JP2000243765A - Mounting structure of semiconductor chip and method for mounting the same - Google Patents

Mounting structure of semiconductor chip and method for mounting the same

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JP2000243765A
JP2000243765A JP11040922A JP4092299A JP2000243765A JP 2000243765 A JP2000243765 A JP 2000243765A JP 11040922 A JP11040922 A JP 11040922A JP 4092299 A JP4092299 A JP 4092299A JP 2000243765 A JP2000243765 A JP 2000243765A
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Japan
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semiconductor chip
mounting
layer
insulating layer
conductor
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Mitsutoshi Azuma
光敏 東
Fumio Miyagawa
文雄 宮川
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Shinko Electric Industries Co Ltd
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Shinko Electric Industries Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/14Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a mounting structure of a semiconductor chip, capable of readily, accurately, and rigidly face-mounting the highly integrated semiconductor chip on a mounting substrate. SOLUTION: In this mounting structure, a connection terminal 20 erected in an electrode pad 12 of a semiconductor chip 10 is mutually joined to a connection terminal 40, erected in a conductive pad 32 in a mounting substrate 30 corresponding to the terminal 20. A dummy terminal 50 is erected via an insulated layer 52, on a face 14 positioned between the electrode pads 12 of the semiconductor chip. A dummy terminal 60 is erected via an insulated layer 62, on a face 34 positioned between the conductive pads 32 of the mounting substrate. The dummy terminal 50 at a side of the semiconductor chip 10 is mutually joined to the dummy terminal 60 at a side of the mounting substrate 30 corresponding to the terminal 50. The semiconductor chip 10 is rigidly joined to the mounting substrate 30 via the dummy terminals 50, 60 and the insulated layers 52, 62.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多数の電極パッド
を持つ高集積化された半導体チップを実装基板に表面実
装してなる半導体チップの実装構造とその半導体チップ
の実装方法とに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor chip mounting structure in which a highly integrated semiconductor chip having a large number of electrode pads is surface-mounted on a mounting substrate, and a method for mounting the semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】上記の高集積化された半導体チップを実
装基板に表面実装する際には、その半導体チップに並ぶ
多数の各電極パッドに形成されたはんだバンプからなる
接続端子をそれに対応する実装基板に並ぶ多数の各導体
パッドに形成されたはんだバンプからなる接続端子に、
フリップチップボンディング法によりそれぞれ接続して
いる。それと共に、その半導体チップと実装基板との間
にアンダーフィル材を充填して、そのアンダーフィル材
を介して、半導体チップを実装基板に接合している。又
は、その高集積化された半導体チップに並ぶ多数の各電
極パッドに形成されたはんだバンプ等からなる接続端子
をそれに対応する実装基板に並ぶ多数の各導体パッドに
形成されたはんだバンプ等からなる接続端子に、ACF
(Anisotropy Conductive Fi
lmの略であって、異方性導電性フィルム)を介して接
続している。
2. Description of the Related Art When the above-mentioned highly integrated semiconductor chip is surface-mounted on a mounting substrate, connection terminals formed of solder bumps formed on a large number of electrode pads arranged on the semiconductor chip are mounted on the corresponding mounting surface. Connection terminals consisting of solder bumps formed on a large number of conductor pads arranged on the board,
Each is connected by a flip chip bonding method. At the same time, an underfill material is filled between the semiconductor chip and the mounting substrate, and the semiconductor chip is bonded to the mounting substrate via the underfill material. Alternatively, connection terminals formed of solder bumps and the like formed on a large number of electrode pads arranged on the highly integrated semiconductor chip are formed of solder bumps and the like formed on a large number of conductor pads arranged on a corresponding mounting substrate. ACF to connection terminal
(Anisotropy Conductive Fi
lm, which is connected via an anisotropic conductive film).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
フリップチップボンディング法により半導体チップ側の
接続端子を実装基板側の接続端子にはんだ付けする方法
は、その半導体チップ側に並ぶ接続端子のピッチの最小
限度が0.20〜0.10mmであって、それ以下の微
細ピッチで多数の接続端子が並ぶ半導体チップには、適
用できなかった。同様に、上記のACFを介して半導体
チップ側の接続端子を実装基板側の接続端子に接続し
て、半導体チップを実装基板に実装する方法も、その半
導体チップ側に並ぶ接続端子のピッチの最小限度が0.
10〜0.05mmであって、それ以下の微細ピッチで
多数の接続端子が並ぶ高集積化された半導体チップに
は、適用できなかった。
However, the method of soldering the connection terminals on the semiconductor chip side to the connection terminals on the mounting board side by the above-mentioned flip-chip bonding method requires a minimum pitch of the connection terminals arranged on the semiconductor chip side. The limit is 0.20 to 0.10 mm, and it cannot be applied to a semiconductor chip in which a large number of connection terminals are arranged at a fine pitch smaller than that. Similarly, the method of connecting the connection terminal on the semiconductor chip side to the connection terminal on the mounting board via the above-described ACF and mounting the semiconductor chip on the mounting board also requires the minimum pitch of the connection terminals arranged on the semiconductor chip side. The limit is 0.
It cannot be applied to a highly integrated semiconductor chip in which a large number of connection terminals are arranged at a fine pitch of 10 to 0.05 mm or less.

【0004】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たもので、フリップチップボンディング法やACFを介
して、対応する接続端子同士を接続することの不可能
な、多数の接続端子が微細ピッチで並ぶ半導体チップを
実装基板に容易かつ的確に表面実装できる半導体チップ
の実装構造及びその半導体チップの実装方法を提供しよ
うとするものである。
The present invention has been made in view of such a problem, and a large number of connection terminals which cannot be connected to each other via flip chip bonding or ACF cannot be connected at a fine pitch. It is an object of the present invention to provide a semiconductor chip mounting structure and a semiconductor chip mounting method that can easily and accurately surface mount semiconductor chips lined up on a mounting substrate.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第1の半導体チップの実装構造は、半導体
チップの電極パッドに立設された接続端子とそれに対応
する実装基板の導体パッドに立設された接続端子とが接
合され、前記半導体チップの電極パッド間に位置する面
に絶縁層を介して立設されたダミー端子とそれに対応す
る前記実装基板の導体パッド間に位置する面に絶縁層を
介して立設されたダミー端子とが接合されてなることを
特徴としている。
In order to achieve the above object, a first semiconductor chip mounting structure according to the present invention comprises a connecting terminal provided on an electrode pad of a semiconductor chip and a corresponding conductor on a mounting board. A connection terminal erected on the pad is joined, and is located between the dummy terminal erected on the surface located between the electrode pads of the semiconductor chip via an insulating layer and the corresponding conductor pad of the mounting board. It is characterized in that the surface is joined to a dummy terminal which is erected through an insulating layer.

【0006】この第1の半導体チップの実装構造におい
ては、半導体チップ側と実装基板側の互いに接合された
ダミー端子を介して、半導体チップを実装基板に強固に
接合できる。そのため、半導体チップと実装基板との間
にアンダーフィル材を充填して、そのアンダーフィル材
を介して半導体チップを実装基板に強固に接合する必要
をなくすことができる。それと共に、半導体チップ側の
接続端子間や、実装基板側の接続端子間に、高い誘電率
の樹脂等からなる上記のアンダーフィル材を介在させず
に、誘電率の低い空気を介在させた状態とすることがで
きる。そして、その半導体チップ側や実装基板側の接続
端子間の寄生容量を大幅に低減できる。そして、その半
導体チップ側や実装基板側の接続端子を伝わる高周波信
号の高周波特性を向上させることができる。
In the first semiconductor chip mounting structure, the semiconductor chip can be firmly joined to the mounting board via the dummy terminals joined to each other on the semiconductor chip side and the mounting board side. Therefore, it is possible to eliminate the necessity of filling the underfill material between the semiconductor chip and the mounting board and firmly joining the semiconductor chip to the mounting board via the underfill material. At the same time, air with a low dielectric constant is interposed between the connection terminals on the semiconductor chip side and between the connection terminals on the mounting board side without the above-mentioned underfill material made of resin or the like having a high dielectric constant. It can be. Then, the parasitic capacitance between the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be greatly reduced. Then, the high-frequency characteristics of the high-frequency signal transmitted through the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be improved.

【0007】また、ダミー端子は、絶縁層を介して、半
導体チップの電極パッド間に位置する面に立設された
り、実装基板の導体パッド間に位置する面に立設された
りしているため、その半導体チップ側と実装基板側の互
いに接合されたダミー端子を介して、半導体チップの内
部回路と実装基板の配線回路との間をノイズ信号が伝わ
るのを防ぐことができる。
Further, the dummy terminals are provided upright on the surface located between the electrode pads of the semiconductor chip or on the surface located between the conductive pads of the mounting board via the insulating layer. Further, it is possible to prevent a noise signal from being transmitted between the internal circuit of the semiconductor chip and the wiring circuit of the mounting board via the dummy terminals joined to each other on the semiconductor chip side and the mounting board side.

【0008】本発明の第1の半導体チップの実装方法
は、次の工程を含むことを特徴としている。 a.電極パッドが形成された半導体チップの面に、絶縁
層を前記電極パッドの上面中央部を除いて形成する工
程。 b.前記半導体チップの面に形成した絶縁層及び電極パ
ッドの上面中央部を連続して覆う導体層を形成する工
程。 c.前記半導体チップの面に形成した絶縁層を覆う前記
導体層に、該導体層を貫いてその直下の絶縁層に達する
細溝を前記電極パッドを囲むようにして一連に刻設し
て、前記電極パッドの上面中央部に前記導体層からなる
柱状の接続端子を立設すると共に、半導体チップの電極
パッド間に位置する面に前記導体層からなる柱状のダミ
ー端子を前記絶縁層を介して立設する工程。 d.導体パッドが形成された実装基板の面に、絶縁層を
前記導体パッドの上面中央部を除いて形成する工程。 e.前記実装基板の面に形成した絶縁層及び導体パッド
の上面中央部を連続して覆う導体層を形成する工程。 f.前記実装基板の面に形成した絶縁層を覆う前記導体
層に、該導体層を貫いてその直下の絶縁層に達する細溝
を前記導体パッドを囲むようにして一連に刻設して、前
記導体パッドの上面中央部に前記導体層からなる柱状の
接続端子を立設すると共に、実装基板の導体パッド間に
位置する面に前記導体層からなる柱状のダミー端子を前
記絶縁層を介して立設する工程。 g.前記半導体チップ側に立設した接続端子及びダミー
端子を、それに対応する実装基板側に立設した接続端子
及びダミー端子にそれぞれ重ね合わせて、半導体チップ
を実装基板に載置する工程。 h.前記半導体チップ側に立設した接続端子及びダミー
端子を、それに対応する実装基板側に立設した接続端子
及びダミー端子にそれぞれ接合する工程。
A first method of mounting a semiconductor chip according to the present invention is characterized by including the following steps. a. Forming an insulating layer on the surface of the semiconductor chip on which the electrode pads are formed, except for a central portion of the upper surface of the electrode pads; b. Forming a conductive layer continuously covering an insulating layer formed on the surface of the semiconductor chip and a central portion of an upper surface of the electrode pad; c. In the conductor layer covering the insulation layer formed on the surface of the semiconductor chip, a narrow groove penetrating the conductor layer and reaching the insulation layer immediately thereunder is engraved in a series so as to surround the electrode pad, and Erecting column-shaped connection terminals made of the conductor layer in the center of the upper surface, and erecting column-shaped dummy terminals made of the conductor layer on the surface located between the electrode pads of the semiconductor chip via the insulating layer; . d. A step of forming an insulating layer on the surface of the mounting board on which the conductive pads are formed, except for a central portion of the upper surface of the conductive pads; e. Forming an insulating layer formed on the surface of the mounting board and a conductor layer that continuously covers the center of the upper surface of the conductor pad; f. In the conductor layer covering the insulation layer formed on the surface of the mounting substrate, a narrow groove penetrating the conductor layer and reaching the insulation layer immediately thereunder is engraved in series so as to surround the conductor pad, and Erecting column-shaped connection terminals made of the conductor layer in the center of the upper surface, and erecting column-shaped dummy terminals made of the conductor layer via the insulating layer on a surface located between the conductor pads of the mounting board; . g. A step of superposing the connection terminal and the dummy terminal erected on the semiconductor chip side on the corresponding connection terminal and the dummy terminal erected on the mounting substrate side, and mounting the semiconductor chip on the mounting substrate. h. Bonding the connection terminal and the dummy terminal erected on the semiconductor chip side to the corresponding connection terminal and the dummy terminal erected on the mounting substrate side.

【0009】この第1の半導体チップの実装方法におい
ては、そのa〜c工程において、半導体チップの電極パ
ッドの上面中央部に、導体層からなる柱状の接続端子を
立設できる。それと共に、半導体チップの電極パッド間
に位置する面に、導体層からなる柱状のダミー端子を絶
縁層を介して立設できる。同様に、そのd〜f工程にお
いて、実装基板の導体パッドの上面中央部に、導体層か
らなる柱状の接続端子を立設できる。それと共に、実装
基板の導体パッド間に位置する面に、導体層からなる柱
状のダミー端子を絶縁層を介して立設できる。次いで、
そのg〜h工程において、半導体チップ側の接続端子を
それに対応する実装基板側の接続端子に接合したり、半
導体チップ側のダミー端子をそれに対応する実装基板側
のダミー端子に接合したりできる。それと共に、半導体
チップを、実装基板に、ダミー端子及び絶縁層を介して
強固に接合できる。そして、半導体チップを、実装基板
に表面実装できる。
In the first method for mounting a semiconductor chip, in the steps a to c, a columnar connection terminal made of a conductive layer can be provided upright at the center of the upper surface of the electrode pad of the semiconductor chip. At the same time, a columnar dummy terminal made of a conductor layer can be provided upright on the surface located between the electrode pads of the semiconductor chip via the insulating layer. Similarly, in the steps d to f, a columnar connection terminal made of a conductor layer can be erected at the center of the upper surface of the conductor pad of the mounting board. At the same time, a columnar dummy terminal made of a conductive layer can be provided upright on the surface of the mounting board located between the conductive pads via the insulating layer. Then
In the steps g to h, the connection terminal on the semiconductor chip side can be joined to the corresponding connection terminal on the mounting board, and the dummy terminal on the semiconductor chip side can be joined to the corresponding dummy terminal on the mounting board side. At the same time, the semiconductor chip can be firmly joined to the mounting board via the dummy terminal and the insulating layer. Then, the semiconductor chip can be surface-mounted on the mounting board.

【0010】本発明の第2の半導体チップの実装構造
は、半導体チップの電極パッドに形成されたはんだから
なる接続端子とそれに対応する実装基板の導体パッドに
立設されたはんだからなる接続端子とがはんだ付けさ
れ、前記半導体チップの電極パッド間に位置する面と実
装基板の導体パッド間に位置する面とにはんだからなる
ダミー端子が絶縁層を介してそれぞれ形成され、前記半
導体チップと実装基板との間にアンダーフィル材が充填
されて、そのアンダーフィル材を介して半導体チップと
実装基板とが接合されてなることを特徴としている。
A second semiconductor chip mounting structure according to the present invention is characterized in that a connection terminal made of solder formed on an electrode pad of a semiconductor chip and a connection terminal made of solder mounted on a corresponding conductor pad of a mounting board are provided. Are soldered, and dummy terminals made of solder are formed on a surface located between the electrode pads of the semiconductor chip and a surface located between the conductor pads of the mounting substrate via an insulating layer, respectively. Are filled with an underfill material, and the semiconductor chip and the mounting substrate are joined via the underfill material.

【0011】この第2の半導体チップの実装構造におい
ては、半導体チップと実装基板との間に充填するアンダ
ーフィル材を、半導体チップ側及び実装基板側に形成さ
れたダミー端子の周囲面に広く回り込ませることができ
る。そして、半導体チップと実装基板との間に充填する
アンダーフィル材の接合面積を、上記のダミー端子の周
囲面に回り込ませた分、広げることができる。そして、
その接合面積を広げたアンダーフィル材を介して、半導
体チップを実装基板に強固に接合できる。また、半導体
チップ側や実装基板側に立設された接続端子の間に、半
導体チップ側又は実装基板側に形成されたダミー端子を
介在させることができる。そして、そのダミー端子を介
在させた容積分、半導体チップ側や実装基板側の接続端
子間に充填された高い誘電率の樹脂等からなるアンダー
フィル材の量を減少させることができる。そして、半導
体チップ側や実装基板側の接続端子間の寄生容量を低減
できる。そして、その半導体チップ側や実装基板側の接
続端子を伝わる高周波信号の高周波特性を向上させるこ
とができる。
In this second semiconductor chip mounting structure, the underfill material filled between the semiconductor chip and the mounting substrate is widely wrapped around the dummy terminals formed on the semiconductor chip side and the mounting substrate side. Can be made. Then, the bonding area of the underfill material to be filled between the semiconductor chip and the mounting board can be increased by the amount of the underfill material wrapping around the dummy terminal. And
The semiconductor chip can be firmly joined to the mounting substrate via the underfill material having an enlarged joining area. Further, a dummy terminal formed on the semiconductor chip side or the mounting substrate side can be interposed between the connection terminals provided on the semiconductor chip side or the mounting substrate side. The amount of the underfill material made of resin or the like having a high dielectric constant and filled between the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be reduced by the volume of the dummy terminals. Then, the parasitic capacitance between the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be reduced. Then, the high-frequency characteristics of the high-frequency signal transmitted through the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be improved.

【0012】また、ダミー端子は、絶縁層を介して、半
導体チップの電極パッド間に位置する面に形成された
り、実装基板の導体パッド間に位置する面に形成された
りしているため、その半導体チップ側と実装基板側のダ
ミー端子同士が互いにはんだ付けされた状態となって
も、その互いにはんだ付けされたダミー端子を通して、
半導体チップの内部回路と実装基板の配線回路との間を
ノイズ信号が伝わるのを防ぐことができる。
The dummy terminal is formed on a surface located between the electrode pads of the semiconductor chip or on a surface located between the conductor pads of the mounting board via the insulating layer. Even when the dummy terminals on the semiconductor chip side and the mounting board side are soldered to each other, through the dummy terminals soldered to each other,
It is possible to prevent a noise signal from being transmitted between the internal circuit of the semiconductor chip and the wiring circuit of the mounting board.

【0013】本発明の第2の半導体チップの実装方法
は、次の工程を含むことを特徴としている。 a.電極パッドが形成された半導体チップの面に、絶縁
層を前記電極パッドの上面中央部を除いて形成する工
程。 b.前記半導体チップの面に形成した絶縁層及び電極パ
ッドの上面中央部を連続して覆うはんだ層を形成する工
程。 c.前記半導体チップの面に形成した絶縁層を覆う前記
はんだ層に、該はんだ層を貫いてその直下の絶縁層に達
する細溝を前記電極パッドを囲むようにして一連に刻設
して、前記電極パッドの上面中央部に前記はんだ層から
なる柱状の接続端子を立設すると共に、半導体チップの
電極パッド間に位置する面に前記はんだ層からなる柱状
のダミー端子を前記絶縁層を介して立設する工程。 d.前記柱状の接続端子及びダミー端子を立設した半導
体チップを予備加熱して、そのはんだ層からなる接続端
子及びダミー端子をほぼ半球状に形成する工程。 e.導体パッドが形成された実装基板の面に、絶縁層を
前記導体パッドの上面中央部を除いて形成する工程。 f.前記実装基板の面に形成した絶縁層及び導体パッド
の上面中央部を連続して覆うはんだ層を形成する工程。 g.前記実装基板の面に形成した絶縁層を覆う前記はん
だ層に、該はんだ層を貫いてその直下の絶縁層に達する
細溝を前記導体パッドを囲むようにして一連に刻設し
て、前記導体パッドの上面中央部に前記はんだ層からな
る柱状の接続端子を立設すると共に、実装基板の導体パ
ッド間に位置する面に前記はんだ層からなる柱状のダミ
ー端子を前記絶縁層を介して立設する工程。 h.前記柱状の接続端子及びダミー端子を立設した実装
基板を予備加熱して、そのはんだ層からなる接続端子及
びダミー端子をほぼ半球状に形成する工程。 i.前記半導体チップ側に形成したほぼ半球状をした接
続端子を、それに対応する実装基板側に形成したほぼ半
球状をした接続端子に重ね合わせて、半導体チップを実
装基板に載置する工程。 j.前記半導体チップを載置した実装基板を加熱して、
半導体チップ側の接続端子とそれに対応する実装基板側
の接続端子とを溶融してはんだ付けする工程。 k.前記対応する接続端子同士がはんだ付けされた半導
体チップと実装基板との間にアンダーフィル材を充填し
て、そのアンダーフィル材を介して半導体チップを実装
基板に接合する工程。
A second method of mounting a semiconductor chip according to the present invention includes the following steps. a. Forming an insulating layer on the surface of the semiconductor chip on which the electrode pads are formed, except for a central portion of the upper surface of the electrode pads; b. Forming an insulating layer formed on the surface of the semiconductor chip and a solder layer that continuously covers a central portion of the upper surface of the electrode pad; c. In the solder layer covering the insulating layer formed on the surface of the semiconductor chip, a narrow groove penetrating the solder layer and reaching the insulating layer immediately thereunder is engraved in a series so as to surround the electrode pad. Erecting column-shaped connection terminals made of the solder layer in the center of the upper surface, and erecting column-shaped dummy terminals made of the solder layer on the surface located between the electrode pads of the semiconductor chip via the insulating layer; . d. A step of preheating the semiconductor chip on which the columnar connection terminals and the dummy terminals are erected to form the connection terminals and the dummy terminals made of the solder layer into a substantially hemispherical shape. e. A step of forming an insulating layer on the surface of the mounting board on which the conductive pads are formed, except for a central portion of the upper surface of the conductive pads; f. Forming a solder layer that continuously covers the insulating layer formed on the surface of the mounting board and the center of the upper surface of the conductive pad; g. On the solder layer covering the insulating layer formed on the surface of the mounting board, a narrow groove penetrating the solder layer and reaching the insulating layer immediately below the solder layer is engraved in a series so as to surround the conductive pad, and Erecting column-shaped connection terminals made of the solder layer in the center of the upper surface, and erecting column-shaped dummy terminals made of the solder layer on the surface located between the conductor pads of the mounting board via the insulating layer; . h. A step of preheating the mounting substrate on which the columnar connection terminals and the dummy terminals are erected, and forming the connection terminals and the dummy terminals formed of the solder layer in a substantially hemispherical shape. i. Superposing the substantially hemispherical connection terminals formed on the semiconductor chip side with the corresponding substantially hemispherical connection terminals formed on the mounting substrate side, and mounting the semiconductor chip on the mounting substrate. j. Heating the mounting substrate on which the semiconductor chip is mounted,
A step of melting and soldering the connection terminals on the semiconductor chip side and the corresponding connection terminals on the mounting board side; k. Filling an underfill material between the semiconductor chip to which the corresponding connection terminals are soldered and the mounting substrate, and joining the semiconductor chip to the mounting substrate via the underfill material.

【0014】この第2の半導体チップの実装方法におい
ては、そのa〜d工程において、半導体チップの電極パ
ッドの上面中央部に、はんだからなるほぼ半球状の接続
端子を形成できる。それと共に、半導体チップの電極パ
ッド間に位置する面に、はんだからなるほぼ半球状のダ
ミー端子を絶縁層を介して形成できる。同様に、そのe
〜h工程において、実装基板の導体パッドの上面中央部
に、はんだからなるほぼ半球状の接続端子を形成でき
る。それと共に、実装基板の導体パッド間に位置する面
に、はんだからなるほぼ半球状のダミー端子を絶縁層を
介して形成できる。次いで、そのi〜j工程において、
半導体チップ側の接続端子をそれに対応する実装基板側
の接続端子にはんだ付けできる。その後、そのk工程に
おいて、半導体チップと実装基板との間に充填したアン
ダーフィル材を半導体チップ側や実装基板側に形成した
ダミー端子の周囲面に広く回り込ませて、そのアンダー
フィル材を介して、半導体チップを実装基板に強固に接
合できる。そして、半導体チップを、実装基板に表面実
装できる。
In the second semiconductor chip mounting method, in the steps a to d, a substantially hemispherical connection terminal made of solder can be formed at the center of the upper surface of the electrode pad of the semiconductor chip. In addition, a substantially hemispherical dummy terminal made of solder can be formed on the surface of the semiconductor chip located between the electrode pads via the insulating layer. Similarly, the e
In steps (h) to (h), a substantially hemispherical connection terminal made of solder can be formed at the center of the upper surface of the conductor pad of the mounting board. At the same time, a substantially hemispherical dummy terminal made of solder can be formed on the surface of the mounting board located between the conductive pads via the insulating layer. Then, in the steps i to j,
The connection terminals on the semiconductor chip can be soldered to the corresponding connection terminals on the mounting board. Thereafter, in the k-step, the underfill material filled between the semiconductor chip and the mounting substrate is widely wrapped around the peripheral surface of the dummy terminal formed on the semiconductor chip side or the mounting substrate side, and through the underfill material. Thus, the semiconductor chip can be firmly joined to the mounting substrate. Then, the semiconductor chip can be surface-mounted on the mounting board.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
に従い説明する。図1は本発明の第1の半導体チップの
実装構造の好適な実施の形態を示し、図1はその構造説
明図である。以下に、この第1の半導体チップの実装構
造を説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a preferred embodiment of the mounting structure of the first semiconductor chip of the present invention, and FIG. 1 is an explanatory view of the structure. Hereinafter, the mounting structure of the first semiconductor chip will be described.

【0016】図の第1の半導体チップの実装構造では、
半導体チップ10の電極パッド12に立設された柱状の
接続端子20が、それに対応する実装基板30の導体パ
ッド32に立設された柱状の接続端子40に重ね合わせ
られて接合されている。
In the mounting structure of the first semiconductor chip shown in FIG.
The columnar connection terminals 20 erected on the electrode pads 12 of the semiconductor chip 10 are overlapped and joined to the corresponding columnar connection terminals 40 erected on the conductor pads 32 of the mounting board 30.

【0017】以上の構成は、従来の半導体チップの実装
構造とほぼ同様であるが、図の第1の半導体チップの実
装構造では、それに加えて、半導体チップ10の電極パ
ッド12間に位置する面14に、柱状のダミー端子50
が絶縁層52を介して立設されている。同じく、実装基
板30の導体パッド32間に位置する面34には、柱状
のダミー端子60が絶縁層62を介して立設されてい
る。
The above structure is almost the same as the conventional semiconductor chip mounting structure. However, in the first semiconductor chip mounting structure shown in the drawing, in addition to this, the surface located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip 10 is additionally provided. 14, a columnar dummy terminal 50
Are erected via an insulating layer 52. Similarly, columnar dummy terminals 60 are erected on the surface 34 of the mounting board 30 located between the conductor pads 32 via an insulating layer 62.

【0018】半導体チップ10側のダミー端子50は、
それに対応する実装基板30側のダミー端子60に重ね
合わせられて接合されている。そして、それらの互いに
接合されたダミー端子50、60及び絶縁層52、62
を介して、半導体チップ10が実装基板30に強固に接
合されている。そして、半導体チップ10が実装基板3
0に表面実装されている。
The dummy terminals 50 on the semiconductor chip 10 side
The corresponding dummy terminal 60 on the mounting board 30 is overlapped and joined. Then, the dummy terminals 50 and 60 and the insulating layers 52 and 62 that are joined to each other are provided.
The semiconductor chip 10 is firmly joined to the mounting substrate 30 via the through hole. Then, the semiconductor chip 10 is mounted on the mounting substrate 3.
0 is surface mounted.

【0019】図1の第1の半導体チップの実装構造は、
以上のように構成されていて、この第1の半導体チップ
の実装構造においては、その半導体チップ10側と実装
基板30側の互いに接合されたダミー端子50、60及
び絶縁層52、62を介して、半導体チップ10を実装
基板30に強固に接合できる。そして、半導体チップ1
0を実装基板30に強固に接合するためのアンダーフィ
ル材を、半導体チップ10と実装基板30との間に充填
する必要をなくすことができる。それと共に、半導体チ
ップ10側の接続端子20間や、実装基板30側の接続
端子60間には、高い誘電率の樹脂等からなる上記のア
ンダーフィル材を介在させずに、誘電率の低い空気を介
在させた状態とすることができる。そして、その半導体
チップ10側や実装基板30側の接続端子20、40間
の寄生容量を大幅に低減できる。また、ダミー端子5
0、60は、絶縁層52、62を介して、半導体チップ
の電極パッド12間に位置する面14に立設されたり、
実装基板の導体パッド32間に位置する面34に立設さ
れたりしているため、その互いに接合されたダミー端子
50、60を介して、半導体チップの内部回路16と実
装基板の配線回路36との間をノイズ信号が伝わるのを
防ぐことができる。
The mounting structure of the first semiconductor chip shown in FIG.
With the structure as described above, in the mounting structure of the first semiconductor chip, the dummy terminals 50 and 60 and the insulating layers 52 and 62 that are joined to each other on the semiconductor chip 10 side and the mounting substrate 30 side are used. Thus, the semiconductor chip 10 can be firmly joined to the mounting substrate 30. And the semiconductor chip 1
This eliminates the need to fill the space between the semiconductor chip 10 and the mounting substrate 30 with an underfill material for firmly bonding the O to the mounting substrate 30. At the same time, between the connection terminals 20 on the side of the semiconductor chip 10 and between the connection terminals 60 on the side of the mounting substrate 30, the above-mentioned underfill material made of resin or the like having a high dielectric constant is not interposed, and air having a low dielectric constant Can be interposed. Then, the parasitic capacitance between the connection terminals 20 and 40 on the semiconductor chip 10 side and the mounting substrate 30 side can be greatly reduced. Also, dummy terminal 5
0, 60 are erected on the surface 14 located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip via the insulating layers 52, 62,
Since it is erected on the surface 34 located between the conductor pads 32 of the mounting board, the internal circuit 16 of the semiconductor chip and the wiring circuit 36 of the mounting board are connected via the dummy terminals 50 and 60 joined to each other. It is possible to prevent a noise signal from being transmitted.

【0020】次に、この第1の半導体チップの実装構造
の実装方法であって、本発明の第1の半導体チップの実
装構造の実装方法の好適な実施の形態を説明する。
Next, a preferred embodiment of the mounting method of the first semiconductor chip mounting structure according to the present invention, which is the mounting method of the first semiconductor chip mounting structure, will be described.

【0021】図2に示したように、電極パッド12が形
成された半導体チップの面14に、樹脂等からなる絶縁
層52を半導体チップの電極パッド12の上面中央部を
除いて形成している。絶縁層52は、半導体チップの電
極パッド12間に位置する面14にポリイミド樹脂等を
用いてポッティングにより偏平なほぼ半球状に形成して
いる。そして、本発明の第1の半導体チップの実装構造
の実装方法のa工程を行っている。
As shown in FIG. 2, an insulating layer 52 made of resin or the like is formed on the surface 14 of the semiconductor chip on which the electrode pads 12 are formed, except for the center of the upper surface of the electrode pads 12 of the semiconductor chip. . The insulating layer 52 is formed in a flat and substantially hemispherical shape by potting using a polyimide resin or the like on the surface 14 located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip. Then, the step a of the mounting method of the first semiconductor chip mounting structure of the present invention is performed.

【0022】次いで、同じ図2に示したように、半導体
チップの面14に形成した上記の絶縁層52及び電極パ
ッド12の上面中央部を連続して覆う導体層70を形成
している。導体層70は、Ni層、Fe層又はCu層等
の金属層から形成している。その際には、絶縁層20表
面に粗面化等の下地処理を施して、その絶縁層52表面
に導体層70を密着させて強固に接合している。なお、
導体層70は、導体樹脂層等から形成することも可能で
ある。そして、本発明の第1の半導体チップの実装構造
の実装方法b工程を行っている。
Next, as shown in FIG. 2, a conductive layer 70 is formed to continuously cover the central portion of the upper surface of the insulating layer 52 and the electrode pad 12 formed on the surface 14 of the semiconductor chip. The conductor layer 70 is formed from a metal layer such as a Ni layer, an Fe layer, or a Cu layer. In this case, the surface of the insulating layer 20 is subjected to a base treatment such as surface roughening, and the conductor layer 70 is adhered to the surface of the insulating layer 52 to be firmly joined. In addition,
The conductor layer 70 can also be formed from a conductor resin layer or the like. Then, the mounting method b step of the first semiconductor chip mounting structure of the present invention is performed.

【0023】次いで、図3に示したように、半導体チッ
プの面14に形成した絶縁層52を覆う上記の導体層7
0に、該導体層を貫いてその直下の絶縁層52中途部に
達する細溝72を、電極パッド12を囲むようにして縦
横に格子状に一連に刻設している。細溝72は、スライ
サーを用いて、導体層70とその直下の絶縁層52にス
ライシングにより一連に刻設したり、レーザー光を用い
て、導体層70とその直下の絶縁層52に一連に刻設し
たりしている。そして、半導体チップの電極パッド12
の上面中央部に、導体層70からなる柱状の接続端子2
0を立設している。それと共に、半導体チップの電極パ
ッド12間に位置する面14に、導体層70からなる柱
状のダミー端子50を絶縁層52を介して立設してい
る。そして、本発明の第1の半導体チップの実装構造の
実装方法のc工程を行っている。
Next, as shown in FIG. 3, the conductor layer 7 covering the insulating layer 52 formed on the surface 14 of the semiconductor chip is formed.
In FIG. 0, narrow grooves 72 penetrating the conductor layer and reaching the middle of the insulating layer 52 immediately below the conductor layer are engraved in a series of rows and columns so as to surround the electrode pad 12. The narrow groove 72 is engraved on the conductor layer 70 and the insulating layer 52 immediately below the conductor layer 70 by slicing using a slicer, or is engraved on the conductor layer 70 and the insulating layer 52 immediately below the conductor layer 70 using laser light. We have established. Then, the electrode pads 12 of the semiconductor chip
A columnar connection terminal 2 made of a conductive layer 70
0 is erected. At the same time, columnar dummy terminals 50 made of a conductor layer 70 are erected on the surface 14 located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip via an insulating layer 52. Then, the step c of the mounting method of the first semiconductor chip mounting structure of the present invention is performed.

【0024】同様にして、図4に示したように、導体パ
ッド32が形成された実装基板の面34に、樹脂等から
なる絶縁層62を実装基板の導体パッド32の上面中央
部を除いて形成している。絶縁層62は、実装基板の導
体パッド32間に位置する面34にポリイミド樹脂等を
用いてポッティングにより偏平なほぼ半球状に形成して
いる。そして、本発明の第1の半導体チップの実装構造
の実装方法のd工程を行っている。
Similarly, as shown in FIG. 4, an insulating layer 62 made of resin or the like is provided on the surface 34 of the mounting board on which the conductive pads 32 are formed, except for the center of the upper surface of the conductive pads 32 of the mounting board. Has formed. The insulating layer 62 is formed in a flat, substantially hemispherical shape by potting using a polyimide resin or the like on the surface 34 located between the conductor pads 32 of the mounting board. Then, the step d of the mounting method of the first semiconductor chip mounting structure of the present invention is performed.

【0025】次いで、同じ図4に示したように、実装基
板の面34に形成した上記の絶縁層62及び導体パッド
32の上面中央部を連続して覆う導体層90を形成して
いる。導体層90は、Ni層、Fe層又はCu層等の金
属層から形成している。その際には、絶縁層62表面に
粗面化等の下地処理を施して、その絶縁層62表面に導
体層90を密着させて強固に接合している。なお、導体
層90は、導体樹脂層を用いて形成することも可能であ
る。そして、本発明の第1の半導体チップの実装構造の
実装方法のe工程を行っている。
Next, as shown in FIG. 4, a conductor layer 90 is formed to continuously cover the center of the upper surface of the insulating layer 62 and the conductor pad 32 formed on the surface 34 of the mounting board. The conductor layer 90 is formed from a metal layer such as a Ni layer, an Fe layer, or a Cu layer. In this case, the surface of the insulating layer 62 is subjected to a base treatment such as surface roughening, and the conductor layer 90 is adhered to the surface of the insulating layer 62 to be firmly joined. Note that the conductor layer 90 can also be formed using a conductor resin layer. Then, the step e of the method for mounting the first semiconductor chip mounting structure of the present invention is performed.

【0026】次いで、実装基板の面34に形成した絶縁
層62を覆う上記の導体層90に、該導体層を貫いてそ
の直下の絶縁層62中途部に達する細溝92を、導体パ
ッド32を囲むようにして縦横に格子状に一連に刻設し
ている。細溝92は、スライサーを用いて、導体層90
とその直下の絶縁層62にスライシングにより一連に刻
設したり、レーザー光を用いて、導体層90とその直下
の絶縁層62に一連に刻設したりしている。そして、実
装基板の導体パッド32の上面中央部に、上記の導体層
90からなる柱状の接続端子40を立設している。それ
と共に、実装基板の導体パッド32間に位置する面34
に、上記の導体層90からなる柱状のダミー端子60を
絶縁層62を介して立設している。そして、本発明の第
1の半導体チップの実装構造の実装方法のf工程を行っ
ている。
Next, in the above-mentioned conductor layer 90 covering the insulating layer 62 formed on the surface 34 of the mounting board, a narrow groove 92 which penetrates the conductor layer and reaches an intermediate portion of the insulating layer 62 immediately below the conductor layer 90 is formed with the conductor pad 32. It is engraved in a grid in a vertical and horizontal manner so as to surround it. The narrow groove 92 is formed in the conductor layer 90 using a slicer.
Is formed on the insulating layer 62 immediately below the conductor layer 90 by slicing, or is formed on the conductor layer 90 and the insulating layer 62 immediately below the conductor layer 90 by using a laser beam. The column-shaped connection terminals 40 made of the conductor layer 90 are provided upright at the center of the upper surface of the conductor pad 32 of the mounting board. At the same time, the surface 34 located between the conductor pads 32 of the mounting board
Further, a columnar dummy terminal 60 made of the above-mentioned conductor layer 90 is provided upright via an insulating layer 62. Then, the step f of the mounting method of the first semiconductor chip mounting structure of the present invention is performed.

【0027】次いで、図1に示したように、半導体チッ
プ10側の接続端子20及びダミー端子50を、それに
対応する実装基板30側の接続端子40及びダミー端子
60にそれぞれ重ね合わせている。そして、半導体チッ
プ10を実装基板30に載置している。そして、本発明
の第1の半導体チップの実装構造の実装方法のg工程を
行っている。
Next, as shown in FIG. 1, the connection terminal 20 and the dummy terminal 50 on the semiconductor chip 10 are overlapped with the corresponding connection terminal 40 and the dummy terminal 60 on the mounting board 30 respectively. Then, the semiconductor chip 10 is mounted on the mounting substrate 30. Then, the g step of the mounting method of the first semiconductor chip mounting structure of the present invention is performed.

【0028】その後、同じ図1に示したように、半導体
チップ10側の接続端子20及びダミー端子50を、そ
れに対応する実装基板30側の接続端子40及びダミー
端子60にそれぞれ接合している。対応する接続端子2
0、40同士及びダミー端子50、60同士を互いに接
合する際には、導体層70、90がNi層、Fe層、又
はCu層等の金属層の場合には、その接続端子20、4
0及びダミー端子50、60表面にWET腐蝕処理を施
した後、その対応する接続端子20、40同士及びダミ
ー端子50、60同士を互いに加圧接触させながら還元
処理に基づく金属拡散反応により接合している。他方、
導体層70、90が導体樹脂層等の場合には、その対応
する接続端子20、40同士及びダミー端子50、60
同士を導電性接着剤を用いて互いに接合している。そし
て、本発明の第1の半導体チップの実装構造の実装方法
のh工程を行っている。そして、半導体チップ10を実
装基板30に表面実装している。
Thereafter, as shown in FIG. 1, the connection terminals 20 and the dummy terminals 50 on the semiconductor chip 10 are joined to the corresponding connection terminals 40 and the dummy terminals 60 on the mounting substrate 30 respectively. Corresponding connection terminal 2
When the conductor layers 70 and 90 are metal layers such as a Ni layer, an Fe layer, or a Cu layer, the connection terminals 20 and 4 are connected to each other.
After the surfaces of the dummy terminals 50 and 60 are subjected to the WET corrosion treatment, the corresponding connection terminals 20 and 40 and the dummy terminals 50 and 60 are brought into pressure contact with each other and joined by a metal diffusion reaction based on a reduction treatment. ing. On the other hand,
When the conductor layers 70 and 90 are conductor resin layers or the like, the corresponding connection terminals 20 and 40 and the dummy terminals 50 and 60
These are joined to each other using a conductive adhesive. Then, the step h of the mounting method of the first semiconductor chip mounting structure of the present invention is performed. Then, the semiconductor chip 10 is surface-mounted on the mounting substrate 30.

【0029】図1ないし図5に示した第1の半導体チッ
プの実装方法は、以上の工程からなり、この第1の半導
体チップの実装方法においては、そのa〜c工程におい
て、半導体チップの電極パッド12の上面中央部に、導
体層70からなる柱状の接続端子20を立設できる。そ
れと共に、半導体チップの電極パッド12間に位置する
面14に、導体層70からなる柱状のダミー端子50を
絶縁層52を介して立設できる。同様に、そのd〜f工
程において、実装基板の導体パッド32の上面中央部
に、導体層90からなる柱状の接続端子40を立設でき
る。それと共に、実装基板の導体パッド32間に位置す
る面34に、導体層90からなる柱状のダミー端子60
を絶縁層62を介して立設できる。次いで、そのg〜h
工程において、半導体チップ10側の接続端子20をそ
れに対応する実装基板30側の接続端子40に接合した
り、半導体チップ10側のダミー端子50をそれに対応
する実装基板30側のダミー端子60に接合したりでき
る。それと共に、半導体チップ10を、実装基板30に
ダミー端子50、60及び絶縁層52、62を介して、
強固に接合できる。そして、半導体チップ10を実装基
板30に表面実装できる。
The method of mounting the first semiconductor chip shown in FIGS. 1 to 5 comprises the above steps. In the method of mounting the first semiconductor chip, in the steps a to c, the electrodes of the semiconductor chip are formed. At the center of the upper surface of the pad 12, a columnar connection terminal 20 made of the conductor layer 70 can be erected. At the same time, the columnar dummy terminal 50 made of the conductor layer 70 can be provided upright on the surface 14 located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip via the insulating layer 52. Similarly, in the steps d to f, a columnar connection terminal 40 made of the conductor layer 90 can be provided upright at the center of the upper surface of the conductor pad 32 of the mounting board. At the same time, the columnar dummy terminal 60 made of the conductor layer 90 is provided on the surface 34 between the conductor pads 32 of the mounting board.
Can be erected through the insulating layer 62. Then, g to h
In the process, the connection terminals 20 on the semiconductor chip 10 side are joined to the corresponding connection terminals 40 on the mounting substrate 30 side, and the dummy terminals 50 on the semiconductor chip 10 side are joined to the corresponding dummy terminals 60 on the mounting substrate 30 side. You can do it. At the same time, the semiconductor chip 10 is mounted on the mounting substrate 30 via the dummy terminals 50 and 60 and the insulating layers 52 and 62.
Can be firmly joined. Then, the semiconductor chip 10 can be surface-mounted on the mounting substrate 30.

【0030】図6は本発明の第2の半導体チップの実装
構造の好適な実施の形態を示し、図6はその構造説明図
である。以下に、この第2の半導体チップの実装構造を
説明する。
FIG. 6 shows a preferred embodiment of the mounting structure of the second semiconductor chip of the present invention, and FIG. 6 is an explanatory view of the structure. Hereinafter, the mounting structure of the second semiconductor chip will be described.

【0031】図の第2の半導体チップの実装構造では、
半導体チップ10の電極パッド12に形成されたはんだ
からなる接続端子20が、それに対応する実装基板30
の導体パッド32に形成されたはんだからなる接続端子
40に重ね合わせられてはんだ付けされている。
In the mounting structure of the second semiconductor chip shown in FIG.
The connection terminals 20 made of solder formed on the electrode pads 12 of the semiconductor chip 10 are connected to the corresponding mounting substrates 30.
Are soldered in such a manner as to be superimposed on the connection terminals 40 made of solder formed on the conductor pads 32 of the first embodiment.

【0032】以上の構成は、従来の半導体チップの実装
構造と同様であるが、図の第2の半導体チップの実装構
造では、それに加えて、半導体チップの電極パッド12
間に位置する面14に、半導体チップの電極パッド12
に形成された接続端子20と同じか又はそれより短い丈
のはんだからなるほぼ半球状のダミー端子50が絶縁層
52を介して形成されている。同じく、実装基板の導体
パッド32間に位置する面34にも、実装基板の導体パ
ッド32に形成された接続端子40と同じか又はそれよ
り短い丈のはんだからなるほぼ半球状のダミー端子60
が絶縁層62を介して形成されている。
The above structure is the same as that of the conventional semiconductor chip mounting structure. However, the second semiconductor chip mounting structure shown in FIG.
The electrode pad 12 of the semiconductor chip is
A substantially semi-spherical dummy terminal 50 made of a solder having a length equal to or shorter than the connection terminal 20 formed on the insulating layer 52 is formed via an insulating layer 52. Similarly, a substantially hemispherical dummy terminal 60 made of solder having a length equal to or shorter than the connection terminal 40 formed on the conductor pad 32 of the mounting board is also provided on the surface 34 located between the conductor pads 32 of the mounting board.
Are formed via an insulating layer 62.

【0033】半導体チップ10とそれに対向する実装基
板30との間には、樹脂等からなるアンダーフィル材1
40が充填されている。そして、そのアンダーフィル材
140を介して、半導体チップ10が実装基板30に強
固に接合されている。そして、半導体チップ10が実装
基板30に表面実装されている。
An underfill material 1 made of resin or the like is provided between the semiconductor chip 10 and the mounting substrate 30 opposed thereto.
40 are filled. The semiconductor chip 10 is firmly joined to the mounting substrate 30 via the underfill material 140. Then, the semiconductor chip 10 is surface-mounted on the mounting substrate 30.

【0034】図6に示した第2の半導体チップの実装構
造は、以上のように構成されていて、この第2の半導体
チップの実装構造においては、半導体チップ10と実装
基板30との間に充填されたアンダーフィル材140
を、半導体チップ10側及び実装基板30側に形成され
たダミー端子50、60の周囲面に回り込ませて、その
アンダーフィル材140の接合面積を広げることができ
る。そして、その接合面積を広げたアンダーフィル材1
40を介して、半導体チップ10を実装基板30に強固
に接合できる。また、半導体チップ10側や実装基板3
0側に形成された接続端子20、40間に介在するダミ
ー端子50、60により、その接続端子20、40間に
充填された高い誘電率の樹脂等からなるアンダーフィル
材140の量を減少させて、半導体チップ10側や実装
基板30側の接続端子20、40間の寄生容量を低減で
きる。
The mounting structure of the second semiconductor chip shown in FIG. 6 is configured as described above. In the mounting structure of the second semiconductor chip, the structure between the semiconductor chip 10 and the mounting substrate 30 is provided. Filled underfill material 140
Can be spread around the peripheral surfaces of the dummy terminals 50 and 60 formed on the semiconductor chip 10 side and the mounting substrate 30 side, so that the bonding area of the underfill material 140 can be increased. And, the underfill material 1 having an increased joint area
The semiconductor chip 10 can be firmly joined to the mounting substrate 30 through the connection 40. Also, the semiconductor chip 10 side and the mounting substrate 3
Due to the dummy terminals 50 and 60 interposed between the connection terminals 20 and 40 formed on the 0 side, the amount of the underfill material 140 made of resin or the like having a high dielectric constant filled between the connection terminals 20 and 40 is reduced. Thus, the parasitic capacitance between the connection terminals 20 and 40 on the semiconductor chip 10 side and the mounting substrate 30 side can be reduced.

【0035】また、ダミー端子50、60は、絶縁層5
2、62を介して、半導体チップの電極パッド12間に
位置する面14や、実装基板の導体パッド32間に位置
する面34に形成されていて、その半導体チップ10側
と実装基板30側の対応するダミー端子50、60同士
が互いにはんだ付けされた状態となっても、その互いに
はんだ付けされたダミー端子50、60を通して、半導
体チップの内部回路16と実装基板の配線回路36との
間にノイズ信号が伝わるのを防ぐことができる。
The dummy terminals 50 and 60 are connected to the insulating layer 5
The semiconductor chip 10 and the mounting substrate 30 are formed on the surface 14 located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip and the surface 34 located between the conductor pads 32 of the mounting substrate via the semiconductor chips 2 and 62. Even when the corresponding dummy terminals 50 and 60 are soldered to each other, the internal circuit 16 of the semiconductor chip and the wiring circuit 36 of the mounting board are passed through the dummy terminals 50 and 60 soldered to each other. The transmission of a noise signal can be prevented.

【0036】次に、この第2の半導体チップの実装方法
であって、本発明の第2の半導体チップの実装方法の好
適な実施の形態を説明する。
Next, a preferred embodiment of the second semiconductor chip mounting method of the present invention, which is the second semiconductor chip mounting method, will be described.

【0037】図7に示したように、前述の第1の半導体
チップの実装方法のa工程と同様にして、電極パッド1
2が形成された半導体チップの面14に、ポリイミド樹
脂等からなる絶縁層52をポッティング等により半導体
チップの電極パッド12の上面中央部を除いて形成して
いる。そして、本発明の第2の半導体チップの実装方法
のa工程を行っている。
As shown in FIG. 7, the electrode pad 1 is formed in the same manner as in the step a of the first semiconductor chip mounting method.
An insulating layer 52 made of a polyimide resin or the like is formed on the surface 14 of the semiconductor chip on which the electrodes 2 are formed, except for the center of the upper surface of the electrode pad 12 of the semiconductor chip by potting or the like. Then, the step a of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0038】次いで、同じ図7に示したように、前述の
第1の半導体チップの実装方法のb工程と同様にして、
半導体チップの面14に形成した上記の絶縁層14及び
電極パッド12の上面中央部を連続して覆うはんだ層7
4を形成している。はんだ層74は、塗布又はめっきに
より、絶縁層52上面及び電極パッド12の上面中央部
に連続して形成している。そして、本発明の第2の半導
体チップの実装方法のb工程を行っている。
Next, as shown in FIG. 7, in the same manner as in the step b of the above-described first semiconductor chip mounting method,
The solder layer 7 that continuously covers the central portion of the upper surface of the insulating layer 14 and the electrode pad 12 formed on the surface 14 of the semiconductor chip.
4 are formed. The solder layer 74 is continuously formed on the upper surface of the insulating layer 52 and the center of the upper surface of the electrode pad 12 by coating or plating. Then, step b of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0039】次いで、図8に示したように、前述の第1
の半導体チップの実装構造のc工程と同様にして、半導
体チップの面14に形成した絶縁層52を覆う上記のは
んだ層74に、該はんだ層を貫いてその直下の絶縁層5
2中途部に達する細溝72を、電極パッド12を囲むよ
うにして縦横に格子状に一連に刻設している。そして、
半導体チップの電極パッド12の上面中央部に、はんだ
層74からなる柱状の接続端子20を立設している。そ
れと共に、半導体チップの電極パッド12間に位置する
面14に、はんだ層74からなるダミー端子50を絶縁
層52を介して立設している。そして、本発明の第2の
半導体チップの実装方法のc工程を行っている。
Next, as shown in FIG.
The solder layer 74 covering the insulating layer 52 formed on the surface 14 of the semiconductor chip is provided on the solder layer 74 that penetrates the solder layer and is directly under the solder layer 74 in the same manner as in the step c of the mounting structure of the semiconductor chip.
2. The narrow groove 72 reaching the middle part is engraved in a series of rows and columns so as to surround the electrode pad 12. And
At the center of the upper surface of the electrode pad 12 of the semiconductor chip, a columnar connection terminal 20 made of a solder layer 74 is provided upright. At the same time, a dummy terminal 50 made of a solder layer 74 is provided upright on the surface 14 located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip via an insulating layer 52. Then, the step c of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0040】次いで、図9に示したように、上記の柱状
の接続端子20及びダミー端子50を立設した半導体チ
ップ10を予備加熱している。そして、その半導体チッ
プ10側のはんだ層74からなる接続端子20及びダミ
ー端子50をほぼ半球状に形成している。そして、本発
明の第2の半導体チップの実装方法のd工程を行ってい
る。
Next, as shown in FIG. 9, the semiconductor chip 10 on which the columnar connection terminals 20 and the dummy terminals 50 are erected is preheated. Then, the connection terminals 20 and the dummy terminals 50 formed of the solder layer 74 on the semiconductor chip 10 side are formed in a substantially hemispherical shape. Then, the step d of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0041】同様にして、図10に示したように、前述
の第1の半導体チップの実装方法のd工程と同様にし
て、導体パッド32が形成された実装基板の面34に、
ポリイミド樹脂等からなる絶縁層62をポッティング等
により実装基板の導体パッド32の上面中央部を除いて
形成している。そして、本発明の第2の半導体チップの
実装方法のe工程を行っている。
Similarly, as shown in FIG. 10, the surface 34 of the mounting board on which the conductor pads 32 are formed is
An insulating layer 62 made of a polyimide resin or the like is formed by potting or the like except for the center of the upper surface of the conductor pad 32 of the mounting board. Then, the step e of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0042】次いで、同じ図10に示したように、前述
の第1の半導体チップの実装方法のe工程と同様にし
て、実装基板の面34に形成した上記の絶縁層62及び
導体パッド32の上面中央部を連続して覆うはんだ層9
4を形成している。はんだ層94は、塗布又はめっきに
より、絶縁層62上面及び導体パッド32の上面中央部
に連続して形成している。そして、本発明の第2の半導
体チップの実装方法のf工程を行っている。
Next, as shown in FIG. 10, the insulating layer 62 and the conductive pad 32 formed on the surface 34 of the mounting board are formed in the same manner as in the step e of the first semiconductor chip mounting method described above. Solder layer 9 that continuously covers the center of the upper surface
4 are formed. The solder layer 94 is continuously formed on the upper surface of the insulating layer 62 and the center of the upper surface of the conductive pad 32 by coating or plating. Then, the step f of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0043】次いで、図11に示したように、前述の第
1の半導体チップの実装方法のf工程と同様にして、実
装基板の面34に形成した絶縁層62を覆う上記のはん
だ層94に、該はんだ層を貫いてその直下の絶縁層62
中途部に達する細溝92を、導体パッド32を囲むよう
にして縦横に格子状に一連に刻設している。細溝92
は、スライサーを用いて、はんだ層94とその直下の絶
縁層62にスライシングにより一連に刻設したり、レー
ザー光を用いて、はんだ層94とその直下の絶縁層62
に一連に刻設したりしている。そして、実装基板の導体
パッド32の上面中央部に、はんだ層94からなる柱状
の接続端子40を立設している。それと共に、実装基板
の導体パッド32間に位置する面34に、はんだ層94
からなる柱状のダミー端子60を絶縁層62を介して立
設している。そして、本発明の第2の半導体チップの実
装方法のg工程を行っている。
Next, as shown in FIG. 11, the solder layer 94 covering the insulating layer 62 formed on the surface 34 of the mounting board is formed in the same manner as in the step f of the first semiconductor chip mounting method described above. An insulating layer 62 penetrating the solder layer and immediately below the solder layer.
The narrow groove 92 reaching the middle part is engraved in a vertical and horizontal lattice so as to surround the conductor pad 32. Narrow groove 92
Is formed by slicing a series of slicing on the solder layer 94 and the insulating layer 62 immediately below the solder layer 94 using a slicer, or using a laser beam to form the solder layer 94 and the insulating layer 62
Or engraved in a series. Then, a columnar connection terminal 40 made of a solder layer 94 is erected at the center of the upper surface of the conductor pad 32 of the mounting board. At the same time, the solder layer 94 is provided on the surface 34 of the mounting board between the conductive pads 32.
The pillar-shaped dummy terminal 60 made of is formed upright with an insulating layer 62 interposed therebetween. Then, the g step of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0044】次いで、図12に示したように、上記の柱
状の接続端子40及びダミー端子60を立設した実装基
板30を予備加熱している。そして、その実装基板30
側のはんだ層94からなる接続端子40及びダミー端子
60をほぼ半球状に形成している。そして、本発明の第
2の半導体チップの実装方法のh工程を行っている。
Next, as shown in FIG. 12, the mounting substrate 30 on which the columnar connection terminals 40 and the dummy terminals 60 are erected is preheated. Then, the mounting substrate 30
The connection terminals 40 and the dummy terminals 60 made of the solder layer 94 on the side are formed substantially hemispherically. Then, step h of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0045】次いで、図13に示したように、半導体チ
ップ10側の接続端子20を、それに対応する実装基板
30側の接続端子40に重ね合わせている。そして、半
導体チップ10を実装基板30に載置している。そし
て、本発明の第2の半導体チップの実装方法のi工程を
行っている。
Next, as shown in FIG. 13, the connection terminals 20 on the semiconductor chip 10 are superimposed on the corresponding connection terminals 40 on the mounting substrate 30. Then, the semiconductor chip 10 is mounted on the mounting substrate 30. Then, the i-step of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0046】次いで、半導体チップ10を載置した実装
基板30をリフロー炉等に入れて加熱している。そし
て、図6に示したように、半導体チップ10側のはんだ
からなる接続端子20を、それに対応する実装基板30
側のはんだからなる接続端子40にその接続端子20、
40同士を溶融させてはんだ付けしている。そして、本
発明の第2の半導体チップの実装方法のj工程を行って
いる。
Next, the mounting substrate 30 on which the semiconductor chip 10 is mounted is placed in a reflow furnace or the like and heated. Then, as shown in FIG. 6, the connection terminals 20 made of solder on the side of the semiconductor chip 10 are connected to the corresponding mounting substrates 30.
The connection terminal 20 made of solder on the side
40 are melted and soldered. Then, the step j of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed.

【0047】その後、同じ図6に示したように、対応す
る接続端子20、40同士をはんだ付けした半導体チッ
プ10と実装基板30との間にアンダーフィル材140
を充填している。そして、そのアンダーフィル材140
を介して、半導体チップ10を実装基板30に強固に接
合している。そして、本発明の第2の半導体チップの実
装方法のk工程を行っている。そして、半導体チップ1
0を実装基板30に表面実装している。
Thereafter, as shown in FIG. 6, the underfill material 140 is provided between the mounting substrate 30 and the semiconductor chip 10 to which the corresponding connection terminals 20 and 40 are soldered.
Is filled. And the underfill material 140
The semiconductor chip 10 is firmly joined to the mounting substrate 30 through the intermediary of the semiconductor chip 10. Then, the k step of the second semiconductor chip mounting method of the present invention is performed. And the semiconductor chip 1
0 is surface-mounted on the mounting board 30.

【0048】図6ないし図13に示した第2の半導体チ
ップの実装方法は、以上の工程からなり、この第2の半
導体チップの実装方法においては、そのa〜d工程にお
いて、半導体チップの電極パッド12の上面中央部に、
はんだからなるほぼ半球状の接続端子20を形成でき
る。それと共に、半導体チップの電極パッド12間に位
置する面14に、はんだからなるほぼ半球状のダミー端
子50であって、上記の接続端子20と同一か又はそれ
より低い丈のダミー端子50を絶縁層52を介して形成
できる。同様に、そのe〜h工程において、実装基板の
導体パッド32の上面中央部に、はんだからなるほぼ半
球状の接続端子40を形成できる。それと共に、実装基
板の導体パッド32間に位置する面34に、はんだから
なるほぼ半球状のダミー端子60であって、上記の接続
端子40と同一か又はそれより低い丈のダミー端子60
を絶縁層62を介して形成できる。次いで、そのi〜j
工程において、半導体チップ10側の接続端子20をそ
れに対応する実装基板30側の接続端子40にはんだ付
けできる。その後、そのk工程において、半導体チップ
10と実装基板30との間に充填したアンダーフィル材
140を半導体チップ10側や実装基板30側に形成し
たダミー端子50、60の周囲面に広く回り込ませて、
そのアンダーフィル材140を介して、半導体チップ1
0を実装基板30に強固に接合できる。そして、半導体
チップ10を実装基板30に表面実装できる。
The mounting method of the second semiconductor chip shown in FIGS. 6 to 13 comprises the above steps. In the second mounting method of the semiconductor chip, the electrodes of the semiconductor chip are used in the steps a to d. In the center of the upper surface of the pad 12,
A substantially hemispherical connection terminal 20 made of solder can be formed. At the same time, on the surface 14 located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip, a substantially hemispherical dummy terminal 50 made of solder and having a length equal to or shorter than the connection terminal 20 is insulated. It can be formed through the layer 52. Similarly, in the steps e to h, a substantially hemispherical connection terminal 40 made of solder can be formed at the center of the upper surface of the conductor pad 32 of the mounting board. At the same time, on the surface 34 located between the conductor pads 32 of the mounting board, a substantially hemispherical dummy terminal 60 made of solder and having a length equal to or shorter than the connection terminal 40 is used.
Can be formed via the insulating layer 62. Then i-j
In the process, the connection terminals 20 on the semiconductor chip 10 side can be soldered to the corresponding connection terminals 40 on the mounting substrate 30 side. After that, in the k step, the underfill material 140 filled between the semiconductor chip 10 and the mounting substrate 30 is widely wrapped around the peripheral surfaces of the dummy terminals 50 and 60 formed on the semiconductor chip 10 and the mounting substrate 30 side. ,
Through the underfill material 140, the semiconductor chip 1
0 can be firmly joined to the mounting substrate 30. Then, the semiconductor chip 10 can be surface-mounted on the mounting substrate 30.

【0049】この第2の半導体チップの実装方法におい
ては、半導体チップ10側の接続端子20を実装基板3
0側の接続端子40にはんだ付けする際に、半導体チッ
プ10側に形成されたはんだからなるダミー端子50
は、その近くの実装基板30側に形成されたはんだから
なるダミー端子60に同時にはんだ付けしても良く、又
ははんだ付けしなくても良い。ただし、半導体チップ1
0側や実装基板30側に形成されるダミー端子50、6
0は、半導体チップ10側や実装基板30側の接続端子
50、60より丈が低く、そのダミー端子50、60同
士ははんだ付けされないのが一般である。その理由は、
例えば、近時の高集積化された半導体チップ10やそれ
を実装する実装基板30に多数並ぶ電極パッド12や導
体パッド32のピッチは250μmであり、その半導体
チップの電極パッド12やその実装基板の導体パッド3
2の径は120μmである。従って、半導体チップの電
極パッド12間や実装基板の導体パッド32間は130
μmの隙間しかあいておらず、その電極パッド12間に
位置する半導体チップの面14やその導体パッド32間
に位置する実装基板の面34に形成するダミー端子5
0、60の径は、約40μmとなってしまう。それに対
して、半導体チップの電極パッド12上面中央部や実装
基板の導体パッド32上面中央部に形成される接続端子
20、40の径は、約100μmとなる。そのため、上
述の第2の半導体チップの実装方法のc工程において、
半導体チップの電極パッド12の上面中央部に立設され
るはんだ層74からなる柱状の接続端子20の体積は、
半導体チップの電極パッド12間に位置する面14に立
設されるはんだ層74からなる柱状のダミー端子50の
体積の数倍となる。同様にして、上述の第2の半導体チ
ップの実装方法のg工程において、実装基板の導体パッ
ド32の上面中央部に立設されるはんだ層94からなる
柱状の接続端子40の体積は、実装基板の導体パッド3
2間に位置する面34に立設されるはんだ層94からな
る柱状のダミー端子60の体積の数倍となる。その結
果、上述の第2の半導体チップの実装方法のd及びh工
程において、そのはんだ層74、94からなる柱状のダ
ミー端子50、60を加熱して形成されるほぼ半球状の
ダミー端子50、60の丈は、はんだ層74、94から
なる柱状の接続端子20、40を加熱して形成されるほ
ぼ半球状の接続端子20、40の丈より低くなるのが通
常だからである。
In this second semiconductor chip mounting method, the connection terminals 20 on the semiconductor chip 10 side are connected to the mounting substrate 3
When soldering to the connection terminal 40 on the 0 side, the dummy terminal 50 made of solder formed on the semiconductor chip 10 side is used.
May be simultaneously soldered to the dummy terminal 60 made of solder formed on the mounting board 30 side near it, or may not be soldered. However, semiconductor chip 1
Dummy terminals 50 and 6 formed on the 0 side and the mounting substrate 30 side.
0 is shorter than the connection terminals 50 and 60 on the semiconductor chip 10 side and the mounting substrate 30 side, and the dummy terminals 50 and 60 are generally not soldered to each other. The reason is,
For example, the pitch of a large number of electrode pads 12 and conductor pads 32 lined up with the recent highly integrated semiconductor chip 10 and the mounting board 30 on which the chip is mounted is 250 μm, and the electrode pad 12 of the semiconductor chip and the mounting board 30 Conductor pad 3
2 has a diameter of 120 μm. Therefore, the space between the electrode pads 12 of the semiconductor chip and the space between the conductor pads 32 of the mounting board is 130
A dummy terminal 5 is formed on the surface 14 of the semiconductor chip located between the electrode pads 12 and the surface 34 of the mounting substrate located between the conductor pads 32.
The diameters of 0 and 60 are about 40 μm. On the other hand, the diameter of the connection terminals 20 and 40 formed at the center of the upper surface of the electrode pad 12 of the semiconductor chip and the center of the upper surface of the conductor pad 32 of the mounting board is about 100 μm. Therefore, in step c of the above-described second semiconductor chip mounting method,
The volume of the columnar connection terminal 20 made of the solder layer 74 erected at the center of the upper surface of the electrode pad 12 of the semiconductor chip is:
The volume is several times the volume of the columnar dummy terminal 50 made of the solder layer 74 erected on the surface 14 located between the electrode pads 12 of the semiconductor chip. Similarly, in the step g of the above-described second semiconductor chip mounting method, the volume of the columnar connection terminal 40 made of the solder layer 94 erected at the center of the upper surface of the conductive pad 32 of the mounting board is equal to the mounting board. Conductor pad 3
It is several times the volume of the columnar dummy terminal 60 made of the solder layer 94 erected on the surface 34 located between the two. As a result, in the d and h steps of the above-described second semiconductor chip mounting method, the substantially semi-spherical dummy terminals 50 formed by heating the columnar dummy terminals 50 and 60 made of the solder layers 74 and 94, This is because the length of the connection terminals 20 and 40 formed by heating the pillar-shaped connection terminals 20 and 40 made of the solder layers 74 and 94 is generally lower than the height of the connection terminals 20 and 40 that are substantially hemispherical.

【0050】また、前述の第2の半導体チップの実装構
造及び上述の第2の半導体チップの実装方法において
は、対応するダミー端子50、60同士を、互いに対向
させて配置せずに、左右にずらせて、半導体チップ10
側及び実装基板30側に形成しても良い。その場合に
も、前述と同様な作用、効果を持つ第2の半導体チップ
の実装構造及び第2の半導体チップの実装方法を提供で
きる。
In the above-described second semiconductor chip mounting structure and the above-described second semiconductor chip mounting method, the corresponding dummy terminals 50 and 60 are not disposed so as to face each other. The semiconductor chip 10
It may be formed on the side and the mounting substrate 30 side. Also in this case, it is possible to provide a mounting structure of the second semiconductor chip and a mounting method of the second semiconductor chip having the same operation and effect as described above.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の第1の半
導体チップの実装構造によれば、半導体チップを実装基
板にダミー端子を介して強固に接合できる。そして、半
導体チップと実装基板との間にアンダーフィル材を充填
して、そのアンダーフィル材を介して半導体チップを実
装基板に接合する必要をなくすことができる。また、半
導体チップ側や実装基板側の接続端子間に高い誘電率の
アンダーフィル材を介在させずに低い誘電率の空気を介
在させた状態として、その接続端子間の寄生容量を低減
できる。そして、その半導体チップ側や実装基板側の接
続端子を伝わる高周波信号の高周波特性を向上させるこ
とができる。
As described above, according to the first semiconductor chip mounting structure of the present invention, the semiconductor chip can be firmly joined to the mounting substrate via the dummy terminals. Then, an underfill material is filled between the semiconductor chip and the mounting substrate, so that it is not necessary to join the semiconductor chip to the mounting substrate via the underfill material. In addition, it is possible to reduce the parasitic capacitance between the connection terminals in a state where air having a low dielectric constant is interposed between the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side without an underfill material having a high dielectric constant. Then, the high-frequency characteristics of the high-frequency signal transmitted through the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be improved.

【0052】本発明の第1の半導体チップの実装方法に
よれば、本発明の第1の半導体チップの実装構造を、従
来汎用の技術を用いて、多大な手数をかけずに容易かつ
的確に形成できる。
According to the first method for mounting a semiconductor chip of the present invention, the mounting structure of the first semiconductor chip of the present invention can be easily and accurately applied using conventional general-purpose techniques without much trouble. Can be formed.

【0053】本発明の第2の半導体チップの実装構造に
よれば、半導体チップと実装基板との間に充填するアン
ダーフィル材を、半導体チップ側や実装基板側に形成さ
れたダミー端子の周囲面に広く回り込ませて、そのアン
ダーフィル材の接合面積を広げることができる。そし
て、そのアンダーフィル材を介して、半導体チップを実
装基板に強固に接合できる。また、半導体チップ側や実
装基板側に形成された接続端子間に充填されたアンダー
フィル材に、ダミー端子を埋設した状態とすることがで
きる。そして、そのダミー端子の体積分、半導体チップ
側や実装基板側の接続端子間に充填された高い誘電率の
アンダーフィル材の見掛け上の誘電率を低下させること
ができる。そして、半導体チップ側や実装基板側の接続
端子間の寄生容量を低減できる。そして、その半導体チ
ップ側や実装基板側の接続端子を伝わる高周波信号の高
周波特性を向上させることができる。
According to the mounting structure of the second semiconductor chip of the present invention, the underfill material filled between the semiconductor chip and the mounting substrate is provided on the peripheral surface of the dummy terminal formed on the semiconductor chip side or the mounting substrate side. The underfill material can be widened to increase the bonding area of the underfill material. Then, the semiconductor chip can be firmly joined to the mounting substrate via the underfill material. Further, the dummy terminals can be buried in the underfill material filled between the connection terminals formed on the semiconductor chip side and the mounting substrate side. Then, the volume of the dummy terminal and the apparent dielectric constant of the high dielectric underfill material filled between the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be reduced. Then, the parasitic capacitance between the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be reduced. Then, the high-frequency characteristics of the high-frequency signal transmitted through the connection terminals on the semiconductor chip side and the mounting substrate side can be improved.

【0054】本発明の第2の半導体チップの実装方法に
よれば、本発明の第2の半導体チップの実装構造を、従
来汎用の技術を用いて、多大な手数をかけずに容易かつ
的確に形成できる。
According to the second method of mounting a semiconductor chip of the present invention, the mounting structure of the second semiconductor chip of the present invention can be easily and accurately applied without using a great deal of trouble by using a conventional general-purpose technique. Can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の半導体チップの実装構造の構造
説明図である。
FIG. 1 is a structural explanatory view of a mounting structure of a first semiconductor chip of the present invention.

【図2】本発明の第1の半導体チップの実装方法の工程
説明図である。
FIG. 2 is a process explanatory view of the first semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図3】本発明の第1の半導体チップの実装方法の工程
説明図である。
FIG. 3 is a process explanatory view of the first semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図4】本発明の第1の半導体チップの実装方法の工程
説明図である。
FIG. 4 is a process explanatory view of the first semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図5】本発明の第1の半導体チップの実装方法の工程
説明図である。
FIG. 5 is a process explanatory view of the first semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図6】本発明の第2の半導体チップの実装構造の構造
説明図である。
FIG. 6 is a structural explanatory view of a mounting structure of a second semiconductor chip of the present invention.

【図7】本発明の第2の半導体チップの実装方法の工程
説明図である。
FIG. 7 is a process explanatory view of the second semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図8】本発明の第2の半導体チップの実装方法の工程
説明図である。
FIG. 8 is a process explanatory view of the second semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図9】本発明の第2の半導体チップの実装方法の工程
説明図である。
FIG. 9 is a process explanatory view of the second semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図10】本発明の第2の半導体チップの実装方法の工
程説明図である。
FIG. 10 is a process explanatory view of the second semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図11】本発明の第2の半導体チップの実装方法の工
程説明図である。
FIG. 11 is a process explanatory view of the second semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図12】本発明の第2の半導体チップの実装方法の工
程説明図である。
FIG. 12 is a process explanatory view of the second semiconductor chip mounting method of the present invention.

【図13】本発明の第2の半導体チップの実装方法の工
程説明図である。
FIG. 13 is a process explanatory view of the second semiconductor chip mounting method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 半導体チップ 12 電極パッド 14 電極パッドが形成された半導体チップの面 16 半導体チップの内部回路 20、40 接続端子 30 実装基板 32 導体パッド 34 導体パッドが形成された実装基板の面 36 実装基板の配線回路 50、60 ダミー端子 52、62 絶縁層 70 導体層 72 細溝 74 はんだ層 90 導体層 92 細溝 94 はんだ層 Reference Signs List 10 semiconductor chip 12 electrode pad 14 surface of semiconductor chip on which electrode pad is formed 16 internal circuit of semiconductor chip 20, 40 connection terminal 30 mounting substrate 32 conductive pad 34 surface of mounting substrate on which conductive pad is formed 36 wiring of mounting substrate Circuit 50, 60 Dummy terminal 52, 62 Insulating layer 70 Conductive layer 72 Narrow groove 74 Solder layer 90 Conductive layer 92 Narrow groove 94 Solder layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップの電極パッドに立設された
接続端子とそれに対応する実装基板の導体パッドに立設
された接続端子とが接合され、前記半導体チップの電極
パッド間に位置する面に絶縁層を介して立設されたダミ
ー端子とそれに対応する前記実装基板の導体パッド間に
位置する面に絶縁層を介して立設されたダミー端子とが
接合されてなる半導体チップの実装構造。
A connection terminal erected on an electrode pad of a semiconductor chip and a connection terminal erected on a corresponding conductor pad of a mounting board are joined to each other, and are connected to a surface located between the electrode pads of the semiconductor chip. A semiconductor chip mounting structure in which dummy terminals erected via an insulating layer and dummy terminals erected via an insulating layer on a surface located between the corresponding conductive pads of the mounting board corresponding to the dummy terminals are joined.
【請求項2】 次の工程を含むことを特徴とする半導体
チップの実装方法。 a.電極パッドが形成された半導体チップの面に、絶縁
層を前記電極パッドの上面中央部を除いて形成する工
程。 b.前記半導体チップの面に形成した絶縁層及び電極パ
ッドの上面中央部を連続して覆う導体層を形成する工
程。 c.前記半導体チップの面に形成した絶縁層を覆う前記
導体層に、該導体層を貫いてその直下の絶縁層に達する
細溝を前記電極パッドを囲むようにして一連に刻設し
て、前記電極パッドの上面中央部に前記導体層からなる
柱状の接続端子を立設すると共に、半導体チップの電極
パッド間に位置する面に前記導体層からなる柱状のダミ
ー端子を前記絶縁層を介して立設する工程。 d.導体パッドが形成された実装基板の面に、絶縁層を
前記導体パッドの上面中央部を除いて形成する工程。 e.前記実装基板の面に形成した絶縁層及び導体パッド
の上面中央部を連続して覆う導体層を形成する工程。 f.前記実装基板の面に形成した絶縁層を覆う前記導体
層に、該導体層を貫いてその直下の絶縁層に達する細溝
を前記導体パッドを囲むようにして一連に刻設して、前
記導体パッドの上面中央部に前記導体層からなる柱状の
接続端子を立設すると共に、実装基板の導体パッド間に
位置する面に前記導体層からなる柱状のダミー端子を前
記絶縁層を介して立設する工程。 g.前記半導体チップ側に立設した接続端子及びダミー
端子を、それに対応する実装基板側に立設した接続端子
及びダミー端子にそれぞれ重ね合わせて、半導体チップ
を実装基板に載置する工程。 h.前記半導体チップ側に立設した接続端子及びダミー
端子を、それに対応する実装基板側に立設した接続端子
及びダミー端子にそれぞれ接合する工程。
2. A method for mounting a semiconductor chip, comprising the following steps. a. Forming an insulating layer on the surface of the semiconductor chip on which the electrode pads are formed, except for a central portion of the upper surface of the electrode pads; b. Forming a conductive layer continuously covering an insulating layer formed on the surface of the semiconductor chip and a central portion of an upper surface of the electrode pad; c. In the conductor layer covering the insulation layer formed on the surface of the semiconductor chip, a narrow groove penetrating the conductor layer and reaching the insulation layer immediately thereunder is engraved in a series so as to surround the electrode pad, and Erecting column-shaped connection terminals made of the conductor layer in the center of the upper surface, and erecting column-shaped dummy terminals made of the conductor layer on the surface located between the electrode pads of the semiconductor chip via the insulating layer; . d. A step of forming an insulating layer on the surface of the mounting board on which the conductive pads are formed, except for a central portion of the upper surface of the conductive pads; e. Forming an insulating layer formed on the surface of the mounting board and a conductor layer that continuously covers the center of the upper surface of the conductor pad; f. On the conductor layer covering the insulation layer formed on the surface of the mounting substrate, a narrow groove penetrating the conductor layer and reaching the insulation layer immediately below the conductor layer is engraved in a series so as to surround the conductor pad, and Erecting column-shaped connection terminals made of the conductor layer in the center of the upper surface, and erecting column-shaped dummy terminals made of the conductor layer via the insulating layer on a surface located between the conductor pads of the mounting board; . g. A step of superposing the connection terminal and the dummy terminal erected on the semiconductor chip side on the corresponding connection terminal and the dummy terminal erected on the mounting substrate side, and mounting the semiconductor chip on the mounting substrate. h. Bonding the connection terminal and the dummy terminal erected on the semiconductor chip side to the corresponding connection terminal and dummy terminal erected on the mounting substrate side.
【請求項3】 b及びe工程において形成する導体層を
Ni層、Fe層又はCu層等の金属層として、h工程に
おいて、対応する接続端子同士及びダミー端子同士を還
元処理に基づく金属拡散反応により接合する請求項2記
載の半導体チップの実装方法。
3. A metal diffusion reaction based on a reduction treatment of corresponding connection terminals and dummy terminals in a step h, wherein the conductor layer formed in the steps b and e is a metal layer such as a Ni layer, an Fe layer or a Cu layer. The method for mounting a semiconductor chip according to claim 2, wherein the bonding is performed by a bonding method.
【請求項4】 半導体チップの電極パッドに形成された
はんだからなる接続端子とそれに対応する実装基板の導
体パッドに立設されたはんだからなる接続端子とがはん
だ付けされ、前記半導体チップの電極パッド間に位置す
る面と実装基板の導体パッド間に位置する面とにはんだ
からなるダミー端子が絶縁層を介してそれぞれ形成さ
れ、前記半導体チップと実装基板との間にアンダーフィ
ル材が充填されて、そのアンダーフィル材を介して半導
体チップと実装基板とが接合されてなる半導体チップの
実装構造。
4. A connection terminal made of a solder formed on an electrode pad of a semiconductor chip and a connection terminal made of a solder erected on a corresponding conductor pad of a mounting board are soldered to the electrode pad of the semiconductor chip. Dummy terminals made of solder are respectively formed on the surface located between and the surface located between the conductor pads of the mounting board via an insulating layer, and an underfill material is filled between the semiconductor chip and the mounting board. And a semiconductor chip mounting structure in which the semiconductor chip and the mounting substrate are joined via the underfill material.
【請求項5】 次の工程を含むことを特徴とする半導体
チップの実装方法。 a.電極パッドが形成された半導体チップの面に、絶縁
層を前記電極パッドの上面中央部を除いて形成する工
程。 b.前記半導体チップの面に形成した絶縁層及び電極パ
ッドの上面中央部を連続して覆うはんだ層を形成する工
程。 c.前記半導体チップの面に形成した絶縁層を覆う前記
はんだ層に、該はんだ層を貫いてその直下の絶縁層に達
する細溝を前記電極パッドを囲むようにして一連に刻設
して、前記電極パッドの上面中央部に前記はんだ層から
なる柱状の接続端子を立設すると共に、半導体チップの
電極パッド間に位置する面に前記はんだ層からなる柱状
のダミー端子を前記絶縁層を介して立設する工程。 d.前記柱状の接続端子及びダミー端子を立設した半導
体チップを予備加熱して、そのはんだ層からなる接続端
子及びダミー端子をほぼ半球状に形成する工程。 e.導体パッドが形成された実装基板の面に、絶縁層を
前記導体パッドの上面中央部を除いて形成する工程。 f.前記実装基板の面に形成した絶縁層及び導体パッド
の上面中央部を連続して覆うはんだ層を形成する工程。 g.前記実装基板の面に形成した絶縁層を覆う前記はん
だ層に、該はんだ層を貫いてその直下の絶縁層に達する
細溝を前記導体パッドを囲むようにして一連に刻設し
て、前記導体パッドの上面中央部に前記はんだ層からな
る柱状の接続端子を立設すると共に、実装基板の導体パ
ッド間に位置する面に前記はんだ層からなる柱状のダミ
ー端子を前記絶縁層を介して立設する工程。 h.前記柱状の接続端子及びダミー端子を立設した実装
基板を予備加熱して、そのはんだ層からなる接続端子及
びダミー端子をほぼ半球状に形成する工程。 i.前記半導体チップ側に形成したほぼ半球状をした接
続端子を、それに対応する実装基板側に形成したほぼ半
球状をした接続端子に重ね合わせて、半導体チップを実
装基板に載置する工程。 j.前記半導体チップを載置した実装基板を加熱して、
半導体チップ側の接続端子とそれに対応する実装基板側
の接続端子とを溶融してはんだ付けする工程。 k.前記対応する接続端子同士がはんだ付けされた半導
体チップと実装基板との間にアンダーフィル材を充填し
て、そのアンダーフィル材を介して半導体チップを実装
基板に接合する工程。
5. A method for mounting a semiconductor chip, comprising the following steps. a. Forming an insulating layer on the surface of the semiconductor chip on which the electrode pads are formed, except for a central portion of the upper surface of the electrode pads; b. Forming an insulating layer formed on the surface of the semiconductor chip and a solder layer that continuously covers a central portion of the upper surface of the electrode pad; c. In the solder layer covering the insulating layer formed on the surface of the semiconductor chip, a narrow groove penetrating the solder layer and reaching the insulating layer immediately thereunder is engraved in a series so as to surround the electrode pad. Erecting column-shaped connection terminals made of the solder layer in the center of the upper surface, and erecting column-shaped dummy terminals made of the solder layer on the surface located between the electrode pads of the semiconductor chip via the insulating layer; . d. A step of preheating the semiconductor chip on which the columnar connection terminals and the dummy terminals are erected to form the connection terminals and the dummy terminals made of the solder layer into a substantially hemispherical shape. e. A step of forming an insulating layer on the surface of the mounting board on which the conductive pads are formed, except for a central portion of the upper surface of the conductive pads; f. Forming a solder layer that continuously covers the insulating layer formed on the surface of the mounting board and the center of the upper surface of the conductive pad; g. On the solder layer covering the insulating layer formed on the surface of the mounting board, a narrow groove penetrating the solder layer and reaching the insulating layer immediately below the solder layer is engraved in a series so as to surround the conductive pad, and Erecting column-shaped connection terminals made of the solder layer in the center of the upper surface, and erecting column-shaped dummy terminals made of the solder layer on the surface located between the conductor pads of the mounting board via the insulating layer; . h. A step of preheating the mounting substrate on which the columnar connection terminals and the dummy terminals are erected, and forming the connection terminals and the dummy terminals formed of the solder layer in a substantially hemispherical shape. i. Superposing the substantially hemispherical connection terminals formed on the semiconductor chip side with the corresponding substantially hemispherical connection terminals formed on the mounting substrate side, and mounting the semiconductor chip on the mounting substrate. j. Heating the mounting substrate on which the semiconductor chip is mounted,
A step of melting and soldering the connection terminals on the semiconductor chip side and the corresponding connection terminals on the mounting board side; k. A step of filling an underfill material between the semiconductor chip to which the corresponding connection terminals are soldered and the mounting substrate, and joining the semiconductor chip to the mounting substrate via the underfill material.
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JP2020149993A (en) * 2019-03-11 2020-09-17 浜松ホトニクス株式会社 Semiconductor device and method of manufacturing the same

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