JP2000258870A - Heat-developable photosensitive material and methods for imagewise exposing and forming image by using same - Google Patents

Heat-developable photosensitive material and methods for imagewise exposing and forming image by using same

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JP2000258870A
JP2000258870A JP6169199A JP6169199A JP2000258870A JP 2000258870 A JP2000258870 A JP 2000258870A JP 6169199 A JP6169199 A JP 6169199A JP 6169199 A JP6169199 A JP 6169199A JP 2000258870 A JP2000258870 A JP 2000258870A
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atom
carbon atoms
ring
represent
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Hiroto Ito
寛人 伊藤
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Konica Minolta Inc
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the heat-developable photosensitive material freed of rise of fog and drop of sensitivity in storage in a state of high sensitivity and sensitive to infrared rays. SOLUTION: The heat-developable photosensitive material contains at least (a) an insensitive organic silver salt, (b) silver halide spectrally sensitized with an infrared sensitizing dye, (c) a reducing agent capable of reducing the silver ions of organic silver salt when it is activated by heat, and (d) a binder on a support, and it contains further, a compound represented by the formula R-SM in which R is an acyclic aliphatic or heteroaliphatic cyclic or aromatic group; and M is an H or alkali metal atom or a quarternary ammonium group.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像感光材料、
中でも赤外感度が高く、又これを長期に亘り保存したと
きにかぶり上昇や感度低下のない赤外感光性熱現像感光
材料に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photothermographic material,
In particular, the present invention relates to an infrared-sensitive photothermographic material which has a high infrared sensitivity and does not cause an increase in fog or a decrease in sensitivity when stored for a long period of time.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料は高い感光
性、記憶性、高いS/N特性という優れた特性を持つハ
ロゲン化銀微粒子を利用して作られている。しかしなが
ら、ハロゲン化銀粒子の感光域は500nm付近が長波
端と短いため、より長波側に感光させるには色素を用い
た分光増感が不可欠である。特に近年は光源の発達に伴
い、産業用記録材料に於て赤外レーザー波長に感光する
感光材料の重要性が増してきている。また撮影記録感光
材料に於ても環境情報の記録用途或いは描写能向上に優
れる赤外感光材料が注目されてきている。
2. Description of the Related Art A silver halide photographic light-sensitive material is produced using silver halide fine particles having excellent characteristics such as high photosensitivity, memory, and high S / N characteristics. However, since the photosensitive region of silver halide grains has a short wavelength near 500 nm, which is a long-wave end, spectral sensitization using a dye is indispensable for exposing to longer wavelengths. In particular, in recent years, with the development of light sources, photosensitive materials sensitive to infrared laser wavelengths have become increasingly important in industrial recording materials. Further, among the photographic recording materials, infrared light-sensitive materials which are excellent in use for recording environmental information or in improving depiction performance have been attracting attention.

【0003】この目的に用いられる分光増感色素(単に
増感色素ということがある)は従来より多数の化合物が
知られており、例えば、ティ・エイチ・ジェイムス著
「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロ
セス」第4版(1977、マクミラン社、N.Y.)
p.194〜234、フランシス・エム・ハーマー著
「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リレイテド・コンパ
ウンズ」(1964、ジョン・ウイリイ・アンド・サン
ズ、N.Y.)、ディー・エム・スターマー著「ザ・ケ
ミストリー・オブ・ヘテロサイクリック・コンパウンズ
30巻」p.441〜(1977、ジョン・ウイリイ・
アンド・サンズ、N.Y.)、特開平3−138638
号、同3−163440号、同5−72660号、同5
−72661号、同5−88292号、同8−1942
82号、同9−166844号、同9−281631
号、同9−292672号、同9−292673号、同
10−73900号等の公報、米国特許第2,734,
900号、同第3,582,344号、同第4,53
6,473号、同第4,740,455号、同第4,8
35,096号、同第5,393,654号、英国特許
第774,779号、欧州特許第420,012号、同
第821,811号等の明細書中等に記載されているシ
アニン色素、メロシアニン色素等の各種色素が知られて
いる。
[0003] A large number of compounds have been known as spectral sensitizing dyes (which may be simply referred to as sensitizing dyes) used for this purpose. For example, the theory of the theory of the theory by TJ James・ Photographic Process ”, 4th edition (1977, Macmillan, NY)
p. 194-234, Francis M. Harmer, "The Cyanine Soy and Related Compounds" (1964, John Willy and Sons, NY); Dee M. Sturmer, "The Chemistry" -Heterocyclic Compounds, Volume 30 "p. 441- (1977, John Willy
And Sons, N.M. Y. ), JP-A-3-13838
Nos. 3-163440, 5-72660, and 5
Nos. -72661, 5-88292 and 8-1942
No. 82, No. 9-166844, No. 9-281631
Nos. 9,292,672, 9,292,673, and 10-73900, and U.S. Pat.
No. 900, No. 3,582,344, No. 4,53
No. 6,473, No. 4,740,455, No. 4,8
Cyanine dyes and merocyanines described in specifications such as 35,096, 5,393,654, British Patent 774,779, European Patents 420,012, 821,811 and the like. Various dyes such as dyes are known.

【0004】これらの分光増感色素は単にハロゲン化銀
乳剤の感光波長域を拡大するだけでなく、以下の諸条件
を満足させるものでなければならない。
[0004] These spectral sensitizing dyes must not only extend the photosensitive wavelength range of the silver halide emulsion but also satisfy the following conditions.

【0005】1)分光増感域が適切であること。1) The spectral sensitization range is appropriate.

【0006】2)分光増感効率が高いこと。2) High spectral sensitization efficiency.

【0007】3)他の添加剤、例えば、安定剤、カブリ
防止剤、塗布助剤、高沸点溶剤等との間に悪い相互作用
がないこと。
3) No adverse interaction with other additives, for example, stabilizers, antifoggants, coating aids, high-boiling solvents, etc.

【0008】4)カブリ発生やガンマ変化等、示性曲線
に悪影響を与えないこと。
4) To not adversely affect the characteristic curve such as fogging and gamma change.

【0009】5)感光色素を含有したハロゲン化銀写真
感光材料を経時させたとき(特に、高温・高湿下に保存
した場合)にカブリ等の写真性能を変化させないこと。
5) The silver halide photographic light-sensitive material containing a photosensitive dye should not change its photographic performance such as fog when aged (especially when stored under high temperature and high humidity).

【0010】6)添加された感光色素が異なる感光波長
域の層へ拡散して色濁りを起こさないこと。
6) The added photosensitive dye does not diffuse into layers having different photosensitive wavelength ranges and does not cause color turbidity.

【0011】7)現像定着水洗された後は感光色素が抜
けて、色汚染を引き起こさないこと。
7) After the development and fixing, the photosensitive dye is not removed after washing with water to cause no color contamination.

【0012】しかしながら、従来開示されている分光増
感色素は、未だこれら諸条件すべてを充分満足する水準
には至っていない。特に赤外領域に極大吸収を持つ色素
は共役鎖が長く環境の影響を受け易いことから、或いは
最低空準位と最高被占準位の間隔が狭くハロゲン化銀粒
子の伝導帯準位に対して最低空準位と最高被占準位が近
づいていることから、かぶりが生成し易くなったり、感
度が低下するという問題が起こる。従って、高感度、低
カブリであり、経時したときも性能変動の少ない赤外感
光性のハロゲン化銀乳剤が望まれている。
However, the spectral sensitizing dyes disclosed hitherto have not yet reached a level which sufficiently satisfies all of these conditions. In particular, dyes having a maximum absorption in the infrared region have long conjugate chains and are easily affected by the environment, or the distance between the lowest vacant level and the highest occupied level is narrow and the conduction band level of silver halide grains is small. Since the lowest empty level and the highest occupied level are close to each other, there arises a problem that fog is easily generated and sensitivity is lowered. Accordingly, an infrared-sensitive silver halide emulsion having high sensitivity, low fog, and little change in performance even with time has been desired.

【0013】こういった観点から、これまで多くの赤外
増感色素の探索がなされてきたが、これらの赤外増感色
素の性能を改善する為のもう一つの方法として、増感色
素そのものの構造探索とは別に、強色増感剤を用いる方
法により感度を改良したり、上記の性能変動を少なくし
たりする方法が知られている。強色増感剤の役割は増感
色素と併用することで赤外増感色素のハロゲン化銀表面
への凝集・吸着を改善する事により、分光増感性能を制
御する事にあると考えられている。これまでにも数多く
の増感色素と強色増感剤の組み合わせがハロゲン化銀感
光材料においては見いだされ提案されており、強色増感
剤としては代表的にはメルカプト置換複素芳香族化合
物、例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−
メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベンゾ
チアゾールなどの化合物がよく知られている。しかしな
がら、これら強色増感剤の効果は特定の増感色素との組
み合わせに限られていて、特に赤外増感色素の場合には
強色増感剤としてよいものがあまりなく、又これまで余
り検討がされてこなかった。又、これらのよく知られて
いる強色増感剤を熱現像感光材料に用いた場合、増感性
能が不安定であったり、感度が低いほか、熱現像感光材
料を長期保存した場合に、感度低下がおこるといった欠
点があり、熱現像感光材料への赤外増感色素の適用に当
たっての問題のひとつとなっていた。
[0013] From this point of view, many infrared sensitizing dyes have been searched so far, but as another method for improving the performance of these infrared sensitizing dyes, sensitizing dyes themselves are used. Apart from the structure search described above, there is known a method for improving the sensitivity by a method using a supersensitizer or reducing the above-mentioned fluctuation in performance. The role of supersensitizers is thought to be to control the spectral sensitization performance by improving the aggregation and adsorption of infrared sensitizing dyes to the silver halide surface when used in combination with sensitizing dyes. ing. Numerous combinations of sensitizing dyes and supersensitizers have been found and proposed in silver halide light-sensitive materials, and as supersensitizers are typically mercapto-substituted heteroaromatic compounds, For example, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzimidazole,
Compounds such as mercaptobenzoxazole and 2-mercaptobenzothiazole are well known. However, the effects of these supersensitizers are limited to combinations with specific sensitizing dyes, and particularly in the case of infrared sensitizing dyes, there are not many good sensitizers as supersensitizers. Not much has been considered. Also, when these well-known supersensitizers are used in a photothermographic material, the sensitizing performance is unstable or the sensitivity is low, and when the photothermographic material is stored for a long time, There is a disadvantage that the sensitivity is lowered, and this has been one of the problems in applying the infrared sensitizing dye to the photothermographic material.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は高感度で保存したときにかぶり上昇や、感度低下のな
い赤外感光性の熱現像感光材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide an infrared-sensitive photothermographic material which does not increase in fog or decrease in sensitivity when stored at high sensitivity.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は以下の手段によ
り達成される。
The present invention is achieved by the following means.

【0016】1.支持体上に少なくともa)非感光性有
機銀塩、b)赤外増感色素により分光増感されたハロゲ
ン化銀、c)熱により活性化されたときに該有機銀塩の
銀イオンを還元しうる還元剤及びd)バインダーを有し
てなる熱現像感光材料において、更に下記一般式(I)
で表される化合物を含有することを特徴とする熱現像感
光材料。
1. At least a) a non-photosensitive organic silver salt on a support; b) silver halide spectrally sensitized by an infrared sensitizing dye; c) reduction of silver ions of said organic silver salt when activated by heat A photothermographic material comprising a reducing agent and d) a binder, further comprising a compound represented by the following general formula (I):
A photothermographic material comprising a compound represented by the formula:

【0017】一般式(I) R−SM 式中、Rは非環状の脂肪族基、ヘテロ脂環式基、又は芳
香族基を表す。Mは水素又はアルカリ金属或いは4級ア
ンモニウム基を表す。
In the formula (I) R-SM, R represents an acyclic aliphatic group, a heteroalicyclic group or an aromatic group. M represents hydrogen, an alkali metal, or a quaternary ammonium group.

【0018】2.ハロゲン化銀が、下記一般式(1)〜
(4)から選ばれる少なくとも1種の増感色素により分
光増感されている事を特徴とする前記1に記載の熱現像
感光材料。
2. When the silver halide has the following general formula (1)
(4) The photothermographic material as described in (1) above, which is spectrally sensitized with at least one sensitizing dye selected from (4).

【0019】[0019]

【化4】 Embedded image

【0020】一般式(1)〜(4)に於て、Y1、Y2
11、Y21、Y22及びY31は、各々、酸素原子、硫黄原
子、セレン原子、−C(Ra)(Rb)−基、又は−CH
=CH−基を表し、Z1は5員または6員の縮合された
環を完成するに必要な非金属原子群を表す。Rは水素原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル
基、低級アルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子を表し、Ra及びRbは各々、水素原子、低級
アルキル基或いはRaとRb間で結合して5員、6員の脂
肪族スピロ環を形成するに必要な非金属原子群を表す。
1、R11、R21、R22、R31及びR32は各々脂肪族基
であり、或いはR1はW3と、R11はW14との間で縮合環
を形成するに必要な非金属原子群を表す。Rc及びRd
各々、低級アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル
基、アリール基、複素環基を表わす。W1、W2、W3
4、W11、W12、W13、W14、W21、W22、W23、W
24、W31、W32、W33及びW34は各々、水素原子、置換
基、或いはW1はW2と、W11はW12と、W21はW22と、
23はW24と、W31はW32と、W33はW34との間で結合
して縮合環を形成するに必要な非金属原子群を表す。V
1〜V9、V11〜V13、V21〜V29、V31〜V33は各々、
水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、複素環基を表し、或い
はV1はV3と、V2はV4と、V3はV5と、V4はV6と、
5はV7と、V6はV8と、V7はV9と、V11はV13と、
21はV23と、V22はV24と、V23はV25と、V24はV
26と、V25はV27と、V26はV28と、V27はV29と、V
31はV33との間で結合して5員〜7員の環を形成するに
必要な非金属原子群を表し、V1〜V9の何れか一つ及び
11〜V13の何れか一つは水素原子以外の基である。X
1、X11、X21及びX31は各々、分子内の電荷を相殺す
るに必要なイオンを表し、l1、l11、l21及びl
31は各々、分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの
数を表す。k1、k2、k21及びk22は各々、0又
は1を表す。n21、n22、n31及びn32は各
々、0〜2の整数を表わし、n21とn22及びn31
とn32が同時に0になることはない。p1及びp11
は各々、0又は1であり、q1及びq11は各々、1及
び2の整数であり、p1とq1及びp11とq11の和
は2を超えない。
In the general formulas (1) to (4), Y 1 , Y 2 ,
Y 11 , Y 21 , Y 22 and Y 31 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a —C (R a ) (R b ) — group, or —CH
= CH- represents a group, Z 1 represents a nonmetallic atomic group necessary for forming a condensed ring of 5- or 6-membered. R is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group, hydroxy group, a halogen atom, R a and R b are each a hydrogen atom, a lower alkyl group or R a and R represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a 5- or 6-membered aliphatic spiro ring by bonding between b .
R 1 , R 11 , R 21 , R 22 , R 31 and R 32 are each an aliphatic group, or R 1 is required to form a fused ring with W 3 and R 11 with W 14 Represents a group of non-metallic atoms. R c and R d each represent a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. W 1 , W 2 , W 3 ,
W 4, W 11, W 12 , W 13, W 14, W 21, W 22, W 23, W
24 , W 31 , W 32 , W 33 and W 34 are each a hydrogen atom, a substituent or W 1 is W 2 , W 11 is W 12 , W 21 is W 22 ,
W 23 and W 24, W 31 and W 32, W 33 represents a nonmetallic atomic group necessary to form a fused ring bond between W 34. V
Each 1 ~V 9, V 11 ~V 13 , V 21 ~V 29, V 31 ~V 33,
Hydrogen atom, halogen atom, amino group, alkylthio group,
Arylthio group, lower alkyl group, lower alkoxy group,
Represents an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, or V 1 is V 3 , V 2 is V 4 , V 3 is V 5 , V 4 is V 6 ,
V 5 and V 7, V 6 and V 8, V 7 and V 9, V 11 and V 13,
And V 21 and V 23, V 22 and V 24, V 23 and V 25, V 24 and V
26, a V 25 is V 27, and V 26 are V 28, V 27 and V 29, V
31 represents a non-metallic atomic group necessary for forming a 5- to 7-membered coupled between V 33, either any one, and V 11 ~V 13 of V 1 ~V 9 One is a group other than a hydrogen atom. X
1 , X 11 , X 21 and X 31 each represent an ion necessary for canceling an intramolecular charge, and
31 represents the number of ions required to cancel the charge in the molecule. k1, k2, k21 and k22 each represent 0 or 1. n21, n22, n31 and n32 each represent an integer of 0 to 2, and n21, n22 and n31
And n32 do not become 0 at the same time. p1 and p11
Is each 0 or 1, q1 and q11 are each an integer of 1 and 2, and the sum of p1 and q1 and the sum of p11 and q11 does not exceed 2.

【0021】3.下記一般式(A)又は(B)で表され
る化合物を有してなる、前記1又は2に記載の熱現像感
光材料。
3. 3. The photothermographic material according to the above item 1 or 2, comprising a compound represented by the following general formula (A) or (B).

【0022】[0022]

【化5】 Embedded image

【0023】式中、Hal1及びHal2はハロゲン原子
を表す。Hal1及びHal2は同じであっても異なって
いても良い。Xはアニオン基を表す。R1はカルボニル
基を部分構造として有する基を表しR2及びR3は窒素原
子に置換可能な置換基又は水素原子を表す。R1〜R3
窒素原子が環内原子となる環状構造を形成するように互
いに結合することはない。nは1又は2を表す。
In the formula, Hal 1 and Hal 2 represent a halogen atom. Hal 1 and Hal 2 may be the same or different. X represents an anionic group. R 1 represents a group having a carbonyl group as a partial structure, and R 2 and R 3 represent a substituent which can be substituted on a nitrogen atom or a hydrogen atom. R 1 to R 3 do not bond to each other so as to form a ring structure in which the nitrogen atom becomes an inner ring atom. n represents 1 or 2.

【0024】[0024]

【化6】 Embedded image

【0025】式中、Hal3及びHal4はハロゲン原子
を表す。Hal3及びHal4は同じであっても異なって
いても良い。Zは隣接する窒素原子とともに5〜7員環
の含窒素ヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表す。
この含窒素ヘテロ環はその他の環と縮合、又は結合基に
より結合していてもよい。
In the formula, Hal 3 and Hal 4 represent a halogen atom. Hal 3 and Hal 4 may be the same or different. Z represents an atomic group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing heterocycle together with an adjacent nitrogen atom.
This nitrogen-containing hetero ring may be condensed with another ring, or may be bonded by a bonding group.

【0026】4.前記1、2又は3に記載された熱現像
感光材料に該熱現像感光材料の露光面と走査レーザー光
のなす角度が実質的に垂直になることがないレーザー走
査露光機により露光を行うことを特徴とする画像露光方
法。
4. The exposure of the photothermographic material according to the above item 1, 2 or 3 by using a laser scanning exposure device in which the angle between the exposure surface of the photothermographic material and the scanning laser beam does not become substantially perpendicular. Characteristic image exposure method.

【0027】5.前記1、2又は3に記載された熱現像
感光材料に走査レーザー光が縦マルチであるレーザー走
査露光機による露光を行うことを特徴とする画像露光方
法。
5. 4. An image exposure method, wherein the photothermographic material described in 1, 2, or 3 is exposed by a laser scanning exposing machine in which a scanning laser beam is a vertical multi-scan.

【0028】6.前記1、2又は3に記載された熱現像
感光材料が溶剤を5〜1000mg/m2含有している
状態において加熱現像することを特徴とする画像形成方
法。
6. 4. An image forming method, wherein the photothermographic material according to the above item 1, 2 or 3 is heated and developed in a state where the photothermographic material contains a solvent in an amount of 5 to 1000 mg / m < 2 >.

【0029】以下本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0030】赤外感光色素は一般に吸着性が弱くその吸
着性の向上により感度を高めることが大きな課題であ
る。特に熱現像感光材料のバインダー系においては吸着
上不利である為、効率のよい強色増感剤がより一層必要
とされていた。本発明者らは鋭意検討した結果、以下の
一般式(I)で表される化合物が、赤外感光性の熱現像
感光材料において、効果が高いことを発見し本発明をな
すに至ったものである。即ち、これらの強色増感剤を用
いるとき、従来の強色増感剤として知られるものに比
べ、高い感度と、感光材料を長期保存した時の感度変動
が大きく改良される。
Infrared dyes generally have low adsorptivity, and it is a major problem to improve sensitivity by improving the adsorptivity. Particularly, a binder system of a photothermographic material is disadvantageous in terms of adsorption, so that an efficient supersensitizer has been further required. As a result of intensive studies, the present inventors have found that a compound represented by the following general formula (I) has a high effect in an infrared-sensitive photothermographic material, and have accomplished the present invention. It is. That is, when these supersensitizers are used, higher sensitivity and fluctuation in sensitivity when the photosensitive material is stored for a long period of time are greatly improved as compared with those known as conventional supersensitizers.

【0031】一般式(I)で表される化合物について説
明する。
The compound represented by formula (I) will be described.

【0032】一般式(I) R−SM 式中、Rは脂肪族基、ヘテロ脂環式基、又は芳香族基を
表し、適当な置換基で置換されていてもよい。
Formula (I) R-SM In the formula, R represents an aliphatic group, a heteroalicyclic group, or an aromatic group, and may be substituted with a suitable substituent.

【0033】Rの脂肪族基としては、直鎖又は分岐した
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はシクロア
ルキル基が挙げられる。
Examples of the aliphatic group for R include a linear or branched alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and cycloalkyl group.

【0034】アルキル基としては炭素原子数1〜18の
もので、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピ
ル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げら
れる。
The alkyl group has from 1 to 18 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, decyl, dodecyl, isopropyl, t-butyl, 2-ethylhexyl. And the like.

【0035】アルケニル基としては、炭素原子数2〜2
0のもので、例えばアリル基、2−ブテニル基、7−オ
クテニル基等が挙げられる。
The alkenyl group may have 2 to 2 carbon atoms.
0, such as an allyl group, a 2-butenyl group, and a 7-octenyl group.

【0036】アルキニル基としては、炭素原子数2〜2
0のもので、例えばプロパルギル基、2−ブチニル基等
が挙げられる。
The alkynyl group may have 2 to 2 carbon atoms.
0, such as a propargyl group and a 2-butynyl group.

【0037】シクロアルキル基としては、炭素原子数3
〜12のもので、例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、シクロドデシル基等が挙げられる。
The cycloalkyl group may have 3 carbon atoms.
To 12, for example, a cyclopropyl group, a cyclohexyl group, a cyclododecyl group and the like.

【0038】Rの芳香族基としては、炭素原子数6〜2
0のもので、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げら
れる。
The aromatic group represented by R has 6 to 2 carbon atoms.
0, for example, a phenyl group and a naphthyl group.

【0039】Rのへテロ脂環式基としては、窒素、酸素
又は硫黄から選ばれた一つ以上の原子と炭素の組み合わ
せからなる3〜7員環であり、ベンゼン環と縮合してい
てもよい。
The heteroalicyclic group represented by R is a 3- to 7-membered ring composed of a combination of at least one atom selected from nitrogen, oxygen or sulfur and carbon, and may be condensed with a benzene ring. Good.

【0040】Rに置換できる置換基としてはアルキル基
(炭素原子数1〜18のもので、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基
など)、アルケニル基(炭素原子数2〜20のもので、
例えば、アリル基、2−ブテニル基など)、アルキニル
基(炭素原子数2〜20のもので、例えば、プロパルギ
ル基、2−ブチニル基など)、シクロアルキル基(炭素
原子数3〜12のもので、例えばシクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基など)、アリール基
(炭素原子数6〜10のもので、例えばフェニル基)、
ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素、沃素な
ど)、アルコキシ基(炭素原子数1〜10のもので、例
えば、メトキシ基、エトキシ基、ヘキシルオキシ基な
ど)、アリールオキシ基(炭素原子数6〜10のもの
で、例えばフェノキシ基)、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基(炭素原子数2〜20のもので、例えば
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など)、
アリールオキシカルボニル基(炭素原子数7〜11のも
ので、例えば、フェノキシカルボニル基)、アミノ基、
イミノ基、アシル基(炭素原子数1〜20のもので、例
えばアセチル基)、カルバモイル基、ヒドロキシ基、ア
シルオキシ基(炭素原子数2〜20のもので、例えばア
セトキシ基など)、アリーロイルオキシ基(炭素原子数
7〜11のもので、例えば、ベンゾイルオキシ基)、ア
ミド基(炭素原子数1〜20のもので、例えばアセトア
ミド基、ベンズアミド基)、スルホ基、スルホニル基
(炭素原子数1〜12のもので、例えばメタンスルホニ
ル基、ベンゼンスルホニル基など)、アルキルチオ基
(炭素原子数1〜20のもので、例えばメチルチオ基、
エチルチオ基など)、アリールチオ基(炭素数6〜10
のもので、例えばフェニルチオ基)、スルファモイル
基、スルホンアミド基(炭素原子数1〜20のもので、
例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミ
ド基など)、ウレイド基(炭素原子数1〜20のもの
で、例えばメチルウレイド基、フェニルウレイド基な
ど)、チオウレイド基(炭素原子数1〜20のもので、
例えば、メチルチオウレイド基、フェニルチオウレイド
基など)、チオアミド基(炭素原子数1〜20のもの
で、例えばチオアセトアミド基、チオベンズアミド基な
ど)、シアノ基、又はニトロ基が挙げられる。又、Rに
置換できる基として、イミノ基、チオン基のように、例
えばRがアルキルの場合アルキル骨格中にイミノ基やチ
オン基が含まれる形の置換基も含まれる。Rは、これら
の置換基の中から単独又は複数の置換基を有することが
できる。又、それぞれの置換基はこれらの置換基で更に
置換されてもよい。
Examples of the substituent which can be substituted for R include an alkyl group (having 1 to 18 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group and a decyl group), and an alkenyl group (a carbon atom). With 2-20 atoms,
For example, an allyl group, a 2-butenyl group, etc., an alkynyl group (having 2 to 20 carbon atoms, for example, a propargyl group, 2-butynyl group, etc.), a cycloalkyl group (having 3 to 12 carbon atoms) For example, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.), an aryl group (having 6 to 10 carbon atoms, for example, a phenyl group),
A halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), an alkoxy group (having 1 to 10 carbon atoms, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a hexyloxy group, etc.), an aryloxy group (for 6 to 6 carbon atoms) 10, a phenoxy group), a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group (having 2 to 20 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group),
An aryloxycarbonyl group (having 7 to 11 carbon atoms, for example, a phenoxycarbonyl group), an amino group,
Imino group, acyl group (having 1 to 20 carbon atoms, for example, acetyl group), carbamoyl group, hydroxy group, acyloxy group (having 2 to 20 carbon atoms, for example, acetoxy group), aryloyloxy group (Having 7 to 11 carbon atoms, for example, benzoyloxy group), amide group (having 1 to 20 carbon atoms, for example, acetamido group, benzamide group), sulfo group, and sulfonyl group (having 1 to 11 carbon atoms) 12, for example, a methanesulfonyl group, a benzenesulfonyl group, etc.), an alkylthio group (having 1 to 20 carbon atoms, for example, a methylthio group,
An ethylthio group), an arylthio group (having 6 to 10 carbon atoms)
For example, a phenylthio group), a sulfamoyl group, a sulfonamide group (having 1 to 20 carbon atoms,
For example, a methanesulfonamide group, a benzenesulfonamide group, etc., a ureido group (having 1 to 20 carbon atoms, such as a methylureido group, a phenylureido group, etc.), and a thioureido group (having 1 to 20 carbon atoms,
Examples thereof include a methylthioureido group and a phenylthioureido group, a thioamide group (having 1 to 20 carbon atoms, such as a thioacetamide group and a thiobenzamide group), a cyano group, and a nitro group. Examples of the group that can be substituted for R include a substituent such as an imino group and a thione group, for example, when R is alkyl, the alkyl skeleton contains an imino group or a thione group. R may have one or more substituents among these substituents. Further, each substituent may be further substituted with these substituents.

【0041】一般式(I)で表される化合物の具体例を
以下に示すが、本発明はこれらに限定されものではな
い。
Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0042】[0042]

【化7】 Embedded image

【0043】[0043]

【化8】 Embedded image

【0044】[0044]

【化9】 Embedded image

【0045】本発明に係るこれらの強色増感剤は有機銀
塩及びハロゲン化銀粒子を含む乳剤層中に銀1モル当た
り0.001〜1.0モルの範囲で用いるのが好まし
い。特に、好ましくは、銀1モル当たり0.01〜0.
5モルの範囲の量が好ましい。
These supersensitizers according to the present invention are preferably used in the emulsion layer containing the organic silver salt and silver halide grains in the range of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver. In particular, it is preferably 0.01 to 0.1 / mol silver.
An amount in the range of 5 moles is preferred.

【0046】本発明の強色増感剤は、赤外増感色素の場
合、特に効果を発揮する。これらに用いられる赤外分光
増感色素としては、例えば、米国特許第4,536,4
73号、同第4,515,888号、同第4,959,
294号、同第5,393,654号等に開示されてい
る赤外分光増感色素が挙げられる。
The supersensitizer of the present invention is particularly effective when it is an infrared sensitizing dye. Examples of the infrared spectral sensitizing dye used for these include, for example, US Pat.
No. 73, No. 4,515,888, No. 4,959,
No. 294, 5,393,654 and the like.

【0047】しかしながら、特に好ましい分光増感色素
としては、前記一般式(1)〜(4)で表される色素が
挙げられる。
However, particularly preferred spectral sensitizing dyes include the dyes represented by formulas (1) to (4).

【0048】前記一般式(1)〜(4)に於て、Y1
2、Y11、Y21、Y22及びY31は、各々、酸素原子、
硫黄原子、セレン原子、−C(Ra)(Rb)−基、又は
−CH=CH−基を表し、Z1は5員または6員の縮合
された環を完成するに必要な非金属原子群を表す。Rは
水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、アラル
キル基、低級アルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ
基、ハロゲン原子を表し、Ra及びRbは各々、水素原
子、低級アルキル基或いはRaとRb間で結合して5員、
6員の脂肪族スピロ環を形成するに必要な非金属原子群
を表す。R1、R11、R21、R22、R31及びR32は各々
脂肪族基であり、或いはR1はW3と、R11はW14との間
で縮合環を形成するに必要な非金属原子群を表す。Rc
及びRdは各々、低級アルキル基、シクロアルキル基、
アラルキル基、アリール基、複素環基を表わす。W1
2、W3、W4、W11、W12、W13、W14、W21
22、W23、W24、W31、W32、W33及びW34は各々、
水素原子、置換基、或いはW1はW2と、W11はW12と、
21はW22と、W23はW24と、W31はW32と、W33はW
34との間で結合して縮合環を形成するに必要な非金属原
子群を表す。V1〜V9、V11〜V13、V21〜V29、V31
〜V33は各々、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環
基を表し、或いはV1はV3と、V2はV4と、V3はV
5と、V4はV6と、V5はV7と、V6はV8と、V7はV9
と、V11はV13と、V21はV23と、V22はV24と、V23
はV25と、V24はV26と、V25はV27と、V26はV
28と、V27はV29と、V31はV33との間で結合して5員
〜7員の環を形成するに必要な非金属原子群を表し、V
1〜V9の何れか一つ及びV11〜V13の何れか一つは水素
原子以外の基である。X1、X11、X21及びX31は各
々、分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、l
1、l11、l21及びl31は各々、分子内の電荷を
相殺するに必要なイオンの数を表す。k1、k2、k2
1及びk22は各々、0又は1を表す。n21、n2
2、n31及びn32は各々、0〜2の整数を表わし、
n21とn22及びn31とn32が同時に0になるこ
とはない。p1及びp11は各々、0又は1であり、q
1及びq11は各々、1及び2の整数であり、p1とq
1及びp11とq11の和は2を超えない。〕 一般式(1)、(2)のうち更に好ましい構造は一般式
(1−1)(2−1)で表される。
In the general formulas (1) to (4), Y 1 ,
Y 2 , Y 11 , Y 21 , Y 22 and Y 31 are each an oxygen atom,
Represents a sulfur atom, a selenium atom, a —C (R a ) (R b ) — group, or a —CH = CH— group, and Z 1 represents a non-metal required for completing a 5- or 6-membered condensed ring. Represents an atomic group. R is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group, hydroxy group, a halogen atom, R a and R b are each a hydrogen atom, a lower alkyl group or R a and R b is joined by 5 members,
Represents a group of non-metallic atoms necessary to form a 6-membered aliphatic spiro ring. R 1 , R 11 , R 21 , R 22 , R 31 and R 32 are each an aliphatic group, or R 1 is required to form a fused ring with W 3 and R 11 with W 14 Represents a group of non-metallic atoms. R c
And R d are each a lower alkyl group, a cycloalkyl group,
Represents an aralkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. W 1 ,
W 2 , W 3 , W 4 , W 11 , W 12 , W 13 , W 14 , W 21 ,
W 22, W 23, W 24 , W 31, W 32, W 33 and W 34 each,
A hydrogen atom, a substituent or W 1 is W 2 , W 11 is W 12 ,
W 21 and W 22, W 23 and W 24, W 31 and W 32, W 33 is W
Represents a group of non-metallic atoms necessary for forming a condensed ring by bonding with 34 . V 1 ~V 9, V 11 ~V 13, V 21 ~V 29, V 31
To V 33 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, or V 1 is V 3 V 2 is V 4 and V 3 is V
And 5, V 4 and V 6, V 5 and V 7, V 6 and V 8, V 7 is V 9
When, and V 11 is V 13, and V 21 are V 23, V 22 and V 24, V 23
Is V 25 , V 24 is V 26 , V 25 is V 27 , V 26 is V
28 , V 27 represent V 29 and V 31 represent a group of nonmetallic atoms necessary for forming a 5- to 7-membered ring by bonding between V 29 and V 33 ;
1 any one of any one and V 11 ~V 13 of ~V 9 is a group other than a hydrogen atom. X 1 , X 11 , X 21 and X 31 each represent an ion necessary for canceling an intramolecular charge;
1, 111, 121 and 131 each represent the number of ions required to cancel the charge in the molecule. k1, k2, k2
1 and k22 each represent 0 or 1. n21, n2
2, n31 and n32 each represent an integer of 0 to 2,
n21 and n22 and n31 and n32 never become 0 at the same time. p1 and p11 are each 0 or 1, and q
1 and q11 are integers of 1 and 2, respectively, and p1 and q
1 and the sum of p11 and q11 does not exceed 2. More preferred structures among the general formulas (1) and (2) are represented by the general formulas (1-1) and (2-1).

【0049】[0049]

【化10】 Embedded image

【0050】一般式(1−1)及び(2−1)に於て、
1、Y2及びY11は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレ
ン原子、−C(Ra)(Rb)−基または−CH=CH−
基を表し、Z1は5員または6員の縮合された環を完成
するに必要な非金属原子群を表す。Rは水素原子、低級
アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、低級ア
ルコキシ基、アリール基、ヒドキシ基、ハロゲン原子を
表し、Ra及びRbは各々、水素原子、低級アルキル基、
或いはRaとRb間で結合して5員、6員の脂肪族スピロ
環を形成するに必要な非金属原子群を表す。R1及びR
11は各々、脂肪族基、或いはR1はW3と、R11はW14
の間で縮合環を形成するに必要な非金属原子群を表す。
1、W2、W3、W4、W11、W12、W13及びW14は各
々、水素原子、置換基、或いはW1はW2と、W11はW12
と、W13はW14との間で結合して縮合環を形成するのに
必要な非金属原子群を表す。L1〜L9、L11〜L15は各
々、メチン基を表す。X1及びX11は各々、分子内の電
荷を相殺するに必要なイオンを表し、l1及びl11は
各々、分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表
す。m1〜m3は各々、0又は1を表す。p1及びp1
1は各々、0又は1であり、q1及びq11は各々、1
又は2の整数であり、p1とq1及びp11とq11の
和は2を超えない。
In the general formulas (1-1) and (2-1),
Y 1 , Y 2 and Y 11 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a —C (R a ) (R b ) — group or —CH = CH—
Z 1 represents a group of non-metallic atoms required to complete a 5- or 6-membered fused ring. R is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group, Hidokishi group, a halogen atom, each R a and R b, hydrogen atom, a lower alkyl group,
Alternatively, it represents a group of non-metallic atoms necessary for forming a 5- or 6-membered aliphatic spiro ring by bonding between Ra and Rb . R 1 and R
11 represents an aliphatic group, or R 1 represents W 3 and R 11 represents a group of non-metallic atoms necessary for forming a condensed ring with W 14 .
W 1 , W 2 , W 3 , W 4 , W 11 , W 12 , W 13 and W 14 are each a hydrogen atom, a substituent or W 1 is W 2 and W 11 is W 12
And W 13 represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a condensed ring by bonding with W 14 . L 1 to L 9 and L 11 to L 15 each represent a methine group. X 1 and X 11 each represent an ion required to cancel the charge in the molecule, and 11 and 111 each represent the number of ions required to cancel the charge in the molecule. m1 to m3 each represent 0 or 1. p1 and p1
1 is each 0 or 1, q1 and q11 are each 1
Or, the sum of p1 and q1 and p11 and q11 does not exceed 2.

【0051】各置換基について更に詳しく説明する。Each substituent will be described in more detail.

【0052】本発明の 一般式(1)、(1−1)、
(2−1)、(3)、(4)で表される化合物について
以下に置換基を説明する。
The general formulas (1), (1-1),
The substituents of the compounds represented by (2-1), (3) and (4) are described below.

【0053】前記一般式においてZ1で示される5員ま
たは6員の縮合された環を完成するに必要な非金属原子
群により完成される縮合環としては例えば、縮合シクロ
ヘキセン環、縮合ベンゼン環、縮合チオフェン環、縮合
ピリジン環、縮合ナフタレン環等が挙げられ、具体的に
は、ベンゾオキサゾール環、テトラヒドロベンゾオキサ
ゾール環、ナフトオキサゾール環、ベンゾナフトオキサ
ゾール環、ベンゾチアゾール環、テトラヒドロベンゾチ
アゾール環、ナフトチアゾール環、ベンゾナフトチアゾ
ール環等、チエノチアゾール環、チアナフテノチアゾー
ル環、ピリドチアゾール環、ベンゾセレナゾール環、テ
トラヒドロベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール
環、ベンゾナフトセレナゾール環、キノリン環、3,3
−ジアルキルインドレニン環、3,3−ジアルキルピリ
ドピロリン環等が挙げられる。これらの環上には後述の
1〜W4で示される置換しうる基として説明される任意
の基が置換できる。
Examples of the condensed ring completed by the non-metallic atoms necessary for completing the 5- or 6-membered condensed ring represented by Z 1 in the above general formula include a condensed cyclohexene ring, a condensed benzene ring, Examples include a condensed thiophene ring, a condensed pyridine ring, a condensed naphthalene ring, and the like. Ring, benzonaphthothiazole ring, thienothiazole ring, thianaphthenothiazole ring, pyridothiazole ring, benzoselenazole ring, tetrahydrobenzoselenazole ring, naphthoselenazole ring, benzonaphthoselenazole ring, quinoline ring, 3,3
-Dialkylindolenin ring, 3,3-dialkylpyridopyrroline ring and the like. Any of the groups described as substitutable groups represented by W 1 to W 4 described below can be substituted on these rings.

【0054】R1、R11、R21、R22、R31、R32で示
される脂肪族基としては、例えば、炭素原子数1〜10
の分岐或は直鎖のアルキル基(例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、iso−ペ
ンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基等)、炭素原子数3〜10のアルケニル基(例え
ば、2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−
3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3
−ブテニル基、4−ヘキセニル基等)、炭素原子数7〜
10のアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基等)が挙げられる。
The aliphatic groups represented by R 1 , R 11 , R 21 , R 22 , R 31 and R 32 include, for example, those having 1 to 10 carbon atoms.
Branched or linear alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, iso-pentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group, decyl group, etc.), and the number of carbon atoms 3 to 10 alkenyl groups (for example, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-
3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3
-Butenyl group, 4-hexenyl group, etc.), having 7 to 7 carbon atoms
And 10 aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, etc.).

【0055】上述した基は、更に、低級アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)、ハロゲン
原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
ビニル基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリ
ル基、p−ブロモフェニル基等)、トリフルオロメチル
基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、
メトキシエトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、
フェノキシ基、p−トリルオキシ基等)、シアノ基、ス
ルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリフルオ
ロメタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基
等)、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカル
ボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アミノ基(例え
ば、アミノ基、ビスカルボキシメチルアミノ基等)、ア
リール基(例えば、フェニル基、カルボキシフェニル基
等)、複素環基(例えば、テトラヒドロフルフリル基、
2−ピロリジノン−1−イル基等)、アシル基(例え
ば、アセチル基、ベンゾイル基等)、ウレイド基(例え
ば、ウレイド基、3−メチルウレイド基、3−フェニル
ウレイド基等)、チオウレイド基(例えば、チオウレイ
ド基、3−メチルチオウレイド基等)、アルキルチオ基
(例えば、メチルチオ、エチルチオ基等)、アリールチ
オ基(例えば、フェニルチオ基等)、複素環チオ基(例
えば、2−チエニルチオ基、3−チエニルチオ、2−イ
ミダゾリルチオ基等)、カルボニルオキシ基(例えば、
アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミ
ノ、ベンゾイルアミノ基等)、チオアミド基(例えば、
チオアセトアミド基、チオベンゾイルアミノ基等)等の
基、あるいは、例えば、スルホ基、カルボキシ基、ホス
フォノ基、スルファート基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、スルフィノ基、カルバモイル基(例えば、カルバモ
イル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−テトラメ
チレンカルバモイル基等)、スルファモイル基(例え
ば、スルファモイル基、N,N−3−オキサペンタメチ
レンアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例え
ば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド基
等)、スルホニルアミノカルボニル基(例えば、メタン
スルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルアミノ
カルボニル基等)、アシルアミノスルホニル基(例え
ば、アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミドス
ルホニル基等)、アシルアミノカルボニル基(例えば、
アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカルボ
ニル基等)、スルフィニルアミノカルボニル基(例え
ば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタンス
ルフィニルアミノカルボニル基等)等の親水性の基で置
換されていても良い。
The above-mentioned groups further include a lower alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.),
Vinyl group, aryl group (for example, phenyl group, p-tolyl group, p-bromophenyl group, etc.), trifluoromethyl group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group,
Methoxyethoxy group etc.), aryloxy group (for example,
Phenoxy group, p-tolyloxy group, etc.), cyano group, sulfonyl group (eg, methanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.) An amino group (eg, amino group, biscarboxymethylamino group, etc.), an aryl group (eg, phenyl group, carboxyphenyl group, etc.), a heterocyclic group (eg, tetrahydrofurfuryl group,
2-pyrrolidinone-1-yl group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, benzoyl group, etc.), ureido group (eg, ureido group, 3-methylureido group, 3-phenylureido group, etc.), thioureido group (eg, Thioureido group, 3-methylthioureido group, etc.), alkylthio group (eg, methylthio, ethylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, etc.), heterocyclic thio group (eg, 2-thienylthio group, 3-thienylthio, 2-imidazolylthio group, etc.), carbonyloxy group (for example,
Acetyloxy group, propanoyloxy group, benzoyloxy group, etc.), acylamino group (eg, acetylamino, benzoylamino group, etc.), thioamide group (eg,
Thioacetamide group, thiobenzoylamino group and the like, or, for example, sulfo group, carboxy group, phosphono group, sulfate group, hydroxy group, mercapto group, sulfino group, carbamoyl group (for example, carbamoyl group, N-methyl) Carbamoyl group, N, N-tetramethylenecarbamoyl group, etc., sulfamoyl group (eg, sulfamoyl group, N, N-3-oxapentamethyleneaminosulfonyl group, etc.), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide, butanesulfonamide) Group), sulfonylaminocarbonyl group (eg, methanesulfonylaminocarbonyl, ethanesulfonylaminocarbonyl group, etc.), acylaminosulfonyl group (eg, acetamidosulfonyl, methoxyacetamidosulfonyl group, etc.), acyl Amino carbonyl group (e.g.,
It may be substituted with a hydrophilic group such as acetamidocarbonyl, methoxyacetamidocarbonyl group, and sulfinylaminocarbonyl group (for example, methanesulfinylaminocarbonyl group, ethanesulfinylaminocarbonyl group, etc.).

【0056】これら親水性の基を置換した脂肪族基の具
体的例としては、カルボキシメチル基、カルボキシエチ
ル基、カルボキシブチル基、カルボキシペンチル基、3
−スルファートブチル基、3−スルホプロピル基、2−
ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、4−スルホブチル
基、5−スルホペンチル基、3−スルホペンチル基、3
−スルフィノブチル基、3−ホスフォノプロピル基、ヒ
ドロキシエチル基、N−メタンスルホニルカルバモイル
メチル基、2−カルボキシ−2−プロペニル基、o−ス
ルホベンジル基、p−スルホフェネチル基、p−カルボ
キシベンジル基等の各基が挙げられる。
Specific examples of the aliphatic group in which these hydrophilic groups are substituted include carboxymethyl group, carboxyethyl group, carboxybutyl group, carboxypentyl group,
-Sulfate butyl group, 3-sulfopropyl group, 2-
Hydroxy-3-sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group, 5-sulfopentyl group, 3-sulfopentyl group, 3
-Sulfinobutyl group, 3-phosphonopropyl group, hydroxyethyl group, N-methanesulfonylcarbamoylmethyl group, 2-carboxy-2-propenyl group, o-sulfobenzyl group, p-sulfophenethyl group, p-carboxybenzyl And each group such as a group.

【0057】Rで表される低級アルキル基としては、炭
素数5以下の、直鎖、分岐の基であり、具体的にはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
イソプロピル基等が挙げられる。シクロアルキル基とし
てはシクロアルキル基としては例えば、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げられ、
アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチ
ル基、p−メトキシフェニルメチル基、o−アセチルア
ミノフェニルエチル基等が挙げられ、低級アルコキシ基
としては炭素原子数4以下の基であり、具体的にはメト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、iso−プロポキ
シ基等の基が挙げられ、アリール基としては置換、非置
換のものを含み、例えば、フェニル基、2−ナフチル
基、1−ナフチル基、o−トリル基、o−メトキシフェ
ニル基、m−クロロフェニル基、m−ブロモフェニル
基、p−トリル基、p−エトキシフェニル基等の基が挙
げられ、これらの基にはフェニル基、ハロゲン原子、ア
ルコキシ基、ヒドロキシ基等の基が置換できる。ハロゲ
ン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素
原子が挙げられる。
The lower alkyl group represented by R is a straight-chain or branched group having 5 or less carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group,
Isopropyl group and the like. Examples of the cycloalkyl group include, for example, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclopentyl group.
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a p-methoxyphenylmethyl group, an o-acetylaminophenylethyl group, and the like. The lower alkoxy group is a group having 4 or less carbon atoms. Is a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an iso-propoxy group, and the like.Examples of the aryl group include substituted and unsubstituted aryl groups, for example, phenyl, 2-naphthyl, 1-naphthyl, o -Tolyl group, o-methoxyphenyl group, m-chlorophenyl group, m-bromophenyl group, p-tolyl group, p-ethoxyphenyl group, and the like. These groups include a phenyl group, a halogen atom, and an alkoxy group. Groups such as groups and hydroxy groups can be substituted. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

【0058】Ra、Rbで表される低級アルキル基として
は、Rにおける低級アルキル基と同じものがあげられ
る。
The lower alkyl group represented by R a and R b is the same as the lower alkyl group for R.

【0059】Rc、Rdで表される低級アルキル基として
は炭素数5以下の、直鎖、分岐の基であり、具体的には
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、イソプロピル基等が挙げられる。シクロアルキル基
としてはシクロアルキル基としては例えば、シクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げら
れ、アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、p−メトキシフェニルメチル基、o−アセチ
ルアミノフェニルエチル基等が挙げられ、アリール基と
しては置換、非置換のものを含み、例えば、フェニル
基、2−ナフチル基、1−ナフチル基、o−トリル基、
o−メトキシフェニル基、m−クロロフェニル基、m−
ブロモフェニル基、p−トリル基、p−エトキシフェニ
ル基等の基が挙げられ、複素環基としては置換、非置換
のものを含み、例えば、2−フリル基、5−メチル−2
−フリル基、2−チエニル基、2−イミダゾリル基、2
−メチル−1−イミダゾリル基、4−フェニル−2−チ
アゾリル基、5−ヒドロキシ−2−ベンゾチアゾリル
基、2−ピリジル基、1−ピロリル基等の基が挙げられ
る。
The lower alkyl group represented by R c and R d is a linear or branched group having 5 or less carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group. And an isopropyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclopentyl group.Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a p-methoxyphenylmethyl group, and o-acetylamino. Examples include a phenylethyl group and the like, and substituted and unsubstituted aryl groups include, for example, a phenyl group, a 2-naphthyl group, a 1-naphthyl group, an o-tolyl group,
o-methoxyphenyl group, m-chlorophenyl group, m-
Examples of the group include a bromophenyl group, a p-tolyl group, and a p-ethoxyphenyl group. Examples of the heterocyclic group include substituted and unsubstituted ones. For example, a 2-furyl group, 5-methyl-2
-Furyl, 2-thienyl, 2-imidazolyl, 2
-Methyl-1-imidazolyl group, 4-phenyl-2-thiazolyl group, 5-hydroxy-2-benzothiazolyl group, 2-pyridyl group, 1-pyrrolyl group and the like.

【0060】これらの基には更に前述の説明であげたフ
ェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基
等の基が置換できる。
These groups can further be substituted with groups such as the phenyl group, halogen atom, alkoxy group and hydroxy group described above.

【0061】W1〜W4、W11〜W14、W21〜W24、W31
〜W34で表される置換基は具体的には、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、ブチル基、iso−ブチル
基等)、アリール基(単環並びに多環のものを含み、例
えば、フェニル基、カルボキシフェニル基、p−トリル
基、p−ブチルフェニル基、ナフチル基等)、複素環基
(例えば、テトラヒドロフリル基、2−ピロリジノン−
1−イル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基、カル
バゾリル基、ピロリル基、インドリル基等の各基)、ハ
ロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
等)、ビニル基、トリフルオロメチル基、アルコキシ基
(例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ
基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、p
−トリルオキシ基等)、スルホニル基(例えば、メタン
スルホニル基、p−トルエンスルホニル基等)、アルコ
キシカルボニル基(例えば、エトキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ
基、ビスカルボキシメチルアミノ基等)、アシル基(例
えば、アセチル基、ベンゾイル基等)、ウレイド基(例
えば、ウレイド基、3−メチルウレイド基、3−フェニ
ルウレイド基等)、チオウレイド基(例えば、チオウレ
イド基、3−メチルチオウレイド基等)、アルキルチオ
基(例えば、メチルチオ、エチルチオ基等)、アリール
チオ基(例えば、フェニルチオ基等)、ヒドロキシ基、
スチリル基等が挙げられる。
W 1 to W 4 , W 11 to W 14 , W 21 to W 24 , W 31
Substituents specifically represented by to W-34, an alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, butyl group, etc. iso- butyl group) include, those aryl groups (monocyclic as well as polycyclic, e.g. Phenyl group, carboxyphenyl group, p-tolyl group, p-butylphenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (for example, tetrahydrofuryl group, 2-pyrrolidinone-
1-yl group, thienyl group, furyl group, pyridyl group, carbazolyl group, pyrrolyl group, indolyl group, etc.), halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), vinyl group, trifluoromethyl Group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, methoxyethoxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, p
-Tolyloxy group, etc.), sulfonyl group (for example, methanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, biscarboxymethyl group) Amino group, etc., acyl group (eg, acetyl group, benzoyl group, etc.), ureido group (eg, ureido group, 3-methylureido group, 3-phenylureido group, etc.), thioureido group (eg, thioureido group, 3- A methylthioureido group, an alkylthio group (eg, methylthio, ethylthio group, etc.), an arylthio group (eg, phenylthio group, etc.), a hydroxy group,
And a styryl group.

【0062】これらの基にはR1等で示される脂肪族基
の説明で挙げた基が置換でき、置換されたアルキル基の
具体例としては、例えば、2−メトキシエチル基、2−
ヒドロキシエチル基、3−エトキシカルボニルプロピル
基、2−カルバモイルエチル基、2−メタンスルホニル
エチル基、3−メタンスルホニルアミノプロピル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、カルボキメチル基、カルボキ
シエチル基、アリル基、2−フリルエチル基等の各基が
挙げられ、置換されたアリール基の具体例としては、例
えば、p−カルボキシフェニル基、p−N,N−ジメチ
ルアミノフェニル基、p−モルフォリノフェニル基、p
−メトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル
基、3,4−メチレンジオキシフェニル基、3−クロロ
フェニル基、p−ニトロフェニル基等の各基が挙げら
れ、置換された複素環基の具体例としては、例えば、5
−クロロ−2−ピリジル基、5−エトキシカルボニル−
2−ピリジル基、5−カルバモイル−2−ピリジル等の
各基が挙げられる。
These groups can be substituted with the groups mentioned in the description of the aliphatic group represented by R 1 and the like. Specific examples of the substituted alkyl group include, for example, 2-methoxyethyl group, 2-methoxyethyl group,
Hydroxyethyl group, 3-ethoxycarbonylpropyl group, 2-carbamoylethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 3-methanesulfonylaminopropyl group, benzyl group, phenethyl group, carboxymethyl group, carboxyethyl group, allyl group, And specific examples of the substituted aryl group include, for example, a p-carboxyphenyl group, a p-N, N-dimethylaminophenyl group, a p-morpholinophenyl group,
-Methoxyphenyl group, 3,4-dimethoxyphenyl group, 3,4-methylenedioxyphenyl group, 3-chlorophenyl group, p-nitrophenyl group, etc., and specific examples of the substituted heterocyclic group For example, 5
-Chloro-2-pyridyl group, 5-ethoxycarbonyl-
Each group such as a 2-pyridyl group and 5-carbamoyl-2-pyridyl is exemplified.

【0063】W1とW2、W3とW4、W11とW12、W13
14、W21とW22、W23とW24、W31とW32、R33とR
34が各々、互いに連結して形成することができる縮合環
としては、例えば、5員、6員の飽和又は不飽和の縮合
炭素環が挙げられる。これらの縮合環上には任意の位置
に置換基を有することができ、これらの置換基としては
前述の脂肪族基に置換できる基で説明した基が挙げられ
る。
W 1 and W 2 , W 3 and W 4 , W 11 and W 12 , W 13 and W 14 , W 21 and W 22 , W 23 and W 24 , W 31 and W 32 , R 31 and W 32 , R 33 and R
34 each as a fused ring which can be formed by connecting together, for example, 5-membered, and a fused carbocyclic 6-membered saturated or unsaturated. These condensed rings can have a substituent at any position, and examples of these substituents include the groups described above as the groups that can be substituted with the aliphatic group.

【0064】V1〜V9、V11〜V13、V21〜V29、V31
〜V33で各々、示されるハロゲン原子としてはフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられ、アミノ
基としては置換、非置換のものを含み、例えば、アミノ
基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチル−
フェニルアミノ基等が挙げられ、アルキルチオ基として
は例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ベンジルチオ
基等が挙げられ、アリールチオ基としては置換、非置換
のものを含み、例えば、フェニルチオ基、m−フルオロ
フェニルチオ基等の基が挙げられ、低級アルキル基とし
ては炭素数5以下の直鎖、分岐の基であり、具体的には
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、イソプロピル基等が挙げられる。低級アルコキシ基
としては炭素原子数4以下の基であり、具体的にはメト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、iso−プロポキ
シ基等の基が挙げられ、アリール基としては置換、非置
換のものを含み、例えば、フェニル基、2−ナフチル
基、1−ナフチル基、o−トリル基、o−メトキシフェ
ニル基、m−クロロフェニル基、m−ブロモフェニル
基、p−トリル基、p−エトキシフェニル基等の基が挙
げられ、アリールオキシ基としては置換、非置換のもの
を含み、具体的にはフェノキシ基、p−トリルオキシ
基、m−カルボキシフェニルオキシ基とうの基が挙げら
れる。複素環基としては置換、非置換のものを含み、例
えば、2−フリル基、5−メチル−2−フリル基、2−
チエニル基、2−イミダゾリル基、2−メチル−1−イ
ミダゾリル基、4−フェニル−2−チアゾリル基、5−
ヒドロキシ−2−ベンゾチアゾリル基、2−ピリジル
基、1−ピロリル基等の基が挙げられる。
V 1 to V 9 , V 11 to V 13 , V 21 to V 29 , V 31
Each in ~V 33, fluorine atom as the halogen atom represented, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a substituted as the amino groups include those unsubstituted, for example, an amino group, dimethylamino group, diphenylamino Amino group, methyl-
Examples of the alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, and a benzylthio group.Examples of the arylthio group include substituted and unsubstituted ones, such as a phenylthio group and an m-fluorophenylthio group. And the lower alkyl group is a straight-chain or branched group having 5 or less carbon atoms. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and an isopropyl group. No. The lower alkoxy group is a group having 4 or less carbon atoms. Specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an iso-propoxy group. Including, for example, phenyl, 2-naphthyl, 1-naphthyl, o-tolyl, o-methoxyphenyl, m-chlorophenyl, m-bromophenyl, p-tolyl, p-ethoxyphenyl, etc. The aryloxy group includes substituted and unsubstituted groups, and specific examples include a phenoxy group, a p-tolyloxy group, and an m-carboxyphenyloxy group. Examples of the heterocyclic group include substituted and unsubstituted ones, for example, a 2-furyl group, a 5-methyl-2-furyl group,
Thienyl group, 2-imidazolyl group, 2-methyl-1-imidazolyl group, 4-phenyl-2-thiazolyl group, 5-
Examples thereof include a hydroxy-2-benzothiazolyl group, a 2-pyridyl group, a 1-pyrrolyl group, and the like.

【0065】これらの基にはフェニル基、ハロゲン原
子、アルコキシ基、ヒドロキシ基等の基が置換できる。
These groups can be substituted with groups such as a phenyl group, a halogen atom, an alkoxy group and a hydroxy group.

【0066】又、V1とV3、V2とV4、V3とV5、V4
とV6、V5とV7、V6とV8、V7とV9、V11とV13、
21とV23、V22とV24、V23とV25、V24とV26、V25
とV27、V26とV28、V27とV29及びV31とV33の間で
結合して形成される5員〜7員の環としては、例えば、
シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン
環、デカリン環等が挙げられ、これらの環にはRで挙げ
た低級アルキル基、低級アルコキシ基、アリール基が置
換できる。
Also, V 1 and V 3 , V 2 and V 4 , V 3 and V 5 , V 4
And V 6, V 5 and V 7, V 6 and V 8, V 7 and V 9, V 11 and V 13, V
21 and V 23 , V 22 and V 24 , V 23 and V 25 , V 24 and V 26 , V 25
And V 27 , V 26 and V 28 , V 27 and V 29, and a 5- to 7-membered ring formed by bonding between V 31 and V 33 include, for example,
Examples thereof include a cyclopentene ring, a cyclohexene ring, a cycloheptene ring, and a decalin ring, and these rings can be substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or an aryl group described for R.

【0067】L1〜L9、L11〜L15で示されるメチン基
は各々、独立に置換もしくは未置換メチン基を表す。置
換される基の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、
置換もしくは無置換の低級アルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、iso−プロピル基、ベンジル基等)、
低級アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基
等)、置換もしくは無置換のアリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、ナフトキシ基等)、置換もしくは無
置換のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、
p−トリル基、o−カルボキシフェニル基等)、−N
(U1)(U2)、−SRg又は置換もしくは無置換の複
素環基(例えば、2−チエニル基、2−フリル基、N,
N′−ビス(メトキシエチル)バルビツール酸基等)を
表す。
The methine groups represented by L 1 to L 9 and L 11 to L 15 each independently represent a substituted or unsubstituted methine group. Specific examples of the substituted group include a fluorine atom, a chlorine atom,
A substituted or unsubstituted lower alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, iso-propyl group, benzyl group, etc.),
A lower alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.), a substituted or unsubstituted aryloxy group (eg, phenoxy group, naphthoxy group, etc.), a substituted or unsubstituted aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group,
p-tolyl group, o-carboxyphenyl group, etc.), -N
(U 1 ) (U 2 ), —SR g or a substituted or unsubstituted heterocyclic group (eg, 2-thienyl group, 2-furyl group, N,
N′-bis (methoxyethyl) barbituric acid group).

【0068】ここでRgは前述したR基で説明した低級
アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、−SRg
基として具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、ベ
ンジルチオ基、フェニルチオ基、トリルチオ基等が挙げ
られる。
[0068] wherein R g is a lower alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group described for R group described above, -SR g
Specific examples of the group include a methylthio group, an ethylthio group, a benzylthio group, a phenylthio group, a tolylthio group, and the like.

【0069】U1とU2は各々、置換もしくは無置換の低
級アルキル基又はアリール基を表し、U1とU2とは互い
に連結して5員又は6員の含窒素複素環(例えばピラゾ
ール環、ピロール環、ピロリジン環、モルホリン環、ピ
ペリジン環、ピリジン環、ピリミジン環、インドール環
等)を形成することもできる。また、これらメチン基は
お互いに隣接するメチン基同士、或いは一つ隔たったメ
チン基と互いに連結して5員〜7員環を形成することが
できる。
U 1 and U 2 each represent a substituted or unsubstituted lower alkyl group or aryl group, and U 1 and U 2 are connected to each other to form a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring (eg, a pyrazole ring). , A pyrrole ring, a pyrrolidine ring, a morpholine ring, a piperidine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an indole ring, etc.). In addition, these methine groups can form a 5- to 7-membered ring by linking to methine groups adjacent to each other or to methine groups separated by one.

【0070】前記一般式(1)、(1−1)、(2−
1)、(3)、(4)で示される化合物に於て、カチオ
ン或いはアニオンの電荷を有する基が置換されている場
合には各々、分子内の電荷が相殺するように当量のアニ
オン或いはカチオンで対イオンが形成される。例えば、
1、X11、X21、X31、X41及びX51で各々、示され
る分子内の電荷を相殺するに必要なイオンに於いてカチ
オンの具体例としては、プロトン、有機アンモニウムイ
オン(例えば、トリエチルアンモニウム、トリエタノー
ルアンモニウム、ピリジニウム等の各イオン)、無機カ
チオン(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等の
各カチオン)が挙げられ、酸アニオンの具体例としては
例えば、ハロゲンイオン(例えば塩素イオン、臭素イオ
ン、沃素イオン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、
過塩素酸イオン、4フッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、
メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン
酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキ
サフルオロりん酸イオン等が挙げられる。
The formulas (1), (1-1) and (2-
In the compounds represented by (1), (3) and (4), when a group having a cation or anion charge is substituted, an equivalent amount of an anion or cation is used so that the intramolecular charge is offset. Forms a counter ion. For example,
Specific examples of the cation necessary for canceling the intramolecular charge represented by X 1 , X 11 , X 21 , X 31 , X 41, and X 51 include a proton and an organic ammonium ion (for example, , Triethylammonium, triethanolammonium, pyridinium, etc.), inorganic cations (eg, cations such as lithium, sodium, potassium, etc.). Specific examples of acid anions include, for example, halogen ions (eg, chloride ions, Bromide ion, iodine ion, etc.), p-toluenesulfonic acid ion,
Perchlorate ion, boron tetrafluoride ion, sulfate ion,
Examples include methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion, methane sulfonate ion, trifluoromethane sulfonate ion, and hexafluorophosphate ion.

【0071】本発明のこれら赤外分光増感色素、ひとつ
はベンゾアゾール環の窒素原子とそのペリ位炭素原子と
の間が結合した3環縮合複素環核を有することを特徴と
した、もうひとつはベンゾアゾール環のベンゼン環上に
スルフィニル基が置換されていることを特徴とした長鎖
のポリメチン色素が特に好ましい。
The infrared spectral sensitizing dyes of the present invention, one of which is characterized by having a tricyclic fused heterocyclic nucleus in which a nitrogen atom of a benzoazole ring is bonded to a carbon atom at the peri-position thereof. Is particularly preferably a long-chain polymethine dye characterized by having a sulfinyl group substituted on the benzene ring of a benzoazole ring.

【0072】以下に、上記一般式(1)、(1−1)、
(2−1)、(3)、(4)で表される感光色素或いは
分光増感色素の代表的な化合物例を示すが、本発明はこ
れらの化合物に限定されるものではない
The following formulas (1), (1-1),
Representative examples of the photosensitive dyes or spectral sensitizing dyes represented by (2-1), (3) and (4) are shown below, but the present invention is not limited to these compounds.

【0073】[0073]

【化11】 Embedded image

【0074】[0074]

【化12】 Embedded image

【0075】[0075]

【化13】 Embedded image

【0076】[0076]

【化14】 Embedded image

【0077】[0077]

【化15】 Embedded image

【0078】[0078]

【化16】 Embedded image

【0079】[0079]

【化17】 Embedded image

【0080】[0080]

【化18】 Embedded image

【0081】[0081]

【化19】 Embedded image

【0082】[0082]

【化20】 Embedded image

【0083】[0083]

【化21】 Embedded image

【0084】[0084]

【化22】 Embedded image

【0085】[0085]

【化23】 Embedded image

【0086】[0086]

【化24】 Embedded image

【0087】上記の赤外感光性色素は、例えばエフ・エ
ム・ハーマー著、The Chemistry of
Heterocyclic Compounds第18
巻、The Cyanine Dyes and Re
lated Compounds(A.Weissbe
rger ed.Interscience社刊、Ne
w York 1964年)に記載の方法によって容易
に合成することができる。具体的には特願平11−58
686に記載されている。
The above-mentioned infrared-sensitive dyes are described, for example, by FM Hammer, The Chemistry of
Heterocyclic Compounds No. 18
Volume, The Cyanine Dyes and Re
rated Compounds (A. Weissbe
rger ed. Published by Interscience, Ne
w York 1964). Specifically, Japanese Patent Application No. Hei 11-58
686.

【0088】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は、特に強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す他の物質を乳剤中に含んでもよい。
These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and the combination of sensitizing dyes is often used particularly for supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization.

【0089】前記一般式(I)で表される化合物との併
用により、高い感度、安定性を得ることができる。
High sensitivity and stability can be obtained by using the compound represented by formula (I) in combination.

【0090】本発明の強色増感剤は熱現像感光材料の調
製段階のどの段階において感光材料中に添加されてもよ
く、例えばハロゲン化銀乳剤調製後にハロゲン化銀中
に、又ハロゲン化銀乳剤が有機銀塩分散液と混合されハ
ロゲン化銀−有機銀塩分散液が調製された段階において
等、様々な段階にて混合が可能である。しかしながら、
これらの強色増感剤は、出来れば後述する感光色素の添
加前の段階において添加するのが好ましい。
The supersensitizer of the present invention may be added to the light-sensitive material at any stage during the preparation of the photothermographic material. For example, the supersensitizer may be added to the silver halide after preparing the silver halide emulsion, or may be added to the silver halide emulsion. The mixing can be performed at various stages, such as at the stage when the emulsion is mixed with the organic silver salt dispersion and the silver halide-organic silver salt dispersion is prepared. However,
These supersensitizers are preferably added at the stage before the addition of the photosensitive dye described below, if possible.

【0091】本発明において赤外増感されるハロゲン化
銀は、ゼラチンのような保護コロイドの存在下、シング
ルジェットもしくはダブルジェット法などの写真技術の
分野で公知の任意の方法により、例えばアンモニア法乳
剤、中性法、酸性法等のいずれかの方法でも調製でき
る。この様に予め調製し、次いで本発明の他の成分と混
合して本発明に用いる組成物中に導入することが出来
る。この場合に感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の接触を
充分に行わせるため、例えば感光性ハロゲン化銀を調製
するときの保護ポリマーとして米国特許第3,706,
564号、同第3,706,565号、同第3,71
3,833号、同第3,748,143号、英国特許第
1,362,970号各明細書に記載されたポリビニル
アセタール類などのゼラチン以外のポリマーを用いる手
段や、英国特許第1,354,186号明細書に記載さ
れているような感光性ハロゲン化銀乳剤のゼラチンを酵
素分解する手段、又は米国特許第4,076,539号
明細書に記載されているように感光性ハロゲン化銀粒子
を界面活性剤の存在下で調製することによって保護ポリ
マーの使用を省略する手段等の各手段を適用することが
出来る。
In the present invention, the silver halide to be sensitized by infrared sensitization can be prepared by any method known in the field of photographic technology such as a single jet or double jet method in the presence of a protective colloid such as gelatin, for example, by an ammonia method. It can be prepared by any method such as emulsion, neutral method, and acidic method. Thus, it can be prepared in advance and then mixed with other components of the present invention and introduced into the composition used in the present invention. In this case, in order to sufficiently contact the photosensitive silver halide with the organic silver salt, for example, US Pat.
No. 564, No. 3,706,565, No. 3,71
No. 3,833,3,748,143 and British Patent No. 1,362,970. Means using a polymer other than gelatin, such as polyvinyl acetals, and British Patent No. 1,354. Means for Enzymatically Degrading the Gelatin of a Light-Sensitive Silver Halide Emulsion as described in U.S. Pat. No. 4,186,539 or as described in U.S. Pat. No. 4,076,539. By preparing the particles in the presence of a surfactant, various means such as a means for omitting the use of the protective polymer can be applied.

【0092】ハロゲン化銀は、光センサーとして機能す
るものであり、画像形成後の白濁を低く抑える為又、良
好な画質を得るために粒子サイズが小さいものが好まし
い。平均粒子サイズで0.1μm以下、好ましくは0.
01μm〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μ
mが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状としては特に制
限はなく、立方体、八面体の所謂正常晶や正常晶でない
球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハロゲン化銀組
成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭
化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよ
い。
The silver halide functions as an optical sensor and preferably has a small grain size in order to suppress white turbidity after image formation and to obtain good image quality. 0.1 μm or less in average particle size, preferably 0.1 μm or less.
01 μm to 0.1 μm, especially 0.02 μm to 0.08 μ
m is preferred. The shape of the silver halide is not particularly limited, and may be cubic, octahedral, so-called normal crystals, or non-normal crystals, such as spherical, rod-shaped, or tabular grains. The silver halide composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide.

【0093】本発明の熱現像感光材料に使用される感光
性ハロゲン化銀は又、英国特許第1,447,454号
明細書に記載されている様に、有機銀塩を調製する際に
ハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と
共存させこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩の生成
とほぼ同時に生成させることが出来る。
The photosensitive silver halide used in the photothermographic material of the present invention can also be used in preparing an organic silver salt as described in British Patent 1,447,454. Halogen components such as ions coexist with organic silver salt-forming components, and silver ions are implanted into the components to produce organic silver salts almost simultaneously.

【0094】更に他の方法としては、予め調製された有
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有
効に接触しており好ましい作用を呈する。これらのハロ
ゲン化銀形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニ
ウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン
化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例
については米国特許第4,009,039号、同第3,
457,075号、同第4,003,749号、英国特
許第1,498,956号各明細書及び特開昭53−2
7027号、同53−25420号各公報に詳説される
が以下にその一例を示す。
As still another method, a part of the organic silver salt is exposed to light by allowing a silver halide forming component to act on a previously prepared solution or dispersion of the organic silver salt or a sheet material containing the organic silver salt. It can also be converted to neutral silver halide.
The silver halide thus formed is in effective contact with the organic silver salt and exhibits a preferable action. These silver halide-forming components include inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds, and other halogen-containing compounds, and specific examples thereof are described in US Pat. No. 4,009,039. No. 3
457,075, 4,003,749, British Patent No. 1,498,956, and JP-A-53-2.
Nos. 7027 and 53-25420 are described in detail, examples of which are shown below.

【0095】(1)無機ハロゲン化物:例えばMXn
表されるハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び
金属原子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、M
が金属原子の時はその原子価と同じ数値を表す。金属原
子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリ
ウム、亜鉛、カドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロ
ム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セ
リウム等がある。)。又、臭素水などのハロゲン分子も
有効である。
[0095] (1) inorganic halide: halide (wherein M represented by e.g. MX n, H, NH 4, and represents a metal atom, n represents 1 when the M is H and NH 4, M
When is a metal atom, it represents the same value as its valence. Examples of the metal atom include lithium, sodium, potassium, cesium, magnesium, calcium, strontium, barium, zinc, cadmium, mercury, tin, antimony, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, rhodium, and cerium. ). Further, halogen molecules such as bromine water are also effective.

【0096】(2)オニウムハライド類:例えばトリメ
チルフェニルアンモニウムブロマイド、セチルエチルジ
メチルアンモニウムブロマイドの様な第4級アンモニウ
ムハライド、テトラエチルフォスフォニウムブロマイド
の様な第4級フォスフォニウムハライド、トリメチルス
ルフォニウムアイオダイドの様な第3級スルフォニウム
ハライド等の化合物。
(2) Onium halides: quaternary ammonium halides such as, for example, trimethylphenylammonium bromide and cetylethyldimethylammonium bromide, quaternary phosphonium halides such as tetraethylphosphonium bromide, and trimethylsulfonium Compounds such as tertiary sulfonium halides such as iodide.

【0097】(3)ハロゲン化炭化水素類:例えばヨー
ドフォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、2−ブロム
−2−メチルプロパン等。
(3) Halogenated hydrocarbons: for example, iodoform, bromoform, carbon tetrachloride, 2-bromo-2-methylpropane and the like.

【0098】(4)N−ハロゲン化合物:例えばN−ク
ロロ琥珀酸イミド、N−ブロム琥珀酸イミド、N−ブロ
ムフタルイミド等の化合物。
(4) N-halogen compounds: Compounds such as N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide and N-bromophthalimide.

【0099】(5)その他のハロゲン含有化合物:例え
ば、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチ
ル、2−ブロム酢酸等の化合物。
(5) Other halogen-containing compounds: For example, compounds such as triphenylmethyl chloride, triphenylmethyl bromide and 2-bromoacetic acid.

【0100】これらのハロゲン化銀形成成分は有機銀塩
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モ
ル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハ
ロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されて
もよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩
の一部をハロゲン化銀に変換させる反応は又、後述する
結合剤として使用されるポリマーの存在下に行われるこ
とが好ましい。この際のポリマーの使用量は有機銀塩1
重量部当たり0.01乃至100重量部、好ましくは
0.1乃至10重量部である。
These silver halide forming components are used in a small amount stoichiometrically with respect to the organic silver salt. Usually, the range is from 0.001 mol to 0.7 mol, preferably from 0.03 mol to 0.5 mol, per 1 mol of the organic silver salt. Two or more silver halide forming components may be used in combination within the above range. The reaction for converting a part of the organic silver salt into silver halide using the above-mentioned silver halide-forming component is also preferably carried out in the presence of a polymer used as a binder described later. In this case, the amount of the polymer used was 1 organic silver salt.
It is 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight per part by weight.

【0101】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
する事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば米国特許第4,036,650号、英国特許
第1,518,850号各明細書、特開昭51−224
30号、同51−78319号、同51−81124号
各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形成成分によ
り有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際
に、米国特許第3,980,482号明細書に記載され
ているように、増感を達成するために低分子量のアミド
化合物を共存させてもよい。
The photosensitive silver halide prepared by the various methods described above includes, for example, sulfur-containing compounds, gold compounds,
Platinum compounds, palladium compounds, silver compounds, tin compounds,
Chemical sensitization can be achieved by a chromium compound or a combination thereof. The method and procedure of this chemical sensitization are described in, for example, U.S. Pat. No. 4,036,650, British Patent No. 1,518,850, JP-A-51-224.
No. 30, No. 51-78319, and No. 51-81124. Also, when a part of the organic silver salt is converted to a photosensitive silver halide by a silver halide forming component, as described in US Pat. No. 3,980,482, sensitization is achieved. A low molecular weight amide compound may coexist.

【0102】又、これらの感光性ハロゲン化銀には、照
度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の6族から10
族に属する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、O
s、Fe等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させ
ることが出来る。特に錯イオンとして添加するのが好ま
しく、例えば照度不軌のためにIrCl6 2-等のIr錯
イオンを添加してもよい。
In addition, these photosensitive silver halides may be used in order to prevent illuminance failure and to adjust the gradation.
Metals belonging to group III, such as Rh, Ru, Re, Ir, O
An ion such as s or Fe, a complex thereof, or a complex ion can be contained. It is particularly preferable to add as a complex ion. For example, Ir complex ion such as IrCl 6 2- may be added due to illuminance failure.

【0103】これら光センサーとしてのハロゲン化銀の
量はハロゲン化銀及び後述の有機銀塩の総量に対し50
%以下好ましくは25%〜0.1%、更に好ましくは1
5%〜0.1%の間である。
The amount of silver halide as these optical sensors is 50 to the total amount of silver halide and an organic silver salt described later.
% Or less, preferably 25% to 0.1%, more preferably 1%
It is between 5% and 0.1%.

【0104】これらの赤外感光性熱現像感光材料におい
て、かぶり防止剤が用いられる。これらは、ハロゲン化
銀、有機銀塩の調製時に生成するかぶりや、熱現像時の
熱かぶりを抑制する為に用いられるが、本発明におい
て、有機銀塩の調製時や、ハロゲン化銀乳剤の混入時ま
でのプロセスかぶりを抑制するのに、特開平4−232
939号に記載されているようなパーブロミド化合物が
有効である。これらの具体例は上記明細書に記載されて
おり、本発明の赤外感光性熱現像感光材料において、こ
れらの化合物を用いることにより、低カブリ、高感度の
感光材料となる。しかしながら特に好ましいかぶり防止
剤としては前記の一般式(A)及び(B)で表される化
合物が挙げられる。これらの化合物を用いる事により高
い感度をもちつつそのかぶり抑制作用が大きい。
In these infrared-sensitive photothermographic materials, an antifoggant is used. These are used to suppress fogging generated during the preparation of silver halide and organic silver salts, and thermal fogging during thermal development.In the present invention, when preparing organic silver salts and preparing silver halide emulsions, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-232 discloses a method for suppressing the process fogging until mixing.
No. 939 is effective. Specific examples thereof are described in the above specification. By using these compounds in the infrared-sensitive photothermographic material of the present invention, a low-fogging and high-sensitivity photosensitive material can be obtained. However, particularly preferred antifoggants include the compounds represented by the above general formulas (A) and (B). By using these compounds, the effect of suppressing fog is high while having high sensitivity.

【0105】これらの化合物の置換基について更に説明
する。
The substituents of these compounds will be further described.

【0106】本発明の一般式(A)で表される化合物に
ついて詳述する。
The compound represented by formula (A) of the present invention will be described in detail.

【0107】Hal1及びHal2で表されるハロゲン原
子は同じであっても異なっていても良く、それぞれ独立
に塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子を表す
が、好ましくは双方とも臭素原子である場合である。
The halogen atoms represented by Hal 1 and Hal 2 may be the same or different and each independently represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a fluorine atom. Is the case.

【0108】Xで表されるアニオン基として具体的には
ハロゲンアニオン(塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ
素アニオン、フッ素アニオン)、カルボン酸アニオン、
スルホン酸アニオン、りん酸アニオン等が挙げられる
が、好ましくはハロゲンアニオンであり、より好ましく
は臭素アニオンである。
Specific examples of the anion group represented by X include a halogen anion (chlorine anion, bromine anion, iodine anion and fluorine anion), a carboxylate anion,
Sulfonate anion, phosphate anion and the like can be mentioned, but a halogen anion is preferable, and a bromine anion is more preferable.

【0109】R1はカルボニル基を部分構造として有す
る基を表すが、具体的にはアシル基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好まし
くは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイ
ル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アル
コキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より
好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜
12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニ
ル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素
数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例
えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、
アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ま
しくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10
であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなど
が挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好
ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜1
6、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメト
キシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリール
オキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜2
0、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭
素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニル
アミノなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好まし
くは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、
特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモ
イル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フ
ェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、ウレイド基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば
ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙
げられる。)などが挙げられる。好ましくはアシル基で
あり、特に好ましくはアセチル基である。
R 1 represents a group having a carbonyl group as a partial structure, specifically, an acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). And acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl and the like.), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 2 to 2 carbon atoms).
12, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like. ), An aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyloxycarbonyl).
Acylamino group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms)
And include, for example, acetylamino, benzoylamino and the like. ), An alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 1 carbon atoms)
6, particularly preferably having 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino. ), An aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 2 carbon atoms)
0, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino. ), A carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms,
Particularly preferably, it has 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, and phenylcarbamoyl. ), A ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom)
To 16, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, ureide, methylureide, phenylureide and the like. ). An acyl group is preferred, and an acetyl group is particularly preferred.

【0110】R2及びR3は水素原子、又は窒素原子に置
換可能な置換基を表す。窒素原子に置換可能な基として
は具体的には、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、沃
素原子、フッ素原子、好ましくは臭素原子が挙げられ
る。)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より
好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜
8であり、例えばメチル、トリフルオロメチル、エチ
ル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチ
ル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられ
る。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2
〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3
−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好
ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜12、特
に好ましくは2〜8であり、例えばプロパルギル、3−
ペンテニルなどが挙げられる。)、アリール基(好まし
くは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、
特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばフェニ
ル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられ
る。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好
ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6
であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられ
る。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好
ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜1
2であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピ
バロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル
基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数
2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げ
られる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは
炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に
好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキ
シカルボニルなどが挙げられる。)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2
〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えば
アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられ
る。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭
素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好
ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボ
ニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカル
ボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは
炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であ
り、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられ
る。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜2
0、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭
素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、
ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スル
ファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好まし
くは、炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12
であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイ
ル、ジメチルスルファモイルなどが挙げられる。)、カ
ルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好まし
くは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12で
あり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエ
チルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げら
れる。)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1
〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましく
は炭素数1〜12であり、例えばメチルスルホニル、エ
チルスルホニルなどが挙げられる。)、アリールスルホ
ニル基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭
素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、
例えばフェニルスルホニルなどが挙げられる。)、スル
フィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましく
は炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であ
り、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが
挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜2
0、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭
素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイ
ド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、シリル基
(例えばトリメチルシリル基)、ニトロ基、ヒドロキシ
基、リン酸エステル基、ヘテロ環基(例えばトリアゾリ
ル、イミダゾリル、ピリジル、フリル、ピペリジル、モ
ルホリニルなどが挙げられる。)などが挙げられる。こ
れらの基はさらに置換されていてもよい。nは1又は2
であり、より好ましくは2である。
R 2 and R 3 represent a hydrogen atom or a substituent which can be substituted on a nitrogen atom. Specific examples of the group that can be substituted for a nitrogen atom include a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a fluorine atom, and preferably a bromine atom), an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, More preferably, it has 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms.
8, for example, methyl, trifluoromethyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl,
Cyclopentyl, cyclohexyl and the like can be mentioned. ), An alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably having 2 carbon atoms.
-8, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3
-Pentenyl and the like. ), Alkynyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, for example, propargyl,
Pentenyl and the like. ), An aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably having 6 to 20 carbon atoms,
Particularly preferably, it has 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyl, p-methylphenyl, and naphthyl. ), An amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 0 to 6 carbon atoms).
And examples thereof include amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like. ), An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 1 carbon atoms).
2, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl and the like. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 2 to 12 carbon atoms, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like.), Aryloxycarbonyl A group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 to 12 carbon atoms, for example, phenyloxycarbonyl and the like), an acylamino group (preferably having 2 to 2 carbon atoms). 20, more preferably 2 carbon atoms
-16, particularly preferably 2-10 carbon atoms, such as acetylamino and benzoylamino. ), An alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 2 to 12 carbon atoms, for example, methoxycarbonylamino and the like), an aryloxycarbonyl group (Preferably 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl, etc.), a sulfonylamino group (preferably 1 to carbon atoms). 2
0, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfonylamino,
Benzenesulfonylamino and the like. ), A sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably having 0 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 0 to 12 carbon atoms.
And include, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl and the like. ), A carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, and phenylcarbamoyl). An alkylsulfonyl group (preferably having 1 carbon atom)
20 to 20, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylsulfonyl and ethylsulfonyl. ), An arylsulfonyl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably having 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 6 to 12 carbon atoms,
For example, phenylsulfonyl and the like can be mentioned. ), A sulfinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 1 to 12 carbon atoms and including methanesulfinyl and benzenesulfinyl), and a ureido group (preferably Carbon number 1-2
It has 0, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include ureide, methylureide, and phenylureide. ), A silyl group (for example, trimethylsilyl group), a nitro group, a hydroxy group, a phosphate group, and a heterocyclic group (for example, triazolyl, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholinyl and the like). These groups may be further substituted. n is 1 or 2
And more preferably 2.

【0111】次に一般式(B)で表される化合物につい
て詳述する。Hal3及びHal4で表されるハロゲン原
子は同じであっても異なっていても良く、それぞれ独立
に塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子を表す
が、好ましくは双方とも臭素原子である場合である。
Next, the compound represented by formula (B) will be described in detail. The halogen atoms represented by Hal 3 and Hal 4 may be the same or different and each independently represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a fluorine atom, but preferably both are bromine atoms It is.

【0112】Zは隣接する窒素原子とともに5〜7員環
の含窒素ヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表す
が、形成される含窒素ヘテロ環として好ましくは芳香族
含窒素ヘテロ環であり具体的には、ピロール、イミダゾ
ール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、
ピリミジン、トリアゾール、トリアジン、テトラジン、
ペンタジン、インドール、インダゾール、プリン、チア
ジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾ
リン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナン
トロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オ
キサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾー
ル、ベンズチアゾールなどが挙げられる。好ましくは、
ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリア
ジン、キノリン、イソキノリン、ナフチリジン、キノキ
サリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジンである。
より好ましくはピリジン、キノリン、イソキノリンであ
る。
Z represents an atomic group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing heterocycle together with an adjacent nitrogen atom. The nitrogen-containing heterocycle formed is preferably an aromatic nitrogen-containing heterocycle. There are specifically, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, pyridazine,
Pyrimidine, triazole, triazine, tetrazine,
Pentazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole And the like. Preferably,
Pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, quinoline, isoquinoline, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, and pteridine.
More preferred are pyridine, quinoline and isoquinoline.

【0113】以下に一般式(A)及び(B)で表される
化合物の具体例を挙げるが、これらの化合物に限定され
るものではない。
Specific examples of the compounds represented by formulas (A) and (B) are shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0114】[0114]

【化25】 Embedded image

【0115】[0115]

【化26】 Embedded image

【0116】[0116]

【化27】 Embedded image

【0117】[0117]

【化28】 Embedded image

【0118】[0118]

【化29】 Embedded image

【0119】[0119]

【化30】 Embedded image

【0120】[0120]

【化31】 Embedded image

【0121】上記化合物は、多くのものが公知であり、
東京化成等の試薬メーカーから直接購入することが可能
である。また、以下の文献にしたがって容易に合成、製
造が可能である。代表的な文献名を次に挙げる。日本化
学雑誌78巻1400頁1957年、Angew.Ch
em.71巻126頁1959年、J.Amer.Ch
em.Soc.79巻4622頁1957年、J.Ch
em.Soc.2783頁1931年、Bull.Ch
em.Soc.Jpn.31巻347頁1958年、
J.Amer.Chem.Soc.91巻1679頁1
969年、J.Org.Chem.37巻2172頁1
972年、J.Chem.Soc.77巻799頁19
00年、Angew.Chem.36巻21号2342
頁1997年、Bull.Chem.Soc.Jpn.
60巻4187頁1997年、Org.Synth.C
oll.Vol.IV489頁1963年、J.Org.
Chem.28巻1100頁1963年、Chem.H
eterocycl.Compd.5巻844頁196
9年、J.Chem.Soc.Perkin Tran
s.1巻909頁1978年、J.Org.Chem.
34巻3434頁1969年、Chem.Ber.36
巻987頁1981年、Bull.Chem.Soc.
Jpn.64巻3号796頁1991年、Bull.C
hem.Soc.Jpn.60巻7号2667頁198
7年、J.Amer.Chem.Soc.19巻562
頁1897年。
Many of the above compounds are known.
It can be purchased directly from reagent manufacturers such as Tokyo Chemical Industry. Further, it can be easily synthesized and produced according to the following literature. Representative document names are listed below. 78, 1400, 1957, Angew. Ch
em. 71, 126, 1959; Amer. Ch
em. Soc. 79, 4622, 1957; Ch
em. Soc. 2783, 1931, Bull. Ch
em. Soc. Jpn. 31, 347, 1958
J. Amer. Chem. Soc. 91: 1679
969; Org. Chem. 37, 2172, 1
972; Chem. Soc. 77, 799, 19
In 2000, Angew. Chem. Vol. 36, No. 2, 2342
Page 1997, Bull. Chem. Soc. Jpn.
60, 4187, 1997, Org. Synth. C
all. Vol. IV 489, 1963; Org.
Chem. 28, 1100, 1963, Chem. H
eterocycl. Compd. Volume 5, page 844, 196
9 years, J. Chem. Soc. Perkin Tran
s. 1, 909, 1978; Org. Chem.
34, 3434, 1969, Chem. Ber. 36
Vol. 987, 1981, Bull. Chem. Soc.
Jpn. 64, No. 3, p. 796, 1991, Bull. C
hem. Soc. Jpn. 60 No. 7, page 2667 p. 198
7 years, J. Amer. Chem. Soc. 19 562
Page 1897.

【0122】本発明の一般式(A)及び(B)で表され
る化合物の添加量には特に制限はないが、10-6モル〜
1モル/Agモルが好ましく、特に10-4モル〜10-2
モル/Agモルが好ましい。
The amount of the compounds represented by formulas (A) and (B) of the present invention is not particularly limited, but may be from 10 -6 mol to 10-6 mol.
1 mol / Ag mol is preferred, and especially 10 -4 mol to 10 -2.
Mol / Ag mol is preferred.

【0123】本発明の一般式(A)及び(B)で表わさ
れる化合物は感光層でも非感光層でも添加することがで
きるが、好ましくは感光層である。また、本発明の一般
式(A)及び(B)で表される化合物は、有機溶剤に溶
かして添加することが好ましい。
The compounds represented by the general formulas (A) and (B) of the present invention can be added to either a photosensitive layer or a non-photosensitive layer, but preferably a photosensitive layer. The compounds represented by formulas (A) and (B) of the present invention are preferably added after being dissolved in an organic solvent.

【0124】本発明のa)で表される非感光性有機銀塩
について記載する。これらの有機銀塩は光センサーであ
るハロゲン化銀上に形成された潜像を現像中心とする溶
解物理現像において銀を供給する役割をもっている。
The non-photosensitive organic silver salt represented by a) of the invention will be described. These organic silver salts have a role of supplying silver in the dissolution physical development centering on a latent image formed on silver halide as an optical sensor.

【0125】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特にこの中で
も長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)
脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環化合物の銀塩が好ま
しい。配位子が銀イオンに対する総安定度常数として
4.0〜10.0の値をもつような有機又は無機の錯体
も好ましい。これら好適な銀塩の例としては、前述のR
D17029及び29963に記載されており、以下の
ものが挙げられる。
In the present invention, the organic silver salt is a reducible silver source, and is preferably a silver salt of an organic acid or a hetero organic acid, particularly a long chain (10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 25 carbon atoms).
Silver salts of aliphatic carboxylic acids and nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferred. Organic or inorganic complexes in which the ligand has a value of 4.0 to 10.0 as the total stability constant for silver ions are also preferred. Examples of these suitable silver salts include the aforementioned R
D17029 and 29996, and include the following.

【0126】有機酸の銀塩、例えば、没食子酸、蓚酸、
ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の銀塩。銀のカルボキシアルキルチオ
尿素塩、例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ
尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメ
チルチオ尿素等の銀塩、アルデヒドとヒドロキシ置換芳
香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀塩乃至錯
体、例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ブチルアルデヒド等)とヒドロキシ置換酸
類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロ
キシ安息香酸)の反応生成物の銀塩乃至錯体、チオン類
の銀塩又は錯体、例えば、3−(2−カルボキシエチ
ル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン−2−チ
オン、及び3−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2
−チオン等の銀塩乃至錯体、イミダゾール、ピラゾー
ル、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テ
トラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,
4−トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択され
る窒素酸と銀との錯体または塩、サッカリン、5−クロ
ロサリチルアルドキシム等の銀塩、及びメルカプチド類
の銀塩。これらの中、好ましい銀塩としてはベヘン酸
銀、アラキジン酸銀またはステアリン酸銀があげられ
る。
Silver salts of organic acids, for example, gallic acid, oxalic acid,
Silver salts such as behenic acid, stearic acid, arachidic acid, palmitic acid and lauric acid. Silver carboxyalkylthiourea salts, for example, silver salts such as 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea, and aldehydes with hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids Silver salts or complexes of polymer reaction products, for example, silver salts of reaction products of aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, etc.) and hydroxy-substituted acids (for example, salicylic acid, benzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid) Or complexes, silver salts or complexes of thiones, for example, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline-2-thione, and 3-carboxymethyl-4-thiazoline-2
Silver salts or complexes such as -thione, imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,2;
Complexes or salts of silver and a nitrogen acid selected from 4-triazole and benzotriazole, silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime, and silver salts of mercaptides. Among them, preferred silver salts include silver behenate, silver arachidate and silver stearate.

【0127】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェット法によ
り、前記ソープと硝酸銀などを混合して有機銀塩の結晶
を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させても
よい。
The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound which forms a complex with silver, and includes a normal mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, and a method described in JP-A-9-12764.
A controlled double jet method as described in No. 3 is preferably used. For example, an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.)
After preparing sodium behenate, sodium arachidate, etc., the above-mentioned soap and silver nitrate are mixed by a controlled double jet method to produce an organic silver salt crystal. At that time, silver halide grains may be mixed.

【0128】本発明においては有機銀塩は平均粒径が1
0μm以下であり、かつ単分散であることが好ましい。
有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球
状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒
子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒
径は0.05μm〜10μm好ましくは0.05μm〜
5μm、特に0.05μm〜1.0μmが好ましい。ま
た単分散とは、ハロゲン化銀の場合と同義であり、好ま
しくは単分散度が1〜30である。
In the present invention, the organic silver salt has an average particle size of 1
It is preferably 0 μm or less and monodispersed.
The average particle size of the organic silver salt refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of the organic silver salt particles when the particles of the organic silver salt are, for example, spherical, rod-shaped, or tabular particles. Average particle size is 0.05 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to
5 μm, particularly preferably 0.05 μm to 1.0 μm. The monodispersion has the same meaning as that of silver halide, and preferably has a monodispersity of 1 to 30.

【0129】また、本発明においては、有機銀塩は平板
状粒子が全有機銀の60%以上有することが好ましい。
本発明において平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、い
わゆる下記式で表されるアスペクト比(ARと略す)が
3以上のものをいう。
In the present invention, the tabular grains of the organic silver salt preferably have at least 60% of the total organic silver.
In the present invention, the tabular grains mean those having an aspect ratio (abbreviated as AR) of 3 or more, which is a ratio between the average particle diameter and the thickness, that is, the following formula.

【0130】AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm) 有機銀塩をこれらの形状にするためには、前記有機銀塩
の結晶をバインダーや界面活性剤などをボールミルなど
で分散粉砕することで得られる。この範囲にすることで
濃度が高く、かつ画像保存性に優れた感光材料が得られ
る。
AR = average particle size (μm) / thickness (μm) In order to make the organic silver salt into these shapes, the crystal of the organic silver salt is dispersed and pulverized with a ball mill or the like with a binder or a surfactant. Obtained by: Within this range, a photosensitive material having a high density and excellent image storability can be obtained.

【0131】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。
In the present invention, in order to prevent devitrification of the light-sensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably from 0.5 g to 2.2 g per m 2 in terms of silver. . With this range, a high-contrast image can be obtained.

【0132】本発明のc)熱により活性化されたときに
該有機銀塩の銀イオンを還元しうる還元剤とは、熱現像
時に溶解物理現像の還元剤になるものであり、以下のよ
うな還元剤が挙げられる。
The reducing agent c) of the present invention capable of reducing silver ions of the organic silver salt when activated by heat is a reducing agent for physical dissolution development during thermal development. Various reducing agents.

【0133】フェノール類、2個以上のフェノール基を
有するポリフェノール類、ナフトール類、ビスナフトー
ル類、2個以上の水酸基を有するポリヒドロキシベンゼ
ン類、2個以上の水酸基を有するポリヒドロキシナフタ
レン類、アスコルビン酸類、3−ピラゾリドン類、ピラ
ゾリン−5−オン類、ピラゾリン類、フェニレンジアミ
ン類、ヒドロキシルアミン類、ハイドロキノンモノエー
テル類、ヒドロオキサミン酸類、ヒドラジド類、アミド
オキシム類、N−ヒドロキシ尿素類等があり、さらに詳
しくは例えば、米国特許第3,615,533号、同第
3,679,426号、同第3,672,904号、同
第3,751,252号、同第3,782,949号、
同第3,801,321号、同第3,794,488
号、同第3,893,863号、同第3,887,37
6号、同第3,770,448号、同第3,819,3
82号、同第3,773,512号、同第3,839,
048号、同第3,887,378号、同第4,00
9,039号、同第4,021,240号、英国特許第
1,486,148号若しくはベルギー特許第786,
086号各明細書及び特開昭50−36143号、同5
0−36110号、同50−116023号、同50−
99719号、同50−140113号、同51−51
933号、同51−23721号、同52−84727
号若しくは特公昭51−35851号各公報に具体的に
例示された還元剤があり、本発明はこのような公知の還
元剤の中から適宜選択して使用することが出来る。選択
方法としては、実際に熱現像感光材料をつくってみてそ
の写真性能を評価する事により使用した還元剤の優劣を
調べる方法が最も簡便である。
Phenols, polyphenols having two or more phenol groups, naphthols, bisnaphthols, polyhydroxybenzenes having two or more hydroxyl groups, polyhydroxynaphthalenes having two or more hydroxyl groups, ascorbic acids , 3-pyrazolidones, pyrazolin-5-ones, pyrazolines, phenylenediamines, hydroxylamines, hydroquinone monoethers, hydroxamic acids, hydrazides, amide oximes, N-hydroxyureas, and the like. More specifically, for example, U.S. Pat. Nos. 3,615,533, 3,679,426, 3,672,904, 3,751,252, and 3,782,949. ,
Nos. 3,801,321 and 3,794,488
No. 3,893,863, No. 3,887,37
No. 6, No. 3,770,448, No. 3,819,3
No. 82, No. 3,773, 512, No. 3, 839,
No. 048, No. 3,887,378, No. 4,00
No. 9,039, No. 4,021,240, British Patent No. 1,486,148 or Belgian Patent No. 786.
No. 086 and JP-A-50-36143, 5
No. 0-36110, No. 50-116023, No. 50-
No. 99719, No. 50-140113, No. 51-51
No. 933, No. 51-23721, No. 52-84727
And Japanese Patent Publication No. 51-35851 include the reducing agents specifically exemplified, and the present invention can be appropriately selected from such known reducing agents and used. As a selection method, the simplest method is to actually prepare a photothermographic material and evaluate the photographic performance to determine the superiority of the reducing agent used.

【0134】上記の還元剤の中で、有機銀塩として脂肪
族カルボン酸銀塩を使用する場合に好ましい還元剤とし
ては、2個以上のフェノール基がアルキレン基又は硫黄
によって連結されたポリフェノール類、特にフェノール
基のヒドロキシ置換位置に隣接した位置の少なくとも一
つにアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等)又はアシル基
(例えばアセチル基、プロピオニル基等)が置換したフ
ェノール基の2個以上がアルキレン基又は硫黄によって
連結されたポリフェノール類、例えば1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、1,1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルフェニル)メタン、2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)−(2−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)メタン、6,6′−ベンジリデン−ビス
(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)、6,6′−ベ
ンジリデン−ビス(2−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、6,6′−ベンジリデン−ビス(2,4−ジメ
チルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパン、
1,1,5,5−テトラキス(2−ヒドロキシ−3,5
−ジメチルフェニル)−2,4−エチルペンタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジ−t−ブチルフェニル)プロパン等の米国特許第
3,589,903号、同第4,021,249号若し
くは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開
昭51−51933号、同50−36110号、同50
−116023号、同52−84727号若しくは特公
昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール
化合物)、米国特許第3,672,904号明細書に記
載されたビスナフトール類、例えば、2,2′−ジヒド
ロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−
2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,
6′−ジニトロ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メ
タン、4,4′−ジメトキシ−1,1′−ジヒドロキシ
−2,2′−ビナフチル等、更に米国特許第3,80
1,321号明細書に記載されているようなスルホンア
ミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類、例え
ば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベン
ゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4
−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンス
ルホンアミドナフトール等を挙げることが出来る。
Among the above reducing agents, when an aliphatic silver carboxylate is used as the organic silver salt, preferred reducing agents include polyphenols in which two or more phenol groups are linked by an alkylene group or sulfur. In particular, an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, etc.) or an acyl group (eg, acetyl group, propionyl group, etc.) is provided at at least one of the positions adjacent to the hydroxy substitution position of the phenol group. Are polyphenols in which two or more of the phenol groups substituted by an alkylene group or sulfur, for example, 1,1-bis (2
-Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5
5-trimethylhexane, 1,1-bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane,
1,1-bis (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) methane, 2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl)-(2-hydroxy-5-methylphenyl) methane 6,6'-benzylidene-bis (2,4-di-t-butylphenol), 6,6'-benzylidene-bis (2-t-butyl-4-methylphenol), 6,6'-benzylidene-bis (2,4-dimethylphenol), 1,1-bis (2-hydroxy-
3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane,
1,1,5,5-tetrakis (2-hydroxy-3,5
-Dimethylphenyl) -2,4-ethylpentane, 2,
2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5
U.S. Pat. Nos. 3,589,903 and 4,021,249 or British Patent 1,486,148 and JP-A-51-51933. No. 50-36110, No. 50
Polyphenol compounds described in JP-A-116023, JP-A-52-84727 or JP-B-51-35727), and bisnaphthols described in U.S. Pat. No. 3,672,904, for example, 2,2 '-Dihydroxy-1,1'-binaphthyl,6,6'-dibromo-
2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl, 6,
6'-dinitro-2,2'-dihydroxy-1,1'-
Binaphthyl, bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane, 4,4'-dimethoxy-1,1'-dihydroxy-2,2'-binaphthyl and the like, furthermore U.S. Pat. No. 3,80
1,321, sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols, for example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol, 2,6-dichloro-4
-Benzenesulfonamidophenol, 4-benzenesulfonamidonaphthol and the like.

【0135】本発明の熱現像感光材料に使用される還元
剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤に
よって変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり
0.05モル乃至10モル好ましくは0.1モル乃至3
モルが適当である。又この量の範囲内において、上述し
た還元剤は2種以上併用されてもよい。本発明において
は、前記還元剤を塗布直前に感光溶液に添加混合して塗
布した方が、感光溶液の停滞時間による写真性能変動が
小さく好ましい場合がある。
The amount of the reducing agent used in the photothermographic material of the present invention varies depending on the type of the organic silver salt, the reducing agent, and other additives. 05 mol to 10 mol, preferably 0.1 mol to 3 mol
Molar is appropriate. Further, within this range, two or more of the above-mentioned reducing agents may be used in combination. In the present invention, it may be preferable to add and mix the reducing agent to the photosensitive solution immediately before coating and apply the reduced solution because the photographic performance fluctuation due to the stagnation time of the photosensitive solution is small.

【0136】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材
料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
The photothermographic material of the present invention, which forms a photographic image by heat development, comprises a reducible silver source (organic silver salt), a photosensitive silver halide, a reducing agent and, if necessary, silver. It is preferable that the photothermographic material contains a color toning agent which suppresses the color tone of the present invention in a state of being usually dispersed in an (organic) binder matrix. The photothermographic material of the present invention is stable at room temperature, but is exposed to a high temperature (for example, 80 ° C to 14 ° C).
(0 ° C.). Heating generates silver through an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This oxidation-reduction reaction is accelerated by the catalytic action of the latent image generated on the silver halide upon exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image. This reaction process proceeds without supplying a processing liquid such as water from the outside.

【0137】本発明に用いられる好適な色調剤の例はR
D17029号に開示されており、代表例として次のも
のがある。
Examples of suitable toning agents used in the present invention are R.
D17029 discloses the following.

【0138】環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、
及びキナゾリノン(例えば、スクシンイミド、フタルイ
ミド、3−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−
フェニルウラゾール、キナゾリン及び2,4−チアゾリ
ジンジオン);ナフタールイミド類(例えば、N−ヒド
ロキシ−1,8−ナフタールイミド);メルカプタン類
(例えば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾー
ル);N−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミ
ド類(例えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイ
ミド);ブロックされたピラゾール類(例えば、N,
N′−ヘキサメチレンビス(1−カルバモイル−3,5
−ジメチルピラゾール));イソチウロニウム(iso
thiuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の
組み合わせ、(例えば1,8−(3,6−ジオキサオク
タン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセテー
ト)及び2−(トリブロモメチルスルホニル)ベンゾチ
アゾールの組み合わせ);フタラジノン、フタラジノン
誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−(1
−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、
5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジ
ヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノンと
スルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−クロロ
フタラジノンとベンゼンスルフィン酸ナトリウム又は8
−メチルフタラジノンとp−トリスルホン酸ナトリウ
ム);フタラジンとフタル酸の組み合わせ;フタラジン
(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、及
びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−
フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル
酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1
つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナフトキサジン誘導体;ベンズオキサジ
ン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサ
ジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉トリア
ジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジン)、
及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,6−ジ
メルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−2,3
a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好ましい色調
剤としてはフタラジノン又はフタラジンである。
Cyclic imides, pyrazolin-5-ones,
And quinazolinones (for example, succinimide, phthalimide, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-
Phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione); naphthalimides (eg, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); mercaptans (eg, 3-mercapto-1,2,4-triazole); (Aminomethyl) aryldicarboximides (eg, N- (dimethylaminomethyl) phthalimide); blocked pyrazoles (eg, N,
N'-hexamethylenebis (1-carbamoyl-3,5
-Dimethylpyrazole)); isothiuronium (iso
combinations of thiuronium derivatives and certain photobleaches, such as combinations of 1,8- (3,6-dioxaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzothiazole ); Phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (e.g., 4- (1
-Naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone,
5,7-dimethyloxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); a combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (for example, 6-chlorophthalazinone and sodium benzenesulfinate or 8
-Methylphthalazinone and sodium p-trisulfonate); a combination of phthalazine and phthalic acid; phthalazine (including adducts of phthalazine) and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-
At least one selected from phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (for example, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride)
Quinazolinediones, benzoxazines, naphthoxazine derivatives; benzoxazine-2,4-diones (eg, 1,3-benzoxazine-2,4-dione); pyrimidines and asymmetric triazines ( For example, 2,4-dihydroxypyrimidine),
And tetraazapentalene derivatives (for example, 3,6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2,3
a, 5,6a-Tetraazapentalene). Preferred toning agents are phthalazinone or phthalazine.

【0139】本発明の熱現像感光材料中には熱現像時の
かぶりを抑制するかぶり防止剤が含まれて良い。好まし
いかぶり防止剤は、米国特許第3,874,946号及
び同第4,756,999号に開示されているような化
合物、−C(X1)(X2)(X3)(ここでX1及びX2
はハロゲンでX3は水素又はハロゲン)で表される1以
上の置換基を備えたヘテロ環状化合物である。好適なか
ぶり防止剤の例としては、特開平9−288328号段
落番号〔0030〕〜〔0036〕に記載されている化
合物等が好ましく用いられる。
The photothermographic material of the present invention may contain an antifoggant which suppresses fog during heat development. Preferred antifoggants are compounds as disclosed in U.S. Patent No. 3,874,946 and ibid. No. 4,756,999, -C (X 1) ( X 2) (X 3) ( where X 1 and X 2
Is a heterocyclic compound having one or more substituents represented by halogen and X 3 is hydrogen or halogen). As examples of suitable antifoggants, compounds described in paragraph numbers [0030] to [0036] of JP-A-9-288328 are preferably used.

【0140】また、もう一つの好ましいかぶり防止剤の
例としては特開平9−90550号段落番号〔006
2〕〜〔0063〕に記載されている化合物である。さ
らに、その他の好適なかぶり防止剤は米国特許第5,0
28,523号及び欧州特許第600,587号、同第
605,981号、同第631,176号に開示されて
いる。
As another preferred example of the antifoggant, JP-A-9-90550, paragraph [006]
2] to [0063]. Further, other suitable antifoggants are disclosed in US Pat.
No. 28,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981 and 631,176.

【0141】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で一般に無色であり、天然ポリマー
や合成ポリマー及びコポリマー、その他、フィルムを形
成する媒体、例えば、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビ
ニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リビニルピロリドン、カゼイン、澱粉、ポリアクリル
酸、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸、ポ
リ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、
コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチ
レン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール類、例え
ば、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポ
リエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ
塩化ビニリデン、ポリエポキシド類、ポリカーボネート
類、ポリビニルアセテート類、セルロースエステル類、
ポリアミド等があり、水溶性でも非水溶性でもよい。し
かしながら、これらのバインダーの中でも特に好ましい
のは、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルブチラールのような非水溶性のポ
リマーであり、この中で熱現像感光層に用いる特に好ま
しいポリマーとしてはポリビニルホルマール類があげら
れ、その中でも特に好ましいのはポリビニルブチラール
であり、保護層バックコート層として特に好ましいポリ
マーとしてはセルロースアセテート及びセルロースアセ
テートブチレートがあげられる。
The binder suitable for the photothermographic material of the present invention is transparent or translucent and generally colorless, and includes natural polymers, synthetic polymers and copolymers, and other film-forming media such as gelatin, gum arabic and polyvinyl alcohol. , Hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyvinylpyrrolidone, casein, starch, polyacrylic acid, polymethyl methacrylate, polymethacrylic acid, polyvinyl chloride, copoly (styrene-maleic anhydride),
Copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), polyvinylacetals such as polyvinylformal, polyvinylbutyral, polyesters, polyurethanes, phenoxy resins, polyvinylidene chloride, polyepoxides, polycarbonates, polyvinyl acetates, cellulose Esters,
There are polyamides and the like, which may be water-soluble or water-insoluble. However, among these binders, particularly preferred are water-insoluble polymers such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and polyvinyl butyral. Among these, particularly preferred polymers used in the photothermographic layer include polyvinyl formals Among them, polyvinyl butyral is particularly preferred, and cellulose acetate and cellulose acetate butyrate are particularly preferred polymers as the backcoat layer for the protective layer.

【0142】本発明においては、感光層のバインダー量
が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好ま
しくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満で
は未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合
がある。
In the present invention, the binder amount of the photosensitive layer is preferably from 1.5 to 6 g / m 2 . More preferably, it is 1.7 to 5 g / m 2 . If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed portion will increase significantly and may not be usable.

【0143】本発明においては、感光層側にマット剤を
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のために、感光材料の表面にマット剤を配することが好
ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
In the present invention, a matting agent is preferably contained on the photosensitive layer side. In order to prevent the image after thermal development from being damaged, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material. Is preferably contained in a weight ratio of 0.5 to 30% based on all binders on the photosensitive layer side.

【0144】また、支持体をはさみ感光層の反対側に非
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべ
り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット
剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の
反対側の層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜4
0%含有することが好ましい。
When a non-photosensitive layer is provided on the opposite side of the photosensitive layer with the support interposed therebetween, it is preferable that at least one layer on the non-photosensitive layer side contains a matting agent, so that the slip property and fingerprint adhesion of the photosensitive material can be improved. For prevention, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material, and the matting agent is used in a weight ratio of 0.5 to 4 with respect to all binders in the layer on the side opposite to the photosensitive layer side.
It is preferable to contain 0%.

【0145】本発明において用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩等をマ
ット剤として用いることができる。有機物としては、米
国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベルギ
ー特許第625,451号や英国特許第981,198
号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643号
等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第33
0,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタア
クリレート、米国特許第3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,16
9号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット
剤を用いることができる。
The material of the matting agent used in the present invention may be either an organic substance or an inorganic substance. For example, as inorganic substances, silica described in Swiss Patent No. 330,158, glass powder described in French Patent No. 1,296,995, etc., and alkali described in British Patent No. 1,173,181 etc. An earth metal or a carbonate such as cadmium or zinc can be used as a matting agent. Examples of organic substances include starch described in U.S. Pat. No. 2,322,037, Belgian Patent No. 625,451 and British Patent No. 981,198.
And polyvinyl alcohol described in JP-B-44-3643 and the like, and Swiss Patent No. 33.
No. 0,158, polystyrene or polymethacrylate; U.S. Pat. No. 3,079,257; polyacrylonitrile; U.S. Pat. No. 3,022,16.
An organic matting agent such as polycarbonate described in No. 9 or the like can be used.

【0146】本発明の熱現像感光材料が特に600〜8
00nmに発振波長を有するイメージセッターの出力用
の熱現像感光材料である場合、ヒドラジン化合物が感材
中に含有される事が好ましい。本発明に用いられる好ま
しいヒドラジン化合物としては、RD23515(19
83年11月号、P.346)及びそこに引用された文
献の他、米国特許第4,080,207号、同第4,2
69,929号、同第4,276,364号、同第4,
278,748号、同第4,385,108号、同第
4,459,347号、同第4,478,928号、同
第4,560,638号、同第4,686,167号、
同第4,912,016号、同第4,988,604
号、同第4,994,365号、同第5,041,35
5号、同第5,104,769号、英国特許第2,01
1,391B号、欧州特許第217,310号、同第3
01,799号、同第356,898号、特開昭60−
179734号、同61−170733号、同61−2
70744号、同62−178246号、同62−27
0948号、同63−29751号、同63−3253
8号、同63−104047号、同63−121838
号、同63−129337号、同63−223744
号、同63−234244号、同63−234245
号、同63−234246号、同63−294552
号、同63−306438号、同64−10233号、
特開平1−90439号、同1−100530号、同1
−105941号、同1−105943号、同1−27
6128号、同1−280747号、同1−28354
8号、同1−283549号、同1−285940号、
同2−2541号、同2−77057号、同2−139
538号、同2−196234号、同2−196235
号、同2−198440号、同2−198441号、同
2−198442号、同2−220042号、同2−2
21953号、同2−221954号、同2−2853
42号、同2−285343号、同2−289843
号、同2−302750号、同2−304550号、同
3−37642号、同3−54549号、同3−125
134号、同3−184039号、同3−240036
号、同3−240037号、同3−259240号、同
3−280038号、同3−282536号、同4−5
1143号、同4−56842号、同4−84134
号、同2−230233号、同4−96053号、同4
−216544号、同5−45761号、同5−457
62号、同5−45763号、同5−45764号、同
5−45765号、同6−289524号、同9−16
0164号等に記載されたものを挙げることが出来る。
The photothermographic material of the present invention is particularly preferably 600 to 8
In the case of a photothermographic material for output of an image setter having an oscillation wavelength of 00 nm, a hydrazine compound is preferably contained in the light-sensitive material. Preferred hydrazine compounds used in the present invention include RD23515 (19
November 1983, p. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. Nos. 4,080,207 and 4,2
No. 69,929, No. 4,276,364, No. 4,
Nos. 278,748, 4,385,108, 4,459,347, 4,478,928, 4,560,638, 4,686,167,
Nos. 4,912,016 and 4,988,604
No. 4,994,365 and 5,041,35
No. 5,104,769, British Patent No. 2,01
No. 1,391B, European Patent Nos. 217,310 and 3
Nos. 01,799 and 356,898,
No.179734, No.61-170733, No.61-2
Nos. 70744, 62-178246, 62-27
No. 0948, No. 63-29751, No. 63-3253
No. 8, 63-104047, 63-121838
No. 63-129337, No. 63-223744
Nos. 63-234244 and 63-234245
No., 63-234246, 63-294552
No. 63-306438, No. 64-10233,
JP-A-1-90439, JP-A-1-100530, JP-A-1
No. -105941, No. 1-105943, No. 1-27
Nos. 6128, 1-280747, 1-228354
8, No. 1-283549, No. 1-285940,
2-2541, 2-77057, 2-139
No. 538, No. 2-196234, No. 2-196235
No. 2-198440, No. 2-198441, No. 2-198442, No. 2-220042, No. 2-2
No. 21953, No. 2-221954, No. 2-2853
No. 42, No. 2-285343, No. 2-289843
Nos. 2-302750, 2-304550, 3-37642, 3-54549 and 3-125
No. 134, No. 3-184039, No. 3-240036
No. 3-240037, No. 3-259240, No. 3-280038, No. 3-282536, No. 4-5
No. 1143, No. 4-56842, No. 4-84134
No. 2-230233, No. 4-96053, No. 4
-216544, 5-45761, 5-457
No. 62, No. 5-45763, No. 5-45764, No. 5-45765, No. 6-289524, No. 9-16
No. 0164 and the like.

【0147】この他にも、特公平6−77138号に記
載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報3
頁、4頁に記載された化合物、特公平6−93082号
公報に記載された一般式(1)で表される化合物で具体
的には同公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物、
特開平6−23049号公報に記載の一般式(4)、
(5)及び(6)で表される化合物で、具体的には同公
報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜4−10、2
8頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5−42、及び3
9頁、40頁に記載の化合物6−1〜6−7、特開平6
−289520号公報に記載の一般式(1)及び(2)
で表される化合物で、具体的には同公報5頁から7頁に
記載の化合物1−1)〜1−17)及び2−1)、特開
平6−313936号公報に記載の(化2)及び(化
3)で表される化合物で具体的には同公報6頁〜19頁
に記載の化合物、特開平6−313951号公報に記載
の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報3頁
〜5頁に記載された化合物、特開平7−5610号公報
に記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には
同公報の5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜I−3
8、特開平7−77783号公報に記載の一般式(II)
で表される化合物で、具体的には同公報10頁〜27頁
に記載の化合物II−1〜II−102、特開平7−104
426号公報に記載の一般式(H)及び一般式(Ha)
で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜15頁に
記載の化合物H−1からH−44に記載されたもの等を
用いることが出来る。
In addition to the above compounds, compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-B-6-77138 are specifically described.
Page 4 and the compound represented by the general formula (1) described in JP-B-6-93082. Compound,
General formula (4) described in JP-A-6-23049,
Compounds represented by (5) and (6), specifically, compounds 4-1 to 4-10, 2
Compounds 5-1 to 5-42 on pages 8 to 36, and 3
Compounds 6-1 to 6-7 described on pages 9 and 40;
General formulas (1) and (2) described in -289520
Specifically, compounds 1-1) to 1-17) and 2-1) described on pages 5 to 7 of the same publication and (Chemical Formula 2) described in JP-A-6-313936. Specific examples of the compounds represented by formulas (1) and (3) include compounds described on pages 6 to 19 of the same publication, and compounds represented by (1) described in JP-A-6-313951. Specifically, compounds described on pages 3 to 5 of the same publication, compounds represented by the general formula (I) described in JP-A-7-5610, and specifically, pages 5 to 10 of the same publication Compounds I-1 to I-3 described in
8. General formula (II) described in JP-A-7-77783
And specifically, compounds II-1 to II-102 described in pages 10 to 27 of the same publication, and JP-A-7-104.
General formula (H) and general formula (Ha) described in JP-A-426
Specific examples thereof include those described in Compounds H-1 to H-44 on pages 8 to 15 of the same publication.

【0148】これらの素材の他、各種の添加剤が目的に
応じ感光性層、非感光性層、又はその他の形成層に添加
されてもよい。本発明の熱現像感光材料には例えば、界
面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、被覆助剤等を添加することができる。これらの添加
剤及び上述したその他の添加剤はRD17029(19
78年6月p.9〜15)に記載されている化合物を好
ましく用いることができる。
In addition to these materials, various additives may be added to the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, or other forming layers according to the purpose. The photothermographic material of the invention may contain, for example, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a coating aid, and the like. These additives and the other additives mentioned above are RD17029 (19
June 1978 p. Compounds described in 9 to 15) can be preferably used.

【0149】熱現像感光材料に用いる支持体の素材とし
ては各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、
紙、金属(例えばアルミニウム)等が挙げられるが、情
報記録材料としての取り扱い上は可撓性のあるシート又
はロールに加工できるものが好適である。従って本発明
の熱現像感光材料における支持体としては、プラスチッ
クフィルム(例えばセルロースアセテートフィルム、ポ
リエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミド
フィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテ
ートフィルム又はポリカーボネートフィルム等)が好ま
しく、本発明においては2軸延伸したポリエチレンテレ
フタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとし
ては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μ
mである。
As the material of the support used for the photothermographic material, various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth,
Paper, metal (for example, aluminum) and the like can be mentioned, but in terms of handling as an information recording material, a material that can be processed into a flexible sheet or roll is preferable. Accordingly, the support in the photothermographic material of the present invention is preferably a plastic film (eg, a cellulose acetate film, a polyester film, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polyamide film, a polyimide film, a cellulose triacetate film, a polycarbonate film, etc.). In the present invention, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferred. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.
m.

【0150】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層,バ
ッキング層、感光性層と下引の間の層などに含まれる。
本発明においては米国特許5,244,773号カラム
14〜20に記載された導電性化合物が好ましく用いら
れる。
In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be contained in the constituent layer in order to improve the chargeability. These may be contained in any of the layers, but are preferably contained in an undercoat layer, a backing layer, a layer between the photosensitive layer and the undercoat layer, and the like.
In the present invention, the conductive compounds described in U.S. Pat. No. 5,244,773, columns 14 to 20, are preferably used.

【0151】感光層、保護層及びバックコート層等本発
明の感光材料上に必要な各層を塗設する方法に特に制限
はなく、従来知られている、エアナイフコーティング、
ディップコーティング、バーコーティング、カーテンコ
ーティング、ホッパーコーティングなどの方法を用いる
ことができる。又、これらの層を2層以上同時に塗布し
てもよい。塗布液の溶媒としてはMEK、酢酸エチル、
トルエンの様な有機溶媒が好ましく用いられる。
There are no particular restrictions on the method of coating the necessary layers on the light-sensitive material of the present invention, such as a light-sensitive layer, a protective layer and a back coat layer.
Methods such as dip coating, bar coating, curtain coating, and hopper coating can be used. Further, two or more of these layers may be applied simultaneously. MEK, ethyl acetate,
An organic solvent such as toluene is preferably used.

【0152】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも1層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成してもよいが、感光層の上に少なくとも一層
の非感光層を形成するのが好ましい。例えば感光層の上
には保護層が、熱現像感光層を保護する目的で、又支持
体の反対の面には感光材料間の、或いは感光材料ロール
においてくっつきを防止する為に、バックコート層が設
けられるのが好ましい。又熱現像感光層を透過する光の
量または波長分布を制御するために感光層と同じ側また
は反対の側にフィルター層を形成してもよいし、感光層
に染料又は顔料を含有させてもよい。染料としては特開
平8−201959号の化合物が好ましい。感光層は複
数層にしてもよく、又階調の調節のために高感度層、低
感度層を設け、これを組み合わせてもよい。各種の添加
剤は感光層、非感光層又はその他の形成層のいずれに添
加してもよい。
The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. For example, a protective layer is provided on the photosensitive layer to protect the photothermographic layer, and a back coat layer is provided on the opposite surface of the support to prevent sticking between photosensitive materials or in a photosensitive material roll. Is preferably provided. Further, a filter layer may be formed on the same side as or opposite to the photosensitive layer to control the amount or wavelength distribution of light transmitted through the photothermographic layer, or the photosensitive layer may contain a dye or pigment. Good. As the dye, compounds described in JP-A-8-201959 are preferred. The photosensitive layer may be composed of a plurality of layers, or a high-sensitivity layer and a low-sensitivity layer may be provided for adjusting the gradation, and these layers may be combined. Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other forming layers.

【0153】本発明の熱現像感光材料は常温で安定であ
るが、露光後高温に加熱することで現像される。加熱温
度としては80℃以上200℃以下が好ましく、さらに
好ましいのは100℃以上150℃以下である。加熱温
度が80℃以下では短時間に十分な画像濃度が得られ
ず、又200℃以上ではバインダーが溶融し、ローラー
への転写など、画像そのものだけでなく搬送性や、現像
機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸
化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応に
より銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水
等の処理液の一切の供給なしに進行する。
The photothermographic material of the present invention is stable at normal temperature, but is developed by heating to high temperature after exposure. The heating temperature is preferably from 80 ° C. to 200 ° C., and more preferably from 100 ° C. to 150 ° C. If the heating temperature is lower than 80 ° C., a sufficient image density cannot be obtained in a short time, and if the heating temperature is higher than 200 ° C., the binder is melted and adversely affects not only the image itself but also transportability such as transfer to a roller and a developing machine. Effect. By heating, a silver image is generated by a redox reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of a processing liquid such as water from the outside.

【0154】本発明の熱現像感光材料の露光は、赤外光
域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザー
パワーがハイパワーである事や、感光材料を透明にでき
る等の点から、赤外半導体レーザー(780nm、82
0nm)がより好ましく用いられる。
Exposure of the photothermographic material of the present invention can be applied to any light source in the infrared light range. However, in terms of high laser power and transparency of the photosensitive material. , Infrared semiconductor laser (780 nm, 82
0 nm) is more preferably used.

【0155】本発明において、露光はレーザー走査露光
により行うことが好ましいが、感光材料の露光面と走査
レーザー光のなす角が実質的に垂直になることがないレ
ーザー走査露光機を用いることが好ましい。
In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure. However, it is preferable to use a laser scanning exposure machine in which the angle between the exposure surface of the photosensitive material and the scanning laser beam does not become substantially perpendicular. .

【0156】ここで、「実質的に垂直になることがな
い」とはレーザー走査中に最も垂直に近い角度として好
ましくは55度以上88度以下、より好ましくは60度
以上86度以下、更に好ましくは65度以上84度以
下、最も好ましくは70度以上82度以下であることを
いう。
Here, "not substantially perpendicular" means that the angle is most perpendicular during laser scanning, preferably from 55 to 88 degrees, more preferably from 60 to 86 degrees, still more preferably. Means 65 ° to 84 °, most preferably 70 ° to 82 °.

【0157】レーザー光が、感光材料に走査されるとき
の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましく
は200μm以下、より好ましくは100μm以下であ
る。これは、スポット径が小さい方がレーザー入射角度
の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。な
お、ビームスポット直径の下限は10μmである。この
ようなレーザー走査露光を行うことにより干渉縞様のム
ラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じること
が出来る。
When a laser beam is scanned on the photosensitive material, the beam spot diameter on the exposed surface of the photosensitive material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. It is preferable that the spot diameter is small in that the shift angle of the laser incident angle from the perpendicular can be reduced. Note that the lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as occurrence of unevenness like interference fringes.

【0158】また、本発明における露光は縦マルチであ
る走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を用いて
行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザー光に
比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。
It is also preferable that the exposure in the present invention is performed by using a laser scanning exposure machine which emits a scanning laser beam which is a vertical multi. Image quality deterioration such as generation of interference fringe-like unevenness is reduced as compared with the scanning laser beam in the longitudinal single mode.

【0159】縦マルチ化するには、合波による、戻り光
を利用する、高周波重畳をかける、などの方法がよい。
なお、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味
し、通常露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10
nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に
制限はないが、通常60nm程度である。
[0159] In order to form the vertical multiple, a method such as combining, using return light, or superimposing a high frequency is preferable.
In addition, the vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more.
nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

【0160】又、本発明においては、熱現像時に感光材
料が5〜1000mg/m2含有していることが、高感
度でありながら、低カブリである(露光部と、未露光部
のディスクリミネーションが優れている)感光材料とな
る。
Further, in the present invention, the fact that the photosensitive material contains 5 to 1000 mg / m 2 at the time of thermal development provides high sensitivity and low fog (discrimination between exposed and unexposed areas). (Nation is excellent).

【0161】これら感光材料中の上記溶剤の含有量は塗
布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化に
よって調整できる。又、当該溶剤の含有量は含有させた
溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマ
トグラフィーで測定できる。
The content of the solvent in these photosensitive materials can be adjusted by changing conditions such as temperature conditions in a drying step after the coating step. The content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.

【0162】例えば、以下のような方法により測定でき
る。
For example, it can be measured by the following method.

【0163】熱現像感光材料を面積として46.3cm
2切り出し、これを5mm程度に細かく刻んで専用バイ
アル瓶に収納しセプタムとアルミキャップで密閉した
後、ヒューレット・パッカード社製ヘッドスペースサン
プラーHP7694型にセットする。ヘッドスペースサ
ンプラーと接続したガスクロマトグラフィー(GC)は
検出器として水素炎イオン化検出器(FID)を装着し
たヒューレット・パッカード社製5971型である。測
定条件として、ヘッドスペースサンプラー加熱条件:1
20℃、20分、GC導入温度:150℃、カラム:J
&W社製DB−624、昇温:45℃3分→100℃
(8℃/分)を用いてガスクロマトグラムを得る。測定
対象溶媒はMEK、メタノール、トルエンとし、左記溶
媒の各々ブタノールにて希釈された一定量を専用バイア
ル瓶に収納した後、上記と同様に測定して得られたクロ
マトグラムのピーク面積を用いて作成した検量線を使用
してフィルム中溶媒含有量を得る。
The area of the photothermographic material is 46.3 cm.
Two pieces are cut out, finely chopped to about 5 mm, stored in a special vial, sealed with a septum and an aluminum cap, and set in a Hewlett-Packard HP7694 headspace sampler. The gas chromatography (GC) connected to the headspace sampler is a Hewlett-Packard type 5971 equipped with a flame ionization detector (FID) as a detector. As a measurement condition, a heating condition of a head space sampler: 1
20 ° C, 20 minutes, GC introduction temperature: 150 ° C, Column: J
& W company DB-624, temperature rise: 45 ° C for 3 minutes → 100 ° C
(8 ° C./min) to obtain a gas chromatogram. The solvent to be measured was MEK, methanol, and toluene. After storing a certain amount of each diluted with butanol in the solvent on the left in a dedicated vial, the peak area of the chromatogram obtained by measuring in the same manner as above was used. The prepared calibration curve is used to obtain the solvent content in the film.

【0164】本発明に係わる感光材料中に含有される溶
剤の量はは合計量(重量基準)で5〜1000mg/m
2、好ましくは、40〜500mg/m2であるように調
整することが必要である。
The amount of the solvent contained in the light-sensitive material according to the present invention is from 5 to 1000 mg / m 2 in total (weight basis).
2 , preferably 40 to 500 mg / m 2 .

【0165】当該含有量が上記範囲において、高感度で
ありながら、カブリ濃度が低い熱現像感光材料にするこ
とが出来る。
When the content is in the above range, a photothermographic material having a low fog density while having high sensitivity can be obtained.

【0166】本発明において上記溶剤としては、例え
ば、ケトン類としてアセトン、イソフォロン、エチルア
ミルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等が挙げられる。アルコール類としてメチルアルコ
ール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブ
チルアルコール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサ
ノール、ベンジルアルコール等があげられる。グリコー
ル類としてエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ヘキシレングリコール等が挙げられる。エーテルアルコ
ール類としてエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられ
る。エーテル類としてエチルエーテル、ジオキサン、イ
ソプロピルエーテル等が挙げられる。エステル類として
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸イソプロピ
ル等が挙げられる。炭化水素類としてn−ペンタン、n
−ヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等が挙げられる。塩化物類とし
て塩化メチル、塩化メチレン、クロロフォルム、ジクロ
ルベンゼン等が挙げられる。アミン類としてモノメチル
アミン、ジメチルアミン、トリエタノールアミン、エチ
レンジアミン、トリエチルアミン等が挙げられる。その
他として水、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ニ
トロメタン、ピリジン、トルイジン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸等が挙げられる。但しこれらに限定されるもの
ではない。又、これらの溶剤は、単独、又は、数種類組
み合わせる事が出来る。
In the present invention, examples of the solvent include ketones such as acetone, isophorone, ethyl amyl ketone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Alcohols include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, diacetone alcohol, cyclohexanol, benzyl alcohol and the like. As glycols, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol,
Hexylene glycol and the like can be mentioned. Ethylene glycol monomethyl ether as ether alcohols,
And diethylene glycol monoethyl ether. Examples of ethers include ethyl ether, dioxane, and isopropyl ether. Examples of the esters include ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, and isopropyl acetate. N-pentane, n as hydrocarbons
-Hexane, n-heptane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene and the like. Examples of chlorides include methyl chloride, methylene chloride, chloroform, dichlorobenzene and the like. Examples of the amines include monomethylamine, dimethylamine, triethanolamine, ethylenediamine, and triethylamine. Other examples include water, formamide, dimethylformamide, nitromethane, pyridine, toluidine, tetrahydrofuran, acetic acid and the like. However, it is not limited to these. These solvents can be used alone or in combination of several kinds.

【0167】[0167]

【実施例】以下、本発明を実施例によって詳細に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0168】実施例1 〈PET下引済み写真用支持体の作製〉濃度0.170
(コニカ(株)製デンシトメータPDA−65にて測
定)に青色着色した、市販の2軸延伸熱固定済みの厚さ
175μmのPETフィルムの両面に8w/m2・分の
コロナ放電処理を施した。
Example 1 <Preparation of PET-subtracted photographic support> Concentration: 0.170
A corona discharge treatment of 8 w / m 2 · min was applied to both surfaces of a commercially available biaxially stretched and heat-fixed 175 μm-thick PET film colored blue (measured with a densitometer PDA-65 manufactured by Konica Corporation). .

【0169】(感光性ハロゲン化銀乳剤1の調製)水9
00ml中に平均分子量10万のオセインゼラチン7.
5g及び臭化カリウム10mgを溶解して温度35℃、
pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液
370mlと(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃
化カリウムを硝酸銀と等モル及び塩化イリジウムを銀1
モル当たり1×10-4モル含む水溶液370mlを、p
Ag7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット
法で10分間かけて添加した。その後4−ヒドロキシ−
6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン0.
3gを添加しNaOHでpHを5に調整して平均粒子サ
イズ0.06μm、粒子サイズの変動係数12%、〔1
00〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この
乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理し
た後、フェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.
9、pAg7.5に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤
1を得た。
(Preparation of Photosensitive Silver Halide Emulsion 1) Water 9
6. Ossein gelatin having an average molecular weight of 100,000 in 00 ml
5 g and 10 mg of potassium bromide were dissolved at a temperature of 35 ° C.
After adjusting the pH to 3.0, 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate, potassium bromide and potassium iodide in a molar ratio of (98/2) were equimolar to silver nitrate, and iridium chloride was converted to silver 1
370 ml of an aqueous solution containing 1 × 10 -4 mol per mol was added to p
Ag was added over 10 minutes by a controlled double jet method while keeping the Ag at 7.7. Then 4-hydroxy-
6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene
After adding 3 g and adjusting the pH to 5 with NaOH, the average particle size was 0.06 μm, the variation coefficient of the particle size was 12%, and [1
00] Cubic silver iodobromide grains having an area ratio of 87% were obtained. This emulsion was subjected to coagulation sedimentation using a gelatin coagulant and desalting treatment, and then 0.1 g of phenoxyethanol was added thereto.
9, and adjusted to a pAg of 7.5 to obtain a photosensitive silver halide emulsion 1.

【0170】(粉末有機銀塩Aの調製)4720mlの
純水にベヘン酸111.4g、アラキジン酸83.8
g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶解した。次に
高速で撹拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液
540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、
55℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を得た。上記の
有機酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、上
記ハロゲン化銀乳剤1(銀0.038モルを含む)と純
水450mlを添加し5分間撹拌した。次に1Mの硝酸
銀溶液760.6mlを2分間かけて添加し、さらに2
0分撹拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。その
後、濾液の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水
による水洗、濾過を繰り返し、遠心脱水を実施した後、
37℃にて重量減がなくなるまで温風乾燥を行い、粉末
有機銀塩Aを得た。
(Preparation of Powdered Organic Silver Salt A) 111.4 g of behenic acid and 83.8 of arachidic acid were added to 4720 ml of pure water.
g and 54.9 g of stearic acid were dissolved at 80 ° C. Next, while stirring at a high speed, 540.2 ml of a 1.5 M aqueous sodium hydroxide solution was added, and 6.9 ml of concentrated nitric acid was added.
Upon cooling to 55 ° C., a sodium organic acid solution was obtained. While maintaining the temperature of the above-mentioned organic acid sodium solution at 55 ° C., the above-mentioned silver halide emulsion 1 (containing 0.038 mol of silver) and 450 ml of pure water were added, and the mixture was stirred for 5 minutes. Next, 760.6 ml of a 1 M silver nitrate solution was added over 2 minutes, followed by 2 more minutes.
The mixture was stirred for 0 minutes, and the water-soluble salts were removed by filtration. Thereafter, washing with deionized water and filtration are repeated until the conductivity of the filtrate becomes 2 μS / cm, and centrifugal dehydration is performed.
Drying with warm air was performed at 37 ° C. until the weight was not lost, to obtain a powdered organic silver salt A.

【0171】(感光性乳剤分散液の調製)ポリビニルブ
チラール粉末(Monsanto社 Butvar B
−79)14.57gをメチルエチルケトン1457g
に溶解し、ディゾルバー型ホモジナイザーにて撹拌しな
がら粉末有機銀塩A500gを徐々に添加して十分に混
合した。その後1mmZrビーズ(東レ製)を80%充
填したメディア型分散機(gettzmann社製)に
て周速13m、ミル内滞留時間0.5分間にて分散を行
ない感光性乳剤分散液を調製した。
(Preparation of photosensitive emulsion dispersion) Polyvinyl butyral powder (Butvar B manufactured by Monsanto)
-79) 14.57 g of methyl ethyl ketone 1457 g
And, while stirring with a dissolver-type homogenizer, 500 g of powdered organic silver salt A was gradually added and mixed well. Thereafter, dispersion was carried out at a peripheral speed of 13 m and a residence time in the mill for 0.5 minute with a media type dispersing machine (manufactured by gettzmann) filled with 80% of 1 mm Zr beads (manufactured by Toray) to prepare a photosensitive emulsion dispersion.

【0172】(感光層塗布液の調製)前記感光性乳剤分
散液(500g)及び100gを撹拌しながら21℃に
保温した。即かぶり防止剤1−1(0.21g)を加
え、1時間撹拌した。更に臭化カルシウム(10%)メ
タノール溶液(3.25ml)を添加して30分撹拌し
た。
(Preparation of Photosensitive Layer Coating Solution) The photosensitive emulsion dispersion (500 g) and 100 g were kept at 21 ° C. while stirring. Immediate antifogging agent 1-1 (0.21 g) was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Further, a methanol solution (3.25 ml) of calcium bromide (10%) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes.

【0173】次に増感色素、2−クロロ安息香酸、及び
強色増感剤の混合溶液(混合モル比率1:25:20、
増感色素で0.1%メタノール溶液、7ml)を添加し
て1時間撹拌した後に温度を13℃まで高温して更に3
0分撹拌する。ここで各強色増感剤はそれぞれ等モル添
加とする。
Next, a mixed solution of a sensitizing dye, 2-chlorobenzoic acid and a supersensitizer (mixing molar ratio 1:25:20,
(A 0.1% methanol solution of a sensitizing dye, 7 ml) was added thereto, and the mixture was stirred for 1 hour.
Stir for 0 minutes. Here, each supersensitizer is added in an equimolar amount.

【0174】13℃に保温したまま、ポリビニルブチラ
ール48gを添加して充分溶解してから、以下の添加物
を添加する。
While keeping the temperature at 13 ° C., 48 g of polyvinyl butyral is added and sufficiently dissolved, and then the following additives are added.

【0175】 安定剤1 0.20g 現像剤(1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル) −2−メチルプロパン) 15g デスモデュN3300(モーベイ社、脂肪族イソシアネート) 1.10g プリントアウト防止剤 1.55g フタラジン 1.5g テトラクロルフタル酸 0.5g 4−メチルフタル酸 0.5g 上記調製方法において赤外増感色素と強色増感剤とし
て、比較化合物及び一般式(I)の化合物を表1の様に
変化させてそれぞれ感光層塗布液を調製し、13℃に保
温して以下に示す方法でそれぞれ塗布を行った。尚、強
色増感剤の比較化合物C−1は2−メルカプトベンズイ
ミダゾールである。
Stabilizer 1 0.20 g Developer (1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane) 15 g Desmodu N3300 (Mobay, aliphatic isocyanate) 1.10 g Print Out-out inhibitor 1.55 g Phthalazine 1.5 g Tetrachlorophthalic acid 0.5 g 4-Methylphthalic acid 0.5 g In the above-mentioned preparation method, a comparative compound and a compound of the general formula (I) were used as the infrared sensitizing dye and the supersensitizer. The compounds were changed as shown in Table 1 to prepare coating solutions for the photosensitive layer, and the coating was carried out by the following method while keeping the temperature at 13 ° C. In addition, the comparative compound C-1 of the supersensitizer is 2-mercaptobenzimidazole.

【0176】[0176]

【化32】 Embedded image

【0177】[0177]

【化33】 Embedded image

【0178】(表面保護層塗布液の調製)セルロースア
セテートブチレート(Eastman Chemica
l社、CAB171−15)7.5gをメチルエチルケ
トン42.5gに溶解し、その中に、炭酸カルシウム
(Speciality Minerals社、Sup
er−Pflex200)5gを添加し、ディゾルバー
型ホモジナイザーにて8000rpmで30min分散
し炭酸カルシウム分散液を調製した。
(Preparation of Coating Solution for Surface Protective Layer) Cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical)
7.5 g of CAB171-15) was dissolved in 42.5 g of methyl ethyl ketone, and calcium carbonate (Specialty Minerals, Sup.) was dissolved therein.
er-Pflex 200), and dispersed by a dissolver-type homogenizer at 8000 rpm for 30 minutes to prepare a calcium carbonate dispersion.

【0179】メチルエチルケトン865gに撹拌しなが
ら、セルロースアセテートブチレート(Eastman
Chemical社、CAB171−15)96g、
ポリメチルメタクリル酸(ローム&ハース社、パラロイ
ドA−21)4.5gを添加した。この液にビニルスル
ホン化合物HD−1を1.5g、ベンゾトリアゾール
1.0g、F系活性剤(旭硝子社製サーフロンKH−4
0)1.0gを添加し溶解した。最後に炭酸カルシウム
分散液30gを添加して撹拌し、表面保護層液を調製し
た。
While stirring with 865 g of methyl ethyl ketone, cellulose acetate butyrate (Eastman) was added.
Chemical Company, CAB171-15) 96 g,
4.5 g of polymethyl methacrylic acid (Rohm & Haas, Paraloid A-21) was added. 1.5 g of a vinyl sulfone compound HD-1, 1.0 g of benzotriazole, and an F-based activator (Surflon KH-4 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)
0) 1.0 g was added and dissolved. Finally, 30 g of a calcium carbonate dispersion was added and stirred to prepare a surface protective layer solution.

【0180】(バック面塗布液の調製)メチルエチルケ
トン830gに撹拌しながら、セルロースアセテートブ
チレート(Eastman Chemical社、CA
B381−20)84.2g、ポリエステル樹脂(Bo
stic社、Vitel PE2200B)4.5gを
添加し溶解した。溶解した液に赤外染料10.30gを
添加し、更にメタノール43.2gに溶解したF系活性
剤(旭硝子社製、サーフロンKH40)4.5gとF系
活性剤(大日本インク社、メガファッグF120K)
2.3gを添加して、溶解するまで充分に撹拌を行っ
た。最後にメチルエチルケトンに1wt%の濃度でディ
ゾルバー型ホモジナイザーにて分散したシリカ(W.
R.Grace社、シロイド64X6000)を75g
添加、撹拌しバック面の塗布液を調製した。
(Preparation of Back Surface Coating Solution) Cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical Company, CA) was stirred with 830 g of methyl ethyl ketone.
B381-20) 84.2 g, polyester resin (Bo)
4.5 g of stic (Vitel PE2200B) was added and dissolved. 10.30 g of an infrared dye was added to the dissolved solution, and 4.5 g of an F-based activator (Surflon KH40 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and 4 g of an F-based activator dissolved in 43.2 g of methanol and Megafag F120K (Dainippon Ink Co., Ltd.) )
2.3 g was added and thoroughly stirred until dissolved. Finally, silica (W.P.) dispersed in methyl ethyl ketone at a concentration of 1 wt% with a dissolver type homogenizer.
R. 75g of Grace, Syloid 64X6000)
The mixture was added and stirred to prepare a coating solution for the back surface.

【0181】(塗布)このように調製した、バック面塗
布液を、乾燥膜厚が3.5μになるように押し出しコー
ターにて塗布乾燥を行った。乾燥温度100℃、露点温
度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて乾燥した。
(Coating) The coating solution for the back surface thus prepared was extruded and dried by a coater so that the dry film thickness became 3.5 μm. Drying was performed for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 100 ° C. and a dew point of 10 ° C.

【0182】次いで、前記感光層塗布液と表面保護層塗
布液をエクストリュージョンコーターを用いて同時重層
塗布を行った。感光層は塗布銀量が2.4g/m2、表
面保護層は乾燥膜厚で2.5μになるように毎分20m
の速度で塗布した。その後、乾燥温度75℃、露点温度
10℃の乾燥風を用いて、10分間乾燥を行った。
Next, the above-mentioned photosensitive layer coating solution and surface protective layer coating solution were simultaneously layer-coated using an extrusion coater. The photosensitive layer has a coated silver amount of 2.4 g / m 2 , and the surface protective layer has a dry film thickness of 20 μm per minute so as to be 2.5 μm.
Was applied at the following speed. Thereafter, drying was performed for 10 minutes using a drying air having a drying temperature of 75 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

【0183】塗布液中の赤外増感色素と強色増感剤を表
1の様に変化させた感光層塗布液をそれぞれ用いて感光
材料No.1〜26を作製した。
The photosensitive material No. was prepared by using each of the photosensitive layer coating solutions in which the infrared sensitizing dye and the supersensitizer were changed as shown in Table 1. Nos. 1-26 were produced.

【0184】(フィルムの保存性の評価)得られた感光
材料からそれぞれ2枚ずつテストピースをとり、そのう
ち1枚を塗布後直ちに以下に示すような条件にて露光、
現像し、感度及びかぶり部分の濃度を測定した。感度は
試料No.9の感度を100とする相対感度(S)で、
又、かぶり濃度はfogとしてその絶対値をそれぞれ表
1に示した。
(Evaluation of Storage Property of Film) Two test pieces were taken from each of the obtained photosensitive materials, and one of them was exposed immediately after coating under the following conditions.
After development, the sensitivity and the density of the fogged portion were measured. The sensitivity is the same as that of Sample No. Relative sensitivity (S) with the sensitivity of 9 as 100,
The fog density is shown as fog in Table 1 and its absolute value is shown in Table 1.

【0185】もう一枚は25℃、55%RHで3日間遮
光保存した後、同様に露光、現像し感度及びかぶりを測
定し、以下の方法により感度の増加、かぶりの増加を算
出し、結果を表2に示した。
The other sheet was stored under light shielding at 25 ° C. and 55% RH for 3 days, exposed and developed in the same manner, and the sensitivity and fog were measured. The increase in sensitivity and fog were calculated by the following methods. Are shown in Table 2.

【0186】感度の増加(ΔS)=遮光保存後現像の感
度−即現像の感度 かぶりの増加(Δfog)=遮光保存後現像のかぶり−
即現像のかぶり (露光及び熱現像)即ち、感光材料の乳剤面側から、高
周波重畳にて波長800nm〜820nmの縦マルチモ
ード化された半導体レーザーを露光源とした露光機によ
りレーザー走査露光による露光を与えた。この際に、感
光材料の露光面と露光レーザー光の角度を75℃として
画像を形成した。(尚、当該角度を90℃とした場合に
比べムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等が良好な画像
が得られた。) その後、ヒートドラムを有する自動現像機を用いて感光
材料の保護層とドラム表面が接触するようにして、11
0℃で15秒熱現像処理した。その際、露光及び現像は
23度、50%RHに調湿した部屋で行った。
Increase of sensitivity (ΔS) = sensitivity of development after light-shielded storage—sensitivity of immediate development Increase of fog (Δfog) = fog of development after light-shielded storage—
Immediate development fog (exposure and thermal development), that is, exposure by laser scanning exposure from an emulsion side of the photosensitive material using an exposure machine that uses a semiconductor laser that has been subjected to high-frequency superimposition and has a vertical multi-mode semiconductor laser having a wavelength of 800 nm to 820 nm as an exposure source. Gave. At this time, an image was formed at an angle of 75 ° C. between the exposure surface of the photosensitive material and the exposure laser beam. (Note that an image with less unevenness and unexpectedly good sharpness was obtained compared to the case where the angle was set to 90 ° C.) Thereafter, protection of the photosensitive material was performed using an automatic developing machine having a heat drum. 11 so that the layer and the drum surface are in contact with each other.
The film was thermally developed at 0 ° C. for 15 seconds. At that time, exposure and development were performed in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH.

【0187】[0187]

【表1】 [Table 1]

【0188】[0188]

【表2】 [Table 2]

【0189】表1から本発明のメルカプト化合物を添加
した試料はメルカプト化合物なしの比較試料(感光材料
No.8、No.16、No.24)に比べ高い感度と
低いかぶりレベルを示しており、又比較強色増感剤を用
いた感光材料No.25、No.26と同様の増感効果
を示している。
Table 1 shows that the sample to which the mercapto compound of the present invention was added exhibited higher sensitivity and a lower fog level than the comparative samples without the mercapto compound (photosensitive materials No. 8, No. 16, No. 24). The photosensitive material No. 1 using the comparative supersensitizer was used. 25, no. 26 shows a sensitizing effect similar to that of No. 26.

【0190】又、表2から強色増感剤として公知である
複素環を有する比較のメルカプト化合物(2−メルカプ
トベンズイミダゾール)を添加した試料に比べ、本発明
試料が同等以上の写真性能をもち、フィルム保存時の経
時変化においては本発明試料は比較化合物C−1を用い
た比較例に比べ減感幅が著しく小さく、優れていること
を示している。
Further, as compared with the sample to which a comparative mercapto compound (2-mercaptobenzimidazole) having a heterocyclic ring known from Table 2 as a supersensitizer was added, the sample of the present invention had equal or better photographic performance. As for the change with time during storage of the film, the sample of the present invention has a significantly smaller desensitization width than the comparative example using the comparative compound C-1, indicating that the sample is excellent.

【0191】本発明により、フィルム保存時の経時かぶ
りの低減と感度低下の抑制を両立させる事ができる。
According to the present invention, it is possible to achieve both a reduction in fog over time and a reduction in sensitivity during storage of a film.

【0192】[0192]

【発明の効果】赤外レーザーに感光する熱現像感光材料
の感度向上及び経時保存したときの安定性が改良され、
医療用或いは印刷用途に適する感光材料が得られた。
According to the present invention, the sensitivity of a photothermographic material sensitive to an infrared laser is improved, and the stability of the photothermographic material when stored over time is improved.
A photosensitive material suitable for medical or printing applications was obtained.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくともa)非感光性有機
銀塩、b)赤外増感色素により分光増感されたハロゲン
化銀、c)熱により活性化されたときに該有機銀塩の銀
イオンを還元しうる還元剤及びd)バインダーを有して
なる熱現像感光材料において、更に下記一般式(I)で
表される化合物を含有することを特徴とする熱現像感光
材料。 一般式(I) R−SM 〔式中、Rは非環状の脂肪族基、ヘテロ脂環式基、又は
芳香族基を表す。Mは水素又はアルカリ金属或いは4級
アンモニウム基を表す。〕
1. A non-photosensitive organic silver salt on a support, b) silver halide spectrally sensitized by an infrared sensitizing dye, c) the organic silver salt when activated by heat A photothermographic material comprising a reducing agent capable of reducing silver ions and d) a binder, further comprising a compound represented by the following general formula (I). General formula (I) R-SM [wherein, R represents an acyclic aliphatic group, a heteroalicyclic group, or an aromatic group. M represents hydrogen, an alkali metal, or a quaternary ammonium group. ]
【請求項2】 ハロゲン化銀が、下記一般式(1)〜
(4)から選ばれる少なくとも1種の増感色素により分
光増感されている事を特徴とする請求項1に記載の熱現
像感光材料。 【化1】 〔一般式(1)〜(4)に於て、Y1、Y2、Y11
21、Y22及びY31は、各々、酸素原子、硫黄原子、セ
レン原子、−C(Ra)(Rb)−基、又は−CH=CH
−基を表し、Z1は5員または6員の縮合された環を完
成するに必要な非金属原子群を表す。Rは水素原子、低
級アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、低級
アルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子を表し、Ra及びRbは各々、水素原子、低級アルキル
基或いはRaとRb間で結合して5員、6員の脂肪族スピ
ロ環を形成するに必要な非金属原子群を表す。R1、R
11、R21、R22、R31及びR32は各々脂肪族基であり、
或いはR1はW3と、R11はW14との間で縮合環を形成す
るに必要な非金属原子群を表す。Rc及びRdは各々、低
級アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリ
ール基、複素環基を表わす。W1、W2、W3、W4
11、W12、W13、W14、W21、W22、W23、W24、W
31、W32、W33及びW34は各々、水素原子、置換基、或
いはW1はW2と、W11はW12と、W21はW22と、W23
24と、W31はW32と、W33はW34との間で結合して縮
合環を形成するに必要な非金属原子群を表す。V1
9、V11〜V13、V21〜V29、V31〜V33は各々、水
素原子、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基、複素環基を表し、或いは
1はV3と、V2はV4と、V3はV5と、V4はV6と、V
5はV7と、V6はV8と、V7はV9と、V11はV13と、V
21はV23と、V22はV24と、V23はV25と、V24はV26
と、V25はV27と、V26はV28と、V27はV29と、V31
はV33との間で結合して5員〜7員の環を形成するに必
要な非金属原子群を表し、V1〜V9の何れか一つ及びV
11〜V13の何れか一つは水素原子以外の基である。
1、X11、X21及びX31は各々、分子内の電荷を相殺
するに必要なイオンを表し、l1、l11、l21及び
l31は各々、分子内の電荷を相殺するに必要なイオン
の数を表す。k1、k2、k21及びk22は各々、0
又は1を表す。n21、n22、n31及びn32は各
々、0〜2の整数を表わし、n21とn22及びn31
とn32が同時に0になることはない。p1及びp11
は各々、0又は1であり、q1及びq11は各々、1及
び2の整数であり、p1とq1及びp11とq11の和
は2を超えない。〕
2. The method according to claim 1, wherein the silver halide is represented by the following general formula (1):
2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material is spectrally sensitized by at least one sensitizing dye selected from (4). Embedded image [In the general formulas (1) to (4), Y 1 , Y 2 , Y 11 ,
Y 21 , Y 22 and Y 31 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a —C (R a ) (R b ) — group, or —CH = CH
And Z 1 represents a group of nonmetallic atoms necessary to complete a 5- or 6-membered fused ring. R is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group, hydroxy group, a halogen atom, R a and R b are each a hydrogen atom, a lower alkyl group or R a and R represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a 5- or 6-membered aliphatic spiro ring by bonding between b . R 1 , R
11 , R 21 , R 22 , R 31 and R 32 are each an aliphatic group,
Or R 1 and W 3, R 11 represents a nonmetallic atomic group necessary to form a condensed ring with the W 14. R c and R d each represent a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. W 1 , W 2 , W 3 , W 4 ,
W 11, W 12, W 13 , W 14, W 21, W 22, W 23, W 24, W
31 , W 32 , W 33 and W 34 are each a hydrogen atom, a substituent or W 1 is W 2 , W 11 is W 12 , W 21 is W 22 , W 23 is W 24 and W 31 the W 32, W 33 represents a nonmetallic atomic group necessary to form a fused ring bond between W 34. V 1 ~
V 9 , V 11 to V 13 , V 21 to V 29 , and V 31 to V 33 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, an aryl group, and an aryl Represents an oxy group, a heterocyclic group, or V 1 is V 3 , V 2 is V 4 , V 3 is V 5 , V 4 is V 6 ,
5 and V 7, V 6 and V 8, V 7 and V 9, V 11 and V 13, V
21 and V 23, V 22 and V 24, V 23 and V 25, V 24 is V 26
When, and V 25 is V 27, and V 26 are V 28, V 27 and V 29, V 31
Represents a non-metallic atomic group necessary for forming a 5- to 7-membered coupled between V 33, any one and V of V 1 ~V 9
11 any one of ~V 13 is a group other than a hydrogen atom.
X 1 , X 11 , X 21 and X 31 each represent an ion necessary for canceling the intramolecular charge, and 11, 11, 111 and 121 represent the ions necessary for canceling the intramolecular charge, respectively. Represents a number. k1, k2, k21 and k22 are each 0
Or represents 1. n21, n22, n31 and n32 each represent an integer of 0 to 2, and n21, n22 and n31
And n32 do not become 0 at the same time. p1 and p11
Is each 0 or 1, q1 and q11 are each an integer of 1 and 2, and the sum of p1 and q1 and the sum of p11 and q11 does not exceed 2. ]
【請求項3】 下記一般式(A)又は(B)で表される
化合物を有してなる、請求項1又は2に記載の熱現像感
光材料。 【化2】 〔式中、Hal1及びHal2はハロゲン原子を表す。H
al1及びHal2は同じであっても異なっていても良
い。Xはアニオン基を表す。R1はカルボニル基を部分
構造として有する基を表しR2及びR3は窒素原子に置換
可能な置換基又は水素原子を表す。R1〜R3は窒素原子
が環内原子となる環状構造を形成するように互いに結合
することはない。nは1又は2を表す。〕 【化3】 〔式中、Hal3及びHal4はハロゲン原子を表す。H
al3及びHal4は同じであっても異なっていても良
い。Zは隣接する窒素原子とともに5〜7員環の含窒素
ヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表す。この含窒
素ヘテロ環はその他の環と縮合、又は結合基により結合
していてもよい。〕
3. The photothermographic material according to claim 1, comprising a compound represented by the following general formula (A) or (B). Embedded image [In the formula, Hal 1 and Hal 2 represent a halogen atom. H
al 1 and Hal 2 may be the same or different. X represents an anionic group. R 1 represents a group having a carbonyl group as a partial structure, and R 2 and R 3 represent a substituent which can be substituted on a nitrogen atom or a hydrogen atom. R 1 to R 3 do not bond to each other so as to form a ring structure in which the nitrogen atom becomes an inner ring atom. n represents 1 or 2. [Chemical formula 3] [In the formula, Hal 3 and Hal 4 represent a halogen atom. H
al 3 and Hal 4 may be the same or different. Z represents an atomic group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing heterocycle together with an adjacent nitrogen atom. This nitrogen-containing hetero ring may be condensed with another ring, or may be bonded by a bonding group. ]
【請求項4】 請求項1、2又は3に記載された熱現像
感光材料に該熱現像感光材料の露光面と走査レーザー光
のなす角度が実質的に垂直になることがないレーザー走
査露光機により露光を行うことを特徴とする画像露光方
法。
4. A laser scanning exposure apparatus wherein an angle between an exposure surface of the photothermographic material and a scanning laser beam does not become substantially perpendicular to the photothermographic material according to claim 1, 2 or 3. An image exposure method, wherein exposure is performed by:
【請求項5】 請求項1、2又は3に記載された熱現像
感光材料に走査レーザー光が縦マルチであるレーザー走
査露光機による露光を行うことを特徴とする画像露光方
法。
5. An image exposure method, wherein the photothermographic material according to claim 1, 2 or 3, is exposed by a laser scanning exposure machine in which a scanning laser beam is a vertical multi-scan.
【請求項6】 請求項1、2又は3に記載された熱現像
感光材料が溶剤を5〜1000mg/m2含有している
状態において加熱現像することを特徴とする画像形成方
法。
6. An image forming method, wherein the photothermographic material according to claim 1, 2, or 3 is heat-developed in a state containing 5 to 1000 mg / m 2 of a solvent.
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US7488572B2 (en) 2001-03-29 2009-02-10 Fujifilm Corporation Image formation method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7488572B2 (en) 2001-03-29 2009-02-10 Fujifilm Corporation Image formation method

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