JP2000243489A - Wiring board forming material, plate-shaped connector and its manufacture, and adaptor device for circuit device inspection - Google Patents

Wiring board forming material, plate-shaped connector and its manufacture, and adaptor device for circuit device inspection

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JP2000243489A
JP2000243489A JP11045314A JP4531499A JP2000243489A JP 2000243489 A JP2000243489 A JP 2000243489A JP 11045314 A JP11045314 A JP 11045314A JP 4531499 A JP4531499 A JP 4531499A JP 2000243489 A JP2000243489 A JP 2000243489A
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Japan
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short
insulating layer
circuit
insulating substrate
circuit portion
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Kazumi Hanawa
一美 塙
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Original Assignee
JSR Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board forming material allowing pass-through short-circuit parts with a small outer diameter to be formed therein if the entire thickness is large, enabling high-density wiring parts to be formed with great flexibility, and reduced in manufacturing costs, and provide a plate-shaped connector using the same wiring board forming material as well as its manufacturing method, and an adaptor device for circuit device inspection. SOLUTION: This wiring board forming material is equipped with an insulating substrate 10, an upper-side insulation layer 20 integrally layered with an upper surface of the insulating substrate 10, and an under-side insulation layer 30 integrally layered with an under surface of the insulating substrate 10, and the insulating substrate 10 has a multiplicity of conductive short-circuit parts 11 for relay regularly arranged and extending through the insulating substrate 10 in the thickness direction thereof.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線板形成材料、
板状コネクターおよびその製造方法並びに回路装置検査
用アダプター装置に関する。
[0001] The present invention relates to a wiring board forming material,
The present invention relates to a plate-shaped connector, a method for manufacturing the same, and an adapter device for circuit device inspection.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント回路基板や半導体集積回路など
の回路装置の製造においては、得られた回路装置の回路
が所要の性能を有することを確認するために、テスター
により検査することが必要である。そして、このような
回路装置の電気的検査を行うためには、検査対象である
回路装置をテスターにセットし、当該回路装置の被検査
電極をテスターの検査用電極に電気的に接続された状態
を実現することが必要である。
2. Description of the Related Art In the manufacture of a circuit device such as a printed circuit board or a semiconductor integrated circuit, it is necessary to inspect a circuit of the obtained circuit device with a tester in order to confirm that the circuit has a required performance. . In order to perform an electrical inspection of such a circuit device, a circuit device to be inspected is set on a tester, and a test target electrode of the circuit device is electrically connected to a test electrode of the tester. It is necessary to realize.

【0003】テスターの検査用電極に対して回路装置の
被検査電極を電気的に接続する方法としてはいくつかの
手法が知られており、その一つとして、アダプターを利
用する方法がある。このアダプターは、一面に、検査対
象である回路装置の被検査電極に対応して配置された接
続用電極を有すると共に、他面に、テスターの検査用電
極に対応して、例えばピッチが2.54mm、1.8m
mまたは1.27mmの標準格子点位置に配置された端
子電極を有する板状コネクターにより構成されている。
この板状コネクターには、その片面または両面に配線部
が形成されると共に、当該板状コネクターの厚み方向に
貫通して伸びる貫通短絡部が形成されており、この配線
部および短絡部を介して、接続用電極が端子電極に電気
的に接続されている。
[0003] There are several known methods for electrically connecting a test electrode of a circuit device to a test electrode of a tester, one of which is to use an adapter. This adapter has, on one surface, a connection electrode arranged corresponding to an electrode to be inspected of a circuit device to be inspected, and, on the other surface, a pitch of 2.times. Corresponding to an inspection electrode of a tester. 54mm, 1.8m
It is composed of a plate-like connector having terminal electrodes arranged at standard lattice point positions of m or 1.27 mm.
In this plate-shaped connector, a wiring portion is formed on one or both surfaces thereof, and a penetrating short-circuit portion extending through the plate-shaped connector in the thickness direction thereof is formed. The connection electrode is electrically connected to the terminal electrode.

【0004】而して、このような板状コネクターにおい
ては、回路装置に接続する際に加圧されるため、この加
圧力に耐え得る高い強度が必要とされることから、当該
板状コネクターを構成する配線板として厚みの大きいも
のが用いられている。
[0004] Since such a plate-like connector is pressurized when connected to a circuit device, it is required to have a high strength capable of withstanding this pressing force. A thick wiring board is used.

【0005】一方、検査対象である回路装置において
は、半導体集積回路の高機能化、高容量化に伴って電極
数が増加し、電極の配列ピッチすなわち隣接する電極の
中心間距離が小さくなって高密度化する傾向にあり、ま
た、このような半導体集積回路を搭載するためのプリン
ト回路基板においても同様である。そのため、これらの
回路装置を検査するためのアダプターとして用いられる
板状コネクターにおいては、高密度の配線部および接続
用電極を形成することが要求されている。
On the other hand, in a circuit device to be inspected, the number of electrodes increases as the function and capacity of a semiconductor integrated circuit increase, and the arrangement pitch of electrodes, that is, the center-to-center distance between adjacent electrodes decreases. The density tends to increase, and the same applies to a printed circuit board for mounting such a semiconductor integrated circuit. Therefore, in a plate-like connector used as an adapter for inspecting these circuit devices, it is required to form a high-density wiring portion and connection electrodes.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、厚みが
大きくかつ高密度の配線部を有する板状コネクターを構
成する場合には、以下のような問題がある。板状コネク
ターに貫通短絡部を形成する方法としては、一般に、ス
ルーホール法が利用されている。このスルーホール法
は、板状コネクターを構成する板状体にその厚み方向に
貫通する短絡部形成用孔を形成し、この板状体にメッキ
処理を施して短絡部形成用孔の内面に金属の堆積体を形
成することにより、貫通短絡部を形成する方法である。
そして、短絡部形成用孔の形成には、例えば数値制御型
ドリリング装置が用いられている。然るに、厚みの大き
い板状体に短絡部形成用孔を形成するためには、強度の
高いドリルすなわち径の大きいドリルを用いることが必
要であることから、外径の小さい短絡部を形成すること
ができない。そのため、板状体の表面における配線部の
形成に利用され得る領域の面積が小さくなり、その結
果、高密度の配線部を高い自由度で形成することが困難
である。
However, when a plate-like connector having a large thickness and a high-density wiring portion is formed, there are the following problems. In general, a through-hole method is used as a method for forming a through short-circuit portion in a plate-like connector. In this through-hole method, a short-circuit portion forming hole penetrating in the thickness direction is formed in a plate-shaped body constituting a plate-shaped connector, and the plate-shaped body is plated to form a metal on the inner surface of the short-circuit portion-formed hole. This is a method of forming a through short-circuit portion by forming a deposit of.
A numerically controlled drilling device is used for forming the short-circuit portion forming hole, for example. However, since it is necessary to use a high-strength drill, that is, a drill with a large diameter, in order to form a hole for forming a short-circuit portion in a thick plate-shaped body, it is necessary to form a short-circuit portion with a small outer diameter. Can not. Therefore, the area of the surface of the plate-like body which can be used for forming the wiring portion is reduced, and as a result, it is difficult to form a high-density wiring portion with a high degree of freedom.

【0007】一方、貫通短絡部を形成する他の方法とし
ては、いわゆるブラインドバイアホールによる方法(以
下、「ブラインドバイアホール法」という。)が知られ
ている。このブラインドバイアホール法は、(イ)例え
ばスルーホール法によって、絶縁性基板にその厚み方向
に貫通して伸びる短絡部を形成し、(ロ)この絶縁性基
板の両面に絶縁層を形成することによって所要の厚みの
積層体を形成し、(ハ)例えば数値制御型ドリリング装
置によって、前記積層体における絶縁層の各々に絶縁性
基板の貫通短絡部に到達するドリル穴(ブラインドバイ
アホール)を形成した上で、当該積層体にメッキ処理を
施してドリル穴の内面に金属の堆積体を形成することに
より、当該絶縁層にその厚み方向に貫通して伸びる短絡
部を形成し、以て、絶縁性基板および絶縁層の各々の短
絡部が連結されてなる貫通短絡部を形成する方法であ
る。このようなブラインドバイアホール法によれば、絶
縁性基板および絶縁層としては、厚みの小さいものを用
いることができるため、外径の小さい貫通短絡部を形成
することができる。然るに、このブラインドバイアホー
ル法においては、上述のように多数の工程が必要となる
ため、板状コネクターの製造に必要なコストが多大なも
のとなる。
On the other hand, as another method of forming a through short-circuit portion, a method using a so-called blind via hole (hereinafter, referred to as a "blind via hole method") is known. In the blind via hole method, (a) for example, a short-circuit portion extending through the insulating substrate in a thickness direction thereof is formed by a through-hole method, and (b) insulating layers are formed on both surfaces of the insulating substrate. (C) A drill hole (blind via hole) is formed in each of the insulating layers in the laminate by, for example, a numerically controlled drilling device to reach a through short-circuit portion of the insulating substrate. Then, a plating process is performed on the laminate to form a metal deposit on the inner surface of the drill hole, thereby forming a short-circuit portion extending through the insulating layer in the thickness direction thereof, thereby forming an insulating layer. This is a method for forming a through short-circuit portion formed by connecting the short-circuit portions of the conductive substrate and the insulating layer. According to such a blind via hole method, since a thin insulating substrate and an insulating layer can be used, a through short-circuit portion having a small outer diameter can be formed. However, in the blind via-hole method, a large number of steps are required as described above, so that the cost required for manufacturing the plate-shaped connector becomes large.

【0008】本発明は、以上のような事情に基づいてな
されたものであって、その第1の目的は、全体の厚みが
大きいものであっても外径の小さい貫通短絡部を形成す
ることができ、高密度の配線部を大きい自由度で形成す
ることができ、しかも、製造コストの小さい配線板が得
られる配線板形成材料を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the present invention is to form a through short-circuit portion having a small outer diameter even if the overall thickness is large. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a wiring board forming material capable of forming a high-density wiring portion with a large degree of freedom and obtaining a wiring board with low manufacturing cost.

【0009】本発明の第2の目的は、厚みが大きく、外
径の小さい貫通短絡部を有し、高密度の配線部を大きい
自由度で設計することができる板状コネクターを提供す
ることにある。本発明の第3の目的は、上記の板状コネ
クターを簡単な工程により小さいコストでかつ有利に製
造することができる方法を提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a plate-shaped connector which has a thick short-circuit portion with a small outer diameter and a high-density wiring portion with a large degree of freedom. is there. A third object of the present invention is to provide a method capable of producing the above-mentioned plate-like connector in a simple process at a lower cost and advantageously.

【0010】本発明の第4の目的は、検査対象回路装置
におけるリード電極などの被検査電極が、電極ピッチが
微小であり、かつ微細で高密度の複雑なパターンのもの
である場合にも、当該回路装置について所要の電気的接
続を確実に達成することができ、また温度変化による熱
履歴などの環境の変化に対しても良好な電気的接続状態
が安定に維持され、従って接続信頼性の高い回路装置検
査用アダプター装置を提供することにある。
A fourth object of the present invention is to provide a circuit device to be inspected, in which electrodes to be inspected such as lead electrodes have a fine electrode pitch and a fine and high-density complicated pattern. The required electrical connection can be reliably achieved for the circuit device, and a good electrical connection state can be stably maintained against environmental changes such as heat history due to temperature changes, and therefore, connection reliability can be improved. It is an object of the present invention to provide a high circuit device inspection adapter device.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の配線板形成材料
は、絶縁性基板と、この絶縁性基板の上面に一体的に積
層された上部側絶縁層と、前記絶縁性基板の下面に一体
的に積層された下部側絶縁層とを具えてなり、前記絶縁
性基板は、規則的に配列された、当該絶縁性基板をその
厚み方向に貫通して伸びる多数の導電性の中継用短絡部
を有することを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a wiring board forming material comprising: an insulating substrate; an upper insulating layer integrally laminated on the upper surface of the insulating substrate; and a lower surface of the insulating substrate. A plurality of electrically conductive relay short-circuit portions, which are regularly arranged and extend through the insulating substrate in the thickness direction thereof. It is characterized by having.

【0012】本発明の配線板形成材料においては、前記
絶縁性基板における中継用短絡部が、格子点位置に従っ
て配列されていることが好ましい。また、前記絶縁性基
板の上面および下面には、前記中継用短絡部の各々に対
応して当該中継用短絡部の両端に連結された中継用ラン
ドが形成されていることが好ましい。また、前記上部側
絶縁層の上面および前記下部側絶縁層の下面には、金属
薄層が一体的に積層されていることが好ましい。
[0012] In the wiring board forming material of the present invention, it is preferable that the relay short-circuit portions in the insulating substrate are arranged in accordance with lattice point positions. In addition, it is preferable that relay lands connected to both ends of the relay short-circuit portion are formed on the upper surface and the lower surface of the insulating substrate so as to correspond to each of the relay short-circuit portions. Further, it is preferable that a thin metal layer is integrally laminated on an upper surface of the upper insulating layer and a lower surface of the lower insulating layer.

【0013】本発明の板状コネクターは、絶縁性基板、
この絶縁性基板の上面に一体的に積層された上部側絶縁
層および前記絶縁性基板の下面に一体的に積層された下
部側絶縁層を有する積層体と、この積層体の上面に形成
された一方の電極と、当該積層体の下面に形成された他
方の電極と、前記上部側絶縁層、前記絶縁性基板および
前記下部側絶縁層をその厚み方向に貫通して伸びる貫通
短絡部とを有してなり、前記一方の電極が、少なくとも
前記貫通短絡部を介して前記他方の電極に電気的に接続
された板状コネクターであって、前記絶縁性基板は、規
則的に配列された、当該絶縁性基板をその厚み方向に貫
通して伸びる多数の中継用短絡部を有し、前記貫通短絡
部は、前記絶縁性基板における多数の中継用短絡部から
選択された特定の中継用短絡部と、この特定の中継用短
絡部の直上において前記上部側絶縁層に形成された、当
該上部側絶縁層をその厚み方向に貫通して伸びる上部側
短絡部と、当該特定の中継用短絡部の直下において前記
下部側絶縁層に形成された、当該下部側絶縁層をその厚
み方向に貫通して伸びる複数の下部側短絡部とが電気的
に接続されることにより構成されていることを特徴とす
る。
[0013] The plate-like connector of the present invention comprises an insulating substrate,
A laminate having an upper insulating layer integrally laminated on the upper surface of the insulating substrate and a lower insulating layer integrally laminated on the lower surface of the insulating substrate; and a laminate formed on the upper surface of the laminate. One of the electrodes, the other electrode formed on the lower surface of the laminate, and a short-circuit penetrating portion extending through the upper insulating layer, the insulating substrate, and the lower insulating layer in the thickness direction thereof. Wherein the one electrode is a plate-like connector electrically connected to the other electrode via at least the through short-circuit portion, wherein the insulating substrate is regularly arranged, It has a number of relay short-circuit portions extending through the insulating substrate in the thickness direction thereof, and the penetrating short-circuit portion is a specific relay short-circuit portion selected from the multiple relay short-circuit portions of the insulating substrate. , Just above this particular transit short Formed on the upper insulating layer, an upper short-circuit portion extending through the upper insulating layer in the thickness direction thereof, and formed on the lower insulating layer immediately below the specific relay short-circuit portion, A plurality of lower short-circuit portions extending through the lower insulating layer in the thickness direction thereof are electrically connected to each other.

【0014】本発明の板状コネクターの製造方法は、上
記の配線板形成材料を用意し、この配線板形成材料にお
ける上部側絶縁層に、絶縁性基板における多数の中継用
短絡部から選択された特定の中継用短絡部の直上におい
て当該上部側絶縁層をその厚み方向に貫通する短絡部形
成用穴部を形成すると共に、下部側絶縁層に、前記特定
の中継用短絡部の直下において当該下部側絶縁層をその
厚み方向に貫通する短絡部形成用穴部を形成し、前記上
部側絶縁層に形成された短絡部形成用穴部に、前記特定
の中継用短絡部に電気的に接続された上部側短絡部を形
成すると共に、前記下部側絶縁層に形成された短絡部形
成用穴部に、当該特定の中継用短絡部に電気的に接続さ
れた下部側短絡部を形成することにより、上部側絶縁
層、絶縁性基板および下部側絶縁層をその厚み方向に貫
通して伸びる貫通短絡部を形成する工程を有することを
特徴とする。
In the method for manufacturing a plate-like connector of the present invention, the above-mentioned material for forming a wiring board is prepared, and the upper insulating layer in the material for forming a wiring board is selected from a number of relay short-circuit portions on an insulating substrate. A short-circuit portion forming hole penetrating the upper insulating layer in the thickness direction thereof is formed directly above the specific relay short-circuit portion, and the lower insulating layer is provided with the lower portion immediately below the specific relay short-circuit portion. Forming a short-circuit portion forming hole penetrating the side insulating layer in the thickness direction thereof, and electrically connecting to the specific relay short-circuit portion to the short-circuit portion forming hole formed in the upper side insulating layer. Forming the upper short-circuit portion, and forming the lower short-circuit portion electrically connected to the specific relay short-circuit portion in the short-circuit portion forming hole formed in the lower insulating layer. , Upper insulating layer, insulating substrate and Characterized by having a step of forming a through short portion extending through the lower-side insulating layer in the thickness direction.

【0015】本発明の回路装置検査用アダプター装置
は、検査対象回路装置と電気的検査装置との間に介在さ
れて当該回路装置の電極の電気的接続を行う回路装置検
査用アダプター装置であって、一面に検査対象回路装置
の被検査電極に対応して配置された接続用電極を有し、
他面に格子点位置に従って配置された端子電極を有する
アダプター本体と、このアダプター本体の一面に一体的
に設けられた異方導電性エラストマー層とよりなり、前
記アダプター本体は、請求項5に記載の板状コネクター
よりなることを特徴とする。
The adapter device for inspecting a circuit device of the present invention is an adapter device for inspecting a circuit device which is interposed between a circuit device to be inspected and an electrical inspection device and electrically connects electrodes of the circuit device. Has a connection electrode arranged on one side corresponding to the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected,
An adapter body having terminal electrodes arranged on the other surface according to lattice point positions, and an anisotropic conductive elastomer layer integrally provided on one surface of the adapter body, wherein the adapter body is according to claim 5. Characterized by a plate-like connector of

【0016】[0016]

【作用】上記の配線板形成材料によれば、絶縁性基板に
おける中継用短絡部の直上および直下において、上部側
絶縁層および下部側絶縁層の各々にその厚み方向に貫通
して伸びる短絡部を形成することにより、当該配線板形
成材料全体をその厚み方向に貫通して伸びる貫通短絡部
が形成される。すなわち、貫通短絡部の形成において、
上部側絶縁層および下部側絶縁層のみにその厚み方向に
貫通する短絡部形成用穴部を形成すればよいため、配線
板形成材料全体の厚みが大きいものであっても、当該配
線板形成材料に外径の小さい貫通短絡部を容易に形成す
ることができる。しかも、絶縁性基板には、多数の中継
用短絡部が規則的に配列されているため、これらの中か
ら適宜の中継用短絡部を選択し、当該選択された特定の
中継用短絡部を利用して貫通短絡部を形成することがで
きる。従って、配線板形成材料の上面および下面に高密
度の配線部を大きい自由度で形成することができる。ま
た、中継用短絡部の配列を規格化することにより、当該
配線板形成材料の量産化が可能となり、その結果、製造
コストの小さい配線板が得られる。
According to the above-mentioned wiring board forming material, the short-circuit portions extending through the upper insulating layer and the lower insulating layer in the thickness direction are provided immediately above and immediately below the relay short-circuit portion on the insulating substrate. By forming, a penetrating short-circuit portion extending through the entire wiring board forming material in the thickness direction thereof is formed. That is, in the formation of the through short circuit,
Since the short-circuit portion forming hole penetrating in the thickness direction may be formed only in the upper insulating layer and the lower insulating layer, even if the thickness of the entire wiring board forming material is large, the wiring board forming material Thus, a short-circuit short-circuit portion having a small outer diameter can be easily formed. Moreover, since a large number of relay short-circuit portions are regularly arranged on the insulating substrate, an appropriate relay short-circuit portion is selected from these, and the selected specific relay short-circuit portion is used. As a result, a through short-circuit portion can be formed. Therefore, high-density wiring portions can be formed on the upper and lower surfaces of the wiring board forming material with a large degree of freedom. Further, by standardizing the arrangement of the relay short-circuit portions, it is possible to mass-produce the wiring board forming material, and as a result, to obtain a wiring board with low manufacturing cost.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図1は、本発明の配線板形成材料の
一例における構成を示す説明用断面図である。この配線
板形成材料は絶縁性基板10を有し、この絶縁性基板1
0の上面には、上部側絶縁層20が一体的に設けられ、
絶縁性基板10の下面には、下部側絶縁層30が一体的
に設けられており、更に、上部側絶縁層20の上面およ
び下部側絶縁層30の下面の各々には、金属薄層25,
35が一体的に設けられている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an example of a wiring board forming material of the present invention. This wiring board forming material has an insulating substrate 10.
The upper insulating layer 20 is provided integrally on the upper surface of
A lower insulating layer 30 is integrally provided on the lower surface of the insulating substrate 10, and a thin metal layer 25, a lower metal layer 25 and a lower insulating layer 30 are provided on the upper surface of the upper insulating layer 20 and the lower surface of the lower insulating layer 30, respectively.
35 are provided integrally.

【0018】絶縁性基板10の材質は寸法安定性の高い
耐熱性材料よりなる板状体であることが好ましく、各種
の絶縁性樹脂を使用することができるが、高い剛性を有
する点で、特にガラス繊維補強型エポキシ樹脂が最適で
ある。上部側絶縁層20および下部側絶縁層30の各々
は、熱圧着により硬化された熱硬化性樹脂シートにより
形成されていることが好ましい。かかる熱硬化性樹脂シ
ートとしては寸法安定性の高い耐熱性樹脂よりなるもの
であることが好ましく、各種の樹脂シートを使用するこ
とができるが、ガラス繊維補強型エポキシプリプレグシ
ートやポリイミドプリプレグ樹脂シートが好ましい。金
属薄層25,35を構成する材料としては、エッチング
処理が容易なものを用いることが好ましく、その具体例
としては、銅、アルミニウム、ニッケルなどが挙げられ
る。
The material of the insulating substrate 10 is preferably a plate made of a heat-resistant material having high dimensional stability, and various insulating resins can be used. Glass fiber reinforced epoxy resin is optimal. Each of the upper insulating layer 20 and the lower insulating layer 30 is preferably formed of a thermosetting resin sheet cured by thermocompression bonding. Such a thermosetting resin sheet is preferably made of a heat-resistant resin having high dimensional stability, and various resin sheets can be used, and a glass fiber reinforced epoxy prepreg sheet or a polyimide prepreg resin sheet is used. preferable. As a material for forming the thin metal layers 25 and 35, it is preferable to use a material that can be easily etched, and specific examples thereof include copper, aluminum, and nickel.

【0019】図2にも拡大して示すように、絶縁性基板
10には、当該絶縁性基板10をその厚み方向に貫通し
て伸びるバイアホールによる多数の導電性の中継用短絡
部11が、絶縁性基板10の面方向に沿って規則的に配
列された状態で設けられており、絶縁性基板10の上面
および下面には、中継用短絡部11の各々に対応して当
該中継用短絡部11の上端および下端の各々に連結され
た金属製の中継用ランド12,13が設けられている。
As shown in FIG. 2 in an enlarged manner, the insulating substrate 10 has a large number of conductive relay short-circuit portions 11 formed by via holes extending through the insulating substrate 10 in the thickness direction. The relay short-circuit portions are provided on the upper and lower surfaces of the insulating substrate 10 so as to correspond to each of the relay short-circuit portions 11. 11 are provided with metal relay lands 12 and 13 connected to the upper and lower ends, respectively.

【0020】中継用短絡部11の外径は、50〜300
μmであることが好ましい。絶縁性基板10に外径が5
0μm未満の中継用短絡部11を形成することは、実際
上困難であり、一方、絶縁性基板10に外径が300μ
mを超える中継用短絡部11を形成する場合には、当該
中継用短絡部11の配列ピッチを大きく設定することが
必要となるため、上部側絶縁層20の上面または下部側
絶縁層30の下面に、大きい自由度で配線部を形成する
ことが困難となる。また、中継用ランド12,13の外
径は、80〜500μmであることが好ましい。
The outer diameter of the relay short-circuit portion 11 is 50-300.
μm is preferred. The outer diameter of the insulating substrate 10 is 5
It is practically difficult to form the relay short-circuit portion 11 having a diameter of less than 0 μm.
In the case where the relay short-circuit portion 11 exceeding m is formed, it is necessary to set the arrangement pitch of the relay short-circuit portion 11 to be large, so that the upper surface of the upper insulating layer 20 or the lower surface of the lower insulating layer 30 is required. In addition, it is difficult to form a wiring portion with a large degree of freedom. The outer diameter of the relay lands 12, 13 is preferably 80 to 500 μm.

【0021】この例において、中継用短絡部11は、格
子点位置に従って配列されている。このように中継用短
絡部11を格子点位置に従って配列する場合には、その
配列ピッチは、0.05〜1mm、特に0.08〜0.
6mmであることが好ましい。この配列ピッチが0.0
5mm未満である場合には、隣接する中継用短絡部11
同士がショートしやすくなるため、当該中継用短絡部1
1を経由して上部側絶縁層20の上面に形成される配線
部と下部側絶縁層30の下面に形成される配線部と接続
する際に、配線部間に不良短絡が発生する原因となる。
一方、この配列ピッチが1mmを超える場合には、単位
面積あたりの中継用短絡部11の数が少ないため、上部
側絶縁層20の上面または下部側絶縁層30の下面に、
大きい自由度で配線部を形成することが困難となる。
In this example, the relay short-circuit portions 11 are arranged according to lattice point positions. When the relay short-circuit portions 11 are arranged according to the lattice point positions in this way, the arrangement pitch is 0.05 to 1 mm, particularly 0.08 to 0.
It is preferably 6 mm. This arrangement pitch is 0.0
If it is less than 5 mm, the adjacent relay short-circuit portion 11
The relay short-circuit portion 1
When a wiring portion formed on the upper surface of the upper insulating layer 20 and a wiring portion formed on the lower surface of the lower insulating layer 30 are connected via 1, a defective short circuit may occur between the wiring portions. .
On the other hand, when the arrangement pitch exceeds 1 mm, the number of relay short-circuit portions 11 per unit area is small, so that the upper surface of the upper insulating layer 20 or the lower surface of the lower insulating layer 30
It becomes difficult to form a wiring portion with a large degree of freedom.

【0022】絶縁性基板10の厚みは、100〜120
0μmであることが好ましい。この厚みが100μm未
満である場合には、剛性の高い配線板を形成することが
困難となることがある。一方、この厚みが1200μm
を超える場合には、外径の小さい中継用短絡部11を形
成することが困難となることがある。上部側絶縁層20
および下部側絶縁層30の厚みは、20〜200μmで
あることが好ましい。この厚みが20μm未満である場
合には、剛性の高い配線板を形成することが困難となる
ことがある。一方、この厚みが200μmを超える場合
には、上部側絶縁層20および下部側絶縁層30に外径
の小さい短絡部を形成することが困難となり、その結
果、上部側絶縁層20の上面および下部側絶縁層30の
下面に大きい自由度で配線部を形成することが困難とな
る。金属薄層25,35の厚みは、例えば9〜35μm
であることが好ましい。
The thickness of the insulating substrate 10 is 100 to 120.
It is preferably 0 μm. If the thickness is less than 100 μm, it may be difficult to form a highly rigid wiring board. On the other hand, this thickness is 1200 μm
When it exceeds, it may be difficult to form the relay short-circuit portion 11 having a small outer diameter. Upper insulating layer 20
The thickness of the lower insulating layer 30 is preferably 20 to 200 μm. If the thickness is less than 20 μm, it may be difficult to form a highly rigid wiring board. On the other hand, if the thickness exceeds 200 μm, it becomes difficult to form a short-circuit portion having a small outer diameter in the upper insulating layer 20 and the lower insulating layer 30. As a result, the upper surface and the lower It becomes difficult to form a wiring portion on the lower surface of the side insulating layer 30 with a large degree of freedom. The thickness of the thin metal layers 25 and 35 is, for example, 9 to 35 μm.
It is preferred that

【0023】上記の配線板形成材料は、次のようにして
製造することができる。先ず、図3に示すように、例え
ば銅よりなる金属薄層12Aおよび13Aが両面に積層
して設けられた硬質樹脂よりなる平板状の絶縁性基板1
0を用意し、この絶縁性基板10に対し、図4に示すよ
うに、格子点位置に従って配列された、絶縁性基板10
をその厚み方向に貫通する多数の短絡部形成用孔11H
を形成する。次に、上記絶縁性基板10に対し、図5に
示すように、無電解銅メッキおよび電界銅メッキを施し
て短絡部形成用孔11Hの各々の内面に銅の堆積体を形
成することにより、絶縁性基板10をその厚み方向に貫
通して伸びる中継用短絡部11が形成される。そして、
絶縁性基板10の上面および下面の金属薄層12Aおよ
び13Aに対してフォトリソグラフィーおよびエッチン
グ処理を施してその一部を除去することにより、図6に
示すように、当該絶縁性基板10の上面および下面の各
々に、中継用短絡部11に連結された中継用ランド12
および13が形成される。
The above-mentioned wiring board forming material can be manufactured as follows. First, as shown in FIG. 3, a flat insulating substrate 1 made of a hard resin and provided with thin metal layers 12A and 13A made of, for example, copper on both surfaces.
0, and the insulating substrate 10 is arranged on the insulating substrate 10 according to the lattice point positions as shown in FIG.
Through holes 11H penetrating in the thickness direction
To form Next, as shown in FIG. 5, the insulating substrate 10 is subjected to electroless copper plating and electric field copper plating to form a copper deposit on each inner surface of the short-circuit portion forming hole 11H. A relay short-circuit portion 11 extending through the insulating substrate 10 in the thickness direction thereof is formed. And
By performing photolithography and etching on the thin metal layers 12A and 13A on the upper and lower surfaces of the insulating substrate 10 to remove a part thereof, as shown in FIG. On each of the lower surfaces, a relay land 12 connected to the relay short-circuit portion 11 is provided.
And 13 are formed.

【0024】以上において、絶縁性基板10に短絡部形
成用孔11Hを形成する手段としては、数値制御型ドリ
リング装置、レーザー加工装置などが挙げられるが、内
径の小さい短絡部形成用孔11Hを形成することができ
る点で、レーザー加工装置を用いることが好ましい。レ
ーザー加工装置により短絡部形成用孔11Hを形成する
場合には、予め金属薄層12A,13Aに対してフォト
リソグラフィーおよびエッチング処理を施すことによ
り、金属薄層12A,13Aにおける短絡部形成用孔1
1Hが形成される個所に開口を形成しておき、この開口
を介して絶縁性基板10にレーザー光を照射することが
好ましい。このような方法によれば、フォトリソグラフ
ィーおよびエッチング処理によって金属薄層12A,1
3Aに小さい直径の開口を形成することが可能であり、
しかも、絶縁性基板10には、金属薄層12A,13A
に形成された開口に応じた直径を有する短絡部形成用孔
11Hが形成されるので、直径の小さい所要の短絡部形
成用孔11Hを容易に形成することができる。また、レ
ーザー光を絶縁性基板10の上面および下面の両方に照
射することにより、絶縁性基板10に短絡部形成用孔1
1Hを形成することが好ましい。このような方法によれ
ば、絶縁性基板10の厚み方向に沿って一様な直径を有
する短絡部形成用孔11Hを形成することができる。
In the above, as means for forming the short-circuit portion forming hole 11H in the insulating substrate 10, a numerically controlled drilling device, a laser processing device, or the like can be cited. It is preferable to use a laser processing device in that it can be used. When forming the short-circuit portion forming hole 11H by a laser processing apparatus, the thin metal layer 12A, 13A is subjected to photolithography and etching beforehand to form the short-circuit portion forming hole 1H in the thin metal layer 12A, 13A.
It is preferable that an opening is formed at a position where 1H is formed, and the insulating substrate 10 is irradiated with laser light through the opening. According to such a method, the thin metal layers 12A, 1A are formed by photolithography and etching.
It is possible to form a small diameter opening in 3A,
In addition, the insulating substrate 10 has thin metal layers 12A and 13A.
Since the hole 11H for forming a short-circuit portion having a diameter corresponding to the opening formed in the hole is formed, a required hole 11H for forming a short-circuit portion having a small diameter can be easily formed. Further, by irradiating both the upper surface and the lower surface of the insulating substrate 10 with the laser beam, the insulating substrate 10 is provided with the short-circuit portion forming hole 1.
Preferably, 1H is formed. According to such a method, it is possible to form the short-circuit portion forming hole 11H having a uniform diameter along the thickness direction of the insulating substrate 10.

【0025】次いで、図7に示すように、絶縁性基板1
0の上面に、上部側絶縁層を形成するための熱硬化性樹
脂シート20Aを配置し、更に、この熱硬化性樹脂シー
ト20Aの上面に、金属薄層を形成するための金属箔2
5Aを配置する。一方、絶縁性基板10の下面に、下部
側絶縁層を形成するための熱硬化性樹脂シート30Aを
配置し、更に、この熱硬化性樹脂シート30Aの上面
に、金属薄層を形成するための金属箔35Aを配置す
る。そして、この状態で熱圧着処理することにより、当
該熱硬化性樹脂シート20Aおよび熱硬化性樹脂シート
30Aが硬化して、絶縁性基板10の上面および下面を
被着面として一体的に被着され、更に、当該熱硬化性樹
脂シート20Aの上面に金属箔25Aが一体的に被着さ
れると共に、熱硬化性樹脂シート30Aの下面に金属箔
35Aが一体的に被着され、これにより、金属薄層2
5、上部側絶縁層20、絶縁性基板10、下部側絶縁層
30および金属薄層35がこの順で一体的に積層されて
なる配線板形成材料が得られる。
Next, as shown in FIG.
A thermosetting resin sheet 20A for forming an upper-side insulating layer is disposed on the upper surface of the thermosetting resin sheet 20A, and a metal foil 2 for forming a thin metal layer is formed on the upper surface of the thermosetting resin sheet 20A.
5A is arranged. On the other hand, a thermosetting resin sheet 30A for forming a lower insulating layer is arranged on the lower surface of the insulating substrate 10, and a thin metal layer is formed on the upper surface of the thermosetting resin sheet 30A. The metal foil 35A is arranged. Then, by performing thermocompression treatment in this state, the thermosetting resin sheet 20A and the thermosetting resin sheet 30A are cured, and are integrally attached with the upper surface and the lower surface of the insulating substrate 10 as the attachment surfaces. Further, a metal foil 25A is integrally attached to the upper surface of the thermosetting resin sheet 20A, and a metal foil 35A is integrally attached to the lower surface of the thermosetting resin sheet 30A. Thin layer 2
5, a wiring board forming material in which the upper insulating layer 20, the insulating substrate 10, the lower insulating layer 30, and the thin metal layer 35 are integrally laminated in this order is obtained.

【0026】以上において、上部側絶縁層20および下
部側絶縁層30を形成するための手段として、熱硬化性
樹脂シート20A,30Aを、被着面に対し、加熱下に
おいて圧着する熱圧着手段が利用されるが、これによ
り、例えば絶縁性樹脂層形成液を塗布して乾燥させる方
法に比して、きわめて容易に均一な厚みを有する所要の
絶縁層を確実に形成することができる。熱圧着処理を行
うための温度は、熱硬化性樹脂シート20A,30Aの
材質にもよるが、当該熱硬化性樹脂シート20A,30
Aが軟化して接着性を帯びる温度以上であることが必要
であり、通常、80〜250℃、好ましくは140〜2
00℃程度とすることができる。熱圧着処理を行うため
のプレス圧力は、例えば最高5〜50kg/cm2 程度
であり、好ましくは20〜40kg/cm2 程度であ
る。この熱圧着処理は、常圧雰囲気下で行うことも可能
であるが、実際上、例えば5〜100Pa、好ましくは
10〜50Pa程度の減圧雰囲気下によるいわゆる真空
プレス法によることが好ましく、この場合には、熱硬化
性樹脂シート20A,30Aと絶縁性基板10との間お
よび熱硬化性樹脂シート20A,30Aと金属箔25
A,35Aとの間に気泡が閉じ込められることが有効に
防止される。
In the above, as a means for forming the upper insulating layer 20 and the lower insulating layer 30, there is a thermocompression bonding means for pressing the thermosetting resin sheets 20A, 30A to the surface to be adhered under heating. However, compared to a method in which an insulating resin layer forming liquid is applied and dried, for example, a required insulating layer having a uniform thickness can be reliably formed. Although the temperature for performing the thermocompression bonding depends on the material of the thermosetting resin sheets 20A and 30A, the temperature of the thermosetting resin sheets 20A and 30A is not limited.
It is necessary that the temperature is higher than the temperature at which A softens and becomes adhesive, and is usually 80 to 250 ° C., preferably 140 to 2 ° C.
It can be about 00 ° C. The press pressure for performing thermocompression bonding is, for example, about 5 to 50 kg / cm 2 at the maximum, and preferably about 20 to 40 kg / cm 2 . This thermocompression bonding treatment can be performed under normal pressure atmosphere, but in practice, it is preferably performed by a so-called vacuum press method under a reduced pressure atmosphere of, for example, 5 to 100 Pa, preferably about 10 to 50 Pa. Are formed between the thermosetting resin sheets 20A, 30A and the insulating substrate 10 and between the thermosetting resin sheets 20A, 30A and the metal foil 25.
A bubble is effectively prevented from being trapped between A and 35A.

【0027】上記のような配線板形成材料によれば、絶
縁性基板10における中継用短絡部11の直上および直
下において、上部側絶縁層20および下部側絶縁層30
の各々にその厚み方向に貫通して伸びる短絡部を形成す
ることにより、当該配線板形成材料をその厚み方向に貫
通して伸びる貫通短絡部が形成される。すなわち、貫通
短絡部の形成において、上部側絶縁層20および下部側
絶縁層30のみにその厚み方向に貫通する短絡部形成用
穴部を形成すればよいため、配線板形成材料全体の厚み
がものであっても、当該配線板形成材料に外径の小さい
貫通短絡部を容易に形成することができる。しかも、絶
縁性基板10には、多数の中継用短絡部11が規則的に
配列されているため、これらの中から適宜の中継用短絡
部11を選択し、当該選択された特定の中継用短絡部1
1を利用して貫通短絡部を形成することができる。従っ
て、配線板形成材料の上面および下面に高密度の配線部
を大きい自由度で形成することができる。また、絶縁性
基板10における中継用短絡部11の配列パターンおよ
び配列ピッチを規格化することにより、当該配線板形成
材料の量産化が可能となり、その結果、小さいコストで
配線板を製造することができる。
According to the wiring board forming material as described above, the upper insulating layer 20 and the lower insulating layer 30 are located directly above and immediately below the relay short-circuiting portion 11 in the insulating substrate 10.
By forming a short-circuit portion extending in the thickness direction in each of the above, a penetrating short-circuit portion extending through the wiring board forming material in the thickness direction is formed. That is, in forming the penetration short-circuited portion, only the upper-side insulating layer 20 and the lower-side insulating layer 30 need to form the short-circuited portion forming hole penetrating in the thickness direction thereof. Even in this case, it is possible to easily form a penetrating short-circuit portion having a small outer diameter in the wiring board forming material. Moreover, since a large number of relay short-circuit portions 11 are regularly arranged on the insulating substrate 10, an appropriate relay short-circuit portion 11 is selected from these, and the selected specific relay short-circuit portion 11 is selected. Part 1
1 can be used to form a through-short circuit. Therefore, high-density wiring portions can be formed on the upper and lower surfaces of the wiring board forming material with a large degree of freedom. Further, by standardizing the arrangement pattern and arrangement pitch of the relay short-circuit portions 11 on the insulating substrate 10, mass production of the wiring board forming material becomes possible, and as a result, the wiring board can be manufactured at low cost. it can.

【0028】また、絶縁性基板10の上面および下面に
は、中継用短絡部11の各々に対応して当該中継用短絡
部11の両端に連結された中継用ランド12,13が形
成されているため、中継用短絡部11と上部側絶縁層2
0および下部側絶縁層30に形成される短絡部との電気
的接続を確実に達成することができる。
On the upper and lower surfaces of the insulating substrate 10, relay lands 12, 13 connected to both ends of the relay short-circuit portion 11 are formed corresponding to each of the relay short-circuit portions 11. Therefore, the relay short-circuit portion 11 and the upper insulating layer 2
Electrical connection with the short-circuit portion formed in the lower and lower insulating layers 30 can be reliably achieved.

【0029】また、上部側絶縁層20の上面および下部
側絶縁層30の下面には、金属薄層25,35が一体的
に積層されているため、これらの金属薄層25,35に
対してフォトリソグラフィーおよびエッチング処理を施
すことにより、上部側絶縁層20の上面および下部側絶
縁層30の下面に配線部を形成することができる。
Since the thin metal layers 25 and 35 are integrally laminated on the upper surface of the upper insulating layer 20 and the lower surface of the lower insulating layer 30, By performing photolithography and etching, wiring portions can be formed on the upper surface of the upper insulating layer 20 and the lower surface of the lower insulating layer 30.

【0030】本発明の配線板形成材料は、上記の構成に
限定されず、種々の変更を加えることが可能である。例
えば、絶縁性基板10における中継用短絡部11は、規
則的に配列されていれば、格子点位置に従った配列に限
られず、種々の配列パターンを採用することができる。
The material for forming a wiring board of the present invention is not limited to the above-described structure, and various modifications can be made. For example, as long as the relay short-circuit portions 11 on the insulating substrate 10 are regularly arranged, the arrangement is not limited to the arrangement according to the lattice point positions, and various arrangement patterns can be adopted.

【0031】また、絶縁性基板10の上面および下面に
設けられた中継用ランド12,13は、本発明において
必須のものではない。但し、中継用短絡部11と上部側
絶縁層および下部側絶縁層に形成される短絡部との電気
的接続を確実に達成するためには、中継用ランド12,
13を設けることが好ましい。
The relay lands 12, 13 provided on the upper and lower surfaces of the insulating substrate 10 are not essential in the present invention. However, in order to reliably achieve the electrical connection between the relay short-circuit portion 11 and the short-circuit portions formed in the upper insulating layer and the lower insulating layer, the relay lands 12,
13 is preferably provided.

【0032】また、絶縁性基板10の上面および下面に
は、中継用ランド12,13から突出する中継用ポスト
が形成されていてもよい。このような中継用ポストは、
絶縁性基板10の上面および下面に対して、フォトリソ
グラフィーおよびメッキ処理を施して中継用ランド1
2,13上に金属を堆積させることにより、形成するこ
とができる。
Further, relay posts protruding from the relay lands 12 and 13 may be formed on the upper and lower surfaces of the insulating substrate 10. Such relay posts are:
Photolithography and plating are applied to the upper and lower surfaces of the insulating substrate 10 to perform the relay land 1.
It can be formed by depositing a metal on 2 and 13.

【0033】また、上部側絶縁層20の上面および下部
側絶縁層30の下面に設けられた金属薄層25,35
は、本発明において必須のものではない。金属薄層2
5,35を有しない配線板形成材料においては、例えば
アディティブ法によって配線部を形成することができ
る。
The thin metal layers 25 and 35 provided on the upper surface of the upper insulating layer 20 and the lower surface of the lower insulating layer 30 are provided.
Is not essential in the present invention. Thin metal layer 2
In the wiring board forming material having neither 5 nor 35, the wiring portion can be formed by, for example, an additive method.

【0034】〈板状コネクター〉図8は、本発明の板状
コネクターの一例における構成を示す説明用断面図であ
り、この例における板状コネクターは、例えば回路装置
の電気的検査において、検査対象である回路装置の被検
査電極とテスターの検査用電極とを電気的に接続するア
ダブターとして用いられるものである。
<Plate Connector> FIG. 8 is a cross-sectional view for illustrating the structure of an example of the plate connector of the present invention. The plate connector in this example is an object to be inspected in, for example, an electrical inspection of a circuit device. This is used as an adapter for electrically connecting the electrode to be inspected of the circuit device and the inspection electrode of the tester.

【0035】この板状コネクターは、絶縁性基板10
と、この絶縁性基板10の上面に一体的に積層された上
部側絶縁層20と、絶縁性基板10の下面に一体的に積
層された下部側絶縁層30とよりなる積層体により構成
されている。この積層体の上面すなわち上部側絶縁層2
0の上面には、被検査回路装置の被検査電極に対応して
複数の接続用電極21が形成され、当該積層体の下面す
なわち下部側絶縁層30の下面には、テスターの検査用
電極に対応して格子点位置に配置された複数の端子電極
31が形成されている。また、この板状コネクターに
は、上部側絶縁層20、絶縁性基板10および下部側絶
縁層30をその厚み方向に貫通して伸びる貫通短絡部1
5が形成されており、この貫通短絡部15には、接続用
電極21が直接または上面配線部22を介して電気的に
接続されていると共に、端子電極31が直接または下面
配線部32を介して電気的に接続されている。
This plate-like connector is connected to the insulating substrate 10.
And an upper insulating layer 20 integrally laminated on the upper surface of the insulating substrate 10 and a lower insulating layer 30 integrally laminated on the lower surface of the insulating substrate 10. I have. Upper surface of this laminate, that is, upper insulating layer 2
A plurality of connection electrodes 21 are formed on the upper surface of the test device 0 in correspondence with the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected. A plurality of terminal electrodes 31 corresponding to the lattice points are formed. In addition, this plate-shaped connector has a penetration short-circuit portion 1 extending through the upper insulating layer 20, the insulating substrate 10, and the lower insulating layer 30 in the thickness direction thereof.
The connection electrode 21 is electrically connected to the through short-circuit portion 15 directly or via the upper wiring portion 22, and the terminal electrode 31 is directly or via the lower wiring portion 32. And are electrically connected.

【0036】このように、図8に示す板状コネクターに
おいては、上部側絶縁層20の上面に形成された接続用
電極21が、上面配線部22、貫通短絡部15および下
面配線部32を介して、下部側絶縁層30の下面に形成
された端子電極31に電気的に接続されている。実際の
構成において、接続用電極21と端子電極31との電気
的接続は回路装置の検査目的に応じた態様で達成されれ
ばよい。従って、すべての接続用電極21と端子電極3
1とが必ず1対1の対応関係で接続される必要はなく、
種々の接続状態を実現することができる。例えば、上面
配線部22を利用して接続用電極21同士を電気的に接
続すること、複数の接続用電極21を1つの下面配線部
32に共通に接続すること、その他が可能である。な
お、上面配線部22および下面配線部32は、図8およ
び図9において、いずれも紙面と交わる方向に伸びる状
態に形成され得ることは勿論である。
As described above, in the plate-like connector shown in FIG. 8, the connection electrodes 21 formed on the upper surface of the upper insulating layer 20 are connected via the upper wiring portion 22, the short-circuit short-circuit portion 15, and the lower wiring portion 32. And is electrically connected to a terminal electrode 31 formed on the lower surface of the lower insulating layer 30. In an actual configuration, the electrical connection between the connection electrode 21 and the terminal electrode 31 may be achieved in a manner according to the purpose of inspection of the circuit device. Therefore, all connection electrodes 21 and terminal electrodes 3
1 does not have to be connected in a one-to-one correspondence,
Various connection states can be realized. For example, it is possible to electrically connect the connection electrodes 21 using the upper surface wiring portion 22, connect a plurality of connection electrodes 21 to one lower surface wiring portion 32 in common, and the like. It is needless to say that the upper wiring portion 22 and the lower wiring portion 32 can both be formed in FIGS. 8 and 9 so as to extend in a direction intersecting the paper surface.

【0037】図9にも拡大して示すように、絶縁性基板
10には、当該絶縁性基板10をその厚み方向に貫通し
て伸びるバイアホールによる多数の導電性の中継用短絡
部11が、絶縁性基板10の面方向に沿って規則的に例
えば格子点位置に従って配列された状態で設けられてお
り、絶縁性基板10の上面および下面には、中継用短絡
部11の各々に対応して当該中継用短絡部11の上端お
よび下端の各々に連結された金属製の中継用ランド1
2,13が設けられている。
As shown in FIG. 9 in an enlarged manner, a large number of conductive relay short-circuit portions 11 are formed in the insulating substrate 10 by via holes extending through the insulating substrate 10 in the thickness direction. The insulating substrate 10 is provided in a state where the insulating substrate 10 is regularly arranged in accordance with, for example, lattice point positions. The upper and lower surfaces of the insulating substrate 10 correspond to the relay short-circuit portions 11. Metal relay lands 1 connected to the upper and lower ends of the relay short-circuit portion 11
2, 13 are provided.

【0038】上面側絶縁層20には、当該上部側絶縁層
20をその厚み方向に貫通して伸びる上部側短絡部23
が、絶縁性基板10における多数の中継用短絡部11か
ら選択された特定の中継用短絡部11の直上の位置に形
成され、一方、下部側絶縁層30には、当該下部側絶縁
層30をその厚み方向に貫通して伸びる下部側短絡部3
3が、特定の中継用短絡部11の直下の位置に形成され
ている。そして、上部側短絡部23が中継用ランド12
を介して特定の中継用短絡部11に電気的に接続され、
下部側短絡部33が中継用ランド13を介して特定の中
継用短絡部11に電気的に接続されており、これによ
り、上部側絶縁層20、絶縁性基板10および下部側絶
縁層30をその厚み方向に貫通して伸びる貫通短絡部1
5が構成されている。
The upper-side insulating layer 20 includes an upper-side short-circuit portion 23 extending through the upper-side insulating layer 20 in the thickness direction.
Is formed immediately above a specific relay short-circuit portion 11 selected from a number of relay short-circuit portions 11 on the insulating substrate 10, while the lower insulating layer 30 is provided with the lower insulating layer 30. Lower short-circuit portion 3 extending through the thickness direction
3 is formed at a position directly below the specific relay short-circuit portion 11. The upper short-circuiting portion 23 is connected to the relay land 12.
Is electrically connected to a specific relay short-circuit portion 11 through
The lower short-circuit portion 33 is electrically connected to a specific relay short-circuit portion 11 via the relay land 13, whereby the upper insulating layer 20, the insulating substrate 10 and the lower insulating layer 30 are separated from each other. Penetrating short-circuit part 1 extending through in the thickness direction
5 are configured.

【0039】上記の板状コネクターは、前述の配線板形
成材料を用いて次のようにして製造することができる。
先ず、図1に示すような配線板形成材料を用意し、この
配線板形成材料に対し、図10に示すように、絶縁性基
板10における多数の中継用短絡部11から選択された
特定の中継用短絡部11の直上において、金属薄層25
および上部側絶縁層20をその厚み方向に貫通する短絡
部形成用穴部23Hを形成すると共に、特定の中継用短
絡部11の直下において、金属薄層35および下部側絶
縁層30をその厚み方向に貫通する短絡部形成用穴部3
3Hを形成する。
The above-mentioned plate-like connector can be manufactured using the above-mentioned wiring board forming material as follows.
First, a wiring board forming material as shown in FIG. 1 is prepared, and as shown in FIG. 10, a specific relay selected from a number of relay short-circuit portions 11 in the insulating substrate 10 as shown in FIG. Immediately above the short-circuit portion 11, a thin metal layer 25
And a short-circuit portion forming hole 23H penetrating the upper insulating layer 20 in the thickness direction thereof, and the metal thin layer 35 and the lower insulating layer 30 are formed in the thickness direction just below the specific relay short-circuit portion 11. Hole 3 for forming a short circuit part penetrating through
3H is formed.

【0040】短絡部形成用穴部23H,33Hを形成す
る手段としては、数値制御型ドリリング装置、レーザー
加工装置などが挙げられるが、内径の小さい短絡部形成
用穴部23H,33Hを形成することができる点で、レ
ーザー加工装置を用いることが好ましい。レーザー加工
装置により短絡部形成用穴部23H,33Hを形成する
場合には、予め金属薄層25,35に対してフォトリソ
グラフィーおよびエッチング処理を施すことにより、金
属薄層25,35における短絡部形成用穴部23H,3
3Hが形成される個所に開口を形成しておき、この開口
を介して上部側絶縁層20および下部側絶縁層30にレ
ーザー光を照射することが好ましい。このような方法に
よれば、フォトリソグラフィーおよびエッチング処理に
よって金属薄層25,35に小さい直径の開口を形成す
ることが可能であり、しかも、上部側絶縁層20および
下部側絶縁層30には、金属薄層25,35に形成され
た開口に応じた直径を有する短絡部形成用穴部23H,
33Hが形成されるので、直径の小さい所要の短絡部形
成用穴部23H,33Hを容易に形成することができ
る。
Means for forming the short-circuit portion forming holes 23H and 33H include a numerical control type drilling device and a laser processing device. The short-circuit portion forming holes 23H and 33H having a small inner diameter are formed. It is preferable to use a laser processing device from the viewpoint that the laser processing device can be used. When the holes 23H and 33H for forming short-circuit portions are formed by a laser processing apparatus, short-circuit portions are formed in the thin metal layers 25 and 35 by performing photolithography and etching on the thin metal layers 25 and 35 in advance. Holes 23H, 3
It is preferable that an opening is formed at a position where 3H is formed, and that the upper insulating layer 20 and the lower insulating layer 30 are irradiated with laser light through the opening. According to such a method, it is possible to form small-diameter openings in the thin metal layers 25 and 35 by photolithography and etching, and furthermore, the upper insulating layer 20 and the lower insulating layer 30 Short holes 23H having a diameter corresponding to the openings formed in the thin metal layers 25 and 35,
Since 33H is formed, required short-circuit-portion forming holes 23H and 33H having a small diameter can be easily formed.

【0041】次いで、短絡部形成用穴部23H,33H
が形成された配線板形成材料に対し、無電解銅メッキお
よび電界銅メッキを施して短絡部形成用穴部23H,3
3Hの内面に銅の堆積体を形成することにより、図11
に示すように、中継用ランド12を介して中継用短絡部
11に電気的に接続された、上部側絶縁層20をその厚
み方向に貫通して伸びるバイアホールによる上部側短絡
部23が形成されると共に、中継用ランド13を介して
中継用短絡部11に電気的に接続された、下部側絶縁層
30をその厚み方向に貫通して伸びるバイアホールによ
る下部側短絡部33が形成され、以て、上部側絶縁層2
0、絶縁性基板10および下部側絶縁層30をその厚み
方向に貫通して伸びる貫通短絡部15が形成される。
Next, the short-circuit portion forming holes 23H, 33H
The wiring board forming material on which is formed is subjected to electroless copper plating and electric field copper plating to form short-circuit portion forming holes 23H, 3H.
By forming a copper deposit on the inner surface of 3H, FIG.
As shown in FIG. 5, an upper short-circuit portion 23 is formed by a via hole extending through the upper insulating layer 20 in the thickness direction thereof and electrically connected to the relay short-circuit portion 11 via the relay land 12. At the same time, a lower short-circuit portion 33 is formed, which is electrically connected to the relay short-circuit portion 11 via the relay land 13 and extends through the lower insulating layer 30 in the thickness direction thereof. And the upper insulating layer 2
A penetrating short-circuit portion 15 extending through the insulating substrate 10 and the lower insulating layer 30 in the thickness direction thereof is formed.

【0042】その後、金属薄層25,35に対してフォ
トリソグラフィーおよびエッチング処理を施してその一
部を除去することにより、図12に示すように、上部側
絶縁層20の上面に、上面配線部22および接続用電極
基層21Aが形成されると共に、下部側絶縁層30の下
面に、下面配線部32および端子電極基層31Aが形成
される。
Thereafter, photolithography and etching are performed on the thin metal layers 25 and 35 to remove a part of the thin metal layers 25 and 35, thereby forming an upper surface wiring portion on the upper surface of the upper insulating layer 20, as shown in FIG. 22 and the connection electrode base layer 21A are formed, and the lower surface wiring portion 32 and the terminal electrode base layer 31A are formed on the lower surface of the lower insulating layer 30.

【0043】そして、上部側絶縁層20の上面に対し、
フォトリソグラフィーおよびメッキ処理を施して接続用
電極基層21A上に金属を堆積させることにより、所要
の厚みの接続用電極21が形成される。一方、下部側絶
縁層30の下面に対し、フォトリソグラフィーおよびメ
ッキ処理を施して端子電極基層31A上に金属を堆積さ
せることにより、所要の厚みの端子電極31が形成され
る。
Then, with respect to the upper surface of the upper insulating layer 20,
The connection electrode 21 having a required thickness is formed by depositing metal on the connection electrode base layer 21A by performing photolithography and plating. On the other hand, by performing photolithography and plating on the lower surface of the lower insulating layer 30 to deposit metal on the terminal electrode base layer 31A, the terminal electrode 31 having a required thickness is formed.

【0044】上記のような板状コネクターによれば、絶
縁性基板10、上部側絶縁層20および下部側絶縁層3
0の積層体により構成されており、絶縁性基板10の中
継用短絡部11と、上部側絶縁層20の上部側短絡部2
3と、下部側絶縁層30の下部側短絡部30とが電気的
に接続されることによって貫通短絡部15が形成されて
いるため、当該貫通短絡部15の形成において、絶縁性
基板10、上部側絶縁層20および下部側絶縁層30の
各々に短絡部を形成すればよく、積層体全体を貫通する
貫通孔を形成することが不要となるため、積層体全体の
厚みがものであっても、外径の小さい貫通短絡部15を
容易に形成することができる。しかも、絶縁性基板10
には、多数の中継用短絡部11が規則的に配列されてい
るため、これらの中から貫通短絡部15に利用される特
定の中継用短絡部11として適宜のものを選択すること
ができる。従って、上面配線部22および下面配線部3
2を大きい自由度で設計することができる。また、板状
コネクターを構成する配線板の形成材料として、前述の
配線板形成材料を用いることにより、上記の板状コネク
ターを簡単な工程により小さいコストでかつ有利に製造
することができる。
According to the plate-like connector as described above, the insulating substrate 10, the upper insulating layer 20, and the lower insulating layer 3
0, the relay short-circuit portion 11 of the insulating substrate 10 and the upper short-circuit portion 2 of the upper insulating layer 20.
3 and the lower short-circuit portion 30 of the lower insulating layer 30 are electrically connected to form the through-short circuit portion 15. A short-circuit portion may be formed in each of the side insulating layer 20 and the lower insulating layer 30, and it is not necessary to form a through-hole penetrating the entire stacked body. The through short-circuit portion 15 having a small outer diameter can be easily formed. Moreover, the insulating substrate 10
Since a large number of relay short-circuit portions 11 are regularly arranged, a proper relay short-circuit portion 11 used for the penetration short-circuit portion 15 can be selected from these. Therefore, the upper wiring section 22 and the lower wiring section 3
2 can be designed with a large degree of freedom. Further, by using the above-mentioned wiring board forming material as a material for forming the wiring board constituting the plate-like connector, the above-mentioned plate-like connector can be advantageously manufactured in a simple process at a lower cost.

【0045】〈回路装置検査用アダプター装置〉図13
は、本発明の回路装置検査用アダプター装置の一例にお
ける構成を示す説明用断面図である。この回路装置検査
用アダプター装置は、アダプター本体1と、このアダプ
ター本体1の上面上に設けられた異方導電性エラストー
層(以下、単に「エラストマー層」ともいう。)40と
により構成されている。
<Adapter device for circuit device inspection> FIG.
1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an example of a circuit device inspection adapter device of the present invention. The adapter device for inspecting a circuit device includes an adapter body 1 and an anisotropic conductive elastomer layer (hereinafter, also simply referred to as “elastomer layer”) 40 provided on the upper surface of the adapter body 1. .

【0046】具体的に説明すると、アダフター本体1
は、図8に示す構成の板状コネクターよりなり、このア
ダプター本体1の上面には、エラストマー層40が一体
的に接着乃至密着した状態で形成されている。このエラ
ストマー層40は、図14に示すように、絶縁性の弾性
高分子物質E中に導電性粒子Pが密に充填されてなる多
数の導電部41がアダプター本体1の接続用電極21上
に位置された状態で、かつ、隣接する導電部41が相互
に絶縁部42によって絶縁された状態とされている。各
導電部41においては、導電性粒子Pが厚さ方向に並ぶ
よう配向されており、厚さ方向に伸びる導電路が形成さ
れている。この導電部41は、厚さ方向に加圧されて圧
縮されたときに抵抗値が減少して導電路が形成される、
加圧導電部であってもよい。これに対して、絶縁部42
は、加圧されたときにも厚さ方向に導電路が形成されな
いものである。
More specifically, the adapter body 1
Is composed of a plate-like connector having the configuration shown in FIG. 8, and an elastomer layer 40 is integrally formed on the upper surface of the adapter body 1 in a state of being adhered or adhered thereto. As shown in FIG. 14, the elastomer layer 40 has a large number of conductive portions 41 in which conductive particles P are densely filled in an insulating elastic polymer substance E on the connection electrodes 21 of the adapter body 1. In the positioned state, adjacent conductive portions 41 are insulated from each other by an insulating portion 42. In each conductive portion 41, the conductive particles P are oriented so as to be arranged in the thickness direction, and a conductive path extending in the thickness direction is formed. When the conductive portion 41 is pressed and compressed in the thickness direction, the resistance decreases and a conductive path is formed.
It may be a pressurized conductive part. On the other hand, the insulating portion 42
No conductive path is formed in the thickness direction even when pressed.

【0047】上記エラストマー層40の導電部41にお
いては、導電性粒子Pの充填率が10体積%以上、特に
15体積%以上であることが好ましい。導電部を加圧導
電部とする場合において、導電性粒子の充填率が高いと
きには、加圧力が小さいときにも確実に所期の電気的接
続を達成することができる点では好ましい。しかし、接
続用電極21の電極ピッチが小さくなると、隣接する導
電部間に十分な絶縁性が確保されなくなるおそれがあ
り、このため、導電部41における導電性粒子Pの充填
率は40体積%以下であることが好ましい。
In the conductive portion 41 of the elastomer layer 40, the filling rate of the conductive particles P is preferably 10% by volume or more, particularly preferably 15% by volume or more. In the case where the conductive portion is a pressurized conductive portion, when the filling rate of the conductive particles is high, it is preferable in that the intended electrical connection can be reliably achieved even when the pressing force is small. However, when the electrode pitch of the connection electrode 21 is reduced, sufficient insulation between adjacent conductive portions may not be ensured, and therefore, the filling rate of the conductive particles 41 in the conductive portion 41 is 40% by volume or less. It is preferred that

【0048】このような構成の回路基板検査用アダプタ
ー装置においては、アダプター本体1が前述の板状コネ
クターにより構成されているため、当該アダプター本体
1に高密度の配線部を形成することができ、しかも、ア
ダプター本体1の上面にエラストマー層40が一体的に
形成されており、更にアダプター本体1の接続用電極2
1上にエラストマー層40の導電部41が配置されてい
るため、電気的接続作業時にエラストマー層40の位置
合わせおよび保持固定を行うことが全く不要であり、従
って検査対象である回路装置の被検査電極の電極ピッチ
が微小である場合にも、所要の電気的接続を確実に達成
することができる。
In the adapter device for circuit board inspection having such a configuration, since the adapter body 1 is constituted by the above-described plate-like connector, a high-density wiring portion can be formed in the adapter body 1. Moreover, the elastomer layer 40 is integrally formed on the upper surface of the adapter main body 1, and the connection electrode 2 of the adapter main body 1 is further formed.
Since the conductive portion 41 of the elastomer layer 40 is disposed on the first substrate 1, there is no need to perform positioning and holding and fixing of the elastomer layer 40 at the time of an electrical connection operation. Even when the electrode pitch of the electrodes is minute, required electrical connection can be reliably achieved.

【0049】また、エラストマー層40はアダプター本
体1と一体であるため、温度変化による熱履歴などの環
境の変化に対しても、良好な電気的接続状態が安定に維
持され、従って常に高い接続信頼性を得ることができ
る。
Further, since the elastomer layer 40 is integral with the adapter main body 1, a good electrical connection state is stably maintained even when the environment changes such as a heat history due to a temperature change, and therefore the connection reliability is always high. Sex can be obtained.

【0050】図示の例においては、エラストマー層40
の外面において、導電部41が絶縁部42の表面から突
出する突出部を形成している。このような例によれば、
加圧による圧縮の程度が絶縁部42より導電部41にお
いて大きいために十分に抵抗値の低い導電路が確実に導
電部41に形成され、これにより、加圧力の変化乃至変
動に対して抵抗値の変化を小さくすることができ、その
結果、エラストマー層40に作用される加圧力が不均一
であっても、各導電部41間における導電性のバラツキ
の発生を防止することができる。
In the illustrated example, the elastomer layer 40
, The conductive portion 41 forms a protruding portion that protrudes from the surface of the insulating portion 42. According to such an example,
Since the degree of compression by pressurization is larger in the conductive portion 41 than in the insulating portion 42, a conductive path having a sufficiently low resistance value is reliably formed in the conductive portion 41. Can be reduced, and as a result, even if the pressing force applied to the elastomer layer 40 is not uniform, it is possible to prevent the occurrence of variations in conductivity between the conductive portions 41.

【0051】このように導電部41が突出部を形成する
場合には、当該突出部の突出高さhは、エラストマー層
40の全厚t(t=h+d、dは絶縁部42の厚さであ
る。)の8%以上であることが好ましい。また、エラス
トマー層40の全厚tは、接続用電極21の中心間距離
として定義される電極ピッチpの300%以下、すなわ
ちt≦3pであることが好ましい。このような条件が充
足されることにより、エラストマー層40に作用される
加圧力が変化した場合にも、それによる導電部41の導
電性の変化が十分に小さく抑制されるからである。
When the conductive portion 41 forms a protrusion as described above, the protrusion height h of the protrusion is the total thickness t of the elastomer layer 40 (t = h + d, and d is the thickness of the insulating portion 42). Is preferably 8% or more. The total thickness t of the elastomer layer 40 is preferably 300% or less of the electrode pitch p defined as the center-to-center distance of the connection electrode 21, that is, t ≦ 3p. When such a condition is satisfied, even when the pressure applied to the elastomer layer 40 changes, the change in the conductivity of the conductive portion 41 due to the change is sufficiently small.

【0052】導電部41が突出部を形成する場合におい
ては、突出部の平面における全体が導電性を有すること
は必ずしも必要ではなく、例えば突出部の周縁には、電
極ピッチの20%以下の導電路非形成部分が存在してい
てもよい。また、隣接する導電部41間の離間距離rの
最小値は、当該導電部41の幅Rの10%以上であるこ
とが好ましい。このような条件が満足されることによ
り、加圧されて突出部が変形したときの横方向の変位が
原因となって隣接する導電部41同士が電気的に接触す
るおそれを十分に回避することができる。以上の例にお
いて、導電部41の平面形状は接続用電極21と等しい
幅の矩形状とすることができるが、必要な面積を有する
円形、その他の適宜の形状とすることができる。
When the conductive portion 41 forms a projecting portion, it is not always necessary that the entire surface of the projecting portion has conductivity. A road non-forming portion may be present. Further, it is preferable that the minimum value of the separation distance r between the adjacent conductive portions 41 is 10% or more of the width R of the conductive portion 41. By satisfying such conditions, it is possible to sufficiently avoid the possibility that the adjacent conductive portions 41 electrically contact each other due to lateral displacement when the protrusion is deformed by being pressed. Can be. In the above example, the planar shape of the conductive portion 41 can be a rectangular shape having the same width as the connection electrode 21, but can be a circular shape having a necessary area or any other appropriate shape.

【0053】導電部41の導電性粒子としては、例えば
ニッケル、鉄、コバルトなどの磁性を示す金属の粒子も
しくはこれらの合金の粒子、またはこれらの粒子に金、
銀、パラジウム、ロジウムなどのメッキを施したもの、
非磁性金属粒子もしくはガラスビーズなどの無機質粒子
またはポリマー粒子にニッケル、コバルトなどの導電性
磁性体のメッキを施したものなどを挙げることができ
る。
As the conductive particles of the conductive portion 41, for example, particles of a metal exhibiting magnetism such as nickel, iron, and cobalt, or particles of an alloy thereof, or gold,
Those plated with silver, palladium, rhodium, etc.
Inorganic particles such as non-magnetic metal particles or glass beads or polymer particles plated with a conductive magnetic material such as nickel or cobalt can be used.

【0054】後述する方法においては、ニッケル、鉄、
またはこれらの合金などよりなる導電性磁性体粒子が用
いられ、また接触抵抗が小さいなどの電気的特性の点で
金メッキされた粒子を好ましく用いることができる。ま
た、磁気ヒステリシスを示さない点から、導電性超常磁
性体よりなる粒子も好ましく用いることができる。
In the method described below, nickel, iron,
Alternatively, conductive magnetic particles made of an alloy thereof or the like are used, and gold-plated particles can be preferably used in terms of electrical characteristics such as low contact resistance. Further, particles composed of a conductive superparamagnetic material can be preferably used because they do not show magnetic hysteresis.

【0055】導電性粒子の粒径は、導電部41の加圧変
形を容易にし、かつ導電部41において導電性粒子間に
十分な電気的な接触が得られるよう、3〜200μmで
あることが好ましく、特に10〜100μmであること
が好ましい。
The particle size of the conductive particles is preferably 3 to 200 μm so that the conductive portion 41 can be easily deformed under pressure and sufficient electrical contact can be obtained between the conductive particles in the conductive portion 41. Preferably, it is particularly preferably 10 to 100 μm.

【0056】導電部41を構成する絶縁性で弾性を有す
る高分子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が
好ましい。架橋高分子物質を得るために用いることがで
きる硬化性の高分子物質用材料としては、例えばシリコ
ーンゴム、ポリブタジエン、天然ゴム、ポリイソプレ
ン、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン
共重合体ゴム、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、ク
ロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、軟質液状エ
ポキシ樹脂などを挙げることができる。
As the insulating and elastic polymer constituting the conductive portion 41, a polymer having a crosslinked structure is preferable. Examples of curable polymer materials that can be used to obtain a crosslinked polymer include silicone rubber, polybutadiene, natural rubber, polyisoprene, styrene-butadiene copolymer rubber, and acrylonitrile-butadiene copolymer rubber. , Ethylene-propylene copolymer rubber, urethane rubber, polyester rubber, chloroprene rubber, epichlorohydrin rubber, and soft liquid epoxy resin.

【0057】具体的には、硬化処理前には液状であっ
て、硬化処理後にアダプター本体1のと密着状態または
接着状態を保持して一体となる高分子物質用材料が好ま
しい。このような観点から、本発明に好適な高分子物質
用材料としては、液状シリコーンゴム、液状ウレタンゴ
ム、軟質液状エポキシ樹脂などを挙げることができる。
高分子物質用材料には、アダプター本体1に対する接着
性を向上させるために、シランカップリング剤、チタン
カップリング剤などの添加剤を添加することができる。
Specifically, a material for a polymer substance which is in a liquid state before the hardening treatment and is integrated with the adapter body 1 while maintaining a close contact state or an adhesive state after the hardening treatment is preferable. From such a viewpoint, examples of the material for a polymer substance suitable for the present invention include liquid silicone rubber, liquid urethane rubber, and soft liquid epoxy resin.
Additives such as a silane coupling agent and a titanium coupling agent can be added to the polymer material in order to improve the adhesion to the adapter body 1.

【0058】絶縁部42を構成する材料としては、導電
部41を構成する高分子物質と同一のものまたは異なる
ものを用いることができるが、同様に硬化処理後にアダ
プター本体1と密着状態または接着状態を保持してアダ
プター本体1と一体となるものが用いられる。
As the material for forming the insulating portion 42, the same or different material as the polymer material for forming the conductive portion 41 can be used. And the one that is integrated with the adapter body 1 is used.

【0059】このような絶縁部を形成することにより、
エラストマー層それ自体の一体性並びにそのアダプター
本体に対する一体性が確実に高くなるため、アダプター
装置全体としての強度が大きくなり、従って繰り返し圧
縮に対して優れた耐久性を得ることができる。
By forming such an insulating portion,
Since the integrality of the elastomer layer itself and its integrality with the adapter main body are reliably increased, the strength of the entire adapter device is increased, and therefore, excellent durability against repeated compression can be obtained.

【0060】以上のような構成のアダプター装置は、そ
の上面に検査対象である回路装置が配置されてエラスト
マー層40の導電部41に回路装置の被検査電極が対接
されると共に、下面の端子電極31が適宜の接続手段を
介してテスターに接続され、更に全体が厚み方向に圧縮
するよう加圧された状態とされる。この状態において
は、アダプター装置のエラストマー層40の導電部41
が導電状態となり、これにより、被検査電極とテスター
との所要の電気的な接続が達成される。
In the adapter device having the above structure, the circuit device to be inspected is disposed on the upper surface, the electrode to be inspected of the circuit device is brought into contact with the conductive portion 41 of the elastomer layer 40, and the terminal on the lower surface is provided. The electrode 31 is connected to the tester via an appropriate connection means, and the whole is pressurized so as to be compressed in the thickness direction. In this state, the conductive portion 41 of the elastomer layer 40 of the adapter device is used.
Is brought into a conductive state, whereby required electrical connection between the electrode under test and the tester is achieved.

【0061】上記の回路装置検査用アダプター装置は、
例えば次のようにしてアダプター本体1の上面にエラス
トマー層40が設けられて製造される。先ず、硬化処理
によって絶縁性の弾性高分子物質となる高分子物質用材
料中に導電性磁性体粒子を分散させて流動性の混合物よ
りなるエラストマー用材料が調製され、図15に示すよ
うに、このエラストマー用材料がアダプター本体1の上
面に塗布されることによりエラストマー用材料層45が
形成され、これが金型50のキャビティ内に配置され
る。
The above-mentioned adapter device for circuit device inspection comprises:
For example, it is manufactured by providing the elastomer layer 40 on the upper surface of the adapter body 1 as follows. First, an elastomer material made of a fluid mixture is prepared by dispersing conductive magnetic particles in a polymer material that becomes an insulating elastic polymer material by curing treatment, and as shown in FIG. The elastomer material is applied to the upper surface of the adapter body 1 to form the elastomer material layer 45, which is arranged in the cavity of the mold 50.

【0062】この金型50は、各々電磁石を構成する上
型51と下型52とよりなり、上型51には、接続用電
極21に対応するパターンの強磁性体部分(斜線を付し
て示す)Mと、それ以外の非磁性体部分Nとよりなる、
下面が平坦面である磁極板53が設けられており、当該
磁極板53の平坦な下面がエラストマー用材料層45の
表面から離間されて間隙Gが形成された状態とされる。
なお、図15および図16においては、接続用電極21
を除き、アダプター本体1の詳細は省略されている。
The mold 50 includes an upper mold 51 and a lower mold 52, each of which forms an electromagnet. The upper mold 51 has a ferromagnetic portion (a hatched portion) in a pattern corresponding to the connection electrode 21. Shown) M, and the other non-magnetic portion N
A magnetic pole plate 53 having a flat lower surface is provided, and the flat lower surface of the magnetic pole plate 53 is separated from the surface of the elastomeric material layer 45 to form a gap G.
15 and 16, the connection electrode 21
Except for the details, the details of the adapter body 1 are omitted.

【0063】この状態で上型51と下型52の電磁石を
動作させ、これにより、アダプター本体1の厚さ方向の
平行磁場を作用させる。その結果、エラストマー用材料
層45においては接続用電極21上に位置する部分にお
いて、それ以外の部分より強い平行磁場が厚さ方向に作
用されることとなり、この分布を有する平行磁場によ
り、図16に示すように、エラストマー用材料層45内
の導電性磁性体粒子が、強磁性体部分Mによる磁力によ
り接続用電極21上に位置する部分に集合して更に厚さ
方向に配向する。
In this state, the electromagnets of the upper die 51 and the lower die 52 are operated, whereby a parallel magnetic field in the thickness direction of the adapter body 1 is applied. As a result, in the portion of the elastomeric material layer 45 located on the connection electrode 21, a stronger parallel magnetic field is applied in the thickness direction than in the other portions. As shown in (1), the conductive magnetic material particles in the elastomer material layer 45 are gathered in a portion located on the connection electrode 21 by the magnetic force of the ferromagnetic material portion M and further oriented in the thickness direction.

【0064】然るに、このとき、エラストマー用材料層
45の表面側には間隙Gが存在するため、導電性磁性体
粒子の移動集合によって高分子物質用材料も同様に移動
する結果、接続用電極21上に位置する部分の高分子物
質用材料表面が隆起し、突出した導電部41が形成され
る。従って、形成される絶縁部42の厚さt1 は、初期
のエラストマー用材料層45の厚さt0 より小さいもの
となる。そして、平行磁場を作用させたまま、あるいは
平行磁場を除いた後、硬化処理を行うことにより、突出
部を形成する導電部41と絶縁部42とよりなるエラス
トマー層40をアダプター本体1上に一体的に設けるこ
とができ、以てアダプター装置が製造される。
However, at this time, since the gap G is present on the surface side of the elastomer material layer 45, the polymer material is also moved by the moving and gathering of the conductive magnetic particles. The upper surface of the material for a polymer substance in the upper portion is raised, and a protruding conductive portion 41 is formed. Accordingly, the thickness t1 of the insulating portion 42 to be formed becomes smaller than the thickness t 0 of the initial elastomeric material layer 45. After the parallel magnetic field is applied or after the parallel magnetic field is removed, the elastomer layer 40 including the conductive portion 41 and the insulating portion 42 forming the protrusion is integrally formed on the adapter body 1 by performing a curing process. The adapter device is manufactured.

【0065】磁極板53としては、図17に示すよう
に、上型51が接続用電極21に対応するパターンの強
磁性体部分Mとそれ以外の非磁性体部分Nよりなり、当
該上型51の下面において強磁性体部分Mが非磁性体部
分Nより下方に突出した状態の磁極板55を使用するこ
ともできる。更に、全体が強磁性体よりなる磁極板であ
って、接続用電極21に対応するパターンの部分が、そ
れ以外の部分より下方に突出した状態の磁極板を用いる
こともできる。これらの場合にも、エラストマー用材料
層45に対しては接続用電極21の領域において、より
強い平行磁場が作用されることとなる。
As shown in FIG. 17, the upper plate 51 is composed of a ferromagnetic portion M of a pattern corresponding to the connection electrode 21 and a non-magnetic portion N other than the upper plate 51, as shown in FIG. The magnetic pole plate 55 in a state where the ferromagnetic portion M protrudes below the non-magnetic portion N on the lower surface of the magnetic head may be used. Further, it is also possible to use a magnetic pole plate that is entirely made of a ferromagnetic material and has a pattern portion corresponding to the connection electrode 21 protruding downward from other portions. Also in these cases, a stronger parallel magnetic field is applied to the elastomer material layer 45 in the region of the connection electrode 21.

【0066】また、平行磁場を作用させたままで上型5
1と下型52の間隔が可変の金型を用い、始めは上型5
1をエラストマー用材料層45の直上に配置し、平行磁
場を作用させながら上型51と下型52の間隔を徐々に
広げ、これによってエラストマー用材料層45の隆起を
生じさせ、その後に硬化処理を行うこともできる。
Further, the upper die 5 is kept under the parallel magnetic field.
A mold having a variable distance between the lower mold 1 and the lower mold 52 is used.
1 is disposed immediately above the elastomer material layer 45, and while a parallel magnetic field is applied, the distance between the upper mold 51 and the lower mold 52 is gradually increased, thereby causing the elastomer material layer 45 to protrude. Can also be performed.

【0067】本発明においては、エラストマー層40の
導電部41が絶縁部42より突出していることは必須の
ことではなく、平坦な表面を有するものとすることもで
きる。このような場合には、例えば図15に示した構成
の金型50を用い、間隙Gを形成せずに処理すればよ
い。
In the present invention, it is not essential that the conductive portion 41 of the elastomer layer 40 protrude from the insulating portion 42, and the elastomer portion 40 may have a flat surface. In such a case, for example, the processing may be performed without forming the gap G by using the mold 50 having the configuration shown in FIG.

【0068】エラストマー用材料層45の厚さは例えば
0.1〜3mmとされる。このエラストマー用材料層4
5のための高分子物質用材料は、導電性磁性体粒子の移
動が容易に行われるよう、その温度25℃における粘度
が101 sec-1の歪速度の条件下において104 〜1
7 センチポアズ程度であることが好ましい。エラスト
マー用材料層45の硬化処理は、平行磁場を作用させた
ままの状態で行うことが好ましいが、平行磁場の作用を
停止させた後に行うこともできる。
The thickness of the elastomer material layer 45 is, for example, 0.1 to 3 mm. This material layer for elastomer 4
The polymer material for No. 5 has a viscosity at 25 ° C. of 10 4 to 1 at a strain rate of 10 1 sec -1 so that the conductive magnetic particles can be easily moved.
Is preferably about 0 7 centipoise. The curing treatment of the elastomeric material layer 45 is preferably performed while the parallel magnetic field is applied, but may be performed after the application of the parallel magnetic field is stopped.

【0069】また、磁極板53の強磁性体部分Mは鉄、
ニッケルなどの強磁性体により、また非磁性体部分N
は、銅などの非磁性金属、ポリイミドなどの耐熱性樹脂
または空気層などにより形成することができる。エラス
トマー用材料層45に作用される平行磁場の強度は、金
型のキャビティの平均で200〜20,000ガウスと
なる大きさが好ましい。
The ferromagnetic portion M of the pole plate 53 is made of iron,
A ferromagnetic material such as nickel, and a non-magnetic material portion N
Can be formed of a nonmagnetic metal such as copper, a heat-resistant resin such as polyimide, or an air layer. The intensity of the parallel magnetic field applied to the elastomer material layer 45 is preferably such that the average of the cavity of the mold is 200 to 20,000 gauss.

【0070】硬化処理は、使用される材料によって適宜
選定されるが、通常、熱処理によって行われる。具体的
な加熱温度および加熱時間は、エラストマー用材料層4
5の高分子物質用材料の種類、導電性磁性体粒子の移動
に要する時間などを考慮して適宜選定される。例えば、
高分子物質用材料が室温硬化型シリコーンゴムである場
合に、硬化処理は、室温で24時間程度、40℃で2時
間程度、80℃で30分間程度で行われる。
The curing treatment is appropriately selected depending on the material used, but is usually carried out by heat treatment. The specific heating temperature and heating time depend on the material layer 4 for the elastomer.
5 is appropriately selected in consideration of the type of the material for a polymer substance, the time required for the movement of the conductive magnetic particles, and the like. For example,
When the polymer material is a room temperature-curable silicone rubber, the curing treatment is performed at room temperature for about 24 hours, at 40 ° C. for about 2 hours, and at 80 ° C. for about 30 minutes.

【0071】[0071]

【発明の効果】本発明の配線板形成材料によれば、絶縁
性基板に多数の中継用短絡部が形成されているため、貫
通短絡部の形成において、中継用短絡部の直上の位置お
よび直下の位置に、上部側絶縁層および下部側絶縁層の
みにその厚み方向に貫通する短絡部形成用穴部を形成す
ればよいため、配線板形成材料全体の厚みがものであっ
ても、当該配線板形成材料に外径の小さい貫通短絡部を
容易に形成することができる。しかも、絶縁性基板に
は、多数の中継用短絡部が規則的に配列されているた
め、これらの中から適宜の中継用短絡部を選択し、当該
選択された特定の中継用短絡部を利用して貫通短絡部を
形成することができる。従って、配線板形成材料の上面
および下面に高密度の配線部を大きい自由度で形成する
ことができる。また、絶縁性基板における中継用短絡部
の配列パターンおよび配列ピッチを規格化することによ
り、当該配線板形成材料の量産化が可能となり、その結
果、小さいコストで配線板を製造することができる。
According to the wiring board forming material of the present invention, since a large number of relay short-circuit portions are formed on the insulating substrate, in forming the penetration short-circuit portion, the position immediately above and immediately below the relay short-circuit portion are formed. At the position, only the upper insulating layer and the lower insulating layer need to be formed with a hole for forming a short-circuit portion penetrating in the thickness direction thereof. A short-circuit short-circuit portion having a small outer diameter can be easily formed on the plate forming material. Moreover, since a large number of relay short-circuit portions are regularly arranged on the insulating substrate, an appropriate relay short-circuit portion is selected from these, and the selected specific relay short-circuit portion is used. As a result, a through short-circuit portion can be formed. Therefore, high-density wiring portions can be formed on the upper and lower surfaces of the wiring board forming material with a large degree of freedom. Further, by standardizing the arrangement pattern and arrangement pitch of the relay short-circuit portions on the insulating substrate, it is possible to mass-produce the wiring board forming material, and as a result, it is possible to manufacture the wiring board at low cost.

【0072】絶縁性基板の上面および下面に、中継用短
絡部の各々に対応して当該中継用短絡部の両端に連結さ
れた中継用ランドが設けられた構成によれば、中継用短
絡部と上部側絶縁層および下部側絶縁層に形成される短
絡部との電気的接続を確実に達成することができる。ま
た、上部側絶縁層の上面および下部側絶縁層の下面に金
属薄層が一体的に積層された構成によれば、これらの金
属薄層に対してフォトリソグラフィーおよびエッチング
処理を施すことにより、上部側絶縁層の上面および下部
側絶縁層の下面に配線部を形成することができる。
According to the structure in which the relay lands connected to both ends of the relay short-circuit portion are provided on the upper surface and the lower surface of the insulating substrate corresponding to each of the relay short-circuit portions, respectively. Electrical connection with short-circuit portions formed in the upper insulating layer and the lower insulating layer can be reliably achieved. According to the configuration in which the thin metal layers are integrally laminated on the upper surface of the upper insulating layer and the lower surface of the lower insulating layer, by performing photolithography and etching on these thin metal layers, Wiring portions can be formed on the upper surface of the side insulating layer and the lower surface of the lower insulating layer.

【0073】本発明の板状コネクターによれば、絶縁性
基板、上部側絶縁層および下部側絶縁層を有する積層体
により構成されており、絶縁性基板の中継用短絡部と、
上部側絶縁層の上部側短絡部と、下部側絶縁層の下部側
短絡部とが電気的に接続されることによって貫通短絡部
が形成されているため、当該貫通短絡部の形成におい
て、絶縁性基板、上部側絶縁層および下部側絶縁層の各
々に短絡部を形成すればよく、これらの全体を貫通する
貫通孔を形成することが不要となるため、積層体全体の
厚みがものであっても、外径の小さい貫通短絡部を容易
に形成することができる。しかも、絶縁性基板には、多
数の中継用短絡部が規則的に配列されているため、これ
らの中から貫通短絡部に利用される特定の中継用短絡部
として適宜のものを選択することができる。従って、配
線部の設計を大きい自由度で行うことができる。本発明
の板状コネクターの製造方法によれば、上記の板状コネ
クターを簡単な工程により小さいコストでかつ有利に製
造することができる。
According to the plate-shaped connector of the present invention, it is constituted by a laminate having an insulating substrate, an upper insulating layer and a lower insulating layer, and a relay short-circuit portion of the insulating substrate;
Since the upper short-circuited portion of the upper insulating layer and the lower short-circuited portion of the lower insulating layer are electrically connected to each other to form the through short-circuited portion, the insulating short-circuit portion is formed in the formation of the through-hole shorted portion. What is necessary is just to form a short-circuit part in each of a board | substrate, an upper side insulating layer, and a lower side insulating layer, and since it becomes unnecessary to form the through-hole penetrating these whole, the thickness of the whole laminated body is one. In addition, a short-circuit short-circuit portion having a small outer diameter can be easily formed. Moreover, since a large number of relay short-circuit portions are regularly arranged on the insulating substrate, it is possible to select an appropriate one from these as a specific relay short-circuit portion used for the through short-circuit portion. it can. Therefore, the wiring section can be designed with a large degree of freedom. According to the method for manufacturing a plate-shaped connector of the present invention, the above-described plate-shaped connector can be advantageously manufactured in a simple process at a lower cost.

【0074】本発明の回路装置検査用アダプター装置に
よれば、アダプター本体に高密度の配線部を形成するこ
とができ、しかも、アダプター本体に異方導電性エラス
トマー層が一体的に設けられているため、検査対象であ
る回路装置の被検査電極が、電極ピッチが微小であり、
かつ微細で高密度の複雑なパターンのものである場合に
も、当該回路装置についての所要の電気的接続を確実に
達成することができ、また温度変化による熱履歴などの
環境の変化に対しても良好な電気的接続状態が安定に維
持され、従って高い接続信頼性を得ることができる。
According to the adapter device for circuit device inspection of the present invention, a high-density wiring portion can be formed on the adapter body, and the adapter body is provided integrally with the anisotropic conductive elastomer layer. Therefore, the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected has a minute electrode pitch,
In addition, even in the case of a fine and high-density complex pattern, it is possible to reliably achieve the required electrical connection of the circuit device, and to withstand environmental changes such as heat history due to temperature changes. Also, a good electrical connection state is stably maintained, and therefore, high connection reliability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の配線板形成材料の一例における構成を
示す説明用断面図である。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of an example of a wiring board forming material of the present invention.

【図2】図2に示す配線板形成材料の一部を拡大して示
す説明用断面図である。
FIG. 2 is an explanatory sectional view showing a part of the wiring board forming material shown in FIG. 2 in an enlarged manner.

【図3】本発明の配線板形成材料を製造するために用い
られる基板材料の一例を示す説明用断面図である。
FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view showing an example of a substrate material used for manufacturing the wiring board forming material of the present invention.

【図4】絶縁性基板に短絡部形成用孔が形成された状態
を示す説明用断面図である。
FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a short-circuit portion forming hole is formed in an insulating substrate.

【図5】絶縁性基板に中継用短絡部が形成された状態を
示す説明用断面図である。
FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a relay short-circuit portion is formed on an insulating substrate.

【図6】絶縁性基板の上面および下面に中継用ランドが
形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which relay lands are formed on upper and lower surfaces of an insulating substrate.

【図7】絶縁性基板、熱硬化性樹脂シートおよび金属箔
が熱圧着処理された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a state where an insulating substrate, a thermosetting resin sheet, and a metal foil have been subjected to a thermocompression bonding process.

【図8】本発明の板状コネクターの一例における構成を
示す説明用断面図である。
FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of an example of the plate-shaped connector of the present invention.

【図9】図8に示す板状コネクターの一部を拡大して示
す説明用断面図である。
9 is an explanatory sectional view showing a part of the plate-like connector shown in FIG. 8 in an enlarged manner.

【図10】図1に示す配線板形成材料における上部側絶
縁層および下部側絶縁層に短絡部用穴部が形成された状
態を示す説明用断面図である。
10 is an explanatory cross-sectional view showing a state where holes for short-circuit portions are formed in the upper insulating layer and the lower insulating layer in the wiring board forming material shown in FIG. 1;

【図11】上部側絶縁層に上部側短絡部が形成され、下
部側絶縁層に下部側短絡部が形成された状態を示す説明
用断面図である。
FIG. 11 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an upper short-circuit portion is formed in an upper insulating layer and a lower short-circuit portion is formed in a lower insulating layer.

【図12】上部側絶縁層の上面に上面配線部および接続
用電極基層が形成され、下部側絶縁層の下面に下面配線
部および端子電極基層が形成された状態を示す説明用断
面図である。
FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an upper wiring portion and a connection electrode base layer are formed on an upper surface of an upper insulating layer, and a lower wiring portion and a terminal electrode base layer are formed on a lower surface of a lower insulating layer. .

【図13】本発明の回路装置検査用アダプター装置の一
例における構成を示す説明用断面図である。
FIG. 13 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an example of the adapter device for circuit device inspection of the present invention.

【図14】図13における回路装置検査用アダプター装
置のエラストマー層を拡大して示す説明用断面図であ
る。
14 is an explanatory cross-sectional view showing, on an enlarged scale, an elastomer layer of the circuit device inspection adapter device in FIG.

【図15】エラストマー用材料層が形成されたアダプタ
ー本体が金型にセットされた状態を示す説明用断面図で
ある。
FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the adapter main body on which the elastomer material layer is formed is set in a mold.

【図16】図13において、平行磁場が作用された状態
を示す説明用断面図である。
FIG. 16 is an explanatory sectional view showing a state where a parallel magnetic field is applied in FIG. 13;

【図17】エラストマー層を形成するために用いられる
金型の他の例を示す説明用断面図である。
FIG. 17 is an explanatory sectional view showing another example of a mold used for forming an elastomer layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アダプター本体 10 絶縁性基板 11 中継用短絡部 11H 短絡部形成用孔 12,13 中継用ランド 12A,13A 金属薄層 15 貫通短絡部 20 上部側絶縁層 20A 熱硬化性樹脂シート 21 接続用電極 21A 接続用電極基層 22 上面配線部 23 上部側短絡部 23H 短絡部用穴部 25 金属薄層 25A 金属箔 30 下部側絶縁層 30A 熱硬化性樹脂シート 31 端子電極 31A 端子電極基層 32 下面配線部 33 下部側短絡部 33H 短絡部用穴部 35 金属薄層 35A 金属箔 40 異方導電性エラストマー層 41 導電部 42 絶縁部 E 弾性高分子物質 P 導電性粒子 45 エラストマー用材料層 50 金型 51 上型 52 下型 M 強磁性体部分 N 非磁性体部分 53 磁極板 G 間隙 54 磁極板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Adapter main body 10 Insulating board 11 Relay short-circuit part 11H Short-circuit part formation hole 12,13 Relay land 12A, 13A Metal thin layer 15 Penetration short-circuit part 20 Upper insulating layer 20A Thermosetting resin sheet 21 Connection electrode 21A Connection electrode base layer 22 Upper surface wiring part 23 Upper short-circuit part 23H Short-circuit part hole 25 Metal thin layer 25A Metal foil 30 Lower insulating layer 30A Thermosetting resin sheet 31 Terminal electrode 31A Terminal electrode base layer 32 Lower wiring part 33 Lower part Side short-circuit part 33H Short-circuit part hole 35 Metal thin layer 35A Metal foil 40 Anisotropic conductive elastomer layer 41 Conductive part 42 Insulating part E Elastic high molecular substance P Conductive particle 45 Elastomer material layer 50 Mold 51 Upper mold 52 Lower die M Ferromagnetic part N Non-magnetic part 53 Magnetic pole plate G Gap 54 Magnetic pole plate

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性基板と、この絶縁性基板の上面に
一体的に積層された上部側絶縁層と、前記絶縁性基板の
下面に一体的に積層された下部側絶縁層とを具えてな
り、 前記絶縁性基板は、規則的に配列された、当該絶縁性基
板をその厚み方向に貫通して伸びる多数の導電性の中継
用短絡部を有することを特徴とする配線板形成材料。
An insulating substrate, an upper insulating layer integrally laminated on an upper surface of the insulating substrate, and a lower insulating layer integrally laminated on a lower surface of the insulating substrate. A wiring board forming material, wherein the insulating substrate has a large number of conductive relay short-circuit portions that are regularly arranged and extend through the insulating substrate in the thickness direction thereof.
【請求項2】 絶縁性基板における中継用短絡部は、格
子点位置に従って配列されていることを特徴とする請求
項1に記載の配線板形成材料。
2. The wiring board forming material according to claim 1, wherein the relay short-circuit portions in the insulating substrate are arranged in accordance with lattice point positions.
【請求項3】 絶縁性基板の上面および下面には、中継
用短絡部の各々に対応して当該中継用短絡部の両端に連
結された中継用ランドが形成されていることを特徴とす
る請求項1または請求項2に記載の配線板形成材料。
3. A relay land connected to both ends of the relay short-circuit portion corresponding to each of the relay short-circuit portions on the upper surface and the lower surface of the insulating substrate. The wiring board forming material according to claim 1 or 2.
【請求項4】 上部側絶縁層の上面および下部側絶縁層
の下面には、金属薄層が一体的に積層されていることを
特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の配
線板形成材料。
4. The method according to claim 1, wherein a thin metal layer is integrally laminated on an upper surface of the upper insulating layer and a lower surface of the lower insulating layer. Wiring board forming material.
【請求項5】 絶縁性基板、この絶縁性基板の上面に一
体的に積層された上部側絶縁層および前記絶縁性基板の
下面に一体的に積層された下部側絶縁層を有する積層体
と、 この積層体の上面に形成された一方の電極と、 当該積層体の下面に形成された他方の電極と、 前記上部側絶縁層、前記絶縁性基板および前記下部側絶
縁層をその厚み方向に貫通して伸びる貫通短絡部とを有
してなり、 前記一方の電極が、少なくとも前記貫通短絡部を介して
前記他方の電極に電気的に接続された板状コネクターで
あって、 前記絶縁性基板は、規則的に配列された、当該絶縁性基
板をその厚み方向に貫通して伸びる多数の中継用短絡部
を有し、 前記貫通短絡部は、前記絶縁性基板における多数の中継
用短絡部から選択された特定の中継用短絡部と、この特
定の中継用短絡部の直上において前記上部側絶縁層に形
成された、当該上部側絶縁層をその厚み方向に貫通して
伸びる上部側短絡部と、当該特定の中継用短絡部の直下
において前記下部側絶縁層に形成された、当該下部側絶
縁層をその厚み方向に貫通して伸びる複数の下部側短絡
部とが電気的に接続されることにより構成されているこ
とを特徴とする板状コネクター。
5. A laminate comprising: an insulating substrate; an upper insulating layer integrally laminated on an upper surface of the insulating substrate; and a lower insulating layer integrally laminated on a lower surface of the insulating substrate; One electrode formed on the upper surface of the laminate, the other electrode formed on the lower surface of the laminate, and penetrating the upper insulating layer, the insulating substrate, and the lower insulating layer in the thickness direction thereof. Wherein the one electrode is a plate-like connector electrically connected to the other electrode via at least the through short-circuit portion, wherein the insulating substrate is Has a large number of relay short-circuit portions that are regularly arranged and extend through the insulating substrate in the thickness direction thereof, and the through short-circuit portion is selected from a large number of relay short-circuit portions of the insulating substrate. Specific relay short-circuit An upper-side short-circuit portion formed on the upper-side insulating layer immediately above a fixed relay-use short-circuit portion and extending through the upper-side insulating layer in the thickness direction thereof, and directly below the specific relay-use short-circuit portion. A plate-like structure formed by being electrically connected to a plurality of lower-side short-circuit portions formed on the lower-side insulating layer and extending through the lower-side insulating layer in the thickness direction thereof. connector.
【請求項6】 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載
の配線板形成材料を用意し、 この配線板形成材料における上部側絶縁層に、絶縁性基
板における多数の中継用短絡部から選択された特定の中
継用短絡部の直上において当該上部側絶縁層をその厚み
方向に貫通する短絡部形成用穴部を形成すると共に、下
部側絶縁層に、前記特定の中継用短絡部の直下において
当該下部側絶縁層をその厚み方向に貫通する短絡部形成
用穴部を形成し、 前記上部側絶縁層に形成された短絡部形成用穴部に、前
記特定の中継用短絡部に電気的に接続された上部側短絡
部を形成すると共に、前記下部側絶縁層に形成された短
絡部形成用穴部に、当該特定の中継用短絡部に電気的に
接続された下部側短絡部を形成することにより、上部側
絶縁層、絶縁性基板および下部側絶縁層をその厚み方向
に貫通して伸びる貫通短絡部を形成する工程を有するこ
とを特徴とする板状コネクターの製造方法。
6. The wiring board forming material according to claim 1, wherein the upper insulating layer of the wiring board forming material is selected from a number of relay short-circuit portions of an insulating substrate. Immediately above the specific relay short-circuit portion, a short-circuit portion forming hole that penetrates the upper insulating layer in the thickness direction thereof is formed, and in the lower insulating layer, immediately below the specific relay short-circuit portion. A short-circuit portion forming hole penetrating the lower insulating layer in the thickness direction thereof is formed, and a short-circuit portion forming hole formed in the upper insulating layer is electrically connected to the specific relay short-circuit portion. A connected upper short-circuit portion is formed, and a lower short-circuit portion electrically connected to the specific relay short-circuit portion is formed in the short-circuit portion forming hole formed in the lower insulating layer. By doing so, the upper insulating layer, the insulating substrate and Method for producing a plate-like connector, characterized in that it comprises a step of forming a through shorting portion a part-side insulating layer extending through in a thickness direction.
【請求項7】 検査対象回路装置と電気的検査装置との
間に介在されて当該回路装置の電極の電気的接続を行う
回路装置検査用アダプター装置であって、 一面に検査対象回路装置の被検査電極に対応して配置さ
れた接続用電極を有し、他面に格子点位置に従って配置
された端子電極を有するアダプター本体と、このアダプ
ター本体の一面に一体的に設けられた異方導電性エラス
トマー層とよりなり、 前記アダプター本体は、請求項5に記載の板状コネクタ
ーよりなることを特徴とする回路装置検査用アダプター
装置。
7. An adapter device for circuit device inspection interposed between a circuit device to be inspected and an electrical inspection device and electrically connecting electrodes of the circuit device, the adapter device for the circuit device to be inspected on one side. An adapter body having a connection electrode arranged corresponding to the test electrode and having a terminal electrode arranged on the other surface according to the lattice point position, and an anisotropically conductive material integrally provided on one surface of the adapter body An adapter device for circuit device inspection, comprising: an elastomer layer; and the adapter body comprising the plate-shaped connector according to claim 5.
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Cited By (6)

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