JP2000237046A - 加熱皿および電波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の電波加熱装置は、加熱室内のマイクロ
波分布の均一性が悪かった。 【解決手段】 被加熱物を収容する加熱室と、所定の周
波数のマイクロ波を発生するマグネトロンと、加熱室の
壁に設けられ、マグネトロンによって発生されたマイク
ロ波を加熱室に放射するための給電口と、比誘電率が実
質上同一であって、厚さが異なる部分を有し、加熱室内
に配置されて被加熱物が載置される加熱皿１５とを備え
る。上述した加熱皿１５によって、マイクロ波の加熱室
内での伝搬経路が多重化され、加熱室内におけるマイク
ロ波分布の均一性は向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、食品等の被加熱物
を、マイクロ波等の電波を用いて加熱する電波加熱装置
の加熱皿、および電波加熱装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の、食品等の被加熱物を、マイクロ
波を用いて加熱する電波加熱装置を、図７を用いて説明
する。図７は、従来の電波加熱装置の構成図である。１
は電波加熱装置本体、２はマイクロ波を発生するマグネ
トロン、３はマグネトロン２が発生したマイクロ波を加
熱室５に導く導波管、４はマイクロ波を導波管３から加
熱室５に放射するための給電口、５は食品等の被加熱物
を収容する加熱室、６は加熱室５に配置され被加熱物を
載置する加熱皿、７は加熱皿６を載せて回転駆動する加
熱皿受けである。図８は、図７の加熱皿６および加熱皿
受け７部分の拡大図である。

【０００３】加熱皿６に載置された食品は、その食品中
の水分がマイクロ波を吸収し、自己発熱することで加熱
される。ところで、食品などの被加熱物を均一かつ効率
的に加熱するには、加熱室５内のマイクロ波の分布を均
一にしなければならない。しかし、電波加熱装置の加熱
室５内のマイクロ波の分布は、マイクロ波が定在波を発
生することから、均一になりにくい。そこで、食品等の
被加熱物の各部位がマイクロ波の電界の大きい場所と小
さい場所のいずれもに同じような割合で位置するよう
に、加熱皿６を回転させたり、図８に示すように、金属
製の加熱皿受け７に一定角度ごとに数カ所の空間を設け
て、マイクロ波を乱反射させ、加熱室５内のマイクロ波
の分布や食品に照射されるマイクロ波を均一にしたり変
化させるという工夫がなされている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の電波加熱装置では、加熱室５内のマイクロ波分布は均
一になっていない。ところで、そのマイクロ波分布は、
マイクロ波の周波数、加熱室５の大きさや形状、および
給電口４の設置場所等によって決定されるものであり、
例えば加熱室５内に配置される加熱皿６や、給電口４の
設置場所が同じであっても、マイクロ波の周波数が変わ
ればマイクロ波分布のパターンは変わり、また加熱室５
の大きさが変わってもマイクロ波分布のパターンは変わ
るというものである。いいかえると、マイクロ波の周波
数、加熱室５の大きさや形状、および給電口４の設置場
所等が決まりさえすれば、マイクロ波分布のパターンは
決まるということである。しかしながら、決定されたマ
イクロ波分布は、マイクロ波が定在波を発生するという
特性を有することから均一にはならない。つまり、電界
の大きい部分と、小さい部分とが必然的に生じる。

【０００５】例えば、加熱室５内の電界強度が加熱皿６
の中央付近は小さく、逆に周囲近辺は大きくなるような
場合であって、加熱皿６の中央部に食品をおいた場合、
加熱皿６を回転させても、食品に照射されるマイクロ波
の分布むらは改善されず、食品の中央が加熱されにくい
などの問題が生じている。

【０００６】また、固定され不均一なマイクロ波分布の
パターンをやわらげる目的で、図８に示すような一定角
度ごとに空間を設けた加熱皿受け７を配置した場合であ
っても、その加熱皿受け７は、マイクロ波を乱反射し、
マイクロ波分布である定在波の発生を抑制させることは
できるが、マイクロ波分布のパターンを大きく変化さ
せ、マイクロ波分布を均一にすることはできない。

【０００７】このように、いずれにしてもマイクロ波分
布が均一ではないので、その不均一なマイクロ波分布
は、例えばピザ等の平板状の食品を温めるときに適した
マイクロ波分布であったとしても、コップに入った牛乳
などの立体的な食品を温めるときに適したマイクロ波分
布にはなっていない。つまり、多様な食品の種類や形状
に適したマイクロ波分布にはならないので、それら多様
な食品に対して加熱の均一化を図ることは難しかった。

【０００８】本発明は、従来の電波加熱装置では、加熱
室内のマイクロ波分布の均一性が悪かったという課題を
考慮し、加熱室内のマイクロ波分布の均一性を従来より
も良くするための加熱皿を提供することを目的とするも
のである。

【０００９】また、本発明は、加熱室内のマイクロ波分
布の均一性を従来よりも良くする電波加熱装置を提供す
ることを目的とするものである。

【００１０】さらに、本発明は、従来の電波加熱装置で
は、加熱室内のマイクロ波分布のパターンは１つであっ
たという課題を考慮し、加熱室内のマイクロ波分布のパ
ターンを複数有する電波加熱装置を提供することを目的
とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、第１の本発明（請求項１に対応）は、少なくとも
底部に厚さおよび／または比誘電率が異なる部分を有
し、電波加熱装置の加熱室内に配置されて被加熱物が載
置されることを特徴とする加熱皿である。

【００１２】このように、加熱皿が、少なくとも底部に
厚さおよび／または比誘電率が異なる部分を有すること
により、加熱皿でのマイクロ波の反射および透過が部位
により変化し、マイクロ波の加熱室内での伝搬経路が多
重化され、電波加熱装置の加熱室内のマイクロ波の分布
を従来より均一性を良くするように変化させることがで
きる。これにより、様々な種類・形状の食品の加熱むら
をなくすことができる。

【００１３】第２の本発明（請求項５に対応）は、被加
熱物を収容する加熱室と、所定の周波数の電波を発生す
る電波発生手段と、前記加熱室の内壁に設けられ、前記
電波発生手段によって発生された電波を前記加熱室に放
射するための放射口と、前記加熱室内に配置される第１
の本発明の加熱皿とを備えたことを特徴とする電波加熱
装置である。

【００１４】第３の本発明（請求項６に対応）は、被加
熱物を収容する加熱室と、所定の周波数の電波を発生す
る電波発生手段と、前記加熱室の内壁に設けられ、前記
電波発生手段によって発生された電波を前記加熱室に放
射するための放射口と、前記加熱室内に配置されて被加
熱物が載置され、厚さおよび／または比誘電率が異な
る、脱着可能な複数の加熱皿とを備えたことを特徴とす
る電波加熱装置である。

【００１５】上述した、厚さおよび／または比誘電率が
異なる、脱着可能な複数の加熱皿を備えるということ
は、異なるマイクロ波分布のパターンを生み出す加熱皿
を複数個備えるということを意味するので、ユーザは、
加熱しようとする食品の形状や、形態や、材質等に応じ
て、最適な加熱皿を選択すると、加熱むらを少なくして
食品を加熱することができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。

【００１７】（実施の形態１）先ず、本発明の実施の形
態１の加熱皿および電波加熱装置の構成を、図１および
２を用いて説明する。

【００１８】図１は、本発明の実施の形態１の電波加熱
装置の構成図であり、図２（ａ）は、加熱皿の上面図で
あって、図２（ｂ）は、その加熱皿の断面図である。図
１および図２において、１０は電波加熱装置本体、１１
はマイクロ波を発生するマグネトロン、１２はマグネト
ロン１１が発生したマイクロ波を加熱室１３に導く導波
管、１３は食品等の被加熱物を収容する加熱室であり、
金属板の壁面で囲まれている。１４はマグネトロン１１
からのマイクロ波を加熱室１３内に放射するための給電
口である。なお、本実施の形態では、給電口１４は、図
１における加熱室１３の右側の内壁の奥行き方向の実質
上中央部に設けられているとする。１５ａは加熱室１３
に配置され食品などの被加熱物が載置される加熱皿であ
る。その加熱皿１５ａは所定の比誘電率を有する誘電体
から形成される。１６は支軸であって、加熱皿１５ａが
はめ込まれるものである。１７は駆動モータであって、
支軸１６にはめ込まれた加熱皿１５ａを回転駆動するも
のである。１８は制御部であり、マグネトロン１１や駆
動モータ１７を制御するものである。

【００１９】ところで、加熱皿１５ａの厚みは、図２
（ｂ）に示すように、最外周部が最も厚く、その最外周
部の内側の周縁部および中心部がその次に厚く、その周
縁部と中心部との中間部が最も薄くなっており、１枚の
加熱皿１５ａの厚みは部位によって異なっている。な
お、加熱皿１５ａを形成している誘電体の比誘電率は、
部位によらず実質上一定である。

【００２０】また、実施の形態では、請求項の本発明
の、電波発生手段としてマグネトロン１１、放射口とし
て給電口１４を用いる。

【００２１】次に、上述した実施の形態１の電波加熱装
置の動作を説明する。

【００２２】はじめに、ユーザは、食品などの被加熱物
を加熱皿１５ａ上に載置する。そして、ユーザは、スタ
ートボタン（図なし）を押し、加熱皿１５ａ上に載置し
た被加熱物を加熱するための信号を制御部１８に受信さ
せる。その後、制御部１８は、マグネトロン１１にマイ
クロ波を発生させる。そのマイクロ波は導波管１２を伝
搬し、給電口１４から加熱室１３内に放射される。

【００２３】加熱室１３内へ放射されたマイクロ波の一
部は加熱皿１５ａに向かい、一部は加熱室１３の内壁へ
向かい、その内壁で１回または複数回反射して加熱皿１
５ａに向かう。

【００２４】いずれにしても加熱皿１５ａに向かうマイ
クロ波のうち一部は、加熱皿１５ａを透過し、一部は反
射する。加熱皿１５ａにて反射したマイクロ波は、加熱
皿１５ａ上の被加熱物に吸収され、被加熱物を発熱させ
る。被加熱物に吸収されなかったマイクロ波は、被加熱
物、その被加熱物が入っている容器、および加熱皿１５
ａの全部または一部を透過し、加熱室１３の内壁で反射
されて再度加熱皿１５ａへ向かい、同様にして被加熱物
に吸収されたり、再度透過、反射を繰り返す。

【００２５】一方、加熱皿１５ａを透過したマイクロ波
は、加熱室１３の内壁で１回または複数回反射して加熱
皿１５ａに向かう。加熱皿１５ａに向かうマイクロ波
は、上述したようにして再び透過と反射を繰り返す。

【００２６】ところで、実施の形態１の加熱皿１５ａ
は、図２に示すように、厚みが異なっている部分を有す
る。

【００２７】ここで、図３に、加熱皿の厚さおよび／ま
たは比誘電率を変化させたときの、加熱室１３内の加熱
室１３の底面から１／４の高さの水平面におけるマイク
ロ波分布を示す。なお、この図３におけるマイクロ波分
布の各パターンが測定されたときの加熱皿それぞれは、
図２の加熱皿１５ａとは異なっており、部位によらず厚
さおよび比誘電率が一定であって、他のパターンが測定
されたときの加熱皿とは、厚さおよび／または比誘電率
が異なっている。なお、この図３のマイクロ波分布の各
パターンは、加熱室１３の大きさが、幅１５８ｍｍ、奥
行き１９０ｍｍ、高さ１００ｍｍ、かつマイクロ波の周
波数が２４５０ＭＨｚとしたときの測定結果であり、等
高線の密の部分は電界が大きいことを示している。

【００２８】図３に示すように、加熱皿の厚さおよび／
または比誘電率が変化すると、加熱室１３内のマイクロ
波分布は変化する。これは、加熱皿の厚さおよび／また
は比誘電率が異なれば、マイクロ波が加熱皿を透過した
り反射したりする割合等が異なり、マイクロ波の伝搬経
路が異なることによるものと考えられる。

【００２９】そこで、図２に示す、厚さが異なる部分を
有する加熱皿１５ａを用いると、その加熱皿１５ａの部
位によりマイクロ波の反射および透過の割合等が異なる
ので、厚さの異なる部位毎にマイクロ波の伝搬経路が異
なり、マイクロ波の伝搬経路を多重化することができ
る。したがって、使用するマイクロ波の周波数、加熱室
１３の大きさや形状、および給電口１４の設置場所等に
応じて、適切に、加熱皿１５ａに厚さの異なる部位を設
けることにより、マイクロ波分布をより均一にすること
ができる。

【００３０】つまり、例えば加熱皿１５ａの比誘電率が
６．０であって、加熱皿１５ａに厚さが２．５４ｍｍの
部位と３．８１ｍｍの部位とを適切に設けると、図３に
示すパターンのうちの、厚さが２．５４ｍｍのときのパ
ターンと厚さが３．８１ｍｍのときのパターンとを合成
したようなマイクロ波分布が形成され、そのマイクロ波
分布は、厚さが２．５４ｍｍのときのパターンや、厚さ
が３．８１ｍｍのときのパターンそれぞれに比べて均一
性がよくなるということである。

【００３１】このように、加熱皿１５ａの厚みを部分的
に異なるように構成することにより、加熱室１３内のマ
イクロ波の分布をより均一化することができ、被加熱物
の加熱むらをなくすことができる。

【００３２】（実施の形態２）次に、本発明の実施の形
態２の加熱皿および電波加熱装置を、図４を用いて説明
する。

【００３３】本発明の実施の形態２の電波加熱装置は、
図１を用いて説明した実施の形態１の電波加熱装置と、
加熱皿のみが異なるので、実施の形態２では、加熱皿に
ついてのみ説明する。

【００３４】さて、図４は本発明の実施の形態２の加熱
皿１５ｂの断面図である。図４に示すように、実施の形
態２の加熱皿１５ｂは、盆状の形状をしており、底部は
外側の方が中央部より厚くなっている点が加熱皿１５ａ
と異なる。

【００３５】底部の外側の方が中央部より厚くなってい
る加熱皿１５ｂにおいても、実施の形態１の加熱皿１５
ａと同様に、マイクロ波の伝搬経路を多重化することが
でき、マイクロ波分布をより均一にすることができる。
ただし、マイクロ波分布をより均一にするためには、使
用するマイクロ波の周波数、加熱室１３の大きさや形
状、および給電口１４の設置場所等に応じて、適切に、
厚さを変化させる必要がある。

【００３６】なお、加熱皿１５ｂの中心部は被加熱物を
置くため、平たい形状にしておいてもよい。

【００３７】（実施の形態３）次に、本発明の実施の形
態３の加熱皿および電波加熱装置を、図５を用いて説明
する。

【００３８】本発明の実施の形態３の電波加熱装置は、
上述した実施の形態１または２の電波加熱装置と、加熱
皿のみが異なるので、実施の形態３では、加熱皿につい
てのみ説明する。

【００３９】さて、図５（ａ）は、本発明の実施の形態
３の加熱皿１５ｃの上面図であり、図５（ｂ）は、その
加熱皿１５ｃの断面図である。

【００４０】図５に示すように、実施の形態３の加熱皿
１５ｃは、厚さが実質上一定で、比誘電率が異なる実質
上半円板状の誘電体を接合して円板状に形成されたもの
である。ただし、その円板状の外周部分の厚さは、他の
部分よりも厚くなっており、全体的には凹状に形成され
たものである。

【００４１】上述した実施の形態１において、図３を用
いて説明したように、加熱皿の厚さが一定でも比誘電率
が変化すると、加熱室１３内のマイクロ波分布は変化す
る。これは、比誘電率が異なれば、マイクロ波が加熱皿
を透過したり反射したりする割合等が異なり、マイクロ
波の伝搬経路が異なることによるものと考えられる。

【００４２】したがって、比誘電率が異なる実質上半円
板状の誘電体を接合して円板状に形成された加熱皿１５
ｃにおいても、マイクロ波の伝搬経路を多重化すること
ができ、マイクロ波分布をより均一にすることができ
る。ただし、マイクロ波分布をより均一にするために
は、使用するマイクロ波の周波数、加熱室１３の大きさ
や形状、および給電口１４の設置場所等に応じて、加熱
皿１５ｃを形成する異なる誘電体の比誘電率を適切に選
択する必要がある。

【００４３】なお、上述した実施の形態３では、加熱皿
１５ｃは、厚さが実質上一定で、比誘電率が異なる実質
上半円板状の誘電体を接合して円板状に形成されたもの
であるとしたが、加熱皿は、複数の実質上扇状板、およ
び／または複数の実質上短冊状板によって形成され、そ
れら複数の実質上扇状板それぞれ、および／または複数
の実質上短冊状板それぞれの比誘電率が異なるとしても
よい。

【００４４】（実施の形態４）次に、本発明の実施の形
態４の加熱皿および電波加熱装置を、図６を用いて説明
する。

【００４５】本発明の実施の形態４の電波加熱装置は、
上述した実施の形態１から３の電波加熱装置と、加熱皿
のみが異なるので、実施の形態４では、加熱皿について
のみ説明する。

【００４６】さて、図６は、本発明の実施の形態４の加
熱皿１５ｄの断面図である。

【００４７】図６に示すように、実施の形態４の加熱皿
１５ｄは、比誘電率が異なる２種類の誘電体１５１およ
び１５２の積層体であり、例えば誘電体１５１を、図３
の厚さ２．５４ｍｍで比誘電率３．０の誘電体であると
し、誘電体１５２を、図３の厚さ２．５４ｍｍで比誘電
率６．０の誘電体であるとする。このとき、加熱皿１５
ｄを加熱室１３内に配置した場合、誘電体１５１および
１５２それぞれを別個に加熱室１３内に配置したときの
マイクロ波分布のパターンを合成したようなマイクロ波
分布が形成され、そのマイクロ波分布は、誘電体１５１
および１５２それぞれを別個に加熱室１３内に配置した
ときのマイクロ波分布のパターンに比べて均一性がよく
なる。

【００４８】このように、比誘電率が異なる２種類の誘
電体を積層した加熱皿１５ｄにおいても、マイクロ波の
伝搬経路を多重化することができ、マイクロ波分布をよ
り均一にすることができる。ただし、マイクロ波分布を
より均一にするためには、使用するマイクロ波の周波
数、加熱室１３の大きさや形状、および給電口１４の設
置場所等に応じて、加熱皿１５ｄを形成する異なる誘電
体の比誘電率を適切に選択する必要がある。

【００４９】なお、上述した実施の形態４では、加熱皿
１５ｄは、比誘電率が異なる２種類の誘電体の積層体で
あるとしたが、加熱皿１５ｄは、比誘電率が異なる３以
上の複数種類の誘電体の積層体であるとしてもよい。

【００５０】（実施の形態５）次に、本発明の実施の形
態５の加熱皿および電波加熱装置を、図３を用いて説明
する。

【００５１】本発明の実施の形態５の電波加熱装置は、
上述した実施の形態１から４の電波加熱装置と、加熱皿
のみが異なるので、実施の形態５では、加熱皿について
のみ説明する。

【００５２】さて、上述した実施の形態１から４の電波
加熱装置は、いずれも１つの加熱皿１５を備えており、
その１つの加熱皿１５を加熱室１３に配置することによ
って、マイクロ波分布を従来より均一にするとした。そ
れに対して、実施の形態５の電波加熱装置は、異なるマ
イクロ波分布のパターンを形成する複数の加熱皿を備え
ている点が、上述した実施の形態１から４の電波加熱装
置のいずれもと異なっている。

【００５３】例えば、実施の形態５の電波加熱装置は、
図３に示す、厚さが実質上均一で２．５４ｍｍであっ
て、かつ比誘電率が実質上均一で３．０の誘電体から形
成される加熱皿１５ｅと、厚さが実質上均一で２．５４
ｍｍであって、かつ比誘電率が実質上均一で６．０の誘
電体から形成される加熱皿１５ｆとを備えるとする。加
熱皿１５ｅが加熱室１３内に配置されると、図３に示す
ように、中央部分の電界の大きさが、その中央部分と４
角との中間位置とに比べて小さくなるようなマイクロ波
分布のパターンが形成され、加熱皿１５ｆが加熱室１３
内に配置されると、図３に示すように、中央部分の電界
の大きさが、その他の部分に比べて大きくなるようなマ
イクロ波分布のパターンが形成される。

【００５４】したがって、例えばユーザが、１個のコッ
プに入った牛乳を温めようとする場合には加熱皿１５ｆ
を選択し、コップが４個である場合には加熱皿１５ｅを
選択すると、ユーザは効率よく加熱むらなく牛乳を温め
ることができる。

【００５５】このように、どの加熱皿１５を加熱室１３
内に配置したときのマイクロ波分布のパターンがどのよ
うなパターンになるかということを、例えば加熱皿に番
号を付けたり、加熱皿１５の色を変えて、パターンと加
熱皿１５との対応関係を示す一覧表データを電波加熱装
置に格納しておき、ユーザに、電波加熱装置使用時にそ
の一覧表データを利用させて、好みのパターンが形成さ
れる加熱皿１５を選択させると、加熱むらなく被加熱物
を加熱することができる。

【００５６】さらにいうと、１つの加熱皿１５ではマイ
クロ波分布のパターンは均一にはならないが、異なるパ
ターンを形成する加熱皿１５を複数備えることにより、
それら複数の加熱皿１５を使い分けると加熱むらは解消
される。

【００５７】なお、上述した実施の形態５では、電波加
熱装置は、厚さが実質上均一であって、比誘電率が異な
る２種類の加熱皿を備えるとしたが、電波加熱装置は、
厚さおよび／または比誘電率が異なる、脱着可能な複数
の加熱皿を備えておりさえすればよい。

【００５８】例えば、加熱室１３内に配置されたとき
に、加熱皿の中心近傍にマイクロ波の強電界部分が生じ
るような加熱皿１５を、複数の加熱皿の１つに含める
と、被加熱物の底面が比較的強く加熱される。これによ
り、酒かんや牛乳の温めなど、対流のおこる高さの高い
形状の食品の加熱むらを改善することができる。

【００５９】また、例えば、図４に示すような、加熱皿
の厚みを周縁部から中心部にむけて傾斜させる構成によ
って、加熱室１３の中央部に強電界部分が生じるような
加熱皿１５を、複数の加熱皿の１つに含めると、立体的
な形状の食品、例えば、冷凍ご飯などの温めの加熱むら
をなくすことができる。

【００６０】また、例えば、図５に示すような、加熱皿
の実質上の２等分線の、右半分に加熱室中央に強電界部
分が生じるような誘電体を配置し、左半分に加熱皿近傍
に強電界部分が生じるような誘電体を配置して、両者を
接合した加熱皿１５を、複数の加熱皿の１つに含め、左
半分に対流のある汁物、右半分に立体的な形状のご飯な
どをそれぞれ載置すると、汁物もご飯もむらなく加熱す
ることができる。

【００６１】なお、上述した実施の形態１から５におい
て、加熱皿１５を構成する誘電体は、ガラス、コージラ
イト、ムライトなどを用いることができる。また、有機
物でも、例えばエポキシ樹脂などの耐熱性を有するもの
を用いることができる。

【００６２】また、上述した実施の形態１から５では言
及しなかったが、制御部１８からの信号をもとに、駆動
モータ１７に加熱皿１５を連続的あるいは断続的に回転
させてもよい。その回転速度は任意に変化させることが
できる。または、加熱皿１５を停止させたままでもよ
い。

【００６３】

【発明の効果】以上説明したところから明らかなよう
に、本発明は、加熱室内のマイクロ波分布の均一性を従
来よりも良くするための加熱皿を提供することができ
る。

【００６４】また、本発明は、加熱室内のマイクロ波分
布の均一性を従来よりも良くする電波加熱装置を提供す
ることができる。

【００６５】さらに、本発明は、加熱室内のマイクロ波
分布のパターンを複数有する電波加熱装置を提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１の電波加熱装置の構成図

【図２】本発明の実施の形態１の加熱皿の構成図

【図３】加熱皿の厚みおよび／または比誘電率を変化さ
せたときの、加熱室内の所定の水平面におけるマイクロ
波分布図

【図４】本発明の実施の形態２の加熱皿の断面図

【図５】本発明の実施の形態３の加熱皿の構成図

【図６】本発明の実施の形態４の加熱皿の構成図

【図７】従来の電波加熱装置の構成図

【図８】従来の電波加熱装置の加熱皿６および加熱皿受
け７部分の拡大図

【符号の説明】

１０ 電波加熱装置本体 １１ マグネトロン １２ 導波管 １３ 加熱室 １４ 給電口 １５ 加熱皿 １６ 支軸 １７ 駆動モータ １８ 制御部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉野 浩二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 福本 明美 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 3L086 AA01 BB13 BF01 BF02 DA12 4B055 AA10 BA63 CA02 CB03 CB16 CC54 CD58 FA01 FB23 FB25 FB45 FC09

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも底部に厚さおよび／または比
   誘電率が異なる部分を有し、電波加熱装置の加熱室内に
   配置されて被加熱物が載置されることを特徴とする加熱
   皿。
2. 【請求項２】 盆状の形状をしており、底部は外側の方
   が中央部より厚いことを特徴とする請求項１記載の加熱
   皿。
3. 【請求項３】 複数の実質上扇状板、および／または複
   数の実質上短冊状板によって形成され、 前記複数の実質上扇状板それぞれ、および／または前記
   複数の実質上短冊状板それぞれは、比誘電率が異なるこ
   とを特徴とする請求項１記載の加熱皿。
4. 【請求項４】 比誘電率の異なる複数の誘電体の積層体
   であることを特徴とする請求項１記載の加熱皿。
5. 【請求項５】 被加熱物を収容する加熱室と、 所定の周波数の電波を発生する電波発生手段と、 前記加熱室の内壁に設けられ、前記電波発生手段によっ
   て発生された電波を前記加熱室に放射するための放射口
   と、 前記加熱室内に配置される請求項１から４のいずれかの
   加熱皿とを備えたことを特徴とする電波加熱装置。
6. 【請求項６】 被加熱物を収容する加熱室と、 所定の周波数の電波を発生する電波発生手段と、 前記加熱室の内壁に設けられ、前記電波発生手段によっ
   て発生された電波を前記加熱室に放射するための放射口
   と、 前記加熱室内に配置されて被加熱物が載置され、厚さお
   よび／または比誘電率が異なる、脱着可能な複数の加熱
   皿とを備えたことを特徴とする電波加熱装置。