及び
ケージドアミノ酸類縁体を合成することが可能である。
【００８１】3−（4、5−ジメトキシ−2−ニトロフェニ
ル）−2−メチル−2−プロペン酸 エチルエステルの合
成 暗室にて、6−ニトロベラトラルアルデヒド 10g（50.0
mmol)（6−Nitroveratlaldehyde、アルドリッチ社製）
と、Wittig試薬（Carboethoxy ethylidene triphenylph
osphorane、 アルドリッチ社製 ）18.1 g（50.0 mmol）
とを、ベンゼン中、室温で、18時間撹拌して反応させ
た。反応終了後、減圧でベンゼンを除き、白色結晶を得
た。これを酢酸エチルから再結晶して目的化合物28.5g
を得た（収率76%）。
ル）−2−メチル−2−プロペン酸 エチルエステルの合
成 暗室にて、6−ニトロベラトラルアルデヒド 10g（50.0
mmol)（6−Nitroveratlaldehyde、アルドリッチ社製）
と、Wittig試薬（Carboethoxy ethylidene triphenylph
osphorane、 アルドリッチ社製 ）18.1 g（50.0 mmol）
とを、ベンゼン中、室温で、18時間撹拌して反応させ
た。反応終了後、減圧でベンゼンを除き、白色結晶を得
た。これを酢酸エチルから再結晶して目的化合物28.5g
を得た（収率76%）。
【００８２】本化合物の構造は、赤外吸収スペクトル
（IR）、1H-NMR、13C-NMR、TOF−MSにより確認した。こ
こで、赤外吸収スペクトルは、日本電子（株）社製JIR-
WINSPEC50、1H-NMR、13C-NMRは日本電子（株）社製JNM-
LA300、TOF−MSは島津製作所（株）製KOMPACT MALDIIV
を用いた（以下同じ）。
（IR）、1H-NMR、13C-NMR、TOF−MSにより確認した。こ
こで、赤外吸収スペクトルは、日本電子（株）社製JIR-
WINSPEC50、1H-NMR、13C-NMRは日本電子（株）社製JNM-
LA300、TOF−MSは島津製作所（株）製KOMPACT MALDIIV
を用いた（以下同じ）。
【００８３】IR：1700cm-1（エステル） TOF−MS：296（M/C）1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.93 （1H、s、プ
ロペン酸3位プロトン）、7.74（1H、s、芳香環3’位プ
ロトン）、6.72（1H、s、芳香環6’位プロトン）、 4.2
9（2H、q、J=7 Hz、エチル基のメチレン基プロトン）、
3.99 ppm （3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、
3.96（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、1.92
（3H、s、プロペン2位のメチル基プロトン）、1.36（3
H、t、J=7 Hz、エチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.9（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、153.1（四級炭素、芳香環
5’位炭素）、148.7（四級炭素、芳香環4’位炭素）、1
45.1（四級炭素、 プロペン2位炭素）、143.4（四級炭
素、芳香環2’位炭素）、136.5（CH、プロペン3位炭
素）、126.6（四級炭素、芳香環1’位炭素）、112.3（C
H、芳香環6’位炭素）、107.9（CH、芳香環3’位炭
素）、61.9（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.5
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、56.5（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、14.3（CH3、エチル基のメチ
ル基炭素）、14.1（CH3、プロペン2位のメチル基炭
素）。
ロペン酸3位プロトン）、7.74（1H、s、芳香環3’位プ
ロトン）、6.72（1H、s、芳香環6’位プロトン）、 4.2
9（2H、q、J=7 Hz、エチル基のメチレン基プロトン）、
3.99 ppm （3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、
3.96（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、1.92
（3H、s、プロペン2位のメチル基プロトン）、1.36（3
H、t、J=7 Hz、エチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.9（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、153.1（四級炭素、芳香環
5’位炭素）、148.7（四級炭素、芳香環4’位炭素）、1
45.1（四級炭素、 プロペン2位炭素）、143.4（四級炭
素、芳香環2’位炭素）、136.5（CH、プロペン3位炭
素）、126.6（四級炭素、芳香環1’位炭素）、112.3（C
H、芳香環6’位炭素）、107.9（CH、芳香環3’位炭
素）、61.9（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.5
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、56.5（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、14.3（CH3、エチル基のメチ
ル基炭素）、14.1（CH3、プロペン2位のメチル基炭
素）。
【００８４】3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）
-2-メチル-2-プロペン酸（3-（4、5-Dimethoxy-2-nitro
phenyl）-2-methyl-2-propenoic acid）の合成 上記得られた、3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル（1）11.3
g をメタノール 250mlに溶解し、これに2規定水酸化ナ
トリウム水溶液45mlを加えて、40℃にて4時間反応させ
た。反応終了後、1規定塩酸を用いて溶液をpH 4 に調整
して冷却し、析出した結晶を濾別して、目的の化合物1
0.1gを得た（収率99%）。
-2-メチル-2-プロペン酸（3-（4、5-Dimethoxy-2-nitro
phenyl）-2-methyl-2-propenoic acid）の合成 上記得られた、3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニ
ル）-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル（1）11.3
g をメタノール 250mlに溶解し、これに2規定水酸化ナ
トリウム水溶液45mlを加えて、40℃にて4時間反応させ
た。反応終了後、1規定塩酸を用いて溶液をpH 4 に調整
して冷却し、析出した結晶を濾別して、目的の化合物1
0.1gを得た（収率99%）。
【００８５】本化合物の構造は、赤外吸収スペクトル
（IR）、1H-NMR、13Ｃ-NMR、TOF-MSにより確認した。 IR：1685cm-1（カルボキシル基） TOF-MS：268（M/C）1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）;12.60（1
H、bs、カルボキシル基プロトン）、7.77（1H、s、プロ
ペン3位プロトン）、7.72（1H、s、芳香環3’位プロト
ン）、6.97（1H、s、芳香環6’位プロトン）、3.91（3
H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.90（3H、
s、メトキシ基のメチル基プロトン）、1.84 （3H、s、
プロペン2位のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド,δppm）; 168.7（四
級炭素、1位カルボキシル基炭素）、152.8（四級炭素、
芳香環5’位炭素）、148.2（四級炭素、芳香環4’位炭
素）、139.8（四級炭素、芳香環2’位炭素）、135.5（C
H、プロペン3位炭素）、129.4（四級炭素、プロペン2位
炭素）、125.7（四級炭素、芳香環1’位炭素）、112.7
（CH、芳香環6’位炭素）、107.7（CH、芳香環3’位炭
素）、56.4（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、56.0
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、13.8（CH3、プロ
ペン2位のメチル基炭素）。
（IR）、1H-NMR、13Ｃ-NMR、TOF-MSにより確認した。 IR：1685cm-1（カルボキシル基） TOF-MS：268（M/C）1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）;12.60（1
H、bs、カルボキシル基プロトン）、7.77（1H、s、プロ
ペン3位プロトン）、7.72（1H、s、芳香環3’位プロト
ン）、6.97（1H、s、芳香環6’位プロトン）、3.91（3
H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.90（3H、
s、メトキシ基のメチル基プロトン）、1.84 （3H、s、
プロペン2位のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド,δppm）; 168.7（四
級炭素、1位カルボキシル基炭素）、152.8（四級炭素、
芳香環5’位炭素）、148.2（四級炭素、芳香環4’位炭
素）、139.8（四級炭素、芳香環2’位炭素）、135.5（C
H、プロペン3位炭素）、129.4（四級炭素、プロペン2位
炭素）、125.7（四級炭素、芳香環1’位炭素）、112.7
（CH、芳香環6’位炭素）、107.7（CH、芳香環3’位炭
素）、56.4（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、56.0
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、13.8（CH3、プロ
ペン2位のメチル基炭素）。
【００８６】N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸
3-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamic
acid3-(4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-pr
openoic amide）の合成 無水ジクロロメタン 300 ml に3-(4,5-ジメトキシ-2-ニ
トロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 9.1g（34mmo
l），グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩酸塩 10.0 g
（34 mmol)（シグマ社製）及びトリエチルアミン 3.5
g (41 mmol)を加え，更に氷冷撹拌下粉末状の1-エチル-
3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC/HCl)（和光純薬社製）7.9 g (41 mmol)を数回に
分けて加えた。反応溶液を室温に戻し一夜間撹拌した
後，大部分の溶媒を減圧留去し，これに酢酸エチル及び
水を加えた。この有機層（酢酸エチル層）を洗浄し，乾
燥後濃縮して17.7 g の褐色油状物を得た。これをクロ
ロホルム／メタノール20:1 を溶出液としたシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し，目的化合物1
6.26g をガム状固形物として得た（収率 94 %）。
3-(4,5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glutamic
acid3-(4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-pr
openoic amide）の合成 無水ジクロロメタン 300 ml に3-(4,5-ジメトキシ-2-ニ
トロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 9.1g（34mmo
l），グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩酸塩 10.0 g
（34 mmol)（シグマ社製）及びトリエチルアミン 3.5
g (41 mmol)を加え，更に氷冷撹拌下粉末状の1-エチル-
3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC/HCl)（和光純薬社製）7.9 g (41 mmol)を数回に
分けて加えた。反応溶液を室温に戻し一夜間撹拌した
後，大部分の溶媒を減圧留去し，これに酢酸エチル及び
水を加えた。この有機層（酢酸エチル層）を洗浄し，乾
燥後濃縮して17.7 g の褐色油状物を得た。これをクロ
ロホルム／メタノール20:1 を溶出液としたシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し，目的化合物1
6.26g をガム状固形物として得た（収率 94 %）。
【００８７】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm）：7.74 (1H, s,芳香
環3’位プロトン),7.59 (1H, s,プロペン酸3位プロト
ン), 6.76(1H, d, J=7.5Hz, アミド基プロトン), 6.71
(1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.5H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン, 3.98
(3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.95 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン) , 2.37 (2H,m,グ
ルタミン酸部ガンマ位メチレン基プロトン), 2.05 (2H,
s,アミノ基プロトン), 2.03 (2H,m,グルタミン酸部β位
メチレン基プロトン), 1.93 (9H,s,ブチル基のメチル基
プロトン), 1.92 (9H, s,ブチル基のメチル基プロト
ン), 1.50 (3H, s,プロペン2位のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム，δppm)：172.6 (四級炭素,
グルタミン酸部カルボニル炭素), 171.3 (グルタミン酸
部カルボニル炭素), 168.7(四級炭素,1位カルボニル炭
素), 152.9 (四級炭素, 芳香環5’位炭素), 148.7 (四
級炭素,芳香環4’位炭素), 140.2 (四級炭素, プロペン
2位炭素), 132.4 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 131.8
(CH, プロペン3位炭素), 126.6 (四級炭素, 芳香環1’
位炭素), 112.4 (CH, 芳香環6’位炭素), 107.8 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
1.1 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.5 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 56.4 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.7 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.6 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 28.0 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素) , 14.2 (CH3, プロペ
ン2位のメチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm）：7.74 (1H, s,芳香
環3’位プロトン),7.59 (1H, s,プロペン酸3位プロト
ン), 6.76(1H, d, J=7.5Hz, アミド基プロトン), 6.71
(1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.5H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン, 3.98
(3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.95 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン) , 2.37 (2H,m,グ
ルタミン酸部ガンマ位メチレン基プロトン), 2.05 (2H,
s,アミノ基プロトン), 2.03 (2H,m,グルタミン酸部β位
メチレン基プロトン), 1.93 (9H,s,ブチル基のメチル基
プロトン), 1.92 (9H, s,ブチル基のメチル基プロト
ン), 1.50 (3H, s,プロペン2位のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム，δppm)：172.6 (四級炭素,
グルタミン酸部カルボニル炭素), 171.3 (グルタミン酸
部カルボニル炭素), 168.7(四級炭素,1位カルボニル炭
素), 152.9 (四級炭素, 芳香環5’位炭素), 148.7 (四
級炭素,芳香環4’位炭素), 140.2 (四級炭素, プロペン
2位炭素), 132.4 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 131.8
(CH, プロペン3位炭素), 126.6 (四級炭素, 芳香環1’
位炭素), 112.4 (CH, 芳香環6’位炭素), 107.8 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
1.1 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.5 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 56.4 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.7 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.6 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 28.0 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素) , 14.2 (CH3, プロペ
ン2位のメチル基炭素)。
【００８８】(E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミ
ン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glut
amicacid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-
2-propenoic amide）の合成 N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメ
トキシ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド15.1 g（30mml) 、鉄粉（Iron powder Kosochem. C
o.）7.8 g （140 mmol) 、酢酸 130 ml及び蒸留水 10 m
l を500ml褐色4つ口フラスコに秤取し、メカニカルスタ
ーラを用いて激しく撹拌しながら約70℃で3時間撹拌し
た。TLCにより反応の終了を確認した後、溶液を冷却し
未反応の鉄粉及び不溶物を濾取した。この濾液を濃縮
し、水200 ml ／酢酸エチル400 ml混合液に溶解して飽
和重曹水で3回洗浄した後、更に不溶物を濾別した。こ
の濾液の酢酸エチル層を水、炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後濃縮して粗生成物 15 g を得た。
ン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glut
amicacid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-
2-propenoic amide）の合成 N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメ
トキシ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド15.1 g（30mml) 、鉄粉（Iron powder Kosochem. C
o.）7.8 g （140 mmol) 、酢酸 130 ml及び蒸留水 10 m
l を500ml褐色4つ口フラスコに秤取し、メカニカルスタ
ーラを用いて激しく撹拌しながら約70℃で3時間撹拌し
た。TLCにより反応の終了を確認した後、溶液を冷却し
未反応の鉄粉及び不溶物を濾取した。この濾液を濃縮
し、水200 ml ／酢酸エチル400 ml混合液に溶解して飽
和重曹水で3回洗浄した後、更に不溶物を濾別した。こ
の濾液の酢酸エチル層を水、炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後濃縮して粗生成物 15 g を得た。
【００８９】更にこれをカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fuji silysia c
hem. co., NH-DM1020 1000 g ，溶離液 ヘキサン/酢酸
エチル 1：1）により精製し、目的化合物11.5gを得た
（収率80％）。
リカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fuji silysia c
hem. co., NH-DM1020 1000 g ，溶離液 ヘキサン/酢酸
エチル 1：1）により精製し、目的化合物11.5gを得た
（収率80％）。
【００９０】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム、δppm)：7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン), 6.75 (1H, d, J=7.3Hz, アミド基
プロトン), 6.63 (1H, s, 芳香環6’位プロトン),6.30
(1H, s, 芳香環3’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.3H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン), 3.8
5 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.80 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.59 (2H, bs ア
ミノ基プロトン), 2.39 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基プロトン), 2.25 (2H,m, グルタミン酸部
β位メチレン基プロトン), 2.05 (3H, s,プロペン2位の
メチル基プロトン), 1.50 (9H, s, ブチル基のメチル基
プロトン), 1.45 (9H, s, ブチル基のメチル基プロト
ン)13 C-NMR(重クロロホルム、δppm)：172.6 (四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素), 171.2 (グルタミン酸部
カルボニル炭素), 168.7 (四級炭素,1位カルボニル炭
素), 150.4 (四級炭素,芳香環4’位炭素), 141.6 (四級
炭素, 芳香環2’位炭素), 139.2 (四級炭素, 芳香環5’
位炭素), 131.1 (CH, プロペン3位炭素), 131.1 (四級
炭素, プロペン2位炭素), 113.6 (CH, 芳香環6’位炭
素), 112.8 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 100.3 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
0.8 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.7 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 55.8 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.8 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.7 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 27.5 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素), 14.2 (CH3, プロペン
2位のメチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム、δppm)：7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン), 6.75 (1H, d, J=7.3Hz, アミド基
プロトン), 6.63 (1H, s, 芳香環6’位プロトン),6.30
(1H, s, 芳香環3’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.3H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン), 3.8
5 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.80 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.59 (2H, bs ア
ミノ基プロトン), 2.39 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基プロトン), 2.25 (2H,m, グルタミン酸部
β位メチレン基プロトン), 2.05 (3H, s,プロペン2位の
メチル基プロトン), 1.50 (9H, s, ブチル基のメチル基
プロトン), 1.45 (9H, s, ブチル基のメチル基プロト
ン)13 C-NMR(重クロロホルム、δppm)：172.6 (四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素), 171.2 (グルタミン酸部
カルボニル炭素), 168.7 (四級炭素,1位カルボニル炭
素), 150.4 (四級炭素,芳香環4’位炭素), 141.6 (四級
炭素, 芳香環2’位炭素), 139.2 (四級炭素, 芳香環5’
位炭素), 131.1 (CH, プロペン3位炭素), 131.1 (四級
炭素, プロペン2位炭素), 113.6 (CH, 芳香環6’位炭
素), 112.8 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 100.3 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
0.8 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.7 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 55.8 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.8 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.7 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 27.5 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素), 14.2 (CH3, プロペン
2位のメチル基炭素)。
【００９１】(E) N−Ｌ−グルタミン酸 3-(2-アミノ-
4,5-ジメトキシフェニル)-2-アミノ-2-プロペン酸アミ
ド（(E) N-L-glutamic acid 3-(2-amino-4,5-dimethoxy
phenyl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(2-
アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸アミド10.4 g ( 22 mmol)、1規定塩酸-メタノール溶
液 20 ml 及びジクロロメタン 50 ml を常温で一夜間撹
拌した。反応の終了をTLCにより確認した後、反応液を
そのまま減圧濃縮し、20 g の油状物を得た。これを一
旦水 30 ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物 9.9 g をクロロホル
ム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:1 〜40:10:1
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，凍結乾燥して目的化合物5.7 gを得た（収
率71%）。
4,5-ジメトキシフェニル)-2-アミノ-2-プロペン酸アミ
ド（(E) N-L-glutamic acid 3-(2-amino-4,5-dimethoxy
phenyl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-(2-
アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸アミド10.4 g ( 22 mmol)、1規定塩酸-メタノール溶
液 20 ml 及びジクロロメタン 50 ml を常温で一夜間撹
拌した。反応の終了をTLCにより確認した後、反応液を
そのまま減圧濃縮し、20 g の油状物を得た。これを一
旦水 30 ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物 9.9 g をクロロホル
ム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:1 〜40:10:1
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，凍結乾燥して目的化合物5.7 gを得た（収
率71%）。
【００９２】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：8.44 (1H,
d, J=7.5 Hz, アミド基プロトン), 7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロト), 7.24 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン), 6.94 (1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.36 (1H,
ddd, J=9.3Hz, 7.7Hz,5.5Hz, グルタミン酸部α位メチ
ン基プロトン), 4.10 (2H, bs アミノ基プロトン), 3.8
2 (6H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.47 (2H,
dd, J=7.5Hz,7.5Hz, グルタミン酸部ガンマ位メチレン
基プロトン), 2.07 (2H, m, グルタミン酸部β位メチレ
ン基プロトン), 1.97 (3H, s, プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン)13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：169.3, 16
9.1, 169.0 (四級炭素,グルタミン酸部カルボニル炭素
と1位カルボニル炭素), 148.6 (四級炭素,芳香環4’位
炭素), 147.8 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 135.1 (
四級炭素, 芳香環5’位炭素), 126.9 (CH, プロペン3位
炭素), 122.6 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 112.8 (C
H, 芳香環6’位炭素), 107.6 (CH, 芳香環3’位炭素),
55.8 (CH3,メトキシ基のメチル基炭素), 55.7 (CH3, メ
トキシ基のメチル基炭素), 51.7 (CH, グルタミン酸部
α位メチン基炭素), 30.3 (CH2, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基炭素), 26.0 (CH2, グルタミン酸部β位
メチレン基炭素), 14.5 (CH3,プロペン2位結合のメチル
基炭素)。
り確認した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：8.44 (1H,
d, J=7.5 Hz, アミド基プロトン), 7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロト), 7.24 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン), 6.94 (1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.36 (1H,
ddd, J=9.3Hz, 7.7Hz,5.5Hz, グルタミン酸部α位メチ
ン基プロトン), 4.10 (2H, bs アミノ基プロトン), 3.8
2 (6H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.47 (2H,
dd, J=7.5Hz,7.5Hz, グルタミン酸部ガンマ位メチレン
基プロトン), 2.07 (2H, m, グルタミン酸部β位メチレ
ン基プロトン), 1.97 (3H, s, プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン)13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：169.3, 16
9.1, 169.0 (四級炭素,グルタミン酸部カルボニル炭素
と1位カルボニル炭素), 148.6 (四級炭素,芳香環4’位
炭素), 147.8 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 135.1 (
四級炭素, 芳香環5’位炭素), 126.9 (CH, プロペン3位
炭素), 122.6 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 112.8 (C
H, 芳香環6’位炭素), 107.6 (CH, 芳香環3’位炭素),
55.8 (CH3,メトキシ基のメチル基炭素), 55.7 (CH3, メ
トキシ基のメチル基炭素), 51.7 (CH, グルタミン酸部
α位メチン基炭素), 30.3 (CH2, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基炭素), 26.0 (CH2, グルタミン酸部β位
メチレン基炭素), 14.5 (CH3,プロペン2位結合のメチル
基炭素)。
【００９３】3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）
-2-メチル-2-プロペン酸 N-スクシンイミジルエステル
（ 3-（4、5-Dimethoxy-2-nitrophenyl）-2-methyl-2-p
ropenoic acid N-succinimide ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸（2）7.0 g（26.2 mmol）と N-ヒドロキシス
クシンイミド 3.5 g（30.0mmol）（和光純薬製）とをジ
クロロメタン100 mlに溶解し、これにジメチルアミノピ
リジン500 mg（和光純薬社製）を加えた。この溶液に氷
冷撹拌下1-エチル-3-（3-ジメチルアミノプロピル）-カ
ルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）6.3 g（33.0 mmol）
（和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻してから2時
間撹拌した。この反応の終点を薄層クロマトグラフ（TL
C）によって確認した後、反応液を減圧下濃縮し、酢酸
エチル100ml に転溶した。この溶液を洗浄及び乾燥した
後、溶媒を留去して目的物8.3 g を油状物として得た
（収率81 %）。
-2-メチル-2-プロペン酸 N-スクシンイミジルエステル
（ 3-（4、5-Dimethoxy-2-nitrophenyl）-2-methyl-2-p
ropenoic acid N-succinimide ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸（2）7.0 g（26.2 mmol）と N-ヒドロキシス
クシンイミド 3.5 g（30.0mmol）（和光純薬製）とをジ
クロロメタン100 mlに溶解し、これにジメチルアミノピ
リジン500 mg（和光純薬社製）を加えた。この溶液に氷
冷撹拌下1-エチル-3-（3-ジメチルアミノプロピル）-カ
ルボジイミド塩酸塩（EDC-HCl）6.3 g（33.0 mmol）
（和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻してから2時
間撹拌した。この反応の終点を薄層クロマトグラフ（TL
C）によって確認した後、反応液を減圧下濃縮し、酢酸
エチル100ml に転溶した。この溶液を洗浄及び乾燥した
後、溶媒を留去して目的物8.3 g を油状物として得た
（収率81 %）。
【００９４】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.29（1
H、s、プロペン3位プロトン）、7.78（1H、s、芳香環
3’位プロトン）、7.14（1H、s、芳香環6’位プロト
ン）、3.94（3H、s、メトキシ基のメチルプロトン）、
3.92（3H、s、メトキシ基のメチルプロトン）、2.87（4
H、s、スクシンイミジル基のメチレンプロトン）、2.01
（3H、s、プロペン2位のメチル基プロトン）13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm）：170.4（四
級炭素、スクシンイミジル基のカルボニル炭素）、162.
9（四級炭素、1位カルボニル基炭素）、153.1（四級炭
素、芳香環5’位炭素）、149.0（四級炭素、芳香環4’
位炭素）、141.3（CH、プロペン3位炭素）、139.8（四
級炭素、芳香環2’位炭素）、124.3（四級炭素、 プロ
ペン2位炭素）、123.7（四級炭素、 芳香環1’位炭
素）、113.0（CH、芳香環6’位炭素）、107.7（CH、芳
香環3’位炭素）、56.6（CH3、メトキシ基のメチル基炭
素）、56.0（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、25.5
（CH2、スクシンイミジル基3”位と4”位のメチレン基
炭素）、13.8（CH3、プロペン2位のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.29（1
H、s、プロペン3位プロトン）、7.78（1H、s、芳香環
3’位プロトン）、7.14（1H、s、芳香環6’位プロト
ン）、3.94（3H、s、メトキシ基のメチルプロトン）、
3.92（3H、s、メトキシ基のメチルプロトン）、2.87（4
H、s、スクシンイミジル基のメチレンプロトン）、2.01
（3H、s、プロペン2位のメチル基プロトン）13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm）：170.4（四
級炭素、スクシンイミジル基のカルボニル炭素）、162.
9（四級炭素、1位カルボニル基炭素）、153.1（四級炭
素、芳香環5’位炭素）、149.0（四級炭素、芳香環4’
位炭素）、141.3（CH、プロペン3位炭素）、139.8（四
級炭素、芳香環2’位炭素）、124.3（四級炭素、 プロ
ペン2位炭素）、123.7（四級炭素、 芳香環1’位炭
素）、113.0（CH、芳香環6’位炭素）、107.7（CH、芳
香環3’位炭素）、56.6（CH3、メトキシ基のメチル基炭
素）、56.0（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、25.5
（CH2、スクシンイミジル基3”位と4”位のメチレン基
炭素）、13.8（CH3、プロペン2位のメチル基炭素）。
【００９５】（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフ
ェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 N-スクシンイミド
エステル（3-（2-Amino-4、5-Dimethoxyphenyl）-2-met
hyl-2-propenoic acid N-succinimide ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-スクシンイミジルエステル（3）8.3 g
（22.8 mmol）を酢酸 70 mlと水 5mlとの混合溶媒に溶
解し、鉄粉 5.0g（Iron powder、 89.5 mmol）を加えて
70℃に加熱した。2時間の反応後、不溶物を濾別し、濾
液を水 500 ml へ加えた。生じた結晶を濾別し、水洗、
乾燥して目的化合物を結晶で 6.2 g 得た（収率81%）。
ェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 N-スクシンイミド
エステル（3-（2-Amino-4、5-Dimethoxyphenyl）-2-met
hyl-2-propenoic acid N-succinimide ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-スクシンイミジルエステル（3）8.3 g
（22.8 mmol）を酢酸 70 mlと水 5mlとの混合溶媒に溶
解し、鉄粉 5.0g（Iron powder、 89.5 mmol）を加えて
70℃に加熱した。2時間の反応後、不溶物を濾別し、濾
液を水 500 ml へ加えた。生じた結晶を濾別し、水洗、
乾燥して目的化合物を結晶で 6.2 g 得た（収率81%）。
【００９６】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.82（1
H、s、プロペン3位プロトン）、6.81 （1H、s、芳香環
6’位プロトン）、6.44（1H、s、芳香環3’位プロト
ン）、5.20 （2H、bs、アニリン性アミノ基プロト
ン）、3.73（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.67（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、2.85（4H、s、スクシンイミジル基のメチレン基
プロトン）、2.16（3H、s、プロペン2位メチル基プロト
ン）13 C-NMR（DMSO-d6、δppm）：170.4（四級炭素、 スク
シンイミジル基カルボニル炭素）、163.8（四級炭素、1
位カルボニル炭素）、152.0（四級炭素、芳香環4’位炭
素）、144.5（四級炭素、芳香環2’位炭素）、140.1（C
H、プロペン3位炭素）、140.0（四級炭素、芳香環5’位
炭素）、118.2（四級炭素、プロペン2位炭素）、113.9
（CH、芳香環6’位炭素）、109.5（四級炭素、芳香環
1’位炭素）、99.8（CH、芳香環3’位炭素）、56.3（CH
3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.1（CH3、メトキシ
基のメチル基炭素）、25.4（CH2、スクシンイミジル基
3”位と4”位メチレン基炭素）、14.3（CH3、プロペン2
位のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.82（1
H、s、プロペン3位プロトン）、6.81 （1H、s、芳香環
6’位プロトン）、6.44（1H、s、芳香環3’位プロト
ン）、5.20 （2H、bs、アニリン性アミノ基プロト
ン）、3.73（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.67（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、2.85（4H、s、スクシンイミジル基のメチレン基
プロトン）、2.16（3H、s、プロペン2位メチル基プロト
ン）13 C-NMR（DMSO-d6、δppm）：170.4（四級炭素、 スク
シンイミジル基カルボニル炭素）、163.8（四級炭素、1
位カルボニル炭素）、152.0（四級炭素、芳香環4’位炭
素）、144.5（四級炭素、芳香環2’位炭素）、140.1（C
H、プロペン3位炭素）、140.0（四級炭素、芳香環5’位
炭素）、118.2（四級炭素、プロペン2位炭素）、113.9
（CH、芳香環6’位炭素）、109.5（四級炭素、芳香環
1’位炭素）、99.8（CH、芳香環3’位炭素）、56.3（CH
3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.1（CH3、メトキシ
基のメチル基炭素）、25.4（CH2、スクシンイミジル基
3”位と4”位メチレン基炭素）、14.3（CH3、プロペン2
位のメチル基炭素）。
【００９７】(E) N-L-グルタミン酸 3-(2-アミノ-4,5-
ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（(E) N-L-glutamic acid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyph
enyl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.5g（1.5 m
mol）をジメチルホルムアミド40ｍｌに溶解し、これに
Ｌ-グルタミン酸2.3g（10 mmol）を0.5規定炭酸水素ナ
トリウム水溶液80ｍｌに溶解した水溶液を加え、室温に
て4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えてpH4に
調整した後、これをそのまま減圧濃縮し、これを一旦水
30 ml に溶解してから残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，これを凍結乾燥して0.35 g を得た（収率6
3％）。
ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（(E) N-L-glutamic acid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyph
enyl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.5g（1.5 m
mol）をジメチルホルムアミド40ｍｌに溶解し、これに
Ｌ-グルタミン酸2.3g（10 mmol）を0.5規定炭酸水素ナ
トリウム水溶液80ｍｌに溶解した水溶液を加え、室温に
て4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えてpH4に
調整した後、これをそのまま減圧濃縮し、これを一旦水
30 ml に溶解してから残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，これを凍結乾燥して0.35 g を得た（収率6
3％）。
【００９８】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：8.44 (1H,
d, J=7.5 Hz, アミド基プロトン), 7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロト), 7.24 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン), 6.94 (1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.36 (1H,
ddd, J=9.3Hz, 7.7Hz,5.5Hz, グルタミン酸部α位メチ
ン基プロトン), 4.10 (2H, bs アミノ基プロトン), 3.8
2 (6H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.47 (2H,
dd, J=7.5Hz,7.5Hz, グルタミン酸部ガンマ位メチレン
基プロトン), 2.07 (2H, m, グルタミン酸部β位メチレ
ン基プロトン), 1.97 (3H, s, プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン)13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：169.3, 16
9.1, 169.0 (四級炭素,グルタミン酸部カルボニル炭素
と1位カルボニル炭素), 148.6 (四級炭素,芳香環4’位
炭素), 147.8 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 135.1 (
四級炭素, 芳香環5’位炭素), 126.9 (CH, プロペン3位
炭素), 122.6 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 112.8 (C
H, 芳香環6’位炭素), 107.6 (CH, 芳香環3’位炭素),
55.8 (CH3,メトキシ基のメチル基炭素), 55.7 (CH3, メ
トキシ基のメチル基炭素), 51.7 (CH, グルタミン酸部
α位メチン基炭素), 30.3 (CH2, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基炭素), 26.0 (CH2, グルタミン酸部β位
メチレン基炭素), 14.5 (CH3,プロペン2位結合のメチル
基炭素)。
り確認した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：8.44 (1H,
d, J=7.5 Hz, アミド基プロトン), 7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロト), 7.24 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン), 6.94 (1H, s, 芳香環6’位プロトン), 4.36 (1H,
ddd, J=9.3Hz, 7.7Hz,5.5Hz, グルタミン酸部α位メチ
ン基プロトン), 4.10 (2H, bs アミノ基プロトン), 3.8
2 (6H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.47 (2H,
dd, J=7.5Hz,7.5Hz, グルタミン酸部ガンマ位メチレン
基プロトン), 2.07 (2H, m, グルタミン酸部β位メチレ
ン基プロトン), 1.97 (3H, s, プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン)13 C-NMR(重ジメチルスルホキシド、δppm)：169.3, 16
9.1, 169.0 (四級炭素,グルタミン酸部カルボニル炭素
と1位カルボニル炭素), 148.6 (四級炭素,芳香環4’位
炭素), 147.8 (四級炭素, 芳香環2’位炭素), 135.1 (
四級炭素, 芳香環5’位炭素), 126.9 (CH, プロペン3位
炭素), 122.6 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 112.8 (C
H, 芳香環6’位炭素), 107.6 (CH, 芳香環3’位炭素),
55.8 (CH3,メトキシ基のメチル基炭素), 55.7 (CH3, メ
トキシ基のメチル基炭素), 51.7 (CH, グルタミン酸部
α位メチン基炭素), 30.3 (CH2, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基炭素), 26.0 (CH2, グルタミン酸部β位
メチレン基炭素), 14.5 (CH3,プロペン2位結合のメチル
基炭素)。
【００９９】(E) N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミ
ン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glut
amicacid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-
2-propenoic amide）の合成 （E）3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.33g（1.0
mmol）と、グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩酸塩
0.89g（3.0 mmol）（シグマ社製）とをテトラヒドロフ
ラン200ｍｌに溶解し、室温にて4時間反応させた。溶媒
を減圧で除き、残渣に酢酸エチル及び水を加えた。酢酸
エチル層を洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した
後、濃縮して粗生成物を得た。これをカラムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fu
ji silysia chem. co., NH-DM1020 1000 g ，溶離液
ヘキサン/酢酸エチル 1：1）により精製して目的物0.3
2gを得た（収率65%）。
ン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸アミド（(E) N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glut
amicacid 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-
2-propenoic amide）の合成 （E）3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-
2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.33g（1.0
mmol）と、グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩酸塩
0.89g（3.0 mmol）（シグマ社製）とをテトラヒドロフ
ラン200ｍｌに溶解し、室温にて4時間反応させた。溶媒
を減圧で除き、残渣に酢酸エチル及び水を加えた。酢酸
エチル層を洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した
後、濃縮して粗生成物を得た。これをカラムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fu
ji silysia chem. co., NH-DM1020 1000 g ，溶離液
ヘキサン/酢酸エチル 1：1）により精製して目的物0.3
2gを得た（収率65%）。
【０１００】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム、δppm)：7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン), 6.75 (1H, d, J=7.3Hz, アミド基
プロトン), 6.63 (1H, s, 芳香環6’位プロトン),6.30
(1H, s, 芳香環3’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.3H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン), 3.8
5 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.80 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.59 (2H, bs ア
ミノ基プロトン), 2.39 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基プロトン), 2.25 (2H,m, グルタミン酸部
β位メチレン基プロトン), 2.05 (3H, s,プロペン2位の
メチル基プロトン), 1.50 (9H, s, ブチル基のメチル基
プロトン), 1.45 (9H, s, ブチル基のメチル基プロト
ン)13 C-NMR(重クロロホルム、δppm)：172.6 (四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素), 171.2 (グルタミン酸部
カルボニル炭素), 168.7 (四級炭素,1位カルボニル炭
素), 150.4 (四級炭素,芳香環4’位炭素), 141.6 (四級
炭素, 芳香環2’位炭素), 139.2 (四級炭素, 芳香環5’
位炭素), 131.1 (CH, プロペン3位炭素), 131.1 (四級
炭素, プロペン2位炭素), 113.6 (CH, 芳香環6’位炭
素), 112.8 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 100.3 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
0.8 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.7 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 55.8 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.8 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.7 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 27.5 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素), 14.2 (CH3, プロペン
2位のメチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム、δppm)：7.34 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン), 6.75 (1H, d, J=7.3Hz, アミド基
プロトン), 6.63 (1H, s, 芳香環6’位プロトン),6.30
(1H, s, 芳香環3’位プロトン), 4.59 (1H, dt, J=7.3H
z, 4.6Hz, グルタミン酸部α位メチン基プロトン), 3.8
5 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.80 (3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.59 (2H, bs ア
ミノ基プロトン), 2.39 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ
位メチレン基プロトン), 2.25 (2H,m, グルタミン酸部
β位メチレン基プロトン), 2.05 (3H, s,プロペン2位の
メチル基プロトン), 1.50 (9H, s, ブチル基のメチル基
プロトン), 1.45 (9H, s, ブチル基のメチル基プロト
ン)13 C-NMR(重クロロホルム、δppm)：172.6 (四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素), 171.2 (グルタミン酸部
カルボニル炭素), 168.7 (四級炭素,1位カルボニル炭
素), 150.4 (四級炭素,芳香環4’位炭素), 141.6 (四級
炭素, 芳香環2’位炭素), 139.2 (四級炭素, 芳香環5’
位炭素), 131.1 (CH, プロペン3位炭素), 131.1 (四級
炭素, プロペン2位炭素), 113.6 (CH, 芳香環6’位炭
素), 112.8 (四級炭素, 芳香環1’位炭素), 100.3 (CH,
芳香環3’位炭素), 82.4 (四級炭素,ブチル基炭素), 8
0.8 (四級炭素, ブチル基炭素), 56.7 (CH3, メトキシ
基のメチル基炭素), 55.8 (CH3, メトキシ基のメチル基
炭素), 52.8 (CH, グルタミン酸部α位メチン基炭素),
31.7 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素),2
8.1 (CH3, ブチル基のメチル基炭素), 27.5 (CH2, グル
タミン酸部β位メチレン基炭素), 14.2 (CH3, プロペン
2位のメチル基炭素)。
【０１０１】3-ニトロ-2-ナフトアルデヒドの合成 3-ニトロ-2-ナフトアルデヒドの合成は文献に記載の方
法に準じて行った（Kienzle、Frank、Helv.Chim.Acta、
63（8）、2364 - 2369（1980）；Wani、MansukhC、Ronm
an、Peter E、Lindley、James T. Wall、Monroe E.、J.
Med. Chem.1980、23、554 - 560）。
法に準じて行った（Kienzle、Frank、Helv.Chim.Acta、
63（8）、2364 - 2369（1980）；Wani、MansukhC、Ronm
an、Peter E、Lindley、James T. Wall、Monroe E.、J.
Med. Chem.1980、23、554 - 560）。
【０１０２】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：10.52（1H、s、ホ
ルミル基プロトン）、8.68（1H、s、4位プロトン）、8.
47（1H、s、1位プロトン）、8.12-8.05（2H、m、5位と8
位プロトン ）、7.82-7.76（2H、m、6位と7位プロト
ン）13 C-NMR （重クロロホルム、δppm）：188.2（CH、ホル
ミル基炭素）、159.4（四級炭素、2位炭素）、145.9
（四級炭素、3位炭素）、134.2（四級炭素、4a位炭
素）、133.7（四級炭素、8a位炭素）、132.1（CH、1位
炭素）、130.6（CH、6位又は7位炭素）、130.5（CH、6
位又は7位炭素）、129.8（CH、5位又は8位炭素）、129.
6（CH、5位又は8位炭素）、126.0（CH、4位炭素）3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸 エチルエステル（3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-
2-methyl-2-propenoic acid ethyl ester）の合成 3-ニトロ-2-ナフトアルデヒド9.3g (46mmol)とWittig試
薬（Carbethoxy ethylidene triphenylphosphorane ）1
7.6 g (48.5mmol)（アルドリッチ社製）とをベンゼン 2
00 ml に加え、常温で一夜間撹拌した。TLCにより反応
の終了を確認し、反応液を濃縮して粗生成物を得た。こ
の粗生成物をカラムクロマトグラフィー（アミノプロピ
ル修飾シリカゲル(Fuji silysia chem.co.,NH-DM)，展
開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し、目
的化合物を結晶で13.0g 得た（収率：96%）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：10.52（1H、s、ホ
ルミル基プロトン）、8.68（1H、s、4位プロトン）、8.
47（1H、s、1位プロトン）、8.12-8.05（2H、m、5位と8
位プロトン ）、7.82-7.76（2H、m、6位と7位プロト
ン）13 C-NMR （重クロロホルム、δppm）：188.2（CH、ホル
ミル基炭素）、159.4（四級炭素、2位炭素）、145.9
（四級炭素、3位炭素）、134.2（四級炭素、4a位炭
素）、133.7（四級炭素、8a位炭素）、132.1（CH、1位
炭素）、130.6（CH、6位又は7位炭素）、130.5（CH、6
位又は7位炭素）、129.8（CH、5位又は8位炭素）、129.
6（CH、5位又は8位炭素）、126.0（CH、4位炭素）3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペ
ン酸 エチルエステル（3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-
2-methyl-2-propenoic acid ethyl ester）の合成 3-ニトロ-2-ナフトアルデヒド9.3g (46mmol)とWittig試
薬（Carbethoxy ethylidene triphenylphosphorane ）1
7.6 g (48.5mmol)（アルドリッチ社製）とをベンゼン 2
00 ml に加え、常温で一夜間撹拌した。TLCにより反応
の終了を確認し、反応液を濃縮して粗生成物を得た。こ
の粗生成物をカラムクロマトグラフィー（アミノプロピ
ル修飾シリカゲル(Fuji silysia chem.co.,NH-DM)，展
開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し、目
的化合物を結晶で13.0g 得た（収率：96%）。
【０１０３】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム , δppm)：8.70 (1H, s, 芳香
環3’位プロトン), 8.03-8.00 (2H, m, 芳香環4’位と
7’位プロトン), 7.80 (1H, s, プロペン3位プロト
ン), 7.78 (1H, s, 芳香環8’位プロトン), 7.74-7.63
(2H, m, 芳香環5’位と6’位プロトン), 4.32 (2H, q,
J=7 Hz, エチル基のメチレン基プロトン),3.89 (2H, b
s, NH2), 2.00 (3H, s, プロペン2位結合メチル基のプ
ロトン), 1.37 (3H, t, J=7 Hz, エチル基のメチル基プ
ロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：167.8 (四級炭素,
1位カルボニル炭素), 145.8 (四級炭素,芳香環2’位炭
素), 135.7 (CH, プロペン3位炭素),134.6 (四級炭素,
芳香環7a’位炭素), 131.4 (四級炭素, 芳香環3a’位炭
素), 131.0 (CH,芳香環8’位炭素), 130.0 (四級炭素,
芳香環1’位炭素), 129.9 (CH, 芳香環5’位又は6’位
炭素), 129.4 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭素), 128.3
(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 127.9 (CH, 芳香環
4’位又は7’位炭素), 127.7 (四級炭素,プロペン2位炭
素 ), 125.8 (CH, 芳香環3’位炭素), 61.1 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素), 14.3 (CH3, エチル基のメチ
ル基炭素), 14.0 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素)。
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム , δppm)：8.70 (1H, s, 芳香
環3’位プロトン), 8.03-8.00 (2H, m, 芳香環4’位と
7’位プロトン), 7.80 (1H, s, プロペン3位プロト
ン), 7.78 (1H, s, 芳香環8’位プロトン), 7.74-7.63
(2H, m, 芳香環5’位と6’位プロトン), 4.32 (2H, q,
J=7 Hz, エチル基のメチレン基プロトン),3.89 (2H, b
s, NH2), 2.00 (3H, s, プロペン2位結合メチル基のプ
ロトン), 1.37 (3H, t, J=7 Hz, エチル基のメチル基プ
ロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：167.8 (四級炭素,
1位カルボニル炭素), 145.8 (四級炭素,芳香環2’位炭
素), 135.7 (CH, プロペン3位炭素),134.6 (四級炭素,
芳香環7a’位炭素), 131.4 (四級炭素, 芳香環3a’位炭
素), 131.0 (CH,芳香環8’位炭素), 130.0 (四級炭素,
芳香環1’位炭素), 129.9 (CH, 芳香環5’位又は6’位
炭素), 129.4 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭素), 128.3
(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 127.9 (CH, 芳香環
4’位又は7’位炭素), 127.7 (四級炭素,プロペン2位炭
素 ), 125.8 (CH, 芳香環3’位炭素), 61.1 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素), 14.3 (CH3, エチル基のメチ
ル基炭素), 14.0 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素)。
【０１０４】3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 （3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）
-2-methyl-2-propenoic acid ）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 エチルエステル5.48g (19 mmol)をメタノール 130 m
l に溶解させ，これに2規定 水酸化ナトリウム水溶液 2
3 ml を加え，40℃にて一夜間撹拌を行った。TLCにより
反応の終了を確認した後，反応液を減圧濃縮し，これに
1規定 塩酸を加えてpH 1 にし析出した結晶を濾別し
た。この結晶を水及び少量のメタノールにて洗浄し，乾
燥して目的化合物を結晶として4.8 g 得た（収率：98
%）。
チル-2-プロペン酸 （3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）
-2-methyl-2-propenoic acid ）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 エチルエステル5.48g (19 mmol)をメタノール 130 m
l に溶解させ，これに2規定 水酸化ナトリウム水溶液 2
3 ml を加え，40℃にて一夜間撹拌を行った。TLCにより
反応の終了を確認した後，反応液を減圧濃縮し，これに
1規定 塩酸を加えてpH 1 にし析出した結晶を濾別し
た。この結晶を水及び少量のメタノールにて洗浄し，乾
燥して目的化合物を結晶として4.8 g 得た（収率：98
%）。
【０１０５】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：8.90 (1H,
s, 芳香環3’位プロトン), 8.25 -8.12 (2H, m, 芳香
環4’位と7’位プロトン), 8.08 (1H, s, プロペン3位
プロトン), 7.85 (1H, s, 芳香環8’位プロトン), 7.82
-7.71 (2H, m,芳香環5’位と6’位プロトン), 1.93 (3
H, s, プロペン2位結合メチル基のプロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：168.6
(四級炭素,1位カルボニル炭素), 145.6 (四級炭素,芳香
環2’位炭素), 134.9 (CH, プロペン3位炭素),134.2
(四級炭素,芳香環7a’位炭素), 131.0 (CH, 四級炭素,
芳香環8’位炭素), 130.9 (四級炭素, 芳香環3a’位炭
素), 130.0 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭素),129.9
(四級炭素,芳香環1’位炭素), 129.4 (CH, 芳香環5’位
又は6’位炭素),128.3 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭
素), 128.0 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 126.8
(四級炭素,プロペン2位炭素), 125.6 (CH, 芳香環3’
位炭素), 13.7 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素)。
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：8.90 (1H,
s, 芳香環3’位プロトン), 8.25 -8.12 (2H, m, 芳香
環4’位と7’位プロトン), 8.08 (1H, s, プロペン3位
プロトン), 7.85 (1H, s, 芳香環8’位プロトン), 7.82
-7.71 (2H, m,芳香環5’位と6’位プロトン), 1.93 (3
H, s, プロペン2位結合メチル基のプロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：168.6
(四級炭素,1位カルボニル炭素), 145.6 (四級炭素,芳香
環2’位炭素), 134.9 (CH, プロペン3位炭素),134.2
(四級炭素,芳香環7a’位炭素), 131.0 (CH, 四級炭素,
芳香環8’位炭素), 130.9 (四級炭素, 芳香環3a’位炭
素), 130.0 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭素),129.9
(四級炭素,芳香環1’位炭素), 129.4 (CH, 芳香環5’位
又は6’位炭素),128.3 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭
素), 128.0 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 126.8
(四級炭素,プロペン2位炭素), 125.6 (CH, 芳香環3’
位炭素), 13.7 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素)。
【０１０６】3-（2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エス
テル （（E） 3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-2-methy
l-2-propenoic acid N-hydroxysuccinimide ester）の
合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸7.8 g (19 mmol) とN-ヒドロキシサクシンイミド 3.2
8 g (28.5mmol)（和光純薬製）をジクロロメタン 90 ml
に溶解し，これにジメチルアミノピリジン230 mg （和
光純薬社製）を加えた。この溶液に氷冷撹拌下1-エチル
-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC-HCl） 5.46 g (28.5 mmol) （和光純薬社製）を
分割投入し、室温に戻して一夜間撹拌した。この反応液
を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶した。この溶
液を洗浄及び乾燥した後、溶媒を留去して得られた粗生
成物をカラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾
シリカゲル(Fuji silysia chem.co.,NH-DM)，展開溶
媒：ヘキサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し，目的化
合物を結晶で6.7g 得た（収率：98%）。
チル-2-プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エス
テル （（E） 3-（2-Nitro-benzo[d]phenyl）-2-methy
l-2-propenoic acid N-hydroxysuccinimide ester）の
合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸7.8 g (19 mmol) とN-ヒドロキシサクシンイミド 3.2
8 g (28.5mmol)（和光純薬製）をジクロロメタン 90 ml
に溶解し，これにジメチルアミノピリジン230 mg （和
光純薬社製）を加えた。この溶液に氷冷撹拌下1-エチル
-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC-HCl） 5.46 g (28.5 mmol) （和光純薬社製）を
分割投入し、室温に戻して一夜間撹拌した。この反応液
を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶した。この溶
液を洗浄及び乾燥した後、溶媒を留去して得られた粗生
成物をカラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾
シリカゲル(Fuji silysia chem.co.,NH-DM)，展開溶
媒：ヘキサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し，目的化
合物を結晶で6.7g 得た（収率：98%）。
【０１０７】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重メチルスルホキシド , δppm)：9.00 (1H,
s, 芳香環3'位プロトン),8.30-8.14(2H, m, 芳香環4'と
7'位プロトン),8.24 (1H, s, プロペン3位プロトンと
芳香環8’位プロトン), 7.86-7.75 (2H, m, 芳香環５’
位と6’位プロトン), 2.89 (4H, s, スクシンイミジル
基のメチレン基プロトン), 2.10 (3H, s,プロペン2位結
合のメチル基プロトン)13 H-NMR (重メチルスルホキシド , δppm)：170.2 (四
級炭素, スクシンイミジル基のカルボニル炭素), 163.0
(四級炭素,1位カルボニル炭素), 145.0 (四級炭素, 芳
香環２’位炭素), 134.2 (CH, プロペン3位炭素), 131.
4 (CH, 芳香環8’位炭素), 130.4 (CH, 芳香環5’位又
は6’位炭素), 129.7 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭
素), 128.8 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭素)), 128.2
(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素)), 126.1 (CH, 芳香環
3’位炭素), 125.6 (四級炭素, プロペン2位炭素), 2
5.5 (CH2, スクシンイミジル基のメチレン基炭素), 13.
7 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重メチルスルホキシド , δppm)：9.00 (1H,
s, 芳香環3'位プロトン),8.30-8.14(2H, m, 芳香環4'と
7'位プロトン),8.24 (1H, s, プロペン3位プロトンと
芳香環8’位プロトン), 7.86-7.75 (2H, m, 芳香環５’
位と6’位プロトン), 2.89 (4H, s, スクシンイミジル
基のメチレン基プロトン), 2.10 (3H, s,プロペン2位結
合のメチル基プロトン)13 H-NMR (重メチルスルホキシド , δppm)：170.2 (四
級炭素, スクシンイミジル基のカルボニル炭素), 163.0
(四級炭素,1位カルボニル炭素), 145.0 (四級炭素, 芳
香環２’位炭素), 134.2 (CH, プロペン3位炭素), 131.
4 (CH, 芳香環8’位炭素), 130.4 (CH, 芳香環5’位又
は6’位炭素), 129.7 (CH, 芳香環5’位又は6’位炭
素), 128.8 (CH, 芳香環4’位又は7’位炭素)), 128.2
(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素)), 126.1 (CH, 芳香環
3’位炭素), 125.6 (四級炭素, プロペン2位炭素), 2
5.5 (CH2, スクシンイミジル基のメチレン基炭素), 13.
7 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。
【０１０８】（E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）
-2-メチル-2-プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド
エステル（（E） 3-（2-Amino-benzo[d]phenyl）-2-met
hyl-2-propenoic acid N-hydroxysuccinimide ester）
の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル6.7 g (19
mmol)を酢酸 70 mlと水 5mlとの混合溶媒に溶解し，鉄
粉 4.7g（Iron powder, 89.5 mmol）（小宗化学社製）
を加えて70℃に加熱した．1.5時間の反応後，不溶物を
濾別し，濾液を水300 ml へ加えた。これを酢酸エチル4
00mlにて2回抽出し，得られた溶液を水，重曹水，飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。これを無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、濃縮して目的化合物を4.2 g 得
た（収率66%）。
-2-メチル-2-プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド
エステル（（E） 3-（2-Amino-benzo[d]phenyl）-2-met
hyl-2-propenoic acid N-hydroxysuccinimide ester）
の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル6.7 g (19
mmol)を酢酸 70 mlと水 5mlとの混合溶媒に溶解し，鉄
粉 4.7g（Iron powder, 89.5 mmol）（小宗化学社製）
を加えて70℃に加熱した．1.5時間の反応後，不溶物を
濾別し，濾液を水300 ml へ加えた。これを酢酸エチル4
00mlにて2回抽出し，得られた溶液を水，重曹水，飽和
塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。これを無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、濃縮して目的化合物を4.2 g 得
た（収率66%）。
【０１０９】本化合物の構造は，1H-NMRにより確認し
た。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：7.94 (1H,
s, プロペン3位プロトン）, 7.77 (1H, s, 芳香環8’
位プロトン), 7.73-7.49 (2H, m, 芳香環4’位と7’位
プロトン）, 7.36-7.12 (2H, m, 芳香環5’位と6’位プ
ロトン）, 7.04 (1H, s, 芳香環3’位プロトン), 3.30
(2H, アミノ基プロトン), 2.87 (4H, s, スクシンイミ
ジル基のメチレンプロトン), 2.18 (3H, s, プロペン2
位結合メチル基プロトン)。
た。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド , δppm)：7.94 (1H,
s, プロペン3位プロトン）, 7.77 (1H, s, 芳香環8’
位プロトン), 7.73-7.49 (2H, m, 芳香環4’位と7’位
プロトン）, 7.36-7.12 (2H, m, 芳香環5’位と6’位プ
ロトン）, 7.04 (1H, s, 芳香環3’位プロトン), 3.30
(2H, アミノ基プロトン), 2.87 (4H, s, スクシンイミ
ジル基のメチレンプロトン), 2.18 (3H, s, プロペン2
位結合メチル基プロトン)。
【０１１０】3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）
-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル（3-（2-Amino-
4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propenic acid et
hyl ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸エチルエステル19.0 gを氷酢酸250ml に溶解
し、これに鉄粉 15.0 gとイオン交換水20mlとを加え、4
0分間加熱環流を行った。この反応液を濾過し、濾液を
減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチルに転溶した。こ
れを水、5％重曹水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で一晩放置し乾燥し
た。この溶液から酢酸エチルを減圧留去し、得られた粗
生成物をヘキサン・エタノールから再結晶して目的の化
合物12.5 gを得た（収率78 %）。
-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル（3-（2-Amino-
4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propenic acid et
hyl ester）の合成 3-（4、5-ジメトキシ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸エチルエステル19.0 gを氷酢酸250ml に溶解
し、これに鉄粉 15.0 gとイオン交換水20mlとを加え、4
0分間加熱環流を行った。この反応液を濾過し、濾液を
減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチルに転溶した。こ
れを水、5％重曹水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で一晩放置し乾燥し
た。この溶液から酢酸エチルを減圧留去し、得られた粗
生成物をヘキサン・エタノールから再結晶して目的の化
合物12.5 gを得た（収率78 %）。
【０１１１】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.57（1H、s、プロ
ペン酸3位プロトン）、6.68（1H、s、芳香環6’位プロ
トン）、6.29（1H、s、芳香環3’位プロトン）、4.25
（2H、q、J=7 Hz、エチル基のメチレン基プロトン）、
3.84（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.79
（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.57（2
H、bs、アミノ基プロトン）、2.03（3H、s、プロペン2
位のメチル基プロトン）、1.33（3H、t、J=7 Hz、エチ
ル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.6（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、150.6（四級炭素、芳香環
4’位炭素）、141.6（四級炭素、芳香環2’位炭素）、1
39.6（四級炭素、芳香環5’位炭素）、134.6（CH、プロ
ペン3位炭素）、128.2（四級炭素、プロペン2位炭
素）、113.5（CH、芳香環6’位炭素）、112.7（四級炭
素、芳香環1’位炭素）、100.3（CH、芳香環3’位炭
素）、60.8（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.7
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.8（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、14.4（CH3、エチル基のメチ
ル基炭素）、14.3（CH3、プロペン2位のメチル基炭
素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.57（1H、s、プロ
ペン酸3位プロトン）、6.68（1H、s、芳香環6’位プロ
トン）、6.29（1H、s、芳香環3’位プロトン）、4.25
（2H、q、J=7 Hz、エチル基のメチレン基プロトン）、
3.84（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.79
（3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.57（2
H、bs、アミノ基プロトン）、2.03（3H、s、プロペン2
位のメチル基プロトン）、1.33（3H、t、J=7 Hz、エチ
ル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.6（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、150.6（四級炭素、芳香環
4’位炭素）、141.6（四級炭素、芳香環2’位炭素）、1
39.6（四級炭素、芳香環5’位炭素）、134.6（CH、プロ
ペン3位炭素）、128.2（四級炭素、プロペン2位炭
素）、113.5（CH、芳香環6’位炭素）、112.7（四級炭
素、芳香環1’位炭素）、100.3（CH、芳香環3’位炭
素）、60.8（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.7
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.8（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、14.4（CH3、エチル基のメチ
ル基炭素）、14.3（CH3、プロペン2位のメチル基炭
素）。
【０１１２】（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸（（E） 3-（2-amino-
4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic acid）
の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸エチルエステル1.0gをテトラヒドロ
フラン（THF）10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液10mlを加えて40℃にて4時間反応させた。反
応終了後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、析出した結
晶を濾別して、目的の化合物0.85gを得た（95%）。
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸（（E） 3-（2-amino-
4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic acid）
の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸エチルエステル1.0gをテトラヒドロ
フラン（THF）10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリ
ウム水溶液10mlを加えて40℃にて4時間反応させた。反
応終了後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、析出した結
晶を濾別して、目的の化合物0.85gを得た（95%）。
【０１１３】本化合物の構造は1H-NMRと13C-NMRにより
決定した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.51(1H、
s、プロペン酸3位プロトン）、6.70(1H、s、芳香環6'位
プロトン）、6.42(1H、s、芳香環3'位プロトン)、3.72
(3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.65(3H、
s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.36(2H、bs、ア
ミノ基プロトン）、1.98(3H、s、プロペン２位のメチル
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.7
（四級炭素、1位カルボニル炭素）、150.7（四級炭素、
芳香環4'位炭素）、142.6（四級炭素、芳香環2'位炭
素）、139.8（四級炭素、芳香環5'位炭素）、134.7（C
H、プロペン3位炭素）、125.2（四級炭素、プロペン2位
炭素）、114.3（CH、芳香環6'位炭素）、111.0（四級炭
素、芳香環1'炭素）、100.1（CH、芳香環3'炭素）、60.
8（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.5（CH3、メ
トキシ基のメチル基炭素）、55.1（CH3、メトキシ基の
メチル基炭素）、14.4（CH3、エチル基のメチル基炭
素）、14.3（CH3、プロペン2位のメチル基炭素）。
決定した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.51(1H、
s、プロペン酸3位プロトン）、6.70(1H、s、芳香環6'位
プロトン）、6.42(1H、s、芳香環3'位プロトン)、3.72
(3H、s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.65(3H、
s、メトキシ基のメチル基プロトン）、3.36(2H、bs、ア
ミノ基プロトン）、1.98(3H、s、プロペン２位のメチル
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.7
（四級炭素、1位カルボニル炭素）、150.7（四級炭素、
芳香環4'位炭素）、142.6（四級炭素、芳香環2'位炭
素）、139.8（四級炭素、芳香環5'位炭素）、134.7（C
H、プロペン3位炭素）、125.2（四級炭素、プロペン2位
炭素）、114.3（CH、芳香環6'位炭素）、111.0（四級炭
素、芳香環1'炭素）、100.1（CH、芳香環3'炭素）、60.
8（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、56.5（CH3、メ
トキシ基のメチル基炭素）、55.1（CH3、メトキシ基の
メチル基炭素）、14.4（CH3、エチル基のメチル基炭
素）、14.3（CH3、プロペン2位のメチル基炭素）。
【０１１４】（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエス
テル（（E） 3-（2-Amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-m
ethyl-2-propenic acid p-nitrophenyl ester ）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 0.82 g （3.5 mmol）と p-ニトロフ
ェノール 0.97g（7 mmol）（和光純薬社製）とをジクロ
ロメタン20 mlに溶解し、これにジメチルアミノピリジ
ン 40 mg（和光純薬社製）を加えた。これに氷冷撹拌下
1-エチル-3-（3-ジメチルアミノプロピル）-カルボジイ
ミド塩酸塩（EDC/HCl）0.81g（4.2 mmol）（和光純薬社
製）を分割投入し、室温に戻して20時間撹拌した。反応
の終点をTLCにより確認した後、反応液を減圧で濃縮
し、酢酸エチル100ml に転溶した。この溶液を洗浄及び
乾燥した後、溶媒を留去しあめ状の粗生成物を得た。こ
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサ
ン：酢酸エチル=2：1）にて精製し、目的の化合物を0.1
5 g 黄色結晶として得た（収率12%）。
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエス
テル（（E） 3-（2-Amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-m
ethyl-2-propenic acid p-nitrophenyl ester ）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 0.82 g （3.5 mmol）と p-ニトロフ
ェノール 0.97g（7 mmol）（和光純薬社製）とをジクロ
ロメタン20 mlに溶解し、これにジメチルアミノピリジ
ン 40 mg（和光純薬社製）を加えた。これに氷冷撹拌下
1-エチル-3-（3-ジメチルアミノプロピル）-カルボジイ
ミド塩酸塩（EDC/HCl）0.81g（4.2 mmol）（和光純薬社
製）を分割投入し、室温に戻して20時間撹拌した。反応
の終点をTLCにより確認した後、反応液を減圧で濃縮
し、酢酸エチル100ml に転溶した。この溶液を洗浄及び
乾燥した後、溶媒を留去しあめ状の粗生成物を得た。こ
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサ
ン：酢酸エチル=2：1）にて精製し、目的の化合物を0.1
5 g 黄色結晶として得た（収率12%）。
【０１１５】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.31（2H、d、J=9
Hz、p-ニトロフェニルオキシ基2”位と6”位プロト
ン）、7.88（1H、s、プロペン3位プロトン）、7.36（2
H、d、J=9 Hz、p-ニトロフェニルオキシ基3”位と5”位
プロトン）、6.79（1H、s、シンナミル芳香環6’位プロ
トン）、6.33（1H、s、シンナミル芳香環3’位プロト
ン）、3.88（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.84（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.68（2H、bs、アミノ基プロトン）、2.20（3H、
s、プロペン2位メチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：166.2（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、156.1（四級炭素、p-ニトロ
フェニルオキシ基1”位炭素）、151.5（四級炭素、シン
ナミル芳香環4’位炭素）、145.2（四級炭素、p-ニトロ
フェニルオキシ基4”位炭素）、141.9（四級炭素、シン
ナミル芳香環2’位炭素）、140.3（四級炭素、シンナミ
ル芳香環5’位炭素）、137.7（CH、プロペン3位炭
素）、125.6（四級炭素、プロペン2位炭素）、125.2（C
H、p-ニトロフェニルオキシ基3”位と5”位炭素）、12
2.6（CH、p-ニトロフェニルオキシ基2”位と6”位炭
素）、113.4（CH、シンナミル芳香環6’位炭素）、112.
0（quaternary、シンナミル芳香環1’位炭素）、100.4
（CH、シンナミル芳香環3’位炭素）、56.7（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメ
チル基炭素）、14.5（CH3、プロペン2位結合メチル基炭
素）。
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.31（2H、d、J=9
Hz、p-ニトロフェニルオキシ基2”位と6”位プロト
ン）、7.88（1H、s、プロペン3位プロトン）、7.36（2
H、d、J=9 Hz、p-ニトロフェニルオキシ基3”位と5”位
プロトン）、6.79（1H、s、シンナミル芳香環6’位プロ
トン）、6.33（1H、s、シンナミル芳香環3’位プロト
ン）、3.88（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.84（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.68（2H、bs、アミノ基プロトン）、2.20（3H、
s、プロペン2位メチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：166.2（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、156.1（四級炭素、p-ニトロ
フェニルオキシ基1”位炭素）、151.5（四級炭素、シン
ナミル芳香環4’位炭素）、145.2（四級炭素、p-ニトロ
フェニルオキシ基4”位炭素）、141.9（四級炭素、シン
ナミル芳香環2’位炭素）、140.3（四級炭素、シンナミ
ル芳香環5’位炭素）、137.7（CH、プロペン3位炭
素）、125.6（四級炭素、プロペン2位炭素）、125.2（C
H、p-ニトロフェニルオキシ基3”位と5”位炭素）、12
2.6（CH、p-ニトロフェニルオキシ基2”位と6”位炭
素）、113.4（CH、シンナミル芳香環6’位炭素）、112.
0（quaternary、シンナミル芳香環1’位炭素）、100.4
（CH、シンナミル芳香環3’位炭素）、56.7（CH3、メト
キシ基のメチル基炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメ
チル基炭素）、14.5（CH3、プロペン2位結合メチル基炭
素）。
【０１１６】（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸 フェニルエチルアミド
（（E） 3-（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-meth
yl-2-propenic acid phenethyl amide の合成 上記得られた（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエス
テル0.72g（2.0 mmol）と、2-フェニルエチルアミン 0.
48g（4.0 mmol）（東京化成（株）社製）とをジメチル
ホルムアミド30ｍｌに溶解し、室温にて一夜間反応させ
た。溶媒を減圧で除き、残渣を酢酸エチルに転溶した。
この溶液を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒を減圧で除いて粗生成物を得た。これをアミノ
プロピル修飾タイプシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（n-ヘキサン：酢酸エチル=1：1）にて精製し目的化
合物を0.68g得た（収率定量的）。
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸 フェニルエチルアミド
（（E） 3-（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-meth
yl-2-propenic acid phenethyl amide の合成 上記得られた（E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエス
テル0.72g（2.0 mmol）と、2-フェニルエチルアミン 0.
48g（4.0 mmol）（東京化成（株）社製）とをジメチル
ホルムアミド30ｍｌに溶解し、室温にて一夜間反応させ
た。溶媒を減圧で除き、残渣を酢酸エチルに転溶した。
この溶液を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒を減圧で除いて粗生成物を得た。これをアミノ
プロピル修飾タイプシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（n-ヘキサン：酢酸エチル=1：1）にて精製し目的化
合物を0.68g得た（収率定量的）。
【０１１７】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.35 - 7.30（2H、
m、フェネチル芳香環２”と６”位プロトン）、7.26 -
7.21（4H、m、プロペン３位プロトン位とフェネチル芳
香環３”、4”、５”位プロトン）、6.60（1H、s、シン
ナメート芳香環６’位プロトン）、6.29（1H、s、シン
ナメート芳香環３’位プロトン）、5.93（1H、bs、アミ
ド基のアミノプロトン）、3.84（3H、s、メトキシ基の
メチル基プロトン）、3.78（3H、s、メトキシ基のメチ
ル基プロトン）、3.64 ppm（2H、dt、J=7 Hz、フェネチ
ルのメチレン基プロトン）、3.54 ppm（2H、s、アミノ
基プロトン）、2.90 ppm（2H、t、J=7 Hz、フェネチル
のメチレン基プロトン）、1.96 ppm（3H、s、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム δppm）：169.1（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、150.2（四級炭素、シンナ
メート芳香環４’位炭素）、141.6（四級炭素、シンナ
メート芳香環２’位炭素）、139.2（四級炭素、 シンナ
メート芳香環５’位炭素）、139.0（四級炭素、フェネ
チル芳香環１”位炭素）、131.7（四級炭素、プロペン
２位炭素）、130.3（CH、プロペン３位炭素）、128.8
（CH、フェネチル芳香環２”と６”位炭素）、128.7（C
H、フェネチル芳香環３”と５”位炭素）、126.7（CH、
フェネチル芳香環４”位炭素）、113.7（CH、シンナメ
ート芳香環６’位炭素）、112.8（四級炭素、シンナメ
ート芳香環１’位炭素）、100.4（CH、シンナメート芳
香環３’位炭素）、56.7（CH3、メトキシ基のメチル基
炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、41.
0（CH2、フェネチルのメチレン基炭素）、35.7（CH2、
フェネチルのメチレン基炭素）、14.3（CH3、プロペン
２位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.35 - 7.30（2H、
m、フェネチル芳香環２”と６”位プロトン）、7.26 -
7.21（4H、m、プロペン３位プロトン位とフェネチル芳
香環３”、4”、５”位プロトン）、6.60（1H、s、シン
ナメート芳香環６’位プロトン）、6.29（1H、s、シン
ナメート芳香環３’位プロトン）、5.93（1H、bs、アミ
ド基のアミノプロトン）、3.84（3H、s、メトキシ基の
メチル基プロトン）、3.78（3H、s、メトキシ基のメチ
ル基プロトン）、3.64 ppm（2H、dt、J=7 Hz、フェネチ
ルのメチレン基プロトン）、3.54 ppm（2H、s、アミノ
基プロトン）、2.90 ppm（2H、t、J=7 Hz、フェネチル
のメチレン基プロトン）、1.96 ppm（3H、s、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム δppm）：169.1（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、150.2（四級炭素、シンナ
メート芳香環４’位炭素）、141.6（四級炭素、シンナ
メート芳香環２’位炭素）、139.2（四級炭素、 シンナ
メート芳香環５’位炭素）、139.0（四級炭素、フェネ
チル芳香環１”位炭素）、131.7（四級炭素、プロペン
２位炭素）、130.3（CH、プロペン３位炭素）、128.8
（CH、フェネチル芳香環２”と６”位炭素）、128.7（C
H、フェネチル芳香環３”と５”位炭素）、126.7（CH、
フェネチル芳香環４”位炭素）、113.7（CH、シンナメ
ート芳香環６’位炭素）、112.8（四級炭素、シンナメ
ート芳香環１’位炭素）、100.4（CH、シンナメート芳
香環３’位炭素）、56.7（CH3、メトキシ基のメチル基
炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、41.
0（CH2、フェネチルのメチレン基炭素）、35.7（CH2、
フェネチルのメチレン基炭素）、14.3（CH3、プロペン
２位結合のメチル基炭素）。
【０１１８】（E） N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-
4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-L-glutamic acid 3-（2-amino-4、5-di
methoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.72g
（2.0 mmol）をテトラヒドロフラン80ｍｌに溶解し、こ
れにＬ-グルタミン酸2.3g（10 mmol）を0.5規定炭酸水
素ナトリウム水溶液160ｍｌに溶解したものを加え、室
温にて一夜間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えてp
H4に調整した後、そのまま減圧濃縮した。この残渣を一
旦水 30 ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、これを凍結乾燥して目的化合物0.74 g を
得た（収率定量的）。
4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-L-glutamic acid 3-（2-amino-4、5-di
methoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.72g
（2.0 mmol）をテトラヒドロフラン80ｍｌに溶解し、こ
れにＬ-グルタミン酸2.3g（10 mmol）を0.5規定炭酸水
素ナトリウム水溶液160ｍｌに溶解したものを加え、室
温にて一夜間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えてp
H4に調整した後、そのまま減圧濃縮した。この残渣を一
旦水 30 ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、これを凍結乾燥して目的化合物0.74 g を
得た（収率定量的）。
【０１１９】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H、d、J=7.5 Hz、アミド基プロトン）、7.34（1H、s、
プロペン酸3位プロト）、7.24（1H、s、芳香環3’位プ
ロトン）、6.94（1H、s、芳香環6’位プロトン）、4.36
（1H、ddd、J=9.3Hz、7.7Hz、5.5Hz、グルタミン酸部α
位メチン基プロトン）、4.10（2H、bs アミノ基プロト
ン）、3.82（6H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、2.47（2H、 dd、J=7.5Hz、7.5Hz、グルタミン酸
部ガンマ位メチレン基プロトン）、2.07（2H、m、グル
タミン酸部β位メチレン基プロトン）、1.97（3H、s、
プロペン2位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.3、1
69.1、169.0（四級炭素、グルタミン酸部カルボニル炭
素と1位カルボニル炭素）、148.6（四級炭素、芳香環
4’位炭素）、147.8（四級炭素、芳香環2’位炭素）、1
35.1（四級炭素、芳香環5’位炭素）、126.9（CH、プロ
ペン3位炭素）、122.6（四級炭素、芳香環1’位炭
素）、112.8（CH、芳香環6’位炭素）、107.6（CH、芳
香環3’位炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメチル基炭
素）、55.7（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、51.7
（CH、グルタミン酸部α位メチン基炭素）、30.3（C
H2、グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素）、26.0
（CH2、グルタミン酸部β位メチレン基炭素）、14.5（C
H3、プロペン2位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H、d、J=7.5 Hz、アミド基プロトン）、7.34（1H、s、
プロペン酸3位プロト）、7.24（1H、s、芳香環3’位プ
ロトン）、6.94（1H、s、芳香環6’位プロトン）、4.36
（1H、ddd、J=9.3Hz、7.7Hz、5.5Hz、グルタミン酸部α
位メチン基プロトン）、4.10（2H、bs アミノ基プロト
ン）、3.82（6H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、2.47（2H、 dd、J=7.5Hz、7.5Hz、グルタミン酸
部ガンマ位メチレン基プロトン）、2.07（2H、m、グル
タミン酸部β位メチレン基プロトン）、1.97（3H、s、
プロペン2位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.3、1
69.1、169.0（四級炭素、グルタミン酸部カルボニル炭
素と1位カルボニル炭素）、148.6（四級炭素、芳香環
4’位炭素）、147.8（四級炭素、芳香環2’位炭素）、1
35.1（四級炭素、芳香環5’位炭素）、126.9（CH、プロ
ペン3位炭素）、122.6（四級炭素、芳香環1’位炭
素）、112.8（CH、芳香環6’位炭素）、107.6（CH、芳
香環3’位炭素）、55.8（CH3、メトキシ基のメチル基炭
素）、55.7（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、51.7
（CH、グルタミン酸部α位メチン基炭素）、30.3（C
H2、グルタミン酸部ガンマ位メチレン基炭素）、26.0
（CH2、グルタミン酸部β位メチレン基炭素）、14.5（C
H3、プロペン2位結合のメチル基炭素）。
【０１２０】（E） N-（o-ジ-t-ブチルオキシ）-L-グル
タミン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-
メチル-2-プロペン酸アミド （（E） N-（o-Di-t-buty
loxy ）-L-glutamic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxyp
henyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.36g
（1.0 mmol）と、グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩
酸塩0.89g（3.0 mmol）（シグマ社製）とをテトラヒド
ロフラン200ｍｌに溶解し、室温にて4時間反応させた。
溶媒を減圧で除き、残渣を酢酸エチルに転用した。この
溶液を洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濃
縮して粗生成物 を得た。これをカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fuji s
ilysia chem. co.、NH-DM1020 1000 g 、溶離液 ヘキ
サン/酢酸エチル 1：1）により精製し、目的物0.48gを
得た（収率定量的）。
タミン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-
メチル-2-プロペン酸アミド （（E） N-（o-Di-t-buty
loxy ）-L-glutamic acid 3-（2-amino-4、5-dimethoxyp
henyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.36g
（1.0 mmol）と、グルタミン酸 ジ t-ブチルエステル塩
酸塩0.89g（3.0 mmol）（シグマ社製）とをテトラヒド
ロフラン200ｍｌに溶解し、室温にて4時間反応させた。
溶媒を減圧で除き、残渣を酢酸エチルに転用した。この
溶液を洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濃
縮して粗生成物 を得た。これをカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル（アミノプロピル修飾タイプ）Fuji s
ilysia chem. co.、NH-DM1020 1000 g 、溶離液 ヘキ
サン/酢酸エチル 1：1）により精製し、目的物0.48gを
得た（収率定量的）。
【０１２１】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.34（1H、s、プロ
ペン酸3位プロトン）、6.75（1H、d、J=7.3Hz、アミド
基プロトン）、6.63（1H、s、芳香環6’位プロトン）、
6.30（1H、s、芳香環3’位プロトン）、4.59（1H、dt、
J=7.3Hz、4.6Hz、グルタミン酸部α位メチン基プロト
ン）、3.85（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.80（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.59（2H、bs、アミノ基プロトン）、2.39 （2
H、m、グルタミン酸部ガンマ位メチレン基プロトン）、
2.25（2H、m、グルタミン酸部β位メチレン基プロト
ン）、2.05（3H、s、プロペン2位のメチル基プロト
ン）、1.50（9H、s、ブチル基のメチル基プロトン）、
1.45（9H、s、ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：172.6（四級炭
素、グルタミン酸部カルボニル炭素）、171.2（グルタ
ミン酸部カルボニル炭素）、168.7（四級炭素、1位カル
ボニル炭素）、150.4（四級炭素、芳香環4’位炭素）、
141.6（四級炭素、芳香環2’位炭素）、139.2（四級炭
素、 芳香環5’位炭素）、131.1（CH、プロペン3位炭
素）、131.1（四級炭素、プロペン2位炭素）、113.6（C
H、芳香環6’位炭素）、112.8（四級炭素、芳香環1’位
炭素）、100.3（CH、芳香環3’位炭素）、82.4（四級炭
素、ブチル基炭素）、80.8（四級炭素、ブチル基炭
素）、56.7（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.8
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、52.8（CH、グル
タミン酸部α位メチン基炭素）、31.7（CH2、グルタミ
ン酸部ガンマ位メチレン基炭素）、28.1（CH3、ブチル
基のメチル基炭素）、27.5（CH2、グルタミン酸部β位
メチレン基炭素）、14.2（CH3、プロペン2位のメチル基
炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.34（1H、s、プロ
ペン酸3位プロトン）、6.75（1H、d、J=7.3Hz、アミド
基プロトン）、6.63（1H、s、芳香環6’位プロトン）、
6.30（1H、s、芳香環3’位プロトン）、4.59（1H、dt、
J=7.3Hz、4.6Hz、グルタミン酸部α位メチン基プロト
ン）、3.85（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.80（3H、s、メトキシ基のメチル基プロト
ン）、3.59（2H、bs、アミノ基プロトン）、2.39 （2
H、m、グルタミン酸部ガンマ位メチレン基プロトン）、
2.25（2H、m、グルタミン酸部β位メチレン基プロト
ン）、2.05（3H、s、プロペン2位のメチル基プロト
ン）、1.50（9H、s、ブチル基のメチル基プロトン）、
1.45（9H、s、ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：172.6（四級炭
素、グルタミン酸部カルボニル炭素）、171.2（グルタ
ミン酸部カルボニル炭素）、168.7（四級炭素、1位カル
ボニル炭素）、150.4（四級炭素、芳香環4’位炭素）、
141.6（四級炭素、芳香環2’位炭素）、139.2（四級炭
素、 芳香環5’位炭素）、131.1（CH、プロペン3位炭
素）、131.1（四級炭素、プロペン2位炭素）、113.6（C
H、芳香環6’位炭素）、112.8（四級炭素、芳香環1’位
炭素）、100.3（CH、芳香環3’位炭素）、82.4（四級炭
素、ブチル基炭素）、80.8（四級炭素、ブチル基炭
素）、56.7（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、55.8
（CH3、メトキシ基のメチル基炭素）、52.8（CH、グル
タミン酸部α位メチン基炭素）、31.7（CH2、グルタミ
ン酸部ガンマ位メチレン基炭素）、28.1（CH3、ブチル
基のメチル基炭素）、27.5（CH2、グルタミン酸部β位
メチレン基炭素）、14.2（CH3、プロペン2位のメチル基
炭素）。
【０１２２】エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）
-2-プロペネート（Ethyl 2-methyl-3-（2-nitropheny
l）-2-propenate）の合成 2-ニトロベンズアルデヒド 21.0 （139.0 mmol）（アル
ドリッチ社製）、Wittig試薬（Carbethoxyetylidene tr
iphenylphosphorane） 50.0 g（138.0 mmol）（アルド
リッチ社製）をベンゼン500 ml に溶解し、室温にて一
夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した後、反
応液を減圧濃縮し、これにエタノールを加え、析出した
結晶を濾別した。この濾液を減圧濃縮して得られた油状
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン=1／4）で精製し
て、目的化合物を油状物質として32.1 g 得た（収率98.
2 %）。
-2-プロペネート（Ethyl 2-methyl-3-（2-nitropheny
l）-2-propenate）の合成 2-ニトロベンズアルデヒド 21.0 （139.0 mmol）（アル
ドリッチ社製）、Wittig試薬（Carbethoxyetylidene tr
iphenylphosphorane） 50.0 g（138.0 mmol）（アルド
リッチ社製）をベンゼン500 ml に溶解し、室温にて一
夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した後、反
応液を減圧濃縮し、これにエタノールを加え、析出した
結晶を濾別した。この濾液を減圧濃縮して得られた油状
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン=1／4）で精製し
て、目的化合物を油状物質として32.1 g 得た（収率98.
2 %）。
【０１２３】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.13（d、1H、芳香
環３’位プロトン ）、7.90（s、1H、プロペン3位プロ
トン）、7.66（dd、1H、芳香環５’位プロトン）、7.51
（dd、1H、芳香環4’位プロトン）、7.37（d、1H、芳香
環６’位プロトン）、4.30（q、2H、エチル基のメチレ
ン基プロトン）、1.90（s、3H、プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン）、1.36（t、3H、エチル基のメチルプロ
トン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.6（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、147.8（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、135.3（CH、プロペン3位炭素）、133.2
（CH、芳香環５’位炭素）、132.0（四級炭素、芳香環
１’位炭素）、131.3（CH、芳香環４’位炭素）、130.6
（四級炭素、プロペン2位炭素）、128.9（CH、芳香環
６’位炭素）、124.9（CH、芳香環３’位炭素）、61.1
（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチ
ル基のメチル基炭素）、14.0（CH3、プロペン2位結合メ
チル基炭素）。
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.13（d、1H、芳香
環３’位プロトン ）、7.90（s、1H、プロペン3位プロ
トン）、7.66（dd、1H、芳香環５’位プロトン）、7.51
（dd、1H、芳香環4’位プロトン）、7.37（d、1H、芳香
環６’位プロトン）、4.30（q、2H、エチル基のメチレ
ン基プロトン）、1.90（s、3H、プロペン2位結合のメチ
ル基プロトン）、1.36（t、3H、エチル基のメチルプロ
トン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.6（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、147.8（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、135.3（CH、プロペン3位炭素）、133.2
（CH、芳香環５’位炭素）、132.0（四級炭素、芳香環
１’位炭素）、131.3（CH、芳香環４’位炭素）、130.6
（四級炭素、プロペン2位炭素）、128.9（CH、芳香環
６’位炭素）、124.9（CH、芳香環３’位炭素）、61.1
（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチ
ル基のメチル基炭素）、14.0（CH3、プロペン2位結合メ
チル基炭素）。
【０１２４】2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロ
ペン酸（（E） 2-Methyl-3-（2-nitrophenyl）-2-prope
noic acid）の合成 エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロペネ
ート11.8 g（50.2 mmol）をメタノール 200 ml に溶解
させ、これに2規定 水酸化ナトリウム水溶液 200ml を
加え、40℃にて一夜撹拌を行った。TLCにより反応の終
了を確認した後、反応液を減圧濃縮し、これに1規定 塩
酸を加えてpH 1 にしたものを酢酸エチルに転溶した。
この溶液を水にて3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
を加えて一夜間乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過した
後、濾液を減圧濃縮して目的化合物を結晶として10.2 g
得た（収率：98.0 %）。
ペン酸（（E） 2-Methyl-3-（2-nitrophenyl）-2-prope
noic acid）の合成 エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プロペネ
ート11.8 g（50.2 mmol）をメタノール 200 ml に溶解
させ、これに2規定 水酸化ナトリウム水溶液 200ml を
加え、40℃にて一夜撹拌を行った。TLCにより反応の終
了を確認した後、反応液を減圧濃縮し、これに1規定 塩
酸を加えてpH 1 にしたものを酢酸エチルに転溶した。
この溶液を水にて3回洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
を加えて一夜間乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過した
後、濾液を減圧濃縮して目的化合物を結晶として10.2 g
得た（収率：98.0 %）。
【０１２５】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：12.69（b
s、1H、カルボキシル基プロトン）、8.15（d、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.80（dd、1H、芳香環５’位プロ
トン）、7.76（s、1H、プロペン３位プロトン）、7.64
（dd、1H、芳香環４’位プロトン）、7.53（d、1H、芳
香環６’位プロトン）、1.82（s、3H、プロペン２位結
合のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：168.5
（四級炭素、カルボキシル基炭素）、147.5（四級炭
素、芳香環２’位炭素）、134.5（CH、プロペン３位炭
素）、133.7（CH、芳香環５’位炭素）、131.3（CH、芳
香環６’位炭素）、130.9（四級炭素、芳香環１’位炭
素）、130.5（四級炭素、プロペン２位炭素）、129.4
（CH、芳香環４’位炭素）、124.5（CH、芳香環３’位
炭素）、13.7（CH3、プロペン２位結合のメチル基炭
素）。
り決定した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：12.69（b
s、1H、カルボキシル基プロトン）、8.15（d、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.80（dd、1H、芳香環５’位プロ
トン）、7.76（s、1H、プロペン３位プロトン）、7.64
（dd、1H、芳香環４’位プロトン）、7.53（d、1H、芳
香環６’位プロトン）、1.82（s、3H、プロペン２位結
合のメチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：168.5
（四級炭素、カルボキシル基炭素）、147.5（四級炭
素、芳香環２’位炭素）、134.5（CH、プロペン３位炭
素）、133.7（CH、芳香環５’位炭素）、131.3（CH、芳
香環６’位炭素）、130.9（四級炭素、芳香環１’位炭
素）、130.5（四級炭素、プロペン２位炭素）、129.4
（CH、芳香環４’位炭素）、124.5（CH、芳香環３’位
炭素）、13.7（CH3、プロペン２位結合のメチル基炭
素）。
【０１２６】（E） エチル 3-（2-アミノフェニル）-2-
メチル-2-プロペネート（（E） Ethyl3-（2-aminopheny
l）-2-methyl-2-propenate）の合成 （E） エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プ
ロペネート 10 g （42.5mmol）を酢酸160 ml に溶解
し、撹拌しながら鉄粉 10.9 g（195.2 mmol）（Koso ch
em. Co.）及び蒸留水 12 ml を室温にて加え、昇温し、
100℃にて1時間環流を行った。TLCにより反応の終点を
確認した後、反応液を冷却し、酢酸を減圧留去して、こ
れに酢酸エチルを加えて不溶解物を濾取した。濾液に水
を加え分液し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液の順で洗浄した後、硫酸ナトリウムを加えて一晩乾
燥させた。無水硫酸ナトリウムを濾別した後、濾液を減
圧濃縮し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン=1／3）で精製して、目的化合物を油状物として6.4
g 得た（収率：71.5 %）。
メチル-2-プロペネート（（E） Ethyl3-（2-aminopheny
l）-2-methyl-2-propenate）の合成 （E） エチル 2-メチル-3-（2-ニトロフェニル）-2-プ
ロペネート 10 g （42.5mmol）を酢酸160 ml に溶解
し、撹拌しながら鉄粉 10.9 g（195.2 mmol）（Koso ch
em. Co.）及び蒸留水 12 ml を室温にて加え、昇温し、
100℃にて1時間環流を行った。TLCにより反応の終点を
確認した後、反応液を冷却し、酢酸を減圧留去して、こ
れに酢酸エチルを加えて不溶解物を濾取した。濾液に水
を加え分液し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液の順で洗浄した後、硫酸ナトリウムを加えて一晩乾
燥させた。無水硫酸ナトリウムを濾別した後、濾液を減
圧濃縮し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン=1／3）で精製して、目的化合物を油状物として6.4
g 得た（収率：71.5 %）。
【０１２７】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）:7.60（s、1H、プロ
ペン３位プロトン）、7.14（dd、1H、芳香環４’位プロ
トン）、7.10（d、1H、芳香環６’位プロトン）、6.77
（dd、1H、芳香環５’位プロトン）、6.72（d、1H、芳
香環3'位プロトン）、4.27（q、2H、エチル基のメチレ
ン基プロトン）、3.74（bs、2H、アミノ基プロトン）、
2.00（s、3H、プロペン2位結合のメチル基プロトン）、
1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.4（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、144.5（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.9（CH、プロペン３位炭素）、130.2
（四級炭素、プロペン2位炭素）、129.6（CH、芳香環
４’位炭素）、129.4（CH、芳香環６’位炭素）、121.3
（四級炭素、芳香環１’位炭素）、118.1（CH、芳香環
５’位炭素）、115.5（CH、芳香環３’位炭素）、60.8
（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチ
ル基のメチル基炭素）、14.1（CH3、プロペン2位結合の
メチル基炭素 ）。
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）:7.60（s、1H、プロ
ペン３位プロトン）、7.14（dd、1H、芳香環４’位プロ
トン）、7.10（d、1H、芳香環６’位プロトン）、6.77
（dd、1H、芳香環５’位プロトン）、6.72（d、1H、芳
香環3'位プロトン）、4.27（q、2H、エチル基のメチレ
ン基プロトン）、3.74（bs、2H、アミノ基プロトン）、
2.00（s、3H、プロペン2位結合のメチル基プロトン）、
1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.4（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、144.5（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.9（CH、プロペン３位炭素）、130.2
（四級炭素、プロペン2位炭素）、129.6（CH、芳香環
４’位炭素）、129.4（CH、芳香環６’位炭素）、121.3
（四級炭素、芳香環１’位炭素）、118.1（CH、芳香環
５’位炭素）、115.5（CH、芳香環３’位炭素）、60.8
（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチ
ル基のメチル基炭素）、14.1（CH3、プロペン2位結合の
メチル基炭素 ）。
【０１２８】エチル 3-（4-クロロ-2-ニトロフェニル）
-2-メチル-2-プロペネート（Ethyl 3-（4-chloro-2-nit
rophenyl）-2-methyl-2-propenate）の合成 4-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド 10.0g （53.8mmo
l）（アルドリッチ社製）とWittig試薬（Carbethoxy et
ylidene triphenylphosphorane ）18.1 g （50.0mmol）
（アルドリッチ社製）とをベンゼン 200 ml 中、常温で
一夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した後、
反応液を濃縮して粗生成物を得た。これをカラムクロマ
トグラフィー（アミノプロピル修飾シリカゲル（Fuji s
ilysia chem.co.、NH-DM）、展開溶媒：ヘキサン／酢酸
エチル=1／1）にて精製し、目的化合物 を結晶で13.1g
得た（収率：97%）。
-2-メチル-2-プロペネート（Ethyl 3-（4-chloro-2-nit
rophenyl）-2-methyl-2-propenate）の合成 4-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド 10.0g （53.8mmo
l）（アルドリッチ社製）とWittig試薬（Carbethoxy et
ylidene triphenylphosphorane ）18.1 g （50.0mmol）
（アルドリッチ社製）とをベンゼン 200 ml 中、常温で
一夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した後、
反応液を濃縮して粗生成物を得た。これをカラムクロマ
トグラフィー（アミノプロピル修飾シリカゲル（Fuji s
ilysia chem.co.、NH-DM）、展開溶媒：ヘキサン／酢酸
エチル=1／1）にて精製し、目的化合物 を結晶で13.1g
得た（収率：97%）。
【０１２９】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.14（s、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.82（s、1H、プロペン３位プロ
トン）、7.64（d、1H、芳香環５’位プロトン）、7.32
（d、1H、芳香環６’位プロトン）、4.29（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、1.90（s、3H、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）、1.36（t、3H、エチル
基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.4（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、148.0（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.8（四級炭素、 芳香環４’位炭
素）、134.1（CH、プロペン３位炭素）、133.4（CH、芳
香環５’位炭素）、132.5（CH、芳香環６’位炭素）、1
31.3（四級炭素、芳香環１’位炭素）、130.3（四級炭
素、プロペン２位炭素）、125.1（CH、芳香環３’位炭
素）、61.3（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3
（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.1（CH3、プロペ
ン２位結合のメチル基炭素 ）。
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.14（s、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.82（s、1H、プロペン３位プロ
トン）、7.64（d、1H、芳香環５’位プロトン）、7.32
（d、1H、芳香環６’位プロトン）、4.29（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、1.90（s、3H、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）、1.36（t、3H、エチル
基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.4（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、148.0（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.8（四級炭素、 芳香環４’位炭
素）、134.1（CH、プロペン３位炭素）、133.4（CH、芳
香環５’位炭素）、132.5（CH、芳香環６’位炭素）、1
31.3（四級炭素、芳香環１’位炭素）、130.3（四級炭
素、プロペン２位炭素）、125.1（CH、芳香環３’位炭
素）、61.3（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.3
（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.1（CH3、プロペ
ン２位結合のメチル基炭素 ）。
【０１３０】（E） エチル 3-（2-アミノ-4-クロロフ
ェニル）-2-メチル-2-プロペネート （（E） Ethyl 3-
（2-amino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenate ）
の合成 エチル 3-（4-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート11.0gを酢酸170 ml に溶解し、撹拌しなが
ら鉄粉 10.9 g （195.2 mmol）（Koso chem.Co.）及び
蒸留水 13 ml を室温にて加え、昇温し、97℃にて2時間
反応を行った。TLCにより反応の終点を確認した後、反
応液を冷却し、酢酸を減圧留去した。これに水300 ml
、酢酸エチル400 mlを加えて不溶解物を濾別し、濾液
を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム
水溶液の順で洗浄した後、硫酸ナトリウムを加えて一夜
間乾燥させた。硫酸ナトリウムを濾別した後、濾液を減
圧濃縮して9.8 gの粗結晶を得た。これをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾シリカゲ
ル（Fuji silysia chem.co.、NH-DM1020）、展開溶媒：
ヘキサン／酢酸エチル=2／1）にて精製し、目的化合物
を結晶として7.2 g得た（収率：73.3 %）。
ェニル）-2-メチル-2-プロペネート （（E） Ethyl 3-
（2-amino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenate ）
の合成 エチル 3-（4-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート11.0gを酢酸170 ml に溶解し、撹拌しなが
ら鉄粉 10.9 g （195.2 mmol）（Koso chem.Co.）及び
蒸留水 13 ml を室温にて加え、昇温し、97℃にて2時間
反応を行った。TLCにより反応の終点を確認した後、反
応液を冷却し、酢酸を減圧留去した。これに水300 ml
、酢酸エチル400 mlを加えて不溶解物を濾別し、濾液
を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム
水溶液の順で洗浄した後、硫酸ナトリウムを加えて一夜
間乾燥させた。硫酸ナトリウムを濾別した後、濾液を減
圧濃縮して9.8 gの粗結晶を得た。これをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾シリカゲ
ル（Fuji silysia chem.co.、NH-DM1020）、展開溶媒：
ヘキサン／酢酸エチル=2／1）にて精製し、目的化合物
を結晶として7.2 g得た（収率：73.3 %）。
【０１３１】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.50（s、1H、プロ
ペン3位プロトン）、7.01（d、1H、芳香環６’位プロト
ン）、6.73（d、1H、芳香環５’位プロトン）、6.72
（s、1H、芳香環３’位プロトン）、4.27（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、3.68（bs、2H、アミノ基
プロトン）、1.98（s、3H、プロペン２位結合のメチル
基プロトン）、1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロ
トン）13 C-NMR （重クロロホルム、δppm）：168.2（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、145.6（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.9（四級炭素、芳香環４’位炭
素）、133.8（CH、プロペン3位炭素）、130.9（四級炭
素、プロペン２位炭素））、130.7（CH、芳香環６’位
炭素）、119.6（四級炭素、芳香環１’位炭素）、118.2
（CH、芳香環５’位炭素）、115.2（CH、芳香環３’位
炭素）、61.0（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.
3（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.2（CH3、プロ
ペン２位結合のメチル基炭素）。
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.50（s、1H、プロ
ペン3位プロトン）、7.01（d、1H、芳香環６’位プロト
ン）、6.73（d、1H、芳香環５’位プロトン）、6.72
（s、1H、芳香環３’位プロトン）、4.27（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、3.68（bs、2H、アミノ基
プロトン）、1.98（s、3H、プロペン２位結合のメチル
基プロトン）、1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロ
トン）13 C-NMR （重クロロホルム、δppm）：168.2（四級炭
素、１位カルボニル炭素）、145.6（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、134.9（四級炭素、芳香環４’位炭
素）、133.8（CH、プロペン3位炭素）、130.9（四級炭
素、プロペン２位炭素））、130.7（CH、芳香環６’位
炭素）、119.6（四級炭素、芳香環１’位炭素）、118.2
（CH、芳香環５’位炭素）、115.2（CH、芳香環３’位
炭素）、61.0（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.
3（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.2（CH3、プロ
ペン２位結合のメチル基炭素）。
【０１３２】エチル3-（5-クロロ-2-ニトロフェニル）-
2-メチル-2-プロペネート（Ethyl 3-（5-chloro-2-nitr
ophenyl）-2-methyl-2-propenate）の合成 5-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド10.0g （53.8mmo
l）（アルドリッチ社製）とWittig試薬（Carbethoxy et
ylidene triphenylphosphorane ）18.1 g （50.0mmol）
（アルドリッチ社製）とをベンゼン 200 mlに加え、常
温で一夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した
後、反応液を濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物を
カラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾シリカ
ゲル（Fujisilysia chem.co.、NH-DM）、展開溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し、目的化合物を
結晶で13.3g 得た（収率：98%）。
2-メチル-2-プロペネート（Ethyl 3-（5-chloro-2-nitr
ophenyl）-2-methyl-2-propenate）の合成 5-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド10.0g （53.8mmo
l）（アルドリッチ社製）とWittig試薬（Carbethoxy et
ylidene triphenylphosphorane ）18.1 g （50.0mmol）
（アルドリッチ社製）とをベンゼン 200 mlに加え、常
温で一夜間撹拌した。TLCにより反応の終了を確認した
後、反応液を濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物を
カラムクロマトグラフィー（アミノプロピル修飾シリカ
ゲル（Fujisilysia chem.co.、NH-DM）、展開溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル=1／1）にて精製し、目的化合物を
結晶で13.3g 得た（収率：98%）。
【０１３３】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.11（d、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.83（s、1H、プロペン3位プロト
ン）、7.47（d、1H、芳香環４’位プロトン）、7.34
（s、1H、芳香環６’位プロトン）、4.30（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、1.91（s、3H、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）、1.35（t、3H、エチル
基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.3（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、146.1（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、139.8（四級炭素、芳香環５’位炭
素）、134.1（CH、プロペン3位炭素）、133.8（四級炭
素、芳香環１’位炭素）、131.4（四級炭素、プロペン
２位炭素）、131.1（CH、芳香環６’位炭素）、129.0
（CH、芳香環４’位炭素）、126.4（CH、芳香環３’位
炭素）、61.3（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.
2（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.0（CH3、プロ
ペン２位結合のメチル基炭素）。
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.11（d、1H、芳香
環３’位プロトン）、7.83（s、1H、プロペン3位プロト
ン）、7.47（d、1H、芳香環４’位プロトン）、7.34
（s、1H、芳香環６’位プロトン）、4.30（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、1.91（s、3H、プロペン
２位結合のメチル基プロトン）、1.35（t、3H、エチル
基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：167.3（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、146.1（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、139.8（四級炭素、芳香環５’位炭
素）、134.1（CH、プロペン3位炭素）、133.8（四級炭
素、芳香環１’位炭素）、131.4（四級炭素、プロペン
２位炭素）、131.1（CH、芳香環６’位炭素）、129.0
（CH、芳香環４’位炭素）、126.4（CH、芳香環３’位
炭素）、61.3（CH2、エチル基のメチレン基炭素）、14.
2（CH3、エチル基のメチル基炭素）、14.0（CH3、プロ
ペン２位結合のメチル基炭素）。
【０１３４】（E） エチル 3-（2-アミノ-5-クロロフェ
ニル）-2-メチル-2-プロペネート （（E） Ethyl 3-（2
-amino-5-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenate ）の
合成 エチル3-（5-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート11.0 （41.0 mmol）を酢酸170 ml に溶解
し、これに鉄粉 10.9 g （195.2 mmol）（Koso chem. C
o.）及び蒸留水 13 ml を室温にて撹拌しながら加えた
後、昇温し、97℃にて2時間反応を行った。TLCにより反
応の終点を確認した後、反応液を冷却し、酢酸を減圧留
去し、これに水300 ml 、酢酸エチル400 mlを加えて不
溶解物を濾別した。この濾液を水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄した後、
硫酸ナトリウムを加えて一晩乾燥させた。硫酸ナトリウ
ムを濾過した後、濾液を減圧濃縮し、9.8gの油状の粗生
成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（アミノプロピル修飾シリカゲル（Fuji silysia che
m.co.、NH-DM1020）、展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル
=2／1）にて精製し、目的化合物を油状物として7.2 g
得た（収率：73.3 %）。
ニル）-2-メチル-2-プロペネート （（E） Ethyl 3-（2
-amino-5-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenate ）の
合成 エチル3-（5-クロロ-2-ニトロフェニル）-2-メチル-2-
プロペネート11.0 （41.0 mmol）を酢酸170 ml に溶解
し、これに鉄粉 10.9 g （195.2 mmol）（Koso chem. C
o.）及び蒸留水 13 ml を室温にて撹拌しながら加えた
後、昇温し、97℃にて2時間反応を行った。TLCにより反
応の終点を確認した後、反応液を冷却し、酢酸を減圧留
去し、これに水300 ml 、酢酸エチル400 mlを加えて不
溶解物を濾別した。この濾液を水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄した後、
硫酸ナトリウムを加えて一晩乾燥させた。硫酸ナトリウ
ムを濾過した後、濾液を減圧濃縮し、9.8gの油状の粗生
成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（アミノプロピル修飾シリカゲル（Fuji silysia che
m.co.、NH-DM1020）、展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル
=2／1）にて精製し、目的化合物を油状物として7.2 g
得た（収率：73.3 %）。
【０１３５】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.49（s、1H、プロ
ペン3位プロトン）、 7.07（d、1H、芳香環４’位プロ
トン）、7.05（s、1H、芳香環６’位プロトン）、6.64
（d、1H、芳香環３’位プロトン）、4.27（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、3.74（bs、2H、アミノ基
プロトン）、1.99（s、3H、プロペン２位結合のメチル
基プロトン）、1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロ
トン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.0（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、143.2（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、133.6（CH、プロペン3位炭素）、131.4
（四級炭素、プロペン２位炭素）、129.1（CH、芳香環
４’又は６’位炭素）、128.9（CH、芳香環４’又は
６’位炭素）、122.6（四級炭素、芳香環１’又は５’
位炭素）、122.5（四級炭素、芳香環１’又は５’位炭
素）、116.7（CH、芳香環３’位炭素）、61.0（CH2、エ
チル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチル基のメ
チル基炭素）、14.2（CH3、プロペン２位結合のメチル
基炭素）。
り決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.49（s、1H、プロ
ペン3位プロトン）、 7.07（d、1H、芳香環４’位プロ
トン）、7.05（s、1H、芳香環６’位プロトン）、6.64
（d、1H、芳香環３’位プロトン）、4.27（q、2H、エチ
ル基のメチレン基プロトン）、3.74（bs、2H、アミノ基
プロトン）、1.99（s、3H、プロペン２位結合のメチル
基プロトン）、1.35（t、3H、エチル基のメチル基プロ
トン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm）：168.0（四級炭
素、1位カルボニル炭素）、143.2（四級炭素、芳香環
２’位炭素）、133.6（CH、プロペン3位炭素）、131.4
（四級炭素、プロペン２位炭素）、129.1（CH、芳香環
４’又は６’位炭素）、128.9（CH、芳香環４’又は
６’位炭素）、122.6（四級炭素、芳香環１’又は５’
位炭素）、122.5（四級炭素、芳香環１’又は５’位炭
素）、116.7（CH、芳香環３’位炭素）、61.0（CH2、エ
チル基のメチレン基炭素）、14.3（CH3、エチル基のメ
チル基炭素）、14.2（CH3、プロペン２位結合のメチル
基炭素）。
【０１３６】（E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）
-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル （（E） 3-
（2-Amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic ac
id ethyl ester）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 エチルエステル 2.0 g (7 mmol)を酢酸30 ml に溶解
し，これに鉄粉 1.73 g [Koso chem. Co.]及び蒸留水
2.5 ml を室温にて撹拌しながら加え，昇温し，70℃に
加熱した。1.5時間の反応後，不溶物を濾別し，濾液を
水100 ml へ投入して、酢酸エチル100mlによる抽出を２
回行った。得られた酢酸エチル溶液を水，重曹水，飽和
塩化ナトリウム水で順次洗浄し，無水硫酸ナトリウム上
で乾燥した後、濃縮して油状物を得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル，展開溶媒：
酢酸エチル／ヘキサン=1／5）で精製して，目的化合物
を油状物として1.4 g 得た（収率：77 %)。
-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル （（E） 3-
（2-Amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic ac
id ethyl ester）の合成 3-(2-ニトロ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸 エチルエステル 2.0 g (7 mmol)を酢酸30 ml に溶解
し，これに鉄粉 1.73 g [Koso chem. Co.]及び蒸留水
2.5 ml を室温にて撹拌しながら加え，昇温し，70℃に
加熱した。1.5時間の反応後，不溶物を濾別し，濾液を
水100 ml へ投入して、酢酸エチル100mlによる抽出を２
回行った。得られた酢酸エチル溶液を水，重曹水，飽和
塩化ナトリウム水で順次洗浄し，無水硫酸ナトリウム上
で乾燥した後、濃縮して油状物を得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル，展開溶媒：
酢酸エチル／ヘキサン=1／5）で精製して，目的化合物
を油状物として1.4 g 得た（収率：77 %)。
【０１３７】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム , δppm)：7.73 (1H, s, プ
ロペン3位プロトン), 7.70-7.58 (2H, m, 芳香環4’位
と7’位プロトン）, 7.58 (1H, s, 芳香環8’位プロト
ン), 7.40-7.20 (2H, m, 芳香環5’位と6’位プロト
ン), 7.04 (1H, s, 芳香環位プロトン), 4.31 (2H, q,
J=7 Hz, エチル基のメチレン基プロトン), 3.89 (2H, b
s, アミノ基プロトン), 2.06 (3H, s, プロペン2位結合
メチル基のプロトン), 1.37 (3H, t, J=7 Hz, エチル基
のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：168.2 (四級炭素,
1位カルボニル炭素), 142.6 (四級炭素,芳香環2’位炭
素), 134.8 (CH, プロペン3位炭素),134.7 (四級炭素,,
芳香環3a’位炭素), 131.6 (四級炭素,プロペン2位炭
素 ), 129.2 (CH,芳香環5’位又は6’位炭素), 127.9
(CH, 芳香環5’位又は6’位炭素), 127.5 (四級炭素,芳
香環7a’位炭素), 126.8 (CH, 芳香環4’位又は7’位
炭素), 125.5(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 124.8
(四級炭素,芳香環1’位炭素), 122.9(CH, 芳香環8’位
炭素), 109.2 (CH, 芳香環3’位炭素), 61.0 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素), 14.4 (CH3, エチル基のメチ
ル基炭素), 14.3 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素）。
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム , δppm)：7.73 (1H, s, プ
ロペン3位プロトン), 7.70-7.58 (2H, m, 芳香環4’位
と7’位プロトン）, 7.58 (1H, s, 芳香環8’位プロト
ン), 7.40-7.20 (2H, m, 芳香環5’位と6’位プロト
ン), 7.04 (1H, s, 芳香環位プロトン), 4.31 (2H, q,
J=7 Hz, エチル基のメチレン基プロトン), 3.89 (2H, b
s, アミノ基プロトン), 2.06 (3H, s, プロペン2位結合
メチル基のプロトン), 1.37 (3H, t, J=7 Hz, エチル基
のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：168.2 (四級炭素,
1位カルボニル炭素), 142.6 (四級炭素,芳香環2’位炭
素), 134.8 (CH, プロペン3位炭素),134.7 (四級炭素,,
芳香環3a’位炭素), 131.6 (四級炭素,プロペン2位炭
素 ), 129.2 (CH,芳香環5’位又は6’位炭素), 127.9
(CH, 芳香環5’位又は6’位炭素), 127.5 (四級炭素,芳
香環7a’位炭素), 126.8 (CH, 芳香環4’位又は7’位
炭素), 125.5(CH, 芳香環4’位又は7’位炭素), 124.8
(四級炭素,芳香環1’位炭素), 122.9(CH, 芳香環8’位
炭素), 109.2 (CH, 芳香環3’位炭素), 61.0 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素), 14.4 (CH3, エチル基のメチ
ル基炭素), 14.3 (CH3, プロペン2位結合メチル基の炭
素）。
【０１３８】4-ジメチルアミノ-2-ニトロベンジルアル
デヒド(4-Dimethylamino-2-nitrobenzaldehyde)の合成 窒素雰囲気下，冷却したジメチルホルムアミド(DMF)88
ml にオキシ塩化リン（Phosphorous oxychloride）51 g
（0.33 mol）（和光純薬社製）を滴下した。滴下時の温
度が2〜4℃を保つように滴下速度を調節し、滴下終了後
更に2℃で30分間撹拌を続けた。これにニトロジメチル
アニリン(N,N-Dimethyl-3-nitroaniline) 54.8 g（0.33
mol）（東京化成工業社製）のジメチルホルムアミド70
ml溶液を、反応温度が5℃を超えないように滴下し、そ
のまま2時間撹拌した。その後、徐々に温度を上げ60℃
で一夜間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、激し
く撹拌した氷水500 ml中に注加した。これに酢酸ナトリ
ウムを加えて約pH8に調製し、析出した結晶を濾別、乾
燥し、粗生成物50.2 gを得た。これをアセトン-ノルマ
ルヘキサンから再結晶して、目的物21 gを得た（収率33
％）。
デヒド(4-Dimethylamino-2-nitrobenzaldehyde)の合成 窒素雰囲気下，冷却したジメチルホルムアミド(DMF)88
ml にオキシ塩化リン（Phosphorous oxychloride）51 g
（0.33 mol）（和光純薬社製）を滴下した。滴下時の温
度が2〜4℃を保つように滴下速度を調節し、滴下終了後
更に2℃で30分間撹拌を続けた。これにニトロジメチル
アニリン(N,N-Dimethyl-3-nitroaniline) 54.8 g（0.33
mol）（東京化成工業社製）のジメチルホルムアミド70
ml溶液を、反応温度が5℃を超えないように滴下し、そ
のまま2時間撹拌した。その後、徐々に温度を上げ60℃
で一夜間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、激し
く撹拌した氷水500 ml中に注加した。これに酢酸ナトリ
ウムを加えて約pH8に調製し、析出した結晶を濾別、乾
燥し、粗生成物50.2 gを得た。これをアセトン-ノルマ
ルヘキサンから再結晶して、目的物21 gを得た（収率33
％）。
【０１３９】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；10.12 (1H, s, ホル
ミル基プロトン)，7.91(1H, d, J=9 Hz, 6位プロト
ン)，7.10 (1H, s, 3位プロトン)，6.85 (1H, d, J=9 H
z, 5位プロトン)，3.15 (6H, s, ジメチルアミノ基プロ
トン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；186.7 (CH, ホルミ
ル基)，153.6 (四級炭素, 4位炭素)，152.7 (四級炭素,
2位炭素)，131.4 (CH, 6位炭素)，117.5 (四級炭素, 1
位炭素)，114.3 (CH, 5位炭素），105.8 (CH, 3位炭
素)，40.4 (CH3,ジメチルアミノ基メチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；10.12 (1H, s, ホル
ミル基プロトン)，7.91(1H, d, J=9 Hz, 6位プロト
ン)，7.10 (1H, s, 3位プロトン)，6.85 (1H, d, J=9 H
z, 5位プロトン)，3.15 (6H, s, ジメチルアミノ基プロ
トン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；186.7 (CH, ホルミ
ル基)，153.6 (四級炭素, 4位炭素)，152.7 (四級炭素,
2位炭素)，131.4 (CH, 6位炭素)，117.5 (四級炭素, 1
位炭素)，114.3 (CH, 5位炭素），105.8 (CH, 3位炭
素)，40.4 (CH3,ジメチルアミノ基メチル基炭素)。
【０１４０】(E) エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニト
ロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-
(4-dimethylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propena
te）の合成 4-ジメチルアミノ-2-ニトロベンジルアルデヒド(4-Dime
thylamino-2-nitrobenzaldehyde) 20.0 g (0.10 mol)
とカルベエトキシ-エチリデン トリフェニルホスホラ
ン（Carbethoxy ethylidene triphneylphosphorane）
（Aldrich社製）36.2 g (0.10 mol)とをベンゼン(benze
ne) 250 mlに溶解し、室温にて一夜間撹拌した。溶媒を
減圧留去して58 g の粗生成物を得、これをカラムクロ
マトグラフィー（アミノプロピル化シリカゲルFuji sil
ysia chem. Co., NH-DM1020 ）で精製して目的化合物を
結晶として20.8 g得た（収率；74.7%）。
ロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-
(4-dimethylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propena
te）の合成 4-ジメチルアミノ-2-ニトロベンジルアルデヒド(4-Dime
thylamino-2-nitrobenzaldehyde) 20.0 g (0.10 mol)
とカルベエトキシ-エチリデン トリフェニルホスホラ
ン（Carbethoxy ethylidene triphneylphosphorane）
（Aldrich社製）36.2 g (0.10 mol)とをベンゼン(benze
ne) 250 mlに溶解し、室温にて一夜間撹拌した。溶媒を
減圧留去して58 g の粗生成物を得、これをカラムクロ
マトグラフィー（アミノプロピル化シリカゲルFuji sil
ysia chem. Co., NH-DM1020 ）で精製して目的化合物を
結晶として20.8 g得た（収率；74.7%）。
【０１４１】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.81 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.33 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン)，7.23 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環６’位プロトン)，
6.86 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環５’位プロトン)，4.27
(2H, q, J = 7Hz,エチル基のメチレン基プロトン)，3.0
6 (6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，1.9
6 (3H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)，1.34
(3H, t,J=7Hz, エチル基のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；168.2 (四級炭素,
１位カルボニル炭素)，150.2 (四級炭素, 芳香環2’位
炭素)，149.1 (四級炭素, 芳香環４’位炭素)，135.7
(CH, プロペン酸3位炭素)，132.0 (CH, 芳香環６’位炭
素)，128.2 (四級炭素, プロペン２位炭素)，118.0 (四
級炭素, 芳香環１’位炭素)，115.7 (CH, 芳香環５’位
炭素)，107.0 (CH, 芳香環３’位炭素)，60.8 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素)，40.2 (CH3, ジメチルアミノ
基のメチル基炭素)，14.3 (CH3, エチル基のメチル基炭
素)，14.1 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.81 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.33 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン)，7.23 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環６’位プロトン)，
6.86 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環５’位プロトン)，4.27
(2H, q, J = 7Hz,エチル基のメチレン基プロトン)，3.0
6 (6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，1.9
6 (3H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)，1.34
(3H, t,J=7Hz, エチル基のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；168.2 (四級炭素,
１位カルボニル炭素)，150.2 (四級炭素, 芳香環2’位
炭素)，149.1 (四級炭素, 芳香環４’位炭素)，135.7
(CH, プロペン酸3位炭素)，132.0 (CH, 芳香環６’位炭
素)，128.2 (四級炭素, プロペン２位炭素)，118.0 (四
級炭素, 芳香環１’位炭素)，115.7 (CH, 芳香環５’位
炭素)，107.0 (CH, 芳香環３’位炭素)，60.8 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素)，40.2 (CH3, ジメチルアミノ
基のメチル基炭素)，14.3 (CH3, エチル基のメチル基炭
素)，14.1 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。
【０１４２】(E) エチル 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミ
ノフェニル)-2-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-
(2-amino-4-dimethylaminophenyl)-2-methyl-2-propena
te）の合成 暗室にて、エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェ
ニル)-2-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dime
thylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）20.
5 g (0.07 mol)、トリエチルアミン（Triethylamine）
（和光純薬社製）33.4 g (0.33 mol) 及び10 % Pd/C 2.
1 g をアセトニトリル(acetonitrile) 200ml に溶解
し、これに蟻酸 (formic acid)（和光純薬社製）13.8 g
(0.30 mol)を室温にて滴下した。滴下と共に反応温度
は上昇し、45℃となった。滴下終了後、反応液を60℃に
加熱して1 時間撹拌した。反応の終了をTLCで確認した
後、反応液を室温まで冷却し、不溶物を濾別し、濾液を
減圧濃縮した後、これを酢酸エチル400 ml に転溶し
た。この溶液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄し、更に無水硫酸ナ
トリウムにより乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物17.4
g を得た。これをノルマルヘキサン-酢酸エチルから再
結晶させ、目的化合物4.67 g を得た（収率；27 %）。
ノフェニル)-2-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-
(2-amino-4-dimethylaminophenyl)-2-methyl-2-propena
te）の合成 暗室にて、エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェ
ニル)-2-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dime
thylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）20.
5 g (0.07 mol)、トリエチルアミン（Triethylamine）
（和光純薬社製）33.4 g (0.33 mol) 及び10 % Pd/C 2.
1 g をアセトニトリル(acetonitrile) 200ml に溶解
し、これに蟻酸 (formic acid)（和光純薬社製）13.8 g
(0.30 mol)を室温にて滴下した。滴下と共に反応温度
は上昇し、45℃となった。滴下終了後、反応液を60℃に
加熱して1 時間撹拌した。反応の終了をTLCで確認した
後、反応液を室温まで冷却し、不溶物を濾別し、濾液を
減圧濃縮した後、これを酢酸エチル400 ml に転溶し
た。この溶液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄し、更に無水硫酸ナ
トリウムにより乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物17.4
g を得た。これをノルマルヘキサン-酢酸エチルから再
結晶させ、目的化合物4.67 g を得た（収率；27 %）。
【０１４３】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.60 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.08 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，6.19 (1H, d, J=8 Hz, 芳香環5’位プ
ロトン)，6.01 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，4.23
(2H, q, J = 7Hz, エチル基のメチレン基プロトン)，3.
74 (2H, bs, アニリン性アミノ基プロトン），2.94 (6
H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，2.04 (3
H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)，1.31 (3
H, t, J=7Hz, エチル基のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；169.1 (四級炭素,
１位カルボニル炭素)，151.7 (四級炭素, 芳香環2’位
炭素)，146.2 (四級炭素, 芳香環４’位炭素)，134.7
(CH, プロペン酸3位炭素)，130.9 (CH, 芳香環６’位炭
素)，125.7 (四級炭素, プロペン２位炭素)，110.4 (四
級炭素, 芳香環１’位炭素)，103.3 (CH, 芳香環５’位
炭素)，98.5 (CH, 芳香環３’位炭素)，60.5 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素)，40.2 (CH3, ジメチルアミノ
基のメチル基炭素)，14.4 (CH3, エチル基のメチル基炭
素)，14.4 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.60 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.08 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，6.19 (1H, d, J=8 Hz, 芳香環5’位プ
ロトン)，6.01 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，4.23
(2H, q, J = 7Hz, エチル基のメチレン基プロトン)，3.
74 (2H, bs, アニリン性アミノ基プロトン），2.94 (6
H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，2.04 (3
H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)，1.31 (3
H, t, J=7Hz, エチル基のメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム, δppm)；169.1 (四級炭素,
１位カルボニル炭素)，151.7 (四級炭素, 芳香環2’位
炭素)，146.2 (四級炭素, 芳香環４’位炭素)，134.7
(CH, プロペン酸3位炭素)，130.9 (CH, 芳香環６’位炭
素)，125.7 (四級炭素, プロペン２位炭素)，110.4 (四
級炭素, 芳香環１’位炭素)，103.3 (CH, 芳香環５’位
炭素)，98.5 (CH, 芳香環３’位炭素)，60.5 (CH2, エ
チル基のメチレン基炭素)，40.2 (CH3, ジメチルアミノ
基のメチル基炭素)，14.4 (CH3, エチル基のメチル基炭
素)，14.4 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。
【０１４４】(E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニ
ル)-2-メチル-2-プロペン酸（(E) 3-(4-dimethylamino
-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenoic acid）の合成 (E) エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2
-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dimethylami
no-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）15.0 g (5
3.9 mmol)をメタノール 150 mlに溶解し，これに水酸化
ナトリウム 3.2g (80 mmol)を加えて45℃にて5.5時間撹
拌した。反応液から溶媒を減圧留去した後，残渣を水10
0 mlに溶解し、これに２規定塩酸を加えて中性に調整し
た．析出した結晶を濾別し、水で十分に洗浄した後乾燥
させ、目的化合物を12.1 g 結晶として得た（収率；89.
7 ％）。
ル)-2-メチル-2-プロペン酸（(E) 3-(4-dimethylamino
-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenoic acid）の合成 (E) エチル 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2
-メチル-2-プロペネート（(E) Ethyl 3-(4-dimethylami
no-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-propenate）15.0 g (5
3.9 mmol)をメタノール 150 mlに溶解し，これに水酸化
ナトリウム 3.2g (80 mmol)を加えて45℃にて5.5時間撹
拌した。反応液から溶媒を減圧留去した後，残渣を水10
0 mlに溶解し、これに２規定塩酸を加えて中性に調整し
た．析出した結晶を濾別し、水で十分に洗浄した後乾燥
させ、目的化合物を12.1 g 結晶として得た（収率；89.
7 ％）。
【０１４５】本化合物の構造は1H-NMRにより確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)；7.93 (1H, s, プロ
ペン酸3位プロトン)，7.33 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，7.24 (1H, d, J=8 Hz, 芳香環5’位プ
ロトン)，6.87 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，3.05
(6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，1.97
(3H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)。
ペン酸3位プロトン)，7.33 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，7.24 (1H, d, J=8 Hz, 芳香環5’位プ
ロトン)，6.87 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，3.05
(6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロトン )，1.97
(3H, s, プロペン2位結合のメチル基プロトン)。
【０１４６】(E) 3-(4,5-ジメトキシ-2-メチルアミノフ
ェニル)-2-メチル-2-プロペン酸((E)3-(4,5-dimethoxy-
2-methylaminophenyl)-2-methyl-2-propenic acid)の合
成 暗室内にて(E) 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-
2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル3.0ｇ（11.3 mmo
l）とトリフルオロ酢酸無水物（和光純薬社製）18 mlと
を混合し、室温にて一夜間攪拌した。未反応のトリフル
オロ酢酸無水物及びトリフルオロ酢酸を減圧下留去し、
(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(N-トリフルオロアセチル)ア
ミノフェニル]-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル
を3.8g得た。これをテトラヒドロフランに溶解し、この
溶液にヨウ化メチル（和光純薬社製）8 mlと炭酸カリウ
ム（和光純薬社製）1.1 g とを加えて一夜間還流した。
反応終了をTLCにて確認後反応液を減圧下濃縮して粗生
成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（シリカゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia che
m. Co., NH-DM1020，溶媒：ノルマルヘキサン／酢酸エ
チル＝４／１）にて精製し、(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-
（N-メチル-N-トリフルオロアセチル）アミノフェニル]
-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステルを3.7ｇ得た。
更にこれをジオキサンに溶解し、２規定水酸化ナトリウ
ム水溶液50mlを加えて40℃にて一夜間反応させた。この
反応液を減圧下濃縮した後、過剰のアルカリおよび不純
物塩を除去する目的で固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-
20（三菱化学社製）を用いたカラムにアプライし、水で
溶出することで脱塩を行い、引き続きメタノールにて溶
出し、これを凍結乾燥して目的物を2.3 g得た（収率：7
5 %）。
ェニル)-2-メチル-2-プロペン酸((E)3-(4,5-dimethoxy-
2-methylaminophenyl)-2-methyl-2-propenic acid)の合
成 暗室内にて(E) 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-
2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル3.0ｇ（11.3 mmo
l）とトリフルオロ酢酸無水物（和光純薬社製）18 mlと
を混合し、室温にて一夜間攪拌した。未反応のトリフル
オロ酢酸無水物及びトリフルオロ酢酸を減圧下留去し、
(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(N-トリフルオロアセチル)ア
ミノフェニル]-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステル
を3.8g得た。これをテトラヒドロフランに溶解し、この
溶液にヨウ化メチル（和光純薬社製）8 mlと炭酸カリウ
ム（和光純薬社製）1.1 g とを加えて一夜間還流した。
反応終了をTLCにて確認後反応液を減圧下濃縮して粗生
成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（シリカゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia che
m. Co., NH-DM1020，溶媒：ノルマルヘキサン／酢酸エ
チル＝４／１）にて精製し、(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-
（N-メチル-N-トリフルオロアセチル）アミノフェニル]
-2-メチル-2-プロペン酸エチルエステルを3.7ｇ得た。
更にこれをジオキサンに溶解し、２規定水酸化ナトリウ
ム水溶液50mlを加えて40℃にて一夜間反応させた。この
反応液を減圧下濃縮した後、過剰のアルカリおよび不純
物塩を除去する目的で固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-
20（三菱化学社製）を用いたカラムにアプライし、水で
溶出することで脱塩を行い、引き続きメタノールにて溶
出し、これを凍結乾燥して目的物を2.3 g得た（収率：7
5 %）。
【０１４７】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重メタノール δppm)；7.13 (1H, s, プロペ
ン酸部3位プロトン), 6.73 (1H, s, 芳香環6’位プロト
ン), 6.30 (1H, s, 芳香環3’位プロトン), 3.85(3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.73 (3H, s, メ
トキシ基のメチル基プロトン)，2.81（3H, s, アニリン
性アミノ基結合メチル基プロトン），1.94(3H, s, プロ
ペン酸部2位結合のメチル基プロトン)13 C-NMR (重メタノール，δppm)，178.4（四級炭素，
プロペン酸1位カルボニル炭素)，151.6（四級炭素,芳香
環4’位炭素)，144.8（四級炭素, 芳香環5’位炭素)，
141.1（四級炭素，芳香環2’位炭素)，136.6 (四級炭
素,プロペン酸部2位炭素)，130.3(CH, プロペン酸部3位
炭素)， 117.1 (CH, 芳香環6’位炭素)，115.7 (四級炭
素, 芳香環1’位炭素)， 97.2（CH, 芳香環3’位炭
素)， 58.1（CH3,メトキシ基のメチル基炭素)，56.4 (C
H3, メトキシ基のメチル基炭素)，31.3（CH3, アニリン
性アミノ基結合メチル基炭素），15.6 (CH3, プロペン
酸部2位結合のメチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重メタノール δppm)；7.13 (1H, s, プロペ
ン酸部3位プロトン), 6.73 (1H, s, 芳香環6’位プロト
ン), 6.30 (1H, s, 芳香環3’位プロトン), 3.85(3H,
s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.73 (3H, s, メ
トキシ基のメチル基プロトン)，2.81（3H, s, アニリン
性アミノ基結合メチル基プロトン），1.94(3H, s, プロ
ペン酸部2位結合のメチル基プロトン)13 C-NMR (重メタノール，δppm)，178.4（四級炭素，
プロペン酸1位カルボニル炭素)，151.6（四級炭素,芳香
環4’位炭素)，144.8（四級炭素, 芳香環5’位炭素)，
141.1（四級炭素，芳香環2’位炭素)，136.6 (四級炭
素,プロペン酸部2位炭素)，130.3(CH, プロペン酸部3位
炭素)， 117.1 (CH, 芳香環6’位炭素)，115.7 (四級炭
素, 芳香環1’位炭素)， 97.2（CH, 芳香環3’位炭
素)， 58.1（CH3,メトキシ基のメチル基炭素)，56.4 (C
H3, メトキシ基のメチル基炭素)，31.3（CH3, アニリン
性アミノ基結合メチル基炭素），15.6 (CH3, プロペン
酸部2位結合のメチル基炭素)。
【０１４８】(E) N-L-グルタミン酸 3-(4,5-ジメトシ
キ-2-メチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミドの合成 暗室内にて(E) 3-（4,5-ジメトキシ-2-メチルアミノフ
ェニル)-2-メチル-2-プロペン酸500mg（ 1.83 mmol）を
ジメチルホルムアミドに溶解し、これに窒素雰囲気下1-
ヒドロキシベンゾトリアゾール ハイドレート-１水和
物（HOBt・H2O）（国産化学株式会社製；Kokusan chemi
cal works）247mg (1.83 mmol)、L-グルタミン酸ジエチ
ルエステル塩酸塩（国産化学株式会社製；Kokusan chem
ical works）438ｍ g（1.83 mmol）及びN,N’-ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（DCC）（和光純薬社製）377 g
（1.83 mmol）を加えて室温にて一夜間撹拌した。反応
終了後沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮してその残渣
を酢酸エチルに転溶した。この有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、20%クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムによる乾燥の後、濃縮して
粗生成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia chem. C
o., NH-DM1020，溶出液：ノルマルヘキサン／酢酸エチ
ル＝9／1）により精製し、(E) N-L-グルタミン酸ジエチ
ルエステル 3-(4,5-ジメトシキ-2-メチルアミノフェニ
ル)-2-メチル-2-プロペン酸アミドを700 mg得た。更に
これをジオキサンに溶解し、2規定水酸化ナトリウム水
溶液3 ml を加えて一夜間攪拌した。反応終了を確認後
反応液を減圧下濃縮し、過剰のアルカリおよび不純物塩
を除去する目的で、固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-20
（三菱化学社製）を用いたカラムにアプライし、水で溶
出することで脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶
液にて溶出し、これを凍結乾燥して目的物を350ｍ g得
た（収率：41 %）。
キ-2-メチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミドの合成 暗室内にて(E) 3-（4,5-ジメトキシ-2-メチルアミノフ
ェニル)-2-メチル-2-プロペン酸500mg（ 1.83 mmol）を
ジメチルホルムアミドに溶解し、これに窒素雰囲気下1-
ヒドロキシベンゾトリアゾール ハイドレート-１水和
物（HOBt・H2O）（国産化学株式会社製；Kokusan chemi
cal works）247mg (1.83 mmol)、L-グルタミン酸ジエチ
ルエステル塩酸塩（国産化学株式会社製；Kokusan chem
ical works）438ｍ g（1.83 mmol）及びN,N’-ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（DCC）（和光純薬社製）377 g
（1.83 mmol）を加えて室温にて一夜間撹拌した。反応
終了後沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮してその残渣
を酢酸エチルに転溶した。この有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、20%クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムによる乾燥の後、濃縮して
粗生成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia chem. C
o., NH-DM1020，溶出液：ノルマルヘキサン／酢酸エチ
ル＝9／1）により精製し、(E) N-L-グルタミン酸ジエチ
ルエステル 3-(4,5-ジメトシキ-2-メチルアミノフェニ
ル)-2-メチル-2-プロペン酸アミドを700 mg得た。更に
これをジオキサンに溶解し、2規定水酸化ナトリウム水
溶液3 ml を加えて一夜間攪拌した。反応終了を確認後
反応液を減圧下濃縮し、過剰のアルカリおよび不純物塩
を除去する目的で、固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-20
（三菱化学社製）を用いたカラムにアプライし、水で溶
出することで脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶
液にて溶出し、これを凍結乾燥して目的物を350ｍ g得
た（収率：41 %）。
【０１４９】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重メタノール δppm)；7.19 (1H, s, プロペ
ン酸3位プロトン)，6.75(1H, s, 芳香環6’位プロト
ン)，6.31 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，4.33 (1H,
dd, J=8.0 Hz, J=4.0Hz, グルタミン酸部α位メチン基
プロトン)，3.87 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロト
ン)，3.75 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン)，
2.83（3H, s, アニリン性アミノ基結合メチル基プロト
ン），2.40-2.22 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ位メチ
レン基プロトン)，2.20-2.06 (2H, m,グルタミン酸部ベ
ータ位メチレン基プロトン)，2.03 (3H, s, プロペン2
位結合のメチル基プロトン)13 C-NMR (重メタノール，δppm)；182.3（四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素），179.3（四級炭素,グル
タミン酸部カルボニル炭素），171.8（四級炭素，プロ
ペン酸1位カルボニル炭素)，152.1（四級炭素,芳香環
4’位炭素)，145.1（四級炭素, 芳香環5’位炭素)，14
0.8（四級炭素，芳香環2’位炭素)，132.8 (四級炭素,
プロペン2位炭素)，131.0 (CH, プロペン3位炭素)，11
7.0 (CH, 芳香環6’位炭素)，114.1 (四級炭素, 芳香環
1’位炭素)，96.9（CH, 芳香環3’位炭素)，58.1（CH3,
メトキシ基のメチル基炭素），57.2（CH, グルタミン
酸部α位メチン基炭素)，56.3 (CH3, メトキシ基のメチ
ル基炭素)，35.8 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレ
ン基炭素)，31.2（CH3, アニリン性アミノ基結合メチル
基），30.5 (CH2, グルタミン酸部β位メチレン基炭
素)，14.6 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR (重メタノール δppm)；7.19 (1H, s, プロペ
ン酸3位プロトン)，6.75(1H, s, 芳香環6’位プロト
ン)，6.31 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，4.33 (1H,
dd, J=8.0 Hz, J=4.0Hz, グルタミン酸部α位メチン基
プロトン)，3.87 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロト
ン)，3.75 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン)，
2.83（3H, s, アニリン性アミノ基結合メチル基プロト
ン），2.40-2.22 (2H, m, グルタミン酸部ガンマ位メチ
レン基プロトン)，2.20-2.06 (2H, m,グルタミン酸部ベ
ータ位メチレン基プロトン)，2.03 (3H, s, プロペン2
位結合のメチル基プロトン)13 C-NMR (重メタノール，δppm)；182.3（四級炭素,グ
ルタミン酸部カルボニル炭素），179.3（四級炭素,グル
タミン酸部カルボニル炭素），171.8（四級炭素，プロ
ペン酸1位カルボニル炭素)，152.1（四級炭素,芳香環
4’位炭素)，145.1（四級炭素, 芳香環5’位炭素)，14
0.8（四級炭素，芳香環2’位炭素)，132.8 (四級炭素,
プロペン2位炭素)，131.0 (CH, プロペン3位炭素)，11
7.0 (CH, 芳香環6’位炭素)，114.1 (四級炭素, 芳香環
1’位炭素)，96.9（CH, 芳香環3’位炭素)，58.1（CH3,
メトキシ基のメチル基炭素），57.2（CH, グルタミン
酸部α位メチン基炭素)，56.3 (CH3, メトキシ基のメチ
ル基炭素)，35.8 (CH2, グルタミン酸部ガンマ位メチレ
ン基炭素)，31.2（CH3, アニリン性アミノ基結合メチル
基），30.5 (CH2, グルタミン酸部β位メチレン基炭
素)，14.6 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素）。
【０１５０】６,７−ジメトキシ−３−メチルカルボス
チリル（6,7-Dimethoxy-3-methyl-carbostyril）の合成 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸エチルエステル0.5gをエチルアルコール30mlに
溶解し、これに365nmの紫外線を約20時間照射し、析出
した結晶を濾別し、この結晶をエタノールから再結晶し
て目的化合物0.38gを得た（収率92％）。
チリル（6,7-Dimethoxy-3-methyl-carbostyril）の合成 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸エチルエステル0.5gをエチルアルコール30mlに
溶解し、これに365nmの紫外線を約20時間照射し、析出
した結晶を濾別し、この結晶をエタノールから再結晶し
て目的化合物0.38gを得た（収率92％）。
【０１５１】本化合物の構造は赤外線吸収スペクトル(I
R)、1H-NMR、13C-NMR、TOF-MS等により決定した。 IR：1654ｃｍ-1（ラクタム） TOF-MS：219(M/C)1 H-NMR (重クロロホルム,δppm)：12.3 (1H, bs, アミ
ド基のプロトン), 7.56 (1H, s, 4位プロトン), 6.90
(1H, s, 8位プロトン), 6.88 (1H, s, 5位プロトン),
3.99 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.92
(3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.28 ppm (3
H, s, 3位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：164.5 (四級炭
素、2位カルボニル基炭素),151.5 (四級炭素,3位炭素),
145.7 (四級炭素,7位炭素), 137.1 (CH, 4位炭素), 1
33.2 (四級炭素,8a位炭素), 126.9 (四級炭素,6位炭
素), 133.7 (四級炭素,4a位炭素), 107.4 (CH, 5位炭
素) 98.0 (CH, 8位炭素), 56.2 (CH3, メトキシ基のメ
チル基), 16.6 (CH3,3位に結合するメチル基炭素)。
R)、1H-NMR、13C-NMR、TOF-MS等により決定した。 IR：1654ｃｍ-1（ラクタム） TOF-MS：219(M/C)1 H-NMR (重クロロホルム,δppm)：12.3 (1H, bs, アミ
ド基のプロトン), 7.56 (1H, s, 4位プロトン), 6.90
(1H, s, 8位プロトン), 6.88 (1H, s, 5位プロトン),
3.99 (3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 3.92
(3H, s, メトキシ基のメチル基プロトン), 2.28 ppm (3
H, s, 3位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)：164.5 (四級炭
素、2位カルボニル基炭素),151.5 (四級炭素,3位炭素),
145.7 (四級炭素,7位炭素), 137.1 (CH, 4位炭素), 1
33.2 (四級炭素,8a位炭素), 126.9 (四級炭素,6位炭
素), 133.7 (四級炭素,4a位炭素), 107.4 (CH, 5位炭
素) 98.0 (CH, 8位炭素), 56.2 (CH3, メトキシ基のメ
チル基), 16.6 (CH3,3位に結合するメチル基炭素)。
【０１５２】3-メチルベンゾ[g]カルボスチリル（3-Met
hyl-benzo[g]carbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) 3-(2-アミノ-
ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸エチルエス
テル 0.5 g をエタノール20ml に溶解し、撹拌しながら
365 nm の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧濃縮
し、粗結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を得
た。
hyl-benzo[g]carbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) 3-(2-アミノ-
ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸エチルエス
テル 0.5 g をエタノール20ml に溶解し、撹拌しながら
365 nm の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧濃縮
し、粗結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を得
た。
【０１５３】本化合物の構造は1H-NMRにより決定した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.08 (1H, s, 4位
プロトン）、7.90 (1H, d, J=8 Hz, 6位又は9位）、7.8
2 (1H, d, J=8 Hz, 6位又は9位）、7.80 (1H, s,5位プ
ロトン）、7.66 (1H, s, 10位プロトン）、7.46 (1H, d
d, J=8 Hz, 7位プロトン又は8位プロトン）、7.36 (1H,
dd, J=8 Hz, 7位プロトン又は8位プロトン）、2.19 (3
H, s, 4位結合メチル基）。3-メチルカルボスチリル（3-Methylcarbostyril）の合
成 (E) エチル 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペ
ネート0.5 g をエタノール10 ml に溶解し、撹拌しなが
ら256 nm の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧濃
縮し、粗結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を
得た。
プロトン）、7.90 (1H, d, J=8 Hz, 6位又は9位）、7.8
2 (1H, d, J=8 Hz, 6位又は9位）、7.80 (1H, s,5位プ
ロトン）、7.66 (1H, s, 10位プロトン）、7.46 (1H, d
d, J=8 Hz, 7位プロトン又は8位プロトン）、7.36 (1H,
dd, J=8 Hz, 7位プロトン又は8位プロトン）、2.19 (3
H, s, 4位結合メチル基）。3-メチルカルボスチリル（3-Methylcarbostyril）の合
成 (E) エチル 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペ
ネート0.5 g をエタノール10 ml に溶解し、撹拌しなが
ら256 nm の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧濃
縮し、粗結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を
得た。
【０１５４】本化合物の構造は1H-NMR、13C-NMRにより
決定した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド, δppm)：11.72 (bs,
1H, 1位アミド基プロトン), 7.72 (s,1H, 4位プロト
ン), 7.54 (d, 1H, 5位プロトン), 7.39 (dd, 1H,7位プ
ロトン), 7.28 (d, 1H, 8位プロトン), 7.12 (dd, 6位
プロトン), 2.10 (s, 3H, 3位に結合するメチル基プロ
トン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：162.3 (四
級炭素, 2位カルボニル炭素), 137.8 (四級炭素, 9位炭
素), 136.1 (CH, 4位炭素), 129.7 (四級炭素,3位炭
素), 128.8 (CH, 7位炭素), 126.7 (CH,5位炭素), 121.
4 (CH, 6位炭素), 119.3 (四級炭素, 10位炭素), 114.6
(CH, 8位炭素), 16.4 (CH3, 3位に結合するメチル基プ
ロトン)。
決定した。1 H-NMR(重ジメチルスルホキシド, δppm)：11.72 (bs,
1H, 1位アミド基プロトン), 7.72 (s,1H, 4位プロト
ン), 7.54 (d, 1H, 5位プロトン), 7.39 (dd, 1H,7位プ
ロトン), 7.28 (d, 1H, 8位プロトン), 7.12 (dd, 6位
プロトン), 2.10 (s, 3H, 3位に結合するメチル基プロ
トン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：162.3 (四
級炭素, 2位カルボニル炭素), 137.8 (四級炭素, 9位炭
素), 136.1 (CH, 4位炭素), 129.7 (四級炭素,3位炭
素), 128.8 (CH, 7位炭素), 126.7 (CH,5位炭素), 121.
4 (CH, 6位炭素), 119.3 (四級炭素, 10位炭素), 114.6
(CH, 8位炭素), 16.4 (CH3, 3位に結合するメチル基プ
ロトン)。
【０１５５】7-クロロ-3-メチルカルボスチリル（7-Chl
oro-3-Methylcarbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) エチル3-(2-
アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート10
ml をエタノールに溶解し、撹拌しながら256 nm の紫
外線を72時間照射した。反応液を減圧濃縮し、粗結晶を
エタノールから再結晶して目的化合物を得た。
oro-3-Methylcarbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) エチル3-(2-
アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート10
ml をエタノールに溶解し、撹拌しながら256 nm の紫
外線を72時間照射した。反応液を減圧濃縮し、粗結晶を
エタノールから再結晶して目的化合物を得た。
【０１５６】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：11.80 (bs,
1H,1位アミド基のプロトン), 7.71 (s, 1H, 4位プロト
ン), 7.55 (d, 1H, 5位プロトン ), 7.30 (s, 1H,8位プ
ロトン), 7.13 (d, 1H, 6位プロトン), 2.10 (s, 3H, 3
位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：162.3 (四
級炭素、2位カルボニル基炭素), 138.8 (四級炭素, 8a
位炭素), 135.6 (CH, 4位炭素), 133.5 (四級炭素,7位
炭素), 130.2 (四級炭素, 4a位炭素), 128.4 (CH, 5位
炭素), 121.6 (CH,6位炭素), 118.2 (四級炭素, 3位炭
素), 114.1 (CH, 8位炭素), 16.5 (CH3, 位に結合する
メチル基炭素) 。
り決定した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：11.80 (bs,
1H,1位アミド基のプロトン), 7.71 (s, 1H, 4位プロト
ン), 7.55 (d, 1H, 5位プロトン ), 7.30 (s, 1H,8位プ
ロトン), 7.13 (d, 1H, 6位プロトン), 2.10 (s, 3H, 3
位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)：162.3 (四
級炭素、2位カルボニル基炭素), 138.8 (四級炭素, 8a
位炭素), 135.6 (CH, 4位炭素), 133.5 (四級炭素,7位
炭素), 130.2 (四級炭素, 4a位炭素), 128.4 (CH, 5位
炭素), 121.6 (CH,6位炭素), 118.2 (四級炭素, 3位炭
素), 114.1 (CH, 8位炭素), 16.5 (CH3, 位に結合する
メチル基炭素) 。
【０１５７】6-クロロ-3-メチルカルボスチリル（6-Chl
oro-3-Methylcarbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) エチル3-(2-
アミノ-5-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート0.
5 g をエタノール10 ml に溶解し、撹拌しながら256 nm
の紫外線を72時間照射した。反応液を減圧濃縮し，粗
結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を得た。
oro-3-Methylcarbostyril）の合成 石英製50 ml 三角フラスコ内でEthyl (E) エチル3-(2-
アミノ-5-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペネート0.
5 g をエタノール10 ml に溶解し、撹拌しながら256 nm
の紫外線を72時間照射した。反応液を減圧濃縮し，粗
結晶をエタノールから再結晶して目的化合物を得た。
【０１５８】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り決定した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm)：11.86 (bs,
1H, 1位アミド基のプロトン), 7.72 (s, 1H, 4位プロ
トン), 7.65 (s, 1H, 5位プロトン), 7.43 (d, 1H, 7位
プロトン), 7.28 (d, 1H, 8位プロトン), 2.10 (s, 3
H, 3位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm)：162.2 (四
級炭素、2位カルボニル基炭素), 136.4 (四級炭素,8a位
炭素), 135.1 (CH, 4位炭素), 131.4 (四級炭素, 6位炭
素), 128.7 (CH, 7位炭素), 125.8 (CH, 5位炭素), 12
5.3 (四級炭素, 4a位炭素),120.5 (四級炭素, 4 位炭
素), 116.5 (CH, 8位炭素), 16.5 (CH3, 3位に結合する
メチル基炭素) 。
り決定した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm)：11.86 (bs,
1H, 1位アミド基のプロトン), 7.72 (s, 1H, 4位プロ
トン), 7.65 (s, 1H, 5位プロトン), 7.43 (d, 1H, 7位
プロトン), 7.28 (d, 1H, 8位プロトン), 2.10 (s, 3
H, 3位に結合するメチル基プロトン)13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド、δppm)：162.2 (四
級炭素、2位カルボニル基炭素), 136.4 (四級炭素,8a位
炭素), 135.1 (CH, 4位炭素), 131.4 (四級炭素, 6位炭
素), 128.7 (CH, 7位炭素), 125.8 (CH, 5位炭素), 12
5.3 (四級炭素, 4a位炭素),120.5 (四級炭素, 4 位炭
素), 116.5 (CH, 8位炭素), 16.5 (CH3, 3位に結合する
メチル基炭素) 。
【０１５９】７−ジメチルアミノ−３−メチルカルボス
チリル（7-dimethylamino-3-methyl-carbostyril)の合
成 石英製30ml三角フラスコ内で(E) エチル 3-(2-アミノ-4
-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネート20
0 mgをエタノールに溶解し、これを攪拌しながら365nm
の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧下濃縮した後
エタノールから再結晶して目的化合物を得た（収率98
%）。
チリル（7-dimethylamino-3-methyl-carbostyril)の合
成 石英製30ml三角フラスコ内で(E) エチル 3-(2-アミノ-4
-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネート20
0 mgをエタノールに溶解し、これを攪拌しながら365nm
の紫外線を48時間照射した。反応液を減圧下濃縮した後
エタノールから再結晶して目的化合物を得た（収率98
%）。
【０１６０】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (DMSO-d6, δppm)；11.29（1H, s, アミド基プ
ロトン），7.52（1H, s,4位プロトン），7.32（1H, d,
J=8.8 Hz, 5位プロトン），6.62（1H, d, J=8.8Hz, 6位
プロトン），6.46（1H, s, 8位プロトン），2.96（6H,
s, ジメチルアミノ基のメチル基プロトン）, 2.01（3H,
s, 3位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR (DMSO-d6, δppm)；163.0（四級炭素，2位カル
ボニル基炭素)，150.8（四級炭素，7位炭素），139.7
（四級炭素，8位炭素），136.4（CH，4位炭素），127.6
（CH，5位炭素），123.4（四級炭素，3位炭素），110.4
（四級炭素，4a位炭素），108.3（CH，6位炭素），95.4
（CH，8位炭素），39.9 （CH3，アミノメチル基炭
素），16.3 （CH3，3位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR (DMSO-d6, δppm)；11.29（1H, s, アミド基プ
ロトン），7.52（1H, s,4位プロトン），7.32（1H, d,
J=8.8 Hz, 5位プロトン），6.62（1H, d, J=8.8Hz, 6位
プロトン），6.46（1H, s, 8位プロトン），2.96（6H,
s, ジメチルアミノ基のメチル基プロトン）, 2.01（3H,
s, 3位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR (DMSO-d6, δppm)；163.0（四級炭素，2位カル
ボニル基炭素)，150.8（四級炭素，7位炭素），139.7
（四級炭素，8位炭素），136.4（CH，4位炭素），127.6
（CH，5位炭素），123.4（四級炭素，3位炭素），110.4
（四級炭素，4a位炭素），108.3（CH，6位炭素），95.4
（CH，8位炭素），39.9 （CH3，アミノメチル基炭
素），16.3 （CH3，3位結合のメチル基炭素）。
【０１６１】(E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-
メチル-2-プロペン酸（(E) 3-(2-Amino-benzo[d]pheny
l)-2-methyl-2-propenoic acid ）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸エチルエステル0.65 g をテトラヒドロフラン(TH
F) 10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液
10mlを加えて40℃にて4時間反応させた。反応終了後、1
規定塩酸10mlを加えて冷却し、析出した結晶を濾別して
目的の化合物0.57gを得た（収率：98%）。
メチル-2-プロペン酸（(E) 3-(2-Amino-benzo[d]pheny
l)-2-methyl-2-propenoic acid ）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸エチルエステル0.65 g をテトラヒドロフラン(TH
F) 10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液
10mlを加えて40℃にて4時間反応させた。反応終了後、1
規定塩酸10mlを加えて冷却し、析出した結晶を濾別して
目的の化合物0.57gを得た（収率：98%）。
【０１６２】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）： 7.85-7.7
5 (3H， m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位と8
‘位プロトン），7.73 （1Ｈ，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.52-7.33 (3H， m， ベンゾシンナミル芳香環
4’位と7’位と3‘位プロトン），2.02 （3H，s， プロ
ペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：168.9
（四級炭素，1位カルボニル炭素），133.3 （CH， プロ
ペン3位炭素），131.5 （四級炭素，プロペン2位炭
素），131.4 （四級炭素， ベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素）， 129.3 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
5’位と6’位炭素），128.7 （四級炭素，ベンゾシンナ
ミル芳香環7a’位炭素）， 127.8 （CH，ベンゾシンナ
ミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 126.8 （CH，ベン
ゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），126.2 （四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），126.0
（CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），124.2
（CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），14.1 （C
H3，プロペン2位結合メチル基の炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）： 7.85-7.7
5 (3H， m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位と8
‘位プロトン），7.73 （1Ｈ，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.52-7.33 (3H， m， ベンゾシンナミル芳香環
4’位と7’位と3‘位プロトン），2.02 （3H，s， プロ
ペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：168.9
（四級炭素，1位カルボニル炭素），133.3 （CH， プロ
ペン3位炭素），131.5 （四級炭素，プロペン2位炭
素），131.4 （四級炭素， ベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素）， 129.3 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
5’位と6’位炭素），128.7 （四級炭素，ベンゾシンナ
ミル芳香環7a’位炭素）， 127.8 （CH，ベンゾシンナ
ミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 126.8 （CH，ベン
ゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），126.2 （四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），126.0
（CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），124.2
（CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），14.1 （C
H3，プロペン2位結合メチル基の炭素）。
【０１６３】(E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-
メチル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル
（(E) 3-(2-Amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-propen
oic acidp-nitrophenyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 0.57 g (2.5 mmol)と p-ニトロフェノール 0.52
g (3.8 mmol)（和光純薬社製）をジクロロメタン 20 m
l に溶解し、これにジメチルアミノピリジン 20 mg
（和光純薬社製）を加えた。更に、氷冷撹拌下1-エチル
-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC/HCl) 0.71 g (3.8 mmol) （和光純薬社製）を分
割投入し、室温に戻して20時間撹拌した。反応の終点を
TLCによって確認した後、反応液を減圧で濃縮し、酢酸
エチル100ml に転溶した。この溶液を5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、溶
媒を留去し粗生成物を得た。これをエタノールから再結
晶して目的の化合物を0.69 g 結晶として得た（収率：8
0%)。
メチル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル
（(E) 3-(2-Amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-propen
oic acidp-nitrophenyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 0.57 g (2.5 mmol)と p-ニトロフェノール 0.52
g (3.8 mmol)（和光純薬社製）をジクロロメタン 20 m
l に溶解し、これにジメチルアミノピリジン 20 mg
（和光純薬社製）を加えた。更に、氷冷撹拌下1-エチル
-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩
（EDC/HCl) 0.71 g (3.8 mmol) （和光純薬社製）を分
割投入し、室温に戻して20時間撹拌した。反応の終点を
TLCによって確認した後、反応液を減圧で濃縮し、酢酸
エチル100ml に転溶した。この溶液を5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、溶
媒を留去し粗生成物を得た。これをエタノールから再結
晶して目的の化合物を0.69 g 結晶として得た（収率：8
0%)。
【０１６４】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.32 （2Ｈ，ｄ，
Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“と5”位プロト
ン），8.01 （1H， s， プロペン3位プロトン），7.73-
7.67 (2H， m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位
プロトン）， 7.61（1H， ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシン
ナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），7.43-7.38
（1H， m, ベンゾシンナミル芳香環4’位或いは6’位プ
ロトン），7.39 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニル
オキシ基2“と6”プロトン），7.29- 7.24（1Ｈ，ｍ，
ベンゾシンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.09 （1
H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），3.9
1 （2H， bs， アミノ基プロトン），2.23 （3H，s，
プロペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：165.7 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），155.8（四級炭素，ニトロフ
ェニルオキシ基1“位炭素），145.3 （四級炭素，ニト
ロフェニルオキシ基4“位炭素），142.4（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環2’位炭素），138.0 （CH， プロ
ペン3位炭素），135.0 （四級炭素，プロペン2位炭
素），129.6 （四級炭素， ベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素）， 129.4 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素）128.0 （CH， ベンゾシンナミル
芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環7a’位炭素）， 127.1 （CH，ベ
ンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.5
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），
125.2（ＣＨ，ニトロフェニルオキシ基3”と5“位炭
素），123.8 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），123.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素）， 122.5 （ＣＨ，ニトロフェニルオキシ基2”と
6“位炭素），109.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：8.32 （2Ｈ，ｄ，
Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“と5”位プロト
ン），8.01 （1H， s， プロペン3位プロトン），7.73-
7.67 (2H， m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位
プロトン）， 7.61（1H， ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシン
ナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），7.43-7.38
（1H， m, ベンゾシンナミル芳香環4’位或いは6’位プ
ロトン），7.39 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニル
オキシ基2“と6”プロトン），7.29- 7.24（1Ｈ，ｍ，
ベンゾシンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.09 （1
H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），3.9
1 （2H， bs， アミノ基プロトン），2.23 （3H，s，
プロペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：165.7 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），155.8（四級炭素，ニトロフ
ェニルオキシ基1“位炭素），145.3 （四級炭素，ニト
ロフェニルオキシ基4“位炭素），142.4（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環2’位炭素），138.0 （CH， プロ
ペン3位炭素），135.0 （四級炭素，プロペン2位炭
素），129.6 （四級炭素， ベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素）， 129.4 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素）128.0 （CH， ベンゾシンナミル
芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環7a’位炭素）， 127.1 （CH，ベ
ンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.5
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），
125.2（ＣＨ，ニトロフェニルオキシ基3”と5“位炭
素），123.8 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），123.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素）， 122.5 （ＣＨ，ニトロフェニルオキシ基2”と
6“位炭素），109.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。
【０１６５】(E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 （(E) 3-(2-Aminophenyl)-2-methyl-2-propen
oic acid ）の合成 (E) エチル3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネ
ート1.50 g （7.31 mmol）をテトラヒドロフラン(THF)
10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液10m
lを加えて、40℃にて4時間反応させた。TLCにて反応の
終了を確認した後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、析
出した結晶を濾別して、目的の化合物1.30gを得た（定
量的)。
ロペン酸 （(E) 3-(2-Aminophenyl)-2-methyl-2-propen
oic acid ）の合成 (E) エチル3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネ
ート1.50 g （7.31 mmol）をテトラヒドロフラン(THF)
10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液10m
lを加えて、40℃にて4時間反応させた。TLCにて反応の
終了を確認した後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、析
出した結晶を濾別して、目的の化合物1.30gを得た（定
量的)。
【０１６６】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.70 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），7.49 （1H，ｄ，Ｊ=7
Hz，芳香環3’位プロトン），7.42 - 7.29 （3H，m，芳
香環４’位と5‘位と6’位プロトン），1.91 （3H，
ｓ，プロペン２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド、δppm）：168.7
（四級炭素，１位カルボニル炭素）， 132.6 （CH，プ
ロペン3位炭素），132.1（四級炭素，プロペン２位炭
素），130.2 （ＣＨ，芳香環4’位炭素），129.3 （C
H，芳香環６’位炭素），128.8 （四級炭素，芳香環
１’位炭素），126.0 （CH，芳香環５’位炭素）， 12
2.4（CH，芳香環３’位炭素），14.1 （CH3，プロペン
２位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.70 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），7.49 （1H，ｄ，Ｊ=7
Hz，芳香環3’位プロトン），7.42 - 7.29 （3H，m，芳
香環４’位と5‘位と6’位プロトン），1.91 （3H，
ｓ，プロペン２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド、δppm）：168.7
（四級炭素，１位カルボニル炭素）， 132.6 （CH，プ
ロペン3位炭素），132.1（四級炭素，プロペン２位炭
素），130.2 （ＣＨ，芳香環4’位炭素），129.3 （C
H，芳香環６’位炭素），128.8 （四級炭素，芳香環
１’位炭素），126.0 （CH，芳香環５’位炭素）， 12
2.4（CH，芳香環３’位炭素），14.1 （CH3，プロペン
２位結合のメチル基炭素）。
【０１６７】(E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 p-ニトロフェニルエステル（(E) 3-(2-Aminop
henyl)-2-methyl-2-propenoic acid p-nitrophenyl est
er）の合成 (E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 0.1
9 g (1.1 mmol)と p-ニトロフェノール 0.18 g （和光
純薬社製）とをジクロロメタン 20 ml に溶解し、これ
にジメチルアミノピリジン 10 mg （和光純薬社製）を
加えた。更に、氷冷撹拌下、1-エチル-3-(3-ジメチルア
ミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC/HCl） 0.41
g （和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻して20時
間攪拌した。反応の終点をTLCによって確認した後、反
応液を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶した。こ
の溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩
化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにより乾燥した後、溶媒を留去し粗生成物を得た。
これを、エタノールから再結晶して目的の化合物を0.29
g 結晶として得た（収率：91%）。
ロペン酸 p-ニトロフェニルエステル（(E) 3-(2-Aminop
henyl)-2-methyl-2-propenoic acid p-nitrophenyl est
er）の合成 (E) 3-(2-アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 0.1
9 g (1.1 mmol)と p-ニトロフェノール 0.18 g （和光
純薬社製）とをジクロロメタン 20 ml に溶解し、これ
にジメチルアミノピリジン 10 mg （和光純薬社製）を
加えた。更に、氷冷撹拌下、1-エチル-3-(3-ジメチルア
ミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC/HCl） 0.41
g （和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻して20時
間攪拌した。反応の終点をTLCによって確認した後、反
応液を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶した。こ
の溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩
化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにより乾燥した後、溶媒を留去し粗生成物を得た。
これを、エタノールから再結晶して目的の化合物を0.29
g 結晶として得た（収率：91%）。
【０１６８】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.35 （2
Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“位と5”
位プロトン），7.86 （1H，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.54 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキ
シ基2“位と6”位プロトン），7.17 （1H，ｄ，Ｊ=8 H
z，シンナミル芳香環６’位プロトン），7.09（1H，ｄ
ｄ，Ｊ=8 Hz，Ｊ=8 Hz，シンナミル芳香環4’位プロト
ン），6.75 （1H， ｄ，Ｊ=8Ｈｚ，芳香環３’位プロト
ン），6.63（1H，ｄｄ，Ｊ=8 Hz， Ｊ=8Hz，芳香環５’
位プロトン），5.35（2H，bs，アミノ基プロトン），2.
10 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：165.8
（四級炭素，１位カルボニル炭素），156.0（四級炭
素，ニトロフェニルオキシ基1”位炭素），147.4（四級
炭素，ニトロフェニルオキシ基4”位炭素），144.8
（四級炭素，シンナミル芳香環２’位炭素），138.6
（CH，プロペン3位炭素）， 130.0 （ＣＨ，シンナミル
芳香環４’位炭素），129.4 （CH，シンナミル芳香環
６’位炭素），125.2（四級炭素，シンナミル芳香環
１’位炭素），125.1 （CH，ニトロフェニルオキシ基3
“と5”位炭素），123.1 （CH，ニトロフェニルオキシ
基2“と6”位炭素），118.6 （四級炭素，プロペン２位
炭素），115.5 （CH，シンナミル芳香環５’位炭素），
115.3（CH，シンナミル芳香環３’位炭素），14.2 （C
H3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.35 （2
Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“位と5”
位プロトン），7.86 （1H，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.54 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキ
シ基2“位と6”位プロトン），7.17 （1H，ｄ，Ｊ=8 H
z，シンナミル芳香環６’位プロトン），7.09（1H，ｄ
ｄ，Ｊ=8 Hz，Ｊ=8 Hz，シンナミル芳香環4’位プロト
ン），6.75 （1H， ｄ，Ｊ=8Ｈｚ，芳香環３’位プロト
ン），6.63（1H，ｄｄ，Ｊ=8 Hz， Ｊ=8Hz，芳香環５’
位プロトン），5.35（2H，bs，アミノ基プロトン），2.
10 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：165.8
（四級炭素，１位カルボニル炭素），156.0（四級炭
素，ニトロフェニルオキシ基1”位炭素），147.4（四級
炭素，ニトロフェニルオキシ基4”位炭素），144.8
（四級炭素，シンナミル芳香環２’位炭素），138.6
（CH，プロペン3位炭素）， 130.0 （ＣＨ，シンナミル
芳香環４’位炭素），129.4 （CH，シンナミル芳香環
６’位炭素），125.2（四級炭素，シンナミル芳香環
１’位炭素），125.1 （CH，ニトロフェニルオキシ基3
“と5”位炭素），123.1 （CH，ニトロフェニルオキシ
基2“と6”位炭素），118.6 （四級炭素，プロペン２位
炭素），115.5 （CH，シンナミル芳香環５’位炭素），
115.3（CH，シンナミル芳香環３’位炭素），14.2 （C
H3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。
【０１６９】(E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メ
チル-2-プロペン酸 （(E) 3-(2-Amino-4-chlorophenyl)
-2-methyl-2-propenoic acid ）の合成 (E) エチル3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2
-プロペネート1.24 g（5.18 mmol）をテトラヒドロフラ
ン(THF) 10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム
水溶液10mlを加えて、40℃にて4時間反応させた。TLCに
て反応終了を確認後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、
析出した結晶を濾別して目的の化合物1.03gを得た（収
率：94%)。
チル-2-プロペン酸 （(E) 3-(2-Amino-4-chlorophenyl)
-2-methyl-2-propenoic acid ）の合成 (E) エチル3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2
-プロペネート1.24 g（5.18 mmol）をテトラヒドロフラ
ン(THF) 10mlに溶解し、これに1規定水酸化ナトリウム
水溶液10mlを加えて、40℃にて4時間反応させた。TLCに
て反応終了を確認後、1規定塩酸10mlを加えて冷却し、
析出した結晶を濾別して目的の化合物1.03gを得た（収
率：94%)。
【０１７０】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.42 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），7.02 （1H，ｄ，Ｊ=8
Hz，芳香環６’位プロトン），6.74 （1H，ｓ，芳香環
３’位プロトン），6.55（1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，芳香環
５’位プロトン），5.37（2H，bs，アミノ基プロト
ン），1.90 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プ
ロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.2
（四級炭素，１位カルボニル炭素）， 148.2 （四級炭
素，芳香環２’位炭素），133.7 （CH，プロペン3位炭
素）， 133.4 （四級炭素，芳香環４’位炭素），130.7
（CH，芳香環６’位炭素），128.7（四級炭素，プロペ
ン２位炭素），118.3 （四級炭素，芳香環１’位炭
素），115.0 （CH，芳香環５’位炭素）， 114.0（CH，
芳香環３’位炭素），14.1 （CH3，プロペン２位結合の
メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：7.42 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），7.02 （1H，ｄ，Ｊ=8
Hz，芳香環６’位プロトン），6.74 （1H，ｓ，芳香環
３’位プロトン），6.55（1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，芳香環
５’位プロトン），5.37（2H，bs，アミノ基プロト
ン），1.90 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プ
ロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド、δppm）：169.2
（四級炭素，１位カルボニル炭素）， 148.2 （四級炭
素，芳香環２’位炭素），133.7 （CH，プロペン3位炭
素）， 133.4 （四級炭素，芳香環４’位炭素），130.7
（CH，芳香環６’位炭素），128.7（四級炭素，プロペ
ン２位炭素），118.3 （四級炭素，芳香環１’位炭
素），115.0 （CH，芳香環５’位炭素）， 114.0（CH，
芳香環３’位炭素），14.1 （CH3，プロペン２位結合の
メチル基炭素）。
【０１７１】(E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル（(E) 3-
(2-Amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2-propenoic acid
p-nitrophenyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 0.81 g (3.8 mmol)と p-ニトロフェノール 1.0
g （和光純薬社製）をジクロロメタン 20 ml に溶解
し、これにジメチルアミノピリジン 40 mg （和光純薬
社製）を加えた。更に、氷冷撹拌下1-エチル-3-(3-ジメ
チルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC/HC
l） 1.0 g （和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻し
て20時間撹拌した。反応の終点をTLCによって確認した
後、反応液を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶し
た。この溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、
飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥後、溶媒を留去し粗生成物を得
た。これをエタノールから再結晶して目的の化合物を1.
2 g結晶として得た（収率：91%）。
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル（(E) 3-
(2-Amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2-propenoic acid
p-nitrophenyl ester）の合成 (E) 3-(2-アミノ-4-クロロフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 0.81 g (3.8 mmol)と p-ニトロフェノール 1.0
g （和光純薬社製）をジクロロメタン 20 ml に溶解
し、これにジメチルアミノピリジン 40 mg （和光純薬
社製）を加えた。更に、氷冷撹拌下1-エチル-3-(3-ジメ
チルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩（EDC/HC
l） 1.0 g （和光純薬社製）を分割投入し、室温に戻し
て20時間撹拌した。反応の終点をTLCによって確認した
後、反応液を減圧で濃縮し、酢酸エチル100ml に転溶し
た。この溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、
飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにより乾燥後、溶媒を留去し粗生成物を得
た。これをエタノールから再結晶して目的の化合物を1.
2 g結晶として得た（収率：91%）。
【０１７２】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.30 （2
Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“位と5”
位プロトン），7.80 （1H，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.45 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキ
シ基2“位と6”位プロトン），7.09 （1H，ｄ，Ｊ=8 H
z，芳香環６’位プロトン），6.81 （1H，ｓ，芳香環
３’位プロトン），6.63（1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，芳香環
５’位プロトン），5.08（2H，bs，アミノ基プロト
ン），2.11 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プ
ロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：170.5
（四級炭素，１位カルボニル炭素），160.9（四級炭
素，ニトロフェニルオキシ基1”位炭素），152.9（四級
炭素，ニトロフェニルオキシ基4”位炭素），149.8
（四級炭素，シンナミル芳香環２’位炭素），142.4
（CH，プロペン3位炭素）， 139.9 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環４’位炭素），135.6 （CH，シンナミル芳香
環６’位炭素），131.8（四級炭素，プロペン２位炭
素），129.9 （CH，ニトロフェニルオキシ基3“と5”位
炭素），127.9 （CH，ニトロフェニルオキシ基2“と6”
位炭素），122.7 （四級炭素，シンナミル芳香環１’位
炭素），121.1 （CH，シンナミル芳香環５’位炭素），
119.7（CH，シンナミル芳香環３’位炭素），19.2 （C
H3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.30 （2
Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキシ基3“位と5”
位プロトン），7.80 （1H，ｓ，プロペン3位プロト
ン），7.45 （2Ｈ，ｄ，Ｊ=9Ｈｚ，ニトロフェニルオキ
シ基2“位と6”位プロトン），7.09 （1H，ｄ，Ｊ=8 H
z，芳香環６’位プロトン），6.81 （1H，ｓ，芳香環
３’位プロトン），6.63（1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，芳香環
５’位プロトン），5.08（2H，bs，アミノ基プロト
ン），2.11 （3H，ｓ，プロペン２位結合のメチル基プ
ロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：170.5
（四級炭素，１位カルボニル炭素），160.9（四級炭
素，ニトロフェニルオキシ基1”位炭素），152.9（四級
炭素，ニトロフェニルオキシ基4”位炭素），149.8
（四級炭素，シンナミル芳香環２’位炭素），142.4
（CH，プロペン3位炭素）， 139.9 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環４’位炭素），135.6 （CH，シンナミル芳香
環６’位炭素），131.8（四級炭素，プロペン２位炭
素），129.9 （CH，ニトロフェニルオキシ基3“と5”位
炭素），127.9 （CH，ニトロフェニルオキシ基2“と6”
位炭素），122.7 （四級炭素，シンナミル芳香環１’位
炭素），121.1 （CH，シンナミル芳香環５’位炭素），
119.7（CH，シンナミル芳香環３’位炭素），19.2 （C
H3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。
【０１７３】（E） N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-
4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-L-Asparatic acid 3-（2-amino-4、5-di
methoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにＬ-アスパラギン酸2.3g（5.0 mmol）の0.5規
定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解した溶液を加
え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加
えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し、これを一旦水20 ml に溶解して、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
を0.19 g 得た（収率；72％）。
4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-L-Asparatic acid 3-（2-amino-4、5-di
methoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにＬ-アスパラギン酸2.3g（5.0 mmol）の0.5規
定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解した溶液を加
え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加
えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し、これを一旦水20 ml に溶解して、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
を0.19 g 得た（収率；72％）。
【０１７４】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 Ｈ-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.22
（1Ｈ，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.24 （1
Ｈ，ｓ，プロペン3位プロトン），6.98 （1Ｈ，ｓ，シ
ンナミル芳香環3‘位プロトン），6.89 （1Ｈ，ｓ，シ
ンナミル芳香環６‘位プロトン），4.68 （1Ｈ，ｔ-d，
Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），3.78 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチ
ル基プロトン），2.83 （１Ｈ，d-d，Ｊ=4Hz，J=17 H
z，アスパラギン酸部β位プロトン），2.72 （１Ｈ，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロト
ン），1.96 （3Ｈ，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン）13 Ｃ-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.5
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），171.
9 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），17
0.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），149.1
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），146.3
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4
（四級炭素，シンナミル芳香環5‘位炭素），133.9
（四級炭素，プロペン2位炭素），127.8 （ＣＨ，プロ
ペン3位炭素），115.8 （四級炭素，シンナミル芳香環
１‘位炭素），113.4 （ＣＨ，シンナミル芳香環６‘位
炭素），106.0 （ＣＨ，シンナミル芳香環３‘位炭
素），56.1 （ＣＨ3，芳香環結合メトキシ基のメチル基
炭素），55.6 （ＣＨ3，芳香環結合メトキシ基のメチル
基炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭素），3
5.9 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），14.4 （CH
3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 Ｈ-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.22
（1Ｈ，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.24 （1
Ｈ，ｓ，プロペン3位プロトン），6.98 （1Ｈ，ｓ，シ
ンナミル芳香環3‘位プロトン），6.89 （1Ｈ，ｓ，シ
ンナミル芳香環６‘位プロトン），4.68 （1Ｈ，ｔ-d，
Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），3.78 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチ
ル基プロトン），2.83 （１Ｈ，d-d，Ｊ=4Hz，J=17 H
z，アスパラギン酸部β位プロトン），2.72 （１Ｈ，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロト
ン），1.96 （3Ｈ，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン）13 Ｃ-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.5
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），171.
9 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），17
0.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），149.1
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），146.3
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4
（四級炭素，シンナミル芳香環5‘位炭素），133.9
（四級炭素，プロペン2位炭素），127.8 （ＣＨ，プロ
ペン3位炭素），115.8 （四級炭素，シンナミル芳香環
１‘位炭素），113.4 （ＣＨ，シンナミル芳香環６‘位
炭素），106.0 （ＣＨ，シンナミル芳香環３‘位炭
素），56.1 （ＣＨ3，芳香環結合メトキシ基のメチル基
炭素），55.6 （ＣＨ3，芳香環結合メトキシ基のメチル
基炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭素），3
5.9 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），14.4 （CH
3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０１７５】（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパ
ラギン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)
-L-asparatic acid 3-（2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)
-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩
酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）を加え、室温
にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、洗浄及
び無水硫酸マグネシウムによる乾燥を行った。その後、
溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノー
ル：95／5）にて精製して目的化合物を0.23 g 得た（収
率：65％）。
ラギン酸 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)
-L-asparatic acid 3-（2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)
-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩
酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）を加え、室温
にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、洗浄及
び無水硫酸マグネシウムによる乾燥を行った。その後、
溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノー
ル：95／5）にて精製して目的化合物を0.23 g 得た（収
率：65％）。
【０１７６】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.36 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），7.05 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミ
ド基プロトン），6.63 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.33 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），4.81（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，
アスパラギン酸部α位メチン基プロトン），3.83 （3
H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），2.95 （１H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17Hz，アスパラ
ギン酸部β位メチレン基プロトン），2.82 （１H，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン
基プロトン），2.06 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル
基プロトン），1.49 （9H，s，ブチル基のメチル基プロ
トン），1.46 （9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.4 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），150.0 （四級
炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），141.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4（四級炭素，
シンナミル芳香環5‘位炭素），131.1 （CH，プロペン3
位炭素），130.4 （四級炭素，プロペン2位炭素），11
3.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.2 （四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.0 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.0 （四級炭素，ブ
チル基），81.2 （四級炭素，ブチル基），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），49.2 （C
H，アスパラギン酸部α位炭素），37.2 （CH2，アスパ
ラギン酸部β位炭素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル
基炭素），27.6 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），1
3.9 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.36 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），7.05 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミ
ド基プロトン），6.63 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.33 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），4.81（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，
アスパラギン酸部α位メチン基プロトン），3.83 （3
H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），2.95 （１H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17Hz，アスパラ
ギン酸部β位メチレン基プロトン），2.82 （１H，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン
基プロトン），2.06 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル
基プロトン），1.49 （9H，s，ブチル基のメチル基プロ
トン），1.46 （9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.4 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），150.0 （四級
炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），141.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4（四級炭素，
シンナミル芳香環5‘位炭素），131.1 （CH，プロペン3
位炭素），130.4 （四級炭素，プロペン2位炭素），11
3.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.2 （四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.0 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.0 （四級炭素，ブ
チル基），81.2 （四級炭素，ブチル基），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），49.2 （C
H，アスパラギン酸部α位炭素），37.2 （CH2，アスパ
ラギン酸部β位炭素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル
基炭素），27.6 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），1
3.9 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０１７７】（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパ
ラギン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-
メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butylox
y)-L-asparatic acid 3-（2-amino-4,5-dimethoxypheny
l)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.30 g
（0.84 mmol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステ
ル・塩酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）とをジ
メチルホルムアミド ３mlに溶解し、これにトリエチル
アミン0.14ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間
反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、反応液に酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液した。この
溶液を5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩
化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減圧下にて留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：メチレンクロライド／メタノール：95／5）にて精
製して目的化合物0.39 gを得た（収率定量的）。
ラギン酸 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-
メチル-2-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butylox
y)-L-asparatic acid 3-（2-amino-4,5-dimethoxypheny
l)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.30 g
（0.84 mmol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステ
ル・塩酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）とをジ
メチルホルムアミド ３mlに溶解し、これにトリエチル
アミン0.14ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間
反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、反応液に酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液した。この
溶液を5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩
化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減圧下にて留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：メチレンクロライド／メタノール：95／5）にて精
製して目的化合物0.39 gを得た（収率定量的）。
【０１７８】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.36 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），7.05 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミ
ド基プロトン），6.63 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.33 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），4.81（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，
アスパラギン酸部α位メチン基プロトン），3.83 （3
H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），2.95 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17Hz，アスパラ
ギン酸部β位メチレン基プロトン），2.82 （1H，d-d，
Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン基プ
ロトン），2.06 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プ
ロトン），1.49 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.46 （9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.4 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），150.0 （四級
炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），141.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4（四級炭素，
シンナミル芳香環5‘位炭素），131.1 （CH，プロペン3
位炭素），130.4 （四級炭素，プロペン2位炭素），11
3.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.2 （四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.0 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.0 （四級炭素，ブ
チル基），81.2 （四級炭素，ブチル基），56.4 （ＣＨ
3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.4 （CH
3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），49.2 （C
H，アスパラギン酸部α位炭素），37.2 （CH2，アスパ
ラギン酸部β位炭素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル
基炭素），27.6 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），1
3.9 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.36 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），7.05 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミ
ド基プロトン），6.63 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.33 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），4.81（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，
アスパラギン酸部α位メチン基プロトン），3.83 （3
H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），
3.79 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロ
トン），2.95 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17Hz，アスパラ
ギン酸部β位メチレン基プロトン），2.82 （1H，d-d，
Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン基プ
ロトン），2.06 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プ
ロトン），1.49 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.46 （9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.4 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），150.0 （四級
炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），141.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.4（四級炭素，
シンナミル芳香環5‘位炭素），131.1 （CH，プロペン3
位炭素），130.4 （四級炭素，プロペン2位炭素），11
3.4 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.2 （四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.0 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.0 （四級炭素，ブ
チル基），81.2 （四級炭素，ブチル基），56.4 （ＣＨ
3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.4 （CH
3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），49.2 （C
H，アスパラギン酸部α位炭素），37.2 （CH2，アスパ
ラギン酸部β位炭素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル
基炭素），27.6 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），1
3.9 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０１７９】（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-
4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-L-Asparatic acid 3-（2-amino-4、5-di
methoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド0.39 g（0.84 mmol）を10％トリフルオ
ロ酢酸含有のクロロホルムに溶解し、室温にて3時間脱
保護反応（保護基の脱離反応）を行った。反応の終了を
TLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥を行い、目的化合物
0.30 g を得た（収率定量的）。
4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド（（E） N-L-Asparatic acid 3-（2-amino-4、5-di
methoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プ
ロペン酸アミド0.39 g（0.84 mmol）を10％トリフルオ
ロ酢酸含有のクロロホルムに溶解し、室温にて3時間脱
保護反応（保護基の脱離反応）を行った。反応の終了を
TLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥を行い、目的化合物
0.30 g を得た（収率定量的）。
【０１８０】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.22 （1
H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.24 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.98 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環3‘位プロトン），6.89 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環６‘位プロトン），4.68 （1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4
Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），3.79 （3H，
ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.78
（3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロト
ン），2.83 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギ
ン酸部β位プロトン），2.72 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=1
7 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），1.96 （3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.22 （1
H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.24 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.98 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環3‘位プロトン），6.89 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環６‘位プロトン），4.68 （1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4
Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），3.79 （3H，
ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.78
（3H，ｓ，芳香環結合メトキシ基のメチル基プロト
ン），2.83 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギ
ン酸部β位プロトン），2.72 （1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=1
7 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），1.96 （3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）。
【０１８１】13Ｃ-NMR（重ジメチルスルホキシド、δpp
m ）：172.5 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル
炭素），171.9 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニ
ル炭素），170.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル
炭素），149.1 （四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭
素），146.3 （四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭
素），139.4 （四級炭素，シンナミル芳香環5‘位炭
素），133.9 （四級炭素，プロペン2位炭素），127.8
（CH，プロペン3位炭素），115.8 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環１‘位炭素），113.4 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），106.0 （CH，シンナミル芳香環３‘位
炭素），56.1 （CH3，芳香環結合メトキシ基のメチル基
炭素），55.6 （CH3，芳香環結合メトキシ基のメチル基
炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭素），35.
9 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），14.4 （CH3，
プロペン2位結合メチル基炭素）。
m ）：172.5 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル
炭素），171.9 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニ
ル炭素），170.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル
炭素），149.1 （四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭
素），146.3 （四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭
素），139.4 （四級炭素，シンナミル芳香環5‘位炭
素），133.9 （四級炭素，プロペン2位炭素），127.8
（CH，プロペン3位炭素），115.8 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環１‘位炭素），113.4 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），106.0 （CH，シンナミル芳香環３‘位
炭素），56.1 （CH3，芳香環結合メトキシ基のメチル基
炭素），55.6 （CH3，芳香環結合メトキシ基のメチル基
炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭素），35.
9 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），14.4 （CH3，
プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０１８２】（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-ア
ミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸 アミド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-
4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノｎ-酪酸0.52g（5.0 mmol）（和光
純薬社製）を0.5規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌ
に溶解したものを加え、室温にて4時間反応させた。反
応液に2規定塩酸を加えて約pH4に調整したのち、反応液
をそのまま減圧濃縮し、これを一旦水 20 ml に溶解し
て、残存する塩酸を除くため凍結乾燥を行った。得られ
た凍結乾燥物 をクロロホルム-メタノール・トリフルオ
ロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01 を移動相としたシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、これを
凍結乾燥して目的化合物0.18 g を得た（収率；75
％）。
ミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸 アミド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-
4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノｎ-酪酸0.52g（5.0 mmol）（和光
純薬社製）を0.5規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌ
に溶解したものを加え、室温にて4時間反応させた。反
応液に2規定塩酸を加えて約pH4に調整したのち、反応液
をそのまま減圧濃縮し、これを一旦水 20 ml に溶解し
て、残存する塩酸を除くため凍結乾燥を行った。得られ
た凍結乾燥物 をクロロホルム-メタノール・トリフルオ
ロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01 を移動相としたシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、これを
凍結乾燥して目的化合物0.18 g を得た（収率；75
％）。
【０１８３】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.23 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.08 （1H，ｓ，プロペン
3位プロトン），6.74 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.70 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），3.74 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ
基のメチル基プロトン），3.71 （3H，ｓ，芳香環結合
メトキシ基のメチル基プロトン），3.21 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.94
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.75
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.4 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），149.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），142.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環２‘位炭素），134.9 （四級炭
素，シンナミル芳香環５‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭
素），115.4 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭
素），113.9 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），10
2.7 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.3 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），38.4 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.6 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.6 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.23 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.08 （1H，ｓ，プロペン
3位プロトン），6.74 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.70 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），3.74 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ
基のメチル基プロトン），3.71 （3H，ｓ，芳香環結合
メトキシ基のメチル基プロトン），3.21 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.94
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.75
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.4 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），149.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），142.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環２‘位炭素），134.9 （四級炭
素，シンナミル芳香環５‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭
素），115.4 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭
素），113.9 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），10
2.7 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.3 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），38.4 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.6 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.6 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。
【０１８４】（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピ
ル 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル
-2-プロペン酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonyl
propyl 3-（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl
-2-propenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩
0.15 g（1.0 mmol）（ナカライテスク社製）を加え、室
温にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、
酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機
層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行っ
た。その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド
／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物を0.18
g 得た（収率：70％）。
ル 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル
-2-プロペン酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonyl
propyl 3-（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl
-2-propenoic amide）の合成 （E）3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチ
ル-2-プロペン酸 N-スクシンイミドエステル 0.25g
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩
0.15 g（1.0 mmol）（ナカライテスク社製）を加え、室
温にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、
酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機
層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行っ
た。その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド
／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物を0.18
g 得た（収率：70％）。
【０１８５】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.33 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.65 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環6‘位プロトン），6.35 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），3.83 （3H，ｓ，芳香環結合メト
キシ基のメチル基プロトン），3.79 （3H，ｓ，芳香環
結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.68 （3H，
ｓ， GABA部メチルエステルのメチル基プロトン），3.4
7 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロト
ン），2.46 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基
プロトン），2.07 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基
プロトン），1.96 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GA
BA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.2 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.6 （四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），150.2 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環4‘位炭素），141.2 （四級炭素，シンナミ
ル芳香環２‘位炭素），139.5 （四級炭素，シンナミル
芳香環５‘位炭素），131.2 （ＣＨ，プロペン3位炭
素），130.1 （四級炭素，プロペン2位炭素），113.5
（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.4 （CH，シン
ナミル芳香環３‘位炭素），56.6 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），55.5 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），51.7（CH3，GABA部メチル
エステルのメチル基炭素），39.8 （CH2，GABA部γ位メ
チレン基炭素），31.5 （CH2，GABA部α位メチレン基炭
素），23.9 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.0
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.33 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.65 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環6‘位プロトン），6.35 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），3.83 （3H，ｓ，芳香環結合メト
キシ基のメチル基プロトン），3.79 （3H，ｓ，芳香環
結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.68 （3H，
ｓ， GABA部メチルエステルのメチル基プロトン），3.4
7 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロト
ン），2.46 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基
プロトン），2.07 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基
プロトン），1.96 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GA
BA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.2 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.6 （四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），150.2 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環4‘位炭素），141.2 （四級炭素，シンナミ
ル芳香環２‘位炭素），139.5 （四級炭素，シンナミル
芳香環５‘位炭素），131.2 （ＣＨ，プロペン3位炭
素），130.1 （四級炭素，プロペン2位炭素），113.5
（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.4 （CH，シン
ナミル芳香環３‘位炭素），56.6 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），55.5 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），51.7（CH3，GABA部メチル
エステルのメチル基炭素），39.8 （CH2，GABA部γ位メ
チレン基炭素），31.5 （CH2，GABA部α位メチレン基炭
素），23.9 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.0
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０１８６】（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピ
ル 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル
-2-プロペン酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonyl
propyl 3-（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl
-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.30 g
（0.84 mmol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩
酸塩0.15 g（1.00 mmol）（ナカライテスク社製）をジ
メチルホルムアミド ３mlに溶解し、これにトリエチル
アミン0.14 ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時
間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチ
ル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素
ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液
にて順次洗浄した。これを無水硫酸マグネシウムにより
乾燥させた後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライ
ド／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物0.28g
を得た（収率定量的）。
ル 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル
-2-プロペン酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonyl
propyl 3-（2-amino-4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl
-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メ
チル-2-プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.30 g
（0.84 mmol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩
酸塩0.15 g（1.00 mmol）（ナカライテスク社製）をジ
メチルホルムアミド ３mlに溶解し、これにトリエチル
アミン0.14 ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時
間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチ
ル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素
ナトリウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液
にて順次洗浄した。これを無水硫酸マグネシウムにより
乾燥させた後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライ
ド／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物0.28g
を得た（収率定量的）。
【０１８７】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.33 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.65 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環6‘位プロトン），6.35 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），3.83 （3H，ｓ，芳香環結合メト
キシ基のメチル基プロトン），3.79 （3H，ｓ，芳香環
結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.68 （3H，
ｓ， GABA部メチルエステルのメチル基プロトン），3.4
7 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロト
ン），2.46 （2Ｈ，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン
基プロトン），2.07 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル
基プロトン），1.96（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，G
ABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.2 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.6 （四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），150.2 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環4‘位炭素），141.2 （四級炭素，シンナミ
ル芳香環２‘位炭素），139.5 （四級炭素，シンナミル
芳香環５‘位炭素），131.2 （CH，プロペン3位炭
素），130.1 （四級炭素，プロペン2位炭素），113.5
（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.4（CH，シン
ナミル芳香環３‘位炭素），56.6 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），55.5 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），51.7（CH3，GABA部メチル
エステルのメチル基炭素），39.8 （CH2，GABA部γ位メ
チレン基炭素），31.5 （CH2，GABA部α位メチレン基炭
素），23.9 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.0
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.33 （1H，ｓ，
プロペン3位プロトン），6.65 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環6‘位プロトン），6.35 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），3.83 （3H，ｓ，芳香環結合メト
キシ基のメチル基プロトン），3.79 （3H，ｓ，芳香環
結合メトキシ基のメチル基プロトン），3.68 （3H，
ｓ， GABA部メチルエステルのメチル基プロトン），3.4
7 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロト
ン），2.46 （2Ｈ，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン
基プロトン），2.07 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル
基プロトン），1.96（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，G
ABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.2 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.6 （四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），150.2 （四級炭素，シンナ
ミル芳香環4‘位炭素），141.2 （四級炭素，シンナミ
ル芳香環２‘位炭素），139.5 （四級炭素，シンナミル
芳香環５‘位炭素），131.2 （CH，プロペン3位炭
素），130.1 （四級炭素，プロペン2位炭素），113.5
（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），112.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環１‘位炭素），100.4（CH，シン
ナミル芳香環３‘位炭素），56.6 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），55.5 （CH3，芳香環結合メ
トキシ基のメチル基炭素），51.7（CH3，GABA部メチル
エステルのメチル基炭素），39.8 （CH2，GABA部γ位メ
チレン基炭素），31.5 （CH2，GABA部α位メチレン基炭
素），23.9 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.0
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０１８８】（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-ア
ミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸 アミド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-
4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-(2-アミ
ノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド0.16 g （0.48 mmol）をメタノール１mlに溶解
し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液2mlを加え、室
温にて12時間反応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH
４に調整した後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン
／メタノール=10／3）により精製し、目的化合物を0.15
g得た（収率定量的）。
ミノ-4、5-ジメトキシフェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸 アミド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-
4、5-dimethoxyphenyl）-2-methyl-2-propenoic amid
e）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-(2-アミ
ノ-4,5-ジメトキシフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸
アミド0.16 g （0.48 mmol）をメタノール１mlに溶解
し、これに1規定水酸化ナトリウム水溶液2mlを加え、室
温にて12時間反応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH
４に調整した後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン
／メタノール=10／3）により精製し、目的化合物を0.15
g得た（収率定量的）。
【０１８９】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.23 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.08 （1H，ｓ，プロペン
3位プロトン），6.74 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.70 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），3.74 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ
基のメチル基プロトン），3.71 （3H，ｓ，芳香環結合
メトキシ基のメチル基プロトン），3.21 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.94
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.75
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.4 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），149.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），142.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環２‘位炭素），134.9 （四級炭
素，シンナミル芳香環５‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭
素），115.4 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭
素），113.9 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），10
2.7 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.3 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），38.4 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.6 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.6 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.23 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.08 （1H，ｓ，プロペン
3位プロトン），6.74 （1H，ｓ，シンナミル芳香環6
‘位プロトン），6.70 （1H，ｓ，シンナミル芳香環３
‘位プロトン），3.74 （3H，ｓ，芳香環結合メトキシ
基のメチル基プロトン），3.71 （3H，ｓ，芳香環結合
メトキシ基のメチル基プロトン），3.21 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.94
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.75
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.4 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），149.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），142.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環２‘位炭素），134.9 （四級炭
素，シンナミル芳香環５‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭
素），115.4 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭
素），113.9 （CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），10
2.7 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），56.4 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），55.3 （C
H3，芳香環結合メトキシ基のメチル基炭素），38.4 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.6 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.6 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。
【０１９０】（E）N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-ベ
ンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-L-glutamic acid 3-(2- amino-benzo[d]phen
yl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24
ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにＬ-グルタミン酸0.74g（5.0 mmol）を0.5規
定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解したものを加
え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加
えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し，これを一旦水 20 ml に溶解し、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01 を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
0.17 gを得た（収率；63％）。
ンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-L-glutamic acid 3-(2- amino-benzo[d]phen
yl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24
ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにＬ-グルタミン酸0.74g（5.0 mmol）を0.5規
定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解したものを加
え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加
えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し，これを一旦水 20 ml に溶解し、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01 を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
0.17 gを得た（収率；63％）。
【０１９１】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.96 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.92（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.95- 7.90 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.90（1Ｈ，ｓ，
プロペン3位プロトン）， 7.59 - 7.47 （2H， m，ベン
ゾシンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベン
ゾシンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.49
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロト
ン），4.41 （1H，t-d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン
酸部α位プロトン），2.39 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グル
タミン酸部γ位プロトン），2.22 - 2.03 （2H，ｍ，
グルタミン酸部β位プロトン），2.11 （3H，ｓ，プロ
ペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.7
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），172.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），168.7
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），139.5（四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），136.2
（四級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），132.1 （四級炭素， プロペン2位炭
素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.7
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素），127.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.7 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素），127.0 （CH， プロペン3位
炭素）， 117.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又
は7’位炭素）， 117.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル
芳香環1’位炭素），113.3 （CH， ベンゾシンナミル芳
香環8’位炭素），109.5 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環3’位炭素），52.3 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），31.3 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 26.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.2 （CH3，プロ
ペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.96 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.92（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.95- 7.90 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.90（1Ｈ，ｓ，
プロペン3位プロトン）， 7.59 - 7.47 （2H， m，ベン
ゾシンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベン
ゾシンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.49
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロト
ン），4.41 （1H，t-d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン
酸部α位プロトン），2.39 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グル
タミン酸部γ位プロトン），2.22 - 2.03 （2H，ｍ，
グルタミン酸部β位プロトン），2.11 （3H，ｓ，プロ
ペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.7
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），172.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），168.7
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），139.5（四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），136.2
（四級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），132.1 （四級炭素， プロペン2位炭
素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.7
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素），127.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.7 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素），127.0 （CH， プロペン3位
炭素）， 117.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又
は7’位炭素）， 117.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル
芳香環1’位炭素），113.3 （CH， ベンゾシンナミル芳
香環8’位炭素），109.5 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環3’位炭素），52.3 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），31.3 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 26.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.2 （CH3，プロ
ペン2位結合メチル基炭素）。
【０１９２】（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタ
ミン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（（E）N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glut
amic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2
-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸
塩0.29 g（1.0 mmol）（シグマ社製）を加えて室温にて
3時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エ
チル及び水を加えて酢酸エチル層を分液し、洗浄、無水
硫酸マグネシウムによる乾燥及び溶媒の減圧留去を行っ
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：
95／5）にて精製して目的化合物0.22 g を得た（収率：
55％）。
ミン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（（E）N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glut
amic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2
-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸
塩0.29 g（1.0 mmol）（シグマ社製）を加えて室温にて
3時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エ
チル及び水を加えて酢酸エチル層を分液し、洗浄、無水
硫酸マグネシウムによる乾燥及び溶媒の減圧留去を行っ
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：
95／5）にて精製して目的化合物0.22 g を得た（収率：
55％）。
【０１９３】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.67 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.58 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.54（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.47 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.36 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.22 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.09 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），7.03 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.60（1H，ddd，J=9Hz，J=7 Hz，J=4 Hz，
グルタミン酸部α位プロトン），2.50 - 2.37（2H，
ｍ， グルタミン酸部γ位メチレン基プロトン），2.14
- 2.05（2H，ｍ， グルタミン酸部β位メチレン基プロ
トン），2.10 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン），1.50 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.48（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.9 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），171.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），134.7 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 129.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.8 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.6 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.4
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.5 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），109.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.7 （四級炭素，ブチル基），82.5 （四級炭
素，ブチル基），53.0 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），32.1 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 28.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），28.0 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），14.1 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.67 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.58 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.54（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.47 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.36 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.22 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.09 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），7.03 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.60（1H，ddd，J=9Hz，J=7 Hz，J=4 Hz，
グルタミン酸部α位プロトン），2.50 - 2.37（2H，
ｍ， グルタミン酸部γ位メチレン基プロトン），2.14
- 2.05（2H，ｍ， グルタミン酸部β位メチレン基プロ
トン），2.10 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン），1.50 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.48（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.9 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），171.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），134.7 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 129.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.8 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.6 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.4
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.5 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），109.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.7 （四級炭素，ブチル基），82.5 （四級炭
素，ブチル基），53.0 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），32.1 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 28.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），28.0 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），14.1 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。
【０１９４】（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタ
ミン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glu
tamic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-
2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.57 mm
ol）とL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩0.
20 g（0.69 mmol）（シグマ社製）とをジメチルホルム
アミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.01ml
（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。
反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加
え、酢酸エチル層を分液し、これを5％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させた後、
溶媒を減圧下にて留去した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンク
ロライド／メタノール：95／5）にて精製して目的化合
物を0.27 g 得た（収率定量的）。
ミン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-glu
tamic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-
2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.57 mm
ol）とL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩0.
20 g（0.69 mmol）（シグマ社製）とをジメチルホルム
アミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.01ml
（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。
反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加
え、酢酸エチル層を分液し、これを5％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させた後、
溶媒を減圧下にて留去した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンク
ロライド／メタノール：95／5）にて精製して目的化合
物を0.27 g 得た（収率定量的）。
【０１９５】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.67 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.58 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.54（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.47（1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.36（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.22（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.09（1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），7.03（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プ
ロトン），4.60（1H，ddd，J=9 Hz，J=7 Hz，J=4 Hz，
グルタミン酸部α位プロトン），2.50 - 2.37（2H，
ｍ， グルタミン酸部γ位メチレン基プロトン），2.14
- 2.05（2H，ｍ， グルタミン酸部β位メチレン基プロ
トン），2.10（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン），1.50 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.48（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.9 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），171.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），134.7 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 129.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.8 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.6 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.4
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.5 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），109.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.7 （四級炭素，ブチル基），82.5 （四級炭
素，ブチル基），53.0 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），32.1 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 28.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），28.0 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），14.1 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.67 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.58 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.54（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.47（1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.36（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.22（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.09（1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），7.03（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プ
ロトン），4.60（1H，ddd，J=9 Hz，J=7 Hz，J=4 Hz，
グルタミン酸部α位プロトン），2.50 - 2.37（2H，
ｍ， グルタミン酸部γ位メチレン基プロトン），2.14
- 2.05（2H，ｍ， グルタミン酸部β位メチレン基プロ
トン），2.10（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロ
トン），1.50 （9H，s，ブチル基のメチル基プロト
ン），1.48（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.9 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），171.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），134.7 （四級炭素，プロ
ペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 129.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.8 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.5 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.6 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.4
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.5 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），109.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.7 （四級炭素，ブチル基），82.5 （四級炭
素，ブチル基），53.0 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），32.1 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 28.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），28.0 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），14.1 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。
【０１９６】（E）N-L-グルタミン酸 3-（2-アミノ-ベ
ンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-L-glutamic acid 3-(2-amino-benzo[d]pheny
l)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.27 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて5時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.21 gを得た（収率定量的）。
ンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-L-glutamic acid 3-(2-amino-benzo[d]pheny
l)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.27 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて5時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.21 gを得た（収率定量的）。
【０１９７】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.96 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.92（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.95- 7.90 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.90（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン）， 7.59 - 7.47 （2H， m，ベンゾ
シンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベンゾ
シンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.49
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），
4.41（1H，t-d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン酸部α位
プロトン），2.39 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グルタミン酸
部γ位プロトン），2.22 - 2.03 （2H，ｍ， グルタミ
ン酸部β位プロトン），2.11 （3H，ｓ，プロペン2位結
合メチル基プロトン） 13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.7
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），172.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），168.7
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），139.5（四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），136.2
（四級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），132.1 （四級炭素， プロペン2位炭
素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.7
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素），127.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.7 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素），127.0 （CH， プロペン3位
炭素）， 117.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又
は7’位炭素）， 117.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル
芳香環1’位炭素），113.3 （CH， ベンゾシンナミル芳
香環8’位炭素），109.5 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環3’位炭素），52.3 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），31.3 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 26.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.2 （CH3，プロ
ペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.44（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.96 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.92（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.95- 7.90 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.90（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン）， 7.59 - 7.47 （2H， m，ベンゾ
シンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベンゾ
シンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.49
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），
4.41（1H，t-d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン酸部α位
プロトン），2.39 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グルタミン酸
部γ位プロトン），2.22 - 2.03 （2H，ｍ， グルタミ
ン酸部β位プロトン），2.11 （3H，ｓ，プロペン2位結
合メチル基プロトン） 13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.7
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），172.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），168.7
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），139.5（四
級炭素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），136.2
（四級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），132.1 （四級炭素， プロペン2位炭
素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.7
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素），127.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.7 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素），127.0 （CH， プロペン3位
炭素）， 117.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又
は7’位炭素）， 117.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル
芳香環1’位炭素），113.3 （CH， ベンゾシンナミル芳
香環8’位炭素），109.5 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環3’位炭素），52.3 （CH，グルタミン酸部α位炭
素），31.3 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 26.4
（CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.2 （CH3，プロ
ペン2位結合メチル基炭素）。
【０１９８】（E）N-グリシン 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]
フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E) N- Gl
ycine 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-pro
penoicamide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド10mlに溶解
し、これにグリシン0.38g（5.0 mmol）を0.5規定炭酸水
素ナトリウム水溶液20ｍｌに溶解したものを加え、室温
にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えて約pH
4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮し、これを
一旦水 20ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った．得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，これを凍結乾燥して目的化合物を0.15 g
得た（収率；72％）。
フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E) N- Gl
ycine 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-pro
penoicamide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド10mlに溶解
し、これにグリシン0.38g（5.0 mmol）を0.5規定炭酸水
素ナトリウム水溶液20ｍｌに溶解したものを加え、室温
にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を加えて約pH
4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮し、これを
一旦水 20ml に溶解し、残存する塩酸を除くため凍結乾
燥を行った．得られた凍結乾燥物をクロロホルム-メタ
ノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜40:10:0.01
を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し，これを凍結乾燥して目的化合物を0.15 g
得た（収率；72％）。
【０１９９】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
H，ｔ，Ｊ=６Hz，アミド基プロトン），7.66 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プ
ロトン）， 7.55（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’
位プロトン），7.51 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナ
ミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），7.28 （1H，
ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環
５‘位或いは６’位プロトン），7.16 （1H，ｓ，プロ
ペン3位プロトン），7.10 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=
8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），6.96 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環
3’位プロトン），3.89 （2H，d， J=６ Hz， グリシン
部α位メチレン基プロトン），1.99 （3H，ｓ，プロペ
ン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：171.8
（四級炭素，グリシン部カルボニル炭素），169.4 （四
級炭素，1位カルボニル炭素），144.9（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，
プロペン2位炭素とベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），128.7（CH， プロペン3位炭素）， 128.4 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.6
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 126.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
‘a位炭素）， 126.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素）， 124.7 （CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.0（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），121.2 （CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），107.0 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），41.0 （CH，グリシン部
α位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
H，ｔ，Ｊ=６Hz，アミド基プロトン），7.66 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プ
ロトン）， 7.55（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’
位プロトン），7.51 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナ
ミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），7.28 （1H，
ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環
５‘位或いは６’位プロトン），7.16 （1H，ｓ，プロ
ペン3位プロトン），7.10 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=
8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），6.96 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環
3’位プロトン），3.89 （2H，d， J=６ Hz， グリシン
部α位メチレン基プロトン），1.99 （3H，ｓ，プロペ
ン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：171.8
（四級炭素，グリシン部カルボニル炭素），169.4 （四
級炭素，1位カルボニル炭素），144.9（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，
プロペン2位炭素とベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），128.7（CH， プロペン3位炭素）， 128.4 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.6
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 126.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
‘a位炭素）， 126.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素）， 124.7 （CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.0（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），121.2 （CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），107.0 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），41.0 （CH，グリシン部
α位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。
【０２００】（E）N-グリシン 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]
フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E）N-gly
cine 3-(2- amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-prope
noic amide）の合成 （E） 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.17 g（0.48 mm
ol）とグリシンエチルエステル・塩酸塩0.081 g（0.58
mmol）（国産化学社製）をジメチルホルムアミド 1mlに
溶解し、これに、トリエチルアミン0.08 ml（和光純薬
社製）を加えて室温にて20時間反応させた。反応の終了
をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチ
ル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数
回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減
圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：95／
5）にて精製して、これをメタノール1mlに溶解した後に
1規定水酸化ナトリウム2mlを加え、室温にて一晩脱保護
反応を行った。2規定塩酸にて系を約ｐＨ4に調整した
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／メタノール
=10／3）により精製し、目的化合物を0.14 g得た（収率
定量的）。
フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（（E）N-gly
cine 3-(2- amino-benzo[d]phenyl)-2-methyl-2-prope
noic amide）の合成 （E） 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.17 g（0.48 mm
ol）とグリシンエチルエステル・塩酸塩0.081 g（0.58
mmol）（国産化学社製）をジメチルホルムアミド 1mlに
溶解し、これに、トリエチルアミン0.08 ml（和光純薬
社製）を加えて室温にて20時間反応させた。反応の終了
をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチ
ル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数
回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減
圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：95／
5）にて精製して、これをメタノール1mlに溶解した後に
1規定水酸化ナトリウム2mlを加え、室温にて一晩脱保護
反応を行った。2規定塩酸にて系を約ｐＨ4に調整した
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／メタノール
=10／3）により精製し、目的化合物を0.14 g得た（収率
定量的）。
【０２０１】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
Ｈ，ｔ，Ｊ=６Hz，アミド基プロトン），7.66 (1H，
d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位
プロトン）， 7.55（1Ｈ，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環
8’位プロトン），7.51 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシ
ンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.28
（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル
芳香環５‘位或いは６’位プロトン），7.16 （1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.10 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），6.96 （1H， s， ベンゾシンナミル
芳香環3’位プロトン），3.89 （２Ｈ，d， J=６ Hz，
グリシン部α位メチレン基プロトン），1.99 （3Ｈ，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：171.8
（四級炭素，グリシン部カルボニル炭素），169.4 （四
級炭素，1位カルボニル炭素），144.9（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，
プロペン2位炭素とベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），128.7（CH， プロペン3位炭素）， 128.4 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.6
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 126.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
‘a位炭素）， 126.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素）， 124.7 （CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.0（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），121.2 （CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），107.0 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），41.0 （CH，グリシン部
α位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
Ｈ，ｔ，Ｊ=６Hz，アミド基プロトン），7.66 (1H，
d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位
プロトン）， 7.55（1Ｈ，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環
8’位プロトン），7.51 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシ
ンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.28
（1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル
芳香環５‘位或いは６’位プロトン），7.16 （1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.10 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），6.96 （1H， s， ベンゾシンナミル
芳香環3’位プロトン），3.89 （２Ｈ，d， J=６ Hz，
グリシン部α位メチレン基プロトン），1.99 （3Ｈ，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：171.8
（四級炭素，グリシン部カルボニル炭素），169.4 （四
級炭素，1位カルボニル炭素），144.9（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，
プロペン2位炭素とベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），128.7（CH， プロペン3位炭素）， 128.4 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），127.6
（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 126.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
‘a位炭素）， 126.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素）， 124.7 （CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.0（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），121.2 （CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），107.0 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），41.0 （CH，グリシン部
α位炭素），14.4 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭
素）。
【０２０２】（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-
ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N- L-Asparatic acid 3-（2- amino-benzo[d]p
henyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol） をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶
解し、これにＬ-アスパラギン酸2.3g（5.0 mmol）を0.5
規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解したものを
加え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を
加えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し、これを一旦水 20 ml に溶解し、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01 を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
0.12 g を得た（収率；45％）。
ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N- L-Asparatic acid 3-（2- amino-benzo[d]p
henyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol） をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶
解し、これにＬ-アスパラギン酸2.3g（5.0 mmol）を0.5
規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌに溶解したものを
加え、室温にて4時間反応させた。反応液に2規定塩酸を
加えて約pH4に調整した後、反応液をそのまま減圧濃縮
し、これを一旦水 20 ml に溶解し、残存する塩酸を除
くため凍結乾燥を行った。得られた凍結乾燥物をクロロ
ホルム-メタノール・トリフルオロ酢酸100:10:0.01 〜4
0:10:0.01 を移動相としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し，これを凍結乾燥して目的化合物
0.12 g を得た（収率；45％）。
【０２０３】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.43 （1
Ｈ，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.93 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プ
ロトン），7.88（1Ｈ，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’
位プロトン），7.87 - 7.85 (1H， m， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.82 （1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン）， 7.56 - 7.47 （2H， m，
ベンゾシンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンと
ベンゾシンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），
7.45 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロト
ン），4.85 （1Ｈ，ｔ-d，Ｊ=7 Hz，Ｊ=6 Hz，アスパラ
ギン酸部α位プロトン），2.93（１Ｈ，d-d，Ｊ=6 Hz，
J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），2.81 （１
Ｈ，d-d，Ｊ=6 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プ
ロトン），2.08 （3Ｈ，ｓ，プロペン2位結合メチル基
プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：173.0
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
4 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
8.9 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.2（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），133.0 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.9 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 128.3 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 127.6 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.2 （CH， プロペン3位炭
素）， 118.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 116.1 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），114.2 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），110.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），36.4 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素）、14.8
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.43 （1
Ｈ，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.93 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プ
ロトン），7.88（1Ｈ，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’
位プロトン），7.87 - 7.85 (1H， m， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.82 （1Ｈ，
ｓ，プロペン3位プロトン）， 7.56 - 7.47 （2H， m，
ベンゾシンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンと
ベンゾシンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），
7.45 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロト
ン），4.85 （1Ｈ，ｔ-d，Ｊ=7 Hz，Ｊ=6 Hz，アスパラ
ギン酸部α位プロトン），2.93（１Ｈ，d-d，Ｊ=6 Hz，
J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），2.81 （１
Ｈ，d-d，Ｊ=6 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プ
ロトン），2.08 （3Ｈ，ｓ，プロペン2位結合メチル基
プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：173.0
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
4 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
8.9 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.2（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），133.0 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.9 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 128.3 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 127.6 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.2 （CH， プロペン3位炭
素）， 118.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 116.1 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），114.2 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），110.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），36.4 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素）、14.8
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０２０４】（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパ
ラギン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル
-2-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-a
sparatic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-meth
yl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩
酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）を加えて室温
にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機層
を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。
その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メ
タノール：95／5）にて精製して目的化合物0.14 gを得
た（収率：40％）。
ラギン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル
-2-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-a
sparatic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-meth
yl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.2
4ｇ（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩
酸塩0.28 g（1.0 mmol）（国産化学社製）を加えて室温
にて4時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、酢
酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機層
を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。
その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メ
タノール：95／5）にて精製して目的化合物0.14 gを得
た（収率：40％）。
【０２０５】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.53 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.43 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.37（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.37 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.23 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.09 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.04 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），6.88 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.75（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アス
パラギン酸部α位メチン基プロトン），2.87（1H，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン
基プロトン），2.75（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，ア
スパラギン酸部β位メチレン基プロトン），1.97（3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.38 （9H，
s，ブチル基のメチル基プロトン），1.35 （9H，s，ブ
チル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.0（四
級炭素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.4 （四級炭素，
プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.5 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 128.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.5 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.1 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.2 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.2
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），108.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.2 （四級炭素，ブチル基），81.3 （四級炭
素，ブチル基），49.3 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），37.3 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），27.7
（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.6 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），13.9 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.53 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.43 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.37（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.37 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.23 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.09 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.04 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），6.88 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.75（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アス
パラギン酸部α位メチン基プロトン），2.87（1H，d-
d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレン
基プロトン），2.75（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，ア
スパラギン酸部β位メチレン基プロトン），1.97（3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.38 （9H，
s，ブチル基のメチル基プロトン），1.35 （9H，s，ブ
チル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.0（四
級炭素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.4 （四級炭素，
プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.5 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 128.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.5 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.1 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.2 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.2
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），108.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.2 （四級炭素，ブチル基），81.3 （四級炭
素，ブチル基），49.3 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），37.3 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），27.7
（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.6 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），13.9 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。
【０２０６】（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパ
ラギン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル
-2-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-a
sparatic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-meth
yl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.57 mm
ol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩
0.24 g（0.86 mmol）（国産化学社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.12m
l（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.26 g 得た
（収率定量的）。
ラギン酸 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル
-2-プロペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-a
sparatic acid 3-（2- amino-benzo[d]phenyl）-2-meth
yl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.57 mm
ol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩
0.24 g（0.86 mmol）（国産化学社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.12m
l（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.26 g 得た
（収率定量的）。
【０２０７】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.53 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.43 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.37（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.37 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.23 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.09 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.04 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），6.88 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.75 （1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，ア
スパラギン酸部α位メチン基プロトン），2.87 （１H，
d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレ
ン基プロトン），2.75 （１H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 H
z，アスパラギン酸部β位メチレン基プロトン），1.97
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.38
（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン），1.35 （9H，
s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.0（四
級炭素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.4 （四級炭素，
プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.5 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 128.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.5 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.1 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.2 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.2
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），108.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.2 （四級炭素，ブチル基），81.3 （四級炭
素，ブチル基），49.3 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），37.3 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），27.7
（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.6 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），13.9 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.53 (1H， d， J=
8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.43 （1H， d， J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳
香環4‘位或いは7’位プロトン）， 7.37（1H，ｓ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン），7.37 （1H，
ｓ，プロペン3位プロトン），7.23 （1H，ｄｄ，Ｊ=7Ｈ
ｚ，Ｊ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは
６’位プロトン），7.09 （1H， ｄｄ，Ｊ=7Ｈｚ，Ｊ=8
Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環５‘位或いは６’位プ
ロトン），7.04 （1H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロト
ン），6.88 （1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位
プロトン），4.75 （1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，ア
スパラギン酸部α位メチン基プロトン），2.87 （１H，
d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位メチレ
ン基プロトン），2.75 （１H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 H
z，アスパラギン酸部β位メチレン基プロトン），1.97
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.38
（9H，s，ブチル基のメチル基プロトン），1.35 （9H，
s，ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：170.1 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.0（四
級炭素，1位カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベン
ゾシンナミル芳香環2’位炭素），134.4 （四級炭素，
プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭
素），133.5 （四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾ
シンナミル芳香環3a’位炭素），131.1 （CH， プロペ
ン3位炭素）， 128.7 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
5’位又は6’位炭素），127.5 （CH， ベンゾシンナミ
ル芳香環5’位又は6’位炭素）， 127.1 （四級炭素，
ベンゾシンナミル芳香環7‘a位炭素）， 126.2 （CH，
ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.2
（CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭
素）， 124.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’
位炭素），122.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環8’位
炭素），108.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭
素），82.2 （四級炭素，ブチル基），81.3 （四級炭
素，ブチル基），49.3 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），37.3 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素），27.7
（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.6 （CH3，ブチ
ル基のメチル基炭素），13.9 （CH3，プロペン2位結合
メチル基炭素）。
【０２０８】（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-
ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-L-Asparatic acid 3-(2-amino-benzo[d]phen
yl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸アミド0.26 g（0.57 mmol）を10％トリフルオロ酢酸
含有のクロロホルムに溶解し、室温にて3時間脱保護反
応を行った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及
び乾燥を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量
的）。
ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-L-Asparatic acid 3-(2-amino-benzo[d]phen
yl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-
（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン
酸アミド0.26 g（0.57 mmol）を10％トリフルオロ酢酸
含有のクロロホルムに溶解し、室温にて3時間脱保護反
応を行った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及
び乾燥を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量
的）。
【０２０９】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.43（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.93 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.88（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.87- 7.85 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.82（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン）， 7.56 - 7.47（2H， m，ベンゾ
シンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベンゾ
シンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.45
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），
4.85（1H，ｔ-d，Ｊ=7 Hz，Ｊ=6 Hz，アスパラギン酸部
α位プロトン），2.93（１H，d-d，Ｊ=6 Hz，J=17 Hz，
アスパラギン酸部β位プロトン），2.81（１H，d-d，Ｊ
=6 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），2.
08（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：173.0
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
4 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
8.9 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.2（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），133.0 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.9 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 128.3 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 127.6 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.2 （CH， プロペン3位炭
素）， 118.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 116.1 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），114.2 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），110.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），36.4 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素）、14.8
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.43（1
H，ｄ，J=7 Hz、アミド基プロトン），7.93 (1H， d，
J=8 Hz，ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロ
トン），7.88（1H，ｓ，ベンゾシンナミル芳香環8’位
プロトン），7.87- 7.85 (1H， m， ベンゾシンナミル
芳香環5’位或いは6’位プロトン）、7.82（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン）， 7.56 - 7.47（2H， m，ベンゾ
シンナミル芳香環４‘位或いは7’位プロトンとベンゾ
シンナミル芳香環5’位或いは6’位プロトン），7.45
（1H， s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），
4.85（1H，ｔ-d，Ｊ=7 Hz，Ｊ=6 Hz，アスパラギン酸部
α位プロトン），2.93（１H，d-d，Ｊ=6 Hz，J=17 Hz，
アスパラギン酸部β位プロトン），2.81（１H，d-d，Ｊ
=6 Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），2.
08（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：173.0
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
4 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
8.9 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.2（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），133.0 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.9 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 128.3 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 127.6 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.2 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.2 （CH， プロペン3位炭
素）， 118.0 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 116.1 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），114.2 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），110.3 （CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），49.2 （CH，アスパラギン酸部α位炭
素），36.4 （CH2，アスパラギン酸部β位炭素）、14.8
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０２１０】（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-ア
ミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-benzo[d]ph
enyl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24ｇ
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノ-ｎ-酪酸0.52g（5.0 mmol）（和光
純薬社製）を0.5規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌ
に溶解したものを加え、室温にて4時間反応させた。反
応液に2規定塩酸を加えて約pH4に調整した後、反応液を
そのまま減圧濃縮し、これを一旦水 20 ml に溶解し、
残存する塩酸を除くため凍結乾燥を行った。得られた凍
結乾燥物をクロロホルム-メタノール・トリフルオロ酢
酸100:10:0.01 〜40:10:0.01 を移動相としたシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し，これを凍結
乾燥して目的化合物0.17 g を得た（収率；74％）。
ミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-benzo[d]ph
enyl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24ｇ
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノ-ｎ-酪酸0.52g（5.0 mmol）（和光
純薬社製）を0.5規定炭酸水素ナトリウム水溶液40ｍｌ
に溶解したものを加え、室温にて4時間反応させた。反
応液に2規定塩酸を加えて約pH4に調整した後、反応液を
そのまま減圧濃縮し、これを一旦水 20 ml に溶解し、
残存する塩酸を除くため凍結乾燥を行った。得られた凍
結乾燥物をクロロホルム-メタノール・トリフルオロ酢
酸100:10:0.01 〜40:10:0.01 を移動相としたシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し，これを凍結
乾燥して目的化合物0.17 g を得た（収率；74％）。
【０２１１】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52（1
H，bs，アミド基プロトン），7.97 - 7.88 (4H， m，
ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及びベン
ゾシンナミル芳香環4‘位又は7’位プロトン及びベンゾ
シンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.58-7.48（2H，
ｍ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ンとベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），7.39（1
H， s， プロペン3位プロトン），3.25（2H，ｔ，Ｊ=7
Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.33 （2Ｈ，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），2.00
（3H，s，プロペン2位結合メチル基のプロトン）, 1.79
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），136.7（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），132.1（四級炭素，プロペ
ン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），1
30.8（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミ
ル芳香環3a’位炭素），129.5（CH， ベンゾシンナミル
芳香環5’位又は6’位炭素），127.9（CH， ベンゾシン
ナミル芳香環5’位又は6’位炭素）， 128.0 （四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環7a’位炭素）， 127.1（C
H，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），12
6.4 （CH， プロペン3位炭素）， 126.9 （CH，ベンゾ
シンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.9（四級
炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），126.1（C
H， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），115.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），38.4（CH2，
GABA部γ位メチレン基炭素），31.3（CH2，GABA部α位
メチレン基炭素），24.5（CH2，GABA部β位メチレン基
炭素），14.8 （CH3，プロペン2位結合メチル基の炭
素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52（1
H，bs，アミド基プロトン），7.97 - 7.88 (4H， m，
ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及びベン
ゾシンナミル芳香環4‘位又は7’位プロトン及びベンゾ
シンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.58-7.48（2H，
ｍ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ンとベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），7.39（1
H， s， プロペン3位プロトン），3.25（2H，ｔ，Ｊ=7
Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.33 （2Ｈ，
ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），2.00
（3H，s，プロペン2位結合メチル基のプロトン）, 1.79
（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン
基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭
素，1位カルボニル炭素），136.7（四級炭素，ベンゾシ
ンナミル芳香環2’位炭素），132.1（四級炭素，プロペ
ン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），1
30.8（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミ
ル芳香環3a’位炭素），129.5（CH， ベンゾシンナミル
芳香環5’位又は6’位炭素），127.9（CH， ベンゾシン
ナミル芳香環5’位又は6’位炭素）， 128.0 （四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環7a’位炭素）， 127.1（C
H，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は7’位炭素），12
6.4 （CH， プロペン3位炭素）， 126.9 （CH，ベンゾ
シンナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 125.9（四級
炭素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），126.1（C
H， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），115.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），38.4（CH2，
GABA部γ位メチレン基炭素），31.3（CH2，GABA部α位
メチレン基炭素），24.5（CH2，GABA部β位メチレン基
炭素），14.8 （CH3，プロペン2位結合メチル基の炭
素）。
【０２１２】（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピ
ル3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-
（2-amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic am
ide）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24ｇ
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩
0.15 g（1.0 mmol）（ナカライテスク社製）を加え、室
温にて6時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、
酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機
層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行っ
た。その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド
／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物を0.17
g 得た（収率：69％）。
ル3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-
（2-amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic am
ide）の合成 (E) 3-(2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸 N-ヒドロキシスクシンイミド エステル0.24ｇ
（0.75 mmol）をジメチルホルムアミド20ｍｌに溶解
し、これにγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩
0.15 g（1.0 mmol）（ナカライテスク社製）を加え、室
温にて6時間反応させた。反応の終了をTLCにて確認後、
酢酸エチル及び水を加え、酢酸エチル層を分液し、有機
層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行っ
た。その後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド
／メタノール：95／5）にて精製して目的化合物を0.17
g 得た（収率：69％）。
【０２１３】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム,δppm）：7.82 - 7.46（3H，
m，ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及び
ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），
7.38（1H，s，プロペン3位プロトン）， 7.33（1H，
ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは
7’位プロトン），7.23 - 7.17（1H，ｍ，ベンゾシンナ
ミル芳香環8’位プロトン）， 6.99（1H， s， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位プロトン），6.61（1H，bs，ア
ミド基プロトン），3.98 （2H， bs， アミノ基プロト
ン），3.67（3H，ｓ，GABA部メチルエステルのメチル基
プロトン），3.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチ
レン基プロトン），2.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α
位メチレン基プロトン），1.92（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，
Ｊ=7Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）2.03（3H，
s， プロペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.1 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭素，1位
カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシンナミ
ル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，プロペン2位
炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），134.3
（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），130.2 （CH， プロペン3位炭素），
128.8 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位
炭素）,127.6（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.3（四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 126.4（CH，ベンゾシンナミル芳香
環4’位又は7’位炭素）， 125.3（CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.6（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），122.5（CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），108.8 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），51.7（CH3，GABA部メチ
ルエステルのメチル基炭素），39.6（CH2，GABA部γ位
メチレン基炭素），31.7 （ＣＨ2，GABA部α位メチレン
基炭素），24.3（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），1
4.2 （CH3，プロペン2位結合メチル基の炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム,δppm）：7.82 - 7.46（3H，
m，ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及び
ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロトン），
7.38（1H，s，プロペン3位プロトン）， 7.33（1H，
ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは
7’位プロトン），7.23 - 7.17（1H，ｍ，ベンゾシンナ
ミル芳香環8’位プロトン）， 6.99（1H， s， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位プロトン），6.61（1H，bs，ア
ミド基プロトン），3.98 （2H， bs， アミノ基プロト
ン），3.67（3H，ｓ，GABA部メチルエステルのメチル基
プロトン），3.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチ
レン基プロトン），2.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α
位メチレン基プロトン），1.92（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，
Ｊ=7Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）2.03（3H，
s， プロペン2位結合メチル基のプロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.1 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭素，1位
カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシンナミ
ル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，プロペン2位
炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），134.3
（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），130.2 （CH， プロペン3位炭素），
128.8 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位
炭素）,127.6（CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.3（四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 126.4（CH，ベンゾシンナミル芳香
環4’位又は7’位炭素）， 125.3（CH，ベンゾシンナミ
ル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.6（四級炭素，ベ
ンゾシンナミル芳香環1’位炭素），122.5（CH， ベン
ゾシンナミル芳香環8’位炭素），108.8 （CH， ベンゾ
シンナミル芳香環3’位炭素），51.7（CH3，GABA部メチ
ルエステルのメチル基炭素），39.6（CH2，GABA部γ位
メチレン基炭素），31.7 （ＣＨ2，GABA部α位メチレン
基炭素），24.3（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），1
4.2 （CH3，プロペン2位結合メチル基の炭素）。
【０２１４】（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピ
ル3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミド（（E) N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-
(2-amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic ami
de）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.17 g（0.48 mm
ol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.089
g（0.58 mmol）（ナカライテスク社製）をジメチルホ
ルムアミド 1mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.08
ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.16 g 得た
（収率定量的）。
ル3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミド（（E) N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-
(2-amino-benzo[d]phenyl）-2-methyl-2-propenoic ami
de）の合成 （E） 3-（2-アミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.17 g（0.48 mm
ol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.089
g（0.58 mmol）（ナカライテスク社製）をジメチルホ
ルムアミド 1mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.08
ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.16 g 得た
（収率定量的）。
【０２１５】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.82 - 7.46（3H，
m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及
びベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.38（1H， s， プロペン3位プロトン）， 7.33
（1H， ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位
或いは7’位プロトン），7.23 - 7.17（1Ｈ，ｍ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン）， 6.99（1H，
s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），6.61（1
H，bs，アミド基プロトン），3.98 （2H， bs， アミノ
基プロトン），3.67（3H，ｓ， GABA部メチルエステル
のメチル基プロトン），3.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA
部γ位メチレン基プロトン），2.42（2Ｈ，ｔ，Ｊ=7 H
z，GABA部α位メチレン基プロトン），1.92（2H，ｔ-
ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロト
ン）2.03（3H，s， プロペン2位結合メチル基のプロト
ン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.1 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭素，1位
カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシンナミ
ル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，プロペン2位
炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），134.3
（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），130.2 （CH， プロペン3位炭素），
128.8 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位
炭素）127.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 126.4 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素）， 125.3 （CH，ベンゾシン
ナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.6 （四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），122.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），108.8 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），51.7 （C
H3，GABA部メチルエステルのメチル基炭素），39.6 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.7 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.3 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.2 （CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.82 - 7.46（3H，
m， ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及
びベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ン）， 7.38（1H， s， プロペン3位プロトン）， 7.33
（1H， ｄ，ｄ=8Ｈｚ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位
或いは7’位プロトン），7.23 - 7.17（1Ｈ，ｍ，ベ
ンゾシンナミル芳香環8’位プロトン）， 6.99（1H，
s， ベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），6.61（1
H，bs，アミド基プロトン），3.98 （2H， bs， アミノ
基プロトン），3.67（3H，ｓ， GABA部メチルエステル
のメチル基プロトン），3.42（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA
部γ位メチレン基プロトン），2.42（2Ｈ，ｔ，Ｊ=7 H
z，GABA部α位メチレン基プロトン），1.92（2H，ｔ-
ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロト
ン）2.03（3H，s， プロペン2位結合メチル基のプロト
ン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.1 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），169.1 （四級炭素，1位
カルボニル炭素），142.8（四級炭素，ベンゾシンナミ
ル芳香環2’位炭素），134.5 （四級炭素，プロペン2位
炭素又はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素），134.3
（四級炭素， プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳
香環3a’位炭素），130.2 （CH， プロペン3位炭素），
128.8 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位
炭素）127.6 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は
6’位炭素）， 127.3 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環7a’位炭素）， 126.4 （CH，ベンゾシンナミル芳
香環4’位又は7’位炭素）， 125.3 （CH，ベンゾシン
ナミル芳香環4’位又は7’位炭素）， 124.6 （四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環1’位炭素），122.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環8’位炭素），108.8 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環3’位炭素），51.7 （C
H3，GABA部メチルエステルのメチル基炭素），39.6 （C
H2，GABA部γ位メチレン基炭素），31.7 （CH2，GABA部
α位メチレン基炭素），24.3 （CH2，GABA部β位メチレ
ン基炭素），14.2 （CH3，プロペン2位結合メチル基の
炭素）。
【０２１６】（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-ア
ミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-benzo[d]ph
enyl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-(2-アミ
ノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 アミ
ド0.16 g （0.48 mmol）をメタノール１mlに溶解し、こ
れに1規定 水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、40度に
て４時間反応させた。1規定塩酸にて系内を約pH４に調
整した後、反応溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／
メタノール=10／3）により精製し、目的化合物を0.15 g
得た（収率定量的）。
ミノ-ベンゾ[d]フェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-benzo[d]ph
enyl)-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-(2-アミ
ノ-ベンゾ[d]フェニル)-2-メチル-2-プロペン酸 アミ
ド0.16 g （0.48 mmol）をメタノール１mlに溶解し、こ
れに1規定 水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、40度に
て４時間反応させた。1規定塩酸にて系内を約pH４に調
整した後、反応溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／
メタノール=10／3）により精製し、目的化合物を0.15 g
得た（収率定量的）。
【０２１７】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.97 - 7.88 (4H， m，
ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及びベン
ゾシンナミル芳香環4‘位又は7’位プロトン及びベンゾ
シンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.58-7.48 （2H，
ｍ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ンとベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），7.39
（1H， s， プロペン3位プロトン），3.25 （2H，ｔ，
Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.33 （2
Ｈ，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），
2.00 （3H，s， プロペン2位結合メチル基のプロト
ン）, 1.79 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β
位メチレン基プロトン）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.52 （1
H，bs，アミド基プロトン），7.97 - 7.88 (4H， m，
ベンゾシンナミル芳香環5’位と6’位プロトン及びベン
ゾシンナミル芳香環4‘位又は7’位プロトン及びベンゾ
シンナミル芳香環8’位プロトン）， 7.58-7.48 （2H，
ｍ， ベンゾシンナミル芳香環4‘位或いは7’位プロト
ンとベンゾシンナミル芳香環3’位プロトン），7.39
（1H， s， プロペン3位プロトン），3.25 （2H，ｔ，
Ｊ=7 Hz，GABA部γ位メチレン基プロトン），2.33 （2
Ｈ，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），
2.00 （3H，s， プロペン2位結合メチル基のプロト
ン）, 1.79 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β
位メチレン基プロトン）。
【０２１８】13C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δpp
m）：174.2 （四級炭素，GABA部カルボニル炭素），16
9.1 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.7（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），132.1 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 128.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.4 （CH， プロペン3位炭
素）， 126.9 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 125.9（四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），126.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），115.5（CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），38.4 （CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.3（CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.5
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.8（CH3，プロ
ペン2位結合メチル基の炭素）。
m）：174.2 （四級炭素，GABA部カルボニル炭素），16
9.1 （四級炭素，1位カルボニル炭素），136.7（四級炭
素，ベンゾシンナミル芳香環2’位炭素），132.1 （四
級炭素，プロペン2位炭素又はベンゾシンナミル芳香環3
a’位炭素），130.8 （四級炭素， プロペン2位炭素又
はベンゾシンナミル芳香環3a’位炭素）， 129.5 （C
H， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭素），12
7.9 （CH， ベンゾシンナミル芳香環5’位又は6’位炭
素）， 128.0 （四級炭素，ベンゾシンナミル芳香環7
a’位炭素）， 127.1 （CH，ベンゾシンナミル芳香環
4’位又は7’位炭素），126.4 （CH， プロペン3位炭
素）， 126.9 （CH，ベンゾシンナミル芳香環4’位又は
7’位炭素）， 125.9（四級炭素，ベンゾシンナミル芳
香環1’位炭素），126.1 （CH， ベンゾシンナミル芳香
環8’位炭素），115.5（CH， ベンゾシンナミル芳香環
3’位炭素），38.4 （CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.3（CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.5
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.8（CH3，プロ
ペン2位結合メチル基の炭素）。
【０２１９】（E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタ
ミン酸 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（（E） N-(Di-t-butyloxy)-L-gluta
mic acid 3-（2-amino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-p
ropenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩0.
21 g（0.72 mmol）（シグマ社製）をジメチルホルムア
ミド ２mlに溶解し、これに、トリエチルアミン0.10ml
（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。
反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加
え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水
溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.27 g 得た
（収率定量的）。
ミン酸 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（（E） N-(Di-t-butyloxy)-L-gluta
mic acid 3-（2-amino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-p
ropenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とL-グルタミン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩0.
21 g（0.72 mmol）（シグマ社製）をジメチルホルムア
ミド ２mlに溶解し、これに、トリエチルアミン0.10ml
（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。
反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加
え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水
溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.27 g 得た
（収率定量的）。
【０２２０】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.78 （1H，ｄ，
Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.22 （1Ｈ，ｓ，プロペ
ン3位プロトン），6.93 （1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル
芳香環6‘位プロトン），6.68 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環３‘位プロトン），6.65 （1H，ｄ，J=8 Hz，シン
ナミル芳香環５‘位プロトン），4.52 - 4.45 （1H，
ｍ， グルタミン酸部α位プロトン），2.51 - 2.42 （2
H，ｍ， グルタミン酸部γ位プロトン），2.25 - 2.04
（2H，ｍ， グルタミン酸部β位プロトン），1.99 （3
H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.49 （9
H，s，ブチル基のメチル基プロトン），1.46 （9H，s，
ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：171.3 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），170.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.8 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），146.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），134.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），130.4 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），130.1 （CH，プロペン3位炭素），11
8.9 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），117.
3 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），114.8 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.4 （四級炭素，ブ
チル基），81.1 （四級炭素，ブチル基），53.2 （CH，
グルタミン酸部α位炭素），31.5 （CH2，グルタミン酸
部γ位炭素）， 26.9 （CH2，グルタミン酸部β位炭
素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），13.9
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.78 （1H，ｄ，
Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.22 （1Ｈ，ｓ，プロペ
ン3位プロトン），6.93 （1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル
芳香環6‘位プロトン），6.68 （1H，ｓ，シンナミル芳
香環３‘位プロトン），6.65 （1H，ｄ，J=8 Hz，シン
ナミル芳香環５‘位プロトン），4.52 - 4.45 （1H，
ｍ， グルタミン酸部α位プロトン），2.51 - 2.42 （2
H，ｍ， グルタミン酸部γ位プロトン），2.25 - 2.04
（2H，ｍ， グルタミン酸部β位プロトン），1.99 （3
H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.49 （9
H，s，ブチル基のメチル基プロトン），1.46 （9H，s，
ブチル基のメチル基プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：171.3 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），170.1 （四級炭
素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.8 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），146.1 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），134.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン2位炭素），130.4 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），130.1 （CH，プロペン3位炭素），11
8.9 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），117.
3 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），114.8 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），82.4 （四級炭素，ブ
チル基），81.1 （四級炭素，ブチル基），53.2 （CH，
グルタミン酸部α位炭素），31.5 （CH2，グルタミン酸
部γ位炭素）， 26.9 （CH2，グルタミン酸部β位炭
素），27.7 （CH3，ブチル基のメチル基炭素），13.9
（CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０２２１】（E）N- L-グルタミン酸3-（2-アミノ-4 -
クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-L-Glutamic acid 3-(2-amino-4-chloropheny
l)-2-methyl- 2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.27 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて5時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量的）。
クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド
（（E） N-L-Glutamic acid 3-(2-amino-4-chloropheny
l)-2-methyl- 2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-グルタミン酸 3-（2-
アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.27 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて5時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量的）。
【０２２２】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.39 （1
H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロトン），7.11 （1H，ｄ，
J=8Hz，シンナミル芳香環6‘位プロトン），7.05 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），6.93 （1H，ｓ，シン
ナミル芳香環３‘位プロトン），6.77 （1H，ｄ，J=8 H
z，シンナミル芳香環５‘位プロトン），4.34 （1H，t-
d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン酸部α位プロトン），
2.29 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グルタミン酸部γ位プロト
ン），2.19 - 1.97 （2H，ｍ， グルタミン酸部β位プ
ロトン），1.93 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プ
ロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），173.6
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.2
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.1（四
級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），133.4（四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.0（四級炭素，
プロペン2位炭素），130.9（CH，シンナミル芳香環６
‘位炭素），127.6（CH，プロペン3位炭素），120.8（C
H，シンナミル芳香環５‘位炭素），117.0（四級炭素，
シンナミル芳香環１‘位炭素），115.6 （CH，シンナミ
ル芳香環３‘位炭素），52.1 （CH，グルタミン酸部α
位炭素），31.5 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 2
6.5 （CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.4 （CH3，
プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.39 （1
H，ｄ，Ｊ=7Hz，アミド基プロトン），7.11 （1H，ｄ，
J=8Hz，シンナミル芳香環6‘位プロトン），7.05 （1
H，ｓ，プロペン3位プロトン），6.93 （1H，ｓ，シン
ナミル芳香環３‘位プロトン），6.77 （1H，ｄ，J=8 H
z，シンナミル芳香環５‘位プロトン），4.34 （1H，t-
d，J=12Hz，J=5 Hz， グルタミン酸部α位プロトン），
2.29 （2H，ｔ，J= 7 Hz， グルタミン酸部γ位プロト
ン），2.19 - 1.97 （2H，ｍ， グルタミン酸部β位プ
ロトン），1.93 （3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プ
ロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：174.1
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），173.6
（四級炭素，グルタミン酸部カルボニル炭素），169.2
（四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.1（四
級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），133.4（四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.0（四級炭素，
プロペン2位炭素），130.9（CH，シンナミル芳香環６
‘位炭素），127.6（CH，プロペン3位炭素），120.8（C
H，シンナミル芳香環５‘位炭素），117.0（四級炭素，
シンナミル芳香環１‘位炭素），115.6 （CH，シンナミ
ル芳香環３‘位炭素），52.1 （CH，グルタミン酸部α
位炭素），31.5 （CH2，グルタミン酸部γ位炭素）， 2
6.5 （CH2，グルタミン酸部β位炭素），14.4 （CH3，
プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０２２３】（E）N-3-メチルオキシカルボニルプロピ
ル 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロ
ペン酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl
3-（2-a mino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenoic
amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.11
g（0.72 mmol）（ナカライテスク社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.10m
l（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.19 g 得た
（収率定量的）。
ル 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロ
ペン酸 アミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl
3-（2-a mino-4-chlorophenyl）-2-methyl-2-propenoic
amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とγ-アミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.11
g（0.72 mmol）（ナカライテスク社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.10m
l（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.19 g 得た
（収率定量的）。
【０２２４】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.22（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.08 （1H，bs，アミド基プロト
ン），6.94（1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル芳香環6‘位プ
ロトン），6.69（1H，ｓ，シンナミル芳香環３‘位プロ
トン），6.67（1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル芳香環５
‘位プロトン），3.66（3H，ｓ， GABA部メチルエステ
ルのメチル基プロトン），3.44（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GAB
A部γ位メチレン基プロトン），2.44（2H，ｔ，Ｊ=7 H
z，GABA部α位メチレン基プロトン），2.00（3H，ｓ，
プロペン2位結合メチル基プロトン），1.94（2H，ｔ-
ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロト
ン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.3（四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.2（四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），146.1（四級炭素，シンナミ
ル芳香環2‘位炭素），134.6（四級炭素，シンナミル芳
香環4‘位炭素），132.8（四級炭素，プロペン2位炭
素），130.6（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），13
0.2 （CH，プロペン3位炭素），119.2（四級炭素，シン
ナミル芳香環１‘位炭素），117.6 （CH，シンナミル芳
香環５‘位炭素），115.0（CH，シンナミル芳香環３
‘位炭素），51.8（CH3，GABA部メチルエステルのメチ
ル基炭素），39.9（CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.7 （CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.1
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.2 （CH3，プ
ロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.22（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.08 （1H，bs，アミド基プロト
ン），6.94（1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル芳香環6‘位プ
ロトン），6.69（1H，ｓ，シンナミル芳香環３‘位プロ
トン），6.67（1H，ｄ，J=8Hz，シンナミル芳香環５
‘位プロトン），3.66（3H，ｓ， GABA部メチルエステ
ルのメチル基プロトン），3.44（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GAB
A部γ位メチレン基プロトン），2.44（2H，ｔ，Ｊ=7 H
z，GABA部α位メチレン基プロトン），2.00（3H，ｓ，
プロペン2位結合メチル基プロトン），1.94（2H，ｔ-
ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロト
ン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：174.3（四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.2（四級炭素，プロ
ペン1位カルボニル炭素），146.1（四級炭素，シンナミ
ル芳香環2‘位炭素），134.6（四級炭素，シンナミル芳
香環4‘位炭素），132.8（四級炭素，プロペン2位炭
素），130.6（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），13
0.2 （CH，プロペン3位炭素），119.2（四級炭素，シン
ナミル芳香環１‘位炭素），117.6 （CH，シンナミル芳
香環５‘位炭素），115.0（CH，シンナミル芳香環３
‘位炭素），51.8（CH3，GABA部メチルエステルのメチ
ル基炭素），39.9（CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.7 （CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.1
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.2 （CH3，プ
ロペン2位結合メチル基炭素）。
【０２２５】（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-ア
ミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミ
ド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-4-chloroph
enyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 (E) N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-アミ
ノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド
0.23 g（0.75 mmol）をメタノール１mlに溶解し、これ
に1規定 水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、室温にて
12時間反応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH４に調
整した後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／メタ
ノール=10／1）により精製し、目的化合物を0.22 g得た
（収率定量的）。
ミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミ
ド（（E） N-3-Carboxypropyl 3-（2-amino-4-chloroph
enyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 (E) N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-アミ
ノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド
0.23 g（0.75 mmol）をメタノール１mlに溶解し、これ
に1規定 水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、室温にて
12時間反応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH４に調
整した後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン／メタ
ノール=10／1）により精製し、目的化合物を0.22 g得た
（収率定量的）。
【０２２６】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.31 （1
H，bs，アミド基プロトン），6.99 （1H，ｄ，J=8Hz，
シンナミル芳香環6‘位プロトン），6.94 （1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），6.76 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），6.55 （1H，ｄ，J=8Hz，シンナミ
ル芳香環５‘位プロトン），3.24 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，
GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.91 （3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.79 （2H，
ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロ
トン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：175.3
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.5 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），148.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），133.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.0 （四級炭
素，プロペン2位炭素），130.7 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭素），11
8.6 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），115.
0 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），113.7 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），38.8 （CH2，GABA部γ
位メチレン基炭素），32.2 （CH2，GABA部α位メチレン
基炭素），25.0 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），
14.7 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.31 （1
H，bs，アミド基プロトン），6.99 （1H，ｄ，J=8Hz，
シンナミル芳香環6‘位プロトン），6.94 （1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），6.76 （1H，ｓ，シンナミル芳香
環３‘位プロトン），6.55 （1H，ｄ，J=8Hz，シンナミ
ル芳香環５‘位プロトン），3.24 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，
GABA部γ位メチレン基プロトン），2.29 （2H，ｔ，Ｊ=
7 Hz，GABA部α位メチレン基プロトン），1.91 （3H，
ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン），1.79 （2H，
ｔ-ｔ，Ｊ=7 Hz，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロ
トン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：175.3
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），169.5 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），148.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環2‘位炭素），133.4 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.0 （四級炭
素，プロペン2位炭素），130.7 （CH，シンナミル芳香
環６‘位炭素），127.4 （CH，プロペン3位炭素），11
8.6 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），115.
0 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），113.7 （CH，
シンナミル芳香環３‘位炭素），38.8 （CH2，GABA部γ
位メチレン基炭素），32.2 （CH2，GABA部α位メチレン
基炭素），25.0 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），
14.7 （CH3，プロペン2位結合メチル基炭素）。
【０２２７】N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン
酸 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparati
c acid3-(2-amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩
0.20 g（0.72 mmol）（国産化学社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これに、トリエチルアミン0.1
0ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.26 g 得た
（収率定量的）。
酸 3-（2-アミノ-4-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミド（（E） N-(o-Di-t-butyloxy)-L-asparati
c acid3-(2-amino-4-chlorophenyl)-2-methyl-2-propen
oic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノ-4 -クロロフェニル）-2-メチル-2-
プロペン酸 p-ニトロフェニルエステル0.20 g（0.60 mm
ol）とL-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル・塩酸塩
0.20 g（0.72 mmol）（国産化学社製）をジメチルホル
ムアミド ２mlに溶解し、これに、トリエチルアミン0.1
0ml（和光純薬社製）を加えて室温にて20時間反応させ
た。反応の終了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を
加え、酢酸エチル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム
水溶液にて数回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥を行った。その
後、溶媒を減圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノ
ール：95／5）にて精製して目的化合物を0.26 g 得た
（収率定量的）。
【０２２８】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.31（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.22 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド
基プロトン），6.96（1H，ｄ，J=9Hz，シンナミル芳香
環6‘位プロトン），6.71（1H，ｓ，シンナミル芳香環
３‘位プロトン），6.70（1H，ｄ，J=9 Hz，シンナミル
芳香環５‘位プロトン），4.83（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，
Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），2.99（1
H，d-d，Ｊ=4Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロ
トン），2.84（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラ
ギン酸部β位プロトン），2.03（3H，ｓ，プロペン2位
結合メチル基プロトン），1.49（9H，s，ブチル基のメ
チル基プロトン），1.47（9H，s，ブチル基のメチル基
プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.3 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.7 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.9 （四級
炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），134.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），132.3（四級炭素，
プロペン2位炭素），130.9（CH，プロペン3位炭素），1
30.5（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），119.1（四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），117.6（CH，
シンナミル芳香環５‘位炭素），114.9（CH，シンナミ
ル芳香環３‘位炭素），82.7（四級炭素，ブチル基），
81.8（四級炭素，ブチル基），49.6（CH，アスパラギン
酸部α位炭素），37.2（CH2，アスパラギン酸部β位炭
素），27.9（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.7（C
H3，ブチル基のメチル基炭素），13.9（CH3，プロペン2
位結合メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム，δppm ）：7.31（1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.22 （1H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド
基プロトン），6.96（1H，ｄ，J=9Hz，シンナミル芳香
環6‘位プロトン），6.71（1H，ｓ，シンナミル芳香環
３‘位プロトン），6.70（1H，ｄ，J=9 Hz，シンナミル
芳香環５‘位プロトン），4.83（1H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，
Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プロトン），2.99（1
H，d-d，Ｊ=4Hz，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロ
トン），2.84（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパラ
ギン酸部β位プロトン），2.03（3H，ｓ，プロペン2位
結合メチル基プロトン），1.49（9H，s，ブチル基のメ
チル基プロトン），1.47（9H，s，ブチル基のメチル基
プロトン）13 C-NMR（重クロロホルム、δppm ）：170.3 （四級炭
素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），169.7 （四級
炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），168.7 （四
級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.9 （四級
炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），134.6 （四級炭
素，シンナミル芳香環4‘位炭素），132.3（四級炭素，
プロペン2位炭素），130.9（CH，プロペン3位炭素），1
30.5（CH，シンナミル芳香環６‘位炭素），119.1（四
級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），117.6（CH，
シンナミル芳香環５‘位炭素），114.9（CH，シンナミ
ル芳香環３‘位炭素），82.7（四級炭素，ブチル基），
81.8（四級炭素，ブチル基），49.6（CH，アスパラギン
酸部α位炭素），37.2（CH2，アスパラギン酸部β位炭
素），27.9（CH3，ブチル基のメチル基炭素），27.7（C
H3，ブチル基のメチル基炭素），13.9（CH3，プロペン2
位結合メチル基炭素）。
【０２２９】（E）N-L-アスパラギン酸 3-（2-アミノ-4
-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（E）
N-L-Asparatic acid 3-（2-amino-4-chlorophenyl）-2
-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-(2
-アミノ-4 -クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.26 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて６時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量的）。
-クロロフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸アミド（E）
N-L-Asparatic acid 3-（2-amino-4-chlorophenyl）-2
-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E）N-(o-ジ-t-ブチルオキシ)-L-アスパラギン酸 3-(2
-アミノ-4 -クロロフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸ア
ミド0.26 g（0.60 mmol）を5％トリフルオロ酢酸含有の
クロロホルムに溶解し、室温にて６時間脱保護反応を行
った。反応の終了をTLCにて確認後、減圧濃縮及び乾燥
を行い、目的化合物0.20 gを得た（収率定量的）。
【０２３０】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.39 （1
H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.08 （1Ｈ，
ｄ，J=9Hz，シンナミル芳香環6‘位プロトン），7.01
（1Ｈ，ｓ，プロペン3位プロトン），6.89 （1H，ｓ，
シンナミル芳香環３‘位プロトン），6.74 （1H，ｄ，J
=9 Hz，シンナミル芳香環５‘位プロトン），4.69 （1
H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プ
ロトン），2.87（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパ
ラギン酸部β位プロトン），2.72 （1H，d-d，Ｊ=4 H
z，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），1.92
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.8
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
0 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
9.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.2
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.8
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.5
（四級炭素，プロペン2位炭素），131.1 （CH，シンナ
ミル芳香環６‘位炭素），128.0 （CH，プロペン3位炭
素），117.7 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），11
7.2 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），113.
4 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），49.3 （CH，
アスパラギン酸部α位炭素），36.1 （CH2，アスパラギ
ン酸部β位炭素），14.6 （ CH3，プロペン2位結合メチ
ル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド，δppm ）：8.39 （1
H，ｄ，Ｊ=8Hz，アミド基プロトン），7.08 （1Ｈ，
ｄ，J=9Hz，シンナミル芳香環6‘位プロトン），7.01
（1Ｈ，ｓ，プロペン3位プロトン），6.89 （1H，ｓ，
シンナミル芳香環３‘位プロトン），6.74 （1H，ｄ，J
=9 Hz，シンナミル芳香環５‘位プロトン），4.69 （1
H，ｔ-d，Ｊ=8 Hz，Ｊ=4 Hz，アスパラギン酸部α位プ
ロトン），2.87（1H，d-d，Ｊ=4 Hz，J=17 Hz，アスパ
ラギン酸部β位プロトン），2.72 （1H，d-d，Ｊ=4 H
z，J=17 Hz，アスパラギン酸部β位プロトン），1.92
（3H，ｓ，プロペン2位結合メチル基プロトン）13 C-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm ）：172.8
（四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），172.
0 （四級炭素，アスパラギン酸部カルボニル炭素），16
9.0 （四級炭素，プロペン1位カルボニル炭素），145.2
（四級炭素，シンナミル芳香環2‘位炭素），139.8
（四級炭素，シンナミル芳香環4‘位炭素），133.5
（四級炭素，プロペン2位炭素），131.1 （CH，シンナ
ミル芳香環６‘位炭素），128.0 （CH，プロペン3位炭
素），117.7 （CH，シンナミル芳香環５‘位炭素），11
7.2 （四級炭素，シンナミル芳香環１‘位炭素），113.
4 （CH，シンナミル芳香環３‘位炭素），49.3 （CH，
アスパラギン酸部α位炭素），36.1 （CH2，アスパラギ
ン酸部β位炭素），14.6 （ CH3，プロペン2位結合メチ
ル基炭素）。
【０２３１】（E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピ
ル 3-（2-アミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 ア
ミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-（2-amin
ophenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸
p-ニトロフェニルエステル0.65 g（2.2 mmol）とγ-ア
ミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.40 g（2.6 mmo
l）（ナカライテスク社製）とをジメチルホルムアミド
４mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.36ml（和光純
薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。反応の終
了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加え、酢酸エ
チル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数
回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減
圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：95／
5）にて精製して目的化合物を0.58 g 得た（収率；95
％）。
ル 3-（2-アミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 ア
ミド（（E） N-3-Methyloxycarbonylpropyl 3-（2-amin
ophenyl）-2-methyl-2-propenoic amide）の合成 （E） 3-（2-アミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸
p-ニトロフェニルエステル0.65 g（2.2 mmol）とγ-ア
ミノブタン酸メチルエステル・塩酸塩0.40 g（2.6 mmo
l）（ナカライテスク社製）とをジメチルホルムアミド
４mlに溶解し、これにトリエチルアミン0.36ml（和光純
薬社製）を加えて室温にて20時間反応させた。反応の終
了をTLCにて確認後、酢酸エチル及び水を加え、酢酸エ
チル層を分液し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液にて数
回、飽和塩化ナトリウム水溶液にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った。その後、溶媒を減
圧下にて留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：メチレンクロライド／メタノール：95／
5）にて精製して目的化合物を0.58 g 得た（収率；95
％）。
【０２３２】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.32 （1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.12 （1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，シン
ナミル芳香環６’位プロトン），7.07 （1H，ｄｄ，Ｊ=
8 Hz，Ｊ=8 Hz，シンナミル芳香環4’位プロトン），6.
76 （1H， ｄ，Ｊ=8Ｈｚ，芳香環３’位プロトン），6.
70（1H，ｄｄ，Ｊ=8 Hz， Ｊ=8 Hz，芳香環５’位プロ
トン），3.68 （3H，ｓ， GABA部メチルエステルのメチ
ル基プロトン），3.45 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位
メチレン基プロトン），2.45（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA
部α位メチレン基プロトン），2.02（3H，ｓ，プロペン
2位結合メチル基プロトン），1.94（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 H
z，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.4 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.21 （四級炭素，プ
ロペン1位カルボニル炭素），144.8 （四級炭素，シン
ナミル芳香環２’位炭素），132.3 （四級炭素，プロペ
ン２位炭素），131.4 （CH，プロペン3位炭素）， 129.
6 （CH，シンナミル芳香環４’位炭素），129.3 （CH，
シンナミル芳香環６’位炭素），121.1（四級炭素，シ
ンナミル芳香環１’位炭素），118.0 （CH，シンナミル
芳香環５’位炭素）， 115.6（CH，シンナミル芳香環
３’位炭素），51.9 （CH3，GABA部メチルエステルのメ
チル基炭素），40.0 （CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.8 （CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.2
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.2 （CH3，プ
ロペン２位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重クロロホルム、δppm）：7.32 （1H，ｓ，プ
ロペン3位プロトン），7.12 （1H，ｄ，Ｊ=8 Hz，シン
ナミル芳香環６’位プロトン），7.07 （1H，ｄｄ，Ｊ=
8 Hz，Ｊ=8 Hz，シンナミル芳香環4’位プロトン），6.
76 （1H， ｄ，Ｊ=8Ｈｚ，芳香環３’位プロトン），6.
70（1H，ｄｄ，Ｊ=8 Hz， Ｊ=8 Hz，芳香環５’位プロ
トン），3.68 （3H，ｓ， GABA部メチルエステルのメチ
ル基プロトン），3.45 （2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA部γ位
メチレン基プロトン），2.45（2H，ｔ，Ｊ=7 Hz，GABA
部α位メチレン基プロトン），2.02（3H，ｓ，プロペン
2位結合メチル基プロトン），1.94（2H，ｔ-ｔ，Ｊ=7 H
z，Ｊ=7 Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR （重クロロホルム，δppm）：174.4 （四級炭
素，GABA部カルボニル炭素），170.21 （四級炭素，プ
ロペン1位カルボニル炭素），144.8 （四級炭素，シン
ナミル芳香環２’位炭素），132.3 （四級炭素，プロペ
ン２位炭素），131.4 （CH，プロペン3位炭素）， 129.
6 （CH，シンナミル芳香環４’位炭素），129.3 （CH，
シンナミル芳香環６’位炭素），121.1（四級炭素，シ
ンナミル芳香環１’位炭素），118.0 （CH，シンナミル
芳香環５’位炭素）， 115.6（CH，シンナミル芳香環
３’位炭素），51.9 （CH3，GABA部メチルエステルのメ
チル基炭素），40.0 （CH2，GABA部γ位メチレン基炭
素），31.8 （CH2，GABA部α位メチレン基炭素），24.2
（CH2，GABA部β位メチレン基炭素），14.2 （CH3，プ
ロペン２位結合のメチル基炭素）。
【０２３３】（E） N-3-カルボキシプロピル 3-（2-ア
ミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド（（E）
N-3-Carboxypropyl 3-（2-aminophenyl）-2-methyl-2-
propenoic amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド0.58 g
（2.1 mmol）をメタノール5mlに溶解し、これに1規定
水酸化ナトリウム水溶液5mlを加えて室温にて12時間反
応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH４に調整した
後、溶媒を減圧下にて留去し、得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロ
メタン／メタノール=10／2）により精製し、目的化合物
を0.55 g得た（収率定量的）。
ミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド（（E）
N-3-Carboxypropyl 3-（2-aminophenyl）-2-methyl-2-
propenoic amide）の合成 （E） N-3-メチルオキシカルボニルプロピル 3-（2-ア
ミノフェニル）-2-メチル-2-プロペン酸 アミド0.58 g
（2.1 mmol）をメタノール5mlに溶解し、これに1規定
水酸化ナトリウム水溶液5mlを加えて室温にて12時間反
応させた。反応液を1規定塩酸にて約pH４に調整した
後、溶媒を減圧下にて留去し、得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロ
メタン／メタノール=10／2）により精製し、目的化合物
を0.55 g得た（収率定量的）。
【０２３４】本化合物の構造は1H-NMR及び13Ｃ-NMRによ
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.47（1
H、ｔ、J=6 Hz、アミド基プロトン）、7.47 （1H，ｄ，
Ｊ=7 Hz，シンナミル芳香環3’位プロトン），7.44 -
7.32 （3H，m，シンナミル芳香環4’位と5‘位と6’位
プロトン）、7.26 （1H，ｓ，プロペン3位プロトン），
3.22 （2H，ｔ-ｄ，Ｊ=6 Hz， Ｊ=6 Hz，GABA部γ位メ
チレン基プロトン），2.31 （2H，ｔ，Ｊ=6 Hz，GABA部
α位メチレン基プロトン），1.89 （3H，ｓ，プロペン2
位結合メチル基プロトン），1.76 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=6 H
z，Ｊ=6 Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），170.0 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），136.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環２’位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン２位炭素）， 130.1 （ＣＨ，シンナミル
芳香環４’位炭素），130.1 （CH，シンナミル芳香環
６’位炭素），129.4（四級炭素，シンナミル芳香環
１’位炭素），128.7（CH，シンナミル芳香環５’位炭
素）， 126.3 （CH，プロペン3位炭素），122.7（CH，
シンナミル芳香環３’位炭素），38.4 （CH2，GABA部γ
位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部α位メチレン
基炭素），24.5 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），
14.6 （CH3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR（重ジメチルスルホキシド、δppm）：8.47（1
H、ｔ、J=6 Hz、アミド基プロトン）、7.47 （1H，ｄ，
Ｊ=7 Hz，シンナミル芳香環3’位プロトン），7.44 -
7.32 （3H，m，シンナミル芳香環4’位と5‘位と6’位
プロトン）、7.26 （1H，ｓ，プロペン3位プロトン），
3.22 （2H，ｔ-ｄ，Ｊ=6 Hz， Ｊ=6 Hz，GABA部γ位メ
チレン基プロトン），2.31 （2H，ｔ，Ｊ=6 Hz，GABA部
α位メチレン基プロトン），1.89 （3H，ｓ，プロペン2
位結合メチル基プロトン），1.76 （2H，ｔ-ｔ，Ｊ=6 H
z，Ｊ=6 Hz，GABA部β位メチレン基プロトン）13 C-NMR （重ジメチルスルホキシド，δppm）：174.2
（四級炭素，GABA部カルボニル炭素），170.0 （四級炭
素，プロペン1位カルボニル炭素），136.3 （四級炭
素，シンナミル芳香環２’位炭素），132.4 （四級炭
素，プロペン２位炭素）， 130.1 （ＣＨ，シンナミル
芳香環４’位炭素），130.1 （CH，シンナミル芳香環
６’位炭素），129.4（四級炭素，シンナミル芳香環
１’位炭素），128.7（CH，シンナミル芳香環５’位炭
素）， 126.3 （CH，プロペン3位炭素），122.7（CH，
シンナミル芳香環３’位炭素），38.4 （CH2，GABA部γ
位メチレン基炭素），31.3 （CH2，GABA部α位メチレン
基炭素），24.5 （CH2，GABA部β位メチレン基炭素），
14.6 （CH3，プロペン２位結合のメチル基炭素）。
【０２３５】(E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル
3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（(E) N-L-glutamic acid diethyl e
ster 3-(4-dimethylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-
propenoic amide ）の合成 (E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸 9.0 g(36 mmol) をテトラヒドロフラン9
0 ml に溶解し、窒素雰囲気下、1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）（国
産化学株式会社製；Kokusan chemical works） 5.6 g、
グルタミン酸ジエチルエステル塩酸塩（国産化学株式会
社製；Kokusan chemical works） 9.1 g 及びトリエチ
ルアミン（和光純薬社製） 3.8 gを加えた。更にN,N’-
ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）（和光純薬社
製）7.8 g をテトラヒドロフラン15 ml 溶解したものを
加えて室温にて一夜間撹拌した。反応終了後沈殿物を濾
過により除き、濾液を減圧下濃縮して得られた残渣を酢
酸エチル500 ml に転溶した。この溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、2Ｍクエン酸水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
により乾燥を行った後濃縮して粗生成物を得た。これを
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タ
イプ）Fuji silysia chem. Co.、 NH-DM1020 、1000
g、溶離液 クロロホルム／メタノール20：１）により
精製し、目的化合物を12.1 g得た（収率：77.3 %）。
3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（(E) N-L-glutamic acid diethyl e
ster 3-(4-dimethylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-
propenoic amide ）の合成 (E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸 9.0 g(36 mmol) をテトラヒドロフラン9
0 ml に溶解し、窒素雰囲気下、1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）（国
産化学株式会社製；Kokusan chemical works） 5.6 g、
グルタミン酸ジエチルエステル塩酸塩（国産化学株式会
社製；Kokusan chemical works） 9.1 g 及びトリエチ
ルアミン（和光純薬社製） 3.8 gを加えた。更にN,N’-
ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）（和光純薬社
製）7.8 g をテトラヒドロフラン15 ml 溶解したものを
加えて室温にて一夜間撹拌した。反応終了後沈殿物を濾
過により除き、濾液を減圧下濃縮して得られた残渣を酢
酸エチル500 ml に転溶した。この溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、2Ｍクエン酸水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
により乾燥を行った後濃縮して粗生成物を得た。これを
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タ
イプ）Fuji silysia chem. Co.、 NH-DM1020 、1000
g、溶離液 クロロホルム／メタノール20：１）により
精製し、目的化合物を12.1 g得た（収率：77.3 %）。
【０２３６】(E) N-L-グルタミン酸 3-(2-アミノ-4-ジ
メチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド
・２ナトリウム塩（(E) N-L-Glutamic acid 3-(2-amino
-4-dimethylaminophenyl)-2-methyl-2-propenoic amide
di-sodium salt）の合成 暗室内にて、(E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル
3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミド 12.0 g (27.6 mmol)、鉄粉（Iron p
owder Koso Chem.Co.）7.3 g (130.7 mmol)、 酢酸 11
3.6 ml及び蒸留水 8.7 mlを反応容器に取り激しく撹拌
しながら92℃にて30分間撹拌反応を行った。TLCにて反
応の終了を確認し、冷却後鉄粉及び不溶物を濾取した。
この濾液を減圧下濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液 1000 ml を加えて不溶物を濾過した後、酢酸エチル3
00 ml による抽出を3回行った。抽出した酢酸エチル溶
液を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥後濃縮して粗生成物を得た。これを
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タ
イプ）Fuji silysia chem. Co.、NH-DM1020、900 g）、
溶離液 クロロホルム／メタノール20：１）により精製
し、E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル 3-(2-ア
ミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸アミドを4.5 g得た。更に、これをメタノール 45 ml
に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液 23 ml を加
え室温にて一夜間撹拌した。反応液から溶媒を留去した
後、過剰のアルカリ及び不純物塩を除去する目的で、固
相抽出充填剤ダイヤイオンHP 20（三菱化学社製）約100
0ml を用いたカラムにアプライし、水で溶出することで
脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶液にて溶出
し、これを凍結乾燥して目的化合物を2.9 g 得た（収
率：26.8 %）。
メチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド
・２ナトリウム塩（(E) N-L-Glutamic acid 3-(2-amino
-4-dimethylaminophenyl)-2-methyl-2-propenoic amide
di-sodium salt）の合成 暗室内にて、(E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル
3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミド 12.0 g (27.6 mmol)、鉄粉（Iron p
owder Koso Chem.Co.）7.3 g (130.7 mmol)、 酢酸 11
3.6 ml及び蒸留水 8.7 mlを反応容器に取り激しく撹拌
しながら92℃にて30分間撹拌反応を行った。TLCにて反
応の終了を確認し、冷却後鉄粉及び不溶物を濾取した。
この濾液を減圧下濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液 1000 ml を加えて不溶物を濾過した後、酢酸エチル3
00 ml による抽出を3回行った。抽出した酢酸エチル溶
液を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥後濃縮して粗生成物を得た。これを
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タ
イプ）Fuji silysia chem. Co.、NH-DM1020、900 g）、
溶離液 クロロホルム／メタノール20：１）により精製
し、E) N-L-グルタミン酸 ジエチルエステル 3-(2-ア
ミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン
酸アミドを4.5 g得た。更に、これをメタノール 45 ml
に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液 23 ml を加
え室温にて一夜間撹拌した。反応液から溶媒を留去した
後、過剰のアルカリ及び不純物塩を除去する目的で、固
相抽出充填剤ダイヤイオンHP 20（三菱化学社製）約100
0ml を用いたカラムにアプライし、水で溶出することで
脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶液にて溶出
し、これを凍結乾燥して目的化合物を2.9 g 得た（収
率：26.8 %）。
【０２３７】本化合物の構造は、1H-NMR，13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；7.45 (1H,
d, J=6Hz, アミド基プロトン，7.11 (1H, s, プロペン
酸3位プロトン)，6.89 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環6’
位プロトン)，6.06 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，6.
04 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環5’位プロトン)，4.85 (2H,
bs, アニリン性アミノ基プロトン），3.92（1H, ddd,
J=5Hz, J= 7Hz, J=6Hz, グルタミン酸部α位プロト
ン），2.89 (6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロト
ン )，2.04 (3H, s, プロペン2位のメチル基プロト
ン)，2.42 - 2.00 （4H, m, グルタミン酸部β位及びγ
位メチレン基プロトン），1.95 (3H, s, プロペン酸２
位結合メチル基プロトン）13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；173.6 (四
級炭素, グルタミン酸部カルボニル炭素)，172.9 (四
級炭素, グルタミン酸部カルボニル炭素)，167.8(四級
炭素, １位カルボニル炭素)，151.0 (四級炭素, 芳香環
４’位炭素)，147.7 (四級炭素, 芳香環2’位炭素)，13
0.1 (CH, 芳香環６’位炭素)，129.1 (CH,プロペン酸3
位炭素)，128.1 (四級炭素, プロペン２位炭素)，109.6
(四級炭素, 芳香環１’位炭素)，101.5 (CH, 芳香環
５’位炭素)，98.2 (CH, 芳香環３’位炭素)，53.6 （C
H, グルタミン酸部α位炭素），39.8 (CH3, ジメチルア
ミノ基のメチル基炭素)，30.0 （CH2, グルタミン酸部
γ位炭素），27.9 （CH2, グルタミン酸部β位炭素），
14.4 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；7.45 (1H,
d, J=6Hz, アミド基プロトン，7.11 (1H, s, プロペン
酸3位プロトン)，6.89 (1H, d, J=9 Hz, , 芳香環6’
位プロトン)，6.06 (1H, s, 芳香環3’位プロトン)，6.
04 (1H, d, J=9 Hz, 芳香環5’位プロトン)，4.85 (2H,
bs, アニリン性アミノ基プロトン），3.92（1H, ddd,
J=5Hz, J= 7Hz, J=6Hz, グルタミン酸部α位プロト
ン），2.89 (6H, s,ジメチルアミノ基のメチル基プロト
ン )，2.04 (3H, s, プロペン2位のメチル基プロト
ン)，2.42 - 2.00 （4H, m, グルタミン酸部β位及びγ
位メチレン基プロトン），1.95 (3H, s, プロペン酸２
位結合メチル基プロトン）13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；173.6 (四
級炭素, グルタミン酸部カルボニル炭素)，172.9 (四
級炭素, グルタミン酸部カルボニル炭素)，167.8(四級
炭素, １位カルボニル炭素)，151.0 (四級炭素, 芳香環
４’位炭素)，147.7 (四級炭素, 芳香環2’位炭素)，13
0.1 (CH, 芳香環６’位炭素)，129.1 (CH,プロペン酸3
位炭素)，128.1 (四級炭素, プロペン２位炭素)，109.6
(四級炭素, 芳香環１’位炭素)，101.5 (CH, 芳香環
５’位炭素)，98.2 (CH, 芳香環３’位炭素)，53.6 （C
H, グルタミン酸部α位炭素），39.8 (CH3, ジメチルア
ミノ基のメチル基炭素)，30.0 （CH2, グルタミン酸部
γ位炭素），27.9 （CH2, グルタミン酸部β位炭素），
14.4 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭素)。
【０２３８】(E) N-3-エチルオキシカルボニルプロピル
3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（(E) N-3-ethyloxycarbonylpropyl
3-(4-dimethylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-prope
noic amide）の合成 (E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸 5.5 g(22.0 mmol) をテトラヒドロフラ
ン60 ml に溶解し、窒素雰囲気下、1-ヒドロキシベンゾ
トリアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）
（国産化学株式会社製；Kokusan chemical works） 3.4
g、γ−アミノブタン酸エチルエステル 3.9 g 及びト
リエチルアミン （和光純薬社製）2.3 gを加えた。更
に、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）
（和光純薬社製） 7.8 g をテトラヒドロフラン10 ml
に溶解したものを加えて室温にて一夜間撹拌した。反応
終了後、沈殿物を濾過により除き，濾液を減圧下濃縮し
てその残渣を酢酸エチル400 ml に転溶した。この溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、2Ｍクエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムにより乾燥を行った後、濃縮して粗生
成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia chem. Co., NH
-DM1020 ，1000 g）、溶離液 クロロホルム／メタノー
ル20：１）により精製し、目的化合物を7.77 g得た（収
率：97.3 %）。
3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミド（(E) N-3-ethyloxycarbonylpropyl
3-(4-dimethylamino-2-nitrophenyl)-2-methyl-2-prope
noic amide）の合成 (E) 3-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル
-2-プロペン酸 5.5 g(22.0 mmol) をテトラヒドロフラ
ン60 ml に溶解し、窒素雰囲気下、1-ヒドロキシベンゾ
トリアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）
（国産化学株式会社製；Kokusan chemical works） 3.4
g、γ−アミノブタン酸エチルエステル 3.9 g 及びト
リエチルアミン （和光純薬社製）2.3 gを加えた。更
に、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）
（和光純薬社製） 7.8 g をテトラヒドロフラン10 ml
に溶解したものを加えて室温にて一夜間撹拌した。反応
終了後、沈殿物を濾過により除き，濾液を減圧下濃縮し
てその残渣を酢酸エチル400 ml に転溶した。この溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、2Ｍクエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムにより乾燥を行った後、濃縮して粗生
成物を得た。これをカラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル（アミノ修飾タイプ）Fuji silysia chem. Co., NH
-DM1020 ，1000 g）、溶離液 クロロホルム／メタノー
ル20：１）により精製し、目的化合物を7.77 g得た（収
率：97.3 %）。
【０２３９】(E) N-γ-アミノブタン酸 3-(2-アミノ-4
-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド ナトリウム塩（(E) N-γ-aminobutyric acid 3-(2-
amino-4-dimethylaminophenyl)-2-methyl-2-propenoic
amide sodium salt）の合成 暗室内にて、(E) N-エチルオキシカルボニルプロピル 3
-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 アミド7.7 g (21.2 mmol)、鉄粉（Iron powd
er Koso Chem.Co.）5.5 g (98.5 mmol)、酢酸 120 ml、
蒸留水 6.92 mlを反応容器に取り激しく撹拌しながら室
温にて15時間撹拌反応を行った。TLCにて反応の終了を
確認し、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中へ投
じ、これに酢酸エチル500 ml を加えて抽出を行った。
この有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し，無
水硫酸マグネシウム上で乾燥後濃縮して粗生成物を得
た。更に、これをカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル（アミノ修飾タイプ、Fujisilysia chem. Co., NH-DM
1020 ，900 g）、溶離液 クロロホルム／メタノール2
0：１）により精製し、(E) N-3-エチルオキシカルボニ
ルプロピル 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-
2-メチル-2-プロペン酸アミドを5.87 g得た。更に、こ
れをメタノール 60 mlに溶解し、１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液 27 mlを加え、室温にて一夜間撹拌した。この
反応液から溶媒を留去した後、過剰のアルカリ及び不純
物塩を除去する目的で、固相抽出充填剤ダイヤイオン H
P 20（三菱化学社製）約1000ml を用いたカラムにアプ
ライし、水で溶出することで脱塩を行い、引き続き10%
メタノール水溶液にて溶出し、これを凍結乾燥して目的
化合物を4.76 g 得た（収率：69.2 %）。
-ジメチルアミノフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミ
ド ナトリウム塩（(E) N-γ-aminobutyric acid 3-(2-
amino-4-dimethylaminophenyl)-2-methyl-2-propenoic
amide sodium salt）の合成 暗室内にて、(E) N-エチルオキシカルボニルプロピル 3
-(4-ジメチルアミノ-2-ニトロフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸 アミド7.7 g (21.2 mmol)、鉄粉（Iron powd
er Koso Chem.Co.）5.5 g (98.5 mmol)、酢酸 120 ml、
蒸留水 6.92 mlを反応容器に取り激しく撹拌しながら室
温にて15時間撹拌反応を行った。TLCにて反応の終了を
確認し、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中へ投
じ、これに酢酸エチル500 ml を加えて抽出を行った。
この有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し，無
水硫酸マグネシウム上で乾燥後濃縮して粗生成物を得
た。更に、これをカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル（アミノ修飾タイプ、Fujisilysia chem. Co., NH-DM
1020 ，900 g）、溶離液 クロロホルム／メタノール2
0：１）により精製し、(E) N-3-エチルオキシカルボニ
ルプロピル 3-(2-アミノ-4-ジメチルアミノフェニル)-
2-メチル-2-プロペン酸アミドを5.87 g得た。更に、こ
れをメタノール 60 mlに溶解し、１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液 27 mlを加え、室温にて一夜間撹拌した。この
反応液から溶媒を留去した後、過剰のアルカリ及び不純
物塩を除去する目的で、固相抽出充填剤ダイヤイオン H
P 20（三菱化学社製）約1000ml を用いたカラムにアプ
ライし、水で溶出することで脱塩を行い、引き続き10%
メタノール水溶液にて溶出し、これを凍結乾燥して目的
化合物を4.76 g 得た（収率：69.2 %）。
【０２４０】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)； 8.89 (1
H, d, J=4Hz, アミド基プロトン，7.02 (1H, s, プロペ
ン酸3位プロトン)，6.90 (1H, d, J=8 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，6.03 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン)，6.01 (1H, d, J=8Hz, 芳香環5’位プロトン)，5.0
5 (2H, bs, アニリン性アミノ基プロトン），3.14 （2
H, dt, J=4Hz, J= 7Hz, γ-アミノブタン酸部 α位プロ
トン），2.93 (6H, s, ジメチルアミノ基のメチル基プ
ロトン )，2.06 (2H, s, γ-アミノブタン酸部 γ位プ
ロトン)，1.91 (3H, s, プロペン酸２位結合メチル基プ
ロトン），1.69（2H, tt, J=7Hz, J=7Hz, γ-アミノブ
タン酸部 β位プロトン）13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)； 177.2
(四級炭素, γ-ブタン酸部カルボニル炭素)，169.6
(四級炭素, １位カルボニル炭素)，150.9 (四級炭素,
芳香環2’位炭素)，147.8 (四級炭素, 芳香環4’位炭
素)，129.9 (CH, 芳香環６’位炭素)，129.9 (CH, プロ
ペン酸3位炭素)，128.3 (四級炭素, プロペン２位炭
素)，128.1 (CH, プロペン酸3位炭素)，109.3 (四級炭
素, 芳香環１’位炭素)，101.3 (CH, 芳香環５’位炭
素)，98.0 (CH, 芳香環３’位炭素)，40.5（CH2, γ-ア
ミノブタン酸部 α位炭素），39.9 (CH3, ジメチルアミ
ノ基のメチル基炭素)，36.5 （CH2, γ-アミノブタン酸
部γ位炭素），25.4 （CH2, γ-アミノブタン酸部β位
炭素），14.6 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭
素)。
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)； 8.89 (1
H, d, J=4Hz, アミド基プロトン，7.02 (1H, s, プロペ
ン酸3位プロトン)，6.90 (1H, d, J=8 Hz, , 芳香環
6’位プロトン)，6.03 (1H, s, 芳香環3’位プロト
ン)，6.01 (1H, d, J=8Hz, 芳香環5’位プロトン)，5.0
5 (2H, bs, アニリン性アミノ基プロトン），3.14 （2
H, dt, J=4Hz, J= 7Hz, γ-アミノブタン酸部 α位プロ
トン），2.93 (6H, s, ジメチルアミノ基のメチル基プ
ロトン )，2.06 (2H, s, γ-アミノブタン酸部 γ位プ
ロトン)，1.91 (3H, s, プロペン酸２位結合メチル基プ
ロトン），1.69（2H, tt, J=7Hz, J=7Hz, γ-アミノブ
タン酸部 β位プロトン）13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)； 177.2
(四級炭素, γ-ブタン酸部カルボニル炭素)，169.6
(四級炭素, １位カルボニル炭素)，150.9 (四級炭素,
芳香環2’位炭素)，147.8 (四級炭素, 芳香環4’位炭
素)，129.9 (CH, 芳香環６’位炭素)，129.9 (CH, プロ
ペン酸3位炭素)，128.3 (四級炭素, プロペン２位炭
素)，128.1 (CH, プロペン酸3位炭素)，109.3 (四級炭
素, 芳香環１’位炭素)，101.3 (CH, 芳香環５’位炭
素)，98.0 (CH, 芳香環３’位炭素)，40.5（CH2, γ-ア
ミノブタン酸部 α位炭素），39.9 (CH3, ジメチルアミ
ノ基のメチル基炭素)，36.5 （CH2, γ-アミノブタン酸
部γ位炭素），25.4 （CH2, γ-アミノブタン酸部β位
炭素），14.6 (CH3, プロペン2位結合のメチル基炭
素)。
【０２４１】(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシ
リルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-
プロペン酸((E) 3-[4,5-dimethoxy-2-(trimethylsilyle
thoxycarbonyl ) aminophenyl]-2-methyl-2-propenoic
acid)の合成 暗室内にて、(E) エチル 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシ
フェニル)-2-メチル-2-プロペネート12.2 g (46.2 mmo
l)をアセトニトリル120 ml に溶解し、窒素雰囲気下氷
冷しながら粉砕した炭酸カリウム7.6 g (55.4 mmol)を
加えた。反応混濁液を激しく撹拌しながらトリメチルシ
リルエトキシカルボニル クロライド(Teoc-Cl) 10 g
(55.4 mmol)をゆっくりと滴下し、室温にて一夜間撹拌
を行った。反応液を冷水500 ml に注加し、酢酸エチル3
00 ml による抽出を行った。この酢酸エチル溶液を、
水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水
溶液の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥後、
溶媒を留去して粗生成物13.5 gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ノルマルヘキサ
ン／酢酸エチル＝３／１）により精製し、(E) エチル
3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリルエトキシカ
ルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネートを
7.0 g 得た。更にこれをジオキサン 30 ml に溶解し、
これに１規定水酸化ナトリウム水溶液 25 ml を加えて4
0℃で撹拌した。反応の終了をTLCにて確認し、反応液に
蒸留水150 mlを加えて１規定塩酸でpH 3に調整した後、
析出した結晶を濾過し乾燥して目的化合物を5.6 g 得た
（収率：32 %）。
リルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-
プロペン酸((E) 3-[4,5-dimethoxy-2-(trimethylsilyle
thoxycarbonyl ) aminophenyl]-2-methyl-2-propenoic
acid)の合成 暗室内にて、(E) エチル 3-(2-アミノ-4,5-ジメトキシ
フェニル)-2-メチル-2-プロペネート12.2 g (46.2 mmo
l)をアセトニトリル120 ml に溶解し、窒素雰囲気下氷
冷しながら粉砕した炭酸カリウム7.6 g (55.4 mmol)を
加えた。反応混濁液を激しく撹拌しながらトリメチルシ
リルエトキシカルボニル クロライド(Teoc-Cl) 10 g
(55.4 mmol)をゆっくりと滴下し、室温にて一夜間撹拌
を行った。反応液を冷水500 ml に注加し、酢酸エチル3
00 ml による抽出を行った。この酢酸エチル溶液を、
水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水
溶液の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥後、
溶媒を留去して粗生成物13.5 gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ノルマルヘキサ
ン／酢酸エチル＝３／１）により精製し、(E) エチル
3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリルエトキシカ
ルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プロペネートを
7.0 g 得た。更にこれをジオキサン 30 ml に溶解し、
これに１規定水酸化ナトリウム水溶液 25 ml を加えて4
0℃で撹拌した。反応の終了をTLCにて確認し、反応液に
蒸留水150 mlを加えて１規定塩酸でpH 3に調整した後、
析出した結晶を濾過し乾燥して目的化合物を5.6 g 得た
（収率：32 %）。
【０２４２】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)； 8.81 （1H, bs,
アミド基プロトン），7.56 (1H, s, プロペン酸３位プ
ロトン）， 6.97 (1H, s, 芳香環３’位プロトン），6.
89 (1H, s,芳香環６’位プロトン），4.12 (2H, t, J=
8 Hz, トリメチルシリルエトキシ基α位メチレン基プロ
トン），3.77 (6H, s, メトキシ基メチル基プロト
ン），1.94 (3H, s,プロペン酸２位結合メチル基プロト
ン），0.94 (2H,t, J=8 Hz, トリメチルシリルエトキシ
基β位メチレン基プロトン），0.03 (9H,s, トリメチル
シリルエトキシ基メチル基プロトン）13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)； 169.4 (四級炭
素,プロペン酸１位カルボニル基炭素），154.6 (四級炭
素,トリメチルシリルエトキシカルボニル基カルボニル
炭素），148.7 (四級炭素, 芳香環４’位炭素），145.7
(四級炭素, 芳香環５’位炭素），134.9 (CH, プロペ
ン酸３位炭素），130.3 (四級炭素, 芳香環２’位炭
素），127.8 (四級炭素, プロペン酸２位炭素），112.3
(CH, 芳香環６’位炭素），62.1 (CH2, トリメチルシ
リルエトキシ基β位メチレン基炭素），55.7 (CH3, メ
トキシ基メチル基炭素）， 55.5 (CH3, メトキシ基メチ
ル基炭素），17.3 (CH2,トリメチルシリルエトキシ基α
位メチレン基炭素），14.0 (CH3, プロペン酸２位結合
メチル基炭素），-1.5 (CH3, トリメチルシリルエトキ
シ基メチル基炭素）。
り確認した。1 H-NMR (重クロロホルム, δppm)； 8.81 （1H, bs,
アミド基プロトン），7.56 (1H, s, プロペン酸３位プ
ロトン）， 6.97 (1H, s, 芳香環３’位プロトン），6.
89 (1H, s,芳香環６’位プロトン），4.12 (2H, t, J=
8 Hz, トリメチルシリルエトキシ基α位メチレン基プロ
トン），3.77 (6H, s, メトキシ基メチル基プロト
ン），1.94 (3H, s,プロペン酸２位結合メチル基プロト
ン），0.94 (2H,t, J=8 Hz, トリメチルシリルエトキシ
基β位メチレン基プロトン），0.03 (9H,s, トリメチル
シリルエトキシ基メチル基プロトン）13 C-NMR (重クロロホルム , δppm)； 169.4 (四級炭
素,プロペン酸１位カルボニル基炭素），154.6 (四級炭
素,トリメチルシリルエトキシカルボニル基カルボニル
炭素），148.7 (四級炭素, 芳香環４’位炭素），145.7
(四級炭素, 芳香環５’位炭素），134.9 (CH, プロペ
ン酸３位炭素），130.3 (四級炭素, 芳香環２’位炭
素），127.8 (四級炭素, プロペン酸２位炭素），112.3
(CH, 芳香環６’位炭素），62.1 (CH2, トリメチルシ
リルエトキシ基β位メチレン基炭素），55.7 (CH3, メ
トキシ基メチル基炭素）， 55.5 (CH3, メトキシ基メチ
ル基炭素），17.3 (CH2,トリメチルシリルエトキシ基α
位メチレン基炭素），14.0 (CH3, プロペン酸２位結合
メチル基炭素），-1.5 (CH3, トリメチルシリルエトキ
シ基メチル基炭素）。
【０２４３】(E) N-(N-メチル)-D-アスパラギン酸 3-
(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミド（(E) N-(N-Methyl)-D-asparatic acid 3-
(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-pepenoic
amide）の合成 暗室内にて(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸4.5 g（11.4 mmol）をテトラヒドロフラン50 m
l に溶解し、これに窒素雰囲気下1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）（国
産化学株式会社製；Kokusan chemical works）1.83 g
、N-メチル-D-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル
3.10 g 、N-メチルホルモリン（和光純薬社製） 1.15
g及びN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）
（和光純薬社製）2.47 g を加えて室温にて１０日間撹
拌した。反応終了後沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮
してその残渣を酢酸エチル200ml に転溶した。この有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、20%クエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾
燥を行った後濃縮して粗生成物を得た。これをカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タイプ）Fu
ji silysia chem.Co., NH-DM1020 ）により精製し、(E)
N-(N-メチル)-D-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステ
ル 3-(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミドを6.84 g得た（収率：94.4 %）。更
にこれをメタノール200 mlに溶解し、１規定塩酸を加え
室温にて１ヶ月撹拌した。保護基の脱離反応の終了を確
認し、反応液を１規定水酸化ナトリウムでアルカリ性に
調節した後、過剰のアルカリ及び不純物塩の除去のため
固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-20（三菱化学社製）約
1000ml を用いたカラムにアプライし、水で溶出するこ
とで脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶液にて溶
出し、これを凍結乾燥して目的物を3.04 g得た（収率：
71.0 %）。
(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミド（(E) N-(N-Methyl)-D-asparatic acid 3-
(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-methyl-2-pepenoic
amide）の合成 暗室内にて(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸4.5 g（11.4 mmol）をテトラヒドロフラン50 m
l に溶解し、これに窒素雰囲気下1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール ハイドレート-１水和物（HOBt・H2O）（国
産化学株式会社製；Kokusan chemical works）1.83 g
、N-メチル-D-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステル
3.10 g 、N-メチルホルモリン（和光純薬社製） 1.15
g及びN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC）
（和光純薬社製）2.47 g を加えて室温にて１０日間撹
拌した。反応終了後沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮
してその残渣を酢酸エチル200ml に転溶した。この有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、20%クエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾
燥を行った後濃縮して粗生成物を得た。これをカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル（アミノ修飾タイプ）Fu
ji silysia chem.Co., NH-DM1020 ）により精製し、(E)
N-(N-メチル)-D-アスパラギン酸 ジ-t-ブチルエステ
ル 3-(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2
-プロペン酸アミドを6.84 g得た（収率：94.4 %）。更
にこれをメタノール200 mlに溶解し、１規定塩酸を加え
室温にて１ヶ月撹拌した。保護基の脱離反応の終了を確
認し、反応液を１規定水酸化ナトリウムでアルカリ性に
調節した後、過剰のアルカリ及び不純物塩の除去のため
固相抽出充填剤ダイヤイオン HP-20（三菱化学社製）約
1000ml を用いたカラムにアプライし、水で溶出するこ
とで脱塩を行い、引き続き10%メタノール水溶液にて溶
出し、これを凍結乾燥して目的物を3.04 g得た（収率：
71.0 %）。
【０２４４】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重水, δppm)；6.85 (1H, s, 芳香環６’位プ
ロトン)，6.61 (1H, s,芳香環３’位プロトン)，6.48(1
H, s, プロペン酸3位メチン基プロトン)，5.02 (1H, d
d, J=9 Hz, J=6Hz, アスパラギン酸部α位メチン基プロ
トン)，3.83 (3H, s, メトキシ基メチル基プロトン) ，
3.81 (3H, s, メトキシ基メチル基プロトン)，3.20 〜
2.79 (2H, m, アスパラギン酸部β位メチレン基プロト
ン)，2.90 (3H, s,アスパラギン酸部窒素結合メチル基
プロトン）， 1.96 (3H, s, プロペン酸2位結合メチル
基プロトン)13 C-NMR (重水, δppm)；177.2 (四級炭素, アスパラギ
ン酸部カルボニル炭素），176.3 (四級炭素, アスパラ
ギン酸部カルボニル炭素），174.7(四級炭素,プロペン
酸1位カルボニル炭素)，149.8 (四級炭素, 芳香環4'位
炭素)，141.9 (四級炭素, 芳香環２'位炭素),139.4 (四
級炭素,芳香環５'位炭素)，134.2 (四級炭素, プロペン
酸2位炭素)，126.9 (CH, プロペン酸3位メチン基炭
素)，114.9 (四級炭素, 芳香環１'位炭素)，114.6 (CH,
芳香環６'位炭素)，102.5 (CH, 芳香環３'位炭素)，6
2.1 (CH, アスパラギン酸部α位メチン基炭素)， 57.4
(CH3, メトキシ基メチル基炭素)，56.4 (CH3, メトキシ
基メチル基炭素)，36.0 (CH2, アスパラギン酸部β位メ
チレン基炭素)，30.3 (CH3, アスパラギン酸部窒素結合
メチル基炭素），15.8 (CH3, プロペン酸2位結合メチル
基炭素)。
り確認した。1 H-NMR (重水, δppm)；6.85 (1H, s, 芳香環６’位プ
ロトン)，6.61 (1H, s,芳香環３’位プロトン)，6.48(1
H, s, プロペン酸3位メチン基プロトン)，5.02 (1H, d
d, J=9 Hz, J=6Hz, アスパラギン酸部α位メチン基プロ
トン)，3.83 (3H, s, メトキシ基メチル基プロトン) ，
3.81 (3H, s, メトキシ基メチル基プロトン)，3.20 〜
2.79 (2H, m, アスパラギン酸部β位メチレン基プロト
ン)，2.90 (3H, s,アスパラギン酸部窒素結合メチル基
プロトン）， 1.96 (3H, s, プロペン酸2位結合メチル
基プロトン)13 C-NMR (重水, δppm)；177.2 (四級炭素, アスパラギ
ン酸部カルボニル炭素），176.3 (四級炭素, アスパラ
ギン酸部カルボニル炭素），174.7(四級炭素,プロペン
酸1位カルボニル炭素)，149.8 (四級炭素, 芳香環4'位
炭素)，141.9 (四級炭素, 芳香環２'位炭素),139.4 (四
級炭素,芳香環５'位炭素)，134.2 (四級炭素, プロペン
酸2位炭素)，126.9 (CH, プロペン酸3位メチン基炭
素)，114.9 (四級炭素, 芳香環１'位炭素)，114.6 (CH,
芳香環６'位炭素)，102.5 (CH, 芳香環３'位炭素)，6
2.1 (CH, アスパラギン酸部α位メチン基炭素)， 57.4
(CH3, メトキシ基メチル基炭素)，56.4 (CH3, メトキシ
基メチル基炭素)，36.0 (CH2, アスパラギン酸部β位メ
チレン基炭素)，30.3 (CH3, アスパラギン酸部窒素結合
メチル基炭素），15.8 (CH3, プロペン酸2位結合メチル
基炭素)。
【０２４５】(E) N-L-グルタミン 3-(2-アミノ-4,5-ジ
メトシキフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド（(E)
N-L-Glutamine 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-m
ethyl-2-pepenoic amide）の合成 暗室内にて(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸4.4 g（11.1 mmol）をテトラヒドロフラン45 m
l に溶解し、-10℃に冷却して窒素雰囲気下クロロ炭酸
イソブチル（Isobutylchloroformate）（国産化学株式
会社製；Kokusan chemical works）1.7 gを加え30分間
撹拌した。これにN-メチルモルホリン（和光純薬社製）
1.2 gとグルタミン t-ブチルエステル塩酸塩（国産
化学株式会社製；Kokusan chemicalworks） 3 gをジメ
チルホルムアミド35 mlに溶解したものとを加えて室温
まで徐々に昇温し、室温にて１時間撹拌した。反応終了
後溶媒を減圧下留去し、残渣に酢酸エチル200 ml及び水
100 ml を加えた。この有機層を５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、１規定塩酸、水にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った後濃縮して粗生成物
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、(E) N-グルタミン t-ブチルエステル 3-
(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミドを4.64 g得た（収率：73.9%）。更にこれ
をジクロロメタン40 mlに溶解し、トリフルオロ酢酸
（和光純薬社製）5 mlを加え30℃にて24時間撹拌した。
保護基の脱離反応の終了を確認後、減圧下濃縮してその
残渣をイオン交換水に転溶し、凍結乾燥を行い目的物を
2.7 g得た（収率：93.8 %）。
メトシキフェニル)-2-メチル-2-プロペン酸アミド（(E)
N-L-Glutamine 3-(2-amino-4,5-dimethoxyphenyl)-2-m
ethyl-2-pepenoic amide）の合成 暗室内にて(E) 3-[4,5-ジメトキシ-2-(トリメチルシリ
ルエトキシカルボニル)アミノフェニル)-2-メチル-2-プ
ロペン酸4.4 g（11.1 mmol）をテトラヒドロフラン45 m
l に溶解し、-10℃に冷却して窒素雰囲気下クロロ炭酸
イソブチル（Isobutylchloroformate）（国産化学株式
会社製；Kokusan chemical works）1.7 gを加え30分間
撹拌した。これにN-メチルモルホリン（和光純薬社製）
1.2 gとグルタミン t-ブチルエステル塩酸塩（国産
化学株式会社製；Kokusan chemicalworks） 3 gをジメ
チルホルムアミド35 mlに溶解したものとを加えて室温
まで徐々に昇温し、室温にて１時間撹拌した。反応終了
後溶媒を減圧下留去し、残渣に酢酸エチル200 ml及び水
100 ml を加えた。この有機層を５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、１規定塩酸、水にて順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムにより乾燥を行った後濃縮して粗生成物
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、(E) N-グルタミン t-ブチルエステル 3-
(2-アミノ-4,5-ジメトシキフェニル)-2-メチル-2-プロ
ペン酸アミドを4.64 g得た（収率：73.9%）。更にこれ
をジクロロメタン40 mlに溶解し、トリフルオロ酢酸
（和光純薬社製）5 mlを加え30℃にて24時間撹拌した。
保護基の脱離反応の終了を確認後、減圧下濃縮してその
残渣をイオン交換水に転溶し、凍結乾燥を行い目的物を
2.7 g得た（収率：93.8 %）。
【０２４６】本化合物の構造は1H-NMR及び13C-NMRによ
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；7.02 (1H,
s, 芳香環６’位プロトン)，6.92 (1H, s, 芳香環３’
位プロトン)，7.38(1H, s, プロペン酸３位メチン基プ
ロトン)，4.28 (1H, dd, J=12 Hz, J=8Hz, グルタミン
部α位メチン基プロトン)，3.79 (6H, s, メトキシ基メ
チル基プロトン），2.22 (2H, t, J= 7Hz,グルタミン部
γ位メチン基プロトン)，2.14 〜 1.90 (2H, m, グルタ
ミン部β位メチン基プロトン)，1.98 (3H, s,プロペン
酸2位結合メチル基プロトン )13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；174.0 (四
級炭素, グルタミン部カルボニル炭素），173.5 (四級
炭素, グルタミン部カルボニル炭素），168.4 (四級炭
素,プロペン酸部1位カルボニル炭素），148.9 (四級炭
素, 芳香環４’位炭素），147.4 (四級炭素, 芳香環
５’位炭素），127.5 (CH, プロペン酸3位メチン基炭
素），134.7 (四級炭素, 芳香環２’位炭素），124.0
(四級炭素, プロペン酸部2位炭素），117.4 (四級炭素,
芳香環１’位炭素）， 113.6 (CH, 芳香環５’位炭
素），56.0 (CH3, メトキシ基メチル基炭素) ，55.8 (C
H3, メトキシ基メチル基炭素) ，52.4 (CH, グルタミン
部α位メチン基炭素），31.6 (CH2, グルタミン部γ位
メチレン基炭素），26.5 (CH2, グルタミン部β位メチ
レン基炭素），14.5 (CH3, プロペン酸部2位結合メチル
基炭素）。
り確認した。1 H-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；7.02 (1H,
s, 芳香環６’位プロトン)，6.92 (1H, s, 芳香環３’
位プロトン)，7.38(1H, s, プロペン酸３位メチン基プ
ロトン)，4.28 (1H, dd, J=12 Hz, J=8Hz, グルタミン
部α位メチン基プロトン)，3.79 (6H, s, メトキシ基メ
チル基プロトン），2.22 (2H, t, J= 7Hz,グルタミン部
γ位メチン基プロトン)，2.14 〜 1.90 (2H, m, グルタ
ミン部β位メチン基プロトン)，1.98 (3H, s,プロペン
酸2位結合メチル基プロトン )13 C-NMR (重ジメチルスルホキシド, δppm)；174.0 (四
級炭素, グルタミン部カルボニル炭素），173.5 (四級
炭素, グルタミン部カルボニル炭素），168.4 (四級炭
素,プロペン酸部1位カルボニル炭素），148.9 (四級炭
素, 芳香環４’位炭素），147.4 (四級炭素, 芳香環
５’位炭素），127.5 (CH, プロペン酸3位メチン基炭
素），134.7 (四級炭素, 芳香環２’位炭素），124.0
(四級炭素, プロペン酸部2位炭素），117.4 (四級炭素,
芳香環１’位炭素）， 113.6 (CH, 芳香環５’位炭
素），56.0 (CH3, メトキシ基メチル基炭素) ，55.8 (C
H3, メトキシ基メチル基炭素) ，52.4 (CH, グルタミン
部α位メチン基炭素），31.6 (CH2, グルタミン部γ位
メチレン基炭素），26.5 (CH2, グルタミン部β位メチ
レン基炭素），14.5 (CH3, プロペン酸部2位結合メチル
基炭素）。
【０２４７】光照射によるアミノ酸の放出 上記得られたケージドグルタミン酸の水溶液（100mM）
に320nmの単色光を30分間照射し、得られた生成物をHPL
Cを用いて以下に示す条件で分離分析した。その結果、
カルボスチリルが生成したことが確認された（図５
(a)、(b)）。 HPLC条件： カラム ： 関東化学社製、MightysilRP-18,150-4.6 溶出溶媒： 0.05%トリフルオロ酢酸含有、アセトニトリル/水 （グラジエント条件：10/90から70/30(20分)） 溶出速度： 1ml/min 保持時間： ケージドグルタメート 4.8min カルボスチリル 8.5min
に320nmの単色光を30分間照射し、得られた生成物をHPL
Cを用いて以下に示す条件で分離分析した。その結果、
カルボスチリルが生成したことが確認された（図５
(a)、(b)）。 HPLC条件： カラム ： 関東化学社製、MightysilRP-18,150-4.6 溶出溶媒： 0.05%トリフルオロ酢酸含有、アセトニトリル/水 （グラジエント条件：10/90から70/30(20分)） 溶出速度： 1ml/min 保持時間： ケージドグルタメート 4.8min カルボスチリル 8.5min
【０２４８】放出されたグルタミン酸の検出のため、上
記光照射した試料にダンシルクロリドを添加してグルタ
ミン酸のダンシル誘導体化を行った。得られた生成物を
HPLCを用いて以下に示す条件で分離分析した結果、ダン
シル化グルタミン酸が生成したことが確認された（図６
(a)、(b)）。 HPLC条件： カラム ： 関東化学社製、MightysilRP-18,150-4.6 溶出溶媒： 0.05%トリフルオロ酢酸含有、アセトニトリル/水 （グラジエント条件：10/90から70/30(20分)） 溶出速度： 1ml/min 保持時間： ダンシル化グルタミン酸 7.2min。
記光照射した試料にダンシルクロリドを添加してグルタ
ミン酸のダンシル誘導体化を行った。得られた生成物を
HPLCを用いて以下に示す条件で分離分析した結果、ダン
シル化グルタミン酸が生成したことが確認された（図６
(a)、(b)）。 HPLC条件： カラム ： 関東化学社製、MightysilRP-18,150-4.6 溶出溶媒： 0.05%トリフルオロ酢酸含有、アセトニトリル/水 （グラジエント条件：10/90から70/30(20分)） 溶出速度： 1ml/min 保持時間： ダンシル化グルタミン酸 7.2min。
【０２４９】
【発明の効果】本発明にかかるケージドアミノ酸化合物
は、以上説明したように特徴的な構造を有するものであ
り、光照射により、特定の場所に、特定の時間、特定の
量、アミノ酸を放出させることを可能とするものであ
る。また、放出されたアミノ酸の量を、同時に生成する
カルボスチリル誘導体からの強い蛍光を測定することで
測定することが可能となる。
は、以上説明したように特徴的な構造を有するものであ
り、光照射により、特定の場所に、特定の時間、特定の
量、アミノ酸を放出させることを可能とするものであ
る。また、放出されたアミノ酸の量を、同時に生成する
カルボスチリル誘導体からの強い蛍光を測定することで
測定することが可能となる。
Claims (2)
- 【請求項１】下記式１で表されるケージドアミノ酸。 【化１】 （ここで、Ｘ及びＹはそれぞれ同一でも異なっていても
よく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１から４までの
アルキル基、炭素数１から４までのアルキルオキシ基、
炭素数１から４までのアルキルアミノ基及びベンゾ基か
らなる群より選ばれる一種を表し、Ｒ1は水素原子及び
炭素数１から４までのアルキル基からなる群より選ばれ
る一種を表し、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ同一でも異なって
いてもよく、水素原子及び炭素数１から４までのアルキ
ル基からなる群より選ばれる一種を表し、Ａはグリシ
ン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリ
ン、トレオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、γ−
アミノブタン酸、Ｎ−メチル−Ｄ−アスパラギン酸、ア
スパラギン、グルタミン、リシン、ヒドロキシリシン、
アルギニン、システイン、シスチン、メチオニン、フェ
ニルアラニン、チロシン、トリプトファン、ヒスチジ
ン、プロリン及び４−ヒドロキシプロリンからなる群よ
り選ばれるアミノ酸の残基を表し、Ｍは水素原子、アル
カリ金属及びアルカリ土類金属からなる群より選ばれる
一種を表す。） - 【請求項２】 以下の式２から式１８で表されるケージ
ドアミノ酸からなる群より選ばれる一種である請求項１
記載のケージドアミノ酸。 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 【化７】 【化８】 【化９】 【化１０】 【化１１】 【化１２】 【化１３】 【化１４】 【化１５】 【化１６】 【化１７】 【化１８】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000001702A JP2000264868A (ja) | 1999-01-12 | 2000-01-07 | 新規ケージドアミノ酸 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP566099 | 1999-01-12 | ||
| JP11-5660 | 1999-01-12 | ||
| JP2000001702A JP2000264868A (ja) | 1999-01-12 | 2000-01-07 | 新規ケージドアミノ酸 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000264868A true JP2000264868A (ja) | 2000-09-26 |
Family
ID=26339637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000001702A Pending JP2000264868A (ja) | 1999-01-12 | 2000-01-07 | 新規ケージドアミノ酸 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000264868A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1395256A2 (en) * | 2001-04-17 | 2004-03-10 | CryoLife, Inc. | Prodrugs via acylation with cinnamate |
-
2000
- 2000-01-07 JP JP2000001702A patent/JP2000264868A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1395256A2 (en) * | 2001-04-17 | 2004-03-10 | CryoLife, Inc. | Prodrugs via acylation with cinnamate |
| EP1395256A4 (en) * | 2001-04-17 | 2005-10-05 | Cryolife Inc | PRODRUGS ABOUT ACYLATION WITH CINNAMATE |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5446128A (en) | Alpha-helix mimetics and methods relating thereto | |
| KR101398264B1 (ko) | Ｐ２ｘ７수용체 길항제로서의 치환된 ｎ페닐메틸５옥소프롤린２아미드 및 그의 사용 방법 | |
| US4391986A (en) | Process for producing threo-3-amino-2-hydroxybutanoyl-aminoacetic acids, as well as novel intermediates therefor and process for producing them | |
| KR920007554B1 (ko) | 흥분성 아미노산 신경전달물질의 길항물질 및/또는 칼슘 채널의 차단제로 유용한 폴리펩티드 | |
| US20100016371A1 (en) | Indole Compounds | |
| JPH0471920B2 (ja) | ||
| JP2009543837A (ja) | Ｅｐ１受容体に対して親和性を有するインドール化合物 | |
| CA2050994A1 (en) | 3-aryl-4(3h)quinazolinone cck antagonists and pharmaceutical formulations thereof | |
| US4567182A (en) | Compounds endowed with immunomodulating activity | |
| FI83772C (fi) | Foerfarande foer tillverkningen av indolpyrodruvsyra eller dess 5-hydroxiderivat. | |
| Ben-Ishai et al. | The synthesis of p-substituted D, L-phenylglycines by the amidoalkylation of benzylchloride and N-benzylbenzamide | |
| JP2000264868A (ja) | 新規ケージドアミノ酸 | |
| CA2135811A1 (en) | Tricyclic indole-2-carboxylic acid derivatives | |
| US5847125A (en) | Amino acid derivatives with anticholecystokinin activity | |
| JP2000319202A (ja) | 新規ケージド化合物調製用試薬、及びケージド化方法 | |
| US7384789B2 (en) | Divalent metal ion sensors and binders | |
| US6329546B1 (en) | Caged amino acids | |
| CA1164479A (en) | Preparation of aminoacetonitrile derivatives | |
| KR100572483B1 (ko) | 입체이성 인돌 화합물, 그 제조방법 및 용도 | |
| FI83656C (fi) | Nya tyroninderivat. | |
| Dinsmore et al. | Synthesis of homochiral amino acid pyrazine and pyrrole analogues of glutamate antagonists | |
| JP2006182696A (ja) | ベンゼン環上に二置換基を有するβ−ベンジルオキシアスパラギン酸誘導体 | |
| MITRA et al. | Synthesis and 19F spectra of tetra‐L‐alanine analogs containing selectively incorporated 3‐fluoro‐l‐alanine residues | |
| JP2898326B2 (ja) | カルボオキセタノシンｇの合成法 | |
| Ingale et al. | Synthesis And Biological Evaluation Of Isoindoline-1, 3-Dione Derivatives |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040407 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040803 |