JP2000252268A - 液体材料気化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低圧力環境下において液体材料を効率よく霧
化することができる液体材料気化装置の提供。 【解決手段】 複数の微小貫通孔Ｈを有する振動板３４
２を超音波振動子３４１に直列に接続し、その振動板３
４２上に液体材料ＬＭを供給することにより、振動板３
４２の弾性振動によって液体材料ＬＭが微小な貫通孔Ｈ
から液滴Ｐとして放出される。このようにして液体材料
ＬＭを霧化することにより、低圧環境下でも効率よく霧
化を行うことができるとともに、粒径の揃った液滴Ｐが
得られる。この粒径は振動板３４２の孔Ｈの径を変える
ことによって調整することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造や超伝
導材料製造における液体材料を用いたＭＯＣＶＤ法成膜
プロセスに使用される液体材料気化装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイス製造工程における薄膜形
成方法の一つとしてＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemic
al Vapor Deposition）法があるが、スパッタ等に比べ
て膜質，成膜速度，ステップカバレッジなどが優れてい
ることから近年盛んに利用されている。ＭＯＣＶＤ装置
に用いられているＣＶＤガス供給法としてはバブリング
法や昇華法などがあるが、液体有機金属または有機金属
を溶剤に溶かした液体材料をＣＶＤ反応槽直前で気化し
て供給する方法が、制御性および安定性の面でより優れ
た方法として注目されている。

【０００３】液体材料を気化する方法としては、加熱
された金属メッシュ等に液体材料を滴下する方法や、
液体材料を霧吹き等によりいったん霧化して、霧化され
た材料を加熱手段により気化させる方法などが提案され
ており、ＭＯＣＶＤで使用される気化器には効率性、再
現性および安定性が要求される。上述したの方法とし
ては、液体材料の霧化に超音波を用いるものが特開平４
−８９３７８号公報に開示されている。このように超音
波により霧化すると、安定した粒径分布を有する微細な
液滴が得られるという利点がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ＭＯＣＶＤに使用され
る液体材料の一つとしてジピバロイルメタナート・スト
ロンチウム（Sr(dpm)2）があるが、この材料は蒸気圧が
低いため低圧力下で霧化した方が気化効率が高くなる。
ところで、特開平４−８９３７８号公報に開示されてい
る気化方式では、超音波によるキャビテーションを利用
して液体材料を霧化する方法をとっている。しかしなが
ら、キャビテーションを利用して霧化する方法では圧力
が低くなるにつれて霧化量が減少する欠点があり、充分
な量のＣＶＤガスが供給できなくなるおそれがあった。
そのため、蒸気圧の低い液体材料では、キャビテーショ
ンを利用した霧化が不可能なものもあった。

【０００５】本発明の目的は、液体材料を霧化した後に
気化させる液体材料気化装置において、低圧力環境下で
液体材料を効率よく霧化することができる液体材料気化
装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】発明の実施の形態を示す
図２，図３および図８に対応付けて説明する。 （１）図２および図３に対応付けて説明すると、請求項
１の発明による液体材料気化装置は、超音波振動子３４
１と、超音波振動子３４１に片持ち状態で接続されて複
数の微小貫通孔Ｈを有する振動板３４２と、振動板３４
２の微小貫通孔Ｈが形成された面上に液体材料ＬＭを供
給する供給装置３５と、振動板３４２により霧化された
液体材料ＬＭを加熱して気化する加熱気化装置１２とを
備えて上述の目的を達成する。 （２）図８に対応付けて説明すると、請求項２の発明で
は、請求項１に記載の液体材料気化装置において、超音
波振動子との接続部と反対側の振動板先端領域Ｄに、液
体材料ＬＭを供給する。 （３）請求項３の発明では、請求項２に記載の液体材料
気化装置において、振動板先端領域Ｄに液体材料ＬＭを
供給するとともに、供給された液体材料ＬＭを振動板８
０１との間に挟むように配設される庇状部材８０７ａを
有する液体材料供給ノズル８０７を設けた。 （４）請求項４の発明では、請求項１〜請求項３のいず
れかに記載の液体材料気化装置において、振動板８０１
の液体材料ＬＭが供給される面側に、振動板８０１と所
定の間隔ｄ２で振動板８０１を覆うカバー８０６を設け
た。 （５）請求項５の発明では、請求項１〜請求項４のいず
れかに記載の液体材料気化装置において、液体材料ＬＭ
は、有機金属を有機溶剤2,6ジメチルピリジンまたは酢
酸ブチルを用いて溶液としたものやＣｕ，Ｔａなどの液
体金属材料である。

【０００７】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が発明の実施の形態に限定されるものではない。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、図１〜図８を参照して本発
明の実施の形態を説明する。 −第１の実施の形態− 図１は本発明による液体材料気化装置の概略構成を示す
ブロック図であり、液体材料気化装置は液体材料を気化
する気化部１と、気化部１に液体材料を供給する供給部
２と、気化部１に供給されるキャリアガスの流量を制御
するマスフローコントロラ５と、それらを制御するコン
トローラ３とで構成される。供給部２の２１Ａ，２１Ｂ
は液体材料Ａ，Ｂが充填される材料容器であり、２１Ｃ
は溶剤Ｃが充填される溶剤専用容器である。液体材料
Ａ，Ｂは共通の溶剤Ｃを用いてそれぞれの原料を所定の
割合で溶かしたものであり、液体材料Ａ，Ｂおよび溶剤
Ｃは送液ライン２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃによって流量制
御部２３に送られる。

【０００９】流量制御部２３は、送液ライン２２Ａ，２
２Ｂ，２２Ｃによって供給された液体材料Ａ，Ｂおよび
溶剤Ｃを所定の混合比で高精度に混合する比例バルブ
と、比例バルブからの混合液体を高精度に流量制御する
直列ダブルプランジャポンプとを備えている。流量制御
部２３からの混合液体は、均質になるようにミキサ２４
によってさらに混合される。ミキサ２４には混合性能に
優れたスタティックミキサなどが用いられる。

【００１０】気化部１は、ミキサ２４からの液体材料を
超音波を用いて霧化する霧化ユニット１１と、霧化ユニ
ット１１により霧化された液体材料に熱を与えて気化さ
せる加熱気化ユニット１２とを備えている。４は液体材
料気化装置の装置外に設けられたキャリアガス供給装置
であり、不活性なキャリアガスをマスフローコントロー
ラ５を介して気化部１内に供給する。このキャリアガス
は、霧化された液体材料が霧化ユニット１１から加熱気
化ユニット１２に向けて流れるように気化部１内に導入
される。加熱気化ユニット１２により気化された材料
（ＣＶＤガス）は、ＭＯＣＶＤが行われるＣＶＤリアク
ター６に供給され、

【００１１】図２は気化部１の詳細を示す断面図であ
る。３０は霧化ユニット１１が設けられるケーシングで
あり、ケーシング３０の上部フランジ部３０ｂにはキャ
リアガス導入パイプ３２が設けられた蓋３３が取り付け
られている。３４は霧化ユニット１１を構成する振動ユ
ニット（詳細は後述する）であり、ミキサ２４からの液
体材料ＬＭは液体材料供給パイプ３５により振動ユニッ
ト３４の振動板３４２上に供給される。振動ユニット３
４は、ケーシング３０のフランジ３０ｃに取り付けられ
た蓋３７にステー３６を介して固定されている。蓋３３
に設けられたキャリアガス導入パイプ３２からは不活性
キャリアガス３２ａが図示下方向に噴出され、振動ユニ
ット３４により霧化された液体材料を振動ユニット３４
の下方に設けられた加熱気化ユニット１２方向に移送す
る。

【００１２】ケーシング３０のフランジ３０ａには、加
熱気化ユニット１２が設けられたフランジ４６，４７が
連結されている。加熱気化ユニット１２は、伝熱性に優
れた素材からなるメッシュ部材３８および固形物除去用
のフィルタ３９と、それらを加熱するヒータ４０とを備
えている。加熱気化ユニット１２には温度計測用の熱電
対４１がそれぞれ設けられており、メッシュ部材３８の
温度が所定温度となるようにヒータ４０のパワーが調整
される。フランジ４７の下側には、気化された材料（Ｃ
ＶＤガス）をＣＶＤリアクターに供給する排出ポート４
２が設けられた蓋４８が取り付けられている。フランジ
４６，４７および蓋４８は不図示のボルトにより締結さ
れて一体とされ、ボルト４３によりフランジ４６がケー
シング３０のフランジ部３０ａに取り付けられる。これ
らのフランジと蓋との間およびフランジ間にはシール部
材３５ａ〜３５ｅが設けられている。気化時には排出ポ
ート４２とＣＶＤリアクターとが連通されるため、ケー
シング３０内はＣＶＤリアクターと同等の真空状態とな
る。

【００１３】フランジ４６，４７および蓋４８の外側に
はこれらを加熱するための外部ヒータ４４ａ，４４ｂが
設けられており、フランジ４６，４７および蓋４８とに
よって形成される空間を高温に保って気化された材料の
再液化を防止するとともに、フランジ４６，４７および
蓋４８の内面に材料が付着するのを防止している。な
お、フランジ４６，４７および蓋４８部分に用いられる
シール部材３５ｃ〜３５ｅには高温に耐えられるもの、
例えば金属シール等が用いられる。

【００１４】図３は振動ユニット３４の構造を説明する
示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−
Ａ’断面図である。振動板ユニット３４は振動子３４１
を備えており、振動子３４１には振動板３４２が片持ち
梁状態で接続されている。振動板３４２は、金属板に直
径約１０μｍのすり鉢状貫通孔Ｈを多数形成したもので
ある。３４３ａ，３４３ｂは振動子３４１を上下方向か
ら挟持するように支持する支持部材であり、振動子３４
１は支持部材３４３ａに設けられたサポート３４５ａと
支持部材３４３ａに設けられたサポート３４５ｂの間に
挟持される。３４５ｃは超音波振動子３４１のｘｙ方向
の位置決めを行うサポートである。サポート３４５ａ〜
３４５ｃは、振動子３４１の振動を妨げないように弾力
性のある材料で形成される。

【００１５】図４は振動子３４１および振動板３４２の
断面を模式的に示したものである。振動子３４１は板状
の圧電セラミックス３４６の両面に金属電極３４７ａ，
３４７ｂを形成したものであり、ハンダ付けにより振動
板３４２を電極３４７ａ上に固着する。オシレータ４５
により電極３４７ａ，３４７ｂに所定の高周波電力を印
加すると振動子３４１は励振され、片持ち状態で接続さ
れた振動板３４２は、接合部３４２ａを固定端とする片
持ち梁と同様の屈曲振動を行う。このように振動板３４
２が撓むように弾性振動すると、液体材料供給パイプ３
５を介して振動板３４２上に滴下された液体材料ＬＭは
孔Ｈから微小な液滴Ｐとして振動板３４２の下方に放出
される。

【００１６】図５は液滴Ｐの生成を概念的に示したもの
であり、（ａ）から（ｄ）の順に霧化が行われる。弾性
振動により振動板３４２が（ａ）に示すような平衡位置
から（ｂ）のＲ１方向に変位すると、それにつれて液体
材料ＬＭも下方に変位する。（ｂ）は変位が最大で振動
板３４２の変位速度がゼロとなったときを示しており、
液体材料ＬＭは孔Ｈから下方に突出する。さらに、振動
板３４２が（ｂ）の状態から（ｃ）に示すようにＲ１と
逆方向のＲ２方向に変位すると、液体材料ＬＭの突出量
はさらに大きくなる。次いで、振動板３４２が（ｃ）の
状態からさらに上方へ変位すると、孔Ｈから突出した液
体材料ＬＭは引きちぎられるようにして液滴Ｐとなり、
図示下方に放出される。

【００１７】このような過程が各孔Ｈにおいて連続的に
くり返されることにより、液体材料ＬＭの霧化が行われ
る。このように、液体材料ＬＭはすり鉢状孔Ｈの部分で
振動エネルギーによって生じる圧力差により液滴Ｐとな
るため、液滴Ｐは振動板３４２に形成された穴Ｈの孔径
とほぼ同等の粒子径を有する微粒子となる。なお、孔Ｈ
をすり鉢状ではなく単純な貫通孔としても良いが、すり
鉢状とすることによって霧化をより効率的に行うことが
できる。

【００１８】ここで、比較のために、超音波によるキャ
ビテーションを利用して液体材料を霧化する気化装置に
ついて簡単に説明する。図６に示す従来の装置は、液体
材料ＬＭを液槽５１内に充填し、液槽５１の底面部分に
設けられた振動子５２を作動させて液内に生じるキャビ
テーションにより霧化するものである。霧化された材料
は移送ガスによりパイプ５７を介して気化室５３に送ら
れ、ヒータ５４で加熱することにより気化される。ＣＶ
Ｄ反応室５５と気化室５３との間にはフィルタ５６が設
けられており、フィルタ５６を通過したＣＶＤガスがＭ
ＯＣＶＤ反応に利用される。

【００１９】ＣＶＤ反応室５５および気化室５３は不図
示の真空排気装置により排気されて低圧に保たれてお
り、パイプ５７を介して気化室５３に連結されている液
槽５１内も低圧となる。そのため、キャビテーションが
生じ難くなり霧化率が低下する。しかし、上述した本実
施の形態では、液体材料ＬＭを霧化する際にキャビテー
ションを利用していないので、従来のような霧化率の低
下は発生せず、低圧環境下でも効率よく霧化することが
できる。その結果、蒸気圧の低い材料でも低圧環境下で
安定的に霧化することができるようになり、Ｃｕ，Ｔａ
などの液体金属材料を用いる場合や金属溶液の有機溶剤
として2,6ジメチルピリジンまたは酢酸ブチルを使用す
る場合には、霧化を行う際の圧力を１０（Torr）以下と
することが可能であり、本実施の形態の気化装置を用い
れば気化が効率よく行われる。

【００２０】また、図６に示した例では、霧化した材料
が途中のパイプ内等に付着することがあるが、本実施の
形態では、霧化が行われるケーシング３０に気化が行わ
れるフランジ４６，４７部分を直に連結し、かつ、キャ
リアガス３２ａを用いて液滴Ｐを加熱気化ユニット１２
方向に強制的に移送しているので、液滴Ｐがケーシング
３０の内面に付着するのを抑えることができる。

【００２１】図７はキャビテーションを利用して液体材
料を霧化する装置の他の例であり、本発明者が特願平９
−３１５０７１号で提案した液体材料気化装置を示す図
である。振動子７１の下面に接着された振動板７２の面
上に液体材料導入パイプ７３により液体材料ＬＭを供給
し、超音波によるキャビテーションを利用して液体材料
ＬＭを霧化する。霧化した材料は図７の下方に噴出さ
れ、ガス導入パイプ７４から導入されたキャリアガスに
より気化手段７５方向に移送される。ところで、振動子
７１を作動させると振動子から多量の熱が発生するの
で、振動子７１を構成する圧電素子が高温になってその
機能が損なわれるのを防止するために冷却手段７６を設
けている。この装置では振動板７２の表面に液体材料を
供給しながら霧化するので、図６に示した装置のように
液槽底面部分に振動子５２を設けて液内にキャビテーシ
ョンを生じさせるものに比べて、振動子７１に供給する
高周波電力の大きさを低減することができる。

【００２２】一方、本実施の形態の装置では超音波によ
るキャビテーションを利用せず、図５に示したように振
動板の屈曲振動によって液体材料が孔Ｈから液滴として
放出されることにより霧化を行っているため、キャビテ
ーションを利用した図７の装置と等しい霧化量を得るの
に約１／１０程度の電力量で済む。そのため、振動子用
冷却手段の冷却能力を小さくすることができ、霧化量が
小さい場合には図２のように冷却手段を省略することも
可能となる。また、図６や図７に示した装置では霧化さ
れた液体材料の粒子径は広い範囲に分布することになる
が、本実施の形態では上述したように振動板３４２の孔
Ｈの径とほぼ等しい径を有する微粒子を安定的に得るこ
とができる。そのため、孔径を最適な値に調節すること
により、霧化された液体材料を加熱気化するのに最適な
微粒子が得られる。

【００２３】−第２の実施の形態− 本実施の形態では、上述した第１の実施の形態とは振動
ユニットおよび振動ユニットへの液体材料供給方法が異
なり、他の構成は第１の実施の形態と同様である。図８
の（ａ）は振動ユニット８０部分の拡大図である。振動
子８００は支持部材８０２ａ、８０２ｂに挟持されるよ
うに支持されており、下側の支持部材８０２ｂの内部に
は冷却ジャケット８０３（冷却水用の水路）が設けられ
ている。８０４は水冷ジャケット８０３へ冷却水を供給
する供給パイプである。冷却ジャケット８０３を循環し
た冷却水は、不図示の排水パイプにより排出される。８
０５は振動板８０１の先端部分に液体材料を供給する液
体材料供給パイプであり、振動板８０１の上方にはカバ
ー８０６が設けられている。

【００２４】図８の（ｂ）は（ａ）の符号Ｂで示した部
分の拡大図、（ｃ）は（ｂ）のＣ矢視図である。液体材
料供給パイプ８０５の先端にはノズル８０７が取り付け
られており、ノズル８０７の先端部分８０７ａは振動板
８０１の先端部分の上方を庇状に覆っている。また、ノ
ズル８０７は、その先端部分に形成された斜面８０７ｂ
が振動板８０１に僅かに接触する程度で配設される。な
お、ノズル８０７の材料には振動板８０１の振動の妨げ
とならないようなものが用いられるが、本実施の形態で
は、耐食性等を考慮してＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロ
エチレン）を用いている。

【００２５】液体材料供給パイプ８０５によって送られ
てきた液体材料ＬＭは、流量が小さい場合には、ノズル
８０７内の孔８０７ｃを通過した後に振動板８０１の先
端領域Ｄ（図８（ｃ）参照）に形成された振動板８０１
と先端部分８０７ａとの隙間に拡がる。その後、液体材
料ＬＭは振動板８０１の振動エネルギーによって霧化さ
れ、振動板８０１の下方に放出される。一方、液体材料
ＬＭの流量が大きい場合には、領域Ｅで示すように振動
板８０１の広い領域に拡がる。この場合、振動板８０１
上の液体材料ＬＭが液滴となって振動板８０１の上方に
吹き上げられることがあるが、吹き上げられた液滴はカ
バー８０６に衝突し、再度振動板側へ供給され霧化が行
われる。なお、振動板８０１とカバー８０６との隙間寸
法ｄ２は１（mm）程度に設定される。

【００２６】ところで、振動板８０１は加熱気化ユニッ
ト１２（図２参照）からの輻射等により加熱されるの
で、第１の実施の形態のように振動板３４２上に液体材
料供給パイプ８０５により液体材料ＬＭを滴下するタイ
プの装置（図４参照）では、液体材料ＬＭの流量が小さ
いと滴下された液体材料ＬＭが弾かれて、粒径の大きい
液滴が加熱気化ユニット１２に行く場合がある。しか
し、本実施の形態の装置では、振動板８０１の上方を庇
状に覆う先端部８０７ａを有するノズル８０７を備えて
いるため、上述したような不具合を防止することがで
き、流量が小さくても安定した霧化を行うことができ
る。特に、流量が０．１〜０．２（cc／min）程度のと
きには有効である。なお、先端部８０７ａと振動板８０
１との隙間寸法ｄ１は、液体材料の流量や粘度等を考慮
して最適な霧化が行われるように設定される。

【００２７】上述したように、本実施の形態では、振動
板８０１の上方を微小な間隔ｄ１で覆う先端部８０７ａ
有するノズル８０７を液体材料供給パイプ８０５の先端
に設けるとともに、振動板８０１の上方に間隔ｄ２でカ
バー８０６を設けたので、液体材料ＬＭの流量の大小に
よらず、例えば、流量が０．１〜２（cc／min）という
広い範囲内で、安定的に霧化を行うことができる。その
ため、種々のＭＯＣＶＤに対応することが可能となる。
さらに、振動板８０１において振動エネルギーが比較的
大きな先端部分から液体材料ＬＭを供給するようにした
ので、液体材料ＬＭを効率よく霧化をすることができ
る。また、流量が小さくて図８（ｃ）のようにノズル８
０７の先端部分８０７ａの領域Ｄのように液体材料ＬＭ
が拡がる場合には、振動ユニット１１は様々な取付姿勢
を取ることが可能となり、様々な姿勢で気化部をＣＶＤ
リアクターに取り付けることができる。

【００２８】なお、図８に示した振動ユニット８０では
下側の支持部材８０２ｂに水冷ジャケット８０３を設け
ているので、振動ユニット１１の下方に設けられた加熱
気化ユニット１２（図２参照）の輻射による振動子８０
１の過熱を防止することができる。特に、Sr(dpm)2のよ
うに高温（約２５０度）で気化させる必要のある材料の
場合には有効である。

【００２９】以上説明した実施の形態と特許請求の範囲
の要素との対応において、液体材料供給パイプ３５，８
０５およびノズル８０７は供給装置を、メッシュ部材３
８，フィルタ３９およびヒータ４０で構成される加熱気
化ユニット１２は加熱気化装置を、ノズル８０７の先端
部分８０７ａは庇状部分をそれぞれ構成する。

【００３０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
振動板の弾性振動によって液体材料が微小貫通孔から液
滴として放出されることにより霧化を行っているため、
キャビテーションを利用して霧化を行う従来の装置のよ
うに低圧環境下で霧化率の低下が発生しない。そのた
め、液体材料を低圧環境下で効率よく霧化することがで
き、蒸気圧の低い材料でも安定的に霧化することができ
る。また、霧化に必要な電力量を従来より低減すること
ができ、その結果、超音波振動子の発熱を低減すること
ができる。請求項２の発明では、液体材料を振動エネル
ギーの大きい振動板先端領域で霧化することができるの
で、より効率的に霧化を行える。請求項３の発明では、
庇状部材により液体材料が振動板上方に弾け飛ぶのを防
止できる。請求項４の発明では、振動板上方に吹き返さ
れた液滴は、カバーによって再度振動板方向に送られ霧
化される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による液体材料気化装置の概略構成を示
すブロック図。

【図２】気化部１の詳細を示す断面図。

【図３】振動ユニット３４の構造を説明する示す図であ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’断面
図。

【図４】振動子３４１および振動板３４２の断面を模式
的に示した図。

【図５】液滴Ｐの生成を概念的に示した図であり、
（ａ）から（ｄ）の順に霧化が行われる。

【図６】キャビテーションを利用して液体材料を霧化す
る従来の気化装置の第１の例を示す図。

【図７】キャビテーションを利用して液体材料を霧化す
る従来の気化装置の第２の例を示す図。

【図８】本発明による液体材料気化装置の第２の実施の
形態を示す図であり、（ａ）は振動ユニット８０部分の
拡大図、（ｂ）は（ａ）の符号Ｂで示した部分の拡大
図、（ｃ）は（ｂ）のＣ矢視図。

【符号の説明】

１ 気化部 １１ 霧化ユニット １２ 加熱気化ユニット ３４１，８００ 振動子 ３４２，８０１ 振動板 ８０６ カバー ８０７ ノズル ＬＭ 液体材料 Ｈ 孔 Ｐ 液滴

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川本 達司 京都市中京区西ノ京桑原町１番地 株式会 社島津製作所三条工場内 (72)発明者 横山 宗一 神奈川県小田原市久野2480番地 株式会社 ミクニ事業開発センター技術グループ内 (72)発明者 橋本 裕史 神奈川県小田原市久野2480番地 株式会社 ミクニ事業開発センター技術グループ内 Ｆターム(参考） 5F045 AA04 BB08 EE03

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 超音波振動子と、 前記超音波振動子に片持ち状態で接続されて複数の微小
   貫通孔を有する振動板と、 前記振動板の微小貫通孔が形成された面上に液体材料を
   供給する供給装置と、 前記振動板により霧化された液体材料を加熱して気化す
   る加熱気化装置とを備えることを特徴とする液体材料気
   化装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の液体材料気化装置にお
   いて、 前記超音波振動子との接続部と反対側の振動板先端領域
   に、前記液体材料を供給することを特徴とする液体材料
   気化装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の液体材料気化装置にお
   いて、 前記振動板先端領域に前記液体材料を供給するととも
   に、供給された液体材料を前記振動板との間に挟むよう
   に配設される庇状部材を有する液体材料供給ノズルを設
   けたことを特徴とする液体材料気化装置。
4. 【請求項４】 請求項１〜請求項３のいずれかに記載の
   液体材料気化装置において、 前記振動板の前記液体材料が供給される面側に、前記振
   動板と所定の間隔で前記振動板を覆うカバーを設けたこ
   とを特徴とする液体材料気化装置。
5. 【請求項５】 請求項１〜請求項４のいずれかに記載の
   液体材料気化装置において、 前記液体材料は、有機金属を有機溶剤2,6ジメチルピリ
   ジンまたは酢酸ブチルを用いて溶液としたものやＣｕ，
   Ｔａなどの液体金属材料であることを特徴とする液体材
   料気化装置。