JP2000206641A - Heat-developable photosensitive material and image recording and forming method by using same - Google Patents

Heat-developable photosensitive material and image recording and forming method by using same

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JP2000206641A
JP2000206641A JP11009328A JP932899A JP2000206641A JP 2000206641 A JP2000206641 A JP 2000206641A JP 11009328 A JP11009328 A JP 11009328A JP 932899 A JP932899 A JP 932899A JP 2000206641 A JP2000206641 A JP 2000206641A
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JP
Japan
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group
carbon atoms
atom
compound
formula
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JP11009328A
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Japanese (ja)
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Hideki Komatsu
秀樹 小松
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress heat developing fog and fog due to storage and improve the deterioration of image density by including a specific compound and including one kind of compound selected from the other specific compound, an aziridine compound, an epoxy compound and a carboxyimide compound. SOLUTION: The heat-developable photosensitive material contains at least one kind of compound selected from formula I and the like and at least one of compounds selected from ones represented by formula II and the like, and aziridine compounds, epoxy compounds, and carboxyimide compounds. In formula I, each of Hal1 and Hal2 is a halogen atom; X1 is an anion; R1 is a group having a carbonyl group as a partial structure; each of R2 and R3 is an H atom or a group substitutible on an N atom; and (n) is 1 or 2, and in formula II, each of R1-R3 is, independently, an alkyl or aralkyl group or the like; and X- is a counter ion and when a sulfonyl group is present in the molecule, X- is absent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料、こ
れを用いた画像記録方法及び画像形成方法に関する。
The present invention relates to a photothermographic material, an image recording method using the same, and an image forming method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、印刷製版や医療の分野では、
画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問
題になっており、近年では環境保全、省スペースの観点
からも処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レ
ーザーイメージセッターやレーザーイメージャーにより
効率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形
成することが出来る光熱写真材料に関する技術が近年特
に必要となってきた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of printing plate making and medical care,
The waste liquid caused by the wet processing of the image forming material has become a problem in terms of workability, and in recent years, it has been strongly desired to reduce the amount of the treated waste liquid from the viewpoint of environmental conservation and space saving. Therefore, in recent years, a technique relating to a photothermographic material capable of efficiently exposing by a laser image setter or a laser imager and forming a high-resolution and clear black image has been particularly required in recent years.

【0003】この為の技術として熱処理により写真画像
を形成するハロゲン化銀感光材料が知られており、これ
らは例えば、米国特許第3,152,904号、同第
3,457,075号及びD.モーガン(Morga
n)とB.シェリー(Shely)による「熱によって
処理される銀システム(Thermally Proc
essed Silver Systems)」、イメ
ージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(I
maging Processes and Mate
rials)Neblette 第8版、スタージ(S
turge)、V.ウォールワース(Walwort
h)、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、19
69年等に開示されている。
As techniques for this purpose, silver halide photosensitive materials which form a photographic image by heat treatment are known, for example, US Pat. Nos. 3,152,904, 3,457,075 and D. . Morgan
n) and B. "Thermal Proc Silver System" by Shelly
essed Silver Systems), Imaging Processes and Materials (I
Managing Processes and Mate
reals) Neblette 8th edition, Sturge (S
purge), V.T. Walworth
h), A. Shepp Editing, Page 2, 19
It was disclosed in 1969.

【0004】この様な熱現像感光材料は、還元可能な銀
源(例えば非感光性有機銀塩)、触媒活性量の光触媒
(例えばハロゲン化銀)、及び還元剤を通常有機のバイ
ンダーマトリクス中に分散した状態で含有している。熱
現像感光材料は常温で安定であるが、露光後高温に加熱
した場合に還元可能な銀源(酸化剤として作用する)と
還元剤との間の酸化還元反応により金属銀を生成する。
[0004] Such a photothermographic material comprises a reducible silver source (eg, a non-photosensitive organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in a dispersed state. The photothermographic material is stable at room temperature, but when heated to a high temperature after exposure, metallic silver is generated by a redox reaction between a reducible silver source (acting as an oxidizing agent) and a reducing agent.

【0005】この酸化還元反応は露光で発生した潜像の
触媒作用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の
反応によって生成した銀は黒色像を提供し、これは非露
光域と対照をなし、画像の形成がなされる。この画像の
カブリを制御するためにカブリ防止剤が用いられてお
り、従来のカブリ防止技術として最も有効な方法は、カ
ブリ防止剤として水銀化合物を用いる方法であった。
[0005] This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas and results in the formation of an image. An antifoggant is used to control the fogging of the image, and the most effective method as a conventional antifogging technique is a method using a mercury compound as the antifoggant.

【0006】感光材料中にカブリ防止剤として水銀化合
物を使用することについては、例えば米国特許第3,5
89,903号明細書に開示されている。しかしなが
ら、水銀化合物の使用は環境上好ましくなく、非水銀系
のカブリ防止剤の開発が望まれていた。非水銀系のカブ
リ防止剤としては、これまで各種のポリハロゲン化合物
が、例えば米国特許第3,874,946号、同第4,
756,999号、同第5,340,712号、欧州特
許第605,981A1号、同第622,666A1
号、同第631,176A1号、特公昭54−165
号、特開平7−2781号等の明細書に開示されてい
る。しかし、これらに記載の化合物はカブリ防止効果が
低かったり、銀の色調を悪化させるという問題があり、
改善が必要であった。更に、熱現像感光材料を加湿、加
温の強制条件下で保存した後、露光、現像を行うと、未
露光部におけるカブリが上昇するといった問題があり、
これらの問題のないカブリ防止剤の開発が望まれてい
た。
The use of mercury compounds as antifoggants in light-sensitive materials is described, for example, in US Pat.
No. 89,903. However, the use of mercury compounds is environmentally unfavorable, and the development of non-mercury antifoggants has been desired. As the non-mercury antifoggant, various polyhalogen compounds have hitherto been used, for example, US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,874,946.
756,999, 5,340,712, EP 605,981A1, 622,666A1
No. 631,176A1, No. 54-165
And Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-2781. However, the compounds described therein have a low antifogging effect or have a problem of deteriorating the color tone of silver.
Improvement was needed. In addition, when the photothermographic material is stored under forced conditions of humidification and heating, and then exposed and developed, there is a problem that fog in an unexposed portion increases,
The development of an antifoggant free of these problems has been desired.

【0007】これらを解決する方法として例えば特開平
4−232939号に記載のパーブロミド化合物が提案
されている。これはパーブロミド化合物のもつ強い酸化
作用によりカブリ核を酸化漂白する事でカブリを抑える
ものと考えられるが、これ単独で十分に熱現像における
カブリを抑え、感光材料の保存性を改良する事は難しか
った。
As a method for solving these problems, for example, a perbromide compound described in JP-A-4-232939 has been proposed. This is considered to suppress fog by oxidatively bleaching the fog nucleus due to the strong oxidizing action of the perbromide compound, but it is difficult to sufficiently suppress fog in thermal development alone and improve the storage stability of the photosensitive material. Was.

【0008】従って、これらを解決する方法としてさら
に特開平9−160164号、同9−244178号、
同9−258367号、同9−265150号、同9−
281640号、同9−319022号公報等に上記欠
点の改良されたポリハロゲン化合物が記載されている。
しかしながら、特に、医療用レーザーイメージャー用の
熱現像感光材料、或いは硬調化剤を含有し、600〜8
00nmに発振波長を有する印刷用レーザーイメージセ
ッターの出力用の熱現像感光材料にこれらの技術を適用
した場合でも上記の欠点はかなり改善されるものの、依
然としてカブリが大きいといった欠点を有していた。
Accordingly, as a method for solving these problems, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-160164 and 9-244178,
9-258367, 9-265150, 9-
Nos. 281640 and 9-319022 disclose polyhalogen compounds having the above-mentioned disadvantages improved.
However, particularly, it contains a photothermographic material for a laser imager for medical use, or contains a high contrast agent, and
Even when these techniques are applied to a photothermographic material for output of a printing laser imagesetter having an oscillation wavelength of 00 nm, the above disadvantages are considerably improved, but they still have the disadvantage that fog is still large.

【0009】又、特開平6−208193号公報にはハ
ロゲン化カブリ防止化合物単独ではなくこれをイソシア
ネート基を有する化合物を併用し含有させることにより
カブリを改良した熱現像感光材料が開示されている。
又、特開平6−208192号にはビニルスルホン化合
物が熱現像系においてカブリ防止効果が大きいことが記
載されている。しかしながらこれらもいまだ十分な効果
をもっているといえず、さらに上記のような欠点がなく
カブリを改良する技術が望まれていた。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 6-208193 discloses a photothermographic material having improved fog by containing not only a halogenated antifoggant compound but also a compound having an isocyanate group in combination.
JP-A-6-208192 discloses that a vinyl sulfone compound has a large antifogging effect in a heat development system. However, these cannot be said to have a sufficient effect yet, and a technique for improving fog without the above-mentioned disadvantages has been desired.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、熱現像カブ
リが抑制され、保存時のカブリ及び画像濃度の低下が改
良された熱現像感光材料、これを用いた画像記録方法及
び画像形成方法を提供する事にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a heat-developable photosensitive material in which heat-development fog is suppressed, fog and image density during storage are improved, and an image recording method and an image forming method using the same. To provide.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題は下記手段によ
り達成された。
The above object has been attained by the following means.

【0012】1.支持体上に少なくともa)非感光性有
機銀塩、b)ハロゲン化銀、c)熱により活性化された
時に該有機銀塩の銀イオンを銀に還元しうる還元剤及び
疎水性バインダーを含有してなる熱現像感光材料におい
て、更に一般式(A)〜(C)で表される化合物から選
ばれる少なくとも1種の化合物を含有し、かつ一般式
(1)〜(6)で表される化合物、アジリジン化合物、
エポキシ化合物、カルボジイミド化合物から選ばれる少
なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする熱現
像感光材料。
1. A support comprising at least a) a non-photosensitive organic silver salt; b) silver halide; c) a reducing agent capable of reducing silver ions of the organic silver salt to silver when activated by heat; and a hydrophobic binder. The photothermographic material thus obtained further contains at least one compound selected from the compounds represented by formulas (A) to (C) and is represented by formulas (1) to (6). Compound, aziridine compound,
A photothermographic material comprising at least one compound selected from an epoxy compound and a carbodiimide compound.

【0013】[0013]

【化12】 Embedded image

【0014】式中、Hal1及びHal2はハロゲン原子
を表す。Hal1及びHal2は同じであっても異なって
いてもよい。X1はアニオンをあらわす。R1はカルボニ
ル基を部分構造として有する基を表し、R2、R3は窒素
原子に置換可能な置換基、又は水素原子を表す。R1
3は窒素原子が環内原子となる環状構造を形成するよ
うに互いに結合することはない。nは1又は2を表す。
In the formula, Hal 1 and Hal 2 represent a halogen atom. Hal 1 and Hal 2 may be the same or different. X 1 represents an anion. R 1 represents a group having a carbonyl group as a partial structure, and R 2 and R 3 represent a substituent that can be substituted on a nitrogen atom or a hydrogen atom. R 1 ~
R 3 do not bond to each other so as to form a ring structure in which the nitrogen atom becomes an inner ring atom. n represents 1 or 2.

【0015】[0015]

【化13】 Embedded image

【0016】式中、Hal3及びHal4はハロゲン原子
を表す。Hal3及びHal4は同じであっても異なって
いてもよい。X2はF-、CL-、I-、カルボン酸アニオ
ン、スルホン酸アニオン、又はリン酸アニオンを表す。
2は隣接する窒素原子とともに5〜7員環の含窒素ヘ
テロ環を構築するのに必要な原子群を表す。この含窒素
へテロ環と縮合、又は結合基により結合していてもよ
い。
In the formula, Hal 3 and Hal 4 represent a halogen atom. Hal 3 and Hal 4 may be the same or different. X 2 represents F , CL , I , a carboxylate anion, a sulfonate anion, or a phosphate anion.
Z 2 represents an atom group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. The heterocyclic ring may be condensed with the nitrogen-containing heterocyclic ring, or may be bonded by a bonding group.

【0017】[0017]

【化14】 Embedded image

【0018】式中、Z3は、隣接する窒素原子群ととも
に5〜7員環の含窒素ヘテロ環を構築するのに必要な原
子群を表す。この含窒素ヘテロ環はその他の環と縮合、
又は結合基により結合していてもよい。
In the formula, Z 3 represents an atomic group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom group. This nitrogen-containing hetero ring is fused with another ring,
Alternatively, they may be bonded by a bonding group.

【0019】[0019]

【化15】 Embedded image

【0020】一般式(1)中、R1、R2、R3は同じで
も異なっていてもよく、アルキル基、アラルキル基、ア
ルケニル基、アリール基を表し、X-は対アニオンであ
り、分子内にスルホ基が含まれる場合にはX-は存在し
ない。
[0020] In the general formula (1), R 1, R 2, R 3 may be the same or different, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an aryl group, X - is a counter anion, the molecular when the sulfo groups, within the X - is absent.

【0021】[0021]

【化16】 Embedded image

【0022】一般式(2)及び(3)中、R1、R2、R
3、R4は同じでも異なっていてもよくアルキル基、アラ
ルキル基、アルケニル基、アリール基を表し、A及びB
は2価の連結基を表し、X-は対アニオンでありR1、R
2、R3、R4にスルホ基が含まれる場合にはX-は存在し
ない。
In the general formulas (2) and (3), R 1 , R 2 , R
3 and R 4 may be the same or different and each represents an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, or an aryl group;
Represents a divalent linking group, X - is a counter anion R 1, R
2, if R 3, sulfo groups, the R 4 is X - is absent.

【0023】[0023]

【化17】 Embedded image

【0024】一般式(4)中、R1、R2は互いに同じで
あっても異なっていてもよい水素原子、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルケニル基、複素芳香環基
を表す。これらの基は置換されていてもよい。Xは求核
試薬と反応したときに脱離しうる基である。
In the general formula (4), R 1 and R 2 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group and a heteroaromatic group which may be the same or different. These groups may be substituted. X is a group capable of leaving when reacted with a nucleophile.

【0025】[0025]

【化18】 Embedded image

【0026】一般式(5)中、R1及びR2は単独の場
合、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜
20のアリール基、炭素原子数7〜20のアラルキル
基、又は炭素原子数2〜20のアルケニル基から選択さ
れ、R1はR2と一緒になった場合、前記式中の2個の窒
素原子の他に窒素原子を1個含む事が出来る原子数5〜
8の複素環を形成し、R2とR3は一緒に、R2が結合し
ている窒素原子の他に窒素原子を1個又は2個含むこと
が出来る原子数5或いは6の複素環を形成し、上述のR
1、R2で形成される環及びR2、R3で形成される環の窒
素以外の原子は炭素であり、R4は水素又は炭素原子数
1〜20のアルキル基から選択され、R5は水素又はピ
リジン環の3〜6位のいずれかの位置における1個以上
の置換基を表し、該置換基として、炭素原子数1〜20
のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素
原子数7〜20のアラルキル基、炭素原子数2〜20の
アルケニル基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭
素原子数6〜20のアリールオキシ基、カルボキシル
基、ハロゲン原子、ニトロ基又はスルホ基が含まれる事
が出来、そしてX-はアニオンを表す。ただし分子中に
スルホ基を含み分子内塩を形成している時には、X-
存在しない。
In the general formula (5), when R 1 and R 2 are singly, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a carbon atom having 6 to 20 carbon atoms,
Selected from an aryl group having 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, wherein when R 1 is taken together with R 2 , two nitrogen atoms in the above formula Other than 5 atoms that can contain one nitrogen atom
R 2 and R 3 together form a heterocyclic ring having 5 or 6 atoms which can contain 1 or 2 nitrogen atoms in addition to the nitrogen atom to which R 2 is bonded. Forming the above R
1, atoms other than the nitrogen of the ring formed by the ring and R 2, R 3 formed by R 2 is a carbon, R 4 is selected from hydrogen or an alkyl group having a carbon atom number of 1 to 20, R 5 Represents hydrogen or one or more substituents at any of the positions 3 to 6 of the pyridine ring, wherein the substituents have 1 to 20 carbon atoms.
An alkyl group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and 6 to 20 carbon atoms May include an aryloxy group, a carboxyl group, a halogen atom, a nitro group or a sulfo group, and X represents an anion. However when forming an intramolecular salt include sulfo group in the molecule, X - it does not exist.

【0027】[0027]

【化19】 Embedded image

【0028】一般式(6)中、Rはエチル基、n−プロ
ピル基、イソプロピル基から選ばれる置換基を表し、L
は置換基を有してもよい2価の連結基を表す。
In the general formula (6), R represents a substituent selected from an ethyl group, an n-propyl group and an isopropyl group;
Represents a divalent linking group which may have a substituent.

【0029】[0029]

【化20】 Embedded image

【0030】一般式(7)中、Rは未置換のアルキル
基、Lは置換基を有してもよい2価の連結基を表す。
In the general formula (7), R represents an unsubstituted alkyl group, and L represents a divalent linking group which may have a substituent.

【0031】2.支持体上に少なくともa)非感光性有
機銀塩、b)ハロゲン化銀、c)熱により活性化された
時に該有機銀塩の銀イオンを銀に還元しうる還元剤及び
疎水性バインダーを含有してなる熱現像感光材料におい
て、更に一般式(D)で表される化合物から選ばれる少
なくとも1種の化合物を含有し、かつ前記一般式(1)
〜(6)で表される化合物、アジリジン化合物、エポキ
シ化合物、カルボジイミド化合物から選ばれる少なくと
も1種の化合物を含有することを特徴とする熱現像感光
材料。
2. A support comprising at least a) a non-photosensitive organic silver salt; b) silver halide; c) a reducing agent capable of reducing silver ions of the organic silver salt to silver when activated by heat; and a hydrophobic binder. The photothermographic material according to claim 1, further comprising at least one compound selected from compounds represented by formula (D);
A photothermographic material comprising at least one compound selected from compounds represented by formulas (1) to (6), an aziridine compound, an epoxy compound and a carbodiimide compound.

【0032】[0032]

【化21】 Embedded image

【0033】一般式(D)中、R1は水素原子、−O
2、へテロ原子を少なくとも1つ含有する基で少なく
とも1つ置換されたアルキル基、又はアルコキシ基、ア
リールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル
アミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオ
キシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルオキシ
基、アリールオキシカルボニルオキシ基、スルホニルア
ミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アミノ基、スルホニル基、ス
ルフィニル基、スルホニルオキシ基、ウレイド基、シリ
ル基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スル
ホ基、カルボキシル基、リン酸エステル基、へテロ環
基、ハロゲノアルキル基から選ばれる少なくとも1つの
基で置換されたアリール基、又はへテロ環基を表す。L
は連結基を表し、M1及びM2は水素原子又はカチオンを
表す。mは0以上5以下の整数を表し、nは1以上3以
下の整数を表す。但し、mが0の場合、及びmが1でか
つR1が−OHの場合はLはハロゲン原子、アシルオキ
シ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、ホルミル基、アリールオキシ
カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルオキシ基、
アリールオキシカルボニルオキシ基、スルホニルアミノ
基、スルファモイル基、アミノ基、スルホニル基、スル
フィニル基、スルホニルオキシ基、ウレイド基、シリル
基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ
基、リン酸エステル基、へテロ環基から選ばれる1つ以
上3つ以下の基で置換された連結基を表す。
In the general formula (D), R 1 is a hydrogen atom, —O
M 2 , an alkyl group substituted with at least one group containing at least one hetero atom, or an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl, acyloxy, acylamino, alkoxycarbonylamino, aryloxycarbonylamino, alkoxycarbonyloxy, aryloxycarbonyloxy, sulfonylamino, sulfamoyl, carbamoyl, alkylthio, arylthio, amino Group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfonyloxy group, ureido group, silyl group, mercapto group, hydroxy group, nitroso group, sulfo group, carboxyl group, phosphate group, heterocyclic group, at least selected from halogenoalkyl group Represents an aryl group substituted by one group, or a heterocyclic group. L
Represents a linking group, and M 1 and M 2 represent a hydrogen atom or a cation. m represents an integer of 0 or more and 5 or less, and n represents an integer of 1 or more and 3 or less. However, when m is 0, and when m is 1 and R 1 is —OH, L is a halogen atom, an acyloxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a formyl group, an aryloxycarbonylamino group. , An alkoxycarbonyloxy group,
Aryloxycarbonyloxy, sulfonylamino, sulfamoyl, amino, sulfonyl, sulfinyl, sulfonyloxy, ureido, silyl, mercapto, hydroxy, nitroso, sulfo, phosphate ester groups It represents a linking group substituted with one or more and three or less groups selected from a telocyclic group.

【0034】3.一般式(A)〜(C)から選ばれる少
なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする前記
2に記載の熱現像感光材料。
3. (3) The photothermographic material as described in (2) above, which contains at least one compound selected from formulas (A) to (C).

【0035】4.感光性層、または支持体からみて感光
性層側の非感光性層に一般式〔H〕化合物を含有するこ
とを特徴とする前記1〜3に記載の熱現像感光材料。
4. 4. The photothermographic material according to any one of the above items 1 to 3, wherein the photosensitive layer or the non-photosensitive layer on the side of the photosensitive layer viewed from the support contains a compound of the formula [H].

【0036】[0036]

【化22】 Embedded image

【0037】式中、Aはそれぞれ置換基を有してもよい
脂肪族基、芳香族基、−G0−D0基又は複素環基を、B
はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原子、
又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル基又
はオキザリル基を表す。G0は−CO−基、−COCO
−基、−CS−基、−C(=NG11)−基、−SO−
基、−SO2−基又は−P(O)(G11)−基を表
し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基又は−N
(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環
基又は水素原子を表し、D0は水素原子、脂肪族基、芳
香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。
In the formula, A represents an aliphatic group, an aromatic group, a -G 0 -D 0 group or a heterocyclic group which may have a substituent,
Represents a blocking group, A 1 and A 2 are both hydrogen atoms,
Alternatively, one represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group, or an oxalyl group. G 0 is a -CO- group, -COCO
— Group, —CS— group, —C (= NG 1 D 1 ) — group, —SO—
A —SO 2 — group or —P (O) (G 1 D 1 ) — group, where G 1 is a mere bond, a —O— group, a —S— group, or a —N
(D 1 ) — represents a group, D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, Represents an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group.

【0038】5.前記1又は4に記載の熱現像感光材料
の露光面と走査レーザー光のなす角度が実質的に垂直に
なることがないレーザー走査露光機による露光を行うこ
とを特徴とする画像記録方法。
5. 5. An image recording method, wherein an exposure is performed by a laser scanning exposing machine in which an angle between an exposure surface of the photothermographic material and the scanning laser beam does not become substantially perpendicular.

【0039】6.前記1又は4に記載の熱現像感光材料
に画像を記録する際の走査レーザー光が縦マルチである
レーザー走査露光機による露光を行うことを特徴とする
画像記録方法。
6. 5. An image recording method, wherein an image is recorded on a photothermographic material according to the above item 1 or 4, by using a laser scanning exposure device in which a scanning laser beam is a multi-scan laser beam.

【0040】7.前記1又は4に記載の熱現像感光材料
が溶剤を40〜4500ppm含有している状態におい
て加熱現像することを特徴とする画像形成方法。
7. 5. An image forming method, wherein the photothermographic material according to the above item 1 or 4 is heated and developed in a state where the photothermographic material contains 40 to 4500 ppm of a solvent.

【0041】以下本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0042】本発明の一般式(A)〜(B)は前述のパ
ーブロミド化合物を含む強い酸化性を有する化合物であ
る。これらは有機銀塩の調製時以降に直ぐその酸化性に
よりカブリ核を酸化しカブリ防止に寄与すると考えられ
る。本発明の一方の化合物である一般式(1)〜(7)
及びアジリジン化合物、エポキシ化合物、カルボジイミ
ド化合物はいずれも、通常のハロゲン化銀写真感光材料
においては硬膜剤として知られている化合物である。こ
れら通常のハロゲン化銀写真感光材料において硬膜剤と
して知られている化合物が熱現像系のカブリ防止に効果
があることは、例えばポリハロゲン化合物との併用にお
いて効果を発揮するイソシアナート化合物、又、ビニル
スルホン化合物等知られている。これらの化合物がいか
なる機作によりカブリ防止作用を行うのかは不明である
が、膜の硬化や還元剤との反応や様々な要因が考えられ
るがより長期の保存にたいし効果が大きいと認められて
いる。何らかの作用によりカブリ生成に導く反応を抑制
する作用があるようである。 しかしながらこれらの化
合物が効果を発揮するのはポリハロゲン化合物との併用
系であり、これらの化合物が即カブリ防止剤であるブロ
ミン化合物と併用することで、カブリ防止効果をより発
揮するとはこれまで知られていなかった。
The general formulas (A) and (B) of the present invention are compounds having a strong oxidizing property, including the above-mentioned perbromide compounds. These are considered to contribute to fog prevention by oxidizing the fog nucleus immediately after the preparation of the organic silver salt due to its oxidizing property. General formulas (1) to (7) which are one compound of the present invention
And aziridine compounds, epoxy compounds and carbodiimide compounds are all compounds known as hardeners in ordinary silver halide photographic materials. The fact that compounds known as hardeners in these ordinary silver halide photographic light-sensitive materials have an effect of preventing fogging in a heat development system is, for example, an isocyanate compound which exhibits an effect when used in combination with a polyhalogen compound, or And vinyl sulfone compounds. It is unknown what mechanism these compounds perform to prevent fog.However, it is considered that these compounds are more effective for longer-term preservation, although various factors may be considered, such as curing of the film and reaction with the reducing agent. ing. It appears that some action suppresses the reaction leading to fog formation. However, these compounds exhibit an effect in combination with a polyhalogen compound, and it has been known so far that these compounds exhibit a more effective antifoggant effect when used in combination with a bromine compound which is an antifoggant. Had not been.

【0043】効果的には異なるこれらの化合物がどの様
な機作により共働して効果を発揮するのかは不明である
が、一般式(A)〜(C)の化合物が初期にカブリ核を
攻撃しこれを酸化漂白する事で、カブリ核が少なくなっ
た系において、本発明一般式(1)〜(7)の化合物及
びアジリジン、エポキシ、カルボジイミド等の化合物に
よる、より長期的なカブリ防止効果がより有効に発揮さ
れる。
It is unclear what mechanism these compounds, which are different from each other, effectively exert their effects in cooperation, but the compounds of the general formulas (A) to (C) initially cause fog nuclei. In a system in which fog nuclei are reduced by attacking and oxidative bleaching, a longer-term antifogging effect of the compounds of the general formulas (1) to (7) of the present invention and compounds such as aziridine, epoxy and carbodiimide. Is more effectively exhibited.

【0044】又、本発明の別のカブリ防止技術である、
一般式(D)で表される化合物は特に増感色素を含んだ
系において効果があることが判った。一般に感光色素の
吸着が弱いとき特に熱現像系ではカブリが上昇し感度が
低くなることはよく知られている。これらの化合物は色
素の溶解剤として使用すると効果が大きいことから、こ
れらが熱現像系に存在する時おそらく色素の吸着に影響
を与え、吸着を促進していると考えられ、その結果熱現
像カブリが減少するのではないかと本発明者は考えてい
る。これらも好まざるカブリ核の生成を未然に防止する
事で、一般式(1)〜(6)及びアジリジン、エポキ
シ、カルボジイミド等の化合物を効果を高める。これら
色素吸着促進効果をもつと考えられる化合物と熱現像系
で長期のカブリ防止剤として知られている化合物が併用
によりよい効果を発揮することは予想外の結果であっ
た。
Another antifogging technology of the present invention is as follows:
The compound represented by formula (D) was found to be particularly effective in a system containing a sensitizing dye. In general, it is well known that when the adsorption of a photosensitive dye is weak, fog increases and sensitivity decreases particularly in a heat development system. Since these compounds have a great effect when used as a dissolving agent for dyes, when they are present in the thermal development system, they probably affect the adsorption of the dyes and promote the adsorption. The present inventor believes that is likely to decrease. These also prevent the formation of undesirable fog nuclei, thereby enhancing the effects of compounds of general formulas (1) to (6) and aziridine, epoxy, carbodiimide and the like. It was an unexpected result that the compound considered to have the dye adsorption accelerating effect and the compound known as a long-term antifoggant in the heat development system exhibited a better effect when used in combination.

【0045】ここで本発明に用いられる化合物について
詳しく説明する。
Now, the compounds used in the present invention will be described in detail.

【0046】一般式(A)で示される化合物は酸化剤と
しての効果が大きく熱現像系でのカブリ銀核を漂白する
作用をもつと考えられる。従って有機銀塩と混合すると
その効果を直ちに発揮する。
It is considered that the compound represented by the general formula (A) has a large effect as an oxidizing agent and has an action of bleaching fog silver nuclei in a heat development system. Therefore, when it is mixed with an organic silver salt, the effect is immediately exhibited.

【0047】一般式(A)において、Hal1及びHa
2で表されるハロゲン原子は同じであっても異なって
いてもよく、それぞれ独立に塩素原子、臭素原子、沃素
原子、フッ素原子をあらわすが、好ましくは双方とも臭
素原子である場合である。X1で表されるアニオン基と
して具体的にはハロゲンアニオン(塩素アニオン、臭素
アニオン、沃素アニオン、フッ素アニオン)、カルボン
酸アニオン、スルホン酸アニオン、リン酸アニオン等が
挙げられるが、好ましくはハロゲンアニオンであり、よ
り好ましくは臭素アニオンである。
In the general formula (A), Hal 1 and Ha
halogen atom represented by l 2 may be the the same or different and each independently represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, but represents a fluorine atom, a case is also preferably both bromine atoms. Specific examples of the anion group represented by X 1 include a halogen anion (chlorine anion, bromine anion, iodine anion, and fluorine anion), a carboxylate anion, a sulfonate anion, and a phosphate anion. And more preferably a bromine anion.

【0048】R1はカルボニル基を部分構造として有す
る基を表すが、具体的にはアシル基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好まし
くは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイ
ル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アル
コキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より
好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜
12であり例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル
基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数
7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり例えば
フェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシ
ルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましく
は炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であ
り、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙
げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好まし
くは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、
特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシ
カルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキ
シカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、よ
り好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7
〜12であり例えばフェニルオキシカルボニルアミノな
どが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素
数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ま
しくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メ
チルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカ
ルバモイルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好まし
くは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、
特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイ
ド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられ
る。)などが挙げられる。好ましくはアシル基であり、
特に好ましくはアセチル基である。
R 1 represents a group having a carbonyl group as a partial structure, specifically, an acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). And acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl and the like.), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 2 to 2 carbon atoms).
12, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like. ), An aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl), and an acylamino group (preferably It has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, for example, acetylamino, benzoylamino and the like.), Alkoxycarbonylamino group (preferably 2 to 20 carbon atoms) 20, more preferably 2 to 16 carbon atoms,
Particularly preferably, it has 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino. ), An aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 carbon atoms)
To 12, for example, phenyloxycarbonylamino and the like. ), A carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, and phenylcarbamoyl). A ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms,
Particularly preferably, it has 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include ureido, methylureide, and phenylureide. ). Preferably an acyl group,
Particularly preferred is an acetyl group.

【0049】R2、R3は水素原子、又は窒素原子に置換
可能な基を表すが、窒素原子に置換可能な基としては具
体的には、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、沃素原
子、フッ素原子、好ましくは臭素原子が挙げられ
る。)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より
好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜
8であり、例えばメチル、トリフルオロメチル、エチ
ル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチ
ル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられ
る。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2
〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3
−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好
ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜12、特
に好ましくは2〜8であり、例えばプロパルギル,3−
ペンテニルなどが挙げられる。)、アリール基(好まし
くは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、
特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばフェニ
ル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられ
る。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好
ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6
であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられ
る。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好
ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜1
2であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピ
バロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル
基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数
2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例え
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げ
られる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは
炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に
好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキ
シカルボニルなどが挙げられる。)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2
〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えば
アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられ
る。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭
素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好
ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボ
ニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカル
ボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは
炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であ
り、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられ
る。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜2
0、、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは
炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミ
ノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、
スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好
ましくは、炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜
12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモ
イル、ジメチルスルファモイルなどが挙げられる。)、
カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ま
しくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12
であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジ
エチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げ
られる。)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好まし
くは炭素数1〜12であり、例えばメチルスルホニル、
エチルスルホニルなどが挙げられる。)、アリールスル
ホニル基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは
炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であ
り、例えばフェニルスルホニルなどが挙げられる。)、
スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ま
しくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12
であり、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルな
どが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましく
は炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレ
イド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、シリル
基(例えばトリメチルシリル基)、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、リン酸エステル基、ヘテロ環基(例えばトリアゾ
リル、イミダゾリル、ピリジル、フリル、ピペリジル、
モルホリニルなどが挙げられる。)などが挙げられる。
これらの基はさらに置換されていてもよい。nは1又は
2であり、より好ましくは2である。
R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom or a group that can be substituted with a nitrogen atom. Examples of the group that can be substituted with a nitrogen atom include a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, A fluorine atom, preferably a bromine atom; an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably having 1 to 1 carbon atoms).
8, for example, methyl, trifluoromethyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl,
Cyclopentyl, cyclohexyl and the like can be mentioned. ), An alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably having 2 carbon atoms.
-8, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3
-Pentenyl and the like. ), Alkynyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, for example, propargyl, 3-
Pentenyl and the like. ), An aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably having 6 to 20 carbon atoms,
Particularly preferably, it has 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyl, p-methylphenyl, and naphthyl. ), An amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 0 to 6 carbon atoms).
And examples thereof include amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like. ), An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 1 carbon atoms).
2, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl and the like. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 2 to 12 carbon atoms, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like.), Aryloxycarbonyl A group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 to 12 carbon atoms, for example, phenyloxycarbonyl and the like), an acylamino group (preferably having 2 to 2 carbon atoms). 20, more preferably 2 carbon atoms
-16, particularly preferably 2-10 carbon atoms, such as acetylamino and benzoylamino. ), An alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 2 to 12 carbon atoms, for example, methoxycarbonylamino and the like), an aryloxycarbonyl group (Preferably 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl, etc.), a sulfonylamino group (preferably 1 to carbon atoms). 2
It has 0, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include methanesulfonylamino and benzenesulfonylamino. ),
Sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 0 to 0 carbon atoms)
12, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl and the like. ),
Carbamoyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms)
And examples thereof include carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like. ), An alkylsulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methylsulfonyl,
Ethyl sulfonyl and the like. ), An arylsulfonyl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably having 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenylsulfonyl).
Sulfinyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms
And methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like. ), A ureido group (preferably having 1 carbon atom)
-20, more preferably 1-16, particularly preferably 1-12, for example, ureide, methylureide, phenylureide and the like. ), A silyl group (eg, trimethylsilyl group), a nitro group, a hydroxy group, a phosphate group, a heterocyclic group (eg, triazolyl, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl,
Morpholinyl and the like. ).
These groups may be further substituted. n is 1 or 2, and more preferably 2.

【0050】次に一般式(B)で表される化合物につい
て詳述する。
Next, the compound represented by formula (B) will be described in detail.

【0051】Hal3及びHal4で表されるハロゲン原
子は同じであっても異なっていてもよく、それぞれ独立
に塩素原子、臭素原子、沃素原子、フッ素原子を表す
が、好ましくは双方とも臭素原子である場合である。
The halogen atoms represented by Hal 3 and Hal 4 may be the same or different and each independently represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a fluorine atom. Is the case.

【0052】Z2は隣接する窒素原子とともに5〜7員
環の含窒素へテロ環を構築するのに必要な原子群を表す
が、形成される含窒素ヘテロ環としては好ましくは芳香
族含窒素ヘテロ環であり具体的には、ピロール、イミダ
ゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジ
ン、トリアゾール、トリアジン、テトラジン、ペンタジ
ン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタ
ラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シ
ンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリ
ン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベン
ズチアゾールなどが挙げられる。好ましくは、ピリジ
ン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、
キノリン、イソキノリン、ナフチリジン、キノキサリ
ン、キナゾリン、シンノリン、プテリジンであり、より
好ましくは、ピリジン、キノリン、イソキノリンであ
る。
Z 2 represents an atomic group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing hetero ring together with an adjacent nitrogen atom. The nitrogen-containing hetero ring to be formed is preferably an aromatic nitrogen-containing hetero ring. Heterocycle, specifically, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, triazole, triazine, tetrazine, pentazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline Quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole and the like. Preferably, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine,
They are quinoline, isoquinoline, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline and pteridine, more preferably pyridine, quinoline and isoquinoline.

【0053】次に一般式(C)で表される化合物につい
て詳述する。
Next, the compound represented by formula (C) will be described in detail.

【0054】Z3は隣接する窒素原子とともに5〜7員
環の含窒素ヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表す
が、形成される含窒素ヘテロ環としては好ましくは芳香
族含窒素ヘテロ環であり具体的には、ピロール、イミダ
ゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジ
ン、トリアゾール、トリアジン、テトラジン、ペンタジ
ン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタ
ラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シ
ンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリ
ン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベン
ズチアゾールなどが挙げられる。好ましくは、ピリジ
ン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、
キノリン、イソキノリン、ナフチリジン、キノキサリ
ン、キナゾリン、シンノリン、プテリジンであり、より
好ましくは、ピリジン、キノリン、イソキノリンであ
る。
Z 3 represents an atomic group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing hetero ring together with an adjacent nitrogen atom. The nitrogen-containing hetero ring formed is preferably an aromatic nitrogen-containing hetero ring. The ring is specifically, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyridazine, pyrimidine, triazole, triazine, tetrazine, pentadine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, Examples include quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, and benzothiazole. Preferably, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine,
They are quinoline, isoquinoline, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline and pteridine, more preferably pyridine, quinoline and isoquinoline.

【0055】これらの一般式(A)〜(C)で表される
化合物の代表的具体例を以下に示す。
Representative examples of the compounds represented by formulas (A) to (C) are shown below.

【0056】[0056]

【化23】 Embedded image

【0057】[0057]

【化24】 Embedded image

【0058】[0058]

【化25】 Embedded image

【0059】[0059]

【化26】 Embedded image

【0060】[0060]

【化27】 Embedded image

【0061】[0061]

【化28】 Embedded image

【0062】[0062]

【化29】 Embedded image

【0063】[0063]

【化30】 Embedded image

【0064】[0064]

【化31】 Embedded image

【0065】[0065]

【化32】 Embedded image

【0066】[0066]

【化33】 Embedded image

【0067】[0067]

【化34】 Embedded image

【0068】[0068]

【化35】 Embedded image

【0069】これらの化合物は有機銀塩の調製後ハロゲ
ン化銀を形成ないし別途調製する前或いは後のいかなる
時期に添加してもよいが好ましいのは有機銀塩調製後の
熱現像感光層の塗布液を調製する塗布前の間であり、特
にハロゲン化銀添加後に添加するのが好ましい。これら
のポリハロゲン化合物の添加量については銀1モルに対
して5×10-4〜0.5モル、好ましくは5×10-3
5×10-2モルの含有量で含有される。
These compounds may be added at any time after the preparation of the organic silver salt and before or after the formation of the silver halide or after the separate preparation, but preferably the coating of the photothermographic layer after the preparation of the organic silver salt is preferred. It is preferably before coating to prepare a liquid, and particularly preferably added after silver halide addition. The addition amount of these polyhalogen compounds is from 5 × 10 −4 to 0.5 mol, preferably from 5 × 10 −3 to 1 mol per mol of silver.
It is contained at a content of 5 × 10 -2 mol.

【0070】ついでこれらの化合物と併用する前記一般
式(1)〜(7)の化合物について詳述する。
Next, the compounds of the general formulas (1) to (7) used in combination with these compounds will be described in detail.

【0071】一般式(1)においてR1、R2、R3は同
じでも異なってもよくアルキル基、アラルキル基、アル
ケニル基、アリール基を表し、X-は対アニオンであ
り、分子内にスルホ基を含む場合にはXは存在しない。
上記アルキル基は直鎖状または分岐状のものであっても
よく更に適当な基(例えば、スルホ基、カルボキシ基
等)やハロゲン原子(例えば、塩素、臭素原子等)で置
換されていても良い。好ましくは、炭素数1〜15のも
のであり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n
−ヘキシル、スルホエチル、スルホプロピル、カルボキ
シメチル等。アラルキル基としては、直鎖状または分岐
状のものであってもよく更に適当な基(例えば、スルホ
基、カルボキシ基等)やハロゲン原子(例えば、塩素、
臭素原子等)で置換されていても良い。好ましくは、炭
素数7〜15のものであり、例えば、ベンジル、フェネ
チル、フェニルプロピル、2−カルボキシベンジル等。
アルケニル基としては、直鎖状または分岐状のものであ
ってもよく、好ましくは炭素数2〜8であり、例えば、
ビニル、アリル、ブテニル、オクテニル等であり、アリ
ール基としては、フェニル、ナフチル、p−トリル、p
−クロロフェニル、p−メトキシフェニル等である。X
は対アニオンを表し、好ましくはメトサルフェート、ハ
ロゲン(塩素、よう素)イオンである。
In the general formula (1), R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each represents an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group or an aryl group; X is a counter anion; X is absent if it contains a group.
The alkyl group may be linear or branched, and may be further substituted with a suitable group (eg, a sulfo group, a carboxy group, etc.) or a halogen atom (eg, a chlorine, bromine atom, etc.). . Preferably, it has 1 to 15 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, n
-Hexyl, sulfoethyl, sulfopropyl, carboxymethyl and the like. The aralkyl group may be linear or branched, and may further have a suitable group (eg, a sulfo group, a carboxy group, etc.) or a halogen atom (eg, chlorine,
A bromine atom or the like). Preferably, it has 7 to 15 carbon atoms, such as benzyl, phenethyl, phenylpropyl, 2-carboxybenzyl and the like.
The alkenyl group may be linear or branched, and preferably has 2 to 8 carbon atoms, for example,
Vinyl, allyl, butenyl, octenyl, etc., and the aryl group is phenyl, naphthyl, p-tolyl, p-tolyl,
-Chlorophenyl, p-methoxyphenyl and the like. X
Represents a counter anion, preferably a metsulfate or a halogen (chlorine, iodine) ion.

【0072】次にこれら一般式(1)で表される化合物
のうち代表的な例を挙げる。
Next, representative examples of the compounds represented by the general formula (1) will be given.

【0073】[0073]

【化36】 Embedded image

【0074】[0074]

【化37】 Embedded image

【0075】[0075]

【化38】 Embedded image

【0076】[0076]

【化39】 Embedded image

【0077】一般式(2)及び(3)で表される化合物
においてR1、R2、R3、R4は同じでも異なってもよく
アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基
を表し、A及びBは2価の連結基を表し、X-は対アニ
オンであり、R1、R2、R3、R4にスルホ基を含む場合
にはXは存在しない。上記アルキル基は直鎖状または分
岐状のものであってもよく更に適当な基(例えば、スル
ホ基、カルボキシ基等)やハロゲン原子(例えば、塩
素、臭素原子等)で置換されていても良い。好ましく
は、炭素数1〜15のものであり、例えば、メチル、エ
チル、n−プロピル、n−ヘキシル、スルホエチル、ス
ルホプロピル、カルボキシメチル等。アラルキル基とし
ては、直鎖状または分岐状のものであってもよく更に適
当な基(例えば、スルホ基、カルボキシ基等)やハロゲ
ン原子(例えば、塩素、臭素原子等)で置換されていて
も良い。好ましくは、炭素数7〜15のものであり、例
えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、2−
カルボキシベンジル等。
In the compounds represented by the general formulas (2) and (3), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different and represent an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group or an aryl group. A and B represent a divalent linking group, X is a counter anion, and X is not present when R 1 , R 2 , R 3 and R 4 contain a sulfo group. The alkyl group may be linear or branched, and may be further substituted with a suitable group (eg, a sulfo group, a carboxy group, etc.) or a halogen atom (eg, a chlorine, bromine atom, etc.). . Preferably, it has 1 to 15 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, n-hexyl, sulfoethyl, sulfopropyl, carboxymethyl and the like. The aralkyl group may be linear or branched and may be further substituted with an appropriate group (eg, a sulfo group, a carboxy group, etc.) or a halogen atom (eg, a chlorine, bromine atom, etc.). good. Preferably, it has 7 to 15 carbon atoms, for example, benzyl, phenethyl, phenylpropyl, 2-phenyl
Carboxybenzyl and the like.

【0078】アルケニル基としては、直鎖状または分岐
状のものであってもよく、好ましくは炭素数2〜8であ
り、例えば、ビニル、アリル、ブテニル、オクテニル等
であり、アリール基としては、フェニル、ナフチル、p
−トリル、p−クロロフェニル、p−メトキシフェニル
等である。A及びBはアルキレン(炭素数10以下が好
ましい)、アリーレン基(炭素数12以下が好まし
い)、アラルキレン基(炭素数20以下が好ましい)、
アルキレン基中の炭素原子及び水素原子の一部が、酸素
原子、硫黄原子、及び窒素原子で置換された2価基等で
ある。
The alkenyl group may be linear or branched and preferably has 2 to 8 carbon atoms, for example, vinyl, allyl, butenyl, octenyl and the like. Phenyl, naphthyl, p
-Tolyl, p-chlorophenyl, p-methoxyphenyl and the like. A and B are an alkylene (preferably having 10 or less carbon atoms), an arylene group (preferably having 12 or less carbon atoms), an aralkylene group (preferably having 20 or less carbon atoms),
Examples of the alkylene group include a divalent group in which a part of carbon atoms and hydrogen atoms is substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.

【0079】A及びBの具体例としては、−(CH23
−、−(CH24−、−(CH26−、−CH2CH2
CH2CH2−、−CH2CH2SCH2CH2−、−CH2
CH2SCH2CH2SCH2CH2−、−(p−C64
−、−(m−C64)−、−CH2COCH2−、−CH
2OCH2CH2OCH2−、−CH2(p−C64)CH2
−、−CH2NHCO(CH24CONHCH2−、等を
挙げることができる。Xは対アニオンを表し、好ましく
はメトサルフェート、ハロゲン(塩素、よう素)イオン
である。
As specific examples of A and B,-(CH 2 ) 3
-, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 6 -, - CH 2 CH 2 O
CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 -, - CH 2
CH 2 SCH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 -, - (p-C 6 H 4)
-, - (m-C 6 H 4) -, - CH 2 COCH 2 -, - CH
2 OCH 2 CH 2 OCH 2 - , - CH 2 (p-C 6 H 4) CH 2
—, —CH 2 NHCO (CH 2 ) 4 CONHCH 2 —, and the like. X represents a counter anion, preferably a metsulfate or a halogen (chlorine, iodine) ion.

【0080】次に一般式(2)及び(3)で表される化
合物のうち代表的な例を挙げる。
Next, representative examples of the compounds represented by formulas (2) and (3) will be given.

【0081】[0081]

【化40】 Embedded image

【0082】[0082]

【化41】 Embedded image

【0083】[0083]

【化42】 Embedded image

【0084】[0084]

【化43】 Embedded image

【0085】一般式(4)で表される化合物において式
中、R1、R2は互いに同じであっても異なってもよい水
素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アル
ケニル基、複素芳香環基を表わす。それらの基は置換さ
れていてもよい。Xは一般式(4)で表わされる化合物
が求核試薬と反応した時、脱離し得る基である。更に詳
細に説明すると、R1、R2は水素原子あるいは好ましく
は直鎖でも分岐してもよい炭素数1〜20のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル
基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基など)、炭素数
3〜20のシクロアルキル基(例えば、シクロプロパ
ン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサンな
ど)、炭素数6〜20のアリール基(例えばフェニル
基、ナフチル基など)、炭素数7〜20のアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基など)、炭素数2〜
20のアルケニル基(例えばビニル基、プロペニル基な
ど)、炭素数5〜20の複素芳香環基(例えばピリジル
基、キノリル基など)である。R1、R2は置換基を有し
ても良く、その例としては、ハロゲン原子(例えば、B
r、Cl、Fなど)、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、
カルバモイル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数
1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール
基、炭素数6〜20のアリールオキシ基などがあげられ
る。本発明においては、無置換のものが好ましい。Xは
一般式(4)で表わされる化合物が求核試薬と反応した
時に脱離し得る基で、例としてはハロゲン原子(例えば
塩素、臭素、ヨウ素、フッ素)、フタルイミジルオキシ
基、サクシンイミジルオキシ基、グルタルイミジルオキ
シ基、アゾリルオキシ基(例えば、1−ベンゾトリアゾ
リルオキシ基など)、アンモニオ基(例えば1−ピリジ
ニオ基、1−キノリニオ基など)、炭素数1〜20のア
ルキルスルホニルオキシ基(例えばメチルスルホニルオ
キシ基など)、炭素数6〜20のアリールスルホニルオ
キシ基(例えばベンゼンスルホニルオキシ基、p−トル
エンスルホニルオキシ基など)などがあげられる。また
Xは置換されていても良く、好ましい置換基としてハロ
ゲン原子、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、炭素
数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール
オキシ基があげられる。Xとして好ましくはハロゲン原
子が挙げられる。以下に一般式(4)で表される化合物
の例をあげる。
In the compound represented by the general formula (4), R 1 and R 2 may be the same or different from each other and may be a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, a heteroaromatic group. Represents a ring group. Those groups may be substituted. X is a group that can be eliminated when the compound represented by the general formula (4) reacts with a nucleophile. More specifically, R 1 and R 2 are each a hydrogen atom or, preferably, a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a butyl group, a 2-ethylhexyl group). Group, a dodecyl group, etc.), a C3-C20 cycloalkyl group (e.g., cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, etc.), a C6-C20 aryl group (e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.), carbon An aralkyl group of the number 7 to 20 (for example, benzyl group, phenethyl group, etc.),
20 alkenyl groups (for example, a vinyl group and a propenyl group); and a heteroaromatic group having 5 to 20 carbon atoms (for example, a pyridyl group and a quinolyl group). R 1 and R 2 may have a substituent, for example, a halogen atom (for example, B
r, Cl, F, etc.), a nitro group, a cyano group, a sulfo group,
Examples include a carbamoyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms. In the present invention, unsubstituted ones are preferred. X is a group capable of leaving when the compound represented by the general formula (4) is reacted with a nucleophile, and examples thereof include a halogen atom (eg, chlorine, bromine, iodine, fluorine), a phthalimidyloxy group, and a succinimidyl. Oxy group, glutarimidyloxy group, azolyloxy group (eg, 1-benzotriazolyloxy group, etc.), ammonium group (eg, 1-pyridinio group, 1-quinolinio group, etc.), alkylsulfonyloxy having 1 to 20 carbon atoms Groups (e.g., methylsulfonyloxy group) and arylsulfonyloxy groups having 6 to 20 carbon atoms (e.g., benzenesulfonyloxy group, p-toluenesulfonyloxy group, etc.). X may be substituted, and preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, a sulfo group, a carbamoyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms. X is preferably a halogen atom. Examples of the compound represented by the general formula (4) are shown below.

【0086】[0086]

【化44】 Embedded image

【0087】[0087]

【化45】 Embedded image

【0088】[0088]

【化46】 Embedded image

【0089】[0089]

【化47】 Embedded image

【0090】一般式(5)において式中、R1はアルキ
ル、アラルキル、アリールまたはアルケニルを表す。R
2はR3と一緒に結合して、別の窒素原子を1個または2
個含有しうる5員または6員環を形成する。R2−R3
構造の他に、R1がR2と一緒になって環構造を形成する
ことができる。R4は水素またはアルキルであることが
できる。R5は水素、アルキル、アリール、アラルキ
ル、アルケニル、アルコキシ、アリールオキシ、カルボ
キシ、ハロゲン、ニトロまたはスルホであることができ
る。R5はキノリンにあるような縮合環構造であること
ができる。好ましくは、R1は炭素原子数1〜20のア
ルキル(例、メチル、エチル、ブチル、2−エチルヘキ
シルまたはドデシル)、炭素原子数7〜20のアラルキ
ル(例、ベンジル、フェネチル)、炭素原子数6〜20
のアリール(例、フェニル、ナフチル)または炭素原子
数2〜20のアルケニル(例、ビニル、プロペニル)で
あることができる。R1とR2とが互いに結合して原子数
5〜8の複素環式環を形成できることも好ましい。R1
−R2環はR1及びR2が結合している窒素原子を含有
し、そしてさらに別の窒素原子を1個含有することも可
能である。R2とR3とが結合して5員または6員環のい
ずれかを形成する、R2−R3環はR2が結合している窒
素原子を含有し、そしてさらに別の窒素原子を1個また
は2個含有することも可能である。R2−R3環の例とし
て、ピリジン、イミダゾール、ピラゾール及びトリアゾ
ールが挙げられる。好ましくは、R4は水素または炭素
原子数1〜4個のアルキル(例、メチル、エチルまたは
イソプロピル)であることができる。R5は水素または
ピリジン環の3〜6位のいずれかの位置における1個以
上の置換基であることができる。このような置換基の例
として、炭素原子数1〜20のアルキル(例えば、メチ
ル、エチル、ブチル、2−エチルヘキシルまたはドデシ
ル)、炭素原子数6〜20のアリール(例えば、フェニ
ル、ナフチル)、炭素原子数7〜20のアラルキル(例
えば、ベンジル、フェネチル)、炭素原子数2〜20の
アルケニル(例えば、ビニル、プロペニル)、アルコキ
シ(例えば、メトキシまたはエトキシ)、アリールオキ
シ(例えば、フェノキシ)、カルボキシ、ハロゲン(例
えば、フルオロ、クロロまたはブロモ)、ニトロまたは
スルホが挙げられる。X-は対アニオン又は分子内塩
(双性イオン)を形成する一般式(5)のまたはアニオ
ン性部分を表す。塩を形成し、且つ硬膜処理を妨害しな
いものであればいずれのアニオンでも使用できる。好ま
しいアニオンには、スルホネートイオン、例えばメチル
スルホネート、p−トルエンスルホネート、トリフルオ
ロメチルスルホネートまたは1,3−プロピレンジスル
ホネート、テトラフルオロボレート、ペンタフルオロホ
スフェート及び過塩素酸塩が含まれる。又X-は上記一
般式(5)で表される化合物のR1のアニオン性部分で
あることができる。分子内塩を形成する好ましいアニオ
ン性置換基には、アルキルスルホネート、例えばスルフ
ァトエチル、スルファトプロピル及びスルファトブチル
が含まれる。
In the general formula (5), R 1 represents alkyl, aralkyl, aryl or alkenyl. R
2 is bonded together with R 3 to form another nitrogen atom or 2
It forms a five- or six-membered ring that can be individually contained. Other R 2 -R 3 ring structures, can R 1 form a ring structure together with R 2. R 4 can be hydrogen or alkyl. R 5 can be hydrogen, alkyl, aryl, aralkyl, alkenyl, alkoxy, aryloxy, carboxy, halogen, be a nitro or sulfo. R 5 can be a fused ring structure as in quinoline. Preferably, R 1 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, butyl, 2-ethylhexyl or dodecyl), aralkyl having 7 to 20 carbon atoms (eg, benzyl, phenethyl), 6 carbon atoms. ~ 20
(Eg, phenyl, naphthyl) or alkenyl having 2 to 20 carbon atoms (eg, vinyl, propenyl). It is also preferred that R 1 and R 2 can combine with each other to form a heterocyclic ring having 5 to 8 atoms. R 1
-R 2 ring contains a nitrogen atom to which R 1 and R 2 are attached, and can be further containing one additional nitrogen atom. R 2 and R 3 combine to form either a 5- or 6-membered ring, wherein the R 2 -R 3 ring contains the nitrogen atom to which R 2 is attached, and It is also possible to contain one or two. Examples of R 2 -R 3 rings, pyridine, imidazole, pyrazole and triazole. Preferably, R 4 can be hydrogen or alkyl having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl, ethyl or isopropyl). R 5 may be one or more substituents in any position of the 3-6-position hydrogen or a pyridine ring. Examples of such substituents include alkyl having 1 to 20 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, butyl, 2-ethylhexyl or dodecyl), aryl having 6 to 20 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl), carbon C 7-20 aralkyl (eg, benzyl, phenethyl), C 2-20 alkenyl (eg, vinyl, propenyl), alkoxy (eg, methoxy or ethoxy), aryloxy (eg, phenoxy), carboxy, Halogen (eg, fluoro, chloro or bromo), nitro or sulfo. X represents a counter anion or an anionic moiety of the general formula (5) which forms an inner salt (zwitterion). Any anion can be used as long as it forms a salt and does not interfere with the hardening treatment. Preferred anions include sulfonate ions such as methylsulfonate, p-toluenesulfonate, trifluoromethylsulfonate or 1,3-propylenedisulfonate, tetrafluoroborate, pentafluorophosphate and perchlorate. X can be the anionic portion of R 1 of the compound represented by the general formula (5). Preferred anionic substituents that form internal salts include alkyl sulfonates such as sulfatoethyl, sulfatopropyl and sulfatobutyl.

【0091】前記のアルキル、アラルキル、アリール、
アルケニル及び環系の他に、置換されたアルキル、アラ
ルキル、アリール、アルケニル及び環系もまた有用であ
る。有用な置換基には、ハロゲン、炭素原子数1〜20
のアルコキシ、炭素原子数6〜20のアリールオキシ、
カルボキシ、スルホ、N,N−二置換カルバモイル、
N,N−二置換スルファモイル、及び該化合物の本発明
による化合物の作用を妨害しない当該技術分野に周知の
他の基、が含まれる。一般式(5)で表される化合物の
例を以下に示す。
The aforementioned alkyl, aralkyl, aryl,
In addition to alkenyl and ring systems, substituted alkyl, aralkyl, aryl, alkenyl and ring systems are also useful. Useful substituents include halogens, 1-20 carbon atoms.
Alkoxy, aryloxy having 6 to 20 carbon atoms,
Carboxy, sulfo, N, N-disubstituted carbamoyl,
Included are N, N-disubstituted sulfamoyls and other groups well known in the art that do not interfere with the action of the compound of the present invention. Examples of the compound represented by the general formula (5) are shown below.

【0092】[0092]

【化48】 Embedded image

【0093】[0093]

【化49】 Embedded image

【0094】一般式(6)における式中、Rは、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基から選ばれる置換
基を表し、Lは置換基を有してもよい2価の連結基を表
し、例としては、アルキレン基、アラルキレン基を表す
が、これだけに限定されない。特開昭53−11385
6号には、Rがメチル基になった化合物が記載されてい
るが、メチル基では立体障害が小さく、好ましい効果を
実現するためには立体障害のより大きなエチル基以上の
置換基が必要とされる。また、置換基がプロピル基より
大きくなれば、溶解性が悪くなって実用的でない。代表
的化合物を以下に例示する。
In the general formula (6), R represents a substituent selected from an ethyl group, an n-propyl group and an isopropyl group, and L represents a divalent linking group which may have a substituent. Examples include, but are not limited to, an alkylene group and an aralkylene group. JP-A-53-11385
No. 6 describes a compound in which R is a methyl group. However, a steric hindrance is small in a methyl group, and in order to realize a preferable effect, a substituent having a greater steric hindrance than an ethyl group is required. Is done. On the other hand, if the substituent is larger than the propyl group, the solubility becomes poor and it is not practical. Representative compounds are exemplified below.

【0095】[0095]

【化50】 Embedded image

【0096】[0096]

【化51】 Embedded image

【0097】[0097]

【化52】 Embedded image

【0098】一般式(7)において式中、Rは未置換ア
ルキル基であり、これらの化合物の水溶解性から炭素原
子数6以下が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等を表す
が、本発明はこれだけに限定されない。Lは置換基を有
してもよい2価の連結基を表し、例としては、アルキレ
ン基、アラルキレン基を表すが、これだけに限定されな
い。代表的化合物を以下に例示する。
In the general formula (7), R is an unsubstituted alkyl group, and preferably has 6 or less carbon atoms in view of the water solubility of these compounds. For example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, Butyl group, isobutyl group,
It represents a pentyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group or the like, but the present invention is not limited thereto. L represents a divalent linking group which may have a substituent, and examples thereof include an alkylene group and an aralkylene group, but are not limited thereto. Representative compounds are exemplified below.

【0099】[0099]

【化53】 Embedded image

【0100】[0100]

【化54】 Embedded image

【0101】[0101]

【化55】 Embedded image

【0102】次に、本発明において用いることができる
アジリジン基を有する化合物について説明する。本発明
には、アジリジン基を有する化合物であれば任意に使用
できるが、本発明の実施においては、下記具体的化合物
を好ましく用いることができる。
Next, compounds having an aziridine group which can be used in the present invention will be described. In the present invention, any compound having an aziridine group can be used arbitrarily. In the practice of the present invention, the following specific compounds can be preferably used.

【0103】[0103]

【化56】 Embedded image

【0104】次に本発明に用いる事が出来るエポキシ化
合物について述べる。エポキシ型化合物としてはヒドロ
キシ基又はエーテル縮合を含有するものが好ましい。以
下にその具体的化合物例を挙げる。
Next, the epoxy compounds that can be used in the present invention will be described. As the epoxy-type compound, those containing a hydroxy group or an ether condensation are preferred. Specific examples of the compounds are shown below.

【0105】[0105]

【化57】 Embedded image

【0106】[0106]

【化58】 Embedded image

【0107】[0107]

【化59】 Embedded image

【0108】[0108]

【化60】 Embedded image

【0109】[0109]

【化61】 Embedded image

【0110】[0110]

【化62】 Embedded image

【0111】[0111]

【化63】 Embedded image

【0112】上記化合物は、ほとんど市販されており、
容易に入手することができる。上記エポキシ基を有する
化合物の添加方法は、該化合物をアルコール、アセト
ン、トルエンなどの有機溶媒や水に溶かしてそのまま添
加してもよいし、ドデシルベンゼンスルホン酸塩や、ノ
ニルフェノキシアルキレンオキシドのような界面活性剤
を用いて分散してから添加してもよい。
The above compounds are almost commercially available,
It can be easily obtained. The method for adding the compound having an epoxy group may be such that the compound is dissolved in an organic solvent such as alcohol, acetone, and toluene or water and added as it is, or a salt of dodecylbenzene sulfonate or nonylphenoxyalkylene oxide. You may add after dispersing using a surfactant.

【0113】本発明に用いる事が出来る好ましいカルボ
ジイミド化合物は以下の一般式にて表されるものであ
る。
Preferred carbodiimide compounds that can be used in the present invention are those represented by the following general formula.

【0114】[0114]

【化64】 Embedded image

【0115】ここにおいて、Aは脂肪族基、例えば、メ
チル基、エチル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イ
ソブチル基、t−ブチル基、アリル基、クロチル基、β
−ヒドロキシエチル基、メトキシメチル−β−ブロモア
リル基、のような有機基、芳香族基、例えばフェニル
基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、クロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基の様な基、
脂環式基、例えば、シクロヘキシル基、ボルニル基、メ
ンチル基の様な基、そしてヘテロ環基、例えば、ピリジ
ル基、キノリル基のような基を表す。R1、R2は低級ア
ルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基のような基を表し、Bそして
1(これらは同じものでも異なっていてもよいが)は
アルキレン、アリレン、或いはアラルキレン基、例え
ば、プロピレン基、フェニレン基、トリレン基、プロピ
ルフェニレン基等の基を表す。
Here, A is an aliphatic group such as methyl, ethyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, allyl, crotyl, β
Organic groups such as -hydroxyethyl group, methoxymethyl-β-bromoallyl group, and aromatic groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group and iodophenyl group. ,
An alicyclic group represents a group such as a cyclohexyl group, a bornyl group or a menthyl group, and a group such as a heterocyclic group such as a pyridyl group or a quinolyl group. R 1 and R 2 are lower alkyl groups, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
B and B 1 (which may be the same or different) represent alkylene, arylene, or aralkylene groups such as propylene, phenylene, tolylene, propyl Represents a group such as a phenylene group.

【0116】これらのジ置換カルボジイミド類は、少な
くと1つの三級アミノ基を有するN,N′−ジ置換対称
或いは非対称のチオウレアをBerichte Vo
l.71,1512〜21頁、同Vol.73,467
〜477頁、1114〜1123頁、同Vol.75,
100〜5頁、Annalen,vol.560,22
2〜231頁、Journal of Organic
Chemistry,vol,1024〜6頁等に記
載された様に、鉛或いは水銀の様な重金属の酸化物のご
とき脱硫黄化剤にて処理することで得られる。以下に代
表的な化合物についてあげる。
These disubstituted carbodiimides can be used to convert N, N'-disubstituted symmetric or asymmetric thioureas having at least one tertiary amino group to Berichte Vo.
l. 71, pp. 1512-21, Vol. 73,467
Pp. 477, 1114 to 1123, Vol. 75,
Pp. 100-5, Annalen, vol. 560,22
2-231 pages, Journal of Organic
As described in Chemistry, vol., Pp. 1024-6, it can be obtained by treating with a desulfurizing agent such as an oxide of a heavy metal such as lead or mercury. The following are representative compounds.

【0117】CZ−1:N−イソプロピル−N′−(4
−ジメチルアミノフェニル)カルボジイミド CZ−2:N−フェニル−N′−(4−ジメチルアミノ
フェニル)カルボジイミド CZ−3:N,N′−ジ(4−ジメチルアミノフェニ
ル)カルボジイミド CZ−4:N,N′−ジ(4−ジプロピルアミノトリ
ル)カルボジイミド CZ−5:N−ボルニル−N′−(4−ジメチルアミノ
フェニル)カルボジイミド CZ−6:N−メンチル−N′−(4−ジメチルアミノ
フェニル)カルボジイミド CZ−7:N−(β−ブロモアリル)−N′−(γ−ジ
メチルアミノフェニル)カルボジイミド CZ−8:N−(t−ブチル)−N′−(γ−ジメチル
アミノフェニル)カルボジイミド CZ−9:N−シクロヘキシル−N′−(4−ジメチル
アミノフェニル)カルボジイミド CZ−10:N−イソプロピル−N′−(γ−ジメチル
アミノプロピル)カルボジイミド CZ−11:N−メトキシメチル−N−(γ−ジメチル
アミノプロピル)カルボジイミド CZ−12:N,N′−ジ(γ−ピリジル)カルボジイ
ミド これらの三級アミンをもったN,N′−ジ置換カルボジ
イミド類はこれらを直接、或いは酢酸エチル、クロロフ
ォルム、ベンゼン、或いはトルエンやこれらの混合溶媒
の存在下において、適当な4級化剤、例えば、臭化メチ
ル、臭化エチル、沃化メチル、沃化エチル、ジメチル硫
酸、ジエチル硫酸、p−トルエンスルフォン酸メチル、
p−トルエンスルフォン酸エチル等と反応させることに
より4級アンモニウム塩にする事もでき、これにより溶
解性をコントロールすることが出来る。4級塩の形で添
加してもよい。
CZ-1: N-isopropyl-N '-(4
-Dimethylaminophenyl) carbodiimide CZ-2: N-phenyl-N '-(4-dimethylaminophenyl) carbodiimide CZ-3: N, N'-di (4-dimethylaminophenyl) carbodiimide CZ-4: N, N '-Di (4-dipropylaminotolyl) carbodiimide CZ-5: N-bornyl-N'-(4-dimethylaminophenyl) carbodiimide CZ-6: N-menthyl-N '-(4-dimethylaminophenyl) carbodiimide CZ-7: N- (β-bromoallyl) -N ′-(γ-dimethylaminophenyl) carbodiimide CZ-8: N- (t-butyl) -N ′-(γ-dimethylaminophenyl) carbodiimide CZ-9: N-cyclohexyl-N '-(4-dimethylaminophenyl) carbodiimide CZ-10: N-isoprop Pill-N '-(γ-dimethylaminopropyl) carbodiimide CZ-11: N-methoxymethyl-N- (γ-dimethylaminopropyl) carbodiimide CZ-12: N, N'-di (γ-pyridyl) carbodiimide N, N'-disubstituted carbodiimides having a tertiary amine can be used directly or in the presence of ethyl acetate, chloroform, benzene, toluene or a mixed solvent thereof with a suitable quaternizing agent such as odorant. Methyl iodide, ethyl bromide, methyl iodide, ethyl iodide, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, methyl p-toluenesulfonate,
By reacting with ethyl p-toluenesulfonate or the like, it can be converted to a quaternary ammonium salt, whereby the solubility can be controlled. It may be added in the form of a quaternary salt.

【0118】以下に4級化したN,N′−ジ置換カルボ
ジイミドをあげる。
The following are quaternized N, N'-disubstituted carbodiimides.

【0119】N−イソプロピル−N′−(4−ジメチル
アミノフェニル)カルボジイミド エチル p−トルエ
ンスルフォネート N−フェニル−N′−(4−ジメチルアミノフェニル)
カルボジイミド エチルp−トルエンスルフォネート N,N′−ジ(4−ジメチルアミノフェニル)カルボジ
イミド モノエトブロミド N,N′−ジ(4−ジプロピルアミノトリル)カルボジ
イミド エチル p−トルエンスルフォネート N−ボルニル−N′−(4−ジメチルアミノフェニル)
カルボジイミド メトサルフェート N−メンチル−N′−(4−ジメチルアミノフェニル)
カルボジイミド エトサルフェート N−(β−ブロモアリル)−N′−(γ−ジメチルアミ
ノフェニル)カルボジイミドエトサルフェート N−(t−ブチル)−N′−(γ−ジメチルアミノフェ
ニル)カルボジイミドエチル p−トルエンスルフォネ
ート N−シクロヘキシル−N′−(4−ジメチルアミノフェ
ニル)カルボジイミドエチル p−トルエンスルフォネ
ート N−イソプロピル−N′−(γ−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド エトブロミド N−メトキシメチル−N−(γ−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド エチル p−トルエンスルフォネ
ート N,N′−ジ(γ−ピリジル)カルボジイミド モノメ
トサルフェート 本発明に係る一般式(1)〜(7)で表される化合物、
アジリジン化合物、エポキシ化合物、カルボジイミド化
合物は、銀1モルに対して0.002モル以上の量で用
いられる。通常は銀1モルに対して0.002〜2モル
の上記化合物、好ましくは銀1モルに対して0.003
〜0.3モルの上記化合物の範囲で用いられる。
N-isopropyl-N '-(4-dimethylaminophenyl) carbodiimide ethyl p-toluenesulfonate N-phenyl-N'-(4-dimethylaminophenyl)
Carbodiimide ethyl p-toluenesulfonate N, N'-di (4-dimethylaminophenyl) carbodiimide monoethobromide N, N'-di (4-dipropylaminotolyl) carbodiimide ethyl p-toluenesulfonate N-bornyl -N '-(4-dimethylaminophenyl)
Carbodiimide methosulfate N-menthyl-N '-(4-dimethylaminophenyl)
Carbodiimide ethosulfate N- (β-bromoallyl) -N ′-(γ-dimethylaminophenyl) carbodiimide ethosulfate N- (t-butyl) -N ′-(γ-dimethylaminophenyl) carbodiimideethyl p-toluenesulfonate N-cyclohexyl-N '-(4-dimethylaminophenyl) carbodiimideethyl p-toluenesulfonate N-isopropyl-N'-([gamma] -dimethylaminopropyl) carbodiimide ethobromide N-methoxymethyl-N-([gamma] -dimethylamino Propyl) carbodiimide ethyl p-toluenesulfonate N, N′-di (γ-pyridyl) carbodiimide monomethosulfate Compounds represented by the general formulas (1) to (7) according to the present invention,
The aziridine compound, epoxy compound and carbodiimide compound are used in an amount of 0.002 mol or more per 1 mol of silver. Usually, 0.002 to 2 mol of the above compound per mol of silver, preferably 0.003 to 1 mol of silver.
It is used in the range of 0.30.3 mol of the above compound.

【0120】次に前記一般式(D)で示される化合物に
ついて詳細に説明する。式中、R1は水素原子、−O
2、へテロ原子を少なくとも1つ含有する基で少なく
とも1つ置換されたアルキル基、又はアルコキシ基、ア
リールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル
アミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオ
キシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルオキシ
基、アリールオキシカルボニルオキシ基、スルホニルア
ミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アミノ基、スルホニル基、ス
ルフィニル基、スルホニルオキシ基、ウレイド基、シリ
ル基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スル
ホ基、カルボキシル基、リン酸エステル基、へテロ環
基、ハロゲノアルキル基から選ばれる少なくとも1つの
基で置換されたアリール基、又はへテロ環基を表すが、
1が−OM2の場合、M1及びM2で表されるカチオンの
具体例は、例えばアルカリ金属イオン(リチウムイオ
ン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオ
ンなど)、アルカリ土類金属イオン(マグネシウムイオ
ン、カルシウムイオンなど)、アンモニウム(アンモニ
ウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウ
ム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニ
ウム、テトラブチルアンモニウム、1,2−エタンジア
ンモニウムなど)ピリジニウム、イミダゾリウム、ホス
ホニウム(テトラブチルホスホニウムなど)などが挙げ
られる。M1及びM2として好ましくは水素原子、アルカ
リ金属イオンであり、より好ましくは水素原子である。
Next, the compound represented by formula (D) will be described in detail. In the formula, R 1 is a hydrogen atom, -O
M 2 , an alkyl group substituted with at least one group containing at least one hetero atom, or an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl, acyloxy, acylamino, alkoxycarbonylamino, aryloxycarbonylamino, alkoxycarbonyloxy, aryloxycarbonyloxy, sulfonylamino, sulfamoyl, carbamoyl, alkylthio, arylthio, amino Group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfonyloxy group, ureido group, silyl group, mercapto group, hydroxy group, nitroso group, sulfo group, carboxyl group, phosphate group, heterocyclic group, at least selected from halogenoalkyl group Represents an aryl group substituted with one group, or a heterocyclic group,
When R 1 is —OM 2 , specific examples of the cation represented by M 1 and M 2 include, for example, alkali metal ions (such as lithium ion, sodium ion, potassium ion, and cesium ion), and alkaline earth metal ions (magnesium ion). Ions, calcium ions, etc.), ammonium (ammonium, trimethylammonium, triethylammonium, tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrabutylammonium, 1,2-ethanediammonium, etc.) pyridinium, imidazolium, phosphonium (tetrabutylphosphonium, etc.) Is mentioned. M 1 and M 2 are preferably a hydrogen atom and an alkali metal ion, and more preferably a hydrogen atom.

【0121】またR1がへテロ原子を少なくとも1つ含
有する基で置換されたアルキル基である場合、へテロ原
子を少なくとも1つ含有する基の具体例としては、アミ
ノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素
数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例え
ばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素
数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例え
ばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる)、
アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好
ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜1
2であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシ
などが挙げられる)、アシル基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは
炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、
ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる)、アルコキシ
カルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好まし
くは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12で
あり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
などが挙げられる)、アリールオキシカルボニル基(好
ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜1
6、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェ
ニルオキシカルボニルなどが挙げられる)、アシルオキ
シ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素
数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例
えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられ
る)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2
〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミ
ノなどが挙げられる)、アルコキシカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2
〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えば
メトキニカルボニルアミノなどが挙げられる)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜2
0、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭
素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニル
アミノなどが挙げられる)、スルホニルアミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜1
6、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタ
ンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが
挙げられる)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0
〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましく
は炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチ
ルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニル
スルファモイルなどが挙げられる)、カルバモイル基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば
カルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモ
イル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる)、アル
キルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましく
は炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であ
り、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられ
る)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、よ
り好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6
〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられ
る)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より
好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜
12であり、例えばメシル、トシルなどが拳げられ
る)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1
〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンス
ルフィニルなどが挙げられる)、ウレイド基(好ましく
は炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特
に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、
メチルウレイド、フェニル、ウレイドなどが挙げられ
る)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1
〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニル
リン酸アミドなどが挙げられる)、ヒドロキシ基、メル
カプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カ
ルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィ
ノ基、ヒドラジノ基、へテロ環基(例えばイミダゾリ
ル、ピリジル、フリル、ピペリジル、モルホリニルなど
が挙げられる)などが挙げられる。
When R 1 is an alkyl group substituted with a group containing at least one hetero atom, a specific example of the group containing at least one hetero atom is an amino group (preferably having 0 to 20, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms, for example, amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, etc.), an alkoxy group (preferably carbon 1 to 20, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.),
Aryloxy group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably having 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 6 to 1 carbon atoms)
2, for example, phenyloxy, 2-naphthyloxy, etc.), and an acyl group (preferably having 1 to 1 carbon atom).
20, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, acetyl, benzoyl,
Formyl, pivaloyl and the like), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl) ), An aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 1 carbon atoms)
6, particularly preferably 7 to 10 carbon atoms, for example, phenyloxycarbonyl and the like), acyloxy group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 2 carbon atoms) 10, for example, acetoxy, benzoyloxy and the like), an acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 2 carbon atoms).
-10, for example, acetylamino, benzoylamino and the like), an alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 carbon atoms)
To 16, particularly preferably having 2 to 12 carbon atoms, such as, for example, metoquinicarbonylamino), an aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 2 carbon atoms).
0, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, for example, phenyloxycarbonylamino and the like, a sulfonylamino group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably carbon number) 1 to 1
6, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), sulfamoyl group (preferably 0 carbon atoms)
-20, more preferably 0-16 carbon atoms, particularly preferably 0-12 carbon atoms, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), carbamoyl group (preferably Represents 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom
To 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), alkylthio group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms). Particularly preferably has 1 to 12 carbon atoms, for example, methylthio, ethylthio, etc.), and arylthio group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 carbon atoms)
To 12, for example, phenylthio and the like), a sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 1 carbon atoms).
12, for example, mesyl, tosyl, etc.), a sulfinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 1 carbon atom).
To 12, for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like), a ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, ureido ,
Methylureide, phenyl, ureide, etc.), a phosphoric amide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 carbon atom)
To 12, for example, diethylphosphoramide, phenylphosphoramide, etc.), a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a cyano group, a sulfo group, Examples include a carboxyl group, a nitro group, a hydroxamic acid group, a sulfino group, a hydrazino group, and a heterocyclic group (for example, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholinyl, and the like).

【0122】R1がへテロ原子を少なくとも1つ含有す
る基で置換されたアルキル基である場合、そのアルキル
基は好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数
1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えば
メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチ
ル、n−オクチル、n−デシル、n−へキサデシル、シ
クロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが
挙げられる。
When R 1 is an alkyl group substituted with a group containing at least one hetero atom, the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably has 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 12 carbon atoms. It has 1 to 8 carbon atoms and includes, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like.

【0123】R1がアルコキシ基、アリールオキシ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキ
シカルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、ス
ルホニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メルカプト
基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、カルボキシ
ル基、リン酸エステル基、へテロ環基、ハロゲノアルキ
ル基から選ばれる少なくとも1つの基で置換されたアリ
ール基である場合、置換基の具体例としては、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素
数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例え
ばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる)、
アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好
ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜1
2であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシ
などが挙げられる)、アシル基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは
炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、
ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる)、アルコキシ
カルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好まし
くは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12で
あり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
などが挙げられる)、アリールオキシカルボニル基(好
ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜1
6、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェ
ニルオキシカルボニルなどが挙げられる)、アシルオキ
シ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素
数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例
えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられ
る)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2
〜10てあり、例えばアセチルアミノ、べンゾイルアミ
ノなどが挙げられる)、アルコキシカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは、炭素数
2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例え
ばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる)、アリ
ールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜
20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは
炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニ
ルアミノなどが挙げられる)、アルコキシカルボニルオ
キシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭
素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、
例えばエトキシカルボニルオキシなどが挙げられる)、
アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数
7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好まし
くは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカル
ボニルオキシなどが挙げられる)、スルホニルアミノ基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば
メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノな
どが挙げられる)、スルファモイル基(好ましくは炭素
数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ま
しくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、
メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェ
ニルスルファモイルなどが挙げられる)、カルバモイル
基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数
1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例え
ばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバ
モイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる)、ア
ルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好まし
くは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12で
あり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられ
る)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、よ
り好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6
〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられ
る)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ま
しくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6で
あり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられ
る)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より
好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜
12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられ
る)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1
〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンス
ルフィニルなどが挙げられる)、スルホニルオキシ基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えば
メシルオキシ、トシルオキシなどが挙げられる)、ウレ
イド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭
素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、
例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドな
どが挙げられる)、シリル基(好ましくは炭素数1〜2
0、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭
素数1〜12であり、トリメチルシリルなどが挙げられ
る)、リン酸エステル基(好ましくは炭素数1〜20、
より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数
1〜12であり、例えばジエチルリン酸エステル、フェ
ニルリン酸エステルなどが挙げられる)、へテロ環基
(例えばイミダゾリル、ピリジル、フリル、ピペリジ
ル、モルホリニル、などが挙げられる)、ハロゲノアル
キル基(例えばクロロメチル基、ジブロモメチル基、ト
リフルオロメチル基などが挙げられる)などか挙げられ
る。
R 1 is an alkoxy group, an aryloxy group,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, Alkylthio group, arylthio group, amino group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfonyloxy group, ureido group, silyl group, mercapto group, hydroxy group, nitroso group, sulfo group, carboxyl group, phosphate group, heterocyclic group, When it is an aryl group substituted with at least one group selected from a halogenoalkyl group, specific examples of the substituent include an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly Mashiku is 1 to 8 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, butoxy),
Aryloxy group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably having 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 6 to 1 carbon atoms)
2, for example, phenyloxy, 2-naphthyloxy, etc.), and an acyl group (preferably having 1 to 1 carbon atom).
20, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, acetyl, benzoyl,
Formyl, pivaloyl and the like), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl) ), An aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 1 carbon atoms)
6, particularly preferably 7 to 10 carbon atoms, for example, phenyloxycarbonyl and the like), acyloxy group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 2 carbon atoms) 10, for example, acetoxy, benzoyloxy and the like), an acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 2 carbon atoms).
Acetylamino, benzoylamino and the like), an alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 2 to 12 carbon atoms). , For example, methoxycarbonylamino), an aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 7 carbon atoms).
20, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, for example, phenyloxycarbonylamino and the like, an alkoxycarbonyloxy group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably carbon Number 2 to 16, particularly preferably carbon number 2 to 12,
For example, ethoxycarbonyloxy, etc.),
An aryloxycarbonyloxy group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyloxy and the like), a sulfonylamino group (preferably Represents 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom
To 16 and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like), sulfamoyl group (preferably 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably Has 0 to 12 carbon atoms, for example, sulfamoyl,
Methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like), a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 1 to 12 carbon atoms. For example, carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), an alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 1 to 12 carbon atoms, Methylthio, ethylthio, etc.), arylthio group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably having 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 6 carbon atoms).
To 12, for example, phenylthio and the like), an amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms, for example, amino, methylamino, Dimethylamino,
Diethylamino, dibenzylamino, etc.), a sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 1 carbon atoms).
12, for example, mesyl, tosyl and the like), a sulfinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 1 carbon atom.
To 12, for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like), a sulfonyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 carbon atom)
-16, particularly preferably 1-12 carbon atoms, for example, mesyloxy, tosyloxy, etc.), ureido group (preferably 1-20 carbon atoms, more preferably 1-16 carbon atoms, particularly preferably 1 carbon atoms) ~ 12,
For example, ureido, methylureide, phenylureide and the like), silyl group (preferably having 1 to 2 carbon atoms)
0, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as trimethylsilyl, etc.), a phosphate group (preferably 1 to 20 carbon atoms,
More preferably, it has 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and includes, for example, diethyl phosphate, phenyl phosphate and the like, and a heterocyclic group (for example, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, Morpholinyl, etc.), halogenoalkyl groups (for example, chloromethyl group, dibromomethyl group, trifluoromethyl group, etc.).

【0124】R1がアルコキシ基、アリールオキシ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキ
シカルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、ス
ルホニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メルカプト
基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、カルボキシ
ル基、リン酸エステル基、へテロ環基、ハロゲノアルキ
ル基から選ばれる少なくとも1つの基で置換されたアリ
ール基である場合、置換されるアリール基として好まし
くは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、
特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニ
ル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。
R 1 is an alkoxy group, an aryloxy group,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, Alkylthio group, arylthio group, amino group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfonyloxy group, ureido group, silyl group, mercapto group, hydroxy group, nitroso group, sulfo group, carboxyl group, phosphate group, heterocyclic group, When the aryl group is substituted with at least one group selected from a halogenoalkyl group, the substituted aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms,
Particularly preferably, it has 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyl, p-methylphenyl, and naphthyl.

【0125】R1がへテロ環基である場合、好ましくは
イミタゾリル、ピリジル、フリル、ピペリジル、モルホ
リニルなどが挙げられる。
When R 1 is a heterocyclic group, preferably, imitazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholinyl and the like are mentioned.

【0126】Lは連結基を表すが、好ましくはアルキレ
ン、アリーレン、へテロ環の各基である。
L represents a linking group, preferably an alkylene, arylene, or heterocyclic group.

【0127】mが0の場合、及びmが1でかつR1が−
OHの場合はLはハロゲン原子、アシルオキシ基、アシ
ルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、ホルミル基、アリールオキシカルボニル
アミノ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオ
キシカルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スルフ
ァモイル基、カルバモイル基、アミノ基、スルホニル
基、スルフィニル基、スルホニルオキシ基、ウレイド
基、シリル基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ニトロソ
基、スルホ基、リン酸エステル基、へテロ環基から選ば
れる1つ以上3つ以下の基で置換された連結基を表す
が、前述の置換基の具体例は上述のR1がアリール基の
場合の置換基と同様である。mが0の場合好ましくはハ
ロゲン原子で置換された連結基を表し、より好ましくは
ハロゲン原子で置換されたアリーレン基を表す。
When m is 0, and when m is 1 and R 1 is-
In the case of OH, L is a halogen atom, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, formyl group, aryloxycarbonylamino group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, sulfonylamino group, sulfamoyl group One or more selected from carbamoyl, amino, sulfonyl, sulfinyl, sulfonyloxy, ureido, silyl, mercapto, hydroxy, nitroso, sulfo, phosphate, and heterocyclic groups It represents a linking group substituted by three or less groups, and specific examples of the above-mentioned substituent are the same as the above-mentioned substituent when R 1 is an aryl group. When m is 0, it preferably represents a connecting group substituted with a halogen atom, and more preferably represents an arylene group substituted with a halogen atom.

【0128】以下に一般式(D)で示される化合物の具
体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
Specific examples of the compound represented by formula (D) are listed below, but the present invention is not limited thereto.

【0129】[0129]

【化65】 Embedded image

【0130】[0130]

【化66】 Embedded image

【0131】[0131]

【化67】 Embedded image

【0132】[0132]

【化68】 Embedded image

【0133】[0133]

【化69】 Embedded image

【0134】[0134]

【化70】 Embedded image

【0135】[0135]

【化71】 Embedded image

【0136】[0136]

【化72】 Embedded image

【0137】[0137]

【化73】 Embedded image

【0138】[0138]

【化74】 Embedded image

【0139】本発明の一般式(D)で示される化合物と
しては、市販の化合物を用いることができ、また例えば
Chem.Pharm.Bulletin,31
(8),2632(1983)、J.Chem.So
c.,Section B Physical 0rg
anic Chemistry,Part1.PP14
5−148(1971)、J.Amer.Chem.S
oc.77,1909(1955),0rg.Pre
p.Proced.Int.28(5),609(19
96)、Chem.Ber.44,1236(191
1)、J.Amer.Chem.Soc.60,250
2(1938)、Bull.Soc.Khim.Fr.
25(3)173(1901)、Chem.Abst
r.9861(1960)、西独特許第297,018
号、Justus Liebigs Ann.Che
m.300,299(1898)等に記載の方法に準じ
て合成することもできる。
As the compound represented by formula (D) of the present invention, commercially available compounds can be used. For example, Chem. Pharm. Bulletin, 31
(8), 2632 (1983); Chem. So
c. , Section B Physical 0rg
anic Chemistry, Part 1. PP14
5-148 (1971); Amer. Chem. S
oc. 77, 1909 (1955), 0rg. Pre
p. Proced. Int. 28 (5), 609 (19
96), Chem. Ber. 44, 1236 (191
1). Amer. Chem. Soc. 60,250
2 (1938), Bull. Soc. Khim. Fr.
25 (3) 173 (1901); Chem. Abst
r. 9861 (1960), West German Patent No. 297,018
No. Justus Liebigs Ann. Che
m. 300, 299 (1898) and the like.

【0140】本発明の一般式(D)で示される化合物の
添加量には、特に制限はないが、10-4モル〜1モル/
Agモルが好ましく、特に10-3モル〜0.3モル/A
gモルが好ましい。
The amount of the compound represented by the general formula (D) of the present invention is not particularly limited, but may be from 10 -4 mol to 1 mol / l.
Ag mole is preferred, especially 10 -3 mole to 0.3 mole / A.
g mol is preferred.

【0141】本発明の一般式(D)で示される化合物
は、感光性層でも非感光性層でも添加することが出来る
が、好ましくは感光性層である。代表的な態様として
は、支持体上に少なくとも1層の感光性層とこれに隣接
する層を有する熱現像感光材料において、感光性層に
感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、バインダーを含有し、
更に一般式(D)で示される化合物の少なくとも1種を
含有する態様、感光性層に感光性ハロゲン化銀、有機
銀塩、バインダーを含有し、隣接層に一般式(D)で示
される化合物の少なくとも1種を含有する態様、感光
性層に感光性ハロゲン化銀、バインダーを含有し、更に
一般式(1)で示される化合物の少なくとも1種を含有
し、隣接層に有機銀塩を含有する態様、感光性層に感
光性ハロゲン化銀、バインダーを含有し、隣接層に有機
銀塩を含有し、更に一般式(D)で示される化合物の少
なくとも1種を含有する態様が挙げられる。本発明にお
いて好ましいのは、の態様である。
The compound represented by formula (D) of the present invention can be added to a photosensitive layer or a non-photosensitive layer, but is preferably a photosensitive layer. As a typical embodiment, in a photothermographic material having at least one photosensitive layer and a layer adjacent thereto on a support, the photosensitive layer contains a photosensitive silver halide, an organic silver salt, and a binder. ,
Further, an embodiment containing at least one compound represented by the general formula (D), a photosensitive layer containing a photosensitive silver halide, an organic silver salt and a binder, and a compound represented by the general formula (D) in an adjacent layer Wherein the photosensitive layer contains a photosensitive silver halide and a binder, further contains at least one compound represented by the general formula (1), and contains an organic silver salt in an adjacent layer. And an embodiment in which the photosensitive layer contains a photosensitive silver halide and a binder, the adjacent layer contains an organic silver salt, and further contains at least one compound represented by the general formula (D). Preferred in the present invention is the embodiment of

【0142】また、本発明の一般式(D)で示される化
合物は、有機溶剤に溶かして添加することが好ましく、
特に増感色素と一緒に添加するのが好ましい。
The compound represented by formula (D) of the present invention is preferably added by dissolving it in an organic solvent.
Particularly, it is preferable to add it together with the sensitizing dye.

【0143】本発明の熱現像感光材料が特に600〜8
00nmに発振波長を有するイメージセッターの出力用
の熱現像感光材料である場合、ヒドラジン化合物が感材
中に含有される事が好ましい。前記一般式〔H〕で表さ
れるヒドラジン化合物を用いる事で硬調なガンマを有す
る感光材料とすることができ、印刷用途として適したも
のとする事が出来る。前記一般式〔H〕について詳述す
る。
The photothermographic material of the present invention is particularly preferably from 600 to 8
In the case of a photothermographic material for output of an image setter having an oscillation wavelength of 00 nm, a hydrazine compound is preferably contained in the light-sensitive material. By using the hydrazine compound represented by the general formula [H], a photosensitive material having a high contrast gamma can be obtained, which can be suitable for printing. The general formula [H] will be described in detail.

【0144】前記一般式〔H〕中、Aはそれぞれ置換基
を有してもよい脂肪族基、芳香族基、−G0−D0基又は
複素環基を、Bはブロッキング基を表し、A1、A2はと
もに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、
スルホニル基又はオキザリル基を表す。G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG11
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、D0は水素原子、脂
肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基を表す。
In the general formula [H], A represents an aliphatic group, an aromatic group, a -G 0 -D 0 group or a heterocyclic group which may have a substituent, B represents a blocking group, A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group,
Represents a sulfonyl group or an oxalyl group. G 0 is -CO-
Group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG 1 D 1 )
— Group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O) (G 1 D
1 ) represents a group, G 1 represents a mere bond, an —O— group, —S—
Group or -N (D 1) - represents a group, D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group , An amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, and an arylthio group.

【0145】一般式〔H〕において、Aで表される脂肪
族基は、好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
In the general formula [H], the aliphatic group represented by A preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably a straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group, cyclohexyl group, benzyl group,
These may be further substituted with a suitable substituent (for example, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, sulfoxy group, sulfonamide group, sulfamoyl group, acylamino group, ureido group, etc.).

【0146】一般式〔H〕において、Aで表される芳香
族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例え
ばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表さ
れる複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫黄、
酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子を含
む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダゾー
ル環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリジン
環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げられ、A
0として特に好ましいものはアリール基及び複素環基で
あり、A0の芳香族基及び複素環基は置換基を有してい
てもよく、特に好ましい基としては、pKa7〜11の
酸性基を有する置換基で、具体的にはスルホンアミド
基、ヒドロキシル基、メルカプト基等が挙げられる。
In the general formula [H], the aromatic group represented by A is preferably a monocyclic or condensed ring aryl group, for example, a benzene ring or a naphthalene ring, and a heterocyclic group represented by A 0. As a single ring or fused ring nitrogen, sulfur,
Heterocycles containing at least one heteroatom selected from oxygen atoms are preferred, for example, a pyrrolidine ring, imidazole ring, tetrahydrofuran ring, morpholine ring, pyridine ring, pyrimidine ring, quinoline ring, thiazole ring, benzothiazole ring, thiophene ring, furan A ring;
Particularly preferred as 0 are an aryl group and a heterocyclic group, and the aromatic group and the heterocyclic group represented by A 0 may have a substituent, and particularly preferably have an acidic group having a pKa of 7 to 11. Specific examples of the substituent include a sulfonamide group, a hydroxyl group, and a mercapto group.

【0147】一般式〔H〕において、Aで表される−G
0−D0基について説明する。
In the general formula [H], -G represented by A
It will be described 0 -D 0 group.

【0148】G0は、−CO−基、−COCO−基、−
CS−基、−C(=NG11)−基、−SO−基、−S
2−基又は−P(O)(G11)−基を表し、好まし
いG0としては−CO−基、−COCO−基で、特に好
ましくは−COCO−基が挙げられる。G1は単なる結
合手、−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表
し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子
を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは
同じであっても異なってもよい。
G 0 represents a —CO— group, a —COCO— group, —
CS-group, -C (= NG 1 D 1 ) -group, -SO- group, -S
Represents an O 2 — group or a —P (O) (G 1 D 1 ) — group, and preferred G 0 is a —CO— group or a —COCO— group, and particularly preferably a —COCO— group. G 1 represents a mere bond, —O— group, —S— group or —N (D 1 ) — group; D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom; When a plurality of D 1 are present, they may be the same or different.

【0149】D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複
素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましいD0
としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ
基、アリール基等が挙げられる。
D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group,
Represents an alkylthio group or an arylthio group, and is preferably D 0
Examples thereof include a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, an aryl group and the like.

【0150】又、一般式〔H〕において、Aは耐拡散基
又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが好
ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添
加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト基
としては炭素数8以上の写真的に不活性であるアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェ
ニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げ
られる。
In the general formula [H], A preferably contains at least one diffusion-resistant group or a silver halide-adsorbing group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable. As the ballast group, a photographically inactive alkyl group having 8 or more carbon atoms, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group Group, phenyl group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like.

【0151】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
In the general formula [H], examples of the silver halide adsorption promoting group include thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group, 64-9
No. 0439.

【0152】一般式〔H〕において、Bはブロッキング
基を表し、好ましくは−G0−D0であり、Aにおける−
0−D0基と同義であり、AとBは同じでも異なっても
良い。
In the general formula [H], B represents a blocking group, preferably -G 0 -D 0 ,
It has the same meaning as the G 0 -D 0 group, and A and B may be the same or different.

【0153】A1、A2はともに水素原子、又は一方が水
素原子で他方はアシル基(例えばアセチル基、トリフル
オロアセチル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(例
えばメタンスルホニル基、トルエンスルホニル基等)、
又はオキザリル基(例えばエトキザリル基等)を表す。
A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (eg, acetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, etc.), a sulfonyl group (eg, methanesulfonyl, toluenesulfonyl, etc.) ),
Or an oxalyl group (such as an ethoxalyl group).

【0154】次に一般式〔H〕で示される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula [H] are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0155】[0155]

【化75】 Embedded image

【0156】[0156]

【化76】 Embedded image

【0157】[0157]

【化77】 Embedded image

【0158】[0158]

【化78】 Embedded image

【0159】[0159]

【化79】 Embedded image

【0160】[0160]

【化80】 Embedded image

【0161】本発明に用いられるヒドラジン化合物とし
ては、上記以外に以下に示す化合物を用いることもでき
る。
As the hydrazine compound used in the present invention, the following compounds can be used in addition to the above.

【0162】RESEARCH DISCLOSURE
Item 23516(1983年11月号、P.3
46)およびそこに引用された文献の他、米国特許第
4,080,207号、同4,269,929号、同
4,276,364号、同4,278,748号、同
4,385,108号、同4,459,347号、同
4,478,928号、同4,560,638号、同
4,686,167号、同4,912,016号、同
4,988,604号、同4,994,365号、同
5,041,355号、同5,104,769号、英国
特許第2,011,391B号、欧州特許第217,3
10号、同301,799号、同356,898号、特
開昭60−179734号、同61−170733号、
同61−270744号、同62−178246号、同
62−270948号、同63−29751号、同63
−32538号、同63−104047号、同63−1
21838号、同63−129337号、同63−22
3744号、同63−234244号、同63−234
245号、同63−234246号、同63−2945
52号、同63−306438号、同64−10233
号、特開平1−90439号、同1−100530号、
同1−105941号、同1−105943号、同1−
276128号、同1−280747号、同1−283
548号、同1−283549号、同1−285940
号、同2−2541号、同2−77057号、同2−1
39538号、同2−196234号、同2−1962
35号、同2−198440号、同2−198441
号、同2−198442号、同2−220042号、同
2−221953号、同2−221954号、同2−2
85342号、同2−285343号、同2−2898
43号、同2−302750号、同2−304550
号、同3−37642号、同3−54549号、同3−
125134号、同3−184039号、同3−240
036号、同3−240037号、同3−259240
号、同3−280038号、同3−282536号、同
4−51143号、同4−56842号、同4−841
34号、同2−230233号、同4−96053号、
同4−216544号、同5−45761号、同5−4
5762号、同5−45763号、同5−45764
号、同5−45765号、同6−289524号、同9
−160164号等に記載されたものを挙げることがで
きる。
RESEARCH DISCLOSURE
Item 23516 (November 1983, p. 3)
46) and references cited therein, as well as U.S. Pat. Nos. 4,080,207, 4,269,929, 4,276,364, 4,278,748, and 4,385. No. 4,108,347, No. 4,478,928, No. 4,560,638, No. 4,686,167, No. 4,912,016, No. 4,988,604 Nos. 4,994,365, 5,041,355, 5,104,769, British Patent No. 2,011,391B, and European Patent No. 217,3
No. 10, No. 301,799, No. 356,898, JP-A-60-179834, JP-A-61-170733,
Nos. 61-270744, 62-178246, 62-270948, 63-29751, 63
No. 32538, No. 63-104047, No. 63-1
Nos. 21838, 63-129337, 63-22
No. 3744, No. 63-234244, No. 63-234
No. 245, No. 63-234246, No. 63-2945
No. 52, No. 63-306438, No. 64-10233
No., JP-A-1-90439, JP-A-1-100530,
No. 1-1055941, No. 1-105943, No. 1-
No. 276128, No. 1-280747, No. 1-283
No. 548, No. 1-283549, No. 1-285940
No. 2-2541, No. 2-77057, No. 2-1
39538, 2-196234, 2-1962
No. 35, No. 2-198440, No. 2-198441
No. 2-198442, No. 2-220042, No. 2-221953, No. 2-221954, No. 2-2
No. 85342, No. 2-285343, No. 2-2898
No. 43, No. 2-302750, No. 2-304550
No. 3-37642, 3-54549, 3-
No. 125134, No. 3-184039, No. 3-240
No. 036, No. 3-240037, No. 3-259240
No. 3-2820038, No. 3-282536, No. 4-51143, No. 4-56842, No. 4-841
No. 34, No. 2-230233, No. 4-96053,
4-216544, 5-45761, 5-4
No. 5762, No. 5-45763, No. 5-45764
No. 5-45765, No. 6-289524, No. 9
-160164 and the like.

【0163】またこの他にも特公平6−77138号に
記載の(化1)で示される化合物で、具体的には同公報
3頁、4頁に記載の化合物。特公平6−93082号に
記載の一般式(I)で示される化合物で、具体的には同
公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物。特開平6
−230497号に記載の一般式(4)、一般式(5)
および一般式(6)で示される化合物で、具体的には同
公報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜化合物4−
10、28頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5−4
2、および39頁、40頁に記載の化合物6−1〜化合
物6−7。特開平6−289520号に記載の一般式
(1)および一般式(2)で示される化合物で、具体的
には同公報5頁〜7頁に記載の化合物1−1)〜1−1
7)および2−1)。特開平6−313936号に記載
の(化2)および(化3)で示される化合物で、具体的
には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。特開平6−3
13951号に記載の(化1)で示される化合物で、具
体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7−
5610号に記載の一般式(I)で示される化合物で、
具体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜
I−38。特開平7−77783号に記載の一般式(I
I)で示される化合物で、具体的には同公報10頁〜2
7頁に記載の化合物II−1〜II−102。特開平7−1
04426号に記載の一般式(H)および一般式(H
a)で示される化合物で、具体的には同公報8頁〜15
頁に記載の化合物H−1〜H−44、に記載されたもの
を用いることができる。
Other than these, the compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-B-6-77138, specifically, the compounds described on pages 3 and 4 of the same publication. Compounds represented by formula (I) described in JP-B-6-93082, specifically, compounds 1 to 38 described on pages 8 to 18 of the publication. JP 6
General formulas (4) and (5) described in JP-A-230497
And compounds represented by formula (6), specifically, compounds 4-1 to 4-
Compounds 5-1 to 5-4 described on page 10, pages 28 to 36
2, and compounds 6-1 to 6-7 described on pages 39 and 40. Compounds represented by formulas (1) and (2) described in JP-A-6-289520, specifically, compounds 1-1) to 1-1 described on pages 5 to 7 of the same.
7) and 2-1). Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in JP-A-6-313936, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same. JP-A-6-3
Compounds represented by Chemical Formula 1 described in No. 13951, specifically, compounds described on pages 3 to 5 of the same publication. JP-A-7-
A compound represented by the general formula (I) described in No. 5610,
Specifically, Compounds I-1 to I-5 described on pages 5 to 10 of the publication are described.
I-38. The general formula (I) described in JP-A-7-77783.
Compounds represented by I), specifically, pages 10 to 2 of the publication
Compounds II-1 to II-102 described on page 7. JP-A-7-1
General formula (H) and general formula (H
Compounds represented by a), specifically, pages 8 to 15 of the same publication
The compounds described in Compounds H-1 to H-44 on the page can be used.

【0164】ヒドラジン誘導体の添加層は、感光性層及
び/又は感光性層に隣接した構成層である。また添加量
はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の
程度、還元剤の種類、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10-6モル〜
10-1モル程度、特に10-5モル〜10-2モルの範囲が
好ましい。
The hydrazine derivative-added layer is a photosensitive layer and / or a constituent layer adjacent to the photosensitive layer. The optimum amount is not uniform depending on the particle size of the silver halide grains, the halogen composition, the degree of chemical sensitization, the type of reducing agent, the type of inhibitor, etc., but it is 10 -6 per mol of silver halide. Mol ~
The range is preferably about 10 -1 mol, particularly preferably 10 -5 mol to 10 -2 mol.

【0165】本発明のヒドラジン化合物は、適当な有機
溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。また、既に良く知られている乳
化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジル
フォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジ
エチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘ
キサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化
分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分
散法として知られている方法によって、ヒドラジン化合
物の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散して用いることもできる。
The hydrazine compound of the present invention can be prepared by using a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide,
It can be used by dissolving it in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve or the like. In addition, by an already well-known emulsification dispersion method, dissolution is performed using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed. An object can be prepared and used. Alternatively, a hydrazine compound powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used.

【0166】本発明ではヒドラジン化合物と併用して、
カブリ防止剤としてインダゾール類(例えばニトロイン
ダゾール)を使用することが好ましい。
In the present invention, in combination with a hydrazine compound,
It is preferable to use indazoles (for example, nitroindazole) as an antifoggant.

【0167】本発明の感光材料には、ヒドラジン化合物
と併用して、アミン誘導体、オニウム塩化合物、ジスル
フィド誘導体、およびヒドロキシアミン誘導体などの造
核促進剤を添加することができる。
The light-sensitive material of the present invention may contain a nucleation accelerator such as an amine derivative, an onium salt compound, a disulfide derivative and a hydroxyamine derivative in combination with the hydrazine compound.

【0168】本発明の熱現像感光材料に使用される感光
性ハロゲン化銀は、シングルジェットもしくはダブルジ
ェット法などの写真技術の分野で公知の任意の方法によ
り、例えばアンモニア法乳剤、中性法、酸性法等のいず
れかの方法でも調製できる。この様に予め調製し、次い
で本発明の他の成分と混合して本発明に用いる組成物中
に導入することが出来る。この場合に感光性ハロゲン化
銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるため、例えば感光
性ハロゲン化銀を調製するときの保護ポリマーとして米
国特許第3,706,564号、同第3,706,56
5号、同第3,713,833号、同第3,748,1
43号、英国特許第1,362,970号各明細書に記
載されたポリビニルアセタール類などのゼラチン以外の
ポリマーを用いる手段や、英国特許第1,354,18
6号明細書に記載されているような感光性ハロゲン化銀
乳剤のゼラチンを酵素分解する手段、又は米国特許第
4,076,539号明細書に記載されているように感
光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製する
ことによって保護ポリマーの使用を省略する手段等の各
手段を適用することが出来る。
The photosensitive silver halide used in the photothermographic material of the present invention can be produced by any method known in the field of photographic technology such as a single jet method or a double jet method, for example, by an ammonia method emulsion, a neutral method, It can be prepared by any method such as an acidic method. Thus, it can be prepared in advance and then mixed with other components of the present invention and introduced into the composition used in the present invention. In this case, in order to sufficiently contact the photosensitive silver halide with the organic silver salt, for example, US Pat. Nos. 3,706,564 and 3,706 as protective polymers for preparing photosensitive silver halide. , 56
No. 5, No. 3,713,833, No. 3,748,1
No. 43, British Patent No. 1,362,970, means for using a polymer other than gelatin such as polyvinyl acetal, and British Patent No. 1,354,18.
Means for enzymatically decomposing gelatin in a light-sensitive silver halide emulsion as described in US Pat. No. 6,6,086, or photosensitive silver halide grains as described in US Pat. No. 4,076,539. Is prepared in the presence of a surfactant, various means such as omitting the use of the protective polymer can be applied.

【0169】ハロゲン化銀は、光センサーとして機能す
るものであり、画像形成後の白濁を低く抑える為又、良
好な画質を得るために粒子サイズが小さいものが好まし
い。平均粒子サイズで0.1μm以下、好ましくは0.
01μm〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μ
mが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状としては特に制
限はなく、立方体、八面体の所謂正常晶や正常晶でない
球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハロゲン化銀組
成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭
化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよ
い。
The silver halide functions as an optical sensor, and preferably has a small grain size in order to suppress white turbidity after image formation and to obtain good image quality. The average particle size is 0.1 μm or less, preferably 0.1 μm or less.
01 μm to 0.1 μm, especially 0.02 μm to 0.08 μ
m is preferred. The shape of the silver halide is not particularly limited, and may be cubic, octahedral, so-called normal crystals, or non-normal crystals, such as spherical, rod-shaped, or tabular grains. The silver halide composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide.

【0170】ハロゲン化銀の量はハロゲン化銀及び後述
の有機銀塩の総量に対し50%以下好ましくは25%〜
0.1%、更に好ましくは15%〜0.1%の間であ
る。
The amount of silver halide is 50% or less, preferably 25% or less, based on the total amount of silver halide and an organic silver salt described below.
0.1%, more preferably between 15% and 0.1%.

【0171】本発明の熱現像感光材料に使用される感光
性ハロゲン化銀は又、英国特許第1,447,454号
明細書に記載されている様に、有機銀塩を調製する際に
ハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と
共存させこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩の生成
とほぼ同時に生成させることが出来る。
The photosensitive silver halide used in the photothermographic material of the present invention may also be used in preparing an organic silver salt as described in British Patent 1,447,454. Halogen components such as ions coexist with organic silver salt-forming components, and silver ions are implanted into the components to produce organic silver salts almost simultaneously.

【0172】更に他の方法としては、予め調製された有
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有
効に接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀
形成成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を
生成しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該
当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事
が出来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混
入し必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン
化銀に特有のピークがあるかを調べるものである。かか
る試験によって有効であることが確かめられたハロゲン
化銀形成成分としては、無機ハロゲン化物、オニウムハ
ライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合
物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例につ
いては米国特許第4,009,039号、同第3,45
7,075号、同第4,003,749号、英国特許第
1,498,956号各明細書及び特開昭53−270
27号、同53−25420号各公報に詳説されるが以
下にその一例を示す。
As still another method, a silver halide forming component is allowed to act on a previously prepared solution or dispersion of an organic silver salt or a sheet material containing the organic silver salt, so that a part of the organic silver salt is exposed to light. It can also be converted to neutral silver halide.
The silver halide thus formed is in effective contact with the organic silver salt and exhibits a preferable action. A silver halide-forming component is a compound capable of forming a photosensitive silver halide by reacting with an organic silver salt, and which compound is applicable and effective is determined by the following simple test. I can do things. That is, an organic silver salt is mixed with a compound to be tested, and if necessary, after heating, it is examined by an X-ray diffraction method whether there is a peak specific to silver halide. Silver halide-forming components confirmed to be effective by such tests include inorganic halides, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds, and other halogen-containing compounds. Are U.S. Pat. Nos. 4,009,039 and 3,45
7,075, 4,003,749, British Patent 1,498,956 and JP-A-53-270.
Nos. 27 and 53-25420, each of which is described in detail below.

【0173】(1)無機ハロゲン化物:例えばMXnで
表されるハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び
金属原子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、M
が金属原子の時はその原子価を表す。金属原子として
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグ
ネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜
鉛、カドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マン
ガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等
がある。)。又、臭素水などのハロゲン分子も有効であ
る。
(1) Inorganic halide: For example, a halide represented by MXn (where M represents H, NH 4 , and a metal atom, n is 1 when M is H and NH 4 ,
When is a metal atom, it represents its valence. Examples of the metal atom include lithium, sodium, potassium, cesium, magnesium, calcium, strontium, barium, zinc, cadmium, mercury, tin, antimony, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, rhodium, and cerium. ). Further, halogen molecules such as bromine water are also effective.

【0174】(2)オニウムハライド類:例えばトリメ
チルフェニルアンモニウムブロマイド、セチルエチルジ
メチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルア
ンモニウムブロマイドの様な第4級アンモニウムハライ
ド、テトラエチルフォスフォニウムブロマイドの様な第
4級フォスフォニウムハライド、トリメチルスルフォニ
ウムアイオダイドの様な第3級スルフォニウムハライド
がある。
(2) Onium halides: quaternary ammonium halides such as, for example, trimethylphenylammonium bromide, cetylethyldimethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium bromide, and quaternary phosphonium halides such as tetraethylphosphonium bromide And tertiary sulfonium halides such as trimethylsulfonium iodide.

【0175】(3)ハロゲン化炭化水素類:例えばヨー
ドフォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、2−ブロム
−2−メチルプロパン等。
(3) Halogenated hydrocarbons: for example, iodoform, bromoform, carbon tetrachloride, 2-bromo-2-methylpropane and the like.

【0176】(4)N−ハロゲン化合物:例えばN−ク
ロロ琥珀酸イミド、N−ブロム琥珀酸イミド、N−ブロ
ムフタルイミド、N−ブロムアセトアミド、N−ヨード
琥珀酸イミド、N−ブロムフタラゾン、N−ブロムオキ
サゾリノン、N−クロロフタラゾン、N−ブロモアセト
アニリド、N,N−ジブロモベンゼンスルホンアミド、
N−ブロモ−N−メチルベンゼンスルホンアミド、1,
3−ジブロモ−4,4−ジメチルヒダントイン,N−ブ
ロモウラゾール等。
(4) N-halogen compounds: For example, N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-bromophthalimide, N-bromoacetamide, N-iodosuccinimide, N-bromophthalazone, N-bromo Oxazolinone, N-chlorophthalazone, N-bromoacetanilide, N, N-dibromobenzenesulfonamide,
N-bromo-N-methylbenzenesulfonamide, 1,
3-dibromo-4,4-dimethylhydantoin, N-bromourazole and the like.

【0177】(5)その他のハロゲン含有化合物:例え
ば、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチ
ル、2−ブロム酢酸、2−ブロムエタノール、ジクロロ
ベンゾフェノン等がある。
(5) Other halogen-containing compounds: for example, triphenylmethyl chloride, triphenylmethyl bromide, 2-bromoacetic acid, 2-bromoethanol, dichlorobenzophenone and the like.

【0178】これらのハロゲン化銀形成成分は有機銀塩
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モ
ル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハ
ロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されて
もよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩
の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反
応時間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜
設定する事が出来るが、通常、反応温度は−20℃乃至
70℃、その反応時間は0.1秒乃至72時間であり、
その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この
反応は又、後述する結合剤として使用されるポリマーの
存在下に行われることが好ましい。この際のポリマーの
使用量は有機銀塩1重量部当たり0.01乃至100重
量部、好ましくは0.1乃至10重量部である。
These silver halide forming components are used in a small amount stoichiometrically with respect to the organic silver salt. Usually, the range is from 0.001 mol to 0.7 mol, preferably from 0.03 mol to 0.5 mol, per 1 mol of the organic silver salt. Two or more silver halide forming components may be used in combination within the above range. Various conditions such as reaction temperature, reaction time, reaction pressure and the like in the step of converting a part of the organic silver salt to silver halide using the above-mentioned silver halide forming component can be appropriately set according to the purpose of production. Usually, the reaction temperature is -20 ° C to 70 ° C, the reaction time is 0.1 second to 72 hours,
The reaction pressure is preferably set at atmospheric pressure. This reaction is also preferably performed in the presence of a polymer used as a binder described below. The amount of the polymer used at this time is 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight per 1 part by weight of the organic silver salt.

【0179】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
する事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば米国特許第4,036,650号、英国特許
第1,518,850号各明細書、特開昭51−224
30号、同51−78319号、同51−81124号
各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形成成分によ
り有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際
に、米国特許第3,980,482号明細書に記載され
ているように、増感を達成するために低分子量のアミド
化合物を共存させてもよい。
The photosensitive silver halide prepared by the above-mentioned various methods includes, for example, sulfur-containing compounds, gold compounds,
Platinum compounds, palladium compounds, silver compounds, tin compounds,
Chemical sensitization can be achieved by a chromium compound or a combination thereof. The method and procedure of this chemical sensitization are described in, for example, U.S. Pat. No. 4,036,650, British Patent No. 1,518,850, JP-A-51-224.
No. 30, No. 51-78319, and No. 51-81124. Also, when a part of the organic silver salt is converted to a photosensitive silver halide by a silver halide forming component, as described in US Pat. No. 3,980,482, sensitization is achieved. A low molecular weight amide compound may coexist.

【0180】又、これらの感光性ハロゲン化銀には、照
度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の6族から10
族に属する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、O
s、Fe等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させ
ることが出来る。特に錯イオンとして添加するのが好ま
しく、例えば照度不軌のためにIrCl6 2-等のIr錯
イオンを添加してもよい。
In addition, these photosensitive silver halides may have an illuminance failure or 10 to 10 groups from the periodic table of the element to control gradation.
Metals belonging to group III, such as Rh, Ru, Re, Ir, O
An ion such as s or Fe, a complex thereof, or a complex ion can be contained. It is particularly preferable to add as a complex ion. For example, Ir complex ion such as IrCl 6 2- may be added due to illuminance failure.

【0181】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特にこの中で
も長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15から2
5)脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環化合物の銀塩が
好ましい。配位子が銀イオンに対する総安定度常数とし
て4.0〜10.0の値をもつような有機又は無機の錯
体も好ましい。これら好適な銀塩の例としては、Res
earch Disclosure 第17029及び
29963に記載されており、以下のものが挙げられ
る。
In the present invention, the organic silver salt is a reducible silver source, and is preferably a silver salt of an organic acid or a hetero organic acid, particularly a long-chain (10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 2
5) Silver salts of aliphatic carboxylic acids and nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferred. Organic or inorganic complexes in which the ligand has a value of 4.0 to 10.0 as the total stability constant for silver ions are also preferred. Examples of these suitable silver salts include Res.
ear Disclosure Nos. 17029 and 29996, and include the following.

【0182】有機酸の銀塩、例えば、没食子酸、蓚酸、
ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の銀塩。銀のカルボキシアルキルチオ
尿素塩、例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ
尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメ
チルチオ尿素等の銀塩、アルデヒドとヒドロキシ置換芳
香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀塩乃至錯
体、例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ブチルアルデヒド等)とヒドロキシ置換芳
香族カルボン酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサリチ
ル酸)の反応生成物の銀塩乃至錯体、チオエン類の銀塩
又は錯体、例えば、3−(2−カルボキシエチル)−4
−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン−2−チオエン、
及び3−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオ
エン等の銀塩乃至錯体、イミダゾール、ピラゾール、ウ
ラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テトラゾ
ール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−ト
リアゾール及びベンゾトリアゾールから選択される窒素
酸と銀との錯体または塩、サッカリン、5−クロロサリ
チルアルドキシム等の銀塩、及びメルカプチド類の銀
塩。これらの中、好ましい銀塩としてはベヘン酸銀、ア
ラキジン酸銀またはステアリン酸銀である。
Silver salts of organic acids, for example, gallic acid, oxalic acid,
Silver salts such as behenic acid, stearic acid, arachidic acid, palmitic acid and lauric acid. Silver carboxyalkylthiourea salts, for example, silver salts such as 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea, and aldehydes with hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids Silver salts or complexes of polymer reaction products, for example, aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, etc.) and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (for example, salicylic acid, benzoic acid,
Silver salts or complexes of reaction products of 3,5-dihydroxybenzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid), silver salts or complexes of thioenes, for example, 3- (2-carboxyethyl) -4
-Hydroxymethyl-4-thiazoline-2-thioene,
And a complex or a silver salt such as 3-carboxymethyl-4-thiazoline-2-thioene, imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,2. Complexes or salts of silver and a nitrogen acid selected from 4-triazole and benzotriazole, silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime, and silver salts of mercaptides. Among these, preferred silver salts are silver behenate, silver arachidate or silver stearate.

【0183】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、前記ソープに硝酸銀などを添加して有機
銀塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混
在させてもよい。又、上記ソープと硝酸銀を同時に添加
するいわゆるコントロールダブルジェット法等を用いて
もよい。
The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound which forms a complex with silver, and includes a normal mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, and a method disclosed in JP-A-9-12764.
A controlled double jet method as described in No. 3 is preferably used. For example, an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.)
After producing sodium behenate, sodium arachidate, etc., silver nitrate or the like is added to the soap to produce crystals of an organic silver salt. At that time, silver halide grains may be mixed. Further, a so-called control double jet method in which the soap and silver nitrate are simultaneously added may be used.

【0184】本発明においては有機銀塩は平均粒径が2
μm以下であり、かつ単分散であることが好ましい。有
機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球状、
棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の
体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は
好ましくは0.05μm〜1.5μm、特に0.05μ
m〜1.0μmが好ましい。また単分散とは、ハロゲン
化銀の場合と同義であり、好ましくは単分散度が1〜3
0である。
In the present invention, the organic silver salt has an average particle size of 2
It is preferably not more than μm and monodispersed. The average particle size of the organic silver salt means that the particles of the organic silver salt are, for example, spherical,
In the case of rod-shaped or tabular grains, it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of the organic silver salt grains. The average particle size is preferably 0.05 μm to 1.5 μm, particularly 0.05 μm.
m to 1.0 μm is preferred. The term “monodisperse” has the same meaning as in the case of silver halide.
0.

【0185】また、本発明においては、有機銀塩は平板
状粒子が全有機銀の60%以上有することが好ましい。
本発明において平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、い
わゆる下記式で表されるアスペクト比(ARと略す)が
3以上のものをいう。
In the present invention, the tabular grains of the organic silver salt preferably have at least 60% of the total organic silver.
In the present invention, the tabular grains mean those having an aspect ratio (abbreviated as AR) of 3 or more, which is a ratio between the average particle diameter and the thickness, that is, the following formula.

【0186】 AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm) 有機銀をこれらの形状にするためには、前記有機銀結晶
をバインダーや界面活性剤などをボールミルなどで分散
粉砕することで得られる。この範囲にすることで濃度の
高く、かつ画像保存性に優れた感光材料が得られる。
AR = average particle size (μm) / thickness (μm) In order to form organic silver into these shapes, the organic silver crystal is obtained by dispersing and pulverizing a binder, a surfactant, and the like with a ball mill or the like. Can be Within this range, a photosensitive material having a high density and excellent image storability can be obtained.

【0187】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また、銀総量に対するハロゲン化銀の量は重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の間である。
In the present invention, in order to prevent devitrification of the light-sensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably from 0.5 g to 2.2 g per m 2 in terms of silver. . With this range, a high-contrast image can be obtained. The amount of silver halide relative to the total amount of silver is at most 50% by weight, preferably at most 25%, more preferably between 0.1% and 15%.

【0188】本発明の熱現像感光材料には例えば特開昭
63−159841号、同60−140335号、同6
3−231437号、同63−259651号、同63
−304242号、同63−15245号、米国特許第
4,639,414号、同第4,740,455号、同
第4,741,966号、同第4,751,175号、
同第4,835,096号に記載された増感色素が使用
できる。本発明に使用される有用な増感色素は例えばR
esearch Disclosure Item 1
7643 IV−A項(1978年12月p.23)に記
載若しくは引用された文献に記載されている。特に各種
スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増
感色素を有利に選択する事ができる。例えばアルゴンイ
オンレーザー光源に対しては、特開昭60−16224
7号、特開平2−48635号、米国特許第2,16
1,331号、西独特許第936,071号、特開平5
−11389号等に記載のシンプルメロシアニン類、ヘ
リウムネオンレーザー光源に対しては、特開昭50−6
2425号、同54−18726号、同59−1022
29号に示された三核シアニン色素類、特開平7−28
7338号に記載されたメロシアニン類、LED光源及
び赤外半導体レーザー光源に対しては特公昭48−42
172号、同51−9609号、同55−39818
号、特開昭62−284343号、特開平2−1051
35号に記載されたチアカルボシアニン類、赤外半導体
レーザー光源に対しては特開昭59−191032号、
特開昭60−80841号に記載されたトリカルボシア
ニン類、特開昭59−192242号、特開平3−67
242号の一般式(IIIa)、(IIIb)に記載された4
−キノリン核を含有するジカルボシアニン類等が有利に
選択される。更に赤外レーザー光源の波長が750nm
以上更に好ましくは800nm以上である場合このよう
な波長域のレーザーに対応する為には、特開平4−18
2639号、同5−341432号、特公平6−523
87号、同3−10931号、米国特許第5,441,
866号、特開平7−13295号等に記載されている
増感色素が好ましく用いられる。
The photothermographic materials of the present invention include, for example, JP-A-63-159814, JP-A-60-140335, and JP-A-6-140335.
Nos. 3-231437, 63-259651 and 63
-304242, 63-15245, U.S. Patent Nos. 4,639,414, 4,740,455, 4,741,966, 4,751,175,
Sensitizing dyes described in the above-mentioned 4,835,096 can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, R
search Disclosure Item 1
7643 IV-A (December 1978, p. 23). In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-16224 discloses an argon ion laser light source.
7, U.S. Pat. No. 2,486,635, U.S. Pat.
No. 1,331, West German Patent No. 936,071, Japanese Unexamined Patent Publication No.
Japanese Patent Application Laid-open No. Sho 50-6 / 1991 discloses simple merocyanines and helium neon laser light sources described in
No. 2425, No. 54-18726, No. 59-1022
Trinuclear cyanine dyes described in JP-A No. 29-29, JP-A-7-28
No. 48-42 describes merocyanines, LED light sources and infrared semiconductor laser light sources described in US Pat.
Nos. 172, 51-9609 and 55-39818
JP-A-62-284343, JP-A-2-1051
JP-A-59-191332 discloses thiacarbocyanines and infrared semiconductor laser light sources described in No. 35;
Tricarbocyanines described in JP-A-60-80841, JP-A-59-192242, JP-A-3-67.
No. 242 described in general formulas (IIIa) and (IIIb).
Dicarbocyanines containing a quinoline nucleus are advantageously selected. Further, the wavelength of the infrared laser light source is 750 nm.
More preferably, when the wavelength is 800 nm or more.
No. 2639, No. 5-341432, Tokuhei 6-523
Nos. 87 and 3-10931; U.S. Pat.
Sensitizing dyes described in JP-A-866-866 and JP-A-7-13295 are preferably used.

【0189】これらの増感色素は単独で用いてもよく、
増感色素の組み合わせは特に、強色増感の目的でしばし
ば用いられる。増感色素とともに、それ自身分光増感作
用を持たない色素或いは可視光を実質的に吸収しない物
質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでいて
もよい。
These sensitizing dyes may be used alone.
In particular, combinations of sensitizing dyes are often used for supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization.

【0190】本発明の熱現像感光材料の露光は、アルゴ
ンイオンレーザー(488nm)、He−Neレーザー
(633nm)、赤色半導体レーザー(670nm)、
赤外半導体レーザー(780nm、820nm)等が好
ましく用いられるが、レーザーパワーがハイパワーであ
る事や、感光材料を透明にできる等の点から、赤外半導
体レーザーがより好ましく用いられる。
The photothermographic material of the present invention is exposed by an argon ion laser (488 nm), a He—Ne laser (633 nm), a red semiconductor laser (670 nm),
An infrared semiconductor laser (780 nm, 820 nm) or the like is preferably used, but an infrared semiconductor laser is more preferably used from the viewpoint that the laser power is high and the photosensitive material can be made transparent.

【0191】本発明の熱現像感光材料は、分光増感効率
を向上させるためにメルカプト化合物、ジスルフィド化
合物、チオン化合物を含有させることが好ましい。本発
明にメルカプト化合物を使用する場合、いかなる構造で
も良いが、Ar−SM1、Ar−S−S−Arで表され
るものが好ましい。式中M1は水素原子または、アルカ
リ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸
素、セレニウムまたはテルリウム原子を有する芳香環ま
たは縮合芳香環である。好ましくは、複素芳香環はベン
ズイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾー
ル、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾ
テルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾー
ル、トリアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、ト
リアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジ
ン、プリン、キノリンまたはキナゾリノンである。この
複素芳香環は、例えば、ハロゲン、ヒドロキシ、アミ
ノ、カルボキシ、アルキル及びアルコキシからなる置換
基群から選択されるものを有しても良い。
The photothermographic material of the present invention preferably contains a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound in order to improve the spectral sensitizing efficiency. When a mercapto compound is used in the present invention, any structure may be used, but a compound represented by Ar-SM 1 or Ar-SS-Ar is preferable. In the formula, M 1 is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or a condensed aromatic ring having at least one nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atom. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine, purine. , Quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring may have, for example, one selected from a substituent group consisting of halogen, hydroxy, amino, carboxy, alkyl and alkoxy.

【0192】メルカプト置換複素芳香族化合物として
は、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプ
トベンズオキザゾール、2−メルカプトベンゾ゛チアゾ
ール、2−メルカプト−5−メチルベンズイミダゾー
ル、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾール、
2−メルカプトイミダゾール、1−エチル−2−メルカ
プトベンズイミダゾール、2−メルカプトキノリン、8
−メルカプトプリン、2−メルカプト−4(3H)−キ
ナゾリノン、7−トリフルオロメチル−4−キノリンチ
オール、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チ
アジアゾール、3−アミノ−5−メルカプト−1,2,
4−トリアゾール、4−ヒドロキシ−2−メルカプトピ
リミジン、2−メルカプトピリミジンなどが挙げられる
が、本発明はこれらに限定されない。添加量は、感光層
中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルの範囲が好
ましく、さらには、銀1モル当たり0.01〜0.3モ
ルの範囲が好ましい。
Examples of the mercapto-substituted heteroaromatic compound include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzodithiazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, and 6-ethoxy-2-mercapto. Benzothiazole,
2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8
-Mercaptopurine, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto- 1,2,
Examples include 4-triazole, 4-hydroxy-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, and the like, but the invention is not limited thereto. The amount added is preferably in the range of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in the photosensitive layer, and more preferably in the range of 0.01 to 0.3 mol per mol of silver.

【0193】本発明の熱現像感光材料に用いられる還元
剤としては、一般に知られているものが挙げられ、例え
ば、フェノール類、2個以上のフェノール基を有するポ
リフェノール類、ナフトール類、ビスナフトール類、2
個以上の水酸基を有するポリヒドロキシベンゼン類、2
個以上の水酸基を有するポリヒドロキシナフタレン類、
アスコルビン酸類、3−ピラゾリドン類、ピラゾリン−
5−オン類、ピラゾリン類、フェニレンジアミン類、ヒ
ドロキシルアミン類、ハイドロキノンモノエーテル類、
ヒドロオキサミン酸類、ヒドラジド類、アミドオキシム
類、N−ヒドロキシ尿素類等があり、さらに詳しくは例
えば、米国特許第3,615,533号、同第3,67
9,426号、同第3,672,904号、同第3,7
51,252号、同第3,782,949号、同第3,
801,321号、同第3,794,488号、同第
3,893,863号、同第3,887,376号、同
第3,770,448号、同第3,819,382号、
同第3,773,512号、同第3,839,048
号、同第3,887,378号、同第4,009,03
9号、同第4,021,240号、英国特許第1,48
6,148号若しくはベルギー特許第786,086号
各明細書及び特開昭50−36143号、同50−36
110号、同50−116023号、同50−9971
9号、同50−140113号、同51−51933
号、同51−23721号、同52−84727号若し
くは特公昭51−35851号各公報に具体的に例示さ
れた還元剤があり、本発明はこのような公知の還元剤の
中から適宜選択して使用することが出来る。選択方法と
しては、実際に熱現像感光材料をつくってみてその写真
性能を評価する事により使用した還元剤の優劣を調べる
方法が最も簡便である。
Examples of the reducing agent used in the photothermographic material of the present invention include generally known reducing agents, such as phenols, polyphenols having two or more phenol groups, naphthols and bisnaphthols. , 2
Polyhydroxybenzenes having at least two hydroxyl groups, 2
Polyhydroxynaphthalenes having at least two hydroxyl groups,
Ascorbic acids, 3-pyrazolidones, pyrazoline-
5-ones, pyrazolines, phenylenediamines, hydroxylamines, hydroquinone monoethers,
Hydroxamic acids, hydrazides, amide oximes, N-hydroxyureas, and the like. More specifically, for example, U.S. Patent Nos. 3,615,533 and 3,67.
9,426, 3,672,904, 3,7
No. 51,252, No. 3,782,949, No. 3,
Nos. 801,321, 3,794,488, 3,893,863, 3,887,376, 3,770,448, 3,819,382,
No. 3,773,512 and No. 3,839,048
No. 3,887,378, No. 4,009,03
9, No. 4,021,240, British Patent No. 1,48
No. 6,148 or Belgian Patent No. 786,086 and JP-A-50-36143, 50-36.
No. 110, No. 50-116023, No. 50-9971
No. 9, No. 50-140113, No. 51-51933
Nos. 51-23721, 52-84727 and JP-B-51-35851, and the present invention is appropriately selected from such known reducing agents. Can be used. As a selection method, the simplest method is to actually prepare a photothermographic material and evaluate the photographic performance of the photothermographic material to determine the superiority of the reducing agent used.

【0194】上記の還元剤の中で、有機銀塩として脂肪
族カルボン酸銀塩を使用する場合に好ましい還元剤とし
ては、2個以上のフェノール基がアルキレン基又は硫黄
によって連結されたポリフェノール類、特にフェノール
基のヒドロキシ置換位置に隣接した位置の少なくとも一
つにアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等)又はアシル基
(例えばアセチル基、プロピオニル基等)が置換したフ
ェノール基の2個以上がアルキレン基又は硫黄によって
連結されたポリフェノール類、例えば1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、1,1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルフェニル)メタン、2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)−(2−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)メタン、6,6′−ベンジリデン−ビス
(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)、6,6′−ベ
ンジリデン−ビス(2−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、6,6′−ベンジリデン−ビス(2,4−ジメ
チルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパン、
1,1,5,5−テトラキス(2−ヒドロキシ−3,5
−ジメチルフェニル)−2,4−エチルペンタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジ−t−ブチルフェニル)プロパン等の米国特許第
3,589,903号、同第4,021,249号若し
くは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開
昭51−51933号、同50−36110号、同50
−116023号、同52−84727号若しくは特公
昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール
化合物)、米国特許第3,672,904号明細書に記
載されたビスナフトール類、例えば、2,2′−ジヒド
ロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−
2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,
6′−ジニトロ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メ
タン、4,4′−ジメトキシ−1,1′−ジヒドロキシ
−2,2′−ビナフチル等、更に米国特許第3,80
1,321号明細書に記載されているようなスルホンア
ミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類、例え
ば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベン
ゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4
−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンス
ルホンアミドナフトール等を挙げることが出来る。
Among the above reducing agents, when an aliphatic silver carboxylate is used as the organic silver salt, preferred reducing agents include polyphenols in which two or more phenol groups are linked by an alkylene group or sulfur. In particular, an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, etc.) or an acyl group (eg, acetyl group, propionyl group, etc.) is provided at at least one of the positions adjacent to the hydroxy substitution position of the phenol group. Are polyphenols in which two or more of the phenol groups substituted by an alkylene group or sulfur, for example, 1,1-bis (2
-Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5
5-trimethylhexane, 1,1-bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane,
1,1-bis (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) methane, 2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl)-(2-hydroxy-5-methylphenyl) methane 6,6'-benzylidene-bis (2,4-di-t-butylphenol), 6,6'-benzylidene-bis (2-t-butyl-4-methylphenol), 6,6'-benzylidene-bis (2,4-dimethylphenol), 1,1-bis (2-hydroxy-
3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane,
1,1,5,5-tetrakis (2-hydroxy-3,5
-Dimethylphenyl) -2,4-ethylpentane, 2,
2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5
U.S. Pat. Nos. 3,589,903 and 4,021,249 or British Patent 1,486,148 and JP-A-51-51933. No. 50-36110, No. 50
Polyphenol compounds described in JP-A-116023, JP-A-52-84727 or JP-B-51-35727), and bisnaphthols described in U.S. Pat. No. 3,672,904, for example, 2,2 '-Dihydroxy-1,1'-binaphthyl,6,6'-dibromo-
2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl, 6,
6'-dinitro-2,2'-dihydroxy-1,1'-
Binaphthyl, bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane, 4,4'-dimethoxy-1,1'-dihydroxy-2,2'-binaphthyl and the like, and further US Pat. No. 3,80
Sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols as described in US Pat. No. 1,321, for example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol, 2,6-dichloro-4
-Benzenesulfonamidophenol, 4-benzenesulfonamidonaphthol and the like.

【0195】本発明の熱現像感光材料に使用される還元
剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤に
よって変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり
0.05モル〜10モル好ましくは0.1モル〜3モル
が適当である。又この量の範囲内において、上述した還
元剤は2種以上併用されてもよい。
The amount of the reducing agent used in the photothermographic material of the present invention varies depending on the type of the organic silver salt, the reducing agent, and other additives. The suitable amount is from 05 mol to 10 mol, preferably from 0.1 mol to 3 mol. Further, within this range, two or more of the above-mentioned reducing agents may be used in combination.

【0196】本発明の熱現像感光材料には、例えば米国
特許第3,874,946号、同4,756,999
号、同5,340,712号、欧州特許第605,98
1A1号、同622,666A1号、同631,176
A1号、特公昭54−165号、特開平7−2781
号、特開平9−160164号、同9−244178
号、同9−258367号、同9−265150号、同
9−281640号、同9−319022号公報等に記
載のポリハロゲン化合物を好ましく用いることができ
る。
The photothermographic materials of the present invention include, for example, US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,756,999.
No. 5,340,712 and European Patent No. 605,98.
No. 1A1, No. 622, 666A1, No. 631,176
A1, JP-B-54-165, JP-A-7-2781
JP-A-9-160164 and JP-A-9-244178
, 9-258367, 9-265150, 9-281640, and 9-319022 can be preferably used.

【0197】本発明に用いるポリハロゲン化合物は、銀
1モルに対して5×10-4〜0.5モル、好ましくは5
×10-3〜5×10-2モルの含有量で含有される。
The polyhalogen compound used in the present invention is used in an amount of 5 × 10 −4 to 0.5 mol, preferably 5 × 10 −4 mol, per mol of silver.
It is contained at a content of × 10 -3 to 5 × 10 -2 mol.

【0198】本発明の熱現像感光材料において、上述し
た各成分と共に色調剤、色調付与剤若しくは付活剤トー
ナーと称せられる添加剤(以下色調剤と呼ぶ)が使用さ
れる事が望ましい。色調剤は有機銀塩と還元剤の酸化還
元反応に関与して、生ずる銀画像を濃色、特に黒色にす
る機能を有する。本発明に用いられる好適な色調剤の例
はResearch Disclosure第1702
9号に開示されており、次のものがある。
In the photothermographic material of the present invention, it is desirable to use an additive (hereinafter referred to as a "toning agent") called a toning agent, a toning agent or an activator toner together with the above-mentioned components. The color tone agent participates in the oxidation-reduction reaction between the organic silver salt and the reducing agent, and has a function of making the resulting silver image dark, particularly black. Examples of suitable toning agents for use in the present invention are Research Disclosure No. 1702
No. 9 and the following.

【0199】イミド類(例えば、フタルイミド);環状
イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類(例えば、N,N′−ヘキサメチ
レン(1−カルバモイル−3,5−ジメチルピラゾー
ル)、イソチウロニウム(isothiuroniu
m)誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ(例え
ば、1,8−(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソ
チウロニウムトリフルオロアセテート)及び2−(トリ
ブロモメチルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わ
せ);フタラジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの
誘導体の金属塩(例えば、4−(1−ナフチル)フタラ
ジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオ
キシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フ
タラジンジオン);フタラジノンとスルフィン酸誘導体
の組み合わせ(例えば、6−クロロフタラジノンとベン
ゼンスルフィン酸ナトリウム又は8−メチルフタラジノ
ンとp−トリスルホン酸ナトリウム);フタラジンとフ
タル酸の組み合わせ;フタラジン(フタラジンの付加物
を含む)とマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−
ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及
びその無水物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル
酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水
物)から選択される少なくとも1つの化合物との組み合
わせ;キナゾリンジオン類、ベンズオキサジン、ナルト
キサジン誘導体;ベンズオキサジン−2,4−ジオン類
(例えば、1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオ
ン);ピリミジン類及び不斉−トリアジン類(例えば、
2,4−ジヒドロキシピリミジン);テトラアザペンタ
レン誘導体(例えば、3,6−ジメルカプト−1,4−
ジフェニル−1H,4H−2,3a,5,6a−テトラ
アザペンタレン)。好ましい色調剤としてはフタラゾン
又はフタラジンである。
Imides (eg, phthalimide); cyclic imides, pyrazolin-5-ones, and quinazolinones (eg, succinimide, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and , 4-thiazolidinedione); naphthalimides (eg, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, hexamine trifluoroacetate of cobalt), mercaptans (eg, 3
-Mercapto-1,2,4-triazole); N- (aminomethyl) aryldicarboximides (for example,
N- (dimethylaminomethyl) phthalimide); blocked pyrazoles (eg, N, N′-hexamethylene (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), isothiuronium (isothiuronium)
m) Combinations of derivatives and certain photobleaches (eg, combinations of 1,8- (3,6-dioxaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzothiazole ); Phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (e.g., 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1, 4-phthalazinedione); a combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (for example, 6-chlorophthalazinone and sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone and sodium p-trisulfonate); a combination of phthalazine and phthalic acid; Phthalazine (including phthalazine adducts) and maleic Anhydride, and phthalic acid, 2,3
Combination with at least one compound selected from naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (for example, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride); quinazolinedione , Benzoxazine, naloxazine derivatives; benzoxazine-2,4-diones (eg, 1,3-benzoxazine-2,4-dione); pyrimidines and asymmetric triazines (eg,
2,4-dihydroxypyrimidine); tetraazapentalene derivatives (for example, 3,6-dimercapto-1,4-
Diphenyl-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene). Preferred toning agents are phthalazone or phthalazine.

【0200】本発明の熱現像感光材料に好適な疎水性バ
インダーは透明又は半透明で一般に無色であり、天然ポ
リマーや合成ポリマー及びコポリマー、その他、フィル
ムを形成する媒体、例えば、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートブチレート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無水マレイ
ン酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポ
リ(スチレン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール
類、例えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラ
ール、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹
脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド類、ポリカー
ボネート類、ポリビニルアセテート類、セルロースエス
テル類、ポリアミド等がある。しかしながら、これらの
バインダーの中でも特に好ましいのは、セルロースアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、ポリビニル
ブチラールであり、この中で特に好ましいのはポリビニ
ルブチラールである。
The hydrophobic binder suitable for the photothermographic material of the present invention is transparent or translucent and generally colorless, and includes natural polymers, synthetic polymers and copolymers, and other film-forming media such as cellulose acetate and cellulose acetate. Butyrate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), polyvinylacetals, for example, polyvinylformal, polyvinylbutyral, polyesters, polyurethane , Phenoxy resin, polyvinylidene chloride, polyepoxides, polycarbonates, polyvinyl acetates, cellulose esters, polyamides and the like. However, among these binders, particularly preferred are cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and polyvinyl butyral, and among them, polyvinyl butyral is particularly preferred.

【0201】本発明においては、感光層のバインダー量
が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好ま
しくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満で
は未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合
がある。
In the present invention, the binder amount of the photosensitive layer is preferably from 1.5 to 6 g / m 2 . More preferably, it is 1.7 to 5 g / m 2 . If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed portion will increase significantly and may not be usable.

【0202】本発明においては、感光性層側にマット剤
を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防
止のために、感光材料の表面にマット剤を配することが
好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
In the present invention, a matting agent is preferably contained on the photosensitive layer side, and it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material in order to prevent damage to the image after thermal development. It is preferred that the agent be contained in an amount of 0.5 to 30% by weight based on all binders on the photosensitive layer side.

【0203】また、支持体をはさみ感光層の反対側に非
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべ
り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット
剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の
反対側の層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜4
0%含有することが好ましい。
When a non-photosensitive layer is provided on the opposite side of the photosensitive layer with the support interposed therebetween, it is preferable that at least one layer on the non-photosensitive layer side contains a matting agent, so that the slipping property and the adhesion of fingerprints of the photosensitive material can be improved. For prevention, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material, and the matting agent is used in a weight ratio of 0.5 to 4 with respect to all binders in the layer on the side opposite to the photosensitive layer side.
It is preferable to contain 0%.

【0204】本発明において用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等を
マット剤として用いることができる。有機物としては、
米国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベル
ギー特許第625,451号や英国特許第981,19
8号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643
号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第33
0,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタア
クリレート、米国特許第3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,16
9号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット
剤を用いることができる。
The material of the matting agent used in the present invention may be either an organic substance or an inorganic substance. For example, as inorganic substances, silica described in Swiss Patent No. 330,158, glass powder described in French Patent No. 1,296,995, etc., and alkali described in British Patent No. 1,173,181 etc. An earth metal or a carbonate such as cadmium or zinc can be used as a matting agent. As organic matter,
Starch described in U.S. Pat. No. 2,322,037, Belgian Patent No. 625,451 and British Patent No. 981,19
No. 8 and the like, and starch derivatives described in JP-B-44-3643.
No. 33, Swiss Patent No. 33
No. 0,158, polystyrene or polymethacrylate; U.S. Pat. No. 3,079,257; polyacrylonitrile; U.S. Pat. No. 3,022,16.
An organic matting agent such as polycarbonate described in No. 9 or the like can be used.

【0205】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
The shape of the matting agent may be either regular or irregular, but is preferably regular and spherical. The size of the matting agent is represented by a diameter when the volume of the matting agent is converted into a sphere. In the present invention, the particle diameter of the matting agent indicates the diameter converted into a sphere.

【0206】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ま
しくは30%以下となるマット剤である。
The matting agent used in the present invention preferably has an average particle size of 0.5 μm to 10 μm, more preferably 1.0 μm to 8.0 μm. The matting agent preferably has a variation coefficient of the particle size distribution of 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less.

【0207】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。
Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

【0208】(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×
100 本発明に係るマット剤は任意の構成層中に含むことがで
きるが、本発明の目的を達成するためには好ましくは感
光性層以外の構成層であり、更に好ましくは支持体から
見て最も外側の層であり、通常は保護膜に含有せしめら
れる。
(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size) ×
100 The matting agent according to the present invention can be contained in any constituent layer. However, in order to achieve the object of the present invention, the matting agent is preferably a constituent layer other than the photosensitive layer, more preferably from the viewpoint of the support. This is the outermost layer and is usually included in the protective film.

【0209】本発明に係るマット剤の添加方法は、予め
塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、
塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を
噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類のマット
剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
The method of adding the matting agent according to the present invention may be a method of dispersing in a coating solution in advance and coating the solution.
A method of spraying a matting agent after the application liquid is applied and before the drying is completed may be used. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used in combination.

【0210】本発明の熱現像感光材料は常温で安定であ
るが、露光後高温に加熱することで現像される。加熱温
度としては80℃以上200℃以下が好ましく、さらに
好ましいのは100℃以上150℃以下である。加熱温
度が80℃以下では短時間に十分な画像濃度が得られ
ず、又200℃以上ではバインダーが溶融し、ローラー
への転写など、画像そのものだけでなく搬送性や、現像
機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸
化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応に
より銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水
等の処理液の供給なしに進行する。上記現像は保護層側
から加熱するのが好ましく、ベースを介して加熱する場
合に比べて均一な加熱を行うことが出来、不均一な加熱
による画像のムラを防止できる。この為に保護層に用い
るポリマーとしては軟化点の高いものが好ましく前記の
ポリマーのうちセルロースアセテート、セルロースアセ
テートブチレート等が好ましい。又ゼラチン等のポリマ
ーも用いる事が出来る。
The photothermographic material of the present invention is stable at room temperature, but is developed by heating to high temperature after exposure. The heating temperature is preferably from 80 ° C. to 200 ° C., and more preferably from 100 ° C. to 150 ° C. If the heating temperature is lower than 80 ° C., a sufficient image density cannot be obtained in a short time, and if the heating temperature is higher than 200 ° C., the binder is melted and adversely affects not only the image itself but also transportability such as transfer to a roller and a developing machine. Effect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without supply of a processing liquid such as water from the outside. The above-mentioned development is preferably performed by heating from the protective layer side, so that uniform heating can be performed as compared with the case of heating through a base, and image unevenness due to uneven heating can be prevented. For this reason, the polymer used for the protective layer is preferably one having a high softening point, and among the above-mentioned polymers, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and the like are preferable. Polymers such as gelatin can also be used.

【0211】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも1層の感光性層を有している。支持体の上に感光
性層のみを形成してもよいが、感光性層の上に少なくと
も一層の非感光性層を保護層として形成するのが好まし
い。又、カール防止や、鮮鋭性向上のためにバックコー
ト層を支持体の反対側に設けてもよく、感光性層に透過
する光の量または波長分布を制御するために感光性層と
同じ側または反対の側にフィルター層を形成してもよい
し、感光性層に染料又は顔料を含有させてもよい。染料
としては特開平8−201959号の化合物が好まし
い。感光性層は複数層にしてもよく、又階調の調節のた
めに高感度層、低感度層を設け、これを組み合わせても
よい。各種の添加剤は感光性層、非感光性層又はその他
の形成層のいずれに添加してもよい。本発明の熱現像感
光材料にはたとえば界面活性剤、酸化防止剤、安定化
剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いてもよ
い。
The photothermographic material of the present invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer as a protective layer on the photosensitive layer. Also, a back coat layer may be provided on the opposite side of the support to prevent curling and improve sharpness, and the same side as the photosensitive layer to control the amount or wavelength distribution of light transmitted to the photosensitive layer. Alternatively, a filter layer may be formed on the opposite side, or a dye or pigment may be contained in the photosensitive layer. As the dye, compounds described in JP-A-8-201959 are preferred. The photosensitive layer may be composed of a plurality of layers, or a high-sensitivity layer and a low-sensitivity layer may be provided for adjusting the gradation and may be combined. Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other forming layers. The photothermographic material of the present invention may contain, for example, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a coating aid.

【0212】本発明感光材料の前記感光性層、保護層及
びバックコート層等本発明の感光材料上に必要な各層を
塗設する方法に特に制限はなく、従来知られている、エ
アナイフコーティング、ディップコーティング、バーコ
ーティング、カーテンコーティング、ホッパーコーティ
ングなどの方法を用いることができる。又、これらの層
を2層以上同時に塗布してもよい。塗布液の溶媒として
はメチルエチルケトン(MEK)、酢酸エチル、トルエ
ンの様な有機溶媒が好ましく、保護層やバックコート層
の場合にゼラチンのような水溶性ポリマーを用いる時は
水溶媒が好ましい。
The method of coating the photosensitive layer of the present invention with the necessary layers such as the above-mentioned photosensitive layer, protective layer and back coat layer is not particularly limited. Methods such as dip coating, bar coating, curtain coating, and hopper coating can be used. Further, two or more of these layers may be applied simultaneously. As a solvent for the coating solution, an organic solvent such as methyl ethyl ketone (MEK), ethyl acetate, and toluene is preferable, and when a water-soluble polymer such as gelatin is used for the protective layer or the back coat layer, a water solvent is preferable.

【0213】本発明の感光材料を熱現像する際には感光
材料が少量の溶剤を含んでいることが好ましく、それに
より高い感度と低いカブリを得ることが出来る。
When the light-sensitive material of the present invention is thermally developed, the light-sensitive material preferably contains a small amount of a solvent, whereby high sensitivity and low fog can be obtained.

【0214】本発明においてこれらの溶剤としては、例
えば、ケトン類としてアセトン、イソフォロン、エチル
アミルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等が挙げられる。アルコール類としてメチルアル
コール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソ
ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、シクロヘキ
サノール、ベンジルアルコール等があげられる。グリコ
ール類としてエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ヘキシレングリコール等が挙げられる。エーテルアルコ
ール類としてエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられ
る。エーテル類としてエチルエーテル、ジオキサン、イ
ソプロピルエーテル等が挙げられる。エステル類として
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸イソプロピ
ル等が挙げられる。炭化水素類としてn−ペンタン、n
−ヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等が挙げられる。塩化物類とし
て塩化メチル、塩化メチレン、クロロフォルム、ジクロ
ルベンゼン等が挙げられる。アミン類としてモノメチル
アミン、ジメチルアミン、トリエタノールアミン、エチ
レンジアミン、トリエチルアミン等が挙げられる。その
他として水、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ニ
トロメタン、ピリジン、トルイジン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸等が挙げられる。但しこれらに限定されるもの
ではない。又、これらの溶剤は、単独、又は、数種類組
み合わせる事が出来る。
In the present invention, examples of these solvents include ketones such as acetone, isophorone, ethyl amyl ketone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol as alcohols,
Isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, diacetone alcohol, cyclohexanol, benzyl alcohol and the like. As glycols, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol,
Hexylene glycol and the like can be mentioned. Ethylene glycol monomethyl ether as ether alcohols,
And diethylene glycol monoethyl ether. Examples of ethers include ethyl ether, dioxane, and isopropyl ether. Examples of the esters include ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, and isopropyl acetate. N-pentane, n as hydrocarbons
-Hexane, n-heptane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene and the like. Examples of chlorides include methyl chloride, methylene chloride, chloroform, dichlorobenzene and the like. Examples of the amines include monomethylamine, dimethylamine, triethanolamine, ethylenediamine, and triethylamine. Other examples include water, formamide, dimethylformamide, nitromethane, pyridine, toluidine, tetrahydrofuran, acetic acid and the like. However, it is not limited to these. These solvents can be used alone or in combination of several kinds.

【0215】尚、感光材料中の上記溶剤の含有量は塗布
工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によ
って調整できる。又、当該溶剤の含有量は含有させた溶
剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマト
グラフイーで測定できる。
The content of the solvent in the light-sensitive material can be adjusted by changing conditions such as temperature conditions in a drying step after the coating step. The content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.

【0216】本発明に係わる感光材料中に含有される溶
剤の量はは合計量(重量基準)で40〜4500pp
m、好ましくは、100〜4000ppm(支持体以外
の感材構成要素の重量に基づき計算)であるように調整
することが必要である。
The amount of the solvent contained in the light-sensitive material according to the present invention is 40 to 4500 pp in total amount (based on weight).
m, preferably 100 to 4000 ppm (calculated based on the weight of the light-sensitive material components other than the support).

【0217】当該含有量が上記範囲においては、高感度
でありながら、カブリ濃度が低い熱現像感光材料にする
ことが出来る。
When the content is within the above range, a photothermographic material having high fog and low fog density can be obtained.

【0218】又、本発明において、露光はレーザー走査
露光により行うことが好ましいが、感光材料の露光面と
走査レーザー光のなす角度が実質的に垂直になることが
ないレーザー走査露光機を用いることが好ましい。
In the present invention, the exposure is preferably performed by laser scanning exposure. However, it is preferable to use a laser scanning exposure machine in which the angle between the exposure surface of the photosensitive material and the scanning laser beam does not become substantially perpendicular. Is preferred.

【0219】ここで「実質的に垂直になる事がない」と
はレーザー走査中にもっとも垂直に近い角度として好ま
しくは55度以上88度以下、より好ましくは60度以
上86度以下、更に好ましくは65度以上84度以下、
最も好ましくは70度以上82度以下である事をいう。
Here, "not substantially vertical" means that the angle is closest to vertical during laser scanning, preferably 55 to 88 degrees, more preferably 60 to 86 degrees, and still more preferably. 65 degrees or more and 84 degrees or less,
Most preferably, it is 70 degrees or more and 82 degrees or less.

【0220】レーザー光が、感光材料に走査されるとき
の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましく
は200μm以下、より好ましくは100μm以下であ
る。これはスポット径が小さい方がレーザー入射角度の
垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。尚、ビ
ームスポット直径の加減は10μmである。この様なレ
ーザー走査露光を行うことにより干渉縞様のムラの発生
等のような反射光に係わる画質劣化を減じることが出来
る。
The beam spot diameter on the exposed surface of the photosensitive material when the laser light is scanned on the photosensitive material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. It is preferable that the spot diameter is small in that the shift angle of the laser incident angle from the perpendicular can be reduced. Incidentally, the adjustment of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as occurrence of interference fringe-like unevenness.

【0221】又、本発明における露光は縦マルチである
走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を用いて行
うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザー光に比
べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。
The exposure in the present invention is also preferably performed using a laser scanning exposure machine that emits a scanning laser beam that is a vertical multi. Image quality deterioration such as generation of interference fringe-like unevenness is reduced as compared with the scanning laser beam in the longitudinal single mode.

【0222】縦マルチ化するには、合波による、戻り光
を利用する、高周波重畳をかける等の方法がよい。尚、
縦マルチとは、露光波長が単一でない事を意味し、通常
露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上
になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はな
いが、通常60nm程度である。
In order to form the vertical multi-path, it is preferable to use a method of combining, using return light, or superimposing a high frequency. still,
The vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

【0223】以下実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0224】[0224]

【実施例】実施例1 (支持体の作製)濃度0.170(コニカ(株)製デン
シトメータPDA−65)に青色着色した、厚み175
μmのPETフィルムの両面に8W/m2・分のコロナ
放電処理を施した。
EXAMPLES Example 1 (Preparation of Support) Concentration 0.170 (densitometer PDA-65 manufactured by Konica Corp.) was colored blue and had a thickness of 175.
A corona discharge treatment of 8 W / m 2 · min was applied to both sides of a μm PET film.

【0225】(感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水9
00ml中に平均分子量10万のオセインゼラチン7.
5g及び臭化カリウム10mgを溶解して温度35℃、
pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液
370mlと(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃
化カリウムを硝酸銀と等モル及び塩化イリジウムを銀1
モル当たり1×10-4モル含む水溶液370mlを、p
Ag7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット
法で10分間かけて添加した。その後4−ヒドロキシ−
6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン0.
3gを添加しNaOHでpHを5に調整して平均粒子サ
イズ0.06μm、粒子サイズの変動係数12%、〔1
00〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この
乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後
フェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.9、p
Ag7.5に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得
た。
(Preparation of Photosensitive Silver Halide Emulsion A) Water 9
6. Ossein gelatin having an average molecular weight of 100,000 in 00 ml
5 g and 10 mg of potassium bromide were dissolved at a temperature of 35 ° C.
After adjusting the pH to 3.0, 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate, potassium bromide and potassium iodide in a molar ratio of (98/2) were equimolar to silver nitrate, and iridium chloride was converted to silver 1
370 ml of an aqueous solution containing 1 × 10 -4 mol per mol was added to p
Ag was added over 10 minutes by a controlled double jet method while keeping the Ag at 7.7. Then 4-hydroxy-
6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene
After adding 3 g and adjusting the pH to 5 with NaOH, the average particle size was 0.06 μm, the variation coefficient of the particle size was 12%, and [1
00] Cubic silver iodobromide grains having an area ratio of 87% were obtained. This emulsion was subjected to coagulation sedimentation using a gelatin coagulant and desalting treatment, and then 0.1 g of phenoxyethanol was added thereto.
Ag was adjusted to 7.5 to obtain photosensitive silver halide emulsion A.

【0226】(粉末有機銀塩Aの調製)4720mlの
純水にベヘン酸111.4g、アラキジン酸83.8
g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶解した。次に
高速で撹拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液
540.2mlを添加した。次に濃硝酸6.9mlを加
えた後、55℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を得
た。該有機酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったま
ま、上記ハロゲン化銀乳剤A(銀0.038モルを含
む)と純水450mlを添加し5分間攪拌した。次に1
Mの硝酸銀溶液760.6mlを2分間かけて添加し、
さらに20分撹拌し、濾過により水溶性塩類を除去し
た。その後、濾液の電導度が2μS/cmになるまで脱
イオン水による水洗、濾過を繰り返し、遠心脱水を実施
した後、37℃にて重量減がなくなるまで温風乾燥を行
い、粉末有機銀塩Aを得た。
(Preparation of Powdered Organic Silver Salt A) 111.4 g of behenic acid and 83.8 of arachidic acid were added to 4720 ml of pure water.
g and 54.9 g of stearic acid were dissolved at 80 ° C. Next, while stirring at a high speed, 540.2 ml of a 1.5 M aqueous sodium hydroxide solution was added. Next, after adding 6.9 ml of concentrated nitric acid, the mixture was cooled to 55 ° C. to obtain a sodium organic acid solution. While keeping the temperature of the organic acid sodium solution at 55 ° C., the silver halide emulsion A (containing 0.038 mol of silver) and 450 ml of pure water were added, and the mixture was stirred for 5 minutes. Then 1
760.6 ml of M silver nitrate solution is added over 2 minutes,
The mixture was further stirred for 20 minutes, and the water-soluble salts were removed by filtration. Thereafter, washing with deionized water and filtration are repeated until the conductivity of the filtrate becomes 2 μS / cm, centrifugal dehydration is performed, and then hot air drying is performed at 37 ° C. until the weight is no longer reduced. I got

【0227】(感光性乳剤分散液の調製)ポリビニルブ
チラール粉末(Monsanto社 Butvar B
−79)14.57gをメチルエチルケトン(以後ME
Kと略す)1457gに溶解し、ディゾルバー型ホモジ
ナイザにて撹拌しながら粉末有機銀塩A500gを徐々
に添加して十分に混合した。その後1mmZrビーズ
(東レ製)を80%充填したメディア型分散機(Get
tzmann社製)にて周速13m、ミル内滞留時間
0.5分間にて分散を行ない感光性乳剤分散液を調製し
た。
(Preparation of photosensitive emulsion dispersion) Polyvinyl butyral powder (Butvar B manufactured by Monsanto)
-79) with 14.57 g of methyl ethyl ketone (hereinafter ME
K) (1457 g), and 500 g of powdered organic silver salt A was gradually added thereto with stirring with a dissolver-type homogenizer, followed by thorough mixing. Thereafter, a media type disperser (Get) filled with 80% of 1 mm Zr beads (manufactured by Toray)
(manufactured by tzmann) at a peripheral speed of 13 m and a residence time in the mill of 0.5 minute to prepare a photosensitive emulsion dispersion.

【0228】〈赤外増感色素液の調製〉赤外増感色素1
を350mg、2−クロロ安息香酸13.96g、およ
び5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾール2.
14gをメタノール73.4mlに、暗所にて溶解し赤
外増感色素液を調製した。
<Preparation of infrared sensitizing dye liquid> Infrared sensitizing dye 1
350 mg, 13.96 g of 2-chlorobenzoic acid and 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole.
14 g was dissolved in 73.4 ml of methanol in a dark place to prepare an infrared sensitizing dye solution.

【0229】〈安定剤液の調製〉安定剤1を1.0g、
酢酸カリウム 0.5gをメタノール8.5gに溶解
し安定剤液を調製した。
<Preparation of Stabilizer Liquid> 1.0 g of Stabilizer 1 was prepared.
0.5 g of potassium acetate was dissolved in 8.5 g of methanol to prepare a stabilizer solution.

【0230】〈現像剤液の調製〉現像剤(1,1−ビス
(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3−
メチルプロパン)を17.74gをMEKに溶解し、1
00mlに仕上げ、現像剤液とした。
<Preparation of developer solution> Developer (1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3-
17.74 g of methylpropane) was dissolved in MEK, and 1
Finished to 00 ml to make a developer solution.

【0231】〈かぶり防止剤液の調製〉かぶり防止剤2
を5.81gをMEKに溶解し、100mlに仕上げ、
かぶり防止剤液とした。
<Preparation of Antifoggant Solution> Antifoggant 2
Is dissolved in MEK and finished to 100 ml.
An antifoggant solution was used.

【0232】[0232]

【化81】 Embedded image

【0233】(感光層塗布液の調製)前記感光性乳剤分
散液(50g)およびMEK15.11gを撹拌しなが
ら21℃に保温し、本発明化合物(一般式(A)〜
(C)から選ばれる)を10%メタノール溶液で表1に
示した量になるように加え、1時間撹拌した。さらに臭
化カルシウム(10%メタノール溶液)889μlを添
加して30分撹拌した。
(Preparation of Coating Solution for Photosensitive Layer) The above-mentioned photosensitive emulsion dispersion (50 g) and 15.11 g of MEK were kept at 21 ° C. with stirring to obtain the compound of the present invention (general formula (A) to (11)).
(C) was added in a 10% methanol solution to the amount shown in Table 1 and stirred for 1 hour. Further, 889 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes.

【0234】次に、赤外増感色素液1.416mlおよ
び安定剤液667μlを添加して1時間撹拌した後に温
度を13℃まで降温してさらに30分撹拌した。
Next, 1.416 ml of the infrared sensitizing dye solution and 667 μl of the stabilizer solution were added, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, the temperature was lowered to 13 ° C., and the mixture was further stirred for 30 minutes.

【0235】13℃に保温したまま、ポリビニルブチラ
ール(Monsanto社 Butvar B−79)
13.31gを添加して30分撹拌してから、さらに撹
拌を続けながら以下の添加物を15分間隔で添加した。
While keeping the temperature at 13 ° C., polyvinyl butyral (Monvarto Butvar B-79) was used.
After adding 13.31 g and stirring for 30 minutes, the following additives were added at intervals of 15 minutes while stirring was continued.

【0236】 フタラジン: 305mg テトラクロロフタル酸: 102mg 4−メチルフタル酸: 137mg 赤外染料1: 37mg 上記を添加し15分撹拌した後、 かぶり防止剤液: 5.47ml 現像剤液: 14.06ml 本発明化合物(表1に示す)10%MEK溶液: 1.60ml (一般式(1)〜(7)、アジリジン化合物、エポキシ
化合物、カルボジイミド化合物から選ばれる)を順次添
加し撹拌することにより感光層塗布液を得た。
Phthalazine: 305 mg Tetrachlorophthalic acid: 102 mg 4-Methylphthalic acid: 137 mg Infrared dye 1: 37 mg After adding the above and stirring for 15 minutes, antifoggant solution: 5.47 ml Developer solution: 14.06 ml Inventive compound (shown in Table 1) 10% MEK solution: 1.60 ml (selected from general formulas (1) to (7), an aziridine compound, an epoxy compound, and a carbodiimide compound) are sequentially added, and the mixture is stirred, followed by application to the photosensitive layer. A liquid was obtained.

【0237】[0237]

【化82】 Embedded image

【0238】ついで支持体上に以下の各層を順次形成
し、感光材料を作製した。尚、乾燥は各々75℃,5分
間で行った。
Next, the following layers were sequentially formed on a support to prepare a light-sensitive material. The drying was performed at 75 ° C. for 5 minutes.

【0239】 〈バック面側塗布〉 酢酸セルロース(10%メチルエチルケトン溶液) 15ml/m2 マット剤: 30mg/m2 (単分散度15%平均粒子サイズ10μm単分散シリカ) 〈感光層面側塗布〉感光層:前記の組成の液を塗布銀量
2g/m2になる様に塗布した。
<Back side coating> Cellulose acetate (10% methyl ethyl ketone solution) 15 ml / m 2 Matting agent: 30 mg / m 2 (monodispersity 15% average particle size 10 μm monodisperse silica) <Photosensitive layer side coating> Photosensitive layer : The solution having the above composition was applied so that the applied silver amount was 2 g / m 2 .

【0240】表面保護層:以下の組成の液を感光層の上
に塗布した。
Surface protective layer: A solution having the following composition was applied on the photosensitive layer.

【0241】 メチルエチルケトン 17ml/m2 酢酸セルロース 2.3g/m2 マット剤: 70mg/m2 (単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ) 《露光及び現像処理》上記のように作製した感光材料の
乳剤面側から、高周波重畳にて波長800nm〜820
nmの縦マルチモード化された半導体レーザーを露光源
とした露光機によりレーザー走査による露光を与えた。
この際に、感光材料の露光面と露光レーザー光の角度を
75度とした。
Methyl ethyl ketone 17 ml / m 2 Cellulose acetate 2.3 g / m 2 Matting agent: 70 mg / m 2 (monodispersity 10% average particle size 4 μm monodisperse silica) << Exposure and development treatment >> Photosensitivity prepared as described above From the emulsion side of the material, a wavelength of 800 nm to 820
Exposure was performed by laser scanning using an exposure machine using a semiconductor laser having a vertical multi-mode of nm as an exposure source.
At this time, the angle between the exposure surface of the photosensitive material and the exposure laser beam was set to 75 degrees.

【0242】その後、ヒートドラムを有する自動現像機
を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触するよう
にして、110℃で15秒熱現像処理した。その際、露
光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋で行っ
た。得られた画像の評価を濃度計により行った。測定の
結果は、感度(未露光部分よりも1.0高い濃度を与え
る露光量の比の逆数)およびカブリで評価し、感光材料
の感度は相対値で示した。結果を表1に示す。
Thereafter, heat development was performed at 110 ° C. for 15 seconds using an automatic developing machine having a heat drum so that the protective layer of the photosensitive material was in contact with the drum surface. At that time, exposure and development were performed in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH. The obtained image was evaluated using a densitometer. The results of the measurement were evaluated by sensitivity (the reciprocal of the ratio of the exposure amount giving a density higher than that of the unexposed portion by 1.0) and fog, and the sensitivity of the photosensitive material was indicated by a relative value. Table 1 shows the results.

【0243】(なお、当該角度を90度とした場合に比
べムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等が良好な画像が
得られた。)
(Note that an image having less unevenness and unexpectedly good sharpness and the like was obtained compared to the case where the angle was set to 90 degrees.)

【0244】[0244]

【表1】 [Table 1]

【0245】実施例2 実施例1と同様にして、支持体を作製し、感光性ハロゲ
ン化銀乳剤及び粉末有機銀塩を作成して感光性乳剤分散
液を調製した。
Example 2 In the same manner as in Example 1, a support was prepared, and a photosensitive silver halide emulsion and a powdered organic silver salt were prepared to prepare a photosensitive emulsion dispersion.

【0246】〈赤外増感色素液の調製〉赤外増感色素1
を350mg、クロル安息香酸に代え本発明化合物(一
般式(D)で表される化合物)を表2に示す量、および
5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾール2.1
4gをメタノール73.4mlに暗所にて溶解し赤外増
感色素液を調製した。
<Preparation of infrared sensitizing dye liquid> Infrared sensitizing dye 1
And the amount of the compound of the present invention (compound represented by the general formula (D)) shown in Table 2 in place of chlorobenzoic acid, and 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole 2.1
4 g was dissolved in 73.4 ml of methanol in a dark place to prepare an infrared sensitizing dye solution.

【0247】〈安定剤液の調製〉実施例1と同じ 〈現像剤液の調製〉実施例1同じ 〈かぶり防止剤液の調製〉実施例1と同じ (感光層塗布液の調製)実施例1と同じ感光性乳剤分散
液(50g)およびMEK15.11gを撹拌しながら
21℃に保温し、本発明化合物A1を10%メタノール
溶液で390μl加え、1時間撹拌した。さらに臭化カ
ルシウム(10%メタノール溶液)889μlを添加し
て30分撹拌した。
<Preparation of stabilizer solution> Same as in Example 1 <Preparation of developer solution> Same as in Example 1 <Preparation of antifoggant solution> Same as in Example 1 (Preparation of photosensitive layer coating solution) Example 1 The same photosensitive emulsion dispersion (50 g) and 15.11 g of MEK were kept at 21 ° C. while stirring, and 390 μl of the present compound A1 in a 10% methanol solution was added, followed by stirring for 1 hour. Further, 889 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes.

【0248】次に、赤外増感色素液1.416mlおよ
び安定剤液667μlを添加して1時間撹拌した後に温
度を13℃まで降温してさらに30分撹拌した。13℃
に保温したまま、ポリビニルブチラール(Monsan
to社 Butvar B−79)13.31gを添加
して30分撹拌してから、さらに撹拌を続けながら以下
の添加物を15分間隔で添加した。
Next, 1.416 ml of the infrared sensitizing dye solution and 667 μl of the stabilizer solution were added, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, the temperature was lowered to 13 ° C., and the mixture was further stirred for 30 minutes. 13 ℃
While keeping the temperature in the polyvinyl butyral (Monsan
13.31 g of Tovar Butvar B-79) was added and stirred for 30 minutes, and then the following additives were added at 15-minute intervals while stirring was continued.

【0249】 フタラジン: 305mg テトラクロロフタル酸: 102mg 4−メチルフタル酸: 137mg 赤外染料1: 37mg 上記を添加し15分撹拌した後、 かぶり防止剤液: 5.47ml 現像剤液: 14.06ml 本発明化合物(表2に示す)10%MEK溶液: 1.60ml (一般式(1)〜(7)、アジリジン化合物、エポキシ
化合物、カルボンジイミド化合物から選ばれる)を順次
添加し撹拌することにより感光層塗布液を得た。
Phthalazine: 305 mg Tetrachlorophthalic acid: 102 mg 4-Methylphthalic acid: 137 mg Infrared dye 1: 37 mg After adding the above and stirring for 15 minutes, antifoggant solution: 5.47 ml Developer solution: 14.06 ml Inventive compound (shown in Table 2) 10% MEK solution: 1.60 ml (selected from general formulas (1) to (7), aziridine compound, epoxy compound and carbodiimide compound) sequentially added and stirred, followed by stirring the photosensitive layer A coating solution was obtained.

【0250】支持体上に以下の各層を順次形成し、感光
材料を作成した。尚、乾燥は各々75℃、5分間で行っ
た。
The following layers were sequentially formed on a support to prepare a light-sensitive material. In addition, each drying was performed at 75 ° C. for 5 minutes.

【0251】 〈バック面側塗布〉 酢酸セルロース(10%メチルエチルケトン溶液) 15ml/m2 マット剤: 30mg/m2 (単分散度15%平均粒子サイズ10μm単分散シリカ) 〈感光層面側塗布〉感光層1〜4:前記の組成の液を塗
布銀量2g/m2になる様に塗布した。
<Back side coating> Cellulose acetate (10% methyl ethyl ketone solution) 15 ml / m 2 Matting agent: 30 mg / m 2 (monodispersity 15% average particle size 10 μm monodisperse silica) <Photosensitive layer side coating> Photosensitive layer 1-4: The solution having the above composition was applied so that the applied silver amount was 2 g / m 2 .

【0252】表面保護層:以下の組成の液を感光層の上
に塗布した。
Surface protective layer: A solution having the following composition was applied on the photosensitive layer.

【0253】 メチルエチルケトン 17ml/m2 酢酸セルロース 2.3g/m2 マット剤: 70mg/m2 (単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ) 《露光及び現像処理》上記のように作製した感光材料の
乳剤面側から、高周波重畳にて波長800nm〜820
nmの縦マルチモード化された半導体レーザーを露光源
とした露光機によりレーザー走査による露光を与えた。
この際に、感光材料の露光面と露光レーザー光の角度を
75度とした。
Methyl ethyl ketone 17 ml / m 2 Cellulose acetate 2.3 g / m 2 Matting agent: 70 mg / m 2 (monodispersity 10% average particle size 4 μm monodisperse silica) << Exposure and development treatment >> Photosensitivity prepared as described above From the emulsion side of the material, a wavelength of 800 nm to 820
Exposure was performed by laser scanning using an exposure machine using a semiconductor laser having a vertical multi-mode of nm as an exposure source.
At this time, the angle between the exposure surface of the photosensitive material and the exposure laser beam was set to 75 degrees.

【0254】その後、ヒートドラムを有する自動現像機
を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触するよう
にして、110℃で15秒熱現像処理した。その際、露
光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋で行っ
た。得られた画像の評価を濃度計により行った。測定の
結果は、感度(未露光部分よりも1.0高い濃度を与え
る露光量の比の逆数)およびカブリで評価し、感光材料
の感度は相対値で示した。結果を表2に示す。(なお、
この場合も当該角度を90度とした場合に比べムラが少
なく、かつ予想外に鮮鋭性等が良好な画像が得られ
た。) 《露光前試料の保存性評価》さらに上記で作製した感光
材料をアルミ蒸着された遮光袋の中に20%RHに調湿
した状態で封入し、30℃の恒温器に入れ、1日後、3
日後、7日後、14日後、30日後、60日後の試料
に、塗布直後の試料で濃度2.0を与える露光量を与え
て現像処理し、濃度変動を評価した。その結果も表2に
示す。
Thereafter, heat development was performed at 110 ° C. for 15 seconds using an automatic developing machine having a heat drum so that the protective layer of the photosensitive material was in contact with the drum surface. At that time, exposure and development were performed in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH. The obtained image was evaluated using a densitometer. The results of the measurement were evaluated by sensitivity (the reciprocal of the ratio of the exposure amount giving a density higher than that of the unexposed portion by 1.0) and fog, and the sensitivity of the photosensitive material was indicated by a relative value. Table 2 shows the results. (Note that
Also in this case, an image having less unevenness and unexpectedly good sharpness and the like was obtained as compared with the case where the angle was set to 90 degrees. << Evaluation of preservability of sample before exposure >> Further, the photosensitive material prepared as described above was sealed in a light-shielded bag on which aluminum was vapor-deposited at a humidity of 20% RH, placed in a thermostat at 30 ° C., and after one day, 3
After 7 days, 7 days, 14 days, 30 days, and 60 days, the samples immediately after coating were exposed to an exposure amount giving a density of 2.0, developed, and evaluated for density fluctuation. Table 2 also shows the results.

【0255】[0255]

【表2】 [Table 2]

【0256】実施例3 実施例1と同様にして、感光性ハロゲン化銀乳剤及び粉
末有機銀塩を作製して感光性乳剤分散液を調製した。た
だし、塗布液等の調製も感光層塗布液の調製において、
4−メチルフタル酸添加後に一般式〔H〕化合物を表3
に示す量添加する以外は実施例1と同様に行った。又、
水準No.1以外には、一般式(A)〜(C)で表され
る化合物としてA1(10%メタノール溶液)を390
μl、一般式(1)〜(7)で表される化合物、アジリ
ジン化合物、エポキシ化合物、カルボンジイミド化合物
から選ばれる化合物としてEP−1を実施例1と同量用
いた。
Example 3 In the same manner as in Example 1, a photosensitive silver halide emulsion and a powdered organic silver salt were prepared to prepare a photosensitive emulsion dispersion. However, the preparation of the coating solution, etc. also in the preparation of the photosensitive layer coating solution,
After addition of 4-methylphthalic acid, the compound of the general formula [H] is shown in Table 3.
The procedure was performed in the same manner as in Example 1 except that the amounts shown in (1) and (2) were added. or,
Level No. A1 (10% methanol solution) as a compound represented by general formulas (A) to (C) other than 390
μl, EP-1 was used in the same amount as in Example 1 as a compound selected from the compounds represented by the general formulas (1) to (7), aziridine compounds, epoxy compounds and carbodiimide compounds.

【0257】(水準No.1は一般式(A)〜(C)及
び一般式(1)〜(7)、アジリジン化合物、エポキシ
化合物、カルボンジイミド化合物を含有しない。) 支持体には二軸延伸された厚さ100μmのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用いた。
(Level No. 1 does not contain general formulas (A) to (C) and general formulas (1) to (7), an aziridine compound, an epoxy compound, and a carbodiimide compound.) The support is biaxially stretched. A 100 μm-thick polyethylene terephthalate film was used.

【0258】《露光及び現像処理》上記のように作製し
た感光材料の乳剤面側から、高周波重畳にて波長800
nm〜820nmの縦マルチモード化された半導体レー
ザーを露光源とした露光機によりレーザー走査による露
光を与えた。この際に、感光材料の露光面と露光レーザ
ー光の角度を75度とした。
<< Exposure and Development Processing >> From the emulsion side of the photosensitive material prepared as described above, a wavelength of 800
Exposure was performed by laser scanning with an exposure machine using a semiconductor laser having a vertical multi-mode of nm to 820 nm as an exposure source. At this time, the angle between the exposure surface of the photosensitive material and the exposure laser beam was set to 75 degrees.

【0259】その後、ヒーターによるオーブンゾーンを
有する自動現像機を用いて、120℃で20秒熱現像処
理した。その際、露光及び現像は23℃、50%RHに
調湿した部屋で行った。得られた画像の評価を濃度計に
より行った。測定の結果は、感度(未露光部分よりも
1.0高い濃度を与える露光量の比の逆数)およびカブ
リで評価し、感光材料の感度は相対感度で示した。結果
を表3に示した。
Thereafter, heat development was carried out at 120 ° C. for 20 seconds using an automatic developing machine having an oven zone with a heater. At that time, exposure and development were performed in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH. The obtained image was evaluated using a densitometer. The results of the measurement were evaluated by sensitivity (the reciprocal of the ratio of the exposure amount giving a density higher than that of the unexposed portion by 1.0) and fog, and the sensitivity of the photosensitive material was indicated by relative sensitivity. The results are shown in Table 3.

【0260】(なお、感光材料の露光面と露光レーザー
光の角度を75度とした場合当該角度を90度とした場
合に比べムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等が良好な
画像が得られた。)
(Note that when the angle between the exposure surface of the photosensitive material and the exposure laser beam was set to 75 degrees, an image having less unevenness and unexpectedly good sharpness and the like was obtained than when the angle was set to 90 degrees.) Was done.)

【0261】[0261]

【表3】 [Table 3]

【0262】[0262]

【発明の効果】熱現像感光材料の熱現像カブリが抑制さ
れ、熱現像感光材料の保存性、特に保存によるカブリ及
び画像濃度の低下が改良出来る事で、医療用レーザーイ
メージャー用の熱現像感光材料、或いは印刷用レーザー
イメージセッター出力用の熱現像感光材料として適した
ものとなる。
According to the present invention, heat development fog of a photothermographic material can be suppressed, and the preservability of the photothermographic material, in particular, fog and image density reduction due to storage can be improved. It is suitable as a material or a photothermographic material for output of laser imagesetter for printing.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくともa)非感光性有機
銀塩、b)ハロゲン化銀、c)熱により活性化された時
に該有機銀塩の銀イオンを銀に還元しうる還元剤及び疎
水性バインダーを含有してなる熱現像感光材料におい
て、更に一般式(A)〜(C)で表される化合物から選
ばれる少なくとも1種の化合物を含有し、かつ一般式
(1)〜(6)で表される化合物、アジリジン化合物、
エポキシ化合物、カルボジイミド化合物から選ばれる少
なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする熱現
像感光材料。 【化1】 〔式中、Hal1及びHal2はハロゲン原子を表す。H
al1及びHal2は同じであっても異なっていてもよ
い。X1はアニオンをあらわす。R1はカルボニル基を部
分構造として有する基を表し、R2、R3は窒素原子に置
換可能な置換基、又は水素原子を表す。R1〜R3は窒素
原子が環内原子となる環状構造を形成するように互いに
結合することはない。nは1又は2を表す。〕 【化2】 〔式中、Hal3及びHal4はハロゲン原子を表す。H
al3及びHal4は同じであっても異なっていてもよ
い。X2はF-、CL-、I-、カルボン酸アニオン、スル
ホン酸アニオン、又はリン酸アニオンを表す。Z2は隣
接する窒素原子とともに5〜7員環の含窒素ヘテロ環を
構築するのに必要な原子群を表す。この含窒素へテロ環
と縮合、又は結合基により結合していてもよい。〕 【化3】 〔式中、Z3は、隣接する窒素原子群とともに5〜7員
環の含窒素ヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表
す。この含窒素ヘテロ環はその他の環と縮合、又は結合
基により結合していてもよい。〕 【化4】 〔一般式(1)中、R1、R2、R3は同じでも異なって
いてもよく、アルキル基、アラルキル基、アルケニル
基、アリール基を表し、X-は対アニオンであり、分子
内にスルホ基が含まれる場合にはX-は存在しない。〕 【化5】 〔一般式(2)及び(3)中、R1、R2、R3、R4は同
じでも異なっていてもよくアルキル基、アラルキル基、
アルケニル基、アリール基を表し、A及びBは2価の連
結基を表し、X-は対アニオンでありR1、R2、R3、R
4にスルホ基が含まれる場合にはX-は存在しない。〕 【化6】 〔一般式(4)中、R1、R2は互いに同じであっても異
なっていてもよい水素原子、アルキル基、アリール基、
アラルキル基、アルケニル基、複素芳香環基を表す。こ
れらの基は置換されていてもよい。Xは求核試薬と反応
したときに脱離しうる基である。〕 【化7】 〔一般式(5)中、R1及びR2は単独の場合、炭素原子
数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリー
ル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、又は炭素原
子数2〜20のアルケニル基から選択され、R1はR2
一緒になった場合、前記式中の2個の窒素原子の他に窒
素原子を1個含む事が出来る原子数5〜8の複素環を形
成し、R2とR3は一緒に、R2が結合している窒素原子
の他に窒素原子を1個又は2個含むことが出来る原子数
5或いは6の複素環を形成し、上述のR1、R2で形成さ
れる環及びR2、R3で形成される環の窒素以外の原子は
炭素であり、R4は水素又は炭素原子数1〜20のアル
キル基から選択され、R5は水素又はピリジン環の3〜
6位のいずれかの位置における1個以上の置換基を表
し、該置換基として、炭素原子数1〜20のアルキル
基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜
20のアラルキル基、炭素原子数2〜20のアルケニル
基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数6
〜20のアリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲン
原子、ニトロ基又はスルホ基が含まれる事が出来、そし
てX-はアニオンを表す。ただし分子中にスルホ基を含
み分子内塩を形成している時には、X-は存在しな
い。〕 【化8】 〔一般式(6)中、Rはエチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基から選ばれる置換基を表し、Lは置換基を
有してもよい2価の連結基を表す。〕 【化9】 〔一般式(7)中、Rは未置換のアルキル基、Lは置換
基を有してもよい2価の連結基を表す。〕
1. A support comprising at least a) a non-photosensitive organic silver salt; b) silver halide; c) a reducing agent capable of reducing silver ions of the organic silver salt to silver when activated by heat; The photothermographic material containing a hydrophobic binder further contains at least one compound selected from the compounds represented by formulas (A) to (C), and further contains at least one compound represented by formulas (1) to (6). ), An aziridine compound,
A photothermographic material comprising at least one compound selected from an epoxy compound and a carbodiimide compound. Embedded image [In the formula, Hal 1 and Hal 2 represent a halogen atom. H
al 1 and Hal 2 may be the same or different. X 1 represents an anion. R 1 represents a group having a carbonyl group as a partial structure, and R 2 and R 3 represent a substituent that can be substituted on a nitrogen atom or a hydrogen atom. R 1 to R 3 do not bond to each other so as to form a ring structure in which the nitrogen atom becomes an inner ring atom. n represents 1 or 2. [Chemical formula 2] [In the formula, Hal 3 and Hal 4 represent a halogen atom. H
al 3 and Hal 4 may be the same or different. X 2 represents F , CL , I , a carboxylate anion, a sulfonate anion, or a phosphate anion. Z 2 represents an atom group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. The heterocyclic ring may be condensed with the nitrogen-containing heterocyclic ring, or may be bonded by a bonding group. [Chemical formula 3] [Wherein, Z 3 represents an atom group necessary for constructing a 5- to 7-membered nitrogen-containing heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom group. This nitrogen-containing hetero ring may be condensed with another ring, or may be bonded by a bonding group. [Formula 4] [In the general formula (1), R 1 , R 2 , and R 3 may be the same or different and represent an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, or an aryl group; X is a counter anion; X - is not present when a sulfo group is included. [Chemical formula 5] [In the general formulas (2) and (3), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be the same or different, and may be an alkyl group, an aralkyl group,
A and B represent a divalent linking group; X represents a counter anion; and R 1 , R 2 , R 3 , R
When 4 contains a sulfo group, X - is not present. [Formula 6] [In the general formula (4), R 1 and R 2 may be the same or different and may be a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group,
Represents an aralkyl group, an alkenyl group or a heteroaromatic ring group. These groups may be substituted. X is a group capable of leaving when reacted with a nucleophile. [Formula 7] [In the general formula (5), when R 1 and R 2 are each independently, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or carbon atom Selected from alkenyl groups having 2 to 20 atoms, and R 1 , when taken together with R 2 , has 5 to 8 atoms which can contain one nitrogen atom in addition to the two nitrogen atoms in the above formula. R 2 and R 3 together form a heterocyclic ring having 5 or 6 atoms which can contain one or two nitrogen atoms in addition to the nitrogen atom to which R 2 is bonded. The atoms other than nitrogen in the ring formed by R 1 and R 2 and the ring formed by R 2 and R 3 are carbon, and R 4 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 5 is hydrogen or 3 to 3 of the pyridine ring
Represents one or more substituents at any of the 6-positions, and the substituents include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a
20 aralkyl groups, alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, 6 carbon atoms
20 aryloxy group, a carboxyl group, a halogen atom, it is possible to include a nitro group or a sulfo group, and X - represents an anion. However when forming an intramolecular salt include sulfo group in the molecule, X - it does not exist. Embedded image [In the general formula (6), R represents a substituent selected from an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group, and L represents a divalent linking group which may have a substituent. Embedded image [In the general formula (7), R represents an unsubstituted alkyl group, and L represents a divalent linking group which may have a substituent. ]
【請求項2】 支持体上に少なくともa)非感光性有機
銀塩、b)ハロゲン化銀、c)熱により活性化された時
に該有機銀塩の銀イオンを銀に還元しうる還元剤及び疎
水性バインダーを含有してなる熱現像感光材料におい
て、更に一般式(D)で表される化合物から選ばれる少
なくとも1種の化合物を含有し、かつ前記一般式(1)
〜(6)で表される化合物、アジリジン化合物、エポキ
シ化合物、カルボジイミド化合物から選ばれる少なくと
も1種の化合物を含有することを特徴とする熱現像感光
材料。 【化10】 〔一般式(D)中、R1は水素原子、−OM2、へテロ原
子を少なくとも1つ含有する基で少なくとも1つ置換さ
れたアルキル基、又はアルコキシ基、アリールオキシ
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニ
ルアミノ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリール
オキシカルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スル
ファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル
基、スルホニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メル
カプト基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、カル
ボキシル基、リン酸エステル基、へテロ環基、ハロゲノ
アルキル基から選ばれる少なくとも1つの基で置換され
たアリール基、又はへテロ環基を表す。Lは連結基を表
し、M1及びM2は水素原子又はカチオンを表す。mは0
以上5以下の整数を表し、nは1以上3以下の整数を表
す。但し、mが0の場合、及びmが1でかつR1が−O
Hの場合はLはハロゲン原子、アシルオキシ基、アシル
アミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、ホルミル基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキ
シカルボニルオキシ基、スルホニルアミノ基、スルファ
モイル基、アミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、
スルホニルオキシ基、ウレイド基、シリル基、メルカプ
ト基、ヒドロキシ基、ニトロソ基、スルホ基、リン酸エ
ステル基、へテロ環基から選ばれる1つ以上3つ以下の
基で置換された連結基を表す。〕
2. A support comprising at least a) a non-photosensitive organic silver salt; b) silver halide; c) a reducing agent capable of reducing silver ions of said organic silver salt to silver when activated by heat; The photothermographic material containing a hydrophobic binder further contains at least one compound selected from the compounds represented by formula (D), and the compound represented by formula (1)
A photothermographic material comprising at least one compound selected from compounds represented by formulas (1) to (6), an aziridine compound, an epoxy compound and a carbodiimide compound. Embedded image [In the general formula (D), R 1 represents an alkyl group substituted with at least one hydrogen atom, —OM 2 , or a group containing at least one hetero atom, or an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, or an alkoxy group. Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio Group, amino group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfonyloxy group, ureido group, silyl group, mercapto group, hydroxy group, nitroso group, sulfo group, carboxyl group, phosphate group, heterocyclic group, halogenoalkyl group Choice That at least one of an aryl group substituted group, or to represent a heterocyclic group. L represents a linking group, and M 1 and M 2 represent a hydrogen atom or a cation. m is 0
Represents an integer of 5 or more, and n represents an integer of 1 or more and 3 or less. However, when m is 0, and when m is 1 and R 1 is -O
In the case of H, L is a halogen atom, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, formyl group, aryloxycarbonylamino group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, sulfonylamino group, sulfamoyl group , Amino group, sulfonyl group, sulfinyl group,
Represents a linking group substituted with one or more and three or less groups selected from a sulfonyloxy group, a ureido group, a silyl group, a mercapto group, a hydroxy group, a nitroso group, a sulfo group, a phosphate group, and a heterocyclic group. . ]
【請求項3】 一般式(A)〜(C)から選ばれる少な
くとも1種の化合物を含有することを特徴とする請求項
2に記載の熱現像感光材料。
3. The photothermographic material according to claim 2, wherein the photothermographic material contains at least one compound selected from formulas (A) to (C).
【請求項4】 感光性層、または支持体からみて感光性
層側の非感光性層に一般式〔H〕化合物を含有すること
を特徴とする請求項1〜3に記載の熱現像感光材料。 【化11】 〔式中、Aはそれぞれ置換基を有してもよい脂肪族基、
芳香族基、−G0−D0基又は複素環基を、Bはブロッキ
ング基を表し、A1、A2はともに水素原子、又は一方が
水素原子で他方はアシル基、スルホニル基又はオキザリ
ル基を表す。G0は−CO−基、−COCO−基、−C
S−基、−C(=NG11)−基、−SO−基、−SO
2−基又は−P(O)(G11)−基を表し、G1は単な
る結合手、−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を
表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原
子を表し、D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素
環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基を表す。〕
4. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive layer or the non-photosensitive layer on the side of the photosensitive layer viewed from the support contains a compound of the formula [H]. . Embedded image [In the formula, A is an aliphatic group which may have a substituent,
Aromatic group, a -G 0 -D 0 group or heterocyclic group, B represents a blocking group, A 1, A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group, a sulfonyl group or an oxalyl group Represents G 0 is a -CO- group, a -COCO- group, -C
S-group, -C (= NG 1 D 1 ) -group, -SO- group, -SO
2 - group or -P (O) (G 1 D 1) - represents a group, G 1 is a single bond, -O- group, -S- group, or -N (D 1) - represents a group, D 1 Represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group. Represents a group. ]
【請求項5】 請求項1又は4に記載の熱現像感光材料
の露光面と走査レーザー光のなす角度が実質的に垂直に
なることがないレーザー走査露光機による露光を行うこ
とを特徴とする画像記録方法。
5. A method according to claim 1, wherein the exposure is performed by a laser scanning exposing machine in which the angle between the exposed surface of the photothermographic material and the scanning laser beam does not become substantially perpendicular. Image recording method.
【請求項6】 請求項1又は4に記載の熱現像感光材料
に画像を記録する際の走査レーザー光が縦マルチである
レーザー走査露光機による露光を行うことを特徴とする
画像記録方法。
6. An image recording method, wherein an image is recorded on a photothermographic material according to claim 1 or 4 by using a laser scanning exposing device in which a scanning laser beam is a vertical multi-scan laser beam.
【請求項7】 請求項1又は4に記載の熱現像感光材料
が溶剤を40〜4500ppm含有している状態におい
て加熱現像することを特徴とする画像形成方法。
7. An image forming method, wherein the photothermographic material according to claim 1 or 4 is heat-developed in a state containing 40 to 4500 ppm of a solvent.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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