JP2000241602A - Antireflection film - Google Patents

Antireflection film

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JP2000241602A
JP2000241602A JP11038894A JP3889499A JP2000241602A JP 2000241602 A JP2000241602 A JP 2000241602A JP 11038894 A JP11038894 A JP 11038894A JP 3889499 A JP3889499 A JP 3889499A JP 2000241602 A JP2000241602 A JP 2000241602A
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JP
Japan
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layer
refractive index
transparent support
antireflection film
undercoat
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Pending
Application number
JP11038894A
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Japanese (ja)
Inventor
Isao Ikuhara
功 生原
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Optical Filters (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film having an appropriate color correcting function in addition to an antireflection function. SOLUTION: This antireflection film comprises a filter layer 3 containing a dye and a polymer binder, a transparent backing 1, and a low refractive index layer 6 having a lower refractive index than the transparent backing 1, which are laminated in this order. In this case, there is formed an undercoat layer 2 containing a polymer of glass transition temperature from 60 deg.C to -20 deg.C, or the undercoat layer 2 having a rough surface on its filter layer side, between the filter layer 3 and the transparent backing 1, while there are formed undercoat layers 4, 5 consisting of 2 layers containing a polymer of glass transition temperature from 60 deg.C and to -20 deg.C, between the low refractive index layer 6 and the transparent backing 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体、低屈
折率層およびフィルター層を有する反射防止膜に関す
る。特に、本発明は液晶表示装置(LCD)、プラズマ
ディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CR
T)、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画
像表示装置の表面に、反射防止および色再現性改良のた
め取り付けられる反射防止膜に関する。
The present invention relates to an antireflection film having a transparent support, a low refractive index layer and a filter layer. In particular, the present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CR)
T) relates to an antireflection film attached to the surface of an image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display for antireflection and improving color reproducibility.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置(LCD)、プラズマディ
スプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置では、ディスプレイ上に背景が映り込む事でコント
ラストが低下する問題がある。この問題を解決するため
の手段として、様々な反射防止膜が提案されている。こ
れまでに提案された反射防止膜の反射防止機能層は、蒸
着層と塗布層に分類できる。光学的機能の観点では蒸着
層の方が優れているが、塗布層には製造が容易であると
の利点がある。蒸着層は、眼鏡やカメラのようなレンズ
の反射防止膜として古くから用いられている。蒸着層
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、CVD法あるいはPVD法により形成する。塗
布層は、一般に、微粒子およびバインダーの塗布により
形成する。塗布層については、特開昭59−49501
号、同59−50401号、同60−59250号、特
開平7−48527号の各公報に記載がある。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT),
An image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display has a problem that the contrast is reduced due to the background being reflected on the display. As means for solving this problem, various antireflection films have been proposed. The antireflection functional layers of the antireflection films proposed so far can be classified into vapor deposition layers and coating layers. Although the vapor deposition layer is superior from the viewpoint of optical functions, the coating layer has an advantage that it is easy to manufacture. The vapor deposition layer has been used for a long time as an antireflection film for lenses such as glasses and cameras. The deposition layer is formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD method, or a PVD method. The coating layer is generally formed by applying fine particles and a binder. The coating layer is described in JP-A-59-49501.
And JP-A-59-50401, JP-A-60-59250, and JP-A-7-48527.

【0003】画像表示装置には、反射防止に加えて、色
補正の必要もある。画像表示装置では、原則として、
赤、青、緑の三原色の光の組み合わせでカラー画像を表
示する。しかし、表示のための光を理想的な三原色にす
ることは、非常に難しい(実質的には不可能である)。
例えば、プラズマディスプレイパネル(PDP)では、
三原色蛍光体からの発光に余分な光(波長が500乃至
550nmおよび560乃至620nmの範囲)が含ま
れていることが知られている。そこで、表示色の色バラ
ンスを補正するため特定の波長の光を吸収するフィルタ
ーを用いて、色補正を行うことが提案されている。フィ
ルターによる色補正については、特開昭58−1539
04号、同61−188501号、特開平3−2319
88号、同5−205643号、同9−145918
号、同9−306366号、同10−26704号の各
公報に記載がある。前記の反射防止膜に、フィルター機
能を組み込むことも考えられる。上記の特開昭61−1
88501号、特開平5−205643号、同9−14
5918号、同9−306366号、同10−2670
4号の各公報は、フィルター機能が組み込まれた反射防
止膜を開示している。特開昭61−188501号、特
開平5−205643号、同9−145918号、同9
−306366号の各公報に記載の反射防止膜では、反
射防止膜の透明支持体に染料または顔料を添加して、支
持体をフィルターとして機能させている。特開平10−
26704号公報記載の反射防止膜では、透明支持体と
反射防止層との間に設けられるハードコート層(表面硬
化層)を着色し、ハードコート層をフィルターとして機
能させている。
[0003] In addition to anti-reflection, the image display device also requires color correction. In image display devices, in principle,
A color image is displayed using a combination of the three primary colors of red, blue and green. However, it is very difficult (practically impossible) to make light for display ideal three primary colors.
For example, in a plasma display panel (PDP),
It is known that light emitted from the three primary color phosphors contains extra light (wavelengths in the range of 500 to 550 nm and 560 to 620 nm). Therefore, it has been proposed to perform color correction using a filter that absorbs light of a specific wavelength in order to correct the color balance of display colors. Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-1539 discloses color correction using a filter.
04, 61-188501, JP-A-3-2319
No. 88, No. 5-205564, No. 9-145918
Nos. 9-306366 and 10-26704. It is also conceivable to incorporate a filter function into the antireflection film. JP-A-61-1
88501, JP-A-5-205643, 9-14
No. 5918, No. 9-306366, No. 10-2670
No. 4 discloses an antireflection film having a built-in filter function. JP-A-61-188501, JP-A-5-205643, JP-A-9-145918, and JP-A-9-145918
In the antireflection film described in each of JP-A-306366, a dye or a pigment is added to a transparent support of the antireflection film, and the support functions as a filter. JP-A-10-
In the antireflection film described in 26704, the hard coat layer (surface hardened layer) provided between the transparent support and the antireflection layer is colored, and the hard coat layer functions as a filter.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】反射防止膜の透明支持
体あるいはハードコート層を着色すれば、透明支持体ま
たはハードコート層がフィルターとして機能する。しか
し、透明支持体やハードコート層に添加できる染料や顔
料は、種類が非常に限られる。透明支持体は、プラスチ
ックまたはガラス(通常はプラスチック)から製造す
る。透明支持体に添加する染料や顔料には、支持体の製
造時の温度に耐えられる程度の非常に高い耐熱性が要求
される。ハードコート層は、一般に架橋しているポリマ
ーを含む層である。ポリマーの架橋反応は、層の塗布後
に実施する。架橋のための反応条件では、褪色してしま
う染料や顔料が多い。色補正に使用する染料または顔料
には、画像表示装置の種類に応じて、様々な吸収スペク
トル特性が要求される。色補正に使用する染料や顔料の
種類が限られると、適切な補正を行うことが難しくな
る。
If the transparent support or the hard coat layer of the antireflection film is colored, the transparent support or the hard coat layer functions as a filter. However, the types of dyes and pigments that can be added to the transparent support and the hard coat layer are very limited. The transparent support is made from plastic or glass (usually plastic). Dyes and pigments to be added to the transparent support are required to have extremely high heat resistance enough to withstand the temperature during the production of the support. The hard coat layer is generally a layer containing a crosslinked polymer. The crosslinking reaction of the polymer is carried out after the application of the layer. Under the reaction conditions for crosslinking, there are many dyes and pigments that fade. Dyes or pigments used for color correction are required to have various absorption spectrum characteristics depending on the type of image display device. If the types of dyes and pigments used for color correction are limited, it is difficult to perform appropriate correction.

【0005】本発明者は、使用できる染料の種類に制約
が多い透明支持体やハードコート層ではなく、穏和な条
件で形成できるポリマー層に染料を添加し、ポリマー層
をフィルター層として機能させることを検討した。反射
防止膜の光学的性質のため、フィルター層は透明支持体
に隣接して設ける必要がある。しかし、染料を含むポリ
マー層と透明支持体(プラスチックまたはガラス)との
親和性が低く、染料を含むポリマー層が透明支持体から
剥離しやすい。従来の技術が、透明支持体またはハード
コート層をフィルターとして機能させていたのは、フィ
ルター層と透明支持体との接着に問題が生じるためであ
ったと考えられる。さらに、低屈折率層とフィルター層
の親和性も低いため、低屈折率層は透明支持体に対して
フィルター層とは反対面に、透明支持体に隣接して設け
る必要がある。しかしまた、低屈折率層も一般に透明支
持体(プラスチックまたはガラス)との親和性が低く、
低屈折率層が透明支持体から剥離しやすい。そのため低
屈折率層と透明支持体との間に接着層を設ける必要があ
る。この場合、反射防止膜の反射率を十分下げるために
は低屈折率層と、低屈折率層と透明支持体を密着させる
下塗り層の屈折率および厚みを適切に設計する必要があ
る。本発明の目的は、反射防止機能に加えて適切な色補
正機能を有する反射防止膜を提供することである。
The present inventor has proposed that a dye be added to a polymer layer that can be formed under mild conditions, instead of a transparent support or a hard coat layer, which has many restrictions on the types of dyes that can be used, so that the polymer layer functions as a filter layer. It was investigated. Due to the optical properties of the anti-reflective coating, the filter layer must be provided adjacent to the transparent support. However, the affinity between the dye-containing polymer layer and the transparent support (plastic or glass) is low, and the dye-containing polymer layer is easily separated from the transparent support. It is considered that the reason why the conventional technique allows the transparent support or the hard coat layer to function as a filter is that a problem occurs in adhesion between the filter layer and the transparent support. Further, since the affinity between the low refractive index layer and the filter layer is low, the low refractive index layer needs to be provided on the surface of the transparent support opposite to the filter layer and adjacent to the transparent support. However, the low-refractive-index layer also generally has low affinity with the transparent support (plastic or glass),
The low refractive index layer is easily peeled from the transparent support. Therefore, it is necessary to provide an adhesive layer between the low refractive index layer and the transparent support. In this case, in order to sufficiently lower the reflectance of the antireflection film, it is necessary to appropriately design the refractive index and the thickness of the low refractive index layer and the undercoat layer that makes the low refractive index layer adhere to the transparent support. An object of the present invention is to provide an antireflection film having an appropriate color correction function in addition to an antireflection function.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
反射防止膜により達成された。 1)透明支持体の一方の側に染料およびポリマーバイン
ダーを含むフィルター層を有し、透明支持体のもう一方
の側に透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低
屈折率層を有する反射防止膜において、フィルター層と
透明支持体との間に、ガラス転移温度が60℃以下−2
0℃以上のポリマーを含む下塗り層またはフィルター層
側の表面が粗面である下塗り層が設けられ、かつ低屈折
率層と透明支持体との間に、ガラス転移温度が60℃以
下−20℃以上のポリマーを含む2層からなる下塗り層
が設けられている事を特徴とする反射防止膜。 2)低屈折率層と透明支持体との間に設ける2層の下塗
り層の中、透明支持体に接する第1層下塗り層の膜厚を
t1、屈折率をn1、低屈折率層に接する第2層下塗り
層の膜厚をt2、屈折率をn2としたとき、下記一般式
(1)および(2)を同時に満足することを特徴とする
項1に記載の反射防止膜。 (1)140nm≦t1+t2≦200nm (2)1.50≦n1≦1.60、1.45≦n2≦
1.55 3)該第1層下塗り層がスチレン−ブタジエン系共重合
体からなり、第2層下塗り層がアクリル系樹脂層からな
ることを特徴とする項2に記載の反射防止膜。 4)低屈折率層と透明支持体との間に設ける2層の下塗
り層の中、透明支持体に接する第1下塗り層の膜厚をt
1、屈折率をn1、低屈折率層に接する第2下塗り層の
膜厚をt2、屈折率をn2としたとき、下記一般式
(1)および(3)を同時に満足することを特徴とする
項1に記載の反射防止膜。 (1)140nm≦t1+t2≦200nm (3)1.45≦n1≦1.55、1.50≦n2≦
1.60 5)該第1層下塗り層がスチレン−ブタジエン系共重合
体からなり、第2層下塗り層がアクリル系樹脂層からな
ることを特徴とする項4に記載の反射防止膜。 6)該フィルター層が、波長が500乃至550nmの
範囲に透過率が50乃至85%の吸収極大を、波長が5
60乃至620nmの範囲に透過率が5乃至60%の吸
収極大を持つことを特徴とする項1から5のいずれかに
記載の反射防止膜。 7)画像表示装置の色バランス補正に用いることを特徴
とする項1〜6のいずれかに記載の画像表示装置用の反
射防止膜。 8)項7の画像表示装置がプラズマディスプレイパネル
(PDP)であることを特徴とするプラズマディスプレ
イパネル用の反射防止膜。 9)求項1〜6のいずれかに記載のフィルター層を有す
る反射防止膜を含むことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル用の前面板。 10)該フィルター層を有する反射防止膜のフィルター
層側が該前面板の内表面に配置され、低屈折率層側がプ
ラズマディスプレイパネルの画像表示面と対向するよう
に配置されていることを特徴とする項9に記載のプラズ
マディスプレイパネル用の前面板。 11)項1〜6のいずれかに記載のフィルター層を有す
る反射防止膜を、プラズマディスプレイパネルの表面、
プラズマディスプレイパネル前面板の外表面、前面板の
内表面の中の少なくとも一面に設けたことを特徴とする
プラズマディスプレイ表示装置。
The object of the present invention has been attained by the following antireflection film. 1) having a filter layer containing a dye and a polymer binder on one side of the transparent support, and having a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support on the other side of the transparent support; In the antireflection film, the glass transition temperature between the filter layer and the transparent support is 60 ° C. or lower.
An undercoat layer containing a polymer of 0 ° C. or more or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side is provided, and a glass transition temperature between 60 ° C. and −20 ° C. between the low refractive index layer and the transparent support. An antireflection film comprising a two-layer undercoat layer containing the above polymer. 2) Among the two undercoat layers provided between the low refractive index layer and the transparent support, the first undercoat layer in contact with the transparent support has a thickness of t1, a refractive index of n1, and a contact with the low refractive index layer. Item 2. The antireflection film according to item 1, wherein the following general formulas (1) and (2) are satisfied at the same time, where t2 is the thickness of the second undercoat layer and n2 is the refractive index. (1) 140 nm ≦ t1 + t2 ≦ 200 nm (2) 1.50 ≦ n1 ≦ 1.60, 1.45 ≦ n2 ≦
1.55 3) The antireflection film according to item 2, wherein the first undercoat layer is made of a styrene-butadiene copolymer, and the second undercoat layer is made of an acrylic resin layer. 4) Of the two undercoat layers provided between the low refractive index layer and the transparent support, the thickness of the first undercoat layer in contact with the transparent support is set to t.
1. When the refractive index is n1, the thickness of the second undercoat layer in contact with the low refractive index layer is t2, and the refractive index is n2, the following general formulas (1) and (3) are satisfied at the same time. Item 2. The antireflection film according to Item 1. (1) 140 nm ≦ t1 + t2 ≦ 200 nm (3) 1.45 ≦ n1 ≦ 1.55, 1.50 ≦ n2 ≦
1.605 5) The antireflection film according to item 4, wherein the first undercoat layer is made of a styrene-butadiene copolymer, and the second undercoat layer is made of an acrylic resin layer. 6) The filter layer has an absorption maximum having a transmittance of 50 to 85% in a wavelength range of 500 to 550 nm and a wavelength of 5 to 85%.
Item 6. The antireflection film according to any one of Items 1 to 5, having an absorption maximum having a transmittance of 5 to 60% in a range of 60 to 620 nm. 7) The antireflection film for an image display device according to any one of Items 1 to 6, which is used for color balance correction of the image display device. 8) An anti-reflection film for a plasma display panel, wherein the image display device according to item 7 is a plasma display panel (PDP). 9) A front plate for a plasma display panel, comprising an antireflection film having the filter layer according to any one of claims 1 to 6. 10) The filter layer side of the antireflection film having the filter layer is disposed on the inner surface of the front plate, and the low refractive index layer side is disposed so as to face the image display surface of the plasma display panel. Item 10. A front plate for a plasma display panel according to item 9. 11) forming an antireflection film having the filter layer according to any one of items 1 to 6 on the surface of a plasma display panel;
A plasma display device provided on at least one of an outer surface of a plasma display panel front plate and an inner surface of the front plate.

【0007】[0007]

【発明の効果】本発明者は、透明支持体とフィルター層
との間に下塗り層を、透明支持体と低屈折率層との間に
2層からなる下塗り層を設けることによって透明支持体
とフィルター層および低屈折率層との接着力を強化する
ことを検討した。ただし下塗り層を設けたことで、反射
防止層の光学的機能が損なわれてはならない。本発明者
はその結果、フィルター層を塗布する透明支持体面にガ
ラス転移温度が60℃以下−20℃以上のポリマーを含
む下塗り層またはフィルター側の表面が粗面である下塗
り層を用い、低屈折率層を塗布する透明支持体面にガラ
ス転移温度が60℃以下−20℃以上のポリマーを含む
2層からなる下塗り層を、各下塗り層の屈折率と膜の厚
みを制御することで、反射防止膜の光学的機能に影響を
与えることなく、透明支持体とフィルター層および低屈
折率層との接着力を強化することに成功した。
According to the present invention, the present invention provides an undercoat layer between the transparent support and the filter layer and a two-layer undercoat layer between the transparent support and the low-refractive-index layer. It was studied to enhance the adhesive strength between the filter layer and the low refractive index layer. However, the provision of the undercoat layer must not impair the optical function of the antireflection layer. As a result, the present inventor uses an undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 60 ° C. or lower and −20 ° C. or higher or an undercoat layer having a rough surface on the filter side on the transparent support surface on which the filter layer is coated, and has a low refractive index. Antireflection by controlling the refractive index of each undercoat layer and the thickness of the undercoat layer comprising two layers containing a polymer having a glass transition temperature of 60 ° C or lower and -20 ° C or higher on the transparent support surface on which the refractive index layer is coated. Without affecting the optical function of the film, the adhesion between the transparent support, the filter layer and the low refractive index layer was successfully enhanced.

【0008】透明支持体とフィルター層との接着力の問
題が解消した結果、様々な種類の染料をフィルター層に
使用することができる。例えば、ハロゲン化銀写真の分
野では、様々な写真用染料が開発されている。写真用染
料の吸収スペクトル特性も詳細に研究されている。写真
用染料を透明支持体やハードコート層に添加すること
は、従来の方法では困難であった。本発明によって、様
々な写真用染料を反射防止膜に使用することが可能にな
った。また、透明支持体と低屈折率層の間の2層の下塗
り層の膜厚と屈折率を調節することで低屈折率層側の反
射率を小さく抑えたまま、低屈折率層と透明支持体の接
着力を強化でき、実用に耐える耐久性を持つに至った。
以上の結果、本発明の反射防止膜では、反射防止機能に
加えて、画像表示装置の種類に応じた適切な色補正機能
を得ることができる。
As a result of eliminating the problem of the adhesive strength between the transparent support and the filter layer, various kinds of dyes can be used for the filter layer. For example, in the field of silver halide photography, various photographic dyes have been developed. The absorption spectral properties of photographic dyes have also been studied in detail. It has been difficult to add a photographic dye to a transparent support or a hard coat layer by a conventional method. According to the present invention, various photographic dyes can be used for the antireflection film. In addition, by adjusting the thickness and the refractive index of the two undercoat layers between the transparent support and the low refractive index layer, the reflectance on the low refractive index layer side is kept small while the low refractive index layer and the transparent support layer are kept low. The body's adhesive strength has been strengthened, and the durability has reached practical use.
As a result, in the antireflection film of the present invention, in addition to the antireflection function, it is possible to obtain an appropriate color correction function according to the type of the image display device.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】反射防止膜の代表的な層構成を、
図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の反射防
止膜の1つの層構成を示す断面模式図である。図1に示
す態様は、フィルター層(3)、フィルター層の下塗り
層(2)、透明支持体(1)、低屈折率層の第1層下塗
り層(4)、低屈折率層の第2層下塗り層(5)、低屈
折率層(6)の順序の層構成を有する。低屈折率層の第
1層下塗り層(4)の膜厚をt1、屈折率をn1、、低
屈折率層の第2層下塗り層(5)の膜厚をt2、屈折率
をn2とするとき、層(4)と層(5)の膜厚は、
(1)140nm≦t1+t2≦200nmの関係を満足
することが必要である。更に、層(4)、層(5)の屈
折率は下記(a)、(b)2つのいずれかの関係を満足
する必要がある。 (a):低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率であ
り、かつ(2)1.50≦n1≦1.60、1.45≦
n2≦1.55 (b):低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率であ
り、かつ(3)1.50≦n2≦1.60、1.45≦
n1≦1.55 特に、透明支持体、低屈折率層を加えた屈折率の関係
が、低屈折率層の屈折率<低屈折率層の第2下塗り層の
屈折率<低屈折率層の第1下塗り層の屈折率<透明支持
体の屈折率または、低屈折率層の屈折率<低屈折率層の
第1下塗り層の屈折率<低屈折率層の第2下塗り層の屈
折率<透明支持体の屈折率の場合がこのましい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A typical layer structure of an antireflection film is as follows.
This will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing one layer configuration of the antireflection film of the present invention. The embodiment shown in FIG. 1 includes a filter layer (3), an undercoat layer (2) of a filter layer, a transparent support (1), a first undercoat layer (4) of a low refractive index layer, and a second undercoat layer of a low refractive index layer. It has a layer structure in the order of a layer undercoat layer (5) and a low refractive index layer (6). The thickness of the first undercoat layer (4) of the low refractive index layer is t1, the refractive index is n1, the thickness of the second undercoat layer (5) of the low refractive index layer is t2, and the refractive index is n2. At this time, the thicknesses of the layer (4) and the layer (5) are
(1) It is necessary to satisfy the relationship of 140 nm ≦ t1 + t2 ≦ 200 nm. Further, the refractive indices of the layer (4) and the layer (5) must satisfy one of the following two relationships (a) and (b). (A): The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support, and (2) 1.50 ≦ n1 ≦ 1.60, 1.45 ≦
n2 ≦ 1.55 (b): The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support, and (3) 1.50 ≦ n2 ≦ 1.60, 1.45 ≦
n1 ≦ 1.55 In particular, the relationship between the refractive index of the transparent support and the low refractive index layer is such that the refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the second undercoat layer of the low refractive index layer <the refractive index of the low refractive index layer. Refractive index of first undercoat layer <Refractive index of transparent support or refractive index of low refractive index layer <Refractive index of first undercoat layer of low refractive index layer <Refractive index of second undercoat layer of low refractive index layer < The case of the refractive index of the transparent support is preferred.

【0010】(透明支持体)透明支持体を形成する材料
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタ
クチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ
メチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレ
ンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネ
ートおよびポリエチレンテレフタレートが好ましい。透
明支持体の透過率は80%以上であることが好ましく、
86%以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、2
%以下であることが好ましく、1%以下であることがさ
らに好ましい。屈折率は、1.45乃至1.70である
ことが好ましい。透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは
紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量
は、透明支持体の0.01乃至20重量%であることが
好ましく、0.05乃至10重量%であることがさらに
好ましい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒
子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例に
は、SiO2 、TiO2 、BaSO4 、CaCO3 、タ
ルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体には下塗り
層との接着性をより強固にするために表面処理を施すこ
とが好ましい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処
理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周
波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー
処理、混酸処理、およびオゾン酸化処理含まれる。グロ
ー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火
炎処理が好ましく、コロナ放電処理がさらに好ましい。 (下塗り層)本発明では、透明支持体とフィルター層と
の間に、ガラス転移温度が60℃以下−20℃以上のポ
リマーを含む下塗り層またはフィルター層側の表面が粗
面である下塗り層を設ける。さらに本発明では、支持体
と低屈折率層との間に、ガラス転移温度が60℃以下−
20℃以上のポリマー層を含む下塗り層を2層設ける。
これにより、透明支持体とフィルター層および透明支持
体と低屈折率層との接着力を改善する。その場合、反射
防止層としての機能を損なわないため、低屈折率層と透
明支持体との間の2層からなる下塗り層の厚みと屈折率
は下記(1)と(2)式または(1)と(3)式を共に
満足する膜厚と屈折率の値を有して設けられていなけれ
ばならない。 (1)140nm≦t1+t2≦200nm (2)1.50≦n1≦1.60、1.45≦n2≦
1.55 (3)1.50≦n2≦1.60、1.45≦n1≦
1.55 ここで、 t1:透明支持体に接する第1下塗り層の膜厚、t2:第
2下塗り層の膜厚 n1:透明支持体に接する第1下塗り層の屈折率、n2:
第2下塗り層の屈折率である。 透明支持体とフィルター層との間の下塗り層の厚みは、
20nm乃至1μmが好ましく、50乃至700nmが
より好ましい。下塗り層は2層以上の異なる層から構成
されていても良い。ガラス転移温度が60℃以下−20
℃以上のポリマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性
で、透明支持体とフィルター層とを接着する。ガラス転
移温度が60℃以下−20℃以上のポリマーは、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオ
プレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリルまたはメ
チルビニルエーテルの重合または共重合により得ること
ができる。ガラス転移温度は、60℃以下−20℃以上
であることが望ましく、55℃以下−15℃以上である
ことがより望ましく、50℃以下−10℃以上であるこ
とが最も望ましい。表面が粗面である下塗り層は、粗面
の上にフィルター層を形成することで、透明支持体とフ
ィルター層とを接着する。表面が粗面である下塗り層は
ポリマーのラテックスの塗布により容易に形成すること
ができる。ガラス転移温度が60℃以下−20℃以上の
ポリマーのラテックスを用いて、ガラス転移温度が60
℃以下−20℃以上のポリマーを含み、かつフィルター
層側の表面が粗面である下塗り層を形成しても良い。フ
ィルター層と透明支持体および低屈折率層と透明支持体
の間の下塗り層に用いるラテックスの平均粒径は0.0
2乃至3μmであることが望ましく、0.05乃至1μ
mであることがさらに好ましい。低屈折率層と透明支持
体の間の2層からなる下塗り層は、第1層がスチレン−
ブタジエン系共重合体からなり、第2層がアクリル系樹
脂層からなる構成を好ましく用いることができる。この
ような下塗り層については特開平10−166517号
公報記載の実施態様を好ましく用いることができる。下
塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、
界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加して
も良い。
(Transparent support) Examples of the material forming the transparent support include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose). Polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate, poly Butylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene), polymethylmethacrylate , Syndiotactic polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more,
More preferably, it is 86% or more. Haze is 2
%, More preferably 1% or less. The refractive index is preferably from 1.45 to 1.70. An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of the infrared absorber added is preferably 0.01 to 20% by weight of the transparent support, more preferably 0.05 to 10% by weight. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of the inorganic compound, SiO 2, TiO 2, BaSO 4, CaCO 3, talc and kaolin. The transparent support is preferably subjected to a surface treatment in order to further enhance the adhesiveness with the undercoat layer. Examples of surface treatments include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and corona discharge treatment is more preferred. (Undercoat layer) In the present invention, an undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of 60 ° C or lower and -20 ° C or higher or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side is provided between the transparent support and the filter layer. Provide. Furthermore, in the present invention, the glass transition temperature between the support and the low refractive index layer is 60 ° C. or less.
Two undercoat layers including a polymer layer at 20 ° C. or higher are provided.
This improves the adhesive strength between the transparent support and the filter layer and between the transparent support and the low refractive index layer. In this case, the thickness and the refractive index of the two-layer undercoat layer between the low refractive index layer and the transparent support are determined by the following formulas (1) and (2) or (1) so as not to impair the function as the antireflection layer. ) And (3) must be provided with values of the film thickness and the refractive index that satisfy both the expressions. (1) 140 nm ≦ t1 + t2 ≦ 200 nm (2) 1.50 ≦ n1 ≦ 1.60, 1.45 ≦ n2 ≦
1.55 (3) 1.50 ≦ n2 ≦ 1.60, 1.45 ≦ n1 ≦
1.55 Here, t1: the thickness of the first undercoat layer in contact with the transparent support, t2: the thickness of the second undercoat layer, n1: the refractive index of the first undercoat layer in contact with the transparent support, n2:
This is the refractive index of the second undercoat layer. The thickness of the undercoat layer between the transparent support and the filter layer is
It is preferably from 20 nm to 1 μm, more preferably from 50 to 700 nm. The undercoat layer may be composed of two or more different layers. Glass transition temperature of 60 ° C or less -20
The undercoat layer containing the polymer at a temperature of not less than ° C. adheres the transparent support and the filter layer due to the tackiness of the polymer. Polymers having a glass transition temperature of 60 ° C or lower and -20 ° C or higher are obtained by polymerization or copolymerization of vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, butadiene, neoprene, styrene, chloroprene, acrylate, methacrylate, acrylonitrile or methyl vinyl ether. Obtainable. The glass transition temperature is desirably 60C or lower and -20C or higher, more desirably 55C or lower and -15C or higher, and most desirably 50C or lower and -10C or higher. The undercoat layer having a rough surface adheres the transparent support and the filter layer by forming a filter layer on the rough surface. The undercoat layer having a rough surface can be easily formed by applying a polymer latex. Using a polymer latex having a glass transition temperature of 60 ° C. or lower and −20 ° C. or higher, a glass transition temperature of 60 ° C.
An undercoat layer containing a polymer at a temperature of -20 ° C or lower and a filter layer side having a rough surface may be formed. The average particle size of the latex used for the undercoat layer between the filter layer and the transparent support and between the low refractive index layer and the transparent support is 0.0
It is preferably 2 to 3 μm, and 0.05 to 1 μm.
m is more preferable. The undercoat layer consisting of two layers between the low refractive index layer and the transparent support has a first layer of styrene-
A configuration made of a butadiene copolymer and the second layer made of an acrylic resin layer can be preferably used. The embodiment described in JP-A-10-166517 can be preferably used for such an undercoat layer. In the undercoat layer, a solvent that swells the transparent support, a matting agent,
Surfactants, antistatic agents, coating aids and hardeners may be added.

【0011】(フィルター層第2下塗り層)下塗り層と
フィルター層との間に第2下塗り層を設けても良い。第
2下塗り層としては、フィルター層のバインダーポリマ
ーとの親和性が高いポリマー(例えば、アクリル樹脂、
セルロース誘導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポ
リビニルアルコール、可溶性ナイロン、高分子ラテック
ス)を用いて形成することが好ましい。第2下塗り層に
も、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性
剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤等を添加することが
できる。
(Second Undercoat Layer of Filter Layer) A second undercoat layer may be provided between the undercoat layer and the filter layer. As the second undercoat layer, a polymer having a high affinity for the binder polymer of the filter layer (for example, acrylic resin,
It is preferably formed using a cellulose derivative, gelatin, casein, starch, polyvinyl alcohol, soluble nylon, or polymer latex. A solvent for swelling the transparent support, a matting agent, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid, a hardening agent, and the like can be added to the second undercoat layer.

【0012】(低屈折率層)反射防止層としては、低屈
折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、上記透明
支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、
1.20乃至1.55であることが好ましく、1.30
乃至1.55であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、50乃至400nmであることが好ましく、
50乃至200nmであることがさらに好ましい。低屈
折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層
(特開昭57−34526号、特開平3−130103
号、同6−115023号、同8−313702号、同
7−168004号の各公報記載)、ゾルゲル法により
得られる層(特開平5−208811号、同6−299
091号、同7−168003号の各公報記載)、ある
いは微粒子含む層(特公昭60−59250号、特開平
5−13021号、同6−56478号、同7−923
06号、同9−288201号の各公報に記載)として
形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間
または微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空
隙を形成することができる。微粒子を含む層は、3乃至
50体積%の空隙率を有することが好ましく、5乃至3
5体積%の空隙率を有することがさらに好ましい。
(Low Refractive Index Layer) As an antireflection layer, a low refractive index layer is essential. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the transparent support. The refractive index of the low refractive index layer is
1.20 to 1.55, preferably 1.30
It is more preferably from 1.55 to 1.55. The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 400 nm,
More preferably, it is 50 to 200 nm. The low refractive index layer is a layer made of a fluoropolymer having a low refractive index (JP-A-57-34526, JP-A-3-130103).
, JP-A-6-115023, JP-A-8-313702, and JP-A-7-168004), and a layer obtained by a sol-gel method (JP-A-5-208811, JP-A-6-299).
Nos. 091 and 7-168003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-59250, JP-A-5-13021, JP-A-6-56478 and JP-A-7-923).
No. 06 and No. 9-288201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing fine particles preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, and 5 to 3% by volume.
More preferably, it has a porosity of 5% by volume.

【0013】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能)を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3乃至
30%のヘイズを有する。
The anti-reflection layer can provide a surface with an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface). For example, by forming fine irregularities on the surface of a transparent film, and forming an antireflection layer on the surface, or after forming the antireflection layer, by forming irregularities on the surface with an embossing roll, an anti-glare function is obtained. be able to.
An antireflection layer having an antiglare function generally has a haze of 3 to 30%.

【0014】(フィルター層)フィルター層の厚さは1
乃至15μmであることが好ましい。フィルター層は、
波長が500乃至550nmの範囲(緑)と波長が56
0乃至620nmの範囲(緑と赤の間)の両方に吸収極
大をもつ。波長が500乃至550nmの範囲の吸収極
大での透過率は、50乃至85%の範囲であることが望
ましい。波長が500乃至550nmの範囲の吸収極大
は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を調整するため
に設定される。緑の蛍光体の発光域は、なだらかにカッ
トすることが好ましい。波長が500乃至550nmの
範囲の吸収極大での半値幅(吸収極大での吸光度の半分
の吸光度を示す波長領域の幅)は、30乃至300nm
であることが望ましく、40乃至300nmであること
がより好ましく、50乃至150nmであることがさら
に好ましく、60乃至150nmであることが最も好ま
しい。
(Filter layer) The thickness of the filter layer is 1
It is preferably from 15 to 15 μm. The filter layer is
A wavelength range of 500 to 550 nm (green) and a wavelength of 56
It has an absorption maximum both in the range of 0 to 620 nm (between green and red). The transmittance at the absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm is preferably in the range of 50 to 85%. The absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm is set to adjust the emission intensity of the green phosphor having high visibility. It is preferable that the emission region of the green phosphor be cut smoothly. The half width at the absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm (the width of the wavelength region showing half the absorbance of the absorbance at the absorption maximum) is 30 to 300 nm.
Is preferably 40 to 300 nm, more preferably 50 to 150 nm, and most preferably 60 to 150 nm.

【0015】波長が560乃至620nmの範囲の吸収
極大での透過率は、5乃至60%の範囲であることが望
ましい。波長が560乃至620nmの範囲の吸収極大
は、赤色蛍光体の色純度を低下させているサブバンドを
選択的にカットするために設定される。PDPにおいて
は、ネオンガスの励起によって放出される595nm付
近の不要な発光もカットする。本発明により吸収極大を
分離したことで、緑の蛍光体の色調に悪影響を与えるこ
と無く、選択的に光をカットできる。緑の蛍光体の色調
への影響をさらに低下させるため、吸収スペクトルのピ
ークをシャープにすることが好ましい。具体的には、波
長が560乃至620nmの範囲の吸収極大での半値幅
は、15乃至200nmであることが望ましく、20乃
至100nmであることがより好ましく、22乃至80
nmであることが最も好ましい。
The transmittance at the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm is preferably in the range of 5 to 60%. The absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm is set to selectively cut a sub-band that reduces the color purity of the red phosphor. In the PDP, unnecessary light emission near 595 nm emitted by excitation of neon gas is also cut. By separating the absorption maximum according to the present invention, light can be selectively cut without adversely affecting the color tone of the green phosphor. In order to further reduce the effect on the color tone of the green phosphor, it is preferable to sharpen the peak of the absorption spectrum. Specifically, the half width at the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm is preferably 15 to 200 nm, more preferably 20 to 100 nm, and more preferably 22 to 80 nm.
Most preferably, it is nm.

【0016】色素(染料または顔料、好ましくは染料)
を用いて、フィルター層に上記の吸収スペクトルを付与
する。波長が500乃至550nmの範囲に吸収極大を
持つ染料としては、スクアリリウム系、アゾメチン系、
シアニン系、オキソノール系、アントラキノン系、アゾ
系またはベンジリデン系の化合物が好ましく用いられ
る。アゾ染料としては、GB539703号、同575
691号、US2956879号および堀口 博著「総
説 合成染料」三共出版などに記載の多くのアゾ染料を
使用することができる。一般式(a6)で表わされるアゾ
染料が好ましい。波長が500乃至550nmの範囲に
吸収極大を持つ染料の例を以下に示す。
Dye (dye or pigment, preferably dye)
Is used to impart the above absorption spectrum to the filter layer. As the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm, squarylium-based, azomethine-based,
Cyanine, oxonol, anthraquinone, azo or benzylidene compounds are preferably used. As azo dyes, GB 593,703 and 575
No. 691, U.S. Pat. No. 2,956,879, and Hiroshi Horiguchi, "Review Synthetic Dyes", and many azo dyes described in Sankyo Publishing Co., Ltd. can be used. An azo dye represented by the general formula (a6) is preferred. Examples of the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm are shown below.

【0017】[0017]

【化1】 Embedded image

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】[0019]

【化3】 Embedded image

【0020】[0020]

【化4】 Embedded image

【0021】[0021]

【化5】 Embedded image

【0022】[0022]

【化6】 Embedded image

【0023】式中R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独
立に水素原子または一価の基を表わし、Mは金属原子を
表わし、m1 、m2 およびm3 は、それぞれ独立に1〜
4の整数を表わす。Mで表わされる金属原子としては、
遷移金属が好ましく、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、
Cdなどを挙げることができ、Cuが特に好ましい。波
長が560乃至620nmの範囲に吸収極大を持つ染料
としては、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン
系、キサンテン系、オキソノール系またはアゾ系の化合
物が好ましく用いられる。波長が560乃至620nm
の範囲に吸収極大を持つ染料の例を以下に示す。
In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent group, M represents a metal atom, and m 1 , m 2 and m 3 each independently represent 1 to
Represents an integer of 4. As a metal atom represented by M,
Transition metals are preferred, Fe, Co, Ni, Cu, Zn,
Cd and the like can be mentioned, and Cu is particularly preferred. As the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm, cyanine, squarylium, azomethine, xanthene, oxonol or azo compounds are preferably used. 560 to 620 nm wavelength
Examples of dyes having an absorption maximum in the range of are shown below.

【0024】[0024]

【化7】 Embedded image

【0025】[0025]

【化8】 Embedded image

【0026】[0026]

【化9】 Embedded image

【0027】[0027]

【化10】 Embedded image

【0028】[0028]

【化11】 Embedded image

【0029】また、波長が500乃至550nmの範囲
と波長が560乃至620nmの範囲の両方に吸収極大
を持つ染料をフィルター層に用いることもできる。例え
ば、染料を微粒子分散物のような会合体の状態にする
と、一般に波長が長波長側にシフトして、ピークがシャ
ープになる。そのため、波長が500乃至550nmの
範囲に吸収極大を持つ染料には、その会合体が560乃
至620nmの範囲に吸収極大を持つものもある。その
ような染料が部分的に会合体を形成した状態で使用する
と、波長が500乃至550nmの範囲と波長が560
乃至620nmの範囲の両方に吸収極大を得ることがで
きる。そのような染料の例を以下に示す。
A dye having an absorption maximum in both the wavelength range of 500 to 550 nm and the wavelength range of 560 to 620 nm can be used for the filter layer. For example, when the dye is in an aggregated state such as a fine particle dispersion, the wavelength generally shifts to the longer wavelength side, and the peak becomes sharp. For this reason, some dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm have an aggregate having an absorption maximum in the range of 560 to 620 nm. When such a dye is used in a state of forming an aggregate partially, the wavelength is in the range of 500 to 550 nm and the wavelength is 560.
It is possible to obtain an absorption maximum in both the range from 620 nm to 620 nm. Examples of such dyes are shown below.

【0030】[0030]

【化12】 Embedded image

【0031】[0031]

【化13】 Embedded image

【0032】[0032]

【化14】 Embedded image

【0033】フィルター層には、以上のような2種類以
上の染料を組み合わせて用いることができる。フィルタ
ー層は、さらにポリマーバインダーを含む。天然ポリマ
ー(例、ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸)ま
たは合成ポリマー(例、ポリメチルメタクリレート、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコ
ポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポ
リアミド)をポリマーバインダーとして用いることがで
きる。親水性ポリマー(上記天然ポリマー、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコー
ル、水溶性ポリアミド)が特に好ましい。
In the filter layer, two or more kinds of dyes as described above can be used in combination. The filter layer further includes a polymer binder. Natural polymers (eg, gelatin, cellulose derivatives, alginic acid) or synthetic polymers (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, water-soluble polyamide) It can be used as a polymer binder. Particularly preferred are hydrophilic polymers (the above-mentioned natural polymers, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, and water-soluble polyamide).

【0034】(その他の層)反射防止膜には、ハードコ
ート層、潤滑層、帯電防止層あるいは中間層を設けるこ
ともできる。ハードコート層は、架橋しているポリマー
を含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル
系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマーま
たはモノマー(例、紫外線硬化型樹脂)を用いて形成す
ることができる。シリカ系材料からハードコート層を形
成することもできる。反射防止膜の最表面に潤滑層を形
成してもよい。潤滑層は、反射防止膜表面に滑り性を付
与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリ
オルガノシロキサン(例、シリコンオイル)、天然ワッ
クス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑
剤またはその誘導体を用いて形成することができる。潤
滑層の厚さは、2乃至20nmであることが好ましい。
(Other Layers) The antireflection film may be provided with a hard coat layer, a lubricating layer, an antistatic layer or an intermediate layer. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer can be formed using an acrylic, urethane, or epoxy polymer, oligomer, or monomer (eg, an ultraviolet curable resin). The hard coat layer can also be formed from a silica-based material. A lubrication layer may be formed on the outermost surface of the antireflection film. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection film and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubricating layer is preferably 2 to 20 nm.

【0035】反射防止層(低屈折率層)、フィルター
層、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、その他の層
は、一般的な塗布方法により形成することができる。塗
布方法の例には、ディップコート法、エアーナイフコー
ト法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤー
バーコート法、グラビアコート法およびホッパーを使用
するエクストルージョンコート法(米国特許26812
94号明細書記載)が含まれる。二以上の層を同時塗布
により形成してもよい。同時塗布法については、米国特
許2761791号、同2941898号、同3508
947号、同3526528号の各明細書および原崎勇
次著「コーティング工学」253頁(1973年朝倉書
店発行)に記載がある。
The antireflection layer (low refractive index layer), filter layer, undercoat layer, hard coat layer, lubricating layer and other layers can be formed by a general coating method. Examples of the coating method include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an extrusion coating method using a hopper (US Pat. No. 26812).
No. 94). Two or more layers may be formed by simultaneous coating. The simultaneous coating method is described in U.S. Pat. Nos. 2,761,791 and 2,918,898 and 3,508.
No. 947, No. 3526528, and in Yuji Harazaki, “Coating Engineering”, p. 253 (published by Asakura Shoten in 1973).

【0036】(反射防止膜の用途)反射防止膜は、液晶
表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(P
DP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置
に適用する。本発明の反射防止膜は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)の内面反射防止フィルターとして
使用すると、特に顕著な効果が得られる。プラズマディ
スプレイパネル(PDP)は、ガス、ガラス基板、電
極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体および本体
を保護する前面板により構成される。ガラス基板は、前
面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガ
ラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板
には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を
組み立てて、その間にガスを封入する。前面板はこれら
プラズマディスプレー本体を保護するように、本体前面
に位置する。前面板は本体を保護するために充分な強度
を備えた強化ガラスやプラスチック板(アクリル等)で
作られる。本発明の反射防止膜は、内面板の裏側に反射
防止の低屈折率層が画像表示面と対向するように配置さ
れる。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、既に
市販されている。プラズマディスプレイパネルについて
は、特開平5−205643号、同9−306366号
の各公報に記載がある。
(Use of antireflection film) The antireflection film is used for a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (P).
DP), electroluminescent display (EL)
D) or an image display device such as a cathode ray tube display device (CRT). When the antireflection film of the present invention is used as an internal antireflection filter of a plasma display panel (PDP), a particularly remarkable effect is obtained. A plasma display panel (PDP) includes a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick-film printing material, a phosphor, and a front plate that protects a main body. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. The front plate is located on the front surface of the main body so as to protect these plasma display main bodies. The front plate is made of a tempered glass or plastic plate (such as acrylic) having sufficient strength to protect the main body. In the antireflection film of the present invention, an antireflection low refractive index layer is disposed on the back side of the inner surface plate so as to face the image display surface. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. The plasma display panel is described in JP-A-5-205643 and JP-A-9-306366.

【0037】[0037]

【実施例】実施例1 (下塗り層の形成)厚さ100μmの透明なポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した後、
両面に屈折率1.55、ガラス転移温度37℃のスチレ
ン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス(日本ゼ
オン(株)製、LX407C5)を塗布し、下塗り層を
形成した。乾燥後の膜厚さとして、フィルター層を設け
る面には厚さ300nm、低屈折率層を設ける面には厚さ
150nmとなるように塗布した。
EXAMPLES Example 1 (Formation of Undercoat Layer) After a corona treatment was applied to both sides of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm,
A latex made of a styrene-butadiene copolymer having a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C. (manufactured by Zeon Corporation, LX407C5) was applied to both surfaces to form an undercoat layer. The film was dried so as to have a thickness of 300 nm on the surface on which the filter layer was to be provided and to have a thickness of 150 nm on the surface on which the low refractive index layer was to be provided.

【0038】(第2下塗り層の形成)フィルター層を設
ける面の下塗り層の上に、酢酸とグルタルアルデヒドを
含むゼラチン水溶液を、乾燥後の厚さ100nmとなるよ
うに塗布し、低屈折率層を設ける面の下塗り層の上には
屈折率1.50、ガラス転移温度50℃のアクリル系ラ
テックス(HA16、日本アクリル(株)製)を乾燥後
の厚さ20nmとなるように塗布し、第2下塗り層を形
成した。
(Formation of Second Undercoat Layer) An aqueous solution of gelatin containing acetic acid and glutaraldehyde is applied to a thickness of 100 nm after drying on the undercoat layer on the surface on which the filter layer is to be provided. Acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) having a refractive index of 1.50 and a glass transition temperature of 50 ° C. is applied on the undercoat layer on the surface on which the is to be provided so as to have a thickness of 20 nm after drying. Two undercoat layers were formed.

【0039】(低屈折率層の形成)反応性フッ素ポリマ
ー(JN−7219、日本合成ゴム(株)製)2.50
gにt-ブタノール1.3gを加え、室温で10分間攪拌
し、1μmのポリプロピレンフィルターでろ過した。得
られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の片面(スチ
レン−ブタジエンコポリマーラテックス150nm、アク
リルラテックス20nmを下塗り層とする面)に、バーコ
ーターを用いて乾燥膜厚が96nmとなるように塗布し、
120℃で15分間乾燥して硬化させ低屈折率層を形成
した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) Reactive Fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 2.50
1.3 g of t-butanol was added to the resulting mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and filtered with a 1 μm polypropylene filter. The obtained low-refractive-index layer coating solution is applied on one surface of a transparent support (a surface having a styrene-butadiene copolymer latex of 150 nm and an acrylic latex of 20 nm as an undercoat layer) using a bar coater to a dry film thickness of 96 nm. And apply
The coating was dried and cured at 120 ° C. for 15 minutes to form a low refractive index layer.

【0040】(フィルター層の形成)ゼラチンの10重
量%水溶液180gに、染料(c1)0.05gおよび染
料(a6−1)0.15gを溶解させ、40℃で30分
間攪拌した後、2μmのポリプロピレンフィルターでろ
過した。得られたフィルター層用塗布液を透明支持体の
低屈折率層を塗布した反対側の第2下塗り層上に、乾燥
膜厚が3.5μmとなるように塗布し、120℃で10
分間乾燥してフィルター層を形成し、反射防止膜を作製
した。
(Formation of Filter Layer) In 180 g of a 10% by weight aqueous solution of gelatin, 0.05 g of the dye (c1) and 0.15 g of the dye (a6-1) were dissolved and stirred at 40 ° C. for 30 minutes. The mixture was filtered with a polypropylene filter. The obtained coating solution for a filter layer was applied onto the second undercoat layer on the opposite side of the transparent support on which the low refractive index layer was applied, so that the dry film thickness became 3.5 μm.
After drying for a minute, a filter layer was formed, and an antireflection film was produced.

【0041】反射防止膜の分光透過率を調べたところ、
535nmと595nmに吸収極大を有し、吸収極大で
の透過率は、535nmの吸収極大が69%、595n
mの吸収極大が23%であった。吸収極大の半値幅は、
535nmの吸収極大が63nm、595nmの吸収極大
が30nmであった。
When the spectral transmittance of the antireflection film was examined,
It has absorption maximums at 535 nm and 595 nm, and the transmittance at the absorption maximum is 69% at 535 nm, and 595 n
m was 23%. The half width of the absorption maximum is
The absorption maximum at 535 nm was 63 nm, and the absorption maximum at 595 nm was 30 nm.

【0042】実施例2 (下塗り層の形成)厚さ100μmの透明なポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した後、
フィルター層を設ける面に、屈折率1.55、ガラス転
移温度37℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからな
るラテックス(日本ゼオン(株)製、LX407C5)
を厚さ300nmとなるように塗布し、反対面の低屈折率
層を設ける面には、屈折率1.58、ガラス転移温度−
10℃の塩化ビニリデン−アクリル酸−メチルアクレー
トコポリマーからなるラテックスを厚さ145nmとな
るように塗布した。
Example 2 (Formation of Undercoat Layer) After a corona treatment was applied to both sides of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm,
A latex made of a styrene-butadiene copolymer having a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C (LX407C5, manufactured by Zeon Corporation) is provided on the surface on which the filter layer is provided.
Is applied so as to have a thickness of 300 nm, and the opposite surface on which the low refractive index layer is provided has a refractive index of 1.58 and a glass transition temperature −
A latex made of vinylidene chloride-acrylic acid-methyl acrylate copolymer at 10 ° C. was applied to a thickness of 145 nm.

【0043】(第2下塗り層の形成)実施例1と同様に
して第二下塗り層を形成した。
(Formation of Second Undercoat Layer) A second undercoat layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0044】(低屈折率層の形成)実施例1と同様にし
て低屈折率層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0045】(フィルター層の形成)染料(a6−1)
のかわりに染料(a5)0.15gを使用した以外は実
施例1と同様にしてフィルター層を形成し、反射防止膜
を作製した。
(Formation of Filter Layer) Dye (a6-1)
A filter layer was formed in the same manner as in Example 1 except that 0.15 g of the dye (a5) was used instead, and an antireflection film was produced.

【0046】反射防止膜の分光透過率を調べたところ、
534nmと594nmに吸収極大を有し、吸収極大で
の透過率は、534nmの吸収極大が65%、594n
mの吸収極大が21%であった。吸収極大の半値幅は、
534nmの吸収極大が78nm、594nmの吸収極大
が28nmであった。
When the spectral transmittance of the antireflection film was examined,
It has absorption maximums at 534 nm and 594 nm, and the transmittance at the absorption maximum is such that the absorption maximum at 534 nm is 65%, 594 n
m was 21%. The half width of the absorption maximum is
The absorption maximum at 534 nm was 78 nm, and the absorption maximum at 594 nm was 28 nm.

【0047】実施例3 (下塗り層の形成)実施例1と同様にして下塗り層を形
成した。
Example 3 (Formation of undercoat layer) An undercoat layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0048】(第2下塗り層の形成)実施例1と同様に
して第二下塗り層を形成した。
(Formation of Second Undercoat Layer) A second undercoat layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0049】(低屈折率層の形成)実施例1と同様にし
て低屈折率層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) A low refractive index layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0050】(フィルター層の形成)染料(a6−1)
のかわりに染料(a1)0.05gを使用した以外は実
施例1と同様にしてフィルター層を形成し、光学フィル
ターを作製した。
(Formation of Filter Layer) Dye (a6-1)
Instead, a filter layer was formed in the same manner as in Example 1 except that 0.05 g of the dye (a1) was used, to produce an optical filter.

【0051】反射防止膜の分光透過率を調べたところ、
533nmと594nmに吸収極大を有し、吸収極大で
の透過率は、533nmの吸収極大が63%、594n
mの吸収極大が22%であった。吸収極大の半値幅は、
533nmの吸収極大が63nm、594nmの吸収極大
が29nmであった。
When the spectral transmittance of the antireflection film was examined,
It has absorption maximums at 533 nm and 594 nm, and the transmittance at the absorption maximum is 63% at 533 nm and 594 n.
m was 22%. The half width of the absorption maximum is
The absorption maximum at 533 nm was 63 nm, and the absorption maximum at 594 nm was 29 nm.

【0052】比較例1〜11 比較例1〜8:低屈折率層の下塗り層の厚さを変えた以
外はすべて実施例1と同様にして光学フィルターを作製
した。低屈折率層の下塗り層の厚さを表1に示した。 比較例9〜11:染料の添加量を変えた以外はすべて実
施例1と同様にして光学フィルターを作製した。染料の
添加量を表2に示した。
Comparative Examples 1 to 11 Comparative Examples 1 to 8: Optical filters were produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the undercoat layer of the low refractive index layer was changed. Table 1 shows the thickness of the undercoat layer of the low refractive index layer. Comparative Examples 9 to 11: Optical filters were produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of the dye was changed. Table 2 shows the amount of the dye added.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】(反射防止層の光学特性評価)実施例1〜
3および比較例1〜11で作製した反射防止膜のピーク
吸収波長、半値幅、500〜600nmの波長領域にお
ける平均反射率を測定した。結果を第3表に示した。
(Evaluation of Optical Properties of Antireflection Layer)
The peak absorption wavelength, half width, and average reflectance in the wavelength region of 500 to 600 nm of the antireflection films prepared in Comparative Example 3 and Comparative Examples 1 to 11 were measured. The results are shown in Table 3.

【0056】(反射防止膜構成層の密着性評価)実施例
1〜3および比較例1〜7で作製した反射防止膜のフィ
ルター層面に、アクリル系の粘着剤を厚さ30μmの厚
さで塗布し、その面をガラスに貼り、反射防止層側をク
ロスカット法にてテープ剥離テストした。またガラスに
貼ったサンプルに反射防止層側からキセノンランプによ
り15万ルクスの可視光を100時間照射した後、同様
なテープ剥離テストを行った。剥がれた部分の面積が7
0%以上をC、30〜70%をB、30%未満をAで評
価した。結果を第3表に示した。
(Evaluation of Adhesion of Antireflection Film Constituent Layer) An acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 30 μm was applied to the filter layer surface of the antireflection films prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 7. Then, the surface was attached to glass, and the antireflection layer side was subjected to a tape peeling test by a cross cut method. A sample adhered to glass was irradiated with visible light of 150,000 lux from the antireflection layer side by a xenon lamp for 100 hours, and then a similar tape peeling test was performed. Peeled area is 7
C was evaluated for 0% or more, B for 30 to 70%, and A for less than 30%. The results are shown in Table 3.

【0057】[0057]

【表3】 [Table 3]

【0058】(フィルター機能の評価)プラズマディス
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板を取り外し、実施例1〜3、比較例1〜11
で作製した反射防止膜のフィルター層面にアクリル系の
粘着剤を厚さ30μmの厚さで塗布し、その面を内面に
貼りつけた。その後元どおりに前面板をプラズマディス
プレイパネル本体に取り付けた。表示される画像につい
て、コントラストの測定、目視による白色光と赤色光の
評価および画像の輪郭の鮮明さの評価を行った。結果を
表4に示した。
(Evaluation of Filter Function) Plasma Display Panel (PDS4202J-H, Fujitsu Limited)
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 11
An acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to a thickness of 30 μm on the filter layer surface of the antireflection film prepared in the above, and the surface was adhered to the inner surface. Thereafter, the front plate was attached to the plasma display panel body as before. The displayed image was measured for contrast, visually evaluated for white light and red light, and evaluated for sharpness of the outline of the image. The results are shown in Table 4.

【0059】[0059]

【表4】 [Table 4]

【0060】総合評価結果 表3、4から、実施例1〜3で作製した反射防止膜を用
いたものは密着性、コントラスト、画像の色再現性およ
び輪郭の鮮明さともに良好であった。比較例1〜5はコ
ントラスト、画像の色再現性は良好であったが、密着性
に劣り、比較例5以外は平均反射率が高いために画像の
輪郭の鮮明さにも劣った。比較例6〜8はコントラス
ト、画像の色再現性、密着性は良好であったが平均反射
率が高いために画像の輪郭の鮮明さに劣った。比較例9
〜11は密着と画像の輪郭の鮮明さは良好であったが、
コントラスト、画像の色再現性に劣った。
Comprehensive Evaluation Results From Tables 3 and 4, those using the antireflection films prepared in Examples 1 to 3 were excellent in adhesion, contrast, color reproducibility of images and sharpness of contour. Comparative Examples 1 to 5 were good in contrast and color reproducibility of the image, but poor in adhesion, and in Comparative Examples 5 and 5, the average reflectance was high, so that the outline of the image was poor. In Comparative Examples 6 to 8, the contrast, the color reproducibility of the image, and the adhesion were good, but the sharpness of the outline of the image was poor due to the high average reflectance. Comparative Example 9
No. 11 had good adhesion and sharpness of the outline of the image,
Poor contrast and color reproducibility of image.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】反射防止膜の層構成を示す断面模式図である。 1 透明支持体 2 フィルター層の下塗り層 3 フィルター層 4 低屈折率層の第1下塗り層 5 低屈折率層の第2下塗り層 6 低屈折率層FIG. 1 is a schematic sectional view showing a layer configuration of an antireflection film. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent support 2 Undercoat layer of filter layer 3 Filter layer 4 First undercoat layer of low refractive index layer 5 Second undercoat layer of low refractive index layer 6 Low refractive index layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 29/89 H01J 29/89 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (Reference) H01J 29/89 H01J 29/89

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明支持体の一方の側に染料およびポリ
マーバインダーを含むフィルター層を有し、透明支持体
のもう一方の側に透明支持体の屈折率よりも低い屈折率
を有する低屈折率層を有する反射防止膜において、フィ
ルター層と透明支持体との間に、ガラス転移温度が60
℃以下−20℃以上のポリマーを含む下塗り層またはフ
ィルター層側の表面が粗面である下塗り層が設けられ、
かつ低屈折率層と透明支持体との間に、ガラス転移温度
が60℃以下−20℃以上のポリマーを含む2層からな
る下塗り層が設けられている事を特徴とする反射防止
膜。
1. A low refractive index having a filter layer containing a dye and a polymer binder on one side of a transparent support and having a refractive index lower than that of the transparent support on the other side of the transparent support. In the antireflection film having a layer, the glass transition temperature between the filter layer and the transparent support is 60.
An undercoat layer containing a polymer having a temperature of -20 ° C or lower or an undercoat layer having a rough surface on the filter layer side is provided,
An antireflection film comprising a low-refractive-index layer and a transparent support, and an undercoat layer comprising two layers containing a polymer having a glass transition temperature of 60 ° C or lower and -20 ° C or higher.
【請求項2】 低屈折率層と透明支持体との間に設ける
2層の下塗り層の中、透明支持体に接する第1層下塗り
層の膜厚をt1、屈折率をn1、低屈折率層に接する第
2層下塗り層の膜厚をt2、屈折率をn2としたとき、
下記一般式(1)および(2)を同時に満足することを
特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。 (1)140nm≦t1+t2≦200nm (2)1.50≦n1≦1.60、1.45≦n2≦
1.55
2. Among two undercoat layers provided between the low refractive index layer and the transparent support, the first undercoat layer in contact with the transparent support has a thickness of t1, a refractive index of n1, and a low refractive index. When the thickness of the second undercoat layer in contact with the layer is t2 and the refractive index is n2,
The anti-reflection film according to claim 1, wherein the following general formulas (1) and (2) are simultaneously satisfied. (1) 140 nm ≦ t1 + t2 ≦ 200 nm (2) 1.50 ≦ n1 ≦ 1.60, 1.45 ≦ n2 ≦
1.55
【請求項3】 該第1層下塗り層がスチレン−ブタジエ
ン系共重合体からなり、第2層下塗り層がアクリル系樹
脂層からなることを特徴とする請求項2に記載の反射防
止膜。
3. The antireflection film according to claim 2, wherein the first undercoat layer is made of a styrene-butadiene copolymer, and the second undercoat layer is made of an acrylic resin layer.
【請求項4】 低屈折率層と透明支持体との間に設ける
2層の下塗り層の中、透明支持体に接する第1下塗り層
の膜厚をt1、屈折率をn1、低屈折率層に接する第2
下塗り層の膜厚をt2、屈折率をn2としたとき、下記
一般式(1)および(3)を同時に満足することを特徴
とする請求項1に記載の反射防止膜。 (1)140nm≦t1+t2≦200nm (3)1.45≦n1≦1.55、1.50≦n2≦
1.60
4. The two undercoat layers provided between the low refractive index layer and the transparent support, wherein the first undercoat layer in contact with the transparent support has a thickness of t1, a refractive index of n1, and a low refractive index layer. The second in contact with
The anti-reflection film according to claim 1, wherein the following general formulas (1) and (3) are satisfied at the same time when the thickness of the undercoat layer is t2 and the refractive index is n2. (1) 140 nm ≦ t1 + t2 ≦ 200 nm (3) 1.45 ≦ n1 ≦ 1.55, 1.50 ≦ n2 ≦
1.60
【請求項5】 該第1層下塗り層がスチレン−ブタジエ
ン系共重合体からなり、第2層下塗り層がアクリル系樹
脂層からなることを特徴とする請求項4に記載の反射防
止膜。
5. The antireflection film according to claim 4, wherein said first undercoat layer is made of a styrene-butadiene copolymer, and said second undercoat layer is made of an acrylic resin layer.
【請求項6】 該フィルター層が、波長が500乃至5
50nmの範囲に透過率が50乃至85%の吸収極大
を、波長が560乃至620nmの範囲に透過率が5乃
至60%の吸収極大を持つことを特徴とする請求項1か
ら5のいずれかに記載の反射防止膜。
6. The filter layer having a wavelength of 500 to 5
6. An absorption maximum having a transmittance of 50 to 85% in a range of 50 nm and an absorption maximum of 5 to 60% in a range of 560 to 620 nm. The antireflection film as described in the above.
【請求項7】 画像表示装置の色バランス補正に用いる
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の画像
表示装置用の反射防止膜。
7. The antireflection film for an image display device according to claim 1, wherein the antireflection film is used for color balance correction of the image display device.
【請求項8】 請求項7の画像表示装置がプラズマディ
スプレイパネル(PDP)であることを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル用の反射防止膜。
8. An antireflection film for a plasma display panel, wherein the image display device according to claim 7 is a plasma display panel (PDP).
【請求項9】 請求項1〜6のいずれかに記載のフィル
ター層を有する反射防止膜を含むことを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル用の前面板。
9. A front panel for a plasma display panel, comprising an antireflection film having the filter layer according to claim 1. Description:
【請求項10】 該フィルター層を有する反射防止膜の
フィルター層側が該前面板の内表面に配置され、低屈折
率層側がプラズマディスプレイパネルの画像表示面と対
向するように配置されていることを特徴とする請求項9
に記載のプラズマディスプレイパネル用の前面板。
10. The filter layer side of the antireflection film having the filter layer is disposed on the inner surface of the front plate, and the low refractive index layer side is disposed so as to face the image display surface of the plasma display panel. Claim 9
2. A front plate for a plasma display panel according to claim 1.
【請求項11】 請求項1〜6のいずれかに記載のフィ
ルター層を有する反射防止膜を、プラズマディスプレイ
パネルの表面、プラズマディスプレイパネル前面板の外
表面、前面板の内表面の中の少なくとも一面に設けたこ
とを特徴とするプラズマディスプレイ表示装置。
11. An anti-reflection film having the filter layer according to claim 1, wherein the anti-reflection film has at least one of a surface of a plasma display panel, an outer surface of a front panel of the plasma display panel, and an inner surface of the front panel. A plasma display device, comprising:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011100137A (en) * 2010-11-19 2011-05-19 Asahi Rubber Inc Image visibility-improving structure for electronic apparatus, electronic apparatus having the structure, and transparent member used in the structure

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JP2011100137A (en) * 2010-11-19 2011-05-19 Asahi Rubber Inc Image visibility-improving structure for electronic apparatus, electronic apparatus having the structure, and transparent member used in the structure

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